JP2002083730A - Dispersed solution coating device and method of manufacturing rare earth magnet - Google Patents

Dispersed solution coating device and method of manufacturing rare earth magnet

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JP2002083730A
JP2002083730A JP2001179660A JP2001179660A JP2002083730A JP 2002083730 A JP2002083730 A JP 2002083730A JP 2001179660 A JP2001179660 A JP 2001179660A JP 2001179660 A JP2001179660 A JP 2001179660A JP 2002083730 A JP2002083730 A JP 2002083730A
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dispersion
dispersion liquid
powder
liquid
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JP2001179660A
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Hiroyuki Kumokita
浩之 雲北
Katsumi Okayama
克己 岡山
Takeshi Wada
剛 和田
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Sumitomo Special Metals Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/14Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
    • H01F41/16Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates the magnetic material being applied in the form of particles, e.g. by serigraphy, to form thick magnetic films or precursors therefor

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coating device, capable of uniformly coating the top of a base plate for sintering with a dispersed solution obtained by dispersing powder in a liquid, to uniformly apply the powder on the base plate. SOLUTION: This dispersed solution coating device 1 coats the top of a base plate 5 for sintering a magnet with a dispersed solution 3, obtained by dispersing oxide powder having a specific gravity larger than that of a liquid, in the liquid. This dispersed solution coating device 1 is equipped with a vessel 10 for housing the dispersed solution 3, an agitator 12 for agitating the dispersion 3 housed in the vessel 10, a transport passage 20 for transporting the dispersed solution 3 from the vessel 10 to the base plate 5 and a homogenizer 26 for homogenizing the dispersed solution 3, by applying a mechanical force at least to a part of the dispersed solution 3 flowing in the transport passage 20.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、酸化物の粉体を液
体に分散させた分散液を磁石焼結用の台板上に塗布する
ための塗布装置および当該塗布装置を用いて行う希土類
磁石の製造方法に関し、特に、均質化された分散液を台
板上に塗布する塗布装置および当該塗布装置を用いて行
う希土類磁石の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a coating apparatus for coating a dispersion of an oxide powder in a liquid on a base plate for magnet sintering, and a rare earth magnet using the coating apparatus. In particular, the present invention relates to a coating apparatus for applying a homogenized dispersion liquid on a base plate, and a method for manufacturing a rare earth magnet using the coating apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】希土類焼結磁石は、希土類磁石用合金
(原料合金)を粉砕して形成した合金粉末をプレス成形
した後、焼結工程および時効熱処理工程を経て作製され
る。現在、希土類焼結磁石としては、サマリウム・コバ
ルト系磁石とネオジム・鉄・ほう素系磁石の二種類が各
分野で広く用いられている。なかでもネオジム・鉄・ほ
う素系磁石(以下、「R−T−(M)−B系磁石」と称
する。RはY(イットリウム)を含む希土類元素、Tは
Fe(鉄)、Co(コバルト)、Ni(ニッケル)を含
む遷移金属元素、Mは添加元素、Bはほう素およびほう
素と炭素との化合物である)は、種々の磁石の中で最も
高い最大磁気エネルギー積を示し、価格も比較的安いた
め、各種電子機器へ積極的に採用されている。
2. Description of the Related Art Rare earth sintered magnets are produced by pressing an alloy powder formed by pulverizing an alloy for a rare earth magnet (raw material alloy), followed by a sintering step and an aging heat treatment step. At present, two types of rare earth sintered magnets, samarium / cobalt magnets and neodymium / iron / boron magnets, are widely used in various fields. Above all, neodymium-iron-boron magnets (hereinafter referred to as "RT- (M) -B magnets"), R is a rare earth element containing Y (yttrium), T is Fe (iron), Co (cobalt) ), Transition metal elements including Ni (nickel), M is an additive element, B is boron and a compound of boron and carbon), exhibit the highest maximum magnetic energy product among various magnets, Is relatively cheap, so it has been actively used in various electronic devices.

【0003】磁石作製の際の焼結工程において、プレス
成形体(圧粉体)は、ステンレス鋼、モリブデンなどの
耐熱性の高い材料から形成された焼結用台板の上に載せ
られた状態で焼結炉内に投入される。焼結炉内に投入さ
れたプレス成形体は、不活性ガス雰囲気中で高温(例え
ば1000〜1100℃)まで加熱される。加熱された
プレス成形体は収縮を伴って焼結され、これによって、
希土類焼結磁石が得られる。
In a sintering step at the time of manufacturing a magnet, a pressed compact (compact) is placed on a sintering base plate made of a material having high heat resistance such as stainless steel or molybdenum. Is put into the sintering furnace. The press-formed body placed in the sintering furnace is heated to a high temperature (for example, 1000 to 1100 ° C.) in an inert gas atmosphere. The heated pressed body is sintered with shrinkage,
A rare earth sintered magnet is obtained.

【0004】焼結するとき、プレス成形体を焼結用台板
上に直接載せている場合には、成形体と台板とが局部的
に溶着することがある。これは、R−T−(M)−B系
磁石の主成分であるNdなどの希土類元素が、台板に含
まれる金属元素と焼結温度以下の温度で共晶反応を起こ
すからである。台板と成形体とが局部的に溶着すると、
焼結にともなう成形体の寸法収縮が円滑に進行せず、焼
結体にひび割れや欠けが発生する。また、溶着が生じな
い場合であっても、台板と成形体(焼結体)との間の摩
擦が不均一になることによって、台板と接触する面側に
おいて成形体にひびが生じるおそれがある。さらに、焼
結用台板に共晶反応生成物が付着すると、焼結用台板を
再使用する際に台板から付着物を除去する作業に手間が
かかるという問題も生じる。
[0004] When sintering, if the press-formed body is directly placed on the sintering base plate, the formed body and the base plate may be locally welded. This is because a rare earth element such as Nd, which is a main component of the RT- (M) -B-based magnet, causes a eutectic reaction with the metal element contained in the base plate at a temperature lower than the sintering temperature. When the base plate and the molded body are locally welded,
The dimensional shrinkage of the molded body due to sintering does not proceed smoothly, and cracks and chips occur in the sintered body. Further, even when welding does not occur, the friction between the base plate and the formed body (sintered body) becomes uneven, so that the formed body may be cracked on the side contacting the base plate. There is. Further, if the eutectic reaction product adheres to the sintering base plate, there is a problem that it takes time and effort to remove the attached matter from the base plate when reusing the sintering base plate.

【0005】焼結用台板と成形体との溶着を防ぐため
に、従来から、焼結用台板上に敷き粉を配し、この上に
成形体を載せて焼結を行うという方法が知られている
(例えば特開平4−154903号公報など)。敷き粉
としては、成形体との反応性が低く、高温での安定性が
良好な材料から形成された粉体が用いられる。成形体が
希土類金属を含有する場合、敷き粉として、希土類酸化
物(例えば酸化ネオジム)のような希土類金属との反応
性が低い材料が用いられる。敷き粉を用いれば台板と成
形体との溶着を防ぐことができるので、希土類磁石の台
板接触部に発生するひびなどの破損や変形を防止するこ
とができる。
[0005] In order to prevent welding between the sintering base plate and the compact, there has conventionally been known a method of laying powder on a sintering base plate and placing the compact thereon to perform sintering. (Eg, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-154903). As the laying powder, a powder formed of a material having low reactivity with a molded body and good stability at high temperatures is used. When the compact contains a rare earth metal, a material having low reactivity with the rare earth metal, such as a rare earth oxide (for example, neodymium oxide), is used as the spreading powder. The use of the spreading powder can prevent welding between the base plate and the compact, so that breakage or deformation of a crack or the like generated at the base plate contact portion of the rare earth magnet can be prevented.

【0006】敷き粉を台板上に敷く方法としては、LP
ガスを用いて散布する方法や、敷き粉をエタノールなど
の揮発性の分散媒に分散させたのちに台板上に塗布する
方法などが知られている。また、特開平11−5435
3号公報には、Dy23またはCaF2から形成される
敷き粉にエタノール、アセトンなどの有機溶剤を加えて
スラリー状にし、これを刷毛などを用いて台板上に塗布
するという方法が記載されている。
[0006] As a method of spreading the bedding powder on the base plate, LP
There are known a method of spraying using a gas, a method of dispersing a litter in a volatile dispersion medium such as ethanol, and then applying the powder on a base plate. Also, JP-A-11-5435
No. 3 discloses a method in which an organic solvent such as ethanol or acetone is added to a litter formed of Dy 2 O 3 or CaF 2 to form a slurry, and the slurry is applied on a base plate using a brush or the like. Has been described.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、ガスを用いて
敷き粉を散布する方法では、台板上に敷き粉を均一に敷
くことが困難である。敷き粉が台板上に均一に敷かれて
いない場合、焼結時に成形体が台板に部分的に溶着した
り、成形体が収縮する際に成形体と台板との間で発生す
る摩擦(抵抗)が部分的に異なることによって、成形体
の収縮が均一に行われなくなる。その結果、焼結体の破
損(ひび割れ等)や望ましくない変形が発生する。特に
成形体の形状が長尺状である場合、成形体の収縮が不均
一となり、ひびや変形が生じやすい。
However, it is difficult to uniformly spread the litter on the base plate by the method of spraying litter with gas. If the laying powder is not evenly spread on the base plate, the friction generated between the formed body and the base plate when the formed body is partially welded to the base plate during sintering or when the formed body shrinks When the (resistance) is partially different, the compact does not shrink uniformly. As a result, breakage (cracks, etc.) and undesired deformation of the sintered body occur. In particular, when the shape of the molded body is long, shrinkage of the molded body becomes uneven, and cracks and deformation are likely to occur.

【0008】また、エタノールなどの揮発性液体に粉体
を分散させた分散液や、有機溶剤を粉体に添加したスラ
リー状のものを刷毛などを用いて台板上に塗布する方法
では、台板上に塗布する作業に時間が掛かるため生産性
が低下していた。敷き粉(粉体)を台板上に均一に敷く
ためには、分散液やスラリー状のものを薄い厚さで均一
に台板上に塗布する必要があるが、このような塗布物を
台板上に均一に塗布することは難しい。
In a method of applying a dispersion liquid in which a powder is dispersed in a volatile liquid such as ethanol or a slurry in which an organic solvent is added to a powder on a base plate using a brush or the like, Since the work of coating on a plate takes time, productivity has been reduced. In order to spread the laying powder (powder) evenly on the base plate, it is necessary to apply a dispersion or slurry-like material to the base plate uniformly with a small thickness. It is difficult to apply uniformly on a board.

【0009】また、エタノールなどの揮発性液体に希土
類酸化物などの粉体を分散させた場合には、揮発性液体
と粉体との比重の差が比較的大きい(例えばエタノール
とR 23(希土類酸化物)との場合、比重はそれぞれ
0.8と7〜8とである)ことから、分散液中で液体と
粉体とが分離しやすい。このような分散液を用いる場
合、分散液中における粉体の濃度を均一に保つことが困
難である。従って、たとえ分散液を台板上に均一に塗布
できたとしても、塗布された分散液の濃度が場所によっ
て異なっていることが多いので、このような分散液を用
いて台板上に敷き粉(粉体)を均一に敷くことは難しか
った。敷き粉が均一に敷けない場合には、焼結体の破損
や望ましくない変形が発生しやすい。
In addition, rare earths are used in volatile liquids such as ethanol.
When powders such as oxides are dispersed, volatile liquid
The difference in specific gravity between powder and powder is relatively large (for example, ethanol
And R TwoOThree(Rare-earth oxide)
0.8 and 7 to 8), the liquid in the dispersion
Easy to separate from powder. When using such dispersions
In this case, it is difficult to keep the powder concentration in the dispersion liquid uniform.
It is difficult. Therefore, even if the dispersion is applied evenly on the base plate
Even if it does, the concentration of the applied dispersion may
These dispersions are often different.
It is difficult to spread the powder (powder) evenly on the base plate
Was. If the spreading powder cannot be spread evenly, the sintered body may be damaged.
And undesirable deformations are likely to occur.

【0010】また、分散液またはスラリー状の塗布物
を、パイプを介して自動的に台板に塗布しようとした場
合、塗布物によってパイプが詰まってしまうおそれがあ
る。特に、台板1枚毎に時間を開けて非連続的に塗布を
行う場合などにおいて、塗布物の供給が一時的に停止ま
たは遅延され、パイプを流れる塗布物の流動性が悪くな
ると、粉体の沈澱が生じ、パイプの詰まりが発生してし
まう。
[0010] In addition, when a coating material in the form of a dispersion or slurry is to be automatically applied to a base plate via a pipe, the coating material may clog the pipe. In particular, in the case where coating is discontinuously performed with a time interval between each base plate and the like, the supply of the coating material is temporarily stopped or delayed, and if the flowability of the coating material flowing through the pipe deteriorates, powder Precipitates and clogs the pipes.

【0011】本発明はかかる諸点に鑑みてなされたもの
であり、その主な目的は、酸化物の粉体(敷き粉)を液
体に分散させた分散液を、パイプやチューブなどの移送
経路を詰まらせることなく焼結用台板上に均一に塗布
し、それにより台板上に酸化物の粉体を均一に敷くこと
ができる塗布装置を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above points, and a main object of the present invention is to transfer a dispersion of oxide powder (spreading powder) to a liquid through a transfer path such as a pipe or a tube. An object of the present invention is to provide a coating apparatus capable of uniformly applying a powder on an sintering base plate without clogging, thereby uniformly spreading oxide powder on the base plate.

【0012】本発明の他の目的は、上記塗布装置を用い
て酸化物の粉体を焼結用台板上に均一に敷くことによっ
て、焼結時において台板上に配置された成形体にひびな
どが発生しないようにする希土類磁石の製造方法を提供
することにある。
Another object of the present invention is to spread an oxide powder evenly on a sintering base plate using the above-mentioned coating apparatus, thereby forming a compact formed on the base plate during sintering. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a rare earth magnet that prevents cracks and the like from occurring.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明による分散液塗布
装置は、液体に、前記液体より比重が大きい酸化物の粉
体を分散させた分散液を磁石焼結用の台板上に塗布する
装置であって、前記分散液を収容する容器と、前記容器
内に収容された分散液を攪拌する攪拌機と、前記容器か
ら前記台板に前記分散液を移送する移送経路と、前記移
送経路を流れる分散液の少なくとも一部に対して機械的
な力を付与することによって、前記分散液を均質化する
均質化装置とを備える。
SUMMARY OF THE INVENTION A dispersion liquid coating apparatus according to the present invention applies a dispersion liquid in which an oxide powder having a specific gravity greater than that of the liquid is dispersed on a liquid on a base plate for magnet sintering. An apparatus, a container for containing the dispersion, a stirrer for stirring the dispersion contained in the container, a transfer path for transferring the dispersion from the container to the base plate, and the transfer path A homogenizing device for homogenizing the dispersion by applying a mechanical force to at least a part of the flowing dispersion.

【0014】好ましい実施形態において、前記均質化装
置は、前記移送経路を流れる分散液の少なくとも一部に
非定常的な流れを発生させる。
In a preferred embodiment, the homogenizer generates an unsteady flow in at least a part of the dispersion flowing through the transfer path.

【0015】好ましい実施形態において、前記非定常的
な流れは、前記容器から前記台板に向かう方向とは反対
の方向の流れである。
In a preferred embodiment, the unsteady flow is a flow in a direction opposite to a direction from the container toward the base plate.

【0016】好ましい実施形態において、前記移送経路
に接続され、前記反対の方向に流れる前記分散液を排出
することができる排出経路を有する。
In a preferred embodiment, the apparatus has a discharge path connected to the transfer path and capable of discharging the dispersion flowing in the opposite direction.

【0017】好ましい実施形態において、前記均質化装
置は、前記移送経路を流れる前記分散液中に流体を噴出
させることができる。
[0017] In a preferred embodiment, the homogenizer can eject a fluid into the dispersion flowing through the transfer path.

【0018】好ましい実施形態において、前記流体は空
気である。
[0018] In a preferred embodiment, the fluid is air.

【0019】好ましい実施形態において、前記移送経路
に接続され、前記流体の少なくとも一部を排出すること
ができる排出経路を有する。
In a preferred embodiment, the apparatus has a discharge path connected to the transfer path and capable of discharging at least a part of the fluid.

【0020】好ましい実施形態において、前記排出経路
は、前記容器内まで延びている。
In a preferred embodiment, the discharge path extends into the container.

【0021】好ましい実施形態において、前記均質化装
置は、前記移送経路と前記容器との接続部の近傍におい
て前記分散液中に前記非定常的な流れを発生させること
ができる。
In a preferred embodiment, the homogenizer can generate the unsteady flow in the dispersion in the vicinity of a connection between the transfer path and the container.

【0022】好ましい実施形態において、前記移送経路
において前記均質化装置よりも下流側に設けられた定量
ポンプを備える。
In a preferred embodiment, a metering pump is provided on the transfer path downstream of the homogenizer.

【0023】好ましい実施形態において、前記移送経路
を介して前記台板上に供給された分散液を前記台板上で
塗り広げる塗り広げ装置を備える。
In a preferred embodiment, there is provided a spreading device for spreading the dispersion liquid supplied onto the base plate via the transfer path on the base plate.

【0024】好ましい実施形態において、前記塗り広げ
装置は、前記台板の表面に接するように設けられた吸水
性のローラを備える。
In a preferred embodiment, the spreading device includes a water-absorbing roller provided so as to be in contact with the surface of the base plate.

【0025】好ましい実施形態において、前記均質化装
置は、前記移送経路に対して機械的な力を加える。
In a preferred embodiment, the homogenizing device applies a mechanical force to the transfer path.

【0026】好ましい実施形態において、前記均質化装
置は、前記移送経路を揺らす。
In a preferred embodiment, the homogenizer shakes the transfer path.

【0027】好ましい実施形態において、前記分散液を
塗布する前に前記台板を清浄化するための台板清浄化装
置をさらに備え、前記台板清浄化装置は、前記台板上に
粉体を衝突させる粉体発射部と前記粉体発射部を揺らす
揺動装置とを備えており、前記均質化装置は、前記台板
清浄化装置の前記揺動装置と接続されており、前記揺動
装置の動きによって前記移送経路を揺らす。
[0027] In a preferred embodiment, the apparatus further comprises a plate cleaning device for cleaning the plate before applying the dispersion, wherein the plate cleaning device removes the powder on the plate. The apparatus includes a powder emitting unit to be collided and a rocking device for rocking the powder discharging unit, wherein the homogenizing device is connected to the rocking device of the bed plate cleaning device, and the rocking device Shakes the transfer path.

【0028】好ましい実施形態において、前記移送経路
の、前記容器側とは反対側の端部に接続されたノズル
と、前記ノズルに接続されたガス供給路とを備え、前記
ガス供給路から前記ノズルに供給されたガスを用いて、
前記分散液を前記台板上に散布する。
In a preferred embodiment, the transfer path includes a nozzle connected to an end of the transfer path opposite to the container side, and a gas supply path connected to the nozzle. Using the gas supplied to
The dispersion is sprayed on the base plate.

【0029】好ましい実施形態において、前記液体は揮
発性液体から形成されている。
In a preferred embodiment, the liquid is formed from a volatile liquid.

【0030】好ましい実施形態において、前記酸化物の
粉体は希土類酸化物の粉体から形成されている。
In a preferred embodiment, the oxide powder is formed from a rare earth oxide powder.

【0031】本発明による希土類磁石の製造方法は、磁
石焼結用の台板を用意する工程と、上記いずれかに記載
の分散液塗布装置を用いて、前記酸化物の粉体を分散さ
せた分散液を前記台板上に塗布する工程と、前記分散液
が塗布された前記台板上に、希土類磁石用合金粉末をプ
レス成形することによって作製した成形体を置く工程
と、前記台板上に置かれた前記成形体を焼結する工程と
を包含する。
In the method for producing a rare earth magnet according to the present invention, a step of preparing a base plate for magnet sintering and the method of dispersing the oxide powder by using any one of the above-described dispersion coating apparatuses. A step of applying a dispersion onto the base plate; and a step of placing a compact produced by press-molding a rare earth magnet alloy powder on the base plate on which the dispersion is applied; And sintering the compact placed on the substrate.

【0032】好ましい実施形態において、前記台板の表
面粗度Rmaxが1μm以上300μm以下である。
In a preferred embodiment, the base plate has a surface roughness Rmax of 1 μm or more and 300 μm or less.

【0033】好ましい実施形態において、前記台板の表
面粗度Raが0.1μm以上150μm以下である。
In a preferred embodiment, the surface roughness Ra of the base plate is 0.1 μm or more and 150 μm or less.

【0034】好ましい実施形態において、前記分散液の
濃度は、200g/リットル以上500g/リットル以
下である。
In a preferred embodiment, the concentration of the dispersion is from 200 g / liter to 500 g / liter.

【0035】本発明による希土類磁石の製造方法は、磁
石焼結用の台板を用意する工程と、液体に、前記液体よ
り比重が大きい酸化物の粉体を分散させた分散液を前記
台板上に塗布する工程と、前記分散液が塗布された前記
台板上に、希土類磁石用合金粉末をプレス成形すること
によって作製した成形体を置く工程と、前記台板上に置
かれた前記成形体を焼結する工程とを包含し、前記台板
の表面粗度Rmaxが1μm以上300μm以下である
ことを特徴とする。
In the method for producing a rare earth magnet according to the present invention, a step of preparing a base plate for magnet sintering and a step of preparing a dispersion liquid in which an oxide powder having a specific gravity greater than the liquid is dispersed in a liquid. Applying the molded body formed by pressing the alloy powder for rare earth magnet onto the base plate on which the dispersion liquid has been applied; and forming the molded body placed on the base plate. And a step of sintering the body, wherein the surface roughness Rmax of the base plate is 1 μm or more and 300 μm or less.

【0036】本発明による希土類磁石の製造方法は、磁
石焼結用の台板を用意する工程と、液体に、前記液体よ
り比重が大きい酸化物の粉体を分散させた分散液を前記
台板上に塗布する工程と、前記分散液が塗布された前記
台板上に、希土類磁石用合金粉末をプレス成形すること
によって作製した成形体を置く工程と、前記台板上に置
かれた前記成形体を焼結する工程とを包含し、前記台板
の表面粗度Raが0.1μm以上150μm以下である
ことを特徴とする。
In the method for producing a rare earth magnet according to the present invention, a step of preparing a base plate for magnet sintering and a step of preparing a dispersion liquid in which an oxide powder having a specific gravity greater than the liquid is dispersed in a liquid are carried out. Applying the molded body formed by pressing the alloy powder for rare earth magnet onto the base plate on which the dispersion liquid has been applied; and forming the molded body placed on the base plate. And sintering the body, wherein the surface roughness Ra of the base plate is 0.1 μm or more and 150 μm or less.

【0037】好ましい実施形態において、前記分散液の
濃度は、200g/リットル以上500g/リットル以
下である。
[0037] In a preferred embodiment, the concentration of the dispersion is from 200 g / liter to 500 g / liter.

【0038】好ましい実施形態において、前記粉体の平
均粒径が1μm〜20μmである。
In a preferred embodiment, the powder has an average particle size of 1 μm to 20 μm.

【0039】本発明による希土類磁石は、上記いずれか
に記載の製造方法によって製造された希土類磁石であ
る。
The rare earth magnet according to the present invention is a rare earth magnet manufactured by any of the manufacturing methods described above.

【0040】なお、本明細書において「分散液」の用語
は、液体に粉体を分散させたものを意味し、液体中に粉
体が不均一に散在した状態にあるものや粉体の一部が沈
澱した状態にあるものも含む。
In this specification, the term “dispersion liquid” means a powder in which a powder is dispersed, and a liquid in which a powder is non-uniformly dispersed in a liquid or a powder. Also includes those whose parts are settled.

【0041】[0041]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の実施形態を説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0042】[分散液塗布装置] (実施形態1)まず、図1を参照する。本実施形態の分
散液塗布装置1は、焼結用台板5の表面を清浄化するた
めのショットブラスタ7に近接して配置されている。シ
ョットブラスタ7は、アルミナなどの粉末を台板5の表
面に衝突させることによって、台板5の表面上の付着物
を除去する。ショットブラスタ7によって表面が清浄化
された台板5は、複数の回転ローラなどで構成された搬
送装置8によって、分散液を塗布する位置まで運ばれ、
ここにおいて分散液塗布装置1は台板5の表面に敷き粉
を液体に分散させた分散液を塗布する。分散液塗布装置
1によって分散液3が塗布された台板5は、好ましく
は、塗布面が乾いた時点で移動装置8によって吸引装置
9aなどを備えるロボット9へと運ばれ、所定の場所に
積み重ねられて保持される。その後、台板5は台板上に
成形体を配置する並べ装置(不図示)へと運ばれる。
[Dispersion Coating Apparatus] (Embodiment 1) First, reference will be made to FIG. The dispersion liquid applying apparatus 1 of the present embodiment is disposed close to a shot blaster 7 for cleaning the surface of the sintering base plate 5. The shot blaster 7 removes deposits on the surface of the base plate 5 by causing powder such as alumina to collide with the surface of the base plate 5. The base plate 5 whose surface has been cleaned by the shot blaster 7 is transported to a position where the dispersion liquid is applied by a transport device 8 including a plurality of rotating rollers and the like.
Here, the dispersion coating device 1 coats the surface of the base plate 5 with a dispersion obtained by dispersing powder spread into a liquid. The base plate 5 on which the dispersion liquid 3 is applied by the dispersion liquid application device 1 is preferably carried to a robot 9 having a suction device 9a or the like by a moving device 8 when the application surface is dried, and is stacked at a predetermined place. Is held. Thereafter, the base plate 5 is carried to an arrangement device (not shown) for arranging the compact on the base plate.

【0043】以下、分散液塗布装置1の構成を説明す
る。分散液塗布装置1は、希土類酸化物などの酸化物の
粉体をアルコールなどの揮発性液体に分散させた分散液
3を収容するタンク10と、タンク10から台板5上に
分散液3を運ぶ輸送チューブ20と、分散液3を台板5
上に塗り広げることができる塗り広げ装置30とを備え
る。
Hereinafter, the configuration of the dispersion liquid coating apparatus 1 will be described. The dispersion liquid coating apparatus 1 includes a tank 10 containing a dispersion liquid 3 in which an oxide powder such as a rare earth oxide is dispersed in a volatile liquid such as alcohol, and the dispersion liquid 3 on the base plate 5 from the tank 10. Transport tube 20 for transporting and dispersion liquid 3 to base plate 5
And a spreading device 30 capable of spreading on the top.

【0044】分散液塗布装置1のタンク10には、タン
ク10内に収容された分散液3を攪拌する攪拌機12が
取りつけられている。攪拌機12は、タンクの底付近に
位置する羽根12aを有し、この羽根12aは、攪拌棒
を介して、モータ12bによって例えば180rpmの
回転速度で回転させられる。羽根12aの回転によって
分散液3は攪拌され、分散液中における酸化物粉体(敷
き粉)の沈澱が防止される。
A stirrer 12 for stirring the dispersion 3 contained in the tank 10 is attached to the tank 10 of the dispersion coating device 1. The stirrer 12 has a blade 12a located near the bottom of the tank, and the blade 12a is rotated at a rotation speed of, for example, 180 rpm by a motor 12b via a stirring rod. The dispersion liquid 3 is agitated by the rotation of the blades 12a, and precipitation of the oxide powder (spread powder) in the dispersion liquid is prevented.

【0045】タンク10の底付近には、タンク10と連
通する輸送チューブ20が接続されている。タンク10
から延びる輸送チューブ20の先端は、定量ポンプ22
を介して、台板5の上方に位置するように設けられたノ
ズル24に接続されている。定量ポンプ22は、タンク
10内から分散液3を所定の流量で引き込み、ノズル2
4から台板5に分散液3を滴下させることができる。台
板5に滴下される分散液3の量(滴下が行われる時間間
隔)の調節は、定量ポンプ22の出力を調整したり、輸
送チューブ20を機械的に挟むなどして径方向に変形さ
せることによって、分散液の流量を調節して行われる。
A transportation tube 20 communicating with the tank 10 is connected near the bottom of the tank 10. Tank 10
The tip of the transport tube 20 extending from the
Is connected to a nozzle 24 provided so as to be located above the base plate 5. The metering pump 22 draws the dispersion 3 from the tank 10 at a predetermined flow rate,
The dispersion liquid 3 can be dropped on the base plate 5 from 4. Adjustment of the amount of the dispersion liquid 3 dropped on the base plate 5 (time interval at which the dropping is performed) is performed by adjusting the output of the metering pump 22 or mechanically sandwiching the transport tube 20 to deform it in the radial direction. This is performed by adjusting the flow rate of the dispersion liquid.

【0046】タンク10と輸送チューブ20との接続部
の近傍において、輸送チューブ20には、輸送チューブ
20内を流れる分散液3中に圧縮空気(エア)を断続的
に噴出させることができるエア供給チューブ26が接続
されている。輸送チューブ20へのエア供給の動作は、
圧縮空気の保持部(エア源)とエア供給チューブ26と
の間に設けられた電磁弁26aの開閉動作によって制御
される。なお、エア供給チューブ26にはドレン26b
が接続されており、このドレン26bは、メンテナンス
時などにおいて、弁を開くことによってタンク10内の
分散液3を全て排出することができるように設けられて
いる。ドレン26bは、通常の運転時においては、弁が
閉じられており使用されない。
In the vicinity of the connection between the tank 10 and the transport tube 20, the transport tube 20 is provided with an air supply capable of intermittently blowing compressed air (air) into the dispersion 3 flowing through the transport tube 20. The tube 26 is connected. The operation of supplying air to the transport tube 20 is as follows.
It is controlled by the opening and closing operation of a solenoid valve 26a provided between the compressed air holding section (air source) and the air supply tube 26. The air supply tube 26 has a drain 26b.
The drain 26b is provided so that all the dispersion liquid 3 in the tank 10 can be discharged by opening a valve at the time of maintenance or the like. The drain 26b is not used during normal operation because the valve is closed.

【0047】また、輸送チューブ20には、エア供給チ
ューブ26の下流側(エア供給チューブ26と定常ポン
プ22との間の位置)において排出チューブ28が接続
されている。この排出チューブ28の先端はタンク10
内まで延びている。
A discharge tube 28 is connected to the transport tube 20 on the downstream side of the air supply tube 26 (at a position between the air supply tube 26 and the stationary pump 22). The tip of the discharge tube 28 is connected to the tank 10
Extends inside.

【0048】次に図2を参照しながら、エア供給チュー
ブ26からのエアの供給によって生じる、輸送チューブ
20中の分散液3の流れの変化を説明する。
Next, a change in the flow of the dispersion liquid 3 in the transport tube 20 caused by the supply of air from the air supply tube 26 will be described with reference to FIG.

【0049】図2(a)に示すように、エアを供給しな
い状態において、定量ポンプ22が分散液3を引き込む
ことによって、分散液3は輸送チューブ20内をタンク
10から定量ポンプ22に定常状態で流れる。
As shown in FIG. 2A, in a state where air is not supplied, the dispensing liquid 3 is drawn into the dispensing liquid 3 by the dispensing liquid 22 so that the dispersing liquid 3 moves from the tank 10 to the dispensing pump 22 in a steady state. Flows in

【0050】このとき、タンク10内の分散液3は、攪
拌機12によって常時攪拌されている。しかしながら、
攪拌機12によってタンク10内の分散液3を完全に攪
拌することは困難であり、タンク10の底付近では、酸
化物粉体3aの沈澱が生じるか、または沈澱しないまで
も分散液中の酸化物粉体3aの濃度が非常に高い状態に
なる。
At this time, the dispersion 3 in the tank 10 is constantly stirred by the stirrer 12. However,
It is difficult to completely stir the dispersion 3 in the tank 10 by the stirrer 12, and near the bottom of the tank 10, the oxide powder 3 a precipitates or the oxides in the dispersion do not even precipitate. The concentration of the powder 3a becomes very high.

【0051】この場合、タンク10の出口(タンク10
と輸送チューブ20との接続部)付近において、酸化物
粉体3aが輸送チューブ20内にも堆積してしまうこと
がある。このような粉体3aの堆積は、定量ポンプ22
によって台板5に滴下される分散液3の量が少なく、輸
送チューブ20内を流れる分散液3の流速が比較的遅い
ために起こりやすい。粉体3aの堆積量が徐々に増えて
いくと、輸送チューブ20内が詰まってしまい、分散液
3を適切に供給することができなくなる。また、分散液
3が輸送チューブ20内を流れているとき、特に分散液
3の流れが遅い箇所において、輸送チューブ20内に粉
体3aが堆積することがある。この場合にも、堆積した
粉体3aによって輸送チューブ20内が詰まるおそれが
ある。
In this case, the outlet of the tank 10 (the tank 10
In some cases, the oxide powder 3a may accumulate in the transport tube 20 in the vicinity of the connection between the transport tube 20 and the transport tube 20). The accumulation of the powder 3a is performed by the metering pump 22.
This is likely to occur because the amount of the dispersion liquid 3 dropped on the base plate 5 is small and the flow velocity of the dispersion liquid 3 flowing in the transport tube 20 is relatively low. When the accumulation amount of the powder 3a gradually increases, the inside of the transport tube 20 becomes clogged, and the dispersion liquid 3 cannot be appropriately supplied. Further, when the dispersion liquid 3 flows through the transport tube 20, the powder 3 a may accumulate in the transport tube 20, particularly at a location where the flow of the dispersion liquid 3 is slow. Also in this case, the inside of the transport tube 20 may be clogged by the deposited powder 3a.

【0052】そこで、図2(b)に示すように、エア供
給チューブ26から輸送チューブ20内へとエアを断続
的に噴出させる。図においてエアの流れを白矢印で示
す。エアを噴出させることによって、分散液3中に、エ
ア噴出前の定常流とは異なる非定常的な逆方向の流れ
(逆流)を発生させることができる。図において分散液
の流れを黒矢印で示す。図示するように、好適には、エ
アは、輸送チューブ20からタンク10内に噴出される
ように供給される。このようにすれば、粉体が特に堆積
しやすい部分である、輸送チューブ20とタンク10と
の接続部分において堆積している酸化物粉体3aをタン
ク10内へと押し戻すことができる。さらに、タンク1
0の底で沈澱している酸化物の粉体を分散液中に分散さ
せることができるので、分散液の攪拌も行われ得る。
Therefore, as shown in FIG. 2B, air is intermittently ejected from the air supply tube 26 into the transport tube 20. In the figure, the flow of air is indicated by white arrows. By ejecting the air, a non-stationary reverse flow (backflow) different from the steady flow before the air ejection can be generated in the dispersion 3. In the figure, the flow of the dispersion is indicated by black arrows. As shown, the air is preferably supplied so as to be ejected from the transport tube 20 into the tank 10. In this manner, the oxide powder 3a deposited at the connection portion between the transport tube 20 and the tank 10, which is the portion where the powder is particularly easily deposited, can be pushed back into the tank 10. In addition, tank 1
Since the oxide powder that precipitates at the bottom of the zero can be dispersed in the dispersion, the dispersion can also be stirred.

【0053】また、エアの供給によって、分散液3中に
は、輸送チューブ20全体にわたってノズル24からタ
ンク10へと流れる逆方向の流れが発生する。この逆方
向の流れの流速は、定常流の流速に対して大きくなるよ
うに設定され得る。これによって、輸送チューブ20内
において堆積、停滞していた酸化物粉体3aを移動、分
散させることができる。従って、粉体3aによる輸送チ
ューブ20の詰まりを防止することができる。また、輸
送チューブ内の分散液を均質にすることができるので、
ノズル24から台板5上に滴下される分散液3の濃度が
時間的に変化することを防止することができる。
The supply of air causes a reverse flow in the dispersion 3 flowing from the nozzle 24 to the tank 10 over the entire transport tube 20. The flow velocity of this reverse flow can be set to be higher than the flow velocity of the steady flow. Thereby, the oxide powder 3a that has accumulated and stagnated in the transport tube 20 can be moved and dispersed. Therefore, it is possible to prevent the transport tube 20 from being clogged by the powder 3a. Also, since the dispersion in the transport tube can be homogenized,
It is possible to prevent the concentration of the dispersion liquid 3 dropped from the nozzle 24 onto the base plate 5 from changing over time.

【0054】このように本実施形態では、輸送チューブ
20内にエアを供給することによって、輸送チューブ2
0内を流れる分散液3に対して、粉体3aが偏在しない
ように、分散液3の流れを変化させるような力を加え、
これによって分散液3を均質化する。
As described above, in this embodiment, by supplying air into the transport tube 20, the transport tube 2
A force that changes the flow of the dispersion 3 is applied to the dispersion 3 flowing in the chamber 0 so that the powder 3a is not unevenly distributed,
Thereby, the dispersion 3 is homogenized.

【0055】輸送チューブ20内において堆積していた
酸化物粉体3aは、タンク10に向かって吸い上げられ
る分散液3の流れによって移動させられる。このとき、
分散液3の一部は、排出チューブ28から排出される。
排出チューブ28を設けたことによって、逆流する分散
液3が排出チューブ28にも流れるので定量ポンプ22
付近などにおいて分散液3が極度に負圧になることがな
く、ポンプ22からタンク10に向かう逆流をより容易
に発生させることができる。
The oxide powder 3 a deposited in the transport tube 20 is moved by the flow of the dispersion 3 sucked up toward the tank 10. At this time,
Part of the dispersion 3 is discharged from the discharge tube 28.
By providing the discharge tube 28, the dispersion liquid 3 flowing backward flows also to the discharge tube 28,
In the vicinity or the like, the negative pressure of the dispersion liquid 3 does not become extremely negative, and the backflow from the pump 22 to the tank 10 can be more easily generated.

【0056】排出チューブ28はまた、エア供給チュー
ブ26からタンク10に向かわなかったエアや、輸送チ
ューブ20内に残存したエアなどの、エア供給後に定量
ポンプ22に向かうおそれのあるエアを輸送チューブ2
0から排出するという機能も持つ。これにより、エアが
定量ポンプ22に到達しないので、定量ポンプ22の動
作を妨げることがなく、塗布動作時にノズル24から台
板5に所望の量の分散液3を滴下することができる。
The discharge tube 28 also supplies air which has not been directed from the air supply tube 26 to the tank 10 or air which remains in the transport tube 20 and which may be directed to the metering pump 22 after air is supplied.
It also has the function of discharging from zero. As a result, the air does not reach the metering pump 22, so that the operation of the metering pump 22 is not hindered, and a desired amount of the dispersion liquid 3 can be dropped from the nozzle 24 onto the base plate 5 during the coating operation.

【0057】このようにして排出チューブ28から排出
された分散液およびエアは、図1に示すようにタンク1
0内へと戻される。このようにすれば、排出された分散
液を再使用することができるので、無駄が生じない。
The dispersion liquid and the air discharged from the discharge tube 28 in this manner are supplied to the tank 1 as shown in FIG.
Returned to 0. In this way, the discharged dispersion can be reused, so that no waste occurs.

【0058】なお、エアの供給によって分散液3の逆流
を発生させたときには、ノズル24から分散液3が引き
込まれることになり、台板5への分散液3の滴下が行え
なくなる。従って、上記エアの供給は、台板5への塗布
動作が行われない期間(例えば、1枚の台板の塗布が終
了した後、次の台板が塗布装置1に運ばれて来るまでの
間)に実行されることが望ましい。
When the backflow of the dispersion liquid 3 is generated by the supply of air, the dispersion liquid 3 is drawn from the nozzle 24, so that the dispersion liquid 3 cannot be dropped on the base plate 5. Therefore, the supply of the air is performed during a period in which the application operation to the base plate 5 is not performed (for example, after the application of one base plate is completed, until the next base plate is carried to the application device 1). It is desirable to be executed during

【0059】次に図3を参照する。図3は、複数本の輸
送チューブ20を用いて複数のノズル24から分散液を
台板上に塗布する場合における、輸送チューブ20など
の接続の形態を示す。図示するように輸送チューブ20
と、エア供給チューブ26および排出チューブ28とを
接続すれば、各輸送チューブ20に対してエア供給チュ
ーブ26からエアを供給することが可能であり、排出チ
ューブ28から分散液やエアを排出することが可能であ
る。従って、各輸送チューブ20内に堆積した粉体を適
切に除去または分散させ、各輸送チューブにおける詰ま
りの発生や、分散液の濃度不均一を防止することができ
る。
Next, reference is made to FIG. FIG. 3 shows a connection form of the transport tubes 20 and the like in a case where the dispersion liquid is applied to the base plate from the plurality of nozzles 24 using the plurality of transport tubes 20. As shown, the transport tube 20
If the air supply tube 26 and the discharge tube 28 are connected to each other, it is possible to supply air from the air supply tube 26 to each transport tube 20 and discharge the dispersion liquid and the air from the discharge tube 28. Is possible. Therefore, it is possible to appropriately remove or disperse the powder accumulated in each transport tube 20 and to prevent clogging in each transport tube and uneven concentration of the dispersion liquid.

【0060】次に、図4および図5を参照しながら、台
板上に滴下された分散液を塗り広げる塗り広げ装置30
を説明する。
Next, referring to FIGS. 4 and 5, a spreading device 30 for spreading the dispersion liquid dropped on the base plate.
Will be described.

【0061】図4に示す塗り広げ装置30は、複数のノ
ズル24から滴下された分散液を台板上5に塗布するた
めに、ノズル24に対応して設けられた複数のローラ3
2を備えている。なお、塗り広げ装置30は、台板5上
の成形体が載せられる領域が限られており、限られた領
域のみに分散液を塗布すれば足りる場合に用いるものと
して、並列された複数のローラ32を備えている。台板
表面全体にわたって分散液を塗布する必要がある場合な
どには、台板の幅に対応する長さを有する一本のローラ
などを用いてもよい。
The spreading device 30 shown in FIG. 4 includes a plurality of rollers 3 provided corresponding to the nozzles 24 for applying the dispersion liquid dropped from the plurality of nozzles 24 onto the base plate 5.
2 is provided. The spreading device 30 has a limited area where the molded body on the base plate 5 is placed, and is used when it is sufficient to apply the dispersion only to the limited area. 32. When it is necessary to apply the dispersion over the entire surface of the base plate, a single roller having a length corresponding to the width of the base plate may be used.

【0062】各ローラ32は、固定部34に対して所定
範囲で上下方向に可動となるように取り付けられ、自重
によって台板5上に載せられるように設計されているこ
とが望ましい。また、各ローラ32の表面は、好適には
フエルトなどの吸水性材料から形成されている。
Each roller 32 is desirably mounted so as to be vertically movable within a predetermined range with respect to the fixed portion 34 and is designed to be mounted on the base plate 5 by its own weight. The surface of each roller 32 is preferably made of a water-absorbing material such as felt.

【0063】図5(a)に示すようにノズル24から台
板5上に分散液3が滴下された後、搬送装置8によって
台板5がローラ32に対して移動させられると、図5
(b)に示すように、表面が吸水性を有するローラ32
は、余分な分散液3を吸収しながら台板5上に分散液3
を均一な厚さで塗り広げる。ローラ32は、自重によっ
て台板5上に載せられるため、たとえ台板自体にわずか
なソリなどの変形や厚さのばらつきがある場合にも、台
板5上に分散液3を均一な厚さで塗布することができ
る。また、複数の台板5を連続的に塗布処理する場合、
台板毎の厚さに多少のばらつきがあったとしても、各台
板に対して分散液3を均一な厚さで塗布することができ
る。
As shown in FIG. 5A, after the dispersion liquid 3 is dropped onto the base plate 5 from the nozzle 24, the base plate 5 is moved with respect to the rollers 32 by the transfer device 8, and as shown in FIG.
(B) As shown in FIG.
Is placed on the base plate 5 while absorbing the excess dispersion liquid 3.
Spread in a uniform thickness. Since the roller 32 is placed on the base plate 5 by its own weight, even if the base plate itself has a slight deformation such as a warp or a variation in thickness, the dispersion liquid 3 is uniformly deposited on the base plate 5. Can be applied. When a plurality of base plates 5 are continuously coated,
Even if there is some variation in the thickness of each base plate, the dispersion 3 can be applied to each base plate with a uniform thickness.

【0064】本実施形態の分散液塗布装置1によれば、
希土類酸化物などの酸化物から形成される粉体をアルコ
ールなどの液体に分散させた分散液を用いる場合であっ
ても、粉体の沈澱によってチューブが詰まることを防止
しながら、比較的濃度が均一な分散液を台板上に均一な
厚さで塗布することができる。
According to the dispersion liquid applying apparatus 1 of the present embodiment,
Even in the case of using a dispersion in which a powder formed of an oxide such as a rare earth oxide is dispersed in a liquid such as alcohol, the concentration of the tube is relatively low while preventing the tube from being clogged by the sedimentation of the powder. A uniform dispersion can be applied on the base plate at a uniform thickness.

【0065】以下、図6および図7を参照しながら、分
散液塗布装置の動作のフローを説明する。
Hereinafter, the flow of the operation of the dispersion liquid applying apparatus will be described with reference to FIGS. 6 and 7.

【0066】図6に示す分散液装置は、上述したよう
に、タンク10に取り付けられた攪拌機と、タンク10
から台板5に分散液3を輸送するために用いられる定量
ポンプと、台板5上で分散液3を塗り広げるためのロー
ラ32を備えた塗り広げ装置30とを備える。
As shown in FIG. 6, the dispersion apparatus shown in FIG.
And a spreading device 30 having a roller 32 for spreading the dispersion liquid 3 on the base plate 5.

【0067】塗り広げ装置30は、塗り広げ装置30を
水平方向に移動させるための横行シリンダに接続されて
いる。この横行シリンダには、塗り広げ装置30が前進
位置に移動したことを検知するための前進センサと、塗
り広げ装置30が後退位置に移動したことを検知するた
めの後退センサとが設けられている。
The spreading device 30 is connected to a traversing cylinder for moving the spreading device 30 in the horizontal direction. The traverse cylinder is provided with a forward sensor for detecting that the spreading device 30 has moved to the forward position, and a retreat sensor for detecting that the spreading device 30 has moved to the retreat position. .

【0068】塗り広げ装置30のローラ32は、ローラ
32を垂直方向に移動させるための昇降シリンダに接続
されている。この昇降シリンダには、ローラ32が上昇
位置に移動したことを検知するための上昇センサと、ロ
ーラ30が下降位置に移動したことを検知するための下
降センサとが設けられている。
The roller 32 of the spreading device 30 is connected to an elevating cylinder for moving the roller 32 in the vertical direction. The elevating cylinder is provided with an ascending sensor for detecting that the roller 32 has moved to the ascending position and a descending sensor for detecting that the roller 30 has moved to the ascending position.

【0069】また、分散液塗布装置は、搬送装置8(図
1参照)によって搬送される台板5が、搬送路中の所定
の位置に在るか否かを検知する台板センサを備えてい
る。
Further, the dispersion liquid applying apparatus has a base plate sensor for detecting whether or not the base plate 5 conveyed by the conveying device 8 (see FIG. 1) is at a predetermined position in the conveying path. I have.

【0070】このように構成された分散液塗布装置にお
いて、図7に示すように、まず、タンク10に予め計量
した所定比を有する分散媒および酸化物粉体を投入し、
攪拌機を動作させる(ステップS40)。また、分散液
が攪拌された状態において定量ポンプの運転を開始し、
これによりタンク10からの分散液3をノズル24を介
して滴下させる。
As shown in FIG. 7, in the dispersion liquid coating apparatus having the above-described structure, first, a dispersion medium and an oxide powder having a predetermined ratio measured in advance are charged into a tank 10.
The stirrer is operated (Step S40). In addition, start operation of the metering pump in a state where the dispersion is stirred,
Thereby, the dispersion liquid 3 from the tank 10 is dropped via the nozzle 24.

【0071】次に、台板センサによって、台板5が所定
の場所まで運ばれてきたことが確認されると(ステップ
S42)、横行シリンダによって塗り広げ装置30を前
進位置へ移動させる(ステップS44)。前進センサに
よって塗り広げ装置30が前進位置に到達したことが確
認されると(ステップS46)、昇降シリンダを用いて
ローラ32を下降位置まで移動させる(ステップS4
8)。ローラ32が下降位置まで移動したか否かは、昇
降シリンダに接続された下降センサによって判断される
(ステップS50)。
Next, when it is confirmed by the base plate sensor that the base plate 5 has been carried to a predetermined place (step S42), the spreader 30 is moved to the forward position by the traversing cylinder (step S44). ). When it is confirmed by the advance sensor that the spreader 30 has reached the advance position (step S46), the roller 32 is moved to the descending position using the elevating cylinder (step S4).
8). Whether the roller 32 has moved to the lowering position is determined by a lowering sensor connected to the lifting cylinder (step S50).

【0072】塗り広げ装置30は、塗り広げ装置30が
前進位置まで移動し、ローラ32が下降位置まで移動し
たときに、台板5上に滴下された分散液3を適切に塗り
広げることができる。これは、塗布工程以外のときにも
塗り広げ装置30が前進位置にあると、例えば既に塗布
し終えた台板をロボット9(図1参照)によって他の場
所に移動させるときに邪魔になる場合があるからであ
る。また、台板が存在していないときにローラ32が下
降位置にあると、ローラ32と搬送装置8(図1参照)
とが接触するおそれがあり、ローラ32が磨り減ること
があるからである。なお、このように塗り広げ装置30
およびローラ32の移動を行う場合、分散液を滴下する
ノズル24は、ローラ32との相対位置が変化しないよ
うに、ローラ支持部材に固定されていることが望まし
い。
The spreading device 30 can appropriately spread the dispersion liquid 3 dropped on the base plate 5 when the spreading device 30 moves to the forward position and the roller 32 moves to the descending position. . This is because when the spreading device 30 is in the forward position even during a time other than the coating process, it becomes a hindrance when the robot 9 (see FIG. 1) moves the base plate that has already been coated to another place. Because there is. If the roller 32 is at the lowered position when the base plate is not present, the roller 32 and the transport device 8 (see FIG. 1)
This is because the rollers 32 may come into contact with each other, and the rollers 32 may be worn away. Note that, as described above, the spreader 30
When the roller 32 is moved, the nozzle 24 for dropping the dispersion liquid is desirably fixed to the roller support member so that the relative position with respect to the roller 32 does not change.

【0073】ローラ32を上述のような位置に移動さ
せ、搬送装置8によって台板5を移動させることによっ
て、台板5上への分散液の塗布が行われる(ステップS
52)。この分散液の塗布は、台板センサによって台板
5が存在しないと判断される(すなわち、台板全体に分
散液が塗布される)まで行われる(ステップS54)。
塗布工程後は、昇降シリンダおよびこれに接続された上
昇センサを用いて、ローラ32を上昇位置まで移動させ
る(ステップS56およびS58)。さらに、横行シリ
ンダを用いて塗り広げ装置30を後退させる(ステップ
S60)。
The roller 32 is moved to the position as described above, and the base plate 5 is moved by the transport device 8, whereby the dispersion liquid is applied onto the base plate 5 (step S).
52). The application of the dispersion liquid is performed until the base plate sensor determines that the base plate 5 does not exist (that is, the dispersion liquid is applied to the entire base plate) (step S54).
After the application step, the roller 32 is moved to the ascending position using the elevating cylinder and the ascending sensor connected thereto (steps S56 and S58). Further, the spreading device 30 is moved backward using the traversing cylinder (step S60).

【0074】このとき、エア供給チューブ26に取り付
けられた電磁弁26aの開閉動作を複数回(最大20
回)繰り返して行い、輸送チューブ内に断続的にエアを
供給する(ステップS62)。これにより、分散液中に
非定常的な逆流を発生させ、輸送チューブ内における酸
化物粉体の沈澱を分散させることができる。
At this time, the opening / closing operation of the electromagnetic valve 26a attached to the air supply tube 26 is performed a plurality of times (up to 20 times).
Times) repeatedly to supply air intermittently into the transport tube (step S62). As a result, an unsteady backflow is generated in the dispersion, and the precipitate of the oxide powder in the transport tube can be dispersed.

【0075】なお、エアを供給している間も定量ポンプ
は動作しているが、輸送チューブ内の分散液には逆流が
発生しているため、ノズル24から分散液が滴下されな
い。このため、上述のように台板への分散液の塗布工程
(S54)が終了した後に、エア供給工程(ステップS
62)が設定されている。
Although the metering pump is operating while the air is being supplied, the dispersion liquid in the transport tube has a reverse flow, so that the dispersion liquid is not dropped from the nozzle 24. Therefore, after the step of applying the dispersion liquid to the base plate (S54) is completed as described above, the air supply step (step S54) is performed.
62) is set.

【0076】その後、後退センサによって、塗り広げ装
置30が後退位置まで移動したことが確認されて(ステ
ップS64)、一回の塗布動作が終了する。さらに、塗
布すべき台板が搬送装置によって塗布装置に搬送されて
くる場合には、塗布装置は、ステップS42に戻って、
次の台板の塗布動作を行う。
Thereafter, it is confirmed by the retreat sensor that the spreader 30 has moved to the retreat position (step S64), and one application operation is completed. Further, when the base plate to be applied is transferred to the coating device by the transfer device, the coating device returns to step S42 and
The coating operation of the next base plate is performed.

【0077】(実施形態2)以下、図面を参照しながら
実施形態2の分散液塗布装置の構成を説明する。なお、
図面において、実施形態1の分散液塗布装置の部材と同
様の構成を有する部材には同様の参照符号を付してい
る。
(Embodiment 2) Hereinafter, the configuration of the dispersion liquid applying apparatus of Embodiment 2 will be described with reference to the drawings. In addition,
In the drawings, members having the same configuration as the members of the dispersion liquid applying apparatus of Embodiment 1 are given the same reference numerals.

【0078】まず、図8を参照する。実施形態2の分散
液塗布装置201は、希土類酸化物などの酸化物の粉体
をアルコールなどの揮発性液体に分散させた分散液3を
収容するタンク10と、タンク10から台板5上に分散
液3を運ぶ輸送チューブ220と、輸送チューブ220
の端部(タンク10に接続された側とは反対側の端部)
に接続されたノズル224とを備えている。タンク10
には、実施形態1と同様に、分散液3を攪拌する攪拌機
12が取り付けられている。
First, reference is made to FIG. The dispersion liquid coating apparatus 201 according to the second embodiment includes a tank 10 containing a dispersion liquid 3 in which an oxide powder such as a rare earth oxide is dispersed in a volatile liquid such as alcohol, and the tank 10 on the base plate 5. A transport tube 220 for carrying the dispersion 3 and a transport tube 220
End (end opposite to the side connected to tank 10)
And a nozzle 224 connected to the Tank 10
In the same manner as in the first embodiment, a stirrer 12 for stirring the dispersion 3 is attached.

【0079】ノズル224には、弁226aが設けられ
たエア供給チューブ226が接続されており、弁226
aを開いてノズル224にエアを供給することによって
分散液3を台板5上に噴射することができる。なお、ノ
ズル224の噴射口の口径は例えば2mmであり、ノズ
ル224からの分散液3の吐出圧は例えば2kg/cm
2である。このようにエアを供給することによって分散
液を噴射するノズルとしては、例えば、扶桑精機株式会
社製のルミナ自動スプレーガンPRシリーズを使用する
ことができる。
An air supply tube 226 provided with a valve 226a is connected to the nozzle 224.
By opening a and supplying air to the nozzle 224, the dispersion liquid 3 can be jetted onto the base plate 5. The diameter of the injection port of the nozzle 224 is, for example, 2 mm, and the discharge pressure of the dispersion 3 from the nozzle 224 is, for example, 2 kg / cm.
2 As the nozzle for ejecting the dispersion by supplying the air as described above, for example, a Lumina automatic spray gun PR series manufactured by Fuso Seiki Co., Ltd. can be used.

【0080】分散液塗布装置201は、焼結用台板5の
表面を清浄化するためのショットブラスタ207に近接
して配置されている。ショットブラスタ207は、アル
ミナなどから形成される粉末70を発射する粉体発射部
272を備えており、搬送装置8によって矢印Pで示す
方向に移動させられる台板5の上表面に対して粉末70
を衝突させる。粉体発射部272は、台板5の移動方向
に沿って延びる軸274に対して固定されている。不図
示の回動装置は、軸274を正逆いずれの方向にも回転
させることができ、これによって、粉体発射部272を
軸274回りでスイングさせることができる。ショット
ブラスタ207は、台板5の移動中において、粉体発射
部272をスイングさせながら粉末を発射することによ
り、台板5の上表面全体を清浄化することができる。
The dispersion liquid coating device 201 is arranged close to a shot blaster 207 for cleaning the surface of the sintering base plate 5. The shot blaster 207 includes a powder emitting unit 272 that emits the powder 70 formed of alumina or the like. The powder blasting unit 207 moves the powder 70 against the upper surface of the base plate 5 moved in the direction indicated by the arrow P by the transport device 8.
Collide. The powder emitting unit 272 is fixed to a shaft 274 extending along the moving direction of the base plate 5. A rotating device (not shown) can rotate the shaft 274 in either the forward or reverse direction, and thereby can swing the powder emitting unit 272 around the shaft 274. The shot blaster 207 can clean the entire upper surface of the base plate 5 by emitting the powder while swinging the powder emission unit 272 while the base plate 5 is moving.

【0081】図9に示すように、軸274には、分散液
3を台板5上に噴射するためのノズル224がアーム2
22を介して固定されている。これにより、粉体発射部
272をスイングさせるために軸274を回動させる
と、ノズル222も同様に揺らされる。従って、図10
に示すように、ノズル224は、台板5上において、台
板5の進行方向と略直交する方向に移動することがで
き、台板5の上表面全体に渡って分散液3を散布するこ
とができる。
As shown in FIG. 9, the shaft 274 is provided with a nozzle 224 for jetting the dispersion 3 onto the base plate 5.
22 is fixed. Thus, when the shaft 274 is rotated to swing the powder emitting unit 272, the nozzle 222 is also swung. Therefore, FIG.
As shown in (2), the nozzle 224 can move on the base plate 5 in a direction substantially orthogonal to the traveling direction of the base plate 5, and spray the dispersion 3 over the entire upper surface of the base plate 5. Can be.

【0082】このとき、ノズル224に分散液3を運ぶ
輸送チューブ220も、ノズル224の移動に伴って揺
らされる。従って、輸送チューブ220内を流れる分散
液3に対して機械的な力(揺れ)が加えられる。このと
き、輸送チューブ220内で分散液3中の敷き粉が移動
し得るため、分散液3は均質化されるとともに、分散液
中で敷き粉が偏在して輸送チューブ220が詰まること
が防止される。
At this time, the transport tube 220 that carries the dispersion 3 to the nozzle 224 is also shaken as the nozzle 224 moves. Therefore, a mechanical force (sway) is applied to the dispersion 3 flowing in the transport tube 220. At this time, since the litter in the dispersion liquid 3 can move in the transport tube 220, the dispersion liquid 3 is homogenized and the litter is unevenly distributed in the dispersion liquid to prevent the transportation tube 220 from being clogged. You.

【0083】また、輸送チューブ220内での敷き粉の
沈澱をより確実に防止するために、輸送チューブ220
を振動させる装置(不図示)を設けても良い。このよう
な振動装置は、輸送チューブ内において、特に敷き粉の
沈殿が生じやすい個所を効果的に振動させることが好ま
しく、例えば、タンク10と輸送チューブ220との接
続部分の近傍に取り付けられる。
Further, in order to more reliably prevent the deposition of the litter in the transport tube 220, the transport tube 220
(Not shown) may be provided. It is preferable that such a vibrating device effectively vibrates particularly a place where the litter tends to settle in the transport tube, and is attached, for example, in the vicinity of a connection portion between the tank 10 and the transport tube 220.

【0084】なお、本実施形態では、ノズル224から
は分散液3が常時噴射されている。この場合、複数の台
板5に対して連続的に分散液3を塗布するとき、ノズル
224の下に台板5が存在しないときも分散液3が噴射
されるが、輸送チューブ220の詰まりを防止するため
には分散液3の噴射を停止させないほうが好ましい。
In the present embodiment, the dispersion liquid 3 is always jetted from the nozzle 224. In this case, when the dispersion liquid 3 is continuously applied to the plurality of base plates 5, the dispersion liquid 3 is jetted even when the base plate 5 does not exist below the nozzle 224. In order to prevent this, it is preferable not to stop the injection of the dispersion 3.

【0085】[希土類焼結磁石の製造方法]以下、上記
分散液塗布装置1または201を用いたR−T−(M)
−B系の希土類焼結磁石の製造方法を説明する。
[Manufacturing Method of Rare Earth Sintered Magnet] Hereinafter, RT- (M) using the dispersion coating apparatus 1 or 201 will be described.
A method for producing a -B rare earth sintered magnet will be described.

【0086】R−T−(M)−B系磁石を製造するため
に、まず、ストリップキャスト法を用いてR−T−
(M)−B系合金の鋳片を作製する。ストリップキャス
ト法は、例えば米国特許第5,383,978号に開示
されている。具体的には、Nd:30wt%、B:1.
0wt%、Al:0.2wt%、Co:0.9wt%、
Cu:0.2wt%、残部Feおよび不可避不純物から
なる組成の合金を高周波溶解によって溶融し、合金溶湯
を形成する。この合金溶湯を1350℃に保持した後、
単ロール法によって、合金溶湯を急冷し、厚さ0.3m
mのフレーク状合金を得る。このときの急冷条件は、例
えば、ロール周速度約1m/秒、冷却速度500℃/
秒、過冷度200℃である。
In order to manufacture an RT- (M) -B-based magnet, first, an RT-
A slab of the (M) -B alloy is prepared. Strip casting is disclosed, for example, in US Pat. No. 5,383,978. Specifically, Nd: 30 wt%, B: 1.
0 wt%, Al: 0.2 wt%, Co: 0.9 wt%,
An alloy having a composition of Cu: 0.2 wt%, the balance being Fe and unavoidable impurities is melted by high frequency melting to form a molten alloy. After maintaining this molten alloy at 1350 ° C,
The alloy melt is quenched by the single roll method and the thickness is 0.3m
m flake alloy is obtained. The rapid cooling condition at this time is, for example, a roll peripheral speed of about 1 m / sec, a cooling speed of 500 ° C. /
Seconds, the degree of supercooling is 200 ° C.

【0087】このフレーク状合金を水素吸蔵法によって
粗粉砕した後、ジェットミルを用いて窒素ガス雰囲気中
で微粉砕すれば、平均粒径が約3.5μmの合金粉末を
得ることができる。
If the flake alloy is roughly pulverized by a hydrogen storage method and then finely pulverized in a nitrogen gas atmosphere using a jet mill, an alloy powder having an average particle size of about 3.5 μm can be obtained.

【0088】こうして得た合金粉末に対して、ロッキン
グミキサー内で潤滑剤を0.3wt%添加・混合し、潤
滑剤で合金粉末粒子の表面を被覆する。潤滑剤として
は、脂肪酸エステルを石油系溶剤で希釈したものを用い
ることが好ましい。本実施形態では、脂肪酸エステルと
してカプロン酸メチルを用い、石油系溶剤としてはイソ
パラフィンを好適に用いることができる。カプロン酸メ
チルとイソパラフィンの重量比は、例えば1:9とすれ
ばよい。
To the alloy powder thus obtained, 0.3% by weight of a lubricant is added and mixed in a rocking mixer, and the surface of the alloy powder particles is coated with the lubricant. It is preferable to use a lubricant obtained by diluting a fatty acid ester with a petroleum solvent. In the present embodiment, methyl caproate is preferably used as the fatty acid ester, and isoparaffin is preferably used as the petroleum solvent. The weight ratio between methyl caproate and isoparaffin may be, for example, 1: 9.

【0089】次に、プレス機を用いて上記合金粉末を磁
界中で圧縮成形し、それによって所定形状の成形体を作
製する。成形体の密度は、例えば4.3g/cm3程度
に設定される。
Next, the above-mentioned alloy powder is compression-molded in a magnetic field using a press machine, thereby producing a compact having a predetermined shape. The density of the molded body is set to, for example, about 4.3 g / cm 3 .

【0090】一方で、成形体を載せるための焼結用台板
を用意する。焼結用台板はステンレス鋼、モリブデンな
どの高融点金属から形成され、好適にはモリブデンから
形成される。モリブデンは、希土類金属元素を含有する
成形体との反応性が低く、熱伝導性が良く、かつ、耐熱
性も良好であるため、焼結用台板の材料として適切であ
る。
On the other hand, a sintering base plate on which a compact is to be placed is prepared. The sintering base plate is formed of a high melting point metal such as stainless steel or molybdenum, and is preferably formed of molybdenum. Molybdenum is suitable as a material for the base plate for sintering because it has low reactivity with a compact containing a rare earth metal element, has good thermal conductivity, and has good heat resistance.

【0091】後述するように、焼結用台板上に配する敷
き粉として平均粒径1μm〜数十μm(特に1μm〜2
0μm)の酸化物粉末を用いることが好ましいが、この
ような粒径の酸化物粉末を用いる場合、焼結用台板の表
面粗さRa(平均粗度)は、0.1μm〜150μmで
あることが望ましく、さらに、0.1μm〜10.0μ
mであることが望ましい。表面粗さRaが0.1μm未
満であると、台板表面の凹凸が小さすぎて粉が台板上を
移動する(滑る)結果、敷き粉を台板上に均一に敷くこ
とが難しくなる。また、表面粗さRaが150μmを超
えると、凹凸が大きすぎることにより粉体が敷き粉とし
ての機能を果たさず、台板と成形体との間の摩擦が大き
くなることから、焼結時に、溶着は生じなくとも焼結体
にひびが発生するおそれがあるからである。また、同様
の理由から、焼結用台板の表面粗さRmax(最大粗
度)は、1μm〜300μmであることが望ましい。な
お、台板の表面粗度RaおよびRmaxは、例えば、株
式会社ミツトヨ製の小形表面粗さ測定機(サーフテスト
SJ−301)を使用することによってJIS規格にし
たがって測定され得る。
As will be described later, an average particle size of 1 μm to several tens μm (particularly 1 μm to 2 μm)
It is preferable to use an oxide powder having a particle diameter of 0 μm), but when using an oxide powder having such a particle size, the surface roughness Ra (average roughness) of the base plate for sintering is 0.1 μm to 150 μm. It is preferable that the thickness is 0.1 μm to 10.0 μm.
m is desirable. If the surface roughness Ra is less than 0.1 μm, the unevenness on the surface of the base plate is too small, and the powder moves (slids) on the base plate, so that it becomes difficult to spread the spread powder uniformly on the base plate. Further, when the surface roughness Ra exceeds 150 μm, the powder does not function as a spreading powder due to too large irregularities, and the friction between the base plate and the molded body increases. This is because even if welding does not occur, the sintered body may be cracked. For the same reason, it is desirable that the surface roughness Rmax (maximum roughness) of the sintering base plate be 1 μm to 300 μm. The surface roughness Ra and Rmax of the base plate can be measured in accordance with JIS standards by using, for example, a small surface roughness measuring device (Surftest SJ-301) manufactured by Mitutoyo Corporation.

【0092】焼結用台板を繰り返し使用しているうち
に、焼結後に台板に付着した残留物を除去しきれないこ
となどによって台板の表面粗度は次第に大きくなってい
く。ただし、上述のように台板の粗度Raが150μm
以下で且つ粗度Rmaxが300μm以下であれば、敷
き粉を敷くことで焼結体のひび割れの発生を適切に防止
することが可能である。なお、台板の表面粗度の大きさ
に応じて、敷き粉のサイズを変更するようにしてもよ
い。
While the sintering base plate is repeatedly used, the surface roughness of the base plate gradually increases due to, for example, the inability to remove the residue attached to the base plate after sintering. However, as described above, the roughness Ra of the base plate is 150 μm.
If the roughness is not more than 300 μm and the roughness Rmax is not more than 300 μm, it is possible to appropriately prevent the occurrence of cracks in the sintered body by laying the spreading powder. In addition, you may make it change the size of spreading powder according to the magnitude | size of the surface roughness of a base plate.

【0093】次に、分散液塗布装置1または201を用
いて、液体に酸化物の粉末を分散させた分散液を焼結用
台板上に均一に塗布する。分散媒(液体)としては、エ
タノールやメタノールなどの揮発性液体を用いることが
望ましい。揮発性液体を用いれば、分散液を台板に塗布
した後に、台板を乾燥させる時間を短くすることができ
る。なお、エタノールはコストが安いため、特に好まし
い。また、酸化物粉体は、焼結温度において安定した性
質を有し、かつ、希土類金属元素を含有する成形体との
反応性が低い材料から形成されることが望ましい。この
ような材料としては、例えば、ネオジム酸化物、イット
リウム酸化物などの希土類酸化物や、ジルコニア、アル
ミナなどの酸化物が挙げられる。
Next, using a dispersion coating apparatus 1 or 201, a dispersion in which an oxide powder is dispersed in a liquid is uniformly coated on a sintering base plate. It is desirable to use a volatile liquid such as ethanol or methanol as the dispersion medium (liquid). When a volatile liquid is used, the time for drying the base plate after applying the dispersion liquid to the base plate can be shortened. Ethanol is particularly preferable because of its low cost. Further, it is desirable that the oxide powder be formed of a material having stable properties at the sintering temperature and low reactivity with the compact containing the rare earth metal element. Examples of such a material include rare earth oxides such as neodymium oxide and yttrium oxide, and oxides such as zirconia and alumina.

【0094】また、敷き粉として用いられる酸化物の粉
体の平均粒径は、1μm〜数十μmであることが望まし
い。粉体の粒径が1μmよりも小さいと、台板表面に形
成されている凹凸の間に粉体が入り込み敷き粉としての
機能を果たさなくなるおそれがあるからである。また、
数十μmよりも大きいと、分散液中で均一に分散されな
いことがある。さらに、敷き粉の粒径が大きすぎると、
分散液塗布装置の輸送チューブ内が敷き粉によって詰ま
りやすくなるという問題も生じる。なお、酸化物の粉体
の平均粒径のより好ましい範囲は、1μm〜20μmで
あり、より好ましい範囲は、1μm〜10μmである。
The average particle size of the oxide powder used as the spreading powder is preferably 1 μm to several tens μm. If the particle size of the powder is smaller than 1 μm, the powder may enter between the irregularities formed on the surface of the base plate and may not function as a laying powder. Also,
If it is larger than tens of μm, it may not be uniformly dispersed in the dispersion. Furthermore, if the particle size of the bedding powder is too large,
There is also a problem that the inside of the transport tube of the dispersion liquid application device is easily clogged with the litter. Note that a more preferable range of the average particle size of the oxide powder is 1 μm to 20 μm, and a more preferable range is 1 μm to 10 μm.

【0095】分散液の濃度は、10g/リットル以上
(分散媒1リットルに対して粉体10g以上)であるこ
とが望ましい。濃度が10g/リットル未満であると、
台板上に敷かれる粉体の量が相対的に少なくなり、敷き
粉としての効果が得られないおそれがあるからである。
また、分散液の濃度は、500g/リットル以下である
ことが望ましい。分散液の濃度が高すぎると塗布装置の
輸送チューブの詰まりが発生しやすくなるし、粉体を不
必要に多く消費することにもなるからである。なお、分
散液の濃度は、200g/リットル以上500g/リッ
トル以下であることが、より好ましい。
The concentration of the dispersion is desirably 10 g / l or more (10 g of powder per 1 liter of the dispersion medium). When the concentration is less than 10 g / liter,
This is because the amount of the powder spread on the base plate becomes relatively small, and the effect as the spread powder may not be obtained.
The concentration of the dispersion is desirably 500 g / liter or less. If the concentration of the dispersion is too high, clogging of the transport tube of the coating apparatus is likely to occur, and the powder will be consumed unnecessarily much. The concentration of the dispersion is more preferably 200 g / liter or more and 500 g / liter or less.

【0096】分散液塗布装置1または201によって分
散液が塗布された後、好ましくは揮発性を有する分散媒
を蒸発させる。これにより、分散液中の酸化物粉体を焼
結用台板上に敷き粉として敷くことができる。分散液塗
布装置1または201を用いれば、手間がかからず、塗
布工程時間を短縮できる上に、台板上に敷き粉を均一に
敷くことができる。
After the dispersion is applied by the dispersion applying apparatus 1 or 201, the volatile dispersion medium is preferably evaporated. Thereby, the oxide powder in the dispersion can be spread as a spread powder on the sintering base plate. If the dispersion liquid coating apparatus 1 or 201 is used, the time required for the coating step can be reduced without the need for labor, and the spread powder can be evenly spread on the base plate.

【0097】敷き粉を敷いた焼結用台板上に、上述のよ
うにプレス機を用いて作製された多数の成形体を並べ
る。次に、成形体が並べられた複数の焼結用台板を、ス
ペーサを用いて間隔を開けて積み重ねた状態で、焼結用
ケース内に収容する。焼結用ケースは、例えば、箱とこ
れに被せられる蓋とで構成されており、焼結用ケースを
使用することによって、焼結炉内において暴露された状
態で成形体が焼結されることを防ぐ。焼結用ケースを使
用しない場合は、成形体の希土類元素が炉内に存在する
酸素によって酸化するおそれがあり、この場合に磁石の
特性は大きく劣化してしまう。
On the sintering base plate on which the laying powder has been laid, a number of compacts produced by using a press as described above are arranged. Next, the plurality of sintering base plates on which the formed bodies are arranged are accommodated in a sintering case in a state of being stacked at intervals by using a spacer. The sintering case is composed of, for example, a box and a lid put on the box, and by using the sintering case, the molded body is sintered in an exposed state in a sintering furnace. prevent. When the sintering case is not used, the rare earth element of the compact may be oxidized by oxygen present in the furnace, and in this case, the properties of the magnet are greatly deteriorated.

【0098】この焼結用ケースを焼結装置まで搬送し、
焼結装置の入り口に設けられている準備室内に焼結用ケ
ースを挿入し、準備室を密閉した後、酸化防止のため、
雰囲気圧力が2パスカル程度になるまで準備室内を真空
引きする。次に、焼結用ケースを脱バインダ室に搬送
し、そこで脱バインダ処理(温度:250〜600度、
圧力:2パスカル、時間:3〜6時間)を実行する。脱
バインダ処理は、磁性粉末の表面を覆っている潤滑剤
(バインダ)を焼結工程の前に揮発させるために行うも
のである。潤滑剤は、プレス成形時における磁性粉末の
配向性を改善するため、プレス成形前に磁性粉末と混合
されたものであり、磁性粉末の各粒子間に存在してい
る。脱バインダ処理時には成形体から有機系ガス、水蒸
気などの各種のガスが発生する。従って、これらのガス
を吸収することができるゲッターを焼結用ケース内に予
め置いておくことが望ましい。
This sintering case is transported to a sintering device,
After inserting the sintering case into the preparation room provided at the entrance of the sintering device and sealing the preparation room, to prevent oxidation,
The preparation chamber is evacuated until the atmospheric pressure becomes about 2 Pascal. Next, the sintering case is transported to the binder removal chamber, where the binder removal treatment (temperature: 250 to 600 degrees,
Pressure: 2 Pascal, time: 3-6 hours). The binder removal treatment is performed to volatilize a lubricant (binder) covering the surface of the magnetic powder before the sintering step. The lubricant is mixed with the magnetic powder before the press molding in order to improve the orientation of the magnetic powder at the time of the press molding, and exists between the particles of the magnetic powder. During the binder removal treatment, various gases such as organic gas and water vapor are generated from the molded body. Therefore, it is desirable that a getter capable of absorbing these gases be placed in the sintering case in advance.

【0099】脱バインダ処理が終了した後、焼結用ケー
スは焼結室に搬送され、アルゴン雰囲気中で、1000
〜1100℃の焼結処理を2〜5時間程度受ける。この
とき、焼結用台板上には、分散液塗布装置1または20
1を用いて均一に敷き粉が敷かれているので、成形体が
台板と溶着することが防止され、焼結体にひび割れや破
損が生じる可能性を低減することができる。また、焼結
時に成形体は収縮されるが、敷き粉が台板上に均一に敷
かれているため、成形体の収縮が均一に行われるので、
望ましくない変形を生じることが防止される。
After the binder removal treatment, the sintering case is transported to the sintering chamber and subjected to 1000 g in an argon atmosphere.
焼 結 1100 ° C. for about 2 to 5 hours. At this time, the dispersion coating device 1 or 20 is placed on the sintering base plate.
Since the spreading powder is spread evenly using No. 1, the molded body is prevented from being welded to the base plate, and the possibility of cracking or breakage of the sintered body can be reduced. In addition, the compact is shrunk during sintering, but since the laying powder is evenly spread on the base plate, the compact shrinks evenly,
Undesirable deformation is prevented.

【0100】この後、焼結用ケースは、冷却室に搬送さ
れ、そこで焼結用ケースの温度が室温程度に低下するま
で冷却処理を受ける。冷却された焼結体は、時効処理炉
に挿入され、通常の時効処理工程が実行されることにな
る。時効処理は、例えば、アルゴン等の雰囲気ガスの圧
力を2パスカル程度とし、400〜600℃の温度にて
3〜7時間程度のあいだ行われる。
Thereafter, the sintering case is transferred to a cooling chamber, where it is subjected to a cooling process until the temperature of the sintering case is reduced to about room temperature. The cooled sintered body is inserted into an aging furnace, and a normal aging process is performed. The aging treatment is performed, for example, at a pressure of an atmospheric gas such as argon of about 2 Pascal and at a temperature of 400 to 600 ° C. for about 3 to 7 hours.

【0101】なお、本発明の希土類焼結磁石の製造方法
は、前述の組成を有する磁石に限定されず、R−T−
(M)−B系磁石に広く好適に適用される。例えば、希
土類元素Rとして、Y、La、Ca、Pr、Nd、S
m、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Luの少な
くとも一種類の元素を含有する原料を用いることができ
る。充分な磁化を得るには、希土類元素Rのうちの50
at%以上がPrまたはNdの何れかまたは両方によっ
て占められることが好ましい。希土類元素Rが10at
%以下では、α−Fe相の析出によって保磁力が低下す
る。また、希土類元素Rが20at%を超えると、目的
とする正方晶Nd2Fe14B型化合物以外にRリッチの
第2相が多く析出し、磁化が低下する。このため、希土
類元素Rは全体の10〜20at%の範囲内にあること
が好ましい。
The method for producing a rare earth sintered magnet of the present invention is not limited to a magnet having the above-described composition, but may be any one of R-T-
It is widely and suitably applied to (M) -B magnets. For example, as the rare earth element R, Y, La, Ca, Pr, Nd, S
A raw material containing at least one element of m, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, and Lu can be used. To obtain sufficient magnetization, 50 of the rare earth elements R are required.
Preferably, at% or more is occupied by either or both of Pr and Nd. Rare earth element R is 10at
% Or less, the coercive force decreases due to the precipitation of the α-Fe phase. On the other hand, when the rare earth element R exceeds 20 at%, a large amount of the R-rich second phase precipitates in addition to the target tetragonal Nd 2 Fe 14 B type compound, and the magnetization decreases. For this reason, the rare earth element R is preferably in the range of 10 to 20 at% of the whole.

【0102】Tは、Fe、Co、Niを含む遷移金属元
素である。Tが67at%未満の場合、保磁力および磁
化ともに低い第2相が析出するため磁気特性が劣化す
る。Tが85at%を超えると、α−Fe相の析出によ
って保磁力が低下し、減磁曲線の角型性も悪くなる。こ
のため、Tの含有量は67〜85at%の範囲内にある
ことが好ましい。なお、TはFeのみから構成されてい
ても良いが、Coの添加によってキュリー温度が上昇
し、耐熱性が向上する。Tの50at%以上はFeで占
められることが好ましい。Feの割合が50at%を下
回ると、Nd2Fe1 4B型化合物の飽和磁化そのものが
減少するからである。
T is a transition metal element containing Fe, Co and Ni. When T is less than 67 at%, the second phase having low coercive force and low magnetization is precipitated, so that the magnetic properties deteriorate. When T exceeds 85 at%, the coercive force decreases due to the precipitation of the α-Fe phase, and the squareness of the demagnetization curve also deteriorates. Therefore, the content of T is preferably in the range of 67 to 85 at%. Note that T may be composed only of Fe, but the addition of Co increases the Curie temperature and improves heat resistance. Preferably, at least 50 at% of T is occupied by Fe. When the ratio of Fe is below 50at%, because the saturation magnetization itself Nd 2 Fe 1 4 B type compound is reduced.

【0103】Bは、ほう素およびほう素と炭素との化合
物であり、正方晶Nd2Fe14B型結晶構造を安定的に
析出するために必須である。Bの添加量が4at%未満
ではR217相が析出するため保磁力が低下し、減磁曲
線の角型性が著しく損なわれる。またBの添加量が10
at%を超えると、磁化の小さな第2相が析出してしま
う。従って、Bの含有量は4〜10at%の範囲である
ことが好ましい。
B is boron or a compound of boron and carbon, and is essential for stably depositing a tetragonal Nd 2 Fe 14 B type crystal structure. If the addition amount of B is less than 4 at%, the R 2 T 17 phase is precipitated, so that the coercive force decreases and the squareness of the demagnetization curve is significantly impaired. When the amount of B added is 10
If it exceeds at%, the second phase having a small magnetization will precipitate. Therefore, the content of B is preferably in the range of 4 to 10 at%.

【0104】粉末の磁気的な性質の改善や耐食性の改善
を目的として、添加元素Mを付与してもよい。添加元素
Mとしては、Al、Ti、Cu、V、Cr、Ni、G
a、Zr、Nb、Mo、In、Sn、Hf、Ta、Wか
らなる群から選択された少なくとも1種類の元素が好適
に使用され得る。このような添加元素Mは、全く添加さ
れなくても良い。添加する場合は、添加量を10at%
以下にすることが好ましい。添加量が10at%を超え
ると、強磁性ではなく第2相が析出して磁化が低下する
からである。
An additive element M may be added for the purpose of improving the magnetic properties and corrosion resistance of the powder. Al, Ti, Cu, V, Cr, Ni, G
At least one element selected from the group consisting of a, Zr, Nb, Mo, In, Sn, Hf, Ta, and W can be suitably used. Such an additive element M may not be added at all. When adding, add 10at%
It is preferable to set the following. If the addition amount exceeds 10 at%, not the ferromagnetism but the second phase will precipitate and the magnetization will decrease.

【0105】なお、上記にはR−T−(M)−B系焼結
磁石の製造方法を説明したが、分散液塗布装置1または
201によって敷き粉が均一に敷かれた焼結用台板を用
いて、サマリウム・コバルト系焼結磁石を作製すること
もできる。このように焼結時に液相が発生する希土類焼
結磁石の作製において、分散液塗布装置1または201
を用いて敷き粉が敷かれた焼結用台板を使用することに
よって、台板との溶着がなく、従って焼結体の破損や変
形を防止することができる。
Although the method for producing the RT- (M) -B sintered magnet has been described above, the sintering base plate on which the spreading powder is uniformly spread by the dispersion coating apparatus 1 or 201 is described. Can be used to produce a samarium-cobalt sintered magnet. In the production of the rare earth sintered magnet in which a liquid phase is generated at the time of sintering, the dispersion liquid coating apparatus 1 or 201
By using the sintering base plate on which the laying powder is spread by using the method described above, there is no welding with the base plate, so that the sintered body can be prevented from being damaged or deformed.

【0106】(実施例1)実施形態1の分散液塗布装置
1によって敷き粉(酸化物粉体)を敷いた焼結用台板を
用いて、57.2mm×44.7mm×18.4mm
(重さ335g)の寸法を有するR−Fe−B系焼結磁
石を400個作製した。焼結用台板としては、Mo合金
から形成した板材(表面粗度Ra=0.1μm)を使用
した。また、敷き粉として、R23で表される平均粒径
3μmの希土類酸化物の粉体を用い、分散液塗布装置1
のタンク10においてエタノール3リットルに対して希
土類酸化物の粉体を150g分散させた。なお、分散液
塗布装置1のノズル24における分散液の吐出圧が2k
g/cm2となるように、ポンプ22の出力等を設定し
た。
Example 1 57.2 mm × 44.7 mm × 18.4 mm was obtained by using a sintering base plate on which laying powder (oxide powder) was spread by the dispersion liquid coating apparatus 1 of the first embodiment.
400 (R-Fe-B) sintered magnets having dimensions of (weight 335 g) were produced. As the sintering base plate, a plate material (surface roughness Ra = 0.1 μm) formed from a Mo alloy was used. In addition, a powder of a rare earth oxide having an average particle size of 3 μm represented by R 2 O 3 was used as the spreading powder.
150 g of rare earth oxide powder was dispersed in 3 liters of ethanol in the above tank 10. The discharge pressure of the dispersion liquid at the nozzle 24 of the dispersion liquid coating apparatus 1 is 2 k.
The output of the pump 22 and the like were set so as to be g / cm 2 .

【0107】アルゴン雰囲気中で1045℃の温度で焼
結を行ったところ、焼結体においてひびが発生したもの
は400個中1個であった。また、有意な変形が認めら
れたものは400個中2個であった。
When sintering was performed at a temperature of 1045 ° C. in an argon atmosphere, one of 400 sintered bodies cracked. In addition, significant deformation was recognized in 2 out of 400 pieces.

【0108】(比較例1)敷き粉を敷かないことを除い
て実施例1と同様の条件でR−Fe−B系焼結磁石を4
00個作製した。焼結した焼結体において、ひびが発生
したものは400個中20個であった。
(Comparative Example 1) An R-Fe-B based sintered magnet was manufactured under the same conditions as in Example 1 except that no spreading powder was spread.
00 pieces were produced. In the sintered body, 20 out of 400 cracks occurred.

【0109】また、分散液塗布装置1を使用せず、台板
上への分散液の塗布を手塗りで行ったことを除いて、実
施例と同様の条件でR−Fe−B系焼結磁石を400個
作製した。焼結した焼結体において、有意な変形が認め
られたものは400個中4個であった。
The R-Fe-B based sintering was performed under the same conditions as in the example, except that the dispersion was applied to the base plate by hand without using the dispersion coating apparatus 1. 400 magnets were produced. Among the sintered compacts, 4 out of 400 sintered bodies showed significant deformation.

【0110】(実施例2)実施形態2の分散液塗布装置
201によって敷き粉(酸化物粉体)を敷いた焼結用台
板を用いて、57.2mm×44.7mm×18.4m
m(重さ335g)の寸法を有するR−Fe−B系焼結
磁石を400個作製した。
(Example 2) Using a sintering plate on which laying powder (oxide powder) was spread by the dispersion liquid coating apparatus 201 of Embodiment 2, 57.2 mm x 44.7 mm x 18.4 m was used.
400 (R-Fe-B) sintered magnets having a size of m (weight 335 g) were produced.

【0111】焼結用台板としては、Mo合金から形成し
た板材を使用した。焼結用台板の表面粗度Raが0.1
μm、表面粗度Rmaxが1μmの焼結用台板(台板
1)と、焼結用台板の表面粗度Raが150μm、表面
粗度Rmaxが300μmの焼結用台板(台板2)とを
用いた。
As the sintering base plate, a plate material formed from a Mo alloy was used. The surface roughness Ra of the sintering base plate is 0.1
sintering base plate (base plate 1) having a surface roughness Rmax of 1 μm and a sintering base plate (base plate 2) having a surface roughness Ra of 150 μm and a surface roughness Rmax of 300 μm. ) And were used.

【0112】また、敷き粉として、平均粒径1μmのN
d酸化物から形成される粉体を用い、分散液塗布装置2
のタンク10においてエタノール1リットルに対して希
土類酸化物の粉体300gを分散させた。なお、分散液
塗布装置2のノズル224における分散液の吐出圧が2
kg/cm2となるように、ノズル224にエアの供給
を行なった。
[0112] Further, as the spreading powder, N having an average particle size of 1 µm was used.
Dispersion coating device 2 using powder formed from d-oxide
300 g of rare earth oxide powder was dispersed in 1 liter of ethanol in the above tank 10. In addition, the discharge pressure of the dispersion liquid at the nozzle 224 of the dispersion liquid application device 2 is 2
Air was supplied to the nozzle 224 so as to be kg / cm 2 .

【0113】アルゴン雰囲気中で1045℃の温度で焼
結を行ったところ、焼結体においてひびが発生したもの
は台板1で400個中0個であった。また、台板2で4
00個中1個であった。
When sintering was performed at a temperature of 1045 ° C. in an argon atmosphere, cracks occurred in the sintered body in 0 of the 400 base plates 1. In addition, 4
One out of 00 pieces.

【0114】(比較例2)表面粗度Raが200μm、
表面粗度Rmaxが400μmの表面粗度が比較的大き
い(Ra>150μm、Rmax>300μm)焼結用
台板を用いることを除いて、実施例2と同様の条件でR
−Fe−B系焼結磁石を400個作製した。焼結した焼
結体において、ひびが発生したものは400個中10個
であった。
(Comparative Example 2) The surface roughness Ra was 200 μm,
The surface roughness Rmax was 400 μm and the surface roughness was relatively large (Ra> 150 μm, Rmax> 300 μm).
-400 Fe-B based sintered magnets were produced. Of the sintered compacts, cracks occurred in 10 out of 400 pieces.

【0115】実施例2および比較例2の結果から、焼結
用台板の表面粗度を適切な範囲に設定することによっ
て、敷き粉が効果的に作用し、焼結体のひび割れの発生
を大幅に低減することができることがわかる。
From the results of Example 2 and Comparative Example 2, by setting the surface roughness of the sintering base plate in an appropriate range, the litter works effectively, and the generation of cracks in the sintered body is reduced. It can be seen that it can be significantly reduced.

【0116】[0116]

【発明の効果】本発明の分散液塗布装置によれば、希土
類酸化物などの酸化物の粉体をアルコールなどの液体に
分散させた分散液を、焼結用台板上に均質に塗布するこ
とができるので、焼結用台板上に敷き粉を均一に敷くこ
とができる。
According to the dispersion coating apparatus of the present invention, a dispersion obtained by dispersing an oxide powder such as a rare earth oxide in a liquid such as alcohol is uniformly coated on a sintering base plate. Therefore, the spreading powder can be evenly spread on the sintering base plate.

【0117】このようにして敷き粉が均一に敷かれた焼
結用台板上を用いることによって、焼結用台板上に載せ
られた成形体が焼結時に破損したり変形したりすること
が防止され、磁石の製造効率を向上させることができ
る。
By using the sintering base plate on which the laying powder is evenly spread as described above, the compact placed on the sintering base plate is damaged or deformed during sintering. Is prevented, and the manufacturing efficiency of the magnet can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態1に係る分散液塗布装置の構
成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating a configuration of a dispersion liquid application device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】輸送チューブを流れる分散液の流れの変化を示
す断面図であり、図2(a)は通常運転時を示し、図2
(b)はエア供給時を示す。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a change in the flow of a dispersion liquid flowing through a transport tube. FIG.
(B) shows when air is supplied.

【図3】複数本の輸送チューブを用いた場合のチューブ
の接続形態を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a connection configuration of tubes when a plurality of transport tubes are used.

【図4】焼結用台板上に分散液を塗布する様子を示す斜
視図である。
FIG. 4 is a perspective view showing a state in which a dispersion liquid is applied on a sintering base plate.

【図5】焼結用台板上に分散液を塗布する様子を拡大し
て示す断面図である。
FIG. 5 is an enlarged sectional view showing a state in which a dispersion liquid is applied onto a sintering base plate.

【図6】本発明の実施形態1に係る分散液塗布装置を模
式的に示す図である。
FIG. 6 is a diagram schematically showing a dispersion liquid application device according to the first embodiment of the present invention.

【図7】図6に示す分散液塗布装置の動作を示すフロー
チャートである。
FIG. 7 is a flowchart showing an operation of the dispersion liquid application device shown in FIG.

【図8】本発明の実施形態2に係る分散液塗布装置の構
成を示す図である。
FIG. 8 is a diagram illustrating a configuration of a dispersion liquid application device according to a second embodiment of the present invention.

【図9】図8に示す分散液塗布装置の一部を示す斜視図
である。
9 is a perspective view showing a part of the dispersion liquid application device shown in FIG.

【図10】図8に示す分散液塗布装置によって焼結用台
板上に分散液を塗布する様子を拡大して示す正面図であ
る。
10 is an enlarged front view showing a state in which a dispersion liquid is applied to a sintering base plate by the dispersion liquid application apparatus shown in FIG. 8;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 分散液塗布装置 3 分散液 5 焼結用台板 7 ショットブラスタ 8 搬送装置 9 ロボット 10 タンク 12 攪拌機 20 輸送チューブ 22 定量ポンプ 24 ノズル 26 エア供給チューブ 28 排出チューブ 30 塗り広げ装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Dispersion liquid applicator 3 Dispersion liquid 5 Sintering base plate 7 Shot blaster 8 Transfer device 9 Robot 10 Tank 12 Stirrer 20 Transport tube 22 Metering pump 24 Nozzle 26 Air supply tube 28 Discharge tube 30 Spreading device

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B05D 7/24 302 B05D 7/24 302A B22F 3/00 B22F 3/00 F 3/10 3/10 M // C04B 35/64 C04B 35/64 K (72)発明者 和田 剛 和歌山県和歌山市湊1850番地 住友特殊金 属株式会社和歌山事業所内 Fターム(参考) 4D075 AC02 AC47 AC54 AC77 BB65X DA06 DC16 DC19 EA10 EA31 EB01 4F041 AA02 AB01 BA01 BA42 4F042 AA02 BA16 CA06 CB02 CB19 DA01 DD09 DF15 4K018 AA27 BA18 CA11 DA00 DA39 KA45 5E062 CC02 CC03 CD04 CF04 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) B05D 7/24 302 B05D 7/24 302A B22F 3/00 B22F 3/00 F 3/10 3/10 M / / C04B 35/64 C04B 35/64 K (72) Inventor Tsuyoshi Wada 1850 Minato, Wakayama-shi, Wakayama Prefecture Sumitomo Special Metals Co., Ltd. Wakayama Office F-term (reference) 4D075 AC02 AC47 AC54 AC77 BB65X DA06 DC16 DC19 EA10 EA31 EB31 EB01 4F041 AA02 AB01 BA01 BA42 4F042 AA02 BA16 CA06 CB02 CB19 DA01 DD09 DF15 4K018 AA27 BA18 CA11 DA00 DA39 KA45 5E062 CC02 CC03 CD04 CF04

Claims (27)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 液体に、前記液体より比重が大きい酸化
物の粉体を分散させた分散液を磁石焼結用の台板上に塗
布する装置であって、 前記分散液を収容する容器と、 前記容器内に収容された分散液を攪拌する攪拌機と、 前記容器から前記台板に前記分散液を移送する移送経路
と、 前記移送経路を流れる分散液の少なくとも一部に対して
機械的な力を付与することによって、前記分散液を均質
化する均質化装置と、を備える分散液塗布装置。
1. An apparatus for applying a dispersion liquid in which an oxide powder having a specific gravity greater than that of a liquid is dispersed in a liquid on a base plate for magnet sintering, comprising: a container accommodating the dispersion liquid; A stirrer for stirring the dispersion liquid contained in the container, a transfer path for transferring the dispersion liquid from the container to the base plate, and mechanically moving at least a part of the dispersion liquid flowing through the transfer path. A homogenizer for homogenizing the dispersion by applying a force.
【請求項2】 前記均質化装置は、前記移送経路を流れ
る分散液の少なくとも一部に非定常的な流れを発生させ
る請求項1に記載の分散液塗布装置。
2. The dispersion liquid application device according to claim 1, wherein the homogenization device generates an unsteady flow in at least a part of the dispersion flowing through the transfer path.
【請求項3】 前記非定常的な流れは、前記容器から前
記台板に向かう方向とは反対の方向の流れである請求項
2に記載の分散液塗布装置。
3. The dispersion liquid applying apparatus according to claim 2, wherein the unsteady flow is a flow in a direction opposite to a direction from the container to the base plate.
【請求項4】 前記移送経路に接続され、前記反対の方
向に流れる前記分散液を排出することができる排出経路
を有する請求項3に記載の分散液塗布装置。
4. The dispersion liquid applying apparatus according to claim 3, further comprising a discharge path connected to the transfer path and capable of discharging the dispersion liquid flowing in the opposite direction.
【請求項5】 前記均質化装置は前記移送経路を流れる
前記分散液中に流体を噴出させることができる請求項2
から4のいずれかに記載の分散液塗布装置。
5. The apparatus according to claim 2, wherein the homogenizing device is capable of ejecting a fluid into the dispersion flowing through the transfer path.
5. The dispersion liquid application device according to any one of items 1 to 4.
【請求項6】 前記流体は空気である請求項5に記載の
分散液塗布装置。
6. The dispersion liquid application device according to claim 5, wherein the fluid is air.
【請求項7】 前記移送経路に接続され、前記流体の少
なくとも一部を排出することができる排出経路を有する
請求項5または6に記載の分散液塗布装置。
7. The dispersion liquid applying apparatus according to claim 5, further comprising a discharge path connected to the transfer path and capable of discharging at least a part of the fluid.
【請求項8】 前記排出経路は、前記容器内まで延びて
いる請求項4または7に記載の分散液塗布装置。
8. The dispersion liquid applying apparatus according to claim 4, wherein the discharge path extends into the container.
【請求項9】 前記均質化装置は、前記移送経路と前記
容器との接続部の近傍において前記分散液中に前記非定
常的な流れを発生させることができる請求項2から8の
いずれかに記載の分散液塗布装置。
9. The apparatus according to claim 2, wherein the homogenizer can generate the unsteady flow in the dispersion in the vicinity of a connection between the transfer path and the container. The dispersion coating apparatus according to any one of the preceding claims.
【請求項10】 前記移送経路において前記均質化装置
よりも下流側に設けられた定量ポンプを備える請求項2
から9のいずれかに記載の分散液塗布装置。
10. A metering pump provided on the transfer path downstream of the homogenizer.
10. The dispersion coating device according to any one of items 1 to 9.
【請求項11】 前記移送経路を介して前記台板上に供
給された分散液を前記台板上で塗り広げる塗り広げ装置
を備える請求項2から10のいずれかに記載の分散液塗
布装置。
11. The dispersion liquid applying apparatus according to claim 2, further comprising a spreading device that spreads the dispersion liquid supplied onto the base plate via the transfer path on the base plate.
【請求項12】 前記塗り広げ装置は、前記台板の表面
に接するように設けられた吸水性のローラを備える請求
項11に記載の分散液塗布装置。
12. The dispersion applying device according to claim 11, wherein the spreading device includes a water-absorbing roller provided so as to be in contact with the surface of the base plate.
【請求項13】 前記均質化装置は、前記移送経路に対
して機械的な力を加える請求項1に記載の分散液塗布装
置。
13. The dispersion application device according to claim 1, wherein the homogenization device applies a mechanical force to the transfer path.
【請求項14】 前記均質化装置は、前記移送経路を揺
らす請求項13に記載の分散液塗布装置。
14. The dispersion liquid application device according to claim 13, wherein the homogenization device swings the transfer path.
【請求項15】 前記分散液を塗布する前に前記台板を
清浄化するための台板清浄化装置をさらに備え、前記台
板清浄化装置は、前記台板上に粉体を衝突させる粉体発
射部と前記粉体発射部を揺らす揺動装置とを備えてお
り、 前記均質化装置は、前記台板清浄化装置の前記揺動装置
と接続されており、前記揺動装置の動きによって前記移
送経路を揺らす請求項14に記載の分散液塗布装置。
15. A base plate cleaning device for cleaning the base plate before applying the dispersion liquid, wherein the base plate cleaning device causes the powder to impinge on the base plate. A swinging device for swinging the body emitting portion and the powder emitting portion, wherein the homogenizing device is connected to the swinging device of the bed plate cleaning device, and the movement of the swinging device 15. The dispersion liquid application device according to claim 14, wherein the transfer path is swung.
【請求項16】 前記移送経路の、前記容器側とは反対
側の端部に接続されたノズルと、前記ノズルに接続され
たガス供給路とを備え、前記ガス供給路から前記ノズル
に供給されたガスを用いて、前記分散液を前記台板上に
散布する請求項13から15のいずれかに記載の分散液
塗布装置。
16. A nozzle connected to an end of the transfer path opposite to the container side, and a gas supply path connected to the nozzle, wherein the gas is supplied from the gas supply path to the nozzle. The dispersion liquid application device according to any one of claims 13 to 15, wherein the dispersion liquid is sprayed on the base plate using the gas.
【請求項17】 前記液体は揮発性液体から形成されて
いる請求項1から16のいずれかに記載の分散液塗布装
置。
17. The dispersion liquid applying apparatus according to claim 1, wherein the liquid is formed from a volatile liquid.
【請求項18】 前記酸化物の粉体は希土類酸化物の粉
体から形成されている請求項1から17のいずれかに記
載の分散液塗布装置。
18. The dispersion liquid applying apparatus according to claim 1, wherein the oxide powder is formed of a rare earth oxide powder.
【請求項19】 磁石焼結用の台板を用意する工程と、 請求項1から18のいずれかに記載された分散液塗布装
置を用いて、前記酸化物の粉体を分散させた分散液を前
記台板上に塗布する工程と、 前記分散液が塗布された前記台板上に、希土類磁石用合
金粉末をプレス成形することによって作製した成形体を
置く工程と、 前記台板上に置かれた前記成形体を焼結する工程とを包
含する希土類磁石の製造方法。
19. A step of preparing a base plate for magnet sintering, and a dispersion obtained by dispersing the oxide powder using the dispersion coating apparatus according to claim 1. Applying a compact formed by pressing the alloy powder for a rare earth magnet onto the base plate to which the dispersion has been applied; and placing the compact on the base plate. And sintering the formed compact.
【請求項20】 前記台板の表面粗度Rmaxが1μm
以上300μm以下である請求項19に記載の希土類磁
石の製造方法。
20. A surface roughness Rmax of the base plate is 1 μm.
20. The method for producing a rare earth magnet according to claim 19, wherein the diameter is not less than 300 μm.
【請求項21】 前記台板の表面粗度Raが0.1μm
以上150μm以下である請求項19または20に記載
の希土類磁石の製造方法。
21. A surface roughness Ra of the base plate is 0.1 μm.
The method for producing a rare-earth magnet according to claim 19 or 20, wherein the thickness is at least 150 µm.
【請求項22】 前記分散液の濃度は、200g/リッ
トル以上500g/リットル以下である請求項19から
21のいずれかに記載の希土類磁石の製造方法。
22. The method of manufacturing a rare earth magnet according to claim 19, wherein the concentration of the dispersion is 200 g / liter or more and 500 g / liter or less.
【請求項23】 磁石焼結用の台板を用意する工程と、 液体に、前記液体より比重が大きい酸化物の粉体を分散
させた分散液を前記台板上に塗布する工程と、 前記分散液が塗布された前記台板上に、希土類磁石用合
金粉末をプレス成形することによって作製した成形体を
置く工程と、 前記台板上に置かれた前記成形体を焼結する工程とを包
含し、 前記台板の表面粗度Rmaxが1μm以上300μm以
下であることを特徴とする希土類磁石の製造方法。
23. A step of preparing a base plate for magnet sintering; a step of applying a dispersion of a powder of an oxide having a specific gravity larger than that of the liquid to a liquid, on the base plate; A step of placing a compact formed by pressing the alloy powder for a rare earth magnet on the base plate on which the dispersion is applied, and a step of sintering the compact placed on the base plate A method for producing a rare earth magnet, wherein the surface roughness Rmax of the base plate is 1 μm or more and 300 μm or less
【請求項24】 磁石焼結用の台板を用意する工程と、 液体に、前記液体より比重が大きい酸化物の粉体を分散
させた分散液を前記台板上に塗布する工程と、 前記分散液が塗布された前記台板上に、希土類磁石用合
金粉末をプレス成形することによって作製した成形体を
置く工程と、 前記台板上に置かれた前記成形体を焼結する工程とを包
含し、 前記台板の表面粗度Raが0.1μm以上150μm以
下であることを特徴とする希土類磁石の製造方法。
24. A step of preparing a base plate for magnet sintering, and a step of applying a dispersion liquid in which an oxide powder having a specific gravity greater than that of the liquid is dispersed in a liquid, on the base plate; A step of placing a compact formed by pressing the alloy powder for a rare earth magnet on the base plate to which the dispersion is applied, and a step of sintering the compact placed on the base plate A method for producing a rare earth magnet, wherein the surface roughness Ra of the base plate is 0.1 μm or more and 150 μm or less.
【請求項25】 前記分散液の濃度は、200g/リッ
トル以上500g/リットル以下である請求項23また
は24に記載の希土類磁石の製造方法。
25. The method for producing a rare earth magnet according to claim 23, wherein the concentration of the dispersion is 200 g / liter or more and 500 g / liter or less.
【請求項26】 前記粉体の平均粒径が、1μm〜20
μmである請求項23から25のいずれかに記載の希土
類磁石の製造方法。
26. An average particle size of the powder is 1 μm to 20 μm.
The method for producing a rare earth magnet according to any one of claims 23 to 25, wherein the diameter is μm.
【請求項27】 請求項19から26のいずれかに記載
の製造方法によって製造された希土類磁石。
27. A rare earth magnet manufactured by the manufacturing method according to claim 19.
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