JP2002075263A - Electron beam device - Google Patents

Electron beam device

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JP2002075263A
JP2002075263A JP2000260873A JP2000260873A JP2002075263A JP 2002075263 A JP2002075263 A JP 2002075263A JP 2000260873 A JP2000260873 A JP 2000260873A JP 2000260873 A JP2000260873 A JP 2000260873A JP 2002075263 A JP2002075263 A JP 2002075263A
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佐藤  貢
Fumio Mizuno
文夫 水野
Hideo Todokoro
秀男 戸所
Makoto Esumi
真 江角
淳 ▲高▼根
Atsushi Takane
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electron beam device which can obtain a maximum enlargement effect of focal depth at minimum number of image uptake by acquiring a plurality of images with an optimum focal shifting amount in interlocking with image- forming conditions. SOLUTION: With the electron beam device equipped with beam-focusing means 5, 6 for stopping down a first electron beam 4 emitted from an electron beam source with an object lens, a beam scanning means for scanning the first electron beam on a sample 10, a detecting means 13 for detecting a second signal 12 generated from the sample by the beam scanning, and an image-forming means forming a sample image from the second signal 12 to obtain a scanning image of the sample, the device is further equipped with a focus control volume determining means 15 for determining a changing width of a beam-focusing position in interlocking with the image-forming conditions, a focus controlling means for controlling focus conditions of the beam in correspondence with the focus control volume, image number determining means for determining the number of image sheets, an image uptaking means for continuously uptaking a plurality of images of different focus conditions controlled by the focus controlling means, and a memory means for memorizing the plurality of images.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は電子線装置に係り、
特に、試料ダメージを最小にして、焦点深度の深い試料
像を得るのに好適な電子線装置(電子顕微鏡)に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electron beam apparatus,
In particular, the present invention relates to an electron beam apparatus (electron microscope) suitable for obtaining a sample image with a large depth of focus while minimizing sample damage.

【0002】[0002]

【従来の技術】走査電子顕微鏡に代表されるような、収
束電子線を試料上で走査して試料の拡大像を得る電子線
装置は、電子の波長が光より短いことから、光学顕微鏡
に比較して高い分解能と深い焦点深度で試料の拡大像が
得られる装置である。
2. Description of the Related Art An electron beam apparatus, such as a scanning electron microscope, which obtains an enlarged image of a sample by scanning a converging electron beam on the sample, has a shorter electron wavelength than light. This is an apparatus that can obtain a magnified image of the sample with high resolution and a large depth of focus.

【0003】ところが、近年の装置の高分解能化に伴っ
てビームの収束角が増大し、この結果として拡大像の焦
点深度が低下してきた。
However, the beam convergence angle has increased with the recent increase in the resolution of the apparatus, and as a result, the depth of focus of the enlarged image has decreased.

【0004】一方、元来、焦点深度の浅い光学顕微鏡像
に対しては、焦点位置の異なる複数のディジタル画像を
合成して、焦点深度の深い画像を構築する画像処理ソフ
トが市販されている。
[0004] On the other hand, originally with respect to an optical microscope image having a shallow depth of focus, image processing software for composing a plurality of digital images having different focal positions to construct an image having a large depth of focus is commercially available.

【0005】また、特開平5−299048号公報に
は、フォーカス条件の異なる複数の走査像を取り込み、
試料の三次元像を形成する技術が開示されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-299048 discloses a method in which a plurality of scan images having different focus conditions are taken in.
A technique for forming a three-dimensional image of a sample has been disclosed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】一般に、走査電子顕微
鏡の倍率は、数十倍から100万倍程度の範囲で可変で
きるようになっており、光学顕微鏡と比較して桁違いの
ダイナミックレンジを有している。このような観察装置
において、焦点位置の異なる複数画像から焦点深度の深
い画像を合成するには、合成する画像間の焦点ずらし量
を最適に制御することが重要である。
In general, the magnification of a scanning electron microscope can be varied in the range of several tens to one million times, and has a dynamic range that is orders of magnitude higher than that of an optical microscope. are doing. In such an observation device, it is important to optimally control the amount of defocus between images to be synthesized in order to synthesize an image having a deep depth of focus from a plurality of images having different focus positions.

【0007】本発明の目的は、装置パラメータや観察条
件などの像形成条件に連動して、最適な焦点ずらし量で
複数画像を取得することにより、最小の画像取り込み数
で、最大の焦点深度拡大効果が得られる電子線装置を提
供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to acquire a plurality of images with an optimum defocus amount in conjunction with image forming conditions such as apparatus parameters and observation conditions, thereby maximizing the depth of focus with a minimum number of image captures. An object of the present invention is to provide an electron beam device that can obtain an effect.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】前記課題を明確にするた
めに、まず、像形成条件と焦点深度の関係について、図
6および図7を用いて説明する。
Means for Solving the Problems In order to clarify the above problems, first, the relationship between the image forming conditions and the depth of focus will be described with reference to FIGS.

【0009】図6および図7は、いずれも一定のフォー
カス条件で走査像を形成した場合の観察倍率と、焦点の
合う範囲(焦点深度)との関係を示したものである。
FIGS. 6 and 7 both show the relationship between the observation magnification and the focused range (depth of focus) when a scanned image is formed under a constant focus condition.

【0010】図6は、加速電圧が同じ条件に対して、装
置の分解能が異なる場合の焦点深度を,分解能が低い場
合:A、分解能が高い場合:Bで示している。一方、図
7は、同一のビーム分解能に対して、加速電圧が異なる
場合の焦点深度を、加速電圧が高い場合:A、加速電圧
が低い場合:Bで示している。
FIG. 6 shows the depth of focus when the resolution of the apparatus is different under the same accelerating voltage condition, as A when the resolution is low and B when the resolution is high. On the other hand, FIG. 7 shows the depth of focus when the acceleration voltage is different for the same beam resolution, as A when the acceleration voltage is high and B when the acceleration voltage is low.

【0011】各々の像形成条件において、これらのグラ
フに示す焦点深度よりも深い焦点深度の画像が必要な場
合には、焦点位置(フォーカス条件)の異なる複数の画
像を取り込んで合成することが必要になる。
In each image forming condition, when an image having a focal depth deeper than the focal depth shown in these graphs is required, it is necessary to take in a plurality of images having different focal positions (focus conditions) and synthesize them. become.

【0012】図6,図7に示されるように、焦点深度
は、観察倍率だけでなくビーム分解能や加速電圧などの
ビーム条件にも大きく依存している。さらに、焦点深度
は像形成するときの画素数、または、画素サイズにも依
存する。即ち、画素数が多くなると画素サイズが小さく
なるため、焦点が合っていると見なせるビームのぼけ量
の許容値が小さくなり、焦点深度が浅くなる。
As shown in FIGS. 6 and 7, the depth of focus largely depends not only on the observation magnification but also on beam conditions such as beam resolution and acceleration voltage. Further, the depth of focus also depends on the number of pixels when forming an image or the pixel size. That is, as the number of pixels increases, the pixel size decreases, so that the allowable value of the blur amount of the beam that can be regarded as being in focus decreases, and the depth of focus decreases.

【0013】従って、観察倍率を含むこれら像形成条件
に連動して、最適な焦点ずらし量を計算しながら、走査
像を取り込むことが重要である。例えば、高倍率の像で
は、微少な焦点ずらし量の画像を取得して合成する必要
があるが、低倍率では、この焦点ずらし量が必要以上に
細かすぎることになる。
Therefore, it is important to capture the scanned image while calculating the optimum defocus amount in conjunction with these image forming conditions including the observation magnification. For example, in a high-magnification image, it is necessary to acquire and synthesize an image with a slight defocus amount, but in a low-magnification image, the defocus amount is too fine.

【0014】即ち、ある一定の焦点ずらし量で複数画像
を取り込んで画像の再構築を行っても、走査電子顕微鏡
の倍率範囲の全てにおいて、十分な焦点深度拡大効果を
得ることができない。
That is, even if a plurality of images are captured with a certain defocus amount and reconstructed, a sufficient depth of focus effect cannot be obtained in the entire magnification range of the scanning electron microscope.

【0015】従来技術においては、この点の配慮が全く
なく、所定の焦点深度の画像を得るのに、必要以上の枚
数の画像を取り込む必要があった。一方、焦点深度を拡
大するために複数画像を取得する場合、試料上の同一場
所が繰り返しビーム走査される。従って、合成に用いる
画像数が多くなると、試料がビームダメージを受けて、
試料の特徴を正しく反映した合成像が得られないと云う
問題が生じる。このため、焦点深度の拡大に用いる画像
数を最小限にすることが特に重要である。
In the prior art, no consideration was given to this point, and it was necessary to capture more images than necessary to obtain an image with a predetermined depth of focus. On the other hand, when acquiring a plurality of images in order to increase the depth of focus, the same location on the sample is repeatedly scanned with a beam. Therefore, when the number of images used for synthesis increases, the sample receives beam damage,
A problem arises in that a composite image accurately reflecting the characteristics of the sample cannot be obtained. For this reason, it is particularly important to minimize the number of images used to increase the depth of focus.

【0016】上記課題を解決するために、本発明では、
像形成条件から最適な焦点ずらし量を決定する手段と、
合成像として必要な焦点深度を設定する手段と、これら
の手段から焦点深度設定値を満足する最小の取り込み画
像数を決定する手段とを設けた。
To solve the above problems, the present invention provides:
Means for determining an optimal defocus amount from image forming conditions;
Means are provided for setting the depth of focus necessary for the composite image, and means for determining the minimum number of captured images that satisfy the set value of focal depth from these means.

【0017】フォーカス条件が一定な一枚の走査像の焦
点深度fdは、観察倍率が低い場合、次式〔1〕で表さ
れる。
When the observation magnification is low, the depth of focus fd of one scan image with a constant focus condition is expressed by the following equation [1].

【0018】[0018]

【数1】 fd=A1×(dpix/M)×R×√Vacc …〔1〕 ここで、A1は定数、dpixは画素サイズ、Mは観察倍
率、Rはビーム分解能(ビーム径で決まる分解能)、V
accは加速電圧を表す。
Fd = A1 × (dpix / M) × R × √Vacc (1) where A1 is a constant, dpix is a pixel size, M is an observation magnification, and R is a beam resolution (resolution determined by a beam diameter). , V
acc represents an acceleration voltage.

【0019】観察倍率が高くなると、走査像の解像度は
ビーム分解能Rに制限されるようになり、このときの焦
点深度は次式〔2〕で表される。
As the observation magnification increases, the resolution of the scanned image is limited to the beam resolution R, and the depth of focus at this time is expressed by the following equation [2].

【0020】[0020]

【数2】 fd=A2×R2×√Vacc/√(1+0.73×(Ip/B0)×1014)…〔2〕 ここで、A2は定数、Ipはプローブ電流、B0は1V
当りに換算した電子銃の輝度を表す。
Fd = A2 × R 2 × √Vacc / √ (1 + 0.73 × (Ip / B0) × 10 14 ) (2) where A2 is a constant, Ip is a probe current, and B0 is 1V.
It represents the brightness of the electron gun converted per hit.

【0021】倍率の高い領域では、式〔2〕に示される
ように像形成に寄与する多くの条件が焦点深度に影響を
与えている。輝度B0が非常に高い電界放出型電子源の
場合には、式〔2〕の(Ip/B0)の項が非常に小さ
くなるため、高倍率領域の焦点深度を、実用上次式
〔3〕
In the high magnification range, many conditions contributing to image formation affect the depth of focus as shown in equation [2]. In the case of a field emission type electron source having a very high brightness B0, the term (Ip / B0) in equation [2] becomes very small.

【0022】[0022]

【数3】 fd=A2×R2×√Vacc …〔3〕 と表すことができる。Equation 3 can be represented with fd = A2 × R 2 × √Vacc ... [3].

【0023】なお、式〔1〕から式〔3〕において、ビ
ーム分解能Rは、次式〔4〕
In equations [1] to [3], the beam resolution R is given by the following equation [4].

【0024】[0024]

【数4】 R=0.61λ/α=0.75/(α×√Vacc) …〔4〕 の関係で表すことができるため、式〔1〕〜〔3〕のビ
ーム分解能Rを式〔4〕の第2項、または、第3項に置
き換えて表すことができる。なお、λは電子の波長、α
は1次ビームの収束角度(半角)を表す。
R = 0.61λ / α = 0.75 / (α × √Vacc) (4) Since the beam resolution R of the equations [1] to [3] can be expressed by the equation [4]. 4] can be replaced with the second term or the third term. Here, λ is the wavelength of the electron, α
Represents the convergence angle (half angle) of the primary beam.

【0025】フォーカスの異なる複数の画像を取得して
適切な合成を行えば、式〔1〕から式〔3〕で示される
焦点深度よりも深い焦点深度の画像が得られるが、この
場合、画像間の焦点ずらし量を式〔1〕〜〔3〕で表さ
れる値と同等か若干小さめにすることにより、最小の画
像数で、最大の焦点深度拡大効果を得ることができる。
If a plurality of images having different focuses are acquired and appropriately synthesized, an image having a depth of focus deeper than the depth of focus expressed by Expressions [1] to [3] can be obtained. By making the defocus amount between them equal to or slightly smaller than the values represented by the equations [1] to [3], the maximum depth of focus effect can be obtained with the minimum number of images.

【0026】焦点ずらし量決定手段では、加速電圧や電
子源輝度、プローブ電流、画素数、倍率、ビーム分解能
などの像型成条件から、式〔1〕〜〔3〕の計算に基づ
いて、最適な焦点ずらし量を計算する。
The defocus amount determining means determines an optimum value based on calculations of equations [1] to [3] based on image formation conditions such as acceleration voltage, electron source luminance, probe current, number of pixels, magnification and beam resolution. Calculate the appropriate defocus amount.

【0027】焦点ずらし量決定手段では、これらの計算
結果を予めテーブルに記載し、像型成条件から対応する
焦点ずらし量を、該テーブルから決定することも可能で
ある。
In the defocus amount determining means, the results of these calculations can be described in a table in advance, and the corresponding defocus amount can be determined from the table based on the image forming conditions.

【0028】また、フォーカスの合わせたい上限と下限
(焦点深度の範囲)を設定する手段、あるいは、焦点深
度範囲を直接数値入力する手段などを具備することによ
り、式〔1〕〜〔3〕の結果を用いて、最小で最適な画
像取り込み数を決めることができる。
By providing means for setting the upper limit and the lower limit (the range of the depth of focus) to be focused or means for directly inputting the numerical value of the depth of focus range, the formulas [1] to [3] can be obtained. The results can be used to determine the minimum and optimal number of image captures.

【0029】さらに、焦点ずらし量の設定値に基づき、
1画像取り込み毎にフォーカスを変更するフォーカス制
御手段と、フォーカス制御手段と画像取り込みを連続し
て行う連続画像取り込み手段や、連続画像を保存する画
像保存手段を設けている。
Further, based on the set value of the defocus amount,
There are provided a focus control means for changing the focus every time one image is taken, a continuous image taking means for continuously taking an image with the focus control means, and an image saving means for saving a continuous image.

【0030】フォーカス制御手段では、現在のフォーカ
ス条件を中心にしてフォーカスを制御したり、現在のフ
ォーカスを端点としてフォーカスを制御したり、あるい
は、予め設定されたフォーカス範囲で制御するなど、種
々の制御型態が可能である。
The focus control means performs various controls, such as controlling the focus with the current focus condition at the center, controlling the focus with the current focus as an end point, or controlling the focus within a preset focus range. Type is possible.

【0031】さらに、取り込んだ複数画像の合成で得ら
れる焦点深度を、画像間の焦点変化幅と画像数、およ
び、電子光学系の焦点深度から計算する手段と、この値
を表示する表示手段を設け、得られた画像の焦点深度を
観察者が容易に分かるようにしている。
Further, there are provided means for calculating the depth of focus obtained by synthesizing a plurality of captured images from the focus change width between images, the number of images, and the depth of focus of the electron optical system, and display means for displaying this value. It is provided so that an observer can easily understand the depth of focus of the obtained image.

【0032】焦点深度を拡大するための画像合成(焦点
合成)を、走査電子顕微鏡の機能と独立に行う場合に
は、画像保存手段に記憶した複数の画像を他の画像合成
手段(例えば、市販のソフト)に提供して、焦点深度の
深い画像を合成することができる。
When the image synthesis for increasing the depth of focus (focus synthesis) is performed independently of the function of the scanning electron microscope, a plurality of images stored in the image storage means are combined with other image synthesis means (for example, commercially available). Software) to synthesize an image with a deep depth of focus.

【0033】本発明では、連続画像取り込みから焦点深
度の深い合成画像の表示,保存まで一括して行うため
に、さらに、連続画像から焦点深度の深い合成画像を構
築する画像構築手段を設けた。
In the present invention, an image construction means for constructing a composite image having a large depth of focus from a continuous image is provided in order to collectively perform the process from capturing a continuous image to displaying and storing a composite image having a large depth of focus.

【0034】焦点深度を拡大するために使用する複数画
像には、それぞれの対物レンズの焦点位置情報を有して
いるため、合成画像で指定した画像位置に対応する対物
レンズの焦点位置情報を確定することができる。そのた
め、合成画像上の任意の2点を指定する画像位置指定手
段と、指定された2点の対物レンズ焦点位置を抽出する
焦点位置抽出手段とを設けて、抽出した焦点位置情報か
ら指定された2点間の高さの差を計算し、この結果を表
示する表示手段を設けた。
Since a plurality of images used to increase the depth of focus have focal position information of each objective lens, the focal position information of the objective lens corresponding to the image position designated in the composite image is determined. can do. Therefore, an image position designating means for designating any two points on the composite image and a focus position extracting means for extracting the designated two focal points of the objective lens are provided, and designated from the extracted focal position information. Display means for calculating the height difference between the two points and displaying the result is provided.

【0035】[0035]

【発明の実施の形態】以下、本発明の電子線装置の実施
の形態を説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the electron beam apparatus according to the present invention will be described below.

【0036】図1は、本発明の一例である走査電子顕微
鏡(SEM)の概略構成図である。陰極1と第1陽極2
の間には、マイクロプロセッサ(CPU)40で制御さ
れる高圧制御電源20により電圧が印加され、所定のエ
ミッション電流で1次電子線4が陰極1から引き出され
る。陰極1と第2陽極3の間には、CPU40で制御さ
れる高圧制御電源20により加速電圧が印加されるた
め、陰極1から放出された1次電子線4は加速されて後
段のレンズ系に進行する。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a scanning electron microscope (SEM) as an example of the present invention. Cathode 1 and first anode 2
During this period, a voltage is applied by the high-voltage control power supply 20 controlled by the microprocessor (CPU) 40, and the primary electron beam 4 is extracted from the cathode 1 with a predetermined emission current. Since an accelerating voltage is applied between the cathode 1 and the second anode 3 by the high-voltage control power supply 20 controlled by the CPU 40, the primary electron beam 4 emitted from the cathode 1 is accelerated to the subsequent lens system. proceed.

【0037】1次電子線4は、レンズ制御電源21で制
御された収束レンズ5(ビーム収束手段)で収束され、
絞り板8で1次電子線の不要な領域が除去された後、第
2収束レンズ制御電源22で制御された収束レンズ6
(ビーム収束手段)、および、対物レンズ制御電源23
で制御された対物レンズ7により、試料10に微小スポ
ットとして収束される。対物レンズ7は、インレンズ方
式、アウトレンズ方式、または、シュノーケル方式(セ
ミインレンズ方式)など種々の形態をとることができ
る。
The primary electron beam 4 is converged by a converging lens 5 (beam converging means) controlled by a lens control power supply 21.
After the unnecessary area of the primary electron beam is removed by the aperture plate 8, the converging lens 6 controlled by the second converging lens control power supply 22
(Beam converging means), and objective lens control power supply 23
Is converged as a minute spot on the sample 10 by the objective lens 7 controlled by The objective lens 7 can take various forms such as an in-lens system, an out-lens system, and a snorkel system (semi-in-lens system).

【0038】1次電子線4は、走査コイル9で試料10
上を2次元的に走査される。1次電子線の照射で、試料
10から発生した2次電子等の2次信号(試料信号)1
2a,12bは、対物レンズ7の上部に進行した後、2
次信号分離用の直交電磁界発生装置11により、それぞ
れエネルギーの違いにより分離されて2次信号検出器1
3aおよび13bの方向に進行する。
The primary electron beam 4 is applied to the sample 10 by the scanning coil 9.
The top is scanned two-dimensionally. Secondary signal (sample signal) 1 of secondary electrons and the like generated from sample 10 by irradiation of primary electron beam 1
After advancing to the upper part of the objective lens 7, 2a and 12b
The quadrature electromagnetic field generator 11 for separating the secondary signals separates the secondary signal detectors 1 according to the difference in energy.
Proceed in the direction of 3a and 13b.

【0039】これらの2次信号12a,12bは、その
後、2次信号検出器13aおよび13bで検出される。
These secondary signals 12a and 12b are thereafter detected by secondary signal detectors 13a and 13b.

【0040】2次信号検出器13a,13bの信号は、
それぞれ信号増幅器14a,14bを経て、像信号とし
て表示用画像メモリ25に記憶される。表示用画像メモ
リ25に記憶された画像情報は、像表示装置26に随時
表示される。
The signals of the secondary signal detectors 13a and 13b are
The signals are stored as image signals in the display image memory 25 via the signal amplifiers 14a and 14b, respectively. The image information stored in the display image memory 25 is displayed on the image display device 26 as needed.

【0041】走査コイル9の信号は、観察倍率に応じて
走査コイル制御電源24により制御される。
The signal of the scanning coil 9 is controlled by a scanning coil control power supply 24 according to the observation magnification.

【0042】焦点の異なる複数の画像は、CPU40で
フォーカス制御条件が計算され、連続して取り込まれ、
画像メモリ32に記憶される(画像構築手段)。画像メ
モリ32に記憶された画像データは、SEMから外部に
取出すことができる。
For a plurality of images having different focuses, focus control conditions are calculated by the CPU 40, and the images are continuously taken in.
It is stored in the image memory 32 (image construction means). The image data stored in the image memory 32 can be taken out from the SEM.

【0043】また、画像メモリ32の画像は、CPU4
0で画像処理されて、焦点深度を拡大した画像として合
成され、画像メモリ25に記憶されて像表示装置26に
表示される。
The image stored in the image memory 32 is stored in the CPU 4.
The image is processed at 0 and synthesized as an image with an increased depth of focus, stored in the image memory 25 and displayed on the image display device 26.

【0044】合成画像は、画像メモリ32にも記憶する
ことができ、SEMから外部に合成画像データを取出す
ことができる。なお、画像処理は、CPU40に記憶さ
れたプログラムで実施することも可能であるが、専用の
ハードウェアで高速に行うこともできる。さらに、専用
のハードウェアでは画像処理が高速に行えることから、
焦点の異なる連続画像を取り込みながら、並行して逐次
画像処理を行い、焦点深度の深い画像を合成することも
できる。
The composite image can also be stored in the image memory 32, and the composite image data can be taken out of the SEM. The image processing can be performed by a program stored in the CPU 40, but can also be performed at high speed by dedicated hardware. Furthermore, since image processing can be performed at high speed with dedicated hardware,
It is also possible to combine images with different depths of focus while performing sequential image processing while capturing continuous images with different focal points.

【0045】図2は、SEMのハードウェア制御用のC
PUとは別に、データ処理やマンマシンインタフェース
機能を備えた他のコンピュータを組込み接続した本発明
の一例である走査電子顕微鏡(SEM)の概略構成図で
ある。
FIG. 2 shows a C for hardware control of the SEM.
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a scanning electron microscope (SEM) as an example of the present invention in which another computer having data processing and a man-machine interface function is incorporated and connected separately from a PU.

【0046】この例では、制御CPU40に組み込まれ
た画像メモリ32に,連続画像を一旦記憶した後、デー
タ処理用PC(コンピュータ)42にデータを転送す
る。該PC42に転送された画像データは、該PC42
のプログラムで処理されて、焦点深度の深い画像が合成
される。この合成画像は、データ処理用PC42に接続
されている表示用モニタ43で表示される。
In this example, after a continuous image is temporarily stored in the image memory 32 incorporated in the control CPU 40, the data is transferred to the data processing PC (computer) 42. The image data transferred to the PC 42 is
To synthesize an image with a deep depth of focus. This composite image is displayed on a display monitor 43 connected to the data processing PC 42.

【0047】図3は、複数画像の連続取り込み時のフォ
ーカス制御を対物レンズ部に配置した電極で行う走査電
子顕微鏡の概略構成図である。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a scanning electron microscope in which focus control at the time of continuously taking in a plurality of images is performed by electrodes arranged in an objective lens portion.

【0048】対物レンズ7部に軸対称なフォーカス制御
用電極15(フォーカス制御量決定手段)を配置してい
る。この電極の電位分布は、少なくともその一部が対物
レンズ7の磁界と重畳するように配置され、その電圧は
フォーカス制御用制御電源17で制御することにより、
1次電子のフォーカス位置が変化する。
An axially symmetric focus control electrode 15 (focus control amount determining means) is arranged in the objective lens 7. The potential distribution of this electrode is arranged so that at least a part thereof is superimposed on the magnetic field of the objective lens 7, and the voltage is controlled by a control power supply 17 for focus control,
The focus position of the primary electron changes.

【0049】図4は、複数画像の連続取り込み時のフォ
ーカス制御を対物レンズ部に配置した他の磁界発生用コ
イルで行う走査電子顕微鏡の概略構成図である。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a scanning electron microscope in which focus control at the time of continuously taking in a plurality of images is performed by another magnetic field generating coil arranged in the objective lens portion.

【0050】対物レンズ7の近傍に別のフォーカス制御
用磁界発生コイル16を配置しており、この励磁電流を
フォーカス制御コイル用制御電源18で変化させること
により、1次電子のフォーカス位置が変化する。
Another focus control magnetic field generating coil 16 is arranged in the vicinity of the objective lens 7, and the excitation current is changed by the control power supply 18 for the focus control coil to change the focus position of the primary electron. .

【0051】図5は、複数画像の連続取り込み時のフォ
ーカス制御を試料に印加する電圧の制御で行う走査電子
顕微鏡の概略構成図である。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a scanning electron microscope in which focus control at the time of continuously capturing a plurality of images is performed by controlling the voltage applied to the sample.

【0052】対物レンズ部7に1次電子を加速するフォ
ーカス制御用磁界発生コイル16と、試料に電圧を印加
する試料印加電圧制御電源19が配置され、該制御電源
19により試料の電圧を制御することにより、1次電子
のフォーカス位置が変化する。
A focus control magnetic field generating coil 16 for accelerating primary electrons and a sample application voltage control power supply 19 for applying a voltage to the sample are arranged in the objective lens section 7, and the voltage of the sample is controlled by the control power supply 19. As a result, the focus position of the primary electron changes.

【0053】図8は、画像数を指定して連続画像を取り
込む制御フローの一例を示すフロー図である。オペレー
タは、画像数設定画面(画像数設定手段)に画像数を直
接入力するか、あるいは、定められた選択範囲から画像
数を選択して取り込む画像数を入力できる(画像数決定
手段)。
FIG. 8 is a flowchart showing an example of a control flow for capturing a continuous image by designating the number of images. The operator can input the number of images directly on the number-of-images setting screen (number-of-images setting means) or can input the number of images by selecting the number of images from a predetermined selection range (number-of-images determining means).

【0054】一方、制御CPUでは、現在の像形成条件
(倍率、加速電圧、ビーム分解能、画素数など)からビ
ームの焦点深度を計算し、この結果と指定された画像数
とから最適な焦点変化量を決定する。
On the other hand, the control CPU calculates the focal depth of the beam from the current image forming conditions (magnification, acceleration voltage, beam resolution, number of pixels, etc.), and determines the optimal focus change from the result and the designated number of images. Determine the amount.

【0055】オペレータはさらに、画像取得時のフォー
カス制御に対して、Underフォーカス方向やOve
rフォーカス方向、あるいは、現在値を中心にした双方
向のフォーカス制御の別を、設定画面により設定でき
る。制御CPUでは、この制御方法の指定条件に対応し
てフォーカス制御を行いながら、指定された数の画像を
連続して取り込む。これらの画像は画像メモリに記憶さ
れ、その後の処理(画像転送、画像合成など)に用い
る。
The operator further controls the focus control at the time of acquiring the image in the Under focus direction and Ove.
r The focus direction or the bidirectional focus control centered on the current value can be set on the setting screen. The control CPU continuously captures a specified number of images while performing focus control corresponding to the specified conditions of the control method. These images are stored in an image memory and used for subsequent processing (image transfer, image synthesis, etc.).

【0056】図9は、焦点深度の値を指定して連続画像
を取り込む制御フローの一例を示すフロー図である。こ
の場合、オペレータは、必要とする焦点深度の値を直接
指定する。制御CPUでは、ビームの焦点深度から、指
定された焦点深度を満足する画像数と焦点ずらし量を決
定し、図8と同様の手順により、連続画像を取り込み、
保存する。
FIG. 9 is a flowchart showing an example of a control flow for taking in a continuous image by designating the value of the depth of focus. In this case, the operator directly specifies the required value of the depth of focus. The control CPU determines the number of images and the amount of defocus that satisfy the designated depth of focus from the focal depth of the beam, and captures a continuous image in the same procedure as in FIG.
save.

【0057】図10は、焦点の合う範囲を指定して連続
画像を取り込む制御フローの一例を示すフロー図であ
る。この場合、オペレータは、観察画像において焦点を
合わせたい下限と上限とを指定(任意の2点を指定する
指定手段)する。そのために、まずフォーカスの下限と
なる試料の部位にフォーカスを合わせ、このフォーカス
条件を第一の条件としてCPUに登録する。
FIG. 10 is a flowchart showing an example of a control flow for taking in a continuous image by designating a focused range. In this case, the operator designates a lower limit and an upper limit to be focused in the observation image (designating means for designating arbitrary two points). For that purpose, first, the focus is adjusted to the portion of the sample which is the lower limit of the focus, and this focus condition is registered in the CPU as a first condition.

【0058】次に、フォーカスの上限となる試料の部位
にフォーカスを合わせて、第二のフォーカス条件として
CPUに登録する。
Next, the focus is adjusted on the part of the sample which is the upper limit of the focus, and is registered as the second focus condition in the CPU.

【0059】制御CPUでは、これら登録条件に基づき
フォーカスの制御範囲を計算し、ビームの焦点深度値か
ら適切な画像数と焦点ずらし量を決定する。
The control CPU calculates a focus control range based on these registration conditions, and determines an appropriate number of images and an appropriate defocus amount from the depth of focus of the beam.

【0060】[0060]

【発明の効果】本発明によれば、前記各種形態により取
り込まれた複数画像を合成すれば、オペレータが意図し
た焦点深度の画像を構築することが可能になる。
According to the present invention, it is possible to construct an image having a depth of focus intended by an operator by synthesizing a plurality of images captured in the above-mentioned various forms.

【0061】そして、画像取り込みに必要な試料へのビ
ーム照射量(画像の枚数に比例)は、理論的な最小値に
することができるため、ビームダメージの抑制と、画像
取得時間および処理時間を短縮することができる。
Since the beam irradiation amount (in proportion to the number of images) required for capturing an image to a sample can be reduced to a theoretical minimum value, it is possible to suppress beam damage and reduce image acquisition time and processing time. Can be shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一例である走査電子顕微鏡の概略構成
図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a scanning electron microscope which is an example of the present invention.

【図2】データ処理やマンマシンインタフェース機能を
備えた他のコンピュータを接続した走査電子顕微鏡の概
略構成図である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a scanning electron microscope to which another computer having a data processing and a man-machine interface function is connected.

【図3】複数画像の連続取り込み時のフォーカス制御を
対物レンズ部に配置した電極で行う走査電子顕微鏡の概
略構成図である。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a scanning electron microscope that performs focus control during continuous capture of a plurality of images using electrodes arranged in an objective lens unit.

【図4】複数画像の連続取り込み時のフォーカス制御を
対物レンズ部に配置した他の磁界発生用コイルで行う走
査電子顕微鏡の概略構成図である。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a scanning electron microscope that performs focus control at the time of continuously capturing a plurality of images by using another magnetic field generating coil disposed in an objective lens unit.

【図5】複数画像の連続取り込み時のフォーカス制御を
試料に印加する電圧の制御で行う走査電子顕微鏡の概略
構成図である。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a scanning electron microscope that performs focus control at the time of continuously capturing a plurality of images by controlling a voltage applied to a sample.

【図6】加速電圧が同じで、ビーム分解能が異なる場合
の観察倍率と焦点深度の関係を表すグラフである。
FIG. 6 is a graph showing the relationship between the observation magnification and the depth of focus when the acceleration voltage is the same and the beam resolution is different.

【図7】ビーム分解能が同じで、加速電圧が異なる場合
の観察倍率と焦点深度の関係を表すグラフである。
FIG. 7 is a graph showing the relationship between the observation magnification and the depth of focus when the beam resolution is the same and the acceleration voltage is different.

【図8】画像数を指定してフォーカスの異なる連続画像
を取得する制御フローの一例を説明するフロー図であ
る。
FIG. 8 is a flowchart illustrating an example of a control flow for acquiring continuous images with different focuses by specifying the number of images.

【図9】焦点深度の値を指定してフォーカスの異なる連
続画像を取得する制御フローの一例を説明するフロー図
である。
FIG. 9 is a flowchart illustrating an example of a control flow for acquiring a continuous image with different focus by designating a value of the depth of focus.

【図10】焦点の合う範囲を指定してフォーカスの異な
る連続画像を取り込む制御フローの一例を説明するフロ
ー図である。
FIG. 10 is a flowchart illustrating an example of a control flow for capturing a continuous image with different focus by designating an in-focus range.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…陰極、2…第1陽極、3…第2陽極、4…1次電子
線、5…第1収束レンズ、6…第2収束レンズ、7…対
物レンズ、8…絞り板、9…走査コイル、10…試料、
11…2次信号分離用直交電磁界(EXB)発生器、1
2a…低エネルギーの2次信号、12b…高エネルギー
の2次信号、13a…低エネルギー2次信号用検出器、
13b…高エネルギー2次信号用検出器、14a…低エ
ネルギー2次信号用増幅器、14b…高エネルギー2次
信号用増幅器、15…フォーカス制御用電極、16…フ
ォーカス制御用磁界発生コイル、17…フォーカス制御
電極用制御電源、18…フォーカス制御コイル用制御電
源、19…試料印加電圧制御電源、20…高圧制御電
源、21…第1収束レンズ制御電源、22…第2収束レ
ンズ制御電源、23…対物レンズ制御電源、24…走査
コイル制御電源、25…表示用画像メモリ、26…像表
示装置、32…画像メモリ、40…制御CPU、42…
データ処理用PC、43…表示用モニタ。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Cathode, 2 ... 1st anode, 3 ... 2nd anode, 4 ... Primary electron beam, 5 ... 1st converging lens, 6 ... 2nd converging lens, 7 ... Objective lens, 8 ... Aperture plate, 9 ... Scanning Coil, 10 ... sample,
11 ... quadrature electromagnetic field (EXB) generator for secondary signal separation, 1
2a: low energy secondary signal, 12b: high energy secondary signal, 13a: detector for low energy secondary signal,
13b: High energy secondary signal detector, 14a: Low energy secondary signal amplifier, 14b: High energy secondary signal amplifier, 15: Focus control electrode, 16: Focus control magnetic field generating coil, 17: Focus Control power supply for control electrode, 18 ... Control power supply for focus control coil, 19 ... Sample applied voltage control power supply, 20 ... High voltage control power supply, 21 ... First convergent lens control power supply, 22 ... Second convergent lens control power supply, 23 ... Objective Lens control power supply, 24: scanning coil control power supply, 25: display image memory, 26: image display device, 32: image memory, 40: control CPU, 42 ...
Data processing PC, 43 ... Display monitor.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01J 37/28 H01J 37/28 B (72)発明者 戸所 秀男 茨城県ひたちなか市大字市毛882番地 株 式会社日立製作所計測器グループ内 (72)発明者 江角 真 茨城県ひたちなか市大字市毛882番地 株 式会社日立製作所計測器グループ内 (72)発明者 ▲高▼根 淳 茨城県ひたちなか市大字市毛882番地 株 式会社日立製作所計測器グループ内 Fターム(参考) 5C033 MM02 MM05 UU05 UU06 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01J 37/28 H01J 37/28 B (72) Inventor Hideo Todori 882 Address Ichige, Ichihiro, Hitachinaka-shi, Ibaraki Pref. Within the Hitachi, Ltd.Measurement Instruments Group (72) Inventor Makoto Esumi 882, Oji-shi, Oita, Hitachinaka-shi, Ibaraki Co., Ltd. Within the Hitachi, Ltd. Instrumentation Group (72) Inventor 882 address F-term in the Hitachi Measuring Instruments Group, Ltd. (reference) 5C033 MM02 MM05 UU05 UU06

Claims (23)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電子源から放出された1次電子ビームを
対物レンズで細く絞るビーム収束手段と、1次電子を試
料上で走査するビーム走査手段と、該ビーム走査によっ
て試料から発生する2次信号を検出する検出手段と、2
次信号から試料像を形成する像形成手段を備え、試料の
走査像を得る電子線装置において、 像形成条件に連動してビーム収束位置変化幅を決めるフ
ォーカス制御量決定手段と、該フォーカス制御量に対応
してビームのフォーカス条件を制御するフォーカス制御
手段と、画像の枚数を決定する画像数決定手段と、該フ
ォーカス制御手段で制御された異なる複数のフォーカス
条件の画像を連続して取り込む画像取得手段と、該複数
画像を記憶する記憶手段とを有することを特徴とする電
子線装置。
1. A beam converging means for narrowing down a primary electron beam emitted from an electron source with an objective lens, a beam scanning means for scanning primary electrons on a sample, and a secondary beam generated from the sample by the beam scanning. Detecting means for detecting a signal;
An electron beam apparatus for obtaining a scanned image of a sample, comprising: an image forming means for forming a sample image from a next signal; a focus control amount determining means for determining a beam convergence position change width in conjunction with an image forming condition; Focus control means for controlling a beam focus condition in response to the above, image number determination means for determining the number of images, and image acquisition for continuously capturing images under a plurality of different focus conditions controlled by the focus control means Means for storing the plurality of images.
【請求項2】 電子源から放出された1次電子ビームを
対物レンズで細く絞るビーム収束手段と、該1次電子を
試料上で走査するビーム走査手段と、該ビーム走査によ
って試料から発生する2次信号を検出する検出手段と、
該2次信号から試料像を形成する像形成手段を具備して
試料の走査像を得る電子線装置において、 像形成条件に連動してビーム収束位置変化幅を決めるフ
ォーカス制御量決定手段と、該フォーカス制御量に対応
してビームのフォーカス条件を制御するフォーカス制御
手段と、画像の枚数を決定する画像数決定手段と、該フ
ォーカス制御手段で制御された異なる複数のフォーカス
条件の画像を連続して取り込む画像取得手段と、該複数
画像を記憶する記憶手段と、該複数の記憶画像から新た
な画像を構築する画像構築手段とを具備することを特徴
とする電子線装置。
2. A beam converging means for narrowing down a primary electron beam emitted from an electron source with an objective lens, a beam scanning means for scanning the primary electrons on a sample, and a beam generated from the sample by the beam scanning. Detecting means for detecting a next signal;
An electron beam apparatus that obtains a scanned image of a sample by providing an image forming unit that forms a sample image from the secondary signal; a focus control amount determining unit that determines a beam convergence position change width in conjunction with an image forming condition; Focus control means for controlling the beam focus condition in accordance with the focus control amount; image number determination means for determining the number of images; and images of a plurality of different focus conditions controlled by the focus control means. An electron beam apparatus comprising: an image acquisition unit to be captured; a storage unit that stores the plurality of images; and an image construction unit that constructs a new image from the plurality of storage images.
【請求項3】 前記フォーカス制御量決定手段は、加速
電圧(Vacc)、対物レンズのワーキングディスタンス
(WD)、ビーム収束角(α)、像倍率(M)、1次ビ
ームのビーム径で決まる像分解能(R)、画像の画素数
(Npix)、画像の画素サイズ(dpix)、プローブ電流
(Ip)のいずれか、もしくは、それらの複数の組み合
わせでフォーカス制御量を決定する請求項1または2に
記載の電子線装置。
3. The focus control amount determining means determines an image determined by an acceleration voltage (Vacc), a working distance (WD) of an objective lens, a beam convergence angle (α), an image magnification (M), and a beam diameter of a primary beam. The focus control amount is determined by any one of resolution (R), the number of pixels of an image (Npix), the pixel size of an image (dpix), and a probe current (Ip), or a combination thereof. An electron beam apparatus according to claim 1.
【請求項4】 係数をA1、A2とし、観察倍率(M)
が所定の値よりも小さいときには、フォーカス制御量=
A1×dpix/Mとし、観察倍率が所定の倍率よりも大
きいときには、フォーカス制御量=A2(一定)の関係
でその値が決定されるよう構成した請求項3に記載の電
子線装置。
4. Coefficients A1 and A2, observation magnification (M)
Is smaller than a predetermined value, the focus control amount =
4. The electron beam apparatus according to claim 3, wherein A1 × dpix / M is set, and when the observation magnification is larger than a predetermined magnification, the value is determined based on a relationship of focus control amount = A2 (constant). 5.
【請求項5】 前記係数A1は、ビーム収束角αと実質
的に反比例の関係でその値が決定される請求項4に記載
の電子線装置。
5. The electron beam apparatus according to claim 4, wherein the value of the coefficient A1 is determined in a substantially inversely proportional relationship with the beam convergence angle α.
【請求項6】 前記係数A1は、加速電圧(Vacc)の
平方根と、そのビーム条件における1次電子ビームの分
解能(R)の積に実質的に比例する関係でもってその値
が決定される請求項4に記載の電子線装置。
6. The value of the coefficient A1 is determined by a relationship that is substantially proportional to the product of the square root of the acceleration voltage (Vacc) and the resolution (R) of the primary electron beam under the beam conditions. Item 5. An electron beam device according to item 4.
【請求項7】 前記係数A2は、加速電圧(Vacc)の
平方根と分解能の2乗との積に実質的に比例する関係で
もってその値が決定される請求項4に記載の電子線装
置。
7. The electron beam apparatus according to claim 4, wherein the value of the coefficient A2 is determined by a relationship substantially proportional to a product of a square root of an acceleration voltage (Vacc) and a square of a resolution.
【請求項8】 前記係数A1および/またはA2は、電
子源の輝度(Bs)とプローブ電流(Ip)の比で決まる
関数値に実質的に比例する関係でもって、その値が決ま
る請求項5〜7のいずれかに記載の電子線装置。
8. The coefficient A1 and / or A2 is determined by a relationship that is substantially proportional to a function value determined by a ratio between the brightness (Bs) of the electron source and the probe current (Ip). An electron beam apparatus according to any one of claims 1 to 7.
【請求項9】 前記フォーカス制御量は、加速電圧毎に
予め決められたテーブル値からその値が決定される請求
項1または2に記載の電子線装置。
9. The electron beam apparatus according to claim 1, wherein the value of the focus control amount is determined from a table value predetermined for each acceleration voltage.
【請求項10】 フォーカス制御手段は、1次ビームを
最終的に試料上に収束させる対物レンズの磁界強度を変
化させてビームの収束条件を制御する請求項1〜9のい
ずれかに記載の電子線装置。
10. The electronic device according to claim 1, wherein the focus control means controls a beam convergence condition by changing a magnetic field intensity of an objective lens that finally converges the primary beam on the sample. Line equipment.
【請求項11】 フォーカス制御手段は、対物レンズと
は別に設けた他の磁界形レンズ、もしくは、静電形レン
ズでもって構成される請求項1〜9のいずれか記載の電
子線装置。
11. The electron beam apparatus according to claim 1, wherein the focus control means is constituted by another magnetic field type lens provided separately from the objective lens or an electrostatic type lens.
【請求項12】 試料に電圧を印加する試料電圧印加手
段を具備するとともに、前記フォーカス制御を該試料電
圧印加手段の電圧の制御でもって行う請求項1〜9のい
ずれか記載の電子線装置。
12. The electron beam apparatus according to claim 1, further comprising sample voltage applying means for applying a voltage to the sample, and wherein said focus control is performed by controlling the voltage of said sample voltage applying means.
【請求項13】 請求項1〜12のいずれかに記載の電
子線装置において、 前記画像数決定手段は、連続して取り込む画像の枚数を
数値入力、あるいはリストから選択して設定する手段で
あるに記載の電子線装置。
13. The electron beam apparatus according to claim 1, wherein the number-of-images determining means is a means for setting the number of images to be continuously captured by inputting a numerical value or selecting from a list. An electron beam apparatus according to claim 1.
【請求項14】 前記画像数設定手段は、画像の画素数
に応じて、その設定最大数を制限する請求項13に記載
の電子線装置。
14. The electron beam apparatus according to claim 13, wherein the image number setting means limits the set maximum number according to the number of pixels of the image.
【請求項15】 前記画像数決定手段は、フォーカス範
囲の上限と下限とを設定するフォーカス範囲設定手段
と、該フォーカス範囲設定手段の設定値から画像枚数を
計算する画像枚数計算手段とから構成される請求項1〜
12のいずれかに記載の電子線装置。
15. The image number determining means includes a focus range setting means for setting an upper limit and a lower limit of a focus range, and an image number calculating means for calculating the number of images from the set value of the focus range setting means. Claim 1
13. The electron beam device according to any one of 12 above.
【請求項16】 前記画像数決定手段は、2ヶ所のフォ
ーカス調整値を各々登録するフォーカス調整値登録手段
と、該フォーカス値登録手段の登録値から画像枚数を計
算する画像数計算手段とから構成される請求項15に記
載の電子線装置。
16. The image number deciding means comprises focus adjustment value registering means for respectively registering two focus adjustment values, and image number calculating means for calculating the number of images from the registered values of the focus value registering means. The electron beam apparatus according to claim 15, wherein the electron beam apparatus is used.
【請求項17】 前記画像数決定手段は、フォーカス制
御範囲の差(フォーカス深さ)を設定するフォーカス深
さ設定手段と、該フォーカス深さ設定手段の設定値に基
づき画像数を計算する計算手段とから構成される請求項
1〜12のいずれかに記載の電子線装置。
17. The image number determination means, wherein a focus depth setting means for setting a difference (focus depth) in a focus control range, and a calculation means for calculating the number of images based on a set value of the focus depth setting means The electron beam apparatus according to any one of claims 1 to 12, comprising:
【請求項18】 前記フォーカス制御手段は、現在のフ
ォーカス状態を規準にして、アンダーフォーカスの方向
にフォーカスを制御しながら、所定数の画像を連続して
取り込む請求項1〜17のいずれかに記載の電子線装
置。
18. The apparatus according to claim 1, wherein said focus control means continuously takes in a predetermined number of images while controlling focus in an underfocus direction based on a current focus state. Electron beam equipment.
【請求項19】 前記フォーカス制御手段は、現在のフ
ォーカス状態を規準にして、オーバーフォーカスの方向
にフォーカスを制御しながら、所定数の画像を連続して
取り込む請求項1〜17のいずれかに記載の電子線装
置。
19. The apparatus according to claim 1, wherein said focus control means continuously takes in a predetermined number of images while controlling focus in an overfocus direction based on a current focus state. Electron beam equipment.
【請求項20】 前記フォーカス制御手段は、現在のフ
ォーカス状態を中央状態として、オーバーフォーカスか
らオーバーフォーカスの範囲でフォーカスを制御しなが
ら、所定数の画像を連続して取り込む請求項1〜17の
いずれかに記載の電子線装置。
20. The apparatus according to claim 1, wherein the focus control means takes in a predetermined number of images continuously while controlling a focus in a range from overfocus to overfocus with a current focus state as a center state. An electron beam device according to any one of the above.
【請求項21】 複数の画像から新たな画像を構築する
前記画像構築手段は、画像間の位置ずれを補正する位置
補正のステップと、画像間の明るさの違いを補正する明
るさ補正ステップと、画像間の対応する画像要素から焦
点の最も合致した画像要素を抽出する焦点画像抽出処理
と、該抽出画像要素を組み合わせて新たな画像を構築す
る合焦点画像構築ステップとから構成される請求項2〜
20のいずれかに記載の電子線装置。
21. The image constructing means for constructing a new image from a plurality of images, comprising: a position correcting step for correcting a positional shift between the images; and a brightness correcting step for correcting a difference in brightness between the images. A focus image extracting process for extracting an image element having the best focus from corresponding image elements between images, and a focused image constructing step of constructing a new image by combining the extracted image elements. Two
21. The electron beam apparatus according to any one of 20.
【請求項22】 連続して取得した複数画像の合成で得
られる画像の焦点深度の値を表示する表示手段を有する
請求項1〜21のいずれかに記載の電子線装置。
22. The electron beam apparatus according to claim 1, further comprising display means for displaying a value of a focal depth of an image obtained by synthesizing a plurality of images obtained continuously.
【請求項23】 連続した取得した画像を合成した得ら
れた画像上で、任意の2点を指定する指定手段と、該指
定手段で指定された2点間の高さの差を計算する計算手
段と、該計算手段の計算結果を表示する表示手段を有す
る請求項2〜22のいずれかに記載の電子線装置。
23. Designating means for designating any two points on an image obtained by combining continuous acquired images, and calculating a height difference between the two points designated by the designating means. The electron beam apparatus according to any one of claims 2 to 22, further comprising a unit and a display unit for displaying a calculation result of the calculation unit.
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