JP2002071466A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP2002071466A
JP2002071466A JP2001144954A JP2001144954A JP2002071466A JP 2002071466 A JP2002071466 A JP 2002071466A JP 2001144954 A JP2001144954 A JP 2001144954A JP 2001144954 A JP2001144954 A JP 2001144954A JP 2002071466 A JP2002071466 A JP 2002071466A
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bolometer
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To allow the signal amplification and signal process to be smoothly performed by stably correcting a bias component at a low noise. SOLUTION: There are provided a first bias circuit 120 which is connected to a measurement resister (bolometer 104) and provided with a reference resistance (reference resistance circuit 102) whose resistance temperature coefficient is equal to a measurement resistance (bolometer 104), and a second bias circuit 121 which is connected to a cancel resistance 106 and provided with a reference resistance (reference resistance circuit 112) whose resistance temperature coefficient is equal to the cancel resistance 106. The first bias circuit 120 acts as a means for applying its output voltage to the measurement resistances (bolometer 104) while the second bias circuit 121 acts as a means for applying its output voltage to the cancel resistance.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置に関
し、特に抵抗体とそれに流れる電流を蓄積するコンデン
サからなる積分回路を備え、この抵抗体の抵抗値変化を
検出することにより各種の物理量(赤外線、マイクロ
波、温度、磁気、圧力等)の変化を検出する赤外線セン
サ、マイクロ波/ミリ波検出器、温度センサ、磁気セン
サ、圧力センサ、ガスセンサ、フローセンサ等の半導体
装置に関するものである。なお、以下においては熱型赤
外線撮像装置を中心に説明するが、本発明は微弱な信号
成分を積分して検出する半導体装置の全てに適用可能で
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a semiconductor device provided with an integrating circuit comprising a resistor and a capacitor for storing a current flowing through the resistor. The present invention relates to a semiconductor device such as an infrared sensor, a microwave / millimeter wave detector, a temperature sensor, a magnetic sensor, a pressure sensor, a gas sensor, a flow sensor, and the like for detecting a change in, for example, microwave, temperature, magnetism, and pressure. In the following, the description will focus on a thermal infrared imaging apparatus, but the present invention is applicable to all semiconductor devices that integrate and detect weak signal components.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の熱型赤外線撮像装置としては、例
えば特願平9−315455号に記載されたものがあ
る。
2. Description of the Related Art As a conventional thermal infrared imaging apparatus, for example, there is one described in Japanese Patent Application No. 9-315455.

【0003】図14は、特願平9−315455号に記
載された従来の熱型赤外線撮像装置を示す断面図であ
る。同図に示すように、半導体基板1401には走査回
路1402が作り込まれ、その上には入射赤外線を電気
信号に変換する受光部1400が複数配設されている。
FIG. 14 is a sectional view showing a conventional thermal infrared imaging device described in Japanese Patent Application No. 9-315455. As shown in the figure, a scanning circuit 1402 is formed on a semiconductor substrate 1401, and a plurality of light receiving units 1400 for converting incident infrared rays into electric signals are provided thereon.

【0004】すなわち、この受光部1400の一個が撮
像装置の一画素を構成しており、二次元の赤外線画像が
得られるようにするためには、複数の画素を二次元的に
集積する必要がある。また、各受光部1400の下に
は、撮像した画像データを読み出すための走査回路14
02が同様に2次元的に集積されている。
That is, one light receiving section 1400 constitutes one pixel of the image pickup device, and it is necessary to integrate a plurality of pixels two-dimensionally in order to obtain a two-dimensional infrared image. is there. In addition, a scanning circuit 14 for reading out captured image data is provided below each light receiving unit 1400.
02 are similarly two-dimensionally integrated.

【0005】さて、受光部1400は、ダイヤフラムと
呼ばれる膜状の構造体を有し、図中のダイヤフラム14
03においては、その下部に中空部1404が形成され
ている。この中空部1404は、予め作っておいた犠牲
層をエッチングで取り除くことにより形成される。
The light receiving section 1400 has a film-like structure called a diaphragm.
In 03, a hollow portion 1404 is formed in the lower part. This hollow portion 1404 is formed by removing a sacrificial layer that has been formed in advance by etching.

【0006】一方、ダイヤフラム1403の表面には、
赤外線を吸収するための赤外線吸収層1405が形成さ
れ、またダイヤフラム1403と中空部1404との境
界には、赤外線の受光により生じた熱を電気信号に変換
する熱電変換素子1406が形成されている。この熱電
変換素子1406としては、この例では温度によってそ
の電気抵抗値が変化するボロメータが用いられており、
ボロメータとしては例えばチタンが用いられている。
On the other hand, on the surface of the diaphragm 1403,
An infrared absorption layer 1405 for absorbing infrared light is formed, and a thermoelectric conversion element 1406 for converting heat generated by receiving infrared light into an electric signal is formed at a boundary between the diaphragm 1403 and the hollow portion 1404. As the thermoelectric conversion element 1406, in this example, a bolometer whose electric resistance value changes with temperature is used.
For example, titanium is used as the bolometer.

【0007】ところで、図14に係る熱型赤外線撮像装
置の動作について簡単に説明すると以下のようになる。
まず、各画素の受光部1400に入射した赤外線は、赤
外線吸収層1405に吸収され、各画素のダイヤフラム
1403の温度を上昇させる。その際、この温度上昇は
熱電変換素子1406(ボロメータ)によって電気信号
に変換されてから、走査回路1402を通じて順次外部
に読み出される。
The operation of the thermal infrared imaging apparatus shown in FIG. 14 is briefly described as follows.
First, the infrared light that has entered the light receiving section 1400 of each pixel is absorbed by the infrared absorption layer 1405 and raises the temperature of the diaphragm 1403 of each pixel. At this time, the temperature rise is converted into an electric signal by a thermoelectric conversion element 1406 (bolometer), and is sequentially read out to the outside through a scanning circuit 1402.

【0008】ここで、図14に係る熱型赤外線撮像装置
の詳細について説明する。図15は、図14の熱型赤外
線撮像装置に使用される読み出し回路を示したものであ
る。同図に示すように、読み出し回路1500は、複数
のボロメータ1501と、各ボロメータ1501とグラ
ウンドとの間に接続された画素スイッチ1509と、N
PNトランジスタ1502と、キャンセル抵抗1503
と、PNPトランジスタ1504と、積分コンデンサ1
505と、サンプルホールド回路1506と、FPN補
正定電流源1507と、リセット信号ΦRの入力によっ
て開閉されるリセットスイッチ1508とを備えてい
る。
Here, the details of the thermal infrared imaging apparatus shown in FIG. 14 will be described. FIG. 15 shows a readout circuit used in the thermal infrared imaging device of FIG. As shown in the figure, the readout circuit 1500 includes a plurality of bolometers 1501, a pixel switch 1509 connected between each bolometer 1501 and the ground,
PN transistor 1502 and cancel resistor 1503
, A PNP transistor 1504 and an integrating capacitor 1
505, a sample and hold circuit 1506, an FPN correction constant current source 1507, and a reset switch 1508 which is opened and closed by input of a reset signal ΦR.

【0009】サンプルホールド回路1506は、前段の
NMOSトランジスタ1510および1511と、外部
から入力されたサンプルホールドパルスΦS/Hに応じ
て開閉されるスイッチ1512と、ホールドコンデンサ
1513と、後段のNMOSトランジスタ1514およ
び1515とで構成されている。
The sample-and-hold circuit 1506 includes preceding NMOS transistors 1510 and 1511, a switch 1512 that is opened and closed according to a sample-and-hold pulse φS / H input from the outside, a hold capacitor 1513, and a subsequent NMOS transistor 1514. 1515.

【0010】ここで、ボロメータ1501は、図14で
も説明したように、入射赤外線による発熱を感知して電
気信号に変換する。例えば、NPNトランジスタ150
2のベースに電圧Vb1を印加した場合、NPNトランジ
スタ1502のベース−エミッタ間電圧をVBEとする
と、ボロメータ1501にはVb1−VBEの電圧が加わ
る。そこで、ボロメータ1501の抵抗をRb1とする
と、NPNトランジスタ1502のコレクタにはIc1
(Vb1−VBE)/Rb1 の電流が流れることになる。
Here, the bolometer 1501 detects heat generated by incident infrared rays and converts it into an electric signal as described with reference to FIG. For example, the NPN transistor 150
When a voltage is applied to V b1 to second base, the base of the NPN transistor 1502 - to-emitter voltage and V BE, the voltage of V b1 -V BE applied to bolometer 1501. Then, assuming that the resistance of the bolometer 1501 is R b1 , the collector of the NPN transistor 1502 has I c1 =
A current of (V b1 −V BE ) / R b1 flows.

【0011】一方、PNPトランジスタ1504のベー
スに電圧Vb2を印加すると、上記同様にPNPトランジ
スタ1504のコレクタには、キャンセル抵抗1503
の抵抗をRb2としてIc2=(Vb2−VBE)/Rb2の電流
が流れる。
On the other hand, when the voltage V b2 is applied to the base of the PNP transistor 1504, the cancel resistor 1503 is connected to the collector of the PNP transistor 1504 in the same manner as described above.
The resistor as R b2 I c2 = (V b2 -V BE) / current R b2 flows.

【0012】すると、これらIc1とIc2とはほぼ釣り合
うのだが若干異なるため、積分コンデンサ1505に
は、それらのわずかな差分であるΔI=Ic1−Ic2が流
れる。すなわち、この差分ΔIは、信号成分と除ききれ
なかったバイアス成分との和であり、大部分のバイアス
成分は取り除かれている。
Then, I c1 and I c2 are almost balanced but slightly different, so that ΔI = I c1 −I c2, which is a slight difference between them, flows through integration capacitor 1505. That is, the difference ΔI is the sum of the signal component and the bias component that has not been completely removed, and most of the bias component has been removed.

【0013】このように、外部から赤外線が入射する
と、熱分離されたダイヤフラム1403(図14)の温
度が上昇し、ボロメータ1501の抵抗値が変化する。
そして、この抵抗値の変化はIc1を変化させ、差分ΔI
が積分コンデンサ1505に蓄積されることになる。
As described above, when infrared rays enter from the outside, the temperature of the thermally separated diaphragm 1403 (FIG. 14) rises, and the resistance of the bolometer 1501 changes.
This change in the resistance value changes I c1 and the difference ΔI
Is stored in the integration capacitor 1505.

【0014】ところで、除ききれないバイアス成分は、
主として順次選択していく複数のボロメータ1501の
ばらつきによって生じるものである。キャンセル抵抗1
503には単一のものが使用されるためRb2は固定であ
るが、ボロメータ1501は複数設けられているため、
これら多数のRb1間に大きなばらつきがあると、差分Δ
Iにもばらつきを生じることになる。そこで、このよう
なばらつきを補正すべく従来においては、図15に示す
FPN補正定電流源1507をさらに設けていた。
By the way, the bias component that cannot be removed is
This is mainly caused by the variation of a plurality of bolometers 1501 that are sequentially selected. Cancel resistor 1
R b2 is fixed because a single 503 is used, but since a plurality of bolometers 1501 are provided,
If there is a large variation among these many R b1 , the difference Δ
I will also vary. Therefore, in order to correct such variations, conventionally, an FPN correction constant current source 1507 shown in FIG. 15 is further provided.

【0015】このFPN補正定電流源1507は、図示
しない複数段の定電流源によって構成されており、各定
電流源の電流値にはI0,2・I0,4・I0, ・・・の
ように、2の整数乗の重み付けが施されている。したが
って、Rb1のばらつきに応じて、これらの定電流源のう
ちの所望のものを適宜選択することにより、Rb1のばら
つきによる差分ΔIのばらつきを軽減させるのである。
The FPN correction constant current source 1507 is composed of a plurality of stages of constant current sources (not shown), and the current values of the constant current sources include I 0 , 2 · I 0 , 4 · I 0 ,. As shown in the above, weighting of an integer power of 2 is applied. Thus, in accordance with the variation of R b1, by selecting a desired one of these constant current sources appropriate, than reduce the variation of the difference ΔI due to variations in R b1.

【0016】そして、このようにして補正された信号
は、積分コンデンサ1505に蓄えられてから、サンプ
ルホールド回路1506内のソースフォロワで高インピ
ーダンスから低インピーダンスに変換され、時系列でサ
ンプリングされた信号はホールドコンデンサ1513に
一時的に保持された後、出力S/Hout として出力され
る。この出力S/Houtは、図14に示した走査回路1
402によって読み出されることになる。
The signal corrected in this manner is stored in an integration capacitor 1505, and then converted from high impedance to low impedance by a source follower in a sample and hold circuit 1506. The signal sampled in time series is After being temporarily held by the hold capacitor 1513, it is output as an output S / H out . This output S / H out is supplied to the scanning circuit 1 shown in FIG.
402.

【0017】このように、従来の熱型赤外線撮像装置に
おいては、積分コンデンサ1505等からなる積分回路
の温度特性をいかにして改善するかが課題となってい
た。そして、積分回路の温度特性を改善する回路として
は、以下のようなものが既に提案されている。
As described above, in the conventional thermal infrared imaging apparatus, it has been a problem how to improve the temperature characteristic of the integrating circuit including the integrating capacitor 1505 and the like. The following circuit has already been proposed as a circuit for improving the temperature characteristic of the integrating circuit.

【0018】例えば、特開平2−260914号公報に
示されるようなものがあり、コンデンサと拡散抵抗から
なる積分回路において、拡散抵抗のリーク電流の温度依
存性を補償するための他の拡散抵抗を付加し、それに流
れるリーク電流をコンデンサに加えるようにしたもので
ある。
For example, there is one disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-260914. In an integrating circuit composed of a capacitor and a diffusion resistor, another diffusion resistor for compensating the temperature dependence of the leakage current of the diffusion resistor is used. In addition, the leakage current flowing through it is added to the capacitor.

【0019】また、特開平3−103711号公報に
は、磁気センサの出力電圧が温度によって変化しないよ
うにするため、温度によって定電流源の電流値を変化さ
せることが記されている。また、特開平8−32026
6号公報には、温度係数零の定電流特性を持つ定電流回
路を用い、ピエゾ抵抗素子に流れる電流を温度に依らず
一定にすることが記されている。
Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 3-103711 discloses that the current value of the constant current source is changed depending on the temperature so that the output voltage of the magnetic sensor does not change depending on the temperature. Also, JP-A-8-32026
Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-64106 describes that a constant current circuit having a constant current characteristic with a temperature coefficient of zero is used, and the current flowing through the piezoresistive element is made constant regardless of the temperature.

【0020】さらに、特開平8−334413号公報に
は、各画素のボロメータの他にボロメータと同じ材料お
よび構造を有する温度補償抵抗を備え、出力オフセット
電圧の温度変動を相殺することが記されている。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-334413 discloses that a temperature compensating resistor having the same material and structure as the bolometer is provided in addition to the bolometer of each pixel to offset the temperature fluctuation of the output offset voltage. I have.

【0021】[0021]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特願平
9−315455号に記載された熱型赤外線撮像装置で
は、ボロメータに電圧を印加することによってボロメー
タ自身が自己発熱を起こすが、この自己発熱によって積
分波形に曲がり生じ、積分回路のゲインを上げることが
できないという問題がある。すなわち、Ic1−Ic2のキ
ャンセル動作とFPN補正回路により、積分波形の振幅
を小さくしたとしても、この積分波形の曲がりに回路の
ダイナミックレンジが占有されてしまう。
However, in the thermal infrared imaging apparatus described in Japanese Patent Application No. 9-315455, the bolometer itself generates heat by applying a voltage to the bolometer. There is a problem that the integrated waveform is bent and the gain of the integration circuit cannot be increased. That is, even if the amplitude of the integrated waveform is reduced by the cancel operation of I c1 −I c2 and the FPN correction circuit, the bending of the integrated waveform occupies the dynamic range of the circuit.

【0022】また、特願平9−315455号に記載さ
れた熱型赤外線撮像装置では、バイアス電流のキャンセ
ル動作を決めるVb1、Vb2等のバイアス電圧の設定が微
妙であり、個々の撮像装置ごとの調整が煩雑になるとい
う問題がある。Ic1−Ic2のキャンセル動作の設定やF
PN補正定電流源の設定が適切でないと、積分波形の振
幅が回路のダイナミックレンジを外れてしまう。加え
て、従来では、デバイスの温度が変化したとき、画素の
直流のレベルが変化するという問題があった。
Further, in the thermal infrared imaging device disclosed in Japanese Patent Application No. 9-315455, the setting of the bias voltage, such as V b1, V b2 to determine the canceling operation of the bias current is subtle, each imaging device There is a problem that the adjustment for each is complicated. Setting of cancel operation of I c1 -I c2 and F
If the PN correction constant current source is not set properly, the amplitude of the integrated waveform will fall outside the dynamic range of the circuit. In addition, conventionally, there has been a problem that when the temperature of the device changes, the DC level of the pixel changes.

【0023】したがって、本願発明は、バイアス成分の
補正を安定かつ低ノイズで行い、信号増幅や信号処理を
円滑に行うことができるようにすることを目的とする。
Accordingly, it is an object of the present invention to stably correct a bias component with low noise so that signal amplification and signal processing can be performed smoothly.

【0024】[0024]

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、請求項1に係る本発明の半導体装置は、物理
量を抵抗値に変換する1個の測定抵抗体と、この測定抵
抗体に接続されかつ測定抵抗体にバイアス電流を印加す
るとともに測定抵抗体に流れる電流を積分して蓄積する
積分回路と、測定抵抗体に接続され測定抵抗体に流れる
バイアス電流をキャンセルするキャンセル抵抗とからな
る読み出し回路を備え、積分回路に蓄積された電流に基
づいて測定抵抗体の抵抗値の変化を検出して物理量を間
接的に測定するようにした半導体装置において、上記測
定抵抗体に接続されかつ抵抗温度係数が測定抵抗に等し
い基準抵抗を備えた第1のバイアス回路と、上記キャン
セル抵抗に接続されかつ抵抗温度係数がキャンセル抵抗
に等しい基準抵抗を備えた第2のバイアス回路とを備
え、上記第1のバイアス回路は、その出力電圧を測定抵
抗体に印加する手段であり、上記第2のバイアス回路
は、その出力電圧をキャンセル抵抗に印加する手段であ
る。
In order to achieve such an object, a semiconductor device according to the present invention according to claim 1 includes one measuring resistor for converting a physical quantity into a resistance value, and one measuring resistor for converting the physical quantity into a resistance value. And a canceling resistor connected to the measuring resistor for applying a bias current to the measuring resistor and integrating and accumulating the current flowing through the measuring resistor; and a canceling resistor connected to the measuring resistor and canceling the bias current flowing through the measuring resistor. A readout circuit for detecting a change in the resistance value of the measurement resistor based on the current accumulated in the integration circuit and indirectly measuring a physical quantity, wherein the semiconductor device is connected to the measurement resistor and A first bias circuit having a reference resistance having a temperature coefficient of resistance equal to the measurement resistance; and a reference resistance connected to the cancellation resistance and having a temperature coefficient of resistance equal to the cancellation resistance. A second bias circuit, wherein the first bias circuit is means for applying the output voltage to a measuring resistor, and the second bias circuit applies the output voltage to a cancel resistor. Means.

【0025】この発明によれば、ボロメータ等の測定抵
抗に電圧を印加することによって測定抵抗自身が自己発
熱を起こす影響を無くすことができる。これによって積
分回路を含めた信号処理回路のダイナミックレンジに余
裕ができ、回路のゲインを上げることができる。特に初
段の積分回路のゲインを上げることにより、入力換算ノ
イズを低減することができ、S/Nを大幅に改善させる
ことができる。さらに、低ドリフト、低ノイズの特徴を
維持したまま、デジタルでバイアス設定ができる機能を
持つことができる。そして、その構成はシンプルなもの
であり、高性能な半導体装置を安価で実現することがで
きる。
According to the present invention, by applying a voltage to a measurement resistor such as a bolometer, it is possible to eliminate the effect of the measurement resistor itself generating heat. As a result, the dynamic range of the signal processing circuit including the integrating circuit has a margin, and the gain of the circuit can be increased. In particular, by increasing the gain of the first-stage integration circuit, input conversion noise can be reduced, and S / N can be greatly improved. Further, a function of digitally setting a bias while maintaining characteristics of low drift and low noise can be provided. The configuration is simple, and a high-performance semiconductor device can be realized at low cost.

【0026】上記発明において、積分回路は、コレクタ
同士が接続された第1および第2のバイポーラトランジ
スタと、コレクタに接続された積分コンデンサとによっ
て構成され、第1のバイポーラトランジスタは、そのエ
ミッタにキャンセル抵抗が接続されかつそのベースに第
2のバイアス回路が接続され、第2のバイポーラトラン
ジスタは、そのエミッタに測定抵抗体が接続されかつそ
のベースに第1のバイアス回路が接続されているもので
ある。
In the above invention, the integrating circuit is constituted by the first and second bipolar transistors having collectors connected to each other, and an integrating capacitor connected to the collector, and the first bipolar transistor has a canceller at its emitter. A resistor is connected and a second bias circuit is connected to its base, and the second bipolar transistor has its emitter connected to the measurement resistor and its base connected to the first bias circuit. .

【0027】また、第1のバイアス回路は、温度補償さ
れた定電流回路と、この定電流回路に接続されかつ抵抗
温度係数が測定抵抗に等しい基準抵抗と、この基準抵抗
に接続されかつこの基準抵抗に生じた電圧からノイズを
除去するフィルタとを備えたものである。また、第2の
バイアス回路は、温度補償された定電流回路と、この定
電流回路に接続されかつ抵抗温度係数がキャンセル抵抗
に等しい基準抵抗と、この基準抵抗に接続されかつこの
基準抵抗に生じた電圧からノイズを除去するフィルタと
を備えたものである。
The first bias circuit has a temperature-compensated constant current circuit, a reference resistor connected to the constant current circuit and having a temperature coefficient of resistance equal to the measurement resistance, and a first resistor connected to the reference resistor and connected to the reference resistor. And a filter for removing noise from the voltage generated in the resistor. The second bias circuit includes a temperature-compensated constant current circuit, a reference resistor connected to the constant current circuit and having a temperature coefficient of resistance equal to the cancel resistor, and a second resistor connected to the reference resistor and generated in the reference resistor. And a filter for removing noise from the applied voltage.

【0028】上記発明において、半導体装置は、赤外線
センサ、マイクロ波/ミリ波検出器、温度センサ、磁気
センサ、圧力センサ、ガスセンサまたはフローセンサの
何れかである。
In the above invention, the semiconductor device is any one of an infrared sensor, a microwave / millimeter wave detector, a temperature sensor, a magnetic sensor, a pressure sensor, a gas sensor and a flow sensor.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図を用いて説明する。 [第1の実施の形態]図1は、本発明の第1の実施の形
態を示す熱型赤外線撮像装置のブロック図である。
Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. [First Embodiment] FIG. 1 is a block diagram of a thermal infrared imaging apparatus showing a first embodiment of the present invention.

【0030】同図に示すように、本実施の形態の熱型赤
外線撮像装置は、複数の読み出し回路117と、ボロメ
ータ用のバイアス回路120と、キャンセル抵抗用のバ
イアス回路121と、FPN補正回路用のバイアス回路
122と、マルチプレクサ110と、水平シフトレジス
タ118と、垂直シフトレジスタ119とを備えてい
る。
As shown in the figure, the thermal infrared imaging apparatus according to the present embodiment has a plurality of readout circuits 117, a bolometer bias circuit 120, a cancel resistor bias circuit 121, and an FPN correction circuit. , A multiplexer 110, a horizontal shift register 118, and a vertical shift register 119.

【0031】バイアス回路120は、定電流回路101
と基準抵抗回路102とフィルタ103とで構成されて
いる。同様に、バイアス回路121は、定電流回路11
1と基準抵抗回路112とフィルタ113とで構成さ
れ、バイアス回路122は、定電流回路114と基準抵
抗回路115とフィルタ116とで構成されている。
The bias circuit 120 includes a constant current circuit 101
And a reference resistance circuit 102 and a filter 103. Similarly, the bias circuit 121 includes the constant current circuit 11
1, a reference resistance circuit 112, and a filter 113. The bias circuit 122 includes a constant current circuit 114, a reference resistance circuit 115, and a filter 116.

【0032】読み出し回路117は、バイアス回路12
0および121に接続された積分回路105と、この積
分回路105と電源との間に接続されたキャンセル抵抗
106と、積分回路105に接続されたn(n:任意の
自然数)個のボロメータ104と、このボロメータ10
4とグラウンドとの間に接続されたNMOSトランジス
タからなるn個の画素スイッチ107と、積分回路10
5に接続されたサンプルホールド回路109と、積分回
路105の出力に接続されかつバイアス回路122と接
続されたFPN補正回路108とを備えている。
The read circuit 117 includes the bias circuit 12
0 and 121, an integrating circuit 105, a cancel resistor 106 connected between the integrating circuit 105 and the power supply, and n (n: an arbitrary natural number) bolometers 104 connected to the integrating circuit 105. , This bolometer 10
N pixel switches 107 composed of NMOS transistors connected between
5 and a FPN correction circuit 108 connected to the output of the integration circuit 105 and connected to the bias circuit 122.

【0033】そして、図14,15に示した従来例同様
に、ボロメータ104は画素毎に形成されたダイヤフラ
ムに形成され、入射した赤外線の変化を電流変化に変換
する手段である。画素スイッチ107は、ダイヤフラム
の下に形成されたNMOSトランジスタであり、ボロメ
ータ104の選択/非選択を決定する手段である。
As in the conventional example shown in FIGS. 14 and 15, the bolometer 104 is formed on a diaphragm formed for each pixel and is a means for converting a change in incident infrared light into a change in current. The pixel switch 107 is an NMOS transistor formed below the diaphragm, and is a unit for determining selection / non-selection of the bolometer 104.

【0034】キャンセル抵抗106は、積分回路105
を介してボロメータ104に接続され、ボロメータ10
4に流れる電流のバイアス成分をキャンセルする手段で
ある。FPN補正回路108は、ボロメータ104に流
れる電流のばらつきを低減する手段である。
The cancel resistor 106 is connected to the integrating circuit 105
Is connected to the bolometer 104 through the
4 is a means for canceling the bias component of the current flowing through 4. The FPN correction circuit 108 is means for reducing the variation in the current flowing through the bolometer 104.

【0035】積分回路105は、ボロメータ104、キ
ャンセル抵抗106、FPN補正回路108に流れる電
流を積分する手段である。サンプルホールド回路109
は、積分回路105の出力をサンプリングして保持する
手段である。
The integration circuit 105 is means for integrating the current flowing through the bolometer 104, the cancel resistor 106, and the FPN correction circuit 108. Sample hold circuit 109
Is means for sampling and holding the output of the integration circuit 105.

【0036】さて、ボロメータ104と画素スイッチ1
07とで構成される画素は、図14で示した半導体基板
1401上に、1次元ないしは2次元状に複数配設され
ている。例えばy方向にこのような画素を複数形成し、
各画素を1個の積分回路105に接続する。そして、こ
の積分回路105にキャンセル抵抗106、FPN補正
回路108およびサンプルホールド回路109を接続し
て1個の読み出し回路117を構成する。
Now, the bolometer 104 and the pixel switch 1
07, a plurality of pixels are arranged one-dimensionally or two-dimensionally on the semiconductor substrate 1401 shown in FIG. For example, a plurality of such pixels are formed in the y direction,
Each pixel is connected to one integration circuit 105. The canceling resistor 106, the FPN correction circuit 108, and the sample and hold circuit 109 are connected to the integration circuit 105 to form one readout circuit 117.

【0037】このとき、1次元の熱型赤外線撮像装置で
あれば、読み出し回路117を1個設ければよい。それ
に対して、2次元の熱型赤外線撮像装置であれば、この
ようにして作られた読み出し回路117をx方向に複数
配置する。そして、さらに読み出し回路117に近接し
てマルチプレクサ110を設けることにより、各読み出
し回路117の信号を適宜切り換えられるようにする。
At this time, in the case of a one-dimensional thermal infrared imaging apparatus, one read circuit 117 may be provided. On the other hand, in the case of a two-dimensional thermal infrared imaging apparatus, a plurality of readout circuits 117 thus formed are arranged in the x direction. Further, by providing the multiplexer 110 close to the readout circuit 117, the signal of each readout circuit 117 can be appropriately switched.

【0038】したがって、水平シフトレジスタ118
は、マルチプレクサ110を制御することによって複数
ある読みだし回路117の一個を選択することができ
る。一方、垂直シフトレジスタ119は、1次元および
2次元の場合の両方で使用され、画素スイッチ107を
制御することによって各積分回路105に接続されてい
るボロメータ104の一個を選択する。
Therefore, the horizontal shift register 118
By controlling the multiplexer 110, one of the plurality of readout circuits 117 can be selected. On the other hand, the vertical shift register 119 is used in both the one-dimensional and two-dimensional cases, and selects one of the bolometers 104 connected to each integration circuit 105 by controlling the pixel switch 107.

【0039】ここで、本実施の形態の動作について説明
する。まず、バイアス回路120は、積分回路105を
介して、ボロメータ104にバイアスを与える。温度補
償された定電流回路101は、温度依存性が小さい定電
流を発生し、この定電流は基準抵抗回路102に供給さ
れる。すると、基準抵抗回路102は、ボロメータ10
4と同じ抵抗温度係数(以下、TCRという)の抵抗R
1 を持っており、温度補償された定電流I1 を受けるこ
とにより、ボロメータ104のTCRと同じ温度係数の
電圧V1 を出力する。
Here, the operation of the present embodiment will be described. First, the bias circuit 120 applies a bias to the bolometer 104 via the integration circuit 105. The temperature-compensated constant current circuit 101 generates a constant current having a small temperature dependency, and the constant current is supplied to the reference resistance circuit 102. Then, the reference resistance circuit 102 is connected to the bolometer 10.
Resistance R having the same temperature coefficient of resistance (hereinafter referred to as TCR)
Has a 1, by receiving the constant current I 1 which is temperature-compensated, and outputs a voltage V 1 of the same temperature coefficient as the TCR of the bolometer 104.

【0040】これはV1 =I1 ×R1 より、I1 の温度
依存性を小さくすれば、V1 はR1と同じ温度係数を持
つことによるものである。そして、この基準抵抗回路1
02の出力する電圧V1 を、フィルタ103を介して積
分回路105に接続されているボロメータ104に印加
する。すると、ボロメータ104には温度依存性の小さ
い電流I11が流れる。これはボロメータ104の抵抗値
をR11とすると、I11=V1 /R11=I1 ×R1 /R11
となり、R1 とR11のTCRを同じにしているためであ
る。
[0040] This is from the V 1 = I 1 × R 1 , by reducing the temperature dependence of I 1, V 1 is by having the same temperature coefficient as R 1. And this reference resistance circuit 1
The output voltages V 1 to 02, applied to the bolometer 104 connected to the integration circuit 105 through the filter 103. Then, the current I 11 having small temperature dependence flows through the bolometer 104. If this is the resistance value of the bolometer 104 and R 11, I 11 = V 1 / R 11 = I 1 × R 1 / R 11
Next, it is because it is the same the TCR of R 1 and R 11.

【0041】次に、バイアス回路121は、積分回路1
05を介してキャンセル抵抗106にバイアスを与え
る。温度補償された定電流回路111は、温度依存性が
小さい定電流を基準抵抗回路112に供給する。この基
準抵抗回路112は、キャンセル抵抗106と同じTC
Rの抵抗を持ち、温度補償された定電流を受け、キャン
セル抵抗106のTCRと同じ温度係数の電圧を出力す
る。そして、基準抵抗回路112の出力する電圧を、フ
ィルタ113を介してキャンセル抵抗106に印加す
る。これによって、キャンセル抵抗106には温度依存
性の小さい電流が流れる。
Next, the bias circuit 121 includes the integrating circuit 1
A bias is applied to the cancel resistor 106 via the line 05. The temperature-compensated constant current circuit 111 supplies a constant current having low temperature dependency to the reference resistance circuit 112. This reference resistor circuit 112 has the same TC as the cancel resistor 106.
It has a resistance of R, receives a temperature-compensated constant current, and outputs a voltage having the same temperature coefficient as the TCR of the cancel resistor 106. Then, the voltage output from the reference resistor circuit 112 is applied to the cancel resistor 106 via the filter 113. As a result, a current having a small temperature dependence flows through the cancel resistor 106.

【0042】さらに次に、バイアス回路122は、FP
N補正回路108にバイアスを与える。温度補償された
定電流回路114は、温度依存性が小さい定電流を出力
する。この定電流を基準抵抗回路115に供給する。こ
の基準抵抗回路115は、FPN補正回路108の補正
抵抗と同じTCRの抵抗を持ち、温度補償された定電流
を受けてFPN補正回路108の補正抵抗のTCRと同
じ温度係数の電圧を出力する。そして、基準抵抗回路1
15の出力する電圧を、フィルタ116を介してFPN
補正回路108の補正抵抗に印加する。これによって、
FPN補正回路108は温度依存性の小さい電流を出力
する。
Next, the bias circuit 122 includes the FP
A bias is applied to the N correction circuit 108. The temperature-compensated constant current circuit 114 outputs a constant current having small temperature dependency. This constant current is supplied to the reference resistance circuit 115. The reference resistance circuit 115 has the same TCR resistance as the correction resistance of the FPN correction circuit 108, and receives a temperature-compensated constant current and outputs a voltage having the same temperature coefficient as the TCR of the correction resistance of the FPN correction circuit 108. And the reference resistance circuit 1
15 to the FPN through the filter 116
The voltage is applied to the correction resistor of the correction circuit 108. by this,
The FPN correction circuit 108 outputs a current having a small temperature dependency.

【0043】なお、図1においては、温度補償された定
電流回路101,111および114を、それぞれ別個
のものとして記載しているが、後述するように1個の温
度補償された定電流回路を用い、電流ミラー回路を介し
て3つの定電流を作り出すようにしてもよい。
Although FIG. 1 shows the temperature-compensated constant current circuits 101, 111, and 114 as separate circuits, one temperature-compensated constant current circuit will be described later. Alternatively, three constant currents may be generated through a current mirror circuit.

【0044】次に、図1に示すバイアス回路120,1
21および122、並びに、読み出し回路117の詳細
な構成について説明する。
Next, the bias circuits 120, 1 shown in FIG.
The detailed configurations of the readout circuits 21 and 122 and the readout circuit 117 will be described.

【0045】図2、3、4は、図1で示した本実施の形
態の具体的な回路図を示す。これらの図に示す回路素子
は、素子間の温度マッチングが良好な同一半導体基板上
に形成することが好ましいが、可変抵抗器などの調整部
品や大容量コンデンサ等としてディスクリートな部品を
適宜使用することは可能である。また、温度ドリフトの
要求仕様によっては、ペルチェ素子などを利用して半導
体基板の温度を一定に保つようにしてもよい。
FIGS. 2, 3, and 4 show specific circuit diagrams of the present embodiment shown in FIG. The circuit elements shown in these figures are preferably formed on the same semiconductor substrate with good temperature matching between the elements, but use discrete components as adjustment components such as variable resistors and large-capacity capacitors as appropriate. Is possible. Further, depending on the required specification of the temperature drift, the temperature of the semiconductor substrate may be kept constant by using a Peltier element or the like.

【0046】図2は、図1に係る熱型赤外線撮像装置の
具体的な回路図を示す。同図に示すように、本実施の形
態の熱型赤外線撮像装置は、複数の読み出し回路201
と、ボロメータ用のバイアス回路212と、キャンセル
抵抗用のバイアス回路218と、FPN補正回路用のバ
イアス回路224と、マルチプレクサ231と、水平シ
フトレジスタ232と、垂直シフトレジスタ233とを
備えている。
FIG. 2 is a specific circuit diagram of the thermal infrared imaging device shown in FIG. As shown in the drawing, the thermal infrared imaging apparatus according to the present embodiment includes a plurality of readout circuits 201.
, A bolometer bias circuit 212, a cancel resistor bias circuit 218, an FPN correction circuit bias circuit 224, a multiplexer 231, a horizontal shift register 232, and a vertical shift register 233.

【0047】バイアス回路212は、定電流回路213
と、NPNトランジスタ214および215と、抵抗2
16と、フィルタ217とで構成されている。同様に、
バイアス回路218は、定電流回路219と、PNPト
ランジスタ220および221と、抵抗222と、フィ
ルタ223とで構成されている。同様に、バイアス回路
224は、定電流回路225と、NPNトランジスタ2
26および227と、抵抗228と、フィルタ229と
で構成されている。
The bias circuit 212 includes a constant current circuit 213
, NPN transistors 214 and 215 and resistor 2
16 and a filter 217. Similarly,
The bias circuit 218 includes a constant current circuit 219, PNP transistors 220 and 221, a resistor 222, and a filter 223. Similarly, the bias circuit 224 includes a constant current circuit 225 and an NPN transistor 2
26 and 227, a resistor 228, and a filter 229.

【0048】読み出し回路201は、抵抗207と、P
NPトランジスタ208と、NPNトランジスタ204
と、ボロメータ202と、画素スイッチ203と、FP
N補正回路236と、リセットスイッチ206と、積分
コンデンサ205と、サンプルホールド回路230とで
構成されている。
The read circuit 201 comprises a resistor 207 and a P
NP transistor 208 and NPN transistor 204
, Bolometer 202, pixel switch 203, FP
It comprises an N correction circuit 236, a reset switch 206, an integration capacitor 205, and a sample and hold circuit 230.

【0049】さて、このように構成された読み出し回路
201において、NPNトランジスタ204は、図1
4,15に示した従来例同様に、エミッタに複数(ここ
ではn個(n:任意の自然数))のボロメータ202が
接続され、コレクタに積分コンデンサ205が接続され
ている。すなわち、ボロメータ202の抵抗変化は、電
流変化に変換され、積分コンデンサ205に蓄えられる
ようになっている。
In the read circuit 201 thus configured, the NPN transistor 204 is
As in the conventional examples shown in FIGS. 4 and 15, a plurality of (here, n (n: an arbitrary natural number)) bolometers 202 are connected to the emitter, and an integrating capacitor 205 is connected to the collector. That is, a change in resistance of the bolometer 202 is converted into a change in current and stored in the integration capacitor 205.

【0050】画素スイッチ203は、ボロメータ202
とグラウンドとの間に接続され、NPNトランジスタ2
04に接続されている複数のボロメータ202の一個な
いしはいくつかを選択する。PNPトランジスタ208
は、エミッタにキャンセル抵抗207が接続され、コレ
クタに積分コンデンサ205が接続されることにより、
ボロメータ202を流れる電流からバイアス成分を除去
する。
The pixel switch 203 includes a bolometer 202
NPN transistor 2 connected between
One or several of the plurality of bolometers 202 connected to 04 are selected. PNP transistor 208
Is connected to the cancel resistor 207 to the emitter and the integrating capacitor 205 to the collector,
The bias component is removed from the current flowing through the bolometer 202.

【0051】FPN補正回路236は、ゲート同士が接
続された複数のNPNトランジスタ211と、各NPN
トランジスタ211のエミッタに接続された抵抗209
と、各抵抗209に接続されたNMOSトランジスタ2
10と、全てのNMOSトランジスタ210のベースに
接続されたFPNデータバッファ235および234を
備えている。
The FPN correction circuit 236 includes a plurality of NPN transistors 211 whose gates are connected to each other,
A resistor 209 connected to the emitter of the transistor 211
And the NMOS transistor 2 connected to each resistor 209
10 and FPN data buffers 235 and 234 connected to the bases of all NMOS transistors 210.

【0052】このように、1個のNPNトランジスタ2
11と1個のFPN補正抵抗209と1個のNMOSト
ランジスタ210とは、一組の定電流源を構成してお
り、電流値設定が異なる複数の定電流源を複数組配置す
ることにより、ボロメータ202の抵抗値のばらつきを
低減させることができる。このボロメータ202の抵抗
値のばらつきは、一般に固定パタンノイズと呼ばれ、以
下においてはFPNと呼ぶ。
As described above, one NPN transistor 2
11 and one FPN correction resistor 209 and one NMOS transistor 210 constitute a set of constant current sources, and a bolometer is provided by arranging a plurality of constant current sources having different current value settings. The variation in the resistance value of the resistor 202 can be reduced. This variation in the resistance value of the bolometer 202 is generally called fixed pattern noise, and is hereinafter referred to as FPN.

【0053】さて、これら複数の定電流源の電流値設定
は、デジタル設定が可能である。すなわち、ボロメータ
202の抵抗のばらつきに応じて、複数あるうちの所望
のNMOSトランジスタ210を選択してオン/オフさ
せることによって合成抵抗を可変することができ、積分
コンデンサ205に流れる積分電流の画素間ばらつきを
減らすことができる。その結果、積分電流から大部分の
バイアス成分と画素間ばらつきを取り除くことができ
る。
The current values of the plurality of constant current sources can be set digitally. In other words, the combined resistance can be varied by selecting and turning on / off a desired one of the plurality of NMOS transistors 210 according to the variation in the resistance of the bolometer 202. Variation can be reduced. As a result, most bias components and inter-pixel variations can be removed from the integrated current.

【0054】なお、その際に残った成分には、信号成分
と取り除けなかったバイアスおよび画素間のばらつき成
分とが含まれており、この残りの成分は、一定期間に亘
って積分コンデンサ205に印加されて蓄積される。
The components remaining at that time include the signal component, the bias that could not be removed, and the variation component between pixels, and the remaining component is applied to the integrating capacitor 205 for a certain period of time. Is accumulated.

【0055】さて、サンプルホールド回路230は、一
定期間に亘って電流を蓄積した後の積分コンデンサ20
5の電圧をサンプリングして一時的に保持するためのも
のである。したがって、積分回路は信号の読み出しが終
わる前に次の積分を開始することができ、積分時間を長
くすることができる。積分時間が長いほどノイズの周波
数帯域が狭まり、ノイズを低減することができる。
The sample-and-hold circuit 230 stores the current in the integration capacitor 20 after accumulating the current for a certain period of time.
This is for sampling the voltage of No. 5 and temporarily holding it. Therefore, the integration circuit can start the next integration before the signal reading is completed, and the integration time can be extended. The longer the integration time is, the narrower the frequency band of the noise is, so that the noise can be reduced.

【0056】リセットスイッチ206は、積分コンデン
サ205に接続されており、サンプリング後に積分コン
デンサ205を一定電圧にリセットするために設けられ
ている。リセットは外部からリセットパルスΦRを以下
することによって行われる。
The reset switch 206 is connected to the integration capacitor 205 and is provided for resetting the integration capacitor 205 to a constant voltage after sampling. The reset is performed by externally setting a reset pulse ΦR below.

【0057】ところで、図1で示したように、ボロメー
タ202とNMOSトランジスタ203とで構成される
画素は、図15に示した半導体基板上に1次元または2
次元状に複数配設されている。例えばy方向にこの画素
を複数形成し、1個のNPNトランジスタ204に接続
する。1次元の熱型赤外線撮像装置であれば読み出し回
路201は1個でよいが、2次元の熱型赤外線撮像装置
であれば、この読み出し回路201をx方向に複数形成
し、各読み出し回路201の信号を切り換えるためのマ
ルチプレクサ231をさらに配置する。
By the way, as shown in FIG. 1, the pixel composed of the bolometer 202 and the NMOS transistor 203 is one-dimensional or two-dimensional on the semiconductor substrate shown in FIG.
A plurality of them are arranged in a dimension. For example, a plurality of these pixels are formed in the y direction and connected to one NPN transistor 204. In the case of a one-dimensional thermal infrared imaging device, only one readout circuit 201 may be used. In the case of a two-dimensional thermal infrared imaging device, a plurality of the readout circuits 201 are formed in the x direction. A multiplexer 231 for switching signals is further arranged.

【0058】水平シフトレジスタ232は、このマルチ
プレクサ231を制御し、複数ある読み出し回路201
の一個を選択するものであり、垂直シフトレジスタ23
3は、画素スイッチ203を制御し、NPNトランジス
タ204に接続されているボロメータ202の一個また
はいくつかを選択するものである。
The horizontal shift register 232 controls the multiplexer 231 so that a plurality of read circuits 201
Of the vertical shift register 23
3 controls the pixel switch 203 and selects one or several bolometers 202 connected to the NPN transistor 204.

【0059】また、バイアス回路212において、温度
補償された定電流回路213は、温度依存性が小さい定
電流I1 を出力する。NPNトランジスタ214は、こ
の定電流I1 がコレクタに印加され、エミッタにはボロ
メータ202と同じTCRを有する抵抗216が接続さ
れている。また、NPNトランジスタ214のベースお
よびコレクタには、もう一つのNPNトランジスタ21
5のエミッタおよびベースがそれぞれ接続され、NPN
トランジスタ215のコレクタは電源に接続されてい
る。
[0059] Further, in the bias circuit 212, a constant current circuit 213 which is temperature compensated outputs a constant current I 1 Temperature dependency is small. NPN transistor 214, the constant current I 1 is applied to the collector, the emitter resistor 216 having the same TCR as the bolometer 202 is connected. Another NPN transistor 21 is connected to the base and collector of NPN transistor 214.
5 are connected to each other, and the NPN
The collector of the transistor 215 is connected to a power supply.

【0060】なお、NPNトランジスタ214は、ボロ
メータ202に接続されているNPNトランジスタ20
4と同じ構造および寸法にする必要がある。また、NP
Nトランジスタ214のベースは、フィルタ217を介
して各読み出し回路201のNPNトランジスタ204
のベースに接続されている。
Note that the NPN transistor 214 is connected to the NPN transistor 20 connected to the bolometer 202.
It must have the same structure and dimensions as 4. Also, NP
The base of the N transistor 214 is connected to the NPN transistor 204 of each readout circuit 201 via the filter 217.
Connected to the base.

【0061】したがって、NPNトランジスタ214の
ベースは、温度補償された定電流I 1 を受け、V1 =I
1 ×R1 +VBE11の電圧を出力する。ここで、R1 は抵
抗216の抵抗値であり、VBE11はNPNトランジスタ
214のベース−エミッタ間電圧である。V1 をNPN
トランジスタ204のベースに印加することで、ボロメ
ータ202にはV1 −VBE12の電圧が加わる。また、V
BE12は、NPNトランジスタ204のベース−エミッタ
間電圧である。そして、NPNトランジスタ204およ
び214を、同じ構造および寸法にしているため、V
BE11とVBE12はほぼ等しい。
Therefore, the NPN transistor 214
The base has a temperature-compensated constant current I 1Receiving, V1= I
1× R1+ VBE11Output voltage. Where R1Is
The resistance value of the anti-216BE11Is an NPN transistor
Reference numeral 214 denotes a base-emitter voltage. V1NPN
When applied to the base of the transistor 204,
Data 2021-VBE12Voltage is applied. Also, V
BE12Is the base-emitter of the NPN transistor 204
Is the voltage between them. And the NPN transistor 204 and
And 214 have the same structure and dimensions,
BE11And VBE12Are almost equal.

【0062】以上の結果、ボロメータ202には、I1
×R1 の電圧が加わり、ボロメータ202の抵抗値をR
11としてI11=I1 ×R1 /R11の電流が流れる。I1
の温度依存性を小さくし、R1 とR11のTCRを同じに
しているため、ボロメータ202には温度依存性の小さ
い電流I11が流れることになる。
As a result, the bolometer 202 has I 1
× R 1 is applied, and the resistance of the bolometer 202 is changed to R
As 11 , a current of I 11 = I 1 × R 1 / R 11 flows. I 1
, And the TCR of R 1 and R 11 is the same, so that the current I 11 having small temperature dependency flows through the bolometer 202.

【0063】ところで、図2の構成からNPNトランジ
スタ215を省略し、NPNトランジスタ214のベー
スとコレクタとを接続してもこの回路は動作する。しか
し、NPNトランジスタ215は、NPNトランジスタ
214のベース電流の大部分を電源を経由して供給する
ことにより、温度補償された定電流回路213の電流I
1 の大部分をNPNトランジスタ214のコレクタに流
している。これによって同じベース電圧を与えているN
PNトランジスタ204のコレクタ電流は精度良くI1
となり、NPNトランジスタ204のコレクタ電流の温
度依存性を改善することができる。
Incidentally, this circuit operates even if the NPN transistor 215 is omitted from the configuration of FIG. 2 and the base and collector of the NPN transistor 214 are connected. However, the NPN transistor 215 supplies the majority of the base current of the NPN transistor 214 via the power supply, so that the current I of the temperature-compensated constant current circuit 213 is increased.
Most of 1 flows into the collector of the NPN transistor 214. As a result, N which gives the same base voltage
The collector current of the PN transistor 204 is precisely I 1
Thus, the temperature dependence of the collector current of the NPN transistor 204 can be improved.

【0064】すなわち、NPNトランジスタ215を追
加することにより、NPNトランジスタ214に存在す
る1/fノイズの影響を減らす効果があるといえ、この
点については、発明者によるシミュレーションによって
既に確認されている。また、NPNトランジスタ215
は、NPNトランジスタ214のベースのインピーダン
スを下げる効果もある。
That is, it can be said that the addition of the NPN transistor 215 has the effect of reducing the effect of the 1 / f noise existing in the NPN transistor 214, and this point has already been confirmed by simulation by the inventor. Also, the NPN transistor 215
Has the effect of lowering the impedance of the base of the NPN transistor 214.

【0065】また、抵抗216には、ボロメータ202
と同じ材料および同じ構造のものが使うことができる。
しかし、使用状況がボロメータと異なって常時電流が流
されるため、熱分離されたダイヤフラム上に形成すると
ボロメータ自身の自己発熱が過大となり、最悪の場合焼
損することが考えられる。そのため、仮に犠牲層上に形
成しても、この部分においては犠牲層をエッチングしな
い構成にすることが考えられる。
The bolometer 202 is connected to the resistor 216.
The same material and the same structure can be used.
However, since the current is always applied unlike the bolometer in the use condition, if the bolometer is formed on the thermally separated diaphragm, the bolometer itself will generate excessive heat, and in the worst case, it will burn out. Therefore, even if the sacrifice layer is formed on the sacrifice layer, the sacrifice layer may not be etched in this portion.

【0066】さらに、抵抗216とボロメータ202と
を同じ抵抗値にすると、I1 とI11が等しくなり、V
BE11とVBE12を精度良く等しくさせることができる。た
だし、ボロメータ202には、例えば2次元センサの場
合、x、y方向の面内ばらつきがあるため、R1 とR11
とを等しくするのは難しい。そこで、このような場合に
おいては、可能な限り両者が等しくなるように抵抗21
6を、x方向に並んだ複数のボロメータ202の中央付
近に配置したり、y方向の中央付近に配置したりするこ
とにより好ましい結果を得ることができる。
Further, when the resistance 216 and the bolometer 202 have the same resistance value, I 1 and I 11 become equal, and
The BE11 and V BE12 can be equally well precision. However, the bolometer 202, for example, in the case of the two-dimensional sensor, x, because of the in-plane variation in the y-direction, R 1 and R 11
It is difficult to make Therefore, in such a case, the resistance 21 is set so that the two are equal as much as possible.
By arranging 6 near the center of the plurality of bolometers 202 arranged in the x direction or near the center in the y direction, favorable results can be obtained.

【0067】さらに、R1 とR11を等しくするため、抵
抗216として複数のボロメータ202をつなげたもの
を使用すれば、平均化によってR1 とR11の差を緩和さ
せることができる。例えば、ボロメータ202を3個並
列につないだものを3個直列につなげば、ボロメータ2
02と同じ抵抗値が得られると共に、平均化によってR
1 とR11の差も緩和される。
Further, if a resistor having a plurality of connected bolometers 202 is used as the resistor 216 in order to make R 1 and R 11 equal, the difference between R 1 and R 11 can be reduced by averaging. For example, if three bolometers 202 are connected in parallel and three bolometers 202 are connected in series, the bolometer 2
02, and the same resistance value as that of
The difference between the 1 and R 11 is also relaxed.

【0068】また、このように複数のボロメータ202
をつなげたものを使うことにより、1/fノイズを低減
させる効果も得られる。これは1/fノイズが一般的
に、キャリア総数の平方根に反比例することによるもの
であり、例えば9個のボロメータをつなげた場合、1/
fノイズを1/3に低減させることができる。
Further, as described above, the plurality of bolometers 202
The effect of reducing 1 / f noise can also be obtained by using a combination of. This is because the 1 / f noise is generally inversely proportional to the square root of the total number of carriers. For example, when 9 bolometers are connected, 1 / f noise is 1 / f noise.
f noise can be reduced to 1/3.

【0069】なお、抵抗216とボロメータ202とを
同じ抵抗値にできないとしても、NPNトランジスタ2
04および214の寸法を適切に設定することにより、
上記同様の効果を得ることができる。例えば、抵抗21
6がボロメータ202のa倍の抵抗値とすると、このと
き抵抗216につながるNPNトランジスタ214のエ
ミッタ面積を、ボロメータ202につながるNPNトラ
ンジスタ204のエミッタ面積の1/a倍にすることに
よりVBE11とVBE12を精度良く等しくさせることでき
る。
It should be noted that even if the resistor 216 and the bolometer 202 cannot have the same resistance value, the NPN transistor 2
By properly setting the dimensions of 04 and 214,
The same effect as above can be obtained. For example, the resistor 21
If 6 is the resistance of a multiple of the bolometer 202, the emitter area of the NPN transistor 214 leading to resistor 216 at this time, V BE11 and V by the 1 / a times the emitter area of the NPN transistor 204 connected to the bolometer 202 BE12 can be precisely equalized.

【0070】これは次の理由によるものであり、ベース
電流IB とベース−エミッタ間電圧VBEとの関係は、エ
ミッタ面積をAE 、比例係数をIB0、素電荷をq、ボル
ツマン定数をk、絶対温度をTとして、
[0070] This is due to the following reason, the base current I B and the base - the relationship between the emitter voltage V BE, the emitter areas A E, the proportionality factor I B0, the elementary charge q, Boltzmann's constant k, T is the absolute temperature,

【0071】 IB =AE ・IB0・Exp[qVBE/k/T] ・・・・(1)[0071] I B = A E · I B0 · Exp [qV BE / k / T] ···· (1)

【0072】となる。抵抗をa倍にすることでIB は1
/a倍になるが、このときAE を1/a倍にすることで
同じVBEが得られる。
Is obtained. By increasing the resistance by a times, IB becomes 1
At this time, the same V BE can be obtained by making A E 1 / a times.

【0073】同様に、バイアス回路218において、温
度補償された定電流回路219は、温度依存性が小さい
定電流I2 を出力する。PNPトランジスタ220は、
この定電流出力がコレクタに印加され、エミッタにキャ
ンセル抵抗207と同じTCRの抵抗222が接続され
ている。また、そのベースとコレクタにはもう一個のP
NPトランジスタ221のエミッタとベースがそれぞれ
接続され、PNPトランジスタ221のコレクタはグラ
ウンドに接続されている。
Similarly, in the bias circuit 218, the temperature-compensated constant current circuit 219 outputs a constant current I 2 having a small temperature dependency. The PNP transistor 220
This constant current output is applied to the collector, and the emitter is connected to the resistor 222 having the same TCR as the cancel resistor 207. There is another P on the base and collector.
The emitter and base of the NP transistor 221 are connected to each other, and the collector of the PNP transistor 221 is connected to the ground.

【0074】PNPトランジスタ220は、キャンセル
抵抗207に接続されているPNPトランジスタ208
と同じ構造および寸法にする。PNPトランジスタ22
0のベースは、フィルタ223を介して各読み出し回路
201のPNPトランジスタ208のベースに接続され
ている。
The PNP transistor 220 is connected to the PNP transistor 208 connected to the cancel resistor 207.
The same structure and dimensions as above. PNP transistor 22
The base of 0 is connected to the base of the PNP transistor 208 of each readout circuit 201 via the filter 223.

【0075】PNPトランジスタ220のベースは、温
度補償された定電流I2 を受け、V 2 =I2 ×R2 +V
BE21の電圧を出力する。ここで、R2 は抵抗222の抵
抗値であり、VBE21はPNPトランジスタ220のベー
ス−エミッタ間電圧である。V2 をPNPトランジスタ
208のベースに印加することで、キャンセル抵抗20
7にはV2 −VBE22の電圧が加わる。VBE22は、PNP
トランジスタ208のベース−エミッタ間電圧である。
PNPトランジスタ208および220は同じ構造およ
び寸法にしているため、VBE21とVBE22はほぼ等しい。
The base of the PNP transistor 220 is
Current I compensated forTwoReceiving, V Two= ITwo× RTwo+ V
BE21Output voltage. Where RTwoIs the resistance of the resistor 222.
Resistance value, VBE21Is the base of the PNP transistor 220.
This is the voltage between the emitter and the emitter. VTwoIs a PNP transistor
208, the cancel resistor 20
7 has VTwo-VBE22Voltage is applied. VBE22Is PNP
This is a base-emitter voltage of the transistor 208.
PNP transistors 208 and 220 have the same structure and
And dimensions, VBE21And VBE22Are almost equal.

【0076】したがって、キャンセル抵抗207には、
2 ×R2 の電圧が加わり、キャンセル抵抗207の抵
抗値をR21としてI21=I2 ×R2 /R21の電流が流れ
る。I2 の温度依存性を小さくし、R2 とR21のTCR
を同じにしているため、キャンセル抵抗207には温度
依存性の小さい電流I12が流れる。
Therefore, the cancel resistor 207 has:
A voltage of I 2 × R 2 is applied, and a current of I 21 = I 2 × R 2 / R 21 flows with the resistance value of the cancel resistor 207 as R 21 . Reduce the temperature dependence of I 2 and reduce the TCR of R 2 and R 21
, The current I 12 having small temperature dependence flows through the cancel resistor 207.

【0077】ところで、PNPトランジスタ221に
は、NPNトランジスタ215と同様の効果がある。抵
抗222とキャンセル抵抗207についても、同じ材料
および同じ構造にして、両者の抵抗値を等しくすること
が好ましいが、抵抗222をキャンセル抵抗207の抵
抗値のa倍、PNPトランジスタ220のエミッタ面積
をPNPトランジスタ208のエミッタ面積の1/a倍
にしてもよい。
The PNP transistor 221 has the same effect as the NPN transistor 215. It is preferable that the resistor 222 and the cancel resistor 207 are made of the same material and have the same structure and have the same resistance. However, the resistor 222 is a times the resistance of the cancel resistor 207 and the emitter area of the PNP transistor 220 is PNP. The emitter area may be 1 / a times the transistor 208.

【0078】さらに同様に、バイアス回路224におい
て、温度補償された定電流回路225は、温度依存性が
小さい定電流I3 を出力する。NPNトランジスタ22
6は、この定電流出力にコレクタを接続し、エミッタに
はFPN補正抵抗209の一個と同じTCRの抵抗22
8を接続する。そのベースとコレクタにはもう一個のN
PNトランジスタ227のエミッタとベースをそれぞれ
接続し、NPNトランジスタ227のコレクタは電源に
接続する。
[0078] More Similarly, in the bias circuit 224, a constant current circuit 225 which is temperature compensated outputs a constant current I 3 small temperature dependency. NPN transistor 22
6 has a collector connected to the constant current output, and has a resistor 22 of the same TCR as one FPN correction resistor 209 connected to the emitter.
8 is connected. Another N on its base and collector
The emitter and base of the PN transistor 227 are connected to each other, and the collector of the NPN transistor 227 is connected to the power supply.

【0079】NPNトランジスタ226は、先のFPN
補正抵抗209につながるNPNトランジスタ211と
同じ構造および寸法にする。NPNトランジスタ226
のベースは、フィルタ229を介して各読み出し回路2
01のNPNトランジスタ211のベースに接続してい
る。
The NPN transistor 226 is connected to the previous FPN.
The structure and dimensions are the same as those of the NPN transistor 211 connected to the correction resistor 209. NPN transistor 226
Is based on each readout circuit 2 via a filter 229.
01 is connected to the base of the NPN transistor 211.

【0080】NPNトランジスタ226のベースは、温
度補償された定電流I3 を受けて、V3 =I3 ×R3
BE31の電圧を出力する。ここで、R3 は抵抗228の
抵抗値、VBE31はNPNトランジスタ226のベース−
エミッタ間電圧である。V3をNPNトランジスタ21
1のベースに印加することで、FPN補正抵抗209に
はV3−VBE32の電圧が加わる。VBE32は、NPNトラ
ンジスタ226のベース−エミッタ間電圧である。NP
Nトランジスタ211と226は同じ構造および寸法に
しているため、VBE31とVBE32はほぼ等しい。
The base of NPN transistor 226 receives temperature-compensated constant current I 3, and receives V 3 = I 3 × R 3 +
Outputs the voltage of V BE31 . Here, R 3 is the resistance value of the resistor 228, and V BE31 is the base of the NPN transistor 226 −
This is the voltage between the emitters. The V 3 NPN transistor 21
The voltage of V 3 −V BE32 is applied to the FPN correction resistor 209 by applying the voltage to the base of No. 1. V BE32 is a base-emitter voltage of the NPN transistor 226. NP
Since N transistors 211 and 226 have the same structure and dimensions, V BE31 and V BE32 are substantially equal.

【0081】したがって、FPN補正抵抗209には、
3 ×R3 の電圧が加わり、FPN補正抵抗209の抵
抗値をR31としてI31=I3 ×R3 /R31の電流が流れ
る。I3 の温度依存性を小さくし、R1 とR31のTCR
を同じにしているため、FPN補正抵抗209には温度
依存性の小さい電流I31が流れる。
Therefore, the FPN correction resistor 209 includes:
A voltage of I 3 × R 3 is applied, and a current of I 31 = I 3 × R 3 / R 31 flows with the resistance value of the FPN correction resistor 209 as R 31 . Reduce the temperature dependence of I 3 and reduce the TCR of R 1 and R 31
Are the same, a current I 31 having small temperature dependence flows through the FPN correction resistor 209.

【0082】NPNトランジスタ227は、バイアス回
路212内のNPNトランジスタ215と同様の効果が
ある。抵抗228とFPN補正抵抗209の場合も、抵
抗228をFPN補正抵抗209の抵抗値のa倍、NP
Nトランジスタ226のエミッタ面積をNPNトランジ
スタ211のエミッタ面積の1/a倍にすることで、V
BE31とVBE32を等しくすることができる。
The NPN transistor 227 has the same effect as the NPN transistor 215 in the bias circuit 212. Also in the case of the resistor 228 and the FPN correction resistor 209, the resistance 228 is set to a times the resistance value of the FPN correction resistor 209,
By making the emitter area of N transistor 226 1 / a times the emitter area of NPN transistor 211, V
BE31 and VBE32 can be made equal.

【0083】さて、温度補償された定電流回路219の
具体例としては、次のようなものを用いるとよい。
As a specific example of the temperature-compensated constant current circuit 219, the following may be used.

【0084】図3は、定電流回路の具体的な回路を示す
回路図である。例えば図3(a)のように、温度補償さ
れた定電圧回路301の出力を非反転増幅器302の入
力に接続し、さらに非反転増幅器302の出力をNPN
トランジスタ303のベースに接続し、そのエミッタに
拡散抵抗303aを接続している。非反転増幅器302
aはオペアンプ302aと抵抗302aおよび302c
とで構成されている。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a specific circuit of the constant current circuit. For example, as shown in FIG. 3A, the output of the temperature-compensated constant voltage circuit 301 is connected to the input of the non-inverting amplifier 302, and the output of the non-inverting amplifier 302 is connected to the NPN.
The transistor 303 is connected to the base and the emitter thereof is connected to the diffusion resistor 303a. Non-inverting amplifier 302
a is an operational amplifier 302a and resistors 302a and 302c.
It is composed of

【0085】この温度補償された定電圧回路301とし
ては、図4に示すバンドギャップリファレンス回路を使
用するとよい。
As the temperature-compensated constant voltage circuit 301, a band gap reference circuit shown in FIG. 4 is preferably used.

【0086】図4は、バンドギャップリファレンス回路
を示す回路図である。同図に示すように、バンドギャッ
プリファレンス回路400は、定電流源402と、この
定電流源402にベースの接続されたNPNトランジス
タ401と、このNPNトランジスタ401のエミッタ
に共通接続された抵抗403および405と、抵抗40
3および405のそれぞれに接続されたNPNトランジ
スタ404および406と、NPNトランジスタ406
とグラウンドとの間に接続された抵抗407と、ベース
に抵抗405が接続されかつコレクタに定電流源402
が接続されかつエミッタにグラウンドが接続されたNP
Nトランジスタ408とで構成されている。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a band gap reference circuit. As shown in the figure, the bandgap reference circuit 400 includes a constant current source 402, an NPN transistor 401 whose base is connected to the constant current source 402, a resistor 403 commonly connected to the emitter of the NPN transistor 401, and 405 and the resistor 40
NPN transistors 404 and 406 connected to NPN transistors 3 and 405, respectively, and NPN transistor 406
And a resistor 405 connected to the base and a constant current source 402 connected to the collector.
Connected to the ground and the ground connected to the emitter
And an N transistor 408.

【0087】このバンドギャップリファレンス回路40
0では、NPNトランジスタ404,NPNトランジス
タ406のエミッタ電流IE1,IE2は、
This band gap reference circuit 40
At 0, the emitter currents I E1 and I E2 of the NPN transistors 404 and 406 are:

【0088】 IE2・R1 =(kT/q)ln(A1・IE1 /A2 /IE2 )・・・・(2)I E2 · R 1 = (kT / q) ln (A 1 · I E1 / A 2 / I E2 ) (2)

【0089】の関係がある。ここでA1 、A2 はNPN
トランジスタ404および406のエミッタ面積で決ま
る値、kはボルツマン定数、Tは絶対温度、qは素電荷
である。
There is the following relationship. Where A 1 and A 2 are NPN
A value determined by the emitter area of the transistors 404 and 406, k is Boltzmann's constant, T is absolute temperature, and q is elementary charge.

【0090】また、出力電圧V41は、NPNトランジス
タ408のベース−エミッタ間電圧VBE3と抵抗405
(R3 の両端の電圧との和となり、
The output voltage V 41 is determined by the base-emitter voltage V BE3 of the NPN transistor 408 and the resistance 405
(R 3 ) With the voltage at both ends of

【0091】 V41=VBE3 +(R2 /R1 )・(kT/q)ln(A1 ・IE1 /A2 / IE2 ) ・・・・(3)V 41 = V BE3 + (R 2 / R 1 ) · (kT / q) ln (A 1 · I E1 / A 2 / I E2 ) (3)

【0092】で表される。この式(3)の右辺の第1項
および第2項は互いに逆の温度係数を持っており、回路
定数を選ぶことによってV41の温度係数を非常に小さく
することができる。また、通常このようなバンドギャッ
プリファレンス回路は、1.35[V]程度の出力電圧
で0.01[%/℃]程度の温度係数を容易に得ること
ができる。
Is represented by The equation (3) first and second terms of the right side of has a temperature coefficient opposite to each other, can be made very small temperature coefficient of V 41 by selecting the circuit constants. Usually, such a bandgap reference circuit can easily obtain a temperature coefficient of about 0.01 [% / ° C.] at an output voltage of about 1.35 [V].

【0093】さて、図3(a)の温度補償された定電圧
回路301の出力は、非反転増幅器302の働きによ
り、その後段に接続されているNPNトランジスタ30
3および拡散抵抗303aで必要な電圧に変換される。
非反転増幅器302のゲインGは、R31とR32によって
決まり、G=1+R32/R31となる。したがって、R31
とR32の温度係数を同じにすることで、ゲインGの温度
係数を小さくすることができる。これらR31とR32は同
じ温度になるようにすることが好ましく、同一半導体基
板上に形成したり、集合抵抗,ポテンショメータおよび
可変抵抗器等を利用したりして構成するとよい。
The output of the temperature-compensated constant voltage circuit 301 shown in FIG. 3A is output from the NPN transistor 30 connected to the subsequent stage by the operation of the non-inverting amplifier 302.
3 and the diffusion resistor 303a converts it into a required voltage.
Gain G of the non-inverting amplifier 302 is determined by R 31 and R 32, a G = 1 + R 32 / R 31. Therefore, R 31
By making the temperature coefficients of R and R 32 the same, the temperature coefficient of the gain G can be reduced. Preferably, R 31 and R 32 have the same temperature, and may be formed on the same semiconductor substrate, or may be configured using a collective resistor, a potentiometer, a variable resistor, or the like.

【0094】また、非反転増幅器302の出力する電圧
32は、NPNトランジスタ303および拡散抵抗30
3aによって温度依存性の小さい電流I31に変換され
る。NPNトランジスタ303のベース−エミッタ間電
圧をVBE、拡散抵抗303aの抵抗値をR33として、
The voltage V 32 output from the non-inverting amplifier 302 is applied to the NPN transistor 303 and the diffusion resistor 30.
The current I 31 is converted into a current I 31 having a small temperature dependence by 3a. Assuming that the base-emitter voltage of the NPN transistor 303 is V BE and the resistance value of the diffusion resistor 303a is R 33 ,

【0095】 I31=(V32−VBE)/R33 ・・・・(4)I 31 = (V 32 −V BE ) / R 33 (4)

【0096】となる。一般のシリコンICでは、VBE
温度係数βは−2[mV/℃]程度、R33の温度係数γ
は、P- (P型低濃度)拡散抵抗を使用した場合、0.
2[%/℃]程度であるため、回路定数を適切に選べば
31の温度係数をほぼ零にすることができる。
## EQU10 ## In a general silicon IC, the temperature coefficient β of V BE is about −2 [mV / ° C.], and the temperature coefficient γ of R 33 is
It is, P - when using (P-type low concentration) diffusion resistance, 0.
Since it is about 2 [% / ° C.], the temperature coefficient of I 31 can be made substantially zero by appropriately selecting the circuit constant.

【0097】ここで、I31の温度係数をほぼ零にする条
件は、V32の温度係数をδ[mV/℃]として、
Here, the condition for making the temperature coefficient of I 31 almost zero is that the temperature coefficient of V 32 is δ [mV / ° C.]

【0098】 R33=(δ−β)/γ/I31 ・・・・(5)R 33 = (δ−β) / γ / I 31 (5)

【0099】となる。例えばI31として200[μA]
程度流す場合、δが小さく無視できるものと考えると、
33を5[kΩ]程度にすれば、I31の温度係数をほぼ
零にすることができ、式(4)より、このときのV32
BEを0.7[V]とすると1.7[V]となる。
## EQU10 ## For example, 200 [μA] as I 31
If you think that δ is small and negligible,
If R 33 is set to about 5 [kΩ], the temperature coefficient of I 31 can be made almost zero. From equation (4), V 32 at this time is 1 when V BE is 0.7 [V]. .7 [V].

【0100】したがって、温度補償された定電圧回路3
01として、図4に示したバンドギャップリファレンス
回路400を使用した場合、非反転増幅器302のゲイ
ンは1.7/1.35=1.26倍となる。回路定数に
よってはこのゲインは1となり、非反転増幅器302を
省略することは可能である。また非反転増幅器302を
適宜電圧を変換する他の手段に変更することは可能であ
る。
Therefore, the temperature-compensated constant voltage circuit 3
When the bandgap reference circuit 400 shown in FIG. 4 is used as 01, the gain of the non-inverting amplifier 302 is 1.7 / 1.35 = 1.26. Depending on the circuit constant, this gain is 1, and the non-inverting amplifier 302 can be omitted. Further, the non-inverting amplifier 302 can be appropriately changed to another means for converting a voltage.

【0101】また、式(5)から分かるように、温度補
償された定電圧回路301の温度係数δは小さくなくて
も、回路定数を適切に選べばI31の温度係数を小さくす
ることができる。ただし、量産品等において回路定数を
固定した場合、δのばらつきはI31のばらつきにつなが
るため、δの絶対値は小さい方が好ましい。
As can be seen from equation (5), even if the temperature coefficient δ of the temperature-compensated constant voltage circuit 301 is not small, the temperature coefficient of I 31 can be reduced by appropriately selecting the circuit constant. . However, when the circuit constant is fixed in a mass-produced product or the like, since the variation of δ leads to the variation of I 31 , the smaller the absolute value of δ, the better.

【0102】NPNトランジスタ303のエミッタに拡
散抵抗303aを接続する構成は、NPNトランジスタ
のショットノイズ、ベース抵抗(rbb)のジョンソンノ
イズ、ベースにつながる回路ノイズの影響を減らす効果
がある。
The configuration in which the diffused resistor 303a is connected to the emitter of the NPN transistor 303 has the effect of reducing the effects of shot noise of the NPN transistor, Johnson noise of the base resistor (r bb ), and circuit noise connected to the base.

【0103】図5は、拡散抵抗303aを変化させたと
きに、コレクタに流れる電流性ノイズを示したグラフで
ある。同図において、Rは拡散抵抗303aのジョンソ
ンノイズ、IC はコレクタ電流のショットノイズ、IB
はベース電流のショットノイズ、rbbはベース抵抗のジ
ョンソンノイズ、トータルはこれらのノイズの合計を表
わす。そして、ここではコレクタ電流が100[μ
A]、ベース抵抗100[Ω]の場合を示しており、こ
れは通常、ボロメータに流す電流が100[μA]程度
であることによるものである。
FIG. 5 is a graph showing the current noise flowing through the collector when the diffusion resistance 303a is changed. In the figure, R is Johnson noise of the diffusion resistor 303a, I C is shot noise of the collector current, and I B
Represents shot noise of the base current, r bb represents Johnson noise of the base resistor, and the total represents the sum of these noises. Here, the collector current is 100 [μ
A] and a base resistance of 100 [Ω], which is usually due to the fact that the current flowing through the bolometer is about 100 [μA].

【0104】さて、同図から明らかなように、トータル
ノイズはエミッタ抵抗を大きくすることで小さくなり、
ある下限のノイズ電流に落ち着く。エミッタ抵抗値を1
00[Ω]以上にすることでトータルノイズは減り始め
るが、3[KΩ]程度以上にすることで、下限のノイズ
電流の2倍程度に抑えられる。コレクタ電流を100
[μA]とした場合、エミッタ抵抗を50[KΩ]以下
にすることでエミッタ抵抗両端の電圧は5[V]以下と
なり、通常のBiCMOS回路で扱うことができる。
As is clear from the figure, the total noise is reduced by increasing the emitter resistance.
Settles at a certain lower limit of noise current. Emitter resistance is 1
The total noise starts to be reduced by setting it to 00 [Ω] or more. However, by setting it to about 3 [KΩ] or more, the noise current can be suppressed to about twice the lower limit of the noise current. Collector current of 100
In the case of [μA], by setting the emitter resistance to 50 [KΩ] or less, the voltage across the emitter resistance becomes 5 [V] or less, and can be handled by a normal BiCMOS circuit.

【0105】また、エミッタ抵抗の値を30[KΩ]以
下にすることで、エミッタ抵抗両端の電圧は3[V]以
下となり、回路のダイナミックレンジに余裕ができる。
したがってエミッタ抵抗の値を、100[Ω]〜50
[KΩ]、好ましくは3[KΩ]〜30[KΩ]として
いる。
By setting the value of the emitter resistance to 30 [KΩ] or less, the voltage between both ends of the emitter resistance becomes 3 [V] or less, and the dynamic range of the circuit has a margin.
Therefore, the value of the emitter resistance is set to 100 [Ω] to 50
[KΩ], preferably 3 [KΩ] to 30 [KΩ].

【0106】このように、エミッタに抵抗を接続する構
成を用いることにより、このようなノイズ低減の効果が
期待できる。そして、上記抵抗の範囲は、コレクタに流
れる電流によって若干変わるものであり、コレクタ電流
が増えるほど、好ましい抵抗値が小さくなる傾向にあ
る。
By using the configuration in which the resistor is connected to the emitter, such an effect of noise reduction can be expected. The range of the resistance slightly changes depending on the current flowing through the collector. As the collector current increases, the preferable resistance value tends to decrease.

【0107】また、積分回路につながるバイアス回路と
しては、積分回路が微弱な信号を扱うことから、特に低
ノイズが要求される。そこで、ローパスフィルタを用い
ることによりノイズの高周波成分を除去することも考え
られるが、ローパスフィルタを用いただけでは、高周波
成分を除去することはできるものの、低周波ノイズ、特
に1/fノイズを除去するのは困難である。したがっ
て、上記のようなエミッタに抵抗を接続する構成は、各
回路素子に存在する1/fノイズも含めたノイズを低減
させることができるため、低ノイズが要求される用途に
好ましいといえる。
Further, as the bias circuit connected to the integration circuit, particularly low noise is required since the integration circuit handles a weak signal. Therefore, it is conceivable to remove high-frequency components of noise by using a low-pass filter. However, using only a low-pass filter can remove high-frequency components, but removes low-frequency noise, particularly 1 / f noise. It is difficult. Therefore, the configuration in which a resistor is connected to the emitter as described above can reduce noise including 1 / f noise present in each circuit element, and is therefore preferable for applications requiring low noise.

【0108】次に、温度補償された定電流回路219の
電流値を適宜変化させたい場合、図3(b)のような構
成が好ましいといえる。同図に示すように、定電流回路
324は、定電圧回路304と、非反転増幅器305
と、n個のNPNトランジスタ306と、各NPNトラ
ンジスタ306に接続された複数の抵抗307およびN
MOSトランジスタ308と、各NMOSトランジスタ
308に接続されたシフトレジスタ309とを備えてい
る。
Next, when it is desired to appropriately change the current value of the temperature-compensated constant current circuit 219, a configuration as shown in FIG. 3B can be said to be preferable. As shown in the figure, the constant current circuit 324 includes a constant voltage circuit 304 and a non-inverting amplifier 305.
, N NPN transistors 306, and a plurality of resistors 307 and N connected to each NPN transistor 306.
It includes a MOS transistor 308 and a shift register 309 connected to each NMOS transistor 308.

【0109】温度補償された定電圧回路304の出力を
非反転増幅器305の入力に接続し、その非反転増幅器
305の出力を複数のNPNトランジスタ306のベー
スに接続する。各NPNトランジスタ306のエミッタ
には抵抗307が接続され、それぞれの抵抗値をR,2
R,4R,・・・,2n-1・Rと変化させて設定する。
The output of the temperature-compensated constant voltage circuit 304 is connected to the input of a non-inverting amplifier 305, and the output of the non-inverting amplifier 305 is connected to the bases of a plurality of NPN transistors 306. A resistor 307 is connected to the emitter of each NPN transistor 306, and the respective resistance values are set to R, 2
R, 4R,..., 2 n -1 · R.

【0110】各NPNトランジスタ306のエミッタ面
積は、抵抗307の抵抗値に反比例して、AE ,AE
2,AE /4,・・・,AE /2n-1 となるように設定
する。各抵抗307とグラウンドの間には、NMOSト
ランジスタ308を接続し、そのゲート幅は抵抗307
の抵抗値に反比例して、W,W/2,W/4,・・・,
W/2n-1 となるように設定する。シフトレジスタ30
9は、各NMOSトランジスタ308のゲートに接続し
て、トランジスタのオン/オフを制御する。
The emitter area of each NPN transistor 306 is inversely proportional to the resistance value of the resistor 307, and A E , A E /
2, A E / 4,..., A E / 2 n -1 . An NMOS transistor 308 is connected between each resistor 307 and the ground, and its gate width is
, W / 4, W / 4,...,
W / 2 n-1 is set. Shift register 30
Reference numeral 9 is connected to the gate of each NMOS transistor 308 to control on / off of the transistor.

【0111】その際、各NPNトランジスタ306のコ
レクタに流れる電流は、ベース電圧が一定であるため、
抵抗307の抵抗値に反比例してバイナリーで変化され
ることになる。
At this time, the current flowing through the collector of each NPN transistor 306 is constant because the base voltage is constant.
It is changed in binary in inverse proportion to the resistance value of the resistor 307.

【0112】ここで、エミッタ面積をバイナリーで変化
させるのは次の理由による。抵抗307の抵抗値をバイ
ナリーで変化させると、それにほぼ反比例して各NPN
トランジスタのベース電流も変化する。このとき式
(1)より、各NPNトランジスタのエミッタ面積AE
も抵抗値に反比例して変化させれば、各トランジスタ間
でVBEは同一になる。これによって各抵抗307にかか
る電圧が正確に同一になり、誤差を減少させることがで
きる。
The reason for changing the emitter area in a binary manner is as follows. When the resistance value of the resistor 307 is changed in binary, each NPN is almost in inversely proportional thereto.
The base current of the transistor also changes. At this time, from equation (1), the emitter area A E of each NPN transistor is obtained.
If V is also changed in inverse proportion to the resistance value, V BE becomes the same between the transistors. As a result, the voltages applied to the respective resistors 307 become exactly the same, and errors can be reduced.

【0113】一方、NMOSトランジスタ308のゲー
ト幅も、抵抗307の抵抗値に反比例して変化させてい
るのは次の理由による。ドレイン電流ID とドレイン−
ソース間電圧VDSの関係は、ゲート−ソース間電圧をV
GS、ゲートしきい値電圧をVT 、比例係数をID0、ゲー
ト幅をWとして、
On the other hand, the reason why the gate width of the NMOS transistor 308 is also changed in inverse proportion to the resistance value of the resistor 307 is as follows. Drain current ID and drain
The relation between the source-to-source voltage V DS is as follows.
GS , the gate threshold voltage is V T , the proportional coefficient is I D0 , and the gate width is W,

【0114】 ID =W・ID0[(VGS−VT )・VDS−VDS 2 /2]・・・・(6)[0114] I D = W · I D0 [ (V GS -V T) · V DS -V DS 2/2] ···· (6)

【0115】となる。抵抗307の抵抗値をバイナリー
で変化させると、それにほぼ反比例して各NMOSトラ
ンジスタのドレイン電流も変化する。このとき各NMO
Sトランジスタ308のゲート幅も抵抗307の抵抗値
に反比例して変化させれば、各トランジスタ間でドレイ
ン−ソース間電圧は同一になる。
Is obtained. When the resistance value of the resistor 307 is changed in a binary manner, the drain current of each NMOS transistor also changes almost in inverse proportion thereto. At this time, each NMO
If the gate width of the S transistor 308 is also changed in inverse proportion to the resistance value of the resistor 307, the drain-source voltage between the transistors becomes the same.

【0116】これによって各抵抗307にかかる電圧が
正確に同一になり、誤差を減少させることができる。た
だし、ドレイン−ソース間電圧が、抵抗307の両端の
電圧に比べて無視できるほど小さい場合、このように変
化させなくても問題はない。
As a result, the voltages applied to the respective resistors 307 become exactly the same, and errors can be reduced. However, when the voltage between the drain and the source is negligibly smaller than the voltage across the resistor 307, there is no problem even if such a change is not made.

【0117】また、この回路では定電流回路219に必
要な電流に応じて、シフトレジスタ309にデータを送
り、NMOSトランジスタ308のオン/オフを制御す
ることで、バイナリーで変化する温度補償された定電流
を得ることができる。すなわち、温度補償された定電流
の値をデジタル設定することができるわけである。
In this circuit, data is sent to the shift register 309 in accordance with the current required for the constant current circuit 219, and the ON / OFF of the NMOS transistor 308 is controlled, whereby the temperature is changed in a binary manner and the temperature is compensated. An electric current can be obtained. That is, the value of the temperature-compensated constant current can be digitally set.

【0118】その際、得られる定電流の分解能は、ほぼ
LSBの定電流値となり、得られる定電流の最大電流
は、MSBの定電流値の約2倍となる。例えばMSBの
定電流値が200[μA]で8段の定電流回路を構成し
たとき、LSBは1.56[μA]となり、分解能は約
1.56[μA]、最大電流は約400[μA]とな
る。この分解能は理想的な場合を示し、実際には各ビッ
トの定電流値の誤差などの影響を受ける。
At this time, the resolution of the obtained constant current is substantially the LSB constant current value, and the maximum current of the obtained constant current is about twice the constant current value of the MSB. For example, when the constant current value of the MSB is 200 [μA] and an eight-stage constant current circuit is configured, the LSB is 1.56 [μA], the resolution is about 1.56 [μA], and the maximum current is about 400 [μA]. ]. This resolution indicates an ideal case, and is actually affected by errors in the constant current value of each bit.

【0119】以上説明した図3(a),(b)は、定電
流回路に流れ込む電流(シンク電流)を得るものであ
る。それに対して、以下で説明する図3(c)は、定電
流回路から流れ出す電流(ソース電流)も得られる回路
である。
FIGS. 3A and 3B described above are for obtaining a current (sink current) flowing into the constant current circuit. On the other hand, FIG. 3C described below is a circuit in which a current (source current) flowing out of the constant current circuit is also obtained.

【0120】図3(c)において、定電流回路325
は、抵抗313と、エミッタにこの抵抗313の接続さ
れたPNPトランジスタ311と、このPNPトランジ
スタ311のベースにエミッタが接続されかつPNPト
ランジスタ311のコレクタにベースが接続されたPN
Pトランジスタ312と、PNPトランジスタ311の
コレクタとグラウンドとの間に接続された定電流回路3
10と、抵抗317と、この抵抗317にエミッタの接
続されたPNPトランジスタ316と、PNPトランジ
スタ316のコレクタにベースの接続されたPNPトラ
ンジスタ319と、PNPトランジスタ319のエミッ
タにベースの接続されたPNPトランジスタ318と、
PNPトランジスタ318のエミッタとグラウンドとの
間に接続された抵抗320と、抵抗315と、この抵抗
315にエミッタが接続されかつPNPトランジスタ3
16のベースにベースの接続されたPNPトランジスタ
314と、PNPトランジスタ318のベースにベース
の接続されたPNPトランジスタ321と、PNPトラ
ンジスタ321のエミッタとグラウンドとの間に接続さ
れた抵抗322とを備えている。
In FIG. 3C, the constant current circuit 325
Is a PNP transistor 311 having an emitter connected to the resistor 313, a PNP transistor having an emitter connected to the base of the PNP transistor 311 and a base connected to the collector of the PNP transistor 311.
P transistor 312 and constant current circuit 3 connected between the collector of PNP transistor 311 and ground
10, a resistor 317, a PNP transistor 316 having an emitter connected to the resistor 317, a PNP transistor 319 having a base connected to the collector of the PNP transistor 316, and a PNP transistor having a base connected to the emitter of the PNP transistor 319. 318,
A resistor 320 connected between the emitter of the PNP transistor 318 and ground, a resistor 315, and an emitter connected to the resistor 315 and the PNP transistor 3
The PNP transistor 314 includes a PNP transistor 314 whose base is connected to the base, a PNP transistor 321 whose base is connected to the base of the PNP transistor 318, and a resistor 322 connected between the emitter of the PNP transistor 321 and the ground. I have.

【0121】さて、本実施の形態においては、温度補償
された定電流回路310として、図3(a),(b)に
示した温度補償された定電流回路を使用することができ
る。NPNトランジスタ311は、上述のようにこの定
電流出力にコレクタが接続され、エミッタには抵抗31
3が接続されている。そのベースとコレクタにはもう一
個のNPNトランジスタ312のエミッタとベースがそ
れぞれ接続され、NPNトランジスタ312のコレクタ
はグラウンドに接続されている。NPNトランジスタ3
11のベースには、これと同じ構造、寸法のNPNトラ
ンジスタ314のベースが接続されている。そして、こ
のNPNトランジスタ314のエミッタには抵抗313
と同じ構造および寸法の抵抗315が接続されている。
これによってNPNトランジスタ314のコレクタか
ら、温度補償された定電流回路310と同じ電流値のソ
ース電流を得ることができる。
In this embodiment, the temperature-compensated constant current circuit shown in FIGS. 3A and 3B can be used as the temperature-compensated constant current circuit 310. The NPN transistor 311 has the collector connected to the constant current output as described above, and has the resistor 31 connected to the emitter.
3 are connected. The emitter and base of another NPN transistor 312 are connected to its base and collector, respectively, and the collector of NPN transistor 312 is connected to ground. NPN transistor 3
The base of the NPN transistor 314 having the same structure and dimensions is connected to the base of the eleventh transistor 11. The resistor 313 is connected to the emitter of the NPN transistor 314.
A resistor 315 having the same structure and dimensions as that of FIG.
Thus, a source current having the same current value as that of the temperature-compensated constant current circuit 310 can be obtained from the collector of the NPN transistor 314.

【0122】この場合も抵抗313を抵抗315の抵抗
値のa倍、NPNトランジスタ311のエミッタ面積を
NPNトランジスタ314のエミッタ面積の1/a倍に
することもできる。このソース電流は、図2の温度補償
された定電流回路213や温度補償された定電流回路2
25に使用することができる。さらに、PNPトランジ
スタ316,NPNトランジスタ318,319および
321、抵抗317,320および322で構成される
回路を追加することで、同じ電流値のシンク電流も得る
こともできる。
Also in this case, the resistance of the resistor 313 can be a times the resistance of the resistor 315, and the emitter area of the NPN transistor 311 can be 1 / a times the emitter area of the NPN transistor 314. This source current is supplied to the temperature-compensated constant current circuit 213 and the temperature-compensated constant current circuit 2 shown in FIG.
25 can be used. Further, by adding a circuit composed of PNP transistor 316, NPN transistors 318, 319 and 321 and resistors 317, 320 and 322, a sink current having the same current value can be obtained.

【0123】この回路を利用して、一個の温度補償され
た定電流回路からいくつかのソース電流およびシンク電
流を作り出し、上述の定電流回路213,222および
225等の複数の定電流回路をこれで置き換えることが
可能である。
Using this circuit, several source currents and sink currents are generated from one temperature-compensated constant current circuit, and a plurality of constant current circuits such as the above-mentioned constant current circuits 213, 222 and 225 are formed. Can be replaced by

【0124】また、定電流回路213,222および2
25の望ましい実施の形態としては、ボロメータを流れ
る電流を決める定電流回路213として6ビット程度の
温度補償された定電流回路を構成するとよい。ボロメー
タ電流は10kΩ程度のボロメータ抵抗を仮定した場合
100〜400[μA]程度あり、6ビット程度あれば
その1/64程度の分解能でボロメータ電流を設定する
ことができる。
The constant current circuits 213, 222 and 2
In a preferred embodiment of the present invention, a constant current circuit having a temperature compensation of about 6 bits may be formed as the constant current circuit 213 for determining the current flowing through the bolometer. The bolometer current is about 100 to 400 [μA] assuming a bolometer resistance of about 10 kΩ, and if about 6 bits, the bolometer current can be set at about 1/64 of the resolution.

【0125】また、キャンセル電流はボロメータ電流と
同じ程度の電流にするが、ここで問題なのがボロメータ
の自己発熱と抵抗ばらつきである。高いTCRを持つボ
ロメータは負の温度係数を持つことが多いが、自己発熱
を起こすとボロメータ抵抗が下がり、ボロメータ電流が
10〜20[%]程度増大する。
The cancel current is set to the same level as the bolometer current, but the problems here are the self-heating of the bolometer and the variation in resistance. A bolometer having a high TCR often has a negative temperature coefficient, but when self-heating occurs, the bolometer resistance decreases and the bolometer current increases by about 10 to 20%.

【0126】さらに、ボロメータ抵抗は、通常、10
[%p−p]程度、大きい場合では30[%p−p]程
度ばらつく。したがって、これらを考慮してキャンセル
電流を設定する必要があり、例えばボロメータ電流の1
〜1.5倍程度に設定するとよい。すなわち、このよう
にキャンセル電流をボロメータ電流の1〜1.5程度に
しておけば、ボロメータ電流を変化させたときにキャン
セル電流も一緒に変わるため、都合がよいといえる。
Further, the bolometer resistance is usually 10
It varies by about [% pp], and when it is large, it varies by about 30 [% pp]. Therefore, it is necessary to set the cancel current in consideration of these factors.
It may be set to about 1.5 times. That is, if the cancel current is set to about 1 to 1.5 of the bolometer current, it can be said that it is convenient because the cancel current changes together with the change in the bolometer current.

【0127】また、積分回路のゲインを上げる場合、キ
ャンセル電流の設定の分解能を小さくする必要がある。
積分回路の積分電流に対するゲインは積分時間をTs
積分コンデンサの容量をCとすると、Ts /Cとなる。
When increasing the gain of the integration circuit, it is necessary to reduce the resolution for setting the cancel current.
The gain of the integration circuit with respect to the integration current is obtained by setting the integration time to T s ,
Assuming that the capacitance of the integrating capacitor is C, T s / C.

【0128】例えばTs として30[μs]程度、Cと
して100[pF]程度を設定することが、本発明の一
つの実施例として好ましいが、ゲインは300,000
程度になる。これは1[μA]程度の分解能でも積分出
力は0.3[V]になることになる。キャンセル電流の
設定の分解能が積分回路のダイナミックレンジを占有し
ないよう、キャンセル電流の設定のビット数は8ビット
以上あることが好ましい(このときキャンセル電流はボ
ロメータ電流の100〜150[%]まで変化し、分解
能は1[μA]である)。
[0128] for example, about 30 [.mu.s] as T s, to set the degree 100 [pF] as C, and preferably as an embodiment of the present invention, the gain is 300,000
About. This means that the integrated output becomes 0.3 [V] even at a resolution of about 1 [μA]. The number of bits for setting the cancel current is preferably 8 bits or more so that the resolution for setting the cancel current does not occupy the dynamic range of the integrator circuit (in this case, the cancel current varies from 100 to 150% of the bolometer current. , And the resolution is 1 μA).

【0129】上記積分ゲインを考慮すると、図2のFP
N補正回路236は6ビット程度あれば抵抗ばらつきを
1/64程度にできて好ましい。定電流回路225はF
PN補正回路の最大電流を決定する。この定電流回路2
25においても、ボロメータ電流を基本として回路を構
成することにより、ボロメータ電流を変えたときに追従
して変わるため都合がよい。例えばボロメータの抵抗ば
らつきが30[%p−p]の場合、FPN補正回路23
6の最大電流がボロメータ電流の30[%p−p]にな
るように設定する。
Considering the integral gain, the FP shown in FIG.
It is preferable that the N correction circuit 236 has about 6 bits so that the resistance variation can be reduced to about 1/64. The constant current circuit 225 is F
Determine the maximum current of the PN correction circuit. This constant current circuit 2
Also in the case of 25, the circuit is configured based on the bolometer current, so that it changes following the bolometer current, which is convenient. For example, if the resistance variation of the bolometer is 30 [% pp], the FPN correction circuit 23
6 is set so that the maximum current is 30 [% pp] of the bolometer current.

【0130】ボロメータの抵抗ばらつきはサンプルによ
って変化するため、定電流回路225も任意に設定でき
るように4ビット程度のバイナリー定電流源を構成する
ことが好ましい。
Since the resistance variation of the bolometer changes depending on the sample, it is preferable to configure a binary constant current source of about 4 bits so that the constant current circuit 225 can be set arbitrarily.

【0131】図6は、図2のフィルタ217,223お
よび229の具体的な回路の一例を示したものである。
同図に示すように、この例では抵抗601とコンデンサ
602を利用したローパスフィルタを構成している。こ
のローパスフィルタの遮断周波数は、抵抗601の抵抗
値をR、コンデンサ602の容量をCとして、1/(2
πCR)で表される。オペアンプ603はフィルタの出
力インピーダンスを下げるためのバッファであり、ボル
テージフォロワを構成している。
FIG. 6 shows an example of a specific circuit of the filters 217, 223 and 229 of FIG.
As shown in the figure, in this example, a low-pass filter using a resistor 601 and a capacitor 602 is configured. The cut-off frequency of this low-pass filter is 1 / (2, where R is the resistance of the resistor 601 and C is the capacitance of the capacitor 602.
πCR). The operational amplifier 603 is a buffer for lowering the output impedance of the filter, and forms a voltage follower.

【0132】次に、従来の積分回路およびバイアス回路
と、本発明の積分回路およびバイアス回路とを図を参照
して比較してみる。図7(a)は、従来の積分回路およ
びバイアス回路の回路図と、各画素におけるコレクタ電
流を示すグラフとを示している。同様に、図7(b)
は、本発明の積分回路およびバイアス回路の回路図と、
各画素におけるコレクタ電流を示すグラフとを示してい
る。
Next, the conventional integrating circuit and bias circuit will be compared with the integrating circuit and bias circuit of the present invention with reference to the drawings. FIG. 7A shows a circuit diagram of a conventional integration circuit and a bias circuit, and a graph showing a collector current in each pixel. Similarly, FIG.
Is a circuit diagram of the integration circuit and the bias circuit of the present invention,
3 shows a graph indicating a collector current in each pixel.

【0133】まず、図7(a)に示すように、従来の積
分回路およびバイアス回路は、一定電圧V0 を出力する
電源701と、この電源701にベースの接続された積
分トランジスタ702と、積分トランジスタ702のエ
ミッタに接続された複数のボロメータ704と、各ボロ
メータ704に接続された画素スイッチ703と、積分
トランジスタ702のコレクタに接続された積分コンデ
ンサ705とを備えている。このように図7(a)に示
す従来例では、積分トランジスタ702のベースには一
定バイアスが印加されており、コレクタ電流(すなわ
ち、積分電流)は、
First, as shown in FIG. 7A, a conventional integration circuit and bias circuit are composed of a power supply 701 for outputting a constant voltage V 0 , an integration transistor 702 having a base connected to the power supply 701, It includes a plurality of bolometers 704 connected to the emitter of the transistor 702, a pixel switch 703 connected to each bolometer 704, and an integrating capacitor 705 connected to the collector of the integrating transistor 702. As described above, in the conventional example shown in FIG. 7A, a constant bias is applied to the base of the integration transistor 702, and the collector current (that is, the integration current) is

【0134】 IC =V0 /R/(1+αΔT) ・・・・(7)I C = V 0 / R / (1 + αΔT) (7)

【0135】となる。ここでRはボロメータ703のあ
る温度(例えば25[℃])での抵抗値、αはTCR、
ΔTはシリコン基板の温度上昇である。この式から分か
るように、ΔTが変化するとボロメータ抵抗値が小さい
画素、すなわちバイアス電流が大きい画素ではIC の変
化量が大きくなる。
Is as follows. Here, R is a resistance value of the bolometer 703 at a certain temperature (for example, 25 [° C.]), α is a TCR,
ΔT is the temperature rise of the silicon substrate. As can be seen from this equation, when ΔT changes, the amount of change in I C increases in a pixel having a small bolometer resistance value, that is, a pixel having a large bias current.

【0136】逆に、ボロメータ抵抗値が大きい画素では
C の変化量は小さい。すなわち、このコレクタ電流I
C の変化量のばらつきが、デバイス温度が変化したとき
の固定パターンノイズ(FPN)そのものになるのであ
る。
Conversely, the amount of change in I C is small in a pixel having a large bolometer resistance value. That is, the collector current I
The variation in the amount of change of C becomes the fixed pattern noise (FPN) itself when the device temperature changes.

【0137】これに対して図7(b)に示す本発明は、
定電流回路706と、この定電流回路706にベースの
接続されたNPNトランジスタ707と、定電流回路7
06にコレクタが接続されかつNPNトランジスタ70
7のエミッタにベースの接続されたNPNトランジスタ
708と、NPNトランジスタ708のエミッタとグラ
ウンドとの間に接続された基準抵抗709と、NPNト
ランジスタ708のベースにベースの接続されたNPN
トランジスタ712と、NPNトランジスタ712のエ
ミッタに接続された複数のボロメータ710と、各ボロ
メータ710に接続された複数の画素スイッチ711
と、NPNトランジスタ712のコレクタとグラウンド
との間に接続された積分コンデンサ713とを備えてい
る。
On the other hand, the present invention shown in FIG.
A constant current circuit 706, an NPN transistor 707 whose base is connected to the constant current circuit 706, and a constant current circuit 7
06 and the NPN transistor 70
7, an NPN transistor 708 having a base connected to the emitter, a reference resistor 709 connected between the emitter of the NPN transistor 708 and ground, and an NPN having a base connected to the base of the NPN transistor 708.
A transistor 712, a plurality of bolometers 710 connected to the emitter of the NPN transistor 712, and a plurality of pixel switches 711 connected to each bolometer 710
And an integrating capacitor 713 connected between the collector of the NPN transistor 712 and ground.

【0138】このように図7(b)に示す本発明では、
基準抵抗709の電圧を各ボロメータ710に加えてい
る。基準抵抗709のTCRはボロメータ710のTC
Rと同じにしてあるため、コレクタ電流IC はΔTにほ
とんど依存しない電流となり、固定パターンノイズ(F
PN)の発生を抑えることができる。
As described above, in the present invention shown in FIG.
The voltage of the reference resistor 709 is applied to each bolometer 710. The TCR of the reference resistor 709 is the TC of the bolometer 710.
R, the collector current I C is a current that hardly depends on ΔT, and the fixed pattern noise (F
PN) can be suppressed.

【0139】例えば320×240画素、画素ピッチ5
0[μm]程度の2次元の熱型赤外線撮像装置では、面
内のボロメータ抵抗のばらつきは10[%p−p]程度
あり、これによってバイアス電流も10[%p−p]程
度ばらつく。そのため、図7(a)に示す従来例では、
デバイス温度のx℃の変化で、バイアス電流はx[℃]
×2[%/℃]×I0 変化するが、バイアス電流のばら
つきによって、変化量はx[℃]×2[%/℃]×10
[%p−p]×I0 程度ばらつく。すなわち、固定パタ
ンノイズが生じることになる。
For example, 320 × 240 pixels, pixel pitch 5
In a two-dimensional thermal infrared imaging device of about 0 [μm], the in-plane bolometer resistance varies about 10 [% pp], and the bias current also varies about 10 [% pp]. Therefore, in the conventional example shown in FIG.
When the device temperature changes by x ° C, the bias current becomes x [° C]
× 2 [% / ° C.] × I 0, but the variation is x [° C.] × 2 [% / ° C.] × 10
[% Pp] × I 0 That is, fixed pattern noise is generated.

【0140】一方、赤外線撮像装置の温度分解能に相当
する雑音等価温度差(NETD)として0.1[℃]を
得ようとする場合を考えると、0.1[℃]の被写体の
温度変化は、ダイヤフラムの温度を0.1[m℃]程度
変化させ、ボロメータのTCRを2[%/℃]とする
と、バイアス電流I0 を2E−6×I0 程度変化させ
る。これは最小分解能温度差を見たときのバイアス変調
度に相当し、上述の固定パタンノイズをこれ以下にする
必要がある。つまり、デバイス温度変化xを1[m℃]
以内に抑える必要を意味する。ところが、通常使用され
るペルチェ素子等の温度安定化装置は、10[m℃]程
度の精度しかないため、上記条件を実現することは困難
である。
On the other hand, considering a case where an attempt is made to obtain 0.1 [° C.] as a noise equivalent temperature difference (NETD) corresponding to the temperature resolution of the infrared imaging apparatus, the temperature change of the subject of 0.1 [° C.] When the temperature of the diaphragm is changed by about 0.1 [m ° C.] and the TCR of the bolometer is set to 2 [% / ° C.], the bias current I 0 is changed by about 2E−6 × I 0 . This corresponds to the degree of bias modulation when the minimum resolution temperature difference is observed, and the above-mentioned fixed pattern noise needs to be less than this. That is, the device temperature change x is 1 [m ° C.]
Means that it must be kept within. However, a temperature stabilizing device such as a Peltier element which is usually used has only an accuracy of about 10 [m ° C.], and thus it is difficult to realize the above conditions.

【0141】これに対して本実施の形態は、デバイスの
温度変化によってバイアス電流はほとんど変化しないた
め、この様な問題が発生しない。ただし、ボロメータの
TCRのばらつきが存在すると、本発明でも固定パタン
ノイズを生じることになる。通常、TCRのばらつきは
0.1[%]程度であるため、このような場合は100
[m℃]程度以下の精度の温度コントロールを行った方
が好ましい。
On the other hand, in the present embodiment, such a problem does not occur because the bias current hardly changes due to a change in device temperature. However, if there is a variation in the TCR of the bolometer, a fixed pattern noise is also generated in the present invention. Normally, the variation of the TCR is about 0.1 [%].
It is preferable to perform temperature control with an accuracy of about [m ° C.] or less.

【0142】図8は、図2の回路の動作を説明するタイ
ミング図である。同図に示すように、φVは例えば30
[Hz]程度の垂直同期信号であり、垂直シフトレジス
タ233のデータ端子に入力される。φHは例えば7
[KHz]程度の水平同期信号であり、垂直シフトレジ
スタ233のクロック端子に入力される。これによって
垂直シフトレジスタ233からは、垂直選択信号V1
2 ,・・・が出力され、ある行を選択している間、各
列の読み出し回路201において積分等の読み出し動作
が行われる。
FIG. 8 is a timing chart for explaining the operation of the circuit of FIG. As shown in FIG.
A vertical synchronizing signal of about [Hz] is input to a data terminal of the vertical shift register 233. φH is for example 7
A horizontal synchronizing signal of about [KHz] is input to the clock terminal of the vertical shift register 233. As a result, the vertical shift register 233 outputs the vertical selection signals V 1 ,
V 2, · · · are output, while selecting a row, the read operation of the integration such as the readout circuit 201 on each column is performed.

【0143】VC は、図2の積分コンデンサ205での
電圧波形(積分波形)である。サンプルホールド回路2
30にサンプルホールドパルスφS/Hを印加すること
により、積分後の電圧をサンプリングし、サンプルホー
ルド回路230内のホールドコンデンサ(図示せず)に
保持する。また、サンプリング後、リセットスイッチ2
06にリセットパルスφRを印加して積分コンデンサ2
05をリセットする。
V C is a voltage waveform (integrated waveform) at the integrating capacitor 205 in FIG. Sample hold circuit 2
By applying a sample and hold pulse φS / H to 30, the voltage after integration is sampled and held in a hold capacitor (not shown) in the sample and hold circuit 230. After sampling, reset switch 2
06, a reset pulse φR is applied and the integration capacitor 2
Reset 05.

【0144】また、水平シフトレジスタ232のデータ
端子に水平同期信号φH’を入力し、クロック端子にク
ロック信号φCLKを入力することで、水平選択信号H
1 ,H2 ,・・・の信号を得る。水平選択信号H1 ,H
2 ・・・は、図2のマルチプレクサ231を順次選択
し、各列のホールドコンデンサに保持された信号は、マ
ルチプレクサ231を介してVout として出力される。
なお、水平同期信号φH’としては、水平同期信号φH
と同じ信号を使用してもよいし別の信号を用いてもよ
い。
The horizontal synchronizing signal φH ′ is input to the data terminal of the horizontal shift register 232 and the clock signal φCLK is input to the clock terminal, so that the horizontal selection signal H
1 , H 2 ,... Are obtained. Horizontal selection signals H 1 , H
2 ... sequentially selects the multiplexer 231 of FIG. 2, the signals held in the hold capacitor of each column is outputted as V out through the multiplexer 231.
Note that the horizontal synchronization signal φH ′ is
The same signal may be used, or another signal may be used.

【0145】さらに、図2のFPNデータバッファ23
4の制御端子(書き込みを制御する端子)には、水平選
択信号H1,H2,・・・が入力され、FPNデータバッ
ファ235には、ラッチイネーブルLEが入力される。
これによってFPNデータ(DFPN )はある行の読み出
しの前にFPNデータバッファ235に転送され、行を
切り替えるタイミングでFPNデータバッファ235に
転送され保持される。FPNデータバッファ235は、
NMOSトランジスタ210につながり、FPN補正回
路236から出力される定電流値を決める。
Further, the FPN data buffer 23 shown in FIG.
The horizontal selection signals H 1 , H 2 ,... Are input to the control terminal 4 (terminal for controlling writing), and the latch enable LE is input to the FPN data buffer 235.
As a result, the FPN data (D FPN ) is transferred to the FPN data buffer 235 before reading a certain row, and is transferred to the FPN data buffer 235 and held at the timing of switching the row. The FPN data buffer 235
The constant current value connected to the NMOS transistor 210 and output from the FPN correction circuit 236 is determined.

【0146】次に、本発明のその他の実施の形態(第2
〜5の実施の形態)についてそれぞれ図を参照して説明
する。
Next, another embodiment of the present invention (second embodiment)
Embodiments 1 to 5) will be described with reference to the drawings.

【0147】[第2の実施の形態]図9は、本発明の第
2の実施の形態を示す熱型赤外線撮像装置の回路図であ
る。同図に示すように、本実施の形態は、1個のOB読
み出し回路901と、図2で説明したのと同様の複数の
読み出し回路910と、オペアンプ909と、ボロメー
タ用のバイアス回路913と、FPN補正回路用のバイ
アス回路914と、マルチプレクサ916と、水平シフ
トレジスタ917と、垂直シフトレジスタ915とを備
えている。
[Second Embodiment] FIG. 9 is a circuit diagram of a thermal infrared imaging apparatus showing a second embodiment of the present invention. As shown in the figure, in the present embodiment, one OB readout circuit 901, a plurality of readout circuits 910 similar to those described in FIG. 2, an operational amplifier 909, a bolometer bias circuit 913, A bias circuit 914 for an FPN correction circuit, a multiplexer 916, a horizontal shift register 917, and a vertical shift register 915 are provided.

【0148】このように、本実施の形態では、OB読み
出し回路901を備えるとともに、図2のバイアス回路
218の代わりに、オペアンプ909を配置している点
に特徴を有する。そして、このオペアンプ909の+入
力端子には、読み出し回路901中の積分コンデンサ9
05が接続され、またその−入力端子にはバイアス電圧
C0が印加されている。そして、オペアンプ909の出
力端子は、読み出し回路901内のPNPトランジスタ
908のベースに接続されている。
As described above, this embodiment is characterized in that the OB readout circuit 901 is provided and the operational amplifier 909 is provided instead of the bias circuit 218 in FIG. The + input terminal of the operational amplifier 909 is connected to the integration capacitor 9 in the readout circuit 901.
05 is connected, and a bias voltage V C0 is applied to its − input terminal. The output terminal of the operational amplifier 909 is connected to the base of a PNP transistor 908 in the read circuit 901.

【0149】また、OB読み出し回路901は、NPN
トランジスタ904と、PNPトランジスタ908と、
複数のボロメータ902と、各ボロメータ902とグラ
ウンドとの間に接続された画素スイッチ903と、FP
N補正回路911と、リセットスイッチ906と、積分
コンデンサ905と、サンプルホールド回路912とを
備えている。
The OB readout circuit 901 has the NPN
A transistor 904, a PNP transistor 908,
A plurality of bolometers 902, a pixel switch 903 connected between each bolometer 902 and the ground,
An N correction circuit 911, a reset switch 906, an integrating capacitor 905, and a sample and hold circuit 912 are provided.

【0150】そして、このOB読み出し回路901は、
図2に記載のものとは異なって特別な読み出し回路であ
り、内蔵されているボロメータには、入射した赤外線に
対する感度を持たないボロメータ(OBボロメータ90
2)を使用している。いわゆるオプティカルブラック・
ボロメータ(以下、OBボロメータという)と呼ばれて
いるものであり、入射した赤外線を光学的に遮蔽するな
どして作られている。
The OB readout circuit 901 is
2 is a special readout circuit different from the one shown in FIG. 2, and the built-in bolometer has a bolometer (OB bolometer 90) having no sensitivity to incident infrared rays.
2) is used. So-called optical black
This is called a bolometer (hereinafter, referred to as an OB bolometer) and is made by optically shielding incident infrared rays.

【0151】ただし、このOBボロメータ902を持つ
のは読み出し回路901のみであり、その他の読み出し
回路910は通常の読み出し回路であり、通常のボロメ
ータが使用されている。したがって、読み出し回路91
0は、赤外線に対する感度を有する。
However, only the readout circuit 901 has the OB bolometer 902, and the other readout circuits 910 are ordinary readout circuits, and ordinary bolometers are used. Therefore, the read circuit 91
0 has sensitivity to infrared rays.

【0152】また、本実施の形態では、PNPトランジ
スタ908のバイアス設定は、OB読み出し回路901
中の積分コンデンサ905の電圧を、一定電圧VC0に保
つようにして行われる。すなわち、デバイス温度が変化
して、OBボロメータ902の抵抗値が変化することに
よりボロメータ電流が変化した場合でも、その変化に追
従してPNPトランジスタ908側の電流が変化するよ
うになっている。そして、このPNPトランジスタ90
8のベースへのバイアス電圧は、通常の読み出し回路9
10中のPNPトランジスタにも加わっており、そのた
め読み出し回路910の積分電流もデバイスの温度変化
が補償されるようになっている。
In this embodiment, the bias of the PNP transistor 908 is set by the OB readout circuit 901.
This is performed by keeping the voltage of the middle integration capacitor 905 at a constant voltage V C0 . That is, even if the bolometer current changes due to a change in the device temperature and a change in the resistance value of the OB bolometer 902, the current on the PNP transistor 908 side changes following the change. And this PNP transistor 90
The bias voltage to the base of the normal read circuit 9
The PNP transistor 10 is also added to the PNP transistor, so that the integrated current of the readout circuit 910 is also compensated for the temperature change of the device.

【0153】さらに、本実施の形態では、ボロメータの
自己発熱の影響も補償することができる。通常、熱分離
したボロメータに電流を流すと、そのジュール熱によっ
てボロメータ自身が発熱し、ボロメータの温度が上昇す
る。そのため、このボロメータの自己発熱によって図8
の積分波形VC に曲がりが生じ、その曲がりが信号のダ
イナミックレンジを占有してしまうという問題を生じ
る。また、図9の回路では、OBボロメータ902も通
常のボロメータと同様に自己発熱を生じることになる。
Further, in this embodiment, the influence of the self-heating of the bolometer can be compensated. Normally, when an electric current is applied to a thermally separated bolometer, the bolometer itself generates heat due to the Joule heat, and the temperature of the bolometer rises. As a result, self-heating of the bolometer causes
Is bent in the integrated waveform V C, and the bent occupies the dynamic range of the signal. Further, in the circuit of FIG. 9, the OB bolometer 902 also generates self-heating similarly to a normal bolometer.

【0154】そこで、OB読み出し回路901の積分コ
ンデンサ905の電圧が一定になるようにPNPトラン
ジスタ908にバイアスを与えることにより、自己発熱
によるボロメータ電流の変化に追従してPNPトランジ
スタ908に流れる電流も変化するようにしている。
Therefore, by applying a bias to the PNP transistor 908 so that the voltage of the integration capacitor 905 of the OB readout circuit 901 becomes constant, the current flowing through the PNP transistor 908 also changes following the change in the bolometer current due to self-heating. I am trying to do it.

【0155】したがって、OB読み出し回路901中の
積分コンデンサ905の電圧は一定に保たれる。そのた
め、OB読み出し回路901中の積分コンデンサ905
を省略してもよい。
Therefore, the voltage of the integrating capacitor 905 in the OB read circuit 901 is kept constant. Therefore, the integration capacitor 905 in the OB readout circuit 901
May be omitted.

【0156】[第3の実施の形態]図10は、本発明の
第3の実施の形態を示す熱型赤外線撮像装置の回路図で
ある。同図に示すように、本実施の形態は、1個のOB
読み出し回路1001と、図2で説明したのと同様の複
数の読み出し回路1010と、オペアンプ1009と、
キャンセル抵抗用のバイアス回路1013と、FPN補
正回路用のバイアス回路1014と、マルチプレクサ1
016と、水平シフトレジスタ1017と、垂直シフト
レジスタ1015とを備えている。
[Third Embodiment] FIG. 10 is a circuit diagram of a thermal infrared imaging apparatus showing a third embodiment of the present invention. As shown in the figure, the present embodiment has one OB
A read circuit 1001, a plurality of read circuits 1010 similar to those described in FIG. 2, an operational amplifier 1009,
Bias circuit 1013 for canceling resistor, bias circuit 1014 for FPN correction circuit, and multiplexer 1
016, a horizontal shift register 1017, and a vertical shift register 1015.

【0157】また、本実施の形態では、図2の回路にお
けるバイアス回路212の代わりにオペアンプ1009
を配置し、その+入力端子には読み出し回路1001中
の積分コンデンサ1005が接続され、−入力端子には
バイアス電圧VC0が印加されている。そして、オペアン
プ1009の出力は、NPNトランジスタ1004のベ
ースに接続されている。
Also, in this embodiment, an operational amplifier 1009 is used instead of the bias circuit 212 in the circuit of FIG.
The integration capacitor 1005 in the readout circuit 1001 is connected to the + input terminal, and the bias voltage V C0 is applied to the − input terminal. The output of the operational amplifier 1009 is connected to the base of the NPN transistor 1004.

【0158】また、この読み出し回路1001中のボロ
メータ1002もOBボロメータを構成している。この
OBボロメータを持つOB読み出し回路1001以外の
通常の読み出し回路1019は、図2と同じ構成を持
ち、赤外線に対して感度がある。
The bolometer 1002 in the read circuit 1001 also constitutes an OB bolometer. The normal readout circuit 1019 other than the OB readout circuit 1001 having the OB bolometer has the same configuration as that of FIG. 2 and is sensitive to infrared rays.

【0159】さて、第2の実施の形態で説明したよう
に、本実施の形態においても、OB読み出し回路100
1中の積分コンデンサ1005の電圧を一定電圧VC0
保つようにNPNトランジスタ1004のバイアスが設
定される。これによって図9同様に、デバイスの温度変
化やボロメータの自己発熱の影響をキャンセルすること
ができる。
As described in the second embodiment, also in this embodiment, the OB read circuit 100
The bias of the NPN transistor 1004 is set so as to keep the voltage of the integrating capacitor 1005 in 1 at a constant voltage V C0 . Thus, similarly to FIG. 9, the influence of the temperature change of the device and the self-heating of the bolometer can be canceled.

【0160】[第4の実施の形態]図11は、本発明の
第4の実施の形態を示す熱型赤外線撮像装置のブロック
図である。同図に示すように本実施の形態では、読み出
し回路1101と、ボロメータ用のバイアス回路110
2と、キャンセル抵抗用のバイアス回路1106と、F
PN補正回路用のバイアス回路1107と、垂直シフト
レジスタ1113と、マルチプレクサ1114と、水平
シフトレジスタ1115とを備えている。
[Fourth Embodiment] FIG. 11 is a block diagram of a thermal infrared imaging apparatus showing a fourth embodiment of the present invention. As shown in the figure, in the present embodiment, a read circuit 1101 and a bolometer bias circuit 110
2, a bias circuit 1106 for the cancel resistor, and F
A bias circuit 1107 for a PN correction circuit, a vertical shift register 1113, a multiplexer 1114, and a horizontal shift register 1115 are provided.

【0161】すなわち、本実施の形態は、各読み出し回
路1101ごとにボロメータ用のバイアス回路1102
が設けられ、このバイアス回路1102は温度補償され
た定電流源1103とFPN補正回路1104と基準抵
抗回路1105を有する点に特徴がある。そして、バイ
アス回路1102がFPN補正回路1104を持つ代わ
りに、各読み出し回路1101中にはFPN補正回路を
持たないようになっている。
That is, in this embodiment, a bolometer bias circuit 1102 is provided for each readout circuit 1101.
The bias circuit 1102 is characterized in that it has a temperature-compensated constant current source 1103, an FPN correction circuit 1104, and a reference resistance circuit 1105. Then, instead of the bias circuit 1102 having the FPN correction circuit 1104, each readout circuit 1101 does not have the FPN correction circuit.

【0162】また、バイアス回路1107は、バイアス
回路1102中のFPN補正回路1104にバイアスを
与えるようになっており、それ以外の構成は図1と同じ
である。すなわち、読み出し回路1101はキャンセル
抵抗1108と、積分回路1109と、ボロメータ11
10と、NMOSトランジスタからなる画素スイッチ1
111と、サンプルホールド回路1112とを備えてい
る。
The bias circuit 1107 applies a bias to the FPN correction circuit 1104 in the bias circuit 1102, and the other configuration is the same as that of FIG. That is, the read circuit 1101 includes the cancel resistor 1108, the integration circuit 1109, and the bolometer 11
And a pixel switch 1 composed of an NMOS transistor
111 and a sample and hold circuit 1112.

【0163】このように、バイアス回路1102にFP
N補正回路1104を設けることにより、各画素毎に感
度ばらつきを補正することができる。これは図1の構成
におけるFPN補正回路は、ボロメータ電流のばらつき
に対して追加電流を補うように働くのに対し、図11の
FPN補正回路1104は、ボロメータ電流のばらつき
が生じないように働くことによるものである。したがっ
て、入射赤外線に対する感度はボロメータ電流に比例す
るため、ボロメータ電流のばらつき自体を減らすことに
より、各画素の感度ばらつきを低減することができる。
As described above, the FP is connected to the bias circuit 1102.
By providing the N correction circuit 1104, sensitivity variation can be corrected for each pixel. This is because the FPN correction circuit in the configuration of FIG. 1 works to compensate for the additional current for the variation in the bolometer current, whereas the FPN correction circuit 1104 in FIG. 11 works so that the variation in the bolometer current does not occur. It is due to. Therefore, the sensitivity to incident infrared rays is proportional to the bolometer current. Therefore, the variation in the bolometer current itself can be reduced, so that the variation in sensitivity of each pixel can be reduced.

【0164】ここで、図11の詳細な構成について説明
する。図12は、図11に係る第4の実施の形態の具体
的な回路図を示したものである。同図に示すように、本
実施の形態は複数の読み出し回路1201と、各読み出
し回路1201に設けられたバイアス回路1202と、
FPN補正回路用のバイアス回路1207と、キャンセ
ル抵抗用のバイアス回路1206と、垂直シフトレジス
タ1228と、マルチプレクサ1229と、水平シフト
レジスタ1230とを備えている。
Here, the detailed configuration of FIG. 11 will be described. FIG. 12 shows a specific circuit diagram of the fourth embodiment according to FIG. As shown in the drawing, in this embodiment, a plurality of read circuits 1201, a bias circuit 1202 provided in each read circuit 1201,
A bias circuit 1207 for an FPN correction circuit, a bias circuit 1206 for a cancel resistor, a vertical shift register 1228, a multiplexer 1229, and a horizontal shift register 1230 are provided.

【0165】そして、各読み出し回路1201は、抵抗
1220と、PNPトランジスタ1221と、NPNト
ランジスタ1222と、ボロメータ1223と、画素ス
イッチ1224と、リセットスイッチ1225と、積分
コンデンサ1227と、サンプルホールド回路1226
とを備えている。
Each reading circuit 1201 includes a resistor 1220, a PNP transistor 1221, an NPN transistor 1222, a bolometer 1223, a pixel switch 1224, a reset switch 1225, an integrating capacitor 1227, and a sample and hold circuit 1226.
And

【0166】また、各バイアス回路1202は、FPN
補正回路1203と、温度補償された定電流回路120
4と、基準抵抗回路1205とを備えている。FPN補
正回路1203は、抵抗1215aと、PNPトランジ
スタ1208および1209と、NPNトランジスタ1
210と、抵抗1211と、NMOSトランジスタ12
12と、データバッファ1213および1214と、抵
抗1215と、PNPトランジスタ1216とを備えて
いる。各FPN補正回路1203中のNPNトランジス
タ1210のベースは、バイアス回路1207の出力に
接続されている。
Each of the bias circuits 1202 is connected to the FPN
Correction circuit 1203 and temperature-compensated constant current circuit 120
4 and a reference resistance circuit 1205. The FPN correction circuit 1203 includes a resistor 1215a, PNP transistors 1208 and 1209, and an NPN transistor 1
210, a resistor 1211 and an NMOS transistor 12
12, a data buffer 1213 and 1214, a resistor 1215, and a PNP transistor 1216. The base of the NPN transistor 1210 in each FPN correction circuit 1203 is connected to the output of the bias circuit 1207.

【0167】基準抵抗回路1205は、ボロメータ12
23と同じTCRの抵抗1219と、NPNトランジス
タ1217および1218を有し、基準抵抗回路120
5のNPNトランジスタ1217のベースは、NPNト
ランジスタ1218のコレクタに接続されている。ま
た、抵抗1219をボロメータ1223の抵抗値のa倍
にし、NPNトランジスタ1222のエミッタ面積をN
PNトランジスタ1222のエミッタ面積の1/a倍に
してもよい。
The reference resistance circuit 1205 is connected to the bolometer 12
23, a resistor 1219 having the same TCR and NPN transistors 1217 and 1218.
The base of the fifth NPN transistor 1217 is connected to the collector of the NPN transistor 1218. Further, the resistance of the resistor 1219 is set to a times the resistance of the bolometer 1223, and the emitter area of the NPN transistor 1222 is set to N.
It may be 1 / a times the emitter area of the PN transistor 1222.

【0168】温度補償された定電流回路1204は、図
2の例と同様に温度依存性の小さい電流I0 を出力す
る。
The temperature-compensated constant current circuit 1204 outputs a current I 0 having a small temperature dependency as in the example of FIG.

【0169】さて、図2のNPNトランジスタ211、
FPN補正抵抗209、NMOSトランジスタ210と
同様に、ボロメータの抵抗値のばらつきに応じてデジタ
ル設定された定電流を出力する。この定電流も、バイア
ス回路1207によって温度依存性の小さいものになっ
ている。FPN補正回路1203は、図3(c)の構成
と同様に、ソース電流を得る構成になっている。
Now, the NPN transistor 211 of FIG.
As with the FPN correction resistor 209 and the NMOS transistor 210, a constant current digitally set according to the variation in the resistance value of the bolometer is output. This constant current also has a small temperature dependency due to the bias circuit 1207. The FPN correction circuit 1203 is configured to obtain a source current, similarly to the configuration of FIG.

【0170】温度補償された定電流回路1204とFP
N補正回路1203の出力する電流を足し合わせて基準
抵抗回路1205に流し、基準抵抗回路1205の出力
するバイアス電圧をNPNトランジスタ1222のベー
スに加えることで、各ボロメータ電流は温度依存性がほ
とんどなくなると共に、ばらつきも減少し、感度ばらつ
きも減少する。
Temperature Compensated Constant Current Circuit 1204 and FP
By adding the currents output from the N correction circuit 1203 and flowing the sum to the reference resistor circuit 1205 and applying the bias voltage output from the reference resistor circuit 1205 to the base of the NPN transistor 1222, each bolometer current has almost no temperature dependency and , Variations are reduced, and variations in sensitivity are also reduced.

【0171】前述したように、320×240画素、画
素ピッチ50[μm]程度の2次元の熱型赤外線撮像装
置では、面内のボロメータ抵抗のばらつきは10[%p
−p]程度あり、このとき従来の回路では、抵抗のばら
つきと同じ程度、つまり10[%p−p]程度の感度ば
らつきが発生する。これに対して本実施の形態は、ボロ
メータの抵抗ばらつきがあっても、バイアス電流がほぼ
同じになるように補正するため、感度ばらつきを大幅に
低減できる。残った感度ばらつきはTCRの面内ばらつ
きによるものであり、上記熱型赤外線撮像装置では0.
1[%p−p]程度である。
As described above, in a two-dimensional thermal infrared imaging device having 320 × 240 pixels and a pixel pitch of about 50 μm, the in-plane bolometer resistance variation is 10% p.
−p]. At this time, in the conventional circuit, the same sensitivity variation as the resistance, that is, about 10 [% pp] sensitivity variation occurs. On the other hand, in the present embodiment, even if there is a variation in the resistance of the bolometer, the bias current is corrected so as to be substantially the same, so that the sensitivity variation can be significantly reduced. The remaining sensitivity variation is due to the in-plane variation of the TCR.
It is about 1 [% pp].

【0172】[第5の実施の形態]図13は、本発明の
第5の実施形態を示す撮像装置全体のブロック図であ
る。同図に示すように、本実施の形態に係る撮像装置
は、撮像素子1301と、増幅器1302と、サンプル
ホールド回路1303と、A/Dコンバータ1304
と、VRAM1305と、FPNメモリコントローラ1
306と、FPNメモリ2と、FPNメモリ1307
と、デジタル減算器1308と、D/Aコンバータ13
09と、NTSC(National Television System Commi
ttee)信号発生器1310と、コンパレータ1311
と、FPNメモリコントローラ1312と、FPNメモ
リ1313と、ペルチェ素子等からなる温度安定化素子
1314と、温度調整素子の駆動を制御するペルチェ制
御回路1315と、光学系1316とを備えている。
[Fifth Embodiment] FIG. 13 is a block diagram of an entire image pickup apparatus according to a fifth embodiment of the present invention. As shown in the figure, the imaging apparatus according to the present embodiment includes an imaging element 1301, an amplifier 1302, a sample and hold circuit 1303, and an A / D converter 1304.
, VRAM 1305 and FPN memory controller 1
306, FPN memory 2, and FPN memory 1307
, Digital subtractor 1308 and D / A converter 13
09 and NTSC (National Television System Commi
ttee) signal generator 1310 and comparator 1311
, An FPN memory controller 1312, an FPN memory 1313, a temperature stabilizing element 1314 such as a Peltier element, a Peltier control circuit 1315 for controlling the driving of the temperature adjusting element, and an optical system 1316.

【0173】撮像素子1301は、例えば図2に示した
構成を一枚のシリコン基板上に形成するよって構成され
る。また、撮像素子1301と対向して光学系1316
が配設されており、外部から入射した光はこの光学系1
316によって撮像素子1301上に集光される。する
と、撮像素子1301は光を電気信号に変換し、撮像素
子1301内の積分回路等によって増幅してから外部に
出力する。
The image pickup device 1301 is formed by, for example, forming the structure shown in FIG. 2 on a single silicon substrate. The optical system 1316 faces the image sensor 1301.
Is provided, and light incident from the outside is transmitted through the optical system 1.
The light is condensed on the image sensor 1301 by 316. Then, the image sensor 1301 converts light into an electric signal, amplifies the electric signal by an integrating circuit or the like in the image sensor 1301, and outputs the amplified signal to the outside.

【0174】増幅器1302は、撮像素子1301の出
力信号を増幅してからサンプルホールド回路1303に
入力し、サンプルホールド回路1303は、受信した信
号を一時的に保持する。なお、増幅器1302は、撮像
素子1301の出力信号が十分大きければ使用しなくて
もよい。
The amplifier 1302 amplifies the output signal of the image sensor 1301 and inputs the amplified signal to the sample hold circuit 1303. The sample hold circuit 1303 temporarily holds the received signal. Note that the amplifier 1302 need not be used if the output signal of the image sensor 1301 is sufficiently large.

【0175】A/D変換器1304は、サンプルホール
ド回路1303で保持された信号をデジタル信号に変換
する。そして、このA/D変換器1304のビット数
は、赤外線撮像装置を例にとって考えると次のようにな
る。例えば、被写体の温度分解能を0.1[℃]、被写
体の温度のダイナミックレンジを100[℃]とする
と、この時点で10ビット(約1000階調)のビット
数が必要になる。そして、さらに量子化誤差を減らすた
め、最小温度分解能あたり2ビット(4階調)を割り振
ると、合計12ビットのデータ幅がA/D変換器130
4に必要になる。
A / D converter 1304 converts the signal held by sample / hold circuit 1303 into a digital signal. The number of bits of the A / D converter 1304 is as follows when an infrared imaging device is taken as an example. For example, if the temperature resolution of the subject is 0.1 ° C. and the dynamic range of the temperature of the subject is 100 ° C., a bit number of 10 bits (about 1000 gradations) is required at this time. Then, in order to further reduce the quantization error, when 2 bits (4 gradations) are allocated per minimum temperature resolution, the data width of 12 bits in total becomes the A / D converter 130.
4 needed.

【0176】VRAM1305は、各画素の12ビット
のデジタル信号を保持するメモリであり、例えば撮像素
子1301が320×240の画素数であるとした場
合、320×240×12ビット程度の容量があればよ
い。なお、データをバイト単位で管理するため、必要に
応じて大きな容量(例えば320×240×16ビッ
ト)を用意することは可能である。
The VRAM 1305 is a memory for holding a 12-bit digital signal of each pixel. For example, when the image sensor 1301 has 320 × 240 pixels, if the capacity is about 320 × 240 × 12 bits, Good. Since data is managed in byte units, it is possible to prepare a large capacity (for example, 320 × 240 × 16 bits) as needed.

【0177】FPNメモリ1307は、撮像素子130
1内で行われるFPN補正で取りきれなかったばらつき
を補正するための記憶手段であり、補正のための各画素
のばらつきデータが保持されている。FPNメモリコン
トローラ1306は、このFPNメモリ1307を制御
するための回路であり、デジタル減算器1308はリア
ルタイムでやってくる各画素の信号から、各画素のばら
つき量を減算するためのものである。このばらつきデー
タの取得は、撮像素子1301内のFPN補正データを
取得した後、次のようなシーケンスで行うとよい。
[0177] The FPN memory 1307 is
This is storage means for correcting variations that could not be removed by the FPN correction performed in 1, and stores variation data of each pixel for correction. The FPN memory controller 1306 is a circuit for controlling the FPN memory 1307, and the digital subtractor 1308 is for subtracting the variation amount of each pixel from the signal of each pixel coming in real time. The acquisition of the variation data may be performed in the following sequence after acquiring the FPN correction data in the image sensor 1301.

【0178】まず、入射光をシャッター等で遮断した状
態でA/D変換器1304から出力される各画素のデー
タは、撮像素子1301内のFPN補正で取りきれなか
ったばらつきを持っているため、このデータをFPNメ
モリ1307に記憶させる。
First, the data of each pixel output from the A / D converter 1304 in a state where the incident light is blocked by a shutter or the like has variations that cannot be removed by the FPN correction in the image sensor 1301. This data is stored in the FPN memory 1307.

【0179】この操作は電源投入時や、前回の補正がず
れたときなどに行い、通常の撮像状態では、この記憶さ
れたFPNメモリ1307のばらつきデータを減算器1
308に渡して、リアルタイムでやってくる各画素の信
号から減算してばらつきの無い信号を得るようにする。
This operation is performed when the power is turned on or when the previous correction is deviated, and in a normal imaging state, the stored variation data of the FPN memory 1307 is subtracted from the subtracter 1.
The signal 308 is subtracted from the signal of each pixel coming in real time to obtain a signal having no variation.

【0180】なお、減算器1308の代わりに加算器を
用いてもよいことは当然であり、すなわちFPNメモリ
1307のデータの補数をとってから加算器を用いるこ
とにより、減算器と同等の演算を行うことができる。ま
た、減算器1308の位置は、必ずしも図13に示され
る位置に配置される必要はなく、VRAM1305とD
/A変換器1309との間にあってもよい。
It should be noted that an adder may be used instead of the subtractor 1308. That is, by using the adder after taking the complement of the data in the FPN memory 1307, an operation equivalent to the subtractor can be performed. It can be carried out. Further, the position of the subtractor 1308 does not necessarily have to be arranged at the position shown in FIG.
/ A converter 1309.

【0181】その後、D/A変換器1309は、このよ
うにして処理されたデジタル信号をアナログ信号に変換
してから、NTSC信号発生器1310に出力する。N
TSC信号発生器1310は、このアナログ信号と所定
の同期信号とを合成することにより、NTSCコンポジ
ット信号を出力する。また、NTSC信号発生器131
0の代わりに、必要に応じてPAL(Phase Alternatio
n by Line)やRGB出力など他の方式の信号発生器を
用いてもよい。
After that, the D / A converter 1309 converts the digital signal thus processed into an analog signal, and outputs the analog signal to the NTSC signal generator 1310. N
The TSC signal generator 1310 outputs an NTSC composite signal by synthesizing the analog signal and a predetermined synchronization signal. Also, the NTSC signal generator 131
Instead of 0, PAL (Phase Alternatio
Other types of signal generators such as “n by Line” and RGB output may be used.

【0182】ところで、撮像素子1301内のFPN補
正回路に供給する補正データの取得は、次のようにして
行われる。本実施の形態で使用されるコンパレータ13
11は、デジタルコンパレータであり、各画素の信号レ
ベルと所定の基準レベルとの大小関係を判定する。
The acquisition of correction data to be supplied to the FPN correction circuit in the image sensor 1301 is performed as follows. Comparator 13 used in the present embodiment
Reference numeral 11 denotes a digital comparator which determines the magnitude relationship between the signal level of each pixel and a predetermined reference level.

【0183】この基準レベルは、撮像素子1301内の
積分回路や増幅器、A/D変換器等、信号処理回路のダ
イナミックレンジの上限又は下限に設定したり、この上
限又は下限に所定のレベルの余裕を加えた値に設定する
ことができる。大小関係の判定には、所定の基準レベル
以上のものを良としたり、所定の基準レベル以下のもの
を良としたり、所定の2つの基準レベルの範囲内のもの
を良としたりする等の何れを用いてもよい。
This reference level is set to the upper or lower limit of the dynamic range of the signal processing circuit such as the integrating circuit, the amplifier, the A / D converter, etc. in the image pickup device 1301, and the upper or lower limit of the dynamic range is a predetermined level. Can be set to the value added. In order to determine the magnitude relation, any one of a good one that is equal to or higher than a predetermined reference level, a good one that is equal to or less than a predetermined reference level, and a good one that is within a range of two predetermined reference levels is used. May be used.

【0184】FPNメモリコントローラ1312は、こ
の比較結果に従ってFPN補正データを作成する。作成
されたFPN補正データは、FPNメモリ1313に保
持される。したがって、FPNメモリ1313は、全画
素数にこのFPN補正データのビット数を掛けた容量が
あればよい。例えば320×240の画素数で、FPN
補正データのビット数が6ビットの場合320×240
×6ビットの容量があればよい。また、データをバイト
単位で制御するために、必要に応じて容量を大きくする
ことは可能である。
The FPN memory controller 1312 creates FPN correction data according to the comparison result. The created FPN correction data is stored in the FPN memory 1313. Therefore, the FPN memory 1313 only needs to have a capacity obtained by multiplying the total number of pixels by the number of bits of the FPN correction data. For example, if the number of pixels is 320 × 240, FPN
320 × 240 when the number of bits of the correction data is 6 bits
What is necessary is just to have a capacity of × 6 bits. Further, in order to control data in byte units, it is possible to increase the capacity as needed.

【0185】[第6の実施の形態]以上の5つの実施の
形態においては、各読み出し回路に複数のボロメータを
備えたものについて説明したが、本発明はこれに限られ
るものではない。例えば、人体検知器や火災検知器等に
本発明の撮像装置を適用する場合においては、赤外線の
有無のみを検知できればよいため、撮像素子を複数画素
設ける必要はない。したがって、少なくとも1画素以上
あればよく、その場合、読み出し回路内のボロメータは
少なくとも1個あればよい。また、単画素であれば、複
数画素の場合のように画素間のばらつきはないため、F
PN補正回路およびFPN補正回路用のバイアス回路は
不要となる。
[Sixth Embodiment] In the above-described five embodiments, each read circuit is provided with a plurality of bolometers. However, the present invention is not limited to this. For example, when the imaging device of the present invention is applied to a human body detector, a fire detector, or the like, it is only necessary to detect the presence or absence of infrared rays, and thus it is not necessary to provide an image sensor with a plurality of pixels. Therefore, at least one pixel is required, and in that case, at least one bolometer in the readout circuit is required. Further, in the case of a single pixel, there is no variation between pixels as in the case of a plurality of pixels.
A bias circuit for the PN correction circuit and the FPN correction circuit becomes unnecessary.

【0186】さて、以上の事実を踏まえて第1〜5の実
施の形態に適用すると以下のようになる。例えば、第
1,4の実施の形態において、1個のボロメータを備え
た1個の読み出し回路のみの構成にしたり、1個の読み
出し回路内に2個のボロメータを用意してそのうちの1
個をOBボロメータにしたりするとよい。そして、1個
の読み出し回路内に2個のボロメータを設けるときは、
FPN補正回路やFPN補正回路用のバイアス回路を設
けても構わない。
By applying the first to fifth embodiments based on the above facts, the following is obtained. For example, in the first and fourth embodiments, only one readout circuit having one bolometer is used, or two bolometers are prepared in one readout circuit and one of them is used.
It is good to make an individual into an OB bolometer. When two bolometers are provided in one readout circuit,
An FPN correction circuit and a bias circuit for the FPN correction circuit may be provided.

【0187】また、第2,3の実施の形態において、1
個のボロメータを備えた1個の読み出し回路と、1個の
OBボロメータを備えた1個の読み出し回路とを組み合
わせるとよい。さらに、第5の実施の形態において、撮
像素子1301を1画素としてもよいことは明らかであ
る。
In the second and third embodiments, 1
It is preferable to combine one readout circuit with one bolometer and one readout circuit with one OB bolometer. Further, in the fifth embodiment, it is clear that the image sensor 1301 may be one pixel.

【0188】[0188]

【発明の効果】以上説明したとおり本発明によれば、ボ
ロメータ等の測定抵抗に電圧を印加することによって測
定抵抗自身が自己発熱を起こす影響を無くすことができ
る。これによって積分回路を含めた信号処理回路のダイ
ナミックレンジに余裕ができ、回路のゲインを上げるこ
とができる。特に初段の積分回路のゲインを上げること
により、入力換算ノイズを低減することができ、S/N
を大幅に改善させることができる。さらに、低ドリフ
ト、低ノイズの特徴を維持したまま、デジタルでバイア
ス設定ができる機能を持つことができ、その構成はシン
プルなものであり、高性能な半導体装置を安価で実現す
ることができる。このように、本発明によれば、バイア
ス成分の補正を安定かつ低ノイズで行い、信号増幅や信
号処理を円滑に行うことができるようになるというすぐ
れた効果が得られる。
As described above, according to the present invention, by applying a voltage to a measuring resistor such as a bolometer, the effect of the measuring resistor itself causing self-heating can be eliminated. As a result, the dynamic range of the signal processing circuit including the integrating circuit has a margin, and the gain of the circuit can be increased. In particular, by increasing the gain of the first-stage integration circuit, input conversion noise can be reduced, and S / N
Can be greatly improved. Furthermore, a function capable of digitally setting a bias can be provided while maintaining the characteristics of low drift and low noise. The configuration is simple, and a high-performance semiconductor device can be realized at low cost. As described above, according to the present invention, an excellent effect is obtained that the bias component can be corrected stably with low noise, and the signal amplification and signal processing can be performed smoothly.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の第1の実施形態を示す回路図であ
る。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of the present invention.

【図2】 図1に係る熱型赤外線撮像装置の具体的な回
路図である。
FIG. 2 is a specific circuit diagram of the thermal infrared imaging device according to FIG. 1;

【図3】 (a),(b)および(c)は何れも温度補
償された定電流回路を示す回路図である。
FIGS. 3A, 3B and 3C are circuit diagrams each showing a temperature-compensated constant current circuit; FIG.

【図4】 バンドギャップリファレンス回路を示す回路
図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a band gap reference circuit.

【図5】 本実施の形態におけるトランジスタのノイズ
電流を示すグラフである。
FIG. 5 is a graph showing a noise current of a transistor in this embodiment.

【図6】 図1に係るフィルタを示す回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram showing a filter according to FIG. 1;

【図7】 (a)は従来の積分回路およびバイアス回路
を示す回路図と各画素におけるコレクタ電流を示すグラ
フ、(b)は本実施の形態に係る積分回路およびバイア
ス回路を示す回路図と各画素におけるコレクタ電流を示
すグラフである。
7A is a circuit diagram showing a conventional integration circuit and a bias circuit and a graph showing a collector current in each pixel, and FIG. 7B is a circuit diagram showing an integration circuit and a bias circuit according to the present embodiment and FIG. 4 is a graph showing a collector current in a pixel.

【図8】 本実施の形態の動作を示すタイミングチャー
トである。
FIG. 8 is a timing chart showing the operation of the present embodiment.

【図9】 本発明の第2の実施形態を示す回路図であ
る。
FIG. 9 is a circuit diagram showing a second embodiment of the present invention.

【図10】 本発明の第3の実施形態を示す回路図であ
る。
FIG. 10 is a circuit diagram showing a third embodiment of the present invention.

【図11】 本発明の第4の実施形態を示すブロック図
である。
FIG. 11 is a block diagram showing a fourth embodiment of the present invention.

【図12】 図11の詳細を示す回路図である。FIG. 12 is a circuit diagram showing details of FIG. 11;

【図13】 本発明の第5の実施の形態を示すブロック
図である
FIG. 13 is a block diagram showing a fifth embodiment of the present invention.

【図14】 従来の熱型赤外線撮像装置を示す断面図で
ある。
FIG. 14 is a sectional view showing a conventional thermal infrared imaging device.

【図15】 図14に係る熱型赤外線撮像装置の読み出
し回路を示す回路図である。
15 is a circuit diagram showing a readout circuit of the thermal infrared imaging device according to FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101,111,114…定電流回路、102,11
2,115…基準抵抗回路、103,113,116…
フィルタ、104…ボロメータ、105…積分回路、1
06…キャンセル抵抗、107…画素スイッチ、108
…FPN補正回路、109…サンプルホールド回路、1
10…マルチプレクサ、117…読み出し回路、118
…水平シフトレジスタ、119…垂直シフトレジスタ、
120,121,122…バイアス回路、ΦV…垂直同
期信号、ΦH…水平同期信号、ΦH’…水平同期信号、
ΦCLK…クロック信号、ΦS/H…サンプルホールド
パルス、Vout…出力電圧、V1,V2,…,Vn …垂
直選択信号、H1,H2,…,Hn …水平選択信号。
101, 111, 114 ... constant current circuit, 102, 11
2, 115 ... reference resistance circuit, 103, 113, 116 ...
Filter, 104 bolometer, 105 integration circuit, 1
06: cancel resistor, 107: pixel switch, 108
... FPN correction circuit, 109 ... Sample hold circuit, 1
10 Multiplexer 117 Reading circuit 118
... a horizontal shift register, 119 ... a vertical shift register,
120, 121, 122 ... bias circuit, ΦV ... vertical synchronization signal, ΦH ... horizontal synchronization signal, ΦH '... horizontal synchronization signal,
.PHI.CLK ... clock signal, .PHI.S / H ... sample-and-hold pulse, Vout ... output voltage, V 1, V 2, ... , V n ... vertical selection signal, H 1, H 2, ... , H n ... horizontal selection signal.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 29/84 H04N 5/33 H04N 5/33 H01L 27/14 K Fターム(参考) 2G065 AB02 BA12 BA34 BC08 BC15 BC16 BC28 BC33 BC35 BE08 CA13 CA21 DA18 2G066 BA09 BB09 BB11 BC02 BC04 BC07 BC11 BC15 CA02 CB03 4M112 AA01 BA01 CA08 CA10 EA02 FA01 FA02 4M118 AA05 AB01 BA30 CA14 CB14 GA10 GB09 5C024 AX06 CX03 CX43 HX04 HX13 HX31 HX35 HX48 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 29/84 H04N 5/33 H04N 5/33 H01L 27/14 K F term (Reference) 2G065 AB02 BA12 BA34 BC08 BC15 BC16 BC28 BC33 BC35 BE08 CA13 CA21 DA18 2G066 BA09 BB09 BB11 BC02 BC04 BC07 BC11 BC15 CA02 CB03 4M112 AA01 BA01 CA08 CA10 EA02 FA01 FA02 4M118 AA05 AB01 BA30 CA14 CB14 GA10 GB09 5C024 AX06 CX43 HXX HXX HXX

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 物理量を抵抗値に変換する1個の測定抵
抗体と、この測定抵抗体に接続されかつ前記測定抵抗体
にバイアス電流を印加するとともに前記測定抵抗体に流
れる電流を積分して蓄積する積分回路と、前記測定抵抗
体に接続され前記測定抵抗体に流れるバイアス電流をキ
ャンセルするキャンセル抵抗とからなる読み出し回路を
備え、前記積分回路に蓄積された電流に基づいて前記測
定抵抗体の抵抗値の変化を検出して前記物理量を間接的
に測定するようにした半導体装置において、 前記測定抵抗体に接続されかつ抵抗温度係数が前記測定
抵抗に等しい基準抵抗を備えた第1のバイアス回路と、 前記キャンセル抵抗に接続されかつ抵抗温度係数が前記
キャンセル抵抗に等しい基準抵抗を備えた第2のバイア
ス回路とを備え、 前記第1のバイアス回路は、その出力電圧を前記測定抵
抗体に印加する手段であり、前記第2のバイアス回路
は、その出力電圧を前記キャンセル抵抗に印加する手段
であることを特徴とする半導体装置。
1. A measuring resistor for converting a physical quantity into a resistance value, a bias current connected to the measuring resistor and applied to the measuring resistor, and a current flowing through the measuring resistor integrated. A readout circuit comprising an integrating circuit for storing and a canceling resistor connected to the measuring resistor for canceling a bias current flowing through the measuring resistor; and a reading circuit for the measuring resistor based on the current stored in the integrating circuit. In a semiconductor device configured to detect a change in resistance value and indirectly measure the physical quantity, a first bias circuit having a reference resistor connected to the measurement resistor and having a temperature coefficient of resistance equal to the measurement resistance And a second bias circuit having a reference resistor connected to the cancel resistor and having a temperature coefficient of resistance equal to the cancel resistor. The semiconductor device according to claim 1, wherein the bias circuit is means for applying the output voltage to the measurement resistor, and the second bias circuit is means for applying the output voltage to the cancel resistor.
【請求項2】 請求項1において、 前記積分回路は、コレクタ同士が接続された第1および
第2のバイポーラトランジスタと、前記コレクタに接続
された積分コンデンサとによって構成され、 前記第1のバイポーラトランジスタは、そのエミッタに
前記キャンセル抵抗が接続されかつそのベースに前記第
2のバイアス回路が接続され、 前記第2のバイポーラトランジスタは、そのエミッタに
前記測定抵抗体が接続されかつそのベースに前記第1の
バイアス回路が接続されていることを特徴とする半導体
装置。
2. The first bipolar transistor according to claim 1, wherein the integration circuit includes first and second bipolar transistors having collectors connected to each other, and an integration capacitor connected to the collector. Has the emitter connected to the canceling resistor and the base connected to the second bias circuit, and the second bipolar transistor has the emitter connected to the measuring resistor and the base connected to the first resistor. A bias circuit connected to the semiconductor device.
【請求項3】 請求項1において、 前記第1のバイアス回路は、温度補償された定電流回路
と、この定電流回路に接続されかつ抵抗温度係数が前記
測定抵抗に等しい基準抵抗と、この基準抵抗に接続され
かつこの基準抵抗に生じた電圧からノイズを除去するフ
ィルタとを備えたことを特徴とする半導体装置。
3. The constant current circuit according to claim 1, wherein the first bias circuit includes a temperature-compensated constant current circuit, a reference resistor connected to the constant current circuit and having a temperature coefficient of resistance equal to the measurement resistance. A semiconductor device comprising: a filter connected to a resistor and configured to remove noise from a voltage generated at the reference resistor.
【請求項4】 請求項1において、 前記第2のバイアス回路は、温度補償された定電流回路
と、この定電流回路に接続されかつ抵抗温度係数が前記
キャンセル抵抗に等しい基準抵抗と、この基準抵抗に接
続されかつこの基準抵抗に生じた電圧からノイズを除去
するフィルタとを備えたことを特徴とする半導体装置。
4. The constant current circuit according to claim 1, wherein the second bias circuit includes a temperature-compensated constant current circuit, a reference resistor connected to the constant current circuit, and having a temperature coefficient of resistance equal to the cancel resistance. A semiconductor device comprising: a filter connected to a resistor and configured to remove noise from a voltage generated at the reference resistor.
【請求項5】 請求項1乃至4の何れか一項において、 前記半導体装置は、赤外線センサ、マイクロ波/ミリ波
検出器、温度センサ、磁気センサ、圧力センサ、ガスセ
ンサまたはフローセンサの何れかであることを特徴とす
る半導体装置。
5. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor device is an infrared sensor, a microwave / millimeter wave detector, a temperature sensor, a magnetic sensor, a pressure sensor, a gas sensor, or a flow sensor. A semiconductor device, comprising:
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008022457A (en) * 2006-07-14 2008-01-31 Nec Electronics Corp Semiconductor apparatus
JP2008531997A (en) * 2005-02-25 2008-08-14 リッディアルド,ケビン Microbolometer infrared security sensor
US8059757B2 (en) 2005-06-21 2011-11-15 Nec Corporation Signal processing device and method
CN109782361A (en) * 2019-01-10 2019-05-21 复旦大学 A kind of high-gain receiver applied to the passive imaging of millimeter wave

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