JP2002069082A - Method for producing silacyclohexane compound - Google Patents
Method for producing silacyclohexane compoundInfo
- Publication number
- JP2002069082A JP2002069082A JP17662395A JP17662395A JP2002069082A JP 2002069082 A JP2002069082 A JP 2002069082A JP 17662395 A JP17662395 A JP 17662395A JP 17662395 A JP17662395 A JP 17662395A JP 2002069082 A JP2002069082 A JP 2002069082A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- trans
- cis
- silacyclohexane
- phenyl
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 39
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 12
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000011067 equilibration Methods 0.000 claims description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 abstract 1
- ZVQOOHYFBIDMTQ-UHFFFAOYSA-N [methyl(oxido){1-[6-(trifluoromethyl)pyridin-3-yl]ethyl}-lambda(6)-sulfanylidene]cyanamide Chemical compound N#CN=S(C)(=O)C(C)C1=CC=C(C(F)(F)F)N=C1 ZVQOOHYFBIDMTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 40
- -1 phenylsilacyclohexane compound Chemical class 0.000 description 37
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 33
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 32
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 27
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 26
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 24
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 21
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 18
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000000047 product Substances 0.000 description 15
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N (e)-4-(6-aminopurin-9-yl)but-2-en-1-ol Chemical compound NC1=NC=NC2=C1N=CN2C\C=C\CO DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 12
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 12
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 11
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 10
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 9
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 9
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 8
- QZRGKCOWNLSUDK-UHFFFAOYSA-N Iodochlorine Chemical compound ICl QZRGKCOWNLSUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 6
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 6
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 5
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 4
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001255 4-fluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1F 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 3
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- PJJANBBRYLUXRA-UHFFFAOYSA-N 1,2-difluoro-4-phenylbenzene Chemical group C1=C(F)C(F)=CC=C1C1=CC=CC=C1 PJJANBBRYLUXRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTSZUGGHMRATM-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-1-propylsilinane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si]1(CCC)CCCCC1 OKTSZUGGHMRATM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 2
- UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N borane Chemical compound B UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 239000012039 electrophile Substances 0.000 description 2
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 2
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 2
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 2
- 229960004592 isopropanol Drugs 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N methane;palladium Chemical compound C.[Pd] UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- VMNDCBPWBMKDBI-UHFFFAOYSA-N silinane Chemical compound C1CC[SiH2]CC1 VMNDCBPWBMKDBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N triethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN(CC)CC ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GQHWSLKNULCZGI-UHFFFAOYSA-N trifluoromethoxybenzene Chemical compound FC(F)(F)OC1=CC=CC=C1 GQHWSLKNULCZGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FPNBDXVHCMGTHO-UHFFFAOYSA-M (3,4-difluorophenyl)methyl-triphenylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C1=C(F)C(F)=CC=C1C[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 FPNBDXVHCMGTHO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AITNMTXHTIIIBB-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-4-fluorobenzene Chemical compound FC1=CC=C(Br)C=C1 AITNMTXHTIIIBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFZCJJNGFGBESB-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxysilinane Chemical compound C(C)O[SiH]1CCCCC1 AFZCJJNGFGBESB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRZYUXUKAQQHOQ-UHFFFAOYSA-N 1-heptyl-1-phenylsilinan-4-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si]1(CCCCCCC)CCC(=O)CC1 VRZYUXUKAQQHOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFLBXLKFWCIXFU-UHFFFAOYSA-N 1-pentyl-1-phenylsilinane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si]1(CCCCC)CCCCC1 CFLBXLKFWCIXFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INYHVIGJCHUWDK-UHFFFAOYSA-N 1-pentylsilinane Chemical compound CCCCC[SiH]1CCCCC1 INYHVIGJCHUWDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMSPZCWNNMNNKW-UHFFFAOYSA-N 1-propylsilinane Chemical compound CCC[SiH]1CCCCC1 QMSPZCWNNMNNKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCYWIGQBOHDQDW-UHFFFAOYSA-N 4-(1-pentyl-1-phenylsilinan-4-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound C1C[Si](CCCCC)(C=2C=CC=CC=2)CCC1C1CCC(=O)CC1 DCYWIGQBOHDQDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 4-(4-chlorophenyl)-4,5,6,7-tetrahydrothieno[3,2-c]pyridine Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1C(C=CS2)=C2CCN1 CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZHYIFJVMOVTKCM-UHFFFAOYSA-N 4-(4-fluorophenyl)-1-heptyl-1-phenyl-3,6-dihydro-2h-siline Chemical compound C=1C[Si](CCCCCCC)(C=2C=CC=CC=2)CCC=1C1=CC=C(F)C=C1 ZHYIFJVMOVTKCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJAHNQCXMIQNMT-UHFFFAOYSA-N 4-(4-fluorophenyl)-1-heptyl-1-propan-2-yloxysilinane Chemical compound C1C[Si](CCCCCCC)(OC(C)C)CCC1C1=CC=C(F)C=C1 XJAHNQCXMIQNMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJTBXZTZNJBQOH-UHFFFAOYSA-N 4-(4-fluorophenyl)-1-heptylsilinane Chemical compound C1C[SiH](CCCCCCC)CCC1C1=CC=C(F)C=C1 LJTBXZTZNJBQOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTNOXZDZLDNXGK-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[4-(3,4-difluorophenyl)phenyl]ethyl]-1-pentyl-1-phenylsilinane Chemical group C1C[Si](CCCCC)(C=2C=CC=CC=2)CCC1CCC(C=C1)=CC=C1C1=CC=C(F)C(F)=C1 UTNOXZDZLDNXGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLEPOJAOVMNBLT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-fluorophenyl)phenyl]-1-phenyl-1-propylsilinane Chemical group C1C[Si](CCC)(C=2C=CC=CC=2)CCC1C(C=C1)=CC=C1C1=CC=C(F)C=C1 ZLEPOJAOVMNBLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBYRQFDMQLRYBT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[6-fluoro-6-(4-fluorophenyl)cyclohexa-1,3-dien-1-yl]phenyl]-1-pentyl-1-phenylsilinane Chemical group C(CCCC)[Si]1(CCC(CC1)C1=CC=C(C=C1)C=1C(CC=CC=1)(C1=CC=C(C=C1)F)F)C1=CC=CC=C1 FBYRQFDMQLRYBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMQPKONILWWJQG-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,2-difluorobenzene Chemical compound FC1=CC=C(Br)C=C1F YMQPKONILWWJQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZRUXEPYZSDLQC-BGTNAKSDSA-N CCCCC[Si@H]1CC[C@@H](CC1)c1ccc(c(F)c1)-c1ccc(CCc2ccc(F)c(F)c2)cc1 Chemical group CCCCC[Si@H]1CC[C@@H](CC1)c1ccc(c(F)c1)-c1ccc(CCc2ccc(F)c(F)c2)cc1 JZRUXEPYZSDLQC-BGTNAKSDSA-N 0.000 description 1
- KKPLTSYHVJMYKZ-XYWHTSSQSA-N CCCCC[Si@H]1CC[C@H](CCc2ccc(OCC)cc2)CC1 Chemical compound CCCCC[Si@H]1CC[C@H](CCc2ccc(OCC)cc2)CC1 KKPLTSYHVJMYKZ-XYWHTSSQSA-N 0.000 description 1
- WNNJAFIFHMSTGJ-HKWIKRMZSA-N CCC[Si@H]1CC[C@@H](CC1)[C@H]1CC[C@H](CCc2ccc(cc2)-c2ccc(Cl)c(F)c2)CC1 Chemical group CCC[Si@H]1CC[C@@H](CC1)[C@H]1CC[C@H](CCc2ccc(cc2)-c2ccc(Cl)c(F)c2)CC1 WNNJAFIFHMSTGJ-HKWIKRMZSA-N 0.000 description 1
- CHQKHVWXUKAQDV-KVYUOXTPSA-N CO[C@@H]1CC[C@H](CC1)[C@@H]1CC[Si@H](CC1)CCC Chemical compound CO[C@@H]1CC[C@H](CC1)[C@@H]1CC[Si@H](CC1)CCC CHQKHVWXUKAQDV-KVYUOXTPSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- UOSBZTUETFKDNJ-XGYOAAKMSA-N FC=1C=C(C=CC1F)C=C[C@@H]1CC[C@H](CC1)C1CC[Si](CC1)(C1=CC=CC=C1)CCCCC Chemical compound FC=1C=C(C=CC1F)C=C[C@@H]1CC[C@H](CC1)C1CC[Si](CC1)(C1=CC=CC=C1)CCCCC UOSBZTUETFKDNJ-XGYOAAKMSA-N 0.000 description 1
- KPVICQARSHMXJD-GJRKBJIGSA-N FC=1C=C(C=CC1F)[C@@H]1CC[C@H](CC1)C1CC[Si](CC1)(OCC)CCCCC Chemical compound FC=1C=C(C=CC1F)[C@@H]1CC[C@H](CC1)C1CC[Si](CC1)(OCC)CCCCC KPVICQARSHMXJD-GJRKBJIGSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012448 Lithium borohydride Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEDZLBFUGJTJGQ-UHFFFAOYSA-N [Na].COCCO[AlH]OCCOC Chemical compound [Na].COCCO[AlH]OCCOC JEDZLBFUGJTJGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYWQTJWGWLKBQA-UHFFFAOYSA-N [amino(hydroxy)methylidene]azanium;chloride Chemical compound Cl.NC(N)=O VYWQTJWGWLKBQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWQONZVLXJGXHV-UHFFFAOYSA-N [chlorosulfonyloxy(dimethyl)silyl]methane Chemical compound C[Si](C)(C)OS(Cl)(=O)=O QWQONZVLXJGXHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXXACINHVKSMDR-UHFFFAOYSA-N acetyl bromide Chemical compound CC(Br)=O FXXACINHVKSMDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005233 alkylalcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000085 borane Inorganic materials 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000004212 difluorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical class [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000043 hydrogen iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- LWJROJCJINYWOX-UHFFFAOYSA-L mercury dichloride Chemical compound Cl[Hg]Cl LWJROJCJINYWOX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- MUMZUERVLWJKNR-UHFFFAOYSA-N oxoplatinum Chemical compound [Pt]=O MUMZUERVLWJKNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003446 platinum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical group 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- BEOOHQFXGBMRKU-UHFFFAOYSA-N sodium cyanoborohydride Chemical compound [Na+].[B-]C#N BEOOHQFXGBMRKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000000707 stereoselective effect Effects 0.000 description 1
- 150000003458 sulfonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- NBRKLOOSMBRFMH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl chloride Chemical compound CC(C)(C)Cl NBRKLOOSMBRFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-O tributylazanium Chemical compound CCCC[NH+](CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- FIQMHBFVRAXMOP-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphane oxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)(=O)C1=CC=CC=C1 FIQMHBFVRAXMOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示素子の液晶物
質として用いられるシラシクロヘキサン化合物を製造す
る方法に関する。The present invention relates to a method for producing a silacyclohexane compound used as a liquid crystal material of a liquid crystal display device.
【0002】[0002]
【従来の技術】液晶表示素子は、液晶物質が持つ光学異
方性及び誘電異電性を利用したものであり、その表示様
式によってTN型(ねじれネマチック型)、STN型
(超ねじれネマチック型)、SBE型(超複屈折型)、
DS型(動的散乱型)、ゲスト・ホスト型、DAP型
(整列相の変形型)、PD型(ポリマー分散型)及びO
MI型(光学的モード干渉型)など各種の方式がある。
最も一般的なディスプレイデバイスはシャット−ヘルフ
リッヒ効果に基づき、ねじれネマチック構造を有するも
のである。2. Description of the Related Art A liquid crystal display device utilizes an optical anisotropy and a dielectric heteroelectric property of a liquid crystal material. Depending on the display mode, a TN type (twisted nematic type) and an STN type (super twisted nematic type) are used. , SBE type (super birefringent type),
DS type (dynamic scattering type), guest-host type, DAP type (deformed type of aligned phase), PD type (polymer dispersed type) and O
There are various types such as MI type (optical mode interference type).
The most common display devices are based on the Schadt-Helfrich effect and have a twisted nematic structure.
【0003】これらの液晶表示に用いられる液晶物質に
要求される性質は、その表示方式によって若干異なる
が、液晶温度範囲が広いこと、水分、空気、光、熱、電
界等に対して安定であること等は、いずれの表示方式に
おいても共通して要求される。さらに、液晶材料は、低
粘度であり、かつセル中において短いアドレス時間、低
い閾値電圧及び高いコントラストを与えることが望まれ
る。The properties required of the liquid crystal material used in these liquid crystal displays slightly vary depending on the display system, but the liquid crystal temperature range is wide, and the liquid crystal material is stable against moisture, air, light, heat, an electric field, and the like. This is commonly required in any of the display methods. Further, it is desired that the liquid crystal material has a low viscosity and provides a short address time, a low threshold voltage and a high contrast in the cell.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】近年、液晶ディスプレ
ーの用途が拡大するにつれて、液晶材料に要求される特
性も益々高度な厳しいものになりつつある。特に、駆動
電圧の低電圧化、車載用ニーズに対応した広域温度範囲
化、低温性能の向上等、従来の液晶物質の特性を更に上
回るものが望まれるようになってきた。In recent years, as the applications of liquid crystal displays have expanded, the characteristics required for liquid crystal materials have become increasingly severe and strict. In particular, it has been desired to further improve the characteristics of conventional liquid crystal materials, such as lowering the driving voltage, widening the temperature range corresponding to the needs for vehicles, and improving low-temperature performance.
【0005】また、従来知られている炭化水素系液晶化
合物の製造工程において、液晶性を示すトランス体の他
に非液晶性のシス体が副生するのは不可避である。これ
らは、再結晶などの方法で精製してトランス体だけが分
離されている。一方、製造工程でのロスを少なくするに
は、トランス体を選択的に製造すればよいが、トランス
体を選択的に製造する方法に関してはこれまで報告され
ていない。[0005] In addition, in the production process of a conventionally known hydrocarbon liquid crystal compound, it is inevitable that a non-liquid crystal cis-isomer is produced as a by-product in addition to a trans-isomer having a liquid crystallinity. These are purified by a method such as recrystallization to separate only the trans form. On the other hand, in order to reduce the loss in the production process, the trans form may be selectively produced, but a method for selectively producing the trans form has not been reported so far.
【0006】このような観点から、発明者らは、液晶物
質の向上を目的として分子中にケイ素原子を含有する新
規な液晶化合物を開発し、先に出願した。これら液晶化
合物としてはトランス体が有用であるが、製造段階では
シス体とトランス体との混合物として得られ、これらか
らトランス体を分離する必要があった。From such a viewpoint, the inventors have developed a novel liquid crystal compound containing a silicon atom in a molecule for the purpose of improving a liquid crystal substance, and have previously filed an application. Although trans-forms are useful as these liquid crystal compounds, they are obtained as a mixture of cis-forms and trans-forms in the production stage, and it is necessary to separate the trans-form from these.
【0007】そこで本発明は、これらの新規液晶化合物
を製造する際、実用上必要なトランス体を優先的に製造
する方法を提供することを目的とする。Therefore, an object of the present invention is to provide a method for preferentially producing a trans-form required for practical use when producing these novel liquid crystal compounds.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、一般
式That is, the present invention provides a compound represented by the following general formula:
【化14】 (但し、Arはフェニル基又はトリル基、Rは炭素数1
〜10の直鎖状アルキル基、炭素数3〜8の分枝鎖状ア
ルキル基、炭素数1〜10のモノ又はジフルオロアルキ
ル基又は炭素数2〜7のアルコキシアルキル基、QはEmbedded image (However, Ar is a phenyl group or a tolyl group, and R is
A linear alkyl group having 10 to 10, a branched alkyl group having 3 to 8 carbon atoms, a mono- or difluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxyalkyl group having 2 to 7 carbon atoms, Q is
【化15】 (但し、Embedded image (However,
【化16】 及びEmbedded image as well as
【化17】 は、それぞれ独立してEmbedded image Are each independently
【化18】 又はEmbedded image Or
【化19】 を表し、Embedded image Represents
【化20】 はEmbedded image Is
【化21】 又はEmbedded image Or
【化22】 を表し、XはCN、F、Cl、CF3、CF2Cl、OC
F3、OCHF2、OCF2Cl、OCHF Cl、(O)m
CY=CX1X2(mは0又は1、Y及びX1はH、F又
はClを表し、X2はF又はClを表す。)、O(C
H2)r(CF2)sX3(r及びsは0、1又は2で且つ
(r+s)が2、3又は4である数を表し、X3はF又
はClを表す。)、R又はOR基を表し、i1、i2及
びi3はそれぞれ0又は1で且つi1+i2+i3=1
を満たす数を表し、j及びkはそれぞれ0、1又は2で
且つj+kが0、1又は2となる数を表し、Y1及びY2
はそれぞれ独立してH、F又はClを表し、Y3はH、
F又はメチル基を表し、l(エル)は0、1又は2を表
す。)を表す。)で表される化合物を、一般式Embedded imageX represents CN, F, Cl, CFThree, CFTwoCl, OC
FThree, OCHFTwo, OCFTwoCl, OCHF Cl, (O)m
CY = CX1XTwo(M is 0 or 1, Y and X1Is H, F or
Represents Cl, XTwoRepresents F or Cl. ), O (C
HTwo)r(CFTwo)sXThree(R and s are 0, 1 or 2 and
X represents a number in which (r + s) is 2, 3 or 4;ThreeIs F
Represents Cl. ), R or OR groups, i1, i2 and
And i3 are each 0 or 1, and i1 + i2 + i3 = 1
Where j and k are 0, 1, or 2, respectively.
And j + k represents 0, 1, or 2, and Y1And YTwo
Each independently represents H, F or Cl;ThreeIs H,
Represents F or a methyl group, and 1 (ell) represents 0, 1 or 2.
You. ). ) Is represented by the general formula
【化23】 (但し、X’はF、Cl、Br又はIを表す。)で表さ
れるハロシラシクロヘキサンに変換した後、一般式Embedded image (Where X 'represents F, Cl, Br or I), and then converted into a halosilacyclohexane represented by the general formula
【化24】R’OH (但し、R’は炭素数1〜10の直鎖アルキル基又は炭
素数3〜8の分枝アルキル基を表す。)で表されるアル
コールと反応させて、一般式Embedded image by reacting with an alcohol represented by R′OH (where R ′ represents a linear alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a branched alkyl group having 3 to 8 carbon atoms);
【化25】 で表されるアルコキシシラシクロヘキサンに変換し、平
衡化させた後、還元して、一般式Embedded image Is converted to alkoxysilacyclohexane represented by
【化26】 で表されるシラシクロヘキサン化合物を得ることを特徴
とするシラシクロヘキサン化合物の製造方法である。Embedded image Wherein the silacyclohexane compound represented by the formula is obtained.
【0009】次に、本発明をさらに詳細に説明する。Next, the present invention will be described in more detail.
【0010】本発明は、これらの新規液晶化合物を製造
する際、実用上必要なトランス体を優先的に製造する方
法に関するものである。このような立体選択性の高い反
応は、従来の炭化水素系液晶化合物では不可能であり、
本発明者が先に出願した分子中にケイ素原子を含有する
新規な液晶化合物で達成できるものである。このことに
より、製造工程全体の収率が向上し、従来の炭化水素系
液晶化合物よりも経済的になった。The present invention relates to a method for preferentially producing a trans-form required for practical use in producing these novel liquid crystal compounds. Such a highly stereoselective reaction is impossible with conventional hydrocarbon-based liquid crystal compounds,
The present invention can be achieved by a novel liquid crystal compound containing a silicon atom in a molecule, which was previously filed by the present inventors. As a result, the yield of the entire production process is improved, and the process is more economical than conventional hydrocarbon-based liquid crystal compounds.
【0011】具体的に説明すると、次の反応式に示して
あるように、フェニルシラシクロヘキサン化合物から、
求電子試薬による反応でハロシラシクロヘキサン化合物
を得ることができる。求電子試薬はシラシクロヘキサン
に対し1〜2当量用いることが好ましい。この反応は0
〜80℃が好ましく、実に10〜40℃で行われるとよ
い。Specifically, as shown in the following reaction formula, from a phenylsilacyclohexane compound,
A halosilacyclohexane compound can be obtained by a reaction with an electrophile. It is preferable to use 1 to 2 equivalents of the electrophile with respect to silacyclohexane. This reaction is 0
The temperature is preferably from 80 to 80 ° C, and the temperature is preferably from 10 to 40 ° C.
【化27】 Embedded image
【0012】求電子試薬としてハロゲン、ハロゲン化水
素、ハロゲン化金属、スルホン酸誘導体、酸ハロゲン化
物、ハロゲン化アルキル等をあげることができる。特
に、ヨウ素、臭素、塩素、一塩化ヨウ素、塩化水素、臭
化水素、ヨウ化水素、塩化水銀(II)、クロロスルホ
ン酸トリメチルシリル、塩化アセチル、臭化アセチル、
塩化ベンゾイル、塩化t−ブチル等を好ましく例示でき
る。反応速度を高めるために塩化アルミニウム、塩化亜
鉛、四塩化チタン、三フッ化ホウ素等のルイス酸類の添
加や光の照射(可視光線、紫外線)を行ってもよい。Examples of the electrophilic reagent include halogen, hydrogen halide, metal halide, sulfonic acid derivative, acid halide, and alkyl halide. In particular, iodine, bromine, chlorine, iodine monochloride, hydrogen chloride, hydrogen bromide, hydrogen iodide, mercury (II) chloride, trimethylsilyl chlorosulfonate, acetyl chloride, acetyl bromide,
Preferred examples include benzoyl chloride and t-butyl chloride. In order to increase the reaction rate, Lewis acids such as aluminum chloride, zinc chloride, titanium tetrachloride, and boron trifluoride may be added or light irradiation (visible light, ultraviolet light) may be performed.
【0013】このとき、ケイ素原子上でアルキル基の立
体配置の平衡化がおこり、シラシクロヘキサン環に関し
てQとアルキル基はより安定なトランス配置になる。At this time, the configuration of the alkyl group is equilibrated on the silicon atom, and Q and the alkyl group have a more stable trans configuration with respect to the silacyclohexane ring.
【化28】 Embedded image
【0014】一般に、クロロシランは立体反転で還元が
進行することが知られている(“The Chemis
try of Organic Silicon Co
mpounds Part 1”第4章、Saul P
atai and ZviRappoport;Joh
n Wiley & Sons(1989)参照)。In general, it is known that reduction of chlorosilane proceeds by steric inversion (“The Chemis”).
try of Organic Silicon Co
mounds Part 1 "Chapter 4, Saul P
atai and ZviRappport; Joh
n Wiley & Sons (1989)).
【化29】 Embedded image
【0015】従って、ハロシラシクロヘキサン化合物
を、後述する還元剤を用いて還元すると、立体反転によ
り還元が進行し、目的のトランス体の収率が減少する。Accordingly, when the halosilacyclohexane compound is reduced using a reducing agent described later, the reduction proceeds by steric inversion, and the yield of the desired trans form is reduced.
【化30】 Embedded image
【0016】そこで、立体保持で還元できるアルコキシ
シラシクロヘキサン化合物を経由し、ケイ素原子上でア
ルキル基の立体配置の平衡化を起こさせ、トランス体の
比率を高くした後、還元することにより、目的のトラン
ス体を収率良く得ることが出来ることを見出し、本発明
を完成するに至った。[0016] Therefore, by passing through an alkoxysilacyclohexane compound that can be reduced by steric retention, the configuration of the alkyl group on the silicon atom is equilibrated, and after the ratio of the trans form is increased, reduction is carried out. The inventors have found that the trans form can be obtained with good yield, and have completed the present invention.
【0017】更に詳しく説明すると、必要となるアルコ
キシシラシクロヘキサン化合物は、ハロシラシクロヘキ
サン化合物とアルコールとの反応で得ることができる。More specifically, the required alkoxysilacyclohexane compound can be obtained by reacting a halosilacyclohexane compound with an alcohol.
【0018】[0018]
【化31】 Embedded image
【0019】このとき、ケイ素原子上でアルキル基の立
体配置の平衡化が起こり、Qとアルキル基はより安定な
トランス配置になる。At this time, the configuration of the alkyl group is equilibrated on the silicon atom, so that Q and the alkyl group have a more stable trans configuration.
【0020】[0020]
【化32】 Embedded image
【0021】一般に、アルコキシシランは立体保持で還
元が進行することが知られている(“The Chem
istry of Organic Silicon
Compounds Part 1”第4章、Saul
Patai and Zvi Rappoport;
John Wiley & Sons(1989)参
照)。In general, reduction of alkoxysilane is known to proceed by steric retention (“The Chem”).
istry of Organic Silicon
Compounds Part 1 "Chapter 4, Saul
Patai and Zvi Rapport;
John Wiley & Sons (1989)).
【0022】[0022]
【化33】 Embedded image
【0023】従って、アルコキシシラシクロヘキサン化
合物を、後述する還元剤を用いて還元すると、立体保持
により還元が進行し、目的のトランス体を収率よく得る
ことができる。Accordingly, when the alkoxysilacyclohexane compound is reduced using a reducing agent described later, the reduction proceeds due to steric retention, and the desired trans form can be obtained in good yield.
【化34】 Embedded image
【0024】具体的に説明すると、[化31]の反応で
使用されるアルコールとしては炭素数が1〜10の直鎖
または分枝状アルキルアルコールが好ましい。このと
き、発生するハロゲン化水素を中和するため、トリエチ
ルアミンや尿素などのアミン類、プロピレンオキサイド
などのエポキシ類を添加してもよい。More specifically, the alcohol used in the reaction of [Chemical Formula 31] is preferably a linear or branched alkyl alcohol having 1 to 10 carbon atoms. At this time, an amine such as triethylamine or urea, or an epoxy such as propylene oxide may be added to neutralize the generated hydrogen halide.
【0025】[化32]で示すように、ハロシラシクロ
ヘキサン化合物からアルコキシシラシクロヘキサン化合
物に変換する際に平衡化する。この反応は0〜80℃で
0.1〜5時間行われるとよい。また、30〜80℃で
加熱したり、メタノール、エタノール、n−プロピルア
ルコール、iso−プロピルアルコール、n−ブチルア
ルコール等の炭素数1〜5の低級アルコールハロシラシ
クロヘキサン化合物に対し、1〜5当量使用したり、ナ
トリウムメチラートやナトリウムエチラート金属アルコ
ラートを添加すると、平衡化を促進できる。さらに、こ
れらの操作を組み合わせたりすることができる。この
際、溶媒としては、ジエチルエーテル、THF、ジオキ
サン等のエーテル類、上述のアルコール類、ベンゼン、
トルエン、ヘキサン等の炭化水素類を用いるとよい。As shown in [Formula 32], equilibration occurs when converting the halosilacyclohexane compound to the alkoxysilacyclohexane compound. This reaction is preferably performed at 0 to 80 ° C. for 0.1 to 5 hours. In addition, heating at 30 to 80 ° C., 1 to 5 equivalents to lower alcohol halosilacyclohexane compound having 1 to 5 carbon atoms such as methanol, ethanol, n-propyl alcohol, iso-propyl alcohol, n-butyl alcohol, etc. Use or addition of sodium methylate or sodium ethylate metal alcoholate can promote equilibration. Further, these operations can be combined. At this time, as the solvent, ethers such as diethyl ether, THF, dioxane, the above-mentioned alcohols, benzene,
It is preferable to use hydrocarbons such as toluene and hexane.
【0026】平衡化したアルコキシシラシクロヘキサン
化合物の還元に用いられる試薬として、水素化ナトリウ
ム、水素化カルシウム、トリアルキルシラン類、ボラン
類、ジアルキルアルミニウム等の金属水素化物、水素化
アルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素
化ホウ素リチウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ
素トリブチルアンモニウムなどの錯水素化化合物(Co
mplex hydride)やこれらの置換型ヒドリ
ド化合物、すなわち、リチウムトリアルコキシアルミニ
ウムヒドリド、ナトリウムジ(メトキシエトキシ)アル
ミニウムヒドリド、リチウムトリエチルボロヒドリド、
ナトリウムシアノボロヒドリド等を挙げることができ
る。これら還元試薬は、アルコキシシラシクロヘキサン
に対し1〜5当量用いられ、還元反応は、好ましくは0
〜100℃、更には20〜70℃で行われるとよい。ま
た、この様な還元反応はジエチルエーテル、THF、ジ
オキサン、トルエン、キシレン、ヘキサン、イソオクタ
ン等の溶液中で行なわれる。Reagents used for reduction of the equilibrated alkoxysilacyclohexane compound include metal hydrides such as sodium hydride, calcium hydride, trialkylsilanes, borane, dialkylaluminum, lithium aluminum hydride, borohydride Complex hydride compounds such as sodium, lithium borohydride, potassium borohydride, tributylammonium borohydride (Co
hydride and their substituted hydride compounds, ie, lithium trialkoxyaluminum hydride, sodium di (methoxyethoxy) aluminum hydride, lithium triethylborohydride,
Sodium cyanoborohydride and the like can be mentioned. These reducing reagents are used in an amount of 1 to 5 equivalents relative to alkoxysilacyclohexane, and the reduction
-100 ° C, more preferably 20-70 ° C. Such a reduction reaction is carried out in a solution of diethyl ether, THF, dioxane, toluene, xylene, hexane, isooctane and the like.
【0027】以上のように、本発明の方法に従って製造
された化合物は、再結晶やクロマトグラフィー等の常法
によって実用上必要な純度に精製して、目的のトランス
体のシラシクロヘキサン型液晶化合物を得ることができ
る。As described above, the compound produced according to the method of the present invention is purified to a purity required for practical use by a conventional method such as recrystallization or chromatography to obtain the desired trans-form of the silacyclohexane type liquid crystal compound. Obtainable.
【0028】本発明の方法によれば、これまで知られて
いる炭化水素系液晶化合物の製造工程と比較して、ケイ
素含有液晶化合物ではトランス体の選択率を高くできる
ようになった。従って、製造工程でのシス体の副生によ
るロスが少なくなった意義は非常に大きい。According to the method of the present invention, the selectivity of the trans-isomer of the silicon-containing liquid crystal compound can be increased as compared with the known production process of the hydrocarbon liquid crystal compound. Therefore, it is very significant that the loss due to the by-product of the cis-form in the manufacturing process is reduced.
【0029】[0029]
【実施例】以下に具体的な実施例を挙げて本発明をさら
に詳しく説明する。The present invention will be described below in more detail with reference to specific examples.
【0030】[製造例1]4−(トランス−4−(2−
(3,4−ジフルオロフェニル)エチル)シクロヘキシ
ル)−1−n−ペンチル−1−フェニル−1−シラシク
ロヘキサンの製造3,4−ジフルオロベンジルトリフェ
ニルホスホニウムブロミド47.0gとテトラヒドロフ
ラン(以下「THF」と略す。)200mlの混合物中
にカリウムt−ブトキシド12.0gを加え、燈色のイ
リド溶液を調製し、この溶液に4−(4−n−ペンチル
−4−フェニル−4−シラシクロヘキシル)シクロヘキ
サンカルバルデヒド35.0gのTHF50mlを加え
た。室温で2時間攪拌した後、氷水にあけ、酢酸エチル
で抽出した。通常のブラインで洗浄、乾燥、濃縮で得ら
れた残渣にn−ヘキサン100mlを加え、生じたトリ
フェニルホスフィンオキシドの結晶を濾別し、濾液を濃
縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し
て、4−(トランス−4−(2−(3,4−ジフルオロ
フェニル)エテニル)シクロヘキシル)−1−n−ペン
チル−1−フェニル−1−シラシクロヘキサン41.7
gを得た。 IR(液膜) νmax:2920,2855,159
5,1515,1425,1290,1110,96
0,800cm-1 [Production Example 1] 4- (trans-4- (2-
Production of (3,4-difluorophenyl) ethyl) cyclohexyl) -1-n-pentyl-1-phenyl-1-silacyclohexane 47.0 g of 3,4-difluorobenzyltriphenylphosphonium bromide and tetrahydrofuran (hereinafter referred to as “THF”) 12.0 g of potassium t-butoxide was added to 200 ml of a mixture to prepare a light-colored ylide solution, and 4- (4-n-pentyl-4-phenyl-4-silacyclohexyl) cyclohexanecarbamate was added to this solution. 35.0 g of aldehyde were added in 50 ml of THF. After stirring at room temperature for 2 hours, the mixture was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. 100 ml of n-hexane was added to the residue obtained by washing with ordinary brine, drying and concentration, the resulting triphenylphosphine oxide crystals were filtered off, and the filtrate was concentrated. The residue was purified by silica gel chromatography to give 4- (trans-4- (2- (3,4-difluorophenyl) ethenyl) cyclohexyl) -1-n-pentyl-1-phenyl-1-silacyclohexane 41.7.
g was obtained. IR (liquid film) νmax: 2920, 2855, 159
5,1515,1425,1290,1110,96
0,800cm -1
【0031】得られた4−(トランス−4−(2−
(3,4−ジフルオロフェニル)エテニル)シクロヘキ
シル)−1−n−ペンチル−1−フェニル−1−シラシ
クロヘキサン40.0gを酢酸エチル200mlに溶か
し、酸化白金200mgを触媒として、0.1MPaで
水素添加した。理論量の水素が消費された後、触媒をろ
別し、濾液を濃縮して4−(トランス−4−(2−
(3,4−ジフルオロフェニル)エチル)シクロヘキシ
ル)−1−n−ペンチル−1−フェニル−1−シラシク
ロヘキサン40.2gを得た。 IR(液膜) νmax:2920,2855,160
5,1518,1280,1110,853,810c
m-1 The obtained 4- (trans-4- (2-
40.0 g of (3,4-difluorophenyl) ethenyl) cyclohexyl) -1-n-pentyl-1-phenyl-1-silacyclohexane was dissolved in 200 ml of ethyl acetate, and hydrogenated at 0.1 MPa using 200 mg of platinum oxide as a catalyst. did. After the theoretical amount of hydrogen has been consumed, the catalyst is filtered off and the filtrate is concentrated to give 4- (trans-4- (2-
40.2 g of (3,4-difluorophenyl) ethyl) cyclohexyl) -1-n-pentyl-1-phenyl-1-silacyclohexane was obtained. IR (liquid film) νmax: 2920, 2855, 160
5,1518,1280,1110,853,810c
m -1
【0032】[実施例1] トランス−4−(トランス−4−(2−(3,4−ジフ
ルオロフェニル)エチル)シクロヘキシル)−1−n−
ペンチル−1−シラシクロヘキサンの製造 [製造例1]で得られた4−(トランス−4−(2−
(3,4−ジフルオロフェニル)エチル)シクロヘキシ
ル)−1−n−ペンチル−1−フェニル−1−シラシク
ロヘキサン40.0gに、室温で1.0mol/l(リ
ットル)一塩化ヨウ素のジクロロメタン溶液100ml
を加え、1時間攪拌し、シス−トランス異性体混合物を
得た。 GC−MS(70eV)(m/z)+ シス体:426(M+)、355(M+−C5H11)、 トランス体:426(M+)、355(M+−C5H11)Example 1 trans-4- (trans-4- (2- (3,4-difluorophenyl) ethyl) cyclohexyl) -1-n-
Production of pentyl-1-silacyclohexane 4- (trans-4- (2-) obtained in Production Example 1
(3,4-difluorophenyl) ethyl) cyclohexyl) -1-n-pentyl-1-phenyl-1-silacyclohexane 40.0 g at room temperature, 1.0 mol / l (liter) iodine monochloride 100 ml dichloromethane solution
Was added and stirred for 1 hour to obtain a cis-trans isomer mixture. GC-MS (70 eV) (m / z) + cis form: 426 (M + ), 355 (M + -C 5 H 11 ), trans form: 426 (M + ), 355 (M + -C 5 H 11) )
【0033】続いて、この溶液にメタノール4.0g及
びトリエチルアミン11.0gの混合物を室温で加え、
更に1時間還流攪拌した。得られた4−(トランス−4
−(2−(3,4−ジフルオロフェニル)エチル)シク
ロヘキシル)−1−n−ペンチル−1−メトキシ−1−
シラシクロヘキサンのシス−トランス異性体混合物をガ
スクロマトグラフィーで定量したところ、シス体(保持
時間:12.02分)とトランス体(保持時間:12.
28分)の比率は10:90であった。 (測定条件:Hewlett−Packard社製58
90−II、キャピラリカラム:Hewlett−Pa
ckard社製Ultra−20.25φ×30m、以
下同様の条件で測定した。) (温度条件:200℃から10℃/分で300℃まで昇
温、以下「200℃+10℃/分→300℃」と略
す。) GC−MS(70eV)(m/z)+ シス体:422(M+)、351(M+−C5H11) トランス体:422(M+)、351(M+−C5H11)Subsequently, a mixture of 4.0 g of methanol and 11.0 g of triethylamine was added to this solution at room temperature.
The mixture was further stirred under reflux for 1 hour. The resulting 4- (trans-4
-(2- (3,4-difluorophenyl) ethyl) cyclohexyl) -1-n-pentyl-1-methoxy-1-
When the mixture of cis-trans isomers of silacyclohexane was quantified by gas chromatography, the cis-form (retention time: 12.02 minutes) and the trans-form (retention time: 12.
28 min) was 10:90. (Measurement conditions: 58 manufactured by Hewlett-Packard)
90-II, capillary column: Hewlett-Pa
The measurement was carried out under the same conditions as in Ultra-20.25φ × 30 m manufactured by CARD. (Temperature conditions: temperature is raised from 200 ° C. to 300 ° C. at 10 ° C./min, hereinafter abbreviated as “200 ° C. + 10 ° C./min→300° C.”) GC-MS (70 eV) (m / z) + cis-form: 422 (M + ), 351 (M + -C 5 H 11 ) Trans form: 422 (M + ), 351 (M + -C 5 H 11 )
【0034】次に、この反応混合物を濃縮した後、ヘキ
サン200mlを加えて副成したトリエチルアミン塩酸
塩を析出させ、これを濾別し、ろ濾液を濃縮して4−
(トランス−4−(2−(3,4−ジフルオロフェニ
ル)エチル)シクロヘキシル)−1−n−ペンチル−1
−メトキシ−1−シラシクロヘキサン34.6gを得
た。これをTHF100mlに溶かし、水素化アルミニ
ウムリチウム10.0gのTHF100ml溶液に加え
た。反応混合物を1時間還流攪拌した後、上記の条件で
目的物のシス−トランス異性体混合物をガスクロマトグ
ラフィーで定量したところ、シス体(保持時間:11.
35分)とトランス体(保持時間:11.61分)の比
率は12:88であった。反応混合物を5%塩酸200
mlにあけ、酢酸エチルで抽出した。通常のブラインで
洗浄、乾燥、濃縮の後、シリカゲルクロマトグラフィー
で精製して、目的物28.9g(収率86.3%)を得
た。このものは、7.6〜69.7℃の間でネマチック
液晶性を示し、液晶物質として非常に有用であることが
わかった。 IR(液膜) νmax:2920,2852,209
8,1520,1286,1211,1119,88
7,816cm-1 Next, after concentrating the reaction mixture, 200 ml of hexane was added to precipitate by-product triethylamine hydrochloride, which was filtered off, and the filtrate was concentrated to give 4-ethylamine.
(Trans-4- (2- (3,4-difluorophenyl) ethyl) cyclohexyl) -1-n-pentyl-1
34.6 g of -methoxy-1-silacyclohexane were obtained. This was dissolved in 100 ml of THF, and added to a solution of 10.0 g of lithium aluminum hydride in 100 ml of THF. After the reaction mixture was stirred under reflux for 1 hour, the target cis-trans isomer mixture was quantified by gas chromatography under the above conditions.
35 minutes) and the trans form (retention time: 11.61 minutes) were 12:88. The reaction mixture was treated with 5% hydrochloric acid 200
The mixture was poured into ml and extracted with ethyl acetate. After washing with ordinary brine, drying and concentration, purification was performed by silica gel chromatography to obtain 28.9 g (yield: 86.3%) of the desired product. This compound exhibited nematic liquid crystallinity between 7.6 and 69.7 ° C., and was found to be very useful as a liquid crystal material. IR (liquid film) νmax: 2920, 2852, 209
8,1520,1286,1211,1119,88
7,816 cm -1
【0035】[比較例1][製造例1]で得られた4−
(トランス−4−(2−(3,4−ジフルオロフェニ
ル)エチル)シクロヘキシル)−1−n−ペンチル−1
−フェニル−1−シラシクロヘキサン40.0gに、室
温で1.0mol/l(リットル)一塩化ヨウ素のジク
ロロメタン溶液100mlを加え、1時間攪拌し、シス
−トランス異性体混合物を得た。これを上記の条件でガ
スクロマトグラフィーで定量したところ、シス体(保持
時間:12.62分)とトランス体(保持時間:13.
05分)の比率は83:17であった。この反応混合物
を濃縮した後、残液をTHF100mlに溶かし、0℃
で水素化アルミニウムリチウム10.0gのTHF10
0ml溶液に加えた。反応混合物を30分攪拌した後、
上記の条件で目的物のシス−トランス異性体混合物をガ
スクロマトグラフィーで定量したところ、シス体とトラ
ンス体の比率は83:17であった。反応混合物を5%
塩酸200mlにあけ、酢酸エチルで抽出した。通常の
ブラインで洗浄、乾燥、濃縮の後、シリカゲルクロマト
グラフィーで精製して、目的物5.4g(収率16.1
%)を得た。[Comparative Example 1] 4-Compound obtained in [Production Example 1]
(Trans-4- (2- (3,4-difluorophenyl) ethyl) cyclohexyl) -1-n-pentyl-1
To 40.0 g of -phenyl-1-silacyclohexane at room temperature, 100 ml of a 1.0 mol / l (liter) solution of iodine monochloride in dichloromethane was added, and the mixture was stirred for 1 hour to obtain a cis-trans isomer mixture. When this was quantified by gas chromatography under the above conditions, the cis form (retention time: 12.62 minutes) and the trans form (retention time: 13.
05 min) was 83:17. After concentrating the reaction mixture, the residue was dissolved in 100 ml of THF,
Of lithium aluminum hydride in THF10
0 ml was added to the solution. After stirring the reaction mixture for 30 minutes,
The ratio of the cis-trans isomer was 83:17 when the target cis-trans isomer mixture was quantified by gas chromatography under the above conditions. 5% reaction mixture
The mixture was poured into 200 ml of hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate. After washing with ordinary brine, drying and concentration, the resultant is purified by silica gel chromatography to obtain 5.4 g of the desired product (yield 16.1).
%).
【0036】[製造例2] 4−(トランス−4−(3,4−ジフルオロフェニル)
シクロヘキシル)−1−n−ペンチル−1−フェニル−
1−シラシクロヘキサンの製造 3,4−ジフルオロブロモベンゼン19.3gをマグネ
シウム2.55g及びTHF50mlの混合物中に滴下
し、3時間還流してグリニヤール試薬を得た。これに4
−(4−n−ペンチル−4−フェニル−4−シラシクロ
ヘキシル)シクロヘキサノン34.0gのTHF50m
l溶液を加えた。2時間還流後、反応混合物を室温に冷
却し、塩化アンモニウム水溶液にあけ、ベンゼンで抽出
した。このベンゼン溶液にp−トルエンスルホン酸1g
を加え、還流しながら、発生してくる水を分離除去し
た。水が留出しなくなったところで室温に冷却した。次
に、反応混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液にあけ、通
常のブラインで洗浄、乾燥、濃縮の後、残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィーで精製して、4−(4−(3,4
−ジフルオロフェニル)−3−シクロヘキセニル)−1
−n−ペンチル−1−フェニル−1−シラシクロヘキサ
ン38.0gを得た。これを酢酸エチル200mlに溶
かし、パラジウム−炭素200mgを触媒として、0.
5MPaで水素添加した。理論量の水素が消費された
後、触媒を濾別し、濾液を濃縮して4−(トランス−4
−(3,4−ジフルオロフェニル)シクロヘキシル)−
1−n−ペンチル−1−フェニル−1−シラシクロヘキ
サン38.2gを得た。 IR(液膜) νmax:2920,2855,160
3,1517,1422,1274,1110,86
8,812cm-1 [Production Example 2] 4- (trans-4- (3,4-difluorophenyl)
Cyclohexyl) -1-n-pentyl-1-phenyl-
Production of 1-silacyclohexane 19.3 g of 3,4-difluorobromobenzene was dropped into a mixture of 2.55 g of magnesium and 50 ml of THF, and refluxed for 3 hours to obtain a Grignard reagent. This is 4
-(4-n-pentyl-4-phenyl-4-silacyclohexyl) cyclohexanone 34.0 g of THF 50 m
1 solution was added. After refluxing for 2 hours, the reaction mixture was cooled to room temperature, poured into an aqueous ammonium chloride solution, and extracted with benzene. 1 g of p-toluenesulfonic acid was added to this benzene solution.
Was added, and the generated water was separated and removed while refluxing. When no more water distilled, the mixture was cooled to room temperature. Next, the reaction mixture was poured into an aqueous sodium hydrogen carbonate solution, washed with ordinary brine, dried and concentrated, and the residue was purified by silica gel chromatography to give 4- (4- (3,4
-Difluorophenyl) -3-cyclohexenyl) -1
38.0 g of -n-pentyl-1-phenyl-1-silacyclohexane were obtained. This was dissolved in 200 ml of ethyl acetate, and 0.2 mg of palladium-carbon was used as a catalyst.
Hydrogenation was performed at 5 MPa. After the theoretical amount of hydrogen has been consumed, the catalyst is filtered off and the filtrate is concentrated to give 4- (trans-4
-(3,4-difluorophenyl) cyclohexyl)-
38.2 g of 1-n-pentyl-1-phenyl-1-silacyclohexane was obtained. IR (liquid film) νmax: 2920, 2855, 160
3,1517,1422,1274,1110,86
8,812 cm -1
【0037】[実施例2] トランス−(4−(トランス−4−(3,4−ジフルオ
ロフェニル)シクロヘキシル))−1−n−ペンチル−
1−シラシクロヘキサンの製造 [製造例2]で得られた4−(トランス−4−(3,4
−ジフルオロフェニル)シクロヘキシル)−1−n−ペ
ンチル−1−フェニル−1−シラシクロヘキサン38.
0gに、室温で1.0mol/l(リットル)一塩化ヨ
ウ素のジクロロメタン溶液100mlを加え、1時間攪
拌し、シス−トランス異性体混合物を得た。 GC−MS(70eV)(m/z)+ シス体:398(M+)、327(M+−C5H11) トランス体:398(M+)、327(M+−C5H11)Example 2 trans- (4- (trans-4- (3,4-difluorophenyl) cyclohexyl))-1-n-pentyl-
Production of 1-silacyclohexane 4- (trans-4- (3,4) obtained in [Production Example 2]
-Difluorophenyl) cyclohexyl) -1-n-pentyl-1-phenyl-1-silacyclohexane 38.
To 0 g, 100 ml of a 1.0 mol / l (liter) solution of iodine monochloride in dichloromethane was added at room temperature, followed by stirring for 1 hour to obtain a cis-trans isomer mixture. GC-MS (70 eV) (m / z) + cis form: 398 (M + ), 327 (M + -C 5 H 11 ) Trans form: 398 (M + ), 327 (M + -C 5 H 11 )
【0038】続いて、この溶液にエタノール5.0g及
び尿素6.0gの混合物を室温で加え、更に1時間還流
攪拌した。得られた4−(トランス−4−(3,4−ジ
フルオロフェニル)シクロヘキシル)−1−n−ペンチ
ル−1−エトキシ−1−シラシクロヘキサンのシス−ト
ランス異性体混合物をガスクロマトグラフィーで定量し
たところ、シス体(保持時間:10.65分)とトラン
ス体(保持時間:10.72分)の比率は10:90で
あった。 GC−MS(70eV)(m/z)+ シス体:408(M+)、337(M+−C5H11) トランス体:408(M+)、337(M+−C5H11)Subsequently, a mixture of 5.0 g of ethanol and 6.0 g of urea was added to this solution at room temperature, and the mixture was further stirred under reflux for 1 hour. The obtained cis-trans isomer mixture of 4- (trans-4- (3,4-difluorophenyl) cyclohexyl) -1-n-pentyl-1-ethoxy-1-silacyclohexane was quantified by gas chromatography. The ratio between the cis form (retention time: 10.65 minutes) and the trans form (retention time: 10.72 minutes) was 10:90. GC-MS (70 eV) (m / z) + cis form: 408 (M + ), 337 (M + -C 5 H 11 ) Trans form: 408 (M + ), 337 (M + -C 5 H 11 )
【0039】次に、この反応混合物を濃縮した後、ヘキ
サン200mlを加えて副成した尿素塩酸塩を分離し、
残液を濃縮して4−(トランス−4−(3,4−ジフル
オロフェニル)シクロヘキシル)−1−n−ペンチル−
1−エトキシ−1−シラシクロヘキサン33.8gを得
た。これをTHF100mlに溶かし、水素化アルミニ
ウムリチウム10.0gのTHF100ml溶液に加え
た。反応混合物を1時間還流攪拌した後、上記の条件で
目的物のシス−トランス異性体混合物をガスクロマトグ
ラフィーで定量したところ、シス体(保持時間:9.5
6分)とトランス体(保持時間:9.66分)の比率は
11:89であった。反応混合物を5%塩酸200ml
にあけ、酢酸エチルで抽出した。通常のブラインで洗
浄、乾燥、濃縮の後、シリカゲルクロマトグラフィーで
精製して、目的物25.2g(収率80.2%)を得
た。このものは、14.3〜71.6℃の間でネマチッ
ク液晶性を示し、液晶物質として非常に有用であること
がわかった。 IR(液膜) νmax:2923,2845,209
2,1608,1520,1296,1213,111
3,891,825,808cm-1 Next, after concentrating this reaction mixture, 200 ml of hexane was added to separate by-produced urea hydrochloride.
The residue is concentrated to give 4- (trans-4- (3,4-difluorophenyl) cyclohexyl) -1-n-pentyl-
33.8 g of 1-ethoxy-1-silacyclohexane was obtained. This was dissolved in 100 ml of THF, and added to a solution of 10.0 g of lithium aluminum hydride in 100 ml of THF. After the reaction mixture was stirred under reflux for 1 hour, the target cis-trans isomer mixture was quantified by gas chromatography under the above-mentioned conditions. As a result, the cis-isomer (retention time: 9.5) was obtained.
6 minutes) and the trans form (retention time: 9.66 minutes) were 11:89. 200 ml of 5% hydrochloric acid
And extracted with ethyl acetate. After washing with ordinary brine, drying and concentration, purification was performed by silica gel chromatography to obtain 25.2 g (yield: 80.2%) of the desired product. This product exhibited nematic liquid crystallinity between 14.3 and 71.6 ° C., and was found to be very useful as a liquid crystal material. IR (liquid film) νmax: 2923, 2845, 209
2,1608,1520,1296,1213,111
3,891,825,808cm -1
【0040】[比較例2][製造例2]で得られた4−
(トランス−4−(3,4−ジフルオロフェニル)シク
ロヘキシル)−1−n−ペンチル−1−フェニル−1−
シラシクロヘキサン33.0gに、室温で1.0mol
/l(リットル)一塩化ヨウ素のジクロロメタン溶液1
00mlを加え、1時間攪拌し、シス−トランス異性体
混合物を得た。これを上記の条件でガスクロマトグラフ
ィーで定量したところ、シス体(保持時間:10.83
分)とトランス体(保持時間:11.17分)の比率は
84:16であった。この反応混合物を濃縮した後、残
渣をTHF100mlに溶かし、0℃で水素化アルミニ
ウムリチウム10.0gのTHF100ml溶液に加え
た。反応混合物を30分攪拌した後、上記の条件で目的
物のシス−トランス異性体混合物をガスクロマトグラフ
ィーで定量したところ、シス体とトランス体の比率は8
4:16であった。反応混合物を5%塩酸200mlに
あけ、酢酸エチルで抽出した。通常のブラインで洗浄、
乾燥、濃縮の後、シリカゲルクロマトグラフィーで精製
して、目的物3.9g(収率12.4%)を得た。[Comparative Example 2] 4-Compound obtained in [Production Example 2]
(Trans-4- (3,4-difluorophenyl) cyclohexyl) -1-n-pentyl-1-phenyl-1-
1.0 mol at room temperature in 33.0 g of silacyclohexane
/ L (liter) dichloromethane solution of iodine monochloride 1
After adding 00 ml, the mixture was stirred for 1 hour to obtain a cis-trans isomer mixture. When this was quantified by gas chromatography under the above conditions, the cis form (retention time: 10.83)
Min) to the trans form (retention time: 11.17 minutes) was 84:16. After concentrating the reaction mixture, the residue was dissolved in 100 ml of THF and added at 0 ° C. to a solution of 10.0 g of lithium aluminum hydride in 100 ml of THF. After the reaction mixture was stirred for 30 minutes, the mixture of cis-trans isomers as a target product was quantified by gas chromatography under the above conditions.
4:16. The reaction mixture was poured into 200 ml of 5% hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate. Wash with normal brine,
After drying and concentration, the residue was purified by silica gel chromatography to obtain 3.9 g (yield 12.4%) of the desired product.
【0041】[製造例3] 4−(p−フルオロフェニル)−1−n−ヘプチル−1
−フェニル−1−シラシクロヘキサンの製造 p−フルオロブロモベンゼン17.5gをマグネシウム
2.55g及びTHF50mlの混合物中に滴下し、3
時間還流してグリニヤール試薬を得た。これに4−n−
ヘプチル−4−フェニル−4−シラシクロヘキサノン2
8.0gのTHF50ml溶液を加えた。2時間還流
後、反応混合物を室温に冷却し、塩化アンモニウム水溶
液にあけ、ベンゼンで抽出した。このベンゼン溶液にp
−トルエンスルホン酸1gを加え、還流しながら、発生
してくる水を分離除去した。水が留出しなくなったとこ
ろで、室温に冷却した。反応混合物を炭酸水素ナトリウ
ム水溶液にあけ、通常のブラインで洗浄、乾燥、濃縮の
後、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製して、
4−(p−フルオロフェニル)−1−n−ヘプチル−1
−フェニル−1−シラ−3−シクロヘキセン33.0g
を得た。これをエタノール200mlに溶かし、パラジ
ウム−炭素200mgを触媒として、0.5MPaで水
素添加した。理論量の水素が消費された後、触媒を濾別
し、濾液を濃縮して4−(p−フルオロフェニル)−1
−n−ヘプチル−1−フェニル−1−シラシクロヘキサ
ン33.2gを得た。[Production Example 3] 4- (p-fluorophenyl) -1-n-heptyl-1
Preparation of -Phenyl-1-silacyclohexane 17.5 g of p-fluorobromobenzene was dropped into a mixture of 2.55 g of magnesium and 50 ml of THF, and 3
Reflux for an hour to obtain a Grignard reagent. 4-n-
Heptyl-4-phenyl-4-silacyclohexanone 2
8.0 g of a 50 ml solution of THF was added. After refluxing for 2 hours, the reaction mixture was cooled to room temperature, poured into an aqueous ammonium chloride solution, and extracted with benzene. Add p to this benzene solution
-1 g of toluenesulfonic acid was added, and the generated water was separated and removed while refluxing. When no more water distilled, the mixture was cooled to room temperature. The reaction mixture was poured into aqueous sodium hydrogen carbonate solution, washed with normal brine, dried and concentrated, and the residue was purified by silica gel chromatography.
4- (p-fluorophenyl) -1-n-heptyl-1
-Phenyl-1-sila-3-cyclohexene 33.0 g
I got This was dissolved in 200 ml of ethanol, and hydrogenated at 0.5 MPa using 200 mg of palladium-carbon as a catalyst. After the theoretical amount of hydrogen has been consumed, the catalyst is filtered off and the filtrate is concentrated to give 4- (p-fluorophenyl) -1.
33.2 g of -n-heptyl-1-phenyl-1-silacyclohexane was obtained.
【0042】[実施例3] トランス−4−(p−フルオロフェニル)−1−n−ヘ
プチル−1−シラシクロヘキサンの製造 [製造例3]で得られた4−(p−フルオロフェニル)
−1−n−ヘプチル−1−フェニル−1−シラシクロヘ
キサン33.0gに、室温で1.0mol/l(リット
ル)一塩化ヨウ素のジクロロメタン溶液100mlを加
え、1時間攪拌し、シス−トランス異性体混合物を得
た。 GC−MS(70eV)(m/z)+ シス体:326(M+)、298(M+−C2H4)、29
7(M+−C7H15) トランス体:326(M+)、298(M+−C2H4)、
297(M+−C7H15)Example 3 Production of trans-4- (p-fluorophenyl) -1-n-heptyl-1-silacyclohexane 4- (p-fluorophenyl) obtained in [Production Example 3]
To 33.0 g of -1-n-heptyl-1-phenyl-1-silacyclohexane, 100 ml of a 1.0 mol / l (liter) solution of iodine monochloride in dichloromethane was added at room temperature, and the mixture was stirred for 1 hour. A mixture was obtained. GC-MS (70 eV) (m / z) + cis form: 326 (M + ), 298 (M + -C 2 H 4 ), 29
7 (M + -C 7 H 15 ) trans form: 326 (M + ), 298 (M + -C 2 H 4 ),
297 (M + -C 7 H 15 )
【0043】続いて、この溶液にイソプロピルアルコー
ル7.0g及びトリエチルアミン11.0gの混合物を
室温で加え、更に1時間還流攪拌した。得られた4−
(p−フルオロフェニル)−1−n−ヘプチル−1−イ
ソプロポキシ−1−シラシクロヘキサンのシス−トラン
ス異性体混合物をガスクロマトグラフィーで定量したと
ころ、シス体(保持時間:6.64分)とトランス体
(保持時間:6.74分)の比率は14:86であっ
た。 GC−MS(70eV)(m/z)+ シス体:350(M+)、322(M+−C2H4)、25
1(M+−C7H15) トランス体:350(M+)、322(M+−C2H4)、
251(M+−C7H15)Subsequently, a mixture of 7.0 g of isopropyl alcohol and 11.0 g of triethylamine was added to this solution at room temperature, and the mixture was further stirred under reflux for 1 hour. The obtained 4-
When a mixture of cis-trans isomers of (p-fluorophenyl) -1-n-heptyl-1-isopropoxy-1-silacyclohexane was quantified by gas chromatography, a cis-isomer (retention time: 6.64 minutes) was obtained. The ratio of the trans form (retention time: 6.74 minutes) was 14:86. GC-MS (70 eV) (m / z) + cis form: 350 (M + ), 322 (M + -C 2 H 4 ), 25
1 (M + -C 7 H 15 ) trans form: 350 (M + ), 322 (M + -C 2 H 4 ),
251 (M + -C 7 H 15 )
【0044】次に、この反応混合物を濃縮した後、ヘキ
サン200mlを加えて副成したトリエチルアミン塩酸
塩を析出させ、これを濾別し、濾液を濃縮して4−(p
−フルオロフェニル)−1−n−ヘプチル−1−イソプ
ロポキシ−1−シラシクロヘキサン28.2gを得た。
これをTHF100mlに溶かし、水素化アルミニウム
リチウム10.9gのTHF100ml溶液に加えた。
反応混合物を2時間還流攪拌した後、上記の条件で目的
物のシス−トランス異性体混合物をガスクロマトグラフ
ィーで定量したところ、シス体(保持時間:5.65
分)とトランス体(保持時間:5.71分)の比率は1
5:85であった。反応混合物を5%塩酸200mlに
あけ、酢酸エチルで抽出した。通常のブラインで洗浄、
乾燥、濃縮の後、シリカゲルクロマトグラフィーで精製
して、目的物19.0g(収率72.6%)を得た。 IR(液膜)νmax:2920,2100,151
0,1458,1408,1228,985,887,
820cm-1 13 C−NMR(67.5MHz,CDCl3):10.
56(s),12.13(s),14.11(s),2
2.74(s),24.44(s),29.08
(s),31.85(s),33.19(s),33.
45(s),46.92(s),114.90(d),
127.89(d),144.31(d),161.0
9(d)ppmNext, after concentrating the reaction mixture, 200 ml of hexane was added to precipitate by-product triethylamine hydrochloride, which was separated by filtration, and the filtrate was concentrated to give 4- (p
-Fluorophenyl) -1-n-heptyl-1-isopropoxy-1-silacyclohexane 28.2 g were obtained.
This was dissolved in 100 ml of THF, and added to a solution of 10.9 g of lithium aluminum hydride in 100 ml of THF.
After the reaction mixture was stirred under reflux for 2 hours, the target cis-trans isomer mixture was quantified by gas chromatography under the above-mentioned conditions. As a result, the cis-isomer (retention time: 5.65) was obtained.
Min) to the trans form (retention time: 5.71 minutes) is 1
5:85. The reaction mixture was poured into 200 ml of 5% hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate. Wash with normal brine,
After drying and concentration, the residue was purified by silica gel chromatography to obtain 19.0 g (yield: 72.6%) of the desired product. IR (liquid film) νmax: 2920, 2100, 151
0,1458,1408,1228,985,887,
820 cm -1 13 C-NMR (67.5 MHz, CDCl 3 ): 10.
56 (s), 12.13 (s), 14.11 (s), 2
2.74 (s), 24.44 (s), 29.08
(S), 31.85 (s), 33.19 (s), 33.
45 (s), 46.92 (s), 114.90 (d),
127.89 (d), 144.31 (d), 161.0
9 (d) ppm
【0045】[比較例3][製造例3]で得られた4−
(p−フルオロフェニル)−1−n−ヘプチル−1−フ
ェニル−1−シラシクロヘキサン33.0gに、室温で
1.0mol/l(リットル)一塩化ヨウ素のジクロロ
メタン溶液100mlを加え、1時間攪拌し、シス−ト
ランス異性体混合物を得た。これを上記の条件でガスク
ロマトグラフィーで定量したところ、シス体(保持時
間:6.50分)とトランス体(保持時間:6.78
分)の比率は83:17であった。この反応混合物を濃
縮した後、残渣をTHF100mlに溶かし、0℃で水
素化アルミニウムリチウム10.0gのTHF100m
l溶液に加えた。反応混合物を30分攪拌した後、上記
の条件で目的物のシス−トランス異性体混合物をガスク
ロマトグラフィーで定量したところ、シス体とトランス
体の比率は80:20であった。反応混合物を5%塩酸
200mlにあけ、酢酸エチルで抽出した。通常のブラ
インで洗浄、乾燥、濃縮の後、シリカゲルクロマトグラ
フィーで精製して、目的物5.0g(収率19.2%)
を得た。[Comparative Example 3] 4-Compound obtained in [Production Example 3]
To 33.0 g of (p-fluorophenyl) -1-n-heptyl-1-phenyl-1-silacyclohexane, 100 ml of a 1.0 mol / l (liter) solution of iodine monochloride in dichloromethane was added at room temperature, followed by stirring for 1 hour. , A mixture of cis-trans isomers. When this was quantified by gas chromatography under the above conditions, the cis form (retention time: 6.50 minutes) and the trans form (retention time: 6.78)
Min) was 83:17. After concentrating the reaction mixture, the residue was dissolved in 100 ml of THF, and at 0 ° C. 10.0 g of lithium aluminum hydride in 100 ml of THF was added.
1 solution. After stirring the reaction mixture for 30 minutes, the target cis-trans isomer mixture was quantified by gas chromatography under the above conditions, and the ratio of the cis-isomer to the trans-isomer was 80:20. The reaction mixture was poured into 200 ml of 5% hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate. After washing with ordinary brine, drying and concentration, purification by silica gel chromatography gave 5.0 g of the desired product (19.2% yield).
I got
【0046】実施例1と同様の方法で以下の化合物を製
造した。The following compounds were prepared in the same manner as in Example 1.
【0047】[実施例4] トランス−4−(2−(トランス−4−(3,4−ジフ
ルオロフェニル)シクロヘキシル)エチル)−1−n−
プロピル−1−シラシクロヘキサンの製造 4−(2−トランス−4−(3,4−ジフルオロフェニ
ル)エチル)シクロヘキシル)−1−n−プロピル−1
−フェニル−1−シラシクロヘキサンから得た。 ガスクロマトグラフィーの保持時間 シス体:9.82分、トランス体:9.92分 温度:200℃+10℃/分→300℃ シス体とトランス体の比率: 15:85 収率:73.1% 液晶温度範囲:C11.2N63.5I IR(液膜)νmax:2922,2850,210
0,1909,1518,1288,887,815c
m-1 Example 4 trans-4- (2- (trans-4- (3,4-difluorophenyl) cyclohexyl) ethyl) -1-n-
Preparation of propyl-1-silacyclohexane 4- (2-trans-4- (3,4-difluorophenyl) ethyl) cyclohexyl) -1-n-propyl-1
-Phenyl-1-silacyclohexane. Retention time of gas chromatography cis form: 9.82 minutes, trans form: 9.92 minutes Temperature: 200 ° C. + 10 ° C./min→300° C. Ratio of cis form and trans form: 15:85 Yield: 73.1% Liquid crystal temperature range: C11.2N63.5I IR (liquid film) νmax: 2922, 2850, 210
0,1909,1518,1288,887,815c
m -1
【0048】[比較例4][比較例1]と同様の方法で
4−(2−トランス−4−(3,4−ジフルオロフェニ
ル)エチル)シクロヘキシル)−1−n−プロピル−1
−フェニル−1−シラシクロヘキサンから[実施例4]
の目的物を製造した。シス体とトランス体の比率は8
0:20であり、収率も11.5%と低く、好ましくな
いことがわかった。Comparative Example 4 In the same manner as in Comparative Example 1, 4- (2-trans-4- (3,4-difluorophenyl) ethyl) cyclohexyl) -1-n-propyl-1
[Example 4] from -phenyl-1-silacyclohexane
Was produced. The ratio of cis to trans is 8
0:20, and the yield was as low as 11.5%.
【0049】[実施例5] 4’−(トランス−4−n−プロピル−4−シラシクロ
ヘキシル)−4−フルオロビフェニルの製造 4’−(4−n−プロピル−4−フェニル−4−シラシ
クロヘキシル)−4−フルオロビフェニルから得た。 ガスクロマトグラフィーの保持時間 シス体:8.64分、トランス体:8.78分 温度:200℃+10℃/分→300℃ シス体とトランス体の比率: 16:84 収率:71.6% 液晶温度範囲:C80.2N119.3I IR(液膜)νmax:2918,2854,208
7,1604,1497,1238,987,889,
816cm-1 Example 5 Preparation of 4 '-(trans-4-n-propyl-4-silacyclohexyl) -4-fluorobiphenyl 4'-(4-n-propyl-4-phenyl-4-silacyclohexyl ) -4-Fluorobiphenyl. Retention time of gas chromatography Cis form: 8.64 minutes, trans form: 8.78 minutes Temperature: 200 ° C. + 10 ° C./min→300° C. Ratio of cis form and trans form: 16:84 Yield: 71.6% Liquid crystal temperature range: C80.2N119.3I IR (liquid film) νmax: 2918, 2854, 208
7, 1604, 1497, 1238, 987, 889,
816 cm -1
【0050】[比較例5][比較例1]と同様の方法で
4’−(4−n−プロピル−4−フェニル−4−シラシ
クロヘキシル)−4−フルオロビフェニルから[実施例
5]の目的物を製造した。シス体とトランス体の比率は
79:21であり、収率も13.5%と低く、好ましく
ないことがわかった。Comparative Example 5 The purpose of [Example 5] from 4 '-(4-n-propyl-4-phenyl-4-silacyclohexyl) -4-fluorobiphenyl in the same manner as in [Comparative Example 1]. Was manufactured. The ratio of the cis-isomer to the trans-isomer was 79:21, and the yield was as low as 13.5%.
【0051】[実施例6] トランス−4−(2−(p−エトキシフェニル)エチ
ル)−1−n−ペンチル−1−シラシクロヘキサンの製
造 4−(2−(p−エトキシフェニル)エチル−1−n−
ペンチル−1−フェニル)シラシクロヘキサンから得
た。 ガスクロマトグラフィーの保持時間 シス体:7.98分、トランス体:8.10分 温度:200℃+10℃/分→300℃ シス体とトランス体の比率: 20:80 収率:68.9% 液晶温度範囲:C0.2(N)−1.7I IR(液膜)νmax:2918,2852,209
8,1612,1512,1244,1051,88
7,822cm-1 Example 6 Preparation of trans-4- (2- (p-ethoxyphenyl) ethyl) -1-n-pentyl-1-silacyclohexane 4- (2- (p-ethoxyphenyl) ethyl-1 -N-
(Pentyl-1-phenyl) silacyclohexane. Retention time of gas chromatography: cis form: 7.98 minutes, trans form: 8.10 minutes Temperature: 200 ° C. + 10 ° C./min→300° C. Ratio of cis form to trans form: 20:80 Yield: 68.9% Liquid crystal temperature range: C0.2 (N) -1.7I IR (liquid film) νmax: 2918, 2852, 209
8, 1612, 1512, 1244, 1051, 88
7,822 cm -1
【0052】[比較例6][比較例1]と同様の方法で
4−(2−(p−エトキシフェニル)エチル−1−n−
ペンチル−1−フェニル)シラシクロヘキサンから[実
施例6]の目的物を製造した。シス体とトランス体の比
率は81:19であり、収率も12.6%と低く、好ま
しくないことがわかった。[Comparative Example 6] In the same manner as in [Comparative Example 1], 4- (2- (p-ethoxyphenyl) ethyl-1-n-
The target product of [Example 6] was produced from pentyl-1-phenyl) silacyclohexane. The ratio of the cis-form to the trans-form was 81:19, and the yield was as low as 12.6%.
【0053】[実施例7] トランス,トランス−2−フルオロ−4−(4−n−ペ
ンチル−4−シラシクロヘキシル)−4’−(4−n−
プロピルシクロヘキシル)ビフェニルの製造 2−フルオロ−4−(4−n−ペンチル−4−フェニル
−4−シラシクロヘキシル)−4’−(トランス−4−
n−プロピルシクロヘキシル)ビフェニルから得た。 ガスクロマトグラフィーの保持時間 シス体:19.55分、トランス体:20.25分 温度:300℃一定 シス体とトランス体の比率: 11:89 収率:74.6% 液晶温度範囲:C79.0S95.0N247.0I IR(液膜)νmax:2920,2848,209
8,1493,1404,1194,987,887,
812cm-1 Example 7 trans, trans-2-fluoro-4- (4-n-pentyl-4-silacyclohexyl) -4 '-(4-n-
Preparation of propylcyclohexyl) biphenyl 2-fluoro-4- (4-n-pentyl-4-phenyl-4-silacyclohexyl) -4 ′-(trans-4-
n-Propylcyclohexyl) biphenyl. Retention time of gas chromatography: cis form: 19.55 minutes, trans form: 20.25 minutes Temperature: constant at 300 ° C. Ratio of cis form and trans form: 11:89 Yield: 74.6% Liquid crystal temperature range: C79. 0S95.0N247.0I IR (liquid film) νmax: 2920, 2848, 209
8, 1493, 1404, 1194, 987, 887,
812 cm -1
【0054】[比較例7][比較例1]と同様の方法で
2−フルオロ−4−(4−n−ペンチル−4−フェニル
−4−シラシクロヘキシル)−4’−(トランス−4−
n−プロピルシクロヘキシル)ビフェニルから[実施例
7]の目的物を製造した。シス体とトランス体の比率は
87:13であり、収率も9.6%と低く、好ましくな
いことがわかった。[Comparative Example 7] In the same manner as in [Comparative Example 1], 2-fluoro-4- (4-n-pentyl-4-phenyl-4-silacyclohexyl) -4 '-(trans-4-
The target product of [Example 7] was produced from (n-propylcyclohexyl) biphenyl. The ratio of the cis-isomer to the trans-isomer was 87:13, and the yield was as low as 9.6%.
【0055】[実施例8] トランス,トランス−4−(4−メトキシシクロヘキシ
ル)−1−n−プロピル−1−シラシクロヘキサンの製
造 4−(トランス−4−メトキシシクロヘキシル)−1−
n−プロピル−1−フェニル−1−シラシクロヘキサン
から得た。 ガスクロマトグラフィーの保持時間 シス体:4.33分、トランス体:4.47分 温度:200℃+10℃/分→300℃ シス体とトランス体の比率: 19:81 収率:69.9% 液晶温度範囲:C<−60N−40.0I IR(液膜)νmax:2928,2856,282
0,2098,1452,1103,989,887,
843,820cm-1 Example 8 Preparation of trans, trans-4- (4-methoxycyclohexyl) -1-n-propyl-1-silacyclohexane 4- (trans-4-methoxycyclohexyl) -1-
Obtained from n-propyl-1-phenyl-1-silacyclohexane. Retention time of gas chromatography cis form: 4.33 minutes, trans form: 4.47 minutes Temperature: 200 ° C. + 10 ° C./min→300° C. Ratio of cis form and trans form: 19:81 Yield: 69.9% Liquid crystal temperature range: C <−60N−40.0I IR (liquid film) νmax: 2928, 2856, 282
0, 2098, 1452, 1103, 989, 887,
843,820 cm -1
【0056】[比較例8][比較例1]と同様の方法で
4−(トランス−4−メトキシシクロヘキシル)−1−
n−プロピル−1−フェニル−1−シラシクロヘキサン
から[実施例8]の目的物を製造した。シス体とトラン
ス体の比率は83:17であり、収率も10.1%と低
く、好ましくないことがわかった。Comparative Example 8 In the same manner as in Comparative Example 1, 4- (trans-4-methoxycyclohexyl) -1- was used.
The target product of Example 8 was produced from n-propyl-1-phenyl-1-silacyclohexane. The ratio of the cis-isomer to the trans-isomer was 83:17, and the yield was as low as 10.1%.
【0057】[実施例9] 4−(2−(トランス−4−n−ペンチル−4−シラシ
クロヘキシル)エチル)−3’,4’−ジフルオロビフ
ェニルの製造 4−(2−(4−n−ペンチル−4−フェニル−4−シ
ラシクロヘキシル)エチル)−3’,4’−ジフルオロ
ビフェニルから得た。 ガスクロマトグラフィーの保持時間 シス体:5.43分、トランス体:5.53分 温度:300℃一定 シス体とトランス体の比率: 18:82 収率:70.2% 液晶温度範囲:C38.6N58.2I IR(液膜)νmax:2920,2850,210
0,1605,1504,1311,1267,814
cm-1 Example 9 Production of 4- (2- (trans-4-n-pentyl-4-silacyclohexyl) ethyl) -3 ', 4'-difluorobiphenyl 4- (2- (4-n- Pentyl-4-phenyl-4-silacyclohexyl) ethyl) -3 ′, 4′-difluorobiphenyl. Retention time of gas chromatography: cis form: 5.43 minutes, trans form: 5.53 minutes Temperature: constant at 300 ° C. Ratio of cis form and trans form: 18:82 Yield: 70.2% Liquid crystal temperature range: C38. 6N58.2I IR (liquid film) νmax: 2920, 2850, 210
0,1605,1504,1311,1267,814
cm -1
【0058】[比較例9][比較例1]と同様の方法で
4−(2−(4−n−ペンチル−4−フェニル−4−シ
ラシクロヘキシル)エチル)−3’,4’−ジフルオロ
ビフェニルから[実施例9]の目的物を製造した。シス
体とトランス体の比率は80:20であり、収率も1
1.4%と低く、好ましくないことがわかった。Comparative Example 9 4- (2- (4-n-pentyl-4-phenyl-4-silacyclohexyl) ethyl) -3 ′, 4′-difluorobiphenyl was prepared in the same manner as in Comparative Example 1. To produce the target product of [Example 9]. The ratio between the cis form and the trans form is 80:20, and the yield is 1
It was found to be unfavorable, as low as 1.4%.
【0059】[実施例10] トランス,トランス−4−(4−(4−n−プロピル−
4−シラシクロヘキシル)シクロヘキシル)−3’,
4’−ジフルオロビフェニルの製造 4−(トランス−4−(4−n−プロピル−4−フェニ
ル−4−シラシクロヘキシル)シクロヘキシル)−
3’,4’−ジフルオロビフェニルから得た。 ガスクロマトグラフィーの保持時間 シス体:21.23分、トランス体:21.59分 温度:300℃一定 シス体とトランス体の比率: 14:86 収率:71.1% 液晶温度範囲:C82.7S107.5N229.1I IR(液膜)νmax:2916,2848,210
4,1533,1506,1279,985,889,
845,814cm-1 Example 10 trans, trans-4- (4- (4-n-propyl-
4-silacyclohexyl) cyclohexyl) -3 ′,
Production of 4'-difluorobiphenyl 4- (trans-4- (4-n-propyl-4-phenyl-4-silacyclohexyl) cyclohexyl)-
Obtained from 3 ', 4'-difluorobiphenyl. Retention time of gas chromatography: cis isomer: 21.23 minutes, trans isomer: 21.59 minutes Temperature: constant at 300 ° C. Ratio of cis isomer to trans isomer: 14:86 Yield: 71.1% Liquid crystal temperature range: C82. 7S107.5N229.1I IR (liquid film) νmax: 2916, 2848, 210
4,1533,1506,1279,985,889,
845,814cm -1
【0060】[比較例10][比較例1]と同様の方法
で4−(トランス−4−(4−n−プロピル−4−フェ
ニル−4−シラシクロヘキシル)シクロヘキシル)−
3’,4’−ジフルオロビフェニルから[実施例10]
の目的物を製造した。シス体とトランス体の比率は8
5:15であり、収率も8.9%と低く、好ましくない
ことがわかった。[Comparative Example 10] In the same manner as in [Comparative Example 1], 4- (trans-4- (4-n-propyl-4-phenyl-4-silacyclohexyl) cyclohexyl)-
From 3 ′, 4′-difluorobiphenyl [Example 10]
Was produced. The ratio of cis to trans is 8
The ratio was 5:15, and the yield was as low as 8.9%.
【0061】[実施例11] 4−(トランス−4−n−ペンチル−4−シラシクロヘ
キシル)−2’,4”−ジフルオロターフェニルの製造 4−(4−n−ペンチル−4−フェニル−4−シラシク
ロヘキシル)−2’,4”−ジフルオロターフェニルか
ら得た。 ガスクロマトグラフィーの保持時間 シス体:11.78分、トランス体:12.67分 温度:300℃一定 シス体とトランス体の比率: 10:90 収率:73.1% 液晶温度範囲:C87.8S135.0N250.3I IR(KBr Disc)νmax:2918,284
6,2106,1487,1223,887,816c
m-1 Example 11 Preparation of 4- (trans-4-n-pentyl-4-silacyclohexyl) -2 ′, 4 ″ -difluoroterphenyl 4- (4-n-pentyl-4-phenyl-4 -Silacyclohexyl) -2 ', 4 "-difluoroterphenyl. Retention time of gas chromatography: cis form: 11.78 minutes, trans form: 12.67 minutes Temperature: constant at 300 ° C. Ratio of cis form and trans form: 10:90 Yield: 73.1% Liquid crystal temperature range: C87. 8S135.0N250.3I IR (KBr Disc) νmax: 2918,284
6,2106,1487,1223,887,816c
m -1
【0062】[比較例11][比較例1]と同様の方法
で4−(4−n−ペンチル−4−フェニル−4−シラシ
クロヘキシル)−2’,4”−ジフルオロターフェニル
から[実施例11]の目的物を製造した。シス体とトラ
ンス体の比率は89:11であり、収率も7.3%と低
く、好ましくないことがわかった。[Comparative Example 11] In the same manner as in [Comparative Example 1], 4- (4-n-pentyl-4-phenyl-4-silacyclohexyl) -2 ′, 4 ″ -difluoroterphenyl was used to prepare [Example. [11] The ratio of the cis-isomer to the trans-isomer was 89:11, and the yield was as low as 7.3%, which was unfavorable.
【0063】[実施例12] トランス−4−(4−n−ペンチル−4−シラシクロヘ
キシル)−2−フルオロ−4’−(2−(3,4−ジフ
ルオロフェニル)エチル)ビフェニルの製造 4−(4−n−ペンチル−4−フェニル−4−シラシク
ロヘキシル)−2−フルオロ−4’−(2−(3,4−
ジフルオロフェニル)エチル)ビフェニルから得た。 ガスクロマトグラフィーの保持時間 シス体:15.89分、トランス体:17.18分 温度:300℃一定 シス体とトランス体の比率: 11:89 収率:72.8% 液晶温度範囲:C49.5(SA)50.6N150.
5I IR(KBr Disc)νmax:2920,210
2,1518,1491,1404,1290,128
6,1120,889,818cm-1 Example 12 Preparation of trans-4- (4-n-pentyl-4-silacyclohexyl) -2-fluoro-4 '-(2- (3,4-difluorophenyl) ethyl) biphenyl 4- (4-n-pentyl-4-phenyl-4-silacyclohexyl) -2-fluoro-4 ′-(2- (3,4-
Obtained from difluorophenyl) ethyl) biphenyl. Retention time of gas chromatography Cis form: 15.89 minutes, trans form: 17.18 minutes Temperature: constant at 300 ° C. Ratio of cis form and trans form: 11:89 Yield: 72.8% Liquid crystal temperature range: C49. 5 (SA) 50.6N150.
5I IR (KBr Disc) νmax: 2920, 210
2,1518,1491,1404,1290,128
6,1120,889,818cm -1
【0064】[比較例12][比較例1]と同様の方法
で4−(4−n−ペンチル−4−フェニル−4−シラシ
クロヘキシル)−2−フルオロ−4’−(2−(3,4
−ジフルオロフェニル)エチル)ビフェニルから[実施
例12]の目的物を製造した。シス体とトランス体の比
率は89:11であり、収率も7.5%と低く、好まし
くないことがわかった。[Comparative Example 12] In the same manner as in [Comparative Example 1], 4- (4-n-pentyl-4-phenyl-4-silacyclohexyl) -2-fluoro-4 '-(2- (3,3 4
The target product of [Example 12] was produced from -difluorophenyl) ethyl) biphenyl. The ratio of the cis-isomer to the trans-isomer was 89:11, and the yield was as low as 7.5%.
【0065】[実施例13] トランス,トランス−4−(2−(4−(4−n−プロ
ピル−4−シラシクロヘキシル)シクロヘキシル)エチ
ル)−4’−クロロ−3’−フルオロビフェニルの製造 4−(2−(トランス−4−(4−n−プロピル−4−
フェニル−4−シラシクロヘキシル)シクロヘキシル)
エチル)−4’−クロロ−3’−フルオロビフェニルか
ら得た。 ガスクロマトグラフィーの保持時間 シス体:17.35分、トランス体:18.39分 温度:300℃一定 シス体とトランス体の比率: 14:86 収率:70.1% 液晶温度範囲:C63.3N208.0I IR(液膜)νmax:2920,2850,209
6,1560,1481,1200,1070,98
2,889,845,805cm-1 Example 13 Preparation of trans, trans-4- (2- (4- (4-n-propyl-4-silacyclohexyl) cyclohexyl) ethyl) -4'-chloro-3'-fluorobiphenyl -(2- (trans-4- (4-n-propyl-4-
Phenyl-4-silacyclohexyl) cyclohexyl)
Ethyl) -4'-chloro-3'-fluorobiphenyl. Retention time of gas chromatography: cis form: 17.35 minutes, trans form: 18.39 minutes Temperature: constant at 300 ° C. Ratio of cis form to trans form: 14:86 Yield: 70.1% Liquid crystal temperature range: C63. 3N208.0I IR (liquid film) νmax: 2920, 2850, 209
6,1560,1481,1200,1070,98
2,889,845,805cm -1
【0066】[比較例13][比較例1]と同様の方法
で4−(2−(トランス−4−(4−n−プロピル−4
−フェニル−4−シラシクロヘキシル)シクロヘキシ
ル)エチル)−4’−クロロ−3’−フルオロビフェニ
ルから[実施例13]の目的物を製造した。シス体とト
ランス体の比率は84:16であり、収率も10.4%
と低く、好ましくないことがわかった。[Comparative Example 13] In the same manner as in [Comparative Example 1], 4- (2- (trans-4- (4-n-propyl-4)
The target compound of [Example 13] was produced from -phenyl-4-silacyclohexyl) cyclohexyl) ethyl) -4'-chloro-3'-fluorobiphenyl. The ratio between the cis form and the trans form is 84:16, and the yield is 10.4%.
It was found to be low, which was not preferable.
【0067】[実施例14] 4−(2−(トランス−(4−n−ペンチル−4−シラ
シクロヘキシル))エチル)−4’−(4−フルオロフ
ェニル)ビフェニルの製造 4−(2−(4−n−ペンチル−4−フェニル−4−シ
ラシクロヘキシル)エチル)−4’−(4−フルオロフ
ェニル)ビフェニルから得た。 ガスクロマトグラフィーの保持時間 シス体:18.91分、トランス体:19.45分 温度:300℃一定 シス体とトランス体の比率: 17:83 収率:71.6%Example 14 Production of 4- (2- (trans- (4-n-pentyl-4-silacyclohexyl)) ethyl) -4 ′-(4-fluorophenyl) biphenyl 4- (2- ( 4-n-pentyl-4-phenyl-4-silacyclohexyl) ethyl) -4 '-(4-fluorophenyl) biphenyl. Retention time of gas chromatography: cis form: 18.91 minutes, trans form: 19.45 minutes Temperature: constant at 300 ° C. Ratio of cis form and trans form: 17:83 Yield: 71.6%
【0068】[比較例14][比較例1]と同様の方法
で4−(2−(4−n−ペンチル−4−フェニル−4−
シラシクロヘキシル)エチル)−4’−(4−フルオロ
フェニル)ビフェニルから[実施例14]の目的物を製
造した。シス体とトランス体の比率は80:20であ
り、収率も14.2%と低く、好ましくないことがわか
った。[Comparative Example 14] In the same manner as in [Comparative Example 1], 4- (2- (4-n-pentyl-4-phenyl-4-phenyl-4-) was used.
The target product of [Example 14] was produced from (silacyclohexyl) ethyl) -4 '-(4-fluorophenyl) biphenyl. The ratio of the cis-isomer to the trans-isomer was 80:20, and the yield was as low as 14.2%.
【0069】[実施例15] 4−(トランス−4−(トランス−4−n−ペンチル−
4−シラシクロヘキシル)シクロヘキシル)−1−トリ
フルオロメトキシベンゼンの製造 4−(トランス−4−(4−N−ペンチル−4−フェニ
ル−4−シラシクロヘキシル)シクロヘキシル)−1−
トリフルオロメトキシベンゼンから得た。 ガスクロマトグラフィーの保持時間 シス体:9.28分、トランス体:9.58分 温度:200℃+10℃/分→300℃ シス体とトランス体の比率: 18:82 収率:68.8% 液晶温度範囲:C37.7N80.1I IR(KBr Disc)νmax:2924,285
4,2102,1510,1267,1223,119
4,1159,987,818cm-1 Example 15 4- (trans-4- (trans-4-n-pentyl-
Preparation of 4-silacyclohexyl) cyclohexyl) -1-trifluoromethoxybenzene 4- (trans-4- (4-N-pentyl-4-phenyl-4-silacyclohexyl) cyclohexyl) -1-
Obtained from trifluoromethoxybenzene. Retention time of gas chromatography cis form: 9.28 minutes, trans form: 9.58 minutes Temperature: 200 ° C. + 10 ° C./min→300° C. Ratio of cis form and trans form: 18:82 Yield: 68.8% Liquid crystal temperature range: C37.7N80.1I IR (KBr Disc) νmax: 2924,285
4,2102,1510,1267,1223,119
4,1159,987,818cm -1
【0070】[比較例15][比較例1]と同様の方法
で4−(トランス−4−(4−N−ペンチル−4−フェ
ニル−4−シラシクロヘキシル)シクロヘキシル)−1
−トリフルオロメトキシベンゼンから[実施例15]の
目的物を製造した。シス体とトランス体の比率は82:
18であり、収率も13.9%と低く、好ましくないこ
とがわかった。[Comparative Example 15] 4- (trans-4- (4-N-pentyl-4-phenyl-4-silacyclohexyl) cyclohexyl) -1 was prepared in the same manner as in [Comparative Example 1].
-The intended product of [Example 15] was produced from trifluoromethoxybenzene. The ratio of cis to trans is 82:
18, and the yield was as low as 13.9%.
【0071】[0071]
【発明の効果】以上説明したように、本発明により、分
子内にケイ素原子を持つシラシクロヘキサン化合物のう
ち、液晶性を示すトランス体を優先的に製造することが
可能になった。このようにして得られたシラシクロヘキ
サン液晶化合物は、液晶表示素子等の材料として非常に
利用価値の高いものである。As described above, according to the present invention, among the silacyclohexane compounds having a silicon atom in the molecule, it has become possible to preferentially produce a trans-isomer having liquid crystallinity. The thus obtained silacyclohexane liquid crystal compound is very useful as a material for a liquid crystal display device or the like.
フロントページの続き (72)発明者 金生 剛 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地の 1 信越化学工業株式会社合成技術研究所 内 (72)発明者 金子 達志 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地の 1 信越化学工業株式会社合成技術研究所 内 (72)発明者 中島 睦雄 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地の 1 信越化学工業株式会社合成技術研究所 内 Fターム(参考) 4H027 BD02 BD04 BE04 DJ01 DJ03 DJ04 4H049 VN01 VP01 VQ84 VS84 VT03 VT05 VT19 VU25 VV03 VV16Continuing from the front page (72) Inventor Takeshi Kaneo 28, Nishifukushima, Nishifukushima-mura, Nakakushiro-gun, Niigata Prefecture Inside the Synthetic Research Laboratory, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (72) Inventor Tatsushi Kaneko, Kushiro-mura, Nakakushiro-gun, Niigata Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Synthetic Technology Research Laboratories, 28-28 Nishifukushima, Japan (72) Inventor Mutsumi Nakajima, 28-28 Nishi-Fukushima, Oku-ku, Niigata Pref. (Reference) 4H027 BD02 BD04 BE04 DJ01 DJ03 DJ04 4H049 VN01 VP01 VQ84 VS84 VT03 VT05 VT19 VU25 VV03 VV16
Claims (1)
〜10の直鎖状アルキル基、炭素数3〜8の分枝鎖状ア
ルキル基、炭素数1〜10のモノ又はジフルオロアルキ
ル基又は炭素数2〜7のアルコキシアルキル基、Qは 【化2】 (但し、 【化3】 及び 【化4】 は、それぞれ独立して 【化5】 又は 【化6】 を表し、 【化7】 は 【化8】 又は 【化9】 を表し、XはCN、F、Cl、CF3、CF2Cl、OC
F3、OCHF2、OCF2Cl、OCHF Cl、(O)m
CY=CX1X2(mは0又は1、Y及びX1はH、F又
はClを表し、X2はF又はClを表す。)、O(C
H2)r(CF2)sX3(r及びsは0、1又は2で且つ
(r+s)が2、3又は4である数を表し、X3はF又
はClを表す。)、R又はOR基を表し、i1、i2及
びi3はそれぞれ0又は1で且つi1+i2+i3=1
を満たす数を表し、j及びkはそれぞれ0、1又は2で
且つj+kが0、1又は2となる数を表し、Y1及びY2
はそれぞれ独立してH、F又はClを表し、Y3はH、
F又はメチル基を表し、l(エル)は0、1又は2を表
す。)を表す。)で表される化合物を、一般式 【化10】 (但し、X’はF、Cl、Br又はIを表す。)で表さ
れるハロシラシクロヘキサンに変換した後、一般式 【化11】R’OH (但し、R’は炭素数1〜10の直鎖アルキル基又は炭
素数3〜8の分枝アルキル基を表す。)で表されるアル
コールと反応させて、一般式 【化12】 で表されるアルコキシシラシクロヘキサンに変換し、平
衡化させた後、還元して、一般式 【化13】 で表されるシラシクロヘキサン化合物を得ることを特徴
とするシラシクロヘキサン化合物の製造方法。1. A compound of the general formula(However, Ar is a phenyl group or a tolyl group, and R is
A straight-chain alkyl group having 10 to 10 carbon atoms and a branched chain alkyl group having 3 to 8 carbon atoms.
Alkyl group, mono- or difluoroalkyl having 1 to 10 carbon atoms
Or an alkoxyalkyl group having 2 to 7 carbon atoms, Q is(However,AndAre independently of each otherOrAnd representsIsOrX represents CN, F, Cl, CFThree, CFTwoCl, OC
FThree, OCHFTwo, OCFTwoCl, OCHF Cl, (O)m
CY = CX1XTwo(M is 0 or 1, Y and X1Is H, F or
Represents Cl, XTwoRepresents F or Cl. ), O (C
HTwo)r(CFTwo)sXThree(R and s are 0, 1 or 2 and
X represents a number in which (r + s) is 2, 3 or 4;ThreeIs F
Represents Cl. ), R or OR groups, i1, i2 and
And i3 are each 0 or 1, and i1 + i2 + i3 = 1
Where j and k are 0, 1, or 2, respectively.
And j + k represents 0, 1, or 2, and Y1And YTwo
Each independently represents H, F or Cl;ThreeIs H,
Represents F or a methyl group, and 1 (ell) represents 0, 1 or 2.
You. ). ) Is converted to a compound represented by the general formula:(However, X 'represents F, Cl, Br or I.)
After conversion to halosilacyclohexane, R'OH (where R 'is a linear alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or carbon)
Represents a branched alkyl group having a prime number of 3 to 8. Al)
Reacting with Cole to form the general formulaIs converted to alkoxysilacyclohexane represented by
After equilibration, reduction is performed to obtain the general formulaCharacterized by obtaining a silacyclohexane compound represented by
A method for producing a silacyclohexane compound.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17662395A JP2002069082A (en) | 1994-06-22 | 1995-06-20 | Method for producing silacyclohexane compound |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6-163065 | 1994-06-22 | ||
JP16306594 | 1994-06-22 | ||
JP17662395A JP2002069082A (en) | 1994-06-22 | 1995-06-20 | Method for producing silacyclohexane compound |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002069082A true JP2002069082A (en) | 2002-03-08 |
Family
ID=26488636
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17662395A Pending JP2002069082A (en) | 1994-06-22 | 1995-06-20 | Method for producing silacyclohexane compound |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002069082A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018524303A (en) * | 2015-06-16 | 2018-08-30 | ジェレスト テクノロジーズ, インコーポレイテッド | Hydridosilapyrrole, hydridosilaazapyrrole, thiasilacyclopentane, process for preparing them, and reaction products therefrom |
-
1995
- 1995-06-20 JP JP17662395A patent/JP2002069082A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018524303A (en) * | 2015-06-16 | 2018-08-30 | ジェレスト テクノロジーズ, インコーポレイテッド | Hydridosilapyrrole, hydridosilaazapyrrole, thiasilacyclopentane, process for preparing them, and reaction products therefrom |
US10479806B2 (en) | 2015-06-16 | 2019-11-19 | Gelest Technologies, Inc. | Hydridosilapyrroles, hydridosilaazapyrroles, thiasilacyclopentanes, method for preparation thereof, and reaction products therefrom |
US11434252B2 (en) | 2015-06-16 | 2022-09-06 | Gelest, Inc. | Hydridosilapyrroles, hydridosilaazapyrroles, method for preparation thereof, and reaction products therefrom |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5454977A (en) | Silacyclohexane compound, a method of preparing it and a liquid crystal composition containing it | |
KR100821844B1 (en) | Liquid crystal composition comprising novel silicon containing compounds and liquid crystal display device using the same | |
EP0632044B1 (en) | A silacyclohexane compound, a method of preparing it and a liquid crystal composition containing it | |
KR100191769B1 (en) | Silacyclohexane carbaldehyde compounds and processes for preparing silycyclohexane-based liquid crystal compounds | |
US5547606A (en) | Silacyclohexane compound, a method of preparing it and a liquid crystal composition containing it | |
US5560866A (en) | Process for preparing silacyclohexane compounds | |
KR100253632B1 (en) | Silacyclohexanone compounds as intermediates for the preparation of silacyclohexane-type liquid crystal compounds | |
JPH09100286A (en) | Production of trans-cyclohexane compound | |
KR100196657B1 (en) | Process for preparing silacyclohexane compounds | |
JP2002069082A (en) | Method for producing silacyclohexane compound | |
JPH06211711A (en) | Derivative of cyclohexane | |
JPH08104693A (en) | Production of silacyclohexane | |
EP0713878B1 (en) | A method of manufacturing a trans silacyclohexane compound | |
JP2646262B2 (en) | Difluoroalkylcyclohexylbenzonitrile derivative | |
JPH08231560A (en) | Production or trans-silacyclohexane compound | |
JP3013143B2 (en) | Silacyclohexane compound, method for producing the same, and liquid crystal composition containing the same | |
JPH09157275A (en) | Production of liquid crystal compound of silacyclohexane type | |
JP2004352931A (en) | Liquid crystal composition containing difluorotetrahydronaphthalene derivative and liquid crystalline compound | |
JP3598469B2 (en) | Trifluoromethylbenzene derivatives and liquid crystal compositions containing them | |
JP3552139B2 (en) | Method for producing silacyclohexane compound | |
JP2508142B2 (en) | Novel fluorine-based cyclohexenyl cyclohexane derivative | |
JPH07309878A (en) | Silacyclohexanone compound and production of silacyclohexane-type liquid crystal compound using the silacyclohexanone compound | |
JPH1161133A (en) | Silacyclohexane compound and its production, liquid crystal composition and liquid crystal display element | |
JPH1072472A (en) | Silacyclohexane compound, liquid crystal composition and liquid crystal display element comprising the same | |
JPH09110883A (en) | Production of trans-cyclohexane compound |