JP2002055211A - Method for manufacturing microprism and optical device - Google Patents

Method for manufacturing microprism and optical device

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JP2002055211A
JP2002055211A JP2000243339A JP2000243339A JP2002055211A JP 2002055211 A JP2002055211 A JP 2002055211A JP 2000243339 A JP2000243339 A JP 2000243339A JP 2000243339 A JP2000243339 A JP 2000243339A JP 2002055211 A JP2002055211 A JP 2002055211A
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microprism
photodiode
integrated circuit
base material
manufacturing
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Yoshitsugu Fujimaki
義継 藤巻
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Sony Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a microprism and an optical device which can be easily manufactured in a reduced number of manufacturing processes so that the cost can be reduced. SOLUTION: A softened glass material is supplied to press molding dies (Ma, Mb) and press-formed to obtain a prism preform 30 having microprisms each having an upper face 20a and a lower face 20b parallel to each other and spectral faces 20c oblique to the upper face, as integrated with side faces almost perpendicular to the above faces. In the press forming process, V- or U-shape grooves G are formed in the position to divide the prism preform into each microprism 20. Then the preform 30 is cut along the grooves G to obtain each microprism 20. Or, the preform is laminated with a photodiode integrated circuit board and both are cut at a time to obtain an optical device having the photodiode integrated circuit board laminated with the microprism.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、マイクロプリズム
および光学素子の製造方法に関し、特に光ディスク装置
に搭載されるレーザカプラの構成部材として用いられる
マイクロプリズムおよび光学素子の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a microprism and an optical element, and more particularly to a method for manufacturing a microprism and an optical element used as a constituent member of a laser coupler mounted on an optical disk device.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、CD(コンパクトディスク)、
DVD(デジタル多用途ディスク)あるいはMD(ミニ
ディスク)などの光学的に情報を記録する光学記録媒体
(以下、光ディスクとも称する)に記録された情報の読
み取り(再生)、あるいはこれらに情報の書き込み(記
録)を行う装置(以下、光ディスク装置とも称する)に
は、光学ピックアップ装置が内蔵されている。
2. Description of the Related Art Generally, CDs (compact discs),
Reading (reproducing) information recorded on an optical recording medium (hereinafter also referred to as an optical disk) for optically recording information such as DVD (digital versatile disc) or MD (mini disc), or writing (writing) information to these. The recording (recording) device (hereinafter also referred to as an optical disk device) includes an optical pickup device.

【0003】上記の光ディスク装置や光学ピックアップ
装置においては、例えば、CDの再生などには780n
m帯の波長のレーザ光、DVDの再生などには650n
m帯の波長のレーザ光など、一般に、光ディスク(光デ
ィスクシステム)毎に異なる波長のレーザ光を出射する
半導体レーザ素子が用いられる。
In the above-mentioned optical disk device and optical pickup device, for example, 780n is used for reproducing a CD.
650n for laser light of m-band wavelength, DVD playback, etc.
In general, a semiconductor laser device that emits laser light having a different wavelength for each optical disk (optical disk system), such as laser light having an m-band wavelength, is used.

【0004】上記の光ディスク装置においては、例え
ば、上記の半導体レーザと、受光素子(フォトダイオー
ド)と、半導体レーザ素子からのレーザ光を光ディスク
などの被照射対象物に向けて出射し、光ディスクからの
戻り光を受光素子に結合させる光学部材とを備えて、上
記光学ピックアップ装置を構成するのに好適なレーザカ
プラと呼ばれる光学複合素子が用いられている。レーザ
カプラは、光学ピックアップ装置を、部品点数を減らし
て光学系の構成を簡素化し、容易に組み立て可能で小型
化および低コストで構成することができる。
In the above-mentioned optical disk apparatus, for example, the above-mentioned semiconductor laser, light receiving element (photodiode), and laser light from the semiconductor laser element are emitted toward an object to be irradiated such as an optical disk, and the laser beam is emitted from the optical disk. An optical composite element called a laser coupler suitable for constituting the optical pickup device is provided, which comprises an optical member for coupling the return light to the light receiving element. The laser coupler allows the optical pickup device to be configured with a reduced number of parts to simplify the configuration of the optical system, and can be easily assembled, reduced in size, and reduced in cost.

【0005】図4(a)は上記のレーザカプラ1の概略
構成を示す斜視図である。レーザカプラ1は、第1パッ
ケージ部材2の凹部に装填され、ガラスなどの透明な第
2パッケージ部材3により封止されている。
FIG. 4A is a perspective view showing a schematic configuration of the laser coupler 1 described above. The laser coupler 1 is mounted in a concave portion of the first package member 2 and is sealed by a transparent second package member 3 such as glass.

【0006】図4(b)は上記のレーザカプラ1の要部
側面図である。例えば、シリコンの単結晶を切り出した
基板である集積回路基板11上に、モニター用の光検出
素子としてのPINダイオード12が形成された半導体
ブロック13が配置され、さらに、この半導体ブロック
13上に、発光素子としてレーザダイオード14が配置
されている。
FIG. 4B is a side view of a main part of the laser coupler 1 described above. For example, a semiconductor block 13 on which a PIN diode 12 as a photodetection element for monitoring is formed is disposed on an integrated circuit substrate 11 which is a substrate obtained by cutting out a single crystal of silicon. A laser diode 14 is provided as a light emitting element.

【0007】一方、集積回路基板11には、例えば第1
フォトダイオード16および第2フォトダイオード17
から構成される1組のフォトダイオード18が形成さ
れ、このフォトダイオード18上に、レーザダイオード
14と所定間隔をおいて、マイクロプリズム20が搭載
されている。
On the other hand, for example, the first
Photodiode 16 and second photodiode 17
Are formed, and a microprism 20 is mounted on the photodiode 18 at a predetermined interval from the laser diode 14.

【0008】レーザダイオード14から出射されたレー
ザ光Lは、マイクロプリズム20の分光面20cで一部
反射して進行方向を屈曲し、第2パッケージ部材3に形
成された出射窓から出射方向に出射し、不図示の反射ミ
ラーや対物レンズなどを介して光ディスク(CD)など
の被照射対象物に照射される。上記の被照射対象物から
の反射光は、被照射対象物への入射方向と反対方向に進
み、レーザカプラ1からの出射方向からマイクロプリズ
ム20の分光面20cに入射する。このマイクロプリズ
ム20の上面20aで焦点を結びながら、マイクロプリ
ズム20の下面20bの下部となる集積回路基板11上
に形成された第1フォトダイオード16および第2フォ
トダイオード17に入射する。
The laser light L emitted from the laser diode 14 is partially reflected by the light-splitting surface 20 c of the microprism 20 and bent in the traveling direction, and emitted from the emission window formed in the second package member 3 in the emission direction. Then, the light is irradiated to an irradiation target object such as an optical disk (CD) via a reflection mirror or an objective lens (not shown). The reflected light from the irradiation target proceeds in a direction opposite to the incident direction on the irradiation target, and enters the spectral surface 20c of the microprism 20 from the emission direction from the laser coupler 1. While focusing on the upper surface 20 a of the microprism 20, the light enters the first photodiode 16 and the second photodiode 17 formed on the integrated circuit substrate 11 below the lower surface 20 b of the microprism 20.

【0009】また、半導体ブロック13上に形成された
PINダイオード12は、レーザダイオード14のリア
側に出射されたレーザ光を感知し、レーザ光の強度を測
定して、レーザ光の強度が一定となるようにレーザダイ
オード14の駆動電流を制御するAPC(Automatic Po
wer Control )制御が行われる。
The PIN diode 12 formed on the semiconductor block 13 senses the laser light emitted to the rear side of the laser diode 14, measures the intensity of the laser light, and determines that the intensity of the laser light is constant. APC (Automatic Po) that controls the drive current of the laser diode 14
wer Control) control is performed.

【0010】上記のレーザカプラを用いて光学ピックア
ップ装置を構成した時の例を図5に示す。レーザカプラ
1に内蔵されるレーザダイオードからの出射レーザ光L
は、コリメータC、ミラーM、CD用開口制限アパーチ
ャRおよび対物レンズOLを介して、CDあるいはDV
Dなどの光ディスクDに入射する。光ディスクDからの
反射光は、入射光と同一の経路をたどってレーザカプラ
に戻り、レーザカプラに内蔵される第1および第2フォ
トダイオードにより受光される。
FIG. 5 shows an example in which an optical pickup device is constructed using the above laser coupler. Laser light L emitted from a laser diode built in laser coupler 1
Is a CD or DV through a collimator C, a mirror M, a CD aperture limiting aperture R and an objective lens OL.
D and the like. The reflected light from the optical disk D follows the same path as the incident light, returns to the laser coupler, and is received by the first and second photodiodes built in the laser coupler.

【0011】図6(a)は、集積回路基板11上に搭載
されたマイクロプリズム20の斜視図であり、図6
(b)は図6(a)中のA方向から見たときの側面図、
図6(c)は図6(a)中のB方向から見たときの側面
図である。マイクロプリズム20は、対向する平行な上
面20aおよび下面20bと、上面20aに斜めに交差
する分光面20cを有する形状である。上記上面20
a、下面20bおよび分光面20cには、必要に応じて
反射膜、半透過膜あるいは無反射膜などの光学機能膜が
蒸着法などにより形成されている。上記のマイクロプリ
ズム20の上面20a、下面20bおよび分光面20c
に対してそれぞれ略垂直な側面Sには、製造工程上の理
由から段差DFが形成されている。
FIG. 6A is a perspective view of the microprism 20 mounted on the integrated circuit substrate 11, and FIG.
FIG. 6B is a side view when viewed from the direction A in FIG.
FIG. 6C is a side view when viewed from the direction B in FIG. 6A. The microprism 20 has a shape having a parallel upper surface 20a and a lower surface 20b facing each other, and a spectral surface 20c obliquely intersecting the upper surface 20a. The upper surface 20
On the a, the lower surface 20b, and the spectral surface 20c, an optical functional film such as a reflective film, a semi-transmissive film, or a non-reflective film is formed as needed by a vapor deposition method or the like. The upper surface 20a, the lower surface 20b, and the spectral surface 20c of the microprism 20 described above.
On the side surfaces S substantially perpendicular to each other, a step DF is formed for reasons of the manufacturing process.

【0012】上記のマイクロプリズム20は、集積回路
基板11に形成された第1フォトダイオード16および
第2フォトダイオード17から構成される1組のフォト
ダイオード18上に配置されている。
The above-mentioned microprism 20 is arranged on a pair of photodiodes 18 formed on the integrated circuit substrate 11 and composed of a first photodiode 16 and a second photodiode 17.

【0013】上記のマイクロプリズムの製造方法、およ
び、マイクロプリズムが貼り合わされたフォトダイオー
ド集積回路基板を有する光学素子の製造方法について、
図7〜9の模式図を参照して説明する。まず、図7
(a)に示すように、研磨装置の研磨面Pをガラス基板
40に押圧しながら回転させ、所定の厚さとなるまでガ
ラス基板40を研磨する。次に、図7(b)に示すよう
に、上記により所定の厚さとなった複数枚(図面上は4
枚)のガラス基板40を45°傾けて貼り合わせ、ガラ
ス基板40の角部を研削装置(不図示)にて研削し、さ
らに研磨装置の研磨面Pで研磨処理する。この結果、図
7(c)に示すように、ガラス基板40の表面40aに
対して図中の角度θが45°程度に傾いた斜面40bが
得られる。
A method for manufacturing the above-described microprism and a method for manufacturing an optical element having a photodiode integrated circuit substrate to which the microprism is bonded are described below.
This will be described with reference to the schematic diagrams of FIGS. First, FIG.
As shown in (a), the polishing surface P of the polishing apparatus is rotated while pressing it against the glass substrate 40, and the glass substrate 40 is polished until it has a predetermined thickness. Next, as shown in FIG. 7B, a plurality of sheets having a predetermined thickness (4 in the drawing)
The glass substrates 40 are bonded at an angle of 45 °, the corners of the glass substrate 40 are ground by a grinding device (not shown), and further polished on the polishing surface P of the polishing device. As a result, as shown in FIG. 7C, an inclined surface 40b in which the angle θ in the figure is inclined to about 45 ° with respect to the surface 40a of the glass substrate 40 is obtained.

【0014】次に、図8(d)に示すように、上記の4
5°傾けての貼り合わせを解き、各基板を直立させて再
度貼り合わせ、ガラス基板40の表面40aと上記の斜
面40bからなる45°の角度をなす頂部40c’を研
削装置(不図示)にて研削し、さらに研磨装置の研磨面
Pで研磨処理する。この結果、図8(e)に示すよう
に、ガラス基板40の表面40aに対して略直交する面
40cが得られる。次に、図8(f)に示すように、上
記の直立させた状態での貼り合わせを解き、表面40a
に対して略直交する面40c側から所定の長さをもっ
て、カッターCTにより切断する。この結果、対向する
平行な上面20aおよび下面20bと、上面20aに斜
めに交差する分光面20cを有する複数個のマイクロプ
リズムが、一の側面を介して、一体化している形状のプ
リズム母材30が得られる。次に、あるいは上記の工程
までの途中の工程において、上記上面20a、下面20
bおよび分光面20cに、必要に応じて反射膜、半透過
膜あるいは無反射膜などの光学機能膜を蒸着法などによ
り形成する。
Next, as shown in FIG.
The substrates are tilted by 5 °, unbonded, the substrates are erected and bonded again, and the top 40c ′, which is formed by the surface 40a of the glass substrate 40 and the inclined surface 40b and forms an angle of 45 °, is attached to a grinding device (not shown). And polished on the polishing surface P of the polishing apparatus. As a result, as shown in FIG. 8E, a surface 40c substantially orthogonal to the surface 40a of the glass substrate 40 is obtained. Next, as shown in FIG. 8F, the bonding in the upright state is released, and the surface 40a is removed.
Is cut by the cutter CT at a predetermined length from the surface 40c side substantially perpendicular to the surface. As a result, a plurality of microprisms having opposing parallel upper and lower surfaces 20a and 20b and a spectral surface 20c obliquely intersecting with the upper surface 20a are integrated via one side surface into a prism base material 30 having a shape. Is obtained. Next, or in the middle of the steps up to the above step, the upper surface 20 a and the lower surface 20 a
An optical functional film such as a reflective film, a semi-transmissive film, or a non-reflective film is formed on the b and the spectral surface 20c by an evaporation method or the like, if necessary.

【0015】次に、図9(g1)および(g2)に示す
ように、別工程で形成した、所定のピッチで第1フォト
ダイオード16および第2フォトダイオード17から構
成される1組のフォトダイオード18が形成された集積
回路基板11a上に、上記フォトダイオード18の形成
位置に合わせて、上記のプリズム母材30を接着剤にて
貼り付ける。図9(g1)は上記の斜面20c側から見
たときの側面図であり、図9(g2)は図9(g1)に
対して直交する側面側から見たときの側面図である。次
に、図9(h)に示すように、例えば、各フォトダイオ
ード18の組の中間地点に相当する上記プリズム母材3
0と集積回路基板11の切断位置において、幅厚のカッ
ターCTW を用いて、プリズム母材30の上面20a側
からプリズム母材30の途中までの厚さに相当する分を
切断し、溝Gを形成する。次に、図9(i)に示すよう
に、プリズム母材30と集積回路基板11の切断位置で
ある上記溝G部において、幅薄のカッターCTN を用い
て、プリズム母材30側からプリズム母材30および集
積回路基板11aを、同時に切断する。これにより、マ
イクロプリズム20が貼り合わされたフォトダイオード
集積回路基板11を有する個々の光学素子に分割され
る。上記のように、幅の異なるカッターを用いる2段階
の工程でプリズム母材30と集積回路基板11aを切断
することにより、マイクロプリズム20の上面20a、
下面20bおよび分光面20cに対してそれぞれ略垂直
な側面Sに、段差DFが形成される。
Next, as shown in FIGS. 9 (g1) and 9 (g2), a set of photodiodes formed in a separate step and composed of the first photodiode 16 and the second photodiode 17 at a predetermined pitch. The prism base material 30 is adhered to the integrated circuit board 11a on which the photodiode 18 has been formed, using an adhesive in accordance with the position where the photodiode 18 is to be formed. FIG. 9 (g1) is a side view when viewed from the above-described slope 20c side, and FIG. 9 (g2) is a side view when viewed from a side surface orthogonal to FIG. 9 (g1). Next, as shown in FIG. 9H, for example, the prism base material 3 corresponding to an intermediate point of each set of the photodiodes 18 is formed.
In cutting position 0 and the integrated circuit board 11, by cutting the amount of using a cutter CT W of width-thickness, corresponding to the thickness from the upper surface 20a side of the prism base material 30 to the middle of the prism base material 30, the grooves G To form Next, as shown in FIG. 9 (i), in the groove G unit is a cutting position of the prism base material 30 and the integrated circuit board 11, with a cutter CT N wide thin prism prism base material 30 side The base material 30 and the integrated circuit board 11a are cut at the same time. As a result, the optical element is divided into individual optical elements having the photodiode integrated circuit substrate 11 to which the microprisms 20 are attached. As described above, the upper surface 20a of the microprism 20 is cut by cutting the prism base material 30 and the integrated circuit substrate 11a in two steps using cutters having different widths.
A step DF is formed on a side surface S that is substantially perpendicular to the lower surface 20b and the spectral surface 20c.

【0016】以上のようにして、マイクロプリズム、お
よび、マイクロプリズムが貼り合わされたフォトダイオ
ード集積回路基板を有する光学素子を製造することがで
きる。上記のマイクロプリズムが貼り合わされたフォト
ダイオード集積回路基板を有する光学素子は、当該集積
回路基板上に、マイクロプリズムから所定間隔をおい
て、PINダイオード12が形成され、レーザダイオー
ド14が搭載された半導体ブロック13を実装し、上記
PINダイオード12、レーザダイオード14および集
積回路基板11に形成されたフォトダイオード18など
に駆動電圧を供給するリードなどを配線し、パッケージ
部材に収納して、光学ピックアップ装置を構成するのに
好適なレーザカプラとすることができる。
As described above, an optical element having a microprism and a photodiode integrated circuit substrate to which the microprism is bonded can be manufactured. An optical element having a photodiode integrated circuit substrate to which the above-described microprism is bonded is a semiconductor in which a PIN diode 12 is formed at a predetermined distance from the microprism and a laser diode 14 is mounted on the integrated circuit substrate. The block 13 is mounted, leads for supplying a drive voltage to the PIN diode 12, the laser diode 14, and the photodiode 18 formed on the integrated circuit board 11 and the like are wired, housed in a package member, and the optical pickup device is mounted. A laser coupler suitable for the configuration can be obtained.

【0017】[0017]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
マイクロプリズムの製造方法においては、ガラス基板を
研磨する工程や、ガラス基板の表面に対して図中の角度
が45°程度に傾いた斜面を研磨する工程など、工程数
が多く、複雑であり、製造コストが高くなるという問題
があった。
However, in the above-described method for manufacturing a microprism, a step of polishing a glass substrate or a step of polishing a slope having an angle of about 45 ° in the figure with respect to the surface of the glass substrate is performed. However, there are problems in that the number of steps is large, the steps are complicated, and the manufacturing cost is high.

【0018】また、マイクロプリズムが貼り合わされた
フォトダイオード集積回路基板を有する光学素子の製造
方法においては、プリズム母材が貼り合わされた集積回
路基板を切断して個々の光学素子とする工程で、プリズ
ム母材と集積回路基板とを同時に切断することは困難で
あり、幅の異なる2種類のカッターで2回に分けて切断
する必要があるため、工程数が多く、製造コストが高く
なるという問題があった。
Further, in the method of manufacturing an optical element having a photodiode integrated circuit substrate to which a microprism is bonded, a step of cutting the integrated circuit substrate to which a prism base material is bonded into individual optical elements is performed. It is difficult to cut the base material and the integrated circuit board at the same time, and it is necessary to cut the base material and the integrated circuit board in two steps with two types of cutters having different widths. there were.

【0019】本発明は上述の状況に鑑みてなされたもの
であり、従って本発明は、製造工程を少なくして、簡単
に製造でき、製造コストを低減できる、マイクロプリズ
ムの製造方法、および、マイクロプリズムが貼り合わさ
れたフォトダイオード集積回路基板を有する光学素子の
製造方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above situation, and accordingly, the present invention provides a method of manufacturing a microprism which can be easily manufactured with a reduced number of manufacturing steps and can reduce manufacturing costs. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an optical element having a photodiode integrated circuit substrate to which a prism is attached.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明のマイクロプリズムの製造方法は、プレス金
型に軟化させたガラス材料を投入してプレス成形し、少
なくとも複数個のマイクロプリズムが少なくとも一の側
面を介して一体化した形状を有し、上記各マイクロプリ
ズム間を区分する位置に溝が形成されているプリズム母
材を形成する工程と、上記溝に沿って上記プリズム母材
を切断し、個々のマイクロプリズムとする工程とを有す
る。
In order to achieve the above object, a method of manufacturing a microprism according to the present invention comprises: introducing a softened glass material into a press die; Forming a prism base material having a shape integrated through at least one side surface and having a groove formed at a position separating the micro prisms; and forming the prism base material along the groove. To form individual microprisms.

【0021】上記本発明のマイクロプリズムの製造方法
は、好適には、上記溝がV字状あるいはU字状の溝であ
る。
In the method for manufacturing a microprism according to the present invention, preferably, the groove is a V-shaped or U-shaped groove.

【0022】上記本発明のマイクロプリズムの製造方法
は、好適には、上記マイクロプリズムが、対向する平行
な上面および下面と、上記上面に斜めに交差する分光面
を有する形状であり、上記プリズム母材は、上記マイク
ロプリズムの上記上面、下面および分光面に対してそれ
ぞれ略垂直な側面を介して一体化している。
In the method of manufacturing a microprism according to the present invention, preferably, the microprism has a shape having a parallel upper surface and a lower surface facing each other, and a spectral surface obliquely intersecting the upper surface. The material is integrated via side surfaces substantially perpendicular to the upper surface, the lower surface, and the spectral surface of the microprism.

【0023】上記本発明のマイクロプリズムの製造方法
は、プレス金型に軟化させたガラス材料を投入してプレ
ス成形し、少なくとも複数個のマイクロプリズムが少な
くとも一の側面を介して一体化した形状を有するプリズ
ム母材を形成する。例えば、マイクロプリズムが、対向
する平行な上面および下面と、上面に斜めに交差する分
光面を有する形状であり、マイクロプリズムの上記上
面、下面および分光面に対してそれぞれ略垂直な側面を
介して一体化しているプリズム母材とする。ここで、上
記プレス成形工程にて、プリズム母材の各マイクロプリ
ズム間を区分する位置に、V字状あるいはU字状溝を形
成する。次に、溝に沿ってプリズム母材を切断し、個々
のマイクロプリズムとする。従って、プレス成形工程
と、一回の切断工程でマイクロプリズムを製造すること
ができ、製造工程を少なくして簡単に製造でき、製造コ
ストを低減することができる。
In the method of manufacturing a microprism according to the present invention, a softened glass material is charged into a press mold and press-molded to form a shape in which at least a plurality of microprisms are integrated via at least one side surface. Is formed. For example, the microprism has a shape having a parallel upper surface and a lower surface facing each other, and a spectral surface obliquely intersecting the upper surface, and the upper surface, the lower surface, and the side surface substantially perpendicular to the spectral surface of the microprism, respectively. The integrated prism base material. Here, in the press molding step, a V-shaped or U-shaped groove is formed at a position separating each microprism of the prism base material. Next, the prism base material is cut along the grooves to form individual microprisms. Therefore, the microprism can be manufactured by a press forming process and a single cutting process, and the manufacturing process can be reduced, the manufacturing can be simplified, and the manufacturing cost can be reduced.

【0024】また、上記の目的を達成するため、本発明
の光学素子の製造方法は、マイクロプリズムが貼り合わ
されたフォトダイオード集積回路基板を有する光学素子
の製造方法であって、プレス金型に軟化させたガラス材
料を投入してプレス成形し、少なくとも複数個のマイク
ロプリズムが少なくとも一の側面を介して一体化した形
状を有し、上記各マイクロプリズム間を区分する位置に
溝が形成されているプリズム母材を形成する工程と、半
導体基板に、所定のピッチでフォトダイオードを形成
し、フォトダイオード集積回路基板とする工程と、上記
フォトダイオード集積回路基板の上記フォトダイオード
形成面上に、上記プリズム母材の個々のマイクロプリズ
ム部分が上記フォトダイオードに対応するように、上記
プリズム母材を貼り合わせる工程と、上記溝に沿って上
記プリズム母材および上記フォトダイオード集積回路基
板を切断し、マイクロプリズムが貼り合わされたフォト
ダイオード集積回路基板を有する個々の光学素子とする
工程とを有する。
In order to achieve the above object, a method of manufacturing an optical element according to the present invention is a method of manufacturing an optical element having a photodiode integrated circuit substrate to which a microprism is bonded, wherein The formed glass material is charged and press-formed, and at least a plurality of microprisms have a shape integrated through at least one side surface, and a groove is formed at a position separating each of the microprisms. Forming a prism base material; forming photodiodes at a predetermined pitch on a semiconductor substrate to form a photodiode integrated circuit substrate; and forming the prism on the photodiode formation surface of the photodiode integrated circuit substrate. Paste the prism base material so that each microprism part of the base material corresponds to the photodiode. A step to I, the prism base material along the groove and then cutting the photodiode integrated circuit substrate, and a step of the individual optical elements having a photodiode integrated circuit board microprisms is bonded.

【0025】本発明の光学素子の製造方法は、好適に
は、上記溝がV字状あるいはU字状の溝である。
In the method of manufacturing an optical element according to the present invention, preferably, the groove is a V-shaped or U-shaped groove.

【0026】本発明の光学素子の製造方法は、好適に
は、上記マイクロプリズムが、対向する平行な上面およ
び下面と、上記上面に斜めに交差する分光面を有する形
状であり、上記プリズム母材は、上記マイクロプリズム
の上記上面、下面および分光面に対してそれぞれ略垂直
な側面を介して一体化している。
Preferably, in the method of manufacturing an optical element according to the present invention, the microprism has a shape having parallel upper and lower surfaces facing each other and a spectral surface obliquely intersecting the upper surface. Are integrated via side surfaces substantially perpendicular to the upper surface, the lower surface, and the spectral surface of the microprism.

【0027】本発明の光学素子の製造方法は、プレス金
型に軟化させたガラス材料を投入してプレス成形し、少
なくとも複数個のマイクロプリズムが少なくとも一の側
面を介して一体化した形状を有するプリズム母材を形成
する。例えば、マイクロプリズムが、対向する平行な上
面および下面と、上面に斜めに交差する分光面を有する
形状であり、マイクロプリズムの上記上面、下面および
分光面に対してそれぞれ略垂直な側面を介して一体化し
ているプリズム母材とする。ここで、上記プレス成形工
程にて、プリズム母材の各マイクロプリズム間を区分す
る位置に、V字状あるいはU字状の溝を形成する。次
に、所定のピッチでフォトダイオードが形成されたフォ
トダイオード集積回路基板の該フォトダイオード形成面
上に、プリズム母材の個々のマイクロプリズム部分がフ
ォトダイオードに対応するように、プリズム母材を貼り
合わせる。次に、溝に沿ってプリズム母材およびフォト
ダイオード集積回路基板を切断し、マイクロプリズムが
貼り合わされたフォトダイオード集積回路基板を有する
個々の光学素子とする。従って、プレス成形工程と、フ
ォトダイオード集積回路基板の形成工程と、貼り合わせ
工程と、一回の切断工程で、マイクロプリズムが貼り合
わされたフォトダイオード集積回路基板を有する光学素
子を製造することができ、製造工程を少なくして簡単に
製造でき、製造コストを低減することができる。
According to the method of manufacturing an optical element of the present invention, a softened glass material is put into a press mold, press-molded, and has a shape in which at least a plurality of microprisms are integrated via at least one side surface. A prism base material is formed. For example, the microprism has a shape having a parallel upper surface and a lower surface facing each other, and a spectral surface obliquely intersecting the upper surface, and the upper surface, the lower surface, and the side surface substantially perpendicular to the spectral surface of the microprism, respectively. The integrated prism base material. Here, in the press molding step, a V-shaped or U-shaped groove is formed at a position separating each microprism of the prism base material. Next, a prism base material is attached on the photodiode formation surface of the photodiode integrated circuit substrate on which photodiodes are formed at a predetermined pitch such that individual microprism portions of the prism base material correspond to the photodiodes. Match. Next, the prism base material and the photodiode integrated circuit substrate are cut along the grooves to obtain individual optical elements having the photodiode integrated circuit substrate to which the microprisms are bonded. Accordingly, an optical element having a photodiode integrated circuit substrate to which a microprism is bonded can be manufactured in a press molding step, a photodiode integrated circuit substrate forming step, a bonding step, and a single cutting step. In addition, the number of manufacturing steps can be reduced, the manufacturing can be simplified, and the manufacturing cost can be reduced.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】以下、本発明のマイクロプリズム
の製造方法、および、マイクロプリズムが貼り合わされ
たフォトダイオード集積回路基板を有する光学素子の製
造方法の実施の形態について、図面を参照して説明す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The embodiments of the method for manufacturing a microprism of the present invention and the method for manufacturing an optical element having a photodiode integrated circuit substrate to which a microprism is bonded will be described below with reference to the drawings. I do.

【0029】図1(a)は、本実施形態において製造す
る集積回路基板11上に搭載されたマイクロプリズム2
0の斜視図であり、図1(b)は図1(a)中のA方向
から見たときの側面図、図1(c)は図1(a)中のB
方向から見たときの側面図である。マイクロプリズム2
0は、対向する平行な上面20aおよび下面20bと、
上面20aに斜めに交差する分光面20cを有する形状
である。分光面20cは、例えば上面20aおよび下面
20bに対して45°の角度をもって交差する面となっ
ている。上記上面20a、下面20bおよび分光面20
cには、必要に応じて反射膜、半透過膜あるいは無反射
膜などの光学機能膜が蒸着法などにより形成されてい
る。上記のマイクロプリズム20の上面20a、下面2
0bおよび分光面20cに対してそれぞれ略垂直な側面
Sには、製造工程上の理由から傾斜面20dが形成され
ている。
FIG. 1A shows a micro prism 2 mounted on an integrated circuit board 11 manufactured in this embodiment.
1 (b) is a side view when viewed from a direction A in FIG. 1 (a), and FIG. 1 (c) is a side view when viewed in a direction B in FIG. 1 (a).
It is a side view when seen from the direction. Micro prism 2
0 is an opposing parallel upper surface 20a and lower surface 20b;
This is a shape having a spectral surface 20c obliquely intersecting the upper surface 20a. The light splitting surface 20c is a surface that intersects the upper surface 20a and the lower surface 20b at an angle of 45 °, for example. The upper surface 20a, the lower surface 20b, and the spectral surface 20
On c, an optical functional film such as a reflective film, a semi-transmissive film, or a non-reflective film is formed as necessary by a vapor deposition method or the like. The upper surface 20a and the lower surface 2 of the micro prism 20
An inclined surface 20d is formed on each of the side surfaces S substantially perpendicular to 0b and the spectral surface 20c for reasons of the manufacturing process.

【0030】上記のマイクロプリズム20は、集積回路
基板11に形成された第1フォトダイオード16および
第2フォトダイオード17から構成される1組のフォト
ダイオード18上に配置されている。
The above-described microprism 20 is arranged on a pair of photodiodes 18 formed on the integrated circuit substrate 11 and composed of the first photodiode 16 and the second photodiode 17.

【0031】上記のマイクロプリズムの製造方法、およ
び、マイクロプリズムが貼り合わされたフォトダイオー
ド集積回路基板を有する光学素子の製造方法について、
図2および図3の模式図を参照して説明する。まず、図
2(a)に示すように、プレス金型(Ma,Mb)から
構成されるキャビティCV内に、軟化させたガラス材料
を投入し、図中矢印方向に押圧してプレス成形し、少な
くとも複数個のマイクロプリズムが少なくとも一の側面
を介して一体化した形状であり、各マイクロプリズム間
を区分する位置に溝が形成されているプリズム母材30
を形成する。
A method for manufacturing the above-described microprism and a method for manufacturing an optical element having a photodiode integrated circuit substrate to which the microprism is attached are described.
This will be described with reference to the schematic diagrams of FIGS. First, as shown in FIG. 2 (a), a softened glass material is put into a cavity CV composed of a press mold (Ma, Mb), and pressed in the direction of the arrow in the figure to perform press molding. A prism base material 30 having a shape in which at least a plurality of microprisms are integrated via at least one side surface, and a groove is formed at a position separating each microprism.
To form

【0032】図2(b)は、上記のプレス成形工程によ
り形成して得たプリズム母材30の斜視図である。プリ
ズム母材30は、例えば、対向する平行な上面20aお
よび下面20bと、上面20aに斜めに交差する分光面
20cを有する形状の複数個(図面上は3個)のマイク
ロプリズム20が、マイクロプリズム20の上面20
a、下面20bおよび分光面20cに対してそれぞれ略
垂直な側面を介して一体化している形状であり、各マイ
クロプリズム20間を区分する位置に、V字状あるいは
U字状の溝Gが形成されている。即ち、マイクロプリズ
ム20の対向する平行な上面20a、下面20b、およ
び、上面20aおよび下面20bに対して例えば45°
の角度をもって交差する分光面20cは、プレス成形工
程において用いるプレス金型(Ma,Mb)の内壁面に
より規定される面となっている。
FIG. 2B is a perspective view of the prism base material 30 formed by the above-described press forming step. The prism base material 30 includes, for example, a plurality of (three in the drawing) microprisms 20 each having a parallel upper surface 20a and a lower surface 20b facing each other and a spectral surface 20c obliquely intersecting the upper surface 20a. 20 upper surface 20
a, a lower surface 20b and a spectral surface 20c are integrated via side surfaces substantially perpendicular to each other, and a V-shaped or U-shaped groove G is formed at a position for partitioning between the microprisms 20. Have been. That is, for example, 45 ° with respect to the opposed parallel upper surface 20a, lower surface 20b, and upper surface 20a and lower surface 20b of the microprism 20.
The light-splitting surface 20c intersecting at an angle of? Is a surface defined by the inner wall surfaces of the press dies (Ma, Mb) used in the press forming step.

【0033】次に、必要に応じて、得られたプリズム母
材30の上面20a、下面20bおよび分光面20cな
どを研磨処理してもよい。また、必要に応じて、上記の
プリズム母材30の上面20a、下面20bおよび分光
面20cに、反射膜、半透過膜あるいは無反射膜などの
光学機能膜を蒸着法などにより形成する。この場合の光
学機能膜の形成方法は、従来より用いられている一般的
な方法を適宜選択して用いることができる。
Next, if necessary, the upper surface 20a, the lower surface 20b, and the spectral surface 20c of the obtained prism base material 30 may be polished. If necessary, an optical functional film such as a reflective film, a semi-transmissive film, or a non-reflective film is formed on the upper surface 20a, the lower surface 20b, and the spectral surface 20c of the prism base material 30 by an evaporation method or the like. In this case, as a method for forming the optical function film, a conventionally used general method can be appropriately selected and used.

【0034】上記のプリズム母材30について、上記の
溝に沿ってカッターなどで切断することで、個々に分割
されたマイクロプリズムを製造することができるが、以
下においては、別工程で形成したフォトダイオード集積
回路基板に貼り合わせて、プリズム母材とフォトダイオ
ード集積回路基板とを同時に切断し、マイクロプリズム
が貼り合わされたフォトダイオード集積回路基板を有す
る光学素子を形成する方法について説明する。
By cutting the above-mentioned prism base material 30 with a cutter or the like along the above-mentioned grooves, individually divided microprisms can be manufactured. A method for forming an optical element having a photodiode integrated circuit substrate to which a microprism is bonded by simultaneously cutting a prism base material and a photodiode integrated circuit substrate by being bonded to a diode integrated circuit substrate will be described.

【0035】図3(c1)および(c2)に示すよう
に、別工程で形成した、所定のピッチで第1フォトダイ
オード16および第2フォトダイオード17から構成さ
れる1組のフォトダイオード18が形成された集積回路
基板11a上に、上記フォトダイオード18の形成位置
に合わせて、上記のプリズム母材30を接着剤にて貼り
付ける。図3(c1)は上記の斜面20c側から見たと
きの側面図であり、図3(c2)は図3(c1)に対し
て直交する側面側から見たときの側面図である。
As shown in FIGS. 3 (c1) and 3 (c2), a set of photodiodes 18 formed in a separate step and composed of the first photodiode 16 and the second photodiode 17 are formed at a predetermined pitch. The prism base material 30 is adhered to the integrated circuit board 11a with an adhesive in accordance with the position where the photodiode 18 is formed. FIG. 3 (c1) is a side view when viewed from the above-described slope 20c side, and FIG. 3 (c2) is a side view when viewed from a side surface orthogonal to FIG. 3 (c1).

【0036】次に、図3(d)に示すように、例えば、
各フォトダイオード18の組の中間地点であり、上記プ
リズム母材30と集積回路基板11の切断位置に相当す
る溝G部において、カッターCTを用いて、プリズム母
材30側からプリズム母材30および集積回路基板11
aを、同時に切断する。これにより、図1に示すよう
な、マイクロプリズム20が貼り合わされたフォトダイ
オード集積回路基板11を有する個々の光学素子に分割
される。上記のように、プリズム母材30の形成された
溝G部においてプリズム母材30と集積回路基板11a
を切断することにより、マイクロプリズム20の上面2
0a、下面20bおよび分光面20cに対してそれぞれ
略垂直な側面Sに、溝G部の一部を構成していた傾斜面
20dが形成される。
Next, as shown in FIG.
In a groove G portion corresponding to a cutting position between the prism base material 30 and the integrated circuit board 11, which is an intermediate point of the set of the photodiodes 18, the prism base material 30 and the prism base material 30 Integrated circuit board 11
a is cut at the same time. Thereby, as shown in FIG. 1, the optical element is divided into individual optical elements having the photodiode integrated circuit substrate 11 to which the microprism 20 is attached. As described above, the prism base material 30 and the integrated circuit board 11a are formed in the groove G where the prism base material 30 is formed.
By cutting the upper surface 2 of the microprism 20
An inclined surface 20d which forms a part of the groove G is formed on a side surface S substantially perpendicular to the lower surface 20a, the lower surface 20b, and the spectral surface 20c.

【0037】以上のようにして、マイクロプリズム、お
よび、マイクロプリズムが貼り合わされたフォトダイオ
ード集積回路基板を有する光学素子を製造することがで
きる。
As described above, an optical element having a microprism and a photodiode integrated circuit substrate to which the microprism is bonded can be manufactured.

【0038】上記のマイクロプリズムの製造方法によれ
ば、プレス成形工程と、一回の切断工程でマイクロプリ
ズムを製造することができ、製造工程を少なくして簡単
に製造でき、製造コストを低減することができる。
According to the above-described method for manufacturing a microprism, a microprism can be manufactured by a press forming step and a single cutting step, so that the number of manufacturing steps can be reduced, the manufacturing can be simplified, and the manufacturing cost can be reduced. be able to.

【0039】また、上記のマイクロプリズムが貼り合わ
されたフォトダイオード集積回路基板を有する光学素子
の製造方法によれば、プレス成形工程と、フォトダイオ
ード集積回路基板の形成工程と、貼り合わせ工程と、一
回の切断工程で、マイクロプリズムが貼り合わされたフ
ォトダイオード集積回路基板を有する光学素子を製造す
ることができ、製造工程を少なくして簡単に製造でき、
製造コストを低減することができる。
According to the method for manufacturing an optical element having the photodiode integrated circuit substrate to which the microprisms are bonded, the press forming step, the photodiode integrated circuit substrate forming step, and the bonding step include the following steps. In a single cutting step, an optical element having a photodiode integrated circuit substrate to which a microprism is bonded can be manufactured, and the manufacturing steps can be reduced and the manufacturing can be simplified.
Manufacturing costs can be reduced.

【0040】上記のマイクロプリズムが貼り合わされた
フォトダイオード集積回路基板を有する光学素子の集積
回路基板上に、マイクロプリズムから所定間隔をおい
て、PINダイオード12が形成され、レーザダイオー
ド14が搭載された半導体ブロック13を実装し、上記
PINダイオード12、レーザダイオード14および集
積回路基板11に形成されたフォトダイオード18など
に駆動電圧を供給するリードなどを配線し、パッケージ
部材に収納することで、光ディスク装置などにおける光
学ピックアップ装置を構成するのに好適なレーザカプラ
を構成することができる。
On an integrated circuit board of an optical element having a photodiode integrated circuit board to which the above-mentioned microprism is bonded, a PIN diode 12 is formed at a predetermined distance from the microprism, and a laser diode 14 is mounted. The semiconductor block 13 is mounted, leads for supplying a drive voltage to the PIN diode 12, the laser diode 14, the photodiode 18 formed on the integrated circuit board 11 and the like are wired, and are housed in a package member. It is possible to configure a laser coupler suitable for configuring an optical pickup device such as described above.

【0041】図4(a)は上記のレーザカプラ1の概略
構成を示す斜視図である。レーザカプラ1は、第1パッ
ケージ部材2の凹部に装填され、ガラスなどの透明な第
2パッケージ部材3により封止されている。
FIG. 4A is a perspective view showing a schematic structure of the laser coupler 1 described above. The laser coupler 1 is mounted in a concave portion of the first package member 2 and is sealed by a transparent second package member 3 such as glass.

【0042】図4(b)は上記のレーザカプラ1の要部
側面図である。本実施形態に係るマイクロプリズム20
が貼り合わされたフォトダイオード集積回路基板11を
有する光学素子の当該集積回路基板11上に、モニター
用の光検出素子としてのPINダイオード12が形成さ
れた半導体ブロック13が配置され、さらに、この半導
体ブロック13上に、発光素子としてレーザダイオード
14が配置されている。
FIG. 4B is a side view of a main part of the laser coupler 1 described above. Micro prism 20 according to the present embodiment
A semiconductor block 13 on which a PIN diode 12 as a photodetection element for monitoring is formed is disposed on the integrated circuit substrate 11 of the optical element having the photodiode integrated circuit substrate 11 to which is adhered. A laser diode 14 is arranged on 13 as a light emitting element.

【0043】一方、集積回路基板11には、上述のよう
に、例えば第1フォトダイオード16および第2フォト
ダイオード17から構成される1組のフォトダイオード
18が形成され、このフォトダイオード18上に、レー
ザダイオード14と所定間隔をおいて、マイクロプリズ
ム20が搭載されている。
On the other hand, on the integrated circuit substrate 11, as described above, a set of photodiodes 18 composed of, for example, the first photodiode 16 and the second photodiode 17 is formed. A microprism 20 is mounted at a predetermined distance from the laser diode 14.

【0044】レーザダイオード14から出射されたレー
ザ光Lは、マイクロプリズム20の分光面20cで一部
反射して進行方向を屈曲し、第2パッケージ部材3に形
成された出射窓から出射方向に出射し、不図示の反射ミ
ラーや対物レンズなどを介して光ディスク(CD)など
の被照射対象物に照射される。上記の被照射対象物から
の反射光は、被照射対象物への入射方向と反対方向に進
み、レーザカプラ1からの出射方向からマイクロプリズ
ム20の分光面20cに入射する。このマイクロプリズ
ム20の上面20aで焦点を結びながら、マイクロプリ
ズム20の下面20bの下部となる集積回路基板11上
に形成された第1フォトダイオード16および第2フォ
トダイオード17に入射する。
The laser light L emitted from the laser diode 14 is partially reflected by the light-splitting surface 20c of the microprism 20 and bent in the traveling direction, and emitted from the emission window formed in the second package member 3 in the emission direction. Then, the light is irradiated to an irradiation target object such as an optical disk (CD) via a reflection mirror or an objective lens (not shown). The reflected light from the irradiation target proceeds in a direction opposite to the incident direction on the irradiation target, and enters the spectral surface 20c of the microprism 20 from the emission direction from the laser coupler 1. While focusing on the upper surface 20 a of the microprism 20, the light enters the first photodiode 16 and the second photodiode 17 formed on the integrated circuit substrate 11 below the lower surface 20 b of the microprism 20.

【0045】また、半導体ブロック13上に形成された
PINダイオード12は、レーザダイオード14のリア
側に出射されたレーザ光を感知し、レーザ光の強度を測
定して、レーザ光の強度が一定となるようにレーザダイ
オード14の駆動電流を制御するAPC(Automatic Po
wer Control )制御が行われる。
The PIN diode 12 formed on the semiconductor block 13 senses the laser light emitted to the rear side of the laser diode 14, measures the intensity of the laser light, and determines that the intensity of the laser light is constant. APC (Automatic Po) that controls the drive current of the laser diode 14
wer Control) control is performed.

【0046】上記のレーザカプラを用いて光学ピックア
ップ装置を構成した時の例を図5に示す。レーザカプラ
1に内蔵されるレーザダイオードからの出射レーザ光L
は、コリメータC、ミラーM、CD用開口制限アパーチ
ャRおよび対物レンズOLを介して、CDあるいはDV
Dなどの光ディスクDに入射する。光ディスクDからの
反射光は、入射光と同一の経路をたどってレーザカプラ
に戻り、レーザカプラに内蔵される第1および第2フォ
トダイオードにより受光される。以上のように、本実施
形態により製造したマイクロプリズム20が貼り合わさ
れたフォトダイオード集積回路基板11を有する光学素
子組み込み、レーザカプラを構成することができる。
FIG. 5 shows an example in which an optical pickup device is constructed using the above laser coupler. Laser light L emitted from a laser diode built in laser coupler 1
Is a CD or DV through a collimator C, a mirror M, a CD aperture limiting aperture R and an objective lens OL.
D and the like. The reflected light from the optical disk D follows the same path as the incident light, returns to the laser coupler, and is received by the first and second photodiodes built in the laser coupler. As described above, a laser coupler can be configured by incorporating an optical element having the photodiode integrated circuit substrate 11 to which the microprisms 20 manufactured according to the present embodiment are bonded.

【0047】以上、本発明を実施形態により説明した
が、本発明はこれらの実施形態に何ら限定されるもので
はない。例えば、マイクロプリズムの形状は、上記の形
状以外にも適用することができる。また、レーザカプラ
を構成するレーザダイオード素子やパッケージ部材など
は単なる例示に過ぎず、例えば2個のレーザダイオード
をモノリシックに構成した2波長レーザダイオードなど
を用いることができる。あるいは、モノリシックに構成
される2個のレーザダイオードについて、発光波長が異
なる素子の他、発光波長が同じで発光強度が異なる素
子、あるいは素子特性が同一の素子などとすることが可
能である。また、3個以上のレーザドダイオードを有す
るレーザカプラを構成することも可能である。その他、
本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更を行うこと
が可能である。
Although the present invention has been described with reference to the embodiments, the present invention is not limited to these embodiments. For example, the shape of the microprism can be applied to a shape other than the above. Further, the laser diode elements and package members constituting the laser coupler are merely examples, and for example, a two-wavelength laser diode in which two laser diodes are monolithically formed can be used. Alternatively, for the two monolithically configured laser diodes, in addition to elements having different emission wavelengths, elements having the same emission wavelength but different emission intensities, or elements having the same element characteristics can be used. It is also possible to configure a laser coupler having three or more laser diodes. Others
Various changes can be made without departing from the spirit of the present invention.

【0048】[0048]

【発明の効果】本発明のマイクロプリズムの製造方法に
よれば、プレス成形工程と、一回の切断工程でマイクロ
プリズムを製造することができ、製造工程を少なくして
簡単に製造でき、製造コストを低減することができる。
According to the method for manufacturing a microprism of the present invention, a microprism can be manufactured by a press forming step and a single cutting step, and the manufacturing steps can be reduced, the manufacturing can be simplified, and the manufacturing cost can be reduced. Can be reduced.

【0049】本発明の光学素子の製造方法によれば、プ
レス成形工程と、フォトダイオード集積回路基板の形成
工程と、貼り合わせ工程と、一回の切断工程で、マイク
ロプリズムが貼り合わされたフォトダイオード集積回路
基板を有する光学素子を製造することができ、製造工程
を少なくして簡単に製造でき、製造コストを低減するこ
とができる。
According to the method for manufacturing an optical element of the present invention, the press-molding step, the step of forming the photodiode integrated circuit substrate, the bonding step, and the single-step cutting step allow the photodiode having the microprisms bonded thereto. An optical element having an integrated circuit substrate can be manufactured, the number of manufacturing steps can be reduced, the manufacturing can be simplified, and the manufacturing cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1(a)は、本実施形態に係るマイクロプリ
ズムおよび光学素子の斜視図であり、図1(b)は図1
(a)中のA方向から見たときの側面図、図1(c)は
図1(a)中のB方向から見たときの側面図である。
FIG. 1A is a perspective view of a microprism and an optical element according to the present embodiment, and FIG. 1B is a perspective view of FIG.
1A is a side view when viewed from a direction A, and FIG. 1C is a side view when viewed from a direction B in FIG.

【図2】図2(a)は、本実施形態に係るマイクロプリ
ズムおよび光学素子の製造方法の製造工程のプレス成形
工程までを示す模式図であり、図2(b)はプレス成形
工程により形成したプリズム母材の斜視図である。
FIG. 2A is a schematic view showing a manufacturing process of a manufacturing method of a microprism and an optical element according to the present embodiment up to a press molding process, and FIG. It is a perspective view of the prism base material which was done.

【図3】図3(c1)および(c2)は図2の続きの工
程であるプリズム母材をフォトダイオード集積回路基板
に貼り合わせる工程を示す模式図であり、図3(c1)
は一側面側から見たとき、図3(c2)は図3(c1)
に対して直交する側面側から見たときの模式図である。
図3(d)はプリズム母材をフォトダイオード集積回路
基板を切断して個々の光学素子とする工程までを示す模
式図である。
3 (c1) and (c2) are schematic views showing a step following the step shown in FIG. 2 in which a prism base material is bonded to a photodiode integrated circuit substrate, and FIG. 3 (c1)
3 (c2) is FIG. 3 (c1) when viewed from one side.
FIG. 3 is a schematic diagram when viewed from a side surface orthogonal to FIG.
FIG. 3D is a schematic view showing a process up to the step of cutting the photodiode integrated circuit substrate from the prism base material into individual optical elements.

【図4】図4(a)は実施形態および従来例に係るレー
ザカプラの概略構成を示す斜視図であり、図4(b)は
図4(a)に示すレーザカプラの要部側面図である。
FIG. 4A is a perspective view showing a schematic configuration of a laser coupler according to an embodiment and a conventional example, and FIG. 4B is a side view of a main part of the laser coupler shown in FIG. 4A. is there.

【図5】図5は実施形態および従来例に係るレーザカプ
ラを用いて光学ピックアップ装置を構成した時の模式構
成図である。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram when an optical pickup device is configured using the laser coupler according to the embodiment and the conventional example.

【図6】図6(a)は、従来例に係るマイクロプリズム
および光学素子の斜視図であり、図6(b)は図6
(a)中のA方向から見たときの側面図、図6(c)は
図6(a)中のB方向から見たときの側面図である。
FIG. 6A is a perspective view of a microprism and an optical element according to a conventional example, and FIG. 6B is a perspective view of FIG.
FIG. 6C is a side view when viewed from the direction A in FIG. 6A, and FIG. 6C is a side view when viewed from the direction B in FIG. 6A.

【図7】図7(a)は、従来例に係るマイクロプリズム
および光学素子の製造方法の製造工程のガラス基板の研
磨工程までを示す模式図であり、図7(b)はガラス基
板を傾けて貼り合わせて角部を研削、研磨処理する工程
までを示す模式図であり、図7(c)は図7(b)の研
削、研磨処理により形成した斜面を示す模式図である。
FIG. 7A is a schematic diagram showing a process of manufacturing a micro-prism and an optical element according to a conventional example up to a polishing process of a glass substrate in a manufacturing process, and FIG. FIG. 7C is a schematic view showing a process up to a step of grinding and polishing a corner portion by bonding together, and FIG. 7C is a schematic view showing a slope formed by the grinding and polishing processing of FIG. 7B.

【図8】図8(d)は図2の続きの工程である、ガラス
基板を直立させて再度貼り合わせ、ガラス基板の頂部を
研削、研磨処理する工程を示す模式図であり、図8
(e)は図8(d)の研削、研磨処理により形成した斜
面を示す模式図である。図8(f)は、上記の研磨面か
ら所定の長さをもって切断する工程までを示す模式図で
ある。
FIG. 8D is a schematic view showing a step following the step of FIG. 2 in which the glass substrate is erected and bonded again, and the top of the glass substrate is ground and polished.
FIG. 9E is a schematic diagram illustrating a slope formed by the grinding and polishing processes of FIG. FIG. 8 (f) is a schematic view showing the process up to the step of cutting a predetermined length from the polished surface.

【図9】図9(g1)および(g2)は図8の続きの工
程であるプリズム母材をフォトダイオード集積回路基板
に貼り合わせる工程を示す模式図であり、図9(g1)
は一側面側から見たとき、図9(g2)は図9(g1)
に対して直交する側面側から見たときの模式図である。
図9(h)は溝を形成する工程まで、図9(i)はプリ
ズム母材をフォトダイオード集積回路基板を切断して個
々の光学素子とする工程までを示す模式図である。
9 (g1) and 9 (g2) are schematic views showing a step following the step shown in FIG. 8 in which the prism base material is bonded to the photodiode integrated circuit substrate, and FIG. 9 (g1)
9 (g2) is FIG. 9 (g1) when viewed from one side.
FIG. 3 is a schematic diagram when viewed from a side surface orthogonal to FIG.
FIG. 9H is a schematic diagram showing a process up to a step of forming a groove, and FIG. 9I is a schematic diagram showing a process up to a process of cutting a photodiode integrated circuit substrate from a prism base material into individual optical elements.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…レーザカプラ、2…第2パッケージ部材、3…第2
パッケージ部材、11,11a…フォトダイオード集積
回路基板、12…PINダイオード、13…半導体ブロ
ック、14…レーザダイオード、16…第1フォトダイ
オード、17…第2フォトダイオード、18…フォトダ
イオード、20…マイクロプリズム、20a…上面、2
0b…下面、20c…分光面、20d…傾斜面、30…
プリズム母材、C…コリメータ、CT…カッター、CV
…キャビティ、D…光ディスク、DF…段差、G…溝、
M…ミラー、Ma,Mb…プレス金型、OL…対物レン
ズ、R…CD用開口制限アパーチャ、S…側面。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Laser coupler, 2 ... 2nd package member, 3 ... 2nd
Package members, 11, 11a: photodiode integrated circuit board, 12: PIN diode, 13: semiconductor block, 14: laser diode, 16: first photodiode, 17: second photodiode, 18: photodiode, 20: micro Prism, 20a ... upper surface, 2
0b: lower surface, 20c: spectral surface, 20d: inclined surface, 30:
Prism base material, C: collimator, CT: cutter, CV
... cavity, D ... optical disk, DF ... step, G ... groove,
M: mirror, Ma, Mb: press mold, OL: objective lens, R: aperture limiting aperture for CD, S: side surface.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 31/10 H01L 31/12 G 31/12 H01S 5/026 H01S 5/026 H01L 31/10 A Fターム(参考) 2H042 CA01 CA07 CA10 CA15 CA17 4G015 FA01 FB01 FC02 5F049 MA01 NA18 NA20 NB08 RA02 RA06 SS02 TA03 TA11 5F073 AB21 AB25 AB27 BA05 FA13 5F089 BA04 BB01 BC02 BC11 CA20 CA21 GA01 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (reference) H01L 31/10 H01L 31/12 G 31/12 H01S 5/026 H01S 5/026 H01L 31/10 A F term (reference) 2H042 CA01 CA07 CA10 CA15 CA17 4G015 FA01 FB01 FC02 5F049 MA01 NA18 NA20 NB08 RA02 RA06 SS02 TA03 TA11 5F073 AB21 AB25 AB27 BA05 FA13 5F089 BA04 BB01 BC02 BC11 CA20 CA21 GA01

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】プレス金型に軟化させたガラス材料を投入
してプレス成形し、少なくとも複数個のマイクロプリズ
ムが少なくとも一の側面を介して一体化した形状を有
し、上記各マイクロプリズム間を区分する位置に溝が形
成されているプリズム母材を形成する工程と、 上記溝に沿って上記プリズム母材を切断し、個々のマイ
クロプリズムとする工程とを有するマイクロプリズムの
製造方法。
1. A softened glass material is charged into a press mold and press-molded, and at least a plurality of microprisms have a shape integrated through at least one side surface, and a space between the microprisms is provided. A method for manufacturing a microprism, comprising: a step of forming a prism base material having a groove formed at a sectioning position; and a step of cutting the prism base material along the groove to form individual microprisms.
【請求項2】上記溝がV字状あるいはU字状の溝である
請求項1に記載のマイクロプリズムの製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the groove is a V-shaped or U-shaped groove.
【請求項3】上記マイクロプリズムが、対向する平行な
上面および下面と、上記上面に斜めに交差する分光面を
有する形状であり、 上記プリズム母材は、上記マイクロプリズムの上記上
面、下面および分光面に対してそれぞれ略垂直な側面を
介して一体化している請求項1に記載のマイクロプリズ
ムの製造方法。
3. The microprism has a shape having a parallel upper surface and a lower surface facing each other, and a spectral surface obliquely intersecting the upper surface, and the prism base material includes the upper surface, the lower surface, and the spectral surface of the microprism. 2. The method of manufacturing a microprism according to claim 1, wherein the microprisms are integrated via side surfaces substantially perpendicular to the surfaces.
【請求項4】マイクロプリズムが貼り合わされたフォト
ダイオード集積回路基板を有する光学素子の製造方法で
あって、 プレス金型に軟化させたガラス材料を投入してプレス成
形し、少なくとも複数個のマイクロプリズムが少なくと
も一の側面を介して一体化した形状を有し、上記各マイ
クロプリズム間を区分する位置に溝が形成されているプ
リズム母材を形成する工程と、 半導体基板に、所定のピッチでフォトダイオードを形成
し、フォトダイオード集積回路基板とする工程と、 上記フォトダイオード集積回路基板の上記フォトダイオ
ード形成面上に、上記プリズム母材の個々のマイクロプ
リズム部分が上記フォトダイオードに対応するように、
上記プリズム母材を貼り合わせる工程と、 上記溝に沿って上記プリズム母材および上記フォトダイ
オード集積回路基板を切断し、マイクロプリズムが貼り
合わされたフォトダイオード集積回路基板を有する個々
の光学素子とする工程とを有する光学素子の製造方法。
4. A method of manufacturing an optical element having a photodiode integrated circuit substrate to which a microprism is bonded, wherein a softened glass material is charged into a press mold and press-molded to form at least a plurality of microprisms. Forming a prism base material having a shape integrated through at least one side surface and having a groove formed at a position for partitioning the microprisms; Forming a diode to form a photodiode integrated circuit board; and, on the photodiode formation surface of the photodiode integrated circuit board, so that each microprism portion of the prism base material corresponds to the photodiode.
Bonding the prism base material and cutting the prism base material and the photodiode integrated circuit board along the groove to form individual optical elements having a photodiode integrated circuit substrate to which microprisms are bonded. A method for producing an optical element comprising:
【請求項5】上記溝がV字状あるいはU字状の溝である
請求項4に記載の光学素子の製造方法。
5. The method according to claim 4, wherein the groove is a V-shaped or U-shaped groove.
【請求項6】上記マイクロプリズムが、対向する平行な
上面および下面と、上記上面に斜めに交差する分光面を
有する形状であり、 上記プリズム母材は、上記マイクロプリズムの上記上
面、下面および分光面に対してそれぞれ略垂直な側面を
介して一体化している請求項4に記載の光学素子の製造
方法。
6. The microprism has a shape having parallel upper and lower surfaces facing each other and a spectral surface obliquely intersecting with the upper surface, and the prism base material includes the upper surface, the lower surface, and the spectral surface of the microprism. The method for manufacturing an optical element according to claim 4, wherein the optical elements are integrated via side surfaces substantially perpendicular to the surfaces.
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