JP2002053560A - Uracil compound and use thereof - Google Patents

Uracil compound and use thereof

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JP2002053560A
JP2002053560A JP2000366722A JP2000366722A JP2002053560A JP 2002053560 A JP2002053560 A JP 2002053560A JP 2000366722 A JP2000366722 A JP 2000366722A JP 2000366722 A JP2000366722 A JP 2000366722A JP 2002053560 A JP2002053560 A JP 2002053560A
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methyl
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芳伴 遠山
Minoru Sanemitsu
穣 実光
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友彦 後藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a compound having high herbicidal activity. SOLUTION: This compound is an uracil compound of the general formula [I] (wherein, W is an oxygen atom or the like; Y is an oxygen atom or the like; R1 is a 1-3C alkyl or 1-3C haloalkyl; R2 is a 1-3C alkyl; R4 is H or methyl; R5 is 1-6C alkyl or the like; X1 is a halogen atom or the like; X2 is H or the like; and X3 and X4 are each H or the like). Herbicides each comprising the above compound as the active ingredient are provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はウラシル化合物及び
その用途に関する。
The present invention relates to uracil compounds and uses thereof.

【0002】[0002]

【発明が解決しようとする課題】本発明は優れた除草活
性を有する化合物を提供することを課題とする。
An object of the present invention is to provide a compound having an excellent herbicidal activity.

【0003】[0003]

【課題を解決する為の手段】現在、数多くの除草剤が市
販され、使用されているが、防除の対象となる雑草は種
類も多く、発生も長期にわたるため、より除草効果が高
く、幅広い殺草スペクトラムを有し、作物に対し薬害の
問題を生じない除草剤が求められている。特開昭63―
41466号公報において、ある種のフェニルウラシル
化合物が除草活性を有することが開示されているが、こ
れらのフェニルウラシル化合物が除草剤として十分な性
能を有するものではない。また、PCT出願公開明細書
WO97−01541号、PCT出願公開明細書WO9
8−41093号において、ある種の置換フェノキシフ
ェニルウラシル化合物が除草活性を有することが開示さ
れているが、これらの置換フェノキシフェニルウラシル
化合物が除草剤として十分な性能を有するものではな
い。本発明者らは優れた除草活性を有する化合物を見出
すべく鋭意検討した結果、下記一般式[I]で示される
ウラシル化合物が優れた除草活性を有することを見出
し、本発明に至った。即ち、本発明は、一般式[I]
At present, a large number of herbicides are commercially available and used. However, the weeds to be controlled are of many types and their outbreaks are long-term, so that they have a higher herbicidal effect and a wide range of killing. There is a need for a herbicide that has a grass spectrum and does not cause phytotoxicity problems for crops. JP-A-63-
Japanese Patent No. 41466 discloses that certain phenyluracil compounds have herbicidal activity, but these phenyluracil compounds do not have sufficient performance as herbicides. Also, PCT application published specification WO 97-01541, PCT application published specification WO 9
No. 8-41093 discloses that certain substituted phenoxyphenyluracil compounds have herbicidal activity, but these substituted phenoxyphenyluracil compounds do not have sufficient performance as herbicides. The present inventors have conducted intensive studies to find a compound having an excellent herbicidal activity. As a result, they have found that a uracil compound represented by the following general formula [I] has an excellent herbicidal activity, and reached the present invention. That is, the present invention provides a compound represented by the general formula [I]:

【化6】 [式中、Wは酸素原子、硫黄原子、イミノ基またはC1
−C3アルキルイミノ基を表し、Yは酸素原子、硫黄原
子、イミノ基またはC1−C3アルキルイミノ基を表
し、R1はC1−C3アルキル基またはC1−C3ハロ
アルキル基を表し、R2はC1−C3アルキル基を表
し、R4は水素原子またはメチル基を表し、R5は水素原
子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル
基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアルケニ
ル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロアルキ
ニル基を表し、X1はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基を表し、X2は水素原子またはハロゲン原子を表し、
3およびX4はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン
原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル
基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアルケニ
ル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロアルキ
ニル基、C1−C6アルコキシC1−C6アルキル基、
C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ
基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルコ
キシ基またはシアノ基を表す。]で示されるウラシル化
合物(以下、本発明化合物と記す。)およびそれを有効
成分として含有する除草剤を提供する。
Embedded image Wherein W is an oxygen atom, a sulfur atom, an imino group or C1
Y represents an oxygen atom, a sulfur atom, an imino group or a C1-C3 alkylimino group, R 1 represents a C1-C3 alkyl group or a C1-C3 haloalkyl group, and R 2 represents a C1-C1 alkylimino group. R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group; R 5 represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C6 alkenyl group, a C3-C6 haloalkenyl group, a C3-alkyl group; X 1 represents a halogen atom, a cyano group, or a nitro group; X 2 represents a hydrogen atom or a halogen atom;
X 3 and X 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C6 alkenyl group, a C3-C6 haloalkenyl group, a C3-C6 alkynyl group, a C3- C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy C1-C6 alkyl group,
Represents a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C1-C6 alkoxycarbonyl C1-C6 alkoxy group or a cyano group. (Hereinafter referred to as the compound of the present invention) and a herbicide containing the same as an active ingredient.

【0004】本発明はさらに、本発明化合物の製造中間
体として有用な一般式[XXXII]
The present invention further provides a compound of the general formula [XXXII] useful as an intermediate for producing the compound of the present invention.

【化7】 [式中、Wは酸素原子、硫黄原子、イミノ基またはC1
−C3アルキルイミノ基を表し、R17は酸素原子または
硫黄原子を表し、R4は水素原子またはメチル基を表
し、R5はC1−C6アルキル基、C1−C6ハロアル
キル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアル
ケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロア
ルキニル基を表し、X1はハロゲン原子、シアノ基、ニ
トロ基を表し、X2は水素原子またはハロゲン原子を表
し、X3およびX4はそれぞれ独立して、水素原子、ハロ
ゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアル
キル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアル
ケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロア
ルキニル基、C1−C6アルコキシC1−C6アルキル
基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキ
シ基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アル
コキシ基またはシアノ基を表す。]で示されるアニリン
化合物、一般式[XXXIV]
Embedded image Wherein W is an oxygen atom, a sulfur atom, an imino group or C1
Represents -C3 alkylimino group, R 17 represents an oxygen atom or a sulfur atom, R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 5 is C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C6 alkenyl group , C3-C6 haloalkenyl group, C3-C6 alkynyl group, a C3-C6 haloalkynyl group, X 1 represents a halogen atom, a cyano group, a nitro group, X 2 represents a hydrogen atom or a halogen atom, X 3 And X 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C6 alkenyl group, a C3-C6 haloalkenyl group, a C3-C6 alkynyl group, a C3-C6 halo. Alkynyl group, C1-C6 alkoxy C1-C6 alkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkyl group Carboxylate a carbonyl C1-C6 alkoxy group or a cyano group. An aniline compound represented by the general formula [XXXIV]

【化8】 [式中、Wは酸素原子、硫黄原子、イミノ基またはC1
−C3アルキルイミノ基を表し、R17は酸素原子または
硫黄原子を表し、R4は水素原子またはメチル基を表
し、R5はC1−C6アルキル基、C1−C6ハロアル
キル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアル
ケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロア
ルキニル基を表し、R18はC1−C6アルキル基または
フェニル基を表し、X1はハロゲン原子、シアノ基、ニ
トロ基を表し、X2は水素原子またはハロゲン原子を表
し、X3およびX4はそれぞれ独立して、水素原子、ハロ
ゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアル
キル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアル
ケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロア
ルキニル基、C1−C6アルコキシC1−C6アルキル
基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキ
シ基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アル
コキシ基またはシアノ基を表す。]で示される化合物、
および一般式[XXXIII]
Embedded image Wherein W is an oxygen atom, a sulfur atom, an imino group or C1
Represents -C3 alkylimino group, R 17 represents an oxygen atom or a sulfur atom, R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 5 is C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C6 alkenyl group , C3-C6 haloalkenyl group, C3-C6 alkynyl group, a C3-C6 haloalkynyl group, R 18 represents a C1-C6 alkyl group or a phenyl group, X 1 represents a halogen atom, a cyano group, a nitro group , X 2 represents a hydrogen atom or a halogen atom, and X 3 and X 4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C6 alkenyl group, a C3-C6 Haloalkenyl group, C3-C6 alkynyl group, C3-C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy C1-C6 alkyl group, C1-C6 alcohol Shi group, a C1-C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkoxycarbonyl C1-C6 alkoxy group or a cyano group. A compound represented by the formula:
And the general formula [XXXIII]

【化9】 [式中、Wは酸素原子、硫黄原子、イミノ基またはC1
−C3アルキルイミノ基を表し、R17は酸素原子または
硫黄原子を表し、R4は水素原子またはメチル基を表
し、R5はC1−C6アルキル基、C1−C6ハロアル
キル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアル
ケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロア
ルキニル基を表し、X1はハロゲン原子、シアノ基、ニ
トロ基を表し、X2は水素原子またはハロゲン原子を表
し、X3およびX4はそれぞれ独立して、水素原子、ハロ
ゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアル
キル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアル
ケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロア
ルキニル基、C1−C6アルコキシC1−C6アルキル
基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキ
シ基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アル
コキシ基またはシアノ基をを表す。]で示される化合物
をも提供する。
Embedded image Wherein W is an oxygen atom, a sulfur atom, an imino group or C1
Represents -C3 alkylimino group, R 17 represents an oxygen atom or a sulfur atom, R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 5 is C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C6 alkenyl group , C3-C6 haloalkenyl group, C3-C6 alkynyl group, a C3-C6 haloalkynyl group, X 1 represents a halogen atom, a cyano group, a nitro group, X 2 represents a hydrogen atom or a halogen atom, X 3 And X 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C6 alkenyl group, a C3-C6 haloalkenyl group, a C3-C6 alkynyl group, a C3-C6 halo. Alkynyl group, C1-C6 alkoxy C1-C6 alkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkyl group Alkoxy represents a carbonyl C1-C6 alkoxy group or a cyano group. ] Is also provided.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明において、Wで示されるC
1−C3アルキルイミノ基としては、メチルイミノ基、
エチルイミノ基等があげられ、Yで示されるC1−C3
アルキルイミノ基としては、メチルイミノ基、エチルイ
ミノ基等があげられ、R1で示されるC1−C3アルキ
ル基とは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基を意味し、C1−C3ハロアルキル基としては、
ブロモメチル基、クロロメチル基、フルオロメチル基、
ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ジフルオロメ
チル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル
基、1,1−ジフルオロエチル基、3,3,3−トリフ
ルオロプロピル基等があげられ、R2で示されるC1−
C3アルキル基とは、メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基を意味し、R5で示されるC1−C
6アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ブチル基、s−ブチル基、t−ブ
チル基等があげられ、C1−C6ハロアルキル基として
は、ブロモメチル基、クロロメチル基、フルオロメチル
基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ジフルオ
ロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ブロモジフル
オロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロ
エチル基、2−フルオロエチル基、1,1−ジフルオロ
エチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、3,3,
3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリクロロ
プロピル基等があげられ、C3−C6アルケニル基とし
ては、アリル基、1−メチルアリル基、1,1−ジメチ
ルアリル基、2−メチルアリル基、1−ブテニル基、2
−ブテニル基、3−ブテニル基等があげられ、C3−C
6ハロアルケニル基としては、1−クロロアリル基、1
−ブロモアリル基、2−クロロアリル基、3,3−ジク
ロロアリル基等があげられ、C3−C6アルキニル基と
しては、2−プロピニル基、1−メチル−2−プロピニ
ル基、1,1−ジメチル−2−プロピニル基、2−ブチ
ニル基、3−ブチニル基、1−メチル−2−ブチニル基
等があげられ、C3−C6ハロアルキニル基としては、
3−クロロ−2−プロピニル基、3−ブロモ−2−プロ
ピニル基、1−フルオロ−2−プロピニル基、1−クロ
ロ−2−プロピニル基、1−ブロモ−2−プロピニル
基、1−クロロ−2−ブチニル基等があげられ、
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, C represented by W
Examples of the 1-C3 alkylimino group include a methylimino group,
And C1-C3 represented by Y, such as an ethylimino group.
Examples of the alkylimino group include a methylimino group and an ethylimino group. The C1-C3 alkyl group represented by R 1 means a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or an isopropyl group, and a C1-C3 haloalkyl group. Is
Bromomethyl group, chloromethyl group, fluoromethyl group,
Dichloromethyl group, trichloromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, 1,1-difluoroethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group and the like, and represented by R 2 C1-
The C3 alkyl group, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, means an isopropyl group, C1-C represented by R 5
Examples of the 6 alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an s-butyl group, and a t-butyl group. As the C1-C6 haloalkyl group, a bromomethyl group, a chloromethyl group, Fluoromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group, difluoromethyl group, chlorodifluoromethyl group, bromodifluoromethyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, 2-fluoroethyl group, 1,1-difluoroethyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, 3,3
3-trifluoropropyl group, 3,3,3-trichloropropyl group and the like. Examples of the C3-C6 alkenyl group include an allyl group, a 1-methylallyl group, a 1,1-dimethylallyl group, a 2-methylallyl group, 1-butenyl group, 2
-Butenyl group, 3-butenyl group and the like, and C3-C
6 haloalkenyl groups include 1-chloroallyl group, 1
-Bromoallyl group, 2-chloroallyl group, 3,3-dichloroallyl group and the like. Examples of the C3-C6 alkynyl group include a 2-propynyl group, a 1-methyl-2-propynyl group and a 1,1-dimethyl-2 group. -Propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, 1-methyl-2-butynyl group and the like, and as the C3-C6 haloalkynyl group,
3-chloro-2-propynyl group, 3-bromo-2-propynyl group, 1-fluoro-2-propynyl group, 1-chloro-2-propynyl group, 1-bromo-2-propynyl group, 1-chloro-2 -Butynyl group and the like;

【0006】R18で示されるC1−C6アルキル基とし
ては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基等があげら
れ、
[0006] The C1-C6 alkyl group represented by R 18, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, s- butyl group, a t- butyl group and the like are exemplified,

【0007】X1で示されるハロゲン原子とは、フッ素
原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を意味し、X2
で示されるハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、
臭素原子、ヨウ素原子を意味し、X3およびX4で示され
るハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子を意味し、C1−C6アルキル基として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基等があげら
れ、C1−C6ハロアルキル基としては、ブロモメチル
基、クロロメチル基、フルオロメチル基、ジクロロメチ
ル基、トリクロロメチル基、ジフルオロメチル基、クロ
ロジフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、ト
リフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、2−フ
ルオロエチル基、1,1−ジフルオロエチル基、2,
2,2−トリクロロエチル基、3,3,3−トリフルオ
ロプロピル基、3,3,3−トリクロロプロピル基等が
あげられ、C3−C6アルケニル基としては、アリル
基、1−メチルアリル基、1,1−ジメチルアリル基、
2−メチルアリル基、1−ブテニル基、2−ブテニル
基、3−ブテニル基等があげられ、C3−C6ハロアル
ケニル基としては、1−クロロアリル基、1−ブロモア
リル基、2−クロロアリル基、3,3−ジクロロアリル
基等があげられ、C3−C6アルキニル基としては、2
−プロピニル基、1−メチル−2−プロピニル基、1,
1−ジメチル−2−プロピニル基、2−ブチニル基、3
−ブチニル基、1−メチル−2−ブチニル基等があげら
れ、C3−C6ハロアルキニル基としては、3−クロロ
−2−プロピニル基、3−ブロモ−2−プロピニル基、
1−フルオロ−2−プロピニル基、1−クロロ−2−プ
ロピニル基、1−ブロモ−2−プロピニル基、1−クロ
ロ−2−ブチニル基等があげられ、C1−C6アルコキ
シC1−C6アルキル基としては、メトキシメチル基、
2−メトキシエチル基、1−メトキシエチル基、3−メ
トキシプロピル基、エトキシメチル基、2−エトキシエ
チル基、3−エトキシプロピル基、イソプロポキシメチ
ル基、2−イソプロポキシエチル基等があげられ、C1
−C6アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、s
−ブトキシ基、t−ブトキシ基等があげられ、C1−C
6ハロアルコキシ基としては、クロロメトキシ基、ブロ
モメトキシ基、ジクロロメトキシ基、トリクロロメトキ
シ基、トリフルオロメトキシ基、2−フルオロエトキシ
基、2,2,2−トリクロロエトキシ基等があげられ、
C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アルコキシ
基としては、メトキシカルボニルメトキシ基、エトキシ
カルボニルメトキシ基、1−メトキシカルボニルエトキ
シ基、1−エトキシカルボニルエトキシ基、2−メトキ
シカルボニルエトキシ基、2−エトキシカルボニルエト
キシ基等があげられる。
The halogen atom represented by X 1 means a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, and X 2
The halogen atom represented by is a fluorine atom, a chlorine atom,
A halogen atom represented by X 3 or X 4 means a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, and a C1-C6 alkyl group includes a methyl group and an ethyl group. Propyl group, isopropyl group, butyl group, s-butyl group, t-butyl group and the like. Examples of the C1-C6 haloalkyl group include a bromomethyl group, a chloromethyl group, a fluoromethyl group, a dichloromethyl group, and a trichloromethyl group. , Difluoromethyl group, chlorodifluoromethyl group, bromodifluoromethyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, 2-fluoroethyl group, 1,1-difluoroethyl group, 2,
Examples thereof include a 2,2-trichloroethyl group, a 3,3,3-trifluoropropyl group, a 3,3,3-trichloropropyl group, and the C3-C6 alkenyl group includes an allyl group, a 1-methylallyl group, , 1-dimethylallyl group,
Examples thereof include a 2-methylallyl group, a 1-butenyl group, a 2-butenyl group, and a 3-butenyl group. Examples of the C3-C6 haloalkenyl group include a 1-chloroallyl group, a 1-bromoallyl group, a 2-chloroallyl group, 3-dichloroallyl group and the like, and C3-C6 alkynyl group includes 2
-Propynyl group, 1-methyl-2-propynyl group, 1,
1-dimethyl-2-propynyl group, 2-butynyl group, 3
-Butynyl group, 1-methyl-2-butynyl group and the like. Examples of the C3-C6 haloalkynyl group include a 3-chloro-2-propynyl group, a 3-bromo-2-propynyl group,
A 1-fluoro-2-propynyl group, a 1-chloro-2-propynyl group, a 1-bromo-2-propynyl group, a 1-chloro-2-butynyl group, and the like, and a C1-C6 alkoxy C1-C6 alkyl group. Is a methoxymethyl group,
2-methoxyethyl group, 1-methoxyethyl group, 3-methoxypropyl group, ethoxymethyl group, 2-ethoxyethyl group, 3-ethoxypropyl group, isopropoxymethyl group, 2-isopropoxyethyl group, and the like, C1
-C6 alkoxy groups include methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, s
-Butoxy group, t-butoxy group and the like, and C1-C
Examples of the 6 haloalkoxy group include a chloromethoxy group, a bromomethoxy group, a dichloromethoxy group, a trichloromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2-fluoroethoxy group, and a 2,2,2-trichloroethoxy group.
The C1-C6 alkoxycarbonyl C1-C6 alkoxy group includes a methoxycarbonylmethoxy group, an ethoxycarbonylmethoxy group, a 1-methoxycarbonylethoxy group, a 1-ethoxycarbonylethoxy group, a 2-methoxycarbonylethoxy group, a 2-ethoxycarbonylethoxy group. And the like.

【0008】本発明化合物において、除草活性の点か
ら、R1についてはフッ素原子で置換されたメチル基
(例えば、トリフルオロメチル基、クロロジフルオロメ
チル基、ジフルオロメチル基等)、フッ素原子で置換さ
れたエチル基(例えば、ペンタフルオロエチル基、1,
1−ジフルオロエチル基等)が好ましく、その中でもト
リフルオロメチル基がより好ましく、R2についてはメ
チル基またはエチル基が好ましく、その中でもメチル基
がより好ましく、R5についてはC1−C3アルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基)が好まし
く、その中でもメチル基、エチル基がより好ましく、X
1についてはハロゲン原子が好ましく、その中でも塩素
原子がより好ましく、X2についてはハロゲン原子が好
ましく、その中でもフッ素原子がより好ましく、X3
ついては水素原子が好ましく、X4については水素原子
が好ましく、Wについては酸素原子が好ましく、かつ/
またはYについては酸素原子が好ましい。また、ベンゼ
ン環上のWの置換位置がYのオルト位が好ましく、この
ときR4は水素原子またはメチル基が好ましく、その中
でも水素原子がより好ましい。特に好ましい化合物とし
ては、R1がトリフルオロメチル基であり、R2がメチル
基であり、R4が水素原子であり、R5がメチル基であ
り、X1が塩素原子であり、X2がフッ素原子であり、X
3が水素原子であり、X4が水素原子であり、Wが酸素原
子であり、Yが酸素原子であり、ベンゼン環上のWの置
換位置がYのオルト位である化合物;R1がトリフルオ
ロメチル基であり、R2がメチル基であり、R4が水素原
子であり、R5がエチル基であり、X1が塩素原子であ
り、X2がフッ素原子であり、X3が水素原子であり、X
4が水素原子であり、Wが酸素原子であり、Yが酸素原
子であり、ベンゼン環上のWの置換位置がYのオルト位
である化合物が挙げられる。尚、本発明化合物には、二
重結合に由来する幾可異性体、不斉炭素に由来する光学
異性体及びジアステレオマ−が存在する場合があるが、
本発明化合物には、これらの異性体及びその混合物も含
まれる。
In the compounds of the present invention, from the viewpoint of herbicidal activity, R 1 is a methyl group substituted with a fluorine atom (for example, trifluoromethyl group, chlorodifluoromethyl group, difluoromethyl group, etc.) or a fluorine atom. Ethyl group (for example, pentafluoroethyl group, 1,
1-difluoroethyl group, etc.), more preferably a trifluoromethyl group. Among them, preferably a methyl group or an ethyl group for R 2, and more preferably a methyl group. Among them, for R 5 is C1-C3 alkyl group ( For example, a methyl group, an ethyl group, and a propyl group are preferable, and among them, a methyl group and an ethyl group are more preferable.
1 is preferably a halogen atom, among which a chlorine atom is more preferable, X 2 is preferably a halogen atom, and among them, a fluorine atom is more preferable, X 3 is preferably a hydrogen atom, and X 4 is preferably a hydrogen atom. , W is preferably an oxygen atom, and /
Or, for Y, an oxygen atom is preferable. Further, the substitution position of W on the benzene ring is preferably an ortho position of Y, and at this time, R 4 is preferably a hydrogen atom or a methyl group, and among them, a hydrogen atom is more preferable. Particularly preferred compounds are those wherein R 1 is a trifluoromethyl group, R 2 is a methyl group, R 4 is a hydrogen atom, R 5 is a methyl group, X 1 is a chlorine atom, X 2 Is a fluorine atom, and X
3 is a hydrogen atom, X 4 is a hydrogen atom, W is an oxygen atom, Y is an oxygen atom, compounds substitution position of W on the benzene ring is ortho position of Y; R 1 is tri X is a fluoromethyl group, R 2 is a methyl group, R 4 is a hydrogen atom, R 5 is an ethyl group, X 1 is a chlorine atom, X 2 is a fluorine atom, and X 3 is a hydrogen atom. Atom, X
Compounds in which 4 is a hydrogen atom, W is an oxygen atom, Y is an oxygen atom, and the substitution position of W on the benzene ring is the ortho position of Y. The compound of the present invention may have some isomers derived from a double bond, optical isomers derived from an asymmetric carbon, and diastereomers.
The compounds of the present invention also include these isomers and mixtures thereof.

【0009】次に本発明化合物の製造法について説明す
る。本発明化合物は、例えば下記(製造法1)〜(製造
法6)の製造法により製造する事ができる。 (製造法1)本発明化合物は、一般式[III]
Next, a method for producing the compound of the present invention will be described. The compound of the present invention can be produced, for example, by the following production methods (Production Method 1) to (Production Method 6). (Production Method 1) The compound of the present invention has the general formula [III]

【化10】 [式中、R1、R2、W、Y、X1、X2、X3およびX4
前記と同じ意味を表す。]で示される化合物と一般式
[IV]
Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , W, Y, X 1 , X 2 , X 3 and X 4 represent the same meaning as described above. And a general formula [IV]

【化11】 [式中、R4およびR5は前記と同じ意味を表わし、R6
は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニル
オキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基等の脱離基
を表す。]で示される化合物とを、塩基の存在下に反応
させることにより製造することができる。該反応は、通
常溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常0〜200
℃、好ましくは20〜100℃であり、反応時間の範囲
は通常瞬時から72時間である。反応に供される試剤の
量は、一般式[III]で示される化合物1モルに対し
て、一般式[IV]で示される化合物は1モルの割合、
塩基の量は1モルの割合が理論量であるが、反応の状況
により任意に変化させることができる。用いられる塩基
としては、ピリジン、キノリン、ベンジルジメチルアミ
ン、フェネチルジメチルアミン、N−メチルモルホリ
ン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデック
−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノ
ン−5−エン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]
オクタン、4−ジメチルアミノピリジン、N,N−ジメ
チルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、トリエチル
アミン、トリ−n−プロピルアミン、トリイソプロピル
アミン、トリ−n−ブチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭
酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウ
ム、水素化カリウム、水酸化リチウム等の無機塩基が挙
げられる。用いられる溶媒としては、例えばn−ヘキサ
ン、n−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油
エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジク
ロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲ
ン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、2−ブタノ
ン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステ
ル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合
物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル
類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチル
アセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、
スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が
挙げられる。反応終了後は、例えば、以下の1)または
2)に示す操作により、目的の本発明化合物を得ること
ができる。 1)反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該
有機層を乾燥、濃縮する。 2)反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じ
て濾過し、該濾液を濃縮する。 なお、得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、
再結晶等の操作によって精製することも可能である。
Embedded image Wherein, R 4 and R 5 have the same meanings as defined above, R 6
Represents a leaving group such as a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a methanesulfonyloxy group, and a p-toluenesulfonyloxy group. To a compound of the formula (1) in the presence of a base. The reaction is usually performed in a solvent, and the reaction temperature is usually in the range of 0 to 200.
° C, preferably 20 to 100 ° C, and the reaction time is usually from instant to 72 hours. The amount of the reagent used for the reaction is such that the compound represented by the general formula [IV] is 1 mol per 1 mol of the compound represented by the general formula [III];
The theoretical amount of the base is 1 mol, but can be arbitrarily changed depending on the reaction situation. As the base to be used, pyridine, quinoline, benzyldimethylamine, phenethyldimethylamine, N-methylmorpholine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene, 1,5-diazabicyclo [4.3 .0] non-5-ene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2]
Organic bases such as octane, 4-dimethylaminopyridine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, triethylamine, tri-n-propylamine, triisopropylamine, tri-n-butylamine, diisopropylethylamine, and lithium carbonate And inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium hydride, potassium hydride and lithium hydroxide. As the solvent used, for example, n-hexane, n-heptane, ligroin, cyclohexane, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether, benzene, toluene,
Aromatic hydrocarbons such as xylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, aromatic halogenated hydrocarbons such as benzotrifluoride, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, diglyme, etc. Ketones such as ethers, acetone, 2-butanone and methyl isobutyl ketone; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate and diethyl carbonate; nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene; nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile , Acid amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide,
Examples thereof include a sulfur compound such as sulfolane or a mixture thereof. After completion of the reaction, the target compound of the present invention can be obtained by, for example, the following operation 1) or 2). 1) The reaction solution is poured into water, extracted with an organic solvent, and the organic layer is dried and concentrated. 2) Concentrate the reaction solution as it is or, if necessary, filter and concentrate the filtrate. The obtained compound of the present invention was obtained by chromatography,
Purification can also be performed by an operation such as recrystallization.

【0010】(製造法2)本発明化合物のうち、一般式
[I]におけるWが酸素原子である化合物は、一般式
[V]
(Production method 2) Among the compounds of the present invention, the compound of the formula [I] wherein W is an oxygen atom is represented by the formula [V]

【化12】 [式中、R1、R2、Y、X1、X2、X3およびX4は前記
と同じ意味を表す。]で示される化合物と一般式[V
I]
Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , Y, X 1 , X 2 , X 3 and X 4 represent the same meaning as described above. And a compound of the general formula [V
I]

【化13】 [式中、R4およびR5は前記と同じ意味を表す。]で示
されるアルコール化合物とを、脱水試剤の存在下に反応
させることにより製造することができる。該反応は、通
常溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常−20〜15
0℃、好ましくは0〜100℃であり、反応時間の範囲
は通常瞬時から48時間である。脱水試剤としては例え
ば、トリフェニルホスフィン等のトリアリールホスフィ
ンまたはトリエチルホスフィン等のトリアルキルホスフ
ィン、および、ジエチルアゾジカルボキシレート、ジイ
ソプロピルアゾジカルボキシレート等のジ(低級アルキ
ル)アゾジカルボキシレートの組合せが挙げられる。反
応に供される試剤の量は、一般式[V]で示される化合
物1モルに対して、一般式[VI]で示されるアルコー
ル化合物は1〜3モル、好ましくは1〜1.2モル、ト
リアリールホスフィンまたはトリアルキルホスフィンは
1〜3モル、好ましくは1〜1.5モル、ジ(低級アル
キル)アゾジカルボキシレートは1〜3モル、好ましく
は1〜1.5モルである。これらの試剤の比率は反応の
状況により任意に変化させることができる。反応に用い
られる溶媒としては、n−ヘキサン、n−ヘプタン、リ
グロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭
化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾ
トリフルオリド等のハロゲン化芳香族炭化水素類、ジエ
チルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、
テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエー
テル、ジグライム等のエーテル類、あるいはそれらの混
合物が挙げられる。反応終了後は、例えば、以下の1)
または2)に示す操作により、目的の本発明化合物を得
ることができる。 1)反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該
有機層を乾燥、濃縮し、残渣をクロマトグラフィーに付
す。 2)反応液をそのまま濃縮し、残渣をクロマトグラフィ
ーに付す。 なお、得られた本発明化合物は、再結晶等の操作によっ
て精製することも可能である。
Embedded image [Wherein, R 4 and R 5 represent the same meaning as described above. With the alcohol compound of the formula (1) in the presence of a dehydrating reagent. The reaction is usually performed in a solvent, and the reaction temperature is usually in the range of -20 to 15
The reaction temperature is 0 ° C, preferably 0 to 100 ° C, and the reaction time is usually from an instant to 48 hours. Examples of the dehydrating reagent include a combination of a triarylphosphine such as triphenylphosphine or a trialkylphosphine such as triethylphosphine, and a di (lower alkyl) azodicarboxylate such as diethylazodicarboxylate and diisopropylazodicarboxylate. No. The amount of the reagent used in the reaction is 1 to 3 mol, preferably 1 to 1.2 mol, of the alcohol compound represented by the general formula [VI] per mol of the compound represented by the general formula [V]. The triarylphosphine or trialkylphosphine is 1-3 mol, preferably 1-1.5 mol, and the di (lower alkyl) azodicarboxylate is 1-3 mol, preferably 1-1.5 mol. The ratio of these reagents can be arbitrarily changed according to the reaction situation. Examples of the solvent used in the reaction include aliphatic hydrocarbons such as n-hexane, n-heptane, ligroin, cyclohexane, petroleum ether, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, benzotrifluorene. Halogenated aromatic hydrocarbons such as lido, diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane,
Examples thereof include ethers such as tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and diglyme, and mixtures thereof. After completion of the reaction, for example, the following 1)
Alternatively, the desired compound of the present invention can be obtained by the operation shown in 2). 1) The reaction solution is poured into water, extracted with an organic solvent, the organic layer is dried and concentrated, and the residue is subjected to chromatography. 2) The reaction solution is concentrated as it is, and the residue is subjected to chromatography. The obtained compound of the present invention can be purified by an operation such as recrystallization.

【0011】(製造法3)本発明化合物は、一般式[V
II]
(Production method 3) The compound of the present invention has the general formula [V
II]

【化14】 [式中、R1、R2、R4、W、Y、X1、X2、X3および
4は前記と同じ意味を表す。]で示されるカルボン酸
化合物と一般式[VIII]
Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , R 4 , W, Y, X 1 , X 2 , X 3 and X 4 represent the same meaning as described above. And a carboxylic acid compound represented by the general formula [VIII]:

【化15】 [式中、R5は前記と同じ意味を表す。]で示されるア
ルコール化合物とを用いて製造することができる。該反
応は例えば、一般式[VII]で示されるカルボン酸化
合物を塩素化剤と反応させることにより酸塩化物とした
(以下、〈工程3−1〉と記す。)後、一般式[VII
I]で示されるアルコール化合物と塩基の存在下に反応
させる(以下、〈工程3−2〉と記す。)ことにより行
われる。
Embedded image [Wherein, R 5 has the same meaning as described above. And an alcohol compound represented by the formula: In the reaction, for example, a carboxylic acid compound represented by the general formula [VII] is reacted with a chlorinating agent to obtain an acid chloride (hereinafter, referred to as <Step 3-1>), and then the general formula [VII]
The reaction is performed by reacting the alcohol compound represented by I] with a base (hereinafter, referred to as <Step 3-2>).

【0012】〈工程3−1〉該反応は、無溶媒または溶
媒中で行われ、反応温度の範囲は通常0〜150℃であ
り、反応時間の範囲は通常瞬時〜24時間である。反応
に供される試剤の量は、一般式[VII]で示されるカ
ルボン酸化合物1モルに対して、塩素化剤は1モルの割
合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化させ
ることができる。用いられる塩素化剤としては、例えば
塩化チオニル、塩化スルフリル、ホスゲン、塩化オキサ
リル、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン等が挙
げられる。用いられる溶媒としては、例えばn−ヘキサ
ン、n−ヘプタン、ノナン、デカン、リグロイン、シク
ロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化
水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、
1,2−ジクロロエタン、1,2,3−トリクロロプロ
パン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の脂肪
族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、1,4
−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコー
ルジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、ある
いはそれらの混合物が挙げられる。反応終了後は、例え
ば反応液を濃縮し、濃縮残渣をそのまま〈工程3−2〉
に使用する。
<Step 3-1> The reaction is carried out without solvent or in a solvent, and the reaction temperature is usually from 0 to 150 ° C., and the reaction time is usually from instant to 24 hours. The amount of the reagent used in the reaction is a theoretical amount of 1 mol of the chlorinating agent per 1 mol of the carboxylic acid compound represented by the general formula [VII], but may be arbitrarily changed depending on the reaction conditions. be able to. Examples of the chlorinating agent to be used include thionyl chloride, sulfuryl chloride, phosgene, oxalyl chloride, phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, phosphorus oxychloride and the like. As the solvent used, for example, aliphatic hydrocarbons such as n-hexane, n-heptane, nonane, decane, ligroin, cyclohexane, petroleum ether, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, methylene chloride , Chloroform, carbon tetrachloride,
Aliphatic halogenated hydrocarbons such as 1,2-dichloroethane and 1,2,3-trichloropropane, aliphatic halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, dichlorobenzene, benzotrifluoride, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- t-butyl ether, 1,4
-Ethers such as dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and diglyme, and mixtures thereof. After the completion of the reaction, for example, the reaction solution is concentrated, and the concentrated residue is used as it is in <Step 3-2>
Used for

【0013】〈工程3−2〉該反応は、無溶媒または溶
媒中で行われ、反応温度の範囲は通常−20〜100℃
であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜24時間である。
反応に供される試剤の量は、〈工程3−1〉で用いた一
般式[VII]で示されるカルボン酸化合物1モルに対
して、一般式[VIII]で示されるアルコール化合物
および塩基はそれぞれ1モルの割合が理論量であるが、
反応の状況により任意に変化することができる。用いら
れる塩基としては、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム等の無機塩基、ピリジン、キノリン、4−ジメチル
アミノピリジン、2−ピコリン、3−ピコリン、4−ピ
コリン、2,3−ルチジン、2,4−ルチジン、2,5
−ルチジン、2,6−ルチジン、3,4−ルチジン、
3,5−ルチジン、3−クロロピリジン、2−エチル−
3−メチルピリジン、5−エチル−2−メチルピリジン
等の含窒素芳香族化合物、トリエチルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ
−n−ブチルアミン、ベンジルジメチルアミン、フェネ
チルジメチルアミン、N−メチルモルホリン、1,8−
ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデック−7−エン、
1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン
または1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン
等の第3級アミン類が挙げられる。用いられる溶媒とし
ては、例えばn−ヘキサン、n−ヘプタン、ノナン、デ
カン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の
脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メ
シチレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、1,
2,3−トリクロロプロパン等の脂肪族ハロゲン化炭化
水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾト
リフルオリド等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、ジエチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブ
チルエーテル、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライム
等のエーテル類、あるいはそれらの混合物が挙げられ
る。反応終了後は、例えば、以下の1)または2)に示
す操作により、目的の本発明化合物を得ることができ
る。 1)反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該
有機層を乾燥、濃縮する。 2)反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じ
て濾過し、該濾液を濃縮する。 なお、得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、
再結晶等の操作によって精製することも可能である。ま
た、該反応は上記の方法に限らず、カルボニルジイミダ
ゾール、ジシクロヘキシルカルボジイミド等の縮合剤の
存在下に反応させる方法、酸触媒の存在下に反応させる
方法およびその他の公知の方法によっても行うことも可
能である。
<Step 3-2> The reaction is carried out without solvent or in a solvent, and the reaction temperature is usually in the range of -20 to 100 ° C.
And the range of the reaction time is usually from instant to 24 hours.
The amount of the reagent used for the reaction is such that the alcohol compound and the base represented by the general formula [VIII] are each based on 1 mol of the carboxylic acid compound represented by the general formula [VII] used in <Step 3-1>. The ratio of 1 mole is the theoretical amount,
It can be arbitrarily changed according to the reaction situation. As the base to be used, for example, inorganic bases such as sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, pyridine, quinoline, 4-dimethylaminopyridine, 2-picoline, 3-picoline, 4-picoline, 2,3-lutidine, 2,4-lutidine, 2,5
-Lutidine, 2,6-lutidine, 3,4-lutidine,
3,5-lutidine, 3-chloropyridine, 2-ethyl-
Nitrogen-containing aromatic compounds such as 3-methylpyridine, 5-ethyl-2-methylpyridine, triethylamine, diisopropylethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, benzyldimethylamine, phenethyldimethylamine, N-methyl Morpholine, 1,8-
Diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene,
Tertiary amines such as 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene or 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane are exemplified. As the solvent used, for example, aliphatic hydrocarbons such as n-hexane, n-heptane, nonane, decane, ligroin, cyclohexane, petroleum ether, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, methylene chloride , Chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, 1,
Aliphatic halogenated hydrocarbons such as 2,3-trichloropropane, aliphatic halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, dichlorobenzene, benzotrifluoride, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, 1,4- Examples thereof include ethers such as dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and diglyme, and mixtures thereof. After completion of the reaction, the target compound of the present invention can be obtained by, for example, the following operation 1) or 2). 1) The reaction solution is poured into water, extracted with an organic solvent, and the organic layer is dried and concentrated. 2) Concentrate the reaction solution as it is or, if necessary, filter and concentrate the filtrate. The obtained compound of the present invention was obtained by chromatography,
Purification can also be performed by an operation such as recrystallization. In addition, the reaction is not limited to the above method, and may be performed by a method of reacting in the presence of a condensing agent such as carbonyldiimidazole or dicyclohexylcarbodiimide, a method of reacting in the presence of an acid catalyst, and other known methods. It is possible.

【0014】(製造法4)本発明化合物のうち、一般式
[I]におけるX1がニトロ基またはシアノ基である化
合物は、一般式[IX]
(Production Method 4) Among the compounds of the present invention, the compound wherein X 1 in the general formula [I] is a nitro group or a cyano group is a compound of the general formula [IX]

【化16】 [式中、R1、R2およびX2は前記と同じ意味を表し、
7はフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原
子を表し、X11はニトロ基またはシアノ基を表す。]で
示されるウラシル化合物と一般式[X]
Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 and X 2 represent the same meaning as described above,
R 7 represents a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, and X 11 represents a nitro group or a cyano group. And a uracil compound represented by the general formula [X]:

【化17】 [式中、R4、R5、W、Y、X3およびX4は、前記と同
じ意味を表す。]で示される化合物とを、塩基の存在下
に反応させることにより製造することができる。該反応
は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲
は0〜200℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜2
4時間である。反応に供される試剤の量は、一般式[I
X]で示されるウラシル化合物1モルに対して、一般式
[X]で示される化合物は1モルの割合、塩基は1モル
の割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化
させることができる。用いられる塩基としては、ピリジ
ン、キノリン、ベンジルジメチルアミン、フェネチルジ
メチルアミン、N−メチルモルホリン、1,8−ジアザ
ビシクロ[5.4.0]ウンデック−7−エン、1,5
−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン、1,
4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、4−ジメ
チルアミノピリジン、N,N−ジメチルアニリン、N,
N−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、トリ−n−
プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−n−
ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩
基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭
酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、
水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化カルシウム、水酸化バリウム等の無機塩基が挙げ
られる。用いられる溶媒としては、例えばn−ヘキサ
ン、n−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油
エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジク
ロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲ
ン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、2−ブタノ
ン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステ
ル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合
物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル
類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチル
アセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、
スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が
挙げられる。該反応は、触媒を使用することにより反応
が加速されることがある。触媒としては、ヨウ化銅、臭
化銅、塩化銅、銅粉末等が挙げられ、反応に供される触
媒の量は、一般式[IX]で示されるウラシル化合物1
モルに対して、0.0001〜0.1モルの割合である
が、反応の状況により任意に変化させることができる。
反応終了後は、例えば、以下の1)または2)に示す操
作により、目的の本発明化合物を得ることができる。 1)反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該
有機層を乾燥、濃縮する。 2)反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じ
て濾過し、該濾液を濃縮する。 なお、得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、
再結晶等の操作によって精製することも可能である。
Embedded image [Wherein, R 4 , R 5 , W, Y, X 3 and X 4 represent the same meaning as described above. To a compound of the formula (1) in the presence of a base. The reaction is usually carried out without a solvent or in a solvent, the reaction temperature is in the range of 0 to 200 ° C, and the reaction time is usually in the range of instant to 2 hours.
4 hours. The amount of the reagent used for the reaction is determined by the general formula [I
The theoretical amount of the compound represented by the general formula [X] is 1 mole, and the ratio of the base is 1 mole, based on 1 mole of the uracil compound represented by the formula [X]. Can be. As the base used, pyridine, quinoline, benzyldimethylamine, phenethyldimethylamine, N-methylmorpholine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene, 1,5
-Diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, 1,
4-diazabicyclo [2.2.2] octane, 4-dimethylaminopyridine, N, N-dimethylaniline, N,
N-diethylaniline, triethylamine, tri-n-
Propylamine, triisopropylamine, tri-n-
Organic bases such as butylamine and diisopropylethylamine, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydride, potassium hydride,
Lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide,
Examples include inorganic bases such as calcium hydroxide and barium hydroxide. As the solvent used, for example, n-hexane, n-heptane, ligroin, cyclohexane, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether, benzene, toluene,
Aromatic hydrocarbons such as xylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, aromatic halogenated hydrocarbons such as benzotrifluoride, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, diglyme, etc. Ketones such as ethers, acetone, 2-butanone and methyl isobutyl ketone; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate and diethyl carbonate; nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene; nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile , Acid amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide,
Examples thereof include a sulfur compound such as sulfolane or a mixture thereof. The reaction may be accelerated by using a catalyst. Examples of the catalyst include copper iodide, copper bromide, copper chloride, copper powder, and the like. The amount of the catalyst used for the reaction is determined by the amount of the uracil compound 1 represented by the general formula [IX].
The ratio is from 0.0001 to 0.1 mol per mol, but can be arbitrarily changed depending on the reaction situation.
After completion of the reaction, the target compound of the present invention can be obtained by, for example, the following operation 1) or 2). 1) The reaction solution is poured into water, extracted with an organic solvent, and the organic layer is dried and concentrated. 2) Concentrate the reaction solution as it is or, if necessary, filter and concentrate the filtrate. The obtained compound of the present invention was obtained by chromatography,
Purification can also be performed by an operation such as recrystallization.

【0015】(製造法5)本発明化合物のうち、一般式
[I]におけるX1がフッ素原子、塩素原子、臭素原子
またはヨウ素原子である化合物は、以下のスキームで示
される方法により製造することができる。
(Production Method 5) Among the compounds of the present invention, the compound wherein X 1 in the general formula [I] is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom can be produced by the method shown in the following scheme. Can be.

【化18】 [式中、R1、R2、R4、R5、W、X2、X3およびX4
は前記と同じ意味を表し、X12はフッ素原子、塩素原
子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Y1は酸素原
子、硫黄原子またはC1−C3アルキルイミノ基を表わ
す。]
Embedded image [Wherein R 1 , R 2 , R 4 , R 5 , W, X 2 , X 3 and X 4
Represents the same meaning as described above, X 12 represents a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, and Y 1 represents an oxygen atom, a sulfur atom or a C1-C3 alkylimino group. ]

【0016】〈工程5−1〉:一般式[XI]で示され
る化合物から、一般式[XII]で示される化合物を製
造する工程 一般式[XII]で示される化合物は、例えば一般式
[XI]で示される化合物を鉄粉を用いて酸の存在下、
溶媒中で還元することにより製造することができる。該
反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の
範囲は0〜200℃であり、好ましくは室温〜加熱還流
である。反応時間の範囲は通常瞬時〜24時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式[XI]で示される
化合物で示される化合物1モルに対して、鉄粉の量は3
モル〜過剰量の割合、酸は1〜10モルの割合である
が、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる酸としては、酢酸等が挙げられる。用いられ
る溶媒としては、例えば水、酢酸、酢酸エチル等あるい
はそれらの混合物が挙げられる。反応終了後の反応液
は、濾過した後、水に注加して生じた結晶を濾集する
か、または、有機溶媒抽出、中和および濃縮等の通常の
後処理を行い、目的物を得ることができる。目的物は、
クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって精製する
こともできる。 〈工程5−2〉:一般式[XII]で示される化合物か
ら、一般式[XIII]で示される化合物を製造する工
程 一般式[XIII]で示される化合物は、i)一般式
[XII]で示される化合物を溶媒中でジアゾ化した
後、ii)引き続き、目的とする化合物に応じてヨウ化
カリウム、臭化銅[I]、塩化銅[I]またはフッ化水素酸
とホウ酸の混合物(以下、ホウフッ化水素酸と記す)と
溶媒中で反応させることにより製造することができる。
第1段階のジアゾ化反応は、反応温度の範囲は通常−2
0〜20℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜5時間
である。反応に供される試剤の量は、一般式[XII]
で示される化合物で示される化合物1モルに対して、ジ
アゾ化剤の量は1モルの割合が理論量であるが、反応の
状況により任意に変化させることができる。用いられる
ジアゾ化剤としては、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウ
ム、亜硝酸イソアミル、亜硝酸t−ブチル等の亜硝酸化
合物等が挙げられる。溶媒としては、例えばアセトニト
リル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、水等あるいはそれらの
混合物が挙げられる。反応終了後の反応液は、そのまま
次の反応に用いる。第2段階の反応は、反応温度の範囲
は0〜80℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜24
時間である。反応に供される試剤の量は、一般式[XI
I]で示される化合物で示される化合物1モルに対し
て、ヨウ化カリウム、臭化銅[I]、塩化銅[I]またはホ
ウフッ化水素酸の量は各々1〜3モルの割合であるが、
反応の状況により任意に変化させることができる。尚、
臭化銅[I]を用いる場合は、臭化銅[II]の存在下に反
応を行うこともでき、塩化銅[I]を用いる場合は、塩化
銅[II]の存在下に反応を行うこともできる。用いられ
る溶媒としては、例えばアセトニトリル、ジエチルエー
テル、t−ブチルメチルエーテル、臭化水素、塩酸、硫
酸、水等あるいはそれらの混合物が挙げられる。反応終
了後は、例えば、以下の1)または2)に示す操作によ
り、目的の本発明化合物を得ることができる。 1)反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該
有機層を乾燥、濃縮する。 2)反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じ
て濾過し、該濾液を濃縮する。 なお、得られる本発明化合物は、クロマトグラフィー、
再結晶等の操作によって精製することも可能である。
(Org.Syn.Coll.Vol.2,604(1943),Vol.
1,136(1932)参照) また、該反応は上記の方法に限らず、溶媒中で目的とす
る化合物に応じてヨウ化カリウム、臭化銅[I]、塩化銅
[I]またはホウフッ化水素酸の存在下に、一般式[XI
I]で示される化合物とジアゾ化剤とを反応させること
により製造することも可能である(Heterocycles.,38,1
581(1994)など参照)。尚、臭化銅[I]を用いる場合
は、臭化銅[II]の存在下に反応を行うこともでき、塩
化銅[I]を用いる場合は、塩化銅[II]の存在下に反応
を行うこともできる。
<Step 5-1>: Step of producing a compound represented by the general formula [XII] from a compound represented by the general formula [XI] The compound represented by the general formula [XII] is, for example, a compound represented by the general formula [XI] A compound represented by the formula:
It can be produced by reduction in a solvent. The reaction is usually performed without a solvent or in a solvent, and the reaction temperature is in the range of 0 to 200 ° C, preferably room temperature to heating to reflux. The range of the reaction time is usually from instant to 24 hours.
The amount of the reagent used for the reaction was 3 mol per 1 mol of the compound represented by the general formula [XI].
The ratio of the mole to excess amount is 1 to 10 moles of the acid, but can be arbitrarily changed depending on the reaction situation.
As the acid to be used, acetic acid and the like can be mentioned. Examples of the solvent to be used include water, acetic acid, ethyl acetate and the like or a mixture thereof. After completion of the reaction, the reaction solution is filtered and then poured into water, and the resulting crystals are collected by filtration or subjected to ordinary post-treatments such as extraction with an organic solvent, neutralization and concentration to obtain the desired product. be able to. The object is
Purification can also be performed by operations such as chromatography and recrystallization. <Step 5-2>: Step of producing a compound represented by the general formula [XIII] from a compound represented by the general formula [XII] The compound represented by the general formula [XIII] is i) a compound represented by the general formula [XII] After diazotizing the indicated compound in a solvent, ii) subsequently potassium iodide, copper [I] bromide, copper chloride [I] or a mixture of hydrofluoric acid and boric acid (depending on the desired compound) (Hereinafter referred to as borofluoric acid) in a solvent.
In the first stage diazotization reaction, the reaction temperature range is usually -2.
The reaction time is usually from instantaneous to 5 hours. The amount of the reagent used for the reaction is determined by the general formula [XII]
The amount of the diazotizing agent is theoretically 1 mole per 1 mole of the compound represented by the formula, but can be arbitrarily changed depending on the reaction conditions. Examples of the diazotizing agent used include nitrite compounds such as sodium nitrite, potassium nitrite, isoamyl nitrite and t-butyl nitrite. Examples of the solvent include acetonitrile, hydrobromic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, water and the like, and a mixture thereof. The reaction solution after completion of the reaction is used for the next reaction as it is. The reaction of the second stage has a reaction temperature range of 0 to 80 ° C. and a reaction time range of usually instantaneous to 24 hours.
Time. The amount of the reagent used for the reaction is represented by the general formula [XI
The amount of potassium iodide, copper [I] bromide, copper [I] chloride or borofluoric acid is 1 to 3 mol per 1 mol of the compound represented by I]. ,
It can be arbitrarily changed depending on the reaction situation. still,
When copper [I] bromide is used, the reaction can be performed in the presence of copper [II] bromide. When copper [I] chloride is used, the reaction can be performed in the presence of copper [II] chloride. You can also. Examples of the solvent used include acetonitrile, diethyl ether, t-butyl methyl ether, hydrogen bromide, hydrochloric acid, sulfuric acid, water, and the like, and mixtures thereof. After completion of the reaction, the target compound of the present invention can be obtained by, for example, the following operation 1) or 2). 1) The reaction solution is poured into water, extracted with an organic solvent, and the organic layer is dried and concentrated. 2) Concentrate the reaction solution as it is or, if necessary, filter and concentrate the filtrate. The obtained compound of the present invention is obtained by chromatography,
Purification can also be performed by an operation such as recrystallization.
(Org. Syn. Coll. Vol. 2, 604 (1943), Vol.
1,136 (1932)) The reaction is not limited to the above-mentioned method, but may include potassium iodide, copper [I] bromide, copper chloride in a solvent depending on the target compound.
In the presence of [I] or borofluoric acid, the compound represented by the general formula [XI
It can also be produced by reacting the compound of the formula (I) with a diazotizing agent (Heterocycles., 38, 1).
581 (1994)). When copper [I] bromide is used, the reaction can be carried out in the presence of copper [II] bromide. When copper [I] chloride is used, the reaction can be carried out in the presence of copper [II] chloride. Can also be performed.

【0017】(製造法6)本発明化合物は、一般式[X
XXI]
(Production Method 6) The compound of the present invention has the general formula [X
XXI]

【化19】 [式中、R1、R4、R5、W、Y、X1、X2、X3および
4は前記と同じ意味を表す。]で示されるウラシル化
合物と、一般式[XXXX]
Embedded image [Wherein, R 1 , R 4 , R 5 , W, Y, X 1 , X 2 , X 3 and X 4 represent the same meaning as described above. A uracil compound represented by the general formula [XXXX]

【化20】 [式中、R18は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタ
ンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ
基等の脱離基を表し、R2は前記と同じ意味を表す。]
で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させること
により製造することができる。該反応は、通常無溶媒ま
たは溶媒中で行われ、反応温度の範囲は0〜200℃で
あり、好ましくは20〜100℃であり、反応時間の範
囲は通常瞬時〜24時間である。反応に供される試剤の
量は、一般式[XXXI]で示されるウラシル化合物1
モルに対して、一般式[XXXX]で示される化合物は
1モルの割合、塩基は1モルの割合が理論量であるが、
反応の状況により任意に変化させることができる。用い
られる塩基としては、ピリジン、キノリン、ベンジルジ
メチルアミン、フェネチルジメチルアミン、N−メチル
モルホリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウ
ンデック−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.
3.0]ノン−5−エン、1,4−ジアザビシクロ
[2.2.2]オクタン、4−ジメチルアミノピリジ
ン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニ
リン、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、
トリイソプロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ジ
イソプロピルエチルアミン等の有機塩基、ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキ
シド等の金属アルコキシド、炭酸リチウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリ
ウム、水素化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリ
ウム等の無機塩基が挙げられる。用いられる溶媒として
は、例えばn−ヘキサン、n−ヘプタン、リグロイン、
シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、
クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオ
リド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエー
テル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリ
コールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、
アセトン、2−ブタノン、メチルイソブチルケトン等の
ケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸
ジエチル等のエステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼ
ン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニト
リル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、
N,N−ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ジメチ
ルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、メタノー
ル、エタノール、エチレングリコール、イソプロパノー
ル、t−ブタノール等のアルコール類、あるいはそれら
の混合物が挙げられる。反応終了後は、例えば、以下の
1)または2)に示す操作により、目的の本発明化合物
を得ることができる。 1)反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該
有機層を乾燥、濃縮する。 2)反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じ
て濾過し、該濾液を濃縮する。 なお、得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、
再結晶等の操作によって精製することも可能である。
Embedded image [In the formula, R 18 represents a leaving group such as a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a methanesulfonyloxy group, a p-toluenesulfonyloxy group, and R 2 has the same meaning as described above. ]
Can be produced by reacting with a compound represented by the formula in the presence of a base. The reaction is usually carried out without a solvent or in a solvent, the reaction temperature is in the range of 0 to 200 ° C, preferably 20 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of instant to 24 hours. The amount of the reagent used for the reaction is determined by the amount of the uracil compound 1 represented by the general formula [XXXI].
The theoretical amount of the compound represented by the general formula [XXXX] is 1 mol, and the molar ratio of the base is 1 mol.
It can be arbitrarily changed depending on the reaction situation. As the base used, pyridine, quinoline, benzyldimethylamine, phenethyldimethylamine, N-methylmorpholine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene, 1,5-diazabicyclo [4.
3.0] Non-5-ene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, 4-dimethylaminopyridine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, triethylamine, tri-n- Propylamine,
Organic bases such as triisopropylamine, tri-n-butylamine and diisopropylethylamine, metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate,
Inorganic bases such as sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium hydride, potassium hydride, lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, barium hydroxide and the like can be mentioned. As the solvent used, for example, n-hexane, n-heptane, ligroin,
Aliphatic hydrocarbons such as cyclohexane and petroleum ether,
Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene,
Chlorobenzene, dichlorobenzene, aromatic halogenated hydrocarbons such as benzotrifluoride, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, diglyme,
Ketones such as acetone, 2-butanone and methyl isobutyl ketone; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate and diethyl carbonate; nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene; nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile; , N-dimethylformamide,
Examples thereof include acid amides such as N, N-dimethylacetamide, sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, alcohols such as methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropanol, and t-butanol, and mixtures thereof. After completion of the reaction, the target compound of the present invention can be obtained by, for example, the following operation 1) or 2). 1) The reaction solution is poured into water, extracted with an organic solvent, and the organic layer is dried and concentrated. 2) Concentrate the reaction solution as it is or, if necessary, filter and concentrate the filtrate. The obtained compound of the present invention was obtained by chromatography,
Purification can also be performed by an operation such as recrystallization.

【0018】本発明化合物の製造法で用いられる一般式
[IV]で示される化合物、一般式[VI]で示される
アルコール化合物、一般式[VIII]で示されるアル
コール化合物および一般式[X]で示される化合物は、
市販のものを用いるか、公知の方法により製造すること
ができる。一般式[VII]で示されるカルボン酸化合
物は、一般式[I]で示される本発明化合物を酸加水分
解することにより製造できる。
The compound represented by the general formula [IV], the alcohol compound represented by the general formula [VI], the alcohol compound represented by the general formula [VIII] and the compound represented by the general formula [X] used in the production method of the compound of the present invention. The compound shown is
A commercially available product can be used or can be produced by a known method. The carboxylic acid compound represented by the general formula [VII] can be produced by acid-hydrolyzing the compound of the present invention represented by the general formula [I].

【0019】本発明化合物の製造法で用いられる製造中
間体のいくつかは、例えば下記(中間体製造法1)〜
(中間体製造法19)の製造法にて製造することができ
る。 (中間体製造法1)一般式[III]で示される化合物
のうち、WおよびYが酸素原子または硫黄原子である化
合物(一般式[XIX]で示される化合物)、および一
般式[XIV]で示される化合物は、以下のスキームに
記載の方法により製造することができる。
Some of the production intermediates used in the production method of the compound of the present invention include, for example, the following (intermediate production method 1)
(Intermediate Production Method 19). (Intermediate Production Method 1) Among the compounds represented by the general formula [III], compounds in which W and Y are oxygen atoms or sulfur atoms (compounds represented by the general formula [XIX]), and compounds represented by the general formula [XIV] The compounds shown can be prepared by the methods described in the following schemes.

【化21】 [式中、R1、R2、R7、X2、X3、X4およびX12は前
記と同じ意味を表わし、R15およびR17はそれぞれ独立
して酸素原子または硫黄原子を表わし、R16はt−ブチ
ルジメチルシリル基等のトリアルキルシリル基;t−ブ
チル基、メチル基等の置換されてもよいC1−C6アル
キル基;ベンジル基等の置換されてもよいベンジル基;
メトキシメチル基、アセチル基、メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基等の保護基を表わす。]
Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , R 7 , X 2 , X 3 , X 4 and X 12 represent the same meaning as described above, and R 15 and R 17 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom, R 16 is a trialkylsilyl group such as a t-butyldimethylsilyl group; a C1-C6 alkyl group which may be substituted such as a t-butyl group or a methyl group; a benzyl group which may be substituted such as a benzyl group;
Represents a protecting group such as a methoxymethyl group, an acetyl group, a methoxycarbonyl group, and an ethoxycarbonyl group. ]

【0020】〈工程A1−1〉:一般式[XXXXI]
で示される化合物から、一般式[XIV]で示される化
合物を製造する工程 一般式[XIV]で示される化合物は、一般式[XXX
XI]で示される化合物と一般式[XXXXII]で示
される化合物とを、塩基の存在下に反応させることによ
り製造することができる。該反応は、通常無溶媒または
溶媒中で行われ、反応温度の範囲は0〜200℃であ
り、反応時間の範囲は通常瞬時〜24時間である。反応
に供される試剤の量は、一般式[XXXXI]で示され
る化合物1モルに対して、一般式[XXXXII]で示
される化合物は1モルの割合、塩基は1モルの割合が理
論量であるが、反応の状況により任意に変化させること
ができる。用いられる塩基としては、ピリジン、キノリ
ン、ベンジルジメチルアミン、フェネチルジメチルアミ
ン、N−メチルモルホリン、1,8−ジアザビシクロ
[5.4.0]ウンデック−7−エン、1,5−ジアザ
ビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン、1,4−ジア
ザビシクロ[2.2.2]オクタン、4−ジメチルアミ
ノピリジン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエ
チルアニリン、トリエチルアミン、トリ−n−プロピル
アミン、トリイソプロピルアミン、トリ−n−ブチルア
ミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸
リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシ
ウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の無機塩
基が挙げられる。用いられる溶媒としては、例えばn−
ヘキサン、n−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサ
ン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香
族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチ
ルエーテル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、2
−ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻
酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等の
エステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ
化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニト
リル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメ
チルアセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシ
ド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合
物が挙げられる。反応終了後は、例えば、以下の1)、
2)または3)に示す操作により、目的物を得ることが
できる。 1)反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該
有機層を乾燥、濃縮する。 2)反応液を水に注加し、析出した結晶を濾取する。 3)反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じ
て濾過し、該濾液を濃縮する。 なお、該目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操
作によって精製することも可能である。
<Step A1-1>: General formula [XXXXI]
For preparing a compound represented by the general formula [XIV] from a compound represented by the general formula [XIV]
XI] and a compound represented by the general formula [XXXXXXII] in the presence of a base. The reaction is usually performed without a solvent or in a solvent, the reaction temperature is in the range of 0 to 200 ° C, and the reaction time is usually in the range of instant to 24 hours. The amount of the reagent used in the reaction is a theoretical amount of 1 mol of the compound represented by the general formula [XXXXXXII] and 1 mol of the base represented by 1 mol of the compound represented by the general formula [XXXXXX]. However, it can be arbitrarily changed depending on the reaction situation. As the base to be used, pyridine, quinoline, benzyldimethylamine, phenethyldimethylamine, N-methylmorpholine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene, 1,5-diazabicyclo [4.3 .0] non-5-ene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, 4-dimethylaminopyridine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, triethylamine, tri-n-propyl Organic bases such as amine, triisopropylamine, tri-n-butylamine, diisopropylethylamine, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, sodium hydrogencarbonate, potassium hydrogencarbonate, sodium hydride, potassium hydride, etc. Inorganic base. As the solvent used, for example, n-
Aliphatic hydrocarbons such as hexane, n-heptane, ligroin, cyclohexane and petroleum ether; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; aromatic halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, dichlorobenzene and benzotrifluoride , Diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dioxane, ethers such as tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, diglyme, acetone,
Ketones such as butanone and methyl isobutyl ketone; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate and diethyl carbonate; nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene; nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile; Examples thereof include acid amides such as dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; sulfur compounds such as dimethylsulfoxide and sulfolane; and mixtures thereof. After completion of the reaction, for example, the following 1),
An object can be obtained by the operation shown in 2) or 3). 1) The reaction solution is poured into water, extracted with an organic solvent, and the organic layer is dried and concentrated. 2) The reaction solution is poured into water, and the precipitated crystals are collected by filtration. 3) Concentrate the reaction solution as it is or, if necessary, filter and concentrate the filtrate. In addition, the target substance can be purified by an operation such as chromatography and recrystallization.

【0021】〈工程A1−2〉:一般式[XIV]で示
される化合物から、一般式[XVI]で示される化合物
を製造する工程 一般式[XVI]で示される化合物は、一般式[XI
V]で示される化合物と一般式[XV]で示される化合
物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造する
ことができる。該反応は、通常無溶媒または溶媒中で行
われ、反応温度の範囲は−20〜200℃であり、好ま
しくは−5〜80℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時
〜24時間である。反応に供される試剤の量は、一般式
[XIV]で示される化合物1モルに対して、一般式
[XV]で示される化合物は1モルの割合、塩基は1モ
ルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変
化させることができる。用いられる塩基としては、ピリ
ジン、キノリン、ベンジルジメチルアミン、フェネチル
ジメチルアミン、N−メチルモルホリン、1,8−ジア
ザビシクロ[5.4.0]ウンデック−7−エン、1,
5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン、
1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、4−
ジメチルアミノピリジン、N,N−ジメチルアニリン、
N,N−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、トリ−
n−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−
n−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有
機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリ
ウム、水酸化リチウムの無機塩基が挙げられる。用いら
れる溶媒としては、例えばn−ヘキサン、n−ヘプタ
ン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂
肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、
ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素
類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチ
ル−t−ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライ
ム等のエーテル類、アセトン、2−ブタノン、メチルイ
ソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロ
メタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニト
リル、イソブチロニトリル等のニトリル類、N,N−ジ
メチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等
の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の
硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。反
応終了後は、例えば、以下の1)または2)に示す操作
により、目的物を得ることができる。 1)反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該
有機層を塩酸、飽和食塩水で順次洗浄、乾燥、濃縮す
る。 2)反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じ
て濾過し、該濾液を濃縮する。 なお、該目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操
作によって精製することも可能である。
<Step A1-2>: Step of producing a compound represented by the general formula [XVI] from a compound represented by the general formula [XIV] The compound represented by the general formula [XVI]
V] and a compound represented by the general formula [XV] in the presence of a base. The reaction is usually carried out without a solvent or in a solvent, and the reaction temperature is in the range of -20 to 200 ° C, preferably -5 to 80 ° C, and the reaction time is usually instantaneous to 24 hours. The amount of the reagent used in the reaction is a theoretical amount of 1 mole of the compound represented by the general formula [XV] and 1 mole of the base relative to 1 mole of the compound represented by the general formula [XIV]. However, it can be arbitrarily changed depending on the reaction situation. As the base used, pyridine, quinoline, benzyldimethylamine, phenethyldimethylamine, N-methylmorpholine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene, 1,
5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene,
1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, 4-
Dimethylaminopyridine, N, N-dimethylaniline,
N, N-diethylaniline, triethylamine, tri-
n-propylamine, triisopropylamine, tri-
Organic bases such as n-butylamine and diisopropylethylamine, and inorganic bases of lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydride, potassium hydride, and lithium hydroxide. Can be As the solvent used, for example, n-hexane, n-heptane, ligroin, cyclohexane, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether, benzene, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene, chlorobenzene, dichlorobenzene,
Aromatic halogenated hydrocarbons such as benzotrifluoride, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, diglyme, acetone, 2-butanone, methyl isobutyl ketone, etc. Ketones, esters such as ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate and diethyl carbonate, nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene, nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethyl Examples include acid amides such as acetamide, sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, and mixtures thereof. After the completion of the reaction, the desired product can be obtained by, for example, the following operation 1) or 2). 1) The reaction solution is poured into water, extracted with an organic solvent, and the organic layer is sequentially washed with hydrochloric acid and saturated saline, dried and concentrated. 2) Concentrate the reaction solution as it is or, if necessary, filter and concentrate the filtrate. In addition, the target substance can be purified by an operation such as chromatography and recrystallization.

【0022】〈工程A1−3〉:一般式[XVI]で示
される化合物から、一般式[XVII]で示される化合
物を製造する工程 一般式[XVII]で示される化合物は、例えば一般式
[XVI]で示される化合物を鉄粉を用いて酸の存在
下、溶媒中で還元することにより製造することができ
る。反応温度の範囲は0〜200℃であり、好ましくは
室温〜加熱還流である。反応時間の範囲は通常瞬時〜2
4時間である。反応に供される試剤の量は、一般式[X
VI]で示される化合物1モルに対して、鉄粉の量は3
モル〜過剰量の割合、酸は1〜10モルの割合である
が、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる酸としては、酢酸等が挙げられる。用いられ
る溶媒としては、例えば水、酢酸、酢酸エチル等あるい
はそれらの混合物が挙げられる。反応終了後の反応液
は、濾過した後、水に注加し、生じた結晶を濾集する
か、または、有機溶媒抽出、中和および濃縮等の通常の
後処理を行い、目的物を得ることができる。該目的物
は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって精製
することも可能である。 〈工程A1−4〉:一般式[XVII]で示される化合
物から、一般式[XVIII]で示される化合物を製造
する工程 一般式[XVIII]で示される化合物は、i)一般式
[XVII]で示される化合物を溶媒中でジアゾ化した
後、ii)引き続き、ヨウ化カリウム、臭化銅(I)、
塩化銅(I)またはホウフッ化水素酸と溶媒中で反応さ
せることにより製造することができる。第1段階のジア
ゾ化反応は、反応温度の範囲は通常−20〜20℃であ
り、反応時間の範囲は通常瞬時〜5時間である。反応に
供される試剤の量は、一般式[XVII]で示される化
合物1モルに対して、ジアゾ化剤の量は1モルの割合が
理論量であるが、反応の状況により任意に変化させるこ
とができる。用いられるジアゾ化剤としては、亜硝酸ナ
トリウム、亜硝酸カリウム、亜硝酸イソアミル、亜硝酸
t−ブチル等の亜硝酸化合物等が挙げられる。溶媒とし
ては、例えばアセトニトリル、臭化水素酸、塩酸、硫
酸、水等あるいはそれらの混合物が挙げられる。反応終
了後の反応液は、そのまま次の反応に用いる。第2段階
の反応は、反応温度の範囲は0〜80℃であり、反応時
間の範囲は通常瞬時〜24時間である。反応に供される
試剤の量は、一般式[XVII]で示される化合物1モ
ルに対して、ヨウ化カリウム、臭化銅(I)、塩化銅
(I)またはホウフッ化水素酸の量は各々1〜3モルの
割合であるが、反応の状況により任意に変化させること
ができる。尚、臭化銅[I]を用いる場合は、臭化銅[I
I]の存在下に反応を行うこともでき、塩化銅[I]を用
いる場合は、塩化銅[II]の存在下に反応を行うことも
できる。溶媒としては、例えばアセトニトリル、ジエチ
ルエーテル、t−ブチルメチルエーテル、臭化水素酸、
塩酸、硫酸、水等あるいはそれらの混合物が挙げられ
る。反応終了後の反応液は、(必要に応じて水を加え
て)生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出お
よび濃縮等の通常の後処理を行い、目的物を得ることが
できる。該目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の
操作によって精製することもできる。また、該反応は上
記の方法に限らず、溶媒(例えばアセトニトリル、ジエ
チルエーテル、t−ブチルメチルエーテル、臭化水素
酸、塩酸、硫酸、水等あるいはそれらの混合物)中、ヨ
ウ化カリウム、臭化銅(I)、塩化銅(I)またはホウ
フッ化水素酸の存在下に、一般式[XVII]で示され
る化合物とジアゾ化剤とを反応させることにより製造す
ることも可能である。(Heterocycles.,38,1581(1994)
など参照)
<Step A1-3>: Step of producing a compound represented by the general formula [XVII] from a compound represented by the general formula [XVI] The compound represented by the general formula [XVII] is, for example, a compound represented by the general formula [XVI] Can be produced by reducing the compound represented by the formula (I) with iron powder in a solvent in the presence of an acid. The reaction temperature ranges from 0 to 200 ° C., preferably from room temperature to heating to reflux. The reaction time range is usually from instant to 2
4 hours. The amount of the reagent used for the reaction is represented by the general formula [X
VI], the amount of iron powder is 3
The ratio of the mole to excess amount is 1 to 10 moles of the acid, but can be arbitrarily changed depending on the reaction situation.
As the acid to be used, acetic acid and the like can be mentioned. Examples of the solvent to be used include water, acetic acid, ethyl acetate and the like or a mixture thereof. After completion of the reaction, the reaction solution is filtered and poured into water, and the resulting crystals are collected by filtration or subjected to ordinary post-treatments such as extraction with an organic solvent, neutralization and concentration to obtain the desired product. be able to. The target substance can be purified by an operation such as chromatography, recrystallization and the like. <Step A1-4>: Step of producing compound represented by general formula [XVIII] from compound represented by general formula [XVII] The compound represented by general formula [XVIII] is i) represented by general formula [XVII] After diazotizing the indicated compound in a solvent, ii) followed by potassium iodide, copper (I) bromide,
It can be produced by reacting with copper (I) chloride or borofluoric acid in a solvent. In the diazotization reaction of the first stage, the reaction temperature is usually from -20 to 20 ° C, and the reaction time is usually from instant to 5 hours. The amount of the reagent to be subjected to the reaction is a theoretical amount of 1 mol per 1 mol of the compound represented by the general formula [XVII], but may be arbitrarily changed according to the reaction situation. be able to. Examples of the diazotizing agent used include nitrite compounds such as sodium nitrite, potassium nitrite, isoamyl nitrite and t-butyl nitrite. Examples of the solvent include acetonitrile, hydrobromic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, water and the like, and a mixture thereof. The reaction solution after completion of the reaction is used for the next reaction as it is. In the reaction of the second stage, the reaction temperature range is 0 to 80 ° C., and the reaction time range is usually instantaneous to 24 hours. The amount of the reagent to be subjected to the reaction is such that the amount of potassium iodide, copper (I) bromide, copper (I) chloride or borofluoric acid is 1 mol of the compound represented by the general formula [XVII]. The ratio is 1 to 3 mol, but can be arbitrarily changed depending on the reaction situation. When copper bromide [I] is used, copper bromide [I]
The reaction can be carried out in the presence of copper chloride [I], and when copper chloride [I] is used, the reaction can be carried out in the presence of copper chloride [II]. Examples of the solvent include acetonitrile, diethyl ether, t-butyl methyl ether, hydrobromic acid,
Examples include hydrochloric acid, sulfuric acid, water, and the like, and mixtures thereof. After completion of the reaction, the reaction mixture is subjected to ordinary post-treatment such as filtration of the generated crystals (by adding water as necessary) or extraction with an organic solvent and concentration to obtain the desired product. . The target product can be purified by an operation such as chromatography, recrystallization and the like. In addition, the reaction is not limited to the above method, but may be carried out in a solvent (for example, acetonitrile, diethyl ether, t-butyl methyl ether, hydrobromic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, water, or a mixture thereof), potassium iodide, bromide, or the like. It can also be produced by reacting a compound represented by the general formula [XVII] with a diazotizing agent in the presence of copper (I), copper (I) chloride or borofluoric acid. (Heterocycles., 38, 1581 (1994)
Etc.)

【0023】〈工程A1−5〉:一般式[XVIII]
で示される化合物から、一般式[XIX]で示される化
合物を製造する工程 一般式[XIX]で示される化合物は、Protective Gro
ups in Organic Synthesis(A Wiley-Interscience pub
lication社刊)に記載の方法に準じて、一般式[XVI
II]で示される化合物を、ボロントリブロミド、HB
r/酢酸、濃塩酸または濃硫酸等を用いて脱保護させる
ことにより、製造することができる。尚、一般式[XV
III]で示される化合物のうち、R16がベンジル基で
ある化合物の場合は、触媒の存在下に水素添加により脱
保護させることにより、製造することもできる。該反応
は、通常溶媒中で行われる。反応温度の範囲は通常−2
0〜150℃であり、好ましくは0〜50℃である。反
応時間の範囲は通常瞬時〜48時間である。該反応は加
圧条件下に行うこともでき、通常1〜5気圧の条件下に
反応を行う。該反応に供される触媒の量は、一般式[X
VIII]で示される化合物の0.001〜100重量
%である。反応に供される触媒としては、無水パラジウ
ム/炭素、含水パラジウム/炭素、酸化白金等があげら
れる。溶媒としてはギ酸、酢酸、プロピオン酸等のカル
ボン酸類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸
ジエチル等のエステル類、1,4−ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル等
のエ−テル類、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール等のアルコール類、水あるいはそれらの混合物等が
あげられる。反応終了後の反応液は、濾過した後にその
まま濃縮するか、反応液を水に注加して生じた結晶を濾
取するか、反応液を水に注加した後に有機溶媒抽出およ
び濃縮する等の通常の後処理操作に付し、目的物を得る
ことができる。該目的物はクロマトグラフィー、再結晶
等の操作によって精製することも可能である。
<Step A1-5>: General formula [XVIII]
For producing a compound represented by the general formula [XIX] from a compound represented by the general formula [XIX]:
ups in Organic Synthesis (A Wiley-Interscience pub
lication company) according to the general formula [XVI
II] with boron tribromide, HB
r / acetic acid, concentrated hydrochloric acid, concentrated sulfuric acid, or the like for deprotection. The general formula [XV
Among the compounds represented by III], when R 16 is a benzyl group, the compound can also be produced by deprotection by hydrogenation in the presence of a catalyst. The reaction is usually performed in a solvent. The reaction temperature range is usually -2.
It is 0-150 degreeC, Preferably it is 0-50 degreeC. The range of the reaction time is usually from instant to 48 hours. The reaction can be carried out under a pressurized condition, and is usually carried out under a condition of 1 to 5 atm. The amount of the catalyst used for the reaction is represented by the general formula [X
VIII] to 0.001 to 100% by weight. Examples of the catalyst used for the reaction include anhydrous palladium / carbon, hydrated palladium / carbon, platinum oxide and the like. Examples of the solvent include carboxylic acids such as formic acid, acetic acid and propionic acid, esters such as ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate and diethyl carbonate, and ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran and ethylene glycol dimethyl ether. , Methanol, ethanol, alcohols such as isopropanol, water or a mixture thereof. After completion of the reaction, the reaction solution is filtered and concentrated as it is, the reaction solution is poured into water and crystals formed are collected, or the reaction solution is poured into water and then extracted with an organic solvent and concentrated. To give the desired product. The target product can be purified by an operation such as chromatography and recrystallization.

【0024】(中間体製造法2)一般式[III]で示
される化合物のうち、WがNHである化合物(一般式
[XXIII]で示される化合物)は、以下のスキーム
に記載の方法により、製造することができる。
(Intermediate Production Method 2) Among the compounds represented by the general formula [III], the compound wherein W is NH (the compound represented by the general formula [XXIII]) can be prepared by the method described in the following scheme. Can be manufactured.

【化22】 [式中、R1、R2、R7、Y、X1、X2、X3およびX4
は前記と同じ意味を表す。] 〈工程A2−1〉:一般式[XX]で示される化合物か
ら、一般式[XXII]で示される化合物を製造する工
程 一般式[XXII]で示される化合物は、一般式[X
X]で示される化合物と一般式[XXI]で示される化
合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造す
ることができる。該反応は、通常無溶媒または溶媒中で
行われ、反応温度の範囲は0〜200℃であり、反応時
間の範囲は通常瞬時〜24時間である。反応に供される
試剤の量は、一般式[XX]で示される化合物1モルに
対して、一般式[XXI]で示される化合物は1モルの
割合、塩基は1モルの割合が理論量であるが、反応の状
況により任意に変化させることができる。用いられる塩
基としては、ピリジン、キノリン、ベンジルジメチルア
ミン、フェネチルジメチルアミン、N−メチルモルホリ
ン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデック
−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノ
ン−5−エン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]
オクタン、4−ジメチルアミノピリジン、N,N−ジメ
チルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、トリエチル
アミン、トリ−n−プロピルアミン、トリイソプロピル
アミン、トリ−n−ブチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭
酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウ
ム、水素化カリウム、水酸化リチウム等の無機塩基が挙
げられる。用いられる溶媒としては、例えばn−ヘキサ
ン、n−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油
エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジク
ロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲ
ン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、2−ブタノ
ン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステ
ル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合
物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル
類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチル
アセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、
スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が
挙げられる。該反応は、触媒の添加により反応が加速さ
れることがある。反応に供される触媒の量は、一般式
[XX]で示される化合物1モルに対して、0.000
1〜0.1モルの割合が好ましいが、反応の状況により
任意に変化させることができる。触媒としては、ヨウ化
銅、臭化銅、塩化銅、銅粉末等が挙げられる。反応終了
後は、例えば、以下の1)または2)に示す操作によ
り、目的物を得ることができる。 1)反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該
有機層を乾燥、濃縮する。 2)反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じ
て濾過し、該濾液を濃縮する。 目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によっ
て精製することも可能である。 〈工程A2−2〉:一般式[XXII]で示される化合
物から、一般式[XXIII]で示される化合物を製造
する工程 一般式[XXIII]で示される化合物は、例えば一般
式[XXII]で示される化合物を溶媒中、酸存在下に
鉄粉にて還元することにより製造することができる。反
応温度の範囲は0〜200℃であり、好ましくは室温〜
加熱還流である。反応時間の範囲は通常瞬時〜24時間
である。反応に供される試剤の量は、一般式[XXI
I]で示される化合物1モルに対して、鉄粉の量は3モ
ル〜過剰量の割合、酸は1〜10モルの割合であるが、
反応の状況により任意に変化させることができる。用い
られる酸としては、酢酸等が挙げられる。溶媒として
は、例えば水、酢酸、酢酸エチル等あるいはそれらの混
合物が挙げられる。反応終了後の反応液は、濾過した
後、(必要に応じて水を加えて)生じた結晶を濾集する
か、または、有機溶媒抽出、中和および濃縮等の通常の
後処理を行い、目的物を得ることができる。目的物は、
クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって精製する
ことも可能である。
Embedded image [Wherein R 1 , R 2 , R 7 , Y, X 1 , X 2 , X 3 and X 4
Represents the same meaning as described above. <Step A2-1>: Step of producing a compound represented by the general formula [XXII] from a compound represented by the general formula [XX] is performed by converting the compound represented by the general formula [XXII] into a compound represented by the general formula [X
X] and a compound represented by the general formula [XXI] in the presence of a base. The reaction is usually performed without a solvent or in a solvent, the reaction temperature is in the range of 0 to 200 ° C, and the reaction time is usually in the range of instant to 24 hours. The amount of the reagent used in the reaction is a theoretical amount of 1 mole of the compound represented by the general formula [XXI] and 1 mole of the base relative to 1 mole of the compound represented by the general formula [XX]. However, it can be arbitrarily changed depending on the reaction situation. As the base to be used, pyridine, quinoline, benzyldimethylamine, phenethyldimethylamine, N-methylmorpholine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene, 1,5-diazabicyclo [4.3 .0] non-5-ene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2]
Organic bases such as octane, 4-dimethylaminopyridine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, triethylamine, tri-n-propylamine, triisopropylamine, tri-n-butylamine, diisopropylethylamine, and lithium carbonate And inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium hydride, potassium hydride and lithium hydroxide. As the solvent used, for example, n-hexane, n-heptane, ligroin, cyclohexane, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether, benzene, toluene,
Aromatic hydrocarbons such as xylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, aromatic halogenated hydrocarbons such as benzotrifluoride, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, diglyme, etc. Ketones such as ethers, acetone, 2-butanone and methyl isobutyl ketone; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate and diethyl carbonate; nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene; nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile , Acid amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide,
Examples thereof include a sulfur compound such as sulfolane or a mixture thereof. The reaction may be accelerated by the addition of a catalyst. The amount of the catalyst used for the reaction is 0.000 to 1 mol of the compound represented by the general formula [XX].
The ratio is preferably 1 to 0.1 mol, but can be arbitrarily changed depending on the situation of the reaction. Examples of the catalyst include copper iodide, copper bromide, copper chloride, copper powder and the like. After the completion of the reaction, the desired product can be obtained by, for example, the following operation 1) or 2). 1) The reaction solution is poured into water, extracted with an organic solvent, and the organic layer is dried and concentrated. 2) Concentrate the reaction solution as it is or, if necessary, filter and concentrate the filtrate. The target substance can be purified by operations such as chromatography and recrystallization. <Step A2-2>: Step of producing compound represented by general formula [XXIII] from compound represented by general formula [XXII] The compound represented by general formula [XXIII] is represented by, for example, general formula [XXII] By reducing the compound to be prepared with iron powder in a solvent in the presence of an acid. The reaction temperature ranges from 0 to 200 ° C, preferably from room temperature to
Heat reflux. The range of the reaction time is usually from instant to 24 hours. The amount of the reagent used for the reaction is determined by the general formula [XXI
With respect to 1 mol of the compound represented by I], the amount of the iron powder is 3 mol to an excess amount, and the acid is 1 to 10 mol.
It can be arbitrarily changed depending on the reaction situation. As the acid to be used, acetic acid and the like can be mentioned. Examples of the solvent include water, acetic acid, ethyl acetate and the like or a mixture thereof. After completion of the reaction, the reaction solution is filtered, and the resulting crystals (by adding water as needed) are collected by filtration, or subjected to ordinary post-treatments such as extraction with an organic solvent, neutralization and concentration, The desired product can be obtained. The object is
It is also possible to purify by operations such as chromatography and recrystallization.

【0025】(中間体製造法3)一般式[III]で示
される化合物のうち、Wが酸素原子である化合物(一般
式[V]で示される化合物)は、以下のスキームに記載
の方法により、製造することもできる。
(Intermediate Production Method 3) Among the compounds represented by the general formula [III], compounds in which W is an oxygen atom (compounds represented by the general formula [V]) are prepared by the method described in the following scheme. , Can also be manufactured.

【化23】 [式中、R1、R2、Y、X1、X2、X3およびX4は前記
と同じ意味を表す。] 一般式[V]で示される化合物は、i)一般式[XXI
II]で示される化合物をジアゾ化剤と溶媒中で反応さ
せた後、ii)引き続き、酸性溶媒中で加熱するか、あ
るいは、銅触媒存在下、銅塩を作用させることにより製
造することができる。第1段階の反応は、反応温度の範
囲は通常−20〜10℃であり、反応時間の範囲は通常
瞬時〜5時間である。反応に供される試剤の量は、一般
式[XXIII]で示される化合物1モルに対して、ジ
アゾ化剤の量は1モルの割合が理論量であるが、反応の
状況により任意に変化させることができる。用いられる
ジアゾ化剤としては、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウ
ム、亜硝酸イソアミル、亜硝酸t−ブチル等の亜硝酸化
合物等が挙げられる。溶媒としては、例えばアセトニト
リル、塩酸、臭化水素酸、硫酸、水等あるいはそれらの
混合物が挙げられる。反応終了後の反応液は、そのまま
次の反応に用いる。第2段階の酸性溶媒中で加熱する反
応は、反応温度の範囲は60℃〜加熱還流であり、反応
時間の範囲は通常瞬時〜48時間である。酸性溶媒とし
ては、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸水溶液等が挙げら
れる。反応終了後の反応液は、(必要に応じて水を加え
て)生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出お
よび濃縮等の通常の後処理を行い、得ることができる。
該目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によ
って精製することができる。第2段階の銅触媒の存在
下、銅塩を作用させる反応は、溶媒中で行われ、反応温
度の範囲は0℃〜加熱還流であり、反応時間の範囲は通
常瞬時〜24時間である。反応に供される試剤の量は、
一般式[XXIII]で示される化合物1モルに対し
て、銅触媒の量は0.001〜5モルの割合であり、銅
塩の量は1〜100モルであるが、反応の状況により任
意に変化させることができる。用いられる銅触媒として
は、酸化銅(I)等があげられ、銅塩としては、硫酸銅
(II)、硝酸銅(II)等が挙げられる。溶媒としては、
例えば水、塩酸、硫酸等あるいはそれらの混合物が挙げ
られる。反応終了後の反応液は、有機溶媒抽出および濃
縮等の通常の後処理を行い、目的物を得ることができ
る。該目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作
によって精製することができる。
Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , Y, X 1 , X 2 , X 3 and X 4 represent the same meaning as described above. The compound represented by the general formula [V] is a compound represented by the general formula [XXI]
After the compound of the formula [II] is reacted with a diazotizing agent in a solvent, ii) the compound is then heated in an acidic solvent or reacted with a copper salt in the presence of a copper catalyst. . In the reaction of the first stage, the reaction temperature is usually from -20 to 10 ° C, and the reaction time is usually from instant to 5 hours. The amount of the reagent to be subjected to the reaction is a theoretical amount of 1 mol per 1 mol of the compound represented by the general formula [XXIII], but may be arbitrarily changed according to the reaction situation. be able to. Examples of the diazotizing agent used include nitrite compounds such as sodium nitrite, potassium nitrite, isoamyl nitrite and t-butyl nitrite. Examples of the solvent include acetonitrile, hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, water, and the like, and mixtures thereof. The reaction solution after completion of the reaction is used for the next reaction as it is. The reaction in the second step of heating in an acidic solvent is performed at a reaction temperature ranging from 60 ° C. to heating under reflux, and a reaction time generally ranging from an instant to 48 hours. Examples of the acidic solvent include hydrochloric acid, hydrobromic acid, aqueous sulfuric acid and the like. After completion of the reaction, the reaction solution can be obtained by collecting the generated crystals (by adding water as necessary) or by performing a usual post-treatment such as extraction with an organic solvent and concentration.
The target product can be purified by operations such as chromatography and recrystallization. The reaction of reacting the copper salt in the presence of the copper catalyst in the second stage is carried out in a solvent, and the reaction temperature ranges from 0 ° C. to the reflux temperature, and the reaction time generally ranges from instant to 24 hours. The amount of reagent used for the reaction is
The amount of the copper catalyst is 0.001 to 5 mol, and the amount of the copper salt is 1 to 100 mol, based on 1 mol of the compound represented by the general formula [XXIII]. Can be changed. The copper catalyst used includes copper (I) oxide and the like, and the copper salt includes copper sulfate (II), copper nitrate (II) and the like. As the solvent,
For example, water, hydrochloric acid, sulfuric acid and the like or a mixture thereof can be mentioned. After completion of the reaction, the reaction solution is subjected to ordinary post-treatments such as extraction with an organic solvent and concentration to obtain the desired product. The target product can be purified by operations such as chromatography and recrystallization.

【0026】(中間体製造法4)一般式[IX]で示さ
れる化合物は、以下のスキームに記載の方法により、製
造することができる。
(Intermediate Production Method 4) The compound represented by the general formula [IX] can be produced by the method described in the following scheme.

【化24】 [式中、R1、R2、R7、X2およびX11は、前記と同じ
意味を表す。] 一般式[IX]で示される化合物は、一般式[XXI
V]で示される化合物を溶媒中でジアゾ化した後、引き
続きハロゲン化剤と反応させることにより製造すること
ができる。 <第一段階(ジアゾ化反応)> 反応温度:−20〜20℃ 反応時間:瞬時〜5時間 ジアゾ化剤の量:一般式[XXIV]で示される化合物
1モルに対して1モル〜過剰量 ジアゾ化剤:亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム、亜硝
酸イソアミル、亜硝酸t−ブチル等の亜硝酸化合物等 溶媒:アセトニトリル、塩酸等 <第二段階> 反応温度:0〜80℃ 反応時間:瞬時〜24時間 ハロゲン化剤の量:一般式[XXIV]で示される化合
物1モルに対して1〜3モル ハロゲン化剤:ヨウ化カリウム、臭化銅(I)、塩化銅
(I)またはホウフッ化水素酸等 溶媒:アセトニトリル、塩酸等 該反応は溶媒中、ハロゲン化剤の存在下に、一般式[X
XIV]で示される化合物とジアゾ化剤とを反応させる
ことにより製造することも可能である。 反応温度:0〜80℃ 反応時間:瞬時〜48時間 ジアゾ化剤の量:一般式[XXIV]で示される化合物
1モルに対して1モル〜過剰量 ジアゾ化剤:亜硝酸イソアミル、亜硝酸t−ブチル等の
亜硝酸化合物等 ハロゲン化剤の量:一般式[XXIV]で示される化合
物1モルに対して1〜3モル ハロゲン化剤:ヨウ化カリウム、臭化銅(I)、塩化銅
(I)またはホウフッ化水素酸等 溶媒:アセトニトリル等 尚、臭化銅[I]を用いる場合は、臭化銅[II]の存在下
に反応を行うこともでき、塩化銅[I]を用いる場合は、
塩化銅[II]の存在下に反応を行うこともできる。
Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , R 7 , X 2 and X 11 represent the same meaning as described above. The compound represented by the general formula [IX] has the general formula [XXI
V] can be produced by diazotizing a compound represented by the formula [V] in a solvent and subsequently reacting the compound with a halogenating agent. <First Step (Diazotization Reaction)> Reaction temperature: -20 to 20 ° C. Reaction time: Instantaneous to 5 hours Amount of diazotizing agent: 1 mol to excess amount per 1 mol of compound represented by general formula [XXIV] Diazotizing agent: nitrite compounds such as sodium nitrite, potassium nitrite, isoamyl nitrite, t-butyl nitrite, etc. Solvent: acetonitrile, hydrochloric acid, etc. <Second step> Reaction temperature: 0 to 80 ° C. Reaction time: instantaneous to 24 Time Amount of halogenating agent: 1 to 3 mol per 1 mol of compound represented by general formula [XXIV] Halogenating agent: potassium iodide, copper (I) bromide, copper (I) chloride or borofluoric acid Solvent: acetonitrile, hydrochloric acid, etc. The reaction is carried out in a solvent in the presence of a halogenating agent by the general formula [X
XIV] and a diazotizing agent. Reaction temperature: 0 to 80 ° C Reaction time: instantaneous to 48 hours Amount of diazotizing agent: 1 mol to excess amount per 1 mol of compound represented by formula [XXIV] Diazonizing agent: isoamyl nitrite, t nitrite -Nitrite compound such as butyl, etc. Amount of halogenating agent: 1 to 3 mol per 1 mol of compound represented by general formula [XXIV] Halogenating agent: potassium iodide, copper (I) bromide, copper chloride ( I) or borofluoric acid, etc. Solvent: acetonitrile, etc. When copper [I] is used, the reaction can be carried out in the presence of copper [II], and when copper [I] is used. Is
The reaction can be carried out in the presence of copper [II] chloride.

【0027】(中間体製造法5)一般式[X]で示され
る化合物のうち、Wが酸素原子または硫黄原子である化
合物(一般式[XXVI]で示される化合物)は、以下
のスキームに記載の方法により製造することができる。
(Intermediate Production Method 5) Among the compounds represented by the general formula [X], compounds in which W is an oxygen atom or a sulfur atom (compounds represented by the general formula [XXVI]) are described in the following scheme. It can be manufactured by the method described above.

【化25】 [式中、R4、R5、R6、R15、Y、X3およびX4は前
記と同じ意味を表す。] 一般式[XXVI]で示される化合物は、一般式[XX
V]で示される化合物と一般式[IV]で示される化合
物とを、溶媒中、塩基の存在下に反応させることにより
製造することができる。 反応温度:0〜200℃ 反応時間:瞬時〜72時間 一般式[IV]で示される化合物の量:一般式[XX
V]で示される化合物1モルに対して1〜3モル 塩基の量:一般式[XXV]で示される化合物1モルに
対して1〜3モル 塩基:トリエチルアミン、炭酸カリウム、水素化ナトリ
ウム等 溶媒:テトラヒドロフラン、アセトニトリル、N,N−
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メタノ
ール、水等あるいはそれらの混合物
Embedded image [Wherein, R 4 , R 5 , R 6 , R 15 , Y, X 3 and X 4 represent the same meaning as described above. The compound represented by the general formula [XXVI] has the general formula [XXVI]
V] and a compound represented by the general formula [IV] in a solvent in the presence of a base. Reaction temperature: 0 to 200 ° C Reaction time: instantaneous to 72 hours Amount of compound represented by general formula [IV]: general formula [XX
V] 1 to 3 mol per 1 mol of the compound represented by the formula: The amount of the base: 1 to 3 mol per 1 mol of the compound represented by the general formula [XXV] Base: triethylamine, potassium carbonate, sodium hydride, etc. Solvent: Tetrahydrofuran, acetonitrile, N, N-
Dimethylformamide, dimethylsulfoxide, methanol, water, etc. or a mixture thereof

【0028】(中間体製造法6)一般式[X]で示され
る化合物のうち、Yが酸素原子または硫黄原子である化
合物(一般式[XXX]で示される化合物)は、以下の
スキームに記載の方法により製造することができる。
(Intermediate Production Method 6) Among the compounds represented by the general formula [X], compounds in which Y is an oxygen atom or a sulfur atom (compounds represented by the general formula [XXX]) are described in the following scheme. It can be manufactured by the method described above.

【化26】 [式中、R4、R5、R6、R16、R17、W、X3およびX
4は前記と同じ意味を表す。]
Embedded image [Wherein R 4 , R 5 , R 6 , R 16 , R 17 , W, X 3 and X
4 has the same meaning as described above. ]

【0029】〈工程A6−1〉:一般式[XXVII]
で示される化合物から、一般式[XXVIII]で示さ
れる化合物を製造する工程 一般式[XXVIII]で示される化合物は、一般式
[XXVII]で示される化合物と塩化t−ブチルジメ
チルシリル、イソブテン、塩化ベンジル、臭化ベンジル
等とを反応させることにより製造できる。(Protective
Groups in Organic Synthesis(A Wiley-Interscience
publication社刊)参照) 〈工程A6−2〉:一般式[XXVIII]で示される
化合物から、一般式[XXIX]で示される化合物を製
造する工程 一般式[XXIX]で示される化合物は、一般式[XX
VIII]で示される化合物と一般式[IV]で示され
る化合物とを、溶媒中、塩基の存在下に反応させること
により製造することができる。 反応温度:0〜200℃ 反応時間:瞬時〜72時間 一般式[IV]で示される化合物の量:一般式[XXV
III]で示される化合物1モルに対して1〜3モル 塩基の量:一般式[XXVIII]で示される化合物1
モルに対して1〜3モル塩基:トリエチルアミン、炭酸
カリウム、水素化ナトリウム等 溶媒:テトラヒドロフラン、アセトニトリル、N,N−
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メタノ
ール、水等あるいはそれらの混合物 〈工程A6−3〉:一般式[XXIX]で示される化合
物から、一般式[XXX]で示される化合物を製造する
工程 一般式[XXX]で示される化合物は、「有機化学実験
の手引き」4巻(化学同人社刊)、Protective Groups
in Organic Synthesis(A Wiley-Intersciencepublicat
ion社刊)に記載の方法に準じて、一般式[XXIX]
で示される化合物を脱保護することにより製造すること
ができる。一般式[XXIX]で示される化合物のう
ち、R18がt−ブチルジメチルシリル基等のシリル基で
ある化合物は、トリフルオロ酢酸またはテトラブチルア
ンモニウフルオリド等を、塩化メチレン、酢酸エチルま
たは水等の溶媒中にて反応させることによる。一般式
[XXIX]で示される化合物のうち、R18がベンジル
基等の置換されてもよいベンジル基である化合物は、触
媒の存在下に水素と反応することによる。 反応温度:−20〜150℃、好ましくは0〜50℃ 反応時間:瞬時〜48時間 触媒の量:一般式[XXIX]で示される化合物1モル
に対して、0.001〜100重量% 触媒:無水パラジウム/炭素、含水パラジウム/炭素、
酸化白金等 溶媒:酢酸、酢酸エチル、メタノール等
<Step A6-1>: General formula [XXVII]
For producing a compound represented by the general formula [XXVIII] from a compound represented by the general formula [XXVIII], a compound represented by the general formula [XXVIII] and a compound represented by the general formula [XXVII] It can be produced by reacting with benzyl, benzyl bromide or the like. (Protective
Groups in Organic Synthesis (A Wiley-Interscience
<publishing company publication)) <Step A6-2>: Step of producing compound represented by general formula [XXIX] from compound represented by general formula [XXVIII] [XX
The compound represented by the formula [VIII] and the compound represented by the general formula [IV] can be produced by reacting the compound in a solvent in the presence of a base. Reaction temperature: 0 to 200 ° C Reaction time: instantaneous to 72 hours Amount of compound represented by general formula [IV]: general formula [XXV]
III] 1 to 3 mol per 1 mol of the compound represented by the formula: The amount of the base: the compound 1 represented by the general formula [XXVIII]
1 to 3 mol based on mol Base: triethylamine, potassium carbonate, sodium hydride, etc. Solvent: tetrahydrofuran, acetonitrile, N, N-
Dimethylformamide, dimethylsulfoxide, methanol, water, etc. or a mixture thereof <Step A6-3>: a step of producing a compound represented by the general formula [XXX] from a compound represented by the general formula [XXIX], general formula [XXX] The compounds shown in "Protective Groups", Vol. 4 (Guidance on Organic Chemistry Experiments) (published by Kagaku Dojin)
in Organic Synthesis (A Wiley-Intersciencepublicat
ion, published by Ion Co., Ltd.) according to the general formula [XXIX]
Can be produced by deprotecting the compound represented by Among the compounds represented by the general formula [XXIX], compounds in which R 18 is a silyl group such as a t-butyldimethylsilyl group include trifluoroacetic acid or tetrabutylammonium fluoride, methylene chloride, ethyl acetate or water. By reacting in a solvent of Among the compounds represented by the general formula [XXIX], the compound in which R 18 is an optionally substituted benzyl group such as a benzyl group is obtained by reacting with hydrogen in the presence of a catalyst. Reaction temperature: -20 to 150 ° C, preferably 0 to 50 ° C Reaction time: instantaneous to 48 hours Catalyst amount: 0.001 to 100% by weight based on 1 mol of the compound represented by the general formula [XXIX] Catalyst: Anhydrous palladium / carbon, hydrous palladium / carbon,
Solvent: acetic acid, ethyl acetate, methanol, etc.

【0030】(中間体製造法7)一般式[XXXI]で
示される化合物のうち、Yが酸素原子または硫黄原子で
ある化合物は、以下のスキームに記載の方法により製造
することができる。
(Intermediate Production Method 7) Among the compounds represented by the general formula [XXXI], compounds wherein Y is an oxygen atom or a sulfur atom can be produced by the method described in the following scheme.

【化27】 [式中、R1、R4、R5、R7、R17、W、X1、X2、X
3およびX4は前記と同じ意味を表し、R18はC1〜C6
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基等)またはフ
ェニル基を表し、R19はC1〜C6アルキル基(例え
ば、メチル基、エチル基等)を表す。] 〈工程A7−1〉:一般式[XXXVI]で示される化
合物から、一般式[XXXII]で示される化合物を製
造する工程 一般式[XXXII]で示される化合物は、一般式[X
XXVI]で示される化合物を、一般式[XXXVI
I]で示される化合物に変換した後に、一般式[XXX
VIII]で示される化合物と反応させることにより、
製造することができる。(バイオオルガニック アンド
メディシナル ケミストリー レターズ 5巻、1035
ページ、(1995)参照) 〈工程A7−2〉:一般式[XXXII]で示される化
合物から、一般式[XXXIII]で示される化合物を
製造する工程 一般式[XXXIII]で示される化合物は、一般式
[XXXII]で示される化合物から特開昭63−41
466号公報等に記載の公知の方法に準じた方法により
製造することが出来る。具体的には、一般式[XXXI
I]で示される化合物を溶媒中または無溶媒にて、イソ
シアネート化させることにより一般式[XXXIII]
で示される化合物を製造することができる。 イソシアネート化剤:ホスゲン、トリクロロメチルクロ
ロホルメート、オキザリルクロライド等 イソシアネート化剤の量:一般式[XXXII]で示さ
れる化合物1モルに対して1モル〜過剰量の割合 溶媒:ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、クロ
ロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、酢酸エチ
ル等のエステル類等 反応温度:室温〜還流温度 反応時間:瞬時〜48時間 反応終了後は、反応液をそのまま濃縮する等の後処理操
作を行ない、目的物を得ることができる。該化合物は再
結晶等の操作によって精製することもできる。 〈工程A7−3〉:一般式[XXXII]で示される化
合物から、一般式[XXXIV]で示される化合物を製
造する工程 一般式[XXXIV]で示される化合物は、一般式[X
XXII]で示される化合物から特開昭63−4146
6号公報等に記載の公知の方法に準じた方法により製造
することが出来る。具体的には、一般式[XXXII]
で示される化合物と一般式[b−4]
Embedded image [Wherein R 1 , R 4 , R 5 , R 7 , R 17 , W, X 1 , X 2 , X
3 and X 4 represent the same meaning as described above, and R 18 represents C1 to C6
R 19 represents a C1-C6 alkyl group (eg, a methyl group, an ethyl group, etc.); <Step A7-1>: Step of producing a compound represented by the general formula [XXXII] from a compound represented by the general formula [XXXVI]
XXXVI] is represented by the general formula [XXXVI]
After converting into the compound represented by the formula [I], the compound represented by the general formula [XXX]
VIII],
Can be manufactured. (Bio-Organic and
Medicinal Chemistry Letters Volume 5, 1035
Page, (1995)) <Step A7-2>: Step of producing compound represented by general formula [XXXIII] from compound represented by general formula [XXXII] The compound represented by general formula [XXXIII] is a compound represented by the general formula From the compound represented by the formula [XXXII]
It can be produced by a method according to a known method described in JP-A-466-466 or the like. Specifically, the general formula [XXXI
The compound represented by the general formula [XXXIII] can be obtained by isocyanating the compound of the formula [I] in a solvent or without solvent.
Can be produced. Isocyanating agent: phosgene, trichloromethyl chloroformate, oxalyl chloride, etc. Amount of isocyanating agent: 1 mole to excess amount per mole of compound represented by general formula [XXXII] Solvent: benzene, toluene, etc. Aromatic hydrocarbons, halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as ethyl acetate, etc. Reaction temperature: room temperature to reflux temperature Reaction time: instantaneous to 48 hours After completion of the reaction, the reaction solution is directly concentrated, etc. By performing the post-processing operation, the target product can be obtained. The compound can be purified by an operation such as recrystallization. <Step A7-3>: Step of producing compound represented by general formula [XXXIV] from compound represented by general formula [XXXII]
XXII] to JP-A-63-4146.
It can be produced by a method according to a known method described in, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 6-64. Specifically, the general formula [XXXII]
And a compound represented by the general formula [b-4]

【化28】 [式中、R18およびX12は前記と同じ意味を表す。]で
示される化合物とを、塩基の存在下に反応させることに
より一般式[XXXIV]で示される化合物を製造する
ことができる。該反応は、通常溶媒中で行われるが、無
溶媒でも行われる。反応温度の範囲は−20〜200℃
の範囲である。反応温度の範囲は瞬時〜48時間であ
る。該反応に供される一般式[b−4]で示される化合
物の量は、一般式[XXXII]で示される化合物1モ
ルに対して0.5モル〜過剰量の割合であり、好ましく
は1.0〜1.2モルの割合である。該反応に供される
塩基の量は、一般式[XXXII]で示される化合物1
モルに対して0.5モル〜過剰量の割合であり、好まし
くは1.0〜1.2モルの割合である。塩基としては、
炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム等の無機塩基、ピリ
ジン、4−ジメチルアミノピリジン、N,N−ジメチル
アニリン、N,N−ジエチルアニリン、トリエチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基があげら
れる。溶媒としては、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン
化炭化水素類、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサ
ン等のエ−テル類、アセトニトリル等のニトリル類、酢
酸エチル等のエステル類、水あるいはそれらの混合物等
があげられる。反応終了後の反応液は、濾過した後にそ
のまま濃縮するか、反応液を水に注加して生じた結晶を
濾取するか、反応液を水に注加した後に有機溶媒抽出お
よび濃縮等の通常の後処理操作に付し、目的物を得るこ
とができる。尚、該化合物はクロマトグラフィー、再結
晶等の操作によって精製することも可能である。
Embedded image [Wherein, R 18 and X 12 represent the same meaning as described above. The compound represented by the general formula [XXXIV] can be produced by reacting the compound represented by the general formula [XXXIV] with the compound represented by the general formula [XXXIV]. The reaction is usually performed in a solvent, but also without a solvent. The reaction temperature range is -20 to 200 ° C
Range. The reaction temperature range is from instant to 48 hours. The amount of the compound represented by the general formula [b-4] to be subjected to the reaction is from 0.5 mol to an excess amount per 1 mol of the compound represented by the general formula [XXXII], preferably 1 0.0 to 1.2 moles. The amount of the base to be subjected to the reaction is determined by the amount of the compound 1 represented by the general formula [XXXII].
The ratio is from 0.5 mol to an excess amount, preferably from 1.0 to 1.2 mol, per mol. As the base,
Examples include inorganic bases such as sodium carbonate and sodium hydroxide, and organic bases such as pyridine, 4-dimethylaminopyridine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, triethylamine and diisopropylethylamine. Examples of the solvent include aliphatic halogenated hydrocarbons such as chloroform, ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane, nitriles such as acetonitrile, esters such as ethyl acetate, water, and mixtures thereof. Can be After completion of the reaction, the reaction solution is filtered and concentrated as it is, or the reaction solution is poured into water and the resulting crystals are collected by filtration, or the reaction solution is poured into water and then subjected to organic solvent extraction and concentration. The target product can be obtained by performing ordinary post-processing operations. The compound can be purified by an operation such as chromatography and recrystallization.

【0031】〈工程A7−4〉:一般式[XXXII
I]で示される化合物から、一般式[XXXIX]で示
される化合物を製造する工程 一般式[XXXIX]で示される化合物は、一般式[X
XXIII]で示される化合物と一般式[XXXV]で
示される化合物とから特開昭63−41466号公報等
に記載の公知の方法に準じた方法により製造することが
出来る。具体的には、一般式[XXXIII]で示され
る化合物と一般式[XXXV]で示される化合物とを溶
媒中、塩基の存在下に反応させることにより一般式[X
XXIX]で示される化合物を製造することができる。 一般式[XXXV]で示される化合物の量:一般式[X
XXIII]で示される化合物1モルに対して0.9〜
10モルの割合 塩基の種類:水素化ナトリウム等の無機塩基類、ナトリ
ウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等の金属アルコ
キシド類等 塩基の量:一般式[XXXIII]で示される化合物1
モルに対して0.1〜10モルの割合 溶媒:ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、クロ
ロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、N,N−
ジメチルホルムアミド等のアミド類、テトラヒドロフラ
ン等のエーテル類、クロロホルム等のハロゲン化脂肪族
炭化水素類、ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物およ
びそれら混合物等 反応温度:−40℃〜溶媒還流温度 反応時間:瞬時〜72時間 反応終了後の反応液は、濾過した後にそのまま濃縮する
か、反応液に酸を注加して生じた結晶を濾取するか、反
応液に酸を注加した後に有機溶媒抽出および濃縮する等
の後処理操作に付し、目的物を得ることができる。加え
る酸としては、塩酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、p−ト
ルエンスルホン酸、あるいはそれらの水溶液等があげら
れる。得られた一般式[XXXIX]で示される化合物
は、単離等の後処理を行うことなく、(製造法6)記載
の方法に準じて一般式[XXXX]で示される化合物と
反応させることにより、本発明化合物を製造することも
できる。
<Step A7-4>: General formula [XXXII]
Step of producing a compound represented by the general formula [XXXIX] from a compound represented by the general formula [XXXIX]
XXIII] and a compound represented by the general formula [XXXV] by a method according to a known method described in JP-A-63-41466 and the like. Specifically, by reacting a compound represented by the general formula [XXXIII] with a compound represented by the general formula [XXXV] in a solvent in the presence of a base,
XXIX] can be produced. Amount of compound represented by general formula [XXXV]: general formula [X
XXIII], relative to 1 mole of the compound
10 mol ratio Type of base: Inorganic base such as sodium hydride, metal alkoxide such as sodium methoxide, sodium ethoxide, etc. Amount of base: Compound 1 represented by general formula [XXXIII]
Solvent: aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, N, N-
Amides such as dimethylformamide, ethers such as tetrahydrofuran, halogenated aliphatic hydrocarbons such as chloroform, sulfur compounds such as dimethylsulfoxide, and mixtures thereof. Reaction temperature: -40 ° C to solvent reflux temperature Reaction time: instantaneous to 72 Time After the reaction, the reaction solution is filtered and concentrated as it is, or the reaction solution is poured into an acid to collect crystals, or the reaction solution is poured into an acid and then extracted with an organic solvent and concentrated. And the like to obtain the desired product. Examples of the acid to be added include hydrochloric acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, p-toluenesulfonic acid, and an aqueous solution thereof. The obtained compound represented by the general formula [XXXIX] is reacted with the compound represented by the general formula [XXXXXX] according to the method described in (Production method 6) without performing post-treatment such as isolation. The compound of the present invention can also be produced.

【0032】〈工程A7−5〉:一般式[XXXIV]
で示される化合物から、一般式[XXXIX]で示され
る化合物を製造する工程 一般式[XXXIX]で示される化合物は、一般式[X
XXIV]で示される化合物と一般式[XXXV]で示
される化合物から特開昭63−41466号公報等に記
載の公知の方法に準じた方法により製造することが出来
る。具体的には、一般式[XXXIV]で示される化合
物と一般式[XXXV]で示される化合物とを、塩基の
存在下に反応させることにより一般式[XXXIX]で
示される化合物を製造することができる。該反応は、通
常溶媒中で行われ、反応温度の範囲は−20〜200℃
であり、好ましくは0〜130℃である。反応時間の範
囲は通常瞬時〜72時間である。該反応に供される一般
式[XXXV]で示される化合物の量は、一般式[XX
XIV]で示される化合物1モルに対して0.5モル〜
過剰量の割合であり、好ましくは0.8〜1.2モルの
割合である。該反応に供される塩基の量は、一般式[X
XXIV]で示される化合物に対して0.5当量〜過剰
量の割合であり、好ましくは0.8〜1.2当量の割合
である。塩基としては、4−ジメチルアミノピリジン、
ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、カリウムt−ブトキシド等の金属アルコキシ
ドがあげられる。溶媒としては、アセトン、メチルイソ
ブチルケトン等のケトン類、ヘキサン、ヘプタン、石油
エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
エチルベンゼン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化
水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、
1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレング
リコ−ルジメチルエ−テル、メチル−t−ブチルエ−テ
ル等のエ−テル類、N,N−ジメチルホルムアミド、
N,N−ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ピリジ
ン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニ
リン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン
等の第三級アミン、ジメチルスルホキシド、スルホラン
等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物等があげられ
る。反応終了後の反応液は、濾過した後にそのまま濃縮
するか、反応液に酸を注加して生じた結晶を濾取する
か、反応液に酸を注加した後に有機溶媒抽出および濃縮
する等の後処理操作に付し、目的物を得ることができ
る。加える酸としては、塩酸、酢酸、トリフルオロ酢
酸、p−トルエンスルホン酸、あるいはそれらの水溶液
等があげられる。尚、該化合物はクロマトグラフィー、
再結晶等の操作によって精製することも可能である。得
られた一般式[XXXIX]で示される化合物は、単離
等の後処理を行うことなく、(製造法6)記載の方法に
準じて一般式[XXXX]で示される化合物と反応させ
ることにより、本発明化合物を製造することもできる。
<Step A7-5>: General formula [XXXIV]
For preparing a compound represented by the general formula [XXXIX] from a compound represented by the general formula [XXXIX]
XXIV] and a compound represented by the general formula [XXXV] can be produced by a method according to a known method described in JP-A-63-41466 and the like. Specifically, it is possible to produce a compound represented by the general formula [XXXIX] by reacting a compound represented by the general formula [XXXIV] and a compound represented by the general formula [XXXV] in the presence of a base. it can. The reaction is usually performed in a solvent, and the reaction temperature is in a range of −20 to 200 ° C.
And preferably 0 to 130 ° C. The range of the reaction time is usually from instant to 72 hours. The amount of the compound represented by the general formula [XXXV] to be subjected to the reaction is determined according to the general formula [XX]
XIV], relative to 1 mole of the compound represented by the formula
It is a ratio of an excess amount, preferably a ratio of 0.8 to 1.2 mol. The amount of the base subjected to the reaction is represented by the general formula [X
XXIV], in a ratio of 0.5 equivalent to an excess amount, preferably 0.8 to 1.2 equivalent. As the base, 4-dimethylaminopyridine,
Organic bases such as diisopropylethylamine; inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydride, and potassium hydride; and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, and potassium t-butoxide. As the solvent, acetone, ketones such as methyl isobutyl ketone, hexane, heptane, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether, benzene, toluene,
Aromatic hydrocarbons such as ethylbenzene, xylene and mesitylene, diethyl ether, diisopropyl ether,
Ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, methyl tert-butyl ether, N, N-dimethylformamide,
Acid amides such as N, N-dimethylacetamide, tertiary amines such as pyridine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, triethylamine and diisopropylethylamine; sulfur compounds such as dimethylsulfoxide and sulfolane; And the like. After completion of the reaction, the reaction solution is filtered and concentrated as it is, a crystal formed by pouring an acid into the reaction solution is collected by filtration, or an organic solvent is extracted and concentrated after pouring the acid into the reaction solution. After that, the desired product can be obtained. Examples of the acid to be added include hydrochloric acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, p-toluenesulfonic acid, and an aqueous solution thereof. The compound was obtained by chromatography,
Purification can also be performed by an operation such as recrystallization. The obtained compound represented by the general formula [XXXIX] is reacted with the compound represented by the general formula [XXXXXX] according to the method described in (Production method 6) without performing post-treatment such as isolation. The compound of the present invention can also be produced.

【0033】(中間体製造法8)一般式[III]で示
される化合物のうち、 YおよびWが酸素原子または硫
黄原子である化合物は、以下のスキームに記載の方法に
より製造することもできる。
(Intermediate Production Method 8) Among the compounds represented by the general formula [III], those in which Y and W are an oxygen atom or a sulfur atom can also be produced by the method described in the following scheme.

【化29】 [式中、R1、R2、R15、R16、R17、X2、X3および
4は前記と同じ意味を表し、R20はメチル基、エチル
基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基等の置
換されていてもよいC1〜C6アルキル基を表し、R26
はメチル基、エチル基等の置換されてもよいC1−C6
アルキル基、フェニル基等の置換されてもよいフェニル
基またはベンジル基等の置換されてもよいフェニルC1
−C6アルキル基を表し、X13はニトロ基、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。]
Embedded image [Wherein R 1 , R 2 , R 15 , R 16 , R 17 , X 2 , X 3 and X 4 have the same meanings as described above, and R 20 represents a methyl group, an ethyl group, a trifluoromethyl group, a trichloro group. It represents optionally substituted C1~C6 alkyl group such as a methyl group, R 26
Is a C1-C6 which may be substituted such as a methyl group or an ethyl group.
An optionally substituted phenyl group such as an alkyl group or a phenyl group or an optionally substituted phenyl group such as a benzyl group
X 13 represents a nitro group, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom. ]

【0034】〈工程A8−1〉:一般式[a−1]で示
される化合物から、一般式[a−2]で示される化合物
を製造する工程 一般式[a−2]で示される化合物は、例えば「有機化
学実験の手引き」4巻(化学同人社刊)、Protective G
roups in Organic Synthesis(A Wiley-Interscience p
ublication社刊)に記載の方法に準じて、一般式[a−
1]で示される化合物を脱保護させることにより、また
は以下に記載の方法により製造することが出来る。反応
は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲
は0〜200℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜2
4時間である。反応に供される試剤の量は、一般式[a
−1]で示される化合物1モルに対して、試剤は1モル
の割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変化
させることができる。用いられる試剤としては、三フッ
化ホウ素ジエチルエーテル錯体、三フッ化ホウ素メタノ
ール錯体、トリエチルオキソニウムテトラフルオロボレ
ート等が挙げられる。用いられる溶媒としては、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン、リグロイン等の脂肪族炭化水
素類、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレ
ン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、
クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、
1,2,3−トリクロロプロパン等の脂肪族ハロゲン化
炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベン
ゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、
1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレング
リコ−ルジメチルエ−テル、メチル−t−ブチルエ−テ
ル等のエ−テル類、メタノール、エタノール等のアルコ
ール類あるいはそれらの混合物等が挙げられる。反応終
了後は、反応液を水に注加し、析出した結晶を濾取し乾
燥するか、若しくは有機溶媒で抽出し有機層を乾燥し濃
縮するか、あるいは反応液をそのまま濃縮する等の後処
理操作を行ない、目的の化合物を得ることができる。該
化合物は再結晶、クロマトグラフィ−等の操作によって
精製することもできる。
<Step A8-1>: Step of producing a compound represented by the general formula [a-2] from a compound represented by the general formula [a-1] For example, "Guide to Organic Chemistry Experiments" Vol. 4 (published by Kagaku Dojinsha), Protective G
roups in Organic Synthesis (A Wiley-Interscience p
ublication) according to the general formula [a-
It can be produced by deprotecting the compound represented by 1) or by the method described below. The reaction is usually carried out without a solvent or in a solvent, the reaction temperature is in the range of 0 to 200 ° C, and the reaction time is usually in the range of instant to 2 hours.
4 hours. The amount of the reagent used for the reaction is represented by the general formula [a
The theoretical amount of the reagent is 1 mole with respect to 1 mole of the compound represented by the formula [-1], but can be arbitrarily changed depending on the reaction situation. Examples of the reagent used include boron trifluoride diethyl ether complex, boron trifluoride methanol complex, and triethyloxonium tetrafluoroborate. As the solvent used, hexane, heptane, octane, aliphatic hydrocarbons such as ligroin, benzene, toluene, ethylbenzene, xylene, aromatic hydrocarbons such as mesitylene, methylene chloride,
Chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane,
Aliphatic halogenated hydrocarbons such as 1,2,3-trichloropropane, aromatic halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, dichlorobenzene and benzotrifluoride;
Ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and methyl tert-butyl ether; alcohols such as methanol and ethanol; and mixtures thereof. After completion of the reaction, the reaction solution is poured into water, and the precipitated crystals are collected by filtration and dried, or extracted with an organic solvent and the organic layer is dried and concentrated, or the reaction solution is directly concentrated. By performing the treatment operation, the desired compound can be obtained. The compound can be purified by an operation such as recrystallization or chromatography.

【0035】〈工程A8−2〉:一般式[a−2]で示
される化合物から、一般式[a−3]で示される化合物
を製造する工程 一般式[a−3]で示される化合物は、一般式[a−
2]で示される化合物と一般式[b−1]
<Step A8-2>: Step of producing a compound represented by the general formula [a-3] from a compound represented by the general formula [a-2] The compound represented by the general formula [a-3] The general formula [a-
2] and a general formula [b-1]

【化30】 [式中、 R26およびX12は前記と同じ意味を表す。]
で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させること
により製造することができる。該反応は、通常溶媒中で
行うが、無溶媒でも行うことができる。反応温度の範囲
は−20〜200℃の範囲である。反応温度の範囲は瞬
時〜48時間である。該反応に供される一般式[b−
1]で示される化合物の量は、一般式[a−2]で示さ
れる化合物1モルに対して、0.5モル〜過剰量の割合
であり、好ましくは1.0〜1.2モルの割合である。
該反応に供される塩基の量は、一般式[a−2]で示さ
れる化合物に対して0.5当量〜過剰量の割合であり、
好ましくは1.0〜1.2当量の割合である。塩基とし
ては、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム等の無機塩
基、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、N,N−
ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、トリエ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基
があげられる。溶媒としては、クロロホルム等の脂肪族
ハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、1,4−
ジオキサン等のエ−テル類、アセトニトリル等のニトリ
ル類、酢酸エチル等のエステル類、水あるいはそれらの
混合物等があげられる。反応終了後の反応液は、濾過し
た後にそのまま濃縮するか、反応液を水に注加して生じ
た結晶を濾取するか、反応液を水に注加した後に有機溶
媒抽出および濃縮する等の通常の後処理操作に付し、目
的化合物を得ることができる。尚、該目的化合物はクロ
マトグラフィー、再結晶等の操作によって精製すること
も可能である。
Embedded image [Wherein, R 26 and X 12 represent the same meaning as described above. ]
Can be produced by reacting with a compound represented by the formula in the presence of a base. The reaction is usually performed in a solvent, but can be performed without a solvent. The reaction temperature ranges from -20 to 200C. The reaction temperature range is from instant to 48 hours. The general formula [b-
The amount of the compound represented by the formula [1] is from 0.5 mol to an excess amount, preferably from 1.0 to 1.2 mol, per 1 mol of the compound represented by the general formula [a-2]. Percentage.
The amount of the base used in the reaction is a ratio of 0.5 equivalent to an excess amount of the compound represented by the general formula [a-2],
Preferably, the ratio is 1.0 to 1.2 equivalents. Examples of the base include inorganic bases such as sodium carbonate and sodium hydroxide, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, N, N-
Organic bases such as dimethylaniline, N, N-diethylaniline, triethylamine, diisopropylethylamine and the like can be mentioned. As the solvent, aliphatic halogenated hydrocarbons such as chloroform, tetrahydrofuran, 1,4-
Examples include ethers such as dioxane, nitriles such as acetonitrile, esters such as ethyl acetate, water, and mixtures thereof. After completion of the reaction, the reaction solution is filtered and concentrated as it is, the reaction solution is poured into water to collect crystals, or the reaction solution is poured into water and then extracted with an organic solvent and concentrated. To give the desired compound. The target compound can be purified by an operation such as chromatography and recrystallization.

【0036】〈工程A8−3〉:一般式[a−3]で示
される化合物から、一般式[a−5]で示される化合物
を製造する工程 一般式[a−5]で示される化合物は、一般式[a−
3]で示される化合物と一般式[XXXV]で示される
化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造
することができる。該反応は、通常溶媒中で行われ、反
応温度の範囲は−20〜200℃であり、好ましくは0
〜130℃である。反応時間の範囲は通常瞬時〜72時
間である。該反応に供される一般式[XXXV]で示さ
れる化合物の量は、一般式[a−3]で示される化合物
1モルに対して0.5モル〜過剰量の割合であり、好ま
しくは0.8〜1.2モルの割合である。該反応に供さ
れる塩基の量は、一般式[a−3]で示される化合物に
対して0.5当量〜過剰量の割合であり、好ましくは
0.8〜1.2当量の割合である。塩基としては、4−
ジメチルアミノピリジン、ジイソプロピルエチルアミン
等の有機塩基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化
ナトリウム、水素化カリウム等の無機塩基、ナトリウム
メトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブト
キシド等の金属アルコキシドがあげられる。溶媒として
は、アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、
ヘキサン、ヘプタン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素
類、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、
メシチレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、1,4−ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、
メチル−t−ブチルエ−テル等のエ−テル類、ニトロメ
タン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、N,N−ジメ
チルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等の
酸アミド類、ピリジン、N,N−ジメチルアニリン、
N,N−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、ジイソ
プロピルエチルアミン等の第三級アミン、ジメチルスル
ホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれら
の混合物等があげられる。反応終了後の反応液は、濾過
した後にそのまま濃縮するか、反応液に酸を注加して生
じた結晶を濾取するか、反応液に酸を注加した後に有機
溶媒抽出および濃縮する等の後処理操作に付し、目的物
を得ることができる。その際に使用する酸としては、塩
化水素、酢酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホ
ン酸、あるいはそれらの水溶液等があげられる。尚、該
化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって
精製することも可能である。なお、一般式[a−5]で
示される化合物は、単離することなくそのまま次工程の
反応に供することもできる。
<Step A8-3>: Step of producing a compound represented by the general formula [a-5] from a compound represented by the general formula [a-3] The compound represented by the general formula [a-5] The general formula [a-
3] and a compound represented by the general formula [XXXV] in the presence of a base. The reaction is usually performed in a solvent, and the reaction temperature is in a range of -20 to 200 ° C, preferably 0 to 200 ° C.
~ 130 ° C. The range of the reaction time is usually from instant to 72 hours. The amount of the compound represented by the general formula [XXXV] to be subjected to the reaction is 0.5 mol to an excess amount, preferably 0 mol, per 1 mol of the compound represented by the general formula [a-3]. 0.8 to 1.2 moles. The amount of the base to be subjected to the reaction is in a ratio of 0.5 equivalent to an excess amount, preferably 0.8 to 1.2 equivalent, relative to the compound represented by the general formula [a-3]. is there. As the base, 4-
Organic bases such as dimethylaminopyridine and diisopropylethylamine; inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydride and potassium hydride; and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide. As the solvent, acetone, ketones such as methyl isobutyl ketone,
Hexane, heptane, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether, benzene, toluene, ethylbenzene, xylene,
Aromatic hydrocarbons such as mesitylene, diethyl ether,
Diisopropyl ether, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether,
Ethers such as methyl-t-butyl ether; nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene; acid amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; pyridine; N, N-dimethylaniline;
Examples include tertiary amines such as N, N-diethylaniline, triethylamine and diisopropylethylamine, sulfur compounds such as dimethylsulfoxide and sulfolane, and mixtures thereof. After completion of the reaction, the reaction solution is filtered and concentrated as it is, a crystal formed by pouring an acid into the reaction solution is collected by filtration, or an organic solvent is extracted and concentrated after pouring the acid into the reaction solution. After that, the desired product can be obtained. Examples of the acid used at this time include hydrogen chloride, acetic acid, trifluoroacetic acid, p-toluenesulfonic acid, and an aqueous solution thereof. The compound can be purified by an operation such as chromatography and recrystallization. The compound represented by the general formula [a-5] can be directly used in the next step without isolation.

【0037】〈工程A8−4〉:一般式[a−2]で示
される化合物から、一般式[a−4]で示される化合物
を製造する工程 一般式[a−4]で示される化合物は、一般式[a−
2]で示される化合物を溶媒中、または無溶媒にて、イ
ソシアネート化剤と反応させることにより、イソシアネ
ート化することにより製造することができる。 イソシアネート化剤:ホスゲン、トリクロロメチルクロ
ロホルメート、オキザリルクロライド等 イソシアネート化剤の量:一般式[a−2]で示される
化合物1モルに対して1モル〜過剰量の割合 溶媒:ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、クロ
ロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、酢酸エチ
ル等のエステル類等 反応温度:室温〜還流温度 反応時間:瞬時〜48時間 反応終了後の反応液は、反応液をそのまま濃縮する等の
後処理操作を行ない、目的物を得ることができる。該化
合物は再結晶等の操作によって精製することもできる。
<Step A8-4>: Step of producing a compound represented by the general formula [a-4] from a compound represented by the general formula [a-2] The compound represented by the general formula [a-4] The general formula [a-
It can be produced by reacting a compound represented by 2) with an isocyanate agent in a solvent or in the absence of a solvent to form isocyanate. Isocyanating agent: phosgene, trichloromethylchloroformate, oxalyl chloride, etc. Amount of isocyanating agent: 1 mol to excess amount per 1 mol of compound represented by general formula [a-2] Solvent: benzene, toluene Aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as ethyl acetate, etc. Reaction temperature: room temperature to reflux temperature Reaction time: instantaneous to 48 hours The desired product can be obtained by performing post-treatment operations such as concentration of the compound as it is. The compound can be purified by an operation such as recrystallization.

【0038】〈工程A8−5〉:一般式[a−4]で示
される化合物から、一般式[a−5]で示される化合物
を製造する工程 一般式[a−5]で示される化合物は、一般式[a−
4]で示される化合物と一般式[XXXV]で示される
化合物とを溶媒中、塩基の存在下に反応させることによ
り製造することができる。 一般式[XXXV]で示される化合物の量:一般式[a
−4]で示される化合物1モルに対して0.9〜10モ
ルの割合 塩基の種類:水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸
化ナトリウム等の無機塩基類、ナトリウムメトキシド、
ナトリウムエトキシド等の金属アルコキシド類等 塩基の量:一般式[a−4]で示される化合物1モルに
対して0.1〜10モルの割合 溶媒:ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、クロ
ロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、N,N−
ジメチルホルムアミド等のアミド類、テトラヒドロフラ
ン等のエーテル類、クロロホルム等のハロゲン化脂肪族
炭化水素類、ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物およ
びそれら混合物等 反応温度:−40℃〜溶媒還流温度 反応時間:瞬時〜72時間 反応終了後の反応液は、中和した後に水に注加し、析出
した結晶を濾取し乾燥するか、有機溶媒にて抽出し該有
機層を乾燥し濃縮するか、あるいは、反応液をそのまま
濃縮する等の後処理操作を行ない、目的の化合物を得る
ことができる。該化合物は再結晶、クロマトグラフィ−
等の操作によって精製することもできる。なお、一般式
[a−5]で示される化合物は、単離することなくその
まま次工程の反応に供することもできる。
<Step A8-5>: Step of producing compound represented by general formula [a-5] from compound represented by general formula [a-4] The compound represented by general formula [a-5] The general formula [a-
4] and a compound represented by the general formula [XXXV] in a solvent in the presence of a base. Amount of compound represented by general formula [XXXV]: general formula [a
-4] in a ratio of 0.9 to 10 moles per mole of the compound represented by the formula: Kinds of bases: inorganic bases such as sodium hydride, potassium hydride, sodium hydroxide, sodium methoxide;
Metal alkoxides such as sodium ethoxide, etc. Amount of base: 0.1 to 10 mol based on 1 mol of compound represented by general formula [a-4] Solvent: aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene; Halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, N, N-
Amides such as dimethylformamide; ethers such as tetrahydrofuran; halogenated aliphatic hydrocarbons such as chloroform; sulfur compounds such as dimethylsulfoxide; and mixtures thereof. Time The reaction solution after completion of the reaction is neutralized and poured into water, and the precipitated crystals are collected by filtration and dried, or extracted with an organic solvent, and the organic layer is dried and concentrated. The target compound can be obtained by performing post-treatment operations such as concentration of the compound as it is. The compound is recrystallized, chromatographic
Purification can also be performed by such operations. The compound represented by the general formula [a-5] can be directly used in the next step without isolation.

【0039】〈工程A8−6〉:一般式[a−5]で示
される化合物から、一般式[a−6]で示される化合物
を製造する工程 一般式[a−6]で示される化合物は、一般式[a−
5]で示される化合物と一般式[XXXX]で示される
化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造
することができる。該反応は、通常溶媒中で行われ、反
応温度の範囲は−20〜200℃であり、好ましくは0
〜100℃である。反応時間の範囲は通常瞬時〜48時
間である。該反応に供される化合物[XXXX ]の量
は、一般式[a−5]で示される化合物1モルに対して
0.5モル〜過剰量の割合であり、好ましくは0.8〜
1.2モルの割合である。該反応に供される塩基の量
は、一般式[a−5]で示される化合物1モルに対して
0.5モル〜過剰量の割合であり、好ましくは0.8〜
1.2モルの割合である。塩基としては、ピリジン、4
−ジメチルアミノピリジン、N,N−ジメチルアニリ
ン、N,N−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、ジ
イソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム
等があげられる。溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、
オクタン、リグロイン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化
水素類、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレ
ン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、1,4−ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テ
ル、メチル−t−ブチルエ−テル等のエ−テル類、ニト
ロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド
等の酸アミド類、ピリジン、N,N−ジメチルアニリ
ン、N,N−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、ジ
イソプロピルエチルアミン等の第三級アミン、ジメチル
スルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、メタノー
ル、エタノール、エチレングリコール、イソプロパノー
ル、t−ブタノール等のアルコール類あるいはそれらの
混合物等があげられる。反応終了後の反応液は、濾過し
た後にそのまま濃縮するか、反応液を水に注加して生じ
た結晶を濾取するか、反応液を水に注加した後に有機溶
媒抽出および濃縮する等の通常の後処理操作に付し、目
的物を得ることができる。尚、該化合物はクロマトグラ
フィー、再結晶等の操作によって精製することも可能で
ある。
<Step A8-6>: Step of producing compound represented by general formula [a-6] from compound represented by general formula [a-5] The compound represented by general formula [a-6] is The general formula [a-
5] and a compound represented by the general formula [XXXX] in the presence of a base. The reaction is usually performed in a solvent, and the reaction temperature is in a range of -20 to 200 ° C, preferably 0 to 200 ° C.
100100 ° C. The range of the reaction time is usually from instant to 48 hours. The amount of the compound [XXXX] to be subjected to the reaction is from 0.5 mol to an excess amount, preferably from 0.8 mol to 1 mol of the compound represented by the general formula [a-5].
1.2 moles. The amount of the base used in the reaction is from 0.5 mol to an excess amount, preferably from 0.8 mol to 1 mol of the compound represented by the general formula [a-5].
1.2 moles. Pyridine, 4
Organic bases such as -dimethylaminopyridine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, triethylamine and diisopropylethylamine, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydride, potassium hydride and the like. Hexane, heptane,
Aliphatic hydrocarbons such as octane, ligroin and cyclohexane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, ethylbenzene, xylene and mesitylene, diethyl ether, diisopropyl ether, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether , Ethers such as methyl-t-butyl ether, nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene, N, N-
Acid amides such as dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; tertiary amines such as pyridine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, triethylamine and diisopropylethylamine; sulfur compounds such as dimethylsulfoxide and sulfolane And alcohols such as methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropanol and t-butanol, and mixtures thereof. After completion of the reaction, the reaction solution is filtered and concentrated as it is, the reaction solution is poured into water and crystals formed are collected, or the reaction solution is poured into water and then extracted with an organic solvent and concentrated. To give the desired product. The compound can be purified by an operation such as chromatography and recrystallization.

【0040】〈工程A8−7〉:一般式[a−6]で示
される化合物から、一般式[a−7]で示される化合物
を製造する工程 一般式[a−7]で示される化合物は、Protective Gro
ups in Organic Synthesis(A Wiley-Interscience pub
lication社刊)に記載の方法に準じて、一般式[a−
6]で示される化合物を、ボロントリブロミド、HBr
/酢酸、濃塩酸または濃硫酸等を用いて脱保護させるこ
とにより、製造することができる。尚、一般式[a−
6]で示される化合物のうち、R16がベンジル基である
化合物の場合は、触媒の存在下に水素添加により脱保護
させることにより、製造することもできる。該反応は、
通常溶媒中で行われる。反応温度の範囲は通常−20〜
150℃であり、好ましくは0〜50℃である。反応時
間の範囲は通常瞬時〜48時間である。該反応は加圧条
件下に行うこともでき、通常1〜5気圧の条件下に反応
を行う。該反応に供される触媒の量は、一般式[a−
6]で示される化合物の0.001〜100重量%であ
る。反応に供される触媒としては、無水パラジウム/炭
素、含水パラジウム/炭素、酸化白金等があげられる。
溶媒としてはギ酸、酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸
類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチ
ル等のエステル類、1,4−ジオキサン、テトラヒドロ
フラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル等のエ−
テル類、メタノール、エタノール、イソプロパノール等
のアルコール類、水あるいはそれらの混合物等があげら
れる。反応終了後の反応液は、濾過した後にそのまま濃
縮するか、反応液を水に注加して生じた結晶を濾取する
か、反応液を水に注加した後に有機溶媒抽出および濃縮
する等の通常の後処理操作に付し、目的物を得ることが
できる。該目的物はクロマトグラフィー、再結晶等の操
作によって精製することも可能である。
<Step A8-7>: Step of producing compound represented by general formula [a-7] from compound represented by general formula [a-6] The compound represented by general formula [a-7] is as follows: , Protective Gro
ups in Organic Synthesis (A Wiley-Interscience pub
lication company) according to the general formula [a-
6] with boron tribromide, HBr
/ Can be produced by deprotection using acetic acid, concentrated hydrochloric acid or concentrated sulfuric acid. The general formula [a-
In the case where R 16 is a benzyl group among the compounds represented by 6], the compound can also be produced by deprotection by hydrogenation in the presence of a catalyst. The reaction is
It is usually performed in a solvent. The reaction temperature range is usually -20 to
The temperature is 150 ° C, preferably 0 to 50 ° C. The range of the reaction time is usually from instant to 48 hours. The reaction can be carried out under a pressurized condition, and is usually carried out under a condition of 1 to 5 atm. The amount of the catalyst used for the reaction is represented by the general formula [a-
6] in the range of 0.001 to 100% by weight. Examples of the catalyst used for the reaction include anhydrous palladium / carbon, hydrated palladium / carbon, platinum oxide and the like.
Examples of the solvent include carboxylic acids such as formic acid, acetic acid and propionic acid, esters such as ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate and diethyl carbonate, and ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran and ethylene glycol dimethyl ether.
Examples thereof include ters, alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol, water, and mixtures thereof. After completion of the reaction, the reaction solution is filtered and concentrated as it is, the reaction solution is poured into water and crystals formed are collected, or the reaction solution is poured into water and then extracted with an organic solvent and concentrated. To give the desired product. The target product can be purified by an operation such as chromatography and recrystallization.

【0041】(中間体製造法9)一般式[a−1]で示
される化合物は、以下のスキームに記載の方法により製
造することもできる。
(Intermediate Production Method 9) The compound represented by the general formula [a-1] can also be produced by the method described in the following scheme.

【化31】 [式中、R7、R15、R16、R17、R20、X2、X3、X4
およびX12は前記と同じ意味を表す。]
Embedded image [Wherein, R 7 , R 15 , R 16 , R 17 , R 20 , X 2 , X 3 , X 4
And X 12 have the same meaning as described above. ]

【0042】〈工程A9−1〉:一般式[a−8]で示
される化合物から、一般式[a−9]で示される化合物
を製造する工程 一般式[a−9]で示される化合物は、一般式[a−
8]で示される化合物と一般式[XV]で示される化合
物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造する
ことができる。該反応は、通常無溶媒または溶媒中で行
われ、反応温度の範囲は0〜200℃であり、反応時間
の範囲は通常瞬時〜24時間である。反応に供される試
剤の量は、一般式[a−8]で示される化合物1モルに
対して、一般式[XV]で示される化合物は1モルの割
合、塩基は1モルの割合が理論量であるが、反応の状況
により任意に変化させることができる。用いられる塩基
としては、ピリジン、キノリン、ベンジルジメチルアミ
ン、フェネチルジメチルアミン、N−メチルモルホリ
ン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデック
−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノ
ン−5−エン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]
オクタン、4−ジメチルアミノピリジン、N,N−ジメ
チルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、トリエチル
アミン、トリ−n−プロピルアミン、トリイソプロピル
アミン、トリ−n−ブチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン等の有機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシド、カリウムt−ブトキシド等の金属アル
コキシド、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリ
ウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等の無機塩基
が挙げられる。用いられる溶媒としては、例えばn−ヘ
キサン、n−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、
石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハ
ロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチル
エーテル、ジグライム等のエーテル類、アセトン、2−
ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、蟻酸
エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエ
ステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化
合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリ
ル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチ
ルアセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシ
ド、スルホラン等の硫黄化合物、メタノール、エタノー
ル、エチレングリコール、イソプロパノール、t−ブタ
ノール等のアルコール類、あるいはそれらの混合物が挙
げられる。反応終了後は、例えば、以下の1)または
2)に示す操作により、目的物を得ることができる。 1)反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該
有機層を乾燥、濃縮する。 2)反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じ
て濾過し、該濾液を濃縮する。 なお、該目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操
作によって精製することも可能である。
<Step A9-1>: Step of producing a compound represented by the general formula [a-9] from a compound represented by the general formula [a-8] The compound represented by the general formula [a-9] The general formula [a-
8] and a compound represented by the general formula [XV] in the presence of a base. The reaction is usually performed without a solvent or in a solvent, the reaction temperature is in the range of 0 to 200 ° C, and the reaction time is usually in the range of instant to 24 hours. The amount of the reagent used in the reaction is based on 1 mol of the compound represented by the general formula [a-8] and 1 mol of the compound represented by the general formula [XV] and 1 mol of the base are theoretically. The amount can be arbitrarily changed depending on the reaction situation. As the base to be used, pyridine, quinoline, benzyldimethylamine, phenethyldimethylamine, N-methylmorpholine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene, 1,5-diazabicyclo [4.3 .0] non-5-ene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2]
Organic bases such as octane, 4-dimethylaminopyridine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, triethylamine, tri-n-propylamine, triisopropylamine, tri-n-butylamine and diisopropylethylamine, sodium methoxy Metal alkoxides such as sodium ethoxide, potassium t-butoxide, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydride, potassium hydride, lithium hydroxide, Inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, barium hydroxide and the like can be mentioned. As the solvent used, for example, n-hexane, n-heptane, ligroin, cyclohexane,
Aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, chlorobenzene,
Aromatic halogenated hydrocarbons such as dichlorobenzene and benzotrifluoride, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dioxane, ethers such as tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, diglyme, acetone, 2-
Ketones such as butanone and methyl isobutyl ketone; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate and diethyl carbonate; nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene; nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile; N, N-dimethyl Examples thereof include acid amides such as formamide and N, N-dimethylacetamide, sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, alcohols such as methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropanol and t-butanol, and mixtures thereof. After the completion of the reaction, the desired product can be obtained by, for example, the following operation 1) or 2). 1) The reaction solution is poured into water, extracted with an organic solvent, and the organic layer is dried and concentrated. 2) Concentrate the reaction solution as it is or, if necessary, filter and concentrate the filtrate. In addition, the target substance can be purified by an operation such as chromatography and recrystallization.

【0043】〈工程A9−2〉:一般式[a−9]で示
される化合物から、一般式[a−10]で示される化合
物を製造する工程 一般式[a−10]で示される化合物は、例えば一般式
[a−9]で示される化合物を溶媒中、酸存在下に鉄粉
にて還元することにより製造することができる。該反応
の、反応温度の範囲は0〜200℃であり、好ましくは
室温〜加熱還流である。反応時間の範囲は通常瞬時〜2
4時間である。反応に供される試剤の量は、一般式[a
−9]で示される化合物1モルに対して、鉄粉の量は3
モル〜過剰量の割合、酸は1〜10モルの割合である
が、反応の状況により任意に変化させることができる。
用いられる酸としては、酢酸等が挙げられる。用いられ
る溶媒としては、例えば水、酢酸、酢酸エチル等あるい
はそれらの混合物が挙げられる。反応終了後の反応液
は、直接または濾過した後、水に注加し、生じた結晶を
濾集するか、または、有機溶媒抽出、中和および濃縮等
の通常の後処理を行い、目的物を得ることができる。該
目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によっ
て精製することも可能である。
<Step A9-2>: Step of producing a compound represented by the general formula [a-10] from a compound represented by the general formula [a-9] The compound represented by the general formula [a-10] For example, it can be produced by reducing a compound represented by the general formula [a-9] with iron powder in a solvent in the presence of an acid. The reaction temperature of the reaction is from 0 to 200 ° C., preferably from room temperature to heating to reflux. The reaction time range is usually from instant to 2
4 hours. The amount of the reagent used for the reaction is represented by the general formula [a
-9], the amount of the iron powder is 3
The ratio of the mole to excess amount is 1 to 10 moles of the acid, but can be arbitrarily changed depending on the reaction situation.
As the acid to be used, acetic acid and the like can be mentioned. Examples of the solvent to be used include water, acetic acid, ethyl acetate and the like or a mixture thereof. After completion of the reaction, the reaction solution is directly or after filtration, poured into water, and the resulting crystals are collected by filtration or subjected to ordinary post-treatments such as extraction with an organic solvent, neutralization and concentration to give the desired product. Can be obtained. The target substance can be purified by an operation such as chromatography, recrystallization and the like.

【0044】〈工程A9−3〉:一般式[a−10]で
示される化合物から、一般式[a−11]で示される化
合物を製造する工程 一般式[a−11]で示される化合物は、i)一般式
[a−10]で示される化合物を溶媒中でジアゾ化した
後、ii)引き続き、ヨウ化カリウム、臭化銅(I)、
塩化銅(I)またはホウフッ化水素酸と溶媒中で反応さ
せることにより製造することができる。第1段階のジア
ゾ化反応は、反応温度の範囲は−20〜20℃であり、
反応時間の範囲は通常瞬時〜5時間である。反応に供さ
れる試剤の量は、一般式[a−10]で示される化合物
1モルに対して、ジアゾ化剤の量は1モルの割合が理論
量であるが、反応の状況により任意に変化させることが
できる。用いられるジアゾ化剤としては、亜硝酸ナトリ
ウム、亜硝酸カリウム、亜硝酸イソアミル、亜硝酸t−
ブチル等の亜硝酸化合物等が挙げられる。溶媒として
は、例えばアセトニトリル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、
水等あるいはそれらの混合物が挙げられる。反応終了後
の反応液は、そのまま次の反応に用いる。第2段階の反
応は、反応温度の範囲は0〜80℃であり、反応時間の
範囲は通常瞬時〜24時間である。反応に供される試剤
の量は、一般式[a−10]で示される化合物1モルに
対して、ヨウ化カリウム、臭化銅(I)、塩化銅(I)
またはホウフッ化水素酸の量は各々1〜3モルの割合で
あるが、反応の状況により任意に変化させることができ
る。尚、臭化銅[I]を用いる場合は、臭化銅[II]の存
在下に反応を行うこともでき、塩化銅[I]を用いる場合
は、塩化銅[II]の存在下に反応を行うこともできる。
溶媒としては、例えばアセトニトリル、ジエチルエーテ
ル、t−ブチルメチルエーテル、臭化水素酸、塩酸、硫
酸、水等あるいはそれらの混合物が挙げられる。反応終
了後の反応液は、(必要に応じて水を加えて)生じた結
晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出および濃縮等の
通常の後処理を行い、目的物を得ることができる。該目
的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって
精製することもできる。また、該反応は上記の方法に限
らず、ヨウ化カリウム、臭化銅(I)、塩化銅(I)ま
たはホウフッ化水素酸の存在下に、溶媒(例えばアセト
ニトリル、ジエチルエーテル、t−ブチルメチルエーテ
ル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、水等あるいはそれらの混
合物)中、一般式[a−10]で示される化合物とジア
ゾ化剤とを反応させることにより、製造することも可能
である。
<Step A9-3>: Step of producing compound represented by general formula [a-11] from compound represented by general formula [a-10] The compound represented by general formula [a-11] , I) diazotizing the compound represented by the general formula [a-10] in a solvent, and ii) subsequently, potassium iodide, copper (I) bromide,
It can be produced by reacting with copper (I) chloride or borofluoric acid in a solvent. The first stage diazotization reaction has a reaction temperature range of -20 to 20 ° C,
The range of the reaction time is usually from instant to 5 hours. The amount of the reagent to be subjected to the reaction is a theoretical amount of 1 mol per 1 mol of the compound represented by the general formula [a-10]. Can be changed. As the diazotizing agent used, sodium nitrite, potassium nitrite, isoamyl nitrite, t-nitrite
Nitrite compounds such as butyl and the like can be mentioned. As the solvent, for example, acetonitrile, hydrobromic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid,
Water and the like or a mixture thereof are mentioned. The reaction solution after completion of the reaction is used for the next reaction as it is. In the reaction of the second stage, the reaction temperature range is 0 to 80 ° C., and the reaction time range is usually instantaneous to 24 hours. The amount of the reagent used in the reaction is determined based on 1 mol of the compound represented by the general formula [a-10], based on potassium iodide, copper (I) bromide, and copper (I) chloride.
Alternatively, the amount of borofluoric acid is 1 to 3 moles each, but can be arbitrarily changed depending on the reaction situation. When copper [I] bromide is used, the reaction can be carried out in the presence of copper [II] bromide. When copper [I] chloride is used, the reaction can be carried out in the presence of copper [II] chloride. Can also be performed.
Examples of the solvent include acetonitrile, diethyl ether, t-butyl methyl ether, hydrobromic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, water, and the like, and mixtures thereof. After completion of the reaction, the reaction mixture is subjected to ordinary post-treatment such as filtration of the generated crystals (by adding water as necessary) or extraction with an organic solvent and concentration to obtain the desired product. . The target product can be purified by an operation such as chromatography, recrystallization and the like. In addition, the reaction is not limited to the above method, and a solvent (for example, acetonitrile, diethyl ether, t-butylmethyl Ether, hydrobromic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, water, etc. or a mixture thereof) to react the compound represented by the general formula [a-10] with a diazotizing agent.

【0045】(中間体製造法10)一般式[III]で
示される化合物のうち、X1がニトロ基、フッ素原子、
塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり、Yおよび
Wが酸素原子または硫黄原子である化合物は、以下のス
キームに記載の方法により製造することもできる。
(Intermediate Production Method 10) Of the compounds represented by the general formula [III], X 1 is a nitro group, a fluorine atom,
Compounds which are a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom and Y and W are an oxygen atom or a sulfur atom can also be produced by the method described in the following scheme.

【化32】 [式中、R1、R2、R7、R17、X2、X3、X4およびX
12は前記と同じ意味を表す。]
Embedded image [Wherein R 1 , R 2 , R 7 , R 17 , X 2 , X 3 , X 4 and X
12 has the same meaning as described above. ]

【0046】〈工程A10−1〉:一般式[XIV]で
示される化合物から、一般式[a−12]で示される化
合物を製造する工程 一般式[a−12]で示される化合物は、一般式[XI
V]で示される化合物と一般式[b−2]
<Step A10-1>: Step of producing a compound represented by the general formula [a-12] from a compound represented by the general formula [XIV] The compound represented by the general formula [a-12] is a compound represented by the general formula The formula [XI
V] and a general formula [b-2]

【化33】 [式中、R17、X3およびX4は前記と同じ意味を表
す。]で示される化合物とを、塩基の存在下に反応させ
ることにより製造することができる。該反応は、通常無
溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は0〜20
0℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜24時間であ
る。反応に供される試剤の量は、一般式[XIV]で示
される化合物1モルに対して、一般式[b−2]で示さ
れる化合物は1モルの割合、塩基は1モルの割合が理論
量であるが、反応の状況により任意に変化させることが
できる。用いられる塩基としては、ピリジン、キノリ
ン、ベンジルジメチルアミン、フェネチルジメチルアミ
ン、N−メチルモルホリン、1,8−ジアザビシクロ
[5.4.0]ウンデック−7−エン、1,5−ジアザ
ビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン、1,4−ジア
ザビシクロ[2.2.2]オクタン、4−ジメチルアミ
ノピリジン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエ
チルアニリン、トリエチルアミン、トリ−n−プロピル
アミン、トリイソプロピルアミン、トリ−n−ブチルア
ミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸
リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシ
ウム、炭酸バリウム、等の無機塩基が挙げられる。用い
られる溶媒としては、例えばn−ヘキサン、n−ヘプタ
ン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂
肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、
ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素
類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチ
ル−t−ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライ
ム等のエーテル類、アセトン、2−ブタノン、メチルイ
ソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロ
メタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニト
リル、イソブチロニトリル等のニトリル類、N,N−ジ
メチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等
の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の
硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。反
応終了後は、例えば、以下の1)または2)に示す操作
により、目的物を得ることができる。 1)反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該
有機層を乾燥、濃縮する。 2)反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じ
て濾過し、該濾液を濃縮する。 なお、該目的物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操
作によって精製することも可能である。
Embedded image [Wherein, R 17 , X 3 and X 4 represent the same meaning as described above. To a compound of the formula (1) in the presence of a base. The reaction is usually carried out without a solvent or in a solvent, and the reaction temperature range is from 0 to 20.
0 ° C., and the reaction time is usually from instant to 24 hours. The amount of the reagent used for the reaction is theoretically 1 mol of the compound represented by the general formula [b-2] and 1 mol of the base relative to 1 mol of the compound represented by the general formula [XIV]. The amount can be arbitrarily changed depending on the reaction situation. As the base to be used, pyridine, quinoline, benzyldimethylamine, phenethyldimethylamine, N-methylmorpholine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene, 1,5-diazabicyclo [4.3 .0] non-5-ene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, 4-dimethylaminopyridine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, triethylamine, tri-n-propyl Organic bases such as amine, triisopropylamine, tri-n-butylamine, and diisopropylethylamine; and inorganic bases such as lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate, and barium carbonate. As the solvent used, for example, n-hexane, n-heptane, ligroin, cyclohexane, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether, benzene, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene, chlorobenzene, dichlorobenzene,
Aromatic halogenated hydrocarbons such as benzotrifluoride, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, diglyme, acetone, 2-butanone, methyl isobutyl ketone, etc. Ketones, esters such as ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate and diethyl carbonate, nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene, nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethyl Examples include acid amides such as acetamide, sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, and mixtures thereof. After the completion of the reaction, the desired product can be obtained by, for example, the following operation 1) or 2). 1) The reaction solution is poured into water, extracted with an organic solvent, and the organic layer is dried and concentrated. 2) Concentrate the reaction solution as it is or, if necessary, filter and concentrate the filtrate. In addition, the target substance can be purified by an operation such as chromatography and recrystallization.

【0047】〈工程A10−2〉:一般式[a−12]
で示される化合物から、一般式[a−13]で示される
化合物を製造する工程 一般式[a−13]で示される化合物は、例えば一般式
[a−12]で示される化合物を溶媒中、酸存在下に鉄
粉にて還元することにより製造することができる。該反
応の、反応温度の範囲は0〜200℃であり、好ましく
は室温〜加熱還流である。反応時間の範囲は通常瞬時〜
24時間である。反応に供される試剤の量は、一般式
[a−12]で示される化合物1モルに対して、鉄粉の
量は3モル〜過剰量の割合、酸は1〜10モルの割合で
あるが、反応の状況により任意に変化させることができ
る。用いられる酸としては、酢酸等が挙げられる。用い
られる溶媒としては、例えば水、酢酸、酢酸エチル等あ
るいはそれらの混合物が挙げられる。反応終了後の反応
液は、直接または濾過した後、水に注加し、生じた結晶
を濾集するか、または、有機溶媒抽出、中和、乾燥およ
び濃縮等の通常の後処理を行い、目的物を得ることがで
きる。該目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操
作によって精製することも可能である。
<Step A10-2>: General formula [a-12]
A step of producing a compound represented by the general formula [a-13] from a compound represented by the general formula [a-13]. For example, a compound represented by the general formula [a-12] It can be produced by reduction with iron powder in the presence of an acid. The reaction temperature of the reaction is from 0 to 200 ° C., preferably from room temperature to heating to reflux. The reaction time range is usually instantaneous ~
24 hours. The amount of the reagent used for the reaction is such that the amount of the iron powder is 3 mol to an excess amount, and the amount of the acid is 1 to 10 mol, relative to 1 mol of the compound represented by the general formula [a-12]. Can be arbitrarily changed depending on the reaction conditions. As the acid to be used, acetic acid and the like can be mentioned. Examples of the solvent to be used include water, acetic acid, ethyl acetate and the like or a mixture thereof. After completion of the reaction, the reaction solution is directly or after filtration, poured into water, and the resulting crystals are collected by filtration, or subjected to ordinary post-treatments such as extraction with an organic solvent, neutralization, drying, and concentration, The desired product can be obtained. The target substance can be purified by an operation such as chromatography, recrystallization and the like.

【0048】〈工程A10−3〉:一般式[a−13]
で示される化合物から、一般式[a−14]で示される
化合物を製造する工程 一般式[a−14]で示される化合物は、i)一般式
[a−13]で示される化合物を溶媒中でジアゾ化した
後、ii)引き続き、ヨウ化カリウム、臭化銅(I)、
塩化銅(I)またはホウフッ化水素酸と溶媒中で反応さ
せることにより製造することができる。 第1段階のジアゾ化反応は、反応温度の範囲は−20〜
20℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜5時間であ
る。反応に供される試剤の量は、一般式[a−13]で
示される化合物1モルに対して、ジアゾ化剤の量は1モ
ルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意に変
化させることができる。用いられるジアゾ化剤として
は、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム、亜硝酸イソア
ミル、亜硝酸t−ブチル等の亜硝酸化合物等が挙げられ
る。溶媒としては、例えばアセトニトリル、臭化水素
酸、塩酸、硫酸、水等あるいはそれらの混合物が挙げら
れる。反応終了後の反応液は、そのまま次の反応に用い
る。第2段階の反応は、反応温度の範囲は0〜80℃で
あり、反応時間の範囲は通常瞬時〜24時間である。反
応に供される試剤の量は、一般式[a−13]で示され
る化合物1モルに対して、ヨウ化カリウム、臭化銅
(I)、塩化銅(I)またはホウフッ化水素酸の量は各
々1〜3モルの割合であるが、反応の状況により任意に
変化させることができる。尚、臭化銅[I]を用いる場合
は、臭化銅[II]の存在下に反応を行うこともでき、塩
化銅[I]を用いる場合は、塩化銅[II]の存在下に反応
を行うこともできる。溶媒としては、例えばアセトニト
リル、ジエチルエーテル、t−ブチルメチルエーテル、
臭化水素酸、塩酸、硫酸、水等あるいはそれらの混合物
が挙げられる。反応終了後の反応液は、(必要に応じて
水を加えて)生じた結晶を濾集するか、または、有機溶
媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、目的物を得
ることができる。該目的物は、クロマトグラフィ−、再
結晶等の操作によって精製することもできる。また、該
反応は上記の方法に限らず、ヨウ化カリウム、臭化銅
(I)、塩化銅(I)またはホウフッ化水素酸の存在下
に、溶媒(例えばアセトニトリル、ジエチルエーテル、
t−ブチルメチルエーテル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、
水等あるいはそれらの混合物)中、一般式[a−13]
で示される化合物とジアゾ化剤とを反応させることによ
り、製造することも可能である。
<Step A10-3>: General formula [a-13]
A step of producing a compound represented by the general formula [a-14] from a compound represented by the general formula [a-14]: i) a compound represented by the general formula [a-13] in a solvent Ii) followed by potassium iodide, copper (I) bromide,
It can be produced by reacting with copper (I) chloride or borofluoric acid in a solvent. In the first stage diazotization reaction, the reaction temperature range is -20 to 20.
20 ° C., and the reaction time is usually from instant to 5 hours. The amount of the reagent used in the reaction is theoretically 1 mole of the diazotizing agent per 1 mole of the compound represented by the general formula [a-13]. Can be changed. Examples of the diazotizing agent used include nitrite compounds such as sodium nitrite, potassium nitrite, isoamyl nitrite and t-butyl nitrite. Examples of the solvent include acetonitrile, hydrobromic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, water and the like, and a mixture thereof. The reaction solution after completion of the reaction is used for the next reaction as it is. In the reaction of the second stage, the reaction temperature range is 0 to 80 ° C., and the reaction time range is usually instantaneous to 24 hours. The amount of the reagent used in the reaction is determined based on the amount of potassium iodide, copper (I) bromide, copper (I) chloride or borofluoric acid per mole of the compound represented by the general formula [a-13]. Is a ratio of 1 to 3 mol, respectively, but can be arbitrarily changed depending on the reaction situation. When copper [I] bromide is used, the reaction can be carried out in the presence of copper [II] bromide. When copper [I] chloride is used, the reaction can be carried out in the presence of copper [II] chloride. Can also be performed. As the solvent, for example, acetonitrile, diethyl ether, t-butyl methyl ether,
Examples include hydrobromic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, water, and the like, and mixtures thereof. After completion of the reaction, the reaction mixture is subjected to ordinary post-treatment such as filtration of the generated crystals (by adding water as necessary) or extraction with an organic solvent and concentration to obtain the desired product. . The target product can be purified by an operation such as chromatography, recrystallization and the like. In addition, the reaction is not limited to the above method, and a solvent (for example, acetonitrile, diethyl ether, diethyl ether,
t-butyl methyl ether, hydrobromic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid,
Water or a mixture thereof) in the general formula [a-13]
Can be produced by reacting a compound represented by the formula (1) with a diazotizing agent.

【0049】(中間体製造法11)一般式[III]で
示される化合物のうち、YおよびWが酸素原子ある化合
物は、以下のスキームに記載の方法により製造すること
もできる。 [式中、R1、R2、R20、X1、X2、X3およびX4は前
記と同じ意味を表す。]
(Intermediate Production Method 11) Among the compounds represented by the general formula [III], those in which Y and W are oxygen atoms can also be produced by the method described in the following scheme. [Wherein, R 1 , R 2 , R 20 , X 1 , X 2 , X 3 and X 4 represent the same meaning as described above. ]

【0050】〈工程A11−1〉:一般式[a−15]
で示される化合物から、一般式[a−16]で示される
化合物を製造する工程 一般式[a−16]で示される化合物は、例えば「有機
化学実験の手引き」4巻(化学同人社刊)、Protective
Groups in Organic Synthesis(A Wiley-Interscience
publication社刊)に記載の方法に準じて、一般式[a
−15]で示される化合物を脱保護させることにより、
または以下に記載の方法により製造することが出来る。
反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の
範囲は0〜200℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時
〜24時間である。反応に供される試剤の量は、一般式
[a−15]で示される化合物1モルに対して、試剤は
1モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意
に変化させることができる。用いられる試剤としては、
三フッ化ホウ素メタノール錯体、トリエチルオキソニウ
ムテトラフルオロボレート等が挙げられる。用いられる
溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、リグロ
イン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、エチ
ルベンゼン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素
類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2
−ジクロロエタン、1,2,3−トリクロロプロパン等
の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジク
ロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲ
ン化炭化水素類、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−
t−ブチルエ−テル等のエ−テル類、メタノール、エタ
ノール等のアルコール類あるいはそれらの混合物等が挙
げられる。反応終了後は、反応液を水に注加し、析出し
た結晶を濾取し乾燥するか、若しくは有機溶媒で抽出し
有機層を乾燥し濃縮するか、あるいは反応液をそのまま
濃縮する等の後処理操作を行ない、目的の化合物を得る
ことができる。該化合物は再結晶、クロマトグラフィ−
等の操作によって精製することもできる。
<Step A11-1>: General formula [a-15]
Step for producing a compound represented by the general formula [a-16] from a compound represented by the general formula [a-16] The compound represented by the general formula [a-16] can be produced, for example, in "Handbook of Organic Chemistry Experiments" Vol. , Protective
Groups in Organic Synthesis (A Wiley-Interscience
publication [publishing company], the general formula [a
-15] by deprotecting the compound
Alternatively, it can be produced by the method described below.
The reaction is usually carried out without solvent or in a solvent, the reaction temperature is in the range of 0 to 200 ° C, and the reaction time is usually in the range of instant to 24 hours. The amount of the reagent to be subjected to the reaction is a theoretical amount of 1 mole of the reagent to 1 mole of the compound represented by the general formula [a-15], but can be arbitrarily changed depending on the reaction situation. it can. As the reagent used,
Examples include a boron trifluoride methanol complex, and triethyloxonium tetrafluoroborate. Examples of the solvent used include aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, octane, and ligroin; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, ethylbenzene, xylene, and mesitylene; methylene chloride, chloroform;
Aliphatic halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, 1,2,3-trichloropropane, aromatic halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, dichlorobenzene, benzotrifluoride, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethyleneglycol Dimethyl ether, methyl-
Ethers such as t-butyl ether; alcohols such as methanol and ethanol; and mixtures thereof. After completion of the reaction, the reaction solution is poured into water, and the precipitated crystals are collected by filtration and dried, or extracted with an organic solvent and the organic layer is dried and concentrated, or the reaction solution is directly concentrated. By performing the treatment operation, the desired compound can be obtained. The compound is recrystallized, chromatographic
Purification can also be performed by such operations.

【0051】〈工程A11−2〉:一般式[a−16]
で示される化合物から、一般式[a−17]で示される
化合物を製造する工程 一般式[a−17]で示される化合物は、一般式[a−
16]で示される化合物を溶媒中、または無溶媒でイソ
シアネート化剤と反応させることによりイソシアネート
化させることにより製造することができる。 イソシアネート化剤:ホスゲン、トリクロロメチルクロ
ロホルメート、オキザリルクロライド等 イソシアネート化剤の量:一般式[a−16]で示され
る化合物1モルに対して1モル〜過剰量の割合 溶媒:ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、クロ
ロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、酢酸エチ
ル等のエステル類等 反応温度:室温〜還流温度 反応時間:瞬時〜48時間 反応終了後は、あるいは反応液をそのまま濃縮する等の
後処理操作を行ない、目的物を得ることができる。該化
合物は再結晶等の操作によって精製することもできる。
<Step A11-2>: General formula [a-16]
A process for producing a compound represented by the general formula [a-17] from a compound represented by the general formula [a-17]
16] in a solvent or in the absence of a solvent with an isocyanating agent to produce an isocyanate. Isocyanating agent: phosgene, trichloromethyl chloroformate, oxalyl chloride, etc. Amount of isocyanating agent: 1 mole to excess amount per mole of compound represented by general formula [a-16] Solvent: benzene, toluene Aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as ethyl acetate, etc. Reaction temperature: room temperature to reflux temperature Reaction time: instantaneous to 48 hours By performing a post-treatment operation such as concentration, the desired product can be obtained. The compound can be purified by an operation such as recrystallization.

【0052】〈工程A11−3〉:一般式[a−17]
で示される化合物から、一般式[a−18]で示される
化合物を製造する工程 一般式[a−18]で示される化合物は、一般式[a−
17]で示される化合物と一般式[XXXV]で示され
る化合物とを溶媒中、塩基の存在下に反応させることに
より製造することができる。 一般式[XXXV]で示される化合物の量:一般式[a
−17]で示される化合物1モルに対して0.9〜10
モルの割合 塩基の種類:水素化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化ナトリウム等の無機塩基類、ナトリウムメトキシド、
ナトリウムエトキシド等の金属アルコキシド類等 塩基の量:一般式[a−17]で示される化合物1モル
に対して0.1〜10モルの割合 溶媒:ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、クロ
ロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、N,N−
ジメチルホルムアミド等のアミド類、テトラヒドロフラ
ン等のエーテル類、クロロホルム等のハロゲン化脂肪族
炭化水素類、およびそれら混合物等 反応温度:−40℃〜溶媒還流温度 反応時間:瞬時〜72時間 反応終了後は、中和し、反応液を水に注加し、析出した
結晶を濾取し乾燥するか、若しくは有機溶媒で抽出し有
機層を乾燥し濃縮するか、あるいは反応液をそのまま濃
縮する等の後処理操作を行ない、目的の化合物を得るこ
とができる。該化合物は再結晶、クロマトグラフィ−等
の操作によって精製することもできる。なお、一般式
[a−18]で示される化合物は、単離することなくそ
のまま次工程の反応に供することもできる。
<Step A11-3>: General formula [a-17]
A process for producing a compound represented by the general formula [a-18] from a compound represented by the general formula [a-18]
17] and a compound represented by the general formula [XXXV] in a solvent in the presence of a base. Amount of compound represented by general formula [XXXV]: general formula [a
-17] to 0.9 to 10 with respect to 1 mole of the compound represented by the formula:
Molar ratio Type of base: inorganic bases such as sodium hydride, potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium methoxide,
Metal alkoxides such as sodium ethoxide and the like Amount of base: 0.1 to 10 mol based on 1 mol of the compound represented by the general formula [a-17] Solvent: aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene; Halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, N, N-
Amides such as dimethylformamide, ethers such as tetrahydrofuran, halogenated aliphatic hydrocarbons such as chloroform, and mixtures thereof. Reaction temperature: −40 ° C. to solvent reflux temperature. Reaction time: instantaneous to 72 hours. Neutralize, pour the reaction solution into water, filter the precipitated crystals by filtration, or dry, or extract with an organic solvent and dry and concentrate the organic layer, or post-treat the reaction solution as it is By performing the operation, the desired compound can be obtained. The compound can be purified by an operation such as recrystallization or chromatography. The compound represented by the general formula [a-18] can be directly used for the next step reaction without isolation.

【0053】〈工程A11−4〉:一般式[a−18]
で示される化合物から、一般式[a−29]で示される
化合物を製造する工程 一般式[a−29]で示される化合物は、一般式[a−
18]で示される化合物と一般式[XXXX]で示され
る化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製
造することができる。該反応は、通常溶媒中で行われ、
反応温度の範囲は−20〜200℃であり、好ましくは
0〜100℃である。反応時間の範囲は通常瞬時〜48
時間である。該反応に供される化合物[XXXX]の量
は、一般式[a−18]で示される化合物1モルに対し
て0.5モル〜過剰量の割合であり、好ましくは0.8
〜1.2モルの割合である。該反応に供される塩基の量
は、一般式[a−18]で示される化合物1モルに対し
て0.5モル〜過剰量の割合であり、好ましくは0.8
〜1.2モルの割合である。塩基としては、ピリジン、
4−ジメチルアミノピリジン、N,N−ジメチルアニリ
ン、N,N−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、ジ
イソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム
等の無機塩基があげられる。溶媒としては、ヘキサン、
ヘプタン、オクタン、リグロイン、シクロヘキサン、石
油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、エチルベンゼン、キシレン、メシチレン等の芳香族
炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレ
ングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−t−ブチルエ
−テル等のエ−テル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン
等のニトロ化合物、N,N−ジメチルホルムアミド、
N,N−ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ピリジ
ン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニ
リン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン
等の第三級アミン、ジメチルスルホキシド、スルホラン
等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物等があげられ
る。反応終了後の反応液は、濾過した後にそのまま濃縮
するか、反応液を水に注加して生じた結晶を濾取する
か、反応液を水に注加した後に有機溶媒抽出および濃縮
する等の通常の後処理操作に付し、目的物を得ることが
できる。尚、該化合物はクロマトグラフィー、再結晶等
の操作によって精製することも可能である。
<Step A11-4>: General formula [a-18]
A process for producing a compound represented by the general formula [a-29] from a compound represented by the general formula [a-29]
18] and a compound represented by the general formula [XXXX] in the presence of a base. The reaction is usually performed in a solvent,
The range of the reaction temperature is -20 to 200C, preferably 0 to 100C. Reaction time range is usually from instant to 48
Time. The amount of the compound [XXXX] to be subjected to the reaction is from 0.5 mol to an excess amount, preferably 0.8 mol, per 1 mol of the compound represented by the general formula [a-18].
1.21.2 mol. The amount of the base to be subjected to the reaction is from 0.5 mol to an excess amount per 1 mol of the compound represented by the general formula [a-18], and preferably 0.8 mol.
1.21.2 mol. As the base, pyridine,
Organic bases such as 4-dimethylaminopyridine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, triethylamine and diisopropylethylamine, and inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydride and potassium hydride. Hexane,
Aliphatic hydrocarbons such as heptane, octane, ligroin, cyclohexane, petroleum ether, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, ethylbenzene, xylene, mesitylene, diethyl ether, diisopropyl ether, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene Ethers such as glycol dimethyl ether and methyl tert-butyl ether; nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene; N, N-dimethylformamide;
Acid amides such as N, N-dimethylacetamide, tertiary amines such as pyridine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, triethylamine and diisopropylethylamine; sulfur compounds such as dimethylsulfoxide and sulfolane; And the like. After completion of the reaction, the reaction solution is filtered and concentrated as it is, the reaction solution is poured into water and crystals formed are collected, or the reaction solution is poured into water and then extracted with an organic solvent and concentrated. To give the desired product. The compound can be purified by an operation such as chromatography and recrystallization.

【0054】(中間体製造法12)一般式[XXXI
I]で示される化合物のうち、X1がニトロ基、フッ素
原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である化合
物は、以下のスキームに記載の方法により製造すること
もできる。 [式中、R4、R5、R7、R17、R20、W、X2、X3
4、X12およびX13は前記と同じ意味を表す。]
(Intermediate Production Method 12)
Among the compounds represented by I], those wherein X 1 is a nitro group, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, can also be produced by the method described in the following scheme. [Wherein, R 4 , R 5 , R 7 , R 17 , R 20 , W, X 2 , X 3 ,
X 4 , X 12 and X 13 represent the same meaning as described above. ]

【0055】〈工程A12−1〉:一般式[a−19]
で示される化合物から、一般式[a−20]で示される
化合物を製造する工程 一般式[a−20]で示される化合物は、一般式[a−
19]で示される化合物と一般式[b−3] [式中、R4、R5、R17、W、Y、X3、X4およびn
は、前記と同じ意味を表す。]で示される化合物とを、
塩基の存在下に反応させることにより製造することがで
きる。該反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反
応温度の範囲は0〜200℃であり、反応時間の範囲は
通常瞬時〜24時間である。反応に供される試剤の量
は、一般式[a−19]で示される化合物1モルに対し
て、一般式[b−3]で示される化合物は1モルの割
合、塩基は1モルの割合が理論量であるが、反応の状況
により任意に変化させることができる。用いられる塩基
としては、ピリジン、キノリン、ベンジルジメチルアミ
ン、フェネチルジメチルアミン、N−メチルモルホリ
ン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデック
−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノ
ン−5−エン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]
オクタン、4−ジメチルアミノピリジン、N,N−ジメ
チルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、トリエチル
アミン、トリ−n−プロピルアミン、トリイソプロピル
アミン、トリ−n−ブチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭
酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウ
ム、水素化カリウム等の無機塩基が挙げられる。用いら
れる溶媒としては、例えばn−ヘキサン、n−ヘプタ
ン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂
肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、
ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素
類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチ
ル−t−ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグライ
ム等のエーテル類、アセトン、2−ブタノン、メチルイ
ソブチルケトン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロ
メタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニト
リル、イソブチロニトリル等のニトリル類、N,N−ジ
メチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等
の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の
硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。該
反応は、触媒を使用することにより反応が加速されるこ
とがある。触媒としては、ヨウ化銅、臭化銅、塩化銅、
銅粉末等が挙げられ、反応に供される触媒の量は、一般
式[a−19]で示される化合物1モルに対して、0.
0001〜0.1モルの割合であるが、反応の状況によ
り任意に変化させることができる。反応終了後は、例え
ば、以下の1)または2)に示す操作により、目的の本
発明化合物を得ることができる。 1)反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該
有機層を乾燥、濃縮する。 2)反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じ
て濾過し、該濾液を濃縮する。 なお、得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、
再結晶等の操作によって精製することも可能である。
<Step A12-1>: General formula [a-19]
A process for producing a compound represented by the general formula [a-20] from a compound represented by the general formula [a-20]
19] and a compound of the general formula [b-3] [Wherein, R 4 , R 5 , R 17 , W, Y, X 3 , X 4 and n
Represents the same meaning as described above. And a compound represented by the formula:
It can be produced by reacting in the presence of a base. The reaction is usually performed without a solvent or in a solvent, the reaction temperature is in the range of 0 to 200 ° C, and the reaction time is usually in the range of instant to 24 hours. The amount of the reagent used for the reaction is such that the compound represented by the general formula [b-3] is 1 mol and the base is 1 mol per 1 mol of the compound represented by the general formula [a-19]. Is a stoichiometric amount, but can be arbitrarily changed depending on the situation of the reaction. As the base to be used, pyridine, quinoline, benzyldimethylamine, phenethyldimethylamine, N-methylmorpholine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene, 1,5-diazabicyclo [4.3 .0] non-5-ene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2]
Organic bases such as octane, 4-dimethylaminopyridine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, triethylamine, tri-n-propylamine, triisopropylamine, tri-n-butylamine, diisopropylethylamine, and lithium carbonate And inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium hydride and potassium hydride. As the solvent used, for example, n-hexane, n-heptane, ligroin, cyclohexane, aliphatic hydrocarbons such as petroleum ether, benzene, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene, chlorobenzene, dichlorobenzene,
Aromatic halogenated hydrocarbons such as benzotrifluoride, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, diglyme, acetone, 2-butanone, methyl isobutyl ketone, etc. Ketones, esters such as ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate and diethyl carbonate, nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene, nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethyl Examples include acid amides such as acetamide, sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, and mixtures thereof. The reaction may be accelerated by using a catalyst. Catalysts include copper iodide, copper bromide, copper chloride,
Copper powder and the like are mentioned, and the amount of the catalyst used for the reaction is 0.1 to 1 mol of the compound represented by the general formula [a-19].
The ratio is from 0001 to 0.1 mol, but can be arbitrarily changed according to the situation of the reaction. After completion of the reaction, the target compound of the present invention can be obtained by, for example, the following operation 1) or 2). 1) The reaction solution is poured into water, extracted with an organic solvent, and the organic layer is dried and concentrated. 2) Concentrate the reaction solution as it is or, if necessary, filter and concentrate the filtrate. The obtained compound of the present invention was obtained by chromatography,
Purification can also be performed by an operation such as recrystallization.

【0056】〈工程A12−2〉:一般式[a−20]
で示される化合物から、一般式[a−21]で示される
化合物を製造する工程 一般式[a−21]で示される化合物は、例えば一般式
[a−20]で示される化合物を溶媒中、酸存在下に鉄
粉にて還元することにより製造することができる。該反
応の、反応温度の範囲は0〜200℃であり、好ましく
は室温〜加熱還流である。反応時間の範囲は通常瞬時〜
24時間である。反応に供される試剤の量は、一般式
[a−20]で示される化合物1モルに対して、鉄粉の
量は3モル〜過剰量の割合、酸は1〜10モルの割合で
あるが、反応の状況により任意に変化させることができ
る。用いられる酸としては、酢酸等が挙げられる。用い
られる溶媒としては、例えば水、酢酸、酢酸エチル等あ
るいはそれらの混合物が挙げられる。反応終了後の反応
液は、直接または濾過した後、水に注加し、生じた結晶
を濾集するか、または、有機溶媒抽出、中和、乾燥およ
び濃縮等の通常の後処理を行い、目的物を得ることがで
きる。該目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操
作によって精製することも可能である。
<Step A12-2>: General formula [a-20]
A step of producing a compound represented by the general formula [a-21] from a compound represented by the general formula [a-21]. It can be produced by reduction with iron powder in the presence of an acid. The reaction temperature of the reaction is from 0 to 200 ° C., preferably from room temperature to heating to reflux. The reaction time range is usually instantaneous ~
24 hours. The amount of the reagent used for the reaction is such that the amount of the iron powder is 3 mol to an excess amount, and the amount of the acid is 1 to 10 mol, relative to 1 mol of the compound represented by the general formula [a-20]. Can be arbitrarily changed depending on the reaction conditions. As the acid to be used, acetic acid and the like can be mentioned. Examples of the solvent to be used include water, acetic acid, ethyl acetate and the like or a mixture thereof. After completion of the reaction, the reaction solution is directly or after filtration, poured into water, and the resulting crystals are collected by filtration, or subjected to ordinary post-treatments such as extraction with an organic solvent, neutralization, drying, and concentration, The desired product can be obtained. The target substance can be purified by an operation such as chromatography, recrystallization and the like.

【0057】〈工程A12−3〉:一般式[a−21]
で示される化合物から、一般式[a−22]で示される
化合物を製造する工程 一般式[a−22]で示される化合物は、i)一般式
[a−21]で示される化合物を溶媒中でジアゾ化した
後、ii)引き続き、ヨウ化カリウム、臭化銅(I)、
塩化銅(I)またはホウフッ化水素酸と溶媒中で反応さ
せることにより製造することができる。第1段階のジア
ゾ化反応は、反応温度の範囲は−20〜20℃であり、
反応時間の範囲は通常瞬時〜5時間である。反応に供さ
れる試剤の量は、一般式[a−21]で示される化合物
1モルに対して、ジアゾ化剤の量は1モルの割合が理論
量であるが、反応の状況により任意に変化させることが
できる。用いられるジアゾ化剤としては、亜硝酸ナトリ
ウム、亜硝酸カリウム、亜硝酸イソアミル、亜硝酸t−
ブチル等の亜硝酸化合物等が挙げられる。溶媒として
は、例えばアセトニトリル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、
水等あるいはそれらの混合物が挙げられる。反応終了後
の反応液は、そのまま次の反応に用いる。第2段階の反
応は、反応温度の範囲は0〜80℃であり、反応時間の
範囲は通常瞬時〜24時間である。反応に供される試剤
の量は、一般式[a−21]で示される化合物1モルに
対して、ヨウ化カリウム、臭化銅(I)、塩化銅(I)
またはホウフッ化水素酸の量は各々1〜3モルの割合で
あるが、反応の状況により任意に変化させることができ
る。尚、臭化銅[I]を用いる場合は、臭化銅[II]の存
在下に反応を行うこともでき、塩化銅[I]を用いる場合
は、塩化銅[II]の存在下に反応を行うこともできる。
溶媒としては、例えばアセトニトリル、ジエチルエーテ
ル、t−ブチルメチルエーテル、臭化水素酸、塩酸、硫
酸、水等あるいはそれらの混合物が挙げられる。反応終
了後の反応液は、(必要に応じて水を加えて)生じた結
晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出および濃縮等の
通常の後処理を行い、目的物を得ることができる。該目
的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって
精製することもできる。また、該反応は上記の方法に限
らず、ヨウ化カリウム、臭化銅(I)(または臭化銅
(II)との混合物)、塩化銅(I)(または塩化銅
(II)との混合物)またはホウフッ化水素酸の存在下
に、溶媒(例えばアセトニトリル、ジエチルエーテル、
t−ブチルメチルエーテル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、
水等あるいはそれらの混合物)中、一般式[a−21]
で示される化合物とジアゾ化剤とを反応させることによ
り、製造することも可能である。
<Step A12-3>: General formula [a-21]
For producing a compound represented by the general formula [a-22] from a compound represented by the general formula [a-22]: i) a compound represented by the general formula [a-21] in a solvent Ii) followed by potassium iodide, copper (I) bromide,
It can be produced by reacting with copper (I) chloride or borofluoric acid in a solvent. The first stage diazotization reaction has a reaction temperature range of -20 to 20 ° C,
The range of the reaction time is usually from instant to 5 hours. The amount of the reagent to be subjected to the reaction is a theoretical amount of 1 mole of the diazotizing agent to 1 mole of the compound represented by the general formula [a-21]. Can be changed. As the diazotizing agent used, sodium nitrite, potassium nitrite, isoamyl nitrite, t-nitrite
Nitrite compounds such as butyl and the like can be mentioned. As the solvent, for example, acetonitrile, hydrobromic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid,
Water and the like or a mixture thereof are mentioned. The reaction solution after completion of the reaction is used for the next reaction as it is. In the reaction of the second stage, the reaction temperature range is 0 to 80 ° C., and the reaction time range is usually instantaneous to 24 hours. The amount of the reagent used in the reaction is determined based on 1 mol of the compound represented by the general formula [a-21], potassium iodide, copper (I) bromide, and copper (I) chloride.
Alternatively, the amount of borofluoric acid is 1 to 3 moles each, but can be arbitrarily changed depending on the reaction situation. When copper [I] bromide is used, the reaction can be carried out in the presence of copper [II] bromide. When copper [I] chloride is used, the reaction can be carried out in the presence of copper [II] chloride. Can also be performed.
Examples of the solvent include acetonitrile, diethyl ether, t-butyl methyl ether, hydrobromic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, water, and the like, and mixtures thereof. After completion of the reaction, the reaction mixture is subjected to ordinary post-treatment such as filtration of the generated crystals (by adding water as necessary) or extraction with an organic solvent and concentration to obtain the desired product. . The target product can be purified by an operation such as chromatography, recrystallization and the like. The reaction is not limited to the above-mentioned method, but includes potassium iodide, copper (I) bromide (or a mixture with copper (II) bromide), copper (I) chloride (or a mixture with copper (II) chloride) ) Or borofluoric acid in the presence of a solvent (eg, acetonitrile, diethyl ether,
t-butyl methyl ether, hydrobromic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid,
Water or a mixture thereof) in the general formula [a-21]
Can be produced by reacting a compound represented by the formula (1) with a diazotizing agent.

【0058】〈工程A12−4〉:一般式[a−22]
で示される化合物から、一般式[a−23]で示される
化合物を製造する工程 一般式[a−23]で示される化合物は、例えば「有機
化学実験の手引き」4巻(化学同人社刊)、Protective
Groups in Organic Synthesis(A Wiley-Interscience
publication社刊)に記載の方法に準じて、一般式[a
−22]で示される化合物を脱保護させることにより、
または以下に記載の方法により製造することが出来る。
反応は、通常無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の
範囲は0〜200℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時
〜24時間である。反応に供される試剤の量は、一般式
[a−22]で示される化合物1モルに対して、試剤は
1モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意
に変化させることができる。用いられる試剤としては、
三フッ化ホウ素メタノール錯体、トリエチルオキソニウ
ムテトラフルオロボレート等が挙げられる。用いられる
溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、リグロ
イン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、エチ
ルベンゼン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素
類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2
−ジクロロエタン、1,2,3−トリクロロプロパン等
の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジク
ロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲ
ン化炭化水素類、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−
t−ブチルエ−テル等のエ−テル類、メタノール、エタ
ノール等のアルコール類あるいはそれらの混合物等が挙
げられる。反応終了後は、反応液を水に注加し、析出し
た結晶を濾取し乾燥するか、若しくは有機溶媒で抽出し
有機層を乾燥し濃縮するか、あるいは反応液をそのまま
濃縮する等の後処理操作を行ない、目的の化合物を得る
ことができる。該化合物は再結晶、クロマトグラフィ−
等の操作によって精製することもできる。
<Step A12-4>: General formula [a-22]
Step for producing a compound represented by the general formula [a-23] from a compound represented by the general formula [a-23] The compound represented by the general formula [a-23] can be produced, for example, in "Handbook of Organic Chemistry Experiments" Vol. , Protective
Groups in Organic Synthesis (A Wiley-Interscience
publication [publishing company], the general formula [a
-22], the compound represented by
Alternatively, it can be produced by the method described below.
The reaction is usually carried out without solvent or in a solvent, the reaction temperature is in the range of 0 to 200 ° C, and the reaction time is usually in the range of instant to 24 hours. The amount of the reagent used in the reaction is a theoretical amount of 1 mole of the reagent to 1 mole of the compound represented by the general formula [a-22], but may be arbitrarily changed depending on the reaction situation. it can. As the reagent used,
Examples include a boron trifluoride methanol complex, and triethyloxonium tetrafluoroborate. Examples of the solvent used include aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, octane, and ligroin; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, ethylbenzene, xylene, and mesitylene; methylene chloride, chloroform;
Aliphatic halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, 1,2,3-trichloropropane, aromatic halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, dichlorobenzene, benzotrifluoride, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethyleneglycol Dimethyl ether, methyl-
Ethers such as t-butyl ether; alcohols such as methanol and ethanol; and mixtures thereof. After completion of the reaction, the reaction solution is poured into water, and the precipitated crystals are collected by filtration and dried, or extracted with an organic solvent and the organic layer is dried and concentrated, or the reaction solution is directly concentrated. By performing the treatment operation, the desired compound can be obtained. The compound is recrystallized, chromatographic
Purification can also be performed by such operations.

【0059】〈工程A12−5〉:一般式[a−20]
で示される化合物から、一般式[a−23]で示される
化合物を製造する工程 一般式[a−23]で示される化合物のうち、 X13
ニトロ基である化合物は、例えば一般式[a−20]で
示される化合物から〈工程A12−4〉に記載の方法に
準じて製造することができる。
<Step A12-5>: General formula [a-20]
Of producing a compound represented by the general formula [a-23] from a compound represented by the general formula [a-23] Among the compounds represented by the general formula [a-23], a compound in which X 13 is a nitro group is, for example, a compound represented by the general formula [a] -20] can be produced according to the method described in <Step A12-4>.

【0060】(中間体製造法13)一般式[XXXI
V]で示される化合物、および一般式[a−15]で示
される化合物のうち、X1がニトロ基、フッ素原子、塩
素原子、臭素原子またはヨウ素原子である化合物、一般
式[a−20]で示される化合物、および一般式[a−
22]で示される化合物は、以下のスキームに記載の方
法により製造することもできる。 [式中、R4、R5、R7、R17、X2、X3、X4、X12
よびX13は前記と同じ意味を表し、R25はメチル基、エ
チル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基等
の置換されていてもよいC1〜C6アルキル基;メトキ
シ基、エトキシ基等のC1−C6アルコキシ基またはフ
ェノキシ基等の置換されてもよいフェノキシ基を表
す。]
(Intermediate Production Method 13)
V] and the compound represented by the general formula [a-15], wherein X 1 is a nitro group, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, and the compound represented by the general formula [a-20] And a compound represented by the general formula [a-
22] can also be produced by the method described in the following scheme. [Wherein, R 4 , R 5 , R 7 , R 17 , X 2 , X 3 , X 4 , X 12 and X 13 represent the same meaning as described above, and R 25 represents a methyl group, an ethyl group, a trifluoromethyl A C1-C6 alkyl group which may be substituted such as a group or a trichloromethyl group; a C1-C6 alkoxy group such as a methoxy group or an ethoxy group; or a phenoxy group which may be substituted such as a phenoxy group. ]

【0061】〈工程A13−1〉:一般式[a−24]
で示される化合物から、一般式[a−25]で示される
化合物を製造する工程 一般式[a−25]で示される化合物は、一般式[a−
24]で示される化合物と一般式[b−2]で示される
化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造
することができる。該反応は、通常無溶媒または溶媒中
で行われ、反応温度の範囲は0〜200℃であり、反応
時間の範囲は通常瞬時〜24時間である。反応に供され
る試剤の量は、一般式[a−24]で示される化合物1
モルに対して、一般式[b−2]で示される化合物は1
モルの割合、塩基は1モルの割合が理論量であるが、反
応の状況により任意に変化させることができる。用いら
れる塩基としては、ピリジン、キノリン、ベンジルジメ
チルアミン、フェネチルジメチルアミン、N−メチルモ
ルホリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウン
デック−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.
0]ノン−5−エン、1,4−ジアザビシクロ[2.
2.2]オクタン、4−ジメチルアミノピリジン、N,
N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、ト
リエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリイソ
プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ジイソプロ
ピルエチルアミン等の有機塩基、ナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシド等
の金属アルコキシド、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水
素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、
水素化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等
の無機塩基が挙げられる。用いられる溶媒としては、例
えばn−ヘキサン、n−ヘプタン、リグロイン、シクロ
ヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロ
ベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等
の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジ
イソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、
ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコール
ジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル類、アセト
ン、2−ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン
類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチ
ル等のエステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等の
ニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等
のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N
−ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスル
ホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれら
の混合物が挙げられる。該反応は、触媒を使用すること
により反応が加速されることがある。触媒としては、ヨ
ウ化銅、臭化銅、塩化銅、銅粉末等が挙げられ、反応に
供される触媒の量は、一般式[a−24]で示される化
合物1モルに対して、0.0001〜0.1モルの割合
であるが、反応の状況により任意に変化させることがで
きる。反応終了後は、例えば、以下の1)または2)に
示す操作により、目的の本発明化合物を得ることができ
る。 1)反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該
有機層を乾燥、濃縮する。 2)反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じ
て濾過し、該濾液を濃縮する。 なお、得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、
再結晶等の操作によって精製することも可能である。
<Step A13-1>: General formula [a-24]
A process for producing a compound represented by the general formula [a-25] from a compound represented by the general formula [a-25]
24] and a compound represented by the general formula [b-2] in the presence of a base. The reaction is usually performed without a solvent or in a solvent, the reaction temperature is in the range of 0 to 200 ° C, and the reaction time is usually in the range of instant to 24 hours. The amount of the reagent used for the reaction is determined by the amount of the compound 1 represented by the general formula [a-24].
The compound represented by the general formula [b-2] is 1 mol
The theoretical ratio of the mole ratio and the base ratio is 1 mole, but can be arbitrarily changed depending on the reaction conditions. As the base to be used, pyridine, quinoline, benzyldimethylamine, phenethyldimethylamine, N-methylmorpholine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene, 1,5-diazabicyclo [4.3 .
0] non-5-ene, 1,4-diazabicyclo [2.
2.2] octane, 4-dimethylaminopyridine, N,
Organic bases such as N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, triethylamine, tri-n-propylamine, triisopropylamine, tri-n-butylamine, diisopropylethylamine, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium t-butoxide Such as metal alkoxides, lithium carbonate, sodium carbonate,
Potassium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium hydride,
Potassium hydride, lithium hydroxide, sodium hydroxide,
Inorganic bases such as potassium hydroxide, calcium hydroxide, barium hydroxide and the like can be mentioned. As the solvent used, for example, aliphatic hydrocarbons such as n-hexane, n-heptane, ligroin, cyclohexane, petroleum ether, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, benzotrifluoride Aromatic halogenated hydrocarbons such as, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether,
Ethers such as dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and diglyme; ketones such as acetone, 2-butanone and methyl isobutyl ketone; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate and diethyl carbonate; and nitro such as nitromethane and nitrobenzene Compounds, nitriles such as acetonitrile, isobutyronitrile, N, N-dimethylformamide, N, N
Acid amides such as dimethylacetamide; sulfur compounds such as dimethylsulfoxide and sulfolane; and mixtures thereof. The reaction may be accelerated by using a catalyst. Examples of the catalyst include copper iodide, copper bromide, copper chloride, copper powder, and the like. The ratio is from 0.0001 to 0.1 mol, but can be arbitrarily changed depending on the situation of the reaction. After completion of the reaction, the target compound of the present invention can be obtained by, for example, the following operation 1) or 2). 1) The reaction solution is poured into water, extracted with an organic solvent, and the organic layer is dried and concentrated. 2) Concentrate the reaction solution as it is or, if necessary, filter and concentrate the filtrate. The obtained compound of the present invention was obtained by chromatography,
Purification can also be performed by an operation such as recrystallization.

【0062】〈工程A13−2〉:一般式[a−25]
で示される化合物から、一般式[a−26]で示される
化合物を製造する工程 一般式[a−26]で示される化合物は、例えば一般式
[a−25]で示される化合物を溶媒中、酸存在下に鉄
粉にて還元することにより製造することができる。該反
応の、反応温度の範囲は0〜200℃であり、好ましく
は室温〜加熱還流である。反応時間の範囲は通常瞬時〜
24時間である。反応に供される試剤の量は、一般式
[a−25]で示される化合物1モルに対して、鉄粉の
量は3モル〜過剰量の割合、酸は1〜10モルの割合で
あるが、反応の状況により任意に変化させることができ
る。用いられる酸としては、酢酸等が挙げられる。用い
られる溶媒としては、例えば水、酢酸、酢酸エチル等あ
るいはそれらの混合物が挙げられる。反応終了後の反応
液は、直接または濾過した後、水に注加し、生じた結晶
を濾集するか、または、有機溶媒抽出、中和、乾燥およ
び濃縮等の通常の後処理を行い、目的物を得ることがで
きる。該目的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操
作によって精製することも可能である。
<Step A13-2>: General formula [a-25]
A step of producing a compound represented by the general formula [a-26] from a compound represented by the general formula [a-26]. It can be produced by reduction with iron powder in the presence of an acid. The reaction temperature of the reaction is from 0 to 200 ° C., preferably from room temperature to heating to reflux. The reaction time range is usually instantaneous ~
24 hours. The amount of the reagent used for the reaction is such that the amount of the iron powder is 3 mol to an excess amount, and the amount of the acid is 1 to 10 mol, relative to 1 mol of the compound represented by the general formula [a-25]. Can be arbitrarily changed depending on the situation of the reaction. As the acid to be used, acetic acid and the like can be mentioned. Examples of the solvent to be used include water, acetic acid, ethyl acetate and the like or a mixture thereof. After completion of the reaction, the reaction solution is directly or after filtration, poured into water, and the resulting crystals are collected by filtration, or subjected to ordinary post-treatments such as extraction with an organic solvent, neutralization, drying, and concentration, The desired product can be obtained. The target substance can be purified by an operation such as chromatography, recrystallization and the like.

【0063】〈工程A13−3〉:一般式[a−26]
で示される化合物から、一般式[a−27]で示される
化合物を製造する工程 一般式[a−27]で示される化合物は、i)一般式
[a−26]で示される化合物を溶媒中でジアゾ化した
後、ii)引き続き、ヨウ化カリウム、臭化銅(I)、
塩化銅(I)またはホウフッ化水素酸と溶媒中で反応さ
せることにより製造することができる。第1段階のジア
ゾ化反応は、反応温度の範囲は−20〜20℃であり、
反応時間の範囲は通常瞬時〜5時間である。反応に供さ
れる試剤の量は、一般式[a−26]で示される化合物
1モルに対して、ジアゾ化剤の量は1モルの割合が理論
量であるが、反応の状況により任意に変化させることが
できる。用いられるジアゾ化剤としては、亜硝酸ナトリ
ウム、亜硝酸カリウム、亜硝酸イソアミル、亜硝酸t−
ブチル等の亜硝酸化合物等が挙げられる。溶媒として
は、例えばアセトニトリル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、
水等あるいはそれらの混合物が挙げられる。反応終了後
の反応液は、そのまま次の反応に用いる。第2段階の反
応は、反応温度の範囲は0〜80℃であり、反応時間の
範囲は通常瞬時〜24時間である。反応に供される試剤
の量は、一般式[a−26]で示される化合物1モルに
対して、ヨウ化カリウム、臭化銅(I)、塩化銅(I)
またはホウフッ化水素酸の量は各々1〜3モルの割合で
あるが、反応の状況により任意に変化させることができ
る。尚、臭化銅[I]を用いる場合は、臭化銅[II]の存
在下に反応を行うこともでき、塩化銅[I]を用いる場合
は、塩化銅[II]の存在下に反応を行うこともできる。
溶媒としては、例えばアセトニトリル、ジエチルエーテ
ル、t−ブチルメチルエーテル、臭化水素酸、塩酸、硫
酸、水等あるいはそれらの混合物が挙げられる。反応終
了後の反応液は、(必要に応じて水を加えて)生じた結
晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出および濃縮等の
通常の後処理を行い、目的物を得ることができる。該目
的物は、クロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって
精製することもできる。また、該反応は上記の方法に限
らず、ヨウ化カリウム、臭化銅(I)、塩化銅(I)ま
たはホウフッ化水素酸の存在下に、溶媒(例えばアセト
ニトリル、ジエチルエーテル、t−ブチルメチルエーテ
ル、臭化水素酸、塩酸、硫酸、水等あるいはそれらの混
合物)中、一般式[a−26]で示される化合物とジア
ゾ化剤とを反応させることにより、製造することも可能
である。尚、臭化銅[I]を用いる場合は、臭化銅[II]
の存在下に反応を行うこともでき、塩化銅[I]を用いる
場合は、塩化銅[II]の存在下に反応を行うこともでき
る。
<Step A13-3>: General formula [a-26]
Step of producing a compound represented by the general formula [a-27] from a compound represented by the general formula [a-27]: i) a compound represented by the general formula [a-26] in a solvent Ii) followed by potassium iodide, copper (I) bromide,
It can be produced by reacting with copper (I) chloride or borofluoric acid in a solvent. The first stage diazotization reaction has a reaction temperature range of -20 to 20 ° C,
The range of the reaction time is usually from instant to 5 hours. The amount of the reagent to be subjected to the reaction is a theoretical amount of 1 mol of the diazotizing agent per 1 mol of the compound represented by the general formula [a-26]. Can be changed. As the diazotizing agent used, sodium nitrite, potassium nitrite, isoamyl nitrite, t-nitrite
Nitrite compounds such as butyl and the like can be mentioned. As the solvent, for example, acetonitrile, hydrobromic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid,
Water and the like or a mixture thereof are mentioned. The reaction solution after completion of the reaction is used for the next reaction as it is. In the reaction of the second stage, the reaction temperature range is 0 to 80 ° C., and the reaction time range is usually instantaneous to 24 hours. The amount of the reagent used for the reaction is determined based on 1 mol of the compound represented by the general formula [a-26], potassium iodide, copper (I) bromide, and copper (I) chloride.
Alternatively, the amount of borofluoric acid is 1 to 3 moles each, but can be arbitrarily changed depending on the reaction situation. When copper [I] bromide is used, the reaction can be carried out in the presence of copper [II] bromide. When copper [I] chloride is used, the reaction can be carried out in the presence of copper [II] chloride. Can also be performed.
Examples of the solvent include acetonitrile, diethyl ether, t-butyl methyl ether, hydrobromic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, water, and the like, and mixtures thereof. After completion of the reaction, the reaction mixture is subjected to ordinary post-treatment such as filtration of the generated crystals (by adding water as necessary) or extraction with an organic solvent and concentration to obtain the desired product. . The target product can be purified by an operation such as chromatography, recrystallization and the like. In addition, the reaction is not limited to the above method, and a solvent (for example, acetonitrile, diethyl ether, t-butylmethyl Ether, hydrobromic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, water, and the like or a mixture thereof) to react the compound represented by the general formula [a-26] with a diazotizing agent. When copper bromide [I] is used, copper bromide [II]
The reaction can be carried out in the presence of copper chloride [I], and when copper chloride [I] is used, the reaction can also be carried out in the presence of copper chloride [II].

【0064】〈工程A13−4〉:一般式[a−27]
で示される化合物から、一般式[a−28]で示される
化合物を製造する工程 一般式[a−28]で示される化合物は、一般式[a−
27]で示される化合物と一般式[IV]で示される化
合物とを、塩基の存在下に反応させることにより製造す
ることができる。該反応は、通常溶媒中で行われ、反応
温度の範囲は通常0〜200℃、反応時間の範囲は通常
瞬時から72時間である。反応に供される試剤の量は、
一般式[a−27]で示される化合物1モルに対して、
一般式[IV]で示される化合物は1モルの割合、塩基
の量は1モルの割合が理論量であるが、反応の状況によ
り任意に変化させることができる。用いられる塩基とし
ては、ピリジン、キノリン、ベンジルジメチルアミン、
フェネチルジメチルアミン、N−メチルモルホリン、
1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデック−7
−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−
5−エン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オク
タン、4−ジメチルアミノピリジン、N,N−ジメチル
アニリン、N,N−ジエチルアニリン、トリエチルアミ
ン、トリ−n−プロピルアミン、トリイソプロピルアミ
ン、トリ−n−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルア
ミン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水
素化カリウム等の無機塩基が挙げられる。用いられる溶
媒としては、例えばn−ヘキサン、n−ヘプタン、リグ
ロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化
水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾト
リフルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブ
チルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチ
レングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエー
テル類、アセトン、2−ブタノン、メチルイソブチルケ
トン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、炭酸ジエチル等のエステル類、アセトニトリル、イ
ソブチロニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホ
ルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等の酸アミ
ド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合
物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。反応終了後
は、例えば、以下の1)または2)に示す操作により、
目的の本発明化合物を得ることができる。 1)反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該
有機層を乾燥、濃縮する。 2)反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じ
て濾過し、該濾液を濃縮する。 なお、得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、
再結晶等の操作によって精製することも可能である。
<Step A13-4>: General formula [a-27]
A process for producing a compound represented by the general formula [a-28] from a compound represented by the general formula [a-28]
27] and a compound represented by the general formula [IV] in the presence of a base. The reaction is usually performed in a solvent, and the reaction temperature is usually from 0 to 200 ° C, and the reaction time is usually from an instant to 72 hours. The amount of reagent used for the reaction is
For 1 mol of the compound represented by the general formula [a-27],
The theoretical amount of the compound represented by the general formula [IV] is 1 mole and the amount of the base is 1 mole, but can be arbitrarily changed depending on the reaction conditions. As the base used, pyridine, quinoline, benzyldimethylamine,
Phenethyldimethylamine, N-methylmorpholine,
1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7
-Ene, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-
5-ene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, 4-dimethylaminopyridine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, triethylamine, tri-n-propylamine, triisopropylamine And organic bases such as tri-n-butylamine and diisopropylethylamine; and inorganic bases such as lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, sodium hydrogencarbonate, potassium hydrogencarbonate, sodium hydride and potassium hydride. Can be As the solvent used, for example, aliphatic hydrocarbons such as n-hexane, n-heptane, ligroin, cyclohexane, petroleum ether, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, benzotrifluoride Aromatic halogenated hydrocarbons such as, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, diglyme, ketones such as acetone, 2-butanone, methyl isobutyl ketone; Esters such as ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate and diethyl carbonate; nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile; acid amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide Dimethyl sulfoxide, sulfur compounds such as sulfolane, or mixtures thereof. After completion of the reaction, for example, by the operation shown in 1) or 2) below,
The desired compound of the present invention can be obtained. 1) The reaction solution is poured into water, extracted with an organic solvent, and the organic layer is dried and concentrated. 2) Concentrate the reaction solution as it is or, if necessary, filter and concentrate the filtrate. The obtained compound of the present invention was obtained by chromatography,
Purification can also be performed by an operation such as recrystallization.

【0065】〈工程A13−5〉:一般式[a−25]
で示される化合物から、一般式[a−28]で示される
化合物を製造する工程 一般式[a−28]で示される化合物のうち、 X13
ニトロ基である化合物は、例えば一般式[a−25]で
示される化合物と一般式[IV]で示される化合物と
を、塩基の存在下に反応させることにより製造すること
ができる。該反応は、通常溶媒中で行われ、反応温度の
範囲は通常0〜200℃、反応時間の範囲は通常瞬時か
ら72時間である。反応に供される試剤の量は、一般式
[a−25]で示される化合物1モルに対して、一般式
[IV]で示される化合物は1モルの割合、塩基の量は
1モルの割合が理論量であるが、反応の状況により任意
に変化させることができる。用いられる塩基としては、
ピリジン、キノリン、ベンジルジメチルアミン、フェネ
チルジメチルアミン、N−メチルモルホリン、1,8−
ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデック−7−エン、
1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エ
ン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、
4−ジメチルアミノピリジン、N,N−ジメチルアニリ
ン、N,N−ジエチルアニリン、トリエチルアミン、ト
リ−n−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ト
リ−n−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等
の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化カ
リウム等の無機塩基が挙げられる。用いられる溶媒とし
ては、例えばn−ヘキサン、n−ヘプタン、リグロイ
ン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフ
ルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチル
エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレン
グリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエーテル
類、アセトン、2−ブタノン、メチルイソブチルケトン
等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、
炭酸ジエチル等のエステル類、アセトニトリル、イソブ
チロニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルム
アミド、N,N−ジメチルアセトアミド等の酸アミド
類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合
物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。反応終了後
は、例えば、以下の1)または2)に示す操作により、
目的の本発明化合物を得ることができる。 1)反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、該
有機層を乾燥、濃縮する。 2)反応液をそのまま濃縮するか、または、必要に応じ
て濾過し、該濾液を濃縮する。 なお、得られた本発明化合物は、クロマトグラフィー、
再結晶等の操作によって精製することも可能である。
<Step A13-5>: General formula [a-25]
For producing a compound represented by the general formula [a-28] from a compound represented by the general formula [a-28] Among the compounds represented by the general formula [a-28], a compound in which X 13 is a nitro group is, for example, a compound represented by the general formula [a-28] -25] and a compound represented by the general formula [IV] in the presence of a base. The reaction is usually performed in a solvent, and the reaction temperature is usually from 0 to 200 ° C, and the reaction time is usually from an instant to 72 hours. The amount of the reagent used in the reaction is 1 mole of the compound represented by the general formula [a-25] and 1 mole of the compound represented by the general formula [IV], and the amount of the base is 1 mole relative to 1 mole of the compound represented by the general formula [a-25]. Is a stoichiometric amount, but can be arbitrarily changed according to the reaction situation. As the base used,
Pyridine, quinoline, benzyldimethylamine, phenethyldimethylamine, N-methylmorpholine, 1,8-
Diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene,
1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane,
Organic bases such as 4-dimethylaminopyridine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, triethylamine, tri-n-propylamine, triisopropylamine, tri-n-butylamine, diisopropylethylamine, lithium carbonate, and carbonic acid Inorganic bases such as sodium, potassium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium hydride, potassium hydride and the like can be mentioned. As the solvent used, for example, aliphatic hydrocarbons such as n-hexane, n-heptane, ligroin, cyclohexane, petroleum ether, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, benzotrifluoride Aromatic halogenated hydrocarbons such as, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, diglyme, ketones such as acetone, 2-butanone, methyl isobutyl ketone; Ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate,
Esters such as diethyl carbonate; nitriles such as acetonitrile and isobutyronitrile; acid amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide and sulfolane; or mixtures thereof. Is mentioned. After completion of the reaction, for example, by the operation shown in 1) or 2) below,
The desired compound of the present invention can be obtained. 1) The reaction solution is poured into water, extracted with an organic solvent, and the organic layer is dried and concentrated. 2) Concentrate the reaction solution as it is or, if necessary, filter and concentrate the filtrate. The obtained compound of the present invention was obtained by chromatography,
Purification can also be performed by an operation such as recrystallization.

【0066】(中間体製造法14)一般式[III]で
示される化合物のうち、Wが酸素原子である化合物は、
以下のスキームに記載の方法により製造することもでき
る。
(Intermediate Production Method 14) Among the compounds represented by the general formula [III], the compound wherein W is an oxygen atom is
It can also be produced by the method described in the following scheme.

【化34】 [式中、R1、R2、R6、X1、X2、X3、X4およびY
は前記と同じ意味を表し、 R23はホルミル基、アセチ
ル基等の置換されてもよいアルキルカルボニル基、また
はメトキシカルボニル基等の置換されてもよいアルコキ
シカルボニル基を表し、R24は水素原子、メチル基等の
置換されてもよいアルキル基またはメトキシ基等の置換
されてもよいアルコキシ基を表す。]
Embedded image [Wherein R 1 , R 2 , R 6 , X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and Y
Represents the same meaning as described above, R 23 represents an optionally substituted alkylcarbonyl group such as a formyl group or an acetyl group, or an optionally substituted alkoxycarbonyl group such as a methoxycarbonyl group; R 24 represents a hydrogen atom; It represents an optionally substituted alkyl group such as a methyl group or an optionally substituted alkoxy group such as a methoxy group. ]

【0067】(中間体製造法15)一般式[III]で
示される化合物のうちX4が水素原子、フッ素原子、塩
素原子、臭素原子またはヨウ素原子である化合物は、以
下のスキームに記載の方法により製造することもでき
る。 [式中、R1、R2、R6、R16、W、X1、X2、X3、X
12およびYは前記と同じ意味を表す。]
(Intermediate Production Method 15) Among the compounds represented by the general formula [III], those in which X 4 is a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom can be prepared by the method described in the following scheme. Can also be manufactured. [Wherein, R 1 , R 2 , R 6 , R 16 , W, X 1 , X 2 , X 3 , X
12 and Y have the same meaning as described above. ]

【0068】(中間体製造法16)一般式[a−25]
および[a−27]で示される化合物のうち、R25がR
20基である化合物は、以下のスキームに記載の方法によ
り製造することもできる。
(Intermediate Production Method 16) General Formula [a-25]
And among the compounds represented by [a-27], R 25 is R
The compound having 20 groups can also be produced by the method described in the following scheme.

【化35】 [式中、R16、R17、R20、X2、X3、X4およびX13
は前記と同じ意味を表す。] 一般式[a−42]で示される化合物は、Protective G
roups in Organic Synthesis(A Wiley-Interscience p
ublication社刊)に記載の方法に準じて、一般式[a−
41]で示される化合物を、ボロントリブロミド、HB
r/酢酸、濃塩酸または濃硫酸等を用いて脱保護させる
ことにより、製造することができる。 試剤の量:化合物[a−41]1モルに対して1当量〜
過剰量の割合 溶媒:ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、塩化
メチレン、クロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素
類、クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類
等、あるいはそれらの混合物が挙げられる。 反応温度:−20℃〜還流温度 反応時間:瞬時〜48時間 反応終了後は、反応液を水に注加し、もしくは反応液に
濃塩酸等の酸を注加し、析出した結晶を濾取し乾燥する
か、若しくは有機溶媒で抽出し有機層を乾燥し濃縮する
か、あるいは反応液をそのまま濃縮する等の後処理操作
を行ない、目的の化合物を得ることができる。該化合物
は再結晶、クロマトグラフィ−等の操作によって精製す
ることもできる。なお、一般式[a−41]で示される
化合物のうち、R16が置換されてもよいベンジル基であ
る化合物の場合は、触媒の存在下に水素添加することに
より、製造することもできる。該反応は、通常溶媒中で
行われる。反応温度の範囲は通常−20〜150℃であ
り、好ましくは0〜50℃である。反応時間の範囲は通
常瞬時〜48時間である。該反応は加圧条件下に行うこ
ともでき、1〜5気圧の条件下に反応を行うことが好ま
しい。該反応に供される触媒の量は、化合物[a−4
1]の0.001〜100重量%である。反応に供され
る触媒としては、無水パラジウム/炭素、含水パラジウ
ム/炭素、酸化白金等があげられる。溶媒としてはギ
酸、酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸類、蟻酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステ
ル類、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチ
レングリコ−ルジメチルエ−テル等のエ−テル類、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノー
ル、ブタノール、t−ブタノール、アミルアルコール、
イソアミルアルコール、t―アミルアルコール等のアル
コール類、水あるいはそれらの混合物等があげられる。
反応終了後の反応液は、濾過した後にそのまま濃縮する
等の通常の後処理操作に付し、目的物を得ることができ
る。尚、該化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操
作によって精製することも可能である。
Embedded image Wherein R 16 , R 17 , R 20 , X 2 , X 3 , X 4 and X 13
Represents the same meaning as described above. The compound represented by the general formula [a-42] is Protective G
roups in Organic Synthesis (A Wiley-Interscience p
ublication) according to the general formula [a-
41] with boron tribromide, HB
r / acetic acid, concentrated hydrochloric acid, concentrated sulfuric acid, or the like for deprotection. Amount of reagent: 1 equivalent to 1 mol of compound [a-41]
Ratio of excess amount Solvent: aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, halogenated aliphatic hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform, halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene and the like, and mixtures thereof. . Reaction temperature: −20 ° C. to reflux temperature Reaction time: instantaneous to 48 hours After completion of the reaction, the reaction solution is poured into water or an acid such as concentrated hydrochloric acid is poured into the reaction solution, and the precipitated crystals are collected by filtration. After drying, or extraction with an organic solvent and drying and concentration of the organic layer, or a post-treatment operation such as concentration of the reaction solution as it is, the desired compound can be obtained. The compound can be purified by an operation such as recrystallization or chromatography. In addition, among the compounds represented by the general formula [a-41], when R 16 is a benzyl group which may be substituted, the compound can be produced by hydrogenation in the presence of a catalyst. The reaction is usually performed in a solvent. The range of the reaction temperature is usually -20 to 150 ° C, preferably 0 to 50 ° C. The range of the reaction time is usually from instant to 48 hours. The reaction can be carried out under a pressurized condition, and it is preferable to carry out the reaction under a condition of 1 to 5 atm. The amount of the catalyst used for the reaction is determined by the amount of the compound [a-4]
1] of 0.001 to 100% by weight. Examples of the catalyst used for the reaction include anhydrous palladium / carbon, hydrated palladium / carbon, platinum oxide and the like. Examples of the solvent include carboxylic acids such as formic acid, acetic acid and propionic acid, esters such as ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate and diethyl carbonate, and ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran and ethylene glycol dimethyl ether. , Methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, t-butanol, amyl alcohol,
Examples thereof include alcohols such as isoamyl alcohol and t-amyl alcohol, water, and mixtures thereof.
After completion of the reaction, the reaction solution can be subjected to ordinary post-treatment operations such as filtration and concentration as it is to obtain the desired product. The compound can be purified by an operation such as chromatography and recrystallization.

【0069】(中間体製造法17)一般式[XXXI]
で示される化合物のうち、Yが酸素原子または硫黄原子
である化合物は、以下のスキームに記載の方法により製
造することができる。 [式中、R4、R5、R17、W、X2、X3、X4およびX
13は前記と同じ意味を表し、R11はC1−C3ペルフル
オロアルキル基を表す。]
(Intermediate Production Method 17) General Formula [XXXI]
Among the compounds represented by, compounds wherein Y is an oxygen atom or a sulfur atom can be produced by the method described in the following scheme. Wherein R 4 , R 5 , R 17 , W, X 2 , X 3 , X 4 and X
13 represents the same meaning as described above, and R 11 represents a C1-C3 perfluoroalkyl group. ]

【0070】〈工程A17−1〉:一般式[a−43]
で示される化合物から、一般式[a−44]で示される
化合物(条件によっては、一般式[a−44]で示され
る化合物に水が結合した一般式[a−45]で示される
ハイドレートとして得られる場合もある)を製造する工
程 一般式[a−44]で示される化合物は、一般式[a−
43]で示される化合物と一般式[a−49]
<Step A17-1>: General formula [a-43]
From a compound represented by the general formula [a-44] (depending on conditions, a hydrate represented by the general formula [a-45] in which water is bonded to the compound represented by the general formula [a-44]) The compound represented by the general formula [a-44] can be obtained by a process represented by the general formula [a-44].
43] and a compound of the general formula [a-49]

【化36】 [式中、R11およびR26は前記と同じ意味を表す。]で
示される化合物とを、溶媒中または無溶媒にて反応させ
ることにより製造することができる。反応温度の範囲は
通常室温〜150℃または使用する溶媒の沸点である。
また、副生するアルコール(メタノール、エタノール
等)を反応系中より除去することにより、反応速度を上
げることも可能である。該反応に供される一般式[a−
49]で示される化合物の量は、一般式[a−43]で
示される化合物1モルに対して、通常1モル〜5モルの
割合である。用いられる溶媒としては、例えばn−ヘキ
サン、n−ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン等の
脂肪族炭化水素類、1,2−ジクロロエタン、1,2,
3−トリクロロプロパン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフ
ルオリド等の芳香族ハロゲン化炭化水素類、あるいはそ
れらの混合物が挙げられる。反応終了後の反応液は、濾
過した後にそのまま濃縮するか、反応液を水に注加して
生じた結晶を濾取するか、反応液を濃塩酸等の酸、また
は水に注加した後に有機溶媒抽出、水洗浄、乾燥および
濃縮する等の通常の後処理操作に付し、目的化合物を得
ることができる。尚、該目的化合物はクロマトグラフィ
ー、再結晶等の操作によって精製することも可能であ
る。
Embedded image [Wherein, R 11 and R 26 represent the same meaning as described above. Can be produced by reacting the compound of the formula (1) with or without a solvent. The reaction temperature is usually from room temperature to 150 ° C. or the boiling point of the solvent used.
Further, the reaction rate can be increased by removing by-product alcohol (methanol, ethanol, etc.) from the reaction system. The general formula [a-
The amount of the compound represented by the formula [49] is usually 1 to 5 mol per 1 mol of the compound represented by the general formula [a-43]. As the solvent used, for example, aliphatic hydrocarbons such as n-hexane, n-heptane, ligroin, cyclohexane, 1,2-dichloroethane, 1,2,2
Aliphatic halogenated hydrocarbons such as 3-trichloropropane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, aromatic halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, dichlorobenzene and benzotrifluoride, or a mixture thereof. No. After completion of the reaction, the reaction solution is filtered and concentrated as it is, the reaction solution is poured into water and the resulting crystals are collected by filtration, or the reaction solution is poured into an acid such as concentrated hydrochloric acid or water, and then The target compound can be obtained by ordinary post-treatment operations such as extraction with an organic solvent, washing with water, drying and concentration. The target compound can be purified by an operation such as chromatography and recrystallization.

【0071】〈工程A17−2〉:一般式[a−44]
で示される化合物から、一般式[a−48]で示される
化合物を製造する工程 一般式[a−48]で示される化合物は、一般式[a−
44]で示される化合物とシアン酸塩とを、プロトン酸
の存在下に55℃〜150℃にて反応させることにより
製造することができる。該反応に供されるシアン酸塩と
しては、シアン酸カリウム、シアン酸ナトリウム等が挙
げられ、該反応に供される酸としては、酢酸、プロピオ
ン酸、酪酸等の脂肪族カルボン酸類、安息香酸等の芳香
族カルボン酸類、p−トルエンスルホン酸、メタンスル
ホン酸等のスルホン酸類、塩酸、硫酸等の無機酸類、フ
ェニルホウ酸等のホウ酸等が挙げられる。該反応に供さ
れるシアン酸塩の量は、一般式[a−44]で示される
化合物1モルに対して、1モル〜10モルの割合であ
り、好ましくは1〜2モルの割合である。該反応に供さ
れる酸の量は、一般式[a−44]で示される化合物1
モルに対して、1.1モル〜大過剰量の割合である。該
反応は溶媒を用いることも可能であり、溶媒としては例
えばn−ヘキサン、n−ヘプタン、リグロイン、シクロ
ヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、1,2
−ジクロロエタン、1,2,3−トリクロロプロパン等
の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジク
ロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等の芳香族ハロゲ
ン化炭化水素類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エ
チレングリコールジメチルエーテル、ジグライム等のエ
ーテル類、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ニト
ロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニ
トリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド
等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等
の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物が挙げられる。
該反応は、通常30分〜100時間にて完結する。該反
応は好ましくは、まず初めに反応混合物を−20℃〜5
0℃にて熟成した後に、55℃〜150℃にて反応混合
物中の一般式[a−44]で示される化合物の大部分が
消失するまで熟成することにより行われる。反応終了後
の反応液は、濾過した後にそのまま濃縮するか、反応液
を水に注加して生じた結晶を濾取するか、反応液を水に
注加した後に有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理
操作に付し、目的物を得ることができる。尚、該化合物
はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製す
ることも可能である。
<Step A17-2>: General formula [a-44]
A process for producing a compound represented by the general formula [a-48] from a compound represented by the general formula [a-48]
44] and a cyanate salt at 55 ° C. to 150 ° C. in the presence of a protonic acid. Examples of the cyanate to be subjected to the reaction include potassium cyanate and sodium cyanate. Examples of the acid to be subjected to the reaction include aliphatic carboxylic acids such as acetic acid, propionic acid, and butyric acid, and benzoic acid. Aromatic carboxylic acids, sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid and methanesulfonic acid, inorganic acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid, and boric acid such as phenylboric acid. The amount of the cyanate to be subjected to the reaction is 1 to 10 mol, preferably 1 to 2 mol, per 1 mol of the compound represented by the general formula [a-44]. . The amount of the acid used for the reaction is determined by the amount of the compound 1 represented by the general formula [a-44].
The ratio is from 1.1 mol to a large excess with respect to the mol. The reaction may be carried out using a solvent. Examples of the solvent include aliphatic hydrocarbons such as n-hexane, n-heptane, ligroin, cyclohexane and petroleum ether;
Aliphatic halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, 1,2,3-trichloropropane, benzene, toluene,
Aromatic hydrocarbons such as xylene, aromatic halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, dichlorobenzene and benzotrifluoride; ethers such as dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and diglyme; ketones such as methyl isobutyl ketone; nitromethane , Nitro compounds such as nitrobenzene, nitriles such as acetonitrile, isobutyronitrile, N, N-
Examples thereof include acid amides such as dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; sulfur compounds such as dimethylsulfoxide and sulfolane; and mixtures thereof.
The reaction is usually completed in 30 minutes to 100 hours. The reaction is preferably carried out by first bringing the reaction mixture from -20 ° C to 5 ° C.
After aging at 0 ° C, aging is performed at 55 ° C to 150 ° C until most of the compound represented by the general formula [a-44] in the reaction mixture disappears. After completion of the reaction, the reaction solution is filtered and concentrated as it is, or the reaction solution is poured into water and the resulting crystals are collected by filtration, or the reaction solution is poured into water and then subjected to organic solvent extraction and concentration. The target product can be obtained by performing ordinary post-processing operations. The compound can be purified by an operation such as chromatography and recrystallization.

【0072】(中間体製造法18) [式中、R1、R15およびR17前記と同じ意味を表し、
27はt−ブチルジメチルシリル基等のトリアルキルシ
リル基;t−ブチル基、イソプロピル基、メチル基等の
置換されてもよいC1−C6アルキル基;ベンジル基等
の置換されてもよいベンジル基;メトキシメチル基、ア
セチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基等の保護基を表わし、R28は水素原子またはメチル
基、エチル基等のC1−C3アルキル基を表し、X21
臭素原子またはヨウ素原子を表し、X22は水素原子ま
たはフッ素原子を表し、Mは銅(I)等の1価の金属を
表す。] 一般式[a−51]で示される化合物は、一般式[a−
50]で示される化合物と一般式[XXXXIV]で示
されるシアン化金属塩とを反応することにより製造する
ことができる。該反応は、通常溶媒中で行われ、反応温
度の範囲は通常140℃〜250℃である。反応時間の
範囲は通常瞬時〜24時間である。該反応に供される一
般式[XXXXIV]で示されるシアン化金属塩として
は、シアン化銅が挙げられる。反応に供される試剤の量
は、一般式[a−50]で示される化合物で示される化
合物1モルに対して、一般式[XXXXIV]で示され
るシアン化金属塩の量は1モル〜過剰量の割合であり、
好ましくは1〜2モルであるが、反応の状況により任意
に変化させることができる。該反応において用いること
のできる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルム
アミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−
2−ピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシ
ド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合
物が挙げられる。反応終了後の反応液は、濾過した後に
そのまま濃縮するか、反応液を水に注加した後に有機溶
媒抽出、水洗浄、乾燥および濃縮する等の通常の後処理
操作に付し、目的化合物を得ることができる。尚、該目
的化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によっ
て精製することも可能である。
(Intermediate Production Method 18) [Wherein, R 1 , R 15 and R 17 represent the same meaning as described above,
R 27 is a trialkylsilyl group such as a t-butyldimethylsilyl group; a C1-C6 alkyl group which may be substituted such as a t-butyl group, an isopropyl group or a methyl group; a benzyl group which may be substituted such as a benzyl group A protecting group such as a methoxymethyl group, an acetyl group, a methoxycarbonyl group or an ethoxycarbonyl group; R 28 represents a hydrogen atom or a C1-C3 alkyl group such as a methyl group or an ethyl group; X 21 represents a bromine atom or iodine; X22 represents a hydrogen atom or a fluorine atom, and M represents a monovalent metal such as copper (I). The compound represented by the general formula [a-51] has the general formula [a-51]
50] and a metal cyanide salt represented by the general formula [XXXXXXIV]. The reaction is usually performed in a solvent, and the reaction temperature is usually from 140 ° C to 250 ° C. The range of the reaction time is usually from instant to 24 hours. Examples of the metal cyanide salt represented by the general formula [XXXXXXIV] to be subjected to the reaction include copper cyanide. The amount of the reagent to be subjected to the reaction is such that the amount of the metal cyanide salt represented by the general formula [XXXXXXIV] is 1 mol to excess per mol of the compound represented by the general formula [a-50]. Is the proportion of the quantity,
Preferably it is 1-2 mol, but it can be arbitrarily changed according to the reaction situation. Solvents that can be used in the reaction include, for example, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-
Examples thereof include acid amides such as 2-pyrrolidone, sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, and mixtures thereof. After completion of the reaction, the reaction solution is filtered and concentrated as it is, or the reaction solution is poured into water and then subjected to ordinary post-treatment operations such as extraction with an organic solvent, washing with water, drying and concentration to obtain the target compound. Obtainable. The target compound can be purified by an operation such as chromatography and recrystallization.

【0073】(中間体製造法19) [式中、R15、R17、R25、R27、X21、X22およびM
は前記と同じ意味を表す。] 一般式[a−53]で示される化合物は、例えば一般式
[a−52]で示される化合物と一般式[XXXXI
V]で示されるシアン化金属塩とを反応することにより
製造することができる。該反応は、通常溶媒中で行わ
れ、反応温度の範囲は通常140℃〜250℃である。
反応時間の範囲は通常瞬時〜24時間である。該反応に
供される一般式[XXXXIV]で示されるシアン化金
属塩としては、シアン化銅が挙げられる。反応に供され
る試剤の量は、一般式[a−52]で示される化合物で
示される化合物1モルに対して、一般式[XXXXI
V]で示されるシアン化合物の量は1モル〜過剰量の割
合であり、好ましくは1〜2モルであるが、反応の状況
により任意に変化させることができる。該反応において
用いることのできる溶媒としては、例えばN,N−ジメ
チルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N
−メチル−2−ピロリドン等の酸アミド類、ジメチルス
ルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれ
らの混合物が挙げられる。反応終了後の反応液は、濾過
した後にそのまま濃縮するか、反応液を水に注加した後
に有機溶媒抽出、水洗浄、乾燥および濃縮する等の通常
の後処理操作に付し、目的化合物を得ることができる。
尚、該目的化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操
作によって精製することも可能である。
(Intermediate Production Method 19) Wherein R 15 , R 17 , R 25 , R 27 , X 21 , X 22 and M
Represents the same meaning as described above. The compound represented by the general formula [a-53] includes, for example, a compound represented by the general formula [a-52] and a compound represented by the general formula [XXXXXXI]
V] and a metal cyanide salt thereof. The reaction is usually performed in a solvent, and the reaction temperature is usually from 140 ° C to 250 ° C.
The range of the reaction time is usually from instant to 24 hours. Examples of the metal cyanide salt represented by the general formula [XXXXXXIV] to be subjected to the reaction include copper cyanide. The amount of the reagent to be subjected to the reaction is based on 1 mol of the compound represented by the general formula [a-52] and 1 mol of the compound represented by the general formula [XXXXXXI]
The amount of the cyan compound represented by the formula [V] is from 1 mol to an excess amount, preferably from 1 to 2 mol, but can be arbitrarily changed depending on the reaction conditions. Examples of the solvent that can be used in the reaction include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N
Acid amides such as -methyl-2-pyrrolidone; sulfur compounds such as dimethylsulfoxide and sulfolane; and mixtures thereof. After completion of the reaction, the reaction solution is filtered and concentrated as it is, or the reaction solution is poured into water and then subjected to ordinary post-treatment operations such as extraction with an organic solvent, washing with water, drying and concentration to obtain the target compound. Obtainable.
The target compound can be purified by an operation such as chromatography and recrystallization.

【0074】一般式[XXXXII]で示される化合物
は、例えば、国際特許出願公開明細書WO98/088
24号に記載されているか、同公報に記載の方法に準じ
て製造することができ、一般式[XXXXI]で示され
る化合物、一般式[XXI]で示される化合物、一般式
[XXIV]で示される化合物,一般式[XX]で示さ
れる化合物および一般式[XXV]で示される化合物は
市販のものを用いるか、または公知の方法により製造す
ることができる。
The compound represented by the general formula [XXXXXXII] is described, for example, in International Patent Application Publication No. WO 98/088.
No. 24 or can be produced according to the method described in the publication, and can be represented by a compound represented by the general formula [XXXXI], a compound represented by the general formula [XXI], or a compound represented by the general formula [XXIV] The compound represented by the general formula [XX] and the compound represented by the general formula [XXV] can be commercially available or can be produced by a known method.

【0075】本発明化合物は、優れた除草効力を有し、
かつあるものは作物・雑草間に優れた選択性を示す。す
なわち本発明化合物は、畑地の茎葉処理および土壌処理
において、次に挙げられる問題となる種々の雑草に対し
て除草効力を有する。 アカバナ科雑草:オオマツヨイグサ(Oenother
a erythrosepala)、コマツヨイグサ
(Oenothera laciniata) キンポウゲ科雑草:トゲミノキツネノボタン(Ranu
nculus muricatus)、イボミキンポウ
ゲ(Ranunculus sardous) タデ科雑草:ソバカズラ(Polygonum con
volvulus)、サナエタデ(Polygonum
lapathifolium)、アメリカサナエタデ
(Polygonum pensylvanicu
m)、ハルタデ(Polygonum persica
ria)、ナガバギシギシ(Rumex crispu
s)、エゾノギシギシ(Rumex obtusifo
lius)、イタドリ(Poligonum cusp
idatum) スベリヒユ科雑草:スベリヒユ(Portulaca
oleracea) ナデシコ科雑草:ハコベ(Stellaria med
ia)、オランダミミナグサ(Cerastium g
lomeratum) アカザ科雑草:シロザ(Chenopodium al
bum)、ホウキギ(Kochia scopari
a) ヒユ科雑草:アオゲイトウ(Amaranthus r
etroflexus)、ホナガアオゲイトウ(Ama
ranthus hybridus) アブラナ科雑草:ワイルドラディッシュ(Raphan
us raphanistrum)、ノハラガラシ(S
inapis arvensis)、ナズナ(Caps
ella bursa−pastoris)、マメグン
バイナズナ(Lepidium virginicu
m)
The compound of the present invention has excellent herbicidal activity,
Some show excellent selectivity between crops and weeds. That is, the compound of the present invention has a herbicidal effect on various weeds, which are the following problems, in foliage treatment and soil treatment in the field. Red-bellied weed: Oenother
a erythrosepala), Oenothera laciniata Ranunculaceae weeds: Togemino foxne button (Ranu)
nculus muricatus, Ibomi buttercup (Ranunculus sardous) Polygonaceae Weed: Polygonum con
volvulus), Polygonum (Polygonum)
lapathifolium), Polygonum pensylvanicu
m), Hartade (Polygonum persica)
ria), Rumex crisp
s), Rumex obtusifo (Rumex obtusifo)
lius) and knotweed (Polygonum csp)
idatum) Purslaneaceae Weed: Purslane (Portulaca)
oleracea) Weeds of the family Coleoptera: Chickweed (Stellaria med)
ia), Dutch Cerastium g
lomeratum) Acalyaceae Weed: Shiroza (Chenopodial al)
bum), Butterfly (Kochia scopari)
a) Amaranthaceae weed: Amaranthus r
etroflexus)
lanthus hybridus Brassicaceae Weed: Wild Radish (Raphan)
us raphanistrum)
inapis arvensis, Capsicum (Caps)
bur bursa-pastoris) and Mamegunbainazu (Lepidium virginicu)
m)

【0076】マメ科雑草:アメリカツノクサネム(Se
sbania exaltata)、エビスグサ(Ca
ssia obtusifolia)、フロリダベガ−
ウィ−ド(Desmodium tortuosu
m)、シロツメクサ(Trifolium repen
s)、オオカラスノエンドウ(Vicia sativ
a)、コメツブウマゴヤシ(Medicago lup
ulina) アオイ科雑草:イチビ(Abutilon theop
hrasti)、アメリカキンゴジカ(Sida sp
inosa) スミレ科雑草:フィ−ルドパンジ−(Viola ar
vensis)、ワイルドパンジ−(Viola tr
icolor) アカネ科雑草:ヤエムグラ(Galium apari
ne) ヒルガオ科雑草:アメリカアサガオ(Ipomoea
hederacea)、マルバアサガオ(Ipomoe
a purpurea)、マルバアメリカアサガオ(I
pomoea hederacea var integ
riuscula)、マメアサガオ(Ipomoea
lacunosa)、セイヨウヒルガオ(Convol
vulus arvensis)
Legume weeds: American hornflower (Se
sbania exaltata), lobster (Ca
ssia obtusifolia), Florida Vega
Weed (Desmodium torutuosu)
m), white clover (Trifomium repen)
s), Vicia sativ (Vicia sativ)
a), Clickago palm (Medicago lup)
ulina) Malvaceae Weed: Abutilon theop
hrusti), American deer (Sida sp.)
inosa) Violet weeds: Field panji (Viola ar)
vensis), Wild Panji- (Viola tr)
icor) Rubiaceae Weed: Gallium apari
ne) Convolvulaceae weed: American morning glory (Ipomoea)
hederacea), Malva Asagao (Ipomoe)
a purpura), Malva American morning glory (I
pomoea hederacea var integ
riuscula) and bean sagao (Ipomoea)
lacunosa), Convolvulus convolvulus (Convol)
vulus arvensis)

【0077】シソ科雑草:ヒメオドリコソウ(Lami
um purpureum)、ホトケノザ(Lamiu
m amplexicaule) ナス科雑草:シロバナチョウセンアサガオ(Datur
a stramonium)、イヌホオズキ(Sola
num nigrum) ゴマノハグサ科雑草:オオイヌノフグリ(Veroni
ca persica)、タチイヌノフグリ(Vero
nica arvensis)、フラサバソウ(Ver
onica hederaefolia) キク科雑草:オナモミ(Xanthium pensy
lvanicum)、野生ヒマワリ(Helianth
us annuus)、カミツレ(Matricari
a chamomilla)、イヌカミツレ(Matr
icaria perforata or inodor
a)、コ−ンマリ−ゴ−ルド(Chrysanthem
um segetum)、コシカギク(Matrica
ria matricarioides)、ブタクサ
(Ambrosia artemisiifoli
a)、オオブタクサ(Ambrosia trifid
a)、ヒメムカシヨモギ(Erigeron cana
densis)、ヨモギ(Artemisia pri
nceps)、セイタカアワダチソウ(Solidag
o altissima)、セイヨウタンポポ(Tar
axacum officinale) ムラサキ科雑草:ワスレナグサ(Myosotis a
rvensis) ガガイモ科雑草:オオトウワタ(Asclepias
syriaca) トウダイグサ科雑草:トウダイグサ(Euphorbi
a helioscopia)、オオニシキソウ(Eu
phorbia maculata) フウロソウ科雑草:アメリカフウロ(Geranium
carolinianum)
Lamiaceae Weeds: Larvae (Lami)
um purpurum), Photohenosa (Lamiu)
amampicule) Solanaceae Weed: White Datura (Datur)
a Stramonium), Dog Physalis (Sola)
num nigrum Scrophulariaceae Weed: Veronica
ca persica), Tachiinoufuguri (Vero)
nica arvensis)
onica hederaefolia Asteraceae Weed: Xanthium pensy
lvanicum), wild sunflower (Helianth)
us annuus), chamomile (Matricari)
a chamomilla), dog chamomile (Matr)
icaria performata or inodor
a), Common Mary Gold (Chrysanthem)
um segetum), savory ostrich (Matrica)
ria matricarioides, Ragweed (Ambrosia artemisiifoli)
a), Ambrosia trifid
a), Artemisia cana
densis), mugwort (Artemisia pri)
nceps), Solidago (Solidag)
o altissima), Dandelion (Tar)
axacum officinale Weaselaceae Weed: Forget-me-nots (Myosotis a)
Ravensis (Coleoptera: Chrysomelidae): Asclepias
syriaca spurges weed: Euphorbi
a helioscopia), Onishikisou (Eu)
phorbia maculata Anthracidae Weed: Geranium
carolinianum)

【0078】カタバミ科雑草:ムラサキカタバミ(Ox
alis corymbosa) ウリ科雑草:アレチウリ(Sicyos angula
tus) イネ科雑草:イヌビエ(Echinochloa cr
us−galli)、エノコログサ(Setaria
viridis)、アキノエノコログサ(Setari
a faberi)、メヒシバ(Digitaria s
anguinalis)、オヒシバ(Eleusine
indica)、スズメノカタビラ(Poa annu
a)、ブラックグラス(Alopecurus myo
suroides)、カラスムギ(Avena fat
ua)、セイバンモロコシ(Sorghum hale
pense)、シバムギ(Agropyron rep
ens)、ウマノチャヒキ(Bromus tecto
rum)、ギョウギシバ(Cynodone dact
ylon)、オオクサキビ(Panicum dich
otomiflorum)、テキサスパニカム(Pan
icum texanum)、シャタ−ケ−ン(Sor
ghum vulgare)、スズメノテッポウ(Al
opecurus geniculatus) ツユクサ科雑草:ツユクサ(Commelina co
mmunis) トクサ科雑草:スギナ(Equisetum arve
nse) カヤツリグサ科雑草:コゴメガヤツリ(Cyperus
iria)、ハマスゲ(Cyperus rotund
us)、キハマスゲ(Cyperus esculen
tus)
Oxalis weeds: Purple oxalis (Ox
aris corymbosa Cucurbitaceae Weeds: Arechiuri (Sicyos angula)
tus) Grass weed: Echinochloa cr
us-galli), Enokorogosa (Setaria)
viridis), Aquinoe nokorogosa (Setari)
a faberi), Meishishiba (Digitalias)
anguinalis), Hawkgrass (Eleusine)
indica), Poa annua (Poa annu)
a), Blackgrass (Alopecurus myo)
suloides), oats (Avena fat)
ua), Sorghum sorghum (Sorghum hale)
pense), barley (Agropyron rep)
ens), Umanohashiki (Bromus tecto)
rum), Cynodone dact (Cynodone dact)
ylon), cane millet (Panicum dich)
otomiflorum), Texas honeycomb (Pan)
icum texanum), Shata cane (Sor
ghum vulgare)
opecurus geniculatus Cyperaceae Weed: Commelina co
mmunis) Rhododendron weeds: horsetail (Equisetum arve)
nse) Cyperaceae Weeds: Cygous cyperus (Cyperus)
iria), nectarine (Cyperus rotund)
us), yellowtail sedge (Cyperus esculen)
tus)

【0079】しかも、本発明化合物のあるものは、トウ
モロコシ(Zea mays)、コムギ(Tritic
um aestivum)、オオムギ(Hordeum
vulgare)、イネ(Orysa sativ
a)、ソルガム(Sorghumbicolor)、ダ
イズ(Glycine max)、ワタ(Gossyp
ium spp.)、テンサイ(Beta vulgar
is)、ピ−ナッツ(Arachis hypogae
a)、ヒマワリ(Helianthus annuu
s)、ナタネ(Brassica napus)等の主
要作物、花卉、蔬菜等の園芸作物に対して問題となるよ
うな薬害を示さない。また、本発明化合物は、ダイズ、
トウモロコシ、コムギ等の不耕起栽培において、問題と
なる種々の雑草を効果的に除草する事ができる。しか
も、本発明化合物中のあるものは、作物に対しては問題
となるような薬害を示さない。
Some of the compounds of the present invention include corn (Zea mays) and wheat (Tritic).
um aestivum), barley (Hordeum)
vulgare), rice (Orysa sativ)
a), Sorghumcolor, soybean (Glycine max), cotton (Gossip)
ium spp. ), Sugar beet (Beta vulgar)
is), peanuts (Arachis hypogae)
a) Sunflower (Helianthus annuu)
s), and does not show any phytotoxicity which would be a problem for main crops such as rapeseed (Brassica napus) and horticultural crops such as flowers and vegetables. Further, the compound of the present invention, soybean,
Various weeds that are problematic in non-tillage cultivation of corn, wheat, etc. can be effectively eliminated. Moreover, some of the compounds of the present invention do not exhibit any harmful effects on crops.

【0080】また本発明化合物は、水田の湛水処理にお
いて、次に挙げられる問題となる種々の雑草に対して除
草効力を有する。 イネ科雑草:タイヌビエ(Echinochloa o
ryzicola) ゴマノハグサ科雑草:アゼナ(Lindernia p
rocumbens) ミソハギ科雑草:キカシグサ(Rotala indi
ca)、ヒメミソハギ(Ammannia multi
flora) ミゾハコベ科雑草:ミゾハコベ(Elatine tr
iandra) カヤツリグサ科雑草:タマガヤツリ(Cyperus
difformis)、ホタルイ(Scirpus j
uncoides)、マツバイ(Eleocharis
acicularis)、ミズガヤツリ(Cyper
us serotinus)、クログワイ(Eleoc
haris kuroguwai) ミズアオイ科雑草:コナギ(Monochoria v
aginalis) オモダカ科雑草:ウリカワ(Sagittaria p
ygmaea)、オモダカ(Sagittaria t
rifolia)、ヘラオモダカ(Alismacan
aliculatum) ヒルムシロ科雑草:ヒルムシロ(Potamogeto
n distinctus) セリ科雑草:セリ(Oenanthe javanic
a) しかも本発明化合物中のあるものは、移植水稲に対して
問題となるような薬害を示さない。
Further, the compound of the present invention has a herbicidal effect on various weeds which are the following problems in flooding treatment of paddy fields. Grass weeds: Echinochloa o
ryzicola) Scrophulariaceae Weed: Azena (Lindernia p.
rocumbens) Loxodontaceae Weeds: Rota indi
ca), hamemisohagi (Ammannaia multi)
flora) Dipterocarpaceae Weeds: Dictyostelium (Elatine tr)
iandra) Cyperaceae Weeds: Cyperus
diffirmis), fireflies (Sirpus j)
uncoides, pine trees (Eleocharis)
Acicularis) and Cyperus (Cyper)
us serotinus, Krogwai (Eleoc)
haris kuroguwai Watermelonaceae Weed: Monochoria v
aginalis) Weeds: Urikawa (Sagittaria p.
ygmaea), Omodaka (Sagittariat)
rifolia), Spiderfish (Alismacan)
aliculatum Weevil: Weevil (Potamogeto)
N distinctus Apiaceae Weeds: Api (Oenanthe Javanic)
a) Moreover, some of the compounds of the present invention do not show any phytotoxicity that would cause a problem for transplanted rice.

【0081】さらに、本発明化合物は、例えば、堤防の
のり面、河川敷、道路の路肩及びのり面、鉄道敷、公園
緑地、グランド、駐車場、空港、工場および貯蔵設備等
の工業施設用地、休耕地、あるいは、市街の有休地等の
雑草の生育を制御する必要のある非農耕地、あるいは、
樹園地、牧草地、芝生地、林業地等に発生する広範囲の
雑草を除草できる。また本発明化合物は、河川、水路、
運河、貯水池等に発生する、ホテイアオイ(Eichh
ornia crassipes)等の水生雑草に除草
効力を有する。本発明化合物は、国際特許出願公開明細
書WO95/34659号明細書に記載される除草性化
合物と同様な特性を有し、該明細書に記載される、除草
剤耐性遺伝子等が導入される事により除草剤に対する耐
性の付与された作物を栽培する場面においては、耐性の
付与されていない通常の作物の栽培時に使用されるより
多くの薬量の本発明化合物の使用が可能となり、好まし
くない他の植物をより効果的に除草する事ができる。
Furthermore, the compound of the present invention can be used, for example, on slopes of embankments, riverbeds, road shoulders and slopes, railroads, parks, parks, grounds, parking lots, airports, lands for industrial facilities such as factories and storage facilities, and rest areas. Arable land, or non-agricultural land where weed growth needs to be controlled, such as in urban land, or
A wide range of weeds that occur in orchards, pastures, lawns, and forests can be removed. The compound of the present invention can be used in rivers, waterways,
Water hyacinth (Eichh) which occurs in canals and reservoirs
herbicides on aquatic weeds such as Ornia crassipes. The compound of the present invention has properties similar to those of the herbicidal compound described in International Patent Application Publication No. WO95 / 34659, and the herbicide resistance gene and the like described in the specification are introduced. In the case of cultivating crops imparted with herbicide tolerance, it becomes possible to use the compound of the present invention at a higher dose than that used in cultivation of normal crops without tolerance, which is undesirable. Weeds can be effectively removed.

【0082】本発明化合物を除草剤の有効成分として用
いる場合には、通常固体担体、液体担体、界面活性剤、
その他の製剤用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁
剤、粒剤、濃厚エマルジョン、顆粒水和剤等に製剤す
る。これらの製剤には、有効成分として本発明化合物を
重量比で0.001〜80%、好ましくは、0.005
〜70%含有する。固体担体としては、カオリンクレ
−、アタパルジャイトクレ−、ベントナイト、酸性白
土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱
物質微粉末、クルミ殻粉等の有機物微粉末、尿素等の水
溶性有機微粉末、硫酸アンモニウム等の無機塩微粉末お
よび合成含水酸化珪素の微粉末が挙げられ、液体担体と
しては、メチルナフタレン、フェニルキシリルエタン、
キシレン等のアルキルベンゼン等の芳香族炭化水素類、
イソプロパノ−ル、エチレングリコ−ル、2−エトキシ
エタノ−ル等のアルコ−ル類、フタル酸ジアルキルエス
テル等のエステル類、アセトン、シクロヘキサノン、イ
ソホロン等のケトン類、マシン油等の鉱物油、大豆油、
綿実油等の植物油、ジメチルスルフォキシド、N,N−
ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、N−メチルピ
ロリドン、水等が挙げられる。乳化、分散、湿展等のた
めに用いられる界面活性剤としては、アルキル硫酸エス
テル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリ−ルスル
ホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエ
チレンアルキルアリ−ルエ−テルリン酸エステル塩等の
陰イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエ−
テル、ポリオキシエチレンアルキルアリ−ルエ−テル、
ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポ
リマ−、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレ
ンソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等
が挙げられる。その他の製剤用補助剤としては、リグニ
ンスルホン酸塩、アルギン酸塩、ポリビニルアルコ−
ル、アラビアガム、CMC(カルボキシメチルセルロ−
ス)、PAP(酸性リン酸イソプロピル)等が挙げられ
る。
When the compound of the present invention is used as an active ingredient of a herbicide, a solid carrier, a liquid carrier, a surfactant,
It is mixed with other formulation auxiliaries to form emulsions, wettable powders, suspensions, granules, concentrated emulsions, wettable granules and the like. These preparations contain the compound of the present invention as an active ingredient in a weight ratio of 0.001 to 80%, preferably 0.005 to 80%.
7070%. As a solid carrier, mineral powder such as kaolin clay, attapulgite clay, bentonite, acid clay, pyrophyllite, talc, diatomaceous earth, calcite, organic fine powder such as walnut shell powder, and water-soluble organic fine powder such as urea Examples thereof include fine powders of inorganic salts such as ammonium sulfate and fine powders of synthetic hydrous silicon oxide. As the liquid carrier, methylnaphthalene, phenylxylylethane,
Aromatic hydrocarbons such as alkylbenzene such as xylene,
Alcohols such as isopropanol, ethylene glycol and 2-ethoxyethanol, esters such as dialkyl phthalate, ketones such as acetone, cyclohexanone and isophorone, mineral oil such as machine oil, soybean oil ,
Vegetable oils such as cottonseed oil, dimethyl sulfoxide, N, N-
Examples include dimethylformamide, acetonitrile, N-methylpyrrolidone, water and the like. Surfactants used for emulsification, dispersion, wet spreading, etc. include alkyl sulfates, alkyl sulfonates, alkyl aryl sulfonates, dialkyl sulfosuccinates, polyoxyethylene alkyl aryl ether phosphates. Anionic surfactants such as ester salts, polyoxyethylene alkyl ethers;
Ter, polyoxyethylene alkyl aryl ether,
Examples include nonionic surfactants such as polyoxyethylene polyoxypropylene block copolymer, sorbitan fatty acid ester, and polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester. Other auxiliaries for preparations include ligninsulfonate, alginate, polyvinyl alcohol-
, Gum arabic, CMC (carboxymethylcellulo-
And PAP (acidic isopropyl phosphate).

【0083】本発明化合物は、通常製剤化して雑草の出
芽前または出芽後に土壌処理、茎葉処理または湛水処理
する。土壌処理には、土壌表面処理、土壌混和処理等が
あり、茎葉処理には、植物体の上方からの処理のほか、
作物に付着しないように雑草に限って処理する局部処理
等がある。また他の除草剤と混合して用いる事により、
除草効力の増強が認められる場合がある。さらに、殺虫
剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥
料、土壌改良剤等と混用または併用することもできる。
かかる除草剤の例を以下に示す。 アトラジン(atrazine)、シアナジン(cya
nazine)、ジメタメトリン(dimethame
tryn)、メトリブジン(metribuzin)、
プロメトリン(prometryn)、シマジン(si
mazine)、シメトリン(simetryn)、ク
ロルトルロン(chlorotoluron)、ジウロ
ン(diuron)、フルオメツロン(fluomet
uron)、イソプロチュロン(isoproturo
n)、リニュロン(linuron)、メタベンズチア
ズロン(methabenzthiazuron)、プ
ロパニル(propanil)、ベンタゾン(bent
azone)、ブロモキシニル(bromoxyni
l)、アイオキシニル(ioxynil)、ピリデ−ト
(pyridate) ブタミフォス(butamifos)、ジチオピル(d
ithiopyr)、エタルフルラリン(ethalf
luralin)、ペンディメサリン(pendime
thalin)、チアゾピル(thiazopyr)、
トリフルラリン(trifluralin)、アセトク
ロ−ル(acetochlor)、アラクロ−ル(al
achlor)、ブタクロ−ル(butachlo
r)、ジエタチルエチル(diethatyl−eth
yl)、ジメテンアミド(dimethenami
d)、フルチアミド(fluthiamide)、メフ
ェナセット(mefenacet)、メトラクロ−ル
(metolachlor)、プレチラクロ−ル(pr
etilachlor)、プロパクロ−ル(propa
chlor)、シンメシリン(cinmethyli
n) アシフルオルフェン(acifluorfen)、アシ
フルオルフェンNa塩(acifluorfen−so
dium)、ベンズフェンジゾン(benzfendi
zone)、ビフェノックス(bifenox)、ブタ
フェナシル(butafenacil)、クロメトキシ
ニル(chlomethoxynil)、フォメサフェ
ン(fomesafen)、ラクトフェン(lacto
fen)、オキサジアゾン(oxadiazon)、オ
キサジアルギル(oxadiargyl)、オキシフル
オルフェン(oxyfluorfen)、カルフェント
ラゾンエチル(carfentrazone−ethy
l)、フルアゾレート(fluazolate)、フル
ミクロラックペンチル(flumiclorac−pe
ntyl)、フルミオキサジン(flumioxazi
ne)、フルチアセットメチル(fluthiacet
−methyl)、イソプロパゾール(isoprop
azol)、サルフェントラゾン(sulfentra
zone)、チジアジミン(thidiazimi
n)、アザフェニジン(azafenidin)、ピラ
フルフェンエチル(pyraflufen−ethy
l)、シニドンエチル(cinidon−ethyl) ジフェンゾコ−ト(difenzoquat)、ジクワ
ット(diquat)、パラコ−ト(paraqua
t)
The compound of the present invention is usually formulated and subjected to soil treatment, foliage treatment or flooding treatment before or after emergence of weeds. Soil treatment includes soil surface treatment and soil admixture treatment.
There is a local treatment for treating only weeds so as not to adhere to crops. In addition, by using it by mixing with other herbicides,
Increased herbicidal efficacy may be observed. Furthermore, it can be mixed or used in combination with an insecticide, an acaricide, a nematicide, a fungicide, a plant growth regulator, a fertilizer, a soil conditioner, and the like.
Examples of such herbicides are shown below. Atrazine, cyanazine (cya)
nazine), dimethamethrin (dimethameme)
trin), metribuzin,
Promethrin, simazine (si
mazine), simetryn (symmetryn), chlortoluron, diuron, fluometuron (fluomet)
uron), isoproturon (isoproturon)
n), linuron, metabenzthiazuron, propanil, bentazone (bent)
azone), bromoxynil
l), ioxynil, pyridate butamifos, dithiopyr (d
ithiopyr), etalfluralin (ethalf)
luralin), pendimesalin (pendime)
thalin), thiazopyr,
Trifluralin, acetochlor, arachlor (al
achlor, butachlor
r), diethatyl-ethyl
yl), dimethenamide (dimethenamide)
d), fluthiamide, mefenacet, metrachlor, pretilachlor (pr)
etilachlor), propachlor (propa)
chlor), cinmethililine (cinmethyli)
n) Acifluorfen, acifluorfen-Na salt (acifluorfen-so)
dim), benzfendizone
zone), bifenox, butafenacil, chlomethoxynil, fomesafen, lactofen
fen), oxadiazon, oxadiargyl, oxyfluorfen, carfentrazone-ethyl
l), fluazolate, fullmicrolacpentyl (flumiclorac-pe)
ntyl), flumioxazin (flumioxazi)
ne), fluthiacet methyl
-Methyl), isopropazole (isoprop)
azol), sulfentrazone (sulfentra)
zone), thidiazimine
n), azafenidin, pyraflufen-ethyl
l), sinidone-ethyl difenzoquat, diquat, paraquat
t)

【0084】2,4−D、2,4−DB、クロピラリド
(clopyralid)、ジカンバ(dicamb
a)、フルロキシピル(fluroxypyr)、MC
PA、MCPB、メコプロップ(mecoprop)、
キンクロラック(quinclorac)、トリクロピ
ル(triclopyr) アジムスルフロン(azimsulfuron)、ベン
スルフロンメチル(bensulfuron−meth
yl)、クロリムロンエチル(chlorimuron
−ethyl)、クロルスルフロン(chlorsul
furon)、クロランスラムメチル(clorans
ulam−methyl)、シクロスルファムロン(c
yclosulfamuron)、ジクロスラム(di
closulam)、エトキシスルフロン(ethox
ysulfuron)、フラザスルフロン(flaza
sulfuron)、フルカルバゾン(flucarb
azone)、フルメツラム(flumetsula
m)、フルピリスルフロン(flupyrsulfur
on)、ハロスルフロンメチル(halosulfur
on−methyl)、イマゾスルフロン(imazo
sulfuron)、アイオドスルフロン(iodos
ulfuron)、メトスラム(metosula
m)、メツルフロンメチル(metsulfuron−
methyl)、ニコスルフロン(nicosulfu
ron)、オキサスルフロン(oxasulfuro
n)、プリミスルフロンメチル(primisulfu
ron−methyl)、プロカルバゾンNa塩(pr
ocarbazone−sodium)、プロスルフロ
ン(prosulfuron)、ピラゾスルフロンエチ
ル(pyrazosulfuron−ethyl)、リ
ムスルフロン(rimsulfuron)、サルフォメ
ツロンメチル(sulfometuron−methy
l)、スルフォスルフロン(sulfosulfuro
n)、トリアスルフロン(triasulfuro
n)、トリベニュロンメチル(tribenuron−
methyl)、トリトスルフロン(tritosul
furon)、チフェンスルフロンメチル(thife
nsulfuron−methyl)、トリフルスルフ
ロンメチル(triflusulfuron−meth
yl)、ピリベンゾキシム(pyribenzoxi
m)、ビスピリバックNa塩(bispyribac−
sodium)、ピリミノバックメチル(pyrimi
nobac−methyl)、ピリチオバックNa塩
(pyrithiobac−sodium)、イマザメ
ス(imazameth)、イマザメタベンズメチル
(imazamethabenz−methyl)、イ
マザモックス(imazamox)、イマザピック(i
mazapic)、イマザピル(imazapyr)、
イマザキン(imazaquin)、イマゼタピル(i
mazethapyr) テプラロキシジム(tepraloxydim)、アロ
キシジムNa塩(alloxydim−sodiu
m)、クレトジム(clethodim)、クロディナ
ホッププロパルギル(clodinafop−prop
argyl)、シハロホップブチル(cyhalofo
p−butyl)、ジクロホップメチル(diclof
op−methyl)、フェノキサプロップ−エチル
(fenoxaprop−ethyl)、フェノキサプ
ロップ−p−エチル(fenoxaprop−p−et
hyl)、フルアジホップブチル(fluazifop
−buthyl)、フルアジホップ−p−ブチル(fl
uazifop−p−butyl)、ハロキシホップメ
チル(haloxyfop−methyl)、キザロホ
ップ−p−エチル(quizalofop−p−eth
yl)、セトキシジム(sethoxydim)、トラ
ルコキシジム(tralkoxydim)
2,4-D, 2,4-DB, clopyralid, dicamba
a), fluroxypyr, MC
PA, MCPB, mecoprop,
Quinclorac, triclopyr azimsulfuron, bensulfuron-meth
yl), chlorimuron ethyl
-Ethyl), chlorsulfuron (chlorsul)
furon), cloranslam methyl (clorans)
ulam-methyl), cyclosulfamuron (c
iclosulfamuron, dicloslam (di)
Closlam), ethoxysulfuron (ethox)
ysulfuron), flazasulfuron (flaza)
sulfuron), flucarbazone (flucarb)
azone), flumetsura (flumetsula)
m), flupyrsulfur (flupyrsulfur)
on), halosulfuron methyl (halosulfur)
on-methyl), imazosulfuron (imazo)
sulfuron), iodosulfuron (iodos)
ulfuron), metosura (methosula)
m), metsulfuron-methyl (metsulfuron-
methyl), nicosulfuron (nicosulfu)
ron), oxasulfuron
n), primisulfuron methyl (primisulfu)
ron-methyl), procarbazone Na salt (pr
ocarbazone-sodium, prosulfuron, pyrazosulfuron-ethyl, rimsulfuron, sulfometuron-methyl
l), sulfosulfuron (sulfosulfuron)
n), triasulfuron
n), tribenuron-methyl (tribenuron-
methyl), tritosulfuron (tritosul)
furon), thifensulfuron-methyl (this)
nsulfuron-methyl, triflusulfuron-methyl
yl), pyribenzonoxi
m), bispyribac-Na salt (bispyribac-
sodium, pyriminobac-methyl (pyrimi)
nobac-methyl, pyrithiobac-sodium, imazameth, imazamethabenz-methyl, imazamox, imazapic (i)
mazapic), imazapyr (imazapyr),
Imazaquin (imazaquin), imazethapyr (i
mazethapyr) Tepraloxydim, alloxydim Na salt (alloxydim-sodiu)
m), clethodim, clodinahop-propargyl (clodinafop-prop)
argyl), cyhalofobutyl (cyhalofo)
p-butyl, diclohopmethyl (diclof)
op-methyl), fenoxaprop-ethyl, fenoxaprop-ethyl, fenoxaprop-ethyl
hyl), fluazifop butyl (fluazifop)
-Butyl), fluazifop-p-butyl (fl
uazipop-p-butyl, haloxyfop-methyl, quizalofop-p-ethyl (quizalofop-p-eth)
yl), sethoxydim, traloxydim

【0085】ジフルフェニカン(diflufenic
an)、フルルタモン(flurtamone)、ノル
フルラゾン(norflurazone)、ベンゾフェ
ナップ(benzofenap)、イソキサフルト−ル
(isoxaflutole)、ピラゾレ−ト(pyr
azolate)、ピラゾキシフェン(pyrazox
yfen)、サルコトリオン(sulcotrion
e)、クロマゾン(clomazone)、メソトリオ
ン(mesotrione)、イソキサクロルトール
(isoxachlortole) ビアラフォス(bialaphos)、グルフォシネ−
トアンモニウム塩(glufosinate−ammo
nium)、グリフォセ−ト(glyphosat
e)、スルフォセート(sulfosate) ジクロベニル(dichlobenil)、イソキサベ
ン(isoxaben) ベンチオカ−ブ(benthiocarb)、ブチレ−
ト(butylate)、ジメピペレ−ト(dimep
iperate)、EPTC、エスプロカーブ(esp
rocarb)、モリネ−ト(molinate)、ピ
リブチカーブ(pyributicarb)、トリアレ
−ト(triallate) ジフルフェンゾピル(diflufenzopyr) ブロモブチド(bromobutide)、DSMA、
MSMA、カフェンストロ−ル(cafenstro
l)、ダイムロン(daimuron)、エポプロダン
(epoprodan)、フルポキサム(flupox
am)、メトベンズロン(metobenzuro
n)、ペントキサゾン(pentoxazone)、ピ
ペロフォス(piperophos)、トリアジフラム
(triaziflam) ベフルブタミド(beflubutamid)、ベンゾ
バイサイクロン(benzobicyclon)、クロ
メプロップ(clomeprop)、フェントラズアミ
ド(fentrazamide)、フルフェナセット
(flufenacet)、フロラスラム(flora
sulam)、インダノファン(indanofa
n)、イソキサジフェン(isoxadifen)、メ
ソトリオン(mesotrione)、ナプロアニリド
(naploanilide)、オキサジクロメフォン
(oxaziclomefone)、ペソキシアミド
(pethoxyamid)、フェノチオ−ル(phe
nothiol)、ピリダフォル(pyridafo
l)
Diflufenic (diflufenic)
an), flurtamone, norflurazone, benzofenap, isoxaflutole, pyrazolate (pyr)
azolate), pyrazoxifen (pyrazox)
yfen), sulcotrion
e), clomazone, mesotrione, isoxachlortor, bialaphos, glufocine
Ammonium salt (glufosinate-ammo)
nium), glyphosat (glyphosat)
e), sulfosate dichlobenil, isoxaben benthiocarb, butyrate
(Butylate), dime pipette (dimep)
iperate), EPTC, esprocarb (esp)
rocarb, molinate, pyributicarb, trilatelate diflufenzopyr bromobutide, DSMA,
MSMA, cafenstrol
l), daimuron, epoprodan, flupoxam (flupox)
am), metobenzuron
n), pentoxazone, piperophos, triaziflam, beflubutamid, benzobicyclone, benzobifenclos, clomeprop, clomepropane, clomepropane, clomeprop, clomeprop, clomeprop, framezap, clomeprop; flora
sulam), indanofan (indanofa)
n), isoxadifen, mesotrione, naproanilide, oxaziclomefone, pesoxyamide, phenothiol
nothiol), pyridafor (pyridafo)
l)

【0086】上記化合物はファ−ムケミカルズハンドブ
ック(マイスタ−パブリッシングカンパニ−)〔Far
m Chemical Handbook(Meiste
r Publishing Company)〕1995
年度版のカタログ、アグケムニュ−コンパウンドレビュ
−1995版(アグケムインフォメ−ションサ−ビス)
〔AG CHEM NEW COMPOUND REVIE
W, VOL.13,1995 (AG CHEM INF
ORMATION SERVICE)〕、アグケムニュ
−コンパウンドレビュ−1997版(アグケムインフォ
メ−ションサ−ビス)〔AG CHEM NEW COM
POUND REVIEW, VOL.15,1997
(AG CHEM INFORMATION SERVI
CE)〕、アグケムニュ−コンパウンドレビュ−199
8版(アグケムインフォメ−ションサ−ビス)〔AG
CHEM NEW COMPOUND REVIEW, V
OL.16,1998(AG CHEM INFORMA
TION SERVICE)〕、アグケムニュ−コンパ
ウンドレビュ−1999版(アグケムインフォメ−ショ
ンサ−ビス)〔AG CHEM NEW COMPOUN
D REVIEW, VOL.17,1999(AG CH
EM INFORMATION SERVICE)〕、
「除草剤研究総覧(博友社)」に記載されているか、
「除草剤研究総覧(博友社)」に記載されている。本発
明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合、その処
理量は、気象条件、製剤形態、処理時期、処理方法、土
壌条件、対象作物、対象雑草によっても異なるが、1ヘ
クタ−ル当たり通常0.01g〜20000g、好まし
くは1g〜12000gであり、乳剤、水和剤、懸濁
剤、濃厚エマルジョン、顆粒水和剤等は、通常その所定
量を1ヘクタ−ル当たり10リットル〜1000リット
ルの(必要ならば展着剤等の補助剤を添加した)水で希
釈して処理し、粒剤、ある種の懸濁剤は通常なんら希釈
することなくそのまま処理する。ここで必要に応じて用
いられる補助剤としては、前記の界面活性剤の他、ポリ
オキシエチレン樹脂酸(エステル)、リグニンスルホン
酸塩、アビエチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホン酸
塩、クロップオイルコンセントレイト(crop oi
l concentrate)、大豆油、コ−ン油、綿
実油、ヒマワリ油等の植物油等が挙げられる。また、本
発明化合物は、ワタの落葉剤・乾燥剤、ジャガイモ(S
olanumtuberosum)の乾燥剤等の収穫補
助剤の有効成分として用いる事ができる。その場合、本
発明化合物を、除草剤の有効成分として用いる場合と同
様に通常製剤化して、作物の収穫前に、単独または他の
収穫補助剤と混合して茎葉処理する。
The above compounds were obtained from Farm Chemicals Handbook (Meister Publishing Company) [Far
m Chemical Handbook (Meiste
r Publishing Company) 1995
Annual version of the catalog, Agchem New Compound Review 1995 (Agchem Information Service)
[AG CHEM NEW COMPOUND REVIE
W, VOL. 13, 1995 (AG CHEM INF
ORMATION SERVICE)], Agchem New Compound Review 1997 Edition (Agchem Information Service) [AG CHEM NEW COM
POUND REVIEW, VOL. 15, 1997
(AG CHEM INFORMATION SERVI
CE)], Agchemnu-Compound Review-199
Eighth Edition (Agchem Information Service) [AG
CHEM NEW COMPOUND REVIEW, V
OL. 16, 1998 (AG CHEM INFORMA
AG SERVICE)], Agchem New Compound Review 1999 Edition (Agchem Information Service) [AG CHEM NEW COMPOUN]
D REVIEW, VOL. 17, 1999 (AG CH
EM INFORMATION SERVICE)],
Listed in the Herbicide Research Directory (Hakutosha),
It is described in "Herbicide Research Directory (Hakutosha)". When the compound of the present invention is used as an active ingredient of a herbicide, the treatment amount varies depending on weather conditions, preparation form, treatment time, treatment method, soil conditions, target crops and target weeds, but is usually 0 per hectare. 0.011 g to 20000 g, preferably 1 g to 12000 g. Emulsions, wettable powders, suspensions, concentrated emulsions, wettable powders and the like are usually prepared in a predetermined amount of 10 to 1000 liters per hectare ( If necessary, the mixture is diluted with water (supplemented with an auxiliary such as a spreading agent) and treated, and granules and certain suspending agents are usually treated without dilution. Here, as an auxiliary agent used as needed, in addition to the above-mentioned surfactant, polyoxyethylene resin acid (ester), lignin sulfonate, abietic acid salt, dinaphthylmethane disulfonate, crop oil concentrate ( crop oi
l concentrate), vegetable oils such as soybean oil, corn oil, cottonseed oil, sunflower oil and the like. In addition, the compound of the present invention can be used as a cotton defoliant / desiccant, potato (S
olanumtuberosum) can be used as an active ingredient of a harvesting aid such as a desiccant. In this case, the compound of the present invention is usually formulated in the same manner as when used as an active ingredient of a herbicide, and foliage treatment is carried out alone or in combination with another harvesting aid before harvesting the crop.

【0087】[0087]

【実施例】以下、本発明を製造例、製剤例および試験例
等により、さらに詳しく説明するが、本発明はこれらの
例に限定されるものではない。まず、本発明化合物の製
造例および製造中間体の製造例を示す。本発明化合物の
化合物番号は、後記の表1〜表30に記載の番号であ
る。 製造例1:本発明化合物1−1の製造 4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−
2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,
2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェ
ノキシ}フェノール(中間体製造例1を参照)0.43
gをN,N−ジメチルホルムアミド2.0mlに溶解
し、無水炭酸カリウム0.15gを加え、室温攪拌下、
2−ブロモプロピオン酸メチル0.17gを加えた後、
70℃で3時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、
該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有
機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付し、2−[4−{2−クロロ−4−フルオロ−
5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフル
オロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジ
ン−1−イル]フェノキシ}フェノキシ]プロピオン酸
メチル〔本発明化合物1−1〕0.39gを得た。1 H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(pp
m):1.61(d,3H,J=6.9Hz ),3.
52(s,3H),3.77(s,3H),4.70
(q,1H,J=6.7Hz),6.31(s,1
H),6.7−6.8(m,1H),6.8−6.9
(m,2H),6.9−7.0(m,2H),7.36
(d,1H,J=9.0Hz)
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to Production Examples, Formulation Examples and Test Examples, but the present invention is not limited to these Examples. First, a production example of the compound of the present invention and a production example of a production intermediate are shown. The compound numbers of the compounds of the present invention are the numbers described in Tables 1 to 30 below. Production Example 1: Production of compound 1-1 of the present invention 4- {2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-
2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,
2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxydiphenol (see Intermediate Production Example 1) 0.43
g, was dissolved in 2.0 ml of N, N-dimethylformamide, and 0.15 g of anhydrous potassium carbonate was added.
After adding 0.17 g of methyl 2-bromopropionate,
Stirred at 70 ° C. for 3 hours. After cooling the reaction to room temperature,
The reaction solution was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with brine, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2- [4- {2-chloro-4-fluoro-
Methyl 5- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxy} phenoxy] propionate [Compound 1-1 of the present invention] 0.39 g was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 300MHz) δ (pp
m): 1.61 (d, 3H, J = 6.9 Hz);
52 (s, 3H), 3.77 (s, 3H), 4.70
(Q, 1H, J = 6.7 Hz), 6.31 (s, 1
H), 6.7-6.8 (m, 1H), 6.8-6.9.
(M, 2H), 6.9-7.0 (m, 2H), 7.36
(D, 1H, J = 9.0 Hz)

【0088】製造例2:本発明化合物2−1の製造 3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−
2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,
2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェ
ノキシ}フェノール(中間体製造例2を参照)0.30
gをN,N−ジメチルホルムアミド1.4mlに溶解
し、無水炭酸カリウム0.10gを加え、室温攪拌下、
2−ブロモプロピオン酸メチル0.11gを加えた後、
70℃で3時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、
該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有
機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付し、2−[3−{2−クロロ−4−フルオロ−
5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフル
オロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジ
ン−1−イル]フェノキシ}フェノキシ]プロピオン酸
メチル〔本発明化合物2−1〕0.28gを得た。1 H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(pp
m):1.60(d,3H,J=7.0Hz ),3.
53(s,3H),3.75(s,3H),4.74
(q,1H,J=6.7Hz),6.32(s,1
H),6.5−6.7(m,3H),6.9−7.0
(m,1H),7.1−7.3(m,1H),7.38
(d,1H,J=8.9Hz)
Production Example 2: Production of compound 2-1 of the present invention 3- {2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-
2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,
2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxydiphenol (see Intermediate Preparation Example 2) 0.30
g, dissolved in N, N-dimethylformamide (1.4 ml), and anhydrous potassium carbonate (0.10 g) was added thereto.
After adding 0.11 g of methyl 2-bromopropionate,
Stirred at 70 ° C. for 3 hours. After cooling the reaction to room temperature,
The reaction solution was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with brine, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2- [3- {2-chloro-4-fluoro-
Methyl 5- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxy} phenoxy] propionate [Compound 2-1 of the present invention] 0.28 g was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 300MHz) δ (pp
m): 1.60 (d, 3H, J = 7.0 Hz);
53 (s, 3H), 3.75 (s, 3H), 4.74
(Q, 1H, J = 6.7 Hz), 6.32 (s, 1
H), 6.5-6.7 (m, 3H), 6.9-7.0.
(M, 1H), 7.1-7.3 (m, 1H), 7.38
(D, 1H, J = 8.9 Hz)

【0089】製造例3:本発明化合物3−1の製造 2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−
2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,
2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェ
ノキシ}フェノール0.23gをN,N−ジメチルホル
ムアミド6mlに溶解し、無水炭酸カリウム0.22g
を加え、室温攪拌下、2−ブロモプロピオン酸メチル
0.13gを加えた後、80℃で3時間攪拌した。反応
液を室温に冷却した後、該反応液を氷水に注加し、酢酸
エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し、2−[2−{2−
クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジ
オキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6
−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}フ
ェノキシ]プロピオン酸メチル〔本発明化合物3−1〕
0.23gを得た。1 H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(pp
m):1.47(d,3H,J=6.8Hz ),3.
50(q,3H,J=0.7Hz),3.6−3.8
(m,3H),4.6−4.8(m,1H),6.28
(s,1H),6.7−6.8(m,1H),6.8−
6.9(m,1H),6.9−7.1(m,1H),
7.1−7.2(m,2H),7.3−7.4(m,1
H)
Production Example 3: Production of Compound 3-1 of the Present Invention 2- {2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-
2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,
0.23 g of 2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxydiphenol was dissolved in 6 ml of N, N-dimethylformamide, and 0.22 g of anhydrous potassium carbonate was dissolved.
And 0.13 g of methyl 2-bromopropionate was added under stirring at room temperature, followed by stirring at 80 ° C. for 3 hours. After the reaction solution was cooled to room temperature, the reaction solution was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with brine, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2- [2- {2-
Chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6
-Tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxy {phenoxy] methyl propionate [Compound 3-1 of the present invention]
0.23 g was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 250MHz) δ (pp
m): 1.47 (d, 3H, J = 6.8 Hz);
50 (q, 3H, J = 0.7 Hz), 3.6-3.8
(M, 3H), 4.6-4.8 (m, 1H), 6.28
(S, 1H), 6.7-6.8 (m, 1H), 6.8-
6.9 (m, 1H), 6.9-7.1 (m, 1H),
7.1-7.2 (m, 2H), 7.3-7.4 (m, 1
H)

【0090】製造例3記載と同様な方法(製造法1)に
て製造された本発明化合物の物性値を以下に示す。 2−[2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メ
チル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)
−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イ
ル]フェノキシ}フェノキシ]プロピオン酸エチル〔本
発明化合物3−2〕1H−NMR(CDCl3/250M
Hz)δ(ppm):1.23(t,3H,J=7.1
Hz),1.47(d,3H,J=6.8Hz ),
3.50(s,3H),4.1−4.3(m,2H),
4.6−4.8(m,1H),6.3−6.4(m,1
H),6.7−7.0(m,3H),7.0−7.2
(m,2H),7.3−7.4(m,1H)
The physical properties of the compound of the present invention produced by the same method as described in Production Example 3 (Production Method 1) are shown below. 2- [2- {2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl)
Ethyl-1, -2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxy {phenoxy] propionate [Compound 3-2 of the present invention] 1 H-NMR (CDCl 3 / 250M
Hz) δ (ppm): 1.23 (t, 3H, J = 7.1)
Hz), 1.47 (d, 3H, J = 6.8 Hz),
3.50 (s, 3H), 4.1-4.3 (m, 2H),
4.6-4.8 (m, 1H), 6.3-6.4 (m, 1
H), 6.7-7.0 (m, 3H), 7.0-7.2.
(M, 2H), 7.3-7.4 (m, 1H)

【0091】 [2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル
−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−
1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]
フェノキシ}フェノキシ]酢酸メチル〔本発明化合物3
−11〕 融点:116.4℃ [2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル
−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−
1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]
フェノキシ}フェノキシ]酢酸エチル〔本発明化合物3
−12〕1 H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(pp
m):1.26(t,3H,J=7.1Hz),3.5
0(s,3H),4.19(q,2H,J=7.2H
z),4.64(s,2H),6.28(s,1H),
6.7−6.8(m,1H),6.9−7.2(m,4
H),7.36(d,1H,J=8.8Hz)
[0091] [2- {2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl)-
1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl]
Phenoxy diphenoxy] methyl acetate [Compound 3 of the present invention
-11] Melting point: 116.4 ° C [2- {2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl)-
1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl]
Phenoxy} phenoxy] ethyl acetate [Compound 3 of the present invention]
-12] 1 H-NMR (CDCl 3 / 300MHz) δ (pp
m): 1.26 (t, 3H, J = 7.1 Hz), 3.5
0 (s, 3H), 4.19 (q, 2H, J = 7.2H
z), 4.64 (s, 2H), 6.28 (s, 1H),
6.7-6.8 (m, 1H), 6.9-7.2 (m, 4
H), 7.36 (d, 1H, J = 8.8 Hz)

【0092】製造例4:本発明化合物3−189の製造 工程1: 2−[2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メ
チル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)
−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イ
ル]フェノキシ}フェノキシ]プロピオン酸メチル〔本
発明化合物3−1〕0.365gを1,4−ジオキサン
4mlに溶解し、攪拌下に濃塩酸1mlと水1mlの混
合溶液を加えた後、還流条件下で5時間45分、加熱攪
拌した。その後放冷し、反応液に氷水を注加し、酢酸エ
チルと飽和食塩水を加えた後分液し、該有機層に炭酸水
素ナトリウム水を加えた後分液し、該水層に塩酸水を加
えて酸性にした後、酢酸エチルを加えた後分液し、該有
機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し
た後、濃縮し、2−[2−{2−クロロ−4−フルオロ
−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフ
ルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミ
ジン−1−イル]フェノキシ}フェノキシ]プロピオン
酸0.183gを得た。1 H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(pp
m):1.53(d,3H,J=6.9Hz),3.51
(s,3H),4.76〜4.83(m,1H),6.3
2(d,1H,J=3.5Hz),6.63〜6.67
(m,1H),7.0〜7.1(m,2H),7.1〜
7.2(m,2H),7.38(d,1H,J=9.0
Hz)
Production Example 4: Production of Compound 3-189 of the Present Invention Step 1: 2- [2- {2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl)
Dissolve 0.365 g of methyl-1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxydiphenoxy] propionate [Compound 3-1 of the present invention] in 4 ml of 1,4-dioxane, and add concentrated hydrochloric acid with stirring. After adding a mixed solution of 1 ml and water 1 ml, the mixture was heated and stirred under reflux conditions for 5 hours and 45 minutes. After cooling, ice water was added to the reaction solution, ethyl acetate and saturated saline were added thereto, and the mixture was separated. The organic layer was added with aqueous sodium hydrogen carbonate, and the mixture was separated. Was added to make the mixture acidic, ethyl acetate was added, and the mixture was separated. The organic layer was washed with brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated to give 2- [2- {2-chloro-4. 0.183 g of -fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxy} phenoxy] propionic acid was obtained. Was. 1 H-NMR (CDCl 3 / 250MHz) δ (pp
m): 1.53 (d, 3H, J = 6.9 Hz), 3.51
(s, 3H), 4.76-4.83 (m, 1H), 6.3.
2 (d, 1H, J = 3.5 Hz), 6.63 to 6.67
(M, 1H), 7.0 to 7.1 (m, 2H), 7.1 to
7.2 (m, 2H), 7.38 (d, 1H, J = 9.0
Hz)

【0093】工程2: 2−[2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メ
チル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)
−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イ
ル]フェノキシ}フェノキシ]プロピオン酸をテトラヒ
ドロフランに溶解し、攪拌下に塩化チオニルを加えた
後、還流条件下で加熱攪拌する。その後放冷し、濃縮
後、テトラヒドロフランに溶解する(以下、溶液Aと記
す。)。1−ペンチルアルコールにテトラヒドロフラン
を加え、溶液Aを加えた後、ピリジンを加える。室温で
攪拌した後、反応液に2%塩酸水を注加し、酢酸エチル
で抽出する。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、濃縮する。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘキサン/酢酸エ
チル=5/1)に付し、2−[2−{2−クロロ−4−
フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−
(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒド
ロピリミジン−1−イル]フェノキシ}フェノキシ]プ
ロピオン酸ペンチル〔本発明化合物3−189〕を得
る。
Step 2: 2- [2- {2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl)
-1,2,3,6-Tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxydiphenoxy] propionic acid is dissolved in tetrahydrofuran, thionyl chloride is added with stirring, and the mixture is heated and stirred under reflux. Thereafter, the mixture is allowed to cool, concentrated, and dissolved in tetrahydrofuran (hereinafter, referred to as solution A). Tetrahydrofuran is added to 1-pentyl alcohol, solution A is added, and then pyridine is added. After stirring at room temperature, 2% aqueous hydrochloric acid was poured into the reaction solution, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer is washed with brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography (developing solvent: hexane / ethyl acetate = 5/1) to give 2- [2- {2-chloro-4-.
Fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4-
Pentyl (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxy {phenoxy] propionate [Compound 3-189 of the present invention] is obtained.

【0094】製造例5:本発明化合物3−20の製造 工程1: [2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル
−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−
1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]
フェノキシ}フェノキシ]酢酸メチル〔本発明化合物3
−11〕0.4gを1,4−ジオキサン4mlに溶解
し、攪拌下濃塩酸1mlと水1mlの混合溶液を加えた
後、還流条件下で12時間加熱攪拌した。その後放冷
し、反応液に氷水を注加し、酢酸エチルと飽和食塩水を
加えた後分液し、該有機層に炭酸水素ナトリウム水を加
えた後分液し、該水層に塩酸水を加えて酸性にした後、
酢酸エチルを加えた後分液し、該有機層を飽和食塩水で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮し、[2
−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−
2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,
2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェ
ノキシ}フェノキシ]酢酸0.252gを得た。1 H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(pp
m):3.50(d,3H,J=1.2Hz),4.66
(s,2H),6.31(s,1H),6.69(d,1
H,J=6.5Hz),6.98〜7.20(m,4
H),7.38(d,1H,J=8.8Hz)
Production Example 5: Production of Compound 3-20 of the Present Invention Step 1: [2- {2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl)-
1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl]
Phenoxy diphenoxy] methyl acetate [Compound 3 of the present invention
-11] 0.4 g was dissolved in 1,4-dioxane (4 ml), a mixed solution of concentrated hydrochloric acid (1 ml) and water (1 ml) was added with stirring, and the mixture was heated and stirred under reflux for 12 hours. After cooling, ice water was added to the reaction solution, ethyl acetate and saturated saline were added thereto, and the mixture was separated. The organic layer was added with aqueous sodium hydrogen carbonate, and the mixture was separated. To make it acidic,
After adding ethyl acetate, liquid separation was performed. The organic layer was washed with saturated saline, dried over magnesium sulfate, concentrated, and then concentrated.
-{2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-
2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,
0.252 g of 2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxy {phenoxy] acetic acid was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 250MHz) δ (pp
m): 3.50 (d, 3H, J = 1.2 Hz), 4.66
(S, 2H), 6.31 (s, 1H), 6.69 (d, 1
H, J = 6.5 Hz), 6.98 to 7.20 (m, 4
H), 7.38 (d, 1H, J = 8.8 Hz)

【0095】工程2: [2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル
−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−
1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]
フェノキシ}フェノキシ]酢酸1.0gをテトラヒドロ
フランに溶解し、攪拌下に塩化チオニル0.7mlを加
えた後、還流条件下で2時間加熱攪拌した。その後放冷
し、濃縮後、テトラヒドロフラン3mlに溶解した(以
下、溶液Bと記す。)。アリルアルコール0.05gに
テトラヒドロフラン0.7mlを加え、溶液Bを3等分
したものを加えた後、ピリジン0.17mlを加えた。
室温で2時間攪拌した後、反応液に2%塩酸水を注加
し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘ
キサン/酢酸エチル=5/1)に付し、[2−{2−ク
ロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオ
キソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−
テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}フェ
ノキシ酢酸]アリル〔本発明化合物3−20〕0.08
gを得た。1 H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(pp
m):3.50(d,3H,J=1.2Hz),4.62
〜4.64(m,2H),4.68(s,2H),5.
22〜5.32(m,2H),5.8〜6.0(m,1
H),6.28(s,1H),6.76(d,1H,J=
6.5Hz),6.91〜7.14(m,4H),7.
35(d,1H,J=8.6Hz)
Step 2: [2- {2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl)-
1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl]
After dissolving 1.0 g of phenoxy [phenoxy] acetic acid in tetrahydrofuran, 0.7 ml of thionyl chloride was added with stirring, and the mixture was heated with stirring under reflux for 2 hours. Thereafter, the solution was allowed to cool, concentrated, and dissolved in 3 ml of tetrahydrofuran (hereinafter, referred to as solution B). 0.7 ml of tetrahydrofuran was added to 0.05 g of allyl alcohol, a solution obtained by dividing the solution B into three equal portions was added, and 0.17 ml of pyridine was added.
After stirring at room temperature for 2 hours, 2% aqueous hydrochloric acid was poured into the reaction solution, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated saline, dried over magnesium sulfate, and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography (developing solvent: hexane / ethyl acetate = 5/1) to give [2- {2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4-]. (Trifluoromethyl) -1,2,3,6-
Tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxy {phenoxyacetic acid] allyl [Compound 3-20 of the present invention] 0.08
g was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 300MHz) δ (pp
m): 3.50 (d, 3H, J = 1.2 Hz), 4.62
4.64 (m, 2H), 4.68 (s, 2H), 5.
22-5.32 (m, 2H), 5.8-6.0 (m, 1
H), 6.28 (s, 1H), 6.76 (d, 1H, J =
6.5 Hz), 6.91 to 7.14 (m, 4H), 7.
35 (d, 1H, J = 8.6 Hz)

【0096】製造例6:本発明化合物3−16の製造 2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−
2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,
2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェ
ノキシ}フェノール0.20gをN,N−ジメチルホル
ムアミド2mlに溶解し、炭酸カリウム0.083gを
加え、50分室温で攪拌した。ここにクロロ酢酸t−ブ
チル0.077gを加え、40〜60度で2時間攪拌し
た。放冷後、反応液に氷水を注加し、酢酸エチルと飽和
食塩水を加えた後に分液した。該有機層を飽和食塩水で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:n−
ヘキサン/酢酸エチル=6/1)に付し、[2−{2−
クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジ
オキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6
−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}フ
ェノキシ]酢酸t−ブチル〔本発明化合物3−16〕
0.39gを得た。1 H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(pp
m):1.44(s,9H),3.49(d,3H,J=
1.1Hz),4.53(s,2H),6.27(s,1
H),6.80(d,1H,J=6.6Hz),6.8〜
7.2(m,4H),7.35(d,1H,J=8.9
Hz) 融点55.6℃
Production Example 6: Production of compound 3-16 of the present invention 2- {2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-
2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,
2,3,6-Tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxydiphenol (0.20 g) was dissolved in N, N-dimethylformamide (2 ml), potassium carbonate (0.083 g) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 50 minutes. 0.077 g of t-butyl chloroacetate was added thereto, and the mixture was stirred at 40 to 60 degrees for 2 hours. After allowing to cool, ice water was added to the reaction solution, and ethyl acetate and saturated saline were added, followed by separation. The organic layer was washed with saturated saline, dried over magnesium sulfate, and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography (developing solvent: n-
Hexane / ethyl acetate = 6/1) and [2- {2-
Chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6
-Tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxy {phenoxy] t-butyl acetate [Compound 3-16 of the present invention]
0.39 g was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 250MHz) δ (pp
m): 1.44 (s, 9H), 3.49 (d, 3H, J =
1.1 Hz), 4.53 (s, 2H), 6.27 (s, 1
H), 6.80 (d, 1H, J = 6.6 Hz), 6.8-
7.2 (m, 4H), 7.35 (d, 1H, J = 8.9)
Hz) Melting point 55.6 ° C

【0097】製造例7:本発明化合物3−198の製造 [2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル
−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−
1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]
フェノキシ}フェノキシ]酢酸1.5gをテトラヒドロ
フラン6mlに溶解し、攪拌下に塩化チオニル1mlを
加えた後、還流条件下で2時間10分加熱攪拌した。そ
の後放冷し、濃縮後、テトラヒドロフラン3mlに溶解
した(以下、溶液Cと記す。)。イソブチルアルコール
0.273gにテトラヒドロフラン1mlを加え、溶液
Cを3等分したものを加えた後、ピリジン0.25ml
を加えた。その後、室温で2時間攪拌した後、反応液に
2%塩酸水を注加し、酢酸エチルを加えた後分液し、該
有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
した後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(展開溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=6/1)
に付し、[2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3
−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチ
ル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−
イル]フェノキシ}フェノキシ]酢酸イソブチル〔本発
明化合物3−198〕0.34gを得た。1 H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(pp
m):0.89(d,6H,J=6.7Hz),1.8〜
2.0(m,1H),3.50(d,3H,J=1.2H
z),3.92(d,2H,J=6.7Hz),4.67
(s,2H),6.28(s,1H),6.77(d,1
H,J=6.6Hz),6.85〜7.15(m,4
H),7.36(d,1H,J=8.9Hz)
Production Example 7: Production of compound 3-198 of the present invention [2- {2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl)-
1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl]
1.5 g of phenoxy [phenoxy] acetic acid was dissolved in 6 ml of tetrahydrofuran, 1 ml of thionyl chloride was added with stirring, and the mixture was heated with stirring under reflux for 2 hours and 10 minutes. Thereafter, the mixture was allowed to cool, concentrated, and dissolved in 3 ml of tetrahydrofuran (hereinafter, referred to as solution C). 1 ml of tetrahydrofuran was added to 0.273 g of isobutyl alcohol, and a solution obtained by dividing solution C into three equal portions was added.
Was added. Thereafter, the mixture was stirred at room temperature for 2 hours, 2% hydrochloric acid was added to the reaction solution, ethyl acetate was added, and the mixture was separated. The organic layer was washed with saturated saline and dried over magnesium sulfate. Concentrated. The residue is subjected to silica gel column chromatography (developing solvent: hexane / ethyl acetate = 6/1).
And [2- {2-chloro-4-fluoro-5- [3
-Methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidine-1-
0.34 g of isobutyl [yl] phenoxy} phenoxy] acetate [Compound 3-198 of the present invention] was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 250MHz) δ (pp
m): 0.89 (d, 6H, J = 6.7 Hz), 1.8 to
2.0 (m, 1H), 3.50 (d, 3H, J = 1.2H
z), 3.92 (d, 2H, J = 6.7 Hz), 4.67
(s, 2H), 6.28 (s, 1H), 6.77 (d, 1
H, J = 6.6 Hz), 6.85 to 7.15 (m, 4
H), 7.36 (d, 1H, J = 8.9 Hz)

【0098】製造例8:本発明化合物3−11の製造 [2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[2,6−ジ
オキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6
−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}フ
ェノキシ]酢酸メチル0.93g、炭酸カリウム0.3
1g、N,N−ジメチルホルムアミド10mlの混合物
に、ヨウ化メチル0.58gを加え、室温下で2時間攪
拌した。ここに希塩酸50mlを加え、酢酸エチルで抽
出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、残査をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、[2−{2−クロロ
−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ
−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テト
ラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}フェノキ
シ]酢酸メチル[本発明化合物3−11](0.82
g)を得た。1 H-NMR (CDCl3/250 MHz)δ(ppm): 3.49-3.50 (m, 3H),
3.73 (s, 3H), 4.66(s, 2H), 6.28 (s, 1H), 6.76 (d,
1H, J=6.6 Hz), 6.9-7.2 (m, 4H), 7.36 (d, 1H, J=8.9
Hz)
Production Example 8: Production of compound 3-11 of the present invention [2- {2-chloro-4-fluoro-5- [2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6
-Tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxy {phenoxy] methyl acetate 0.93 g, potassium carbonate 0.3
0.58 g of methyl iodide was added to a mixture of 1 g and 10 ml of N, N-dimethylformamide, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. 50 ml of diluted hydrochloric acid was added thereto, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water and saturated saline. After drying over anhydrous sodium sulfate, the mixture was concentrated under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography to give [2- {2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4- Methyl (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxy {phenoxy] acetate [Compound 3-11 of the present invention] (0.82
g) was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3/ 250 MHz) δ (ppm): 3.49-3.50 (m, 3H),
3.73 (s, 3H), 4.66 (s, 2H), 6.28 (s, 1H), 6.76 (d,
1H, J = 6.6 Hz), 6.9-7.2 (m, 4H), 7.36 (d, 1H, J = 8.9
Hz)

【0099】製造例9:本発明化合物3−12の製造 [2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[2,6−ジ
オキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6
−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}フ
ェノキシ]酢酸エチル、炭酸カリウム、N,N−ジメチ
ルホルムアミドの混合物に、ヨウ化メチルを加え、室温
下で攪拌する。ここに希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出
する。該有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、[2−{2−クロロ−4−フル
オロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(ト
リフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピ
リミジン−1−イル]フェノキシ}フェノキシ]酢酸エ
チル〔本発明化合物3−12〕を得る。
Production Example 9: Production of compound 3-12 of the present invention [2- {2-chloro-4-fluoro-5- [2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6
-Tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxy {phenoxy] methyl iodide is added to a mixture of ethyl acetate, potassium carbonate and N, N-dimethylformamide, and the mixture is stirred at room temperature. Dilute hydrochloric acid is added thereto, and the mixture is extracted with ethyl acetate. The organic layer is washed with saturated saline, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give [2- {2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6]. [Tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxy} phenoxy] ethyl acetate [Compound 3-12 of the present invention] is obtained.

【0100】製造例10:本発明化合物1−2の製造 4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−
2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,
2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェ
ノキシ}フェノール(中間体製造例1を参照)100m
gをN,N−ジメチルホルムアミド1.0mlに溶解
し、無水炭酸カリウム42mgを加え、室温攪拌下に、
2−ブロモプロピオン酸エチル46mgを加え、60℃
で2時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、該反応
液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃
縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し、2−[4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−
[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロ
メチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−
1−イル]フェノキシ}フェノキシ]プロピオン酸エチ
ル〔本発明化合物1−2〕85mgを得た。1 H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(pp
m):1.27(t,3H,J=7.0Hz),1.6
0(d,3H,J=6.9Hz),3.52(s,3
H),4.23(q,2H,J=7.0Hz),4.6
8(q,1H,J=6.9Hz),6.31(s,1
H),6.7−6.8(m,1H),6.8−6.9
(m,2H),6.9−7.0(m,2H),7.37
(d,1H,J=8.9Hz)
Production Example 10: Production of compound 1-2 of the present invention 4- {2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-
2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,
2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxydiphenol (see Intermediate Production Example 1) 100 m
g was dissolved in 1.0 ml of N, N-dimethylformamide, and 42 mg of anhydrous potassium carbonate was added.
46 mg of ethyl 2-bromopropionate was added, and
For 2 hours. After the reaction solution was cooled to room temperature, the reaction solution was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with brine, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2- [4- {2-chloro-4-fluoro-5-
[3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidine-
85 mg of ethyl 1-yl] phenoxy {phenoxy] propionate [Compound 1-2 of the present invention] was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 300MHz) δ (pp
m): 1.27 (t, 3H, J = 7.0 Hz), 1.6
0 (d, 3H, J = 6.9 Hz), 3.52 (s, 3
H), 4.23 (q, 2H, J = 7.0 Hz), 4.6.
8 (q, 1H, J = 6.9 Hz), 6.31 (s, 1
H), 6.7-6.8 (m, 1H), 6.8-6.9.
(M, 2H), 6.9-7.0 (m, 2H), 7.37
(D, 1H, J = 8.9 Hz)

【0101】製造例11:本発明化合物1−11の製造 4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−
2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,
2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェ
ノキシ}フェノール(中間体製造例1を参照)150m
gをN,N−ジメチルホルムアミド1.0mlに溶解
し、無水炭酸カリウム51mgを加え、室温攪拌下、ブ
ロモ酢酸メチル50mgを加えた後、60℃で2時間攪
拌した。反応液を室温に冷却した後、該反応液を氷水に
注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、[4
−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−
2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,
2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェ
ノキシ}フェノキシ]酢酸メチル〔本発明化合物1−1
1〕167mgを得た。1 H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(pp
m):3.52(q,3H,J=1.1Hz),3.8
1(s,3H),4.62(s,2H),6.32
(s,1H),6.74(d,1H,J=6.6H
z),6.8−6.9(m,2H),6.9−7.0
(m,2H),7.37(d,1H,J=8.9Hz)
Production Example 11 Production of Compound 1-11 of the Present Invention 4- {2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-
2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,
2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxydiphenol (see Intermediate Production Example 1) 150 m
g was dissolved in 1.0 ml of N, N-dimethylformamide, 51 mg of anhydrous potassium carbonate was added, 50 mg of methyl bromoacetate was added under stirring at room temperature, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 2 hours. After the reaction solution was cooled to room temperature, the reaction solution was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with brine, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography, and [4]
-{2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-
2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,
2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxy {phenoxy] methyl acetate [Compound 1-1 of the present invention]
1] 167 mg was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 250MHz) δ (pp
m): 3.52 (q, 3H, J = 1.1 Hz), 3.8
1 (s, 3H), 4.62 (s, 2H), 6.32
(S, 1H), 6.74 (d, 1H, J = 6.6H
z), 6.8-6.9 (m, 2H), 6.9-7.0
(M, 2H), 7.37 (d, 1H, J = 8.9 Hz)

【0102】製造例12:本発明化合物2−11の製造 3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−
2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,
2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェ
ノキシ}フェノール(中間体製造例2を参照)100m
gをN,N−ジメチルホルムアミド1mlに溶解し、無
水炭酸カリウム34mgを加え、室温攪拌下、ブロモ酢
酸メチル37mgを加えた後、60℃で1時間攪拌し
た。反応液を室温に冷却した後、該反応液を氷水に注加
し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、[3−
{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,
6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,
3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキ
シ}フェノキシ]酢酸メチル〔本発明化合物2−11〕
110mgを得た。1 H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(pp
m):3.53(q,3H,J=0.9Hz),3.8
0(s,3H),4.61(s,2H),6.32
(s,1H),6.60(s,1H),6.6−6.7
(m,2H),6.92(d,1H,J=6.6H
z),7.23(d,1H,J=7.9Hz),7.3
9(d,1H,J=9.0Hz)
Production Example 12: Production of compound 2-11 of the present invention 3- {2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-
2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,
2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxydiphenol (see Intermediate Production Example 2) 100 m
g was dissolved in 1 ml of N, N-dimethylformamide, 34 mg of anhydrous potassium carbonate was added, 37 mg of methyl bromoacetate was added under stirring at room temperature, and the mixture was stirred at 60 ° C for 1 hour. After the reaction solution was cooled to room temperature, the reaction solution was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with brine, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography, and [3-
{2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-2,
6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,2
3,6-Tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxy {phenoxy] methyl acetate [Compound 2-11 of the present invention]
110 mg were obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 300MHz) δ (pp
m): 3.53 (q, 3H, J = 0.9 Hz), 3.8
0 (s, 3H), 4.61 (s, 2H), 6.32.
(S, 1H), 6.60 (s, 1H), 6.6-6.7
(M, 2H), 6.92 (d, 1H, J = 6.6H
z), 7.23 (d, 1H, J = 7.9 Hz), 7.3
9 (d, 1H, J = 9.0 Hz)

【0103】製造例13:本発明化合物5−7の製造 3−{2−シアノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−
2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,
2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェ
ノキシ}フェノール(中間体製造例9を参照)72mg
をN,N−ジメチルホルムアミド1.0mlに溶解し、
無水炭酸カリウム31mgを加え、室温攪拌下、2−ブ
ロモプロピオン酸メチル31mgを加えた後、70℃で
1時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、該反応液
を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、2−[3−{2−シアノ−4−フルオロ−5−[3
−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチ
ル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−
イル]フェノキシ}フェノキシ]プロピオン酸メチル
〔本発明化合物5−7〕80mgを得た。1 H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(pp
m):1.62(d,3H,J=6.8Hz),3.5
3(q,3H,J=1.4Hz),3.77(s,3
H),4.75(q,1H,J=6.8Hz),6.3
−6.4(m,1H),6.6−6.8(m,3H),
6.8−6.9(m,1H),7.2−7.3(m,1
H),7.53(d,1H,J=8.4Hz)
Production Example 13: Production of compound 5-7 of the present invention 3- {2-cyano-4-fluoro-5- [3-methyl-
2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,
2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxydiphenol (see Intermediate Production Example 9) 72 mg
Is dissolved in 1.0 ml of N, N-dimethylformamide,
After adding 31 mg of anhydrous potassium carbonate and adding 31 mg of methyl 2-bromopropionate under stirring at room temperature, the mixture was stirred at 70 ° C for 1 hour. After cooling the reaction solution to room temperature, the reaction solution was poured into water and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with brine, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2- [3- {2-cyano-4-fluoro-5- [3
-Methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidine-1-
80 mg of methyl [yl] phenoxy @ phenoxy] propionate [Compound 5-7 of the present invention] was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 250MHz) δ (pp
m): 1.62 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 3.5
3 (q, 3H, J = 1.4 Hz), 3.77 (s, 3
H), 4.75 (q, 1H, J = 6.8 Hz), 6.3.
−6.4 (m, 1H), 6.6-6.8 (m, 3H),
6.8-6.9 (m, 1H), 7.2-7.3 (m, 1
H), 7.53 (d, 1H, J = 8.4 Hz)

【0104】製造例14:本発明化合物5−22の製造 3−{2−シアノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−
2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,
2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェ
ノキシ}フェノール(中間体製造例9を参照)32mg
をアセトニトリル0.5mlに溶解し、ブロモ酢酸メチ
ル13mg、無水炭酸カリウム13mgを加えた後、6
0℃で1.5時間攪拌した。反応液を室温に冷却した
後、該反応液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し、[3−{2−シアノ−4−フルオロ−5−[3−
メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチ
ル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−
イル]フェノキシ}フェノキシ]酢酸メチル〔本発明化
合物5−22〕26mgを得た。1 H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(pp
m):3.53(q,3H,J=1.0Hz),3.8
1(s,3H),4.63(s,2H),6.32
(s,1H),6.6−6.7(m,1H),6.7−
6.8(m,2H),6.85(d,1H,J=5.9
Hz),7.2−7.4(m,1H),7.54(d,
1H,J=8.4Hz)
Production Example 14: Production of compound 5-22 of the present invention 3- {2-cyano-4-fluoro-5- [3-methyl-
2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,
2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxydiphenol (see Intermediate Preparation Example 9) 32 mg
Was dissolved in 0.5 ml of acetonitrile, and 13 mg of methyl bromoacetate and 13 mg of anhydrous potassium carbonate were added.
Stirred at 0 ° C. for 1.5 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, the reaction solution was subjected to silica gel column chromatography to obtain [3- {2-cyano-4-fluoro-5- [3-
Methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidine-1-
26 mg of methyl [yl] phenoxy {phenoxy] acetate [Compound 5-22 of the present invention] was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 300MHz) δ (pp
m): 3.53 (q, 3H, J = 1.0 Hz), 3.8
1 (s, 3H), 4.63 (s, 2H), 6.32.
(S, 1H), 6.6-6.7 (m, 1H), 6.7-
6.8 (m, 2H), 6.85 (d, 1H, J = 5.9
Hz), 7.2-7.4 (m, 1H), 7.54 (d,
1H, J = 8.4Hz)

【0105】製造例15:本発明化合物4−19の製造 (2−ヒドロキシフェノキシ)酢酸メチル15.16
g、2,5−ジフルオロ−4−[3−メチル−2,6−
ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,
6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]ニトロベンゼ
ン(中間体製造例4を参照)29.23g、無水炭酸カ
リウム11.5gおよびN,N−ジメチルホルムアミド
160mlの混合物を室温で30分攪拌後、70℃で3
時間攪拌した。(2−ヒドロキシフェノキシ)酢酸メチ
ル5gを追加し1時間攪拌した。該反応液を2%塩酸水
に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩
水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、
[2−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジ
オキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6
−テトラヒドロピリミジン−1−イル]−2−ニトロフ
ェノキシ}フェノキシ]酢酸メチル〔本発明化合物4−
19〕17.8gを得た。1 H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(pp
m):3.50(q,3H,J=1.0Hz),3.7
0(s,3H),4.63(s,2H),6.28
(s,1H),6.88(d,1H,J=8.4H
z),6.93(d,1H,J=6.0Hz),7.0
−7.1(m,1H),7.1−7.3(m,2H),
7.87(d,1H,J=8.7Hz)
Production Example 15: Production of compound 4-19 of the present invention Methyl (2-hydroxyphenoxy) acetate 15.16
g, 2,5-difluoro-4- [3-methyl-2,6-
Dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3
A mixture of 29.23 g of 6-tetrahydropyrimidin-1-yl] nitrobenzene (see Intermediate Preparation Example 4), 11.5 g of anhydrous potassium carbonate and 160 ml of N, N-dimethylformamide was stirred at room temperature for 30 minutes and then at 70 ° C. 3
Stirred for hours. 5 g of methyl (2-hydroxyphenoxy) acetate was added and stirred for 1 hour. The reaction solution was poured into 2% aqueous hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with brine, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated.
The residue was subjected to silica gel column chromatography,
[2- {4-fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6
-Tetrahydropyrimidin-1-yl] -2-nitrophenoxydiphenoxy] acetate [Compound 4-
19] 17.8 g were obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 300MHz) δ (pp
m): 3.50 (q, 3H, J = 1.0 Hz), 3.7
0 (s, 3H), 4.63 (s, 2H), 6.28
(S, 1H), 6.88 (d, 1H, J = 8.4H
z), 6.93 (d, 1H, J = 6.0 Hz), 7.0
−7.1 (m, 1H), 7.1-7.3 (m, 2H),
7.87 (d, 1H, J = 8.7 Hz)

【0106】製造例16:本発明化合物3−11の製造 亜硝酸イソアミル11.02gとアセトニトリル45m
lの混合物を[2−{2−アミノ−4−フルオロ−5−
[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロ
メチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−
1−イル]フェノキシ}フェノキシ]酢酸メチル(中間
体製造例10を参照)15.16g、塩化銅(I)6.
21g、塩化銅(II)12.65g、アセトニトリル2
50mlの混合物に室温で滴下し、2時間攪拌した。該
反応液を2%塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。該
有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付し、[2−{2−クロロ−4−フルオロ−5
−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオ
ロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン
−1−イル]フェノキシ}フェノキシ]酢酸メチル〔本
発明化合物3−11〕13gを得た。
Production Example 16: Production of compound 3-11 of the present invention 11.02 g of isoamyl nitrite and 45 m of acetonitrile
l of [2- {2-amino-4-fluoro-5-
[3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidine-
Methyl 1-yl] phenoxy {phenoxy] acetate (see Intermediate Preparation Example 10) 15.16 g, copper (I) chloride 6.
21 g, copper (II) chloride 12.65 g, acetonitrile 2
The mixture was added dropwise to 50 ml of the mixture at room temperature and stirred for 2 hours. The reaction was poured into 2% hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with brine, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give [2- {2-chloro-4-fluoro-5].
13 g of methyl-[3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxy} phenoxy] acetate [Compound 3-11 of the present invention] I got

【0107】製造例16記載と同様な方法(製造法5の
〈工程5−2〉)にて製造された本発明化合物の物性値
を以下に示す。 [2−{2,4−ジフルオロ−5−[3−メチル−2,
6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,
3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキ
シ}フェノキシ]酢酸メチル〔本発明化合物4−20〕1 H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(pp
m):3.52(s,3H),3.72(s,3H),
4.64(s,2H),6.32(s,1H),6.8
−7.2(m,6H)
The physical properties of the compound of the present invention produced by the same method as described in Production Example 16 (<Step 5-2> of Production Method 5) are shown below. [2- {2,4-difluoro-5- [3-methyl-2,
6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,2
3,6-tetrahydropyrimidine-1-yl] phenoxy} phenoxy] methyl acetate [present compound 4-20] 1 H-NMR (CDCl 3 / 250MHz) δ (pp
m): 3.52 (s, 3H), 3.72 (s, 3H),
4.64 (s, 2H), 6.32 (s, 1H), 6.8
-7.2 (m, 6H)

【0108】 [2−{2−ブロモ−4−フルオロ−5−[3−メチル
−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−
1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]
フェノキシ}フェノキシ]酢酸メチル〔本発明化合物4
−21〕1 H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(pp
m):3.53(q,3H,J=1.0Hz),3.7
2(s,3H),4.65(s,2H),6.33
(s,1H),6.72(d,1H,J=6.4H
z),6.8−7.2(m,4H),7.53(d,1
H,J=8.6Hz)
[0108] [2- {2-bromo-4-fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl)-
1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl]
Phenoxy diphenoxy] methyl acetate [Compound 4 of the present invention
-21] 1 H-NMR (CDCl 3 / 300MHz) δ (pp
m): 3.53 (q, 3H, J = 1.0 Hz), 3.7
2 (s, 3H), 4.65 (s, 2H), 6.33
(S, 1H), 6.72 (d, 1H, J = 6.4H
z), 6.8-7.2 (m, 4H), 7.53 (d, 1
H, J = 8.6 Hz)

【0109】製造例18:本発明化合物4−22の製造
[2−{2−ブロモ−4−フルオロ−5−[3−メチル
−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−
1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]
フェノキシ}フェノキシ]酢酸メチル〔本発明化合物4
−21〕1.5g、シアン化銅0.34gおよびN−メ
チル−2−ピロリドン10mlの混合物を170〜18
0℃で3時間攪拌した。反応系を室温に冷却した後、反
応液に水およびアンモニア水を加え、酢酸エチルで抽出
した。該有機層を希塩酸で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(展開溶媒;ヘキサン/酢酸エチル=3/
1)に付し、5−フルオロ−2−(3−メトキシフェノ
キシ)−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリ
フルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリ
ミジン−1−イル]シアノベンゼン〔本発明化合物4−
22〕0.37gを得た。1 H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(pp
m):3.49(q,3H,J=0.8Hz),3.7
1(s,3H),4.63(s,2H),6.27
(s,1H),6.79(d,1H,J=5.8H
z),6.87(d,1H,J=8.1Hz),7.0
−7.1(m,1H),7.1−7.3(m,2H),
7.49(d,1H,J=8.4Hz)
Production Example 18: Production of Compound 4-22 of the Present Invention [2- {2-bromo-4-fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl)-
1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl]
Phenoxy diphenoxy] methyl acetate [Compound 4 of the present invention
-21], a mixture of 1.5 g, copper cyanide 0.34 g and N-methyl-2-pyrrolidone 10 ml was mixed with 170-18.
Stirred at 0 ° C. for 3 hours. After cooling the reaction system to room temperature, water and aqueous ammonia were added to the reaction solution, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with dilute hydrochloric acid, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography (developing solvent; hexane / ethyl acetate = 3 /
1) to give 5-fluoro-2- (3-methoxyphenoxy)-[3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidine-1 -Yl] cyanobenzene [Compound 4-
22] 0.37 g was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 250MHz) δ (pp
m): 3.49 (q, 3H, J = 0.8 Hz), 3.7
1 (s, 3H), 4.63 (s, 2H), 6.27
(S, 1H), 6.79 (d, 1H, J = 5.8H)
z), 6.87 (d, 1H, J = 8.1 Hz), 7.0
−7.1 (m, 1H), 7.1-7.3 (m, 2H),
7.49 (d, 1H, J = 8.4 Hz)

【0110】中間体製造例1:4−{2−クロロ−4−
フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−
(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒド
ロピリミジン−1−イル]フェノキシ}フェノールの製
造 第1工程: 4−ベンジルオキシフェノール1.71gとN,N−ジ
メチルホルムアミド4.0mlの混合物を、氷冷下、水
素化ナトリウム0.34gとN,N−ジメチルホルムア
ミド8.5mlの混合物に滴下し、20分攪拌した。
2,5−ジフルオロ−4−[3−メチル−2,6−ジオ
キソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−
テトラヒドロピリミジン−1−イル]ニトロベンゼン
(中間体製造例4を参照)3.0gとN,N−ジメチル
ホルムアミド7.0mlの混合物を同温度にて滴下し、
1時間攪拌した。該反応液を氷水に注加し、酢酸エチル
で抽出した。該有機層を1N塩酸で1回、飽和食塩水で
1回、順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、2−(4−ベンジルオキシフェノキシ)−5−フルオ
ロ−4−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリ
フルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリ
ミジン−1−イル]ニトロベンゼン2.0gを得た。1 H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(pp
m):3.51(q,3H,J=1.2Hz),5.0
4(s,2H),6.31(s,1H),6.87
(d,1H,J=5.9Hz),6.9−7.1(m,
4H),7.3−7.5(m,5H),7.84(d,
1H,J=8.6Hz)
Intermediate Production Example 1: 4- {2-chloro-4-
Fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4-
Production of (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxydiphenol First step: A mixture of 1.71 g of 4-benzyloxyphenol and 4.0 ml of N, N-dimethylformamide was added dropwise to a mixture of 0.34 g of sodium hydride and 8.5 ml of N, N-dimethylformamide under ice-cooling for 20 minutes. Stirred.
2,5-difluoro-4- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-
A mixture of 3.0 g of [tetrahydropyrimidin-1-yl] nitrobenzene (see Intermediate Production Example 4) and 7.0 ml of N, N-dimethylformamide was added dropwise at the same temperature,
Stir for 1 hour. The reaction solution was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed once with 1N hydrochloric acid and once with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2- (4-benzyloxyphenoxy) -5-fluoro-4- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3. 2,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] nitrobenzene 2.0 g was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 250MHz) δ (pp
m): 3.51 (q, 3H, J = 1.2 Hz), 5.0
4 (s, 2H), 6.31 (s, 1H), 6.87
(D, 1H, J = 5.9 Hz), 6.9-7.1 (m,
4H), 7.3-7.5 (m, 5H), 7.84 (d,
1H, J = 8.6Hz)

【0111】第2工程: 鉄粉2.0g、酢酸6mlおよび水0.6mlの混合物
に、2−(4−ベンジルオキシフェノキシ)−5−フルオ
ロ−4−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリ
フルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリ
ミジン−1−イル]ニトロベンゼン1.9gの酢酸5.
0ml溶液を、反応液の温度を35℃以下に保ちつつ滴
下した。滴下終了後、2時間攪拌を続けた後、反応液を
セライト濾過し、酢酸エチルで希釈した。混合物を飽和
重曹水で中和し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、得られた残査をシリカ
ゲルクロマトグラフィーに付し、2−(4−ベンジルオ
キシフェノキシ)−5−フルオロ−4−[3−メチル−
2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,
2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]アニ
リン1.0gを得た。1 H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(pp
m):3.51(q,3H,J=1.3Hz),5.0
2(s,2H),6.30(s,1H),6.58
(d,1H,J=6.9Hz),6.62(d,1H,
J=10.8Hz),7.3−7.5(m,5H)
Second step: 2- (4-benzyloxyphenoxy) -5-fluoro-4- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) was added to a mixture of 2.0 g of iron powder, 6 ml of acetic acid and 0.6 ml of water. ) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] nitrobenzene 1.9 g of acetic acid
0 ml of the solution was added dropwise while maintaining the temperature of the reaction solution at 35 ° C. or lower. After completion of the dropwise addition, stirring was continued for 2 hours, and then the reaction solution was filtered through celite and diluted with ethyl acetate. The mixture was neutralized with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, and the organic layer was washed with saturated saline, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. The resulting residue was subjected to silica gel chromatography to give 2- (4-benzyloxyphenoxy). ) -5-Fluoro-4- [3-methyl-
2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,
1.0 g of 2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] aniline was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 250MHz) δ (pp
m): 3.51 (q, 3H, J = 1.3 Hz), 5.0
2 (s, 2H), 6.30 (s, 1H), 6.58
(D, 1H, J = 6.9 Hz), 6.62 (d, 1H,
J = 10.8 Hz), 7.3-7.5 (m, 5H)

【0112】工程3: 亜硝酸イソアミル0.46gを2−(4−ベンジルオキ
シフェノキシ)−5−フルオロ−4−[3−メチル−
2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,
2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]アニ
リン1.0g、塩化銅(I)0.38g、塩化銅(II)
0.78g、アセトニトリル14mlの混合物に室温で
滴下し、1時間攪拌した。該反応液を2%塩酸に注加
し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、(〔4−
{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,
6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,
3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキ
シ}フェノキシ〕メチル)ベンゼン0.73gを得た。1 H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(pp
m):3.51(s,3H),5.03(s,2H),
6.30(s,1H),6.74(d,1H,J=6.
5Hz),6.9−7.0(m,4H),7.2−7.
5(m,6H)
Step 3: 0.46 g of isoamyl nitrite was added to 2- (4-benzyloxyphenoxy) -5-fluoro-4- [3-methyl-
2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,
2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] aniline 1.0 g, copper (I) chloride 0.38 g, copper (II) chloride
A mixture of 0.78 g and 14 ml of acetonitrile was dropped at room temperature and stirred for 1 hour. The reaction was poured into 2% hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with brine, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography, and ([4-
{2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-2,
6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,2
0.73 g of 3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxy {phenoxy] methyl) benzene was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 300MHz) δ (pp
m): 3.51 (s, 3H), 5.03 (s, 2H),
6.30 (s, 1H), 6.74 (d, 1H, J = 6.
5 Hz), 6.9-7.0 (m, 4H), 7.2-7.
5 (m, 6H)

【0113】工程4: (〔4−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチ
ル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−
1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]
フェノキシ}フェノキシ〕メチル)ベンゼン0.72g
に、酢酸エチル2ml、エタノール0.7ml及び10
%パラジウム/炭素36mgを加え、水素雰囲気下に室
温で5時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応液
をセライト上で濾過し、ろ液を濃縮して、4−{2−ク
ロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオ
キソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−
テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}フェ
ノール0.48gを得た。1 H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(pp
m):3.51(s,3H),5.2−5.5(b,1
H),6.30(s,1H),6.6−7.0(m,5
H),7.36(d,1H,J=9.0Hz)
Step 4: ([4- {2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl)-
1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl]
Phenoxy [phenoxy] methyl) benzene 0.72 g
2 ml of ethyl acetate, 0.7 ml of ethanol and 10 ml
36% palladium / carbon was added, and the mixture was stirred at room temperature under a hydrogen atmosphere for 5 hours. After purging the reaction system with nitrogen, the reaction solution was filtered over Celite, and the filtrate was concentrated to give 4- {2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4-. (Trifluoromethyl) -1,2,3,6-
0.48 g of [tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxydiphenol was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 300MHz) δ (pp
m): 3.51 (s, 3H), 5.2-5.5 (b, 1
H), 6.30 (s, 1H), 6.6-7.0 (m, 5
H), 7.36 (d, 1H, J = 9.0 Hz)

【0114】中間体製造例2:3−{2−クロロ−4−
フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−
(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒド
ロピリミジン−1−イル]フェノキシ}フェノールの製
造 工程1: 3−ベンジルオキシフェノール1.71gとN,N−ジ
メチルホルムアミド4.0mlの混合物を、氷冷下、水
素化ナトリウム0.34gとN,N−ジメチルホルムア
ミド8.5mlの混合物に滴下し、20分攪拌した。
2,5−ジフルオロ−4−[3−メチル−2,6−ジオ
キソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−
テトラヒドロピリミジン−1−イル]ニトロベンゼン
(中間体製造例4を参照)3.0gとN,N−ジメチル
ホルムアミド7.0mlの混合物を同温度にて滴下し、
1時間攪拌した。該反応液を氷水に注加し、酢酸エチル
で抽出した。該有機層を1N塩酸で1回、飽和食塩水で
1回、順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、2−(3−ベンジルオキシフェノキシ)−5−フルオ
ロ−4−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリ
フルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリ
ミジン−1−イル]ニトロベンゼン2.4gを得た。1 H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(pp
m):3.53(q,3H,J=1.2Hz),5.0
3(s,2H),6.33(s,1H),6.6−6.
7(m,1H),6.7−6.8(m,1H),6.8
−6.9(m,1H),7.01(d,1H,J=6.
1Hz),7.2−7.5(m,6H),7.87
(d,1H,J=8.6Hz)
Intermediate Production Example 2: 3- {2-chloro-4-
Fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4-
Production of (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxydiphenol Step 1: A mixture of 1.71 g of 3-benzyloxyphenol and 4.0 ml of N, N-dimethylformamide was added dropwise to a mixture of 0.34 g of sodium hydride and 8.5 ml of N, N-dimethylformamide under ice cooling. Stirred.
2,5-difluoro-4- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-
A mixture of 3.0 g of [tetrahydropyrimidin-1-yl] nitrobenzene (see Intermediate Production Example 4) and 7.0 ml of N, N-dimethylformamide was added dropwise at the same temperature,
Stir for 1 hour. The reaction solution was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed once with 1N hydrochloric acid and once with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2- (3-benzyloxyphenoxy) -5-fluoro-4- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3 , 6-tetrahydropyrimidin-1-yl] nitrobenzene 2.4 g. 1 H-NMR (CDCl 3 / 300MHz) δ (pp
m): 3.53 (q, 3H, J = 1.2 Hz), 5.0
3 (s, 2H), 6.33 (s, 1H), 6.6-6.
7 (m, 1H), 6.7-6.8 (m, 1H), 6.8
−6.9 (m, 1H), 7.01 (d, 1H, J = 6.
1 Hz), 7.2-7.5 (m, 6H), 7.87
(D, 1H, J = 8.6Hz)

【0115】工程2: 鉄粉2.5g、酢酸8mlおよび水0.8mlの混合物
に、2−(3−ベンジルオキシフェノキシ)−5−フルオ
ロ−4−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリ
フルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリ
ミジン−1−イル]ニトロベンゼン2.4gの酢酸6.
0ml溶液を、反応液の温度を35℃以下に保ちつつ滴
下した。滴下終了後、2時間攪拌を続けた後、反応液を
セライト濾過し、酢酸エチルで希釈した。混合物を飽和
重曹水で中和し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、得られた残査をシリカ
ゲルクロマトグラフィーに付し、2−(3−ベンジルオ
キシフェノキシ)−5−フルオロ−4−[3−メチル−
2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,
2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]アニ
リン1.5gを得た。 融点:67.0℃
Step 2: To a mixture of 2.5 g of iron powder, 8 ml of acetic acid and 0.8 ml of water was added 2- (3-benzyloxyphenoxy) -5-fluoro-4- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl 5.)-1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] nitrobenzene 2.4 g acetic acid
0 ml of the solution was added dropwise while maintaining the temperature of the reaction solution at 35 ° C. or lower. After completion of the dropwise addition, stirring was continued for 2 hours, and then the reaction solution was filtered through celite and diluted with ethyl acetate. The mixture was neutralized with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, and the organic layer was washed with saturated saline, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated, and the obtained residue was subjected to silica gel chromatography to give 2- (3-benzyloxyphenoxy) ) -5-Fluoro-4- [3-methyl-
2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,
1.5 g of 2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] aniline was obtained. Melting point: 67.0 ° C

【0116】工程3: 亜硝酸イソアミル0.34gを2−(3−ベンジルオキ
シフェノキシ)−5−フルオロ−4−[3−メチル−
2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,
2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]アニ
リン1.5g、塩化銅(I)0.57g、塩化銅(II)
1.17g、アセトニトリル21mlの混合物に室温で
滴下し、1時間攪拌した。該反応液を2%塩酸に注加
し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、(〔3−
{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,
6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,
3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキ
シ}フェノキシ〕メチル)ベンゼン1.01gを得た。1 H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(pp
m):3.53(q,3H,J=0.9Hz),5.0
3(s,2H),6.33(s,1H),6.6−6.
7(m,2H),6.7−6.8(m,1H),6.9
2(d,1H,J=6.5Hz),7.2−7.5
(m,7H)
Step 3: 0.34 g of isoamyl nitrite was added to 2- (3-benzyloxyphenoxy) -5-fluoro-4- [3-methyl-
2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,
2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] aniline 1.5 g, copper (I) chloride 0.57 g, copper (II) chloride
To a mixture of 1.17 g and 21 ml of acetonitrile was added dropwise at room temperature and stirred for 1 hour. The reaction was poured into 2% hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with brine, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography, ([3-
{2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-2,
6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,2
There was obtained 1.01 g of 3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxy {phenoxy] methyl) benzene. 1 H-NMR (CDCl 3 / 300MHz) δ (pp
m): 3.53 (q, 3H, J = 0.9 Hz), 5.0
3 (s, 2H), 6.33 (s, 1H), 6.6-6.
7 (m, 2H), 6.7-6.8 (m, 1H), 6.9
2 (d, 1H, J = 6.5 Hz), 7.2-7.5
(M, 7H)

【0117】工程4: (〔3−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチ
ル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−
1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]
フェノキシ}フェノキシ〕メチル)ベンゼン1.01g
に、酢酸エチル3ml、エタノール1ml及び10%パ
ラジウム/炭素50mgを加え、水素雰囲気下に室温で
5時間攪拌した。反応系を窒素置換した後、反応液をセ
ライト上で濾過し、ろ液を濃縮して、3−{2−クロロ
−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ
−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テト
ラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}フェノー
ル0.68gを得た。1 H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(pp
m):3.52(s,3H),5.5−5.8(b,1
H),6.32(s,1H),6.4−6.5(m,1
H),6.5−6.6(m,2H),6.93(d,1
H,J=6.7Hz),7.17(dd,1H,J=
8.3,7.9Hz),7.38(d,1H,J=9.
0Hz)
Step 4: ([3- {2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl)-
1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl]
Phenoxy [phenoxy] methyl) benzene 1.01 g
To the mixture were added 3 ml of ethyl acetate, 1 ml of ethanol and 50 mg of 10% palladium / carbon, and the mixture was stirred at room temperature for 5 hours under a hydrogen atmosphere. After replacing the reaction system with nitrogen, the reaction solution was filtered over celite, and the filtrate was concentrated to give 3- {2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4-. 0.68 g of (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxydiphenol was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 300MHz) δ (pp
m): 3.52 (s, 3H), 5.5-5.8 (b, 1
H), 6.32 (s, 1H), 6.4-6.5 (m, 1
H), 6.5-6.6 (m, 2H), 6.93 (d, 1
H, J = 6.7 Hz), 7.17 (dd, 1H, J =
8.3, 7.9 Hz), 7.38 (d, 1H, J = 9.
0Hz)

【0118】中間体製造例3:2−{2−クロロ−4−
フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−
(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒド
ロピリミジン−1−イル]フェノキシ}フェノールの製
造 工程1: 2−ベンジルオキシフェノール4.05gとN,N−ジ
メチルホルムアミド9.5mlの混合物を、氷冷下、水
素化ナトリウム0.80gとN,N−ジメチルホルムア
ミド20mlの混合物に滴下し、30分攪拌した。2,
5−ジフルオロ−4−[3−メチル−2,6−ジオキソ
−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テト
ラヒドロピリミジン−1−イル]ニトロベンゼン(中間
体製造例4を参照)7.1gとN,N−ジメチルホルム
アミド17mlの混合物を同温度にて滴下し、1時間攪
拌した。該反応液を氷水に注加し、酢酸エチルで抽出し
た。該有機層を1N塩酸で1回、飽和食塩水で1回、順
次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−
(2−ベンジルオキシフェノキシ)−5−フルオロ−4−
[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロ
メチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−
1−イル]ニトロベンゼン8.6gを得た。1 H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(pp
m):3.52(q,3H,J=1.1Hz),5.0
1(s,2H),6.31(s,1H),6.81
(d,1H,J=6.0Hz),6.9−7.1(m,
2H),7.1−7.4(m,7H),7.78(d,
1H,J=8.7Hz)
Intermediate Production Example 3: 2- {2-chloro-4-
Fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4-
Production of (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxydiphenol Step 1: A mixture of 4.05 g of 2-benzyloxyphenol and 9.5 ml of N, N-dimethylformamide was added dropwise to a mixture of 0.80 g of sodium hydride and 20 ml of N, N-dimethylformamide under ice cooling, followed by stirring for 30 minutes. . 2,
5-Difluoro-4- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] nitrobenzene (see Intermediate Preparation Example 4) A mixture of 7.1 g and 17 ml of N, N-dimethylformamide was added dropwise at the same temperature, and the mixture was stirred for 1 hour. The reaction solution was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed once with 1N hydrochloric acid and once with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2-
(2-benzyloxyphenoxy) -5-fluoro-4-
[3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidine-
8.6 g of [1-yl] nitrobenzene were obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 250MHz) δ (pp
m): 3.52 (q, 3H, J = 1.1 Hz), 5.0
1 (s, 2H), 6.31 (s, 1H), 6.81
(D, 1H, J = 6.0 Hz), 6.9-7.1 (m,
2H), 7.1-7.4 (m, 7H), 7.78 (d,
1H, J = 8.7Hz)

【0119】工程2: 鉄粉8.6g、酢酸27mlおよび水2.7mlの混合
物に、2−(2−ベンジルオキシフェノキシ)−5−フル
オロ−4−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(ト
リフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピ
リミジン−1−イル]ニトロベンゼン8.6gの酢酸2
3ml溶液を、反応液の温度を35℃以下に保ちつつ滴
下した。滴下終了後、2時間攪拌を続けた後、反応液を
セライト濾過し、酢酸エチルで希釈した。混合物を飽和
重曹水で中和し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、得られた残査をシリカ
ゲルクロマトグラフィーに付し、2−(2−ベンジルオ
キシフェノキシ)−5−フルオロ−4−[3−メチル−
2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,
2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]アニ
リン6.46gを得た。1 H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(pp
m):3.50(q,3H,J=1.2Hz),5.0
6(s,2H),6.29(s,1H),6.57(d
d,1H,J=8.5,1.6Hz),6.9−7.0
(m,1H),7.0−7.1(m,3H),7.2−
7.4(m,6H)
Step 2: To a mixture of 8.6 g of iron powder, 27 ml of acetic acid and 2.7 ml of water was added 2- (2-benzyloxyphenoxy) -5-fluoro-4- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl ) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] nitrobenzene 8.6 g of acetic acid 2
A 3 ml solution was added dropwise while maintaining the temperature of the reaction solution at 35 ° C. or lower. After completion of the dropwise addition, stirring was continued for 2 hours, and then the reaction solution was filtered through celite and diluted with ethyl acetate. The mixture was neutralized with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, the organic layer was washed with saturated saline, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated, and the resulting residue was subjected to silica gel chromatography to give 2- (2-benzyloxyphenoxy) ) -5-Fluoro-4- [3-methyl-
2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,
6.46 g of 2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] aniline was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 250MHz) δ (pp
m): 3.50 (q, 3H, J = 1.2 Hz), 5.0
6 (s, 2H), 6.29 (s, 1H), 6.57 (d
d, 1H, J = 8.5, 1.6 Hz), 6.9-7.0
(M, 1H), 7.0-7.1 (m, 3H), 7.2-
7.4 (m, 6H)

【0120】工程3: 亜硝酸イソアミル4.46gを2−(2−ベンジルオキ
シフェノキシ)−5−フルオロ−4−[3−メチル−
2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,
2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]アニ
リン6.46g、塩化銅(I)2.45g、塩化銅(I
I)5.04g、アセトニトリル90mlの混合物に室
温で滴下し、1時間攪拌した。該反応液を2%塩酸に注
加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、(〔2
−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチル−
2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,
2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]フェ
ノキシ}フェノキシ〕メチル)ベンゼン4.6gを得
た。 融点:50.8℃ 工程4: (〔2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−[3−メチ
ル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−
1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]
フェノキシ}フェノキシ〕メチル)ベンゼン4.5g
に、酢酸エチル230ml及び10%パラジウム/炭素
0.46gを加え、水素雰囲気下に室温で5時間攪拌し
た。反応系を窒素置換した後、反応液をセライト上で濾
過し、ろ液を濃縮して、2−{2−クロロ−4−フルオ
ロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリ
フルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリ
ミジン−1−イル]フェノキシ}フェノール3.57g
を得た。 融点:55.4℃
Step 3: 4.46 g of isoamyl nitrite was added to 2- (2-benzyloxyphenoxy) -5-fluoro-4- [3-methyl-
2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,
2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] aniline 6.46 g, copper chloride (I) 2.45 g, copper chloride (I
I) A mixture of 5.04 g and 90 ml of acetonitrile was added dropwise at room temperature and stirred for 1 hour. The reaction was poured into 2% hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with brine, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography, ([2
-{2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-
2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,
4.6 g of 2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxy {phenoxy] methyl) benzene were obtained. Melting point: 50.8 ° C Step 4: ([2- {2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl)-
1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl]
4.5 g of phenoxy [phenoxy] methyl) benzene
To the mixture were added 230 ml of ethyl acetate and 0.46 g of 10% palladium / carbon, and the mixture was stirred at room temperature under a hydrogen atmosphere for 5 hours. After purging the reaction system with nitrogen, the reaction solution was filtered over celite, and the filtrate was concentrated to give 2- {2-chloro-4-fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4-. (Trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxydiphenol 3.57 g
I got Melting point: 55.4 ° C

【0121】中間体製造例4:2,5−ジフルオロ−4
−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオ
ロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン
−1−イル]ニトロベンゼンの製造 2,4,5−トリフルオロニトロベンゼン1.77gと
3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメ
チル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン1.
94gをジメチルスルホキシド10mlに溶解し、室温
で無水炭酸カリウム1.52gを加えた後、80℃で1
時間攪拌した。反応液を室温に冷却した後、該反応液を
氷水に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、2,5−ジフルオロ−4−[3−メチル−2,6−
ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,
6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]ニトロベンゼ
ン1.51gを得た。 融点:150℃
Intermediate Production Example 4: 2,5-Difluoro-4
Production of-[3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] nitrobenzene 1.77 g of 2,4,5-trifluoronitrobenzene and 3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidine
94 g was dissolved in dimethyl sulfoxide (10 ml), and anhydrous potassium carbonate (1.52 g) was added at room temperature.
Stirred for hours. After the reaction solution was cooled to room temperature, the reaction solution was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with brine, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2,5-difluoro-4- [3-methyl-2,6-
Dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3
6-Tetrahydropyrimidin-1-yl] nitrobenzene 1.51 g was obtained. Melting point: 150 ° C

【0122】中間体製造例5:[2−{2−クロロ−4
−フルオロ−5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフル
オロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジ
ン−1−イル]フェノキシ}フェノキシ]酢酸メチルの
製造 工程1: 2−メトキシフェノール2.73gと炭酸カリウム5.
5gをジメチルホルムアミド20ml中に加え60℃に
昇温した。その混合物中へN−(2,5−ジフルオロ−
4−ニトロフェニル)アセトアミド4.3gとN,N−
ジメチルホルムアミド30mlから成る溶液を60〜6
5℃の温度で滴下した。1時間保温攪拌後、室温まで冷
却し、水にあけ酢酸エチルで抽出し有機層を希塩酸洗
浄、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮してN−[2
−フルオロ−5−(2−メトキシフェノキシ)−4−ニ
トロフェニル]アセトアミド5.52gを得た。1 H−NMR(250MHz,CDCl3)δ(ppm):2.16(3H,s),3.78(3H,
s),6.85〜7.22(4H,m),7.75〜7.83(1H,br),7.83 (1H,d,J
= 10.7Hz),8.04 (1H,d,J=6.9Hz)
Intermediate Production Example 5: [2- {2-chloro-4]
Production of methyl -fluoro-5- [2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxydiphenoxy] acetate Step 1: 2.73 g of 2-methoxyphenol and potassium carbonate5.
5 g was added to 20 ml of dimethylformamide, and the temperature was raised to 60 ° C. N- (2,5-difluoro-
4.3 g of 4-nitrophenyl) acetamide and N, N-
A solution consisting of 30 ml of dimethylformamide is added to 60 to 6
It was added dropwise at a temperature of 5 ° C. After stirring for 1 hour, the mixture was cooled to room temperature, poured into water, extracted with ethyl acetate, and the organic layer was washed with diluted hydrochloric acid, washed with water, dried over magnesium sulfate and concentrated to give N- [2
5.52 g of -fluoro-5- (2-methoxyphenoxy) -4-nitrophenyl] acetamide was obtained. 1 H-NMR (250 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 2.16 (3H, s), 3.78 (3H,
s), 6.85-7.22 (4H, m), 7.75-7.83 (1H, br), 7.83 (1H, d, J
= 10.7Hz), 8.04 (1H, d, J = 6.9Hz)

【0123】工程2: N−[2−フルオロ−5−(2−メトキシフェノキシ)
−4−ニトロフェニル]アセトアミド5.4gを塩化メ
チレン50mlに溶解させた後、三臭化ホウ素4.7g
を氷冷下で加えた。同温度で2時間攪拌後、濃塩酸を加
え水にあけ酢酸エチルで抽出し有機層を水洗し、硫酸マ
グネシウムで乾燥、濃縮し、得られた結晶をt−ブチル
メチルエーテルで洗浄してN−[2−フルオロ−5−
(2−ヒドロキシフェノキシ)−4−ニトロフェニル]
アセトアミド3.2gを得た。1 H−NMR(300MHz,CDCl3)δ(ppm):2.20(3H,s),6.33(1H,b
s),6.86〜7.23(4H,m),7.63(1H,bs),7.81 (1H,d, J= 10.
3 H z),8.34 (1H,d,J=6.7Hz)
Step 2: N- [2-fluoro-5- (2-methoxyphenoxy)
After dissolving 5.4 g of [-4-nitrophenyl] acetamide in 50 ml of methylene chloride, 4.7 g of boron tribromide was dissolved.
Was added under ice cooling. After stirring at the same temperature for 2 hours, concentrated hydrochloric acid was added, the mixture was poured into water, extracted with ethyl acetate, the organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate and concentrated. The obtained crystals were washed with t-butyl methyl ether to give N- [2-fluoro-5-
(2-Hydroxyphenoxy) -4-nitrophenyl]
3.2 g of acetamide were obtained. 1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 2.20 (3 H, s), 6.33 (1 H, b
s), 6.86-7.23 (4H, m), 7.63 (1H, bs), 7.81 (1H, d, J = 10.
3 Hz), 8.34 (1H, d, J = 6.7Hz)

【0124】工程3: N−[2−フルオロ−5−(2−ヒドロキシフェノキ
シ)−4−ニトロフェニル]アセトアミド3.02gを
N,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた
後、炭酸カリウム1.5gを加え室温で1時間攪拌し
た。その後、ブロモ酢酸メチル1.6gを室温で加え
た。同温度で2時間攪拌後、水にあけ酢酸エチルで抽出
し有機層を希塩酸洗浄、水洗、硫酸マグネシウムで乾
燥、濃縮し、得られた結晶をt−ブチルメチルエーテル
で洗浄して[2−(5−アセチルアミノ−4−フルオロ
−2−ニトロフェノキシ)フェノキシ]酢酸メチル3.
01gを得た。1 H−NMR(250MHz,CDCl3)δ(ppm):2.16(3H,s),3.73(3H,
s),4.62(2H,s),6.95〜7.26(4H,m),7.71(1H,bs),7.85 (1
H,d,J=10.7Hz),8.06(1H,d,J=6.9Hz)
Step 3: After dissolving 3.02 g of N- [2-fluoro-5- (2-hydroxyphenoxy) -4-nitrophenyl] acetamide in 20 ml of N, N-dimethylformamide, 1.5 g of potassium carbonate was added and the mixture was allowed to stand at room temperature for 1 hour. Stirred. Thereafter, 1.6 g of methyl bromoacetate was added at room temperature. After stirring at the same temperature for 2 hours, the mixture was poured into water, extracted with ethyl acetate, and the organic layer was washed with dilute hydrochloric acid, washed with water, dried over magnesium sulfate and concentrated, and the obtained crystals were washed with t-butyl methyl ether and [2- ( 2. Methyl 5-acetylamino-4-fluoro-2-nitrophenoxy) phenoxy] acetate
01 g was obtained. 1 H-NMR (250 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 2.16 (3H, s), 3.73 (3H,
s), 4.62 (2H, s), 6.95-7.26 (4H, m), 7.71 (1H, bs), 7.85 (1
H, d, J = 10.7Hz), 8.06 (1H, d, J = 6.9Hz)

【0125】工程4: 酢酸40mlと水40mlの混合物中に鉄粉2.2gを
加え80℃に昇温した。その混合溶液中へ[2−(5−
アセチルアミノ−4−フルオロ−2−ニトロフェノキ
シ)フェノキシ]酢酸メチル3.0gを添加し30分間
加熱還流した。その後、水にあけ酢酸エチルで抽出し有
機層を水洗、飽和重曹水洗浄、硫酸マグネシウムで乾
燥、濃縮して[2−(5−アセチルアミノ−2−アミノ
−4−フルオロフェノキシ)フェノキシ]酢酸メチル
2.01gを得た。1 H−NMR(250MHz,CDCl3)δ(ppm):2.11(3H,s),3.31〜4.1
5(2H,br),3.76(3H,s),4.71(2H,s),6.54(1H,d,J=11.9H
z), 6.90〜7.01(4H,m),7.17(1H,bs),7.69(1H,d,J=7.5H
z)
Step 4: 2.2 g of iron powder was added to a mixture of 40 ml of acetic acid and 40 ml of water, and the temperature was raised to 80 ° C. [2- (5-
Acetylamino-4-fluoro-2-nitrophenoxy) phenoxy] methyl acetate (3.0 g) was added, and the mixture was heated under reflux for 30 minutes. Thereafter, the mixture is poured into water and extracted with ethyl acetate. The organic layer is washed with water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, dried over magnesium sulfate and concentrated to give methyl [2- (5-acetylamino-2-amino-4-fluorophenoxy) phenoxy] acetate. 2.01 g were obtained. 1 H-NMR (250 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 2.11 (3H, s), 3.31 to 4.1
5 (2H, br), 3.76 (3H, s), 4.71 (2H, s), 6.54 (1H, d, J = 11.9H
z), 6.90-7.01 (4H, m), 7.17 (1H, bs), 7.69 (1H, d, J = 7.5H
z)

【0126】工程5: 濃塩酸30mlに[2−(5−アセチルアミノ−2−ア
ミノ−4−フルオロフェノキシ)フェノキシ]酢酸メチ
ル2.0を加え室温で1時間攪拌した。その後、亜硝酸
ナトリウム0.42gと水3mlから成る水溶液を氷冷
下で加えた。同温度で1時間攪拌後、t−ブチルメチル
エーテル40mlを加えさらに塩化銅(I)0.85g
を加えた。30分攪拌した後、水を加えt−ブチルメチ
ルエーテルで抽出し、有機層を水洗、硫酸マグネシウム
で乾燥、濃縮し、得られた残査をカラムクロマトグラフ
ィー(展開溶媒;ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精
製して[2−(5−アセチルアミノ−2−クロロ−4−
フルオロフェノキシ)フェノキシ]酢酸メチル0.52
gを得た。 融点:138.9℃
Step 5: To 30 ml of concentrated hydrochloric acid was added methyl [2- (5-acetylamino-2-amino-4-fluorophenoxy) phenoxy] acetate 2.0, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Thereafter, an aqueous solution comprising 0.42 g of sodium nitrite and 3 ml of water was added under ice cooling. After stirring at the same temperature for 1 hour, 40 ml of t-butyl methyl ether was added, and 0.85 g of copper (I) chloride was further added.
Was added. After stirring for 30 minutes, water was added and the mixture was extracted with t-butyl methyl ether. The organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate, and concentrated. / 1) and [2- (5-acetylamino-2-chloro-4-
Fluorophenoxy) phenoxy] methyl acetate 0.52
g was obtained. Melting point: 138.9 ° C

【0127】工程6: 三フッ化ホウ素メタノール錯体・メタノール溶液10m
l中に[2−(5−アセチルアミノ−2−クロロ−4−
フルオロフェノキシ)フェノキシ]酢酸メチル0.25
gを加え3時間加熱攪拌した。その後、反応液を濃縮
し、残査を酢酸エチルに溶解し飽和重曹水洗浄、硫酸マ
グネシウムで乾燥、濃縮し[2−(5−アミノ−2−ク
ロロ−4−フルオロフェノキシ)フェノキシ]酢酸メチ
ル[中間体化合物A3−22]0.2gを得た。1 H−NMR(250MHz,CDCl3)δ(ppm):3.74(3H,s),3.86(2H,b
r),4.70(2H,s),6.36(1H,d,J=8.21Hz),6.83〜7.09(5H,m)
Step 6: Boron trifluoride methanol complex / methanol solution 10m
[2- (5-acetylamino-2-chloro-4-
Fluorophenoxy) phenoxy] methyl acetate 0.25
g was added and stirred with heating for 3 hours. Thereafter, the reaction solution was concentrated, the residue was dissolved in ethyl acetate, washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, dried over magnesium sulfate, and concentrated, and methyl [2- (5-amino-2-chloro-4-fluorophenoxy) phenoxy] acetate [ Intermediate compound A3-22] (0.2 g) was obtained. 1 H-NMR (250 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 3.74 (3H, s), 3.86 (2H, b
r), 4.70 (2H, s), 6.36 (1H, d, J = 8.21Hz), 6.83-7.09 (5H, m)

【0128】工程7: [2−(5−アミノ−2−クロロ−4−フルオロフェノ
キシ)フェノキシ]酢酸メチル[中間体化合物A3−2
2]、クロロ蟻酸メチルおよびテトラヒドロフランの混
合物に、ピリジンを滴下し、室温で攪拌する。反応液に
希塩酸を加え、これを酢酸エチルで抽出する。該有機層
を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、
濃縮し、[2−(2−クロロ−4−フルオロ−5−メト
キシカルボニルアミノフェノキシ)フェノキシ]酢酸メ
チル[中間体化合物A9−22]を得る。
Step 7: [2- (5-amino-2-chloro-4-fluorophenoxy) phenoxy] methyl acetate [intermediate compound A3-2
2], pyridine is added dropwise to a mixture of methyl chloroformate and tetrahydrofuran, and the mixture is stirred at room temperature. Dilute hydrochloric acid is added to the reaction solution, which is extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated saline and dried over anhydrous magnesium sulfate.
Concentrate to obtain methyl [2- (2-chloro-4-fluoro-5-methoxycarbonylaminophenoxy) phenoxy] acetate [intermediate compound A9-22].

【0129】工程8: 3−アミノ−4,4,4−トリフルオロクロトン酸エチ
ルに、N,N−ジメチルホルムアミドと水素化ナトリウ
ムを加え、0℃で攪拌する。その後、反応液に[2−
(2−クロロ−4−フルオロ−5−メトキシカルボニル
アミノフェノキシ)フェノキシ]酢酸メチル[中間体化
合物A9−22]とN,N−ジメチルホルムアミドの混
合物を加え、80℃で攪拌する。反応液を室温まで冷却
した後、塩酸と氷水の混合物に注加し、析出した結晶を
濾取し、[2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−
[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−
1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]
フェノキシ}フェノキシ]酢酸メチルを得る。
Step 8: N, N-Dimethylformamide and sodium hydride are added to ethyl 3-amino-4,4,4-trifluorocrotonate, and the mixture is stirred at 0 ° C. Then, [2-
A mixture of methyl (2-chloro-4-fluoro-5-methoxycarbonylaminophenoxy) phenoxy] acetate [intermediate compound A9-22] and N, N-dimethylformamide is added, and the mixture is stirred at 80 ° C. After the reaction solution was cooled to room temperature, it was poured into a mixture of hydrochloric acid and ice water, and the precipitated crystals were collected by filtration and [2- {2-chloro-4-fluoro-5-
[2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl)-
1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl]
[Phenoxy diphenoxy] methyl acetate is obtained.

【0130】中間体製造例6: [2−{2−クロロ−
4−フルオロ−5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフ
ルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミ
ジン−1−イル]フェノキシ}フェノキシ]酢酸エチル
の製造 工程1: カテコール1.1gと炭酸カリウム2.76gをN,N
−ジメチルホルムアミド20ml中に加え60℃に昇温
した。その混合物中へN−(2,5−ジフルオロ−4−
ニトロフェニル)アセトアミド2.16gとN,N−ジ
メチルホルムアミド10mlからなる溶液を65〜70
℃の温度で滴下した。1時間保温後、室温まで冷却し、
水にあけ酢酸エチルで抽出し有機層を希塩酸洗浄、水
洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、得られた結晶を
t−ブチルメチルエーテルで洗浄してN−[2−フルオ
ロ−5−(2−ヒドロキシフェノキシ)−4−ニトロフ
ェニル]アセトアミド2.56gを得た。1 H−NMR(300MHz,CDCl3)δ(ppm):2.20(3H,s),6.33(1H,b
s),6.86〜7.23(4H,m),7.63(1H,bs),7.81 (1H,d, J= 10.
3 H z),8.34 (1H,d,J=6.7Hz)
Intermediate Production Example 6 [2- {2-chloro-
Preparation of ethyl 4-fluoro-5- [2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxydiphenoxy] acetate Step 1: 1.1 g of catechol and 2.76 g of potassium carbonate were added to N, N
-The mixture was added to 20 ml of dimethylformamide and heated to 60 ° C. N- (2,5-difluoro-4-) was added into the mixture.
A solution consisting of 2.16 g of nitrophenyl) acetamide and 10 ml of N, N-dimethylformamide was used for 65-70.
It was added dropwise at a temperature of ° C. After keeping it warm for 1 hour, cool it down to room temperature,
The mixture was poured into water, extracted with ethyl acetate, and the organic layer was washed with diluted hydrochloric acid, washed with water, dried over magnesium sulfate and concentrated. The obtained crystals were washed with t-butyl methyl ether to give N- [2-fluoro-5- (2- 2.56 g of [hydroxyphenoxy) -4-nitrophenyl] acetamide were obtained. 1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 2.20 (3 H, s), 6.33 (1 H, b
s), 6.86-7.23 (4H, m), 7.63 (1H, bs), 7.81 (1H, d, J = 10.
3 Hz), 8.34 (1H, d, J = 6.7Hz)

【0131】工程2: 酢酸25mlと水25mlの混合溶液中に鉄粉9.5g
を加え80℃に昇温した。その混合物中へN−[2−フ
ルオロ−5−(2−ヒドロキシフェノキシ)−4−ニト
ロフェニル]アセトアミド10.0gと酢酸エチル10
0mlからなる溶液を滴下した。1時間加熱還流後、水
にあけ酢酸エチルで抽出し有機層を水洗、飽和重曹水洗
浄、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮してN−[4−アミ
ノ−2−フルオロ−5−(2−ヒドロキシフェノキシ)
フェニル]アセトアミド7.42gを得た。1 H−NMR(250MHz,CDCl3)δ(ppm):2.16(3H,s),6.48(1H,
d,J=11.6Hz),6.74〜6.78(2H,m),6.93〜6.96(2H,m),7.35
(1H,bs),7.47(1H,d,J=7.4Hz)
Step 2: 9.5 g of iron powder in a mixed solution of 25 ml of acetic acid and 25 ml of water
Was added and the temperature was raised to 80 ° C. 10.0 g of N- [2-fluoro-5- (2-hydroxyphenoxy) -4-nitrophenyl] acetamide and ethyl acetate 10
A solution consisting of 0 ml was added dropwise. After heating under reflux for 1 hour, the mixture was poured into water and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, dried over magnesium sulfate and concentrated to give N- [4-amino-2-fluoro-5- (2-hydroxyphenoxy). )
7.42 g of [phenyl] acetamide were obtained. 1 H-NMR (250 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 2.16 (3H, s), 6.48 (1H,
d, J = 11.6Hz), 6.74 ~ 6.78 (2H, m), 6.93 ~ 6.96 (2H, m), 7.35
(1H, bs), 7.47 (1H, d, J = 7.4Hz)

【0132】工程3: N−[4−アミノ−2−フルオロ−5−(2−ヒドロキ
シフェノキシ)フェニル]アセトアミド7.4gをアセ
トニトリル30mlに溶解させた後、塩化銅(II)
5.42gを加え室温で攪拌した。そこへ亜硝酸t−ブ
チル4.16gとアセトニトリル5mlから成る溶液を
室温付近で滴下した。1時間室温で攪拌後、水にあけ酢
酸エチルで抽出し有機層を希塩酸洗浄、水洗、硫酸マグ
ネシウムで乾燥、濃縮して得られた残査をシリカゲルク
ロマトグラフィー(展開溶媒;ヘキサン/酢酸エチル=
2/1)で精製してN−[4−クロロ−2−フルオロ−
5−(2−ヒドロキシフェノキシ)フェニル]アセトア
ミド3.92gを得た。1 H−NMR(250MHz,CDCl3)δ(ppm):2.19(3H,s),5.72(1H,
s),6.70〜6.84(2H,m),7.01〜7.03(2H,m),7.23(1H,d,J=1
0.3Hz),7.34(1H,bs),8.18(2H,d,J=7.4Hz)
Step 3: After dissolving 7.4 g of N- [4-amino-2-fluoro-5- (2-hydroxyphenoxy) phenyl] acetamide in 30 ml of acetonitrile, copper (II) chloride is added.
5.42 g was added and the mixture was stirred at room temperature. A solution consisting of 4.16 g of t-butyl nitrite and 5 ml of acetonitrile was added dropwise thereto at around room temperature. After stirring at room temperature for 1 hour, the mixture was poured into water, extracted with ethyl acetate, and the organic layer was washed with dilute hydrochloric acid, washed with water, dried over magnesium sulfate, and concentrated, and the resulting residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane / ethyl acetate =
2/1) to give N- [4-chloro-2-fluoro-
3.92 g of 5- (2-hydroxyphenoxy) phenyl] acetamide were obtained. 1 H-NMR (250 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): 2.19 (3H, s), 5.72 (1H,
s), 6.70-6.84 (2H, m), 7.01-7.03 (2H, m), 7.23 (1H, d, J = 1
0.3Hz), 7.34 (1H, bs), 8.18 (2H, d, J = 7.4Hz)

【0133】工程4: N−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2−ヒドロキ
シフェノキシ)フェニル]アセトアミドをN,N−ジメ
チルホルムアミドに溶解させた後、炭酸カリウムを加え
室温で攪拌する。その後、ブロモ酢酸エチルを室温で加
える。同温度で攪拌後、水にあけ酢酸エチルで抽出し有
機層を希塩酸洗浄、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃
縮し、得られる結晶をt−ブチルメチルエーテルで洗浄
して[2−(5−アセチルアミノ−2−クロロ−4−フ
ルオロフェノキシ)フェノキシ]酢酸エチルを得る。
Step 4: After N- [4-chloro-2-fluoro-5- (2-hydroxyphenoxy) phenyl] acetamide is dissolved in N, N-dimethylformamide, potassium carbonate is added and the mixture is stirred at room temperature. Thereafter, ethyl bromoacetate is added at room temperature. After stirring at the same temperature, the mixture was poured into water, extracted with ethyl acetate, and the organic layer was washed with dilute hydrochloric acid, washed with water, dried over magnesium sulfate, and concentrated. Amino-2-chloro-4-fluorophenoxy) phenoxy] ethyl acetate is obtained.

【0134】工程5: 三フッ化ホウ素メタノール錯体・メタノール溶液中に
[2−(5−アセチルアミノ−2−クロロ−4−フルオ
ロフェノキシ)フェノキシ]酢酸エチルを加え加熱攪拌
する。その後、反応液を濃縮し、残査を酢酸エチルに溶
解し飽和重曹水洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し
[2−(5−アミノ−2−クロロ−4−フルオロフェノ
キシ)フェノキシ]酢酸エチル[中間体化合物A3−2
3]を得る。
Step 5: Ethyl [2- (5-acetylamino-2-chloro-4-fluorophenoxy) phenoxy] acetate is added to a boron trifluoride methanol complex / methanol solution, and the mixture is heated and stirred. Thereafter, the reaction solution was concentrated, the residue was dissolved in ethyl acetate, washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, dried over magnesium sulfate, and concentrated, and ethyl [2- (5-amino-2-chloro-4-fluorophenoxy) phenoxy] ethyl acetate [ Intermediate compound A3-2
3] is obtained.

【0135】工程6: [2−(5−アミノ−2−クロロ−4−フルオロフェノ
キシ)フェノキシ]酢酸エチル[中間体化合物A3−2
3]、クロロ蟻酸エチルおよびテトラヒドロフランの混
合物に、ピリジンを滴下し、室温で攪拌する。反応液に
希塩酸を加え、これを酢酸エチルで抽出する。該有機層
を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、
濃縮し、[2−(2−クロロ−4−フルオロ−5−エト
キシカルボニルアミノフェノキシ)フェノキシ]酢酸エ
チル[中間体化合物A8−23]を得る。
Step 6: [2- (5-amino-2-chloro-4-fluorophenoxy) phenoxy] ethyl acetate [intermediate compound A3-2
3], pyridine is added dropwise to a mixture of ethyl chloroformate and tetrahydrofuran, and the mixture is stirred at room temperature. Dilute hydrochloric acid is added to the reaction solution, which is extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated saline and dried over anhydrous magnesium sulfate.
Concentrate to obtain [2- (2-chloro-4-fluoro-5-ethoxycarbonylaminophenoxy) phenoxy] ethyl acetate [intermediate compound A8-23].

【0136】工程7: 3−アミノ−4,4,4−トリフルオロクロトン酸エチ
ルに、N,N−ジメチルホルムアミドと水素化ナトリウ
ムを加え、0℃で攪拌する。その後、反応液に[2−
(2−クロロ−4−フルオロ−5−エトキシカルボニル
アミノフェノキシ)フェノキシ]酢酸エチル[中間体化
合物A8−23]とN,N−ジメチルホルムアミドの混
合物を加え、80℃で攪拌する。反応液を室温まで冷却
した後、塩酸と氷水の混合物に注加し、析出した結晶を
濾取し、[2−{2−クロロ−5−[2,6−ジオキソ
−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テト
ラヒドロピリミジン−1−イル]−4−フルオロフェノ
キシ}フェノキシ]酢酸エチルを得る。
Step 7: N, N-Dimethylformamide and sodium hydride are added to ethyl 3-amino-4,4,4-trifluorocrotonate, and the mixture is stirred at 0 ° C. Then, [2-
A mixture of ethyl (2-chloro-4-fluoro-5-ethoxycarbonylaminophenoxy) phenoxy] acetate [intermediate compound A8-23] and N, N-dimethylformamide is added, and the mixture is stirred at 80 ° C. After the reaction solution was cooled to room temperature, it was poured into a mixture of hydrochloric acid and ice water, and the precipitated crystals were collected by filtration, and [2- {2-chloro-5- [2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) ) Ethyl-1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] -4-fluorophenoxy {phenoxy] acetate is obtained.

【0137】中間体製造例7:[2−{2−クロロ−5
−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−
1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]
−4−フルオロフェノキシ}フェノキシ]酢酸エチルの
製造 工程1: [2−(5−アミノ−2−クロロ−4−フルオロフェノ
キシ)フェノキシ]酢酸エチル[中間体化合物A3−2
3]、トリクロロメチルクロロホルメートおよびトルエ
ンの混合物に、活性炭を加え、加熱還流する。反応液を
濾過し、溶媒を留去し、[2−(2−クロロ−4−フル
オロ−5−イソシアナト)フェノキシ]酢酸エチル[中
間体化合物A12−23]を得る。
Intermediate Production Example 7: [2- {2-chloro-5]
-[2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl)-
1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl]
Production of ethyl 4-fluorophenoxy [phenoxy] ethyl acetate Step 1: [2- (5-amino-2-chloro-4-fluorophenoxy) phenoxy] ethyl acetate [intermediate compound A3-2
3], activated carbon is added to a mixture of trichloromethyl chloroformate and toluene, and the mixture is heated to reflux. The reaction solution is filtered and the solvent is distilled off to obtain ethyl [2- (2-chloro-4-fluoro-5-isocyanato) phenoxy] acetate [intermediate compound A12-23].

【0138】工程2: 3−アミノ−4,4,4−トリフルオロクロトン酸エチ
ルに、N,N−ジメチルホルムアミドと水素化ナトリウ
ムを加え、0℃で攪拌する。その後、反応液に[2−
(2−クロロ−4−フルオロ−5−イソシアナト)フェ
ノキシ]酢酸エチル[中間体化合物A12−23]と
N,N−ジメチルホルムアミドの混合物を加えた後、室
温で攪拌する。反応液を塩酸と氷水の混合物に注加し、
析出した結晶を濾取し、[2−{2−クロロ−5−
[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−
1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]
−4−フルオロフェノキシ}フェノキシ]酢酸エチルを
得る。
Step 2: N, N-Dimethylformamide and sodium hydride are added to ethyl 3-amino-4,4,4-trifluorocrotonate, and the mixture is stirred at 0 ° C. Then, [2-
After adding a mixture of ethyl (2-chloro-4-fluoro-5-isocyanato) phenoxy] acetate [intermediate compound A12-23] and N, N-dimethylformamide, the mixture is stirred at room temperature. The reaction solution was poured into a mixture of hydrochloric acid and ice water,
The precipitated crystals were collected by filtration and [2- {2-chloro-5-
[2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl)-
1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl]
-4-Fluorophenoxy {phenoxy] ethyl acetate is obtained.

【0139】中間体製造例8:[2−{2−クロロ−5
−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−
1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]
−4−フルオロフェノキシ}フェノキシ]酢酸メチルの
製造 工程1 [2−(5−アミノ−2−クロロ−4−フルオロフェノ
キシ)フェノキシ]酢酸メチル(中間体化合物A3−2
2)4.85gとトリフルオロアセト酢酸エチル2.8
8gとトルエン40mlからなる溶液を、モレキュラー
シーブス5Aを通しながら6時間共沸脱エタノールし
た。該反応混合物を冷却後、酢酸エチル50mlを加え
た後、有機層を濃塩酸、水、および飽和食塩水で洗浄し
た。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、残査
をヘキサンで洗浄することで、粗[2−(5−{3,3
−ジヒドロキシ−4,4,4−トリフルオロブチリル}
アミノ−2−クロロ−4−フルオロフェノキシ)フェノ
キシ]酢酸メチル5.82gを得た。 mp:165.3℃ 2)化合物[2h]から[2−{2−クロロ−5−
[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−
1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]
−4−フルオロフェノキシ}フェノキシ]酢酸メチル
〔化合物[3h]〕を製造する方法 粗[2−(5−{3,3−ジヒドロキシ−4,4,4−
トリフルオロブチリル}アミノ−2−クロロ−4−フル
オロフェノキシ)フェノキシ]酢酸メチル[2h]1.
0gとテトラヒドロフラン3mlの溶液に、酢酸4ml
およびシアン酸カリウム0.87gを加え、室温下6時
間攪拌した後、120℃で2時間加熱還流させた。冷却
後、水30mlを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層
を飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。減圧下濃縮し、残査をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し、[2−{2−クロロ−
5−[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)
−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イ
ル]−4−フルオロフェノキシ}フェノキシ]酢酸メチ
ル0.67gを得た。 〔1H−NMR(250MHz,CDCl3,TMSδ(ppm));3.72(3H,s),4.6
5(2H,s),6.16(1H,s),6.77(1H,d,J=6.6Hz),6.89-7.15(4
H,m),7.36(1H,d,J=8.9Hz)〕
Intermediate Production Example 8: [2- {2-chloro-5]
-[2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl)-
1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl]
Production of methyl 4-fluorophenoxy [phenoxy] methyl acetate Step 1 Methyl [2- (5-amino-2-chloro-4-fluorophenoxy) phenoxy] acetate (intermediate compound A3-2
2) 4.85 g and ethyl trifluoroacetoacetate 2.8
A solution consisting of 8 g and 40 ml of toluene was azeotropically deethanolated for 6 hours while passing through a molecular sieve 5A. After cooling the reaction mixture, 50 ml of ethyl acetate was added, and the organic layer was washed with concentrated hydrochloric acid, water, and saturated saline. After drying over anhydrous sodium sulfate, the mixture was concentrated under reduced pressure, and the residue was washed with hexane to give crude [2- (5- {3,3
-Dihydroxy-4,4,4-trifluorobutyryl}
Amino-2-chloro-4-fluorophenoxy) phenoxy] methyl acetate 5.82 g was obtained. mp: 165.3 ° C 2) From compound [2h] to [2- {2-chloro-5-
[2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl)-
1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl]
Method for producing methyl 4-fluorophenoxy {phenoxy] acetate [compound [3h]] Crude [2- (5- {3,3-dihydroxy-4,4,4-
Methyl trifluorobutyryl {amino-2-chloro-4-fluorophenoxy) phenoxy] acetate [2h]
Acetic acid 4 ml in a solution of 0 g and 3 ml of tetrahydrofuran
Then, 0.87 g of potassium cyanate was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours and then heated and refluxed at 120 ° C. for 2 hours. After cooling, 30 ml of water was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, water, and saturated saline, and then dried over anhydrous sodium sulfate. After concentration under reduced pressure, the residue was subjected to silica gel column chromatography to give [2- {2-chloro-
5- [2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl)
0.67 g of methyl-1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] -4-fluorophenoxy {phenoxy] acetate was obtained. [ 1 H-NMR (250 MHz, CDCl 3 , TMS δ (ppm)); 3.72 (3H, s), 4.6
5 (2H, s), 6.16 (1H, s), 6.77 (1H, d, J = 6.6Hz), 6.89-7.15 (4
H, m), 7.36 (1H, d, J = 8.9Hz)

【0140】中間体製造例8記載と同様な方法(中間体
製造法17)にて、[2−(5−アミノ−2−クロロ−
4−フルオロフェノキシ)フェノキシ]酢酸エチル[中
間体化合物A3−23]から[2−{2−クロロ−5−
[2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−
1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]
−4−フルオロフェノキシ}フェノキシ]酢酸エチルが
製造できる。
[2- (5-Amino-2-chloro-
4-Fluorophenoxy) phenoxy] ethyl acetate [intermediate compound A3-23] to [2- {2-chloro-5-
[2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl)-
1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl]
Ethyl-4-fluorophenoxy {phenoxy] acetate can be prepared.

【0141】中間体製造例9:3−{2−シアノ−4−
フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−
(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒド
ロピリミジン−1−イル]フェノキシ}フェノールの製
造 工程1: 3−メトキシフェノール3.53g、無水炭酸カリウム
5.12g、2,5−ジフルオロ−4−[3−メチル−
2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,
2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]ニト
ロベンゼン(前記、中間体製造例4を参照)10gおよ
びN,N−ジメチルホルムアミド40mlの混合物を、
60〜70℃で2時間攪拌した。該反応液を塩酸水と氷
水の混合物に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層
を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、
濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し、5−フルオロ−2−(3−メトキシフェノキシ)
−4−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフ
ルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミ
ジン−1−イル]ニトロベンゼン4.17gを得た。1 H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(pp
m):3.53(q,3H,J=1.2Hz),3.7
9(s,3H),6.33(s,1H),6.6−6.
7(m,2H),6.7−6.8(m,1H),7.0
0(d,1H,J=6.1Hz),7.2−7.3
(m,1H),7.88(d,1H,J=8.6Hz)
Intermediate Production Example 9: 3- {2-cyano-4-
Fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4-
Production of (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxydiphenol Step 1: 3.53 g of 3-methoxyphenol, 5.12 g of anhydrous potassium carbonate, 2,5-difluoro-4- [3-methyl-
2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,
A mixture of 10 g of 2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] nitrobenzene (see Intermediate Preparation Example 4 above) and 40 ml of N, N-dimethylformamide is
Stirred at 60-70 ° C for 2 hours. The reaction solution was poured into a mixture of aqueous hydrochloric acid and ice water, and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated saline and dried over anhydrous magnesium sulfate.
Concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give 5-fluoro-2- (3-methoxyphenoxy)
4.17 g of -4- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] nitrobenzene was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 250MHz) δ (pp
m): 3.53 (q, 3H, J = 1.2 Hz), 3.7
9 (s, 3H), 6.33 (s, 1H), 6.6-6.
7 (m, 2H), 6.7-6.8 (m, 1H), 7.0
0 (d, 1H, J = 6.1 Hz), 7.2-7.3
(M, 1H), 7.88 (d, 1H, J = 8.6 Hz)

【0142】工程2: 鉄粉4.5g、酢酸10mlおよび水1mlの混合溶液
に、5−フルオロ−2−(3−メトキシフェノキシ)−4
−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオ
ロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン
−1−イル]ニトロベンゼン4.17gの酢酸10ml
溶液を、20分かけて滴下した。滴下終了後、2時間攪
拌を続けた後、反応液をセライト濾過し、酢酸エチルで
希釈した。混合物を水で2回洗浄後、有機層を飽和重曹
水、飽和食塩水で順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥、濃縮後、得られた残査をシリカゲルクロマトグラ
フィーに付し、5−フルオロ−2−(3−メトキシフェ
ノキシ)−4−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−
(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラヒド
ロピリミジン−1−イル]アニリン3.67gを得た。1 H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(pp
m):3.52(q,3H,J=1.0Hz),3.7
6(s,3H),4.0−4.2(b,2H),6.3
1(s,1H),6.5−6.7(m,4H),6.7
3(d,1H,J=7.0Hz),7.1−7.3
(m,1H)
Step 2: 5-fluoro-2- (3-methoxyphenoxy) -4 was added to a mixed solution of 4.5 g of iron powder, 10 ml of acetic acid and 1 ml of water.
-[3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] nitrobenzene 4.17 g of acetic acid 10 ml
The solution was added dropwise over 20 minutes. After completion of the dropwise addition, stirring was continued for 2 hours, and then the reaction solution was filtered through celite and diluted with ethyl acetate. After the mixture was washed twice with water, the organic layer was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated, and the resulting residue was subjected to silica gel chromatography to give 5-fluoro- 2- (3-methoxyphenoxy) -4- [3-methyl-2,6-dioxo-4-
3.67 g of (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] aniline were obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 300MHz) δ (pp
m): 3.52 (q, 3H, J = 1.0 Hz), 3.7
6 (s, 3H), 4.0-4.2 (b, 2H), 6.3
1 (s, 1H), 6.5-6.7 (m, 4H), 6.7
3 (d, 1H, J = 7.0 Hz), 7.1-7.3
(M, 1H)

【0143】工程3: 亜硝酸t−ブチル57mgを5−フルオロ−2−(3−
メトキシフェノキシ)−4−[3−メチル−2,6−ジ
オキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6
−テトラヒドロピリミジン−1−イル]アニリン213
mg、臭化銅(I)93mg、アセトニトリル1mlの
混合物に0℃で1時間かけて滴下し、30分間攪拌し
た。室温に昇温し、10時間攪拌した。該反応液を2%
塩酸に注加し、酢酸エチルで抽出した。該有機層を飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、5−フルオロ−2−(3−メトキシフェノキシ)−4
−[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオ
ロメチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン
−1−イル]ブロモベンゼン75mgを得た。1 H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(pp
m):3.52(q,3H,J=1.2Hz),3.7
7(s,3H),6.31(s,1H),6.5−6.
6(m,1H),6.59(s,1H),6.6−6.
7(m,1H),6.86(d,1H,J=6.7H
z),7.22(dd,1H,J=9.0,8.7H
z),7.54(d,1H,J=8.8Hz)
Step 3: 57 mg of t-butyl nitrite was added to 5-fluoro-2- (3-
Methoxyphenoxy) -4- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6
-Tetrahydropyrimidin-1-yl] aniline 213
mg, 93 mg of copper (I) bromide and 1 ml of acetonitrile were added dropwise at 0 ° C. over 1 hour and stirred for 30 minutes. The temperature was raised to room temperature and stirred for 10 hours. 2% of the reaction solution
The mixture was poured into hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with brine, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give 5-fluoro-2- (3-methoxyphenoxy) -4
75 mg of-[3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] bromobenzene were obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 300MHz) δ (pp
m): 3.52 (q, 3H, J = 1.2 Hz), 3.7
7 (s, 3H), 6.31 (s, 1H), 6.5-6.
6 (m, 1H), 6.59 (s, 1H), 6.6-6.
7 (m, 1H), 6.86 (d, 1H, J = 6.7H
z), 7.22 (dd, 1H, J = 9.0, 8.7H
z), 7.54 (d, 1H, J = 8.8 Hz)

【0144】工程4: 5−フルオロ−2−(3−メトキシフェノキシ)−4−
[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロ
メチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−
1−イル]ブロモベンゼン75mg、シアン化銅27m
gおよびN−メチル−2−ピロリドン0.5mlの混合
物を170〜180℃で2時間攪拌した。反応系を室温
に冷却した後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し
た。該有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、5−フルオロ−2−(3−メトキシフェノキシ)−
[3−メチル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロ
メチル)−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−
1−イル]シアノベンゼン57mgを得た。1 H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(pp
m):3.52(q,3H,J=1.0Hz),3.7
9(s,3H),6.31(s,1H),6.67
(s,1H),6.6−6.7(m,1H),6.7−
6.8(m,1H),6.84(d,1H,J=5.8
Hz),7.29(dd,1H,J=9.1,8.6H
z),7.53(d,1H,J=8.4Hz)
Step 4: 5-fluoro-2- (3-methoxyphenoxy) -4-
[3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidine-
1-yl] bromobenzene 75 mg, copper cyanide 27 m
g and 0.5 ml of N-methyl-2-pyrrolidone were stirred at 170-180 ° C. for 2 hours. After cooling the reaction system to room temperature, water was added to the reaction solution, and extracted with ethyl acetate. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give 5-fluoro-2- (3-methoxyphenoxy)-
[3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidine-
1-yl] cyanobenzene 57 mg was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 300MHz) δ (pp
m): 3.52 (q, 3H, J = 1.0 Hz), 3.7
9 (s, 3H), 6.31 (s, 1H), 6.67
(S, 1H), 6.6-6.7 (m, 1H), 6.7-
6.8 (m, 1H), 6.84 (d, 1H, J = 5.8
Hz), 7.29 (dd, 1H, J = 9.1, 8.6H)
z), 7.53 (d, 1H, J = 8.4 Hz)

【0145】工程5: 三臭化ホウ素48μlを0℃で5−フルオロ−2−(3
−メトキシフェノキシ)−4−[3−メチル−2,6−
ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,
6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]シアノベンゼ
ン57mgのクロロホルム0.6ml溶液に滴下した。
滴下終了後、反応液を室温に昇温し1時間攪拌した。反
応系を0℃に冷却し、メタノール1mlを加えた。減圧
下溶媒を留去した後、酢酸エチルで希釈し、飽和重曹水
を加えpH4とした。酢酸エチルで抽出し、該有機層を
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃
縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し、3−{2−シアノ−4−フルオロ−5−[3−メ
チル−2,6−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)
−1,2,3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イ
ル]フェノキシ}フェノール36mgを得た。1 H−NMR(CDCl3/300MHz)δ(pp
m):3.52(q,3H,J=1.0Hz),6.3
2(s,1H),6.3−6.5(b,1H),6.5
−6.6(m,1H),6.6−6.7(m,2H),
6.87(d,1H,J=5.8Hz),7.21(d
d,1H,J=8.3,8.1Hz),7.51(d,
1H,J=8.4Hz)
Step 5: 48 μl of boron tribromide is added at 0 ° C. to 5-fluoro-2- (3
-Methoxyphenoxy) -4- [3-methyl-2,6-
Dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3
[6-Tetrahydropyrimidin-1-yl] cyanobenzene was dropped into a solution of 57 mg of chloroform in 0.6 ml of chloroform.
After the addition was completed, the reaction solution was heated to room temperature and stirred for 1 hour. The reaction was cooled to 0 ° C. and 1 ml of methanol was added. After evaporating the solvent under reduced pressure, the mixture was diluted with ethyl acetate and adjusted to pH 4 with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate. The mixture was extracted with ethyl acetate, and the organic layer was washed with saturated saline, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give 3- {2-cyano-4-fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl)].
36 mg of -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxydiphenol were obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 300MHz) δ (pp
m): 3.52 (q, 3H, J = 1.0 Hz), 6.3
2 (s, 1H), 6.3-6.5 (b, 1H), 6.5
−6.6 (m, 1H), 6.6-6.7 (m, 2H),
6.87 (d, 1H, J = 5.8 Hz), 7.21 (d
d, 1H, J = 8.3, 8.1 Hz), 7.51 (d,
1H, J = 8.4Hz)

【0146】中間体製造例10:[2−{2−アミノ−
4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキソ−
4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テトラ
ヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}フェノキ
シ]酢酸メチルの製造 鉄粉19g、酢酸60mlおよび水6mlの混合溶液
に、[2−{4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6
−ジオキソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,
3,6−テトラヒドロピリミジン−1−イル]−2−ニ
トロフェノキシ}フェノキシ]酢酸メチル19.12g
〔本発明化合物4−19〕の酢酸60ml溶液を氷冷下
滴下した。滴下終了後、室温に昇温し、4時間攪拌した
後、反応液をセライト濾過し、酢酸エチルで希釈した。
混合物を水、飽和重曹水、飽和食塩水で順に洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、得られた残査をシ
リカゲルクロマトグラフィーに付し、[2−{2−アミ
ノ−4−フルオロ−5−[3−メチル−2,6−ジオキ
ソ−4−(トリフルオロメチル)−1,2,3,6−テ
トラヒドロピリミジン−1−イル]フェノキシ}フェノ
キシ]酢酸メチル15.16gを得た。1 H−NMR(CDCl3/250MHz)δ(pp
m):3.51(q,3H,J=0.9Hz),3.7
6(s,3H),4.2−4.4(b,2H),4.6
9(s,2H),6.29(s,1H),6.6−6.
7(m,2H),6.9−7.1(m,4H)
Intermediate Production Example 10: [2- {2-amino-
4-fluoro-5- [3-methyl-2,6-dioxo-
Production of methyl 4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxy {phenoxy] acetate [2- {4-fluoro-5- [3-methyl-2,6] was added to a mixed solution of 19 g of iron powder, 60 ml of acetic acid and 6 ml of water.
-Dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,2
19.12 g of methyl 3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] -2-nitrophenoxydiphenoxy] acetate
A solution of [the present compound 4-19] in acetic acid (60 ml) was added dropwise under ice cooling. After completion of the dropwise addition, the temperature was raised to room temperature, and the mixture was stirred for 4 hours. Then, the reaction solution was filtered through celite and diluted with ethyl acetate.
The mixture was washed successively with water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated, and the resulting residue was subjected to silica gel chromatography to give [2- {2-amino-4-fluoro- 15.16 g of methyl 5- [3-methyl-2,6-dioxo-4- (trifluoromethyl) -1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-1-yl] phenoxy} phenoxy] acetate was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 / 250MHz) δ (pp
m): 3.51 (q, 3H, J = 0.9 Hz), 3.7
6 (s, 3H), 4.2-4.4 (b, 2H), 4.6
9 (s, 2H), 6.29 (s, 1H), 6.6-6.
7 (m, 2H), 6.9-7.1 (m, 4H)

【0147】中間体製造例11:[2−(2−クロロ−
4−フルオロ−5−メトキシカルボニルアミノフェノキ
シ)フェノキシ]酢酸メチル[中間体化合物A9−2
2]の製造
Intermediate Production Example 11: [2- (2-chloro-
4-fluoro-5-methoxycarbonylaminophenoxy) phenoxy] methyl acetate [intermediate compound A9-2
2] Manufacturing

【0148】工程1: N−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(2−ヒドロキ
シフェノキシ)フェニル]アセトアミド(中間体製造例
6、工程3を参照)から中間体製造例5、工程6に記載
の方法と同様にして4−クロロ−2−フルオロ−5−
(2−ヒドロキシフェノキシ)アニリン[中間体化合物
A3−4]を製造した。1 H-NMR (CDCl3/300 MHz)δ(ppm): 3.76 (bs, 2H), 5.78
(bs, 1H), 6.41 (d,1H, J=8.3 Hz), 6.7-6.9 (m, 2
H), 7.0-7.1 (m, 2H), 7.09 (d, 1H, J=10.2 Hz)
Step 1: From N- [4-chloro-2-fluoro-5- (2-hydroxyphenoxy) phenyl] acetamide (see Intermediate Production Example 6, Step 3), the method was described in Intermediate Production Example 5, Step 6. 4-chloro-2-fluoro-5-
(2-Hydroxyphenoxy) aniline [intermediate compound A3-4] was produced. 1 H-NMR (CDCl 3/ 300 MHz) δ (ppm): 3.76 (bs, 2H), 5.78
(bs, 1H), 6.41 (d, 1H, J = 8.3 Hz), 6.7-6.9 (m, 2
H), 7.0-7.1 (m, 2H), 7.09 (d, 1H, J = 10.2 Hz)

【0149】工程2: 4−クロロ−2−フルオロ−5−(2−ヒドロキシフェ
ノキシ)アニリン[中間体化合物A3−4]、クロロ蟻
酸メチルおよびテトラヒドロフランの混合物に、N,N
−ジメチルアニリンを滴下し、室温で攪拌する。反応液
に希塩酸を加え、これを酢酸エチルで抽出する。該有機
層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥、濃縮し、2−(2−クロロ−4−フルオロ−5−メ
トキシカルボニルアミノフェノキシ)フェノール[中間
体化合物A9−4]を得る。
Step 2: N, N was added to a mixture of 4-chloro-2-fluoro-5- (2-hydroxyphenoxy) aniline [intermediate compound A3-4], methyl chloroformate and tetrahydrofuran.
-Add dimethylaniline dropwise and stir at room temperature. Dilute hydrochloric acid is added to the reaction solution, which is extracted with ethyl acetate. The organic layer is washed with brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated to give 2- (2-chloro-4-fluoro-5-methoxycarbonylaminophenoxy) phenol [intermediate compound A9-4].

【0150】工程3: 2−(2−クロロ−4−フルオロ−5−メトキシカルボ
ニルアミノフェノキシ)フェノール[中間体化合物A9
−4]をN,N−ジメチルホルムアミドに溶解させた
後、炭酸カリウムを加え室温で1時間攪拌する。その
後、ブロモ酢酸エチルを室温で加える。60℃で2時間
攪拌後、水にあけ酢酸エチルで抽出し有機層を希塩酸洗
浄、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、[2−
(2−クロロ−4−フルオロ−5−メトキシカルボニル
アミノフェノキシ)フェノキシ]酢酸メチル[中間体化
合物A9−22]を得る。
Step 3: 2- (2-chloro-4-fluoro-5-methoxycarbonylaminophenoxy) phenol [intermediate compound A9
-4] in N, N-dimethylformamide, add potassium carbonate and stir at room temperature for 1 hour. Thereafter, ethyl bromoacetate is added at room temperature. After stirring at 60 ° C. for 2 hours, the mixture was poured into water and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with diluted hydrochloric acid, washed with water, dried over magnesium sulfate and concentrated.
Methyl (2-chloro-4-fluoro-5-methoxycarbonylaminophenoxy) phenoxy] acetate [intermediate compound A9-22] is obtained.

【0151】次に、本発明化合物のいくつかを例示す
る。具体的な化合物は表1〜表37に記載の化合物番号
により特定される。尚、本発明化合物はこれらの例示に
限定されない。 一般式[I−1]で示される化合物(化合物番号は、表
1〜表9に記載)
Next, some of the compounds of the present invention will be exemplified. Specific compounds are specified by the compound numbers described in Tables 1 to 37. In addition, the compound of the present invention is not limited to these examples. Compound represented by general formula [I-1] (compound numbers are described in Tables 1 to 9)

【化37】 Embedded image

【0152】[0152]

【表1】 [Table 1]

【0153】[0153]

【表2】 [Table 2]

【0154】[0154]

【表3】 [Table 3]

【0155】[0155]

【表4】 [Table 4]

【0156】[0156]

【表5】 [Table 5]

【0157】[0157]

【表6】 [Table 6]

【0158】[0158]

【表7】 [Table 7]

【0159】[0159]

【表8】 [Table 8]

【0160】[0160]

【表9】 [Table 9]

【0161】一般式[I−2]で示される化合物(化合
物番号は、表10〜表18に記載)
Compounds of the formula [I-2] (compound numbers are listed in Tables 10 to 18)

【化38】 Embedded image

【0162】[0162]

【表10】 [Table 10]

【0163】[0163]

【表11】 [Table 11]

【0164】[0164]

【表12】 [Table 12]

【0165】[0165]

【表13】 [Table 13]

【0166】[0166]

【表14】 [Table 14]

【0167】[0167]

【表15】 [Table 15]

【0168】[0168]

【表16】 [Table 16]

【0169】[0169]

【表17】 [Table 17]

【0170】[0170]

【表18】 一般式[I−3]で示される化合物(化合物番号は、表
19〜表27に記載)
[Table 18] Compounds represented by the general formula [I-3] (compound numbers are described in Tables 19 to 27)

【化39】 Embedded image

【表19】 [Table 19]

【0171】[0171]

【表20】 [Table 20]

【0172】[0172]

【表21】 [Table 21]

【0173】[0173]

【表22】 [Table 22]

【0174】[0174]

【表23】 [Table 23]

【0175】[0175]

【表24】 [Table 24]

【0176】[0176]

【表25】 [Table 25]

【0177】[0177]

【表26】 [Table 26]

【0178】[0178]

【表27】 [Table 27]

【0179】一般式[I−4]で示される化合物(化合
物番号は、表28〜表29に記載)
Compounds represented by the general formula [I-4] (compound numbers are listed in Tables 28 to 29)

【化40】 Embedded image

【0180】[0180]

【表28】 [Table 28]

【0181】[0181]

【表29】 [Table 29]

【0182】一般式[I−5]で示される化合物(化合
物番号は、表30〜表31に記載)
Compounds represented by the general formula [I-5] (compound numbers are shown in Tables 30 to 31)

【化41】 Embedded image

【0183】[0183]

【表30】 [Table 30]

【0184】[0184]

【表31】 [Table 31]

【0185】次に、本発明化合物を製造する際の有用な
製造中間体のいくつかを例示する。具体的な化合物は、
以下に記載の一般式と表32〜表35に記載の枝番号の
組合わせにより特定される化合物番号により特定され
る。(例えば、中間体化合物A1−1とは、一般式[A
1−]で示される構造であり、置換基X1、X2およびA
が表34の枝番号1に記載の置換基である化合物を示
す。)
Next, some of useful intermediates for producing the compound of the present invention will be exemplified. Specific compounds are:
It is specified by a compound number specified by a combination of a general formula described below and a branch number described in Tables 32-35. (For example, the intermediate compound A1-1 is represented by the general formula [A
1-], wherein substituents X 1 , X 2 and A
Is a substituent described in Branch No. 1 of Table 34. )

【0186】一般式[A1−]で示される化合物(枝番
号は、表32〜表35に記載。)
Compounds represented by the general formula [A1-] (branch numbers are shown in Tables 32 to 35)

【化42】 一般式[A2−]で示される化合物(枝番号は、表32
〜表35に記載。)
Embedded image Compounds represented by the general formula [A2-] (branch numbers are shown in Table 32
To Table 35. )

【化43】 一般式[A3−]で示される化合物(枝番号は、表32
〜表35に記載。)
Embedded image Compounds represented by the general formula [A3-] (branch numbers are shown in Table 32
To Table 35. )

【化44】 一般式[A4−]で示される化合物(枝番号は、表32
〜表35に記載。)
Embedded image Compounds represented by the general formula [A4-] (branch numbers are shown in Table 32
To Table 35. )

【化45】 一般式[A5−]で示される化合物(枝番号は、表32
〜表35に記載。)
Embedded image Compounds represented by the general formula [A5-] (branch numbers are shown in Table 32
To Table 35. )

【化46】 一般式[A6−]で示される化合物(枝番号は、表32
〜表35に記載。)
Embedded image Compounds represented by the general formula [A6-] (branch numbers are shown in Table 32
To Table 35. )

【化47】 一般式[A7−]で示される化合物(枝番号は、表32
〜表35に記載。)
Embedded image Compounds represented by the general formula [A7-] (branch numbers are shown in Table 32
To Table 35. )

【化48】 一般式[A8−]で示される化合物(枝番号は、表32
〜表35に記載。)
Embedded image Compounds represented by the general formula [A8-] (branch numbers are shown in Table 32
To Table 35. )

【化49】 一般式[A9−]で示される化合物(枝番号は、表32
〜表35に記載。)
Embedded image Compounds represented by the general formula [A9-] (branch numbers are shown in Table 32
To Table 35. )

【化50】 一般式[A10−]で示される化合物(枝番号は、表3
2〜表35に記載。)
Embedded image Compounds represented by the general formula [A10-] (branch numbers are shown in Table 3
2 to Table 35. )

【化51】 一般式[A11−]で示される化合物(枝番号は、表3
2〜表35に記載。)
Embedded image Compounds represented by the general formula [A11-] (branch numbers are shown in Table 3
2 to Table 35. )

【化52】 一般式[A12−]で示される化合物(枝番号は、表3
2〜表35に記載。)
Embedded image Compounds represented by the general formula [A12-] (branch numbers are shown in Table 3
2 to Table 35. )

【化53】 Embedded image

【0187】[0187]

【表32】 [Table 32]

【0188】[0188]

【表33】 [Table 33]

【0189】[0189]

【表34】 [Table 34]

【0190】[0190]

【表35】 [Table 35]

【0191】次に製剤例を示す。尚、本発明化合物は表
1〜表37の化合物番号で示す。部は重量部である。 製剤例1 本発明化合物1−1〜1−201、2−1〜2−20
1、3−1〜3−201、4−1〜4−36および5−
1〜5−36の各々50部、リグニンスルホン酸カルシ
ウム3部、ラウリル硫酸ナトリウム2部および合成含水
酸化珪素45部をよく粉砕混合して各々の水和剤を得
る。 製剤例2 本発明化合物1−1〜1−272、2−1〜2−27
2、3−1〜3−272、4−1〜4−36および5−
1〜5−36の各々10部、ポリオキシエチレンスチリ
ルフェニルエ−テル14部、ドデシルベンゼンスルホン
酸カルシウム6部、キシレン35部およびシクロヘキサ
ノン35部をよく混合して各々の乳剤を得る。 製剤例3 本発明化合物1−1〜1−201、2−1〜2−20
1、3−1〜3−201、4−1〜4−36および5−
1〜5−36の各々2部、合成含水酸化珪素2部、リグ
ニンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト30部お
よびカオリンクレ−64部をよく粉砕混合し、水を加え
よく練りあわせた後、造粒乾燥して各々の粒剤を得る。 製剤例4 本発明化合物1−1〜1−201、2−1〜2−20
1、3−1〜3−201、4−1〜4−36および5−
1〜5−36の各々25部、ポリビニルアルコ−ル10
%水溶液50部、水25部を混合し、平均粒径が5マイ
クロメ−トル以下になるまで湿式粉砕して各々の懸濁剤
を得る。 製剤例5 ポリビニルアルコ−ル10%水溶液40部中に、1−1
〜1−201、2−1〜2−201、3−1〜3−20
1、4−1〜4−36および5−1〜5−36の各々5
部を加え、ホモジナイザ−にて平均粒径が10マイクロ
メ−トル以下になるまで乳化分散し、ついで55部の水
を加え、各々の濃厚エマルジョンを得る。
Next, formulation examples will be shown. In addition, this invention compound is shown by the compound number of Table 1-Table 37. Parts are parts by weight. Formulation Example 1 Compounds 1-1 to 1-201, 2-1 to 2-20 of the present invention
1, 3-1 to 3-201, 4-1 to 4-36 and 5-
50 parts of each of 1 to 5-36, 3 parts of calcium ligninsulfonate, 2 parts of sodium lauryl sulfate and 45 parts of synthetic hydrous silicon oxide are thoroughly pulverized and mixed to obtain each wettable powder. Formulation Example 2 Compounds 1-1 to 1-272 and 2-1 to 2-27 of the present invention
2, 3-1 to 3-272, 4-1 to 4-36 and 5-
1 to 5-36, each 10 parts, polyoxyethylene styrylphenyl ether 14 parts, calcium dodecylbenzenesulfonate 6 parts, xylene 35 parts and cyclohexanone 35 parts are mixed well to obtain each emulsion. Formulation Example 3 Compounds 1-1 to 1-201, 2-1 to 2-20 of the present invention
1, 3-1 to 3-201, 4-1 to 4-36 and 5-
1 to 5-36, 2 parts of synthetic hydrous silicon oxide, 2 parts of calcium ligninsulfonate, 30 parts of bentonite and 64 parts of kaolin kure are well pulverized and mixed. To obtain the respective granules. Formulation Example 4 Compounds 1-1 to 1-201, 2-1 to 2-20 of the present invention
1, 3-1 to 3-201, 4-1 to 4-36 and 5-
25 parts each of 1 to 5-36, polyvinyl alcohol 10
% Aqueous solution and 25 parts of water are mixed and wet-pulverized until the average particle size becomes 5 μm or less to obtain each suspending agent. Formulation Example 5 1-1 in 40 parts of a 10% aqueous solution of polyvinyl alcohol
-201, 2-1 to 2-201, 3-1 to 3-20
1, each of 4-1 to 4-36 and 5-1 to 5-36
, And emulsified and dispersed by a homogenizer until the average particle size becomes 10 micrometers or less. Then, 55 parts of water are added to obtain each concentrated emulsion.

【0192】次に、本発明化合物が除草剤の有効成分と
して有用である事を試験例で示す。尚、本発明化合物は
表1〜表31の化合物番号で示す。 試験例1:畑地茎葉処理試験 直径10cm、深さ10cmの円筒形プラスチックポッ
トに土壌を詰め、アメリカアサガオ、イチビ、イヌビエ
およびブラックグラスを播種し、温室内で9日間育成し
た。その後、製剤例2に準じて本発明化合物1−1、2
−1、3−1、3−2、3−11および3−12の各々
を乳剤にし、その所定量を1ヘクタ−ルあたり1000
リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、噴霧器で植物
体上方から茎葉部全面に均一に処理した。処理後、7日
間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果、化
合物1−1、2−1、3−1、3−2、3−11および
3−12の各々は125g/haの薬量でアメリカアサ
ガオ、イチビ、イヌビエおよびブラックグラスの生育を
完全に抑制した。 試験例2:畑地土壌表面処理試験 直径10cm、深さ10cmの円筒形プラスチックポットに
土壌を詰め、アメリカアサガオ、イチビ、イヌビエを播
種した。製剤例2に準じて本発明化合物1−1、2−1
および3−1の各々を乳剤にし、その所定量を1ヘクタ
ール当たり1000リットル相当の水で希釈し、噴霧器
で土壌表面全面に均一に散布した。処理後、7日温室内
で育成し、除草効力を調査した。その結果、化合物1−
1、2−1、および3−1の各々は500g/haの薬
量でアメリカアサガオ、イチビ、イヌビエの生育を完全
に抑制した。
Next, Test Examples show that the compounds of the present invention are useful as active ingredients of herbicides. In addition, this invention compound is shown by the compound number of Table 1-Table 31. Test Example 1: Upland foliage treatment test Soil was packed in a cylindrical plastic pot having a diameter of 10 cm and a depth of 10 cm, and American morning glory, ibis, barnyardgrass and blackgrass were sown and grown in a greenhouse for 9 days. Thereafter, the compounds 1-1 and 2 of the present invention were prepared according to Formulation Example 2.
-1, 3-1, 3-2, 3-11 and 3-12 were made into emulsions, and a predetermined amount thereof was adjusted to 1000 per hectare.
The mixture was diluted with water containing a spreading agent equivalent to 1 liter, and the entire foliage was uniformly treated from above the plant with a sprayer. After the treatment, the plants were grown in a greenhouse for 7 days, and the herbicidal efficacy was examined. As a result, each of Compounds 1-1, 2-1, 3-1 and 3-2, 3-11 and 3-12 was able to completely grow American morning glory, ibis, barnyardgrass and blackgrass at a dose of 125 g / ha. Was suppressed. Test Example 2: Upland soil surface treatment test Soil was packed in a cylindrical plastic pot having a diameter of 10 cm and a depth of 10 cm, and American morning glory, ibis, and barnyard grass were sown. Compounds of the present invention 1-1 and 2-1 according to Formulation Example 2
And 3-1 were each made into an emulsion, a predetermined amount of which was diluted with water equivalent to 1000 liters per hectare, and sprayed uniformly over the entire soil surface with a sprayer. After the treatment, the plants were raised in a greenhouse for 7 days, and the herbicidal efficacy was examined. As a result, compound 1-
Each of 1, 2-1 and 3-1 completely inhibited the growth of American morning glory, strawberries and barnyardgrass at a dose of 500 g / ha.

【0193】試験例3:畑地茎葉処理試験 直径10cm、深さ10cmの円筒形プラスチックポッ
トに土壌を詰め、アメリカアサガオ、イチビおよびイヌ
ビエを播種し、温室内で9日間育成した。その後、製剤
例2に準じて本発明化合物3−16、3−20および3
−198の各々を乳剤にし、その所定量を1ヘクタ−ル
あたり1000リットル相当の展着剤を含む水で希釈
し、噴霧器で植物体上方から茎葉部全面に均一に処理し
た。処理後、7日間温室内で育成し、除草効力を調査し
た。その結果、化合物3−16、3−20および3−1
98の各々は125g/haの薬量でアメリカアサガ
オ、イチビおよびイヌビエの生育を完全に抑制した。 試験例4:畑地土壌表面処理試験 直径10cm、深さ10cmの円筒形プラスチックポットに
土壌を詰め、アメリカアサガオ、イチビ、イヌビエおよ
びブラックグラスを播種した。製剤例2に準じて本発明
化合物3−2、3−11、3−12、3−16、3−2
0および3−198の各々を乳剤にし、その所定量を1
ヘクタール当たり1000リットル相当の水で希釈し、
噴霧器で土壌表面全面に均一に散布した。処理後、7日
温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果、化合
物3−2、3−11、3−12、3−16、3−20お
よび3−198の各々は500g/haの薬量でアメリ
カアサガオ、イチビ、イヌビエおよびブラックグラスの
生育を完全に抑制した。
Test Example 3 Field Foliage Treatment Test A cylindrical plastic pot with a diameter of 10 cm and a depth of 10 cm was filled with soil, and American morning glory, ibis and barnyardgrass were sown and grown in a greenhouse for 9 days. Thereafter, the compounds 3-16, 3-20 and 3 of the present invention were prepared according to Formulation Example 2.
Each of -198 was diluted with water containing a spreading agent equivalent to 1000 liters per hectare, and the whole of the foliage was uniformly treated from above the plant with a sprayer. After the treatment, the plants were grown in a greenhouse for 7 days, and the herbicidal efficacy was examined. As a result, Compounds 3-16, 3-20 and 3-1
At a dose of 125 g / ha, each of 98 completely inhibited the growth of morning glory, strawberry and barnyardgrass. Test Example 4: Upland soil surface treatment test The soil was packed in a cylindrical plastic pot having a diameter of 10 cm and a depth of 10 cm, and American morning glory, ibis, barnyardgrass, and blackgrass were sown. Compounds of the Present Invention 3-2, 3-11, 3-12, 3-16, 3-2 according to Formulation Example 2
0 and 3-198 were each made into an emulsion.
Diluted with 1000 liters of water per hectare,
Sprayed evenly over the entire soil surface with a sprayer. After the treatment, the plants were raised in a greenhouse for 7 days, and the herbicidal efficacy was examined. As a result, each of the compounds 3-2, 3-11, 3-12, 3-16, 3-20, and 3-198 completely enhanced the growth of American morning glory, strawberries, barnyardgrass, and blackgrass at a dose of 500 g / ha. Was suppressed.

【0194】以下の試験例では、除草効力を「0」、
「1」、「2」、「3」、「4」、「5」、「6」、
「7」、「8」、「9」および「10」の11段階に区
分して示す。調査時の供試雑草の出芽または生育の状態
が無処理のそれと比較して全くないしほとんど違いがな
いものを「0」とし、また供試植物が完全枯死または出
芽もしくは生育が完全に抑制されているものを「10」
とした。また、本発明化合物の特徴を明確に示す為、以
下の化合物の試験結果についても併せて記載する。
In the following test examples, the herbicidal efficacy was “0”,
"1", "2", "3", "4", "5", "6",
It is divided into 11 stages of "7", "8", "9" and "10". When the emergence or growth state of the test weed at the time of the survey is no or little different from that of the untreated one, it is regarded as "0", and the test plant is completely withered or the emergence or growth is completely suppressed. What is "10"
And In order to clearly show the characteristics of the compound of the present invention, test results of the following compounds are also described.

【0195】試験例5:畑地茎葉処理試験 直径18.5cm、深さ15cmの円筒形プラスチック
ポットに土壌を詰め、ハコベを播種し、温室内で29日
間育成した。その後、製剤例2に準じて本発明化合物1
−2および対照化合物Aの各々を乳剤にし、その所定量
を1ヘクタ−ルあたり1000リットル相当の展着剤を
含む水で希釈し、噴霧器で植物体上方から茎葉部全面に
均一に処理した。処理後、9日間温室内で育成し、除草
効力を調査した。結果を表36に示す。
Test Example 5: Field Foliage Treatment Test A cylindrical plastic pot having a diameter of 18.5 cm and a depth of 15 cm was filled with soil, chickweed was sowed, and grown in a greenhouse for 29 days. Thereafter, the compound 1 of the present invention was prepared according to Formulation Example 2.
-2 and Control Compound A were each prepared as an emulsion, and a predetermined amount thereof was diluted with water containing a spreading agent equivalent to 1,000 liters per hectare, and the whole of the foliage was uniformly treated from above the plant with a sprayer. After the treatment, the plants were raised in a greenhouse for 9 days, and the herbicidal efficacy was examined. The results are shown in Table 36.

【0196】[0196]

【表36】 試験例6 縦27cm、横19cm、深さ7cmのプラスチックポ
ットに土壌を詰め、セイバンモロコシ(表中ではJと略
記)、アキノエノコログサ(表中ではGFと略記)、イ
ヌビエ(表中ではBと略記)、ラージクラブグラス(表
中ではLCと略記)、メリケンニクキビ(表中ではBC
と略記)、カラスムギ(表中ではWと略記)を播種し、
温室内で25日間育成した。その後、製剤例2に準じて
本発明化合物3−11および4−22、対照化合物Bお
よびCの各々を乳剤にし、その所定量を1ヘクタ−ルあ
たり1000リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、
噴霧器で植物体上方から茎葉部全面に均一に処理した。
処理後、4日間温室内で育成し、除草効力を調査した。
結果を表37に示す。
[Table 36] Test Example 6 Soil was packed in a plastic pot of 27 cm long, 19 cm wide and 7 cm deep, and sorghum sorghum (abbreviated as J in the table), Achinonokorogosa (abbreviated as GF in the table), and Inubie (abbreviated as B in the table) , Large Crab Glass (abbreviated as LC in the table), Meriken Acne (BC in the table)
Seeds) and oats (abbreviated as W in the table).
They were raised in a greenhouse for 25 days. Thereafter, each of Compounds 3-11 and 4-22 of the present invention and Control Compounds B and C was made into an emulsion according to Formulation Example 2, and a predetermined amount thereof was diluted with water containing a spreading agent equivalent to 1000 liters per hectare. Diluted,
The whole foliage was uniformly treated from above the plant with a sprayer.
After the treatment, the plants were raised in a greenhouse for 4 days, and the herbicidal efficacy was examined.
The results are shown in Table 37.

【0197】[0197]

【表37】 [Table 37]

【0198】[0198]

【発明の効果】本発明化合物を用いることにより、優れ
た除草効果が得られる。
According to the present invention, an excellent herbicidal effect can be obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 後藤 友彦 兵庫県宝塚市高司4丁目2番1号 住友化 学工業株式会社内 Fターム(参考) 4H011 AB01 BA01 BB09 BC01 BC05 BC07 BC18 BC19 BC20 DA13 DA15 DA16 DC03 DC04 DC05 DC06 DC08 DD03 DD04 DH02 DH03 DH08 DH10  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Tomohiko Goto 4-2-1 Takashi Takarazuka-shi, Hyogo Sumitomo Kagaku Kogyo Co., Ltd. F-term (reference) 4H011 AB01 BA01 BB09 BC01 BC05 BC07 BC18 BC19 BC20 DA13 DA15 DA16 DC03 DC04 DC05 DC06 DC08 DD03 DD04 DH02 DH03 DH08 DH10

Claims (23)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一般式[I] 【化1】 [式中、Wは酸素原子、硫黄原子、イミノ基またはC1
−C3アルキルイミノ基を表し、Yは酸素原子、硫黄原
子、イミノ基またはC1−C3アルキルイミノ基を表
し、R1はC1−C3アルキル基またはC1−C3ハロ
アルキル基を表し、R2はC1−C3アルキル基を表
し、R4は水素原子またはメチル基を表し、R5はC1−
C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C
6アルケニル基、C3−C6ハロアルケニル基、C3−
C6アルキニル基、C3−C6ハロアルキニル基を表
し、X1はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基を表し、
2は水素原子またはハロゲン原子を表し、X3およびX
4はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、C1
−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−
C6アルケニル基、C3−C6ハロアルケニル基、C3
−C6アルキニル基、C3−C6ハロアルキニル基、C
1−C6アルコキシC1−C6アルキル基、C1−C6
アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C
6アルコキシカルボニルC1−C6アルコキシ基または
シアノ基を表す。]で示されるウラシル化合物。
1. A compound of the general formula [I] Wherein W is an oxygen atom, a sulfur atom, an imino group or C1
Y represents an oxygen atom, a sulfur atom, an imino group or a C1-C3 alkylimino group, R 1 represents a C1-C3 alkyl group or a C1-C3 haloalkyl group, and R 2 represents a C1-C1-alkylimino group. represents a C3 alkyl group, R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 5 is C1-
C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C
6 alkenyl group, C3-C6 haloalkenyl group, C3-
C6 alkynyl group, a C3-C6 haloalkynyl group, X 1 represents a halogen atom, a cyano group, a nitro group,
X 2 represents a hydrogen atom or a halogen atom, and X 3 and X
4 is each independently a hydrogen atom, a halogen atom, C1
-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-
C6 alkenyl group, C3-C6 haloalkenyl group, C3
-C6 alkynyl group, C3-C6 haloalkynyl group, C
1-C6 alkoxy C1-C6 alkyl group, C1-C6
Alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C1-C
Represents a 6 alkoxycarbonyl C1-C6 alkoxy group or a cyano group. A uracil compound represented by the formula:
【請求項2】上記一般式[I]に於いて、X1がハロゲ
ン原子であり、X2がハロゲン原子である請求項1に記
載のウラシル化合物。
2. The uracil compound according to claim 1, wherein in the general formula [I], X 1 is a halogen atom and X 2 is a halogen atom.
【請求項3】上記一般式[I]に於いて、X1が塩素原
子である請求項1に記載のウラシル化合物。
3. The uracil compound according to claim 1, wherein in the general formula [I], X 1 is a chlorine atom.
【請求項4】上記一般式[I]に於いて、X2がフッ素
原子である請求項1または2に記載のウラシル化合物。
4. The uracil compound according to claim 1, wherein X 2 is a fluorine atom in the general formula [I].
【請求項5】上記一般式[I]に於いて、ベンゼン環上
におけるWの置換位置がYのオルト位である請求項1〜
3のいずれかに記載のウラシル化合物。
5. In the general formula [I], the substitution position of W on the benzene ring is an ortho position of Y.
3. The uracil compound according to any one of 3.
【請求項6】上記一般式[I]に於いて、Wが酸素原子
である請求項1〜4のいずれかに記載のウラシル化合
物。
6. The uracil compound according to claim 1, wherein W is an oxygen atom in the general formula [I].
【請求項7】上記一般式[I]に於いて、R1がメチル
基またはCF3基である請求項1〜5のいずれかに記載
のウラシル化合物。
7. The uracil compound according to claim 1 , wherein R 1 is a methyl group or a CF 3 group in the general formula [I].
【請求項8】上記一般式[I]に於いて、R2がメチル
基である請求項1〜6のいずれかに記載のウラシル化合
物。
8. The uracil compound according to claim 1, wherein R 2 is a methyl group in the general formula [I].
【請求項9】上記一般式[I]に於いて、X3およびX4
が水素原子である請求項1〜7のいずれかに記載のウラ
シル化合物。
9. In the above general formula [I], X 3 and X 4
Is a hydrogen atom. The uracil compound according to any one of claims 1 to 7.
【請求項10】上記一般式[I]に於いて、R5がメチ
ル基またはエチル基である請求項1〜8のいずれかに記
載のウラシル化合物。
10. The uracil compound according to claim 1, wherein R 5 is a methyl group or an ethyl group in the general formula [I].
【請求項11】請求項1〜9のいずれかに記載のウラシ
ル化合物を有効成分として含有することを特徴とする除
草剤。
11. A herbicide comprising the uracil compound according to claim 1 as an active ingredient.
【請求項12】一般式[VII] 【化2】 [式中、Wは酸素原子、硫黄原子、イミノ基またはC1
−C3アルキルイミノ基を表し、Yは酸素原子、硫黄原
子、イミノ基またはC1−C3アルキルイミノ基を表
し、R1はC1−C3アルキル基またはC1−C3ハロ
アルキル基を表し、R2はC1−C3アルキル基を表
し、R4は水素原子またはメチル基を表し、X1はハロゲ
ン原子、シアノ基、ニトロ基を表し、X2は水素原子ま
たはハロゲン原子を表し、X3およびX4はそれぞれ独立
して、水素原子、ハロゲン原子、C1−C6アルキル
基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C6アルケニル
基、C3−C6ハロアルケニル基、C3−C6アルキニ
ル基、C3−C6ハロアルキニル基、C1−C6アルコ
キシC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシ基、
C1−C6ハロアルコキシ基、C1−C6アルコキシカ
ルボニルC1−C6アルコキシ基またはシアノ基を表
す。]で示されるウラシル化合物。
12. A compound of the general formula [VII] Wherein W is an oxygen atom, a sulfur atom, an imino group or C1
Y represents an oxygen atom, a sulfur atom, an imino group or a C1-C3 alkylimino group, R 1 represents a C1-C3 alkyl group or a C1-C3 haloalkyl group, and R 2 represents a C1-C1-alkylimino group. X represents a C3 alkyl group, R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, X 1 represents a halogen atom, a cyano group, or a nitro group, X 2 represents a hydrogen atom or a halogen atom, and X 3 and X 4 are each independently To form a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C6 alkenyl group, a C3-C6 haloalkenyl group, a C3-C6 alkynyl group, a C3-C6 haloalkynyl group, a C1-C6 Alkoxy C1-C6 alkyl group, C1-C6 alkoxy group,
Represents a C1-C6 haloalkoxy group, a C1-C6 alkoxycarbonyl C1-C6 alkoxy group or a cyano group. A uracil compound represented by the formula:
【請求項13】上記一般式[VII]に於いて、ベンゼ
ン環上におけるWの置換位置がYのオルト位である請求
項12に記載のウラシル化合物。
13. The uracil compound according to claim 12, wherein in the general formula [VII], the substitution position of W on the benzene ring is the ortho position of Y.
【請求項14】一般式[XXXII] 【化3】 [式中、Wは酸素原子、硫黄原子、イミノ基またはC1
−C3アルキルイミノ基を表し、R17は酸素原子または
硫黄原子を表し、R4は水素原子またはメチル基を表
し、R5はC1−C6アルキル基、C1−C6ハロアル
キル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアル
ケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロア
ルキニル基を表し、X1はハロゲン原子、シアノ基、ニ
トロ基を表し、X2は水素原子またはハロゲン原子を表
し、X3およびX4はそれぞれ独立して、水素原子、ハロ
ゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアル
キル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアル
ケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロア
ルキニル基、C1−C6アルコキシC1−C6アルキル
基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキ
シ基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アル
コキシ基またはシアノ基を表す。]で示されるアニリン
化合物。
14. A compound of the general formula [XXXII] Wherein W is an oxygen atom, a sulfur atom, an imino group or C1
Represents -C3 alkylimino group, R 17 represents an oxygen atom or a sulfur atom, R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 5 is C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C6 alkenyl group , C3-C6 haloalkenyl group, C3-C6 alkynyl group, a C3-C6 haloalkynyl group, X 1 represents a halogen atom, a cyano group, a nitro group, X 2 represents a hydrogen atom or a halogen atom, X 3 And X 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C6 alkenyl group, a C3-C6 haloalkenyl group, a C3-C6 alkynyl group, a C3-C6 halo. Alkynyl group, C1-C6 alkoxy C1-C6 alkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkyl group Carboxylate a carbonyl C1-C6 alkoxy group or a cyano group. An aniline compound represented by the formula:
【請求項15】上記一般式[XXXII]に於いて、ベ
ンゼン環上におけるWの置換位置がR17のオルト位であ
る請求項14に記載のアニリン化合物。
15. The aniline compound according to claim 14, wherein in the general formula [XXXII], the substitution position of W on the benzene ring is the ortho position of R 17 .
【請求項16】[2−(5−アミノ−2−クロロ−4−
フルオロフェノキシ)フェノキシ]酢酸メチル
(16) a compound of the formula [2- (5-amino-2-chloro-4-);
Fluorophenoxy) phenoxy] methyl acetate
【請求項17】[2−(5−アミノ−2−クロロ−4−
フルオロフェノキシ)フェノキシ]酢酸エチル
[17] a compound of the formula [2- (5-amino-2-chloro-4-);
Fluorophenoxy) phenoxy] ethyl acetate
【請求項18】一般式[XXXIV] 【化4】 [式中、Wは酸素原子、硫黄原子、イミノ基またはC1
−C3アルキルイミノ基を表し、R17は酸素原子または
硫黄原子を表し、R4は水素原子またはメチル基を表
し、R5はC1−C6アルキル基、C1−C6ハロアル
キル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアル
ケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロア
ルキニル基を表し、R18はC1−C6アルキル基または
フェニル基を表し、X1はハロゲン原子、シアノ基、ニ
トロ基を表し、X2は水素原子またはハロゲン原子を表
し、X3およびX4はそれぞれ独立して、水素原子、ハロ
ゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアル
キル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアル
ケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロア
ルキニル基、C1−C6アルコキシC1−C6アルキル
基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキ
シ基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アル
コキシ基またはシアノ基を表す。]で示される化合物。
18. A compound of the general formula [XXXIV] Wherein W is an oxygen atom, a sulfur atom, an imino group or C1
Represents -C3 alkylimino group, R 17 represents an oxygen atom or a sulfur atom, R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 5 is C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C6 alkenyl group , C3-C6 haloalkenyl group, C3-C6 alkynyl group, a C3-C6 haloalkynyl group, R 18 represents a C1-C6 alkyl group or a phenyl group, X 1 represents a halogen atom, a cyano group, a nitro group , X 2 represents a hydrogen atom or a halogen atom, and X 3 and X 4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C6 alkenyl group, a C3-C6 Haloalkenyl group, C3-C6 alkynyl group, C3-C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy C1-C6 alkyl group, C1-C6 alcohol Shi group, a C1-C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkoxycarbonyl C1-C6 alkoxy group or a cyano group. ] The compound shown by these.
【請求項19】上記一般式[XXXIV]に於いて、ベ
ンゼン環上におけるWの置換位置がR17のオルト位であ
る請求項18に記載の化合物。
19. The compound according to claim 18, wherein in the general formula [XXXIV], the substitution position of W on the benzene ring is the ortho position of R 17 .
【請求項20】一般式[XXXIII] 【化5】 [式中、Wは酸素原子、硫黄原子、イミノ基またはC1
−C3アルキルイミノ基を表し、R17は酸素原子または
硫黄原子を表し、R4は水素原子またはメチル基を表
し、R5はC1−C6アルキル基、C1−C6ハロアル
キル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアル
ケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロア
ルキニル基を表し、X1はハロゲン原子、シアノ基、ニ
トロ基を表し、X2は水素原子またはハロゲン原子を表
し、X3およびX4はそれぞれ独立して、水素原子、ハロ
ゲン原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアル
キル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアル
ケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロア
ルキニル基、C1−C6アルコキシC1−C6アルキル
基、C1−C6アルコキシ基、C1−C6ハロアルコキ
シ基、C1−C6アルコキシカルボニルC1−C6アル
コキシ基またはシアノ基を表す。]で示される化合物。
20. A compound of the general formula [XXXIII] Wherein W is an oxygen atom, a sulfur atom, an imino group or C1
Represents -C3 alkylimino group, R 17 represents an oxygen atom or a sulfur atom, R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 5 is C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C6 alkenyl group , C3-C6 haloalkenyl group, C3-C6 alkynyl group, a C3-C6 haloalkynyl group, X 1 represents a halogen atom, a cyano group, a nitro group, X 2 represents a hydrogen atom or a halogen atom, X 3 And X 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C6 alkenyl group, a C3-C6 haloalkenyl group, a C3-C6 alkynyl group, a C3-C6 halo. Alkynyl group, C1-C6 alkoxy C1-C6 alkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C1-C6 alkyl group Carboxylate a carbonyl C1-C6 alkoxy group or a cyano group. ] The compound shown by these.
【請求項21】上記一般式[XXXIII]に於いて、
ベンゼン環上におけるWの置換位置がR 17のオルト位で
ある請求項20に記載の化合物。
21. In the above general formula [XXXIII],
The substitution position of W on the benzene ring is R 17In the ortho position
21. The compound according to claim 20.
【請求項22】上記一般式[I]に於いて、R1がトリ
フルオロメチル基であり、R2がメチル基であり、R4
水素原子であり、R5がメチル基であり、X1が塩素原子
であり、X2がフッ素原子であり、X3が水素原子であ
り、X4が水素原子であり、Wが酸素原子であり、Yが
酸素原子であり、ベンゼン環上におけるWの置換位置が
Yのオルト位である請求項1に記載のウラシル化合物。
22. In the above general formula [I], R 1 is a trifluoromethyl group, R 2 is a methyl group, R 4 is a hydrogen atom, R 5 is a methyl group, and X 1 is a chlorine atom, X 2 is a fluorine atom, X 3 is a hydrogen atom, X 4 is a hydrogen atom, W is an oxygen atom, Y is an oxygen atom, and W is an oxygen atom. The uracil compound according to claim 1, wherein the substitution position of is a ortho position of Y.
【請求項23】上記一般式[I]に於いて、R1がトリ
フルオロメチル基であり、R2がメチル基であり、R4
水素原子であり、R5がエチル基であり、X1が塩素原子
であり、X2がフッ素原子であり、X3が水素原子であ
り、X4が水素原子であり、Wが酸素原子であり、Yが
酸素原子であり、ベンゼン環上におけるWの置換位置が
Yのオルト位である請求項1に記載のウラシル化合物。
23. In the above general formula [I], R 1 is a trifluoromethyl group, R 2 is a methyl group, R 4 is a hydrogen atom, R 5 is an ethyl group, and X 1 is a chlorine atom, X 2 is a fluorine atom, X 3 is a hydrogen atom, X 4 is a hydrogen atom, W is an oxygen atom, Y is an oxygen atom, and W is an oxygen atom. The uracil compound according to claim 1, wherein the substitution position of is a ortho position of Y.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003104809A (en) * 2001-09-28 2003-04-09 Sumitomo Chem Co Ltd Herbicide composition
JP2003104808A (en) * 2001-09-28 2003-04-09 Sumitomo Chem Co Ltd Herbicide composition
JP2003104810A (en) * 2001-09-28 2003-04-09 Sumitomo Chem Co Ltd Herbicide composition
WO2003045149A1 (en) * 2001-11-29 2003-06-05 Sumitomo Chemical Company, Limited Herbicide composition
WO2003045148A1 (en) * 2001-11-29 2003-06-05 Sumitomo Chemical Company, Limited Herbicide composition

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997001541A1 (en) * 1995-06-29 1997-01-16 Bayer Aktiengesellschaft Substituted cyanophenyl uracils
WO1998041093A1 (en) * 1997-03-14 1998-09-24 Isk Americas Incorporated Diaryl ethers and processes for their preparation and herbicidal and desiccant compositions containing them
JP2002520319A (en) * 1998-07-09 2002-07-09 バイエル アクチェンゲゼルシャフト Substituted phenyluracil

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997001541A1 (en) * 1995-06-29 1997-01-16 Bayer Aktiengesellschaft Substituted cyanophenyl uracils
WO1998041093A1 (en) * 1997-03-14 1998-09-24 Isk Americas Incorporated Diaryl ethers and processes for their preparation and herbicidal and desiccant compositions containing them
JP2002520319A (en) * 1998-07-09 2002-07-09 バイエル アクチェンゲゼルシャフト Substituted phenyluracil

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7407914B2 (en) 2001-09-28 2008-08-05 Sumitomo Chemical Company, Limited Herbicide composition
US7205260B2 (en) 2001-09-28 2007-04-17 Sumitomo Chemical Company, Limited Herbicide composition
JP2003104810A (en) * 2001-09-28 2003-04-09 Sumitomo Chem Co Ltd Herbicide composition
WO2003028462A1 (en) * 2001-09-28 2003-04-10 Sumitomo Chemical Company, Limited Herbicide composition
WO2003028463A1 (en) * 2001-09-28 2003-04-10 Sumitomo Chemical Company, Limited Herbicide composition
WO2003028464A1 (en) * 2001-09-28 2003-04-10 Sumitomo Chemical Company, Limited Herbicide composition
JP2003104808A (en) * 2001-09-28 2003-04-09 Sumitomo Chem Co Ltd Herbicide composition
US7732602B2 (en) 2001-09-28 2010-06-08 Sumitomo Chemical Company, Limited Herbicide composition
US7655598B2 (en) 2001-09-28 2010-02-02 Sumitomo Chemical Company, Limited Herbicide composition
JP2003104809A (en) * 2001-09-28 2003-04-09 Sumitomo Chem Co Ltd Herbicide composition
WO2003045148A1 (en) * 2001-11-29 2003-06-05 Sumitomo Chemical Company, Limited Herbicide composition
US7485601B2 (en) 2001-11-29 2009-02-03 Sumitomo Chemical Company, Limited Herbicide composition
US7482307B2 (en) 2001-11-29 2009-01-27 Sumitomo Chemical Company, Limited Herbicide composition
WO2003045149A1 (en) * 2001-11-29 2003-06-05 Sumitomo Chemical Company, Limited Herbicide composition

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