JP2002053536A - Spiroaminopyrrolidine derivative and method for producing the same - Google Patents

Spiroaminopyrrolidine derivative and method for producing the same

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JP2002053536A
JP2002053536A JP2000239250A JP2000239250A JP2002053536A JP 2002053536 A JP2002053536 A JP 2002053536A JP 2000239250 A JP2000239250 A JP 2000239250A JP 2000239250 A JP2000239250 A JP 2000239250A JP 2002053536 A JP2002053536 A JP 2002053536A
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真 武藤
Toshiaki Kino
敏明 城野
Satoru Takei
哲 武井
Toshifumi Akiba
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Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain intermediates for an antimicrobial compound and to provide a method for producing the intermediates. SOLUTION: This method is to produce a compound (V) represented by the following formula, wherein, n denotes an integer of 2-5; R2 denotes hydrogen atom or a protecting group of the amino group; and R3 denotes hydrogen atom, a 1-6C alkyl group or benzyl group which may have a substituent group and the method is to produce a compound (I) to a compound (VI) which are production intermediates therefor.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、抗菌化合物の合成原料
として有用な化合物およびその製造法に関する。
The present invention relates to a compound useful as a raw material for synthesizing an antibacterial compound and a method for producing the compound.

【0002】[0002]

【従来の技術】式(VI)2. Description of the Related Art Formula (VI)

【化47】 (式中、nは2から5の整数を表し、R2は水素原子ま
たはアミノ基の保護基を表す。)で表される化合物(以
下、化合物(VI)と表し、他の番号の式で表される化
合物も同様に表す。)は抗菌性化合物の製造原料として
有用である(特開平2−231475、特開平5−22
1947および特開平8−157455号公報)。
Embedded image (Wherein, n represents an integer of 2 to 5, R 2 represents a hydrogen atom or a protecting group for an amino group) (hereinafter referred to as compound (VI), and in the formulas having other numbers, Are also useful as a raw material for producing an antibacterial compound (JP-A-2-231475, JP-A-5-22).
1947 and JP-A-8-157455).

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従来、この化合物(V
I)の製造法は多くの工程を要する等の問題点があり、
その工業的製造には未だ改良の余地があった。すなわ
ち、本発明の目的は、化合物(VI)を安価に、かつ簡
便に製造する方法を提供することにある。
Conventionally, this compound (V
The production method of I) has problems such as requiring many steps,
There was still room for improvement in its industrial production. That is, an object of the present invention is to provide a method for producing compound (VI) inexpensively and easily.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】上記の実情に鑑み、本発
明者らは鋭意研究した結果、化合物(II)
Means for Solving the Problems In view of the above-mentioned circumstances, the present inventors have conducted intensive studies and found that the compound (II)

【化48】 から化合物(III)Embedded image From compound (III)

【化49】 に導いた後にこの化合物を脱炭酸することによって、化
合物(IV)
Embedded image After decarboxylation of this compound after leading to the compound (IV)

【化50】 が容易に得られることを見出した。そしてこの化合物
(IV)が、既に知られた方法(特開平2−231475
および特開平5−221947号公報参照)によって、
化合物(VI)に収率よく、かつ簡便に変換できることを
見出し、本発明を完成させた。
Embedded image Was easily obtained. And this compound
(IV) is a known method (Japanese Unexamined Patent Publication No.
And JP-A-5-221947).
The present inventors have found that the compound can be easily converted into the compound (VI) with good yield and complete the present invention.

【0005】すなわち本願発明は、以下の各化合物に関
するものである。式(I)
That is, the present invention relates to the following compounds. Formula (I)

【化51】 で表される化合物;式(II)Embedded image A compound represented by the formula: (II)

【化52】 で表される化合物;R1が炭素数1から6のアルキル基
である式(I)または(II)で表される化合物;R1
がエチル基である式(I)または(II)で表される化
合物;R1およびR3が炭素数1から6のアルキル基であ
る式(II)で表される化合物;R1およびR3がエチル
基である式(II)で表される化合物;式(III)
Embedded image Compound R 1 is represented by formula (I) or (II) is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; a compound represented by R 1
A compound of the formula (I) or (II) wherein R 1 is an ethyl group; a compound of the formula (II) wherein R 1 and R 3 are an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; R 1 and R 3 A compound of the formula (II) wherein is an ethyl group;

【化53】 で表される化合物;R3が炭素数1から6のアルキル基
である式(II)または(III)で表される化合物;
3がエチル基である式(II)または(III)で表
される化合物;式(IV)
Embedded image A compound represented by the formula (II) or (III), wherein R 3 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms;
A compound represented by the formula (II) or (III) wherein R 3 is an ethyl group;

【化54】 で表される化合物;式(V)Embedded image A compound represented by the formula: (V)

【化55】 で表される化合物;式(VI−0)Embedded image A compound represented by the formula: (VI-0)

【化56】 で表される化合物;アミノ基の保護基が、アルコキシカ
ルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アシル基
およびアラルキル基からなる群の基から選ばれる保護基
である上記の各化合物;アミノ基の保護基が、t−ブト
キシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニ
ル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベン
ジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカ
ルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル
基、t−ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロ
アセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセ
チル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル
基、ベンジル基、α−メチルベンジル基、トリチル基、
ベンズヒドリル基、パラニトロベンジル基およびパラメ
トキシベンジル基からなる群の基から選ばれる保護基で
ある上記の各化合物;アミノ基の保護基が、カルボニル
基が結合部位となる保護基である上記の各化合物;カル
ボニル基が結合部位となる保護基が、アルコキシカルボ
ニル基、アラルキルオキシカルボニル基およびアシル基
からなる群の基から選ばれる保護基である上記の各化合
物;カルボニル基が結合部位となる保護基が、t−ブト
キシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニ
ル基、ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベン
ジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカ
ルボニル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル
基、t−ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロ
アセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセ
チル基、クロロアセチル基、ピバロイル基およびベンゾ
イル基からなる群の基から選ばれる保護基である上記の
各化合物;R2がベンジルオキシカルボニル基である式
(I)、(II)、(III)または(IV)で表され
る化合物;R2がアセチル基である式(I)、(I
I)、(III)または(IV)で表される化合物;R
2が水素原子である式(I)、(II)、(III)ま
たは(IV)で表される化合物;R20がベンジルオキシ
カルボニル基である式(VI−0)で表される化合物;
20がアセチル基である式(VI−0)で表される化合
物;nが2である上記の各化合物;等である(なお、上
記の各式中、nは、2から5の整数を表し、R1は、水
素原子、炭素数1から6のアルキル基、または置換基を
有していてもよいベンジル基を表し、R2は、水素原子
またはアミノ基の保護基を表し、R20は、アミノ基の保
護基を表し、R3は、水素原子、炭素数1から6のアル
キル基、または置換基を有していてもよいベンジル基を
表す。)。
Embedded image A compound represented by the formula: wherein the amino-protecting group is a protecting group selected from the group consisting of an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, an acyl group and an aralkyl group; , T-butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group A, propanoyl group, t-butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, benzoyl group, benzyl group, α-methylbenzyl group, trityl group,
Each of the above compounds, which is a protecting group selected from the group consisting of a benzhydryl group, a paranitrobenzyl group, and a paramethoxybenzyl group; each of the above compounds, wherein the amino group protecting group is a protecting group in which a carbonyl group is a binding site. Compound; each of the above compounds, wherein the protecting group having a carbonyl group as a binding site is a protecting group selected from the group consisting of an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group and an acyl group; Is t-butoxycarbonyl, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl, benzyloxycarbonyl, paramethoxybenzyloxycarbonyl, paranitrobenzyloxycarbonyl, formyl, acetyl Group, propanoyl group, t-butyroyl , Methoxyacetyl group, trifluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, the compound of the above is a protecting group selected from the group the group consisting of pivaloyl group and a benzoyl group; R 2 is benzyloxycarbonyl A compound of the formula (I), (II), (III) or (IV) which is a group; a compound of the formula (I), (I) wherein R 2 is an acetyl group
A compound represented by I), (III) or (IV); R
A compound represented by the formula (I), (II), (III) or (IV) wherein 2 is a hydrogen atom; a compound represented by the formula (VI-0) wherein R 20 is a benzyloxycarbonyl group;
A compound represented by the formula (VI-0) wherein R 20 is an acetyl group; each of the above compounds wherein n is 2; and the like (where n is an integer of 2 to 5) represents, R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group or an optionally substituted benzyl group, having 1 to 6 carbon atoms, R 2 represents a hydrogen atom or a protecting group of an amino group, R 20 Represents a protecting group for an amino group, and R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a benzyl group which may have a substituent.)

【0006】さらに本願発明は、以下の各製造法に関す
るものでもある。式(VII)
Further, the present invention relates to the following production methods. Formula (VII)

【化57】 で表される化合物を、金属触媒の存在下に水素添加して
式(I−1)
Embedded image Is hydrogenated in the presence of a metal catalyst to give a compound of formula (I-1)

【化58】 で表される化合物を得、この化合物を下記の[方法1]
または[方法2]によって式(II−2)
Embedded image The compound represented by the following formula [Method 1]
Or by the method (II-2)

【化59】 で表される化合物に変換し、この化合物を塩基性条件下
に処理して式(III−1)
Embedded image And treated under basic conditions to give a compound of formula (III-1)

【化60】 で表される化合物に変換し、この化合物を酸で処理して
式(IV−1)
Embedded image Which is then treated with an acid to give a compound of the formula (IV-1)

【化61】 で表される化合物に変換し、この化合物に、ヒドロキシ
ルアミンまたはその塩を、塩基の存在下に反応させて式
(V−1)
Embedded image Wherein the compound is reacted with hydroxylamine or a salt thereof in the presence of a base to give a compound of the formula (V-1)

【化62】 で表される化合物に変換し、この化合物を金属触媒の存
在下に水素添加して式(VI−1)
Embedded image Which is then hydrogenated in the presence of a metal catalyst to give a compound of formula (VI-1)

【化63】 で表される化合物に変換し、この化合物の置換基R21
除去することを特徴とする式(VI−2)
Embedded image Wherein the substituent R 21 of the compound is removed to remove the substituent R 21.

【化64】 で表される化合物の製造法 [方法1]式(I−1)で表される化合物に式(VII
I)
Embedded image [Method 1] A compound represented by the formula (I-1) is added to the compound represented by the formula (VII).
I)

【化65】R21−X1 VIII で表される化合物を、塩基性条件下に反応させ、式(I
−2)
A compound represented by R 21 -X 1 VIII is reacted under basic conditions to obtain a compound represented by the formula (I)
-2)

【化66】 で表される化合物に変換し、この化合物に式(IX)Embedded image Is converted to a compound represented by the formula (IX):

【化67】X2−CH2−CO23 IX で表される化合物を反応させる方法。 [方法2]式(I−1)で表される化合物に、式(X)Embedded image A method of reacting a compound represented by X 2 —CH 2 —CO 2 R 3 IX. [Method 2] A compound represented by the formula (I-1) is added to a compound represented by the formula (X)

【化68】OHC−CO23 X で表される化合物を反応させて得られる化合物を、金属
触媒存在下に水素添加して式(II−1)
A compound obtained by reacting a compound represented by OHC-CO 2 R 3 X is hydrogenated in the presence of a metal catalyst to obtain a compound of the formula (II-1)

【化69】 で表される化合物に変換し、この化合物に式(VII
I)
Embedded image Is converted to a compound represented by the formula (VII)
I)

【化70】R21−X1 VIII で表される化合物を反応させる方法;置換基R21におい
て、アルコキシカルボニル基が、t−ブトキシカルボニ
ル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、
または2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基で
あり;アラルキルオキシカルボニル基が、ベンジルオキ
シカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニ
ル基、またはパラニトロベンジルオキシカルボニル基で
あり;アシル基が、ホルミル基、アセチル基、プロパノ
イル基、t−ブチロイル基、メトキシアセチル基、フル
オロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロ
アセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、または
ベンゾイル基であり;アラルキル基が、ベンジル基、α
−メチルベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基、
パラニトロベンジル基、またはパラメトキシベンジル
基;である上記の製造法;X1がハロゲン原子である上
記の製造法;X1が塩素原子である上記の製造法;X2
臭素原子である上記の製造法;R3が炭素数1から6の
アルキル基である上記の製造法;R3がエチル基である
上記の製造法;R1が炭素数1から6のアルキル基であ
る上記の製造法;R1がエチル基である上記の製造法;
式(II)の化合物において、R1およびR3がエチル基で
ある上記の製造法;R21がベンジルオキシカルボニル基
である上記の製造法;R21がアセチル基である上記の製
造法;式(VII)
A method of reacting a compound represented by R 21 -X 1 VIII; wherein, in the substituent R 21 , an alkoxycarbonyl group is a t-butoxycarbonyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group,
Or an 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group; an aralkyloxycarbonyl group is a benzyloxycarbonyl group, a paramethoxybenzyloxycarbonyl group, or a paranitrobenzyloxycarbonyl group; Groups, propanoyl, t-butyroyl, methoxyacetyl, fluoroacetyl, difluoroacetyl, trifluoroacetyl, chloroacetyl, pivaloyl, or benzoyl; aralkyl is benzyl, α
-Methylbenzyl, trityl, benzhydryl,
It said X 2 is a bromine atom; p-nitrobenzyl group or a p-methoxybenzyl group; the above process is; The above process X 1 is a halogen atom; X 1 is the above production method is a chlorine atom production methods; R 3 is the above process is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; prepared R 1 is the above alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; R 3 is the above process is an ethyl group The above production method wherein R 1 is an ethyl group;
In the compound of the formula (II), the above process wherein R 1 and R 3 are an ethyl group; the above process wherein R 21 is a benzyloxycarbonyl group; the above process wherein R 21 is an acetyl group; (VII)

【化71】 で表される化合物を、金属触媒の存在下に水素添加する
ことを特徴とする式(I−1)
Embedded image Wherein the compound represented by the formula (I-1) is hydrogenated in the presence of a metal catalyst.

【化72】 で表される化合物の製造法;金属触媒がラネー系触媒で
ある式(I−1)で表される化合物の製造法;金属触媒
がラネーニッケルである式(I−1)で表される化合物
の製造法;式(I−1)
Embedded image A method for producing a compound represented by the formula (I-1) wherein the metal catalyst is a Raney-based catalyst; a method for producing a compound represented by the formula (I-1) wherein the metal catalyst is Raney nickel Production method; Formula (I-1)

【化73】 で表される化合物と、式(VIII)Embedded image And a compound represented by the formula (VIII):

【化74】R21−X1 VIII で表される化合物とを、塩基の存在下に反応させること
を特徴とする式(I−2)
Wherein the compound represented by the formula (I-2) is reacted with a compound represented by R 21 -X 1 VIII in the presence of a base.

【化75】 で表される化合物の製造法;置換基R21において、アル
コキシカルボニル基が、t−ブトキシカルボニル基、メ
トキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、または
2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基であり;
アラルキルオキシカルボニル基が、ベンジルオキシカル
ボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、
またはパラニトロベンジルオキシカルボニル基であり;
アシル基が、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル
基、t−ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロ
アセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセ
チル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベン
ゾイル基であり;アラルキル基が、ベンジル基、α−メ
チルベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基、パラ
ニトロベンジル基、またはパラメトキシベンジル基;で
ある式(I−2)で表される化合物の製造法;R21がベン
ジルオキシカルボニル基である式(I−2)で表される化
合物の製造法;X1がハロゲン原子である式(I−2)で
表される化合物の各製造法;X1が塩素原子である式(I
−2)で表される化合物の各製造法;式(I)
Embedded image Preparation of a compound represented in; in substituent R 21, alkoxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group or 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group;
An aralkyloxycarbonyl group is a benzyloxycarbonyl group, a paramethoxybenzyloxycarbonyl group,
Or a para-nitrobenzyloxycarbonyl group;
The acyl group is a formyl group, an acetyl group, a propanoyl group, a t-butyroyl group, a methoxyacetyl group, a fluoroacetyl group, a difluoroacetyl group, a trifluoroacetyl group, a chloroacetyl group, a pivaloyl group, or a benzoyl group; There, a benzyl group, alpha-methylbenzyl, trityl, benzhydryl group, p-nitrobenzyl group or a p-methoxybenzyl group; preparation of a compound represented by a is the formula (I-2); R 21 is benzyloxy wherein X 1 is a chlorine atom; each preparation of the compound represented by X 1 is a halogen atom the formula (I-2); the preparation of a compound represented by a carbonyl group formula (I-2) (I
Each production method of the compound represented by -2); Formula (I)

【化76】 で表される化合物と、式(IX)Embedded image And a compound represented by the formula (IX):

【化77】X2−CH2−CO23 IX で表される化合物とを、塩基の存在下に反応させること
を特徴とする式(II)
Wherein the compound represented by the formula (II) is reacted with a compound represented by X 2 —CH 2 —CO 2 R 3 IX in the presence of a base.

【化78】 で表される化合物の製造法;X2が臭素原子である式(I
I) で表される化合物の製造法;式(I−1)
Embedded image A method for producing a compound represented by the formula (I) wherein X 2 is a bromine atom:
A method for producing a compound represented by the formula (I): Formula (I-1)

【化79】 で表される化合物と、式(X)Embedded image And a compound represented by the formula (X)

【化80】OHC−CO23 X (式中、R3は、水素原子、炭素数1から6のアルキル
基、または置換基を有していてもよいベンジル基を表
す。)で表される化合物とを反応させて得られる化合物
を、金属触媒存在下に水素添加することを特徴とする式
(II−1)
Embedded 80] (wherein, R 3 represents a hydrogen atom,. Represents an alkyl group or an optionally substituted benzyl group, having 1 to 6 carbon atoms) OHC-CO 2 R 3 X is represented by Wherein the compound obtained by reacting the compound is hydrogenated in the presence of a metal catalyst.
(II-1)

【化81】 で表される化合物の製造法;金属触媒がラネー系触媒で
ある式(II−1)で表される化合物の製造法;金属触媒
がラネーニッケルである式(II−1)で表される化合物
の製造法;式(II−1)
Embedded image A method for producing a compound represented by the formula (II-1) wherein the metal catalyst is a Raney-based catalyst; a method for producing a compound represented by the formula (II-1) wherein the metal catalyst is Raney nickel Production method: Formula (II-1)

【化82】 で表される化合物と、式(VIII)Embedded image And a compound represented by the formula (VIII):

【化83】R21−X1 VIII で表される化合物とを、塩基の存在下に反応させること
を特徴とする式(II−2)
Wherein the compound represented by the formula (II-2) is reacted with a compound represented by R 21 -X 1 VIII in the presence of a base.

【化84】 で表される化合物の製造法;置換基R21において、アル
コキシカルボニル基が、t−ブトキシカルボニル基、メ
トキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、または
2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基であり;
アラルキルオキシカルボニル基が、ベンジルオキシカル
ボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、
またはパラニトロベンジルオキシカルボニル基であり;
アシル基が、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル
基、t−ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロ
アセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセ
チル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベン
ゾイル基であり;アラルキル基が、ベンジル基、α−メ
チルベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基、パラ
ニトロベンジル基、またはパラメトキシベンジル基;で
ある式(II−2)で表される化合物の製造法;置換基R
21が、カルボニル基が結合部位となる基である式(II
−2)で表される化合物の製造法;R21が、アルコキシ
カルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、または
アシル基である式(II−2)で表される化合物の製造
法;R21がアラルキルオキシカルボニル基である式(I
I−2)で表される化合物の製造法;R21がベンジルオ
キシカルボニル基である式(II−2)で表される化合物
の製造法;X1が塩素原子である式(II−2)で表され
る化合物の各製造法;式(II)
Embedded image Preparation of a compound represented in; in substituent R 21, alkoxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group or 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group;
An aralkyloxycarbonyl group is a benzyloxycarbonyl group, a paramethoxybenzyloxycarbonyl group,
Or a para-nitrobenzyloxycarbonyl group;
The acyl group is a formyl group, an acetyl group, a propanoyl group, a t-butyroyl group, a methoxyacetyl group, a fluoroacetyl group, a difluoroacetyl group, a trifluoroacetyl group, a chloroacetyl group, a pivaloyl group, or a benzoyl group; Is a benzyl group, an α-methylbenzyl group, a trityl group, a benzhydryl group, a paranitrobenzyl group, or a paramethoxybenzyl group; a method for producing a compound represented by the formula (II-2);
21 is a group of the formula (II)
Preparation of the compounds represented by -2); R 21 is an alkoxycarbonyl group, the preparation of the compounds represented by an aralkyloxycarbonyl group or an acyl group the formula, (II-2); R 21 is aralkyloxy Formula (I) which is a carbonyl group
A method for producing a compound represented by I-2); a method for producing a compound represented by formula (II-2) wherein R 21 is a benzyloxycarbonyl group; a formula (II-2) wherein X 1 is a chlorine atom Each method for producing a compound represented by the formula: (II)

【化85】 で表される化合物を、塩基の存在下に処理することを特
徴とする式(III)
Embedded image Treating a compound represented by the formula (III) in the presence of a base:

【化86】 で表される化合物の製造法;R3が炭素数1から6のア
ルキル基である式(II)、(II−1)、(II−
2)、または(III)で表される化合物の各製造法;
3がエチル基である式(II)、(II−1)、(I
I−2)、または(III)で表される化合物の各製造
法;R1が炭素数1から6のアルキル基である式(I−
1)、(I−2)、(II)、(II−1)、(II−
2)、または(III)で表される化合物の各製造法;
1がエチル基である式(I−1)、(I−2)、(I
I)、(II−1)、(II−2)、または(III)
で表される化合物の各製造法;式(II)の化合物におい
て、R1およびR3がエチル基である式(III)で表さ
れる化合物の製造法;式(III)
Embedded image Wherein R 3 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, wherein R 3 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
2) or each method for producing the compound represented by (III);
Formulas (II), (II-1) and (I) wherein R 3 is an ethyl group
I-2) or each method for producing a compound represented by (III); Formula (I-) wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
1), (I-2), (II), (II-1), (II-
2) or each method for producing the compound represented by (III);
Formulas (I-1), (I-2), and (I) wherein R 1 is an ethyl group.
I), (II-1), (II-2), or (III)
A method for producing a compound represented by the formula (III) wherein R 1 and R 3 in the compound of the formula (II) are ethyl groups; a method for producing a compound represented by the formula (III)

【化87】 で表される化合物を、酸の存在下に処理することを特徴
とする式(IV)
Embedded image Wherein the compound of formula (IV) is treated in the presence of an acid.

【化88】 で表される化合物の製造法;R3がエチル基である式
(IV)で表される化合物の製造法;式(IV)
Embedded image A method for producing a compound represented by the formula (IV) wherein R 3 is an ethyl group; a method for producing a compound represented by the formula (IV)

【化89】 で表される化合物と、ヒドロキシルアミンまたはその塩
とを、塩基の存在下に反応させることを特徴とする式
(V)
Embedded image Reacting a compound represented by the formula with hydroxylamine or a salt thereof in the presence of a base:

【化90】 で表される化合物の製造法;式(V)Embedded image A method for producing a compound represented by the formula:

【化91】 で表される化合物を、金属触媒存在下に水素添加するこ
とを特徴とする式(VI)
Embedded image Hydrogenation of a compound represented by the formula (VI) in the presence of a metal catalyst:

【化92】 で表される化合物の製造法;金属触媒がラネー系触媒で
ある式(VI)で表される化合物の製造法;金属触媒が
ラネーニッケルである式(VI)で表される化合物の製
造法;R2が、アルコキシカルボニル基、アラルキルオ
キシカルボニル基、アシル基、またはアラルキル基であ
る式(II)、(III)、(IV)、または(V)で
表される化合物の各製造法;アルコキシカルボニル基
が、t−ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、または2,2,2−トリク
ロロエトキシカルボニル基であり;アラルキルオキシカ
ルボニル基が、ベンジルオキシカルボニル基、パラメト
キシベンジルオキシカルボニル基、またはパラニトロベ
ンジルオキシカルボニル基であり;アシル基が、ホルミ
ル基、アセチル基、プロパノイル基、t−ブチロイル
基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジフル
オロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセ
チル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基であり;ア
ラルキル基が、ベンジル基、α−メチルベンジル基、ト
リチル基、ベンズヒドリル基、パラニトロベンジル基、
またはパラメトキシベンジル基;である式(II)、
(III)、(IV)、または(V)で表される化合物
の各製造法;R2が、カルボニル基を介して結合する基
である式(II)、(III)、(IV)、または
(V)で表される化合物の各製造法;R2がベンジルオ
キシカルボニル基である式(II)、(III)、(I
V)、または(V)で表される化合物の各製造法;R2
がアセチル基である式(II)、(III)、(IV)
または(V)で表される化合物の各製造法;式(VI−
1)
Embedded image A method for producing a compound represented by the formula (VI) in which the metal catalyst is a Raney-based catalyst; a method for producing a compound represented by the formula (VI) in which the metal catalyst is Raney nickel; Each of the methods for producing a compound represented by the formula (II), (III), (IV) or (V) wherein 2 is an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, an acyl group or an aralkyl group; Is a t-butoxycarbonyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, or a 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group; an aralkyloxycarbonyl group is a benzyloxycarbonyl group, a paramethoxybenzyloxycarbonyl group, or A nitrobenzyloxycarbonyl group; an acyl group is a formyl group, an acetyl group, A panoyl group, a t-butyroyl group, a methoxyacetyl group, a fluoroacetyl group, a difluoroacetyl group, a trifluoroacetyl group, a chloroacetyl group, a pivaloyl group, or a benzoyl group; an aralkyl group is a benzyl group, an α-methylbenzyl group; , Trityl group, benzhydryl group, paranitrobenzyl group,
Or a paramethoxybenzyl group;
Each method for producing a compound represented by (III), (IV) or (V); a compound represented by formula (II), (III), (IV), wherein R 2 is a group bonded via a carbonyl group; Each method for producing a compound represented by the formula (V): wherein R 2 is a benzyloxycarbonyl group;
V) or each method for producing the compound represented by (V); R 2
(II), (III), (IV) wherein
Or each method for producing a compound represented by (V);
1)

【化93】 で表される化合物を、酸存在下に加水分解することを特
徴とする式(VI−2)
Embedded image Wherein the compound represented by the formula (VI-2) is hydrolyzed in the presence of an acid.

【化94】 で表される化合物の製造法;式(VI−1)の化合物にお
いて、R21がアセチル基である式(VI−2) で表され
る化合物の製造法;式(VI−3)
Embedded image A method for producing a compound represented by the formula (VI-1), wherein R 21 is an acetyl group in the compound represented by the formula (VI-1):

【化95】 で表される化合物を金属触媒存在下に水素化分解するこ
とを特徴とする式(VI−2)
Embedded image Hydrogenolysis of a compound represented by the formula (VI-2) in the presence of a metal catalyst:

【化96】 で表される化合物の製造法;金属触媒がパラジウム系触
媒である式(VI−2) で表される化合物の製造法;金
属触媒がパラジウム炭素である式(VI−2) で表され
る化合物の製造法;式(VI−3)の化合物において、R
23がベンジルオキシカルボニル基である式(VI−2)
で表される化合物の各製造法;nが2である上記の各製
造法;等である(上記の各式中、nは、2から5の整数
を表し、R1は、各々独立に、水素原子、炭素数1から
6のアルキル基、または置換基を有していてもよいベン
ジル基を表し、R2は水素原子またはアミノ基の保護基
を表し、R21は、アルコキシカルボニル基、アラルキル
オキシカルボニル基、アシル基、またはアラルキル基を
表し、R22は、アルコキシカルボニル基、アラルキルオ
キシカルボニル基、またはアシル基を表し、R23は、ア
ラルキルオキシカルボニル基またはアラルキル基を表
し、R3は、水素原子、炭素数1から6のアルキル基、
または置換基を有していてもよいベンジル基を表し、X
1およびX2は、各々独立に、求核置換反応における脱離
基を表す。)。
Embedded image A method for producing a compound represented by the formula (VI-2) wherein the metal catalyst is a palladium-based catalyst; a compound represented by the formula (VI-2) wherein the metal catalyst is palladium carbon A compound of the formula (VI-3)
Formula (VI-2) wherein 23 is a benzyloxycarbonyl group
Wherein each of the above-described production methods wherein n is 2; and the like, wherein n is an integer of 2 to 5, and R 1 is each independently A hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a benzyl group which may have a substituent, R 2 represents a hydrogen atom or an amino-protecting group, R 21 represents an alkoxycarbonyl group, an aralkyl group; represents an oxycarbonyl group, an acyl group or an aralkyl group,, R 22 represents an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group or an acyl group,, R 23 represents an aralkyloxycarbonyl group or an aralkyl group, R 3 is A hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms,
Or a benzyl group which may have a substituent;
1 and X 2 each independently represent a leaving group in a nucleophilic substitution reaction. ).

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】本発明の製造工程は次の図に示し
た通りであるが、以下にこれらの各工程について説明す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The manufacturing process of the present invention is as shown in the following figures, and each of these processes will be described below.

【化97】 また、nが2である次に示す各化合物が本明細書におい
て主要な化合物である。
Embedded image Further, the following compounds in which n is 2 are the main compounds in the present specification.

【化98】 Embedded image

【0008】化合物(I)の製造工程 Process for producing compound (I)

【化99】 (式中、nは、2から5の整数であり、R1は、水素原
子、炭素数1から6のアルキル基、または置換基を有し
ていてもよいベンジル基であり、R2は、水素原子また
はアミノ基の保護基である。) 本工程は、化合物(I)を得る工程である。化合物(I)
のうちの置換基R2が水素原子である化合物(I-1)
Embedded image (In the formula, n is an integer of 2 to 5, R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a benzyl group which may have a substituent, and R 2 is This is a protecting group for a hydrogen atom or an amino group.) This step is a step for obtaining a compound (I). Compound (I)
Wherein the substituent R 2 is a hydrogen atom (I-1)

【化100】 は、化合物(VII)を水素ガス雰囲気下、金属触媒の存
在下で還元することによって得ることができる。この式
(VII)の化合物は公知の方法によって製造すること
ができる(IKWDA, K.;SATOH, H.;YAMAMOTO, T.;Org Pre
p Proced Int [OPPIAK] 1992, 24(5), 548-551; White,
D. A.; Synth Commun [SYNCAV] 1977, 7,559)。この
還元で使用する金属触媒としてはラネーニッケル、ラネ
ーコバルト等のラネー触媒が適当であり、水素圧は1か
ら300気圧の加圧下で行うことができるが、1から5
0気圧が好ましい。また、反応温度は室温から200℃
の範囲で行えばよい。この反応には溶媒を用いるのが好
ましく、反応に不活性なものであれば特に制限はない
が、アルコール系、芳香族炭化水素系、エ−テル系、ア
ミド系、その他、酢酸エチル等を用いることができ、好
ましいものを選択すればよい。またこの反応は、アンモ
ニアや酢酸アンモニウム、炭酸アンモニウム、硫酸アン
モニウム等のアンモニウム塩等を加えることによって収
率が向上する場合がある。なお、化合物(VII)を化
合物(I−1)に変換する還元反応は、カルボキシル基
(−COOR1)部分に影響がなく,ニトリル基を選択
的に還元できる方法であれば上記の接触水素化反応に限
定されることはない。
Embedded image Can be obtained by reducing compound (VII) in a hydrogen gas atmosphere in the presence of a metal catalyst. The compound of formula (VII) can be produced by a known method (IKWDA, K .; SATOH, H .; YAMAMOTO, T .; Org Pre
p Proced Int [OPPIAK] 1992, 24 (5), 548-551; White,
DA; Synth Commun [SYNCAV] 1977, 7,559). As the metal catalyst used in this reduction, a Raney catalyst such as Raney nickel or Raney cobalt is suitable, and the hydrogen pressure can be increased from 1 to 300 atm.
0 atm is preferred. The reaction temperature is from room temperature to 200 ° C.
It should be done within the range. It is preferable to use a solvent for this reaction, and there is no particular limitation as long as it is inert to the reaction. However, alcohols, aromatic hydrocarbons, ethers, amides, and others, such as ethyl acetate, are used. What is necessary is just to select a preferable thing. In addition, in this reaction, the yield may be improved by adding ammonia or an ammonium salt such as ammonium acetate, ammonium carbonate, or ammonium sulfate. The reduction reaction for converting the compound (VII) to the compound (I-1) has no influence on the carboxyl group (—COOR 1 ) portion and the above-mentioned catalytic hydrogenation can be carried out as long as the nitrile group can be selectively reduced. It is not limited to a reaction.

【0009】一方、化合物(I)のうちの置換基R2
アミノ基の保護基、特に、アルコキシカルボニル基、ア
ラルキルオキシカルボニル基、アシル基、またはアラル
キル基である化合物(I−2)
On the other hand, the compound (I-2) wherein the substituent R 2 in the compound (I) is an amino-protecting group, particularly an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, an acyl group or an aralkyl group.

【化101】 (式中、R21は、アルコキシカルボニル基、アラルキル
オキシカルボニル基、アシル基、またはアラルキル基で
ある)は、化合物(I−1)と化合物(VIII)
Embedded image (Wherein R 21 is an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, an acyl group, or an aralkyl group) is a compound (I-1) and a compound (VIII)

【化102】R21−X1 VIII とを溶媒中、塩基存在下で処理することによって得るこ
とができる。また、R21がアルコキシカルボニル基、ア
ラルキルオキシカルボニル基、またはアシル基のとき
は、式
Embedded image The compound can be obtained by treating R 21 -X 1 VIII with a solvent in the presence of a base. When R 21 is an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, or an acyl group,

【化103】R21−O−R21 で表される、酸無水物型の化合物を化合物(VIII)
を反応させるのと同様の反応条件下で反応させてもよ
い。
[Image Omitted] An acid anhydride type compound represented by R 21 —O—R 21 is converted to a compound (VIII)
May be reacted under the same reaction conditions as used in the reaction.

【0010】上記の反応において溶媒としては、反応に
不活性なものであれば特に制限はないが、芳香族炭化水
素系、エ−テル系、ハロゲン化炭化水素系、アミド系、
アルコール系、その他、水、アセトン、アセトニトリ
ル、酢酸エチル等を用いることができ、塩基に応じて、
好ましいものを選択すればよい。またこれらの溶媒2種
以上を組み合わせた混合溶媒であってもよい。
The solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as it is inert to the reaction, but may be any of aromatic hydrocarbons, ethers, halogenated hydrocarbons, amides, and the like.
Alcohol, other, water, acetone, acetonitrile, ethyl acetate and the like can be used, depending on the base,
What is necessary is just to select a preferable thing. Further, a mixed solvent obtained by combining two or more of these solvents may be used.

【0011】塩基としては、有機または無機のいずれで
あってもよく、アルカリ金属またはアルカリ土類金属、
例えば、ナトリウム、カリウム、リチウム、マグネシウ
ム、カルシウム等の水酸化物、炭酸塩および炭酸水素塩
等、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチウ
ム等の金属水素化物、トリエチルアミン、N,N−ジイ
ソプロピルエチルアミン等の三級アミン類、その他、
1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセ−7−エ
ン(DBU)、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノ
ン−5−エン(DBN)、ジメチルアニリン、N−メチ
ルモルフォリン等の複素環化合物を用いることができ
る。塩基の使用量は通常、化合物(I-1)に対し1か
ら10当量の範囲でよい。反応温度は、塩基の種類や使
用する溶媒により異なるが、−78℃から溶媒の沸点の
範囲で行えばよく、好ましくは室温から溶媒の沸点の範
囲である。
The base may be either organic or inorganic, and may be an alkali metal or alkaline earth metal,
For example, hydroxides such as sodium, potassium, lithium, magnesium and calcium, carbonates and bicarbonates, etc., metal hydrides such as sodium hydride, potassium hydride and lithium hydride, triethylamine, N, N-diisopropylethylamine Tertiary amines such as
1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene (DBU), 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (DBN), dimethylaniline, N-methylmorpholine And the like. The amount of the base to be used may generally be in the range of 1 to 10 equivalents relative to compound (I-1). The reaction temperature varies depending on the type of the base and the solvent used, but may be in the range of -78 ° C to the boiling point of the solvent, and preferably in the range of room temperature to the boiling point of the solvent.

【0012】ここで置換基の定義について述べる。R1
は、水素原子、炭素数1から6のアルキル基、または置
換基を有していてもよいベンジル基である。炭素数1か
ら6のアルキル基としては、直鎖状または分枝鎖状のア
ルキル基でよく、メチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基等である。置換基を有していて
もよいベンジル基は、置換基として、炭素数1から4の
アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基等を置換基として
有している。これらの置換位置は、フェニル基上であっ
ても、メチレン上でもいずれでもよい。
Here, the definition of the substituent will be described. R 1
Is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a benzyl group which may have a substituent. The alkyl group having 1 to 6 carbon atoms may be a linear or branched alkyl group, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a butyl group. The optionally substituted benzyl group has, as a substituent, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, or the like. These substitution positions may be on the phenyl group or on the methylene.

【0013】R2は、水素原子またはアミノ基の保護基
である。アミノ基の保護基(R20として定義される。)
としてはこの分野で知られているものを使用すればよ
い。例えば、具体例として、アルコキシカルボニル基、
アラルキルオキシカルボニル基、アシル基およびアラル
キル基を挙げることができる(これらはR21として定義
されているものである。)。これらの具体例としてアル
コキシカルボニル基は、t−ブトキシカルボニル基、メ
トキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、または
2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基であり;
アラルキルオキシカルボニル基は、ベンジルオキシカル
ボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、
またはパラニトロベンジルオキシカルボニル基であり;
アシル基は、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル
基、t−ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロ
アセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセ
チル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、またはベン
ゾイル基であり;アラルキル基は、ベンジル基、α−メ
チルベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基、パラ
ニトロベンジル基、またはパラメトキシベンジル基;等
を挙げることができる。
R 2 is a protecting group for a hydrogen atom or an amino group. An amino-protecting group (defined as R 20 );
What is known in this field may be used. For example, as specific examples, an alkoxycarbonyl group,
Mention may be made of aralkyloxycarbonyl groups, acyl groups and aralkyl groups (these are defined as R 21 ). As specific examples, the alkoxycarbonyl group is a t-butoxycarbonyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, or a 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group;
An aralkyloxycarbonyl group is a benzyloxycarbonyl group, a paramethoxybenzyloxycarbonyl group,
Or a para-nitrobenzyloxycarbonyl group;
The acyl group is a formyl group, an acetyl group, a propanoyl group, a t-butyroyl group, a methoxyacetyl group, a fluoroacetyl group, a difluoroacetyl group, a trifluoroacetyl group, a chloroacetyl group, a pivaloyl group, or a benzoyl group; Represents a benzyl group, an α-methylbenzyl group, a trityl group, a benzhydryl group, a paranitrobenzyl group, or a paramethoxybenzyl group;

【0014】本願の製法においてアミノ基の保護基とし
ては、アミノ基の保護基がカルボニル基が結合部位とな
る保護基であるものがより好ましく、例えば、アルコキ
シカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基および
アシル基からなる群の基から選ばれる保護基が好まし
い。これらの具体例として、t−ブトキシカルボニル
基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、
2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジ
ルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカ
ルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基、
ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、t−ブチロ
イル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジ
フルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロ
アセチル基、ピバロイル基およびベンゾイル基からなる
群の基から選ばれる保護基を挙げることができる。
In the production method of the present invention, the amino-protecting group is more preferably an amino-protecting group in which a carbonyl group serves as a binding site, for example, an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group and an acyl group. Protecting groups selected from the group consisting of Specific examples thereof include a t-butoxycarbonyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group,
2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group,
A protecting group selected from the group consisting of formyl group, acetyl group, propanoyl group, t-butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group and benzoyl group Can be mentioned.

【0015】またnは2から5の整数である。上記の置
換基等の定義は以後の化合物についても同様に定義され
る。さらに、R21で表されるアミノ基の保護基も上記と
同様に考えればよい。
N is an integer of 2 to 5. The above definition of the substituents and the like is similarly defined for the subsequent compounds. Further, the protecting group for the amino group represented by R 21 may be considered in the same manner as described above.

【0016】X1は、求核置換反応における脱離基(lea
ving group)を表すが、これは通常使用されるものを適
用すればよいが、例えば、ハロゲン原子や、置換アシル
オキシ基(アセトキシ基、ベンゾイル基等)もしくは置
換スルホニルオキシ基(メシルオキシ基、トシルオキシ
基、フェニルスルホニルオキシ基等)を挙げることがで
きる。
X 1 is a leaving group (lea) in the nucleophilic substitution reaction.
ving group), which may be a commonly used one, for example, a halogen atom, a substituted acyloxy group (acetoxy group, benzoyl group, etc.) or a substituted sulfonyloxy group (mesyloxy group, tosyloxy group, A phenylsulfonyloxy group).

【0017】化合物(I)から化合物(II)への工程 Step from compound (I) to compound (II)

【化104】 (式中、R3は、水素原子、炭素数1から6のアルキル
基、または置換基を有していてもよいベンジル基であ
る。このR3は先のR1と同じでよく、これ以外の置換基
等も先と同様である。) 本工程は、化合物(I)から(II)を得る工程である
が、2通りの方法がある。
Embedded image (In the formula, R 3 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a benzyl group which may have a substituent. This R 3 may be the same as R 1 described above. This step is the same as the above.) This step is a step of obtaining compound (I) from compound (I), and there are two methods.

【0018】一方は、化合物(I)とブロモ酢酸エチル等
の式
On the other hand, compound (I) and a compound such as ethyl bromoacetate

【化105】X2−CH2−CO23 IX (式中、X2は、求核置換反応における脱離基を表す。
2はX1と同様に考えればよいが、ハロゲン原子が好ま
しく特に臭素原子が好ましい。)で表されるモノ置換酢
酸誘導体(IX)とを塩基存在下に処理する方法である。
Embedded image X 2 —CH 2 —CO 2 R 3 IX (wherein X 2 represents a leaving group in a nucleophilic substitution reaction.
X 2 may be considered in the same manner as X 1 , but is preferably a halogen atom, particularly preferably a bromine atom. )) In the presence of a base.

【0019】この方法で使用する塩基としては、有機ま
たは無機のいずれであってもよく、アルカリ金属または
アルカリ土類金属、例えば、ナトリウム、カリウム、リ
チウム、マグネシウム、カルシウム等の水酸化物、炭酸
塩および炭酸水素塩等を使用することができる。この他
に、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチウ
ム等の金属水素化物、トリエチルアミン、N,N−ジイ
ソプロピルエチルアミン等の三級アミン類、その他、
1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセ−7−エ
ン(DBU)、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノ
ン−5−エン(DBN)、ジメチルアニリン、N−メチ
ルモルフォリン等の複素環化合物を用いることができ
る。塩基の使用量は通常、化合物(I)に対し1から1
0当量の範囲でよい。
The base used in this method may be either organic or inorganic, and may be an alkali metal or alkaline earth metal, for example, hydroxides, carbonates such as sodium, potassium, lithium, magnesium, calcium and the like. And bicarbonate. In addition, metal hydrides such as sodium hydride, potassium hydride and lithium hydride; tertiary amines such as triethylamine and N, N-diisopropylethylamine;
1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene (DBU), 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (DBN), dimethylaniline, N-methylmorpholine And the like. The amount of the base to be used is generally 1 to 1 relative to compound (I).
The range may be 0 equivalent.

【0020】溶媒としては、反応に不活性なものであれ
ば特に制限はないが、芳香族炭化水素系、エ−テル系、
ハロゲン化炭化水素系、アミド系、アルコール系、その
他、水、アセトン、アセトニトリル、酢酸エチル等を用
いることができ、塩基に応じて、好ましいものを選択す
ればよい。また上記の溶媒2種以上を組み合わせた混合
溶媒であってもよい。反応温度は、塩基の種類や使用す
る溶媒により異なるが、−78℃から溶媒の沸点の範囲
で行えばよく、好ましくは室温から溶媒の沸点の範囲で
ある。
The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction, but may be any of aromatic hydrocarbons, ethers,
Halogenated hydrocarbons, amides, alcohols, water, acetone, acetonitrile, ethyl acetate and the like can be used, and a preferable one may be selected according to the base. Further, a mixed solvent obtained by combining two or more of the above solvents may be used. The reaction temperature varies depending on the type of the base and the solvent used, but may be in the range of -78 ° C to the boiling point of the solvent, and preferably in the range of room temperature to the boiling point of the solvent.

【0021】さらに、化合物(II)のうちの置換基R2
が水素原子である化合物(II-1)
Further, the substituent R 2 in the compound (II)
In which is a hydrogen atom (II-1)

【化106】 は、化合物(I-1)とグリオキシル酸誘導体(X)Embedded image Is a compound (I-1) and a glyoxylic acid derivative (X)

【化107】OHC−CO23 X とを反応させて得られるイミノ化合物[Image Omitted] Imino compound obtained by reacting with OHC-CO 2 R 3 X

【化108】 を水素ガス、金属触媒存在下で接触水素添加して得るこ
とができる。
Embedded image Can be obtained by catalytic hydrogenation in the presence of hydrogen gas and a metal catalyst.

【0022】イミノ化合物を得る反応は、加温、酸触媒
存在下に行うことができる。触媒として使用する酸とし
ては、鉱酸または有機酸のいずれであってもよく、鉱酸
としては塩酸、硫酸、硝酸等、有機酸としては、メタン
スルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸
等のスルホン酸類、酢酸、ギ酸、安息香酸等のカルボン
酸等を用いることができる。酸の使用量は通常、化合物
(I−1)に対し、1/100〜1当量の範囲でよい。
溶媒は、反応に不活性なものであれば特に制限はない
が、芳香族炭化水素、エーテル系、ハロゲン化炭化水
素、アルコール系、その他、酢酸エチル等を用いること
ができる。反応温度は、使用する溶媒によって異なる
が、室温から溶媒の沸点の範囲で行えばよい。さらに、
得られるイミノ化合物は単離せず、次工程に用いること
ができる。
The reaction for obtaining the imino compound can be carried out under heating and in the presence of an acid catalyst. The acid used as a catalyst may be either a mineral acid or an organic acid, and the mineral acid may be hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, etc., and the organic acid may be methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, etc. Sulfonic acids, carboxylic acids such as acetic acid, formic acid, and benzoic acid can be used. The amount of the acid to be used may be generally 1/100 to 1 equivalent relative to compound (I-1).
The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction, but aromatic hydrocarbons, ethers, halogenated hydrocarbons, alcohols, and ethyl acetate can be used. The reaction temperature varies depending on the solvent used, but may be in the range of room temperature to the boiling point of the solvent. further,
The obtained imino compound can be used in the next step without isolation.

【0023】イミノ化合物を接触水素添加する際の金属
触媒としてはラネーニッケル、ラネーコバルト等のラネ
ー触媒が適当であり、水素圧は1から300気圧の加圧
下で行うことができるが、1から50気圧が好ましい。
また、反応温度は室温から200℃で行えばよい。この
反応には溶媒を用いるのが好ましく、反応に不活性なも
のであれば特に制限はないが、芳香族炭化水素系、エ−
テル系、アミド系、アルコール系、その他、酢酸エチル
等を用いることができ、好ましいものを選択すればよ
い。なお、イミノ化合物の還元には接触水素添加以外に
も、水素化ホウ素ナトリウムなどの試薬を使用する還元
法も適用できる。
As the metal catalyst for the catalytic hydrogenation of the imino compound, a Raney catalyst such as Raney nickel or Raney cobalt is suitable, and the hydrogen pressure can be increased from 1 to 300 atm. Is preferred.
The reaction temperature may be from room temperature to 200 ° C. It is preferable to use a solvent for this reaction, and there is no particular limitation as long as it is inert to the reaction.
Ter-based, amide-based, alcohol-based, and others such as ethyl acetate can be used, and a preferable one may be selected. In addition, in addition to catalytic hydrogenation, a reduction method using a reagent such as sodium borohydride can be applied to the reduction of the imino compound.

【0024】また、化合物(II)のうちの置換基R2
が水素原子以外の基である化合物(II−2)
The substituent R 2 in the compound (II)
Is a group other than a hydrogen atom (II-2)

【化109】 は、上記の化合物(II−1)と化合物(VIII)Embedded image Is the compound (II-1) and the compound (VIII)

【化110】R21−X1 VIII (式中、X1は、求核置換反応における脱離基を表
す。)とを溶媒中、塩基存在下で処理することによって
得ることができる。溶媒としては、反応に不活性なもの
であれば特に制限はないが、芳香族炭化水素系、エ−テ
ル系、ハロゲン化炭化水素系、アミド系、アルコール
系、その他、水、アセトン、アセトニトリル、酢酸エチ
ル等を用いることができ、塩基に応じて、好ましいもの
を選択すればよい。また上記の溶媒2種以上を組み合わ
せた混合溶媒であってもよい。
[Image Omitted] R 21 -X 1 VIII (wherein X 1 represents a leaving group in a nucleophilic substitution reaction) in a solvent in the presence of a base. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction, but is not limited to aromatic hydrocarbons, ethers, halogenated hydrocarbons, amides, alcohols, others, water, acetone, acetonitrile, Ethyl acetate or the like can be used, and a preferred one may be selected depending on the base. Further, a mixed solvent obtained by combining two or more of the above solvents may be used.

【0025】塩基としては、有機または無機のいずれで
あってもよく、アルカリ金属またはアルカリ土類金属、
例えば、ナトリウム、カリウム、リチウム、マグネシウ
ム、カルシウム等の水酸化物、炭酸塩および炭酸水素塩
等、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチウ
ム等の金属水素化物、トリエチルアミン、N,N−ジイ
ソプロピルエチルアミン等の三級アミン類、その他、
1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセ−7−
エン(DBU)、1,5−ジアザビシクロ[4.3.
0]ノン−5−エン(DBN)、ジメチルアニリン、N
−メチルモルフォリン等の複素環化合物を用いることが
できる。塩基の使用量は通常、化合物(I−1)に対し
1から10当量の範囲でよい。反応温度は、塩基の種類
や使用する溶媒により異なるが、−78℃から溶媒の沸
点の範囲で行えばよく、好ましくは室温から溶媒の沸点
の範囲である。
The base may be either organic or inorganic, such as an alkali metal or alkaline earth metal,
For example, hydroxides such as sodium, potassium, lithium, magnesium and calcium, carbonates and bicarbonates, etc., metal hydrides such as sodium hydride, potassium hydride and lithium hydride, triethylamine, N, N-diisopropylethylamine Tertiary amines such as
1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-
Ene (DBU), 1,5-diazabicyclo [4.3.
0] non-5-ene (DBN), dimethylaniline, N
Heterocyclic compounds such as -methylmorpholine can be used. The amount of the base to be used may generally be in the range of 1 to 10 equivalents relative to compound (I-1). The reaction temperature varies depending on the type of the base and the solvent used, but may be in the range of -78 ° C to the boiling point of the solvent, and preferably in the range of room temperature to the boiling point of the solvent.

【0026】化合物(II)から化合物(III)への
工程
Conversion of compound (II) to compound (III)
Process

【化111】 化合物(III)は、化合物(II)を適当な溶媒中、
塩基の存在下に処理して分子内閉環させることによって
得ることができる。この工程に使用できる溶媒として
は、芳香族炭化水素系、アルコ−ル系、エ−テル系、ア
ミド系、ハロゲン化炭化水素系、その他、アセトニトリ
ル、アセトン、酢酸エステル、水等を用いることがで
き、用いる塩基に応じて、好ましいものを選択すればよ
い。また、これらを混合溶媒として使用することもでき
る。溶媒の使用量は通常、化合物(II)に対し1から
20倍量(体積/重量、すなわち、化合物(II)1g
に対し1mlから20mlの範囲で使用することを表
す。以下同じ。)の範囲でよく、好ましくは3から10
倍量程度である。反応温度は溶媒の沸点までの範囲でよ
く、好ましくは0℃から25℃の範囲で、必要に応じて
加温しても良い。
Embedded image Compound (III) is prepared by converting compound (II) into a suitable solvent,
It can be obtained by treating in the presence of a base to effect intramolecular ring closure. As the solvent that can be used in this step, aromatic hydrocarbons, alcohols, ethers, amides, halogenated hydrocarbons, and others, acetonitrile, acetone, acetate, water, and the like can be used. Preferred ones may be selected depending on the base used. These can also be used as a mixed solvent. The amount of the solvent to be used is generally 1 to 20 times (volume / weight, that is, 1 g of the compound (II)) relative to the compound (II).
Indicates that it is used in the range of 1 ml to 20 ml. same as below. ), Preferably from 3 to 10
It is about twice as much. The reaction temperature may be in the range up to the boiling point of the solvent, preferably in the range of 0 ° C to 25 ° C, and may be heated if necessary.

【0027】塩基としては、アルコキサイド、金属水素
化物、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化
物、三級アルキルアミン、四級アンモニウム塩、有機リ
チウム,リチウムアミド、その他、リチウムヘキサメチ
ルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、カ
リウムヘキサメチルジシラジド、1,8−ジアザビシク
ロ[5.4.0]ウンデセ−7−エン(DBU)、1,
5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン(D
BN)、ジメチルアニリン、N−メチルモルフォリン等
の複素環化合物を用いることができる。塩基の使用量は
通常、化合物(II)に対し1から10当量の範囲でよ
く、好ましくは1から3当量程度である。
Examples of the base include alkoxide, metal hydride, hydroxide of alkali metal or alkaline earth metal, tertiary alkylamine, quaternary ammonium salt, organic lithium, lithium amide, and others, lithium hexamethyldisilazide, Sodium hexamethyldisilazide, potassium hexamethyldisilazide, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene (DBU),
5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (D
Heterocyclic compounds such as BN), dimethylaniline and N-methylmorpholine can be used. The amount of the base to be used is generally 1 to 10 equivalents, preferably 1 to 3 equivalents, relative to compound (II).

【0028】化合物(III)から化合物(IV)への
工程
Conversion of compound (III) to compound (IV)
Process

【化112】 化合物(IV)は、化合物(III)を溶媒中あるいは
無溶媒で、酸の存在下に処理し、脱炭酸することによっ
て得ることができる。COOR2部分がエステルである
ときは、酸処理によって、当該エステル部分が加水分解
されてカルボン酸化合物
Embedded image Compound (IV) can be obtained by treating compound (III) in a solvent or without solvent in the presence of an acid and decarboxylation. When the COOR 2 moiety is an ester, the ester moiety is hydrolyzed by acid treatment to form a carboxylic acid compound.

【化113】 が生成した後、脱炭酸される。Embedded image Is generated and then decarbonated.

【0029】溶媒としては、水または水と混和するもの
が好ましく、アルコ−ル系、エ−テル系、アミド系、そ
の他、アセトニトリル、アセトン、酢酸等を用いること
ができ、用いる酸に応じて、好ましいものを選択すれば
よい。また、これらを混合溶媒として使用することもで
きる。溶媒の使用量は通常、化合物(II)に対し1か
ら20倍量の範囲でよく、好ましくは1から10倍量程
度である。
As the solvent, water or a water-miscible solvent is preferable, and alcohols, ethers, amides, acetonitrile, acetone, acetic acid and the like can be used. What is necessary is just to select a preferable thing. These can also be used as a mixed solvent. The amount of the solvent to be used may be generally in the range of 1 to 20 times, and preferably about 1 to 10 times, based on the compound (II).

【0030】酸としては、シュウ酸、酢酸、トリフルオ
ロ酢酸等の有機酸および塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無
機酸類が使用できるが、これらの中ではシュウ酸が最も
好ましい。酸の使用量は通常、化合物(II)に対し1
から20倍量を使用すればよく、好ましくは3から10
倍量程度である。反応温度は、室温から溶媒の沸点の範
囲内でよく、好ましくは溶媒の沸点程度である。
As the acid, organic acids such as oxalic acid, acetic acid and trifluoroacetic acid and inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid and sulfuric acid can be used. Among these, oxalic acid is most preferred. The amount of the acid to be used is generally 1 to compound (II).
To 20 times the amount may be used, preferably 3 to 10 times.
It is about twice as much. The reaction temperature may be in the range of room temperature to the boiling point of the solvent, and is preferably about the boiling point of the solvent.

【0031】化合物(IV)から化合物(V)への工程 Step from compound (IV) to compound (V)

【化114】 オキシム化合物である化合物(V)は、化合物(IV)
とヒドロキシルアミンまたはその塩とを塩基存在下に処
理することによって得ることができる。
Embedded image Compound (V) which is an oxime compound is compound (IV)
And hydroxylamine or a salt thereof in the presence of a base.

【0032】本工程で使用する溶媒としては、反応に不
活性なものであれば特に制限はないが、アルコール系、
エ−テル系、芳香族炭化水素系、ハロゲン化炭化水素
系、アミド系、その他、水、アセトン、アセトニトリ
ル、酢酸エチル等を用いることができ、塩基に応じて、
好ましいものを選択すればよい。また上記の溶媒2種以
上を組み合わせた混合溶媒であってもよい。
The solvent used in this step is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
Ether type, aromatic hydrocarbon type, halogenated hydrocarbon type, amide type, and others, water, acetone, acetonitrile, ethyl acetate and the like can be used.
What is necessary is just to select a preferable thing. Further, a mixed solvent obtained by combining two or more of the above solvents may be used.

【0033】塩基としては、有機または無機のいずれで
あってもよく、アルカリ金属またはアルカリ土類金属、
例えば、ナトリウム、カリウム、リチウム、マグネシウ
ム、カルシウム等の水酸化物、炭酸塩および炭酸水素塩
等、トリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチル
アミン等の三級アミン類、その他、1,8−ジアザビシ
クロ[5.4.0]ウンデセ−7−エン(DBU)、
1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン
(DBN)、ジメチルアニリン、N−メチルモルフォリ
ン等の複素環化合物を用いることができる。塩基の使用
量は通常、化合物(IV)に対し1から5当量の範囲で
よい。反応温度は、塩基の種類や使用する溶媒により異
なるが、−78℃から溶媒の沸点の範囲で行えばよく、
好ましくは室温から溶媒の沸点の範囲である。
The base may be either organic or inorganic, such as an alkali metal or alkaline earth metal,
For example, hydroxides such as sodium, potassium, lithium, magnesium and calcium, carbonates and bicarbonates, etc., tertiary amines such as triethylamine, N, N-diisopropylethylamine and the like, and 1,8-diazabicyclo [5. 4.0] undec-7-ene (DBU),
Heterocyclic compounds such as 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (DBN), dimethylaniline, and N-methylmorpholine can be used. The amount of the base to be used may generally be in the range of 1 to 5 equivalents relative to compound (IV). The reaction temperature varies depending on the type of the base and the solvent used, but may be carried out in the range of -78 ° C to the boiling point of the solvent.
It is preferably in the range from room temperature to the boiling point of the solvent.

【0034】化合物(V)から化合物(VI)への工程 Step from compound (V) to compound (VI)

【化115】 化合物(VI)は、化合物(V)を水素ガス雰囲気下、
金属触媒存在下で還元することによって得ることができ
る。
Embedded image Compound (VI) is obtained by subjecting compound (V) to a hydrogen gas atmosphere.
It can be obtained by reduction in the presence of a metal catalyst.

【0035】金属触媒としてはラネーニッケル、ラネー
コバルト等のラネー触媒が適当であり、水素圧は1から
300気圧の加圧下で行うことができるが、1から50
気圧が好ましい。また、反応温度は室温から200℃で
行うのが一般的である。この反応には溶媒を用いるのが
好ましく、反応に不活性なものであれば特に制限はない
が、アルコール系、芳香族炭化水素系、エ−テル系、ア
ミド系、その他、酢酸エチル等を用いることができ、好
ましいものを選択すればよい。なお、オキシム化合物の
還元には接触水素添加以外にも、水素化ホウ素ナトリウ
ムなどの試薬を使用する還元法も適用できる。
As the metal catalyst, a Raney catalyst such as Raney nickel or Raney cobalt is suitable, and the hydrogen pressure can be increased from 1 to 300 atm.
Atmospheric pressure is preferred. The reaction temperature is generally from room temperature to 200 ° C. It is preferable to use a solvent for this reaction, and there is no particular limitation as long as it is inert to the reaction. However, alcohols, aromatic hydrocarbons, ethers, amides, and others, such as ethyl acetate, are used. What is necessary is just to select a preferable thing. In addition, a reduction method using a reagent such as sodium borohydride can be applied to the reduction of the oxime compound in addition to catalytic hydrogenation.

【0036】また、化合物(VI)のうち、置換基R2
がアルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニ
ル基、アシル基である化合物(VI−1)は酸で処理す
ることにより、置換基R2が水素原子の化合物(VI−
2)およびその塩へ変換できる。溶媒としては、水、メ
タノール、エタノール等のアルコール系溶媒が望まし
い。また上記の溶媒2種以上を組み合わせた混合溶媒で
あってもよい。酸としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸等
の無機酸類が使用できるが、これらの中では塩酸が好ま
しく、特に1から10Nの濃度が好ましい。反応温度と
しては、室温から溶媒の沸点の範囲で行えばよい。
In the compound (VI), the substituent R 2
(VI-1) is an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, or an acyl group, is treated with an acid to give a compound (VI-) in which the substituent R 2 is a hydrogen atom.
2) and its salts. As the solvent, water, alcoholic solvents such as methanol and ethanol are desirable. Further, a mixed solvent obtained by combining two or more of the above solvents may be used. As the acid, inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid and the like can be used. Among them, hydrochloric acid is preferable, and a concentration of 1 to 10N is particularly preferable. The reaction temperature may be in the range of room temperature to the boiling point of the solvent.

【0037】また、化合物(VI)のうち、置換基R2
がアラルキルオキシカルボニル基、アラルキル基である
化合物(VI−3)は水素、金属触媒存在下で水素化分
解することにより、置換基R2が水素原子の化合物(V
I−2)へ変換できる。金属触媒としてはパラジウム炭
素、パラジウム黒等のパラジウム系触媒が適当であり、
水素圧は1から300気圧の加圧下で行うことができる
が、1から10気圧が好ましい。また、反応温度は室温
から100℃で行うのが一般的である。この反応には溶
媒を用いるのが好ましく、反応に不活性なものであれば
特に制限はないが、アルコール系、芳香族炭化水素系、
エ−テル系、アミド系、その他、水、酢酸エチル等を用
いることができ、好ましいものを選択すればよい。
In the compound (VI), the substituent R 2
(VI-3) is an aralkyloxycarbonyl group or an aralkyl group, is subjected to hydrogenolysis in the presence of hydrogen or a metal catalyst to give a compound (VI) having a substituent R 2 as a hydrogen atom.
I-2). Palladium-based catalysts such as palladium carbon and palladium black are suitable as the metal catalyst,
The hydrogen pressure can be increased from 1 to 300 atm, but preferably from 1 to 10 atm. The reaction temperature is generally from room temperature to 100 ° C. It is preferable to use a solvent for this reaction, and there is no particular limitation as long as it is inert to the reaction, but alcohols, aromatic hydrocarbons,
Ether type, amide type, water, ethyl acetate, etc. can be used, and a preferable one may be selected.

【0038】ここで得られた化合物(VI)は特開平4
−149174、特開平7−224033および特開平
9−208561号記載のジアステレオマー塩分割法に
より光学活性体へ変換可能である。また、望まない光学
異性体に関しては、特開平4−342565および特開
平7−233146号記載の方法で異性化して必要な異
性体を得ることができる。本願発明の方法によって得ら
れた化合物は特開平2−231475および特開平3−
95176号記載の方法で優れた抗菌剤に導くことがで
きる。
The compound (VI) obtained here is described in
The compound can be converted into an optically active substance by a diastereomer salt resolution method described in JP-A-149174, JP-A-7-224033 and JP-A-9-208561. Unwanted optical isomers can be isomerized by the methods described in JP-A-4-342565 and JP-A-7-233146 to obtain the required isomers. The compounds obtained by the method of the present invention are described in JP-A-2-231475 and JP-A-3-231.
The method described in No. 95176 can lead to an excellent antibacterial agent.

【0039】[0039]

【実施例】次に実施例を挙げて本発明を説明するが、本
発明はこれに限定されるものではない。
Next, the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0040】[実施例1] エチル 1−(アミノメチ
ル)シクロプロパンカルボキシレート エチル 1−シアノシクロプロパンカルボキシレート
(30g)を5%含水エタノール(225ml)に溶解
した後、28%アンモニア水(30ml)、ラネーニッ
ケル(10ml)を加え、水素雰囲気下、50℃で24
時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、触媒を吸
引濾去した。ろ液を減圧下溶媒留去し、標題化合物を油
状物として26.6g得た。1 H−NMR(CDCl3)δ:0.74−0.78(2
H,m),1.21−1.28(2H,m),1.26
(3H,t,J=7.26),2.76(2H,s),
4.14(2H,q,J=7.26)
Example 1 Ethyl 1- (aminomethyl)
Le) was dissolved cyclopropanecarboxylate Ethyl 1-cyano-cyclopropane-carboxylate (30 g) in 5% aqueous ethanol (225 ml), 28% aqueous ammonia (30 ml), Raney nickel (10ml) was added, under hydrogen atmosphere, 50 24 at ° C
Stirred for hours. After cooling the reaction solution to room temperature, the catalyst was filtered off with suction. The solvent was distilled off from the filtrate under reduced pressure to obtain 26.6 g of the title compound as an oil. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 0.74-0.78 (2
H, m), 1.21-1.28 (2H, m), 1.26
(3H, t, J = 7.26), 2.76 (2H, s),
4.14 (2H, q, J = 7.26)

【0041】[実施例2] エチル 1−({[(ベン
ジルオキシ)カルボニル]アミノ}メチル)シクロプロ
パンカルボキシレート エチル 1−(アミノメチル)シクロプロパンカルボキ
シレート(1.43g)をトルエン(14ml)に溶解
した後、3N水酸化ナトリウム水溶液(5ml)を加え
た。反応液を0℃まで冷却した後、塩化ベンジルオキシ
カルボニル(1.57ml)を加え、15分間攪拌し
た。室温まで昇温し、1.5時間攪拌した後、反応液を
水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。溶媒を減圧留去し、得られた淡黄色油状物をカラム
クロマトグラフィーにて精製し、標題化合物を無色油状
物として2.6g得た。1 H−NMR(CDCl3)δ:0.95−0.99(2
H,m),1.21−1.29(5H,m),3.35
(2H,d,J=6.27Hz),4.12(2H,
q,J=7.26),5.09(2H,s),7.29
−7.36(5H,m)
Example 2 Ethyl 1-({[(ben
(Diloxy) carbonyl] amino} methyl) cyclopro
Pan carboxylate ethyl 1- (aminomethyl) cyclopropane carboxylate (1.43 g) was dissolved in toluene (14 ml), and a 3N aqueous sodium hydroxide solution (5 ml) was added. After cooling the reaction solution to 0 ° C., benzyloxycarbonyl chloride (1.57 ml) was added, and the mixture was stirred for 15 minutes. After the temperature was raised to room temperature and stirred for 1.5 hours, the reaction solution was washed with water and saturated saline, and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained pale yellow oil was purified by column chromatography to obtain 2.6 g of the title compound as a colorless oil. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 0.95 to 0.99 (2
H, m), 1.21-1.29 (5H, m), 3.35
(2H, d, J = 6.27 Hz), 4.12 (2H,
q, J = 7.26), 5.09 (2H, s), 7.29
-7.36 (5H, m)

【0042】[実施例3] エチル 1−[(アセチル
アミノ)メチル]シクロプロパンカルボキシレート エチル 1−(アミノメチル)シクロプロパンカルボキ
シレート(1.43g)をクロロホルム(14ml)に
溶解した後、トリエチルアミン(1.70ml)を加え
た。反応液を0℃まで冷却した後、無水酢酸(1.04
ml)を加え、15分間攪拌した。室温まで昇温し、1
時間攪拌した後、反応液に1N塩酸水溶液(10ml)
を加え、攪拌した。水層と有機層を分離した後、有機層
を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。溶媒を減圧留去し、得られた白色結晶をスラリー精
製し、標題化合物を白色結晶として1.55g得た。1 H−NMR(CDCl3)δ:0.95−0.99(2
H,m),1.22−1.27(5H,m),1.98
(3H,s),3.39(2H,d,J=5.94H
z),4.13(2H,q,J=7.26)
Example 3 Ethyl 1-[(acetyl)
[Amino] methyl] cyclopropanecarboxylateethyl 1- (aminomethyl) cyclopropanecarboxylate (1.43 g) was dissolved in chloroform (14 ml), and then triethylamine (1.70 ml) was added. After the reaction solution was cooled to 0 ° C, acetic anhydride (1.04
ml) and stirred for 15 minutes. Raise the temperature to room temperature,
After stirring for 1 hour, 1N aqueous hydrochloric acid solution (10 ml) was added to the reaction solution.
Was added and stirred. After separating the aqueous layer and the organic layer, the organic layer was washed with saturated saline and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained white crystals were purified by slurry to obtain 1.55 g of the title compound as white crystals. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 0.95 to 0.99 (2
H, m), 1.22-1.27 (5H, m), 1.98
(3H, s), 3.39 (2H, d, J = 5.94H)
z), 4.13 (2H, q, J = 7.26)

【0043】[実施例4] エチル1−{[(2−エト
キシ−2−オキソエチル)アミノ]メチル}シクロプロ
パンカルボキシレート エチル 1−(アミノメチル)シクロプロパンカルボキ
シレート(1.43g)をトルエン(14ml)に溶解
した後、3N水酸化ナトリウム水溶液(5ml)、ブロ
モ酢酸エチル(1.22ml)を加え、室温下で18時
間攪拌した。水層と有機層を分離した後、水層をトルエ
ン(5ml)で再抽出した。有機層を混合し、飽和食塩
水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒
を減圧留去し、得られた褐色油状物をカラムクロマトグ
ラフィーにて精製し、標題化合物を淡黄色油状物として
1.07g得た。1 H−NMR(CDCl3)δ:0.79−0.83(2
H,m),1.22−1.30(8H,m),2.75
(2H,s),3.42(2H,s),4.09−4.
22(4H,m)
Example 4 Ethyl 1-{[(2-ethy
Xy-2-oxoethyl) amino] methyl} cyclopro
After the bread carboxylate Ethyl 1- (aminomethyl) cyclopropanecarboxylate (1.43 g) was dissolved in toluene (14 ml), aqueous 3N sodium hydroxide (5 ml), ethyl bromoacetate (1.22 ml) was added, at room temperature Stirred under for 18 hours. After separating the aqueous layer and the organic layer, the aqueous layer was re-extracted with toluene (5 ml). The organic layers were mixed, washed with saturated saline, and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained brown oil was purified by column chromatography to obtain 1.07 g of the title compound as a pale yellow oil. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 0.79-0.83 (2
H, m), 1.22-1.30 (8H, m), 2.75
(2H, s), 3.42 (2H, s), 4.09-4.
22 (4H, m)

【0044】[実施例5] エチル 1−{[(2−エ
トキシ−2−オキソエチル)アミノ]メチル}シクロプ
ロパンカルボキシレート エチル 1−(アミノメチル)シクロプロパンカルボキ
シレート(1.43g)をトルエン(10ml)に溶解
した後、グリオキシル酸エチル(45から50%トルエ
ン溶液;2.27g)、リン酸(10mg)、硫酸マグ
ネシウム(300mg)を加え、1時間加熱還流した。
反応液を冷却後、ラネーニッケル(1.5ml)を加
え、水素雰囲気下、室温で6時間攪拌した。触媒を吸引
濾去した後、濾液に1N水酸化ナトリウム水溶液(5m
l)を加え、攪拌した。水層と有機層を分離した後、飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶
媒を減圧留去し、標題化合物を淡黄色油状物として1.
91g得た。1 H−NMR(CDCl3)δ:0.79−0.83(2
H,m),1.22−1.30(8H,m),2.75
(2H,s),3.42(2H,s),4.09−4.
22(4H,m)
Example 5 Ethyl 1-{[(2-E
Toxy-2-oxoethyl) amino] methyl dicyclop
Ethyl lopancarboxylate 1- (aminomethyl) cyclopropanecarboxylate (1.43 g) was dissolved in toluene (10 ml), then ethyl glyoxylate (45 to 50% toluene solution; 2.27 g), phosphoric acid (10 mg) And magnesium sulfate (300 mg) were added, and the mixture was heated under reflux for 1 hour.
After cooling the reaction solution, Raney nickel (1.5 ml) was added, and the mixture was stirred under a hydrogen atmosphere at room temperature for 6 hours. After the catalyst was filtered off with suction, the filtrate was added to a 1N aqueous sodium hydroxide solution (5 m
l) was added and stirred. After separating the aqueous layer and the organic layer, the mixture was washed with saturated saline and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure to give the title compound as a pale yellow oil.
91 g were obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 0.79-0.83 (2
H, m), 1.22-1.30 (8H, m), 2.75
(2H, s), 3.42 (2H, s), 4.09-4.
22 (4H, m)

【0045】[実施例6] エチル 1−{[[(ベン
ジルオキシ)カルボニル](2−エトキシ−2−オキソ
エチル)アミノ]メチル}シクロプロパンカルボキシレ
ート エチル 1−{[(2−エトキシ−2−オキソエチル)
アミノ]メチル}シクロプロパンカルボキシレート(5
7mg)をトルエン(0.6ml)に溶解した後、3N
水酸化ナトリウム水溶液(0.15ml)を加えた。反
応液を0℃まで冷却した後、塩化ベンジルオキシカルボ
ニル(40μl)を加え、15分間攪拌した。室温まで
昇温し、1時間攪拌した後、反応液を水、飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留
去し、得られた淡黄色油状物をカラムクロマトグラフィ
ーにて精製し、標題化合物を無色油状物として87mg
得た。1 H−NMR(CDCl3)δ:0.86−0.90(1
H,m),1.11−1.29(9H,m),3.66
(2H,s),4.03−4.19(4H,m),4.
23(2H,s),5.10−5.15(2H,m),
7.28−7.36(5H,m)
Example 6 Ethyl 1-{[[(ben
Diloxy) carbonyl] (2-ethoxy-2-oxo
Ethyl) amino] methyl dicyclopropanecarboxyle
Over preparative ethyl 1 - {[(2-ethoxy-2-oxoethyl)
Amino] methyl} cyclopropanecarboxylate (5
7 mg) in toluene (0.6 ml) and 3N
An aqueous sodium hydroxide solution (0.15 ml) was added. After cooling the reaction solution to 0 ° C., benzyloxycarbonyl chloride (40 μl) was added, and the mixture was stirred for 15 minutes. After warming to room temperature and stirring for 1 hour, the reaction solution was washed with water and saturated saline, and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained pale yellow oil was purified by column chromatography to give the title compound as a colorless oil (87 mg).
Obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 0.86-0.90 (1
H, m), 1.11-1.29 (9H, m), 3.66
(2H, s), 4.03-4.19 (4H, m), 4.
23 (2H, s), 5.10-5.15 (2H, m),
7.28-7.36 (5H, m)

【0046】[実施例7] エチル 1−{[アセチル
(2−エトキシ−2−オキソエチル)アミノ]メチル}
シクロプロパンカルボキシレート エチル 1−{[(2−エトキシ−2−オキソエチル)
アミノ]メチル}シクロプロパンカルボキシレート
(4.6g)をクロロホルム(45ml)に溶解した
後、トリエチルアミン(4.2ml)を加えた。反応液
を0℃まで冷却した後、無水酢酸(2.6ml)を加
え、15分間攪拌した。室温まで昇温し、1時間攪拌し
た後、反応液に1N塩酸水溶液(30ml)を加え、攪
拌した。水層と有機層を分離した後、有機層を飽和食塩
水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減
圧留去し、得られた淡黄色油状物を減圧蒸留にて精製
し、標題化合物を淡黄色油状物として5.2g得た。1 H−NMR(CDCl3)δ:0.77−0.81(1
H,m),1.12−1.36(9H,m),2.01
−2.26(3H,m),3.66−3.71(2H,
m),4.03−4.31(6H,m)
Example 7 Ethyl 1-{[acetyl ]
(2-ethoxy-2-oxoethyl) amino] methyl}
Cyclopropanecarboxylateethyl 1-{[(2-ethoxy-2-oxoethyl)
After amino [methyl] cyclopropanecarboxylate (4.6 g) was dissolved in chloroform (45 ml), triethylamine (4.2 ml) was added. After cooling the reaction solution to 0 ° C., acetic anhydride (2.6 ml) was added and the mixture was stirred for 15 minutes. After the temperature was raised to room temperature and stirred for 1 hour, a 1N aqueous hydrochloric acid solution (30 ml) was added to the reaction solution, followed by stirring. After separating the aqueous layer and the organic layer, the organic layer was washed with saturated saline and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained pale yellow oil was purified by distillation under reduced pressure to obtain 5.2 g of the title compound as a pale yellow oil. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 0.77-0.81 (1
H, m), 1.12-1.36 (9H, m), 2.01
-2.26 (3H, m), 3.66-3.71 (2H,
m), 4.03-4.31 (6H, m)

【0047】[実施例8] 5−ベンジル 6−エチル
7−オキソ−5−アザスピロ[2.4]ヘプタン−
5,6−ジカルボキシレート エチル 1−{[[(ベンジルオキシ)カルボニル]
(2−エトキシ−2−オキソエチル)アミノ]メチル}
シクロプロパンカルボキシレート(1.5g)をトルエ
ン(15ml)に溶解した後、氷冷下、カリウムter
t−ブトキシド(510mg)を加え、15分間攪拌し
た。室温まで昇温し、2時間攪拌した後、1N塩酸水溶
液(6ml)、トルエン(3ml)を加え攪拌した。水
層と有機層を分離した後、有機層を飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去
し、得られた淡黄色油状物をカラムクロマトグラフィー
にて精製し、標題化合物を無色油状物として1.19g
得た。1 H−NMR(CDCl3)δ:1.07−1.43(7
H,m),3.77−3.95(2H,m),3.99
−4.12(1H,m),4.17−4.24(1H,
m),4.67−4.72(1H,m),5.02−
5.19(2H,m),7.25−7.30(5H,
m) MS(Fab+);m/z=318(M++H)
Example 8 5-benzyl 6-ethyl
7-oxo-5-azaspiro [2.4] heptane-
5,6-dicarboxylateethyl 1-{[[(benzyloxy) carbonyl]
(2-ethoxy-2-oxoethyl) amino] methyl}
After dissolving cyclopropanecarboxylate (1.5 g) in toluene (15 ml), potassium tert.
t-Butoxide (510 mg) was added and stirred for 15 minutes. After heating to room temperature and stirring for 2 hours, a 1N aqueous hydrochloric acid solution (6 ml) and toluene (3 ml) were added and stirred. After separating the aqueous layer and the organic layer, the organic layer was washed with saturated saline and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained pale yellow oil was purified by column chromatography to give 1.19 g of the title compound as a colorless oil.
Obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 1.07-1.43 (7
H, m), 3.77-3.95 (2H, m), 3.99
-4.12 (1H, m), 4.17-4.24 (1H,
m), 4.67-4.72 (1H, m), 5.02-
5.19 (2H, m), 7.25-7.30 (5H,
m) MS (Fab + ); m / z = 318 (M + + H)

【0048】[実施例9] 6−エチル 5−アセチル
−7−オキソ−5−アザスピロ[2.4]ヘプタン−6
−カルボキシレート エチル 1−{[アセチル(2−エトキシ−2−オキソ
エチル)アミノ]メチル}シクロプロパンカルボキシレ
ート(4.44g)をトルエン(45ml)に溶解した
後、氷冷下、カリウムtert−ブトキシド(2.2
g)を加え、15分間攪拌した。室温まで昇温し、2時
間攪拌した後、1N塩酸水溶液(30ml)、酢酸エチ
ル(30ml)を加え攪拌した。水層と有機層を分離し
た後、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた淡赤褐色油
状物をカラムクロマトグラフィーにて精製し、標題化合
物を淡黄色油状物として3.12g得た。1 H−NMR(CDCl3)δ:1.20−1.53(7
H,m),2.03−2.16(3H,m),3.86
−3.91(1H,m),4.03−4.11(1H,
m),4.21−4.32(2H,m),4.78−
4.89(1H,m) MS(Fab+);m/z=226(M++H)
Example 9 6-ethyl 5-acetyl
-7-oxo-5-azaspiro [2.4] heptane-6
-Carboxylate ethyl 1-{[acetyl (2-ethoxy-2-oxoethyl) amino] methyl} cyclopropanecarboxylate (4.44 g) was dissolved in toluene (45 ml), and then potassium tert-butoxide (ice) under ice-cooling. 2.2
g) was added and stirred for 15 minutes. After heating to room temperature and stirring for 2 hours, a 1N aqueous hydrochloric acid solution (30 ml) and ethyl acetate (30 ml) were added and stirred. After separating the aqueous layer and the organic layer, the organic layer was washed with saturated saline and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained pale red-brown oil was purified by column chromatography to obtain 3.12 g of the title compound as a pale yellow oil. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 1.20-1.53 (7
H, m), 2.03-2.16 (3H, m), 3.86
-3.91 (1H, m), 4.03-4.11 (1H,
m), 4.21-4.32 (2H, m), 4.78-
4.89 (1H, m) MS ( Fab +); m / z = 226 (M + + H)

【0049】[実施例10] ベンジル 7−オキソ−
5−アザスピロ[2.4]ヘプタン−5−カルボキシレ
ート 5−ベンジル−6−エチル−7−オキソ−5−アザスピ
ロ[2.4]ヘプタン−5,6−ジカルボキシレート
(100mg;0.32mmol)をエタノール(3m
l)に溶解した後、シュウ酸(288mg)の水(1m
l)溶液を加え、アルゴン雰囲気下、70℃で60時間
攪拌した。溶媒を減圧留去した後、残渣にクロロホルム
(5ml)、水(2ml)を加えた。水層と有機層を分
離した後、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた淡黄色
油状物を分取用薄層クロマトグラフィーにて精製し、標
題化合物を白色結晶として51mg得た。1 H−NMR(CDCl3)δ:1.12−1.14(2
H,m),1.40−1.44(2H,m),3.86
(2H,s),4.03(2H,s),5.19(2
H,s),7.29−7.39(5H,m) MS(Fab+);m/z=246(M++H)
Example 10 Benzyl 7-oxo-
5-azaspiro [2.4] heptane-5-carboxyle
Over preparative 5-Benzyl-6-ethyl-7-oxo-5-azaspiro [2.4] heptane-5,6-dicarboxylate (100 mg; 0.32 mmol) in ethanol (3m
l), oxalic acid (288 mg) in water (1 m
l) The solution was added, and the mixture was stirred at 70 ° C for 60 hours under an argon atmosphere. After the solvent was distilled off under reduced pressure, chloroform (5 ml) and water (2 ml) were added to the residue. After separating the aqueous layer and the organic layer, the organic layer was washed with saturated saline and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained pale yellow oil was purified by preparative thin-layer chromatography to obtain 51 mg of the title compound as white crystals. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 1.12-1.14 (2
H, m), 1.40-1.44 (2H, m), 3.86
(2H, s), 4.03 (2H, s), 5.19 (2
H, s), 7.29-7.39 (5H , m) MS (Fab +); m / z = 246 (M + + H)

【0050】[実施例11] 5−アセチル−アザスピ
ロ[2.4]ヘプタン−7−オン 6−エチル 5−アセチル−7−オキソ−5−アザスピ
ロ[2.4]ヘプタン−6−カルボキシレート(0.5
g)をエタノール(3.75ml)に溶解した後、水
(1.25ml)、シュウ酸(2.0g)を加え、アル
ゴン雰囲気下、80℃で48時間攪拌した。溶媒を減圧
留去した後、残渣にクロロホルム(5ml)、水(2m
l)を加えた。水層と有機層を分離した後、有機層を飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶
媒を減圧留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラフ
ィーにて精製し、標題化合物を微黄色結晶として190
mg得た。1 H−NMR(CDCl3)δ:1.12−1.18(2
H,m),1.43−1.50(2H,m),2.11
(3H,s),3.90−3.92(2H,m),4.
08(2H,s)
Example 11 5-acetyl-azaspire
B [2.4] Heptan-7-one 6-ethyl 5-acetyl-7-oxo-5-azaspiro [2.4] heptane-6-carboxylate (0.5
g) was dissolved in ethanol (3.75 ml), water (1.25 ml) and oxalic acid (2.0 g) were added, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 48 hours under an argon atmosphere. After the solvent was distilled off under reduced pressure, chloroform (5 ml) and water (2 m
l) was added. After separating the aqueous layer and the organic layer, the organic layer was washed with saturated saline and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by column chromatography to give the title compound as pale yellow crystals (190).
mg. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 1.12-1.18 (2
H, m), 1.43-1.50 (2H, m), 2.11
(3H, s), 3.90-3.92 (2H, m), 4.
08 (2H, s)

【0051】[実施例12] ベンジル 7−(ハイド
ロキシイミノ)−5−アザスピロ[2.4]ヘプタン−
5−カルボキシレート ベンジル 7−オキソ−5−アザスピロ[2.4]ヘプ
タン−5−カルボキシレート(500mg)をエタノー
ル(5ml)に溶解した後、塩酸ヒドロキシルアミン
(283mg)、トリエチルアミン(625μl)を加
え、室温下で24時間攪拌した。溶媒を減圧留去した
後、残渣にクロロホルム(20ml)を加え溶解した。
反応液を10%クエン酸水溶液、飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、標
題化合物を白色結晶として522mg得た。1 H−NMR(CDCl3)δ:0.86−0.98(2
H,m),1.10−1.20(2H,m),3.62
(2H,s),4.37(2H,s),5.17(2
H,s),7.30−7.36(5H,m)
Example 12 Benzyl 7- (hydride
Roximino) -5-azaspiro [2.4] heptane-
After dissolving 5-carboxylate benzyl 7-oxo-5-azaspiro [2.4] heptane-5-carboxylate (500 mg) in ethanol (5 ml), hydroxylamine hydrochloride (283 mg) and triethylamine (625 μl) were added. The mixture was stirred at room temperature for 24 hours. After evaporating the solvent under reduced pressure, chloroform (20 ml) was added to the residue to dissolve it.
The reaction solution was washed with a 10% aqueous citric acid solution and saturated saline,
Dry over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 522 mg of the title compound as white crystals. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 0.86-0.98 (2
H, m), 1.10-1.20 (2H, m), 3.62
(2H, s), 4.37 (2H, s), 5.17 (2
H, s), 7.30-7.36 (5H, m)

【0052】[実施例13] 5−アセチル−5−アザ
スピロ[2.4]ヘプタン−7−オンオキシム 5−アセチル−アザスピロ[2.4]ヘプタン−7−オ
ン(803mg)をテトラヒドロフラン(8ml)に溶
解した後、塩酸ヒドロキシルアミン(546mg)、ト
リエチルアミン(796mg)を加え、室温下で24時
間攪拌した。溶媒を減圧留去した後、残渣に酢酸エチル
(50ml)、メタノール(5ml)を加え溶解した。
反応液を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
溶媒を減圧留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラ
フィーにて精製し、標題化合物を黄色結晶として570
mg得た。1 H−NMR(270MHz,CDCl3)δ:0.97
−1.01(2H,m),1.18−1.27(2H,
m),2.10(3H,d,J=16Hz),3.69
(2H,d,5Hz),4.42(2H,s)
Example 13 5-acetyl-5-aza
Spiro [2.4] heptane-7-one oxime 5-acetyl-azaspiro [2.4] heptan-7-one (803 mg) was dissolved in tetrahydrofuran (8 ml), and then hydroxylamine hydrochloride (546 mg) and triethylamine (796 mg). Was added and stirred at room temperature for 24 hours. After the solvent was distilled off under reduced pressure, the residue was dissolved by adding ethyl acetate (50 ml) and methanol (5 ml).
The reaction solution was washed with water and dried over anhydrous sodium sulfate.
The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by column chromatography to give the title compound as yellow crystals in a yield of 570.
mg. 1 H-NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ: 0.97
−1.01 (2H, m), 1.18-1.27 (2H,
m), 2.10 (3H, d, J = 16 Hz), 3.69
(2H, d, 5Hz), 4.42 (2H, s)

【0053】[実施例14] ベンジル 7−アミノ−
5−アザスピロ[2.4]ヘプタン−5−カルボキシレ
ート ベンジル 7−(ハイドロキシイミノ)−5−アザスピ
ロ[2.4]ヘプタン−5−カルボキシレート(320
mg)をエタノール(6ml)に溶解した後、ラネーニ
ッケル(1ml)を加え、水素雰囲気下、50℃で18
時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、触媒を吸
引濾去した。溶媒を減圧留去した後、残渣にクロロホル
ム(20ml)を加え溶解した。反応液を飽和重曹水、
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
溶媒を減圧留去し、標題化合物を微赤色油状物として2
40mg得た。1 H−NMR(270MHz,CDCl3)δ:0.47
−0.75(4H,m),2.97−3.13(1H,
m),3.24−3.37(2H,m),3.60−
3.63(1H,m),3.71−3.78(1H,
m),5.14(2H,s),7.28−7.37(5
H,m)
Example 14 Benzyl 7-amino-
5-azaspiro [2.4] heptane-5-carboxyle
Over preparative benzyl 7- (hydro alkoximinoalkyl amino) -5-azaspiro [2.4] heptane-5-carboxylate (320
mg) in ethanol (6 ml), and Raney nickel (1 ml) was added.
Stirred for hours. After cooling the reaction solution to room temperature, the catalyst was filtered off with suction. After evaporating the solvent under reduced pressure, chloroform (20 ml) was added to the residue to dissolve it. The reaction solution was saturated aqueous sodium bicarbonate,
The extract was washed with saturated saline and dried over anhydrous sodium sulfate.
The solvent was distilled off under reduced pressure to give the title compound as a slightly red oily substance.
40 mg were obtained. 1 H-NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ: 0.47
-0.75 (4H, m), 2.97-3.13 (1H,
m), 3.24-3.37 (2H, m), 3.60-
3.63 (1H, m), 3.71-3.78 (1H,
m), 5.14 (2H, s), 7.28-7.37 (5
H, m)

【0054】[実施例15] 1−(7−アミノ−5−
アザスピロ[2.4]ヘプト−5−イル)−1−エタノ
5−アセチル−5−アザスピロ[2.4]ヘプタン−7
−オン オキシム(570mg)をエタノール(8m
l)に溶解した後、ラネーニッケル(0.5ml)を加
え、水素雰囲気下、50℃で10時間攪拌した。反応液
を室温まで冷却した後、触媒を吸引濾去した。溶媒を減
圧留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィーに
て精製し、標題化合物を黄色油状物として480mg得
た。1 H−NMR(CDCl3)δ:0.50−0.80(3
H,m),0.80−1.00(1H,m),2.05
(3H,d,J=10Hz),3.00−3.40(2
H,m),3.40−3.75(2H,m),3.75
−4.00(1H,m)
Example 15 1- (7-amino-5-
Azaspiro [2.4] hept-5-yl) -1-ethano
Down 5-acetyl-5-azaspiro [2.4] heptane -7
-On oxime (570 mg) was added to ethanol (8 m
After dissolving in 1), Raney nickel (0.5 ml) was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 10 hours under a hydrogen atmosphere. After cooling the reaction solution to room temperature, the catalyst was filtered off with suction. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by column chromatography to obtain 480 mg of the title compound as a yellow oil. 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 0.50-0.80 (3
H, m), 0.80-1.00 (1H, m), 2.05
(3H, d, J = 10 Hz), 3.00-3.40 (2
H, m), 3.40-3.75 (2H, m), 3.75
-4.00 (1H, m)

【0055】[実施例16] 5−アザスピロ[2.
4]ヘプタ−7−アミン・2塩酸塩 ベンジル 7−アミノ−5−アザスピロ[2.4]ヘプ
タン−5−カルボキシレート(150mg)をエタノー
ル(5ml)に溶解し、5%Pd−C(20mg)を加
え、水素雰囲気下、室温下で2時間攪拌した後、触媒を
吸引濾去した。濾液に1N塩酸(2ml)を加えた後、
溶媒を減圧留去し、既知である標題化合物を微褐色結晶
として85mg得た。
Example 16 5-azaspiro [2.
4] Hepta-7-amine dihydrochloride benzyl 7-amino-5-azaspiro [2.4] heptane-5-carboxylate (150 mg) was dissolved in ethanol (5 ml) and 5% Pd-C (20 mg) After stirring for 2 hours at room temperature under a hydrogen atmosphere, the catalyst was filtered off with suction. After adding 1N hydrochloric acid (2 ml) to the filtrate,
The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 85 mg of the known title compound as slightly brown crystals.

【0056】[実施例17] 5−アザスピロ[2.
4]ヘプタ−7−アミン・2塩酸塩 1−(7−アミノ−5−アザスピロ[2.4]ヘプト−
5−イル)−1−エタノン(100mg)に6N塩酸
(2ml)を加え、10時間加熱還流した。溶媒を減圧
留去し、既知である標題化合物を微褐色結晶として11
5mg得た。
Example 17 5-azaspiro [2.
4] Hepta-7-amine dihydrochloride 1- (7-amino-5-azaspiro [2.4] hept-
6N hydrochloric acid (2 ml) was added to 5-yl) -1-ethanone (100 mg), and the mixture was heated under reflux for 10 hours. The solvent was distilled off under reduced pressure to give the known title compound as light brown crystals.
5 mg were obtained.

【0057】[参考例1] エチル 1−シアノシクロ
プロパンカルボキシレート シアノ酢酸エチル(340g)をアセトニトリル(1.
7L)に溶解した後、炭酸カリウム(1.04kg)、
1,2−ジブロモエタン(1.130kg)を加え、攪
拌下12時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却した
後、触媒を吸引濾去した。溶媒を減圧留去し得られた赤
橙色油状物を減圧蒸留にて精製し、標題化合物を無色油
状物として383g得た。
Reference Example 1 Ethyl 1-cyanocyclo
Propane carboxylate ethyl cyanoacetate (340 g) in acetonitrile (1.
7L), potassium carbonate (1.04 kg),
1,2-Dibromoethane (1.130 kg) was added, and the mixture was heated under reflux with stirring for 12 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, the catalyst was filtered off with suction. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained red-orange oil was purified by distillation under reduced pressure to obtain 383 g of the title compound as a colorless oil.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07D 207/14 C07D 207/14 207/22 207/22 207/24 207/24 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (72)発明者 秋葉 敏文 東京都江戸川区北葛西1丁目16番13号 第 一製薬株式会社東京研究開発センター内 Fターム(参考) 4C069 AA16 AB09 AB16 BC04 BC12 BC23 4H006 AA01 AA02 AB03 AB84 AC11 AC48 AC52 AC56 BA21 BA70 BE20 BJ20 BT22 BU32 RA16 RB18 4H039 CA65 CA71 CB30 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C07D 207/14 C07D 207/14 207/22 207/22 207/24 207/24 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (72) Inventor Toshifumi Akiha 1-16-13 Kita-Kasai, Edogawa-ku, Tokyo 1st Pharmaceutical Co., Ltd. Tokyo Research and Development Center F-term (reference) 4C069 AA16 AB09 AB16 BC04 BC12 BC23 4H006 AA01 AA02 AB03 AB84 AC11 AC48 AC52 AC56 BA21 BA70 BE20 BJ20 BT22 BU32 RA16 RB18 4H039 CA65 CA71 CB30

Claims (79)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 式(I) 【化1】 (式中、nは、2から5の整数を表し、R1は、水素原
子、炭素数1から6のアルキル基、または置換基を有し
ていてもよいベンジル基を表し、R2は、水素原子また
はアミノ基の保護基を表す。)で表される化合物
1. A compound of the formula (I) (In the formula, n represents an integer of 2 to 5, R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a benzyl group which may have a substituent, and R 2 represents A protecting group for a hydrogen atom or an amino group.)
【請求項2】 式(II) 【化2】 (式中、nは、2から5の整数を表し、R1およびR
3は、各々独立に、水素原子、炭素数1から6のアルキ
ル基、または置換基を有していてもよいベンジル基を表
し、R2は、水素原子またはアミノ基の保護基を表
す。)で表される化合物
2. A compound of the formula (II) (Wherein, n represents an integer of 2 to 5, R 1 and R
3 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a benzyl group which may have a substituent, and R 2 represents a hydrogen atom or an amino-protecting group. Compound represented by)
【請求項3】 R1が炭素数1から6のアルキル基であ
る請求項1または2に記載の化合物
3. The compound according to claim 1, wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
【請求項4】 R1がエチル基である請求項1または2
に記載の化合物
4. The method according to claim 1, wherein R 1 is an ethyl group.
Compounds described in
【請求項5】 R1およびR3が炭素数1から6のアルキ
ル基である請求項2に記載の化合物
5. The compound according to claim 2, wherein R 1 and R 3 are an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
【請求項6】 R1およびR3がエチル基である請求項2
に記載の化合物
6. The method according to claim 2, wherein R 1 and R 3 are ethyl groups.
Compounds described in
【請求項7】 式(III) 【化3】 (式中、nは、2から5の整数を表し、R2は、水素原
子またはアミノ基の保護基を表し、R3は、水素原子、
炭素数1から6のアルキル基、または置換基を有してい
てもよいベンジル基を表す。)で表される化合物
7. A compound of the formula (III) (Wherein, n represents an integer of 2 to 5, R 2 represents a hydrogen atom or a protecting group for an amino group, R 3 represents a hydrogen atom,
Represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a benzyl group which may have a substituent. Compound represented by)
【請求項8】 R3が炭素数1から6のアルキル基であ
る請求項2または7に記載の化合物
8. The compound according to claim 2, wherein R 3 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
【請求項9】 R3がエチル基である請求項2または7
に記載の化合物
9. The method according to claim 2, wherein R 3 is an ethyl group.
Compounds described in
【請求項10】 式(IV) 【化4】 (式中、nは、2から5の整数を表し、R2は、水素原
子またはアミノ基の保護基を表す。)で表される化合物
10. A compound of the formula (IV) (In the formula, n represents an integer of 2 to 5, and R 2 represents a hydrogen atom or a protecting group for an amino group.)
【請求項11】 式(V) 【化5】 (式中、nは、2から5の整数を表し、R2は、水素原
子またはアミノ基の保護基を表す。)で表される化合物
11. Formula (V) (In the formula, n represents an integer of 2 to 5, and R 2 represents a hydrogen atom or a protecting group for an amino group.)
【請求項12】 式(VI−0) 【化6】 (式中、nは、2から5の整数を表し、R20は、アミノ
基の保護基を表す。)で表される化合物
12. A compound represented by the formula (VI-0): (Wherein, n represents an integer of 2 to 5, and R 20 represents an amino-protecting group.)
【請求項13】 アミノ基の保護基が、アルコキシカル
ボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アシル基お
よびアラルキル基からなる群の基から選ばれる保護基で
ある請求項1から12のいずれか一項に記載の化合物
13. The protecting group according to claim 1, wherein the protecting group for the amino group is a protecting group selected from the group consisting of an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, an acyl group and an aralkyl group. Compound of
【請求項14】 アミノ基の保護基が、t−ブトキシカ
ルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、
ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオ
キシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニ
ル基、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、t−
ブチロイル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル
基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、
クロロアセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、ベン
ジル基、α−メチルベンジル基、トリチル基、ベンズヒ
ドリル基、パラニトロベンジル基およびパラメトキシベ
ンジル基からなる群の基から選ばれる保護基である請求
項1から12のいずれか一項に記載の化合物
14. An amino-protecting group is selected from a t-butoxycarbonyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group,
Benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxycarbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group, propanoyl group, t-
Butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group,
A protecting group selected from the group consisting of a chloroacetyl group, a pivaloyl group, a benzoyl group, a benzyl group, an α-methylbenzyl group, a trityl group, a benzhydryl group, a paranitrobenzyl group and a paramethoxybenzyl group. 13. The compound according to any one of 12 above
【請求項15】 アミノ基の保護基が、カルボニル基が
結合部位となる保護基である請求項1から12のいずれ
か一項に記載の化合物
15. The compound according to claim 1, wherein the protecting group for the amino group is a protecting group having a carbonyl group as a binding site.
【請求項16】 カルボニル基が結合部位となる保護基
が、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボ
ニル基およびアシル基からなる群の基から選ばれる保護
基である請求項15に記載の化合物
16. The compound according to claim 15, wherein the protecting group having a carbonyl group as a binding site is a protecting group selected from the group consisting of an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group and an acyl group.
【請求項17】 カルボニル基が結合部位となる保護基
が、t−ブトキシカルボニル基、メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエ
トキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、パ
ラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベ
ンジルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、
プロパノイル基、t−ブチロイル基、メトキシアセチル
基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリ
フルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基
およびベンゾイル基からなる群の基から選ばれる保護基
である請求項15に記載の化合物
17. The protecting group having a carbonyl group as a binding site is t-butoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, paramethoxybenzyloxy. Carbonyl group, paranitrobenzyloxycarbonyl group, formyl group, acetyl group,
A protecting group selected from the group consisting of a propanoyl group, a t-butyroyl group, a methoxyacetyl group, a fluoroacetyl group, a difluoroacetyl group, a trifluoroacetyl group, a chloroacetyl group, a pivaloyl group and a benzoyl group. Described compounds
【請求項18】 R2がベンジルオキシカルボニル基で
ある請求項1から11のいずれか一項に記載の化合物
18. The compound according to claim 1, wherein R 2 is a benzyloxycarbonyl group.
【請求項19】 R2がアセチル基である請求項1から
11のいずれか一項に記載の化合物
19. The compound according to claim 1, wherein R 2 is an acetyl group.
【請求項20】 R2が水素原子である請求項1から1
1のいずれか一項に記載の化合物
20. The method according to claim 1, wherein R 2 is a hydrogen atom.
The compound according to any one of claims 1
【請求項21】 R20がベンジルオキシカルボニル基で
ある請求項12に記載の化合物
21. The compound according to claim 12, wherein R 20 is a benzyloxycarbonyl group.
【請求項22】 R20がアセチル基である請求項12に
記載の化合物
22. The compound according to claim 12, wherein R 20 is an acetyl group.
【請求項23】 nが2である請求項1から22のいず
れか一項に記載の化合物
23. The compound according to any one of claims 1 to 22, wherein n is 2.
【請求項24】 式(VII) 【化7】 で表される化合物を、金属触媒の存在下に水素添加して
式(I−1) 【化8】 で表される化合物を得、この化合物を下記の[方法1]
または[方法2]によって式(II−2) 【化9】 で表される化合物に変換し、この化合物を塩基性条件下
に処理して式(III−1) 【化10】 で表される化合物に変換し、この化合物を酸で処理して
式(IV−1) 【化11】 で表される化合物に変換し、この化合物に、ヒドロキシ
ルアミンまたはその塩を、塩基の存在下に反応させて式
(V−1) 【化12】 で表される化合物に変換し、この化合物を金属触媒の存
在下に水素添加して式(VI−1) 【化13】 で表される化合物に変換し、この化合物の置換基R21
除去することを特徴とする式(VI−2) 【化14】 で表される化合物の製造法 [方法1] 式(I−1)で表される化合物に式(VIII) 【化15】R21−X1 VIII で表される化合物を、塩基性条件下に反応させ、式(I
−2) 【化16】 で表される化合物に変換し、この化合物に式(IX) 【化17】X2−CH2−CO23 IX で表される化合物を反応させる方法 [方法2]式(I−1)で表される化合物に、式(X) 【化18】OHC−CO23 X で表される化合物を反応させて得られる化合物を、金属
触媒存在下に水素添加して式(II−1) 【化19】 で表される化合物に変換し、この化合物に式(VII
I) 【化20】R21−X1 VIII で表される化合物を反応させる方法(上記の各式中、n
は、2から5の整数を表し、R1およびR3は、各々独立
に、水素原子、炭素数1から6のアルキル基、または置
換基を有していてもよいベンジル基を表し、R21は、ア
ルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル
基、アシル基、またはアラルキル基を表し、X1および
2は、各々独立に、求核置換反応における脱離基を表
す。)
24. A compound of the formula (VII) Is hydrogenated in the presence of a metal catalyst to give a compound of formula (I-1) The compound represented by the following formula [Method 1]
Or by the method 2 according to the formula (II-2) The compound is treated under basic conditions to give a compound of the formula (III-1) Which is then treated with an acid to give a compound of formula (IV-1) Which is reacted with hydroxylamine or a salt thereof in the presence of a base to give a compound of the formula (V-1) Which is then hydrogenated in the presence of a metal catalyst to give a compound of formula (VI-1) Wherein the substituent R 21 is removed from the compound represented by the formula (VI-2): In the preparation of a compound represented the Method 1] formula (I-1) Formula (VIII) to the compound represented by the embedded image compounds represented by R 21 -X 1 VIII, under basic conditions And reacting the compound of formula (I
-2) A method of converting a compound represented by the formula (IX) to a compound represented by the formula (IX) X 2 —CH 2 —CO 2 R 3 IX [Method 2] Formula (I-1) A compound obtained by reacting a compound represented by the formula (X) with a compound represented by the formula (OH) —OHC—CO 2 R 3 X is hydrogenated in the presence of a metal catalyst to obtain a compound represented by the formula (II-1) ) Is converted to a compound represented by the formula (VII)
I) A method of reacting a compound represented by R 21 -X 1 VIII (in each of the above formulas, n
Stands for an integer of from 2 to 5, R 1 and R 3 represent each independently a hydrogen atom, an alkyl group or a benzyl group which may have a substituent group, of 1 to 6 carbon atoms, R 21 Represents an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, an acyl group, or an aralkyl group, and X 1 and X 2 each independently represent a leaving group in a nucleophilic substitution reaction. )
【請求項25】 置換基R21において、アルコキシカル
ボニル基が、t−ブトキシカルボニル基、メトキシカル
ボニル基、エトキシカルボニル基、または2,2,2−
トリクロロエトキシカルボニル基であり;アラルキルオ
キシカルボニル基が、ベンジルオキシカルボニル基、パ
ラメトキシベンジルオキシカルボニル基、またはパラニ
トロベンジルオキシカルボニル基であり;アシル基が、
ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、t−ブチロ
イル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジ
フルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロ
アセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基であ
り;アラルキル基が、ベンジル基、α−メチルベンジル
基、トリチル基、ベンズヒドリル基、パラニトロベンジ
ル基、またはパラメトキシベンジル基;である請求項2
4に記載の製造法
25. In the substituent R 21 , the alkoxycarbonyl group is a t-butoxycarbonyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, or a 2,2,2-
An aralkyloxycarbonyl group is a benzyloxycarbonyl group, a paramethoxybenzyloxycarbonyl group, or a paranitrobenzyloxycarbonyl group; an acyl group is
A formyl group, acetyl group, propanoyl group, t-butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl group; , Α-methylbenzyl, trityl, benzhydryl, paranitrobenzyl, or paramethoxybenzyl.
4. The production method according to 4.
【請求項26】 X1がハロゲン原子である請求項24
または25に記載の製造法
26. The method according to claim 24, wherein X 1 is a halogen atom.
Or the production method according to 25.
【請求項27】 X1が塩素原子である請求項24また
は25に記載の製造法
27. The method according to claim 24, wherein X 1 is a chlorine atom.
【請求項28】 X2が臭素原子である請求項24から
27のいずれか一項に記載の製造法
28. The method according to claim 24, wherein X 2 is a bromine atom.
【請求項29】 R3が炭素数1から6のアルキル基で
ある請求項24から28のいずれか一項に記載の製造法
29. The process according to claim 24, wherein R 3 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
【請求項30】 R3がエチル基である請求項24から
28のいずれか一項に記載の製造法
30. The production method according to claim 24, wherein R 3 is an ethyl group.
【請求項31】 R1が炭素数1から6のアルキル基で
ある請求項24から30のいずれか一項に記載の製造法
31. The process according to claim 24, wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
【請求項32】 R1がエチル基である請求項24から
30のいずれか一項に記載の製造法
32. The method according to claim 24, wherein R 1 is an ethyl group.
【請求項33】 式(II)の化合物において、R1およ
びR3がエチル基である請求項24から28のいずれか
一項に記載の製造法
33. The process according to claim 24, wherein R 1 and R 3 in the compound of the formula (II) are ethyl groups.
【請求項34】 R21がベンジルオキシカルボニル基で
ある請求項24から33のいずれか一項に記載の製造法
34. The production method according to any one of claims 24 to 33, wherein R 21 is a benzyloxycarbonyl group.
【請求項35】 R21がアセチル基である請求項24か
ら33のいずれか一項に記載の製造法
35. The method according to claim 24, wherein R 21 is an acetyl group.
【請求項36】 式(VII) 【化21】 (式中、nは、2から5の整数を表し、R1は、水素原
子、炭素数1から6のアルキル基、または置換基を有し
ていてもよいベンジル基を表す。)で表される化合物
を、金属触媒の存在下に水素添加することを特徴とする
式(I−1) 【化22】 (式中、nおよびR1の定義は前記の定義と同一であ
る。)で表される化合物の製造法
36. A compound of formula (VII) (In the formula, n represents an integer of 2 to 5, and R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a benzyl group which may have a substituent.) (I-1) wherein the compound is hydrogenated in the presence of a metal catalyst. (Wherein the definitions of n and R 1 are the same as those described above.)
【請求項37】 金属触媒がラネー系触媒である請求項
36に記載の製造法
37. The method according to claim 36, wherein the metal catalyst is a Raney-based catalyst.
【請求項38】 金属触媒がラネーニッケルである請求
項36に記載の製造法
38. The method according to claim 36, wherein the metal catalyst is Raney nickel.
【請求項39】 式(I−1) 【化23】 (式中、nは2から5の整数を表し、R1は、水素原
子、炭素数1から6のアルキル基、または置換基を有し
ていてもよいベンジル基を表す。)で表される化合物
と、式(VIII) 【化24】R21−X1 VIII (式中、R21は、アルコキシカルボニル基、アラルキル
オキシカルボニル基、アシル基、またはアラルキル基を
表し、X1は、求核置換反応における脱離基を表す。)で
表される化合物とを、塩基の存在下に反応させることを
特徴とする式(I−2) 【化25】 (式中、n、R1およびR21の定義は前記の定義と同一
である。)で表される化合物の製造法
39. The compound of formula (I-1) (In the formula, n represents an integer of 2 to 5, and R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a benzyl group which may have a substituent.) with a compound of formula (VIII) embedded image R 21 -X 1 VIII (wherein, R 21 represents an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, an acyl group or an aralkyl group,, X 1 is a nucleophilic substitution A compound represented by the formula (I-2): wherein a compound represented by the formula (I-2) is reacted in the presence of a base. (Wherein the definitions of n, R 1 and R 21 are the same as the above-mentioned definitions)
【請求項40】 置換基R21において、アルコキシカル
ボニル基が、t−ブトキシカルボニル基、メトキシカル
ボニル基、エトキシカルボニル基、または2,2,2−
トリクロロエトキシカルボニル基であり;アラルキルオ
キシカルボニル基が、ベンジルオキシカルボニル基、パ
ラメトキシベンジルオキシカルボニル基、またはパラニ
トロベンジルオキシカルボニル基であり;アシル基が、
ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、t−ブチロ
イル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジ
フルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロ
アセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基であ
り;アラルキル基が、ベンジル基、α−メチルベンジル
基、トリチル基、ベンズヒドリル基、パラニトロベンジ
ル基、またはパラメトキシベンジル基;である請求項3
9に記載の製造法
40. In the substituent R 21 , the alkoxycarbonyl group is a t-butoxycarbonyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, or a 2,2,2-
An aralkyloxycarbonyl group is a benzyloxycarbonyl group, a paramethoxybenzyloxycarbonyl group, or a paranitrobenzyloxycarbonyl group; an acyl group is
A formyl group, acetyl group, propanoyl group, t-butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl group; 4. An α-methylbenzyl group, a trityl group, a benzhydryl group, a paranitrobenzyl group, or a paramethoxybenzyl group.
9. The production method according to 9
【請求項41】 R21がベンジルオキシカルボニル基で
ある請求項39に記載の製造法
41. The method according to claim 39, wherein R 21 is a benzyloxycarbonyl group.
【請求項42】 X1がハロゲン原子である請求項39
から41のいずれか一項に記載の製造法
42. The method according to claim 39, wherein X 1 is a halogen atom.
42. The production method according to any one of
【請求項43】 X1が塩素原子である請求項39から
41のいずれか一項に記載の製造法
43. The production method according to claim 39, wherein X 1 is a chlorine atom.
【請求項44】 式(I) 【化26】 (式中、nは、2から5の整数を表し、R1は、水素原
子、炭素数1から6のアルキル基、または置換基を有し
ていてもよいベンジル基を表し、R2は水素原子または
アミノ基の保護基を表す。)で表される化合物と、式
(IX) 【化27】X2−CH2−CO23 IX (式中、R3は、水素原子、炭素数1から6のアルキル
基、または置換基を有していてもよいベンジル基を表
し、X2は、求核置換反応における脱離基を表す。)で
表される化合物とを、塩基の存在下に反応させることを
特徴とする式(II) 【化28】 (式中、n、R1、R2およびR3の定義は前記の定義と
同一である。)で表される化合物の製造法
44. A compound of the formula (I) (In the formula, n represents an integer of 2 to 5, R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a benzyl group which may have a substituent, and R 2 represents hydrogen. A protecting group for an atom or an amino group) and a compound represented by the formula
(IX) embedded image X 2 —CH 2 —CO 2 R 3 IX (wherein R 3 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a benzyl group which may have a substituent) Wherein X 2 represents a leaving group in a nucleophilic substitution reaction) with a compound represented by the formula (II): (Wherein, the definitions of n, R 1 , R 2 and R 3 are the same as those described above).
【請求項45】 X2が臭素原子である請求項44に記
載の製造法
45. The method according to claim 44, wherein X 2 is a bromine atom.
【請求項46】 式(I−1) 【化29】 (式中、nは、2から5の整数を表し、R1は、水素原
子、炭素数1から6のアルキル基、または置換基を有し
ていてもよいベンジル基を表す。)で表される化合物
と、式(X) 【化30】OHC−CO23 X (式中、R3は、水素原子、炭素数1から6のアルキル
基、または置換基を有していてもよいベンジル基を表
す。)で表される化合物とを反応させて得られる化合物
を、金属触媒存在下に水素添加することを特徴とする式
(II−1) 【化31】 (式中、n、R1およびR3の定義は前記の定義と同一で
ある。)で表される化合物の製造法
46. A compound of the formula (I-1) (In the formula, n represents an integer of 2 to 5, and R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a benzyl group which may have a substituent.) And a compound represented by the formula (X): OHC-CO 2 R 3 X (wherein R 3 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or benzyl which may have a substituent) Wherein the compound obtained by reacting a compound represented by the formula: is hydrogenated in the presence of a metal catalyst.
(II-1) (Wherein, the definitions of n, R 1 and R 3 are the same as those described above.)
【請求項47】 金属触媒がラネー系触媒である請求項
46に記載の製造法
47. The method according to claim 46, wherein the metal catalyst is a Raney-based catalyst.
【請求項48】 金属触媒がラネーニッケルである請求
項46に記載の製造法
48. The method according to claim 46, wherein the metal catalyst is Raney nickel.
【請求項49】 式(II−1) 【化32】 (式中、nは、2から5の整数を表し、R1およびR
3は、各々独立に、水素原子、炭素数1から6のアルキ
ル基、または置換基を有していてもよいベンジル基を表
す。)で表される化合物と、式(VIII) 【化33】R21−X1 VIII (式中、R21は、アルコキシカルボニル基、アラルキル
オキシカルボニル基、アシル基、またはアラルキル基を
表し、X1は、求核置換反応における脱離基を表す。)で
表される化合物とを、塩基の存在下に反応させることを
特徴とする式(II−2) 【化34】 (式中、n、R1、R3およびR21の定義は前記の定義と
同一である。)で表される化合物の製造法
49. A compound of the formula (II-1) (Wherein, n represents an integer of 2 to 5, R 1 and R
3 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a benzyl group which may have a substituent. A compound represented by), wherein (VIII) embedded image R 21 -X 1 VIII (wherein, R 21 represents an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, an acyl group or an aralkyl group,, X 1 Represents a leaving group in a nucleophilic substitution reaction) with a compound represented by the formula (II-2): (Wherein, the definitions of n, R 1 , R 3 and R 21 are the same as those described above).
【請求項50】 置換基R21において、アルコキシカル
ボニル基が、t−ブトキシカルボニル基、メトキシカル
ボニル基、エトキシカルボニル基、または2,2,2−
トリクロロエトキシカルボニル基であり;アラルキルオ
キシカルボニル基が、ベンジルオキシカルボニル基、パ
ラメトキシベンジルオキシカルボニル基、またはパラニ
トロベンジルオキシカルボニル基であり;アシル基が、
ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、t−ブチロ
イル基、メトキシアセチル基、フルオロアセチル基、ジ
フルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロ
アセチル基、ピバロイル基、またはベンゾイル基であ
り;アラルキル基が、ベンジル基、α−メチルベンジル
基、トリチル基、ベンズヒドリル基、パラニトロベンジ
ル基、またはパラメトキシベンジル基;である請求項4
9に記載の製造法
50. In the substituent R 21 , the alkoxycarbonyl group is a t-butoxycarbonyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, or a 2,2,2-
An aralkyloxycarbonyl group is a benzyloxycarbonyl group, a paramethoxybenzyloxycarbonyl group, or a paranitrobenzyloxycarbonyl group; an acyl group is
A formyl group, acetyl group, propanoyl group, t-butyroyl group, methoxyacetyl group, fluoroacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, chloroacetyl group, pivaloyl group, or benzoyl group; 5. An α-methylbenzyl group, a trityl group, a benzhydryl group, a paranitrobenzyl group, or a paramethoxybenzyl group.
9. The production method according to 9
【請求項51】 置換基R21が、カルボニル基が結合部
位となる基である請求項50に記載の製造法
51. The method according to claim 50, wherein the substituent R 21 is a group having a carbonyl group as a binding site.
【請求項52】 カルボニル基が結合部位となる基が、
アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル
基、またはアシル基である請求項51に記載の化合物
52. A group in which a carbonyl group is a binding site,
The compound according to claim 51, which is an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, or an acyl group.
【請求項53】 R21がアラルキルオキシカルボニル基
である請求項49に記載の化合物
53. The compound according to claim 49, wherein R 21 is an aralkyloxycarbonyl group.
【請求項54】 R21がベンジルオキシカルボニル基で
ある請求項49に記載の製造法
54. The method according to claim 49, wherein R 21 is a benzyloxycarbonyl group.
【請求項55】 X1が塩素原子である請求項49から
54のいずれか一項に記載の製造法
55. The method according to claim 49, wherein X 1 is a chlorine atom.
【請求項56】 式(II) 【化35】 (式中、nは、2から5の整数を表し、R1およびR
3は、各々独立に、水素原子、炭素数1から6のアルキ
ル基、または置換基を有していてもよいベンジル基を表
し、R2は、水素原子またはアミノ基の保護基を表
す。)で表される化合物を、塩基の存在下に処理するこ
とを特徴とする式(III) 【化36】 (式中、n、R2およびR3の定義は前記の定義と同一で
ある。)で表される化合物の製造法
56. A compound of the formula (II) (Wherein, n represents an integer of 2 to 5, R 1 and R
3 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a benzyl group which may have a substituent, and R 2 represents a hydrogen atom or an amino-protecting group. Wherein the compound of formula (III) is treated in the presence of a base. (Wherein, the definitions of n, R 2 and R 3 are the same as those described above).
【請求項57】 R3が炭素数1から6のアルキル基で
ある請求項44から56のいずれか一項に記載の製造法
57. The process according to claim 44, wherein R 3 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
【請求項58】 R3がエチル基である請求項44から
56のいずれか一項に記載の製造法
58. The method according to claim 44, wherein R 3 is an ethyl group.
【請求項59】 R1が炭素数1から6のアルキル基で
ある請求項36から58のいずれか一項に記載の製造法
59. The process according to any one of claims 36 to 58, wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
【請求項60】 R1がエチル基である請求項36から
58のいずれか一項に記載の製造法
60. The method according to claim 36, wherein R 1 is an ethyl group.
【請求項61】 式(II)の化合物において、R1およ
びR3がエチル基である請求項56に記載の製造法
61. The process according to claim 56, wherein in the compound of the formula (II), R 1 and R 3 are ethyl groups.
【請求項62】 式(III) 【化37】 (式中、nは、2から5の整数を表し、R2は、水素原
子水素原子またはアミノ基の保護基を表し、R3は、水
素原子、炭素数1から6のアルキル基、または置換基を
有していてもよいベンジル基を表す。)で表される化合
物を、酸の存在下に処理することを特徴とする式(I
V) 【化38】 (式中、nおよびR2の定義は前記の定義と同一であ
る。)で表される化合物の製造法
62. A compound of the formula (III) (In the formula, n represents an integer of 2 to 5, R 2 represents a hydrogen atom or a protecting group for an amino group, and R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a substituted group. A benzyl group which may have a group) is treated in the presence of an acid.
V) embedded image (Wherein, the definitions of n and R 2 are the same as those described above.)
【請求項63】 R3がエチル基である請求項62に記
載の製造法
63. The method according to claim 62, wherein R 3 is an ethyl group.
【請求項64】 式(IV) 【化39】 (式中、nは、2から5の整数を表し、R2は、水素原
子またはアミノ基の保護基を表す。)で表される化合物
と、ヒドロキシルアミンまたはその塩とを、塩基の存在
下に反応させることを特徴とする式(V) 【化40】 (式中、nおよびR2の定義は前記の定義と同一であ
る。)で表される化合物の製造法
64. The formula (IV) (Wherein, n represents an integer of 2 to 5, and R 2 represents a hydrogen atom or a protecting group for an amino group), and hydroxylamine or a salt thereof in the presence of a base. Formula (V) characterized by reacting (Wherein, the definitions of n and R 2 are the same as those described above.)
【請求項65】 式(V) 【化41】 (式中、nは、2から5の整数を表し、R2は、水素原
子またはアミノ基の保護基を表す。)で表される化合物
を、金属触媒存在下に水素添加することを特徴とする式
(VI) 【化42】 (式中、nおよびR2は前記と同じ。)で表される化合
物の製造法
65. Formula (V) (Wherein, n represents an integer of 2 to 5, and R 2 represents a hydrogen atom or a protecting group for an amino group). The compound represented by the formula (1) is hydrogenated in the presence of a metal catalyst. Expression
(VI) (Wherein n and R 2 are the same as described above)
【請求項66】 金属触媒がラネー系触媒である請求項
65に記載の製造法
66. The method according to claim 65, wherein the metal catalyst is a Raney-based catalyst.
【請求項67】 金属触媒がラネーニッケルである請求
項65に記載の製造法
67. The method according to claim 65, wherein the metal catalyst is Raney nickel.
【請求項68】 R2が、アルコキシカルボニル基、ア
ラルキルオキシカルボニル基、アシル基、またはアラル
キル基である請求項44、45および56から67のい
ずれか一項に記載の製造法
68. The method according to claim 44, wherein R 2 is an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, an acyl group, or an aralkyl group.
【請求項69】 アルコキシカルボニル基が、t−ブト
キシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、または2,2,2−トリクロロエトキシカ
ルボニル基であり;アラルキルオキシカルボニル基が、
ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオ
キシカルボニル基、またはパラニトロベンジルオキシカ
ルボニル基であり;アシル基が、ホルミル基、アセチル
基、プロパノイル基、t−ブチロイル基、メトキシアセ
チル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、
トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイ
ル基、またはベンゾイル基であり;アラルキル基が、ベ
ンジル基、α−メチルベンジル基、トリチル基、ベンズ
ヒドリル基、パラニトロベンジル基、またはパラメトキ
シベンジル基;である請求項68に記載の製造法
69. An alkoxycarbonyl group is a t-butoxycarbonyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, or a 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group; an aralkyloxycarbonyl group is
A benzyloxycarbonyl group, a paramethoxybenzyloxycarbonyl group, or a paranitrobenzyloxycarbonyl group; the acyl group is a formyl group, an acetyl group, a propanoyl group, a t-butyroyl group, a methoxyacetyl group, a fluoroacetyl group, a difluoroacetyl group; Group,
A trifluoroacetyl group, a chloroacetyl group, a pivaloyl group, or a benzoyl group; the aralkyl group is a benzyl group, an α-methylbenzyl group, a trityl group, a benzhydryl group, a paranitrobenzyl group, or a paramethoxybenzyl group; A method according to claim 68.
【請求項70】 R2が、カルボニル基を介して結合す
る基である請求項44、45および56から67のいず
れか一項に記載の製造法
70. The method according to claim 44, wherein R 2 is a group bonded via a carbonyl group.
【請求項71】 R2がベンジルオキシカルボニル基で
ある請求項44、45および56から67のいずれか一
項に記載の製造法
71. The process according to any one of claims 44, 45 and 56 to 67, wherein R 2 is a benzyloxycarbonyl group.
【請求項72】 R2がアセチル基である請求項44、
45および56から67のいずれか一項に記載の製造法
72. The method of claim 44, wherein R 2 is an acetyl group.
45. The process according to any one of 45 to 56 to 67.
【請求項73】 式(VI−1) 【化43】 (式中、nは、2から5の整数を表し、R21は、アルコ
キシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、ま
たはアシル基を表す。)で表される化合物を、酸存在下
に加水分解することを特徴とする式(VI−2) 【化44】 (式中、nは2から5の整数を表す。)で表される化合
物の製造法
73. The formula (VI-1) (Wherein, n represents an integer of 2 to 5, and R 21 represents an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, or an acyl group.) Formula (VI-2) characterized by the following: (Wherein, n represents an integer of 2 to 5).
【請求項74】 式(VI−1)の化合物において、R21
がアセチル基である請求項73に記載の製造法
In the compounds of claim 74 of formula (VI-1), R 21
Is a acetyl group.
【請求項75】 式(VI−3) 【化45】 (式中、nは、2から5の整数を表し、R23は、アラル
キルオキシカルボニル基またはアラルキル基を表す。)
で表される化合物を金属触媒存在下に水素化分解するこ
とを特徴とする式(VI−2) 【化46】 (式中、nは2から5の整数を表す。)で表される化合
物の製造法
75. A compound of the formula (VI-3) (In the formula, n represents an integer of 2 to 5, and R 23 represents an aralkyloxycarbonyl group or an aralkyl group.)
Wherein the compound represented by the formula is hydrogenolyzed in the presence of a metal catalyst. (Wherein, n represents an integer of 2 to 5).
【請求項76】 金属触媒がパラジウム系触媒である請
求項75に記載の製造法
76. The production method according to claim 75, wherein the metal catalyst is a palladium-based catalyst.
【請求項77】 金属触媒がパラジウム炭素である請求
項75に記載の製造法
77. The method according to claim 75, wherein the metal catalyst is palladium carbon.
【請求項78】 式(VI−3)の化合物において、R23
がベンジルオキシカルボニル基である請求項75から7
7のいずれか一項に記載の製造法
In the compounds of claim 78 of formula (VI-3), R 23
Is a benzyloxycarbonyl group.
7. The production method according to any one of 7 above
【請求項79】 nが2である請求項24から78のい
ずれか一項に記載の製造法
79. The method according to any one of claims 24 to 78, wherein n is 2.
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