JP2002043335A - Bonder and bonding method - Google Patents

Bonder and bonding method

Info

Publication number
JP2002043335A
JP2002043335A JP2000220597A JP2000220597A JP2002043335A JP 2002043335 A JP2002043335 A JP 2002043335A JP 2000220597 A JP2000220597 A JP 2000220597A JP 2000220597 A JP2000220597 A JP 2000220597A JP 2002043335 A JP2002043335 A JP 2002043335A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
spindle
semiconductor chip
bonding
bonding head
predetermined
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000220597A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koji Shika
浩二 鹿
Yasushi Tsuchiya
泰 土屋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Engineering Co Ltd
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Engineering Co Ltd
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Engineering Co Ltd, Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Engineering Co Ltd
Priority to JP2000220597A priority Critical patent/JP2002043335A/en
Publication of JP2002043335A publication Critical patent/JP2002043335A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Die Bonding (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a bonder in which the load at the time of picking up or placing a semiconductor chip, and the distance between a substrate and a semiconductor chip at the time of carrying the chip can be controlled accurately regardless of variation in the thickness due to thermal expansion of a spindle or variation of the chips. SOLUTION: The bonder comprises a bonding head 11 including a spindle 13 connected with a suction collet 15 and a spring 12 for supporting the spindle fixed movably in the vertical direction, a sensor 21 for detecting movement of the spindle in the upper end direction, a drive section 17 for moving the bonding head 11 in the three-dimensional direction, and a section 18 for controlling the drive section 17. The control section 18 controls the drive section based on the movement of the spindle 13 detected by the sensor 21 at the time of placing a semiconductor chip 14 to adjust the height of the bonding head 11 such that a specified movement (a) is attained.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置に
おいてボンディングヘッドを用いて半導体素子のボンデ
ィングを行なう製造技術に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a manufacturing technique for bonding semiconductor elements using a bonding head in a semiconductor manufacturing apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】図5に従来のボンディング装置の構成の
一例を示す。ボンディング装置は、ボンディングヘッド
11'と、ボンディングヘッドを3次元的に駆動させる
ボンディングヘッドX・Y・Z軸駆動部(以下「駆動
部」という。)17と、その駆動部17を制御する制御
部18'と、制御部18'での制御のための必要なデータ
を格納するデータ記憶部19とを備える。また、ボンデ
ィング装置のボンディングヘッド11'には上下方向
(Z軸方向)に移動するスピンドル13と、スピンドル
13を支持するバネ12'とを備える。スピンドルの先
端には、半導体チップ14を吸着する吸着コレット15
が取り付けられている。
2. Description of the Related Art FIG. 5 shows an example of the configuration of a conventional bonding apparatus. The bonding apparatus includes a bonding head 11 ′, a bonding head X, Y, and Z axis driving unit (hereinafter referred to as a “driving unit”) 17 for driving the bonding head three-dimensionally, and a control unit for controlling the driving unit 17. 18 'and a data storage unit 19 for storing data required for control by the control unit 18'. The bonding head 11 'of the bonding apparatus includes a spindle 13 that moves in the vertical direction (Z-axis direction) and a spring 12' that supports the spindle 13. At the tip of the spindle, a suction collet 15 for sucking the semiconductor chip 14 is provided.
Is attached.

【0003】上記のような構成を有する従来のボンディ
ング装置では、第1の所定位置にあるステージ16上の
半導体チップ14を吸着コレット15を用いてピックア
ップし、その位置から第2の所定位置まで搬送し、その
第2の所定位置にあるサブストレート上にプレースする
(すなわち、サブストレートに接合する)。
In the conventional bonding apparatus having the above-described configuration, the semiconductor chip 14 on the stage 16 at the first predetermined position is picked up using the suction collet 15 and transported from that position to the second predetermined position. Then, it is placed on the substrate at the second predetermined position (that is, bonded to the substrate).

【0004】図6は、従来のボンディング装置による、
ステージ16上の半導体チップ14をコレット15で吸
着し、上昇させる動作であるピックアップ動作を説明し
た図である。このピックアップ動作では、制御部18'
が、データ記憶部19に予め格納されているX、Y、Z
軸の位置情報(座標)を読み出し、駆動部17へその位
置情報に基いて指示を出す。駆動部17はこれを受け、
指示された位置へボンディングヘッド11'を移動さ
せ、半導体チップ14をピックアップする。
FIG. 6 shows a conventional bonding apparatus.
FIG. 4 is a diagram illustrating a pickup operation, which is an operation of adsorbing and raising a semiconductor chip 14 on a stage 16 by a collet 15. In this pickup operation, the control unit 18 '
Are X, Y, and Z stored in the data storage unit 19 in advance.
The position information (coordinates) of the axis is read, and an instruction is issued to the drive unit 17 based on the position information. The drive unit 17 receives this,
The bonding head 11 'is moved to the designated position, and the semiconductor chip 14 is picked up.

【0005】このときのデータ記憶部19に予め格納さ
れた位置情報は、ヘッド半導体チップ14の厚みが所定
の値で、かつ、ボンディングヘッド11'のスピンドル
13が熱膨張していない場合を基準として設定されてい
る。半導体チップ14の厚みが所定の値であり、また、
ボンディングヘッド11'のスピンドル13が熱膨張し
ておらず所定の長さの場合は、図6の(a)に示すよう
に、データ記憶部19に予め格納されている位置情報に
基いて、ボンディングヘッド11'の高さは所定値hに
保持される。
At this time, the position information stored in advance in the data storage unit 19 is based on the case where the thickness of the head semiconductor chip 14 is a predetermined value and the spindle 13 of the bonding head 11 'is not thermally expanded. Is set. The thickness of the semiconductor chip 14 is a predetermined value;
When the spindle 13 of the bonding head 11 'is not thermally expanded and has a predetermined length, the bonding is performed based on the position information stored in the data storage unit 19 in advance, as shown in FIG. The height of the head 11 'is maintained at a predetermined value h.

【0006】したがって、半導体チップ4の厚みが製造
時のバラツキにより標準値より大きくなっている場合や
ボンディングヘッドのスピンドル13が熱膨張した場合
でも、スピンドル13の熱膨張がない場合と同様に、ボ
ンディングヘッド11'の高さが所定値hに保持される
ように位置制御されるため、図6の(b)に示すよう
に、半導体チップ14の厚みの変化分又はスピンドル1
3の熱膨張分だけ、スピンドル13の根元部分に取り付
けられたバネ12'が収縮する。このため、半導体チッ
プ14に標準の荷重より大きな荷重がかかることにな
る。このような荷重を変更するためには、バネ12'を
異なるバネ定数を持つバネに変更する等の作業が必要で
あった。
Therefore, even when the thickness of the semiconductor chip 4 is larger than the standard value due to manufacturing variations, or when the spindle 13 of the bonding head is thermally expanded, the bonding is performed in the same manner as when the spindle 13 is not thermally expanded. Since the position of the head 11 'is controlled so that the height of the head 11' is maintained at the predetermined value h, as shown in FIG.
The spring 12 'attached to the root portion of the spindle 13 contracts by the amount of thermal expansion of 3. Therefore, a load greater than the standard load is applied to the semiconductor chip 14. In order to change such a load, it is necessary to change the spring 12 'to a spring having a different spring constant.

【0007】図7は、従来のボンディング装置による、
サブストレート31上に半導体チップ14を移動する際
に、サブストレート31とコレット15に吸着された半
導体チップ14との間の距離(クリアランス)を説明し
た図である。このとき、制御部18'は、データ記憶部
19に事前に格納されたX、Y、Z軸の位置情報を読み
出し、その位置情報に基き駆動部17へ指示する。駆動
部17はこれを受けて、指示された位置へボンディング
ヘッド11'を移動させ、その位置を保持する。
FIG. 7 shows a conventional bonding apparatus.
FIG. 4 is a diagram illustrating a distance (clearance) between the substrate 31 and the semiconductor chip 14 adsorbed by the collet 15 when the semiconductor chip 14 is moved onto the substrate 31. At this time, the control unit 18 'reads the X, Y, and Z axis position information stored in advance in the data storage unit 19, and instructs the drive unit 17 based on the position information. In response to this, the drive unit 17 moves the bonding head 11 ′ to the designated position and holds the position.

【0008】このときのデータ記憶部19に予め格納さ
れた位置情報は、ヘッド半導体チップ14の厚みが標準
値で、かつ、ボンディングヘッド11'のスピンドル1
3が熱膨張していない場合を基準として設定されてお
り、図7に示す例では、データ記憶部19に事前に格納
された位置情報に基き、クリアランスを所定値fに保持
するために、ボンディングヘッド11'の高さは所定値
h'に保持される。
At this time, the position information stored in advance in the data storage unit 19 is such that the thickness of the head semiconductor chip 14 is a standard value and the spindle 1 of the bonding head 11 ′
7 is set on the basis of the case where thermal expansion is not performed. In the example shown in FIG. 7, bonding is performed to maintain the clearance at a predetermined value f based on the position information stored in advance in the data storage unit 19. The height of the head 11 'is maintained at a predetermined value h'.

【0009】したがって、半導体チップ14の厚みがバ
ラツキにより変化したり、ボンディングヘッド11'の
スピンドル13が熱膨張したりした場合でも、ボンディ
ングヘッド11'の高さは所定値h'に保持されるように
制御されるため、実際のクリアランスは、半導体チップ
14の厚みの変化分又はスピンドル13の熱膨張分だけ
小さくなってしまうという問題があった。このため、ク
リアランスを一定に保持することが困難であった。すな
わち、安定したボンディング高さを実現できなかった。
Therefore, even when the thickness of the semiconductor chip 14 changes due to variations or the spindle 13 of the bonding head 11 'thermally expands, the height of the bonding head 11' is maintained at the predetermined value h '. Therefore, there is a problem that the actual clearance is reduced by an amount corresponding to a change in the thickness of the semiconductor chip 14 or an amount corresponding to the thermal expansion of the spindle 13. For this reason, it has been difficult to keep the clearance constant. That is, a stable bonding height could not be realized.

【0010】図8は、従来のボンディング装置による、
サブストレート31上に、コレット15に吸着された半
導体チップ14を接合するプレース動作を説明した図で
ある。この動作では、制御部18'が、データ記憶部1
9に事前に格納されたX、Y、Z軸の位置情報を読み出
し、駆動部17へその位置情報に基き指示を出す。駆動
部17はこれを受けて、指示された位置へボンディング
ヘッド11'を移動させ、その位置に半導体チップ14
をプレースする。すなわち、サブストレート11へ接合
する。
FIG. 8 shows a conventional bonding apparatus.
FIG. 6 is a diagram illustrating a place operation of joining the semiconductor chip 14 adsorbed to the collet 15 on the substrate 31. In this operation, the control unit 18 'operates the data storage unit 1
The position information of the X, Y, and Z axes stored in advance in step 9 is read out, and an instruction is issued to the drive unit 17 based on the position information. In response to this, the driving unit 17 moves the bonding head 11 ′ to the designated position, and moves the semiconductor chip 14
Place. That is, it is joined to the substrate 11.

【0011】このときのデータ記憶部19に予め格納さ
れた位置情報は、ヘッド半導体チップ14の厚みが所定
の値で、かつ、ボンディングヘッド11'のスピンドル
13が熱膨張していない場合を基準として設定されてお
り、図8に示す例では、ボンディングヘッド11'の高
さが所定値h"になるようにプレースされる。
The position information stored in advance in the data storage unit 19 at this time is based on the case where the thickness of the head semiconductor chip 14 is a predetermined value and the spindle 13 of the bonding head 11 'is not thermally expanded. In the example shown in FIG. 8, the bonding head 11 ′ is placed so that the height of the bonding head 11 ′ becomes a predetermined value h ″.

【0012】したがって、半導体チップ14の厚みにバ
ラツキによる変化があったり、ボンディングヘッド1
1'のスピンドル13が熱膨張したりしていた場合で
も、スピンドル13の熱膨張等がない場合と同様に、ボ
ンディングヘッド11'の高さは所定値h"になるように
制御される。このため、半導体チップ14の厚みの変化
分又はスピンドル13の熱膨張分だけバネ12'が収縮
し、これにより一定の安定した荷重で圧接することが困
難であった。
Therefore, the thickness of the semiconductor chip 14 may vary due to variations, or the bonding head 1
Even when the spindle 13 of 1 'is thermally expanded, the height of the bonding head 11' is controlled to the predetermined value h "as in the case where there is no thermal expansion or the like of the spindle 13. For this reason, the spring 12 'contracts by an amount corresponding to a change in the thickness of the semiconductor chip 14 or an amount corresponding to the thermal expansion of the spindle 13, which makes it difficult to press-contact with a constant and stable load.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来の
ボンディング装置では、ボンディングヘッドのスピンド
ルの高さ方向の熱膨張、半導体チップの厚み、サブスト
レートの厚み等の製造時のバラツキがあると、ピックア
ップ時やプレース時の荷重や、サブストレートと半導体
チップ間のクリアランス等を正確に制御することができ
ないという問題がある。
As described above, in the conventional bonding apparatus, there are variations in manufacturing such as the thermal expansion in the height direction of the spindle of the bonding head, the thickness of the semiconductor chip, and the thickness of the substrate. In addition, there is a problem that a load at the time of pickup or place, a clearance between the substrate and the semiconductor chip, and the like cannot be accurately controlled.

【0014】本発明は上記課題を解決すべくなされたも
のであり、その目的とするところは、スピンドルの熱膨
張や製造時のバラツキによる半導体チップの厚みの変動
に依存せず、半導体チップのピックアップ時やプレース
時の荷重や、サブストレートと半導体チップ間のクリア
ランス等を正確に制御することができるボンディング装
置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor chip pickup that does not depend on variations in semiconductor chip thickness due to thermal expansion of a spindle or manufacturing variations. It is an object of the present invention to provide a bonding apparatus capable of accurately controlling a load at the time or place, a clearance between a substrate and a semiconductor chip, and the like.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明に係る第1のボン
ディング装置は、第1の所定位置に配置された半導体チ
ップをピックアップし、第2の所定位置へ搬送し、第2
の所定位置にあるサブストレート上に半導体チップをプ
レースするボンディング装置である。第1のボンディン
グ装置は、吸着コレットが接続されたスピンドルとその
スピンドルを支持するバネとを含み、スピンドルが鉛直
方向に移動可能に取り付けられたボンディングヘッド本
体と、スピンドルがバネの反発力に抗して上端方向へ移
動したときの移動量を検出するセンサと、ボンディング
ヘッド本体を3次元方向に移動させる駆動手段と、その
駆動手段の動作を制御する制御手段とを備える。制御手
段は、半導体チップをサブストレートにプレースする際
に、センサにより検出されたスピンドルの移動量に基
き、スピンドルの移動量が所定量になるようにボンディ
ングヘッド本体の高さを調整するために駆動手段を制御
する。
A first bonding apparatus according to the present invention picks up a semiconductor chip disposed at a first predetermined position, transports the semiconductor chip to a second predetermined position, and transfers the semiconductor chip to a second predetermined position.
Is a bonding apparatus for placing a semiconductor chip on a substrate at a predetermined position. The first bonding apparatus includes a spindle to which a suction collet is connected and a spring supporting the spindle, a bonding head body having the spindle movably mounted in a vertical direction, and a spindle resisting a repulsive force of the spring. A sensor for detecting an amount of movement when the bonding head moves toward the upper end, a driving unit for moving the bonding head body in a three-dimensional direction, and a control unit for controlling the operation of the driving unit. When the semiconductor chip is placed on the substrate, the control means drives the bonding head body to adjust the height of the bonding head body so that the spindle movement amount becomes a predetermined amount based on the movement amount of the spindle detected by the sensor. Control means.

【0016】本発明に係る第2のボンディング装置は、
第1の所定位置に配置された半導体チップをピックアッ
プし、第2の所定位置へ搬送し、第2の所定位置にある
サブストレート上に半導体チップをプレースするボンデ
ィング装置である。第2のボンディング装置は、吸着コ
レットが接続されたスピンドルと該スピンドルを支持す
るバネとを含み、スピンドルが鉛直方向に移動可能に取
り付けられたボンディングヘッド本体と、スピンドルが
バネの反発力に抗して上端方向へ移動したときの移動量
を検出するセンサと、ボンディングヘッド本体を3次元
方向に移動させる駆動手段と、駆動手段の動作を制御す
る制御手段とを備える。制御手段は、半導体チップをピ
ックアップする際に、センサにより検出されたスピンド
ルの移動量に基き、スピンドルの移動量が所定量になる
ようにボンディングヘッド本体の高さを調整するために
前記駆動手段を制御する。
A second bonding apparatus according to the present invention comprises:
A bonding apparatus picks up a semiconductor chip arranged at a first predetermined position, conveys the semiconductor chip to a second predetermined position, and places the semiconductor chip on a substrate at the second predetermined position. The second bonding apparatus includes a spindle to which a suction collet is connected and a spring supporting the spindle. The bonding head main body has a spindle movably mounted in a vertical direction, and the spindle resists a repulsive force of the spring. A sensor for detecting an amount of movement when the bonding head moves toward the upper end, a driving unit for moving the bonding head body in a three-dimensional direction, and a control unit for controlling the operation of the driving unit. When picking up the semiconductor chip, the control means controls the driving means based on the movement amount of the spindle detected by the sensor to adjust the height of the bonding head main body so that the movement amount of the spindle becomes a predetermined amount. Control.

【0017】上記の第1又は第2のボンディング装置に
おいて、センサをボンディングヘッド本体に固定しても
よい。
In the above first or second bonding apparatus, the sensor may be fixed to the bonding head body.

【0018】本発明に係る第3のボンディング装置は、
第1の所定位置に配置された半導体チップをピックアッ
プし、第2の所定位置へ搬送し、第2の所定位置にある
サブストレート上に半導体チップをプレースするボンデ
ィング装置である。第3のボンディング装置は、吸着コ
レットが接続されたスピンドルとスピンドルを支持する
バネとを含み、スピンドルが鉛直方向に移動可能に取り
付けられたボンディングヘッド本体と、スピンドルがバ
ネの反発力に抗して上端方向へ移動したときの移動量を
検出するセンサと、ボンディングヘッド本体を3次元方
向に移動させる駆動手段と、駆動手段の動作を制御する
制御手段とを備える。制御手段は、半導体チップのピッ
クアップ動作時において、センサにより検出されたスピ
ンドルの移動量と、所定の基準移動量との差分を求め、
その差分に基き、搬送時の半導体チップとサブストレー
ト間の距離が所定値になるように搬送時のボンディング
ヘッドの高さを調整するために前記駆動手段を制御す
る。
A third bonding apparatus according to the present invention comprises:
A bonding apparatus picks up a semiconductor chip arranged at a first predetermined position, conveys the semiconductor chip to a second predetermined position, and places the semiconductor chip on a substrate at the second predetermined position. The third bonding apparatus includes a spindle to which a suction collet is connected and a spring for supporting the spindle, a bonding head body to which the spindle is vertically movably mounted, and a spindle against a repulsive force of the spring. The sensor includes a sensor for detecting an amount of movement when moving toward the upper end, a driving unit for moving the bonding head body in a three-dimensional direction, and a control unit for controlling the operation of the driving unit. The control means obtains a difference between the movement amount of the spindle detected by the sensor and a predetermined reference movement amount during the pickup operation of the semiconductor chip,
Based on the difference, the driving unit is controlled to adjust the height of the bonding head during transport so that the distance between the semiconductor chip and the substrate during transport becomes a predetermined value.

【0019】上記の第3のボンディング装置において、
所定の基準移動量を、スピンドルの熱膨張がなく、か
つ、半導体チップの厚みが標準値である場合に、半導体
チップのピックアップ動作時に検出されたスピンドルの
移動量とするのが好ましい。
In the above third bonding apparatus,
It is preferable that the predetermined reference movement amount is the movement amount of the spindle detected at the time of the semiconductor chip pickup operation when the spindle has no thermal expansion and the thickness of the semiconductor chip is a standard value.

【0020】また、スピンドルの移動量が所定の基準移
動量aであるときの、搬送時の半導体チップとサブスト
レート間の距離を所定値にするために必要なボンディン
グヘッドの高さがhである場合に、センサによりピック
アップ動作時に検出されたスピンドルの移動量がbのと
きは、搬送時のボンディングヘッドの高さをh+(a−
b)に制御してもよい。
Further, when the movement amount of the spindle is the predetermined reference movement amount a, the height of the bonding head necessary for setting the distance between the semiconductor chip and the substrate at the time of transfer to a predetermined value is h. In this case, when the movement amount of the spindle detected by the sensor during the pickup operation is b, the height of the bonding head at the time of conveyance is set to h + (a−
Control may be performed in b).

【0021】また、センサをボンディングヘッド本体に
固定してもよい。
Further, the sensor may be fixed to the bonding head body.

【0022】本発明に係る第1のボンディング方法は、
所定の駆動源により駆動されて3次元動作を行なうボン
ディングヘッドと、ボンディングヘッドに対して鉛直方
向に移動可能に取り付けられたスピンドルと、スピンド
ルをボンディングヘッド内において支持するバネとを備
えたボンディング装置を用いて、第1の所定位置に配置
された半導体チップを吸着してピックアップし、第2の
所定位置へ半導体チップを搬送し、その第2の所定位置
にて半導体チップをサブストレートにプレースするボン
ディング方法である。第1のボンディング方法は、半導
体チップをサブストレートにプレースする際に、スピン
ドルがバネに抗してボンディングヘッドに対して相対的
に上端方向に移動したときの移動量を検出し、検出した
移動量に基き、スピンドルの移動量が所定量に保持され
るようにボンディングヘッドの高さを調整しながら半導
体チップをサブストレート上にプレースする。
The first bonding method according to the present invention comprises:
A bonding apparatus comprising: a bonding head driven by a predetermined drive source to perform a three-dimensional operation; a spindle mounted movably in a vertical direction with respect to the bonding head; and a spring supporting the spindle in the bonding head. Bonding for picking up and picking up a semiconductor chip disposed at a first predetermined position, transporting the semiconductor chip to a second predetermined position, and placing the semiconductor chip on the substrate at the second predetermined position. Is the way. In the first bonding method, when a semiconductor chip is placed on a substrate, a movement amount when a spindle moves toward an upper end relative to a bonding head against a spring is detected, and the detected movement amount is determined. The semiconductor chip is placed on the substrate while adjusting the height of the bonding head so that the movement amount of the spindle is maintained at a predetermined amount.

【0023】本発明に係る第2のボンディング方法は、
所定の駆動源により駆動されて3次元動作を行なうボン
ディングヘッドと、半導体チップの吸着手段が取り付け
られ該ボンディングヘッドに対して鉛直方向に取りつけ
られたスピンドルと、スピンドルを前記ボンディングヘ
ッド内において支持するバネとを備え、スピンドルは前
記バネの反発力に抗してボンディングヘッドに対してそ
の上端方向に相対移動可能であるボンディング装置を用
いて、第1の所定位置に配置された半導体チップを吸着
してピックアップし、第2の所定位置へ半導体チップを
搬送し、その第2の所定位置にて半導体チップをサブス
トレートにプレースするボンディング方法である。第2
のボンディング方法は、半導体チップをピックアップす
る際に、スピンドルがバネに抗してボンディングヘッド
に対して相対的に上端方向に移動したときの移動量を検
出し、検出した移動量に基き、スピンドルの移動量が所
定量に保持されるようにボンディングヘッドの高さを調
整しながら半導体チップをピックアップする。
A second bonding method according to the present invention comprises:
A bonding head driven by a predetermined drive source to perform a three-dimensional operation; a spindle to which semiconductor chip suction means is attached and which is vertically mounted on the bonding head; and a spring for supporting the spindle in the bonding head And a spindle that adsorbs the semiconductor chip disposed at the first predetermined position by using a bonding device that can move relative to the bonding head in the upper end direction against the repulsive force of the spring. This is a bonding method of picking up, transporting the semiconductor chip to a second predetermined position, and placing the semiconductor chip on the substrate at the second predetermined position. Second
The bonding method of (1) detects the amount of movement when the spindle moves toward the upper end relative to the bonding head against the spring when picking up the semiconductor chip, and, based on the detected amount of movement, The semiconductor chip is picked up while adjusting the height of the bonding head so that the movement amount is maintained at a predetermined amount.

【0024】本発明に係る第3のボンディング方法は、
所定の駆動源により駆動されて3次元動作を行なうボン
ディングヘッドと、半導体チップの吸着手段が取り付け
られ該ボンディングヘッドに対して鉛直方向に取りつけ
られたスピンドルと、スピンドルをボンディングヘッド
内において支持するバネとを備え、スピンドルはバネの
反発力に抗してボンディングヘッドに対してその上端方
向に相対移動可能であるボンディング装置を用いて、第
1の所定位置に配置された半導体チップを吸着してピッ
クアップし、第2の所定位置へ前記半導体チップを搬送
し、その第2の所定位置にて半導体チップをサブストレ
ートにプレースするボンディング方法である。第3のボ
ンディング方法は、半導体チップのピックアップ動作時
において、スピンドルがバネの反発力に抗して上下方向
に移動したときの移動量を検出し、その検出したスピン
ドルの移動量と所定の基準移動量との差分を求め、その
差分に基いて搬送時のボンディングヘッドの高さを調整
することにより、搬送時の半導体チップとサブストレー
ト間の距離を所定値に保持する。
A third bonding method according to the present invention comprises:
A bonding head driven by a predetermined drive source to perform a three-dimensional operation; a spindle to which semiconductor chip suction means is attached and which is vertically mounted on the bonding head; and a spring for supporting the spindle in the bonding head. And a spindle that uses a bonding device that can move relative to the bonding head in the upper end direction against the repulsive force of the spring, and sucks and picks up the semiconductor chip disposed at the first predetermined position. A semiconductor chip is transported to a second predetermined position, and the semiconductor chip is placed on the substrate at the second predetermined position. In the third bonding method, during the pickup operation of the semiconductor chip, a movement amount when the spindle moves in the vertical direction against the repulsive force of the spring is detected, and the detected movement amount of the spindle and a predetermined reference movement are detected. The distance between the semiconductor chip and the substrate during transport is maintained at a predetermined value by determining the difference from the amount and adjusting the height of the bonding head during transport based on the difference.

【0025】上記の第3のボンディング方法において、
所定の基準移動量を、スピンドルの熱膨張がなく、か
つ、半導体チップの厚みが標準値である場合に、半導体
チップのピックアップ動作時に検出されたスピンドルの
移動量とするのが好ましい。
In the above third bonding method,
It is preferable that the predetermined reference movement amount is the movement amount of the spindle detected at the time of the semiconductor chip pickup operation when the spindle has no thermal expansion and the thickness of the semiconductor chip is a standard value.

【0026】また、スピンドルの移動量が所定の基準移
動量aであるときの、搬送時の半導体チップとサブスト
レート間の距離を所定値にするために必要なボンディン
グヘッドの高さがhである場合に、ピックアップ動作時
に検出されたスピンドルの移動量がbのときは、搬送時
のボンディングヘッドの高さをh+(a−b)に制御し
てもよい。
When the movement amount of the spindle is the predetermined reference movement amount a, the height of the bonding head necessary for setting the distance between the semiconductor chip and the substrate at the time of transfer to a predetermined value is h. In this case, when the movement amount of the spindle detected at the time of the pickup operation is b, the height of the bonding head at the time of conveyance may be controlled to h + (ab).

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下、添付の図面を参照し、本発
明に係るボンディング装置の実施の形態を詳細に説明す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment of a bonding apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

【0028】実施の形態1. (ボンディング装置の構成)図1は本発明に係るボンデ
ィング装置の主要部の構成を示した図である。ボンディ
ング装置は、ボンディングヘッド本体(以下「ボンディ
ングヘッド」という。)11と、ボンディングヘッド1
1を3次元的に駆動させるボンディングヘッドX・Y・
Z軸駆動部(以下「駆動部」という。)17と、その駆
動部17を制御する制御部18と、制御部18での制御
のために必要なデータを格納するデータ記憶部19と、
アナログ信号をデジタル信号に変換するA/D変換部2
3とを備える。ボンディングヘッド11は、上下可動に
取り付けられたスピンドル13と、スピンドル13を支
持するバネ12と、スピンドル13の上端までの距離を
検出する変位センサ21とを含む。変位センサ21はそ
れとスピンドル13間の距離を検出し、これにより、ス
ピンドル13の上下方向(Z軸方向)にバネ12の反発
力に抗して移動したときの移動量(変位)を得ることが
できる。スピンドル13の先端(下端)には半導体チッ
プ14を吸着する吸着コレット15が取り付けられてい
る。制御部18にはA/D変換部23が接続され、その
A/D変換部23を介して変位センサ21からの検出信
号が入力される。
Embodiment 1 (Structure of Bonding Apparatus) FIG. 1 is a view showing a structure of a main part of a bonding apparatus according to the present invention. The bonding apparatus includes a bonding head body (hereinafter, referred to as a “bonding head”) 11 and a bonding head 1.
1 to three-dimensionally drive bonding heads XY
A Z-axis drive unit (hereinafter referred to as “drive unit”) 17, a control unit 18 for controlling the drive unit 17, a data storage unit 19 for storing data necessary for control by the control unit 18,
A / D converter 2 for converting an analog signal into a digital signal
3 is provided. The bonding head 11 includes a spindle 13 that is vertically movable, a spring 12 that supports the spindle 13, and a displacement sensor 21 that detects a distance to the upper end of the spindle 13. The displacement sensor 21 detects the distance between the spindle 13 and the displacement sensor 21, thereby obtaining the amount of movement (displacement) when the spindle 13 moves in the vertical direction (Z-axis direction) against the repulsive force of the spring 12. it can. A suction collet 15 for suctioning the semiconductor chip 14 is attached to a tip (lower end) of the spindle 13. An A / D converter 23 is connected to the controller 18, and a detection signal from the displacement sensor 21 is input via the A / D converter 23.

【0029】(ボンディング装置の全体動作)上記のよ
うな構成を有する従来のボンディング装置は次のように
動作する。すなわち、ボンディング装置はピックアップ
動作時には、ボンディングヘッド11を、ステージ16
上に配置された半導体チップ14の直上の位置まで移動
させ、その位置から、吸着コレット15で半導体チップ
14を吸着できる位置までボンディングヘッド11を降
下させ、吸着コレット15で半導体チップ14を一定の
荷重で吸着した後、ボンディングヘッド11を鉛直方向
に上昇させる。その後、ボンディング装置は、その位置
から半導体チップ14をプレースするサブストレート上
の所定位置の直上の位置まで移動させる。その際、サブ
ストレートと半導体チップ間の距離すなわちクリアラン
スは一定の距離に保持されている。そして、ボンディン
グヘッド11を鉛直方向に下降させてサブストレート上
に半導体チップ14を一定の荷重でプレースする(すな
わち、サブストレートに接合する)。
(Overall Operation of Bonding Apparatus) The conventional bonding apparatus having the above configuration operates as follows. That is, the bonding apparatus moves the bonding head 11 to the stage 16 during the pickup operation.
The bonding head 11 is moved to a position immediately above the semiconductor chip 14 disposed above, and the bonding head 11 is lowered from that position to a position where the semiconductor chip 14 can be suctioned by the suction collet 15, and the semiconductor chip 14 is loaded with a certain load Then, the bonding head 11 is raised in the vertical direction. Then, the bonding apparatus moves the semiconductor chip 14 from the position to a position immediately above a predetermined position on the substrate on which the semiconductor chip 14 is to be placed. At this time, the distance between the substrate and the semiconductor chip, that is, the clearance is maintained at a constant distance. Then, the bonding head 11 is lowered in the vertical direction, and the semiconductor chip 14 is placed on the substrate with a constant load (that is, bonded to the substrate).

【0030】上記の動作中、制御部18は、データ記憶
部19に予め格納されているX、Y、Z軸の位置情報を
読み出し、その位置情報に基いてボンディングヘッド1
1の位置を制御するための指示を駆動部17へ出力す
る。駆動部17はこれを受けて、指示された位置へボン
ディングヘッド11を移動させることにより、上記のピ
ックアップ、プレース動作を行なう。
During the above operation, the control unit 18 reads out the position information of the X, Y, and Z axes stored in the data storage unit 19 in advance, and based on the position information, the bonding head 1
An instruction for controlling the position of No. 1 is output to the drive unit 17. In response to this, the drive unit 17 performs the above-described pickup and place operations by moving the bonding head 11 to the designated position.

【0031】(一定荷重でのプレース動作)以下に、本
実施形態のボンディング装置による、ピックアップ時及
びプレース時の荷重を一定にするための制御を説明す
る。
(Place Operation with Constant Load) Hereinafter, a description will be given of a control performed by the bonding apparatus according to the present embodiment to make the load at the time of pickup and at the time of place constant.

【0032】プレース動作時において、制御部18は前
述の様にデータ記憶部19に予め格納されたX、Y、Z
軸の位置情報を読み出し、その位置情報に基き駆動部1
7へ指示を出す。駆動部17はこれを受けて、指示され
た位置へボンディングヘッド11を移動させ、その位置
に半導体チップ14をプレースする。
At the time of the place operation, the control unit 18 controls the X, Y, Z stored in the data storage unit 19 in advance as described above.
The position information of the axis is read out, and the drive unit 1 is read out based on the position information.
Give instructions to 7. In response to this, the driving unit 17 moves the bonding head 11 to the designated position, and places the semiconductor chip 14 at that position.

【0033】このとき、制御部18は、変位センサ21
からの検出信号に基き、図2に示すように、常にスピン
ドル13と変位センサ21間の距離が所定値eに保持さ
れるようにボンディングヘッド11のz軸方向の位置を
制御しながらプレース動作を行なう。スピンドル13と
変位センサ21間の距離の所定値eは、半導体チップ1
4に対する荷重に基いて事前に決定されている。このよ
うに、スピンドル13と変位センサ21間の距離をバネ
12の反発力に抗して所定値eに保持することにより、
半導体チップ14に対して常に一定の荷重が加わること
になる。
At this time, the controller 18 controls the displacement sensor 21
2, the place operation is performed while controlling the position of the bonding head 11 in the z-axis direction so that the distance between the spindle 13 and the displacement sensor 21 is always maintained at a predetermined value e, as shown in FIG. Do. The predetermined value e of the distance between the spindle 13 and the displacement sensor 21
4 has been determined in advance based on the load on 4. Thus, by maintaining the distance between the spindle 13 and the displacement sensor 21 at the predetermined value e against the repulsive force of the spring 12,
A constant load is always applied to the semiconductor chip 14.

【0034】ピックアップ動作時においても、同様にし
て、吸着コレット15で半導体チップ14を吸着させる
ときに、制御部18は、変位センサ21からの検出信号
に基き、常にスピンドルと変位センサ21間の距離が所
定値eに保持されるようにボンディングヘッド11の位
置を制御しながらピックアップ動作を行なう。これによ
り、半導体チップ14に対して常に一定の荷重が加わる
ことになる。
Similarly, at the time of pickup operation, when the semiconductor chip 14 is sucked by the suction collet 15, the control unit 18 always determines the distance between the spindle and the displacement sensor 21 based on the detection signal from the displacement sensor 21. The pickup operation is performed while controlling the position of the bonding head 11 so that is maintained at a predetermined value e. As a result, a constant load is always applied to the semiconductor chip 14.

【0035】以上のように、本実施形態のボンディング
装置は、プレース動作及びピックアップ動作を行なう際
に、スピンドル13の一端と変位センサ21間の距離、
すなわち、スピンドル13の変位を検出し、それが常に
一定になるように、ボンディングヘッド11の位置を制
御するため、プレース動作及びピックアップ動作時に半
導体チップ14に加わる荷重を一定に制御することがで
きる。また、変位センサ21をボンディングヘッド11
内に配置することにより、ボンディングヘッド11にお
いて変位センサ21とスピンドル13とを接近させて支
持することが可能となり、ボンディングヘッド11を小
型化でき、また、変位センサ21に高感度のセンサを使
用する必要がなくなるため、装置の製造コストを低減で
きる。
As described above, the bonding apparatus according to the present embodiment performs the distance operation between one end of the spindle 13 and the displacement sensor 21 when performing the place operation and the pickup operation.
That is, since the displacement of the spindle 13 is detected and the position of the bonding head 11 is controlled such that the displacement is always constant, the load applied to the semiconductor chip 14 during the place operation and the pickup operation can be controlled to be constant. Further, the displacement sensor 21 is connected to the bonding head 11.
By disposing the displacement sensor 21 inside, the displacement sensor 21 and the spindle 13 can be supported close to each other in the bonding head 11, the bonding head 11 can be reduced in size, and a high-sensitivity sensor is used for the displacement sensor 21. Since there is no need, the manufacturing cost of the device can be reduced.

【0036】実施の形態2.本実施形態では、スピンド
ルの熱膨張や半導体チップの製造時のバラツキによる部
品の厚みの変動等の影響を受けずに、サブストレート3
1と半導体チップ14間の距離すなわちクリアランスを
一定に保持するための制御を説明する。なお、本実施形
態のボンディング装置の構成は上述の図1に示したもの
と同様である。
Embodiment 2 In the present embodiment, the substrate 3 is not affected by the thermal expansion of the spindle and the fluctuation of the thickness of the parts due to the variation in the production of the semiconductor chip.
Control for maintaining the distance between the semiconductor chip 1 and the semiconductor chip 14, ie, the clearance, constant will be described. The configuration of the bonding apparatus according to the present embodiment is the same as that shown in FIG.

【0037】図3の(a)は、スピンドル13の熱膨張
がなく、かつ、半導体チップの厚みが標準値の場合のピ
ックアップ動作時のボンディングヘッド11の状態を示
した図である。図3の(b)は、スピンドル13の熱膨
張等があるときのピックアップ動作時のボンディングヘ
ッド11の状態を示した図である。
FIG. 3A is a diagram showing a state of the bonding head 11 at the time of the pickup operation when the spindle 13 has no thermal expansion and the thickness of the semiconductor chip is a standard value. FIG. 3B is a diagram showing a state of the bonding head 11 at the time of a pickup operation when the spindle 13 has thermal expansion or the like.

【0038】本実施形態のボンディング装置は、ピック
アップ動作時にまず、スピンドル13の熱膨等による又
は部品のバラツキによるスピンドル13の上下方向の変
位量(以下「スピンドル変位量Δz」という。)を検出
し、その検出したスピンドル変位量Δzに基いて、クリ
アランスを一定に保持するためのZ軸方向の位置情報の
補正を行なう。
The pick-up operation of the bonding apparatus of this embodiment first detects a vertical displacement of the spindle 13 (hereinafter referred to as "spindle displacement Δz") due to thermal expansion of the spindle 13 or variation in parts. Based on the detected spindle displacement Δz, the position information in the Z-axis direction for maintaining the clearance constant is corrected.

【0039】このため、本実施形態のボンディング装置
は事前に、図3の(a)に示すようなスピンドル13の
熱膨張及び半導体チップ14の厚みが標準値である場
合、すなわち、バネ12が何ら変形していない場合の、
スピンドル13と変位センサ21間の距離aを計測し、
この距離aをスピンドル13の基準距離(基準移動量)
としてデータ記憶部19に格納しておく。
For this reason, the bonding apparatus according to the present embodiment is designed so that the thermal expansion of the spindle 13 and the thickness of the semiconductor chip 14 are standard values as shown in FIG. If not deformed,
The distance a between the spindle 13 and the displacement sensor 21 is measured,
This distance a is the reference distance of the spindle 13 (reference movement amount).
And stored in the data storage unit 19.

【0040】制御部18は、ピックアップ動作におい
て、データ記憶部19に事前に格納されたX、Y、Z軸
の位置情報を読み出し、その位置情報に基いて駆動部1
7へ指示を出す。駆動部17はこれを受け、指示された
位置へボンディングヘッド11を移動させる。本実施形
態では、図3に示すように、ピックアップ時においてボ
ンディングヘッド11の高さは常にh0になるようにZ
軸方向の位置制御がなされる。
In the pick-up operation, the control unit 18 reads out the position information of the X, Y, and Z axes stored in the data storage unit 19 in advance, and based on the position information, the driving unit 1
Give instructions to 7. The drive unit 17 receives this and moves the bonding head 11 to the designated position. In the present embodiment, as shown in FIG. 3, so that always h 0 is the height of the bonding head 11 at the time of pickup Z
Axial position control is performed.

【0041】(スピンドル変位量の検出)各チップに対
してピックアップ動作を行なう際、ボンディング装置は
チップのピックアップを行なうとともに、スピンドル変
位量Δzを次のように検出する。すなわち、ボンディン
グヘッド11を所定の高さh0に制御したときのスピン
ドル13と変位センサ21間の距離bを変位センサ21
により検出し、データ記憶部19に格納する。このと
き、スピンドル13が熱膨張している場合、または、半
導体チップ14等が製造時のバラツキにより標準の厚み
よりも大きいときは、図3の(b)に示すように、スピ
ンドル13は変位センサ21により近づくことになり、
距離b<基準距離aとなる。制御部18はこの距離の差
を計算し、その値をスピンドル変位量Δz(=a−b)
としてデータ記憶部19に格納する。
(Detection of Spindle Displacement) When a pickup operation is performed on each chip, the bonding apparatus picks up the chip and detects the spindle displacement Δz as follows. That is, the distance b between the spindle 13 and the displacement sensor 21 when the bonding head 11 is controlled to a predetermined height h 0 is
And stores it in the data storage unit 19. At this time, when the spindle 13 is thermally expanded, or when the semiconductor chip 14 or the like is larger than the standard thickness due to manufacturing variations, as shown in FIG. Will be closer to 21
Distance b <reference distance a. The control unit 18 calculates the difference between the distances, and uses the calculated value as the spindle displacement amount Δz (= ab).
And stored in the data storage unit 19.

【0042】(一定クリアランス制御動作)上記のよう
にして求めたスピンドル変位量Δzを用いてサブストレ
ート31と半導体チップ14間のクリアランスを一定に
保持するための動作について説明する。図4の(a)
は、スピンドル13の熱膨張等がない場合のクリアラン
スを説明した図である。このときのボンディングヘッド
11の高さh1を基準の高さとする。
(Constant Clearance Control Operation) An operation for maintaining a constant clearance between the substrate 31 and the semiconductor chip 14 using the spindle displacement Δz obtained as described above will be described. FIG. 4 (a)
FIG. 4 is a view for explaining a clearance when there is no thermal expansion or the like of a spindle 13. The height h 1 of the bonding head 11 of this time is the height of the reference.

【0043】クリアランスを一定(所定値c)に保持す
るために、制御部18は、データ記憶部19に予め格納
されたクリアランス保持位置のZ軸の位置情報を読み出
し、その本来のZ軸の位置情報にピックアップ時に記憶
したスピンドル変位量Δz(=a−b)を加えて補正し
た値を用いて駆動部17へ指示する。すなわち、制御部
18は、一定のクリアランス(所定値c)が得られるよ
うに、ボンディングヘッド11の高さを所定値h'1(=
1+Δz=h1+(a−b))に制御するようにZ軸の
位置座標を設定する。駆動部17はこれを受けて、指示
された位置へボンディングヘッド11を制御することに
より、半導体チップ14とサブストレート31とのクリ
アランスを所定値cに保持することができる。つまり、
スピンドル13の熱膨張等がある場合でも、図4の
(b)に示すように、ボンディングヘッド11の高さを
高さh'1(=h1+(a−b))に制御することによ
り、スピンドル13の熱膨張等による変化分を吸収し
て、クリアランスを所定値cに保持することができる。
In order to keep the clearance constant (predetermined value c), the control unit 18 reads out the Z-axis position information of the clearance holding position stored in the data storage unit 19 in advance, and reads the original Z-axis position. The drive unit 17 is instructed using a value corrected by adding the spindle displacement amount Δz (= ab) stored at the time of pickup to the information. That is, the control unit 18 sets the height of the bonding head 11 to the predetermined value h ′ 1 (=
setting the position coordinates of the Z-axis to control the h 1 + Δz = h 1 + (a-b)). In response to this, the drive unit 17 controls the bonding head 11 to the designated position, so that the clearance between the semiconductor chip 14 and the substrate 31 can be maintained at the predetermined value c. That is,
Even when the spindle 13 has thermal expansion or the like, as shown in FIG. 4B, by controlling the height of the bonding head 11 to a height h ′ 1 (= h 1 + (a−b)). In addition, a change due to thermal expansion of the spindle 13 or the like is absorbed, and the clearance can be maintained at the predetermined value c.

【0044】以上のように、本実施形態のボンディング
装置では、ボンディングヘッド11の高さを、スピンド
ル13の熱膨張や半導体チップの厚みのばらつき等によ
るスピンドル13の変位量(移動量)に基いて適宜補正
することにより、サブストレート31と半導体チップ1
4間のクリアランスを常に一定に保持することができ
る。
As described above, in the bonding apparatus of the present embodiment, the height of the bonding head 11 is determined based on the amount of displacement (movement) of the spindle 13 due to the thermal expansion of the spindle 13 and the variation in the thickness of the semiconductor chip. The substrate 31 and the semiconductor chip 1 are appropriately corrected.
The clearance between the four can always be kept constant.

【0045】[0045]

【発明の効果】本発明の第1のボンディング装置によれ
ば、半導体チップをサブストレートにプレースする際
に、センサにより検出されたスピンドルの移動量に基
き、スピンドルの移動量が所定量になるようにボンディ
ングヘッド本体の高さを調整するため、プレースする際
の半導体チップへの荷重を一定値に制御することができ
る。
According to the first bonding apparatus of the present invention, when the semiconductor chip is placed on the substrate, the movement amount of the spindle becomes a predetermined amount based on the movement amount of the spindle detected by the sensor. In order to adjust the height of the bonding head body, the load on the semiconductor chip at the time of placing can be controlled to a constant value.

【0046】本発明の第2のボンディング装置によれ
ば、半導体チップをピックアップする際に、センサによ
り検出されたスピンドルの移動量に基き、スピンドルの
移動量が所定量になるようにボンディングヘッド本体の
高さを調整するため、ピックアップする際の半導体チッ
プへの荷重を一定値に制御することができる。
According to the second bonding apparatus of the present invention, when picking up a semiconductor chip, the bonding head body is adjusted so that the spindle movement amount becomes a predetermined amount based on the spindle movement amount detected by the sensor. In order to adjust the height, the load on the semiconductor chip during pickup can be controlled to a constant value.

【0047】上記の第1又は第2のボンディング装置に
おいて、センサをボンディングヘッド本体に固定しても
よく、これにより、ボンディング装置を小型化できる。
また、これにより、ボンディングヘッド本体においてセ
ンサとスピンドルとを接近させて支持することが可能と
なり、高感度のセンサを必ずしも必要としなくなるた
め、装置の製造コストを低減できる。
In the above-described first or second bonding apparatus, the sensor may be fixed to the bonding head main body, whereby the size of the bonding apparatus can be reduced.
In addition, this makes it possible to support the sensor and the spindle close to each other in the bonding head body, and it is not necessary to provide a high-sensitivity sensor, so that the manufacturing cost of the apparatus can be reduced.

【0048】本発明に係る第3のボンディング装置は、
スピンドルの熱膨張や半導体チップの製造時のバラツキ
による厚みの変動によらず、搬送時の半導体チップとサ
ブストレート間の距離(クリアランス)を容易に一定値
に制御できる。
A third bonding apparatus according to the present invention comprises:
The distance (clearance) between the semiconductor chip and the substrate at the time of transport can be easily controlled to a constant value irrespective of the thermal expansion of the spindle or the thickness variation due to the variation during the manufacture of the semiconductor chip.

【0049】上記の第3のボンディング装置において、
所定の基準移動量を、スピンドルの熱膨張がなく、か
つ、半導体チップの厚みが標準値である場合に、半導体
チップのピックアップ動作時に検出されたスピンドルの
移動量としてもよく、これにより、スピンドルの熱膨張
や半導体チップの製造時のバラツキによる厚みの変動に
基いたクリアランスの制御が可能となる。
In the above third bonding apparatus,
The predetermined reference movement amount may be the movement amount of the spindle detected at the time of the semiconductor chip pickup operation when the spindle has no thermal expansion and the thickness of the semiconductor chip is a standard value. The clearance can be controlled based on a change in thickness due to a thermal expansion or a variation in manufacturing the semiconductor chip.

【0050】また、上記の第3のボンディング装置にお
いて、スピンドルの移動量が所定の基準移動量aのとき
の搬送時の半導体チップとサブストレート間の距離を所
定値にするために必要なボンディングヘッドの高さが
h、センサによりピックアップ動作時に検出されたスピ
ンドルの移動量がbの場合、搬送時のボンディングヘッ
ドの高さをh+(a−b)に制御してもよい。これによ
り、スピンドルの熱膨張や半導体チップの製造時のバラ
ツキによる厚みの変動分を吸収したクリアランス制御が
可能となる。
Further, in the above third bonding apparatus, the bonding head necessary for setting the distance between the semiconductor chip and the substrate at the time of transfer when the movement amount of the spindle is the predetermined reference movement amount a to a predetermined value. If the height of the head is h and the amount of movement of the spindle detected by the sensor during the pickup operation is b, the height of the bonding head during transfer may be controlled to h + (ab). As a result, it is possible to perform clearance control that absorbs variations in thickness due to thermal expansion of the spindle and variations in manufacturing semiconductor chips.

【0051】上記の第3のボンディング装置において、
センサをボンディングヘッド本体に固定してもよく、こ
れにより、ボンディング装置を小型化できる。また、こ
れにより、ボンディングヘッド本体においてセンサとス
ピンドルとを接近させて支持することが可能となり、高
感度のセンサを必ずしも必要としなくなるため、装置の
製造コストを低減できる。
In the above third bonding apparatus,
The sensor may be fixed to the bonding head body, so that the size of the bonding apparatus can be reduced. In addition, this makes it possible to support the sensor and the spindle close to each other in the bonding head body, and it is not necessary to provide a high-sensitivity sensor, so that the manufacturing cost of the apparatus can be reduced.

【0052】本発明の第1のボンディング方法によれ
ば、半導体チップをサブストレートにプレースする際
に、センサにより検出されたスピンドルの移動量に基
き、スピンドルの移動量が所定量になるようにボンディ
ングヘッド本体の高さを調整するため、プレースする際
の半導体チップへの荷重を一定値に制御することができ
る。
According to the first bonding method of the present invention, when placing a semiconductor chip on a substrate, bonding is performed such that the spindle movement amount becomes a predetermined amount based on the spindle movement amount detected by the sensor. Since the height of the head body is adjusted, the load on the semiconductor chip at the time of placing can be controlled to a constant value.

【0053】本発明の第2のボンディング方法によれ
ば、半導体チップをピックアップする際に、センサによ
り検出されたスピンドルの移動量に基き、スピンドルの
移動量が所定量になるようにボンディングヘッド本体の
高さを調整するため、ピックアップする際の半導体チッ
プへの荷重を一定値に制御することができる。
According to the second bonding method of the present invention, when the semiconductor chip is picked up, the bonding head body is adjusted so that the spindle movement amount becomes a predetermined amount based on the spindle movement amount detected by the sensor. In order to adjust the height, the load on the semiconductor chip during pickup can be controlled to a constant value.

【0054】本発明に係る第3のボンディング方法によ
れば、スピンドルの熱膨張や半導体チップの製造時のバ
ラツキによる厚みの変動によらず、搬送時の半導体チッ
プとサブストレート間の距離(クリアランス)を容易に
一定値に制御できる。
According to the third bonding method of the present invention, the distance (clearance) between the semiconductor chip and the substrate at the time of transport is independent of the thickness variation due to the thermal expansion of the spindle and the variation at the time of manufacturing the semiconductor chip. Can be easily controlled to a constant value.

【0055】上記の第3のボンディング方法において、
所定の基準移動量を、スピンドルの熱膨張がなく、か
つ、半導体チップの厚みが標準値である場合に、半導体
チップのピックアップ動作時に検出されたスピンドルの
移動量としてもよく、これにより、スピンドルの熱膨張
や半導体チップの製造時のバラツキによる厚みの変動に
基いたクリアランスの制御が可能となる。
In the above third bonding method,
The predetermined reference movement amount may be the movement amount of the spindle detected at the time of the semiconductor chip pickup operation when the spindle has no thermal expansion and the thickness of the semiconductor chip is a standard value. The clearance can be controlled based on a change in thickness due to a thermal expansion or a variation in manufacturing the semiconductor chip.

【0056】また、上記の第3のボンディング方法にお
いて、スピンドルの移動量が所定の基準移動量aのとき
の搬送時の半導体チップとサブストレート間の距離を所
定値にするために必要なボンディングヘッドの高さが
h、センサによりピックアップ動作時に検出されたスピ
ンドルの移動量がbの場合、搬送時のボンディングヘッ
ドの高さをh+(a−b)に制御してもよい。これによ
り、スピンドルの熱膨張や半導体チップの製造時のバラ
ツキによる厚みの変動分を吸収したクリアランスの制御
が可能となる。
In the third bonding method described above, the bonding head required for setting the distance between the semiconductor chip and the substrate at the time of transport when the movement amount of the spindle is the predetermined reference movement amount a to a predetermined value. If the height of the head is h and the amount of movement of the spindle detected by the sensor during the pickup operation is b, the height of the bonding head during transfer may be controlled to h + (ab). As a result, it is possible to control the clearance that absorbs the variation in thickness due to the thermal expansion of the spindle and the variation during the manufacture of the semiconductor chip.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に係るボンディング装置の構成図。FIG. 1 is a configuration diagram of a bonding apparatus according to the present invention.

【図2】 本発明に係るボンディング装置によるサブス
トレート上に半導体チップを接合するプレース動作時に
おけるスピンドルとバネの様子を説明した図。
FIG. 2 is a diagram illustrating a state of a spindle and a spring at the time of a place operation of joining a semiconductor chip onto a substrate by the bonding apparatus according to the present invention.

【図3】 (a)スピンドル変位量の基準値の検出を説
明するための図、及び、(b)一定荷重でのプレース動
作時のボンディングヘッドの状態を示した図。
3A is a diagram for explaining detection of a reference value of a spindle displacement amount, and FIG. 3B is a diagram showing a state of a bonding head during a place operation with a constant load.

【図4】 本発明に係るボンディング装置におけるクリ
アランスを説明した図((a)スピンドルの熱膨張等が
ない場合、(b)スピンドルの熱膨張等がある場合)。
FIG. 4 is a view for explaining the clearance in the bonding apparatus according to the present invention ((a) when there is no thermal expansion of the spindle, and (b) when there is thermal expansion of the spindle).

【図5】 従来のボンディング装置の構成図。FIG. 5 is a configuration diagram of a conventional bonding apparatus.

【図6】 従来のボンディング装置によるピックアップ
動作を説明するための図((a)スピンドルの熱膨張等
がない場合、(b)スピンドルの熱膨張等がある場
合)。
6A and 6B are views for explaining a pickup operation by a conventional bonding apparatus ((a) when there is no thermal expansion of a spindle, and (b) when there is thermal expansion of a spindle).

【図7】 従来のボンディング装置による、サブストレ
ートと半導体チップ間のクリアランスを説明した図。
FIG. 7 is a diagram illustrating a clearance between a substrate and a semiconductor chip by a conventional bonding apparatus.

【図8】 従来のボンディング装置によるプレース動作
を説明した図。
FIG. 8 is a diagram illustrating a place operation by a conventional bonding apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 ボンディングヘッド(本体)、 12 板バネ、
13 スピンドル、14 半導体チップ、 15 吸
着コレット、 17 ボンディングヘッドX・Y・Z軸
駆動部(駆動部)、 18 制御部、 19 データ記
憶部、 23A/D変換部、 21 変位センサ、 3
1 サブストレート。
11 bonding head (body), 12 leaf spring,
Reference Signs List 13 spindle, 14 semiconductor chip, 15 suction collet, 17 bonding head X / Y / Z axis drive unit (drive unit), 18 control unit, 19 data storage unit, 23A / D conversion unit, 21 displacement sensor, 3
1 Substrate.

フロントページの続き (72)発明者 土屋 泰 東京都千代田区大手町二丁目6番2号 三 菱電機エンジニアリング株式会社内 Fターム(参考) 5F047 FA01 FA09 FA12 FA73 Continuation of front page (72) Inventor Yasushi Tsuchiya F-term (reference) 5F047 FA01 FA09 FA12 FA73 in 2-6-1, Otemachi, Chiyoda-ku, Tokyo

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1の所定位置に配置された半導体チッ
プをピックアップし、第2の所定位置へ搬送し、第2の
所定位置にあるサブストレート上に半導体チップをプレ
ースするボンディング装置において、 吸着コレットが接続されたスピンドルと該スピンドルを
支持するバネとを含み、前記スピンドルが鉛直方向に移
動可能に取り付けられたボンディングヘッド本体と、 前記スピンドルが前記バネの反発力に抗して上端方向へ
移動したときの移動量を検出するセンサと、 前記ボンディングヘッド本体を3次元方向に移動させる
駆動手段と、 該駆動手段の動作を制御する制御手段とを備え、 該制御手段は、前記半導体チップをサブストレートにプ
レースする際に、前記センサにより検出されたスピンド
ルの移動量に基き、該スピンドルの移動量が所定量にな
るようにボンディングヘッド本体の高さを調整するため
に前記駆動手段を制御することを特徴とするボンディン
グ装置。
1. A bonding apparatus for picking up a semiconductor chip disposed at a first predetermined position, transporting the semiconductor chip to a second predetermined position, and placing the semiconductor chip on a substrate at the second predetermined position. A bonding head body including a spindle connected to a collet and a spring supporting the spindle, wherein the spindle is vertically movably mounted; and the spindle moves in an upper end direction against a repulsive force of the spring. A sensor for detecting an amount of movement when the semiconductor chip is moved; a driving unit for moving the bonding head body in a three-dimensional direction; and a control unit for controlling the operation of the driving unit. When placing on a straight, movement of the spindle based on the movement amount of the spindle detected by the sensor There bonding apparatus and controls the drive means to adjust the height of the bonding head body to a predetermined amount.
【請求項2】 第1の所定位置に配置された半導体チッ
プをピックアップし、第2の所定位置へ搬送し、第2の
所定位置にあるサブストレート上に半導体チップをプレ
ースするボンディング装置において、 吸着コレットが接続されたスピンドルと該スピンドルを
支持するバネとを含み、前記スピンドルが鉛直方向に移
動可能に取り付けられたボンディングヘッド本体と、 前記スピンドルが前記バネの反発力に抗して上端方向へ
移動したときの移動量を検出するセンサと、 前記ボンディングヘッド本体を3次元方向に移動させる
駆動手段と、 該駆動手段の動作を制御する制御手段とを備え、 該制御手段は、前記半導体チップをピックアップする際
に、前記センサにより検出されたスピンドルの移動量に
基き、スピンドルの移動量が所定量になるようにボンデ
ィングヘッド本体の高さを調整するために前記駆動手段
を制御することを特徴とするボンディング装置。
2. A bonding apparatus for picking up a semiconductor chip disposed at a first predetermined position, transporting the semiconductor chip to a second predetermined position, and placing the semiconductor chip on a substrate at the second predetermined position. A bonding head body including a spindle connected to a collet and a spring supporting the spindle, wherein the spindle is vertically movably mounted; and the spindle moves in an upper end direction against a repulsive force of the spring. A sensor for detecting the amount of movement of the semiconductor chip, a driving unit for moving the bonding head body in a three-dimensional direction, and a control unit for controlling the operation of the driving unit. The control unit picks up the semiconductor chip. In this case, the spindle movement amount reaches a predetermined amount based on the spindle movement amount detected by the sensor. Bonding and wherein the controller controls the drive means to adjust the height of the bonding head body such.
【請求項3】 前記センサを前記ボンディングヘッド本
体に固定したことを特徴とする請求項1または請求項2
記載のボンディング装置。
3. The bonding head according to claim 1, wherein the sensor is fixed to the bonding head body.
The bonding apparatus as described in the above.
【請求項4】 第1の所定位置に配置された半導体チッ
プをピックアップし、第2の所定位置へ搬送し、第2の
所定位置にあるサブストレート上に半導体チップをプレ
ースするボンディング装置において、 吸着コレットが接続されたスピンドルとスピンドルを支
持するバネとを含み、前記スピンドルが鉛直方向に移動
可能に取り付けられたボンディングヘッド本体と、 前記スピンドルが前記バネの反発力に抗して上端方向へ
移動したときの移動量を検出するセンサと、 前記ボンディングヘッド本体を3次元方向に移動させる
駆動手段と、 該駆動手段の動作を制御する制御手段とを備え、 該制御手段は、半導体チップのピックアップ動作時にお
いて、前記センサにより検出されたスピンドルの移動量
と、所定の基準移動量との差分を求め、その差分に基
き、搬送時の半導体チップとサブストレート間の距離が
所定値になるように前記搬送時のボンディングヘッドの
高さを調整するために前記駆動手段を制御することを特
徴とするボンディング装置。
4. A bonding apparatus for picking up a semiconductor chip arranged at a first predetermined position, transporting the semiconductor chip to a second predetermined position, and placing the semiconductor chip on a substrate at the second predetermined position. A bonding head body including a spindle to which a collet is connected and a spring supporting the spindle, wherein the spindle is vertically movably mounted, and the spindle moves in an upper end direction against a repulsive force of the spring. A sensor for detecting the amount of movement of the semiconductor chip, a driving unit for moving the bonding head body in a three-dimensional direction, and a control unit for controlling the operation of the driving unit. A difference between the spindle movement detected by the sensor and a predetermined reference movement is calculated. Based on the difference, bonding and wherein the distance between the conveying time of the semiconductor chip and the substrate to control the drive means to adjust the height of the bonding head during the transport to a predetermined value.
【請求項5】 前記所定の基準移動量は、前記スピンド
ルの熱膨張がなく、かつ、前記半導体チップの厚みが標
準値である場合に、半導体チップのピックアップ動作時
に検出されたスピンドルの移動量であることを特徴とす
る請求項4記載のボンディング装置。
5. The predetermined reference movement amount is a movement amount of a spindle detected during a pickup operation of a semiconductor chip when the spindle has no thermal expansion and the thickness of the semiconductor chip is a standard value. 5. The bonding apparatus according to claim 4, wherein the bonding apparatus is provided.
【請求項6】 スピンドルの移動量が所定の基準移動量
aであるときの、前記搬送時の半導体チップとサブスト
レート間の距離を前記所定値にするために必要なボンデ
ィングヘッドの高さがhである場合に、前記センサによ
りピックアップ動作時に検出されたスピンドルの移動量
がbのときは、前記搬送時のボンディングヘッドの高さ
をh+(a−b)に制御することを特徴とする請求項4
記載のボンディング装置。
6. The height of a bonding head required for setting the distance between the semiconductor chip and the substrate during the transfer to the predetermined value when the movement amount of the spindle is a predetermined reference movement amount a is h. The height of the bonding head during the transfer is controlled to h + (ab) when the amount of movement of the spindle detected by the sensor during the pickup operation is b. 4
The bonding apparatus as described in the above.
【請求項7】 前記センサを前記ボンディングヘッド本
体に固定したことを特徴とする請求項4記載のボンディ
ング装置。
7. The bonding apparatus according to claim 4, wherein said sensor is fixed to said bonding head main body.
【請求項8】 所定の駆動源により駆動されて3次元動
作を行なうボンディングヘッドと、該ボンディングヘッ
ドに対して鉛直方向に移動可能に取り付けられたスピン
ドルと、該スピンドルを前記ボンディングヘッド内にお
いて支持するバネとを備えたボンディング装置を用い
て、第1の所定位置に配置された半導体チップを吸着し
てピックアップし、第2の所定位置へ前記半導体チップ
を搬送し、その第2の所定位置にて半導体チップをサブ
ストレートにプレースするボンディング方法であって、 前記半導体チップをサブストレートにプレースする際
に、 前記スピンドルが前記バネに抗してボンディングヘッド
に対して相対的に上端方向に移動したときの移動量を検
出し、 該検出した移動量に基き、前記スピンドルの移動量が所
定量に保持されるように前記ボンディングヘッドの高さ
を調整しながら半導体チップをサブストレート上にプレ
ースすることを特徴とするボンディング方法。
8. A bonding head driven by a predetermined drive source to perform a three-dimensional operation, a spindle movably mounted in a vertical direction with respect to the bonding head, and supporting the spindle in the bonding head. Using a bonding device provided with a spring, a semiconductor chip disposed at a first predetermined position is sucked and picked up, and the semiconductor chip is transported to a second predetermined position. A bonding method for placing a semiconductor chip on a substrate, the method comprising: when placing the semiconductor chip on a substrate, wherein the spindle moves toward an upper end relative to a bonding head against the spring. The movement amount is detected, and the spindle movement amount is held at a predetermined amount based on the detected movement amount. A semiconductor chip is placed on a substrate while adjusting the height of the bonding head so as to be adjusted.
【請求項9】 所定の駆動源により駆動されて3次元動
作を行なうボンディングヘッドと、半導体チップの吸着
手段が取り付けられ該ボンディングヘッドに対して鉛直
方向に取りつけられたスピンドルと、該スピンドルを前
記ボンディングヘッド内において支持するバネとを備
え、前記スピンドルは前記バネの反発力に抗して前記ボ
ンディングヘッドに対してその上端方向に相対移動可能
であるボンディング装置を用いて、第1の所定位置に配
置された半導体チップを吸着してピックアップし、第2
の所定位置へ前記半導体チップを搬送し、その第2の所
定位置にて半導体チップをサブストレートにプレースす
るボンディング方法であって、 前記半導体チップをピックアップする際に、 前記スピンドルが前記バネに抗してボンディングヘッド
に対して相対的に上端方向に移動したときの移動量を検
出し、 該検出した移動量に基き、前記スピンドルの移動量が所
定量に保持されるように前記ボンディングヘッドの高さ
を調整しながら半導体チップをピックアップすることを
特徴とするボンディング方法。
9. A bonding head driven by a predetermined driving source to perform a three-dimensional operation, a spindle to which semiconductor chip suction means is attached and which is vertically attached to the bonding head; A spring supported in the head, wherein the spindle is disposed at a first predetermined position by using a bonding device capable of moving relative to the bonding head in an upper end direction thereof against a repulsive force of the spring. And picks up the semiconductor chip
A bonding method of transporting the semiconductor chip to a predetermined position and placing the semiconductor chip on a substrate at a second predetermined position thereof, wherein when picking up the semiconductor chip, the spindle opposes the spring. And detecting the amount of movement when moving in the upper end direction relative to the bonding head. Based on the detected amount of movement, the height of the bonding head is adjusted such that the amount of movement of the spindle is maintained at a predetermined amount. A semiconductor chip is picked up while adjusting the temperature.
【請求項10】 所定の駆動源により駆動されて3次元
動作を行なうボンディングヘッドと、半導体チップの吸
着手段が取り付けられ該ボンディングヘッドに対して鉛
直方向に取りつけられたスピンドルと、該スピンドルを
前記ボンディングヘッド内において支持するバネとを備
え、前記スピンドルは前記バネの反発力に抗して前記ボ
ンディングヘッドに対してその上端方向に相対移動可能
であるボンディング装置を用いて、第1の所定位置に配
置された半導体チップを吸着してピックアップし、第2
の所定位置へ前記半導体チップを搬送し、その第2の所
定位置にて半導体チップをサブストレートにプレースす
るボンディング方法であって、 前記半導体チップのピックアップ動作時において、スピ
ンドルがバネの反発力に抗して上下方向に移動したとき
の移動量を検出し、 その検出したスピンドルの移動量と所定の基準移動量と
の差分を求め、 その差分に基いて前記搬送時のボンディングヘッドの高
さを調整することにより、前記搬送時の半導体チップと
サブストレート間の距離を所定値に保持することを特徴
とするボンディング方法。
10. A bonding head driven by a predetermined drive source to perform a three-dimensional operation, a spindle to which a semiconductor chip suction means is attached and which is vertically attached to the bonding head, and the spindle is connected to the bonding head. A spring supported in the head, wherein the spindle is disposed at a first predetermined position by using a bonding device capable of moving relative to the bonding head in an upper end direction thereof against a repulsive force of the spring. And picks up the semiconductor chip
A bonding method of transporting the semiconductor chip to a predetermined position and placing the semiconductor chip on a substrate at a second predetermined position thereof, wherein a spindle resists a repulsive force of a spring during a pickup operation of the semiconductor chip. To determine the difference between the detected movement amount of the spindle and a predetermined reference movement amount, and adjust the height of the bonding head during the transfer based on the difference. A bonding method, wherein the distance between the semiconductor chip and the substrate during the transfer is maintained at a predetermined value.
【請求項11】 前記所定の基準移動量は、前記スピン
ドルの熱膨張がなく、かつ、前記半導体チップの厚みが
標準値である場合に、半導体チップのピックアップ動作
時に検出されたスピンドルの移動量であることを特徴と
する請求項10記載のボンディング方法。
11. The predetermined reference movement amount is a movement amount of the spindle detected during a pickup operation of the semiconductor chip when the spindle has no thermal expansion and the thickness of the semiconductor chip is a standard value. The bonding method according to claim 10, wherein the bonding method is provided.
【請求項12】 スピンドルの移動量が所定の基準移動
量aであるときの、前記搬送時の半導体チップとサブス
トレート間の距離を前記所定値にするために必要なボン
ディングヘッドの高さがhである場合に、前記ピックア
ップ動作時に検出されたスピンドルの移動量がbのとき
は、前記搬送時のボンディングヘッドの高さをh+(a
−b)に制御することを特徴とする請求項10記載のボ
ンディング方法。
12. When the movement amount of the spindle is a predetermined reference movement amount a, the height of the bonding head necessary for setting the distance between the semiconductor chip and the substrate during the transfer to the predetermined value is h. When the movement amount of the spindle detected at the time of the pickup operation is b, the height of the bonding head at the time of the transfer is set to h + (a
The bonding method according to claim 10, wherein the control is performed in the step (b).
JP2000220597A 2000-07-21 2000-07-21 Bonder and bonding method Pending JP2002043335A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000220597A JP2002043335A (en) 2000-07-21 2000-07-21 Bonder and bonding method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000220597A JP2002043335A (en) 2000-07-21 2000-07-21 Bonder and bonding method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002043335A true JP2002043335A (en) 2002-02-08

Family

ID=18715174

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000220597A Pending JP2002043335A (en) 2000-07-21 2000-07-21 Bonder and bonding method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002043335A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005252008A (en) * 2004-03-04 2005-09-15 Olympus Corp Semiconductor jointing method and joining apparatus
JP2009246285A (en) * 2008-03-31 2009-10-22 Hitachi High-Tech Instruments Co Ltd Component mounting apparatus
JP2013021143A (en) * 2011-07-12 2013-01-31 Shinkawa Ltd Die bonding apparatus
CN112771653A (en) * 2018-09-05 2021-05-07 安必昂公司 Compliant die attach tool, die attach system, and methods of use thereof
WO2024013937A1 (en) * 2022-07-14 2024-01-18 ヤマハ発動機株式会社 Device for mounting semiconductor chip

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005252008A (en) * 2004-03-04 2005-09-15 Olympus Corp Semiconductor jointing method and joining apparatus
JP4530688B2 (en) * 2004-03-04 2010-08-25 オリンパス株式会社 Semiconductor bonding method and bonding apparatus
JP2009246285A (en) * 2008-03-31 2009-10-22 Hitachi High-Tech Instruments Co Ltd Component mounting apparatus
JP2013021143A (en) * 2011-07-12 2013-01-31 Shinkawa Ltd Die bonding apparatus
CN112771653A (en) * 2018-09-05 2021-05-07 安必昂公司 Compliant die attach tool, die attach system, and methods of use thereof
CN112771653B (en) * 2018-09-05 2023-04-28 安必昂公司 Compliant die attach tool, die attach system, and method of using the same
WO2024013937A1 (en) * 2022-07-14 2024-01-18 ヤマハ発動機株式会社 Device for mounting semiconductor chip

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3328878B2 (en) Bonding equipment
JPWO2006062091A1 (en) Component mounting apparatus and component mounting method
JP4308772B2 (en) Component supply head device, component supply device, component mounting device, and mounting head unit moving method
KR102394745B1 (en) Method and apparatus for mounting electronic or optical components on a substrate
WO2002025720A1 (en) Chip mounting device and calibration method therein
JP2002043335A (en) Bonder and bonding method
JP5309503B2 (en) POSITIONING DEVICE, POSITIONING METHOD, AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING DEVICE HAVING THEM
JP4577941B2 (en) Chip mounting method and apparatus
JP5412617B2 (en) PRESSURE DEVICE, JOINING DEVICE USING THE DEVICE, PRESSURE METHOD, AND JOINING METHOD USING THE METHOD
JPH0951007A (en) Die bonding apparatus and fabrication of semiconductor device
TW201250881A (en) Apparatus and method for controlling movement of die bonding head
JP5766420B2 (en) Die bonding apparatus and bonding method
JP5191753B2 (en) Die bonder and die bonding method
JP2004200379A (en) Die bonding device and die bonding method using the same
JP3537890B2 (en) Wire bonding method and apparatus
TWI707613B (en) Mounting device and manufacturing method of semiconductor device
JP4049721B2 (en) Bonding method, bonding program, and bonding apparatus
JP4064366B2 (en) Ultrasonic flip chip bonding apparatus and bonding method
JP2003031599A (en) Method and apparatus for die bonding
JP3313568B2 (en) Wire bonding apparatus and control method therefor
JP4734296B2 (en) Bonding method, bonding program, and bonding apparatus
JPH09237818A (en) Work carrying device
JP3891689B2 (en) Bonding apparatus and method
JP3024491B2 (en) Wire bonding equipment
JP2823748B2 (en) Semiconductor parts supply equipment