JP2002040436A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JP2002040436A
JP2002040436A JP2000231393A JP2000231393A JP2002040436A JP 2002040436 A JP2002040436 A JP 2002040436A JP 2000231393 A JP2000231393 A JP 2000231393A JP 2000231393 A JP2000231393 A JP 2000231393A JP 2002040436 A JP2002040436 A JP 2002040436A
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JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
crystal display
display device
alkyl group
tetracarboxylic acid
Prior art date
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Pending
Application number
JP2000231393A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenji Okishiro
賢次 沖代
Hitotsugu Oaku
仁嗣 大阿久
Shinji Yamada
真治 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve such problems that, although a polyimide alignment film having high elasticity is effective to decrease afterimages or image perssistence, the film surface of the above polyimide alignment film having high elasticity is generally extremely brittle and rubbing flaws or rubbing chips are caused in a rubbing process, which causes failure in the initial alignment of the liquid crystal or deterioration in the display performance such as the black level or the contrast due to the alignment failure. SOLUTION: The polyimide alignment film used is synthesized by using diamine having one or two cyclic structures and tetracarboxylic acid having one or two cyclic structures, wherein at least either the diamine or tetracarboxylic acid has one or more alkyl groups bonded to the cyclic structure. The obtained polyimide alignment film has high elasticity as well as rubbing durability.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はアクティブマトリク
ス型液晶表示装置に関わる。
[0001] The present invention relates to an active matrix type liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置は2枚のガラス基板を所定
の間隔をあけて配置し、そのすき間に液晶を注入して構
成される。ガラス基板と液晶層の間には配向膜と呼ばれ
る高分子薄膜が配置され、液晶分子を配列させるために
配向処理が施されている。表示はこの配列された液晶分
子に電界を印加することによりその配向方向を変化さ
せ、それにより生じる液晶層の光学特性の変化により行
われる。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display device is constructed by arranging two glass substrates at a predetermined interval and injecting liquid crystal into a gap. A polymer thin film called an alignment film is disposed between the glass substrate and the liquid crystal layer, and an alignment process is performed to align the liquid crystal molecules. The display is performed by changing the alignment direction by applying an electric field to the arranged liquid crystal molecules, thereby changing the optical characteristics of the liquid crystal layer.

【0003】従来のアクティブ駆動型液晶表示装置は、
液晶を挟持する一対の基板それぞれにおいて、電極を設
け、その上に配向処理された配向膜が形成され、基板に
ほぼ平行に配向された液晶に印加される電界方向が基板
面に対してほぼ垂直となるように設計され、液晶の光旋
光性を利用して表示を行うTN方式に代表される。この
TN方式では視野角が狭いことが大きな問題である。
A conventional active drive type liquid crystal display device is:
An electrode is provided on each of a pair of substrates sandwiching the liquid crystal, and an alignment film subjected to an alignment treatment is formed thereon, and a direction of an electric field applied to the liquid crystal aligned substantially parallel to the substrate is substantially perpendicular to the substrate surface. And is represented by the TN mode in which display is performed by utilizing the optical rotation of liquid crystal. In this TN system, a narrow viewing angle is a major problem.

【0004】一方、櫛歯電極を用いて、発生する電界が
基板面にほぼ平行な成分を有するようにして、液晶分子
を基板面にほぼ平行な面内で回転させ、液晶の複屈折性
を利用して表示を行うIPS方式が、特公昭63−21
907号,USP4345249号などにより開示されている。こ
の方式では液晶分子を面内で回転させることにより光を
スイッチしているため、画面を見る角度(視野角)によ
って階調,色調の反転が生じることがなく、従来のTN
方式に比べ視野角が広い。さらに、この方式では低負荷
容量などの利点もある。このような視角特性に優れたI
PS方式は、従来のTN方式に変わる新しい液晶表示装
置として期待され、今後の大画面液晶パネルや液晶テレ
ビにとって重要な技術である。
On the other hand, by using a comb-shaped electrode, the generated electric field has a component substantially parallel to the substrate surface, and the liquid crystal molecules are rotated in a plane substantially parallel to the substrate surface to reduce the birefringence of the liquid crystal. The IPS system for displaying by using is disclosed in JP-B-63-21
No. 907, US Pat. No. 4,345,249, and the like. In this method, since light is switched by rotating liquid crystal molecules in a plane, there is no inversion of gradation and color tone depending on the angle at which the screen is viewed (viewing angle).
The viewing angle is wider than the system. Further, this method has advantages such as low load capacity. I having such excellent viewing angle characteristics
The PS method is expected as a new liquid crystal display device replacing the conventional TN method, and is an important technology for large-screen liquid crystal panels and liquid crystal televisions in the future.

【0005】しかし、このような視角特性に優れたIP
S方式においても利点だけでなく、液晶表示性能を低下
させる課題もある。中でも特に重要な課題は残像・画像
焼付けといった表示不良の問題である。残像・画像焼付
け現象は、長時間同一の画像を表示させた後に別の画像
を表示させた場合、それまで表示されていた画像が同時
に表示される現象であり、液晶表示装置としての性能を
低下させる要因の一つである。IPS方式のように液晶
分子を基板にほぼ平行な面内で回転させ、光をスイッチ
することにより表示している方式では、従来のTN方式
で見られた電荷の残留により発生する残像とは異なる残
像現象も生じている。このIPS方式特有の蓄積電荷に
依存しない残像・画像焼付け現象は特開平10−319
406号に示されているように、電界印加によって液晶
分子の面内捻れ変形で発生する回転トルクにより液晶分
子の初期配向方向を規制している配向膜表面が弾性変形
することによって生じると考えられている。実際、IP
S方式の液晶表示装置において残像・画像焼付き領域部
分の液晶配向方向を詳細に調べると、それらの領域のみ
液晶初期配向方向(ラビング方向)に比べ、駆動方向に
ある一定の角度だけ回転していることがわかる。この液
晶配向の乱れにより残像・画像焼付きが発生し、黒レベ
ル低下やコントラスト低下を引き起こしている。
[0005] However, an IP having such excellent viewing angle characteristics is required.
The S method has not only an advantage but also a problem of deteriorating the liquid crystal display performance. Among them, a particularly important problem is a problem of display defects such as afterimages and image printing. The afterimage / image burn-in phenomenon is a phenomenon in which when the same image is displayed for a long time and then another image is displayed, the previously displayed image is displayed at the same time, deteriorating the performance as a liquid crystal display device. This is one of the factors that cause it. In a system such as an IPS system in which liquid crystal molecules are rotated in a plane substantially parallel to the substrate and light is switched to display an image, which is different from an afterimage generated due to residual charges observed in the conventional TN system. An afterimage phenomenon also occurs. The afterimage / image printing phenomenon which does not depend on the accumulated charge peculiar to the IPS system is disclosed in
As shown in Japanese Patent No. 406, it is considered that this is caused by the elastic deformation of the surface of the alignment film that regulates the initial alignment direction of the liquid crystal molecules due to the rotational torque generated by the in-plane torsional deformation of the liquid crystal molecules by the application of an electric field. ing. In fact, IP
A detailed examination of the liquid crystal alignment direction in the afterimage / image sticking region in the S-mode liquid crystal display device reveals that only those regions rotate by a certain angle in the driving direction as compared with the liquid crystal initial alignment direction (rubbing direction). You can see that there is. Afterimages and image sticking occur due to the disorder of the liquid crystal alignment, which causes a decrease in black level and a decrease in contrast.

【0006】このような配向膜表面の弾性変形が主原因
と考えられている残像・画像焼付きを低減する手段とし
て、特開平10−319406号公報で表面弾性率の大
きな配向膜を用いることが提案されている。高表面弾性
率の配向膜を用いることで配向膜表面の弾性変形を低減
し、結果として残像・画像焼付き現象を低減することが
できる。
As means for reducing image sticking and image sticking, which is considered to be mainly caused by the elastic deformation of the alignment film surface, Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-319406 discloses the use of an alignment film having a large surface elastic modulus. Proposed. By using an alignment film having a high surface elastic modulus, elastic deformation of the alignment film surface can be reduced, and as a result, the afterimage and image sticking phenomena can be reduced.

【0007】また、従来のIPS方式液晶表示装置では
液晶に電界を印加するための電極として櫛歯状の金属材
料(例えばクロムなど)を用いていることから、電極部
の光が透過せず、低開口率であり、透過率が低いという
課題もある。この課題を解決するための手段としては、
例えば特開平9−73101号公報で提案されている。
その手段とは、液晶分子に電界を印加するための画素電
極及び共通電極の少なくとも一方にITOなどの透明導
電膜を用いる方法である。電極部の光も透過することか
ら開口率を向上でき、結果として液晶表示装置の透過率
を向上できる。
Further, in the conventional IPS mode liquid crystal display device, since a comb-shaped metal material (for example, chromium) is used as an electrode for applying an electric field to the liquid crystal, light from the electrode portion is not transmitted. There is also a problem that the aperture ratio is low and the transmittance is low. As means to solve this problem,
For example, it is proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-73101.
The means is a method of using a transparent conductive film such as ITO for at least one of a pixel electrode and a common electrode for applying an electric field to liquid crystal molecules. The aperture ratio can be improved because light from the electrode portion is also transmitted, and as a result, the transmittance of the liquid crystal display device can be improved.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上述のように、液晶分
子を基板にほぼ平行な面内で回転させることにより光の
スイッチを行うIPS方式液晶表示装置においては、残
像・画像焼付きを低減させるために弾性率の高い配向膜
が必要である。配向膜の高弾性率化を図るためには配向
膜を構成するポリマーの分子構造が剛直で直線性に富ん
だ構造が望ましい。しかし、このような高弾性率の配向
膜は一般に表面が脆いという欠点があり、液晶分子を配
向させるためのラビング工程(ラビング布で配向膜表面
をこする工程)において画素内の配向膜表面に傷やくず
を発生する。これら画素内の傷やくずは液晶分子の初期
配向を乱し、黒レベルの低下やコントラスト低下など液
晶表示装置としての表示特性の著しい低下を引き起こ
す。従って、残像・画像焼付きを低減し、同時に黒レベ
ルやコントラストを向上させるためには、高弾性率であ
り、かつ、ラビング耐性のある(ラビング傷やラビング
くずを発生しない)配向膜が必要となる。
As described above, in an IPS type liquid crystal display device in which light is switched by rotating liquid crystal molecules in a plane substantially parallel to a substrate, afterimages and image sticking are reduced. Therefore, an alignment film having a high elastic modulus is required. In order to increase the elastic modulus of the alignment film, it is desirable that the polymer constituting the alignment film has a rigid and highly linear molecular structure. However, such a high-modulus alignment film generally has a drawback that its surface is brittle, and in the rubbing step for aligning the liquid crystal molecules (the step of rubbing the alignment film surface with a rubbing cloth), the alignment film surface in the pixel is damaged. Causes scratches and debris. These scratches and debris in the pixel disturb the initial alignment of the liquid crystal molecules, causing a significant reduction in display characteristics as a liquid crystal display device, such as a decrease in black level and a decrease in contrast. Therefore, in order to reduce the afterimage and image sticking, and at the same time to improve the black level and the contrast, an alignment film having a high elastic modulus and rubbing resistance (which does not generate rubbing scratches or rubbing scraps) is required. Become.

【0009】本発明の目的は、ラビング耐性のある高弾
性率配向膜を使用し、残像・画像焼付きを低減し、か
つ、黒レベル低下やコントラスト低下のない高品質で高
透過率の液晶表示装置を提供することである。
An object of the present invention is to use a high-modulus alignment film having rubbing resistance, reduce afterimages and image sticking, and provide a high-quality, high-transmissivity liquid crystal display without black level reduction or contrast reduction. It is to provide a device.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本出願の一実施態様によ
れば、少なくとも一方が透明な一対の基板と、一対の基
板の互いに対向する面上に形成された液晶配向制御層
と、液晶配向制御層に接触するようにして基板間に配置
された液晶と、一対の基板の内の一方に形成された画素
電極及び共通電極並びに能動素子とからなり、画素電極
及び共通電極に電圧を印加することにより液晶の配向を
制御して表示を行う液晶表示装置で、液晶配向制御層
は、一つまたは二つの環状構造部から構成されるジアミ
ンと一つまたは二つの環状構造部から構成されるテトラ
カルボン酸とから合成され、前記ジアミンとテトラカル
ボン酸の少なくとも一方の前記環状構造部に結合したア
ルキル基をひとつ以上有する高分子材料から構成すると
いうものである。
According to one embodiment of the present application, at least one of a pair of transparent substrates, a liquid crystal alignment control layer formed on opposing surfaces of the pair of substrates, The liquid crystal is disposed between the substrates so as to be in contact with the control layer, and includes a pixel electrode, a common electrode, and an active element formed on one of the pair of substrates, and applies a voltage to the pixel electrode and the common electrode. The liquid crystal display device performs display by controlling the alignment of the liquid crystal by using a liquid crystal alignment control layer comprising a diamine composed of one or two cyclic structures and a tetralayer composed of one or two cyclic structures. And a polymer material having at least one alkyl group bonded to the cyclic structure of at least one of the diamine and the tetracarboxylic acid.

【0011】この実施態様において、アルキル基の炭素
数が2以下であるということも特徴の一つである。
One of the features of this embodiment is that the alkyl group has 2 or less carbon atoms.

【0012】また、上の構成において、液晶配向制御層
を構成する高分子材料の弾性率が3ギガパスカル(GP
a)以上であることも特徴の一つである。
In the above structure, the elastic modulus of the polymer material constituting the liquid crystal alignment control layer is 3 gigapascal (GP).
a) The above is one of the features.

【0013】さらに、上の態様において、ジアミンは、
化学式1、又は化学式2で表されるジアミンであるとい
うことも特徴の一つである。
Further, in the above embodiment, the diamine is
One of the features is that it is a diamine represented by Chemical Formula 1 or Chemical Formula 2.

【0014】 [0014]

【0015】[R1からR12は水素原子,ハロゲン原
子又はアルキル基を表し、そのアルキル基は未置換であ
るか、又はハロゲン、特にF又はClで一置換されてい
るか又は多置換されているものとする。また、Xは単結
合又は、−O−,−S−,−CO−,−C(CH3)2−,
−SO2−のいずれかを表す。] さらに、上の態様において、前記テトラカルボン酸は、
化学式3、又は化学式4で表されるテトラカルボン酸で
あることを特徴とする。
[R1 to R12 represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, the alkyl group being unsubstituted or mono- or poly-substituted by halogen, especially F or Cl; I do. X is a single bond or —O—, —S—, —CO—, —C (CH 3 ) 2 —,
—SO 2 —. Further, in the above embodiment, the tetracarboxylic acid is
It is a tetracarboxylic acid represented by Chemical Formula 3 or Chemical Formula 4.

【0016】 [0016]

【0017】[R13からR20は水素原子,ハロゲン
原子又はアルキル基を表し、そのアルキル基は未置換で
あるか、又はハロゲン、特にF又はClで一置換されて
いるか又は多置換されているものとする。また、Xは単
結合又は、−O−,−S−,−CO−,−CH2−,−C
(CH3)2−,−SO2−のいずれかを表す。] このような実施態様により、ラビング耐性のある(ラビ
ング傷やラビングくずを発生しない)高弾性率ポリイミ
ド配向膜を提供でき、結果として残像・画像焼付きがな
く、黒レベル低下やコントラスト低下のない高品質な液
晶表示装置を提供することができる。
[R13 to R20 represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, which alkyl group is unsubstituted or mono- or polysubstituted with halogen, especially F or Cl. I do. Further, X represents a single bond or a, -O -, - S -, - CO -, - CH 2 -, - C
Represents any of (CH 3 ) 2 — and —SO 2 —. According to such an embodiment, a high-modulus polyimide alignment film having rubbing resistance (without generating rubbing scratches or rubbing debris) can be provided, and as a result, there is no afterimage or image sticking, and there is no black level reduction or contrast reduction. A high-quality liquid crystal display device can be provided.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】前述のように、残留電荷に依存せ
ず、配向膜表面の弾性変形に起因したIPS方式特有の
残像・画像焼付き現象は弾性率の高い配向制御膜を用い
ることで低減できる。配向制御膜の高弾性率化を図るた
めには、配向制御膜を構成するポリマーの分子構造が剛
直で直線性に富んでいることが望ましい。なお、一般に
液晶表示装置での液晶配向制御膜には液晶の配向性や製
造プロセスの安定性からポリイミド配向膜が用いられて
いる。一般的なポリイミド配向膜の合成経路を化学式1
6に示した。
As described above, the afterimage and image sticking phenomenon peculiar to the IPS method due to the elastic deformation of the alignment film surface without depending on the residual charge can be achieved by using the alignment control film having a high elastic modulus. Can be reduced. In order to increase the elastic modulus of the orientation control film, it is desirable that the molecular structure of the polymer constituting the orientation control film is rigid and rich in linearity. In general, a polyimide alignment film is used as a liquid crystal alignment control film in a liquid crystal display device because of the alignment of liquid crystal and the stability of a manufacturing process. The general synthetic route of polyimide alignment film is shown in Chemical Formula 1.
6 is shown.

【0019】ポリイミド配向膜はジアミンとテトラカル
ボン酸から合成されるポリアミック酸を基板上に印刷機
もしくはスピンナにより塗布し、これを高温で焼成して
形成される。ここでいうポリイミド配向膜とは、ポリア
ミック酸のアミック酸部位すべてがイミド化されたもの
ではなく、一部アミック酸部位が残存しているものも含
む。
The polyimide alignment film is formed by applying a polyamic acid synthesized from a diamine and a tetracarboxylic acid onto a substrate by using a printing machine or a spinner, and firing this at a high temperature. The term "polyimide alignment film" used herein does not mean that all the amic acid sites of the polyamic acid are imidized, but also includes those in which some amic acid sites remain.

【0020】そこでまず、配向膜の弾性率と液晶表示装
置の残像レベルとの相関について電極構成の異なる2種
類の液晶表示装置を用いて検討した。検討に用いた液晶
表示装置の画素部の電極構成を図1,図2及び図3,図
4に示した。
First, the correlation between the elastic modulus of the alignment film and the afterimage level of the liquid crystal display device was examined using two types of liquid crystal display devices having different electrode configurations. The electrode configuration of the pixel portion of the liquid crystal display device used for the study is shown in FIGS. 1, 2, 3 and 4.

【0021】第一の実施形態での液晶表示装置を図1,
図2に示した。液晶表示装置はIPS方式であり、液晶分
子に印加する電界を発生させる画素電極と共通電極が櫛
歯状であり、かつ金属電極である。図1と図2は画素部
の断面図及び電極構造を示した平面図である。図1は図
2(a)でのC−C′線に沿った断面図であり、図2
(b)(c)はそれぞれ図2(a)でのA−A′及びB
−B′線に沿った断面図である。各画素は薄膜トランジ
スタ(TFT)15、画素電極5及び共通電極3から構
成される。電圧はこれら画素電極と共通電極との間に印
加され、これにより発生する電界13によって液晶を駆
動する。なお、金属電極材料としては電気抵抗の低い金
属材料であれば特に制約はなく、クロム,アルミニウ
ム,銅等でもよい。このような電極が金属材料により構
成されている液晶表示装置おいては、電極部で光が透過
せず透過率・開口率が低くなってしまうという問題があ
る。そのため、電極間隔を比較的広く設計し、例えば電
極間隔が液晶層の厚みの2倍以上になるよう画素電極と
共通電極を配置し、開口率を確保している。本発明者の
検討から液晶表示装置の残像レベルが表示特性として問
題ないレベルに達するためには少なくとも配向膜の弾性
率として3ギガパスカル(GPa)以上であることが望
ましいことがわかった。
The liquid crystal display device according to the first embodiment is shown in FIGS.
As shown in FIG. The liquid crystal display device is of the IPS type, in which a pixel electrode for generating an electric field applied to liquid crystal molecules and a common electrode are comb-shaped, and are metal electrodes. 1 and 2 are a cross-sectional view of a pixel portion and a plan view showing an electrode structure. FIG. 1 is a cross-sectional view taken along the line CC ′ in FIG.
(B) and (c) are AA ′ and B in FIG.
It is sectional drawing which followed the -B 'line. Each pixel includes a thin film transistor (TFT) 15, a pixel electrode 5, and a common electrode 3. A voltage is applied between the pixel electrode and the common electrode, and the liquid crystal is driven by an electric field 13 generated thereby. The metal electrode material is not particularly limited as long as it is a metal material having low electric resistance, and may be chromium, aluminum, copper, or the like. In a liquid crystal display device in which such an electrode is made of a metal material, there is a problem that light is not transmitted through the electrode portion and the transmittance and the aperture ratio are reduced. For this reason, the electrode spacing is designed to be relatively wide, for example, the pixel electrode and the common electrode are arranged so that the electrode spacing is at least twice the thickness of the liquid crystal layer, and the aperture ratio is secured. From the study of the present inventors, it has been found that it is desirable that the elastic modulus of the alignment film is at least 3 gigapascal (GPa) in order for the afterimage level of the liquid crystal display device to reach a level with no problem in display characteristics.

【0022】なお、ここで言う配向膜の弾性率は配向膜
バルクの弾性率である。前述のように残像・画像焼付き
現象は配向膜表面の弾性変形によるものであり、厳密に
は配向膜弾性率として表面弾性率を議論するべきであ
る。しかし、表面弾性率はバルクの弾性率を大きく反映
する物性値であり、本発明者の検討から、配向膜バルク
の弾性率と残像・画素焼付きレベルにも相関があり、配
向膜バルクの弾性率が大きいほど残像・画像焼付きが低
減できることがわかっている。
The elastic modulus of the alignment film referred to here is the elastic modulus of the bulk of the alignment film. As described above, the afterimage / image sticking phenomenon is due to the elastic deformation of the alignment film surface. Strictly speaking, the surface elastic modulus should be discussed as the alignment film elastic modulus. However, the surface elastic modulus is a physical property value that largely reflects the bulk elastic modulus, and from the study of the present inventor, there is also a correlation between the bulk elastic modulus of the alignment film and the level of image sticking and image sticking. It is known that the higher the ratio, the more the afterimage and image sticking can be reduced.

【0023】上記液晶表示装置においては電極材料とし
て金属を用いているために開口率・透過率の低いことが
大きな課題である。このような課題に対して特開平9−
73101号公報に電極材料として透明導電膜を用いる
ことが提案されている。透明導電膜を用いることで電極
部でも光が透過し、結果として高開口率,高透過率が可
能となる。また、透明導電膜を用いることによる別の利
点もある。それは、開口率を低下させることなく画素電
極と共通電極との間隔を狭くできることである。電極間
隔を狭くすることにより、液晶に印加される電界強度が
大きくなり、結果として液晶の低電圧駆動や高速応答が
可能となる。また、液晶表示装置の製造工程の簡略化,
生産性向上を考えると、画素の開口部で一方の電極を他
方の電極に実質的に全部の面積で重畳させて、画素電極
と共通電極の位置合わせを容易にしたIPS方式の液晶
表示装置も可能である。
In the above-mentioned liquid crystal display device, since a metal is used as an electrode material, a large problem is that the aperture ratio and the transmittance are low. To solve such a problem, Japanese Patent Laid-Open No.
No. 73101 proposes using a transparent conductive film as an electrode material. By using the transparent conductive film, light is transmitted through the electrode portion, and as a result, a high aperture ratio and a high transmittance can be achieved. There is another advantage of using a transparent conductive film. That is, the distance between the pixel electrode and the common electrode can be reduced without lowering the aperture ratio. By reducing the distance between the electrodes, the intensity of the electric field applied to the liquid crystal increases, and as a result, low-voltage driving and high-speed response of the liquid crystal become possible. In addition, the manufacturing process of the liquid crystal display device is simplified,
Considering an improvement in productivity, an IPS type liquid crystal display device in which one electrode is overlapped with the other electrode over substantially the entire area at the pixel opening to facilitate alignment between the pixel electrode and the common electrode is also considered. It is possible.

【0024】そこで、図3,図4に示した第二の実施形
態でのIPS方式液晶表示装置について検討した。液晶
分子に印加する電界を発生させる櫛歯状画素電極と画素
部ほぼ全面を覆う共通電極であり、かつこれら電極の少
なくとも一方、もしくは両方が透明導電膜で形成されて
いる。透明導電膜としては加工精度のよいITOやIZ
Oが望ましい。図3は図4(a)でのC−C′線に沿っ
た断面図である。図4(b)(c)はそれぞれ図4
(a)でのA−A′及びB−B′線に沿った断面図であ
る。各画素は薄膜トランジスタ(TFT)115,櫛歯
状画素電極105及び絶縁膜を介して実質的に画素部全
面を覆う共通電極103から構成される。櫛歯状画素電
極はさらなる低電圧駆動,高速応答に対応するために、
第一での実施形態における液晶表示装置での画素電極に
比べ電極幅,電極間隔が極端に狭くなっている。また、
下層の共通電極は櫛歯状にパターニングする必要もな
く、上層の櫛歯状画素電極との合わせにマージンがある
ことから生産効率も高い。電圧はこれら画素電極と共通
電極との間に印加され、これにより発生する電界113
によって液晶を駆動する。このような構成により画素電
極と共通電極の電極間隔は実質的にそれら電極間に介在
する絶縁膜の膜厚に等しくなる。このことで液晶に印加
される電界強度は非常に強く、低電圧駆動,高速応答が
可能である。
Therefore, the IPS type liquid crystal display device according to the second embodiment shown in FIGS. 3 and 4 was studied. A comb-shaped pixel electrode for generating an electric field to be applied to the liquid crystal molecules and a common electrode covering almost the entire pixel portion, and at least one or both of these electrodes are formed of a transparent conductive film. ITO or IZ with good processing accuracy as transparent conductive film
O is desirable. FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line CC ′ in FIG. FIGS. 4 (b) and 4 (c) respectively show FIG.
It is sectional drawing in alignment with the AA 'and BB' line in (a). Each pixel includes a thin film transistor (TFT) 115, a comb-shaped pixel electrode 105, and a common electrode 103 that substantially covers the entire pixel portion via an insulating film. Comb-shaped pixel electrodes are designed for low-voltage driving and high-speed response.
The electrode width and the electrode interval are extremely narrow as compared with the pixel electrodes in the liquid crystal display device according to the first embodiment. Also,
The lower common electrode does not need to be patterned in a comb shape, and the production efficiency is high since there is a margin for alignment with the upper comb-shaped pixel electrode. A voltage is applied between the pixel electrode and the common electrode, and an electric field 113 generated by the voltage is applied.
Drives the liquid crystal. With such a configuration, the electrode interval between the pixel electrode and the common electrode is substantially equal to the thickness of the insulating film interposed between the electrodes. As a result, the intensity of the electric field applied to the liquid crystal is extremely high, and low-voltage driving and high-speed response are possible.

【0025】本発明者の検討から、このような液晶表示
装置においては、残像レベルが表示特性として問題ない
レベルに達するためには少なくとも配向膜の弾性率とし
て5ギガパスカル(GPa)以上であることが望ましい
ことがわかった。第一の実施形態での液晶表示装置に比
べさらに高弾性率を有する配向膜が必要なのは電極エッ
ジ部近傍での電界集中によると考えられる。
According to the study of the present inventor, in such a liquid crystal display device, the elasticity of the alignment film must be at least 5 gigapascal (GPa) or more in order for the afterimage level to reach a level that does not cause a problem in display characteristics. Turned out to be desirable. It is considered that the need for an alignment film having a higher elastic modulus than that of the liquid crystal display device according to the first embodiment is due to the electric field concentration near the electrode edge.

【0026】この第二の実施形態の液晶表示装置では電
極間隔が極端に狭く、実質的に電極間隔は画素電極と共
通電極の間に介在する絶縁膜の厚みに等しい。このよう
に電極間隔が極端に狭い場合には、電極エッジ部近傍で
電界集中が発生し、その領域の液晶分子の回転角度は液
晶層全体の平均的な回転角よりは大きくなり、実効的な
回転トルクが増大すると考えられる。この回転トルクの
増大は電極エッジ部近傍での配向膜表面の弾性変形量を
増大させ、結果として残像レベルを悪化させる。したが
って、本実施形態の液晶表示装置のように、液晶に電界
を印加するための画素電極と共通電極との最も狭い間隔
が液晶層の厚さよりも小さい場合には、第一の実施形態
における液晶表示装置に比べ配向膜の弾性変形の少な
い、すなわち弾性率の大きな配向膜が必要となる。
In the liquid crystal display device of the second embodiment, the electrode interval is extremely narrow, and the electrode interval is substantially equal to the thickness of the insulating film interposed between the pixel electrode and the common electrode. When the electrode interval is extremely narrow as described above, electric field concentration occurs near the electrode edge, and the rotation angle of liquid crystal molecules in that region becomes larger than the average rotation angle of the entire liquid crystal layer. It is considered that the rotational torque increases. This increase in the rotational torque increases the amount of elastic deformation of the alignment film surface near the electrode edge, and consequently deteriorates the afterimage level. Therefore, as in the liquid crystal display device of the present embodiment, when the narrowest distance between the pixel electrode and the common electrode for applying an electric field to the liquid crystal is smaller than the thickness of the liquid crystal layer, the liquid crystal in the first embodiment is not used. An alignment film having less elastic deformation of the alignment film than the display device, that is, an alignment film having a large elastic modulus is required.

【0027】また、このような電極構造を有する液晶表
示装置においては、負の誘電率異方性(Δε<0)を有
する液晶を用いることで高透過率化を実現できることが
わかっている。このような負の誘電率異方性を有する液
晶を用いる場合には、ラビング角度θ(ラビング方向と
櫛歯電極長軸方向との成す最小の角度)は45°<θ<
90°であり、実際に透過率,駆動電圧などを考慮する
とθ=75°程度が好ましい。一方、正の誘電率異方性
を有する液晶を用いた場合には、ラビング角度θは0°
<θ<40°であり、実際に透過率,駆動電圧などを考
慮するとθ=15°程度が好ましい。このとき、負の誘
電率異方性を有する液晶を用いた場合には、正の誘電率
異方性を有する液晶を用いた場合に比べ、電極段差によ
り電極エッジ部にラビング布毛が当たりにくい領域、す
なわちラビングが弱く、配向膜の液晶規制力の弱い領域
が広くなる。このような領域においては電界が印加され
たときに液晶分子の回転角が大きくなり、実効的なトル
クが増大する。この結果として残像レベルが悪くなる。
したがって、このような負の誘電率異方性を有し、かつ
電極間隔の狭い液晶表示装置において、残像レベルを低
減するためには、さらに弾性率の大きな配向膜が必要と
なる。
In a liquid crystal display device having such an electrode structure, it is known that high transmittance can be realized by using a liquid crystal having a negative dielectric anisotropy (Δε <0). When a liquid crystal having such a negative dielectric anisotropy is used, the rubbing angle θ (minimum angle between the rubbing direction and the long axis direction of the comb electrode) is 45 ° <θ <.
90 °, and preferably θ = about 75 ° in consideration of the actual transmittance, drive voltage, and the like. On the other hand, when a liquid crystal having a positive dielectric anisotropy is used, the rubbing angle θ is 0 °.
<[Theta] <40 [deg.], And it is preferable that [theta] = about 15 [deg.] In consideration of the transmittance and the driving voltage. At this time, when liquid crystal having negative dielectric anisotropy is used, rubbing bristle is less likely to hit the electrode edge portion due to the electrode step than when liquid crystal having positive dielectric anisotropy is used. The area, that is, the area where the rubbing is weak and the liquid crystal regulating force of the alignment film is weak is widened. In such a region, when an electric field is applied, the rotation angle of the liquid crystal molecules increases, and the effective torque increases. As a result, the afterimage level deteriorates.
Therefore, in a liquid crystal display device having such a negative dielectric anisotropy and having a narrow electrode spacing, an alignment film having a higher elastic modulus is required to reduce the afterimage level.

【0028】しかし、本発明者の検討において確認され
ているが、一般に、このような高弾性率の配向膜、特に
第二の実施形態での5ギガパスカル(GPa)以上の配
向膜では、ラビング耐性がない。すなわち、液晶を配向
させるためのラビング工程(配向膜表面を布などでこす
る工程)で、膜表面の削れによるラビング傷やラビング
くずを発生する。この傾向は配向膜の弾性率が高くなる
ほど強い。さらに、第二の実施形態での液晶表示装置に
おいては、上層の櫛歯状画素電極の電極幅及び間隔が極
端に狭いため、画素部での凹凸が増える。この段差の多
い構造はラビング傷やラビングくずをさらに発生させや
すい。これらラビング傷やラビングくずは液晶分子の初
期配向を乱し、その結果、黒レベル低下やコントラスト
低下を引き起こし、液晶表示装置としての表示特性を低
下させる。したがって、残像特性とラビング耐性を両立
するためには、高弾性率でありながらラビング工程時に
膜表面の削れの発生しない配向膜の開発が必要となる。
However, as confirmed by the present inventors' studies, in general, such an alignment film having a high modulus of elasticity, particularly, an alignment film of 5 gigapascal (GPa) or more in the second embodiment, is rubbed. Not resistant. That is, in the rubbing step for aligning the liquid crystal (the step of rubbing the surface of the alignment film with a cloth or the like), rubbing scratches and rubbing debris are generated due to abrasion of the film surface. This tendency increases as the elastic modulus of the alignment film increases. Further, in the liquid crystal display device according to the second embodiment, since the electrode width and the interval of the upper comb-shaped pixel electrode are extremely narrow, unevenness in the pixel portion increases. The structure having many steps easily causes rubbing scratches and rubbing debris. These rubbing scratches and rubbing debris disturb the initial alignment of liquid crystal molecules, and as a result, lower the black level and lower the contrast, thereby deteriorating the display characteristics of the liquid crystal display device. Therefore, in order to achieve both the afterimage characteristics and the rubbing resistance, it is necessary to develop an alignment film having a high elastic modulus and not causing abrasion of the film surface during the rubbing step.

【0029】上記目的のために、剛直で直線性に富んで
いるジアミンとテトラカルボン酸を用いてポリイミド配
向膜を合成し、各ポリイミド配向膜における弾性率,ラ
ビング時のラビング傷,ラビングくず発生状況を検討し
た。なお、剛直で直線性に富んでいるジアミンとしては
(化学式1)と(化学式2)で示される構造のものを用
いた。
For the above purpose, a polyimide alignment film is synthesized using a rigid and highly linear diamine and tetracarboxylic acid, and the modulus of elasticity of each polyimide alignment film, rubbing scratches at the time of rubbing, and rubbing scrap generation. It was investigated. The rigid and highly linear diamine used had a structure represented by (Chemical Formula 1) and (Chemical Formula 2).

【0030】 [0030]

【0031】[R1からR12は水素原子,ハロゲン原
子又はアルキル基を表し、そのアルキル基は未置換であ
るか、又はハロゲン、特にF又はClで一置換されてい
るか又は多置換されているものとする。また、Xは単結
合又は、−O−,−S−,−CO−,−C(CH3)2−,
−SO2−のいずれかを表す。] また、剛直で直線性に富んでいるテトラカルボン酸とし
ては(化学式3)から(化学式5)で示される構造のも
のを用いた。
[R1 to R12 represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, the alkyl group being unsubstituted or mono- or polysubstituted with halogen, especially F or Cl. I do. X is a single bond or —O—, —S—, —CO—, —C (CH 3 ) 2 —,
—SO 2 —. In addition, a rigid and highly linear tetracarboxylic acid having a structure represented by (Chemical Formula 3) to (Chemical Formula 5) was used.

【0032】 [0032]

【0033】[R13からR20は水素原子,ハロゲン
原子又はアルキル基を表し、そのアルキル基は未置換で
あるか、又はハロゲン、特にF又はClで一置換されて
いるか又は多置換されているものとする。また、Xは単
結合又は、−O−,−S−,−CO−,−CH2−,−C
(CH3)2−,−SO2−のいずれかを表す。]
[R13 to R20 represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, the alkyl group being unsubstituted or mono- or polysubstituted with halogen, especially F or Cl. I do. Further, X represents a single bond or a, -O -, - S -, - CO -, - CH 2 -, - C
Represents any of (CH 3 ) 2 — and —SO 2 —. ]

【0034】これらの検討の中で、高弾性率化とラビン
グ耐性を両立するいくつかのポリイミド配向膜を見出し
た。そして、それらの分子構造において一つの共通する
特徴を見出した。すなわち、一つまたは二つの環状構造
部から構成されるジアミンと一つまたは二つの環状構造
部から構成されるテトラカルボン酸とから合成され、さ
らに、これら環状構造部の少なくとも一つ以上にアルキ
ル基が導入されているポリイミド配向膜は弾性率が高く
ラビング耐性もある。このアルキル基はジアミンとテト
ラカルボン酸のいずれか一方に一つ以上あれば良く、ま
た両方にあっても良い。さらに、同一環状構造部に複数
含まれても良い。なお、環状構造部とは芳香環もしくは
脂環構造を指し、例えば、テトラカルボン酸を無水化す
ることによって生じる環構造を含まない。すなわち(化
学式11)または(化学式5)に示された二種類の無水
テトラカルボン酸の場合、環状構造部は一つである。ま
た(化学式12)に示された無水テトラカルボン酸の場
合、環状構造は二つである。
Through these studies, we have found several polyimide alignment films having both high elastic modulus and rubbing resistance. And they found one common feature in their molecular structures. That is, it is synthesized from a diamine composed of one or two cyclic structures and a tetracarboxylic acid composed of one or two cyclic structures, and further, at least one of these cyclic structures has an alkyl group. The polyimide alignment film into which is introduced has a high elastic modulus and a rubbing resistance. This alkyl group may be present in one or more of either diamine and tetracarboxylic acid, or may be present in both. Furthermore, a plurality may be included in the same annular structure portion. In addition, the cyclic structure portion refers to an aromatic ring or an alicyclic structure, and does not include, for example, a ring structure generated by dehydrating tetracarboxylic acid. That is, in the case of the two kinds of tetracarboxylic anhydrides represented by (Chemical formula 11) or (Chemical formula 5), there is one cyclic structure portion. In the case of the tetracarboxylic anhydride represented by (Chemical formula 12), there are two cyclic structures.

【0035】 [0035]

【0036】 [0036]

【0037】ポリイミド配向膜は(化学式1)又は(化
学式2)で表されたジアミンのうち一種又は二種以上の
ジアミンと、(化学式3)又は(化学式4)で表された
テトラカルボン酸のうち一種または二種以上のテトラカ
ルボン酸とから合成されても良い。また、(化学式5)
で表されるテトラカルボン酸と(化学式1)又は(化学
式2)で表されたジアミンのうち一種又は二種以上のジ
アミンとから合成されても良い。さらには(化学式5)
で表されるテトラカルボン酸と(化学式3)又は(化学
式4)で表されたテトラカルボン酸のうち少なくとも一
種以上のテトラカルボン酸と(化学式1)又は(化学式
2)で表されたジアミンのうち一種又は二種以上のジア
ミンとから合成されても良い。
The polyimide alignment film comprises one or more of the diamines represented by Formula 1 or Formula 2 and the tetracarboxylic acid represented by Formula 3 or Formula 4 It may be synthesized from one or more kinds of tetracarboxylic acids. Also, (Chemical formula 5)
May be synthesized from a tetracarboxylic acid represented by the formula and one or more diamines among the diamines represented by the (chemical formula 1) or (chemical formula 2). Furthermore, (Chemical formula 5)
And at least one of tetracarboxylic acids represented by (Chemical Formula 3) or (Chemical Formula 4) and a diamine represented by (Chemical Formula 1) or (Chemical Formula 2) It may be synthesized from one or more diamines.

【0038】また、検討の中で上記環状構造部に導入さ
れているアルキル基は炭素数2以下が望ましいこともわ
かった。環状構造部に導入された側鎖アルキル基の炭素
数が3以上の場合、少なくとも以下に示す二つの問題を
生じる。炭素数3以上のアルキル基ではその炭素鎖が
屈曲性を有し、ポリイミド配向膜の弾性率を低下させ
る。この弾性率の低下により残像特性が悪化する。これ
は炭素数の増大によりこの傾向は増す。炭素数3以上
のアルキル基が側鎖としてある場合には、液晶分子のプ
レチルト角を発生させる。IPS方式のような基板面に
ほぼ平行な平面上で液晶分子を回転させ、光をスイッチ
する方法では大きなプレチルト角の発生により色調など
の視角依存が発生する。
Further, it has been found from the investigation that the alkyl group introduced into the cyclic structure preferably has 2 or less carbon atoms. When the number of carbon atoms in the side chain alkyl group introduced into the cyclic structure is 3 or more, at least the following two problems occur. In an alkyl group having 3 or more carbon atoms, the carbon chain has flexibility and lowers the elastic modulus of the polyimide alignment film. The decrease in the elastic modulus deteriorates the afterimage characteristics. This tendency increases as the carbon number increases. When an alkyl group having 3 or more carbon atoms is present as a side chain, a pretilt angle of a liquid crystal molecule is generated. In a method of switching light by rotating liquid crystal molecules on a plane substantially parallel to the substrate surface such as the IPS method, a large pretilt angle causes a viewing angle dependence such as a color tone.

【0039】以下に本発明についての図を用いて実施例
を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定さ
れるものではない。 (実施例1)本実施例での液晶表示装置の概略図を図1
及び図2に示した。また、図5に表示マトリクス部の等
価回路とその周辺回路を示した。液晶表示装置はIPS
方式であり、同一基板上に形成された電極間に電圧を印
加し、それにより発生する基板面にほぼ平行な電界によ
り液晶分子を駆動させ、光学的な状態を制御し、表示を
制御する。
Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the drawings of the present invention, but the present invention is not limited to these embodiments. Embodiment 1 FIG. 1 is a schematic view of a liquid crystal display device according to this embodiment.
And FIG. FIG. 5 shows an equivalent circuit of the display matrix unit and its peripheral circuits. Liquid crystal display device is IPS
In this method, a voltage is applied between electrodes formed on the same substrate, and liquid crystal molecules are driven by an electric field substantially parallel to the substrate surface generated by the application of voltage, thereby controlling an optical state and controlling display.

【0040】液晶表示素子は、表示部が対角14.1 イ
ンチサイズであり、厚みが0.7 mmで表面を研磨した透
明なガラス基板1,2を用いた。ガラス基板1上には図
5に示したように、信号電極6,走査電極16を形成し
た。また、各画素は薄膜トランジスタ(TFT)15,
櫛歯状画素電極5及び櫛歯状共通電極3から構成され
る。電圧はこれら画素電極と共通電極との間に印加さ
れ、これにより発生する電界13によって液晶を駆動す
る。画素電極は薄膜トランジスタ(TFT)と接続され
ており、共通電極は共通電圧信号線と一体となってい
る。なお、電極材料にはクロムを用い、櫛歯状に構成し
た長細い電極となっている。電極幅,電極間隔はそれぞ
れ10μm,15μmである。電極材料としては電気抵
抗の低い金属材料であれば特に制約はなく、アルミニウ
ム,銅等でもよい。また、加工精度の良い酸化インジウ
ムスズ(ITO),酸化インジウム亜鉛(IZO),酸
化インジウムゲルマニウム(IGO)などの透明導電膜
でもよい。
The liquid crystal display device used was a transparent glass substrate 1 or 2 having a display portion having a diagonal size of 14.1 inches, a thickness of 0.7 mm, and a polished surface. On the glass substrate 1, signal electrodes 6 and scanning electrodes 16 were formed as shown in FIG. Each pixel has a thin film transistor (TFT) 15,
It comprises a comb-shaped pixel electrode 5 and a comb-shaped common electrode 3. A voltage is applied between the pixel electrode and the common electrode, and the liquid crystal is driven by an electric field 13 generated thereby. The pixel electrode is connected to a thin film transistor (TFT), and the common electrode is integrated with a common voltage signal line. It should be noted that chromium is used as the electrode material, and the electrode is a long and thin electrode configured in a comb shape. The electrode width and the electrode interval are 10 μm and 15 μm, respectively. The electrode material is not particularly limited as long as it is a metal material having low electric resistance, and may be aluminum, copper, or the like. Further, a transparent conductive film such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), or indium germanium oxide (IGO) with high processing accuracy may be used.

【0041】一方、対向のガラス基板2上にはストライ
プ状の3色RGBカラーフィルタ11とブラックマトリ
クス12を備えた構造とした。カラーフィルタとブラッ
クマトリクス上には平坦化するためのカラーフィルタ保
護膜10を形成した。カラーフィルタ保護膜としてはエ
ポキシ樹脂を用いた。さらにガラス基板の遮光部である
ブラックマトリクス上に表示領域内の液晶層の厚みを均
一に制御するために柱状スペーサを形成した。なお、図
1で柱状スペーサは省略されている。
On the other hand, a structure is provided in which a three-color RGB color filter 11 and a black matrix 12 are provided on the opposing glass substrate 2. A color filter protective film 10 for flattening was formed on the color filter and the black matrix. Epoxy resin was used as the color filter protective film. Further, columnar spacers were formed on a black matrix, which is a light shielding portion of a glass substrate, to uniformly control the thickness of the liquid crystal layer in the display area. In FIG. 1, the columnar spacer is omitted.

【0042】次に両ガラス基板1,2の表面に液晶分子
を配列させるために必要なポリイミド配向膜8を形成し
た。一般的にポリイミド膜は、ジアミンとテトラカルボ
ン酸のモノマーを適当な溶剤中で反応させ、ポリイミド
の前駆体であるポリアミック酸を合成し、これを高温で
焼成することにより得られる。本実施例で用いたポリイ
ミド配向膜の合成について述べる。ジアミンとして(化
学式13)で示されるDMAP,テトラカルボン酸とし
て(化学式11)で示されるPMDAを用いた。
Next, a polyimide alignment film 8 necessary for aligning liquid crystal molecules was formed on the surfaces of the glass substrates 1 and 2. Generally, a polyimide film is obtained by reacting a diamine and a tetracarboxylic acid monomer in an appropriate solvent to synthesize a polyamic acid, which is a precursor of polyimide, and baking it at a high temperature. The synthesis of the polyimide alignment film used in this example will be described. DMAP represented by (chemical formula 13) was used as a diamine, and PMDA represented by (chemical formula 11) was used as a tetracarboxylic acid.

【0043】 [0043]

【0044】まず、各モノマーに吸着している水分を除
去するためにデシケータ中で真空乾燥(ジアミン:40
℃/8h,テトラカルボン酸:130℃/8h)した。
ジアミンDMAP1.0 モル%をN−メチル−2−ピロ
リドン中に溶解させ、ジアミンDMAPが十分に溶解し
たことを確認してから、テトラカルボン酸PMDA1.
0 モル%を加え、25℃で60時間反応させ、ポリア
ミック酸ワニスを合成した。なお、本実施例ではジアミ
ンとテトラカルボン酸を1:1(モル%)で反応させて
いるが、合成ポリマーの安定性を考慮して、例えばポリ
マー末端基がテトラカルボン酸で閉じるように、ジアミ
ンよりテトラカルボン酸のモル%を多少多くしてもよ
い。このことで合成ポリイミド膜の弾性率のような物性
値が大きく変化することはない。また、本実施例では溶
剤としてN−メチル−2−ピロリドンを用いているが、
これ以外でも例えば極性を有するブチルセルソルブ,ブ
チルラクトン、またはこれらの混合溶液などを用いても
よく、これらに限定されるものではない。ここで合成し
たポリアミック酸ワニスを固形分濃度2%に希釈し、ガ
ラス基板上に印刷機で塗布した。溶剤をとばすために仮
焼成した後、240℃/15分で本焼成した。得られた
ポリイミド配向膜の膜厚は100nm程度であった。
First, in order to remove the water adsorbed on each monomer, it was vacuum dried in a desiccator (diamine: 40
° C / 8h, tetracarboxylic acid: 130 ° C / 8h).
1.0 mol% of diamine DMAP was dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone, and after confirming that diamine DMAP was sufficiently dissolved, tetracarboxylic acid PMDA 1.
0 mol% was added and reacted at 25 ° C. for 60 hours to synthesize a polyamic acid varnish. In this embodiment, the diamine and the tetracarboxylic acid are reacted at a ratio of 1: 1 (mol%). However, in consideration of the stability of the synthetic polymer, for example, the diamine is closed so that the polymer terminal group is closed with the tetracarboxylic acid. The molar percentage of tetracarboxylic acid may be slightly increased. As a result, the physical property values such as the elastic modulus of the synthetic polyimide film do not significantly change. In this example, N-methyl-2-pyrrolidone was used as the solvent.
Other than this, for example, polar butyl cellosolve, butyl lactone, or a mixed solution thereof may be used, but the present invention is not limited thereto. The polyamic acid varnish synthesized here was diluted to a solid concentration of 2%, and applied to a glass substrate with a printing machine. After calcination to remove the solvent, calcination was performed at 240 ° C. for 15 minutes. The thickness of the obtained polyimide alignment film was about 100 nm.

【0045】次に液晶分子を配向させるための配向処理
を施した。配向処理は両ガラス基板上に形成されたポリ
イミド配向膜表面をラビング処理することにより行っ
た。ラビング処理にはラビング機(FS−55R型フジ
オカ製)を使用し、ラビングロール(100φ)にはレ
ーヨン製バフ布を用いた。ラビング条件はロール回転数
950rpm ,基板送り速度30mm/sec ,押し込み量
0.4 mmとした。ここで、押し込み量とはラビングロー
ルが配向膜表面からガラス基板側に押し込まれる量のこ
とである。押し込み量が大きいほどラビングロールは深
く押し込まれたことになる。ラビング布が配向膜表面か
らガラス基板側にラビング方向は櫛歯電極の長軸に対し
て15°方向とした。ラビング工程後に、顕微鏡で両基
板を観測したところ表示領域内にはラビング傷やラビン
グくずは見られなかった。
Next, an alignment treatment for aligning the liquid crystal molecules was performed. The alignment treatment was performed by rubbing the surface of the polyimide alignment film formed on both glass substrates. A rubbing machine (FS-55R type made by Fujioka) was used for the rubbing treatment, and a buff cloth made of rayon was used for the rubbing roll (100φ). The rubbing conditions were a roll rotation speed of 950 rpm, a substrate feed speed of 30 mm / sec, and a pushing amount of 0.4 mm. Here, the pushing amount is the amount by which the rubbing roll is pushed from the surface of the alignment film toward the glass substrate. The larger the pushing amount, the deeper the rubbing roll was pushed. The rubbing direction of the rubbing cloth from the surface of the alignment film to the glass substrate was set at 15 ° with respect to the long axis of the comb electrode. After the rubbing step, when both substrates were observed with a microscope, no rubbing scratches or rubbing chips were found in the display area.

【0046】ガラス基板1の表示領域周縁部にシール材
(熱硬化型樹脂)を塗布し、対向ガラス基板2を重ね合
わせた後、加熱しながら加圧し、両基板を接着固定し
た。ガラス基板間のギャップ(液晶層厚み)を4.0μ
m とした。その後、封入口から液晶を注入し、封止口
を光硬化樹脂により封止した。本実施例では正の誘電異
方性をもつ液晶を用いた。ガラス基板1,2の両面に偏
光板14を貼りつけ液晶パネルを完成させた。なお、偏
光板は液晶表示装置がノーマリクローズ特性(低電圧で
黒表示,高電圧で白表示)になるように貼りつけた。さ
らに液晶パネルには図5に示したようにガラス基板に走
査電極駆動回路20,信号電極駆動回路21,電源回路
及びコントロール回路23を接続し、走査信号電圧,映
像信号電圧,タイミング信号を供給し、アクティブマト
リクス駆動した。その後、液晶表示パネル29に図6に
示したシールドケース30,拡散板31,導光体32,
反射板33,バックライト34,下側ケース35,イン
バータ回路基板36を組み合わせることにより液晶表示
装置37を組み立てた。
A sealing material (thermosetting resin) was applied to the periphery of the display area of the glass substrate 1 and the opposing glass substrates 2 were overlaid, and then pressurized while heating to bond and fix both substrates. The gap between glass substrates (liquid crystal layer thickness) is 4.0μ
m. Thereafter, liquid crystal was injected from the sealing port, and the sealing port was sealed with a photocurable resin. In this embodiment, a liquid crystal having a positive dielectric anisotropy is used. A polarizing plate 14 was attached to both surfaces of the glass substrates 1 and 2 to complete a liquid crystal panel. The polarizing plate was attached so that the liquid crystal display device had normally closed characteristics (black display at low voltage, white display at high voltage). Further, as shown in FIG. 5, a scanning electrode drive circuit 20, a signal electrode drive circuit 21, a power supply circuit and a control circuit 23 are connected to the glass substrate of the liquid crystal panel to supply a scanning signal voltage, a video signal voltage, and a timing signal. , Active matrix drive. Thereafter, the liquid crystal display panel 29 is provided with the shield case 30, the diffusion plate 31, the light guide 32,
The liquid crystal display device 37 was assembled by combining the reflection plate 33, the backlight 34, the lower case 35, and the inverter circuit board 36.

【0047】このようにして組み立てた液晶表示装置の
表示領域内を顕微鏡で観察したところ、ラビング傷やラ
ビングくずによる液晶配向不良は観測されず、黒レベル
やコントラストといった基本表示特性も良好であった。
なお、コントラスト比(最大透過率を最小透過率で除し
た値)は、300であった。
When the display area of the liquid crystal display device thus assembled was observed with a microscope, no defective liquid crystal alignment due to rubbing scratches or rubbing debris was observed, and basic display characteristics such as black level and contrast were good. .
The contrast ratio (the value obtained by dividing the maximum transmittance by the minimum transmittance) was 300.

【0048】また、残像・画像焼付けを定量的に評価す
るためホトダイオードを組み合わせたオシロスコープを
用いて評価した。まず、画面上に最大輝度でウィンドパ
ターンを30分間表示し、その後、残像が最も目立つ中
間調表示、ここでは輝度が最大輝度の10%となるよう
に表示画面全面を切り替え、ウィンドの残像部分と周辺
中間調部分での輝度Bにおける輝度変動分の大きさΔB
/B(10%)を残像強度として評価した。液晶表示装
置の表示特性として残像・画像焼付きが問題のないレベ
ルは残像強度が3%以下とされている。評価の結果、本
実施例における液晶表示装置においては残像強度が1.
0%の結果が得られた。
In order to quantitatively evaluate the afterimage and image printing, the evaluation was performed using an oscilloscope combined with a photodiode. First, a window pattern is displayed on the screen at the maximum brightness for 30 minutes, and thereafter, the entire display screen is switched so that the afterimage is most conspicuous, in this case, the brightness is 10% of the maximum brightness. The magnitude ΔB of the luminance variation in the luminance B in the peripheral halftone portion
/ B (10%) was evaluated as an afterimage intensity. As a display characteristic of the liquid crystal display device, a level at which there is no problem of image sticking and image sticking is determined to have an image sticking intensity of 3% or less. As a result of the evaluation, in the liquid crystal display device of this embodiment, the afterimage intensity is 1.
A result of 0% was obtained.

【0049】配向膜表面の脆さを定量的に測定するため
にスクラッチ試験により評価した。スクラッチ試験では
周波数30Hz,振幅80μmで振動させたダイヤモン
ド針を既知の力で配向膜に押し付け、力の大きさをスウ
ィープすることで、膜表面が削れはじめる押し付け力を
測定し、膜表面のラビング耐性を定量的に評価する方法
である。なお、膜表面が削れはじめる押し付け力を臨界
荷重値と呼ぶ。臨界荷重はその値が小さいほど膜表面に
傷がつきやすく、値が大きいほど傷がつきにくいことを
意味する。この評価では、ガラス基板上に合成したポリ
アミック酸をスピンナーで塗布した後240℃/15分
焼成したものを用いた。膜厚は100nm程度であっ
た。臨界荷重値は約45ナノニュートン(nN)であっ
た。
In order to quantitatively measure the brittleness of the alignment film surface, it was evaluated by a scratch test. In the scratch test, a diamond needle vibrated at a frequency of 30 Hz and an amplitude of 80 μm is pressed against the alignment film with a known force, and by sweeping the magnitude of the force, the pressing force at which the film surface starts to be scraped is measured, and the rubbing resistance of the film surface is measured. Is a method for evaluating quantitatively. The pressing force at which the film surface starts to be scraped is called a critical load value. The smaller the critical load, the more easily the surface of the film is damaged, and the larger the value of the critical load, the less the surface is damaged. In this evaluation, a polyamic acid synthesized on a glass substrate was applied by a spinner and then baked at 240 ° C. for 15 minutes. The thickness was about 100 nm. The critical load value was about 45 nanonewtons (nN).

【0050】次にポリイミド配向膜においてポリイミド
フィルムを作製し、フィルムの引っ張り試験によりポリ
イミドのバルクでの弾性率を測定した。その結果、10
Hzでのバルク弾性率として約14ギガパスカル(GP
a)という結果を得た。
Next, a polyimide film was formed on the polyimide alignment film, and the bulk modulus of the polyimide was measured by a tensile test of the film. As a result, 10
Approximately 14 gigapascal (GP
a) was obtained.

【0051】本実施例により高弾性率でありながら臨界
荷重値が大きく、すなわち傷のつきにくいポリイミド配
向膜を得ることができた。その結果として、ラビング傷
やラビングくずを発生しない、また、残像・画像焼付き
のない高品質な液晶表示装置を得ることができた。 (実施例2)用いた配向膜以外は実施例1と同様の液晶
表示装置を組み立てた。本実施例で合成したポリイミド
配向膜について述べる。ジアミンとして(化学式14)
で示されるTMPPD,テトラカルボン酸として(化学
式11)で示されるPMDAを用いた。
According to the present example, a polyimide alignment film having a high critical load value while having a high elastic modulus, that is, a scratch-resistant polyimide film was obtained. As a result, it was possible to obtain a high-quality liquid crystal display device which does not generate rubbing scratches or rubbing debris and has no afterimage or image sticking. (Example 2) A liquid crystal display device similar to that of Example 1 was assembled except for the alignment film used. The polyimide alignment film synthesized in this example will be described. As a diamine (chemical formula 14)
And PMDA represented by (Formula 11) was used as tetracarboxylic acid.

【0052】 [0052]

【0053】各モノマーに吸着している水分を除去する
ためにデシケータ中で真空乾燥(ジアミン:40℃/8
h,テトラカルボン酸:130℃/8h)した。まず、
ジアミンTMPPD1.0 モル%をN−メチル−2−ピ
ロリドン中に溶解させ、ジアミンTMPPDが十分に溶
解したことを確認してから、テトラカルボン酸PMDA1.
0 モル%を加え、25℃で60時間反応させ、ポリア
ミック酸ワニスを合成した。なお、本実施例ではジアミ
ンとテトラカルボン酸を1:1(モル%)で反応させて
いるが、合成ポリマーの安定性などを考慮して、例えば
ポリマー末端基がテトラカルボン酸で閉じるように、ジ
アミンよりテトラカルボン酸のモル%を多少多くしても
よい。このことで合成ポリイミド膜の弾性率のような物
性値が大きく変化することはない。また、本実施例では
溶剤としてN−メチル−2−ピロリドンを用いている
が、これ以外でも例えば極性を有するブチルセルソル
ブ,ブチルラクトン、またはこれらの混合溶液などを用
いてもよく、これらに限定されるものではない。ここで
合成したポリアミック酸ワニスを固形分濃度2%に希釈
し、ガラス基板上に印刷機で塗布した。溶剤をとばすた
めに仮焼成した後、240℃/15分で本焼成した。得ら
れたポリイミド配向膜の膜厚は100nm程度であっ
た。
Vacuum drying in a desiccator to remove water adsorbed on each monomer (diamine: 40 ° C./8
h, tetracarboxylic acid: 130 ° C./8 h). First,
1.0 mol% of diamine TMPPD was dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone, and after confirming that diamine TMPPD was sufficiently dissolved, tetracarboxylic acid PMDA 1.
0 mol% was added and reacted at 25 ° C. for 60 hours to synthesize a polyamic acid varnish. In this example, the diamine and the tetracarboxylic acid are reacted at a ratio of 1: 1 (mol%). However, in consideration of the stability of the synthetic polymer, for example, the polymer terminal group is closed with the tetracarboxylic acid. The molar percentage of the tetracarboxylic acid may be slightly higher than the diamine. As a result, the physical property values such as the elastic modulus of the synthetic polyimide film do not significantly change. In this embodiment, N-methyl-2-pyrrolidone is used as the solvent. However, other than this, for example, polar butylcellosolve, butyllactone, or a mixed solution thereof may be used. It is not something to be done. The polyamic acid varnish synthesized here was diluted to a solid concentration of 2%, and applied to a glass substrate with a printing machine. After calcination to remove the solvent, calcination was performed at 240 ° C. for 15 minutes. The thickness of the obtained polyimide alignment film was about 100 nm.

【0054】本実施例で得られた液晶表示装置の表示領
域内を顕微鏡で観察したところ、ラビング傷やラビング
くずによる液晶配向不良は観測されず、黒レベルやコン
トラストといった基本表示特性も良好であった。なお、
コントラスト比は300であった。
When the display area of the liquid crystal display device obtained in this example was observed with a microscope, no defective liquid crystal alignment due to rubbing scratches or rubbing debris was observed, and the basic display characteristics such as black level and contrast were good. Was. In addition,
The contrast ratio was 300.

【0055】また、実施例1と同様に残像強度を測定し
た。液晶表示装置の表示特性として残像・画像焼付きが
問題のないレベルは残像強度が3%以下とされている。
評価の結果、本液晶表示装置においては残像強度が0.
5%の結果が得られた。
The afterimage intensity was measured in the same manner as in Example 1. As a display characteristic of the liquid crystal display device, a level at which there is no problem of image sticking and image sticking is determined to have an image sticking intensity of 3% or less.
As a result of the evaluation, in the present liquid crystal display device, the afterimage intensity was 0.3.
A result of 5% was obtained.

【0056】配向膜表面の脆さを定量的に測定するため
にスクラッチ試験により評価した。この評価では、ガラ
ス基板上に合成したポリアミック酸をスピンナーで塗布
した後240℃/15分焼成したものを用いた。膜厚は
100nm程度であった。臨界荷重値は約40ナノニュ
ートン(nN)であった。
Evaluation was made by a scratch test in order to quantitatively measure the brittleness of the alignment film surface. In this evaluation, a polyamic acid synthesized on a glass substrate was applied by a spinner and then baked at 240 ° C. for 15 minutes. The thickness was about 100 nm. The critical load value was about 40 nanonewtons (nN).

【0057】次にポリイミド配向膜において弾性率を測
定した。その結果、上記ポリイミド配向膜の10Hzで
のバルク弾性率を測定した結果、約20ギガパスカル(G
Pa)という結果を得た。
Next, the modulus of elasticity of the polyimide alignment film was measured. As a result, the bulk elastic modulus of the polyimide alignment film at 10 Hz was measured.
Pa).

【0058】本実施例により高弾性率でありながら臨界
荷重値が大きく、すなわち傷のつきにくいポリイミド配
向膜を得ることができた。その結果として、ラビング傷
やラビングくずを発生しない、また、残像・画像焼付き
のない高品質な液晶表示装置を得ることができた。 (実施例3)本実施例での液晶表示装置の概略図を図3
及び図4に示した。また、図5に表示マトリクス部の等
価回路とその周辺回路を示した。同一基板に形成された
電極間に電圧を印加し、それにより発生する電界により
液晶分子を駆動させ、光学的な状態を制御し、表示を制
御する。画素電極105と共通電極103との間隔が実
施例1及び2での液晶表示装置に比べ非常に狭いことか
ら、液晶にかかる電界強度が強く、これにより低電圧駆
動や高速応答が可能である。
According to the present example, a polyimide alignment film having a high critical load value while having a high elastic modulus, that is, a scratch-resistant polyimide film could be obtained. As a result, it was possible to obtain a high-quality liquid crystal display device which does not generate rubbing scratches or rubbing debris and has no afterimage or image sticking. (Embodiment 3) A schematic diagram of a liquid crystal display device in this embodiment is shown in FIG.
And FIG. FIG. 5 shows an equivalent circuit of the display matrix unit and its peripheral circuits. A voltage is applied between the electrodes formed on the same substrate, and the liquid crystal molecules are driven by an electric field generated by the voltage, thereby controlling an optical state and controlling a display. Since the distance between the pixel electrode 105 and the common electrode 103 is much smaller than that of the liquid crystal display devices according to the first and second embodiments, the electric field intensity applied to the liquid crystal is strong, thereby enabling low-voltage driving and high-speed response.

【0059】液晶表示素子は、表示部が対角14.1 イ
ンチサイズであり、厚みが0.7 mmで表面を研磨した透
明なガラス基板101,102を用いた。ガラス基板1
01上には図5に示したように、信号電極6,走査電極
16を形成した。また、各画素は薄膜トランジスタ(T
FT)15,画素電極105及び共通電極103から構
成される。画素電極105は絶縁膜を介し共通電極10
3と重畳するように配置されている。このような液晶表
示装置では絶縁膜下の共通電極をパターニングする必要
がなく、また、絶縁膜上の櫛歯状の画素電極との合わせ
マージンがあることから製造プロセスの簡略化及び生産
性向上が可能である。電圧はこれら画素電極と共通電極
との間に印加され、これにより発生する電界113によ
って液晶を駆動する。実施例1,2の液晶表示装置に比
べ電極間隔が非常に狭くなっているために、電界強度が
強く、低電圧駆動,高速応答が可能である。画素電極は
薄膜トランジスタ(TFT)と接続されており、共通電
極は共通電圧信号線と一体となっている。なお、画素電
極は透明電極酸化インジウムスズ(ITO)であり櫛歯
状に構成され、長細い構造となっている。電極幅,電極
間隔は共に4μmである。電極材料としては他に酸化イ
ンジウム亜鉛(IZO)などでもよい。
As the liquid crystal display element, transparent glass substrates 101 and 102 having a display section of 14.1 inches in diagonal size, a thickness of 0.7 mm and a polished surface were used. Glass substrate 1
As shown in FIG. 5, signal electrodes 6 and scanning electrodes 16 were formed on 01. Each pixel is a thin film transistor (T
FT) 15, the pixel electrode 105, and the common electrode 103. The pixel electrode 105 is connected to the common electrode 10 via an insulating film.
3 are arranged so as to overlap. In such a liquid crystal display device, there is no need to pattern the common electrode under the insulating film, and since there is a margin for alignment with the comb-shaped pixel electrode on the insulating film, the manufacturing process can be simplified and the productivity can be improved. It is possible. A voltage is applied between the pixel electrode and the common electrode, and the liquid crystal is driven by an electric field 113 generated by the voltage. Since the distance between the electrodes is very narrow as compared with the liquid crystal display devices of the first and second embodiments, the electric field intensity is strong, and low-voltage driving and high-speed response are possible. The pixel electrode is connected to a thin film transistor (TFT), and the common electrode is integrated with a common voltage signal line. Note that the pixel electrode is a transparent electrode made of indium tin oxide (ITO), is formed in a comb shape, and has a long and thin structure. The electrode width and the electrode interval are both 4 μm. Alternatively, indium zinc oxide (IZO) or the like may be used as the electrode material.

【0060】一方、対向のガラス基板101上にはスト
ライプ状の3色RGBカラーフィルタ111とブラック
マトリクス112を備えた構造とした。カラーフィルタ
とブラックマトリクス上には平坦化するためのカラーフ
ィルタ保護膜110を形成した。カラーフィルタ保護膜
としてはエポキシ樹脂を用いた。さらにガラス基板10
1の遮光部であるブラックマトリクス上に表示領域内の
液晶層の厚みを均一に制御するために柱状スペーサを形
成した。なお、図3では柱状スペーサは省略されてい
る。
On the other hand, on the opposite glass substrate 101, a structure was provided in which a three-color RGB color filter 111 and a black matrix 112 in a stripe shape were provided. A color filter protective film 110 for flattening was formed on the color filter and the black matrix. Epoxy resin was used as the color filter protective film. Further, the glass substrate 10
A columnar spacer was formed on the black matrix, which is a light shielding portion, to uniformly control the thickness of the liquid crystal layer in the display region. In FIG. 3, the columnar spacer is omitted.

【0061】次に両ガラス基板101,102の表面に
液晶分子を配列させるために必要なポリイミド配向膜1
08を形成した。本実施例で用いたポリイミド配向膜は
実施例1と同じものである。焼成は240℃/15分で
行い、得られたポリイミド配向膜の膜厚は100nm程
度であった。
Next, a polyimide alignment film 1 necessary for aligning liquid crystal molecules on the surfaces of the two glass substrates 101 and 102.
08 was formed. The polyimide alignment film used in this example is the same as that in Example 1. The firing was performed at 240 ° C. for 15 minutes, and the thickness of the obtained polyimide alignment film was about 100 nm.

【0062】次に液晶分子を配向させるための配向処理
を施した。配向処理は両ガラス基板上に形成されたポリ
イミド配向膜表面をラビング処理することにより行っ
た。ラビング処理にはラビング機(FS−55R型フジ
オカ製)を使用し、ラビングロール(100φ)にはレ
ーヨン製バフ布を用いた。ラビング条件はロール回転数
950rpm ,基板送り速度30mm/sec ,押し込み量
0.4 mmとした。ここで、押し込み量とはラビングロー
ルが配向膜表面からガラス基板側に押し込まれる量のこ
とである。ラビング方向はITO櫛歯電極の長軸に対し
て75°方向とした。実施例1での液晶表示装置に比
べ、電極間隔,電極幅が狭いために基板表面の凹凸は激
しく、ラビング傷やラビングくずを発生しやすい環境で
はあるが、ラビング工程後に、顕微鏡で両基板を観測し
たところ、表示領域内にはラビング傷やラビングくずは
見られなかった。
Next, an alignment treatment for aligning the liquid crystal molecules was performed. The alignment treatment was performed by rubbing the surface of the polyimide alignment film formed on both glass substrates. A rubbing machine (FS-55R type made by Fujioka) was used for the rubbing treatment, and a buff cloth made of rayon was used for the rubbing roll (100φ). The rubbing conditions were a roll rotation speed of 950 rpm, a substrate feed speed of 30 mm / sec, and a pushing amount of 0.4 mm. Here, the pushing amount is the amount by which the rubbing roll is pushed from the surface of the alignment film toward the glass substrate. The rubbing direction was set at 75 ° with respect to the major axis of the ITO comb electrode. Compared to the liquid crystal display device of the first embodiment, since the electrode spacing and electrode width are narrow, the surface of the substrate is very uneven due to the narrowness, and rubbing scratches and rubbing debris are likely to be generated. Upon observation, no rubbing scratches or rubbing debris were found in the display area.

【0063】ガラス基板101の表示領域周縁部にシー
ル材(熱硬化型樹脂)を塗布し、対向ガラス基板102
を重ね合わせた後、加熱しながら加圧し、両基板を接着
固定した。ガラス基板間のギャップ(液晶層厚み)を4.
0 μmとした。その後、封入口から液晶を注入し、封
止口を光硬化樹脂により封止した。本実施例では負の誘
電異方性をもつ液晶を用いた。ガラス基板101,10
2の両面に偏光板114を貼りつけ液晶表示装置を完成
させた。なお、偏光板はノーマリクローズ特性(低電圧
で黒表示,高電圧で白表示)になるように貼りつけた。
さらに液晶パネルには図5に示したようにガラス基板に
走査電極駆動回路20,信号電極駆動回路21,電源回
路及びコントロール回路23を接続し、走査信号電圧,
映像信号電圧,タイミング信号を供給し、アクティブマ
トリクス駆動した。その後、液晶表示パネル29に図6
に示したシールドケース30,拡散板31,導光体3
2,反射板33,バックライト34,下側ケース35,
インバータ回路基板36を組み合わせることにより液晶
表示装置37を組み立てた。
A sealing material (thermosetting resin) is applied to the periphery of the display area of the glass substrate 101, and the opposite glass substrate 102
Then, pressure was applied while heating, and both substrates were bonded and fixed. The gap between the glass substrates (liquid crystal layer thickness) is 4.
It was set to 0 μm. Thereafter, liquid crystal was injected from the sealing port, and the sealing port was sealed with a photocurable resin. In this embodiment, a liquid crystal having a negative dielectric anisotropy is used. Glass substrates 101, 10
The liquid crystal display device was completed by attaching the polarizing plate 114 to both sides of the second liquid crystal display. The polarizing plate was attached so as to have normally closed characteristics (black display at low voltage, white display at high voltage).
Further, a scanning electrode drive circuit 20, a signal electrode drive circuit 21, a power supply circuit and a control circuit 23 are connected to the glass substrate as shown in FIG.
A video signal voltage and a timing signal were supplied, and active matrix driving was performed. Then, the liquid crystal display panel 29 shown in FIG.
Case 30, diffusion plate 31, light guide 3 shown in FIG.
2, reflector 33, backlight 34, lower case 35,
The liquid crystal display device 37 was assembled by combining the inverter circuit board 36.

【0064】このようにして組み立てた液晶表示装置の
表示領域内を顕微鏡で観察したところ、ラビング傷やラ
ビングくずによる液晶配向不良は観測されず、黒レベル
やコントラストといった基本表示特性も良好であった。
なお、コントラスト比は500であった。
When the inside of the display area of the liquid crystal display device assembled in this manner was observed with a microscope, no defective liquid crystal alignment due to rubbing scratches or rubbing debris was observed, and basic display characteristics such as black level and contrast were also good. .
The contrast ratio was 500.

【0065】また、残像・画像焼付けを定量的に評価す
るためホトダイオードを組み合わせたオシロスコープを
用いて評価した。まず、画面上に最大輝度でウィンドパ
ターンを30分間表示し、その後、残像が最も目立つ中
間調表示、ここでは輝度が最大輝度の10%となるよう
に表示画面全面を切り替え、ウィンドの残像部分と周辺
中間調部分での輝度Bにおける輝度変動分の大きさΔB
/B(10%)を残像強度として評価した。ただし、液
晶表示装置の表示特性として残像・画像焼付きが問題の
ないレベルは残像強度が3%以下とされている。評価の
結果、本液晶表示装置においては残像強度が2.0%の
結果が得られた。
In order to quantitatively evaluate the afterimage and image printing, the evaluation was performed using an oscilloscope combined with a photodiode. First, a window pattern is displayed on the screen at the maximum brightness for 30 minutes, and thereafter, the entire display screen is switched so that the afterimage is most conspicuous, in this case, the brightness is 10% of the maximum brightness. The magnitude ΔB of the luminance variation in the luminance B in the peripheral halftone portion
/ B (10%) was evaluated as an afterimage intensity. However, as a display characteristic of the liquid crystal display device, a level where image sticking and image sticking are not a problem has an after image intensity of 3% or less. As a result of the evaluation, in the present liquid crystal display device, a result having an afterimage intensity of 2.0% was obtained.

【0066】本実施例により高弾性率でありながら臨界
荷重値が大きく、すなわち傷のつきにくいポリイミド配
向膜を得ることができた。その結果として、ラビング傷
やラビングくずを発生しない、また、残像・画像焼付き
のない高品質な液晶表示装置を得ることができた。 (実施例4)用いた配向膜以外は実施例3と同様の液晶
表示装置を組み立てた。また、本実施例で用いたポリイ
ミド配向膜は実施例2で合成したものである。得られた
ポリイミド配向膜の膜厚は100nm程度であった。
According to the present example, a polyimide alignment film having a large critical load value while having a high elastic modulus, that is, a scratch-resistant polyimide film could be obtained. As a result, it was possible to obtain a high-quality liquid crystal display device which does not generate rubbing scratches or rubbing debris and has no afterimage or image sticking. (Example 4) A liquid crystal display device similar to that of Example 3 was assembled except for the alignment film used. Further, the polyimide alignment film used in this example was synthesized in Example 2. The thickness of the obtained polyimide alignment film was about 100 nm.

【0067】本実施例で得られた液晶表示装置の表示領
域内を顕微鏡で観察したところ、実施例2に比べ櫛歯電
極の幅や間隔が極端に狭く、基板表面の凹凸が非常に激
しいにも関わらず、ラビング傷やラビングくずによる液
晶配向不良は観測されず、黒レベルやコントラストとい
った基本表示特性も良好であった。なお、コントラスト
比は500であった。
When the inside of the display area of the liquid crystal display device obtained in this embodiment was observed with a microscope, the width and interval of the comb-tooth electrodes were extremely narrow and the unevenness of the substrate surface was extremely severe as compared with the second embodiment. Nevertheless, poor liquid crystal alignment due to rubbing scratches and rubbing debris was not observed, and the basic display characteristics such as black level and contrast were good. The contrast ratio was 500.

【0068】また、実施例1と同様に残像強度を測定し
た。液晶表示装置の表示特性として残像・画像焼付きが
問題のないレベルは残像強度が3%以下とされている。
評価の結果、本液晶表示装置においては残像強度が1.
0 %の結果が得られた。
Further, the afterimage intensity was measured in the same manner as in Example 1. As a display characteristic of the liquid crystal display device, a level at which there is no problem of image sticking and image sticking is determined to have an image sticking intensity of 3% or less.
As a result of the evaluation, in the present liquid crystal display device, the afterimage intensity was 1.
A result of 0% was obtained.

【0069】本実施例により高弾性率でありながら臨界
荷重値が大きく、すなわち傷のつきにくいポリイミド配
向膜を得ることができた。その結果として、ラビング傷
やラビングくずを発生しない、また、残像・画像焼付き
のない高品質な液晶表示装置を得ることができた。 (実施例5)用いた配向膜以外は実施例3と同様の液晶
表示装置を組み立てた。本実施例で合成したポリイミド
配向膜について述べる。ジアミンとして(化学式13)
で示されるDMAP,テトラカルボン酸として(化学式
5)で示されるCBDAを用いた。
According to the present example, a polyimide alignment film having a high critical load value while having a high elastic modulus, that is, a scratch-resistant polyimide film could be obtained. As a result, it was possible to obtain a high-quality liquid crystal display device which does not generate rubbing scratches or rubbing debris and has no afterimage or image sticking. (Example 5) A liquid crystal display device similar to that of Example 3 was assembled except for the alignment film used. The polyimide alignment film synthesized in this example will be described. As a diamine (chemical formula 13)
CBDA represented by (Chemical Formula 5) was used as DMAP represented by the following formula and tetracarboxylic acid.

【0070】 [0070]

【0071】各モノマーに吸着している水分を除去する
ためにデシケータ中で真空乾燥(ジアミン:40℃/8
h,テトラカルボン酸:130℃/8h)した。まず、
ジアミンDMAP1.0 モル%をN−メチル−2−ピロ
リドン中に溶解させ、ジアミンDMAPが十分に溶解し
たことを確認してから、テトラカルボン酸CBDA1.
0 モル%を加え、25℃で60時間反応させ、ポリア
ミック酸ワニスを合成した。なお、本実施例ではジアミ
ンとテトラカルボン酸を1:1(モル%)で反応させてい
るが、合成ポリマーの安定性などを考慮して、例えばポ
リマー末端基がテトラカルボン酸で閉じるように、ジア
ミンよりテトラカルボン酸のモル%を多少多くしてもよ
い。このことで合成ポリイミド膜の弾性率のような物性
値が大きく変化することはない。また、本実施例では溶
剤としてN−メチル−2−ピロリドンを用いているが、
これ以外でも例えば極性を有するブチルセルソルブ,ブ
チルラクトン、またはこれらの混合溶液などを用いても
よく、これらに限定されるものではない。ここで合成し
たポリアミック酸ワニスを固形分濃度5%に希釈し、ガ
ラス基板上に印刷機で塗布した。溶剤をとばすために仮
焼成した後、240℃/15分で本焼成した。得られた
ポリイミド配向膜の膜厚は100nm程度であった。
Vacuum drying in a desiccator to remove water adsorbed on each monomer (diamine: 40 ° C./8
h, tetracarboxylic acid: 130 ° C./8 h). First,
1.0 mol% of diamine DMAP was dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone, and after confirming that diamine DMAP was sufficiently dissolved, tetracarboxylic acid CBDA 1.
0 mol% was added and reacted at 25 ° C. for 60 hours to synthesize a polyamic acid varnish. In this example, the diamine and the tetracarboxylic acid are reacted at a ratio of 1: 1 (mol%). However, in consideration of the stability of the synthetic polymer, for example, the polymer terminal group is closed with the tetracarboxylic acid. The molar percentage of the tetracarboxylic acid may be slightly higher than the diamine. As a result, the physical property values such as the elastic modulus of the synthetic polyimide film do not significantly change. In this example, N-methyl-2-pyrrolidone was used as the solvent.
Other than this, for example, polar butyl cellosolve, butyl lactone, or a mixed solution thereof may be used, but the present invention is not limited thereto. The polyamic acid varnish synthesized here was diluted to a solid concentration of 5%, and applied to a glass substrate by a printing machine. After calcination to remove the solvent, calcination was performed at 240 ° C. for 15 minutes. The thickness of the obtained polyimide alignment film was about 100 nm.

【0072】本実施例で得られた液晶表示装置の表示領
域内を顕微鏡で観察したところ、ラビング傷やラビング
くずによる液晶配向不良は観測されず、黒レベルやコン
トラストといった基本表示特性も良好であった。なお、
コントラスト比は500であった。
When the display area of the liquid crystal display device obtained in this example was observed with a microscope, no defective liquid crystal alignment due to rubbing scratches or rubbing debris was observed, and the basic display characteristics such as black level and contrast were good. Was. In addition,
The contrast ratio was 500.

【0073】また、実施例1と同様に残像強度を測定し
た。液晶表示装置の表示特性として残像・画像焼付きが
問題のないレベルは残像強度が3%以下とされている。
評価の結果、本液晶表示装置においては残像強度が1.
5 %の結果が得られた。
Further, the afterimage intensity was measured in the same manner as in Example 1. As a display characteristic of the liquid crystal display device, a level at which there is no problem of image sticking and image sticking is determined to have an image sticking intensity of 3% or less.
As a result of the evaluation, in the present liquid crystal display device, the afterimage intensity was 1.
A result of 5% was obtained.

【0074】配向膜表面の脆さを定量的に測定するため
にスクラッチ試験により評価した。この評価では、ガラ
ス基板上に合成したポリアミック酸をスピンナーで塗布
した後240℃/15分焼成したものを用いた。膜厚は
100nm程度であった。臨界荷重値は約45ナノニュ
ートン(nN)であった。
In order to quantitatively measure the brittleness of the alignment film surface, evaluation was made by a scratch test. In this evaluation, a polyamic acid synthesized on a glass substrate was applied by a spinner and then baked at 240 ° C. for 15 minutes. The thickness was about 100 nm. The critical load value was about 45 nanonewtons (nN).

【0075】次にポリイミド配向膜において弾性率を測
定した。その結果、上記ポリイミド配向膜の10Hzで
のバルク弾性率を測定した結果、約12ギガパスカル(G
Pa)という結果を得た。本実施例により高弾性率であり
ながら臨界荷重値が大きく、すなわち傷のつきにくいポ
リイミド配向膜を得ることができた。その結果として、
ラビング傷やラビングくずを発生しない、また、残像・
画像焼付きのない高品質な液晶表示装置を得ることがで
きた。 (実施例6)用いた配向膜以外は実施例3と同様の液晶
表示装置を組み立てた。本実施例で合成したポリイミド
配向膜について述べる。ジアミンとして(化学式14)
で示されるTMPPD,テトラカルボン酸として(化学
式11)で示されるPMDA及び(化学式12)で示さ
れるSBPDAを用いた。
Next, the modulus of elasticity of the polyimide alignment film was measured. As a result, the bulk elastic modulus of the polyimide alignment film at 10 Hz was measured.
Pa). According to this example, a polyimide alignment film having a large critical load value while having a high elastic modulus, that is, a scratch-resistant polyimide film could be obtained. As a result,
Does not generate rubbing scratches or rubbing debris.
A high quality liquid crystal display device without image sticking was obtained. (Example 6) A liquid crystal display device similar to that of Example 3 was assembled except for the alignment film used. The polyimide alignment film synthesized in this example will be described. As a diamine (chemical formula 14)
And PMDA represented by (Chemical Formula 11) and SBPDA represented by (Chemical Formula 12) were used as tetracarboxylic acids.

【0076】 [0076]

【0077】 [0077]

【0078】各モノマーに吸着している水分を除去する
ためにデシケータ中で真空乾燥(ジアミン:40℃/8
h,テトラカルボン酸:130℃/8h)した。まず、
ジアミンTMPPD1.0 モル%をN−メチル−2−ピ
ロリドン中に溶解させ、ジアミンTMPPDが十分に溶
解したことを確認してから、テトラカルボン酸PMDA及び
SBPDAをそれぞれ0.5 モル%を加え、25℃で6
0時間反応させ、ポリアミック酸ワニスを合成した。な
お、本実施例ではジアミンとテトラカルボン酸を1:1
(モル%)で反応させているが、合成ポリマーの安定性
などを考慮して、例えばポリマー末端基がテトラカルボ
ン酸で閉じるように、ジアミンよりテトラカルボン酸の
モル%を多少多くしてもよい。このことで合成ポリイミ
ド膜の弾性率のような物性値が大きく変化することはな
い。また、本実施例では溶剤としてN−メチル−2−ピ
ロリドンを用いているが、これ以外でも例えば極性を有
するブチルセルソルブ,ブチルラクトン、またはこれら
の混合溶液などを用いてもよく、これらに限定されるも
のではない。ここで合成したポリアミック酸ワニスを固
形分濃度5%に希釈し、ガラス基板上に印刷機で塗布し
た。溶剤をとばすために仮焼成した後、240℃/15
分で本焼成した。得られたポリイミド配向膜の膜厚は1
00nm程度であった。
Vacuum drying in a desiccator to remove water adsorbed on each monomer (diamine: 40 ° C./8
h, tetracarboxylic acid: 130 ° C./8 h). First,
1.0 mol% of diamine TMPPD was dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone, and after confirming that the diamine TMPPD was sufficiently dissolved, 0.5 mol% of each of PMDA and SBPDA tetracarboxylic acid was added, and 6 at ℃
After reacting for 0 hour, a polyamic acid varnish was synthesized. In this example, the diamine and the tetracarboxylic acid were mixed at a ratio of 1: 1.
(Mol%), but in consideration of the stability of the synthetic polymer, for example, the mol% of tetracarboxylic acid may be slightly larger than that of diamine so that the polymer terminal group is closed with tetracarboxylic acid. . As a result, the physical property values such as the elastic modulus of the synthetic polyimide film do not significantly change. In this embodiment, N-methyl-2-pyrrolidone is used as the solvent. However, other than this, for example, polar butylcellosolve, butyllactone, or a mixed solution thereof may be used. It is not something to be done. The polyamic acid varnish synthesized here was diluted to a solid concentration of 5%, and applied to a glass substrate by a printing machine. After calcination to remove the solvent, 240 ° C / 15
The main firing was performed in minutes. The thickness of the obtained polyimide alignment film is 1
It was about 00 nm.

【0079】本実施例で得られた液晶表示装置の表示領
域内を顕微鏡で観察したところ、ラビング傷やラビング
くずによる液晶配向不良は観測されず、黒レベルやコン
トラストといった基本表示特性も良好であった。なお、
コントラスト比は500であった。
When the inside of the display area of the liquid crystal display device obtained in this example was observed with a microscope, no defective liquid crystal alignment due to rubbing scratches or rubbing debris was observed, and the basic display characteristics such as black level and contrast were good. Was. In addition,
The contrast ratio was 500.

【0080】また、実施例1と同様に残像強度を測定し
た。液晶表示装置の表示特性として残像・画像焼付きが
問題のないレベルは残像強度が3%以下とされている。
評価の結果、本液晶表示装置においては残像強度が1.
0%の結果が得られた。
The afterimage intensity was measured in the same manner as in Example 1. As a display characteristic of the liquid crystal display device, a level at which there is no problem of image sticking and image sticking is determined to have an image sticking intensity of 3% or less.
As a result of the evaluation, in the present liquid crystal display device, the afterimage intensity was 1.
A result of 0% was obtained.

【0081】配向膜表面の脆さを定量的に測定するため
にスクラッチ試験により評価した。この評価では、ガラ
ス基板上に合成したポリアミック酸をスピンナーで塗布
した後240℃/15分焼成したものを用いた。膜厚は
100nm程度であった。臨界荷重値は約45ナノニュ
ートン(nN)であった。
Evaluation was made by a scratch test in order to quantitatively measure the brittleness of the alignment film surface. In this evaluation, a polyamic acid synthesized on a glass substrate was applied by a spinner and then baked at 240 ° C. for 15 minutes. The thickness was about 100 nm. The critical load value was about 45 nanonewtons (nN).

【0082】次にポリイミド配向膜において弾性率を測
定した。その結果、上記ポリイミド配向膜の10Hzで
のバルク弾性率を測定した結果、約14ギガパスカル(G
Pa)という結果を得た。
Next, the modulus of elasticity of the polyimide alignment film was measured. As a result, the bulk elastic modulus of the polyimide alignment film at 10 Hz was measured.
Pa).

【0083】本実施例により高弾性率でありながら臨界
荷重値が大きく、すなわち傷のつきにくいポリイミド配
向膜を得ることができた。その結果として、ラビング傷
やラビングくずを発生しない、また、残像・画像焼付き
のない高品質な液晶表示装置を得ることができた。 (比較例1)用いた配向膜以外は実施例3と同様の液晶
表示装置を組み立てた。本実施例で合成したポリイミド
配向膜について述べる。ジアミンとして(化学式15)
で示されるAP、テトラカルボン酸として(化学式1
1)で示されるPMDAを用いた。
According to this example, a polyimide alignment film having a large critical load value while having a high elastic modulus, that is, a scratch-resistant polyimide film could be obtained. As a result, it was possible to obtain a high-quality liquid crystal display device which does not generate rubbing scratches or rubbing debris and has no afterimage or image sticking. Comparative Example 1 A liquid crystal display device similar to that of Example 3 was assembled except for the alignment film used. The polyimide alignment film synthesized in this example will be described. As a diamine (chemical formula 15)
Represented by the formula:
PMDA shown in 1) was used.

【0084】 [0084]

【0085】各モノマーに吸着している水分を除去する
ためにデシケータ中で真空乾燥(ジアミン:40℃/8
h,テトラカルボン酸:130℃/8h)した。まず、
ジアミンAP 1.0モル%をN−メチル−2−ピロリド
ン中に溶解させ、ジアミンAPが十分に溶解したことを
確認してから、テトラカルボン酸PMDA 1.0モル%
を加え、25℃で60時間反応させ、ポリアミック酸ワ
ニスを合成した。ここで合成したポリアミック酸ワニス
を固形分濃度6%に希釈し、ガラス基板上に印刷機で塗
布した。溶剤をとばすために仮焼成した後、240℃/
15分で本焼成した。得られたポリイミド配向膜の膜厚
は100nm程度であった。
Vacuum drying in a desiccator to remove water adsorbed on each monomer (diamine: 40 ° C./8
h, tetracarboxylic acid: 130 ° C./8 h). First,
1.0 mol% of diamine AP was dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone, and after confirming that the diamine AP was sufficiently dissolved, 1.0 mol% of tetracarboxylic acid PMDA was dissolved.
Was added and reacted at 25 ° C. for 60 hours to synthesize a polyamic acid varnish. The polyamic acid varnish synthesized here was diluted to a solid concentration of 6%, and applied on a glass substrate by a printing machine. After calcination to blow off the solvent,
The firing was performed in 15 minutes. The thickness of the obtained polyimide alignment film was about 100 nm.

【0086】本実施例で得られた液晶表示装置の表示領
域内を顕微鏡で観察したところ、ラビング傷やラビング
くずが表示領域内に多量に発生していることが確認され
た。また、これらの傷やくずによる液晶初期配向不良が
確認され、黒レベルが悪く、コントラストも低い表示特
性の低い液晶表示装置が得られた。なお、コントラスト
比は200であった。
When the inside of the display area of the liquid crystal display device obtained in this example was observed with a microscope, it was confirmed that a large amount of rubbing scratches and rubbing scraps were generated in the display area. In addition, poor initial alignment of the liquid crystal due to these scratches and debris was confirmed, and a liquid crystal display device having a low black level and low contrast and low display characteristics was obtained. The contrast ratio was 200.

【0087】また、実施例1と同様に残像強度を測定し
た。液晶表示装置の表示特性として残像・画像焼付きが
問題のないレベルは残像強度が3%以下とされている。
評価の結果、本液晶表示装置においては残像強度が2.
5%の結果が得られた。
Further, the afterimage intensity was measured in the same manner as in Example 1. As a display characteristic of the liquid crystal display device, a level at which there is no problem of image sticking and image sticking is determined to have an image sticking intensity of 3% or less.
As a result of the evaluation, in the present liquid crystal display device, the afterimage intensity was 2.
A result of 5% was obtained.

【0088】配向膜表面の脆さを定量的に測定するため
にスクラッチ試験により評価した。この評価では、ガラ
ス基板上に合成したポリアミック酸をスピンナーで塗布
した後240℃/15分焼成したものを用いた。膜厚は
100nm程度であった。臨界荷重値は約14ナノニュ
ートン(nN)であった。
Evaluation was made by a scratch test to quantitatively measure the brittleness of the alignment film surface. In this evaluation, a polyamic acid synthesized on a glass substrate was applied by a spinner and then baked at 240 ° C. for 15 minutes. The thickness was about 100 nm. The critical load value was about 14 nanonewtons (nN).

【0089】次にポリイミド配向膜においてバルクでの
弾性率を測定した。その結果、10Hzでのバルク弾性
率が約12ギガパスカル(GPa)という結果を得た。
Next, the bulk modulus of the polyimide alignment film was measured. As a result, a result that the bulk elastic modulus at 10 Hz was about 12 gigapascal (GPa) was obtained.

【0090】本実施例での合成により得られたポリイミ
ド配向膜は高弾性率を有することから、配向膜表面での
弾性変形が生じにくく、残像強度は問題のないレベル
(3%以下)を達成している。しかし、臨界荷重値が小
さく表面が削れやすい膜となっている。したがって、表
示領域内にはラビング工程で生じたラビング傷やラビン
グくずが多数確認され、これらにより生じた液晶初期配
向不良による黒レベルの低下やコントラスト低下という
液晶表示装置としての表示特性の低下を引き起こしてい
る。 (比較例2)用いた配向膜以外は実施例3と同様の液晶
表示装置を組み立てた。本実施例で用いたポリイミド配
向膜は具体的な構造は不明であるが、バルクの弾性率は
約3ギガパスカル(GPa)であり、スクラッチ試験に
よる臨界荷重値は約45ナノニュートン(nN)であ
る。このポリイミド配向膜を実施例3と同様にガラス基
板上に印刷機で塗布し、溶剤をとばすために仮焼成した
後、240℃/15分で本焼成した。得られたポリイミ
ド配向膜の膜厚は100nm程度であった。
Since the polyimide alignment film obtained by the synthesis in this example has a high elastic modulus, elastic deformation on the alignment film surface is unlikely to occur, and the afterimage intensity achieves a level that does not cause any problem (3% or less). are doing. However, the film has a small critical load value and is easily shaved. Therefore, a large number of rubbing scratches and rubbing debris generated in the rubbing process are confirmed in the display area, which causes a decrease in black level and a decrease in contrast due to poor initial alignment of the liquid crystal, thereby deteriorating display characteristics as a liquid crystal display device. ing. Comparative Example 2 A liquid crystal display device similar to that of Example 3 was assembled except for the alignment film used. Although the specific structure of the polyimide alignment film used in this example is unknown, the bulk elastic modulus is about 3 gigapascal (GPa), and the critical load value by the scratch test is about 45 nanonewton (nN). is there. This polyimide alignment film was applied on a glass substrate by a printing machine in the same manner as in Example 3, and calcined in order to remove the solvent, and then calcined at 240 ° C. for 15 minutes. The thickness of the obtained polyimide alignment film was about 100 nm.

【0091】本実施例で得られた液晶表示装置の表示領
域内を顕微鏡で観察したところ、ラビング傷やラビング
くずがまったく発生していないことが確認された。ま
た、黒レベルも良好で、コントラストも高い液晶表示装
置が得られた。なお、コントラスト比は500であっ
た。
When the inside of the display area of the liquid crystal display device obtained in this example was observed with a microscope, it was confirmed that no rubbing scratches or rubbing chips were generated. In addition, a liquid crystal display device having good black level and high contrast was obtained. The contrast ratio was 500.

【0092】また、実施例1と同様に残像強度を測定し
た。液晶表示装置の表示特性として残像・画像焼付きが
問題のないレベルは残像強度が3%以下とされている
が、評価の結果、本液晶表示装置においては残像強度が
20%の結果が得られた。
Further, the afterimage intensity was measured in the same manner as in Example 1. As a display characteristic of the liquid crystal display device, the level of no problem of image sticking and image sticking is considered to have an afterimage intensity of 3% or less. As a result of the evaluation, this liquid crystal display device has a result of 20% of the afterimage intensity. Was.

【0093】本実施例での用いたポリイミド配向膜はス
クラッチ試験による臨界荷重値がかなり大きな値であ
り、表面が削れにくい膜となっている。そのため、ラビ
ング工程においてラビング傷やラビングくずを発生しな
い。しかし、弾性率が低いことから配向膜表面での弾性
変形が生じやすく、残像強度が非常に大きく液晶表示装
置としての表示特性はよくない。
The polyimide alignment film used in the present example has a considerably large critical load value as determined by a scratch test, and is a film whose surface is not easily shaved. Therefore, rubbing scratches and rubbing debris do not occur in the rubbing step. However, since the elastic modulus is low, elastic deformation easily occurs on the surface of the alignment film, the afterimage intensity is extremely large, and the display characteristics of the liquid crystal display device are not good.

【0094】[0094]

【発明の効果】高弾性率かつラビング耐性が強い配向制
御層を用いることで、ラビング傷やラビングくずによる
液晶配向不良のない、また、残像・画像焼付き現象の生
じない高品質な液晶表示装置を提供することができる。
By using an alignment control layer having a high elastic modulus and a strong rubbing resistance, a high-quality liquid crystal display device free from liquid crystal alignment defects due to rubbing scratches and rubbing debris and free from afterimages and image sticking phenomena. Can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1及び実施例2での液晶表示装置の構成
を説明する画素領域の断面概略図。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a pixel region illustrating a configuration of a liquid crystal display device according to a first embodiment and a second embodiment.

【図2】実施例1及び実施例2での液晶表示装置の電極
構造を示す画素領域の平面及び断面概略図。
FIG. 2 is a schematic plan view and cross-sectional view of a pixel region showing an electrode structure of a liquid crystal display device according to Embodiments 1 and 2.

【図3】実施例3及び実施例4での液晶表示装置の構成
を説明する画素領域の断面概略図。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a pixel region illustrating a configuration of a liquid crystal display device according to a third embodiment and a fourth embodiment.

【図4】実施例3及び実施例4での液晶表示装置の電極
構造を示す画素領域の平面及び断面概略図。
FIG. 4 is a schematic plan and cross-sectional view of a pixel region showing an electrode structure of a liquid crystal display device according to a third embodiment and a fourth embodiment.

【図5】液晶表示装置を駆動するシステム構成を説明す
るための図。
FIG. 5 is a diagram illustrating a system configuration for driving a liquid crystal display device.

【図6】液晶表示装置の分解斜視図。FIG. 6 is an exploded perspective view of a liquid crystal display device.

【符号の説明】 1,2,101,102…ガラス基板、3,103…共
通電極(コモン電極)、4,7,104,107…絶縁
保護膜、5,105…画素電極(ソース電極)、6,1
06…信号電極(ドレイン電極)、8,108…配向
膜、9,109…液晶、10,110…カラーフィルタ
保護膜、11,111…カラーフィルタ、12,112
…ブラックマトリクス(遮光膜)、13,113…電
界、14,114…偏光板、15,115…薄膜トラン
ジスタ(TFT)、16,116…走査電極(ゲート電
極)、17,117…容量素子、18,118…アモル
ファスシリコン、20…走査電極駆動回路、21…信号
電極駆動回路、22…共通電極駆動回路、23…電源回
路及びコントロール回路、29…液晶表示パネル、30
…シールドケース、31…拡散板、32…導光板、33
…反射板、34…バックライト、35…下側ケース、3
6…インバータ回路基板、37…液晶表示装置。
[Description of References] 1, 2, 101, 102: glass substrate, 3, 103: common electrode (common electrode), 4, 7, 104, 107: insulating protective film, 5, 105: pixel electrode (source electrode), 6,1
06: signal electrode (drain electrode), 8, 108: alignment film, 9, 109: liquid crystal, 10, 110: color filter protective film, 11, 111: color filter, 12, 112
... black matrix (light shielding film), 13, 113 ... electric field, 14, 114 ... polarizing plate, 15, 115 ... thin film transistor (TFT), 16, 116 ... scanning electrode (gate electrode), 17, 117 ... capacitance element, 18, 118 ... Amorphous silicon, 20 ... Scan electrode drive circuit, 21 ... Signal electrode drive circuit, 22 ... Common electrode drive circuit, 23 ... Power supply circuit and control circuit, 29 ... Liquid crystal display panel, 30
... Shield case, 31 ... Diffusion plate, 32 ... Light guide plate, 33
... Reflector, 34 ... Backlight, 35 ... Lower case, 3
6 ... Inverter circuit board, 37 ... Liquid crystal display device.

フロントページの続き (72)発明者 山田 真治 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 Fターム(参考) 2H090 HB08Y HB09Y JB02 KA05 LA01 MB01 4J043 PA04 QB15 QB26 QB31 RA34 SA52 SA54 SA55 TA42 TA43 TA44 TA47 TA48 UA121 UA122 UA131 UA632 UB021 UB022 UB121 UB122 UB151 UB152 UB281 UB282 UB301 UB302 VA041 VA092 ZA32 ZB23 Continued on the front page (72) Inventor Shinji Yamada 7-1-1, Omika-cho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture F-term in Hitachi Research Laboratory, Hitachi Ltd. 2H090 HB08Y HB09Y JB02 KA05 LA01 MB01 4J043 PA04 QB15 QB26 QB31 RA34 SA52 SA54 SA55 TA42 TA43 TA44 TA47 TA48 UA121 UA122 UA131 UA632 UB021 UB022 UB121 UB122 UB151 UB152 UB281 UB282 UB301 UB302 VA041 VA092 ZA32 ZB23

Claims (23)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】少なくとも一方が透明な一対の基板と、前
記一対の基板の互いに対向する面上に形成された液晶配
向制御層と、前記液晶配向制御層に接触するようにして
前記基板間に配置された液晶と、前記一対の基板の内の
一方に形成された画素電極及び共通電極並びに能動素子
とからなり、前記画素電極及び前記共通電極間に電圧を
印加することにより前記液晶の配向を制御して表示を行
う液晶表示装置において、前記液晶配向制御層は、一つ
または二つの環状構造部から構成されるジアミンと一つ
または二つの環状構造部から構成されるテトラカルボン
酸とから合成され、前記ジアミンとテトラカルボン酸の
少なくとも一方の前記環状構造部に結合したアルキル基
をひとつ以上有する高分子材料からなることを特徴とす
る液晶表示装置。
1. A pair of substrates, at least one of which is transparent, a liquid crystal alignment control layer formed on mutually facing surfaces of the pair of substrates, and a liquid crystal alignment control layer which is in contact with the liquid crystal alignment control layer. The liquid crystal arranged includes a pixel electrode, a common electrode, and an active element formed on one of the pair of substrates. The liquid crystal is oriented by applying a voltage between the pixel electrode and the common electrode. In a liquid crystal display device that performs display by controlling, the liquid crystal alignment control layer is synthesized from a diamine composed of one or two cyclic structures and a tetracarboxylic acid composed of one or two cyclic structures. A liquid crystal display device comprising a polymer material having at least one alkyl group bonded to the cyclic structure portion of at least one of the diamine and the tetracarboxylic acid.
【請求項2】前記アルキル基の炭素数が2以下であるこ
とを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein said alkyl group has 2 or less carbon atoms.
【請求項3】前記液晶配向制御層を構成する前記高分子
材料の弾性率が3ギガパスカル(GPa)以上であるこ
とを特徴とする請求項1、又は請求項2に記載の液晶表
示装置。
3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein an elastic modulus of the polymer material constituting the liquid crystal alignment control layer is 3 gigapascals (GPa) or more.
【請求項4】前記ジアミンは、化学式1、又は化学式2
で表されるジアミンであることを特徴とする請求項1か
ら請求項3のうちいずれか一項に記載の液晶表示装置。 [R1からR12は水素原子,ハロゲン原子又はアルキ
ル基を表し、そのアルキル基は未置換であるか、又はハ
ロゲン、特にF又はClで一置換されているか又は多置
換されているものとする。また、Xは単結合又は、−O
−,−S−,−CO−,−C(CH3)2−,−SO2− の
いずれかを表す。]
4. The diamine is represented by Formula 1 or 2
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is a diamine represented by the following formula: [R1 to R12 represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and the alkyl group is unsubstituted, monosubstituted with halogen, particularly F or Cl, or polysubstituted. X is a single bond or -O
—, —S—, —CO—, —C (CH 3 ) 2 —, or —SO 2 —. ]
【請求項5】前記テトラカルボン酸は、化学式3、又は
化学式4で表されるテトラカルボン酸であることを特徴
とする請求項1から請求項4のうちいずれか一項に記載
の液晶表示装置。 [R13からR20は水素原子,ハロゲン原子又はアル
キル基を表し、そのアルキル基は未置換であるか、又は
ハロゲン、特にF又はClで一置換されているか又は多
置換されているものとする。また、Xは単結合又は、−
O−,−S−,−CO−,−CH2−,−C(CH3)2−,
−SO2−のいずれかを表す。]
5. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the tetracarboxylic acid is a tetracarboxylic acid represented by Chemical Formula 3 or Chemical Formula 4. . [R13 to R20 represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and the alkyl group is unsubstituted or mono- or polysubstituted with halogen, particularly F or Cl. X is a single bond or-
O -, - S -, - CO -, - CH 2 -, - C (CH 3) 2 -,
—SO 2 —. ]
【請求項6】前記高分子材料が、化学式1又は化学式2
で表されたジアミンのうち一種または二種以上のジアミ
ンと、化学式3又は化学式4で表されたテトラカルボン
酸のうち一種又は二種以上のテトラカルボン酸とから合
成されることを特徴とする請求項1から請求項5のうち
いずれか一項に記載の液晶表示装置。
6. The polymer material according to claim 1, wherein
Wherein the compound is synthesized from one or more of the diamines represented by formula (1) and one or more of the tetracarboxylic acids of the tetracarboxylic acid represented by the formula (3) or (4). The liquid crystal display device according to claim 1.
【請求項7】前記高分子材料が、化学式5で表されるテ
トラカルボン酸と、化学式1又は化学式2で表された一
種又は二種以上のジアミンとから合成されることを特徴
とする請求項1から請求項4のうちいずれか一項に記載
の液晶表示装置。 [R1からR12は水素原子,ハロゲン原子又はアルキ
ル基を表し、そのアルキル基は未置換であるか、又はハ
ロゲン、特にF又はClで一置換されているか又は多置
換されているものとする。また、Xは単結合又は、−O
−,−S−,−CO−,−C(CH3)2−,−SO2− の
いずれかを表す。]
7. The polymer material is synthesized from a tetracarboxylic acid represented by Chemical Formula 5 and one or more diamines represented by Chemical Formula 1 or Chemical Formula 2. The liquid crystal display device according to claim 1. [R1 to R12 represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and the alkyl group is unsubstituted, monosubstituted with halogen, particularly F or Cl, or polysubstituted. X is a single bond or -O
—, —S—, —CO—, —C (CH 3 ) 2 —, or —SO 2 —. ]
【請求項8】前記高分子材料が、前記化学式5で表され
るテトラカルボン酸と、化学式3又は化学式4で表され
た一種以上のテトラカルボン酸と、化学式1又は化学式
2で表されたジアミンのうち一種又は二種以上のジアミ
ンとを用いて合成されることを特徴とする請求項1から
請求項5のうちいずれか一項に記載の液晶表示装置。 [R13からR20は水素原子,ハロゲン原子又はアル
キル基を表し、そのアルキル基は未置換であるか、又は
ハロゲン、特にF又はClで一置換されているか又は多
置換されているものとする。また、Xは単結合又は、−
O−,−S−,−CO−,−CH2−,−C(CH3)2−,
−SO2−のいずれかを表す。] [R1からR12は水素原子,ハロゲン原子又はアルキ
ル基を表し、そのアルキル基は未置換であるか、又はハ
ロゲン、特にF又はClで一置換されているか又は多置
換されているものとする。また、Xは単結合又は、−O
−,−S−,−CO−,−C(CH3)2−,−SO2−の
いずれかを表す。]
8. The polymer material comprising a tetracarboxylic acid represented by the formula 5, one or more tetracarboxylic acids represented by the formula 3 or 4, and a diamine represented by the formula 1 or 2 The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 5, wherein the liquid crystal display device is synthesized using one or more diamines. [R13 to R20 represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and the alkyl group is unsubstituted or mono- or polysubstituted with halogen, particularly F or Cl. X is a single bond or-
O -, - S -, - CO -, - CH 2 -, - C (CH 3) 2 -,
—SO 2 —. ] [R1 to R12 represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and the alkyl group is unsubstituted, monosubstituted with halogen, particularly F or Cl, or polysubstituted. X is a single bond or -O
—, —S—, —CO—, —C (CH 3 ) 2 —, or —SO 2 —. ]
【請求項9】前記画素電極及び共通電極の少なくとも一
方が透明導電材を用いて構成されたものであることを特
徴とする請求項1から請求項8のうちいずれか一項に記
載の液晶表示装置。
9. The liquid crystal display according to claim 1, wherein at least one of the pixel electrode and the common electrode is formed using a transparent conductive material. apparatus.
【請求項10】前記透明導電材が酸化インジウムスズ
(ITO),酸化インジウム亜鉛(IZO)、又は酸化イン
ジウムゲルマニウム(IGO)であることを特徴とする
請求項9に記載の液晶表示装置。
10. The transparent conductive material is indium tin oxide.
The liquid crystal display device according to claim 9, wherein the liquid crystal display device is (ITO), indium zinc oxide (IZO), or indium germanium oxide (IGO).
【請求項11】少なくとも一方が透明な一対の基板と、
前記一対の基板の互いに対向する面上に形成された液晶
配向制御層と、前記液晶配向制御層に接触するようにし
て前記基板間に配置された液晶と、前記一対の基板の内
の一方に形成された画素電極及び共通電極並びに能動素
子とからなり、前記画素電極と共通電極との間隔が前記
液晶層の厚さよりも小さく、前記画素電極及び前記共通
電極間に電圧を印加することにより前記液晶の配向を制
御して表示を行う液晶表示装置において、前記液晶配向
制御層は、一つまたは二つの環状構造部から構成される
ジアミンと一つまたは二つの環状構造部から構成される
テトラカルボン酸とから合成され、前記ジアミンとテト
ラカルボン酸の少なくとも一方の前記環状構造部に結合
したアルキル基をひとつ以上有する高分子材料からなる
ことを特徴とする液晶表示装置。
11. A pair of substrates, at least one of which is transparent;
A liquid crystal alignment control layer formed on surfaces of the pair of substrates facing each other, a liquid crystal disposed between the substrates so as to contact the liquid crystal alignment control layer, and one of the pair of substrates. A pixel electrode, a common electrode, and an active element.The distance between the pixel electrode and the common electrode is smaller than the thickness of the liquid crystal layer, and a voltage is applied between the pixel electrode and the common electrode. In a liquid crystal display device that performs display by controlling the alignment of liquid crystal, the liquid crystal alignment control layer includes a diamine composed of one or two cyclic structures and a tetracarboxylic acid composed of one or two cyclic structures. And a polymer material having at least one alkyl group bonded to the cyclic structure of at least one of the diamine and the tetracarboxylic acid. Crystal display device.
【請求項12】前記アルキル基の炭素数が2以下である
ことを特徴とする請求項11に記載の液晶表示装置。
12. The liquid crystal display device according to claim 11, wherein said alkyl group has 2 or less carbon atoms.
【請求項13】前記液晶配向制御層を構成する前記高分
子材料の弾性率が5ギガパスカル(GPa)以上である
ことを特徴とする請求項11、又は請求項12に記載の
液晶表示装置。
13. The liquid crystal display device according to claim 11, wherein an elastic modulus of the polymer material constituting the liquid crystal alignment control layer is 5 gigapascal (GPa) or more.
【請求項14】前記ジアミンは、化学式6、又は化学式
7で表されるジアミンであることを特徴とする請求項1
1から請求項14のうちいずれか一項に記載の液晶表示
装置。 [R21からR32は水素原子,ハロゲン原子又はアル
キル基を表し、そのアルキル基は未置換であるか、又は
ハロゲン、特にF又はClで一置換されているか又は多
置換されているものとする。また、Xは単結合又は、−
O−,−S−,−CO−,−CH2−,−C(CH3)
2−,−SO2−のいずれかを表す。]
14. The method according to claim 1, wherein the diamine is a diamine represented by Formula 6 or Formula 7.
The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 14. [R21 to R32 represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and the alkyl group is unsubstituted, monosubstituted with halogen, particularly F or Cl, or polysubstituted. X is a single bond or-
O -, - S -, - CO -, - CH 2 -, - C (CH 3)
2 -, - SO 2 - represents either. ]
【請求項15】前記テトラカルボン酸は、化学式8、又
は化学式9で表されるテトラカルボン酸であることを特
徴とする請求項11から請求項14のうちいずれか一項
に記載の液晶表示装置。 [R33からR40は水素原子,ハロゲン原子又はアル
キル基を表し、そのアルキル基は未置換であるか、又は
ハロゲン、特にF又はClで一置換されているか又は多
置換されているものとする。また、Xは単結合又は、−
O−,−S−,−CO−,−CH2−,−C(CH3)2−,
−SO2−のいずれかを表す。]
15. The liquid crystal display device according to claim 11, wherein the tetracarboxylic acid is a tetracarboxylic acid represented by Formula 8 or Formula 9. . [R33 to R40 represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and the alkyl group is unsubstituted or mono- or polysubstituted with halogen, particularly F or Cl. X is a single bond or-
O -, - S -, - CO -, - CH 2 -, - C (CH 3) 2 -,
—SO 2 —. ]
【請求項16】前記高分子材料が、化学式6又は化学式
7で表されたジアミンのうち一種または二種以上のジア
ミンと、化学式8又は化学式9で表されたテトラカルボ
ン酸のうち一種又は二種以上のテトラカルボン酸とから
合成されることを特徴とする請求項11から請求項15
のうちいずれか一項に記載の液晶表示装置。 [R21からR32は水素原子,ハロゲン原子又はアル
キル基を表し、そのアルキル基は未置換であるか、又は
ハロゲン、特にF又はClで一置換されているか又は多
置換されているものとする。また、Xは単結合又は、−
O−,−S−,−CO−,−CH2−,−C(CH3)
2−,−SO2−のいずれかを表す。] [R33からR40は水素原子,ハロゲン原子又はアル
キル基を表し、そのアルキル基は未置換であるか、又は
ハロゲン、特にF又はClで一置換されているか又は多
置換されているものとする。また、Xは単結合又は、−
O−,−S−,−CO−,−CH2−,−C(CH3)2−,
−SO2−のいずれかを表す。]
16. The polymer material is one or more of diamines represented by the chemical formulas 6 and 7, and one or two kinds of tetracarboxylic acids represented by the chemical formula 8 or 9 The compound is synthesized from the above tetracarboxylic acid.
The liquid crystal display device according to claim 1. [R21 to R32 represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and the alkyl group is unsubstituted, monosubstituted with halogen, particularly F or Cl, or polysubstituted. X is a single bond or-
O -, - S -, - CO -, - CH 2 -, - C (CH 3)
2 -, - SO 2 - represents either. ] [R33 to R40 represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and the alkyl group is unsubstituted or mono- or polysubstituted with halogen, particularly F or Cl. X is a single bond or-
O -, - S -, - CO -, - CH 2 -, - C (CH 3) 2 -,
—SO 2 —. ]
【請求項17】前記高分子材料が、化学式10で表され
るテトラカルボン酸と、化学式6又は化学式7で表され
た一種又は二種以上のジアミンとから合成されることを
特徴とする請求項11から請求項14のうちいずれか一
項に記載の液晶表示装置。 [R21からR32は水素原子,ハロゲン原子又はアル
キル基を表し、そのアルキル基は未置換であるか、又は
ハロゲン、特にF又はClで一置換されているか又は多
置換されているものとする。また、Xは単結合又は、−
O−,−S−,−CO−,−CH2−,−C(CH3)
2−,−SO2−のいずれかを表す。]
17. The polymer material is synthesized from a tetracarboxylic acid represented by Chemical Formula 10 and one or more diamines represented by Chemical Formula 6 or Chemical Formula 7. The liquid crystal display device according to any one of claims 11 to 14. [R21 to R32 represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and the alkyl group is unsubstituted, monosubstituted with halogen, particularly F or Cl, or polysubstituted. X is a single bond or-
O -, - S -, - CO -, - CH 2 -, - C (CH 3)
2 -, - SO 2 - represents either. ]
【請求項18】前記高分子材料が、化学式10で表され
るテトラカルボン酸と、化学式8又は化学式9で表され
た一種以上のテトラカルボン酸と、化学式6又は化学式
7で表されたジアミンのうち一種又は二種以上のジアミ
ンとを用いて合成されることを特徴とする請求項11か
ら請求項15のうちいずれか一項に記載の液晶表示装
置。 [R33からR40は水素原子,ハロゲン原子又はアル
キル基を表し、そのアルキル基は未置換であるか、又は
ハロゲン、特にF又はClで一置換されているか又は多
置換されているものとする。また、Xは単結合又は、−
O−,−S−,−CO−,−CH2−,−C(CH3)2−,
−SO2−のいずれかを表す。] [R21からR32は水素原子,ハロゲン原子又はアル
キル基を表し、そのアルキル基は未置換であるか、又は
ハロゲン、特にF又はClで一置換されているか又は多
置換されているものとする。また、Xは単結合又は、−
O−,−S−,−CO−,−CH2−,−C(CH3)
2−,−SO2−のいずれかを表す。]
18. The polymer material according to claim 1, wherein the polymer material is a tetracarboxylic acid represented by the formula (10), one or more tetracarboxylic acids represented by the formula (8) or (9) and a diamine represented by the formula (6) or (7) The liquid crystal display device according to any one of claims 11 to 15, wherein the liquid crystal display device is synthesized using one or more diamines. [R33 to R40 represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and the alkyl group is unsubstituted or mono- or polysubstituted with halogen, particularly F or Cl. X is a single bond or-
O -, - S -, - CO -, - CH 2 -, - C (CH 3) 2 -,
—SO 2 —. ] [R21 to R32 represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and the alkyl group is unsubstituted, monosubstituted with halogen, particularly F or Cl, or polysubstituted. X is a single bond or-
O -, - S -, - CO -, - CH 2 -, - C (CH 3)
2 -, - SO 2 - represents either. ]
【請求項19】前記液晶の誘電率異方性が負であること
を特徴とする請求項11から請求項18のうちいずれか
一項に記載の液晶表示装置。
19. The liquid crystal display device according to claim 11, wherein the liquid crystal has a negative dielectric anisotropy.
【請求項20】前記画素電極及び共通電極の少なくとも
一方が透明導電材を用いて構成されたものであることを
特徴とする請求項11から請求項19のうちいずれか一
項に記載の液晶表示装置。
20. The liquid crystal display according to claim 11, wherein at least one of the pixel electrode and the common electrode is formed using a transparent conductive material. apparatus.
【請求項21】前記透明導電材が酸化インジウムスズ
(ITO),酸化インジウム亜鉛(IZO)、又は酸化イン
ジウムゲルマニウム(IGO)であることを特徴とする
請求項20に記載の液晶表示装置。
21. The transparent conductive material is indium tin oxide
The liquid crystal display device according to claim 20, wherein the liquid crystal display device is (ITO), indium zinc oxide (IZO), or indium germanium oxide (IGO).
【請求項22】前記能動素子は薄膜トランジスタである
請求項1から請求項21のうちいずれか一項に記載の液
晶表示装置。
22. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein said active element is a thin film transistor.
【請求項23】前記高分子材料がポリイミド,ポリアミ
ック酸、またはこれらの混合物であることを特徴とする
請求項1から請求項22のうちいずれか一項に記載の液
晶表示装置。
23. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the polymer material is polyimide, polyamic acid, or a mixture thereof.
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