JP2002026277A - Memory device and method for driving the same - Google Patents

Memory device and method for driving the same

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JP2002026277A
JP2002026277A JP2000200276A JP2000200276A JP2002026277A JP 2002026277 A JP2002026277 A JP 2002026277A JP 2000200276 A JP2000200276 A JP 2000200276A JP 2000200276 A JP2000200276 A JP 2000200276A JP 2002026277 A JP2002026277 A JP 2002026277A
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Japan
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linear electrodes
memory
memory device
material layer
memory material
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JP2000200276A
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Satoshi Inoue
聡 井上
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Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a memory device with a highly integrated layer structure by simplifying a circuit structure. SOLUTION: Organic memory material layers are laminated, and a plurality of linear electrodes are arranged in parallel to an X direction along one face of each organic memory material layer, and the plurality of linear electrodes are arranged in parallel to a Y direction orthogonal to the linear electrodes arranged in parallel to the X direction along the other face. Memory cells are respectively formed at positions where the both linear electrodes are allowed to cross with the organic memory material layer interposed so that a memory device with a simple matrix structure can be constituted. Moreover, the memory cells formed so as to be made adjacent to each other at the corresponding positions in the organic memory material layer are allowed to share at least either the linear electrodes arranged in parallel to the X direction or the linear electrodes arranged in parallel to the Y direction.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、層構造のメモリデ
バイスに係り、特に強誘電体層を積層してなる単純マト
リクス構造の強誘電体メモリデバイスに関する。
The present invention relates to a memory device having a layer structure, and more particularly to a ferroelectric memory device having a simple matrix structure in which ferroelectric layers are stacked.

【0002】[0002]

【従来の技術】強誘電体材料は比誘電率が数百から数千
と極めて大きく、キャパシタの絶縁膜に用いれば大規模
集積回路に好適な小面積、大容量のキャパシタが得られ
る。強誘電体材料は自発分極を持ち、外部電場の作用に
より分極方向を反転させることができるため、この特性
を用いて不揮発性メモリを製造することができる。強誘
電体としては、ペロブスカイト型結晶構造のPZT
(鉛、ジルコニウム、チタン酸化物)、PLZT、バル
クのBTO、VDF(ビニリデンフロライド)、TrF
E(トリフロロエチレン)等が知られている。
2. Description of the Related Art Ferroelectric materials have a very large relative dielectric constant of several hundreds to several thousands, and if they are used as insulating films of capacitors, small-area, large-capacity capacitors suitable for large-scale integrated circuits can be obtained. Since the ferroelectric material has spontaneous polarization and can reverse the polarization direction by the action of an external electric field, a nonvolatile memory can be manufactured using this characteristic. As a ferroelectric, PZT having a perovskite crystal structure is used.
(Lead, zirconium, titanium oxide), PLZT, bulk BTO, VDF (vinylidene fluoride), TrF
E (trifluoroethylene) and the like are known.

【0003】強誘導体材料の分極特性は図7に示すよう
なヒステリシス特性を示す。強誘電体材料に電圧Eを印
加して分極させた場合、電圧を“0”に戻しても、点5
00または点502で示される残留分極値±Prの状態
が保持されるという特性があるため、点500または点
502で示される残留分極値の各々にデジタル信号の
“1”,“0”を対応させることで、不揮発性メモリと
して機能させることができる。
[0003] The polarization characteristics of the strong derivative material exhibit hysteresis characteristics as shown in FIG. When the voltage E is applied to the ferroelectric material to cause polarization, even if the voltage is returned to “0”, the point 5
Since there is a characteristic that the state of the remanent polarization value ± Pr indicated by 00 or 502 is maintained, the digital signals “1” and “0” correspond to each of the remanent polarization values indicated by the point 500 or 502. By doing so, it can function as a nonvolatile memory.

【0004】具体的には、閾値電圧Vcを越える充分な
大きさの電圧V(飽和電圧)を印加することによって、
“0”を記録し、また、閾値電圧−Vc を越える充分な
大きさの電圧−V(飽和電圧)を印加し、“1”の状態
を記録する。この“1”の状態が記録されている場合
に、電圧V を印加すると、分極状態が点500から点
502に転移する。この時、両分極差2Prに相当する
電荷が放出される。一方、“0”の状態にあるときは、
点502→点501→点502と分極状態が変化するの
で両分極差は“0”である。従って、電圧Vの印加によ
って発生する電荷量を検出することにより、記憶状態が
“1”か“0”かを読出すことができる。
Specifically, by applying a voltage V (saturation voltage) of a sufficient magnitude exceeding the threshold voltage Vc,
"0" is recorded, and a voltage -V (saturation voltage) of a sufficient magnitude exceeding the threshold voltage -Vc is applied, and the state of "1" is recorded. When the voltage V 1 is applied while the state of “1” is recorded, the polarization state changes from the point 500 to the point 502. At this time, charges corresponding to the two polarization differences 2Pr are emitted. On the other hand, when in the state of “0”,
Since the polarization state changes from point 502 to point 501 to point 502, the polarization difference is “0”. Therefore, by detecting the amount of charge generated by the application of the voltage V, it is possible to read whether the storage state is “1” or “0”.

【0005】図8は、前述した分極を利用したメモリデ
バイスのうち、単純マトリクス構造の具体的な構成を示
す図である。このメモリデバイスは、支持体となる基板
600の両面上に互いに交差した一対の線状の下部電極
601、上部電極603が配置され、この両電極60
1、603間に強誘電体層602が設けられて、上下線
状電極601、603が積層方向に重なる交差部にメモ
リセルが構成される。ここで、積層方向とは、基板/下
部電極/強誘電体層/上部電極のように、製造過程にお
いて積層される方向を意味し、図では垂直方向に相当す
る。
FIG. 8 is a diagram showing a specific configuration of a simple matrix structure among memory devices using the above-mentioned polarization. In this memory device, a pair of linear lower electrodes 601 and upper electrodes 603 crossing each other are arranged on both surfaces of a substrate 600 serving as a support.
A ferroelectric layer 602 is provided between 1 and 603, and a memory cell is formed at an intersection where the upper and lower linear electrodes 601 and 603 overlap in the stacking direction. Here, the laminating direction means a direction in which the layers are laminated in a manufacturing process, such as a substrate / lower electrode / ferroelectric layer / upper electrode, and corresponds to a vertical direction in the drawing.

【0006】図9に、単純マトリクス構造が3×3のマ
トリクスの場合の等価回路を示す。図9(a)はメモリ
セル配置図、図9(b)は等価回路図である。図9
(a)において上下線状電極601、603の交差部に
形成されたメモリセル701〜709は、図9(b)に
おいて同じ符号のコンデンサに相当する。
FIG. 9 shows an equivalent circuit when the simple matrix structure is a 3 × 3 matrix. FIG. 9A is a memory cell layout diagram, and FIG. 9B is an equivalent circuit diagram. FIG.
The memory cells 701 to 709 formed at the intersections of the upper and lower linear electrodes 601 and 603 in FIG. 9A correspond to the capacitors having the same reference numerals in FIG.

【0007】なお参考文献としては、Z.Y.Hau、
G.R.Chen著「A new material f
or optical, electrical th
infilm memories」,Vacuum 4
3,No.11,pp.1019―1023(199
2)、西村清、淵上貴昭、千場一博著「強誘電体ヒステ
リシス特性モデルの開発とその応用」、電子情報通信学
会論文誌J80−C−II、〔7〕、pp.229―2
35(1997)が知られている。
As references, ZY Hau,
A. new material f by GR Chen
or optical, electrical th
infilm memories ", Vacuum 4
3, No. 11, pp. 1019-1023 (199
2), Kiyoshi Nishimura, Takaaki Fuchigami, Kazuhiro Senba, "Development of a ferroelectric hysteresis characteristic model and its application", IEICE Transactions J80-C-II, [7], pp. 229-2
35 (1997) is known.

【0008】一方、記憶容量を拡大するために、強誘電
体層のような有機メモリ材料層を積層し、層構造とした
メモリデバイスが知られている。図10に単純マトリク
ス構造かつ層構造としたメモリデバイスの例を示す。図
に示すように、各有機メモリ材料層800は絶縁層80
1により分離された構造となっている。
On the other hand, there is known a memory device having a layered structure in which organic memory material layers such as ferroelectric layers are stacked in order to increase the storage capacity. FIG. 10 shows an example of a memory device having a simple matrix structure and a layer structure. As shown, each organic memory material layer 800 comprises an insulating layer 80.
1 are provided.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】従来の積層タイプのメ
モリデバイスは、各有機メモリ材料層が独立した構造と
なっているため、有機メモリ材料層が増えると、電極層
およびそれに関連した回路が倍増してしまい、回路構成
が複雑になってしまうという問題があった。例えば、有
機メモリ材料層を10層に積層する場合、電極層は各有
機メモリ材料層ごとに上下の2層必要となるため、メモ
リデバイス全体では20層必要となってしまう。
In the conventional stacked memory device, since each organic memory material layer has an independent structure, when the number of organic memory material layers increases, the number of electrode layers and circuits related thereto doubles. As a result, there is a problem that the circuit configuration becomes complicated. For example, when ten organic memory material layers are stacked, two upper and lower electrode layers are required for each organic memory material layer, so that the entire memory device requires twenty layers.

【0010】更に、電極層が増加すると、当然電極層を
形成するためのプロセスも増えるため、メモリデバイス
の製造プロセスが複雑化し、コストアップの要因となっ
てしまうという問題も生じる。
Further, when the number of the electrode layers increases, the number of processes for forming the electrode layers naturally increases, so that the manufacturing process of the memory device becomes complicated, which causes a problem that the cost increases.

【0011】本発明はこのような従来の問題点を解消す
べく創案されたもので、回路構成が単純であり、かつ高
集積な積層タイプのメモリデバイスを提供することを目
的とする。
The present invention has been made in order to solve such a conventional problem, and an object of the present invention is to provide a highly integrated stacked memory device having a simple circuit configuration.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明に係るメモリデバ
イスは、有機メモリ材料層を積層し、各有機メモリ材料
層に複数のメモリセルを形成し、各メモリセルには有機
メモリ材料層を挟む1対の電極を設けたメモリデバイス
であって、相隣接する有機メモリ材料層における対応位
置のメモリセルは、前記1対の電極のうちの少なくとも
一方を共有していることを特徴とする。これによって電
極数が減少し、回路構成を単純化することができる。
A memory device according to the present invention has an organic memory material layer laminated thereon, a plurality of memory cells formed in each organic memory material layer, and an organic memory material layer sandwiched between each memory cell. A memory device provided with a pair of electrodes, wherein memory cells at corresponding positions in adjacent organic memory material layers share at least one of the pair of electrodes. This reduces the number of electrodes and simplifies the circuit configuration.

【0013】本発明に係るメモリデバイスは、有機メモ
リ材料層を積層し、各有機メモリ材料層の一方の面に沿
って複数の線状電極をX方向に並列し、他方の面に沿っ
て複数の線状電極を前記X方向に並列した線状電極と直
交するY方向に並列し、有機メモリ材料層を挟んで両線
状電極が交差する位置にそれぞれメモリセルを形成する
単純マトリクス構造のメモリデバイスであって、相隣接
する有機メモリ材料層における対応位置のメモリセル
は、少なくともX方向に並列された線状電極又はY方向
に並列された線状電極のいずれか一方を共有しているこ
とを特徴とする。これによって電極数が減少し、回路構
成を単純化、コンパクト化することができる。その結
果、高集積化を図ることができる。
In the memory device according to the present invention, an organic memory material layer is laminated, a plurality of linear electrodes are arranged in parallel in one direction along one surface of each organic memory material layer in the X direction, and a plurality of linear electrodes are arranged along the other surface. Memory having a simple matrix structure in which the linear electrodes are arranged in parallel in the Y direction orthogonal to the linear electrodes arranged in the X direction, and memory cells are formed at positions where both linear electrodes intersect with the organic memory material layer interposed therebetween. The device, wherein memory cells at corresponding positions in adjacent organic memory material layers share at least one of the linear electrodes arranged in the X direction and the linear electrodes arranged in the Y direction. It is characterized by. As a result, the number of electrodes is reduced, and the circuit configuration can be simplified and made compact. As a result, high integration can be achieved.

【0014】センサ回路に関しては、X方向に並列され
た線状電極、又はY方向に並列された線状電極のいずれ
かについて、各線状電極ごとに電圧を測定するためのセ
ンサ回路が1つ接続されている形態が考えられる。かか
る形態では、1つのセンサ回路を2層で共有する構成と
なるため、回路構成を単純化することができる。
With respect to the sensor circuit, one sensor circuit for measuring a voltage for each of the linear electrodes connected in the X direction or the linear electrodes connected in the Y direction is connected. It is possible to consider the form. In such an embodiment, since one sensor circuit is shared by two layers, the circuit configuration can be simplified.

【0015】また例えば、X方向に並列された線状電
極、又はY方向に並列された線状電極のいずれかについ
て、各線状電極ごとに電圧を測定するためのセンサ回路
が2つ接続されている形態が考えられる。更に例えば、
X方向に並列された線状電極、及びY方向に並列された
線状電極について、各線状電極ごとに電圧を測定するた
めのセンサ回路が1つ接続されている形態が考えられ
る。こららの形態では、層ごとに1つのセンサ回路を割
り当てらることができるため、安定して読み出しを行う
ことができる。
Further, for example, two sensor circuits for measuring a voltage for each of the linear electrodes arranged in the X direction or the linear electrodes arranged in the Y direction are connected. Is possible. Further, for example,
Regarding the linear electrodes arranged in parallel in the X direction and the linear electrodes arranged in parallel in the Y direction, a form in which one sensor circuit for measuring a voltage is connected to each linear electrode is considered. In these embodiments, one sensor circuit can be assigned to each layer, so that stable reading can be performed.

【0016】本発明のメモリデバイスにおいて、誘電体
層はゾル・ゲル法、MOD法、スパッタ法又は印刷法で
成膜することができる。
In the memory device of the present invention, the dielectric layer can be formed by a sol-gel method, a MOD method, a sputtering method or a printing method.

【0017】本発明のメモリデバイスは、情報処理機器
のメモリとして使用することができる。情報処理機器と
は、コンピュータ、プリンタ等のCPU、メモリ、デー
タの入出力装置を備えたものをいう。
The memory device of the present invention can be used as a memory of an information processing device. The information processing device refers to a device including a CPU such as a computer and a printer, a memory, and a data input / output device.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】(構造の説明)次に本発明に係る
メモリデバイスの構造を図面に基づいて説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (Description of Structure) Next, the structure of a memory device according to the present invention will be described with reference to the drawings.

【0019】図1は、本発明に係るメモリデバイスの斜
視概略図、図2(a)はXZ断面の模式図、図2(b)
はXY断面の模式図である。
FIG. 1 is a schematic perspective view of a memory device according to the present invention, FIG. 2A is a schematic view of an XZ section, and FIG.
Is a schematic diagram of an XY cross section.

【0020】図1、図2に示すように、本発明に係るメ
モリデバイス1は、有機メモリ材料層100〜107が
積層され、各有機メモリ材料層の上下には、線状電極1
08がX方向に、線状電極109がY方向に並列された
構造となっている。以下、X方向に並列された線状電極
をX方向線状電極、Y方向に並列された線状電極をY方
向線状電極と呼ぶ。各有機メモリ材料層においては、X
方向線状電極108、Y方向線状電極109が交差する
位置にそれぞれメモリセル110が形成される単純マト
リクス構造となっている。なお、各線状電極にはデコー
ダが接続され、所定の電圧を印加できるように構成され
ている。
As shown in FIGS. 1 and 2, a memory device 1 according to the present invention has organic memory material layers 100 to 107 laminated thereon, and linear electrodes 1 above and below each organic memory material layer.
08 is arranged in the X direction, and the linear electrodes 109 are arranged in the Y direction. Hereinafter, the linear electrodes arranged in the X direction are referred to as X direction linear electrodes, and the linear electrodes arranged in the Y direction are referred to as Y direction linear electrodes. In each organic memory material layer, X
It has a simple matrix structure in which memory cells 110 are formed at positions where the direction linear electrodes 108 and the Y direction linear electrodes 109 intersect. Note that a decoder is connected to each linear electrode so that a predetermined voltage can be applied.

【0021】なお、図1、図2では、有機メモリ材料層
を8層としているが、何層とするかは設計に応じて定め
ることができる。また、各層における線状電極数は、1
層におけるメモリセル数に応じて決定されるが、図では
X方向線状電極、Y方向線状電極ともに4本として表示
している。
Although FIGS. 1 and 2 show eight organic memory material layers, the number of organic memory material layers can be determined according to the design. The number of linear electrodes in each layer is 1
Although it is determined according to the number of memory cells in the layer, in the figure, the X-direction linear electrodes and the Y-direction linear electrodes are both shown as four.

【0022】ここで、有機メモリ材料としては、例えば
ビニリデンフロライドとトリフロロエチレンの共重合体
を用いることができる。
Here, as the organic memory material, for example, a copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene can be used.

【0023】図1、図2からわかるように、本発明のメ
モリデバイスにおいては、層方向に相隣接する有機メモ
リ材料層は、少なくともX方向線状電極108又はY方
向線状電極109のいずれか一方を共有する構造となっ
ている。例えば、層103と層104はX方向線状電極
を共有しており、かかる共有するX方向線状電極は、層
103に対しては上部電極として、層104に対しては
下部電極として機能している。このように線状電極を共
有する構成とすることによって、線状電極の個数を従来
のメモリデバイスに比べて約1/2とすることができ、
回路構成を単純化、コンパクト化することができる。そ
の結果、メモリの集積度を向上させることができる。 (センサ回路の配置)図3、図4、図5は、本発明にお
けるセンサ回路の配置の一例を示す図である。ここで、
センサ回路とは、メモリセルに記憶された情報を読み出
すための回路を指し、センスアンプ、デコーダー等を含
んで構成される。
As can be seen from FIGS. 1 and 2, in the memory device of the present invention, at least one of the X-direction linear electrodes 108 and the Y-direction linear electrodes 109 It is structured to share one. For example, the layer 103 and the layer 104 share an X-direction linear electrode, and the shared X-direction linear electrode functions as an upper electrode for the layer 103 and functions as a lower electrode for the layer 104. ing. By adopting a configuration in which the linear electrodes are shared in this manner, the number of the linear electrodes can be reduced to about 比 べ compared with the conventional memory device,
The circuit configuration can be simplified and compact. As a result, the degree of integration of the memory can be improved. (Arrangement of Sensor Circuit) FIGS. 3, 4 and 5 are views showing an example of the arrangement of the sensor circuit in the present invention. here,
The sensor circuit refers to a circuit for reading information stored in a memory cell, and includes a sense amplifier, a decoder, and the like.

【0024】図3に示す例では、各層のX方向線状電極
に対して、電圧を測定するためのセンサ回路が1つ接続
されている構成となっている。かかる構成では、2つの
有機メモリ材料層に対して1つのセンサ回路が対応して
いる。例えば、層103に含まれるメモリセル、及び層
104に含まれるメモリセルに対しては、センサ回路3
00により読み出し処理が行われる。このように2つの
層に対してセンサ回路を共有させた構成とすることによ
り、回路構成を大幅に単純化することができる。なお、
X方向線状電極の代わりにY方向線状電極にセンサ回路
を設けるように構成してもよい。
In the example shown in FIG. 3, one sensor circuit for measuring a voltage is connected to the X-direction linear electrode of each layer. In such a configuration, one sensor circuit corresponds to two organic memory material layers. For example, for a memory cell included in the layer 103 and a memory cell included in the layer 104, the sensor circuit 3
00 performs a reading process. Thus, by adopting a configuration in which the sensor circuit is shared by the two layers, the circuit configuration can be greatly simplified. In addition,
The sensor circuit may be provided on the Y-direction linear electrode instead of the X-direction linear electrode.

【0025】図4に示す例では、各層のX方向線状電極
に対して、電圧を測定するためのセンサ回路が両端に2
つ接続されている構成となっている。かかる構成では、
1つの有機メモリ材料層に対して1つのセンサ回路が対
応している。例えば、層103に含まれるメモリセルに
対してはセンサ回路300により、層104に含まれる
メモリセルに対してはセンサ回路301により読み出し
処理が行われる。このように各層に対して独立したセン
サ回路を設ける構成とすることにより、センサ回路にお
ける検出安定性を高めることができる。例えば、図の左
側のセンサ回路が接続される線状電極は層に対して上部
電極側に固定され(例えば、センサ回路300は層10
3の上部電極側に接続している)、図の右側のセンサ回
路が接続される線状電極は層に対して下部電極側に固定
される(例えば、センサ回路301は層104の下部電
極側に接続している)ため、常にセンサ回路で検出する
電圧が1種類となるため、基準電圧を一定とすることが
できるからである。なお、X方向線状電極の代わりにY
方向線状電極にセンサ回路を設けるように構成してもよ
い。
In the example shown in FIG. 4, a sensor circuit for measuring a voltage is provided at both ends of the linear electrodes of each layer in the X direction.
Are connected. In such a configuration,
One sensor circuit corresponds to one organic memory material layer. For example, readout processing is performed by the sensor circuit 300 on the memory cells included in the layer 103 and by the sensor circuit 301 on the memory cells included in the layer 104. In this manner, by providing an independent sensor circuit for each layer, detection stability in the sensor circuit can be improved. For example, the linear electrode to which the sensor circuit on the left side of the drawing is connected is fixed to the upper electrode side with respect to the layer (for example, the sensor circuit 300 is
3 is connected to the upper electrode side, and the linear electrode to which the sensor circuit on the right side of the figure is connected is fixed to the lower electrode side with respect to the layer (for example, the sensor circuit 301 is connected to the lower electrode side of the layer 104). This is because the sensor circuit always has only one type of voltage, and the reference voltage can be kept constant. In addition, instead of the X-direction linear electrode, Y
You may comprise so that a sensor circuit may be provided in a direction linear electrode.

【0026】図5に示す例では、各層のX方向線状電極
及びY方向線状電極に対して、電圧を測定するためのセ
ンサ回路が1つ接続されている構成となっている。かか
る構成では、1つの有機メモリ材料層に対して1つのセ
ンサ回路が対応している。例えば、層103に含まれる
メモリセルに対してはセンサ回路300により、層10
4に含まれるメモリセルに対してはセンサ回路301に
より読み出し処理が行われる。かかる例においても、図
4に示す例と同様に、各層に対して独立したセンサ回路
を設けた構成となっているため、センサ回路における検
出安定性を高めることができる。 (書込み/読み出し動作)図6は本発明に係るメモリデ
バイスの全体構成を、周辺回路を含めて示す回路図であ
る。本実施形態では、1つのZ方向デコーダ400、5
つのX方向デコーダ401、4つのY方向デコーダ40
2を備えている。Z方向デコーダはアクセス層の位置を
特定するためのものであり、各X方向デコーダ、Y方向
デコーダに接続されている。また、各X方向デコーダ、
Y方向デコーダは、層状に配置されている各X方向線状
電極、Y方向線状電極に対応して接続されている。
In the example shown in FIG. 5, one sensor circuit for measuring a voltage is connected to the X-direction linear electrode and the Y-direction linear electrode of each layer. In such a configuration, one sensor circuit corresponds to one organic memory material layer. For example, the sensor circuit 300 applies a memory cell included in the layer 103 to the layer 10
4 is read out by the sensor circuit 301. In this example as well, similar to the example shown in FIG. 4, the configuration in which an independent sensor circuit is provided for each layer can improve the detection stability in the sensor circuit. (Write / Read Operation) FIG. 6 is a circuit diagram showing the entire configuration of a memory device according to the present invention, including peripheral circuits. In the present embodiment, one Z-direction decoder 400, 5
Four X-direction decoders 401 and four Y-direction decoders 40
2 is provided. The Z-direction decoder is for specifying the position of the access layer, and is connected to each X-direction decoder and Y-direction decoder. Also, each X direction decoder,
The Y-direction decoder is connected to each of the X-direction linear electrodes and the Y-direction linear electrodes arranged in layers.

【0027】以下、強誘電体の残留分極値が−Prとな
る場合を”1”、Prとなる場合を”0”として、メモ
リデバイスの書込み・読み出し動作を説明する。
Hereinafter, the write / read operation of the memory device will be described assuming that the case where the remanent polarization value of the ferroelectric is -Pr is "1" and the case where it is Pr is "0".

【0028】最初に、書込み動作について説明する。外
部から供給されるアドレス信号に基づいて、Z方向デコ
ーダ、X方向デコーダ、Y方向デコーダにより、書き込
み対象となるメモリセル403が選択される。各デコー
ダには電圧発生器よりH、L、P、Qの電圧信号が供給
される。例えば、H、Lの電圧信号は選択されたメモリ
セル403に対応するX方向線状電極、Y方向線状電極
に出力され、P、Qの電圧信号はアクセス層における他
のX方向線状電極、Y方向線状電極に出力される。ま
た、アクセス層と異なる層に対応する線状電極に対して
は、例えば、アクセス層との相対的位置関係により定ま
るパターンに基づいて所定の線状電極に対してP、Qの
電圧信号が出力される。
First, the write operation will be described. A memory cell 403 to be written is selected by a Z-direction decoder, an X-direction decoder, and a Y-direction decoder based on an externally supplied address signal. Each decoder is supplied with H, L, P, Q voltage signals from a voltage generator. For example, the H and L voltage signals are output to the X-direction linear electrode and the Y-direction linear electrode corresponding to the selected memory cell 403, and the P and Q voltage signals are output to the other X-direction linear electrodes in the access layer. , Y-direction linear electrodes. For linear electrodes corresponding to layers different from the access layer, for example, P and Q voltage signals are output to predetermined linear electrodes based on a pattern determined by a relative positional relationship with the access layer. Is done.

【0029】ここで、アクセス層に対応するX方向デコ
ーダとY方向デコーダでは、供給される電圧信号の極性
は常に互いに逆極性となっている。すなわち、選択した
メモリセル403に”1”を書き込む場合は、X方向デ
コーダには電圧信号L、Y方向デコーダには電圧信号H
が供給され、”0”を書き込む場合は、X方向デコーダ
には電圧信号H、Y方向デコーダには電圧信号Lが供給
されることになる。
Here, in the X-direction decoder and the Y-direction decoder corresponding to the access layer, the polarities of the supplied voltage signals are always opposite to each other. That is, when "1" is written to the selected memory cell 403, the voltage signal L is applied to the X-direction decoder and the voltage signal H is applied to the Y-direction decoder.
Is supplied, and when "0" is written, the voltage signal H is supplied to the X-direction decoder and the voltage signal L is supplied to the Y-direction decoder.

【0030】その結果、選択したメモリセル403に電
圧+(H−L)もしくは−(H−L)が印加されること
となり、メモリセル内の強誘電体層が分極する。分極し
た後は、電圧が印加されない状態においても残留分極値
−PrもしくはPrが保持されるため、”1”もしく
は”0”を記憶することができる。
As a result, a voltage + (HL) or-(HL) is applied to the selected memory cell 403, and the ferroelectric layer in the memory cell is polarized. After polarization, the residual polarization value -Pr or Pr is maintained even when no voltage is applied, so that "1" or "0" can be stored.

【0031】次に読み出し動作について説明する。読み
出し時においては、常に、アクセス層に対応するX方向
デコーダには電圧信号Hが、Y方向デコーダには電圧信
号Lが供給される。その結果、選択したメモリセルには
電圧+(H−L)が印加され、記録状態が”1”、すな
わち残留分極値が−Prの場合には、分極状態が−Pr
からPrに分極反転することになる。一方、記憶状態
が”0”、すなわち残留分極値がPrの場合には、分極
状態はPrから一旦増加した後またPrに戻るため、残
留分極値はPrのままとなる。
Next, the read operation will be described. At the time of reading, the voltage signal H is always supplied to the X-direction decoder and the voltage signal L is supplied to the Y-direction decoder corresponding to the access layer. As a result, the voltage + (HL) is applied to the selected memory cell, and when the recording state is "1", that is, when the remanent polarization value is -Pr, the polarization state is -Pr.
To Pr. On the other hand, when the storage state is “0”, that is, when the remanent polarization value is Pr, the remanent polarization value remains Pr because the polarization state temporarily increases from Pr and returns to Pr.

【0032】従って、記録状態が”1”の場合にのみ、
分極状態が−PrからPrに反転し、電荷が放出されて
反転電流が生じる。なお、記録状態が”0”の場合に
も、少量の電流が生じるが、前記反転電流に比べ充分に
小さいものとなる。前記反転電流は電圧変換された後セ
ンスアンプ404において基準電圧と比較され、基準電
圧より大きい場合に記録状態”1”としてデータI/O
を介して読み出されることになる。 (その他変形例)本発明により製造したメモリデバイス
は、メモリを備える全ての情報処理機器、例えばコンピ
ュータの内部記憶装置、メモリスティック、メモリカー
ドなどに用いることができる。
Therefore, only when the recording state is "1",
The polarization state is reversed from -Pr to Pr, and charges are released to generate a reversal current. When the recording state is "0", a small amount of current is generated, but the current is sufficiently smaller than the reversal current. The inverted current is converted to a reference voltage in the sense amplifier 404 after voltage conversion.
Is read out via the. (Other Modifications) The memory device manufactured according to the present invention can be used for all information processing devices having a memory, for example, an internal storage device of a computer, a memory stick, a memory card, and the like.

【0033】なお、本発明は上記各実施例に限定される
ことなく、種々に変形して適用することが可能である。
The present invention is not limited to the above embodiments but can be applied in various modifications.

【0034】[0034]

【発明の効果】前述のとおり、本発明に係るメモリデバ
イスは、有機メモリ材料層を積層する層構造のメモリデ
バイスにおいて、各有機メモリ材料層を挟む電極のう
ち、少なくとも一方の電極について層方向に隣接する有
機メモリ材料層で共有する構成としたため、電極数が減
少し、回路構成が単純化され、高集積なメモリデバイス
を実現できるという優れた効果を有する。
As described above, in the memory device according to the present invention, in a memory device having a layered structure in which organic memory material layers are stacked, at least one of the electrodes sandwiching each organic memory material layer extends in the layer direction. Since the structure is shared by the adjacent organic memory material layers, the number of electrodes is reduced, the circuit configuration is simplified, and a highly integrated memory device can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に係るメモリデバイスの斜視概略図で
ある。
FIG. 1 is a schematic perspective view of a memory device according to the present invention.

【図2】 本発明に係るメモリデバイスの断面を表わす
模式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a cross section of a memory device according to the present invention.

【図3】 本発明におけるセンサ回路の配置の一例を示
す図である
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of an arrangement of a sensor circuit according to the present invention.

【図4】 本発明におけるセンサ回路の配置の一例を示
す図である
FIG. 4 is a diagram showing an example of an arrangement of a sensor circuit according to the present invention.

【図5】 本発明におけるセンサ回路の配置の一例を示
す図である
FIG. 5 is a diagram showing an example of an arrangement of a sensor circuit according to the present invention.

【図6】 本発明のメモリデバイスの全体構成を説明す
るための図である。
FIG. 6 is a diagram for explaining the overall configuration of the memory device of the present invention.

【図7】 強誘電体材料のヒステリシス特性を説明する
ための図である。
FIG. 7 is a diagram for explaining hysteresis characteristics of a ferroelectric material.

【図8】 単純マトリクス構造のメモリデバイスを説明
するための図である。
FIG. 8 is a diagram for explaining a memory device having a simple matrix structure.

【図9】 単純マトリクス構造のメモリデバイスの等価
回路を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing an equivalent circuit of a memory device having a simple matrix structure.

【図10】 従来技術における層構造のメモリデバイス
の説明図である。
FIG. 10 is an explanatory diagram of a memory device having a layer structure according to the related art.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100〜107、800 有機メモリ材料層 108、1081、1082 X方向線状電極 109 Y方向線状電極 110、200、403 メモリセル 300、301 センサ回路 400 Z方向デコーダ 401 X方向デコーダ 402 Y方向デコーダ 404 センスアンプ 801 絶縁層 100 to 107, 800 Organic memory material layer 108, 1081, 1082 X-direction linear electrode 109 Y-direction linear electrode 110, 200, 403 Memory cell 300, 301 Sensor circuit 400 Z-direction decoder 401 X-direction decoder 402 Y-direction decoder 404 Sense amplifier 801 insulation layer

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 有機メモリ材料層を積層し、各有機メモ
リ材料層に複数のメモリセルを形成し、各メモリセルに
は有機メモリ材料層を挟む1対の電極を設けたメモリデ
バイスであって、 相隣接する有機メモリ材料層における対応位置のメモリ
セルは、前記1対の電極のうちの少なくとも一方を共有
していることを特徴とするメモリデバイス。
1. A memory device in which an organic memory material layer is laminated, a plurality of memory cells are formed in each organic memory material layer, and each memory cell is provided with a pair of electrodes sandwiching the organic memory material layer. A memory device, wherein memory cells at corresponding positions in adjacent organic memory material layers share at least one of the pair of electrodes.
【請求項2】 有機メモリ材料層を積層し、各有機メモ
リ材料層の一方の面に沿って複数の線状電極をX方向に
並列し、他方の面に沿って複数の線状電極を前記X方向
に並列した線状電極と直交するY方向に並列し、有機メ
モリ材料層を挟んで両線状電極が交差する位置にそれぞ
れメモリセルを形成する単純マトリクス構造のメモリデ
バイスであって、 相隣接する有機メモリ材料層における対応位置のメモリ
セルは、少なくともX方向に並列された線状電極又はY
方向に並列された線状電極のいずれか一方を共有してい
ることを特徴とするメモリデバイス。
2. An organic memory material layer is stacked, a plurality of linear electrodes are arranged in parallel in one direction along one surface of each organic memory material layer, and a plurality of linear electrodes are formed along the other surface. A memory device having a simple matrix structure in which memory cells are formed at positions where both linear electrodes are arranged in parallel with each other in the Y direction orthogonal to the linear electrodes arranged in the X direction and intersect the organic memory material layer. The memory cell at the corresponding position in the adjacent organic memory material layer has at least linear electrodes or Y
A memory device sharing one of the linear electrodes arranged in the direction.
【請求項3】 X方向に並列された線状電極、又はY方
向に並列された線状電極のいずれかには、各線状電極ご
とに電圧を測定するためのセンサ回路が1つ接続されて
いることを特徴とする請求項2記載のメモリデバイス。
3. A sensor circuit for measuring a voltage for each linear electrode is connected to either the linear electrodes parallel in the X direction or the linear electrodes parallel in the Y direction. The memory device according to claim 2, wherein:
【請求項4】 X方向に並列された線状電極、又はY方
向に並列された線状電極のいずれかには、各線状電極ご
とに電圧を測定するためのセンサ回路が2つ接続されて
いることを特徴とする請求項2記載のメモリデバイス。
4. Two sensor circuits for measuring a voltage for each of the linear electrodes are connected to either the linear electrodes arranged in the X direction or the linear electrodes arranged in the Y direction. The memory device according to claim 2, wherein:
【請求項5】 X方向に並列された線状電極、及びY方
向に並列された線状電極には、各線状電極ごとに電圧を
測定するためのセンサ回路が1つ接続されていることを
特徴とする請求項2記載のメモリデバイス。
5. A sensor circuit for measuring a voltage for each linear electrode is connected to each of the linear electrodes arranged in the X direction and the linear electrodes arranged in the Y direction. 3. The memory device according to claim 2, wherein:
【請求項6】 前記有機メモリ材料は、ビニリデンフロ
ライドとトリフロロエチレンの共重合体である請求項1
乃至請求項5のうち何れか1項に記載のメモリデバイ
ス。
6. The organic memory material is a copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene.
The memory device according to claim 5.
【請求項7】 請求項1乃至請求項6の何れか1項に記
載のメモリデバイスをメモリとして備えた情報処理機
器。
7. An information processing apparatus comprising the memory device according to claim 1 as a memory.
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