JP2002025864A - Niobium powder for capacitor, sintered compact using the same and capacitor using the compact - Google Patents
Niobium powder for capacitor, sintered compact using the same and capacitor using the compactInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、単位質量当たりの
容量が大きく、比漏れ電流特性の良好なコンデンサ用ニ
オブ粉、それを用いた焼結体及びその焼結体を用いたコ
ンデンサに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a niobium powder for a capacitor having a large capacity per unit mass and excellent in specific leakage current characteristics, a sintered body using the same, and a capacitor using the sintered body.
【0002】[0002]
【従来の技術】携帯電話やパーソナルコンピュータ等の
電子機器に使用されるコンデンサは、小型で大容量のも
のが望まれている。このようなコンデンサの中でもタン
タルコンデンサは大きさの割には容量が大きく、しかも
性能が良好なため、好んで使用されている。このタンタ
ルコンデンサの陽極体として、一般的にタンタル粉の焼
結体が使用されている。これらタンタルコンデンサの容
量を上げるためには、焼結体質量を増大させるか、また
は、タンタル粉を微粉化して表面積を増加させた焼結体
を用いる必要がある。2. Description of the Related Art Capacitors used in electronic devices such as mobile phones and personal computers are desired to be small in size and large in capacity. Among such capacitors, a tantalum capacitor is preferably used because of its large capacity for its size and good performance. Generally, a sintered body of tantalum powder is used as an anode body of this tantalum capacitor. In order to increase the capacity of these tantalum capacitors, it is necessary to increase the mass of the sintered body or to use a sintered body in which the surface area is increased by pulverizing tantalum powder.
【0003】焼結体質量を増加させる方法では、コンデ
ンサの形状が必然的に増大して小型化の要求を満たさな
い。一方、タンタル粉を微粉化して比表面積を増加させ
る方法では、タンタル焼結体の細孔径が小さくなり、ま
た焼結段階で閉鎖孔が多くなり、後工程における陰極剤
の含浸が困難になる。これらの欠点を解決する研究の一
つとして、タンタルより誘電率の大きい材料を用いた粉
の焼結体のコンデンサが考えられる。これらの誘電率の
大きい材料としてニオブやチタンなどがある。[0003] In the method of increasing the mass of the sintered body, the shape of the capacitor is inevitably increased, so that the demand for miniaturization is not satisfied. On the other hand, in the method in which the specific surface area is increased by pulverizing the tantalum powder, the pore diameter of the tantalum sintered body is reduced, and the number of closed holes is increased in the sintering step, so that impregnation of the cathode agent in a later step becomes difficult. As one of the researches to solve these drawbacks, a capacitor of a powder sintered body using a material having a larger dielectric constant than tantalum can be considered. Materials having a large dielectric constant include niobium and titanium.
【0004】しかしながら、これらの材料から作製した
焼結体は、「比漏れ電流値」が大きく満足のいくもので
はなかった。単体のニオブやチタンは、誘電率が大きい
ので大容量のコンデンサを得ることは可能であるが、
「比漏れ電流値」が小さいことが良好な信頼性を有する
コンデンサを得るための重要な条件となっている。容量
あたりの漏れ電流値、即ち「比漏れ電流値」を評価する
ことにより、実用可能な漏れ電流値以下に抑えた状態で
大容量が得られるかどうか評価できる。[0004] However, the sintered bodies produced from these materials have a large "specific leakage current value" and are not satisfactory. Since niobium and titanium alone have a large dielectric constant, it is possible to obtain a large-capacity capacitor,
A small “specific leakage current value” is an important condition for obtaining a capacitor having good reliability. By evaluating the leakage current value per capacity, that is, the “specific leakage current value”, it is possible to evaluate whether a large capacity can be obtained in a state where the leakage current value is not more than a practicable leakage current value.
【0005】ここで、焼結体の表面に電解酸化で誘電体
層を形成させたものにおいて、室温にて化成電圧の70
%の電圧を3分間印加し続けたときの漏れ電流値を、該
電解酸化時の化成電圧と容量の積を用いて、除した値を
比漏れ電流値と定義する。即ち、 比漏れ電流値=(LC/(C×V)) (但し、LC:漏れ電流値、C:容量、V:化成電圧)
と定義する。[0005] Here, in the case where a dielectric layer is formed on the surface of a sintered body by electrolytic oxidation, a formation voltage of 70% is obtained at room temperature.
% Is defined as the specific leakage current value obtained by dividing the leakage current value when the% voltage is continuously applied for 3 minutes by using the product of the formation voltage and the capacity during the electrolytic oxidation. That is, specific leakage current value = (LC / (C × V)) (where, LC: leakage current value, C: capacity, V: formation voltage)
Is defined.
【0006】タンタル粉を使用した焼結体の場合、例え
ば、昭和キャボットスーパーメタル社の「CAPACITOR GR
ADE TANTALUM」のカタログ記載の容量と漏れ電流値より
比漏れ電流値を求めると、1500pA/(μF・V)
以下であり、さらに一般的にそれを保証する比漏れ電流
値の実測値は、カタログの1/3〜1/4以下といわれ
ており、400pA/(μF・V)以下が好ましい値で
ある。In the case of a sintered body using tantalum powder, for example, “CAPACITOR GR” manufactured by Showa Cabot Super Metal Co., Ltd.
The specific leakage current value is calculated from the capacitance and leakage current value described in the catalog of “ADE TANTALUM”, and is 1500 pA / (μF · V).
It is said that the actual measured value of the specific leakage current value that guarantees it is generally 1/3 to 1/4 or less in the catalog, and a preferable value is 400 pA / (μF · V) or less.
【0007】しかしながら、従来のニオブ単体を用いた
ニオブ粉やチタン粉を使用した焼結体コンデンサでは、
比漏れ電流値が大きく、この値を越すものであって、コ
ンデンサとして信頼性が無く実用化されなかった。However, in a conventional sintered capacitor using niobium powder using only niobium or titanium powder,
The specific leakage current value is large and exceeds this value, and the capacitor has no reliability and has not been put to practical use.
【0008】特開昭55−157226号公報には、凝
集粉から粒径2μm、あるいはそれ以下のニオブ微粉末
を加圧成型して焼結し、その成型焼結体を細かく裁断
し、これにリード部を接合した後再び焼結するコンデン
サ用焼結素子の製造方法が開示されている。しかしなが
ら、該公報にはアンチモンを含有したニオブ粉も該コン
デンサ特性についも開示されていない。Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-157226 discloses that a compacted niobium powder having a particle size of 2 μm or less is compacted from a coagulated powder and sintered, and the molded sintered body is cut into small pieces. A method for manufacturing a sintered element for a capacitor in which the lead portions are joined and then sintered again is disclosed. However, the publication does not disclose niobium powder containing antimony nor the characteristics of the capacitor.
【0009】米国特許4,084,965号公報には、ニオブイ
ンゴットを水素化して粉砕し、5.1μmのニオブ粉末
を得、これを用いたコンデンサが開示されているが、ア
ンチモンを含有したニオブ粉も該コンデンサ特性につい
も開示されていない。特開平10−242004号公報
には、ニオブの一部を窒化すること等により、漏れ電流
値を改善することを開示しているが、アンチモンを含有
したニオブ粉も該コンデンサ特性についも開示されてい
ない。US Pat. No. 4,084,965 discloses a capacitor using hydrogenated pulverized niobium ingot to obtain 5.1 μm niobium powder. Niobium powder containing antimony is also disclosed in US Pat. No. 4,084,965. No characteristics are disclosed. Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-242004 discloses that the leakage current value is improved by, for example, nitriding a part of niobium. However, niobium powder containing antimony also discloses the capacitor characteristics. Absent.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、単位質量当
たりの容量が大きく、比漏れ電流値の小さいコンデンサ
を提供し得るコンデンサ用ニオブ粉、それを用いた焼結
体及びその焼結体を用いたコンデンサを提供することを
目的とする。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention relates to a niobium powder for a capacitor capable of providing a capacitor having a large capacity per unit mass and a small specific leakage current value, a sintered body using the same, and a sintered body using the same. An object of the present invention is to provide a used capacitor.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討し
以下の発明を完成した。即ち、本発明は、以下の発明か
らなる。 (1)アンチモンを含有したコンデンサ用ニオブ粉。 (2)アンチモンの含有量が、0.1〜10モル%であ
ることを特徴とする請求項1に記載のコンデンサ用ニオ
ブ粉。 (3)平均粒径が0.2μm以上5μm未満である前項
1又は2に記載のコンデンサ用ニオブ粉。 (4)ニオブ粉が、ニオブ窒化物、ニオブ炭化物、ニオ
ブホウ化物、ニオブ硫化物からなる群より選ばれた少な
くとも1種を含むことを特徴とする前項1乃至3の何れ
か1項に記載のコンデンサ用ニオブ粉。Means for Solving the Problems The present inventors diligently studied and completed the following invention. That is, the present invention includes the following inventions. (1) Niobium powder for capacitors containing antimony. (2) The niobium powder for a capacitor according to claim 1, wherein the content of antimony is 0.1 to 10 mol%. (3) The niobium powder for a capacitor according to the above (1) or (2), wherein the average particle size is 0.2 μm or more and less than 5 μm. (4) The capacitor as described in any one of (1) to (3) above, wherein the niobium powder contains at least one selected from the group consisting of niobium nitride, niobium carbide, niobium boride, and niobium sulfide. For niobium powder.
【0012】(5)前項1乃至4の何れか1項に記載の
ニオブ粉を用いた焼結体。 (6)400pA/(μF・V)以下の比漏れ電流値を有
する前項5に記載の焼結体。 (7)前項6に記載の焼結体を一方の電極とし、その表
面上に形成された誘電体と他方の電極とから構成された
コンデンサ。 (8)誘電体が、酸化ニオブを含んでいる前項7に記載
のコンデンサ。(5) A sintered body using the niobium powder described in any one of (1) to (4) above. (6) The sintered body according to the above (5), having a specific leakage current value of 400 pA / (μF · V) or less. (7) A capacitor comprising the sintered body described in (6) as one electrode, a dielectric formed on the surface thereof, and the other electrode. (8) The capacitor according to the above item 7, wherein the dielectric contains niobium oxide.
【0013】(9)酸化ニオブが、電解酸化により形成
されたものである前項8に記載のコンデンサ。 (10)他方の電極が、電解液、有機半導体及び無機半
導体から選ばれた少なくとも一種の材料(化合物)であ
る前項7に記載のコンデンサ。 (11)他方の電極が、有機半導体からなり、該有機半
導体がベンゾピロリン四量体とクロラニルからなる有機
半導体、テトラチオテトラセンを主成分とする有機半導
体、テトラシアノキノジメタンを主成分とする有機半導
体、及び下記一般式(1)または(2)(9) The capacitor as described in (8) above, wherein the niobium oxide is formed by electrolytic oxidation. (10) The capacitor according to the above item 7, wherein the other electrode is at least one material (compound) selected from an electrolytic solution, an organic semiconductor, and an inorganic semiconductor. (11) The other electrode is composed of an organic semiconductor, the organic semiconductor is composed of benzopyrroline tetramer and chloranil, an organic semiconductor composed mainly of tetrathiotetracene, and a tetracyanoquinodimethane composed mainly of tetracyanoquinodimethane. An organic semiconductor, and the following general formula (1) or (2)
【0014】[0014]
【化2】 (式中、R1〜R4は水素、炭素数1〜6のアルキル基ま
たは炭素数1〜6のアルコキシ基を表わし、これらは互
いに同一であっても相違してもよく、Xは酸素、イオウ
または窒素原子を表わし、R5はXが窒素原子のときの
み存在して水素または炭素数1〜6のアルキル基を表
し、R1とR2及びR3とR4は互いに結合して環状になっ
ていてもよい。)で示される繰り返し単位を2以上含む
重合体にドーパントをドープした電導性高分子を主成分
とした有機半導体からなる群より選ばれた少なくとも一
種の有機半導体である前項7に記載のコンデンサ。 (12)有機半導体が、ポリピロール、ポリチオフェン
及びこれらの置換誘導体から選ばれた少なくとも一種で
ある前項10に記載のコンデンサ。Embedded image (Wherein, R 1 to R 4 represent hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, which may be the same or different, X is oxygen, R 5 represents a hydrogen or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and is present only when X is a nitrogen atom; R 1 and R 2 and R 3 and R 4 are bonded to each other to form a ring; Wherein at least one kind of organic semiconductor selected from the group consisting of organic semiconductors containing a conductive polymer as a main component obtained by doping a polymer containing two or more repeating units represented by the following formula: 8. The capacitor according to 7. (12) The capacitor according to the above item 10, wherein the organic semiconductor is at least one selected from polypyrrole, polythiophene, and substituted derivatives thereof.
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】本発明に関して、コンデンサの容
量は一般に次式で示される。 容量 C=ε×(S/d) (C:容量、ε:誘電率、
S:比面積、d=電極間距離) ここで、d=k×V、(k:定数、V:化成電圧)であ
るので、C=ε×(S/(k×V))となり、さらにC×
V=(ε/k)×Sとなる。この時、比漏れ電流値=
(LC/(C×V))、(LC:漏れ電流値)と定義する
と、さらに、 比漏れ電流値=(LC/(C×V))=(LC/((ε/
k)×S)) と表すことができる。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION In accordance with the present invention, the capacitance of a capacitor is generally given by: Capacity C = ε × (S / d) (C: capacity, ε: permittivity,
S: specific area, d = distance between electrodes Here, since d = k × V, (k: constant, V: formation voltage), C = ε × (S / (k × V)), and C ×
V = (ε / k) × S At this time, the specific leakage current value =
When defined as (LC / (C × V)) and (LC: leakage current value), the specific leakage current value = (LC / (C × V)) = (LC / ((ε /
k) × S)).
【0016】上式から、比漏れ電流値を小さくするため
には、LCを小さくする方法、(C×V)を大きくする
方法、εを大きくする方法、またはSを大きくする方法
等のいずれかを選択することで達成できるものと考えら
れる。本発明では、焼結体を作製するアンチモン含有ニ
オブ粉の平均粒径を5μm未満にすることにより、粉体
の比表面積を大きくすることができる。その結果、CV
の値は大きくなり、比漏れ電流値を小さくすることがで
きる。From the above equation, to decrease the specific leakage current value, one of a method of decreasing LC, a method of increasing (C × V), a method of increasing ε, and a method of increasing S, etc. It is thought that this can be achieved by selecting. In the present invention, the specific surface area of the powder can be increased by setting the average particle size of the antimony-containing niobium powder for forming the sintered body to less than 5 μm. As a result, CV
Is increased, and the specific leakage current value can be reduced.
【0017】しかしながら、アンチモン含有ニオブ粉の
平均粒径を0.2μm未満にすると、前述したように該
粉体から焼結体を作製した場合、陰極剤の含浸が困難に
なる。そのため、結果として容量を大きくすることがで
きず、実用に適さない。以上の点から、本発明のアンチ
モン含有ニオブ粉は、平均粒径が0.2μm以上5μm
未満という値であるため、比漏れ電流値は小さくなる領
域にすることができる。However, when the average particle size of the antimony-containing niobium powder is less than 0.2 μm, impregnation of the cathode agent becomes difficult when a sintered body is prepared from the powder as described above. Therefore, the capacity cannot be increased as a result, which is not suitable for practical use. From the above points, the antimony-containing niobium powder of the present invention has an average particle size of 0.2 μm to 5 μm.
Since the value is less than the specific leakage current value, it can be set to a region where the specific leakage current value becomes small.
【0018】一方、ニオブの誘電率(ε)は、タンタル
に比べて約2倍大きいことが知られているが、アンチモ
ンが弁金属であるかは知られていない。従って、ニオブ
にアンチモンを含有させることにより、εが大きくなる
かは不明である。On the other hand, it is known that the dielectric constant (ε) of niobium is about twice as large as that of tantalum, but it is not known whether antimony is a valve metal. Therefore, it is unclear whether ε increases by adding antimony to niobium.
【0019】他方、ニオブは、タンタルと比較して、酸
素元素との結合力が大きいため、電解酸化皮膜中の酸素
が内部のニオブ金属側に拡散しやすい。しかしながら、
本発明における焼結体は、ニオブの一部がアンチモンと
結合しているため電解酸化皮膜中の酸素が内部のニオブ
金属と結合しにくくなり、金属側への拡散が抑制され
る。その結果、電解酸化皮膜の安定性を保つことが可能
となり、LCを低下させる効果が得られるものと推定さ
れる。On the other hand, since niobium has a larger bonding force with an oxygen element than tantalum, oxygen in the electrolytic oxide film is easily diffused into the niobium metal inside. However,
In the sintered body according to the present invention, since a part of niobium is bonded to antimony, oxygen in the electrolytic oxide film is hardly bonded to the niobium metal inside, and diffusion to the metal side is suppressed. As a result, it is presumed that the stability of the electrolytic oxide film can be maintained, and an effect of reducing LC can be obtained.
【0020】本発明で得られた焼結体は前述したように
比漏れ電流値が良好であり、好ましい値である400p
A/(μF・V)以下という数値を示す。更に本発明で
は、アンチモン含有ニオブ粉のアンチモン含有量と平均
粒径を最適化することにより、該比漏れ電流値を300
pA/(μF・V)以下にする事も可能である。The sintered body obtained by the present invention has a good specific leakage current value as described above, and the preferable value is 400 p.
A / (μF · V) or less is shown. Further, in the present invention, by optimizing the antimony content and the average particle size of the antimony-containing niobium powder, the specific leakage current value can be reduced to 300.
It is also possible to make it pA / (μF · V) or less.
【0021】本発明の焼結体を得るための一形態を説明
する。焼結体を作製するために用いられるアンチモン含
有ニオブ粉中のアンチモン含有量は重要である。アンチ
モンの含有量が低すぎると、前述の電解酸化皮膜中の酸
素が内部のニオブ金属側に拡散しやすい性質を抑制する
ことができず、結果として電解酸化皮膜の安定性を保つ
ことが不可能となり、LCを低下させる効果が得られな
い。また、多すぎるとアンチモン含有ニオブ粉中のニオ
ブ含有量が減少し、容量が低下する。従って、アンチモ
ン含有ニオブ粉中のアンチモン量は、0.1〜10モル
%が好ましい。また、比漏れ電流値をより小さくする点
から、0.3〜3モル%が特に好ましい。An embodiment for obtaining the sintered body of the present invention will be described. The antimony content in the antimony-containing niobium powder used for producing a sintered body is important. If the content of antimony is too low, it is impossible to suppress the above-mentioned property that oxygen in the electrolytic oxide film easily diffuses into the niobium metal inside, and as a result, it is impossible to maintain the stability of the electrolytic oxide film And the effect of lowering the LC cannot be obtained. On the other hand, if the content is too large, the niobium content in the antimony-containing niobium powder decreases, and the capacity decreases. Therefore, the amount of antimony in the antimony-containing niobium powder is preferably 0.1 to 10 mol%. Also, from the viewpoint of further reducing the specific leakage current value, 0.3 to 3 mol% is particularly preferable.
【0022】焼結体を作製するために用いられるアンチ
モン含有ニオブ粉は、平均粒径が0.2μm以上で5μ
m未満である。平均粒径が0.2μm未満であると、該
粉体から焼結体を作製してコンデンサを形成する場合、
該焼結体内部の細孔が小さすぎるために、後述する陰極
材の含浸が困難になる。また、平均粒径が5μm以上に
なると望ましい比漏れ電流値を作製することが困難であ
る。このことは、平均粒径に対する容量の変化率と漏れ
電流の変化率が異なることに起因する。従って、平均粒
径が0.2μm以上で5μm未満が好ましい。比漏れ電
流値をより小さくする点から、0.5μm以上で2μm
未満が特に好ましい。The antimony-containing niobium powder used for producing the sintered body has an average particle size of 0.2 μm or more and 5 μm.
m. When the average particle size is less than 0.2 μm, when forming a sintered body from the powder to form a capacitor,
Since the pores inside the sintered body are too small, it becomes difficult to impregnate a cathode material described later. If the average particle size is 5 μm or more, it is difficult to produce a desirable specific leakage current value. This is because the rate of change of capacity and the rate of change of leakage current with respect to the average particle size are different. Therefore, the average particle size is preferably 0.2 μm or more and less than 5 μm. From the point of making the specific leakage current value smaller, 2 μm
Less than is particularly preferred.
【0023】本発明で用いる平均粒径とは、粒度分布測
定器(商品名「マイクロトラック」)を用いて測定した
D50値(累積質量%が50質量%である粒径値)のこと
である。このような平均粒径を有するアンチモン含有ニ
オブ粉は、例えばニオブ−アンチモン合金インゴット、
ペレット、粉の水素化物の粉砕及び脱水素による方法、
酸化ニオブと酸化アンチモンの混合物の炭素還元による
方法等によって得ることができる。例えば、ニオブ−ア
ンチモン合金インゴットの水素化物の粉砕及び脱水素か
ら得る方法の場合、ニオブ−アンチモン合金の水素化量
と粉砕時間、粉砕装置などを調製することにより、希望
の平均粒径を有するアンチモン含有ニオブ粉を得ること
ができる。The average particle size used with the present invention, since the particle size distribution measuring instrument (trade name "Microtrac") measured D 50 value using (particle size value cumulative mass% is 50 mass%) is there. Antimony-containing niobium powder having such an average particle size is, for example, a niobium-antimony alloy ingot,
Pellet, method by grinding and dehydrogenation of hydride of powder,
It can be obtained by a method or the like by carbon reduction of a mixture of niobium oxide and antimony oxide. For example, in the case of a method obtained by grinding and dehydrogenating a hydride of a niobium-antimony alloy ingot, an antimony having a desired average particle size is prepared by preparing a hydrogenation amount and a grinding time of the niobium-antimony alloy, a grinding device, and the like. A niobium-containing powder can be obtained.
【0024】また、このように得られたアンチモン含有
ニオブ粉に平均粒径0.2μm以上で5μm未満のニオ
ブ粉を混合しても良い。このニオブ粉は、例えば、フッ
化ニオブ酸カリウムのナトリウム還元物の粉砕による方
法、ニオブインゴットの水素化物の粉砕及び脱水素によ
る方法、酸化ニオブの炭素還元による方法等によって得
ることができる。The antimony-containing niobium powder thus obtained may be mixed with niobium powder having an average particle size of 0.2 μm or more and less than 5 μm. This niobium powder can be obtained by, for example, a method by pulverizing sodium reduced product of potassium fluoroniobate, a method by pulverizing and dehydrogenating a hydride of niobium ingot, a method by carbon reduction of niobium oxide, and the like.
【0025】このようにして得られたアンチモン含有ニ
オブ粉の漏れ電流値を更に改善するために、アンチモン
含有ニオブ粉の一部が窒素、炭素、ホウ素、硫黄の少な
くとも一つと結合しているものであっても良い。窒素、
炭素、ホウ素、硫黄の結合物であるアンチモン含有ニオ
ブ窒化物、アンチモン含有ニオブ炭化物、アンチモン含
有ニオブホウ化物、アンチモン含有ニオブ硫化物はいず
れを含有しても良く、また、これらの2種、3種、4種
の組み合わせであっても良い。In order to further improve the leakage current value of the antimony-containing niobium powder thus obtained, a part of the antimony-containing niobium powder is bonded to at least one of nitrogen, carbon, boron and sulfur. There may be. nitrogen,
Carbon, boron, antimony-containing niobium nitride, antimony-containing niobium carbide, antimony-containing niobium boride, antimony-containing niobium sulfide, which is a bond of sulfur, may contain any of these, and two or three of these, A combination of four types may be used.
【0026】その結合量、即ち、窒素、炭素、ホウ素、
硫黄の含有量の総和は、アンチモン含有ニオブ粉の形状
にもよって変わるが、平均粒径0.2〜5μm程度の粉
で50〜200000ppm、好ましくは、200〜2
0000ppmである。50ppm未満では、LC特性
に改善が見られず、200000ppmを越えると容量
特性が悪化し、コンデンサとして適さない。The amount of the bond, ie, nitrogen, carbon, boron,
The sum of the sulfur contents varies depending on the shape of the antimony-containing niobium powder, but is 50 to 200,000 ppm, preferably 200 to 200 ppm in a powder having an average particle size of about 0.2 to 5 μm.
0000 ppm. If it is less than 50 ppm, no improvement in the LC characteristics will be seen, and if it exceeds 200,000 ppm, the capacity characteristics will deteriorate, making it unsuitable as a capacitor.
【0027】アンチモン含有ニオブ粉の窒化処理は、液
体窒化法、イオン窒化法、ガス窒化法などのうち、いず
れかあるいは、それらの組み合わせた方法で実施するこ
とができる。このうち、窒素ガス雰囲気下で行うニオブ
粉のガス窒化法は、その装置が簡便であり、操作が容易
なため好ましい。例えば、このガス窒化方法は、前記ア
ンチモン含有ニオブ粉を窒素雰囲気中に放置することに
より達成される。The nitriding treatment of the antimony-containing niobium powder can be carried out by any one of a liquid nitriding method, an ion nitriding method, a gas nitriding method and the like, or a combination thereof. Of these, the gas nitriding method of niobium powder performed in a nitrogen gas atmosphere is preferable because the apparatus is simple and the operation is easy. For example, this gas nitriding method is achieved by leaving the antimony-containing niobium powder in a nitrogen atmosphere.
【0028】窒化する雰囲気の温度は、2000℃以
下、放置時間は数10時間以内で、目的とする窒素含量
のアンチモン含有ニオブ粉が得られる。さらに、この処
理を高温で処理することにより処理時間を短縮すること
ができる。アンチモン含有ニオブ粉の炭化は、ガス炭化
法、固相炭化法、液体炭化法いずれであっても良い。例
えば、アンチモン含有ニオブ粉を炭素材やメタンなどの
炭素を有する有機物などの炭素源と共に、減圧下、20
00℃以下で数分〜数10時間放置しておけば良い。The temperature of the nitriding atmosphere is 2000 ° C. or less, and the standing time is within several tens of hours, so that antimony-containing niobium powder having a desired nitrogen content can be obtained. Further, by performing this processing at a high temperature, the processing time can be reduced. The carbonization of the antimony-containing niobium powder may be any of a gas carbonization method, a solid phase carbonization method, and a liquid carbonization method. For example, an antimony-containing niobium powder is mixed with a carbon material or a carbon source such as an organic substance having carbon such as methane under reduced pressure for 20 minutes.
What is necessary is just to leave at 00 degreeC or less for several minutes to several tens hours.
【0029】アンチモン含有ニオブ粉のホウ化は、ガス
ホウ化法、固相ホウ化法のいずれであっても良い。例え
ば、アンチモン含有ニオブ粉をホウ素ペレットやトリフ
ルオロホウ素などのハロゲン化ホウ素のホウ素源と共
に、減圧下、2000℃以下で数分〜数10時間放置し
ておけば良い。The boriding of the antimony-containing niobium powder may be any of a gas boriding method and a solid phase boriding method. For example, the antimony-containing niobium powder may be left under a reduced pressure at 2000 ° C. or lower for several minutes to several tens of hours together with a boron source of boron halide such as boron pellets or trifluoroboron.
【0030】アンチモン含有ニオブ粉の硫化は、ガス硫
化法、イオン硫化法、固相硫化法のいずれであっても良
い。例えば、硫黄ガス雰囲気によるガス硫化方法は、前
記アンチモン含有ニオブ粉を硫黄雰囲気中に放置するこ
とにより達成される。硫化する雰囲気の温度は、200
0℃以下、放置時間は数10時間以内で目的とする硫化
量のアンチモン含有ニオブ粉が得られる。さらに、この
処理を高温で処理することによりその処理時間を短縮す
ることができる。The sulfuration of the antimony-containing niobium powder may be any of a gas sulfurization method, an ion sulfurization method, and a solid phase sulfurization method. For example, the gas sulfurization method using a sulfur gas atmosphere is achieved by leaving the antimony-containing niobium powder in a sulfur atmosphere. The temperature of the sulfurizing atmosphere is 200
The antimony-containing niobium powder having the desired sulfide content can be obtained at 0 ° C. or lower and the standing time is within several tens of hours. Further, by performing this processing at a high temperature, the processing time can be reduced.
【0031】本発明のコンデンサ用アンチモン含有ニオ
ブ粉は、前述したアンチモン含有ニオブ粉を適当な形状
に造粒した後、使用しても良いし、造粒後に未造粒のニ
オブ粉を適量混合して使用しても良い。造粒方法として
は、従来公知の方法が採用できる。例えば、未造粒のア
ンチモン含有ニオブ粉を高真空下に放置して、所定の温
度に加熱した後解砕する方法、樟脳、ポリアクリル酸、
ポリメチルアクリル酸エステルなどのバインダーと未造
粒のアンチモン含有ニオブ粉を混合した後解砕する方法
等が挙げられる。The antimony-containing niobium powder for a capacitor of the present invention may be used after granulating the above-mentioned antimony-containing niobium powder into a suitable shape, or after granulation, mixing an appropriate amount of ungranulated niobium powder. May be used. As the granulation method, a conventionally known method can be adopted. For example, a method in which ungranulated antimony-containing niobium powder is left under a high vacuum and then crushed after heating to a predetermined temperature, camphor, polyacrylic acid,
A method of mixing a binder such as polymethyl acrylate and an ungranulated antimony-containing niobium powder and then crushing the mixture is exemplified.
【0032】本発明のコンデンサ用アンチモン含有ニオ
ブ焼結体は、前述したアンチモン含有ニオブ粉を焼結し
て製造される。焼結体の製造方法の一例を以下に示す。
但し、本発明の焼結体の製造方法は、この例に限定され
るものではない。例えば、アンチモン含有ニオブ粉を所
定の形状に加圧成型した後に、1〜10-7Torr((1〜
10-7)×133Pa)で、数分〜数時間、500〜2
000℃、好ましくは900℃〜1500℃、さらに好
ましくは900℃〜1250℃の範囲で加熱してもよ
い。The antimony-containing niobium sintered body for a capacitor of the present invention is manufactured by sintering the above-described antimony-containing niobium powder. An example of a method for manufacturing a sintered body will be described below.
However, the method for producing a sintered body of the present invention is not limited to this example. For example, after pressure-molding antimony-containing niobium powder into a predetermined shape, 1-10 -7 Torr ((1
10 −7 ) × 133 Pa), several minutes to several hours, 500 to 2
The heating may be performed at a temperature in the range of 000 ° C, preferably 900 ° C to 1500 ° C, and more preferably 900 ° C to 1250 ° C.
【0033】次に、コンデンサ素子の製造について説明
する。例えば、ニオブ又はタンタル等の弁作用金属から
なる、適当な形状及び長さを有するリードワイヤーを用
意し、これを前述したニオブ粉の加圧成型時に該リード
ワイヤーの一部が成型体の内部に挿入させるように一体
成型して、該リードワイヤーを前記焼結体の引き出しリ
ードとなるように組立設計する。Next, the manufacture of the capacitor element will be described. For example, a lead wire made of a valve metal such as niobium or tantalum or the like and having an appropriate shape and length is prepared, and a part of the lead wire is formed inside the molded body at the time of press-molding the niobium powder described above. The lead wire is integrally molded so as to be inserted, and the lead wire is assembled and designed so as to serve as a lead of the sintered body.
【0034】前述した焼結体を一方の電極とし、他方の
電極の間に介在した誘電体とからコンデンサを製造する
ことができる。ここで、コンデンサの誘電体として、酸
化ニオブを主体とする誘電体が好ましく挙げられる。例
えば、酸化ニオブを主体とする誘電体は、一方の電極で
あるアンチモン含有ニオブ焼結体を電解液中で化成する
ことによって容易に得られる。アンチモン含有ニオブ電
極を電解液中で化成するには、通常プロトン酸水溶液、
例えば、0.1%リン酸水溶液又は、硫酸、1%の酢
酸、アジピン酸等を用いて行われる。アンチモン含有ニ
オブ電極を電解液中で化成して酸化ニオブ誘電体を得る
場合、本発明のコンデンサは、電解コンデンサとなり、
アンチモン含有ニオブ電極が陽極となる。A capacitor can be manufactured from the above-described sintered body as one electrode and a dielectric interposed between the other electrodes. Here, a dielectric mainly composed of niobium oxide is preferably used as the dielectric of the capacitor. For example, a dielectric mainly composed of niobium oxide can be easily obtained by forming an antimony-containing niobium sintered body as one electrode in an electrolytic solution. To form an antimony-containing niobium electrode in an electrolytic solution, a protonic acid aqueous solution is usually used.
For example, the reaction is performed using a 0.1% phosphoric acid aqueous solution, sulfuric acid, 1% acetic acid, adipic acid, or the like. When forming an antimony-containing niobium electrode in an electrolytic solution to obtain a niobium oxide dielectric, the capacitor of the present invention becomes an electrolytic capacitor,
The antimony-containing niobium electrode becomes the anode.
【0035】本発明のコンデンサの他方の電極は、格別
限定されるものではなく、例えば、アルミ電解コンデン
サ業界で公知である電解液、有機半導体及び無機半導体
から選ばれた少なくとも1種の材料(化合物)が挙げら
れる。電解液の具体例としては、イソブチルトリプロピ
ルアンモニウムボロテトラフルオライド電解質を5質量
%溶解したジメチルホルムアミドとエチレングリコール
の混合溶液、テトラエチルアンモニウムボロテトラフル
オライドを7質量%溶解したプロピレンカーボネートと
エチレングリコールの混合溶液などが挙げられる。The other electrode of the capacitor of the present invention is not particularly limited. For example, at least one material (compound) selected from an electrolytic solution, an organic semiconductor and an inorganic semiconductor known in the aluminum electrolytic capacitor industry. ). Specific examples of the electrolytic solution include a mixed solution of dimethylformamide and ethylene glycol in which 5% by mass of isobutyltripropylammonium borotetrafluoride electrolyte is dissolved, and a mixture of propylene carbonate and ethylene glycol in which 7% by mass of tetraethylammonium borotetrafluoride is dissolved. A mixed solution is exemplified.
【0036】有機半導体の具体例としては、ベンゾピロ
リン4量体とクロラニルからなる有機半導体、テトラチ
オテトラセンを主成分とする有機半導体、テトラシアノ
キノジメタンを主成分とする有機半導体、下記一般式
(1)または(2)Specific examples of the organic semiconductor include an organic semiconductor composed of a benzopyrroline tetramer and chloranil, an organic semiconductor composed mainly of tetrathiotetracene, an organic semiconductor composed mainly of tetracyanoquinodimethane, and the following general formula: (1) or (2)
【0037】[0037]
【化3】 (式中、R1〜R4は水素、炭素数1〜6のアルキル基ま
たは炭素数1〜6のアルコキシ基を表わし、これらは互
いに同一であっても相違してもよく、Xは酸素、イオウ
または窒素原子を表わし、R5はXが窒素原子のときの
み存在して水素または炭素数1〜6のアルキル基を表
し、R1とR2及びR3とR4は互いに結合して環状になっ
ていてもよい。)で示される繰り返し単位を2以上含む
重合体に、ドーパントをドープした電導性高分子を主成
分とした有機半導体が挙げられる。ドーパントには公知
のドーパントが制限なく使用できる。Embedded image (Wherein, R 1 to R 4 represent hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, which may be the same or different, X is oxygen, R 5 represents a hydrogen or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and is present only when X is a nitrogen atom; R 1 and R 2 and R 3 and R 4 are bonded to each other to form a ring; The polymer containing two or more repeating units represented by the formula (1) may be an organic semiconductor containing a conductive polymer doped with a dopant as a main component. Known dopants can be used without limitation as the dopant.
【0038】無機半導体の具体例としては、二酸化鉛ま
たは二酸化マンガンを主成分とする無機半導体、四三酸
化鉄からなる無機半導体などが挙げられる。このような
半導体は単独でも、または二種以上組み合わせて使用し
てもよい。本明細書中では、「主成分」とは、特定成分
が50質量%以上、好ましくは80質量%以上を含んだ
状態をいう。Specific examples of the inorganic semiconductor include an inorganic semiconductor containing lead dioxide or manganese dioxide as a main component, and an inorganic semiconductor made of triiron tetroxide. Such semiconductors may be used alone or in combination of two or more. In the present specification, the “main component” refers to a state in which the specific component contains 50% by mass or more, preferably 80% by mass or more.
【0039】式(1)または(2)で示される繰り返し
単位を2以上含む重合体としては、例えば、ポリアニリ
ン、ポリオキシフェニレン、ポニフェニレンサルファイ
ド、ポリチオフェン、ポリフラン、ポリピロール、ポリ
メチルピロール、及びこれらの置換誘導体や共重合体な
どが挙げられる。中でもポリピロール、ポリチオフェン
及びこれらの置換誘導体(例えばポリ(3,4−エチレ
ンジオキシチオフェン)等)が好ましい。Examples of the polymer containing two or more repeating units represented by the formula (1) or (2) include, for example, polyaniline, polyoxyphenylene, poniphenylene sulfide, polythiophene, polyfuran, polypyrrole, polymethylpyrrole, and polymethylpyrrole. Examples include substituted derivatives and copolymers. Among them, polypyrrole, polythiophene and substituted derivatives thereof (for example, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and the like) are preferable.
【0040】上記有機半導体及び無機半導体として、電
導度10-2S・cm-1〜103 S・cm-1の範囲のもの
を使用すると、作製したコンデンサのインピーダンス値
がより小さくなり、高周波での容量をさらに一層大きく
することができる。さらに他方の電極が固体の場合に
は、その上に外部外出しリード(例えば、リードフレー
ム)との電気的接触をよくするために、導電体層を設け
てよい。When the organic semiconductor and the inorganic semiconductor having a conductivity in the range of 10 −2 S · cm −1 to 10 3 S · cm −1 are used, the impedance value of the manufactured capacitor becomes smaller, and the frequency of the capacitor becomes higher. Can be further increased. Further, when the other electrode is solid, a conductor layer may be provided thereon in order to improve the electrical contact with an external lead (for example, a lead frame).
【0041】導電体層としては、例えば、導電ペースト
の固化、メッキ、金属蒸着、耐熱性の導電樹脂フィルム
の形成等により形成することができる。導電ペーストと
しては、銀ペースト、銅ペースト、アルミペースト、カ
ーボンペースト、ニッケルペースト等が好ましいが、こ
れらは1種を用いても2種以上を用いてもよい。2種以
上を用いる場合、混合してもよく、または別々の層とし
て重ねてもよい。導電ペーストを適用した後、空気中に
放置するか、または加熱して固化せしめる。メッキとし
ては、ニッケルメッキ、銅メッキ、銀メッキ、アルミメ
ッキ等が挙げられる。また蒸着金属としては、アルミニ
ウム、ニッケル、銅、銀等が挙げられる。The conductor layer can be formed, for example, by solidifying a conductive paste, plating, depositing metal, forming a heat-resistant conductive resin film, or the like. As the conductive paste, a silver paste, a copper paste, an aluminum paste, a carbon paste, a nickel paste, or the like is preferable, but one or more of these may be used. When two or more kinds are used, they may be mixed or may be stacked as separate layers. After applying the conductive paste, it is left in the air or heated to be solidified. Examples of the plating include nickel plating, copper plating, silver plating, and aluminum plating. Examples of the metal to be deposited include aluminum, nickel, copper, and silver.
【0042】具体的には、例えば第二の電極上にアルミ
ペースト、銀ペーストを順次積層し、エポキシ樹脂のよ
うな材料で封止してコンデンサが構成される。このコン
デンサは、ニオブ焼結体と一体に焼結成型された、また
は後で溶接されたニオブまたはタンタルリードを有して
いても良い。More specifically, for example, a capacitor is formed by sequentially laminating an aluminum paste and a silver paste on the second electrode and sealing with a material such as epoxy resin. The capacitor may have a niobium or tantalum lead that is integrally molded with the niobium sintered body or later welded.
【0043】以上のような構成の本発明のコンデンサ
は、例えば、樹脂モールド、樹脂ケース、金属製の外装
ケース、樹脂のディッピング、ラミネートフィルムによ
る外装などの外装により各種用途のコンデンサ製品とす
ることができる。また、他方の電極が液体の場合には、
前記両極と誘電体から構成されたコンデンサを、例え
ば、他方の電極と電気的に接続した缶に収納してコンデ
ンサが形成される。この場合、アンチモン含有ニオブ焼
結体の電極側は、前記したニオブまたはタンタルリード
を介して外部に導出すると同時に、絶縁性ゴム等によ
り、缶との絶縁がはかられるように設計される。The capacitor of the present invention having the above-described structure can be formed into a capacitor product for various uses by, for example, a resin mold, a resin case, a metal outer case, resin dipping, and an outer case made of a laminate film. it can. When the other electrode is liquid,
The capacitor composed of the two electrodes and the dielectric is housed in, for example, a can electrically connected to the other electrode to form a capacitor. In this case, the electrode side of the antimony-containing niobium sintered body is designed so as to be led out to the outside through the above-mentioned niobium or tantalum lead, and to be insulated from the can by insulating rubber or the like.
【0044】以上、説明した本発明に従って製造したニ
オブ粉を用いて焼結体を作製し、該焼結体からコンデン
サを製造することにより、信頼性の良好なコンデンサを
得ることができる。By manufacturing a sintered body using the niobium powder manufactured according to the present invention described above and manufacturing a capacitor from the sintered body, a capacitor with good reliability can be obtained.
【0045】[0045]
【実施例】以下、本発明の実施例について具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例に何ら制限されるもの
ではない。EXAMPLES Examples of the present invention will be specifically described below, but the present invention is not limited to these examples.
【0046】本実施例における焼結体の容量、漏れ電流
値は以下のように測定した。 (焼結体の容量測定)室温において、30%硫酸中に浸
漬させた焼結体と硫酸液中に入れたタンタル材の電極と
の間にHP社製のLCR測定器(ヒューレットパッカー
ド社製LCRメーター)を接続して測定した120Hz
(ヘルツ)での容量を焼結体の容量とした。The capacity and leakage current value of the sintered body in this example were measured as follows. (Measurement of capacity of sintered body) At room temperature, an LCR measuring instrument made by HP (LCR made by Hewlett Packard) is placed between a sintered body immersed in 30% sulfuric acid and a tantalum material electrode put in a sulfuric acid solution. 120Hz measured by connecting a meter
The capacity in (Hertz) was taken as the capacity of the sintered body.
【0047】(焼結体の漏れ電流測定)室温において、
20%リン酸水溶液中に浸漬させた焼結体とリン酸水溶
液中に入れた電極との間に誘電体作製時の化成電圧の7
0%の電圧の直流電圧を3分間印加し続けた後に測定さ
れた電流値を焼結体の漏れ電流値(LC値)とした。本
発明では14Vの電圧を印加した。(Measurement of leakage current of sintered body)
The formation voltage between the sintered body immersed in a 20% phosphoric acid aqueous solution and the electrode immersed in the phosphoric acid aqueous solution is 7
The current value measured after continuously applying the DC voltage of 0% for 3 minutes was defined as the leakage current value (LC value) of the sintered body. In the present invention, a voltage of 14 V was applied.
【0048】本実施例におけるチップ加工したコンデン
サの容量、漏れ電流値は以下のように測定した。 (コンデンサの容量)室温において、作製したチップの
端子間にHP社製LCR測定器を接続し、120Hzで
の容量をチップ加工したコンデンサの容量とした。 (コンデンサの漏れ電流)室温において、定格電圧値
(2.5V、4V、6.3V、10V、16V、25V
等)のうち誘電体作製時の化成電圧の約1/3〜約1/
4に近い直流電圧を作製したチップの端子間に1分間印
加し続けた後に測定された電流値をチップに加工したコ
ンデンサの漏れ電流値とした。本発明では、6.3Vの
電圧を印加した。The capacitance and leakage current of the chip-processed capacitor in this example were measured as follows. (Capacitance of Capacitor) At room temperature, an LCR measuring device manufactured by HP was connected between the terminals of the fabricated chip, and the capacitance at 120 Hz was taken as the capacitance of the chip-processed capacitor. (Leakage current of capacitor) At room temperature, the rated voltage value (2.5 V, 4 V, 6.3 V, 10 V, 16 V, 25 V)
Etc.) of about 1/3 to about 1 /
A current value measured after a DC voltage close to 4 was continuously applied between terminals of the manufactured chip for one minute was defined as a leakage current value of the capacitor processed into the chip. In the present invention, a voltage of 6.3 V was applied.
【0049】(実施例1)ニオブインゴット98.6g
とアンチモンの粉末1.4gを用い、アーク溶解でアン
チモンを1.1モル%含むアンチモン含有ニオブインゴ
ットを作製した。このインゴット50gをSUS304
製の反応容器に入れ、400℃で10時間水素を導入し
続けた。冷却後、水素化されたアンチモン含有ニオブ塊
をSUS製ボールを入れたSUS304製のポットに入
れ10時間粉砕した。次に、SUS304製の湿式粉砕
機(商品名「アトライタ」)に、この水素化物を水で2
0vol%のスラリーにしたもの及びジルコニアボール
を入れ7時間湿式粉砕した。このスラリーを遠心沈降の
後、デカンテーションして粉砕物を取得した。(Example 1) 98.6 g of niobium ingot
And 1.4 g of antimony powder, an antimony-containing niobium ingot containing 1.1 mol% of antimony was produced by arc melting. 50g of this ingot is SUS304
And the hydrogen was continuously introduced at 400 ° C. for 10 hours. After cooling, the hydrogenated antimony-containing niobium lump was placed in a SUS304 pot containing SUS balls and ground for 10 hours. Next, this hydride was added to a SUS304 wet pulverizer (trade name “Attritor”) with water for 2 hours.
A 0 vol% slurry and zirconia balls were charged and wet-ground for 7 hours. After the slurry was centrifugally settled, decantation was performed to obtain a pulverized product.
【0050】粉砕物を1Torr(133Pa)、50℃の
条件で真空乾燥した。続いて、水素化アンチモン含有ニ
オブ粉を10-4Torr(1.33×10-2Pa)、400
℃で1時間加熱し脱水素した。作製したアンチモン含有
ニオブ粉の平均粒径は1.3μmであり、アンチモン含
有量を原子吸光分析により測定したところ、1モル%で
あった。このようにして得られた、アンチモン含有ニオ
ブ粉を0.3mmφのニオブ線と共に成型し、およそ
0.3cm×0.18cm×0.45cmの成型体(約
0.1g)を作製した。The pulverized material was vacuum-dried at 1 Torr (133 Pa) and 50 ° C. Subsequently, the niobium powder containing antimony hydride was charged to 10 −4 Torr (1.33 × 10 −2 Pa), 400
The mixture was heated at 1 ° C. for 1 hour and dehydrogenated. The average particle size of the prepared antimony-containing niobium powder was 1.3 μm, and the antimony content was 1 mol% as measured by atomic absorption analysis. The antimony-containing niobium powder thus obtained was molded together with a 0.3 mmφ niobium wire to prepare a molded body (about 0.1 g) of about 0.3 cm × 0.18 cm × 0.45 cm.
【0051】次にこれらの成型体を3×10-5Torr
(3.99×10-3Pa)の真空下、1200℃で30
分放置することにより焼結体を得た。得られた焼結体
を、0.1%リン酸水溶液中で、80℃の温度で200
分間、20Vの電圧で化成することにより、表面に誘電
体層を形成した。この後、30%硫酸中での容量と、2
0%リン酸水溶液中での漏れ電流(以下「LC」と略
す)を各々測定した。その結果を表1に示す。Next, these molded bodies were made 3 × 10 −5 Torr.
(3.99 × 10 −3 Pa) under vacuum at 1200 ° C. for 30 minutes.
A sintered body was obtained by standing for a minute. The obtained sintered body is placed in a 0.1% phosphoric acid aqueous solution at a temperature of 80 ° C. for 200 hours.
A dielectric layer was formed on the surface by forming for 20 minutes at a voltage of 20V. This is followed by a volume in 30% sulfuric acid, 2
The leakage current (hereinafter abbreviated as “LC”) in a 0% phosphoric acid aqueous solution was measured. Table 1 shows the results.
【0052】(実施例2〜6-1)アンチモン含有ニオブ
粉のアンチモン含有量を変化させるために、アーク溶解
で処理する、ニオブ量、アンチモン量を変化させてアン
チモンを0.1〜15モル%含む、アンチモン含有ニオ
ブインゴットを作製した。以下、各アンチモン濃度を有
するアンチモン含有ニオブインゴット50gについて、
実施例1と同様な操作で焼結体を作製し、容量とLCを
各々測定した。その結果を表1に示す。(Examples 2 to 6-1) In order to change the antimony content of the antimony-containing niobium powder, an arc melting process is performed. The amount of antimony is changed to 0.1 to 15 mol% by changing the amount of niobium and antimony. An antimony-containing niobium ingot was produced. Hereinafter, about 50 g of antimony-containing niobium ingot having each antimony concentration,
A sintered body was prepared in the same manner as in Example 1, and the capacity and LC were measured. Table 1 shows the results.
【0053】(比較例1、実施例6-2、6-3)実施例1〜
6-1と比較するため、アンチモンを0モル%、0.04
モル%、及び19.3モル%含むアンチモン含有ニオブ
インゴットを作製した。以下、各アンチモン濃度を有す
るアンチモン含有ニオブインゴット50gについて、実
施例2〜6-1と同様な操作で焼結体を作製し、容量とL
Cを各々測定した。その結果を表1に示す。(Comparative Example 1, Examples 6-2, 6-3)
For comparison with 6-1, 0 mol% of antimony, 0.04%
Antimony-containing niobium ingots containing 1 mol% and 19.3 mol% were prepared. Hereinafter, about 50 g of the antimony-containing niobium ingot having each antimony concentration, a sintered body was produced by the same operation as in Examples 2 to 6-1, and the capacity and L
C was measured respectively. Table 1 shows the results.
【0054】(実施例7〜11-1)アンチモン含有ニオブ
粉の平均粒径を変化させるために実施例1と同様な方法
で作製したアンチモンを1.2モル%含む水素化アンチ
モン含有ニオブ塊を鉄製ボールを入れたSUS304製
のポットに入れ10時間粉砕した。さらに、SUS30
4製の湿式粉砕機(商品名「アトライタ」)に、この水
素化物を水で20vol%のスラリーにしたもの及びジ
ルコニアボールを入れ、時間を変化させて湿式粉砕し
た。このスラリーを遠心沈降の後、デカンテーションし
て粉砕物を取得した。粉砕物を1Torr(133Pa)、
50℃の条件で真空乾燥した。(Examples 7 to 11-1) In order to change the average particle size of antimony-containing niobium powder, an antimony hydride-containing niobium lump containing 1.2 mol% of antimony prepared in the same manner as in Example 1 was used. It was placed in a SUS304 pot containing iron balls and ground for 10 hours. In addition, SUS30
This hydride was slurried with water at 20 vol% and zirconia balls were placed in a wet pulverizer (trade name: "Atritor") manufactured by No. 4 and wet pulverized by changing the time. After the slurry was centrifugally settled, decantation was performed to obtain a pulverized product. 1 Torr (133 Pa)
Vacuum drying was performed at 50 ° C.
【0055】続いて、水素化アンチモン含有ニオブ粉を
10-4Torr(1.33×10-2Pa)、400℃で1時
間加熱し脱水素して、アンチモン含有ニオブ粉を得た。
この様にして得られたアンチモン含有ニオブ粉の平均粒
径は、0.2〜5.1μmであった。さらに、このよう
にして得られたアンチモン含有ニオブ粉を0.3mmφ
のニオブ線と共に成型し、およそ0.3cm×0.18
cm×0.45cmの成型体(約0.1g)を作製し
た。次に、これらの成型体を2×10-5Torr(2×10
-5×133Pa)の真空下、1200℃で30分放置す
ることにより焼結体を得た。得られた焼結体を、実施例
1と同様の方法で容量とLCを各々測定した。その結果
を表2に示す。Subsequently, the antimony-containing niobium powder was heated at 400 ° C. for 1 hour at 10 −4 Torr (1.33 × 10 −2 Pa) and dehydrogenated to obtain antimony-containing niobium powder.
The average particle size of the antimony-containing niobium powder thus obtained was 0.2 to 5.1 μm. Further, the thus obtained antimony-containing niobium powder was 0.3 mmφ in diameter.
About 0.3cm x 0.18
A molded body (about 0.1 g) of cm × 0.45 cm was prepared. Next, these moldings were placed in a 2 × 10 −5 Torr (2 × 10 −5 Torr)
(−5 × 133 Pa) under vacuum at 1200 ° C. for 30 minutes to obtain a sintered body. The capacity and LC of the obtained sintered body were measured in the same manner as in Example 1. Table 2 shows the results.
【0056】(実施例11-2、11-3)実施例7〜11-1と比
較するため、アンチモン1.2モル%を含む水素化アン
チモン含有ニオブ粉について、実施例7〜11-1と同様な
操作をおこない、平均粒径が8.8μm、及び22μm
のアンチモン1.2モル%を含むアンチモン含有ニオブ
粉を得て、焼結体を作製し、容量とLCを各々測定し
た。その結果を表2に示す。(Examples 11-2 and 11-3) For comparison with Examples 7 to 11-1, an antimony hydride-containing niobium powder containing 1.2 mol% of antimony was used. The same operation was performed, and the average particle diameter was 8.8 μm and 22 μm.
Of antimony-containing niobium powder containing 1.2 mol% of antimony, a sintered body was prepared, and the capacity and LC were measured. Table 2 shows the results.
【0057】(実施例12〜15)アンチモン含有ニオ
ブ焼結体の焼結温度を変化させるために実施例1と同様
な方法で作製したアンチモンを1.1モル%含む平均粒
径1.2μmのアンチモン含有ニオブ粉を0.3mmφ
のニオブ線と共に成型し、およそ0.3cm×0.18
cm×0.45cmの成型体(約0.1g)を作製し
た。次に、これらの成型体を6×10-6Torr(6×10
-6×133Pa)〜5×10-5Torr(5×10 -5×13
3Pa)の真空下、1100℃〜1300℃で30分〜
100分放置することにより各種の焼結体を得た。得ら
れた焼結体を、実施例1と同様の方法で容量とLCを各
々測定した。その結果を表3に示す。Examples 12 to 15 Nio Containing Antimony
As in Example 1 to change the sintering temperature of the sintered body
Grain containing 1.1 mol% of antimony prepared by a simple method
0.3mmφ antimony-containing niobium powder with a diameter of 1.2μm
About 0.3cm x 0.18
Make a molded body (about 0.1g) of cm × 0.45cm
Was. Next, these molded bodies were converted into 6 × 10-6Torr (6 × 10
-6× 133 Pa) to 5 × 10-FiveTorr (5 × 10 -Five× 13
3Pa) under vacuum of 1100 ° C to 1300 ° C for 30 minutes
Various sintered bodies were obtained by allowing to stand for 100 minutes. Get
The sintered body thus obtained was subjected to the same method as in Example 1 to determine the capacity and LC.
Each was measured. Table 3 shows the results.
【0058】(実施例16〜20)アンチモン含有ニオ
ブ窒化物を得るために、実施例1と同様な方法で作製し
たアンチモンを1.2モル%含む平均粒径1.4μmの
アンチモン含有ニオブ粉10gをSUS304製の反応
容器に入れ、300℃で0.5時間〜20時間窒素を導
入し続けて、アンチモン含有ニオブ窒化物を得た。この
窒化物を熱電導度から窒素量を求めるLECO社製窒素
量測定器を用いて窒素量を求め、別途測定した粉体の質
量との比を窒素含量としたところ、0.02〜0.88
質量%であった。このようにして得られた、アンチモン
含有ニオブ窒化物を実施例1と同様な操作で成型、焼結
し、得られた焼結体を0.1%リン酸水溶液中で、80
℃の温度で200分間、20Vの電圧で化成することに
より、表面に誘電体層を形成した。この後、30%硫酸
中での容量と、20%リン酸水溶液中でのLCを各々測
定した。その結果を表4に示す。(Examples 16 to 20) In order to obtain antimony-containing niobium nitride, 10 g of antimony-containing niobium powder having an average particle diameter of 1.4 μm and containing 1.2 mol% of antimony prepared in the same manner as in Example 1. Was placed in a SUS304 reaction vessel, and nitrogen was continuously introduced at 300 ° C. for 0.5 to 20 hours to obtain antimony-containing niobium nitride. The nitrogen amount of this nitride was determined using a nitrogen amount measuring device manufactured by LECO, which determines the nitrogen amount from the thermal conductivity, and the ratio to the separately measured mass of the powder was defined as the nitrogen content. 88
% By mass. The antimony-containing niobium nitride thus obtained was molded and sintered in the same manner as in Example 1, and the obtained sintered body was treated in a 0.1% phosphoric acid aqueous solution with 80%
A dielectric layer was formed on the surface by forming at a temperature of 200C for 200 minutes at a voltage of 20V. Thereafter, the volume in 30% sulfuric acid and the LC in 20% aqueous phosphoric acid were measured. Table 4 shows the results.
【0059】[0059]
【表1】 [Table 1]
【0060】[0060]
【表2】 [Table 2]
【0061】[0061]
【表3】 [Table 3]
【0062】[0062]
【表4】 [Table 4]
【0063】(実施例21〜24)アンチモン含有ニオ
ブ粉とニオブ粉の混合物からなる焼結体を得るために実
施例1と同様な方法でアンチモンを10モル%含む、平
均粒径2.4μmのアンチモン含有ニオブ粉を得た。こ
れとは別に、ニッケル製坩堝中、80℃で充分に真空乾
燥したフッ化ニオブ酸カリウム20gにナトリウムをフ
ッ化ニオブ酸カリウムの10倍モル量を投入し、アルゴ
ン雰囲気下1000℃で20時間還元反応を行った。反
応後冷却させ、還元物を水洗した後に、95%硫酸、水
で順次洗浄した後に真空乾燥した。さらにシリカアルミ
ナボール入りのアルミナポットのボールミルを用いて4
0時間粉砕した後、粉砕物を50%硝酸と10%過酸化
水素水の3:2(質量比)混合液中に浸漬撹拌した。(Examples 21 to 24) In order to obtain a sintered body composed of a mixture of antimony-containing niobium powder and niobium powder, the same method as in Example 1 was used to contain 10 mol% of antimony and to have an average particle diameter of 2.4 μm. An antimony-containing niobium powder was obtained. Separately, in a nickel crucible, 20 g of potassium fluoride niobate sufficiently dried in vacuum at 80 ° C. is charged with 10-fold molar amount of sodium and potassium fluoride niobate, and reduced at 1000 ° C. for 20 hours in an argon atmosphere. The reaction was performed. After the reaction, the reaction mixture was cooled, and the reduced product was washed with water, washed sequentially with 95% sulfuric acid and water, and then dried under vacuum. Further, using an alumina pot ball mill containing silica alumina balls,
After crushing for 0 hour, the crushed product was immersed and stirred in a 3: 2 (mass ratio) mixed solution of 50% nitric acid and 10% hydrogen peroxide.
【0064】その後、pHが7になるまで充分水洗して
不純物を除去し、真空乾燥した。作製したニオブ粉の平
均粒径は2.6μmであった。この様にして得られた、
アンチモン含有ニオブ粉とニオブ粉を任意の割合で充分
に混合し、実施例1と同様な方法で成型、焼結を行って
焼結体を得て、この焼結体について容量、LCを各々測
定した。その結果を表5に示す。After that, impurities were removed by sufficiently washing with water until the pH became 7, followed by vacuum drying. The average particle size of the produced niobium powder was 2.6 μm. Obtained in this way,
Antimony-containing niobium powder and niobium powder were sufficiently mixed at an arbitrary ratio, molded and sintered in the same manner as in Example 1 to obtain a sintered body, and the capacity and LC of the sintered body were measured. did. Table 5 shows the results.
【0065】(実施例25〜28)アンチモン含有ニオ
ブ粉とニオブ粉の混合物からなるアンチモン含有ニオブ
窒化物の焼結体を得るために実施例1と同様な方法でア
ンチモンを10モル%含む、平均粒径1.2μmのアン
チモン含有ニオブ粉を得た。これとは別に、ニオブイン
ゴット50gをSUS304製の反応容器に入れ、40
0℃で12時間水素を導入し続けた。冷却後、水素化さ
れたニオブ塊を鉄製ボールを入れたSUS304製のポ
ットに入れ10時間粉砕した。さらに、この粉砕物を前
述したSUS304製反応器に入れ、再度、前述した条
件で水素化した。(Examples 25 to 28) In order to obtain a sintered body of antimony-containing niobium nitride comprising a mixture of antimony-containing niobium powder and niobium powder, an antimony-containing niobium nitride containing 10 mol% of antimony was obtained in the same manner as in Example 1. An antimony-containing niobium powder having a particle size of 1.2 μm was obtained. Separately, 50 g of niobium ingot was placed in a SUS304 reaction vessel, and
Hydrogen introduction was continued at 0 ° C. for 12 hours. After cooling, the hydrogenated niobium mass was placed in a SUS304 pot containing iron balls and ground for 10 hours. Further, this pulverized product was placed in the above-mentioned SUS304 reactor, and hydrogenated again under the above-mentioned conditions.
【0066】次に、SUS304製の湿式粉砕機(商品
名「アトライタ」)に、この水素化物を水で20vol
%のスラリーにしたもの及びジルコニアボールを入れ6
時間湿式粉砕した。このスラリーを遠心沈降の後、デカ
ンテーションして粉砕物を取得した。粉砕物を1Torr
(133Pa)、50℃の条件で真空乾燥した。続い
て、水素化ニオブ粉を10-4Torr(1.33×10-2P
a)、400℃で1時間加熱し脱水素した。作製したニ
オブ粉の平均粒径は1.3μmであった。この様にして
得られた、アンチモン含有ニオブ粉とニオブ粉を任意の
割合で充分に混合し、実施例16〜20と同様な方法で
窒化物を得た後、成型、焼結を行って焼結体を得て、こ
の焼結体について容量、LCを各々測定した。その結果
を表6に示す。Next, this hydride was added to a SUS304 wet pulverizer (trade name “Attritor”) with water at 20 vol.
% Slurry and zirconia balls
Wet milled for hours. After the slurry was centrifugally settled, decantation was performed to obtain a pulverized product. 1 Torr of crushed material
(133 Pa), and vacuum dried at 50 ° C. Subsequently, the niobium hydride powder was reduced to 10 -4 Torr (1.33 × 10 -2 P
a), heated at 400 ° C. for 1 hour to dehydrogenate. The average particle size of the produced niobium powder was 1.3 μm. The antimony-containing niobium powder and the niobium powder obtained in this manner are sufficiently mixed at an arbitrary ratio, and a nitride is obtained in the same manner as in Examples 16 to 20, then molded and sintered to perform firing. A sintered body was obtained, and the capacity and LC of this sintered body were measured. Table 6 shows the results.
【0067】[0067]
【表5】 [Table 5]
【0068】[0068]
【表6】 [Table 6]
【0069】(実施例29〜35)実施例29は実施例
1と、実施例30は実施例5と、実施例31は実施例7
と、実施例32は実施例13と、実施例33は実施例1
8と、実施例34は実施例23と、実施例35は実施例
28と、それぞれ同様な方法で得た焼結体を各50個用
意した。これらの焼結体を20Vの電圧で、0.1%リ
ン酸水溶液を用い、200分間電解化成して、表面に誘
電体酸化皮膜を形成した。次に、60%硝酸マンガン水
溶液に浸漬後220℃で30分加熱することを繰り返し
て、誘電体酸化皮膜上に他方の電極層として二酸化マン
ガン層を形成した。引き続き、その上に、カーボン層、
銀ペースト層を順次積層した。次にリードフレームを載
せた後、全体をエポキシ樹脂で封止して、チップ型コン
デンサを作製した。このチップ型コンデンサの容量とL
C値の平均(n=各50個)を表7に示す。尚、LC値
は室温で6.3V、1分間印加した時の値である。(Examples 29 to 35) Example 29 is Example 1, Example 30 is Example 5 and Example 31 is Example 7.
Example 32 is Example 13 and Example 33 is Example 1.
8, Example 34, Example 23, Example 35, and Example 28, 50 sintered bodies each obtained by the same method were prepared. These sintered bodies were subjected to electrolytic formation at a voltage of 20 V using a 0.1% phosphoric acid aqueous solution for 200 minutes to form a dielectric oxide film on the surface. Next, immersion in a 60% manganese nitrate aqueous solution and subsequent heating at 220 ° C. for 30 minutes were repeated to form a manganese dioxide layer as the other electrode layer on the dielectric oxide film. Then, on top of that, a carbon layer,
Silver paste layers were sequentially laminated. Next, after mounting a lead frame, the whole was sealed with epoxy resin to produce a chip-type capacitor. The capacitance of this chip type capacitor and L
Table 7 shows the average of the C values (n = 50 each). The LC value is a value when 6.3 V is applied at room temperature for 1 minute.
【0070】[0070]
【表7】 [Table 7]
【0071】(実施例36〜42)実施例36は実施例
2と、実施例37は実施例6-1と、実施例38は実施例
8と、実施例39は実施例15と、実施例40は実施例
19と、実施例41は実施例21と、実施例42は実施
例26と、それぞれ同様な方法で得た焼結体を各50個
用意した。これらの焼結体を20Vの電圧で、0.1%
リン酸水溶液を用い、200分間電解化成して、表面に
誘電体酸化皮膜を形成した。次に、35%酢酸鉛水溶液
と35%過硫酸アンモニウム水溶液の1:1(容量比)
混合液に浸漬後、40℃で1時間反応させることを繰り
返して、誘電体酸化皮膜上に他方の電極層として二酸化
鉛と硫酸鉛の混合層を形成した。引き続き、その上に、
カーボン層、銀ペースト層を順次積層した。次にリード
フレームを載せた後、全体をエポキシ樹脂で封止して、
チップ型コンデンサを作製した。このチップ型コンデン
サの容量とLC値の平均(n=各50個)を表8に示
す。尚、LC値は室温で6.3V、1分間印加した時の
値である。(Embodiments 36 to 42) Embodiment 36 is Embodiment 2, Embodiment 37 is Embodiment 6-1, Embodiment 38 is Embodiment 8, Embodiment 39 is Embodiment 15, and Embodiment 36 is Embodiment 2. Reference numeral 40 denotes Example 19, Example 41 denotes Example 21, and Example 42 denotes Example 26. Fifty sintered bodies were prepared by the same method. These sintered bodies were subjected to 0.1%
Electrolysis was performed for 200 minutes using a phosphoric acid aqueous solution to form a dielectric oxide film on the surface. Next, a 1: 1 (volume ratio) of 35% aqueous lead acetate and 35% aqueous ammonium persulfate was used.
After dipping in the mixed solution, the reaction was repeated at 40 ° C. for 1 hour to form a mixed layer of lead dioxide and lead sulfate as the other electrode layer on the dielectric oxide film. Continue on that,
A carbon layer and a silver paste layer were sequentially laminated. Next, after placing the lead frame, seal the whole with epoxy resin,
A chip-type capacitor was manufactured. Table 8 shows the average of the capacitance and the LC value of this chip type capacitor (n = 50 each). The LC value is a value when 6.3 V is applied at room temperature for 1 minute.
【0072】[0072]
【表8】 [Table 8]
【0073】[0073]
【発明の効果】本発明のアンチモン含有ニオブ粉を使用
した焼結体は、比漏れ電流値が良好であり、該焼結体か
ら作製したコンデンサのLC値は小さく、信頼性の大き
なコンデンサとなる。The sintered body using the antimony-containing niobium powder of the present invention has a good specific leakage current value, and the capacitor made from the sintered body has a small LC value and is a highly reliable capacitor. .
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08G 75/02 C22C 1/04 E C22C 1/04 1/05 E 1/05 27/02 102Z 27/02 102 32/00 L 32/00 H01G 9/05 K Fターム(参考) 4J005 AA23 4J030 BA03 BF13 BG08 BG10 CA01 4J032 BA02 BA03 BA04 BA12 BA13 BA14 BB01 BD02 4J043 PA01 QB02 RA08 UA121 YB05 ZA45 ZB47 4K018 AA40 AB02 AB03 AB04 AB05 AC01 BA11 BA20 BB04 BD10 DA11 KA39 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI theme coat ゛ (Reference) C08G 75/02 C22C 1/04 E C22C 1/04 1/05 E 1/05 27/02 102Z 27/02 102 32/00 L 32/00 H01G 9/05 K F term (reference) 4J005 AA23 4J030 BA03 BF13 BG08 BG10 CA01 4J032 BA02 BA03 BA04 BA12 BA13 BA14 BB01 BD02 4J043 PA01 QB02 RA08 UA121 YB05 ZA45 ZB47 4K018 AA04 AB02 AB08 BA11 BA20 BB04 BD10 DA11 KA39
Claims (12)
粉。1. A niobium powder for a capacitor containing antimony.
%であることを特徴とする請求項1に記載のコンデンサ
用ニオブ粉。2. The niobium powder for a capacitor according to claim 1, wherein the content of antimony is 0.1 to 10 mol%.
る請求項1又は2に記載のコンデンサ用ニオブ粉。3. The niobium powder for a capacitor according to claim 1, wherein the average particle size is 0.2 μm or more and less than 5 μm.
物、ニオブホウ化物、ニオブ硫化物からなる群より選ば
れた少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項1乃
至3の何れか1項に記載のコンデンサ用ニオブ粉。4. The method according to claim 1, wherein the niobium powder contains at least one selected from the group consisting of niobium nitride, niobium carbide, niobium boride, and niobium sulfide. The described niobium powder for a capacitor.
ブ粉を用いた焼結体。5. A sintered body using the niobium powder according to any one of claims 1 to 4.
値を有する請求項5に記載の焼結体。6. The sintered body according to claim 5, which has a specific leakage current value of 400 pA / (μF · V) or less.
し、その表面上に形成された誘電体と他方の電極とから
構成されたコンデンサ。7. A capacitor comprising the sintered body according to claim 6 as one electrode, a dielectric formed on the surface thereof, and the other electrode.
7に記載のコンデンサ。8. The capacitor according to claim 7, wherein the dielectric contains niobium oxide.
ものである請求項8に記載のコンデンサ。9. The capacitor according to claim 8, wherein the niobium oxide is formed by electrolytic oxidation.
無機半導体から選ばれた少なくとも一種の材料(化合
物)である請求項7に記載のコンデンサ。10. The capacitor according to claim 7, wherein the other electrode is at least one material (compound) selected from an electrolyte, an organic semiconductor, and an inorganic semiconductor.
有機半導体がベンゾピロリン四量体とクロラニルからな
る有機半導体、テトラチオテトラセンを主成分とする有
機半導体、テトラシアノキノジメタンを主成分とする有
機半導体、及び下記一般式(1)または(2) 【化1】 (式中、R1〜R4は水素、炭素数1〜6のアルキル基ま
たは炭素数1〜6のアルコキシ基を表わし、これらは互
いに同一であっても相違してもよく、Xは酸素、イオウ
または窒素原子を表わし、R5はXが窒素原子のときの
み存在して水素または炭素数1〜6のアルキル基を表
し、R1とR2及びR3とR4は互いに結合して環状になっ
ていてもよい。)で示される繰り返し単位を2以上含む
重合体にドーパントをドープした電導性高分子を主成分
とした有機半導体からなる群より選ばれた少なくとも一
種の有機半導体である請求項7に記載のコンデンサ。11. The other electrode comprises an organic semiconductor, wherein the organic semiconductor comprises an organic semiconductor comprising benzopyrroline tetramer and chloranil, an organic semiconductor comprising tetrathiotetracene as a main component, and tetracyanoquinodimethane as a main component. And an organic semiconductor represented by the following general formula (1) or (2): (Wherein, R 1 to R 4 represent hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, which may be the same or different, X is oxygen, R 5 represents a hydrogen or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and is present only when X is a nitrogen atom; R 1 and R 2 and R 3 and R 4 are bonded to each other to form a ring; At least one organic semiconductor selected from the group consisting of organic semiconductors containing a conductive polymer as a main component obtained by doping a polymer containing two or more repeating units represented by the following formula: Item 8. The capacitor according to Item 7.
フェン及びこれらの置換誘導体から選ばれた少なくとも
一種である請求項10に記載のコンデンサ。12. The capacitor according to claim 10, wherein the organic semiconductor is at least one selected from polypyrrole, polythiophene, and substituted derivatives thereof.
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JP4707164B2 (en) | 2011-06-22 |
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