JP2002019182A - Exposing unit and imaging apparatus comprising it - Google Patents

Exposing unit and imaging apparatus comprising it

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JP2002019182A
JP2002019182A JP2000203778A JP2000203778A JP2002019182A JP 2002019182 A JP2002019182 A JP 2002019182A JP 2000203778 A JP2000203778 A JP 2000203778A JP 2000203778 A JP2000203778 A JP 2000203778A JP 2002019182 A JP2002019182 A JP 2002019182A
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Japan
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emitting element
light emitting
array
light
exposure apparatus
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Application number
JP2000203778A
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Japanese (ja)
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Kenji Muto
健二 武藤
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Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To increase the quantity of light of an exposing unit comprising light emitting elements arranged in array. SOLUTION: The exposing unit comprises a light emitting element substrate where an array of a plurality of light emitting elements is formed on the same basic material, and a rod lens array for focusing light beam emitted from each light emitting element on the surface of an image carrying body wherein the light emitting element substrate is made of a transparent and insulating basic material and a microlens array comprising a plurality of microlenses is arranged on the transparent and insulating basic material.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はモノクロ画像及び/
又はカラー画像を形成するプリンタ、ファクシミリ、複
写機等の画像形成装置の露光系として用いられる露光装
置およびその露光装置が搭載される画像形成装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to monochrome images and / or monochrome images.
Also, the present invention relates to an exposure apparatus used as an exposure system of an image forming apparatus such as a printer, a facsimile, and a copying machine that forms a color image, and an image forming apparatus equipped with the exposure apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、プリンタ、ファクシミリ、デジタ
ル複写機等の画像形成装置の多数には、電子写真方式が
用いられており、その中には、外部コンピュータ、ある
いは画像読み取り系から出力された画像信号に応じた潜
像を感光体上に形成する露光系として発光ダイオード等
の発光素子をアレイ化した光源を用いた露光装置が使用
されているものがある。このような露光装置は、小型で
あり、静粛な画像形成装置を簡単に構成することが可能
である。
2. Description of the Related Art Conventionally, many image forming apparatuses such as a printer, a facsimile, a digital copying machine, and the like use an electrophotographic system, and include an image output from an external computer or an image reading system. As an exposure system for forming a latent image corresponding to a signal on a photoconductor, there is an exposure system using a light source using an array of light emitting elements such as light emitting diodes. Such an exposure apparatus is small and can easily constitute a quiet image forming apparatus.

【0003】ここで、発光素子は発光ダイオードなどで
構成されるが、これらは或る点、あるいは或る面から拡
散光を放射するものであり、感光体上に潜像を形成する
ためには発光素子から発せられた拡散光を各々微小なス
ポットに結像する必要がある。そこで、露光装置にはロ
ッドレンズアレイに代表される結像素子列を設けるよう
にして、良好なスポットを形成するようにしており、こ
のために発光素子と結像素子との相対的な位置関係を高
い位置精度となるように構成している。
[0003] Here, the light emitting element is composed of a light emitting diode or the like, which emits diffused light from a certain point or a certain surface. It is necessary to form an image of the diffused light emitted from the light emitting element on each minute spot. Therefore, the exposure apparatus is provided with an imaging element array represented by a rod lens array so as to form a good spot. For this reason, the relative positional relationship between the light emitting element and the imaging element is set. Are configured to have high positional accuracy.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】その一方で、より高速
な画像形成が求められている。そのため、一般的にロッ
ドレンズアレイによる光量伝達率は各々のロッドレンズ
の開口率が低いことにより低いという課題もあって、そ
のような課題を解決すべく露光装置が発光し感光体に結
像する光の光量を増大させることが求められている。
On the other hand, there is a demand for faster image formation. Therefore, in general, there is a problem that the light transmission rate of the rod lens array is low due to a low aperture ratio of each rod lens, and in order to solve such a problem, the exposure apparatus emits light and forms an image on a photoconductor. There is a need to increase the amount of light.

【0005】そこで本発明は、発光素子をアレイ化した
露光装置の光量増大を目的とする。
Accordingly, an object of the present invention is to increase the amount of light of an exposure apparatus in which light emitting elements are arrayed.

【0006】また、本発明の露光装置を用いた画像形成
装置の画像形成の増速を目的とする。
Another object of the present invention is to increase the speed of image formation in an image forming apparatus using the exposure apparatus of the present invention.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】以上の課題に鑑みて本発
明における露光装置では、複数の発光素子を並べた発光
素子列を同一の基材上に形成した発光素子基板と、各発
光素子から発散される光束を像担持体上に結像するロッ
ドレンズアレイとを備えた露光装置において、発光素子
基板は透明絶縁性基材上に、上記発光素子列を備え、か
つ前記透明絶縁性基材に複数のマイクロレンズより成る
マイクロレンズアレイを有する。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, an exposure apparatus according to the present invention comprises a light emitting element substrate having a plurality of light emitting elements arranged on the same base material, and a light emitting element substrate comprising: A rod lens array for imaging a divergent light beam on an image carrier, wherein the light emitting element substrate is provided with the light emitting element rows on a transparent insulating base material, and the transparent insulating base material Has a microlens array composed of a plurality of microlenses.

【0008】また、前記透明絶縁性基材上において、前
記発光素子列を少なくとも透明導電層、有機層、電極に
より構成する有機LEDアレイとしてもよい。
[0008] Further, the light emitting element array may be an organic LED array comprising at least a transparent conductive layer, an organic layer, and electrodes on the transparent insulating substrate.

【0009】また、前記透明絶縁性基材上において、前
記有機LEDアレイ部を少なくとも半透明反射層、透明
導電層、有機層、電極により構成し、かつ前記半透明反
射層と前記電極の間の構成が微小光共振器とするように
してもよい。
[0009] Further, on the transparent insulating substrate, the organic LED array section is composed of at least a translucent reflective layer, a transparent conductive layer, an organic layer, and an electrode, and a space between the translucent reflective layer and the electrode. The configuration may be a micro optical resonator.

【0010】また、前記マイクロレンズアレイのマイク
ロレンズは、各発光素子と1対1対応であってもよい。
[0010] The microlenses of the microlens array may be in one-to-one correspondence with each light emitting element.

【0011】また、前記マイクロレンズアレイのマイク
ロレンズの開口部面積は各発光素子の発光部の面積より
大きくしてもよい。
Further, the opening area of the microlens of the microlens array may be larger than the area of the light emitting portion of each light emitting element.

【0012】また、前記マイクロレンズアレイのマイク
ロレンズは、各発光素子に対応する部分の前記透明絶縁
性基材をイオン交換することにより形成してもよい。
Further, the microlenses of the microlens array may be formed by ion-exchanging a portion of the transparent insulating substrate corresponding to each light emitting element.

【0013】また、前記マイクロレンズアレイのマイク
ロレンズは、各発光素子に対応して凸レンズ形状を有し
てもよい。
Further, the microlenses of the microlens array may have a convex lens shape corresponding to each light emitting element.

【0014】また、前記マイクロレンズアレイのマイク
ロレンズは、前記透明絶縁性基材の前記発光素子列が形
成される面と同一の面上に形成されてもよい。
The microlenses of the microlens array may be formed on the same surface of the transparent insulating substrate as the surface on which the light emitting element rows are formed.

【0015】また、前記マイクロレンズは、前記透明絶
縁性基材の前記発光素子列が形成される面に対向する面
上に形成されていてもよい。
Further, the microlens may be formed on a surface of the transparent insulating substrate opposite to a surface on which the light emitting element rows are formed.

【0016】[作用]本発明の露光装置においては、光
量増大が可能となる。
[Operation] In the exposure apparatus of the present invention, the light amount can be increased.

【0017】また、本発明の露光装置を用いた画像形成
装置においては、画像形成の増速が可能となる。
Further, in the image forming apparatus using the exposure apparatus of the present invention, the speed of image formation can be increased.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、図面に沿って、本発明の実
施の形態について説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0019】[第1の実施形態]以下より本発明の第1
の実施形態を図1〜図5に基づいて説明する。
[First Embodiment] The first embodiment of the present invention will be described below.
Will be described with reference to FIGS. 1 to 5.

【0020】まず、本発明の露光装置の全体構成の概略
を図1、2、3に基づいて説明する。図1は露光装置3
0と露光装置30が露光する像担持体である感光ドラム
2の断面図である。図2は本実施形態の有機LEDアレ
イ部を示す斜視図、図3はロッドレンズアレイを説明す
る図である。
First, an overall configuration of an exposure apparatus according to the present invention will be schematically described with reference to FIGS. FIG. 1 shows an exposure apparatus 3
FIG. 2 is a cross-sectional view of a photosensitive drum 2 which is an image carrier to be exposed by an exposure device 30. FIG. 2 is a perspective view showing an organic LED array section of the present embodiment, and FIG. 3 is a view for explaining a rod lens array.

【0021】図1において有機LEDアレイ部4には複
数の発光部を紙面垂直方向に略直線状に並べた発光素子
列部4aが備えられている。この発光素子列部4aの構
成については後述する。また、発光素子列部4aの列方
向は円柱状の感光ドラム2の回転軸と平行であり、発光
素子列部4aと感光ドラム2との間には、多数のロッド
レンズを有機LEDアレイ部4上の発光素子列部4aの
列方向と略平行に並べたロッドレンズアレイ3がある。
ここで、発光素子列部4aから発散させられる光束は、
ロッドレンズアレイ3側に出射されるよう構成されてい
る。この様な構成とすることで露光装置の幅、すなわち
長尺方向と直交する方向の幅、を狭くできる。また、有
機LEDアレイ部4の内部には例えばイオン交換法によ
り製造されるマイクロレンズ1122が1つの発光素子
に例えば1対1で対応する数だけある。或いは、1つの
発光素子に対して複数のマイクロレンズが対応するよう
にマイクロレンズを設けても良いし、或いは、複数の発
光素子が1つのマイクロレンズと対応するように複数の
マイクロレンズを設けても良い。
In FIG. 1, the organic LED array section 4 is provided with a light emitting element array section 4a in which a plurality of light emitting sections are arranged substantially linearly in a direction perpendicular to the paper surface. The configuration of the light emitting element array 4a will be described later. The row direction of the light emitting element array 4a is parallel to the rotation axis of the columnar photosensitive drum 2, and a number of rod lenses are provided between the light emitting element array 4a and the photosensitive drum 2. There is a rod lens array 3 arranged substantially parallel to the row direction of the upper light emitting element row section 4a.
Here, the luminous flux emitted from the light emitting element array portion 4a is:
The light is emitted to the rod lens array 3 side. With such a configuration, the width of the exposure apparatus, that is, the width in the direction orthogonal to the long direction can be reduced. Further, inside the organic LED array section 4, there are a number of microlenses 1122 manufactured by, for example, an ion exchange method corresponding to one light emitting element, for example, one-to-one. Alternatively, a microlens may be provided such that a plurality of microlenses correspond to one light emitting element, or a plurality of microlenses may be provided such that a plurality of light emitting elements correspond to one microlens. Is also good.

【0022】また、ロッドレンズアレイ3は図3に示す
ように円柱状のロッドレンズ300が2列複数に並べら
れて構成されている。2列並べるのは、光量伝達を高め
るためである。
Further, as shown in FIG. 3, the rod lens array 3 is formed by arranging a plurality of cylindrical rod lenses 300 in two rows. The two rows are arranged in order to increase the amount of light transmitted.

【0023】また露光装置30において、有機LEDア
レイ部4上には、発光素子列部4aの他に各発光素子を
駆動させる図示されないドライバー部などが形成されて
いる。そして外部の水分などから発光素子列部4aを保
護するべく、封止部51が電気的駆動部も保護するよう
に有機LEDアレイ部4の発光素子列部4a側に設けら
れている。そして、ロッドレンズアレイ3は、洩れ光を
防止するカバー6に接着させられており、そのうえで、
カバー6と基板側保持部材52とがEL素子基板4を挟
みつつ板バネ部材53で挟持させられる。そして、アレ
イ部4とロッドレンズアレイ3との間の領域Aは必要に
応じてほこりが侵入しないように守られており、つま
り、カバー6がロッドレンズアレイ3と接して固定され
ている。
In the exposure apparatus 30, on the organic LED array section 4, a driver section (not shown) for driving each light emitting element is formed in addition to the light emitting element row section 4a. In order to protect the light emitting element array section 4a from external moisture and the like, the sealing section 51 is provided on the light emitting element array section 4a side of the organic LED array section 4 so as to also protect the electric drive section. The rod lens array 3 is adhered to a cover 6 for preventing light from leaking.
The cover 6 and the substrate-side holding member 52 are sandwiched by the leaf spring member 53 while sandwiching the EL element substrate 4. The area A between the array section 4 and the rod lens array 3 is protected so that dust does not invade as required, that is, the cover 6 is fixed in contact with the rod lens array 3.

【0024】また、露光装置30は、図4に示すよう
に、画像形成装置に露光装置として組み込まれている。
Further, as shown in FIG. 4, the exposure device 30 is incorporated in the image forming apparatus as an exposure device.

【0025】ここでは、図4を用いて、本実施形態の露
光装置が組み込まれる画像形成装置として複写機を例に
挙げて動作を説明する。
Here, the operation will be described with reference to FIG. 4 by taking a copying machine as an example of an image forming apparatus in which the exposure apparatus of the present embodiment is incorporated.

【0026】原稿台24におかれた原稿が、読み取り系
95によって読み取られ、画像データに変換される。そ
の一方で、記録材80が本体内の給送ローラ13,14
あるいは本体外部からは給送ローラ15を介して給送さ
れ、レジストローラ16a,16bの位置に達した際に
不図示のセンサによって記録材80の先端位置が検知さ
れ、あるタイミングでレジストローラ16a,16bに
よって給送される。一方、露光装置30から前記画像デ
ータに応じて、図中矢印方向に回転する像担持体(感光
体)2の帯電が前もって帯電器17によって行われ、続
いて像担持体2を露光することにより像担持体2に静電
潜像が形成される。この静電潜像に応じて、現像器18
から不図示の現像材が像担持体2に付与される。そし
て、転写器19上の位置までに現像材が付与された像担
持体2が回転すると同時に、記録材80も転写器19上
に到達して、現像材が記録材80上に転写器19によっ
て転写される。これにより、記録材80は、搬送路21
を通り定着器22a,22bまで到達し、転写された現
像材が記録材80に定着され、トレイ23に排出させら
れて画像形成を完了する。
A document placed on the document table 24 is read by a reading system 95 and converted into image data. On the other hand, the recording material 80 is fed to the feeding rollers 13 and 14 in the main body.
Alternatively, the recording material 80 is fed from the outside of the main body via the feeding roller 15, and when the position of the registration rollers 16a and 16b is reached, the leading end position of the recording material 80 is detected by a sensor (not shown). 16b. On the other hand, according to the image data from the exposure device 30, the charging of the image carrier (photoconductor) 2 rotating in the direction of the arrow in the drawing is performed by the charger 17 in advance, and the image carrier 2 is subsequently exposed. An electrostatic latent image is formed on the image carrier 2. According to this electrostatic latent image, the developing device 18
, A developing material (not shown) is applied to the image carrier 2. Then, at the same time that the image carrier 2 to which the developing material is applied rotates to the position on the transfer device 19, the recording material 80 also reaches the transfer device 19, and the developing material is transferred onto the recording material 80 by the transfer device 19. Transcribed. As a result, the recording material 80 is
And reaches the fixing devices 22a and 22b, the transferred developer is fixed on the recording material 80, and is discharged to the tray 23 to complete the image formation.

【0027】ここで、本発明の発光部である有機LED
アレイ部について図2および図5を用いて説明する。
Here, the organic LED which is the light emitting part of the present invention
The array unit will be described with reference to FIGS.

【0028】図2は本実施形態の有機LEDアレイ部の
断面を含む斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view including a cross section of the organic LED array section of the present embodiment.

【0029】ガラス基板1101には前述したように、
各発光素子に対応した部分にイオン交換法によりマイク
ロレンズ1122が形成されており、その上に図1にお
いて発光素子列部4aで説明された部分に、複数層から
成る半透明反射層1177、透明電極1102、正孔輸
送層1103、電子輸送層1104、そして陰極110
5の順でガラス基板1101側から積層されている。
As described above, the glass substrate 1101
A microlens 1122 is formed on a portion corresponding to each light emitting element by an ion exchange method, and a translucent reflective layer 1177 composed of a plurality of layers is formed on the micro lens 1122 on the portion described in FIG. Electrode 1102, hole transport layer 1103, electron transport layer 1104, and cathode 110
5 are stacked from the glass substrate 1101 side.

【0030】まず、図5を用いてマイクロレンズ112
2の作成方法について説明する。
First, referring to FIG.
2 will be described.

【0031】本実施形態では、基板としてソーダライム
ガラス基板を用いた。このガラス基板1101の両面を
十分に洗浄する。
In this embodiment, a soda-lime glass substrate is used as the substrate. Both surfaces of the glass substrate 1101 are sufficiently washed.

【0032】次に、ガラス基板全体をTiなどのイオン
非透過性の膜(不図示)によってマスクする。イオン拡
散面のTiにフォトリソエッチング法により直径30μ
mで中心間隔が80μmの開口部列を形成する。
Next, the entire glass substrate is masked with an ion-impermeable film (not shown) such as Ti. 30 μm diameter of Ti on ion diffusion surface by photolithographic etching
m, an opening row having a center interval of 80 μm is formed.

【0033】この基板をイオン交換を行うためTlNO
3 とKNO3 の混合溶融塩に浸し、直径がほぼ70μm
の半球状の屈折率領域1122を形成する。
The substrate is subjected to TlNO for ion exchange.
3 and KNO 3 immersed in a molten salt, with a diameter of approximately 70 μm
Is formed.

【0034】ここで、屈折率を上げるイオン交換処理に
用いられる溶融塩としては、Ag+,Tl+ などの硝酸
塩、硫酸塩などがある。
Here, examples of the molten salt used for the ion exchange treatment for increasing the refractive index include nitrates such as Ag + and Tl + and sulfates.

【0035】また、マイクロレンズ1122の屈折率分
布を何段階かに分けて形成してもよい。
The refractive index distribution of the micro lens 1122 may be formed in several stages.

【0036】次に、光共振器構造を構成するガラス基板
1101上の半透明反射層1177の作成方法について
図5を用いて説明する。
Next, a method of forming the translucent reflective layer 1177 on the glass substrate 1101 constituting the optical resonator structure will be described with reference to FIG.

【0037】ガラス基板1101上のマイクロレンズ1
122が形成されている面上に半透明反射層をスパッタ
法を用いて、SiO2 層1171とTiO2 層1172
を順に積層し、合計4層積層する。この4層が前述の半
透明反射膜1177である。SiO2の1層当たりの膜
厚は93nm、TiO2 の1層当たりの膜厚は59nm
である。
Micro lens 1 on glass substrate 1101
A translucent reflective layer is formed on the surface on which the surface 122 is formed by sputtering to form an SiO 2 layer 1171 and a TiO 2 layer 1172.
Are sequentially laminated, and a total of four layers are laminated. These four layers are the above-mentioned translucent reflection film 1177. The thickness of one layer of SiO 2 is 93 nm, and the thickness of one layer of TiO 2 is 59 nm.
It is.

【0038】次に陽極(透明電極)1102としてIT
Oを形成する。半透明反射層上にライン幅50μm、ピ
ッチ80μmの金属マスクを被せてITOをスパッタ法
により60nm形成する。
Next, as an anode (transparent electrode) 1102, an IT
O is formed. An ITO is formed to a thickness of 60 nm by sputtering with a metal mask having a line width of 50 μm and a pitch of 80 μm on the translucent reflective layer.

【0039】次に、正孔輸送層1103としてN,N′
−ビス(3−メチルフェニル)−N,N′−ジフェニル
−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン(以
下TPD)を、電子輸送層1104としてトリス(8−
キノリール)アルミニウム(Alq3 )を順次真空蒸着
法により蒸着する。ここで、TPD,Alq3 の膜厚は
それぞれ40nm,50nmである。
Next, as the hole transport layer 1103, N, N '
-Bis (3-methylphenyl) -N, N'-diphenyl- (1,1'-biphenyl) -4,4'-diamine (hereinafter referred to as TPD) as an electron transport layer 1104 in tris (8-
(Quinolyl) aluminum (Alq 3 ) is sequentially deposited by a vacuum deposition method. Here, the film thicknesses of TPD and Alq 3 are 40 nm and 50 nm, respectively.

【0040】なお、蒸着時の真空度は2×10-6〜3×
10-6Torr(=2.66×10 -4〜3.99×10
-4Pa)である、製膜速度は0.2〜0.3nm/sと
した。
The degree of vacuum at the time of vapor deposition was 2 × 10-6~ 3x
10-6Torr (= 2.66 × 10 -Four~ 3.99 × 10
-FourPa), the film forming speed is 0.2 to 0.3 nm / s.
did.

【0041】最後に、ライン幅40μmの金属マスクを
ITOと直交するように被せ、陰極1105としてMg
とAgを10:1の蒸着速度比で共蒸着し、Mg/Ag
が10/1の合金を200nm形成する。このとき、製
膜速度は1nm/sとした。
Lastly, a metal mask having a line width of 40 μm was placed so as to be orthogonal to the ITO,
And Ag are co-deposited at a deposition rate ratio of 10: 1 to obtain Mg / Ag
Form a 200 nm alloy of 10/1. At this time, the film forming speed was 1 nm / s.

【0042】マイクロレンズの開口面積は発光部の面積
よりも大きくし、発光した光を効率よく得るようにして
いる。
The opening area of the microlens is made larger than the area of the light emitting portion so that emitted light can be obtained efficiently.

【0043】有機LEDの陽極材料としては仕事関数が
大きなものが望ましく、本実施形態で用いたITOの他
に例えば酸化錫、金、白金、パラジウム、セレン、イリ
ジウム、ヨウ化銅などを用いることができる。
It is desirable that the anode material of the organic LED has a large work function. For example, tin oxide, gold, platinum, palladium, selenium, iridium, copper iodide, or the like is used in addition to ITO used in the present embodiment. it can.

【0044】一方、陰極材料としては仕事関数が小さな
ものが望ましく、本実施形態で用いたMg/Agのほか
に、例えばMg,Al,Li,Inあるいはこれらの合
金等を用いることができる。
On the other hand, it is desirable that the cathode material has a small work function. In addition to Mg / Ag used in the present embodiment, for example, Mg, Al, Li, In, or an alloy thereof can be used.

【0045】正孔輸送層に関しては、TPDのほかに化
1〜5に表される有機材料を用いることができる。
As for the hole transport layer, an organic material represented by Chemical Formulas 1 to 5 can be used in addition to TPD.

【0046】[0046]

【化1】 Embedded image

【0047】[0047]

【化2】 Embedded image

【0048】[0048]

【化3】 Embedded image

【0049】[0049]

【化4】 Embedded image

【0050】[0050]

【化5】 また、有機材料だけではなく、無機材料を用いてもよ
い。用いられる材料としては、非晶質材料、例えばアモ
ルファスシリコン(a−Si),或いはアモルファス炭
化珪素a−SiCなどが挙げられる。また、必要に応じ
これらアモルファス材料に水素、酸素、窒素のうちの少
なくとも1つを適宜加えても良い。
Embedded image Further, not only an organic material but also an inorganic material may be used. As a material to be used, an amorphous material, for example, amorphous silicon (a-Si), amorphous silicon carbide a-SiC, or the like can be given. If necessary, at least one of hydrogen, oxygen, and nitrogen may be appropriately added to these amorphous materials.

【0051】電子輸送層としては、Alq3 の他に化6
〜9に表される材料を用いることができる。
As the electron transport layer, in addition to Alq 3 ,
To 9 can be used.

【0052】[0052]

【化6】 Embedded image

【0053】[0053]

【化7】 Embedded image

【0054】[0054]

【化8】 Embedded image

【0055】[0055]

【化9】 また、表10に示されているようなドーパント色素を電
子輸送層、あるいは正孔輸送層にドーピングすることも
できる。
Embedded image Further, a dopant dye as shown in Table 10 can be doped into the electron transporting layer or the hole transporting layer.

【0056】[0056]

【化10】 半透明反射層を構成する材料や、膜厚、層数や、透明電
極、有機層の膜厚等は本実施形態の構成に限るものでは
無く、使用する感光ドラムと感度のあったスペクトルを
取り出せるように最適化することが望ましい。
Embedded image The material constituting the translucent reflective layer, the film thickness, the number of layers, the transparent electrode, the film thickness of the organic layer, etc. are not limited to the configuration of the present embodiment, and a spectrum having sensitivity with the photosensitive drum used can be obtained. It is desirable to optimize as follows.

【0057】この有機LEDアレイにITO電極をプラ
ス、Mg/Ag電極をマイナスにして直流電圧を印加す
ると、ITO電極とMg/Ag電極が交差している部分
から緑色の発光が得られる。
When a DC voltage is applied to this organic LED array with the ITO electrode plus and the Mg / Ag electrode minus, green light is emitted from the intersection of the ITO electrode and the Mg / Ag electrode.

【0058】このようにして得られた有機LEDアレイ
部に前述したように駆動用ドライバを接続することで前
述のような露光装置として用いて良好な画像を出力する
ことができる。
By connecting the driving driver to the organic LED array section thus obtained as described above, it is possible to use the exposure apparatus as described above to output a good image.

【0059】これは、半透明鏡で光共振器構造を有する
ことができ、このような有機LEDアレイを用いること
で、光の拡散が抑えられ、露光スポットの広がりを少な
くすると同時にマイクロレンズにより感光ドラム上に結
像することが可能となったためである。また、発光波長
の半値幅を狭くすると同時にピーク波長の出力を強める
ことができ、さらに、マイクロレンズによってロッドレ
ンズアレイに入射する光量をマイクロレンズが無い状態
より増加できるため、有機LEDアレイの発光光量をよ
り効率よく利用することが可能となった。
This can have an optical resonator structure with a semi-transparent mirror. By using such an organic LED array, the diffusion of light is suppressed, the spread of an exposure spot is reduced, and at the same time, the light is exposed by a microlens. This is because it has become possible to form an image on the drum. Also, the output of the peak wavelength can be strengthened at the same time as the half width of the emission wavelength is narrowed, and the amount of light incident on the rod lens array can be increased by the microlens from the state without the microlens. Can be used more efficiently.

【0060】本実施形態においては、300dpiの露
光装置を作成したが、電極幅を変更することで、任意の
大きさの発光点を得ることが可能であり、1400dp
iの露光装置も作成できる。
In this embodiment, an exposure apparatus of 300 dpi was prepared, but a light emitting point of an arbitrary size can be obtained by changing the electrode width.
An exposure apparatus of i can also be created.

【0061】以上説明したように、本発明の第1の実施
形態の露光装置においては、露光装置としての光量増大
と、および波長幅を狭くすることにより発光光量の効率
的利用することができる。また、本実施形態の露光装置
を用いた画像形成装置は露光装置の光量増大と光量効率
利用による潜像形成の増速、ひいては画像形成自体の増
速が可能となる。
As described above, in the exposure apparatus according to the first embodiment of the present invention, the amount of emitted light can be efficiently used by increasing the amount of light as the exposure apparatus and narrowing the wavelength width. Further, the image forming apparatus using the exposure apparatus of the present embodiment can increase the amount of light of the exposure apparatus and increase the speed of latent image formation by utilizing the efficiency of the amount of light, and thus the speed of image formation itself.

【0062】[第2の実施形態]以下より本発明の第2
の実施形態を図6に基づいて説明する。
[Second Embodiment] The second embodiment of the present invention will be described below.
The embodiment will be described with reference to FIG.

【0063】本実施形態の露光装置は、第1の実施形態
に比して、ロッドレンズアレイに有機LEDアレイ部が
密着したものであり、有機LEDアレイ部の構成、作成
工程、および露光装置が用いられる画像形成装置につい
ては第1の実施形態と同様であり、説明を省略する。
The exposure apparatus of this embodiment is different from the first embodiment in that the organic LED array section is in close contact with the rod lens array. The used image forming apparatus is the same as that of the first embodiment, and the description is omitted.

【0064】図6は露光装置230と露光装置230が
露光する像担持体である感光ドラム202の断面図であ
る。
FIG. 6 is a cross-sectional view of the exposure device 230 and the photosensitive drum 202 as an image carrier to which the exposure device 230 exposes.

【0065】図6において有機LEDアレイ部204に
は複数の発光部を紙面垂直方向に略直線状に並べた発光
素子列部204aが備えられている。この発光素子列部
204aは第1の実施形態と同様である。また、発光素
子列部204aの列方向は円柱状の感光ドラム202の
回転軸と平行であり、発光素子列部204aと感光ドラ
ム202との間には多数のロッドレンズを有機LEDア
レイ部204上の発光素子列部204aの列方向と略平
行に並べた、第1の実施形態と同様なロッドレンズアレ
イ203がある。ここで、発光素子列部204aから発
散させられる光束は、ロッドレンズアレイ203側に出
射されるよう構成されている。また、有機LEDアレイ
部204の内部にはイオン交換法により製造されるマイ
クロレンズ1222が発光素子に1対1で対応する数だ
けある。
In FIG. 6, the organic LED array section 204 is provided with a light emitting element array section 204a in which a plurality of light emitting sections are arranged substantially linearly in a direction perpendicular to the paper surface. The light emitting element array section 204a is the same as in the first embodiment. The row direction of the light emitting element array section 204a is parallel to the rotation axis of the columnar photosensitive drum 202, and a number of rod lenses are provided between the light emitting element array section 204a and the photosensitive drum 202 on the organic LED array section 204. The rod lens array 203 similar to the first embodiment is arranged substantially in parallel with the row direction of the light emitting element row portions 204a. Here, the luminous flux emitted from the light emitting element array section 204a is configured to be emitted to the rod lens array 203 side. Also, inside the organic LED array section 204, there are a number of microlenses 1222 manufactured by ion exchange corresponding to the light emitting elements on a one-to-one basis.

【0066】また露光装置230において、有機LED
アレイ部204上には、発光素子列部204aの他に各
発光素子を駆動させる図示されないドライバー部などが
形成されている。そしてそれらの電気的駆動部を外部の
水分などから保護するべく、封止部251が有機LED
アレイの発光素子列部204a側に設けられている。そ
して、ロッドレンズアレイ203は、洩れ光を防止する
カバー206に接着させられており、ロッドレンズアレ
イ203と基板側保持部材252とがEL素子基板20
4を挟みつつ板バネ部材253で挟持させられる。これ
で有機LEDアレイ部204とロッドレンズアレイ20
3が密着して固定される。
In the exposure apparatus 230, an organic LED
On the array section 204, a driver section (not shown) for driving each light emitting element is formed in addition to the light emitting element row section 204a. In order to protect those electric driving units from external moisture, the sealing unit 251 is an organic LED.
It is provided on the light emitting element column portion 204a side of the array. The rod lens array 203 is adhered to a cover 206 for preventing light from leaking, and the rod lens array 203 and the substrate-side holding member 252 are connected to the EL element substrate 20.
4 is sandwiched by the leaf spring member 253. Thus, the organic LED array unit 204 and the rod lens array 20
3 are tightly fixed.

【0067】ここで、発光素子列部204aから出射さ
れた光はまず有機LEDアレイ部内部のマイクロレンズ
1222で集光され、マイクロレンズ1222から有機
LEDアレイ部の透明基板部を通りロッドレンズアレイ
203側に出射される。そしてロッドレンズアレイ20
3によって感光ドラム202上に結像される。
Here, the light emitted from the light emitting element array section 204a is first condensed by the micro lens 1222 inside the organic LED array section, and passes from the micro lens 1222 through the transparent substrate section of the organic LED array section to the rod lens array 203. Emitted to the side. And the rod lens array 20
3 forms an image on the photosensitive drum 202.

【0068】このような構成をとることで、第1の実施
形態の効果に加えて、露光装置構成の更なる簡便化、露
光装置の更なる小型化および露光装置の組立を更に容易
にできる。
By adopting such a configuration, in addition to the effects of the first embodiment, it is possible to further simplify the configuration of the exposure apparatus, to further reduce the size of the exposure apparatus, and to further easily assemble the exposure apparatus.

【0069】[第3の実施形態]本発明の第3の実施形
態を図7を用いて説明する。
[Third Embodiment] A third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0070】本実施形態においては第1、第2の実施形
態の露光装置において、有機LEDアレイ部のみが変更
されており、その他の説明については省略する。
In this embodiment, in the exposure apparatuses of the first and second embodiments, only the organic LED array section is changed, and other explanations are omitted.

【0071】図7は本実施形態の有機LEDアレイ部の
断面図である。
FIG. 7 is a sectional view of the organic LED array portion of the present embodiment.

【0072】ガラス基板2101上に設けられた半透明
反射層2177の上に各発光素子に対応した部分に凸レ
ンズ形状を有するマイクロレンズ2122が形成されて
おり、その上に、透明電極2102、正孔輸送層210
3、発光層を兼ねた電子輸送層2104、そして陰極2
105がそれぞれマイクロレンズの曲面の曲率に起因す
る曲率を有して積層されている有機LEDアレイ部であ
る。
A micro lens 2122 having a convex lens shape is formed on a portion corresponding to each light emitting element on a translucent reflective layer 2177 provided on a glass substrate 2101, and a transparent electrode 2102 and a hole are formed thereon. Transport layer 210
3. Electron transport layer 2104 also serving as light emitting layer, and cathode 2
Reference numeral 105 denotes an organic LED array unit which is stacked with a curvature caused by the curvature of the curved surface of the microlens.

【0073】まず、ガラス基板2101上のマイクロレ
ンズ2122の作成方法について説明する。
First, a method of forming the micro lens 2122 on the glass substrate 2101 will be described.

【0074】レンズを形成するための材料としては、通
常の紫外、遠紫外用レジストがあり、特にポリメチルメ
タクリレート系、PMIPK系、ポリグリシルメチルア
クリレート系、フェノールノボラック系等のポジ型遠紫
外用が、比較的低温で軟化して、集光レンズ形状を形成
しやすいので望ましい。
As a material for forming a lens, there are ordinary ultraviolet and far ultraviolet resists, and in particular, positive type deep ultraviolet resists such as polymethyl methacrylate, PMIPK, polyglycylmethyl acrylate and phenol novolak. However, it is desirable because it softens at a relatively low temperature and easily forms a condensing lens shape.

【0075】ガラス基板2101に上記したようなフォ
トレジストを塗布等の方法により積層し、フォトリソ法
により直径70μmで中心間隔が80μmになるよう
に、フォトレジスト層をリフトオフ法やドライエッチン
グ法等のパターン形成法を用いてパターニングする。
The above-mentioned photoresist is laminated on the glass substrate 2101 by a method such as coating or the like, and the photoresist layer is patterned by a photolithography method such as a lift-off method or a dry etching method such that the diameter is 70 μm and the center interval is 80 μm. Patterning is performed using a forming method.

【0076】このパターニングされたフォトレジストを
アニーリングによって、軟化、流動化させ、円弧状のマ
イクロレンズ2122を形成する。
The patterned photoresist is softened and fluidized by annealing to form an arc-shaped microlens 2122.

【0077】半透明反射層2177は第1の実施形態と
同様の条件でスパッタ法により同様の構成で形成した。
The translucent reflective layer 2177 was formed with the same configuration by sputtering under the same conditions as in the first embodiment.

【0078】また、前記マイクロレンズ2122に対応
するように、ライン幅50μm、ピッチ80μmの金属
マスクを被せてITOをスパッタ法により60nm形成
する。
Further, an ITO is formed to a thickness of 60 nm by a sputtering method so as to correspond to the microlens 2122 with a metal mask having a line width of 50 μm and a pitch of 80 μm.

【0079】次に第1の実施形態と同様に正孔輸送層2
103としてTPDを、電子輸送層2104としてAl
3 を順次真空蒸着法により蒸着する。
Next, similarly to the first embodiment, the hole transport layer 2
TPD as 103 and Al as the electron transport layer 2104
sequentially deposited by vacuum deposition q 3.

【0080】なお、蒸着時の真空度は2×10-6〜3×
10-6Torr(=2.66×10 -4〜3.99×10
-4Pa)である、製膜速度は0.2〜0.3nm/sと
した。
The degree of vacuum at the time of vapor deposition was 2 × 10-6~ 3x
10-6Torr (= 2.66 × 10 -Four~ 3.99 × 10
-FourPa), the film forming speed is 0.2 to 0.3 nm / s.
did.

【0081】最後に、ライン幅40μmの金属マスクを
ITOと直行するように被せ、陰極2105としてMg
とAgを10:1の蒸着速度比で共蒸着し、Mg/Ag
が10/1の合金を200nm形成する。このとき、製
膜速度は1nm/sとした。
Lastly, a metal mask having a line width of 40 μm was placed so as to be perpendicular to the ITO, and Mg was used as the cathode 2105.
And Ag are co-deposited at a deposition rate ratio of 10: 1 to obtain Mg / Ag
Form a 200 nm alloy of 10/1. At this time, the film forming speed was 1 nm / s.

【0082】このようにして得られた有機LEDアレイ
に第1の実施形態と同様駆動用ドライバを接続すること
で、電子写真用の露光装置をして用いることができる。
発光の様子などは第1の実施形態と同様である。
By connecting a driving driver to the organic LED array thus obtained as in the first embodiment, the organic LED array can be used as an exposure apparatus for electrophotography.
The state of light emission is the same as in the first embodiment.

【0083】基板上のマイクロレンズは実施形態に挙げ
たものだけに限定されるものではなく、有機LEDから
の発光を集光できるものであればいかなるマイクロレン
ズでも構わない。
The microlenses on the substrate are not limited to those described in the embodiment, but may be any microlenses that can collect light emitted from the organic LED.

【0084】また、基板はガラスに限定されるものでは
なく、樹脂フィルム等の有機LED、マイクロレンズ、
半透明反射層を表面に構成できるものであればいかなる
基板でも構わない。
The substrate is not limited to glass, but may be an organic LED such as a resin film, a micro lens, or the like.
Any substrate may be used as long as the translucent reflective layer can be formed on the surface.

【0085】このように有機LEDアレイにフォトリソ
法を用いたマイクロレンズと光共振器構造を持たせるこ
とにより、短時間で形成でき、低電力で高精細な画像が
得られる光プリンタヘッドの実現が可能となった。
As described above, by providing the organic LED array with the microlens and the optical resonator structure using the photolithography method, an optical printer head which can be formed in a short time and which can obtain a high-definition image with low power can be realized. It has become possible.

【0086】[第4の実施形態]本発明の第4の実施形
態を図8および図9を用いて説明する。
[Fourth Embodiment] A fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0087】本実施形態においては第1、第2の実施形
態の露光装置において、有機LEDアレイ部のみが変更
されており、その他の説明については省略する。
In this embodiment, in the exposure apparatuses of the first and second embodiments, only the organic LED array section is changed, and other explanations are omitted.

【0088】図8は本実施形態の有機LEDアレイ部の
断面図である。
FIG. 8 is a sectional view of the organic LED array portion of the present embodiment.

【0089】ガラス基板3101上に各発光素子に対応
した部分に凸レンズ形状を有するマイクロレンズ312
2が形成されており、ガラス基板3101に対してマイ
クロレンズ3122と反対側の面に半透明反射層317
7、透明電極3102、正孔輸送層3103、発光層を
兼ねた電子輸送層3104、そして陰極3105が積層
されている。
A micro lens 312 having a convex lens shape at a portion corresponding to each light emitting element on a glass substrate 3101
2 is formed, and a semitransparent reflective layer 317 is formed on the surface of the glass substrate 3101 opposite to the microlens 3122.
7, a transparent electrode 3102, a hole transport layer 3103, an electron transport layer 3104 also serving as a light emitting layer, and a cathode 3105.

【0090】まず、ガラス基板3102上のマイクロレ
ンズ3122の作成方法について図9を用いて説明す
る。
First, a method of forming the micro lens 3122 on the glass substrate 3102 will be described with reference to FIG.

【0091】マイクロレンズ3122はレプリカ法(金
属や樹脂などによる型を用いて、ガラス若しくはアクリ
ル等の樹脂でレンズを形成し、型からガラス上に転写し
て形成する方法)により開口部の直径が75μm、中心
間隔が80μmのアレイを形成する。ガラス基板として
は、マイクロレンズの焦点距離よりも厚いものを用い
た。これは光量を効率的に得るためである。
The diameter of the opening of the microlens 3122 is determined by a replica method (a method in which a lens is formed from a resin such as glass or acrylic using a mold made of metal or resin and transferred from the mold onto glass). An array with 75 μm and a center interval of 80 μm is formed. A glass substrate having a thickness larger than the focal length of the microlens was used. This is to obtain the light amount efficiently.

【0092】マイクロレンズを形成した面と反対側の面
に、第1の実施形態と同様に半透明反射層を形成する。
On the surface opposite to the surface on which the microlenses are formed, a translucent reflection layer is formed as in the first embodiment.

【0093】次に、その上にマイクロレンズ3122に
対応するように、ライン幅50μm、ピッチ80μmの
金属マスクを被せてITOをスパッタ法により60nm
形成する。
Next, a metal mask having a line width of 50 μm and a pitch of 80 μm is put thereon so as to correspond to the microlenses 3122, and ITO is sputtered to a thickness of 60 nm.
Form.

【0094】次に第1の実施形態と同様に正孔輸送層3
103としてTPDを、電子輸送層3104としてAl
3 を順次真空蒸着法により蒸着する。
Next, as in the first embodiment, the hole transport layer 3
TPD as 103 and Al as the electron transport layer 3104
sequentially deposited by vacuum deposition q 3.

【0095】最後に、ライン幅40μmの金属マスクを
ITOと直行するように被せ、陰極3105としてMg
とAgを10:1の蒸着速度比で共蒸着し、Mg/Ag
が10/1の合金を200nm形成する。このとき、製
膜速度は1nm/sとした。
Lastly, a metal mask having a line width of 40 μm was placed so as to be perpendicular to the ITO, and Mg was used as the cathode 3105.
And Ag are co-deposited at a deposition rate ratio of 10: 1 to obtain Mg / Ag
Form a 200 nm alloy of 10/1. At this time, the film forming speed was 1 nm / s.

【0096】このようにして得られた有機LEDアレイ
に第1の実施形態と同様駆動用ドライバを接続すること
で、電子写真用の露光装置をして用いることができる。
発光の様子などは第1の実施形態と同様であった。
By connecting a driving driver to the organic LED array thus obtained in the same manner as in the first embodiment, it can be used as an exposure apparatus for electrophotography.
The state of light emission was the same as in the first embodiment.

【0097】基板上のマイクロレンズは実施形態に挙げ
たものだけに限定されるものではなく、有機LEDから
の発光を集光できるものであればいかなるマイクロレン
ズでも構わない。
The microlenses on the substrate are not limited to those described in the embodiment, and may be any microlenses that can collect light emitted from the organic LED.

【0098】また、基板はガラスに限定されるものでは
なく、樹脂フィルム等の有機LED、マイクロレンズ、
半透明反射層を表面に構成できるものであればいかなる
基板でも構わない。
The substrate is not limited to glass, but may be an organic LED such as a resin film, a micro lens, or the like.
Any substrate may be used as long as the translucent reflective layer can be formed on the surface.

【0099】このように有機LEDアレイにレプリカ法
によるマイクロレンズと光共振器構造を持たせることに
より、より簡便で短時間に形成できる低電力で高精細な
画像が得られる光プリンタヘッドの実現が可能となっ
た。
As described above, by providing the organic LED array with the microlens and the optical resonator structure by the replica method, it is possible to realize an optical printer head capable of forming a simpler, shorter-time, lower-power and higher-definition image. It has become possible.

【0100】[0100]

【発明の効果】以上述べてきたように、本発明の露光装
置では、光量増大が可能となる。
As described above, in the exposure apparatus of the present invention, the light amount can be increased.

【0101】また、本発明の露光装置を画像形成装置に
用いることで、画像形成の増速を可能とする。
Further, by using the exposure apparatus of the present invention in an image forming apparatus, the speed of image formation can be increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態の露光装置と像担持体
の断面図である。
FIG. 1 is a sectional view of an exposure apparatus and an image carrier according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施形態の有機LEDアレイの
斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view of the organic LED array according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1の実施形態に用いるロッドレンズ
アレイを説明する図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating a rod lens array used in the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第1の実施形態の露光装置を組み込ん
だ画像形成装置の例を示す図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating an example of an image forming apparatus incorporating the exposure apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第1の実施形態の有機LEDアレイの
作成工程図である。
FIG. 5 is a drawing showing a manufacturing process of the organic LED array according to the first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第2の実施形態の露光装置と像担持体
の断面図である。
FIG. 6 is a sectional view of an exposure apparatus and an image carrier according to a second embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第3の実施形態の有機LEDアレイの
斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view of an organic LED array according to a third embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第4の実施形態の有機LEDアレイの
斜視図である。
FIG. 8 is a perspective view of an organic LED array according to a fourth embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第5の実施形態の有機LEDアレイの
作成工程図である。
FIG. 9 is a diagram illustrating a process of producing an organic LED array according to a fifth embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2,202 像担持体 3,203 ロッドレンズアレイ 4,204 有機LEDアレイ部 1102,2102,3102 透明電極(陽極) 1103,2103,3103 正孔輸送層 1104,2104,3104 電子輸送層 1105,2105,3105 金属電極(陰極) 1177,2177,3177 半透明反射層 1122,1222,2122,3122,4122
マイクロレンズ部
2,202 Image carrier 3,203 Rod lens array 4,204 Organic LED array section 1102, 2102, 3102 Transparent electrode (anode) 1103, 2103, 3103 Hole transport layer 1104, 2104, 3104 Electron transport layer 1105, 2105 3105 Metal electrode (cathode) 1177, 2177, 3177 Translucent reflective layer 1122, 1222, 2122, 3122, 4122
Micro lens part

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の発光素子を並べた発光素子列を同
一の基材上に形成した発光素子基板と、各発光素子から
発散される光束を像担持体上に結像するロッドレンズア
レイとを備えた露光装置において、発光素子基板は透明
絶縁性基材であり、かつ前記透明絶縁性基材に複数のマ
イクロレンズより成るマイクロレンズアレイを有するこ
とを特徴とする露光装置。
1. A light-emitting element substrate in which a plurality of light-emitting elements are arranged on the same base material and a rod lens array that forms a light beam emitted from each light-emitting element on an image carrier. Wherein the light-emitting element substrate is a transparent insulating substrate, and the transparent insulating substrate has a microlens array including a plurality of microlenses.
【請求項2】 前記透明絶縁性基材上において、前記発
光素子列を少なくとも透明導電層、有機層、電極により
構成した有機LEDアレイとすることを特徴とする請求
項1に記載の露光装置。
2. The exposure apparatus according to claim 1, wherein the light-emitting element array is an organic LED array composed of at least a transparent conductive layer, an organic layer, and electrodes on the transparent insulating substrate.
【請求項3】 前記透明絶縁性基材上において、前記有
機LEDアレイ部を少なくとも半透明反射層、透明導電
層、有機層、電極により構成し、かつ前記半透明反射層
と前記電極の間の構成が微小光共振器として作用するこ
とを特徴とする請求項2に記載の露光装置。
3. The organic LED array section is composed of at least a translucent reflective layer, a transparent conductive layer, an organic layer, and an electrode on the transparent insulating substrate, and is provided between the translucent reflective layer and the electrode. 3. The exposure apparatus according to claim 2, wherein the configuration functions as a micro optical resonator.
【請求項4】 前記マイクロレンズアレイのマイクロレ
ンズは、各発光素子と1対1対応であることを特徴とす
る請求項1乃至3のいずれか1項に記載の露光装置。
4. The exposure apparatus according to claim 1, wherein the microlenses of the microlens array have a one-to-one correspondence with each light emitting element.
【請求項5】 前記マイクロレンズアレイのマイクロレ
ンズの開口部面積は各発光素子の発光部の面積より大き
いことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記
載の露光装置。
5. The exposure apparatus according to claim 1, wherein an opening area of the micro lens of the micro lens array is larger than an area of a light emitting unit of each light emitting element.
【請求項6】 前記マイクロレンズアレイのマイクロレ
ンズは、各発光素子に対応する部分の前記透明絶縁性基
材をイオン交換することにより形成されたものであるこ
とを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の
露光装置。
6. The microlens of the microlens array is formed by ion-exchanging a portion of the transparent insulating substrate corresponding to each light emitting element. The exposure apparatus according to any one of the above items.
【請求項7】 前記マイクロレンズアレイのマイクロレ
ンズは、各発光素子に対応して凸レンズ形状を有するマ
イクロレンズであることを特徴とする請求項1乃至5の
いずれか1項に記載の露光装置。
7. The exposure apparatus according to claim 1, wherein the microlenses of the microlens array are microlenses having a convex lens shape corresponding to each light emitting element.
【請求項8】 前記マイクロレンズアレイのマイクロレ
ンズは、前記透明絶縁性基材の前記発光素子列が形成さ
れる面と同一の面上に形成されていることを特徴とする
請求項1乃至7のいずれか1項に記載の露光装置。
8. The microlens of the microlens array is formed on the same surface of the transparent insulating substrate as the surface on which the light emitting element rows are formed. The exposure apparatus according to any one of the above items.
【請求項9】 前記マイクロレンズは、前記透明絶縁性
基材の前記発光素子列が形成される面に対向する面上に
形成されていることを特徴とする請求項1乃至7のいず
れか1項に記載の露光装置。
9. The transparent lens according to claim 1, wherein the microlenses are formed on a surface of the transparent insulating substrate opposite to a surface on which the light emitting element rows are formed. Exposure apparatus according to Item.
【請求項10】 像担持体と、前記発光素子列の配列方
向が前記像担持体の回転方向に直交する方向となるよう
に配置された光源としての請求項1乃至9のいずれか1
項に記載の露光装置とを備え、前記発光素子列から射出
された光束を前記ロッドレンズアレイにより結像し、該
結像された光束を前記像担持体上に露光することによっ
て顕像化する電子写真式の画像形成装置。
10. The light source according to claim 1, wherein the light source is arranged so that an arrangement direction of the image carrier and the light emitting element array is a direction orthogonal to a rotation direction of the image carrier.
The light beam emitted from the light emitting element array is imaged by the rod lens array, and the imaged light beam is exposed on the image carrier to be visualized. Electrophotographic image forming apparatus.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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