JP2002008556A - Color picture tube - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、地磁気や外部から
の磁気等によって影響される、電子ビームの他色打ち余
裕度を拡大したカラー受像管に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color picture tube which has an increased margin for other color hits of an electron beam, which is affected by geomagnetism or external magnetism.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般にカラー受像管は、ガラス製のフェ
ースパネルと、このフェースパネルに接合されたガラス
製の漏斗状のファンネル、及びこのファンネルの径小端
に連接された、同じくガラス製の円筒状のネックからな
る外囲器を有し、そのネック端部にステムが溶着されて
いる。2. Description of the Related Art In general, a color picture tube comprises a glass face panel, a glass funnel-shaped funnel joined to the face panel, and a glass cylinder connected to a small end of the funnel. It has an envelope consisting of a neck with a stem, and a stem is welded to the end of the neck.
【0003】そして、そのネック内に配置された電子銃
から放出される3電子ビームを、ファンネルの外側に装
着された偏向ヨークによって偏向し、シャドウマスクを
介してフェースパネルの内面に設けられた蛍光体スクリ
ーンを、水平及び垂直方向に走査することによって、カ
ラー画像を表示する構成となっている。[0003] Then, three electron beams emitted from an electron gun arranged in the neck are deflected by a deflection yoke mounted on the outside of the funnel, and a fluorescent light provided on the inner surface of the face panel via a shadow mask. A color image is displayed by scanning the body screen in the horizontal and vertical directions.
【0004】即ち、図3に示すように、ガラス材からな
る略矩形状のフェースパネル31に、フリットガラスを
介して溶着されるガラス材からなる漏斗状のファンネル
32を有し、このファンネル32のネック33内には、
赤(R)、青(B)、緑(G)用の3電子ビーム34を
放出する電子銃35が、ネック33に溶着されるステム
36に取着されている。That is, as shown in FIG. 3, a funnel 32 made of a glass material and welded through a frit glass is provided on a substantially rectangular face panel 31 made of a glass material. In the neck 33,
An electron gun 35 that emits three electron beams 34 for red (R), blue (B), and green (G) is attached to a stem 36 that is welded to a neck 33.
【0005】この電子銃35から放出される電子ビーム
34は、ファンネル32の外側に装着された偏向ヨーク
37によって偏向され、フェースパネル31の内壁に取
着されたフレーム38に固定されているシャドウマスク
39を介して、フェースパネル31の内面に形成された
R,G,Bの3色蛍光体スクリーン40に射突されて、
カラー画像を表示するように構成されている。[0005] An electron beam 34 emitted from the electron gun 35 is deflected by a deflection yoke 37 mounted outside the funnel 32, and is fixed to a frame 38 mounted on the inner wall of the face panel 31. Through 39, it is projected on the R, G, B three-color phosphor screen 40 formed on the inner surface of the face panel 31,
It is configured to display a color image.
【0006】このシャドウマスク39は、低炭素圧延鋼
板や、鉄・ニッケル合金等の低熱膨張材からなるマスク
本体41を有し、このマスク本体41には、水平方向
(MPh)及び垂直方向(MPv)に所定のピッチ(M
P)で、複数の電子ビーム通過孔42がフォトエッチン
グ法等を用いて穿設されている。The shadow mask 39 has a mask body 41 made of a low-carbon-rolled steel sheet or a low-thermal-expansion material such as an iron-nickel alloy. The mask body 41 has a horizontal direction (MPh) and a vertical direction (MPv). ) At a predetermined pitch (M
In P), a plurality of electron beam passage holes 42 are formed by using a photo etching method or the like.
【0007】このシャドウマスク39は、3色蛍光体ス
クリーン40をフェースパネル31内面に形成する露光
工程でも、フォトマスクとして利用され、また動作時に
は、発光させるべき所定の蛍光体スクリーン40に、電
子ビーム34を射突させるための色選別機能も有してい
る。The shadow mask 39 is also used as a photomask in an exposure process for forming a three-color phosphor screen 40 on the inner surface of the face panel 31. In operation, a predetermined phosphor screen 40 to be illuminated with an electron beam It also has a color selection function for causing the projection 34 to strike.
【0008】そして、シャドウマスク39は、水平軸も
しくは垂直軸に沿って、その中心部及び有効径の外側方
向に至っても、隣接する電子ビーム通過孔42同士の孔
径が、シャドウマスク39の全面にわたって略均一に形
成されるのが一般的である。場合によっては、中心部と
周辺コーナー部分との孔径に、若干差をもたせることが
あるが、その場合であっても、所定の単一小面積内での
電子ビーム通過孔42の孔径には、殆ど差が生じないの
で、この場合であっても、孔径は均一と見なされてい
る。[0008] Even if the shadow mask 39 extends along the horizontal axis or the vertical axis toward the center and outward of the effective diameter, the diameters of the adjacent electron beam passage holes 42 are limited over the entire surface of the shadow mask 39. Generally, they are formed substantially uniformly. In some cases, there may be a slight difference in the hole diameter between the central portion and the peripheral corner portion, but even in such a case, the hole diameter of the electron beam passage hole 42 within a predetermined single small area includes: Even in this case, the pore size is considered to be uniform since there is little difference.
【0009】また、電子ビーム通過孔42の配列は、M
Ph及びMPvの関数からなる数式によって設定される
のが一般的で、解像度の種類によって使用する用途が振
り分けられている。例えば、最近のパーソナルコンピュ
ータのモニター用としては、大まかに0.26MP及び
0.28MPの2種類が採用されており、更に、このモ
ニター用カラー受像管のシャドウマスク39のMPv
は、一般的な設計値としては、MPv=250μm程度
に設定される。また、偏向ヨーク37に供給される偏向
周波数も、水平偏向周波数31.5KHZ〜94KHZ
までを一台のパーソナルコンピュータで処理するマルチ
スキャン方式が主流となっている。The arrangement of the electron beam passage holes 42 is M
It is generally set by a mathematical expression composed of functions of Ph and MPv, and uses to be used are classified according to the type of resolution. For example, for a monitor of a recent personal computer, roughly two types of 0.26MP and 0.28MP are adopted. Further, the MPv of the shadow mask 39 of the color picture tube for the monitor is used.
Is set as MPv = about 250 μm as a general design value. The deflection frequency supplied to the deflection yoke 37 is also 31.5 KHz to 94 KHz.
The multi-scan method in which the processing is performed by a single personal computer has become mainstream.
【0010】この場合のモニター側の走査線は、600
本〜1200本までの範囲内で容易に変更が可能であ
り、その使用する偏向周波数によって、モニター画面上
で見え方が変わる後述のモアレ特性等は、カラー受像管
の発光した蛍光体スクリーン40の色同士の、垂直方向
の位置関係(Pv)によって左右される。In this case, the scanning line on the monitor side is 600
It can be easily changed within the range from 1 to 1200 lines, and the moiré characteristics and the like, which will be seen on the monitor screen depending on the used deflection frequency, are determined by the color of the phosphor screen 40 which emits light from the color picture tube. It depends on the vertical positional relationship (Pv) between the colors.
【0011】一方、シャドウマスク39を通過した電子
ビーム34は、蛍光体スクリーン40に射突する。この
蛍光体スクリーン40は、R,G,Bの3色蛍光体ドッ
ト43が水平方向(Ph)及び垂直方向(Pv)に、所
定のピッチ(P)で配列されており、各蛍光体ドット4
3間は、黒色の光吸収層44にて覆われている。On the other hand, the electron beam 34 that has passed through the shadow mask 39 strikes the phosphor screen 40. In the phosphor screen 40, three-color phosphor dots 43 of R, G, and B are arranged in a horizontal direction (Ph) and a vertical direction (Pv) at a predetermined pitch (P).
The three spaces are covered with a black light absorbing layer 44.
【0012】このフェースパネル31内面に形成された
蛍光体ドット43のPvは、上記シャドウマスク39と
蛍光体スクリーン40間が所定の間隔を有して配置され
ているために、露光過程で利用されるシャドウマスク3
9のMPvよりも拡大された、略260μmのPv値と
なっている。The Pv of the phosphor dots 43 formed on the inner surface of the face panel 31 is used in the exposure process because the shadow mask 39 and the phosphor screen 40 are arranged at a predetermined interval. Shadow mask 3
The Pv value is about 260 μm, which is larger than the MPv of No. 9.
【0013】ところで前述のモアレ特性とは、電子ビー
ム34が偏向ヨーク37によって偏向されるときに、例
えば、偏向する偏向周波数によって、走査線と走査線間
で起こる輝度分布と、シャドウマスク39を通過した電
子ビーム34が、フェースパネル31内面に形成されて
いる蛍光体スクリーン40を打ち、Pvによって総合さ
れた発光輝度が引起す画面上の輝度ムラをいい、実際の
画面上では、帯状の濃淡縞となって見えることになる。By the way, when the electron beam 34 is deflected by the deflection yoke 37, for example, the moiré characteristic means that the brightness distribution between scanning lines and the brightness distribution that occur between the scanning lines and the shadow mask 39 depend on the deflection frequency. The electron beam 34 hits the phosphor screen 40 formed on the inner surface of the face panel 31, and refers to luminance unevenness on the screen caused by the emission luminance integrated by Pv. Will look like
【0014】そして、モアレ特性は、駆動させるモニタ
ーとのマッチングによっても影響されるので、最初に仕
様が設定されたカラー受像管に基づいて、モニター等を
設計した場合には、この設計の段階でモアレ特性が決ま
ってしまう場合が多く、仮に、Pvの異なるカラー受像
管を、同じモニターに中途採用する場合等では、モアレ
特性の劣化を招く危険性があり、このために、現実的に
はモニター側で途中段階での設計変更は行えず、この場
合には、採用するカラー受像管に対応して、モニター側
を新規に設計し直すことで、対処することを余儀なくさ
れている。Since the moiré characteristic is also affected by the matching with the monitor to be driven, if a monitor or the like is designed based on a color picture tube for which specifications have been set first, the moiré characteristics will be affected at this design stage. In many cases, the moiré characteristics are determined. If, for example, color picture tubes with different Pvs are used in the same monitor halfway, there is a risk that the moiré characteristics may be degraded. The design cannot be changed in the middle stage on the side, and in this case, it is necessary to cope with this by redesigning the monitor side corresponding to the color picture tube to be adopted.
【0015】ここで、前記蛍光体スクリーン40の一部
を拡大して示す図4を参照して、更に詳細に説明する。Here, a more detailed description will be given with reference to FIG. 4 which shows a part of the phosphor screen 40 in an enlarged manner.
【0016】いまPvを一定とした場合、上下左右にお
ける各蛍光体ドット43同士の間隔は、蛍光体ドット4
3のドットサイズによって変化し、図中破線で示す直径
R1の、ある一つの電子ビーム34(図4では、図中実
線で示す直径R2のRのドットを打っている場合を示
す)が、このRのドットと互いに上下左右に隣接してい
る他の色の蛍光体ドット43(G,B)を打つまでの距
離La〜Lfを他色打ち余裕度Lとすると、この他色打
ち余裕度Lはシャドウマスク39の電子ビーム通過孔4
2を通ってフェースパネル31内面に形成された蛍光体
スクリーン40に映し出される電子ビーム34のサイズ
R1と、前述したドット43のサイズR2によって決め
られる。If Pv is constant, the distance between the phosphor dots 43 in the vertical, horizontal, and vertical directions is
3, one electron beam 34 having a diameter R1 indicated by a broken line in the drawing (in FIG. 4, a case where an R dot having a diameter R2 indicated by a solid line in the drawing is shown) is generated. Assuming that the distance La to Lf until the phosphor dot 43 (G, B) of the other color adjacent to the dot of R is vertically and horizontally adjacent to each other, the other color hitting margin L is defined as the other color hitting margin L. Is the electron beam passage hole 4 of the shadow mask 39
2, the size R1 of the electron beam 34 projected on the phosphor screen 40 formed on the inner surface of the face panel 31 and the size R2 of the dot 43 described above.
【0017】そして、その他色打ち余裕度Lに絡む電子
ビーム34は、地球の自然磁場(地磁気)及びモニター
電源や高圧回路等から発生する磁場等により、少なから
ずとも影響を受け、その電子ビーム34の位置状態によ
って、目的外である他の色のドット43までもたたいて
しまうことによって発生する色ズレの発生確率が変動す
る。The electron beam 34 involved in the color margin L is at least affected by the natural magnetic field (geomagnetism) of the earth and the magnetic field generated from a monitor power supply, a high-voltage circuit, and the like. , The probability of occurrence of color misregistration caused by hitting the dot 43 of another color that is not the target varies.
【0018】更に、近年、高輝度化(高電流化)が進ん
でいることや、パーソナルコンピュータ等のソフトウェ
アの発達により、カラー受像管の画面を白色画面として
利用する機会が多くなっている。このような状況下でカ
ラー受像管を動作させた場合には、シャドウマスク39
の電子ビーム通過孔42を通って蛍光体スクリーン40
に到達する電子ビーム34は、途中でシャドウマスク3
9のマスク本体41に衝突してしまうために、電子銃3
5から放出される電子ビーム34の1/3以下となって
いる。Furthermore, in recent years, with the progress of higher luminance (higher current) and the development of software such as personal computers, there are more opportunities to use the screen of a color picture tube as a white screen. When the color picture tube is operated in such a situation, the shadow mask 39
Screen 40 through the electron beam passage hole 42
Reaches the shadow mask 3 on the way.
9 collides with the mask body 41 of the
5 is 1/3 or less of the electron beam 34 emitted from the electron beam 5.
【0019】この結果、この電子ビーム34の衝突によ
ってマスク本体41が加熱されて、蛍光体スクリーン4
0方向に膨出するマスクドーミング(所謂ピュリティド
リフト)が発生し、このマスクドーミングも無視できな
い状況となり、このマスクドーミングも、また色ズレの
要因となっている。As a result, the mask body 41 is heated by the collision of the electron beam 34 and the phosphor screen 4 is heated.
Mask doming swelling in the zero direction (so-called purity drift) occurs, and this mask doming cannot be ignored, and this mask doming also causes a color shift.
【0020】このような状況のもとで、他色打ち余裕度
Lを向上させるためには、ドット43サイズや電子ビー
ム34のサイズを小さくしたり、あるいはシャドウマス
ク39のMPv及びMPhを変えて、他の色を打つまで
の距離La〜Lfを拡大する等の対応方法が考えられる
が、前述したようにPvの変更は、モニターの再設計が
伴うことや、ドット43サイズや電子ビーム34のサイ
ズを小さくすることは、発光輝度の減少につながるため
に、一定の輝度を確保するためにはビーム電流を増加さ
せるしか対応方法がなく、このために結果的にピュリテ
ィドリフトが増大してしまうことになる。Under these circumstances, in order to improve the margin L for other color printing, the size of the dot 43 or the size of the electron beam 34 is reduced, or the MPv and MPh of the shadow mask 39 are changed. A possible method is to increase the distance La to Lf before hitting another color. However, as described above, the change in Pv involves redesign of the monitor, the size of the dot 43 and the size of the electron beam 34. Since reducing the size leads to a decrease in the emission luminance, the only way to secure a constant luminance is to increase the beam current, which results in an increase in purity drift. become.
【0021】[0021]
【発明が解決しようとする課題】前述のように、地磁気
及びモニター電源から発生する磁場等により、カラー受
像管内の電子銃から発せられる電子ビームが、その磁場
によって影響を受けて所定の色からずれ、隣り合う色違
いのドットに電子ビームがあたり、色ズレが発生し画像
品位を低下させていた。As described above, the electron beam emitted from the electron gun in the color picture tube is deviated from a predetermined color by the magnetic field due to the terrestrial magnetism and the magnetic field generated from the monitor power supply. In addition, an electron beam hits adjacent dots of different colors, causing a color shift and deteriorating image quality.
【0022】本発明は、このような課題に対処してなさ
れたものであり、シャドウマスクの隣接する電子ビーム
通過孔同士のいずれか、より具体的には、シャドウマス
クの電子ビーム通過孔の孔径を、偶数列と奇数列で、偶
数列>奇数列、もしくは偶数列<奇数列とすることで、
Pvを変えずに上下に隣り合う蛍光体ドット同士の間隔
La〜Lfを増やすことができ、磁場によりカラー受像
管内の電子銃から放出される電子ビームが影響を受けて
も、目的外の他の色を打つまでの余裕度Lを向上させ
て、結果的に、色ズレの防止が図れるカラー受像管を提
供するものである。The present invention has been made in view of such a problem, and has been made in consideration of any one of the adjacent electron beam passing holes of the shadow mask, more specifically, the diameter of the electron beam passing hole of the shadow mask. Is an even column and an odd column, so that even column> odd column or even column <odd column,
The distance La to Lf between the vertically adjacent phosphor dots can be increased without changing Pv, and even if the electron beam emitted from the electron gun in the color picture tube is affected by the magnetic field, other unintended objects can be obtained. An object of the present invention is to provide a color picture tube capable of improving a margin L before hitting a color, thereby preventing color misregistration.
【0023】[0023]
【課題を解決するための手段】本発明は、矩形状のフェ
ースパネルと、このフェースパネルに連接して設けられ
たファンネルと、前記フェースパネルの内面に形成され
た3色蛍光体スクリーンと、この蛍光体スクリーンと所
定の間隔をもって対峙する前記フェースパネル内に配置
されたシャドウマスクと、このシャドウマスクを通過
し、前記蛍光体スクリーンに射突する電子ビームを放出
する前記ファンネル内に配置された電子銃とを具備し、
前記シャドウマスクには、電子ビームを通過させるため
の複数の電子ビーム通過孔を設け、隣接する周囲の電子
ビーム通過孔同士の少なく共1箇所の電子ビーム通過孔
の孔径を異ならせて配置したことを特徴とするカラー受
像管である。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a rectangular face panel, a funnel connected to the face panel, a three-color phosphor screen formed on the inner surface of the face panel, and A shadow mask disposed in the face panel facing the phosphor screen at a predetermined interval; and electrons arranged in the funnel that emits an electron beam that passes through the shadow mask and strikes the phosphor screen. Equipped with a gun,
The shadow mask is provided with a plurality of electron beam passage holes for passing an electron beam, and at least one of the adjacent electron beam passage holes is arranged so that the diameter of at least one electron beam passage hole is different. Is a color picture tube.
【0024】また、前記電子ビーム通過孔は、上下方向
に隣り合う電子ビーム通過孔同士で、その孔径を異なら
せたこと、あるいは、各列方向では同一の孔径とし、且
つ奇数列と偶数列間で夫々孔径を異ならせたことを特徴
とする。The electron beam passage holes may have different diameters between electron beam passage holes adjacent to each other in the vertical direction, or have the same hole diameter in each column direction, and have the same diameter between the odd and even rows. The hole diameters are different from each other.
【0025】このように構成することで、フェースパネ
ル内面に形成される3色蛍光体の、隣り合う蛍光体ドッ
ト同士の間隔Pvを変えずに増加させることによって、
他色打ち余裕度Lを大きくし、磁場から影響される色ズ
レを防止することができるカラー受像管を提供すること
ができるものである。With this configuration, the distance Pv between adjacent phosphor dots of the three-color phosphor formed on the inner surface of the face panel can be increased without changing the distance.
An object of the present invention is to provide a color picture tube that can increase the margin for other color L and prevent color shift affected by a magnetic field.
【0026】[0026]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0027】図1に、その一形態であるカラー受像管を
示す。このカラー受像管は、ガラス材からなる略矩形状
のフェースパネル11に、フリットガラスを介して溶着
されるガラス材からなる漏斗状のファンネル12を有
し、このファンネル12のネック13内には、赤
(R)、青(B)、緑(G)用の3電子ビーム14を放
出する電子銃15が、ネック13に溶着されるステム1
6に取着されている。FIG. 1 shows a color picture tube which is one embodiment of the present invention. This color picture tube has a funnel-shaped funnel 12 made of a glass material which is welded via frit glass to a substantially rectangular face panel 11 made of a glass material. An electron gun 15 that emits three electron beams 14 for red (R), blue (B), and green (G) has a stem 1 welded to a neck 13.
6 is attached.
【0028】この電子銃15から放出される電子ビーム
14は、ファンネル12の外側に装着された偏向ヨーク
17によって偏向され、フェースパネル11の内壁に取
着されたフレーム18に固定されているシャドウマスク
19を介して、フェースパネル11の内面に形成された
R,G,Bの3色蛍光体スクリーン20に射突されて、
カラー画像を表示するように構成されている。The electron beam 14 emitted from the electron gun 15 is deflected by a deflection yoke 17 mounted on the outside of the funnel 12 and fixed on a frame 18 mounted on the inner wall of the face panel 11. 19, it is projected on the R, G, B three-color phosphor screen 20 formed on the inner surface of the face panel 11,
It is configured to display a color image.
【0029】このシャドウマスク39は、板厚0.1m
m〜0.3mm程度のアルミキルド鋼等の低炭素圧延鋼
板や、鉄・ニッケル合金等の低熱膨張材からなるマスク
本体41に、水平方向(MPh)及び垂直方向(MP
v)に所定のピッチ(MP)で、複数の電子ビーム通過
孔42がフォトエッチング法等を用いて穿設されてい
る。The shadow mask 39 has a thickness of 0.1 m.
The horizontal (MPh) and vertical (MPh) directions are applied to a mask body 41 made of a low-carbon rolled steel sheet such as aluminum-killed steel having a diameter of about m to 0.3 mm or a low-thermal-expansion material such as an iron-nickel alloy.
In v), a plurality of electron beam passage holes 42 are formed at a predetermined pitch (MP) by using a photo-etching method or the like.
【0030】このシャドウマスク19の電子ビーム通過
孔22は、垂直方向に互いに所定の距離だけ離間して穿
設された、奇数列及び偶数列間でその孔径が変えられて
おり、例えば、偶数列の孔径>奇数列の孔径、もしくは
偶数列の孔径<奇数列の孔径となる関係に設定されてお
り、同じ列に属する電子ビーム通過孔22同士は、同じ
孔径に設定されている。The diameter of the electron beam passage hole 22 of the shadow mask 19 is changed between an odd-numbered row and an even-numbered row, and the hole diameter is changed, for example, in an even-numbered row. The hole diameter of the odd-numbered rows or the hole diameter of the even-numbered rows <the hole diameter of the odd-numbered rows is set, and the electron beam passage holes 22 belonging to the same row are set to the same diameter.
【0031】このシャドウマスク19は、3色蛍光体ス
クリーン20をフェースパネル11内面に形成する露光
工程でも、フォトマスクとして利用されており、また動
作時には、発光させるべき所定の蛍光体スクリーン20
に、電子ビーム14を射突させるための色選別機能も有
している。The shadow mask 19 is also used as a photomask in an exposure process for forming a three-color phosphor screen 20 on the inner surface of the face panel 11, and a predetermined phosphor screen 20 to emit light during operation.
In addition, it also has a color selection function for causing the electron beam 14 to strike.
【0032】このように形成されているシャドウマスク
19を通過した電子ビーム14は、蛍光体スクリーン2
0に射突する。この蛍光体スクリーン20は、R,G,
Bの3色蛍光体ドット23が水平方向(Ph)及び垂直
方向(Pv)に、所定のピッチ(P)で配列されてお
り、各蛍光体ドット23間は、黒色の光吸収層24にて
覆われている。The electron beam 14 having passed through the shadow mask 19 formed as described above is applied to the phosphor screen 2.
Fire at 0. This phosphor screen 20 has R, G,
The three-color phosphor dots 23 of B are arranged at a predetermined pitch (P) in the horizontal direction (Ph) and the vertical direction (Pv), and a black light absorbing layer 24 is provided between the phosphor dots 23. Covered.
【0033】この蛍光体ドット23は、前述のシャドウ
マスク19に設けられている電子ビーム通過孔22の孔
径に対応して、その面積が変えられており、シャドウマ
スク19の孔径に応じて、例えば偶数列のドット径>奇
数列のドット径、もしくは偶数列のドット径<奇数列の
ドット径の関係に設定される。The area of the phosphor dot 23 is changed in accordance with the diameter of the electron beam passage hole 22 provided in the above-described shadow mask 19. The dot diameter of the even-numbered rows> the dot diameter of the odd-numbered rows or the dot diameter of the even-numbered rows <the dot diameter of the odd-numbered rows is set.
【0034】この蛍光体スクリーン20の一部を拡大し
て示す図2を参照して、更に詳細に説明する。A more detailed description will be given with reference to FIG. 2 showing a part of the phosphor screen 20 on an enlarged scale.
【0035】このフェースパネル11内面に形成された
蛍光体ドット23のPvは、例えば260μmで、上記
シャドウマスク19と蛍光体スクリーン20間が所定の
間隔を有して配置されているために、シャドウマスク1
9のPv、例えば250μmよりも拡大されたPv値と
なっている。The Pv of the phosphor dots 23 formed on the inner surface of the face panel 11 is, for example, 260 μm. Since the shadow mask 19 and the phosphor screen 20 are arranged at a predetermined interval, the Pv Mask 1
The Pv value is larger than Pv of 9, for example, 250 μm.
【0036】換言すれば、シャドウマスク19を通して
フェースパネル11内面の蛍光体スクリーン20に映し
出される動作時の電子ビーム14の照射状態は、直径R
1で示す点線の状態であり、露光装置によって実際に形
成された蛍光体ドット23のドット径は、実線で示す直
径R2の状態となっており、蛍光体ドット23のドット
径R2よりも、電子ビーム14のビーム径R1の方が大
きくなるように形成されている。In other words, the irradiation state of the electron beam 14 during operation, which is projected on the phosphor screen 20 on the inner surface of the face panel 11 through the shadow mask 19, is equal to the diameter R.
1, the dot diameter of the phosphor dots 23 actually formed by the exposure apparatus is in the state of the diameter R2 shown by the solid line, and is smaller than the dot diameter R2 of the phosphor dots 23. The beam 14 is formed so that the beam diameter R1 is larger.
【0037】ここで、Pvを一定とした場合、上下左右
における各蛍光体ドット23同士の間隔は、蛍光体ドッ
ト23のドットサイズによって変化し、図中破線で示す
直径R1のある一つの電子ビーム14(図2では、図中
実線で示す直径R2のRのドットを打っている場合を示
す)が、このRのドットと互いに隣接している他の色の
蛍光体ドット23(G,B)を打つまでの距離La〜L
fを他色打ち余裕度Lとすると、この他色打ち余裕度L
はシャドウマスク19の電子ビーム通過孔22を通って
フェースパネル11内面に形成された蛍光体スクリーン
20に映し出される電子ビーム14のサイズR1と、前
述した蛍光体ドット23のサイズR2によって決められ
る。本発明では、Pvを変えずに上下に隣り合う蛍光体
ドット23同士の間隔、言うなれば、シャドウマスク1
9の電子ビーム通過孔22の孔径を、各列毎に変えて、
例えば、偶数列の孔径>奇数列の孔径、もしくは偶数列
の孔径<奇数列の孔径とし、且つ同一列内の孔径を一定
となるように設定することで、La〜Lfを広げている
ために、露光装置によって形成される蛍光体ドット23
のドット径R2及びシャドウマスク19を通してフェー
スパネル11内面の蛍光体スクリーン20に映し出され
る電子ビーム14のビーム径R1双方を小さくすること
ができる。Here, when Pv is constant, the distance between the phosphor dots 23 in the vertical and horizontal directions changes depending on the dot size of the phosphor dots 23, and one electron beam having a diameter R1 indicated by a broken line in the drawing. Reference numeral 14 (in FIG. 2, a case where an R dot having a diameter R2 indicated by a solid line is shown) is a phosphor dot 23 (G, B) of another color adjacent to the R dot. Distance La to L
If f is the margin L for other color, the margin L for other color is
Is determined by the size R1 of the electron beam 14 projected on the phosphor screen 20 formed on the inner surface of the face panel 11 through the electron beam passage hole 22 of the shadow mask 19 and the size R2 of the phosphor dot 23 described above. In the present invention, the distance between the phosphor dots 23 vertically adjacent to each other without changing Pv, ie, the shadow mask 1
9 by changing the diameter of the electron beam passage holes 22 for each row,
For example, by setting the hole diameter of the even-numbered row> the hole diameter of the odd-numbered row, or the hole diameter of the even-numbered row <the hole diameter of the odd-numbered row, and by setting the hole diameters in the same row to be constant, La to Lf is widened. Phosphor dots 23 formed by an exposure device
, And the beam diameter R1 of the electron beam 14 projected on the phosphor screen 20 on the inner surface of the face panel 11 through the shadow mask 19 can be reduced.
【0038】ここに、Pvを260μmとし、Phを2
30μmとして、従来と本発明との他色打ち余裕度Lを
測定したところ、表1に示すような結果となった。Here, Pv is 260 μm, and Ph is 2
When the margin L of the other colors was measured between the conventional example and the present invention at 30 μm, the results shown in Table 1 were obtained.
【表1】 従来例の場合は、蛍光体ドット43のドットサイズを1
00μmに、また電子ビームサイズを160μmとした
場合に、各ドット43間の他色打ち余裕度Lは、夫々表
1に示すように、同一列上の隣接するLcとLfが23
μmとなり、他の列上の蛍光体ドット43間のLa,L
b,Ld,Leは、夫々21μmであった。これらの数
値を基準値1.00として、表1の括弧内に示す。[Table 1] In the case of the conventional example, the dot size of the phosphor dots 43 is set to 1
When the electron beam size is set to 00 μm and the electron beam size is set to 160 μm, as shown in Table 1, the other color hitting margins L between the dots 43 are 23 Lc and Lf adjacent to each other on the same column.
μm, and La, L between the phosphor dots 43 on the other rows.
b, Ld, and Le were each 21 μm. These values are shown in parentheses in Table 1 as the reference value 1.00.
【0039】これに対して本発明の場合には、偶数列も
しくは奇数列のいずれか一方の列を従来と同じサイズと
し、他方列の蛍光体ドット23のドットサイズを95μ
m、電子ビーム14のビームサイズを152mmと、他
方の列のドット及びビームサイズのいずれも従来の場合
よりも小さく設定した例1の場合には、LcとLfは3
2μmで、その他のLa,Lb,Ld,Leは、夫々3
0μmとなった。これは、Lc,Lfで従来に比して
1.39倍、La,Lb,Ld,Leでは、1.55倍
の他色打ち余裕度Lを呈することを示している。On the other hand, in the case of the present invention, one of the even-numbered rows and the odd-numbered rows has the same size as the conventional one, and the dot size of the phosphor dots 23 in the other row is 95 μm.
m, the beam size of the electron beam 14 is 152 mm, and in the case of Example 1 in which both the dot and beam size in the other row are set smaller than in the conventional case, Lc and Lf are 3
2 μm, other La, Lb, Ld, Le
It was 0 μm. This indicates that Lc and Lf exhibit a multi-color margin allowance L of 1.39 times, and La, Lb, Ld and Le 1.55 times that of the related art.
【0040】同様に、蛍光体ドット23のドットサイズ
を90μm、電子ビームサイズを144μmとした本発
明の例2においては、Lc,Lfは41μmとなり、L
a,Lb,Ld,Leは、夫々39μmとなった。この
Lc,Lfでは、従来に比して1.78倍、La,L
b,Ld,Leでは、1.86倍の他色打ち余裕度Lと
することができる。Similarly, in Example 2 of the present invention in which the dot size of the phosphor dots 23 was 90 μm and the electron beam size was 144 μm, Lc and Lf were 41 μm, and L
a, Lb, Ld, and Le each became 39 μm. These Lc and Lf are 1.78 times higher than those of the prior art, and La and Lf.
For b, Ld, and Le, it is possible to set the other color hitting margin L to 1.86 times.
【0041】また、蛍光体ドット23のサイズを85μ
m、電子ビームサイズを136μmにした本発明の例3
の場合においては、Lc,Lfが50μm、その他のL
a,Lb,Ld,Leが48μmとなり、Lc,Lfで
従来に比して2.17倍、他のLa,Lb,Ld,Le
では、2.29倍の他色打ち余裕度Lを確保することが
できた。The size of the phosphor dots 23 is set to 85 μm.
m, Example 3 of the present invention in which the electron beam size was 136 μm
In the case of the above, Lc and Lf are 50 μm and other L
a, Lb, Ld, Le are 48 μm, and Lc, Lf are 2.17 times as compared with the conventional one, and other La, Lb, Ld, Le
As a result, a margin L of 2.29 times other colors could be secured.
【0042】この表1から、本発明の例1の場合には、
蛍光体ドットサイズを5μmだけ小さくすることで1.
55倍の効果があり、例2では蛍光体ドットサイズを1
0μmだけ小さくして1.86倍、また例3のように蛍
光体ドットサイズを15μm小さくすることで、略2.
3倍の他色打ち余裕度Lの改善を図ることができる。From Table 1, in the case of Example 1 of the present invention,
By reducing the phosphor dot size by 5 μm,
The effect is 55 times, and in Example 2, the phosphor dot size is 1
By reducing the size of the phosphor dot by 0 μm and 1.86 times, and by reducing the phosphor dot size by 15 μm as in Example 3, approximately 2.
It is possible to improve the margin L of other colors by three times.
【0043】なお、このシャドウマスク19の電子ビー
ム通過孔22の孔径を小さくすることによって、画面全
体の輝度の低下が懸念されるが、隣接する蛍光体ドット
23の大きさを変えるように、シャドウマスク19を構
成している電子ビーム通過孔22の孔径の異なる電子ビ
ーム通過孔22を混在させることで、画面全体としての
輝度の低下には、さほど影響を与えずに構成することが
可能で、それよりもむしろ、電子ビーム14が目的外の
他の色の蛍光体ドット23をたたくことによる色ズレを
防止した方が、画面品質に与える影響を、より多く削減
できるものである。By reducing the diameter of the electron beam passage hole 22 of the shadow mask 19, there is a concern that the brightness of the whole screen may be reduced. By mixing the electron beam passage holes 22 having different diameters of the electron beam passage holes 22 constituting the mask 19, it is possible to configure the structure without significantly affecting the reduction in luminance of the entire screen. Rather, preventing the color misalignment due to the electron beam 14 hitting the phosphor dot 23 of another color other than the intended purpose can further reduce the influence on the screen quality.
【0044】また、画面センターに対して周辺コーナー
方向に向けて、シャドウマスク19の例えば、偶数列の
電子ビーム通過孔22サイズを小さくし、奇数列の電子
ビーム通過孔22サイズを漸次大きくなるように設定す
ることで、モアレ現象をより一層目立たなくしたり、あ
るいは輝度分布を一定化することも可能で、この電子ビ
ーム通過孔22の孔径を、画面全体にわたって最適配置
すれば、画面センター及び周辺コーナー部分に限らず、
これらモアレ現象や輝度分布の均一化等の対応が可能と
なる。Further, toward the peripheral corner direction with respect to the screen center, for example, the size of the electron beam passing holes 22 in the even-numbered rows of the shadow mask 19 is reduced, and the size of the electron beam passing holes 22 in the odd-numbered rows is gradually increased. , The moiré phenomenon can be made less noticeable or the brightness distribution can be made constant. If the hole diameter of the electron beam passage holes 22 is optimally arranged over the entire screen, the center of the screen and the peripheral corners can be obtained. Not only the part,
It is possible to cope with such moiré phenomena and uniform luminance distribution.
【0045】更に、上記説明では、シャドウマスク19
及び蛍光体ドット23を、ドットタイプのものとして説
明してきたが、ストライプタイプの場合でも、左右方向
に対しては、同様の効果が期待でき、また本発明はこれ
ら実施の形態にとらわれずに、種々の応用や変形を取り
得ることはいうまでもないことである。Further, in the above description, the shadow mask 19
And the phosphor dots 23 have been described as being of the dot type. However, even in the case of the stripe type, similar effects can be expected in the horizontal direction, and the present invention is not limited to these embodiments. It goes without saying that various applications and modifications are possible.
【0046】[0046]
【発明の効果】本発明は、蛍光体ドット間の距離を変更
することなく、シャドウマスクの電子ビーム通過孔の孔
径を、隣接する電子ビーム通過孔同士の少なく共1箇
所、好ましくは偶数列>奇数列もしくは偶数列<奇数列
の関係となるように設定することで、磁場及びピュリテ
ィドリフトにより発生する他色打ちを防ぎ、色ムラの改
善を図ることができ、画像品位の向上を図ることが可能
なカラー受像管を提供することができる。According to the present invention, without changing the distance between the phosphor dots, the diameter of the electron beam passage holes of the shadow mask can be reduced to at least one, preferably even, number of adjacent electron beam passage holes. By setting the relationship of odd-numbered columns or even-numbered columns <odd-numbered columns, it is possible to prevent color hits caused by a magnetic field and purity drift, to improve color unevenness, and to improve image quality. A possible color picture tube can be provided.
【図1】本発明に係るカラー受像管の構成を説明するた
めの説明図。FIG. 1 is an explanatory diagram for explaining a configuration of a color picture tube according to the present invention.
【図2】同じくカラー受像管を構成するシャドウマスク
の一部を拡大して示す平面図。FIG. 2 is an enlarged plan view showing a part of a shadow mask constituting the color picture tube.
【図3】従来のカラー受像管の構成を説明するための説
明図。FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining a configuration of a conventional color picture tube.
【図4】同じくカラー受像管を構成するシャドウマスク
の一部を拡大して示す平面図。FIG. 4 is an enlarged plan view showing a part of a shadow mask constituting the color picture tube.
【符号の説明】 11:フェースパネル 12:ファンネル 14:電子ビーム 15:電子銃 19:シャドウマスク 20:蛍光体スクリーン 22:電子ビーム通過孔[Description of Signs] 11: Face panel 12: Funnel 14: Electron beam 15: Electron gun 19: Shadow mask 20: Phosphor screen 22: Electron beam passage hole
Claims (3)
と、 前記フェースパネルの内面に形成された3色蛍光体スク
リーンと、 この蛍光体スクリーンと所定の間隔をもって対峙する前
記フェースパネル内に配置されたシャドウマスクと、 このシャドウマスクを通過し、前記蛍光体スクリーンに
射突する電子ビームを放出する前記ファンネル内に配置
された電子銃とを具備し、 前記シャドウマスクには、電子ビームを通過させるため
の複数の電子ビーム通過孔を設け、隣接する周囲の電子
ビーム通過孔同士の少なく共1箇所の電子ビーム通過孔
の孔径を異ならせて配置したことを特徴とするカラー受
像管。1. A rectangular face panel, a funnel connected to the face panel, a three-color phosphor screen formed on an inner surface of the face panel, and a predetermined distance from the phosphor screen A shadow mask disposed in the face panel facing the electron gun, and an electron gun disposed in the funnel that emits an electron beam that passes through the shadow mask and strikes the phosphor screen. The mask is provided with a plurality of electron beam passage holes for passing an electron beam, and at least one of the neighboring electron beam passage holes is arranged so that the diameter of at least one electron beam passage hole is different. Color picture tube.
り合う電子ビーム通過孔同士で、その孔径を異ならせた
ことを特徴とする請求項1記載のカラー受像管。2. The color picture tube according to claim 1, wherein said electron beam passage holes have different diameters between electron beam passage holes which are vertically adjacent to each other.
同一の孔径とし、且つ奇数列と偶数列間で夫々孔径を異
ならせたことを特徴とする請求項1または2記載のカラ
ー受像管。3. The color picture tube according to claim 1, wherein the electron beam passage holes have the same hole diameter in each column direction, and have different hole diameters between odd-numbered rows and even-numbered rows. .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000184851A JP2002008556A (en) | 2000-06-20 | 2000-06-20 | Color picture tube |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000184851A JP2002008556A (en) | 2000-06-20 | 2000-06-20 | Color picture tube |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002008556A true JP2002008556A (en) | 2002-01-11 |
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ID=18685245
Family Applications (1)
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JP2000184851A Pending JP2002008556A (en) | 2000-06-20 | 2000-06-20 | Color picture tube |
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2000
- 2000-06-20 JP JP2000184851A patent/JP2002008556A/en active Pending
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