JP2002008449A - Anisotropic conductive film and manufacturing method of the same - Google Patents

Anisotropic conductive film and manufacturing method of the same

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JP2002008449A
JP2002008449A JP2000185105A JP2000185105A JP2002008449A JP 2002008449 A JP2002008449 A JP 2002008449A JP 2000185105 A JP2000185105 A JP 2000185105A JP 2000185105 A JP2000185105 A JP 2000185105A JP 2002008449 A JP2002008449 A JP 2002008449A
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Japan
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anisotropic conductive
region
film
conductive film
insulating
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Fuyuki Eriguchi
冬樹 江里口
Yuji Hotta
祐治 堀田
Fumiteru Asai
文輝 浅井
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Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anisotropic conductive film at a low cost, preventing dirt on an electrode of an inspection device in a repetitive performance inspection, further capable of facilitating aligning when mounting on the inspection device, and to provide a preferable manufacturing method of the anisotropic conductive film. SOLUTION: The anisotropic conductive film 1 is provided with one or several anisotropic conductive areas, where in a film substrate 2 having insulation, several conduction paths 3 consisting of conductive material substantially penetrate along a thickness direction of the substrate 2, to expose both ends on the front and back surfaces of the substrate 2 and arranged so as to be insulated from one another, and provided with several insulation areas including the area having insulation and at least arranged in both ends of the film 1. The anisotropic conductive area and the insulation area are arranged in one line alternately without forming a step each other.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は異方導電性フィル
ム、より詳しくは電子部品の機能検査に好適に使用され
る異方導電性フィルム、およびその好適な製造方法に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an anisotropic conductive film, and more particularly to an anisotropic conductive film suitably used for testing the function of an electronic component, and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の電子機器の高機能化、小型軽量化
に伴い、電子機器に用いられるICなどの電子部品にも
高機能化、高信頼性が要求されている。このような電子
部品における更なる高集積化および入出力電極の狭ピッ
チ化に伴い、該電子部品は高価なものとなっており、し
たがって該部品を回路基板に実装する前に予め導通など
の機能を検査する必要性が高まっている。すなわち該電
子部品を実装した後に機能検査を行っていたのでは、該
部品が不良であった場合に、良品であった回路基板も共
に処分されるため、回路基板の歩留りが無意味に低下
し、金額的な損失も大きくなる。
2. Description of the Related Art In recent years, as electronic devices have become more sophisticated and smaller and lighter, electronic components such as ICs used in the electronic devices have also been required to have higher functions and higher reliability. With such higher integration and narrower pitch of input / output electrodes in such electronic components, the electronic components have become expensive, and therefore, before mounting the components on a circuit board, they have functions such as conduction. The need to inspect is increasing. That is, if the functional inspection is performed after mounting the electronic component, if the component is defective, the non-defective circuit board is also disposed of, and the yield of the circuit board is reduced meaninglessly. , The amount of money is also large.

【0003】この電子部品の機能検査方法としては、電
子部品検査用ソケットを用いる方法、ばね構造を有する
プローブピンを直接電子部品の入出力電極に接触させる
方法などが知られているが、近年では電子部品の入出力
電極(リード)の狭ピッチ化、工程の簡略化などの観点
から、上記検査用ソケットを用いた検査や検査用基板上
の電極に直接電子部品の入出力電極を接触させての検査
方法が増えてきている。
As a method of inspecting the function of an electronic component, a method using a socket for inspecting an electronic component, a method of directly contacting a probe pin having a spring structure with an input / output electrode of the electronic component, and the like are known. From the viewpoints of narrowing the pitch of input / output electrodes (leads) of electronic components and simplifying the process, the input / output electrodes of the electronic components are brought into direct contact with the electrodes on the inspection board or the inspection using the inspection socket. Inspection methods are increasing.

【0004】これらの検査装置の場合、繰り返し機能検
査に使用している間に、電子部品の入出力電極の表面の
半田酸化物などの汚れが上記検査用ソケットまたは検査
用基板上の電極の表面に付着してしまう問題がある。こ
のように汚れが付着した上記検査用ソケットまたは検査
用基板上の電極は、上記入出力電極の接触時の抵抗値が
上昇し、部品の検査が正常に行えなくなってしまう。ま
た、上記のような汚れがひどくなる前に検査用ソケット
または検査用基板を洗浄または交換すると、機能検査に
かかるコストが増加する不具合が生じる。
In the case of these inspection devices, dirt such as solder oxide on the surface of the input / output electrodes of the electronic component may be contaminated by the surface of the electrodes on the inspection socket or the inspection substrate during repeated use. There is a problem of sticking to. The resistance of the electrode on the inspection socket or the inspection substrate to which the dirt has adhered when the input / output electrode is in contact with the electrode increases, and the inspection of the component cannot be performed normally. Further, if the inspection socket or the inspection substrate is washed or replaced before the contamination becomes severe, the cost for the function inspection increases.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
間題を解決し、繰り返しの機能検査の中での検査装置の
電極上の汚れを防止し、さらには検査装置に装着する際
における位置合わせをより容易にすることができる異方
導電性フィルムを安価に提供すると共に、該異方導電性
フィルムの好ましい製造方法を提供する事にある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to solve the above problems, prevent contamination on the electrodes of the inspection apparatus during repeated function inspections, and further reduce the time when the apparatus is mounted on the inspection apparatus. It is an object of the present invention to provide a low-cost anisotropic conductive film that can facilitate alignment, and to provide a preferable method of manufacturing the anisotropic conductive film.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため鋭意研究を行った結果、特異な構造およ
び/または特異な製造方法を採用することによって、上
記問題点の解決された異方導電性フィルムが得られるこ
とを見出し、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, by adopting a unique structure and / or a unique manufacturing method, the above problems can be solved. The present inventors have found that an anisotropic conductive film can be obtained, and have completed the present invention.

【0007】即ち、本発明は以下のとおりである。 (1)絶縁性を有するフィルム基材中に導電性材料から
なる複数個の導通路が該フィルム基材の厚み方向に概ね
沿って貫通して当該フィルム基材の表裏面に両端部を露
出させかつ互いに絶縁された状態で配置される一または
複数個の異方導電性領域と、絶縁性を有し少なくとも該
フィルムの両端に配置される領域を含む複数個の絶縁性
領域とを有する異方導電性フィルムであって、異方導電
性領域と絶縁性領域とが、互いに段差を形成することな
く交互に一列に配置されていることを特徴とする異方導
電性フィルム。 (2)絶縁性を有するフィルム基材中に導電性材料から
なる複数個の導通路が該フィルム基材の厚み方向に概ね
沿って貫通して当該フィルム基材の表裏面に両端部を露
出させかつ互いに絶縁された状態で配置され少なくとも
該フィルムの両端に配置される領域を含む複数個の異方
導電性領域と、絶縁性を有する一または複数個の絶縁性
領域とを有する異方導電性フィルムであって、異方導電
性領域と絶縁性領域とが、互いに段差を形成することな
く交互に一列に配置されていることを特徴とする異方導
電性フィルム。 (3)少なくとも下記〜の工程を有する製造方法に
よって得られたことを特徴とする上記(1)または
(2)に記載の異方導電性フィルム。 導電性材料からなる線材に絶縁性材料からなる被覆層
を少なくとも1層以上設けて絶縁導線とし、該絶縁導線
を芯材にロール状に巻き線して巻き線コイルとする巻き
線コイル形成工程。 前記の工程において巻き線しながら、または前記
の工程の後巻き線コイルを加熱および/または加圧し
て、巻き付けられた絶縁導線の被覆層同士を融着および
/または圧着させて一体化させ巻き線コイルブロックを
形成する巻き線コイルブロック形成工程。 前記の工程で得られた巻き線コイルブロックから芯
材を含まない直方体状の含線材ブロックを形成し、該含
線材ブロックと絶縁性材料からなる直方体状の樹脂ブロ
ックとを交互に積層し、加熱および加圧して互いに隣り
合うブロック同士を融着させて一体化した複合ブロック
を形成する複合ブロック形成工程。前記の工程で得
られた複合ブロックから、線材の部分を導通路とし、
の工程で融着および/または圧着された被覆層の部分を
フィルム基材とし、含線材ブロックの部分を異方導電性
領域とし、樹脂ブロックの部分を絶縁性領域として、異
方導電性フィルムを形成するフィルム形成工程。 (4)検査装置を用いて、検査装置の電極と該電子部品
の入出力電極との間の導通を検査する電子部品の機能検
査において、上記検査装置の電極および該電子部品の入
出力電極との接触部分が異方導電性領域となるように検
査装置の電極と該電子部品の入出力電極との間に介在さ
れることに使用される上記(1)〜(3)のいずれかに
記載の異方導電性フィルム。 (5)絶縁性領域のうち少なくともいずれかの領域に
は、該フィルムの厚み方向への折り曲げ加工が施されて
いることを特徴とする上記(4)に記載の異方導電性フ
ィルム。 (6)絶縁性領域のうち少なくともいずれかの領域には
切れ目が予め形成されており、該切れ目で折り曲げられ
ていることを特徴とする上記(5)に記載の異方導電性
フィルム。 (7)絶縁性領域のうち少なくともいずれかの領域に
は、該フィルムの異方導電性領域を検査装置の電極およ
び電子部品の入出力電極に接触する部分に位置合わせす
るための基準となる貫通孔または凹所が形成されている
ことを特徴とする上記(4)に記載の異方導電性フィル
ム。 (8)上記異方導電性領域として一個の領域A1と、上
記絶縁性領域として二個の領域B1,B2とを有するこ
とを特徴とする上記(1)に記載の異方導電性フィル
ム。 (9)上記異方導電性領域として二個の領域A2,A3
と、上記絶縁性領域として一個の領域B3とを有するこ
とを特徴とする上記(2)に記載の異方導電性フィル
ム。 (10)領域B3の弾性率が0.01〜10GPaであ
ることを特徴とする上記(9)に記載の異方導電性フィ
ルム。 (11)上記異方導電性領域として二個の領域A4,A
5と、上記絶縁性領域として三個の領域B4,B5,B
6とを有し、領域B4および領域B5が各々該フィルム
の両端に配置され、該領域B4,B5間に領域A4およ
び領域A5が配置され、該領域A4,A5間に領域B6
が配置されることを特徴とする上記(1)に記載の異方
導電性フィルム。 (12)絶縁性領域のうち少なくとも領域B6の弾性率
が0.01〜10GPaであることを特徴とする上記
(11)に記載の異方導電性フィルム。 (13)少なくとも下記〜の工程を有することを特
徴とする異方導電性フィルムの製造方法。 導電性材料からなる線材に絶縁性材料からなる被覆層
を少なくとも1層以上設けて絶縁導線とし、該絶縁導線
を芯材にロール状に巻き線して巻き線コイルとする巻き
線コイル形成工程。 前記の工程において巻き線しながら、または前記
の工程の後巻き線コイルを加熱および/または加圧し
て、巻き付けられた絶縁導線の被覆層同士を融着および
/または圧着させて一体化させ巻き線コイルブロックを
形成する巻き線コイルブロック形成工程。 前記の工程で得られた巻き線コイルブロックから芯
材を含まない直方体状の含線材ブロックを形成し、該含
線材ブロックと絶縁性材料からなる直方体状の樹脂ブロ
ックとを交互に積層し、加熱および加圧して互いに隣り
合うブロック同士を融着させて一体化した複合ブロック
を形成する複合ブロック形成工程。 前記の工程で得られた複合ブロックから、線材の部
分を導通路とし、の工程で融着および/または圧着さ
れた被覆層の部分をフィルム基材とし、含線材ブロック
の部分を異方導電性領域とし、樹脂ブロックの部分を絶
縁性領域として、異方導電性フィルムを形成するフィル
ム形成工程。 (14)少なくとも下記〜の工程を有することを特
徴とする異方導電性フィルムの製造方法。 導電性材料からなる線材に絶縁性材料からなる被覆層
を少なくとも1層以上設けて絶縁導線とし、該絶縁導線
を絶縁性材料からなる直方体状の芯材にロール状に巻き
線して巻き線コイルとする巻き線コイル形成工程。 前記の工程の後、巻き線コイルと絶縁性材料からな
る直方体状の樹脂ブロックとを交互に積層し、加熱およ
び/または加圧して芯材に巻き付けられた絶縁導線の被
覆層同士を融着および/または圧着させると同時に、樹
脂ブロックと絶縁性材料からなる芯材とを巻き線コイル
を介して融着および/または圧着させて一体化させ複合
ブロックを形成する複合ブロック形成工程。 前記の工程で得られた複合ブロックから、線材の部
分を導通路とし、の工程で融着および/または圧着さ
れた被覆層の部分をフィルム基材とし、絶縁導線の部分
を異方導電性領域とし、樹脂ブロックの部分および芯材
の部分を絶縁性領域として、異方導電性フィルムを形成
するフィルム形成工程。
That is, the present invention is as follows. (1) A plurality of conductive paths made of a conductive material penetrate the insulating film substrate substantially along the thickness direction of the film substrate to expose both ends on the front and back surfaces of the film substrate. And one or more anisotropic conductive regions arranged in a state in which they are insulated from each other, and a plurality of insulating regions having an insulating property and including at least regions arranged at both ends of the film. An anisotropic conductive film, wherein an anisotropic conductive region and an insulating region are alternately arranged in a line without forming a step. (2) A plurality of conductive paths made of a conductive material penetrate the insulating film substrate substantially along the thickness direction of the film substrate to expose both ends on the front and back surfaces of the film substrate. And a plurality of anisotropic conductive regions including regions arranged at least at both ends of the film and arranged in an insulated state, and one or more insulating regions having an insulating property. An anisotropic conductive film, wherein anisotropic conductive regions and insulating regions are alternately arranged in a line without forming a step. (3) The anisotropic conductive film according to the above (1) or (2), which is obtained by a production method having at least the following steps: A winding coil forming step in which at least one or more coating layers made of an insulating material are provided on a wire made of a conductive material to form an insulated conductor, and the insulated conductor is wound in a roll shape around a core to form a wound coil. Heating and / or pressurizing the wound coil while winding in the above-mentioned step or after the above-mentioned step to fuse and / or press-bond the coated layers of the insulated insulated wires to integrate them. A winding coil block forming step of forming a coil block. A rectangular parallelepiped wire-containing material block containing no core material is formed from the wound coil block obtained in the above step, and the wire-containing material block and a rectangular parallelepiped resin block made of an insulating material are alternately laminated and heated. And a step of forming a composite block in which adjacent blocks are fused together under pressure to form an integrated composite block. From the composite block obtained in the above step, the portion of the wire as a conduction path,
The portion of the coating layer fused and / or pressed in the step is used as a film base, the portion of the wire-containing material block is used as an anisotropic conductive region, and the portion of the resin block is used as an insulating region. Film forming process to form. (4) In the function inspection of an electronic component for inspecting the continuity between the electrode of the inspection device and the input / output electrode of the electronic component using the inspection device, the function of the electrode of the inspection device and the input / output electrode of the electronic component is (1) to (3), which is used to be interposed between an electrode of the inspection device and an input / output electrode of the electronic component so that a contact portion of the electronic component becomes an anisotropic conductive region. Anisotropic conductive film. (5) The anisotropic conductive film according to (4), wherein at least one of the insulating regions is bent in the thickness direction of the film. (6) The anisotropic conductive film according to (5), wherein a cut is formed in at least one of the insulating regions, and the cut is formed at the cut. (7) In at least one of the insulating regions, a through hole serving as a reference for aligning the anisotropic conductive region of the film with a portion in contact with an electrode of an inspection device and an input / output electrode of an electronic component. The anisotropic conductive film according to the above (4), wherein a hole or a recess is formed. (8) The anisotropic conductive film according to the above (1), wherein the film has one region A1 as the anisotropic conductive region and two regions B1 and B2 as the insulating region. (9) Two regions A2 and A3 as the anisotropic conductive regions
And one region B <b> 3 as the insulating region. (10) The anisotropic conductive film according to (9), wherein the elastic modulus of the region B3 is 0.01 to 10 GPa. (11) Two regions A4 and A as the anisotropic conductive regions
5 and three regions B4, B5, B
6, a region B4 and a region B5 are respectively disposed at both ends of the film, a region A4 and a region A5 are disposed between the regions B4 and B5, and a region B6 is disposed between the regions A4 and A5.
Is disposed, the anisotropic conductive film according to the above (1). (12) The anisotropic conductive film according to (11), wherein the elastic modulus of at least the region B6 in the insulating region is 0.01 to 10 GPa. (13) A method for producing an anisotropic conductive film, comprising at least the following steps: A winding coil forming step in which at least one or more coating layers made of an insulating material are provided on a wire made of a conductive material to form an insulated conductor, and the insulated conductor is wound in a roll shape around a core to form a wound coil. Heating and / or pressurizing the wound coil while winding in the above-mentioned step or after the above-mentioned step to fuse and / or press-bond the coated layers of the insulated insulated wires to integrate them. A winding coil block forming step of forming a coil block. A rectangular parallelepiped wire-containing material block containing no core material is formed from the wound coil block obtained in the above step, and the wire-containing material block and a rectangular parallelepiped resin block made of an insulating material are alternately laminated and heated. And a step of forming a composite block in which adjacent blocks are fused together under pressure to form an integrated composite block. From the composite block obtained in the above step, the wire portion is used as a conductive path, the coating layer portion fused and / or crimped in the step is used as a film substrate, and the wire-containing block portion is used as an anisotropic conductive material. A film forming step of forming an anisotropic conductive film using the resin block as an insulating region and the resin block as an insulating region. (14) A method for producing an anisotropic conductive film, comprising at least the following steps: At least one coating layer made of an insulating material is provided on a wire made of a conductive material to form an insulated conductor, and the insulated wire is wound around a rectangular parallelepiped core made of an insulative material in a roll shape to form a winding coil. Winding coil forming step. After the above process, the winding coil and the rectangular parallelepiped resin block made of an insulating material are alternately laminated, and the coating layers of the insulated conductive wire wound around the core material by heating and / or pressing are fused and fused. A composite block forming step of forming a composite block by fusing and / or crimping a resin block and a core material made of an insulating material together with a core material made of an insulating material at the same time as crimping. From the composite block obtained in the above step, the wire portion is used as a conductive path, the coating layer portion fused and / or crimped in the step is used as a film substrate, and the insulated conductive wire portion is used as an anisotropic conductive region. And a film forming step of forming an anisotropic conductive film using the resin block portion and the core material portion as insulating regions.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、本発明の異方導電性フィル
ムについて詳細に説明する。本発明の異方導電性フィル
ムは、上記(1)の第一グループに属する異方導電性フ
ィルムと、上記(2)の第二グループに属する異方導電
性フィルムとに大きく分けられる。なお、本明細書中に
おいて「本発明の異方導電性フィルム」という場合に
は、第一グループ、第二グループに関わらず本発明に属
する異方導電性フィルム全てを指すものとする。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the anisotropic conductive film of the present invention will be described in detail. The anisotropic conductive film of the present invention is broadly classified into the anisotropic conductive film belonging to the first group (1) and the anisotropic conductive film belonging to the second group (2). In addition, in this specification, the "anisotropic conductive film of the present invention" refers to all the anisotropic conductive films belonging to the present invention regardless of the first group and the second group.

【0009】図1は、本発明の第一グループの好ましい
一例の異方導電性フィルム1を簡略化して示す図であ
り、図1(a)は上面図、図1(b)は図1(a)の切
断面線Ib−Ibからみた断面図である。なお切断面線
Ib−Ibは、異方導電性フィルム1の厚み方向Z(図
1(a)においては紙面に対して垂直な方向)に平行で
ありかつ後述する導通路3を通る仮想一平面における切
断面線である。本発明の第一グループの異方導電性フィ
ルムは、一または複数個の異方導電性領域(図1中では
一個の領域A1に相当)と、少なくとも該フィルムの両
端に配置される領域を含む複数個の絶縁性領域と(図1
中では二個の領域B1,B2に相当)を有し、これらの
異方導電性領域と絶縁性領域とが互いに段差を形成する
ことなく交互に一列に配列されてなる構成を有する。異
方導電性フィルムの形状は、特には限定されないが、好
ましくは図1の異方導電性フィルム1のようにその厚み
方向Zに垂直な断面が方形状である。なお異方導電性と
は、一定方向にのみ電気的導電性を有するが他の方向に
は電気的に絶縁されているような性質をいう。
FIG. 1 is a simplified view showing a preferred example of an anisotropic conductive film 1 of the first group of the present invention. FIG. 1 (a) is a top view, and FIG. It is sectional drawing seen from the cutting surface line Ib-Ib of a). In addition, the cut surface line Ib-Ib is parallel to the thickness direction Z of the anisotropic conductive film 1 (the direction perpendicular to the paper surface in FIG. It is a section line in FIG. The anisotropic conductive film of the first group of the present invention includes one or a plurality of anisotropic conductive regions (corresponding to one region A1 in FIG. 1) and at least regions arranged at both ends of the film. A plurality of insulating regions (see FIG. 1)
(Corresponding to two regions B1 and B2), and the anisotropic conductive region and the insulating region are alternately arranged in a line without forming a step. The shape of the anisotropic conductive film is not particularly limited, but preferably has a rectangular cross section perpendicular to the thickness direction Z like the anisotropic conductive film 1 in FIG. Note that anisotropic conductivity refers to a property having electrical conductivity only in a certain direction but being electrically insulated in other directions.

【0010】本発明の異方導電性フィルムは、電子部品
の導通機能の検査用として特に好ましい異方導電性フィ
ルムであって、図1に示すような形状の場合には、第一
幅方向Xにおける長さ(第一幅)D1が、好ましくは3
〜60mm、より好ましくは10〜30mmであり、第
二幅方向Yにおける長さ(第二幅)D2が、好ましく
は、3〜70mm、より好ましくは10〜40mmであ
り、厚み方向Zにおける長さ(厚み)D3が、好ましく
は0.03〜1mm、より好ましくは0.05〜0.5
mmである。上記第一幅方向Xとは、上記の方形状の断
面において互いに垂直な2辺のうちいずれか一方の辺に
概ね沿った方向をさし、上記第二幅方向Yとは、上記二
辺のうちいずれか他方の辺に概ね沿った方向をさす。な
お上記第一幅方向X、第二幅方向Yおよび厚み方向Z
は、互いに垂直に交わる三軸に沿った方向である。
The anisotropic conductive film of the present invention is a particularly preferable anisotropic conductive film for inspecting the conduction function of electronic parts. In the case of the shape shown in FIG. (First width) D1 is preferably 3
6060 mm, more preferably 10 to 30 mm, and the length (second width) D2 in the second width direction Y is preferably 3 to 70 mm, more preferably 10 to 40 mm, and the length in the thickness direction Z. (Thickness) D3 is preferably 0.03 to 1 mm, more preferably 0.05 to 0.5.
mm. The first width direction X refers to a direction substantially along one of the two sides that are perpendicular to each other in the rectangular cross section, and the second width direction Y refers to the two sides. A direction roughly along one of the other sides. The first width direction X, the second width direction Y and the thickness direction Z
Are directions along three axes perpendicular to each other.

【0011】図1に示す異方導電性フィルム1は、異方
導電性領域として一個の領域A1と、絶縁性領域として
二個の領域B1,B2とを有する。異方導電性フィルム
1においては、領域B1および領域B2が各々該フィル
ム1の両端に配置され、該領域B1,B2間に領域A1
が配置されて、互いに段差を形成することなく一列に配
列される構成を有する。詳しく述べると、領域B1,B
2は、領域B1が該フィルム1の第一幅方向Xにおける
一端1aを第二幅方向Yにおける全域にわたって形成す
るように配置されるとともに、領域B2が該フィルム1
の第一幅方向Xにおける他端1bを第二幅方向Yにおけ
る全域にわたって形成するように配置される。領域A1
は、領域B1と領域B2との間に配置される上記第二幅
方向Yの全域にわたる領域であって、その第一幅方向X
一方側の端部が領域B1に接するとともに、その第一幅
方向X他方側の端部が領域B2に接する。領域A1と領
域B1,B2とは、それぞれ該フィルム1の第二幅方向
Yおよび厚み方向Zに段差を形成することなく上記のよ
うに互いに接して配置され、一体化されている。
The anisotropic conductive film 1 shown in FIG. 1 has one region A1 as an anisotropic conductive region and two regions B1 and B2 as insulating regions. In the anisotropic conductive film 1, a region B1 and a region B2 are respectively disposed at both ends of the film 1, and a region A1 is provided between the regions B1 and B2.
Are arranged and arranged in a line without forming a step. More specifically, the areas B1, B
2 are arranged such that the region B1 forms one end 1a of the film 1 in the first width direction X over the entire region in the second width direction Y, and the region B2 is
Is arranged so as to form the other end 1b in the first width direction X over the entire area in the second width direction Y. Area A1
Is a region that is disposed between the region B1 and the region B2 and that covers the entire region in the second width direction Y.
One end is in contact with the region B1, and the other end in the first width direction X is in contact with the region B2. The region A1 and the regions B1 and B2 are arranged in contact with each other as described above without forming a step in the second width direction Y and the thickness direction Z of the film 1, and are integrated.

【0012】領域A1は、絶縁性を有するフィルム基材
2と、該フィルム基材2中に複数個配置される導通路3
とを有する領域である。導通路3は導電性材料からな
り、該フィルム基材2の厚み方向に概ね沿って貫通し、
その両端部がフィルム基材2の表裏面に露出される。領
域A1が異方導電性を示すためには、各導通路3が互い
に絶縁された状態で、かつフィルム基材2を貫通してフ
ィルム基材2の表裏面にその両端部を露出していること
が必要である。ここで「互いに絶縁された状態」とは、
各導通路3が互いに接触せずに絶縁性を有するフィルム
基材2中で独立している状態をいう。ここで、異方導電
性フィルム1、フィルム基材2、領域A1ならびに領域
B1,B2の各々の第一幅方向、第二幅方向および厚み
方向はいずれも同じ方向をさし、図1に示すように第一
幅方向X、第二幅方向Yおよび厚み方向Zである。
The area A1 is composed of an insulating film substrate 2 and a plurality of conductive paths 3 arranged in the film substrate 2.
And a region having The conduction path 3 is made of a conductive material and penetrates generally along the thickness direction of the film substrate 2.
Both ends are exposed on the front and back surfaces of the film substrate 2. In order for the region A1 to exhibit anisotropic conductivity, both ends of the conductive path 3 are exposed on the front and back surfaces of the film substrate 2 while penetrating the film substrate 2 while being insulated from each other. It is necessary. Here, the “state insulated from each other”
It means a state in which the conductive paths 3 are independent of each other in the insulating film substrate 2 without being in contact with each other. Here, the first width direction, the second width direction, and the thickness direction of each of the anisotropic conductive film 1, the film substrate 2, the region A1, and the regions B1 and B2 all indicate the same direction, and are shown in FIG. The first width direction X, the second width direction Y, and the thickness direction Z as described above.

【0013】各導通路3の大きさや数は、異方導電性フ
ィルム1を用いて検査する際に用いる電子部品および検
査装置によって適宜選択されるが、例えば各導通路3の
形状が図1のようにいずれも円柱形である場合、軸に垂
直な断面の円の直径が好ましくは10〜200μm、よ
り好ましくは15〜100μmであり、ピッチが30〜
150μm程度で配置されていることが好ましい。各導
通路3の形状が円柱形以外の場合は、その断面積が円柱
形状における上記円の断面積と同程度であることが好ま
しい。導通路3の形状は、上記の条件を満たせばどのよ
うな形状でもよく、たとえば多角柱状であってもよい。
各導通路3が小さすぎたりあるいは数が少なすぎると導
電性に劣るため好ましくない。また各導通路3が大きす
ぎたりあるいは数が多すぎると、該フィルム1の強度が
劣るとともに、検査対象となる電子部品の入出力電極の
ピッチの微細化に対応できないので好ましくない。
The size and number of each conductive path 3 are appropriately selected depending on the electronic components and the inspection apparatus used for testing using the anisotropic conductive film 1. For example, the shape of each conductive path 3 in FIG. As described above, when both are cylindrical, the diameter of the circle having a cross section perpendicular to the axis is preferably 10 to 200 μm, more preferably 15 to 100 μm, and the pitch is 30 to 100 μm.
Preferably, they are arranged at about 150 μm. When the shape of each of the conductive paths 3 is other than the columnar shape, it is preferable that the cross-sectional area is approximately the same as the cross-sectional area of the circle in the columnar shape. The shape of the conduction path 3 may be any shape as long as the above conditions are satisfied, and may be, for example, a polygonal column shape.
If each of the conductive paths 3 is too small or too small, it is not preferable because the conductivity is poor. On the other hand, if the conductive paths 3 are too large or too many, the strength of the film 1 is inferior and the pitch of the input / output electrodes of the electronic component to be inspected cannot be reduced.

【0014】領域B1,B2は、絶縁性材料からなり、
該領域内には導通路3が存在しない。このような領域B
1,B2は、領域A1と同じ厚みD3を有し、かつ上記
のように領域A1に段差を形成することなく接し、フィ
ルム1の第一幅方向X両端に配置される。
The regions B1 and B2 are made of an insulating material,
There is no conduction path 3 in this area. Such an area B
Reference numerals 1 and B2 have the same thickness D3 as the region A1 and are in contact with the region A1 without forming a step as described above, and are disposed at both ends in the first width direction X of the film 1.

【0015】このように異方導電性フィルム1は、その
第一幅方向X一端1a側から第一幅方向X他端1b側に
向かって、領域B1、領域A1、領域B2の順に、異方
導電性領域と絶縁性領域とが交互に配置される構成を有
する。領域B1,B2は、該フィルム1の、電子部品の
機能検査において検査対象である電子部品の入出力電極
と検査装置の電極との電気的接触に関係しない部分に対
応するように形成される。したがって領域B1,B2の
第一幅方向Xにおける長さD4,D5は同一である必要
もなく特には限定されないが、好ましくは長さD4が1
〜30mm、長さD5が1〜30mm、より好ましくは
長さD4が2〜15mm、長さD5が2〜15mmであ
る。
As described above, the anisotropic conductive film 1 has an anisotropic conductive film 1 in the order of the region B1, the region A1, and the region B2 from the one end 1a in the first width direction X toward the other end 1b in the first width direction X. It has a configuration in which conductive regions and insulating regions are alternately arranged. The regions B1 and B2 are formed so as to correspond to portions of the film 1 that are not related to the electrical contact between the input / output electrodes of the electronic component to be inspected and the electrodes of the inspection device in the function inspection of the electronic component. Therefore, the lengths D4 and D5 of the regions B1 and B2 in the first width direction X do not need to be the same and are not particularly limited, but preferably the length D4 is 1
The length D5 is 1 to 30 mm, more preferably the length D4 is 2 to 15 mm, and the length D5 is 2 to 15 mm.

【0016】図2は、本発明の第二グループの好ましい
一例の異方導電性フィルム6を簡略化して示す図であ
り、図2(a)は上面図、図2(b)は図2(a)の切
断面線IIb−IIbからみた断面図である。なお切断
面線IIb−IIbは、異方導電性フィルム6の厚み方
向Z(図2においては紙面に対して垂直な方向)に平行
でありかつ導通路3を通る仮想一平面における切断面線
である。本発明の第二グループの異方導電性フィルム
は、少なくとも該フィルムの両端に配置される領域を含
む複数個の異方導電性領域(図2中では二個の領域A
2,A3に相当)と、一または複数個の絶縁性領域(図
2中では一個の領域B3に相当)とを有し、これらの異
方導電性領域と絶縁性領域とが互いに段差を形成するこ
となく交互に一列に配列されてなる構成を有する。この
ように本発明の第二グループの異方導電性フィルムは、
その両端に異方導電性領域を必ず有する構成であり、こ
の構成を除いては、上述した本発明の第一グループの異
方導電性フィルムと基本的には同様である。なお図2に
示す態様の異方導電性フィルム6について、図1に示し
た異方導電性フィルム1と同様の構成を有する部分に
は、同一の参照符を付して説明を省略する。
FIG. 2 is a simplified diagram showing an anisotropic conductive film 6 of a preferred example of the second group of the present invention, wherein FIG. 2 (a) is a top view, and FIG. It is sectional drawing seen from the cutting surface line IIb-IIb of a). The cutting plane line IIb-IIb is a cutting plane line in an imaginary plane that is parallel to the thickness direction Z of the anisotropic conductive film 6 (the direction perpendicular to the paper surface in FIG. 2) and passes through the conduction path 3. is there. The anisotropic conductive film of the second group of the present invention comprises a plurality of anisotropic conductive regions (at least two regions A in FIG. 2) including regions arranged at least at both ends of the film.
2 and A3) and one or a plurality of insulating regions (corresponding to one region B3 in FIG. 2), and the anisotropic conductive region and the insulating region form a step with each other. It is configured to be alternately arranged in a line without performing. Thus, the anisotropic conductive film of the second group of the present invention,
It has a structure having anisotropically conductive regions at both ends thereof. Except for this structure, it is basically the same as the above-described anisotropically conductive film of the first group of the present invention. In the anisotropic conductive film 6 of the embodiment shown in FIG. 2, parts having the same configuration as the anisotropic conductive film 1 shown in FIG.

【0017】異方導電性フィルム6は、異方導電性領域
として二個の領域A2,A3と、絶縁性領域として一個
の領域B3とを有する。異方導電性フィルム6において
は、領域A2および領域A3が各々該フィルム6の両端
に設置され、該領域A2,A3間に領域B3が配置され
て、互いに段差を形成することなく一列に配置される構
成を有する。詳しく述べると、領域A2,A3は、領域
A2が該フィルム6の第一幅方向Xにおける一端6aを
第二幅方向Yにおける全域にわたって形成するように配
置されるとともに、領域A3が該フィルム6の第一幅方
向Xにおける他端6bを第二幅方向Yにおける全域にわ
たって形成するように配置される。領域B3は、領域A
2と領域A3との間に挟まれる上記第二幅方向Yの全域
にわたる領域であって、その第一幅方向X一方側の端部
が領域A2に接するとともに、その第一幅方向X他方側
の端部が領域A3に接する。領域A2,A3と領域B3
とは、それぞれ該フィルム6の第二幅方向Yおよび厚み
方向Zに段差を形成することなく上記のように互いに接
して配置され、一体化されている。
The anisotropic conductive film 6 has two regions A2 and A3 as anisotropic conductive regions and one region B3 as an insulating region. In the anisotropic conductive film 6, a region A2 and a region A3 are respectively provided at both ends of the film 6, and a region B3 is arranged between the regions A2 and A3, and arranged in a line without forming a step. Configuration. More specifically, the regions A2 and A3 are arranged so that the region A2 forms one end 6a of the film 6 in the first width direction X over the entire region in the second width direction Y, and the region A3 is The other end 6b in the first width direction X is disposed so as to form over the entire area in the second width direction Y. The area B3 is the area A
2 and the area across the entire area in the second width direction Y sandwiched between the area A3, the end of one side in the first width direction X contacts the area A2, and the other side in the first width direction X Is in contact with the area A3. Area A2, A3 and area B3
Are arranged in contact with each other as described above without forming a step in the second width direction Y and the thickness direction Z of the film 6, and are integrated.

【0018】このように異方導電性フィルム6は、その
第一幅方向X一端6a側から第一幅方向X他端6b側に
向かって、領域A2、領域B3、領域A3の順に、異方
導電性領域と絶縁性領域とが交互に配列される構成を有
する。領域B3は、上記の態様と同様に該フィルム6
の、電子部品の入出力電極と検査装置の電極との電気的
接触に関係しない部分に対応するように形成される。し
たがって領域B3の第一幅方向Xにおける長さD6は特
には限定されないが、好ましくは1〜30mm、より好
ましくは2〜15mmである。
As described above, the anisotropic conductive film 6 has an anisotropic conductive film 6 in the order of the region A2, the region B3 and the region A3 from the one end 6a in the first width direction X toward the other end 6b in the first width direction X. It has a configuration in which conductive regions and insulating regions are alternately arranged. The area B3 is the same as that of the above-described embodiment.
Are formed so as to correspond to portions not related to the electrical contact between the input / output electrodes of the electronic component and the electrodes of the inspection device. Therefore, the length D6 of the region B3 in the first width direction X is not particularly limited, but is preferably 1 to 30 mm, more preferably 2 to 15 mm.

【0019】上記の異方導電性フィルム6は、絶縁性領
域のうち少なくとも領域B3の弾性率が、好ましくは
0.01〜10GPa、より好ましくは0.05〜5G
Paである。上記弾性率が0.01GPa未満である
と、後述の検査装置を用いた電子部品の機能検査におい
て位置合わせや取り外しが困難となってしまう不具合が
あるので好ましくない。また絶縁性領域の少なくともい
ずれかの領域に後述する折り曲げ加工を施した場合に折
り目となる部分の強度が不充分であったり、後述する貫
通孔または凹所を形成するための穴あけ加工を施す場合
に加工性が悪かったして、位置合わせが不安定となって
しまう不具合があり好ましくない。上記弾性率が10G
Paを超えると、後述の検査装置を用いた電子部品の機
能検査において、接触荷重を作用させた際のコンタクト
ピンの第一幅方向Xに概ね沿って広がるようなずれを許
容することができず好ましくない。また上記折り曲げ加
工を施すのが困難であったり上記穴あけ加工を施すと割
れが生じてしまったりと加工性が悪く好ましくない。
In the anisotropic conductive film 6, the elastic modulus of at least the region B3 of the insulating region is preferably 0.01 to 10 GPa, more preferably 0.05 to 5 GPa.
Pa. If the elastic modulus is less than 0.01 GPa, it is not preferable because there is a problem that alignment and removal become difficult in a function test of an electronic component using a test device described later. Also, when at least one of the insulating regions is subjected to a bending process described below, the strength of a portion to be folded is insufficient, or a hole is formed to form a through hole or a recess described below. In addition, there is a disadvantage that the workability is poor and the alignment becomes unstable, which is not preferable. The elastic modulus is 10G
If the pressure exceeds Pa, in a functional inspection of an electronic component using an inspection device described later, it is not possible to tolerate a shift that spreads substantially along the first width direction X of the contact pin when a contact load is applied. Not preferred. In addition, it is difficult to perform the above-mentioned bending process, and if the above-described boring process is performed, a crack is generated.

【0020】図3は、本発明の第一グループの好ましい
他の例の異方導電性フィルム11を簡略化して示す図で
あり、図3(a)は上面図、図3(b)は図3(a)の
切断面線IIIb−IIIbからみた断面図である。な
お切断面線IIIb−IIIbは、異方導電性フィルム
11の厚み方向Z(図3(a)においては紙面に対して
垂直な方向)に平行でありかつ導通路3を通る仮想一平
面における切断面線である。なお図1に示した異方導電
性フィルム1と同様の構成を有する部分には、同一の参
照符を付して説明を省略する。図3に示す態様の異方導
電性フィルム11は、本発明の第一グループに属する異
方導電性フィルムであって、異方導電性領域として二個
の領域A4,A5と、絶縁性領域として三個の領域B
4,B5,B6とを有するため、領域A4,A5を用い
て二個の電子部品を同時に検査できるという特徴を有す
る。
FIG. 3 is a simplified view showing another preferred example of the anisotropic conductive film 11 of the first group of the present invention. FIG. 3 (a) is a top view and FIG. 3 (b) is a view. FIG. 3 (a) is a cross-sectional view taken along line IIIb-IIIb. The cutting plane line IIIb-IIIb is parallel to the thickness direction Z of the anisotropic conductive film 11 (in FIG. 3A, perpendicular to the plane of the drawing) and cut along a virtual plane passing through the conduction path 3. It is a surface line. Parts having the same configuration as the anisotropic conductive film 1 shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. The anisotropic conductive film 11 of the embodiment shown in FIG. 3 is an anisotropic conductive film belonging to the first group of the present invention, and has two regions A4 and A5 as anisotropic conductive regions and an insulating region. Three areas B
4, B5 and B6, two electronic components can be inspected simultaneously using the regions A4 and A5.

【0021】異方導電性フィルム11は、領域B4およ
び領域B5が各々該フィルムの両端に配置され、該領域
B4,B5間に領域A4,A5が配置され、該領域A
4,A5間に領域B6が配置されて、互いに段差を形成
することなく一列に配置される構成を有する。詳しく述
べると、領域B4,B5は、フィルム11の第一幅方向
X両端11a,11bを第二幅方向Y全域にわたって形
成するようにそれぞれ配置される。このような領域B
4,B5間に挟まれて領域A4,A5が配置される。領
域A4,A5は、共に該フィルム11の第二幅方向Y全
域にわたる領域であり、領域A4はその第一幅方向X一
方側の端部が領域B4に接し、領域A5はその第一幅方
向X他方側の端部が領域B5に接する。領域B6は、こ
のような領域A4と領域A5との間に配置される上記第
二幅方向Yの全域にわたる領域であって、その第一幅方
向X一方側の端部が領域A4に接するとともに、その第
一幅方向X他方側の端部が領域A5に接する。領域A
4,A5および領域B4,B5,B6は、それぞれ該フ
ィルム11の第二幅方向Yおよび厚み方向Zに段差を形
成することなく上記のように互いに接して配置され、一
体化されている。
In the anisotropic conductive film 11, a region B4 and a region B5 are respectively disposed at both ends of the film, and regions A4 and A5 are disposed between the regions B4 and B5.
Regions B6 are arranged between the lines A4 and A5, and are arranged in a line without forming a step. More specifically, the regions B4 and B5 are arranged so as to form both ends 11a and 11b in the first width direction X of the film 11 over the entire region in the second width direction Y. Such an area B
Regions A4 and A5 are arranged between the regions A4 and B5. The regions A4 and A5 are both regions that cover the entire region of the film 11 in the second width direction Y. The region A4 has an end on one side in the first width direction X and the region B4, and the region A5 is in the first width direction. The other end on the X side is in contact with the region B5. The region B6 is a region which is disposed between the region A4 and the region A5 and covers the entire region in the second width direction Y, and one end of the first width direction X is in contact with the region A4. The end on the other side in the first width direction X contacts the region A5. Area A
4, A5 and regions B4, B5, B6 are arranged in contact with each other as described above without forming a step in the second width direction Y and the thickness direction Z of the film 11, and are integrated.

【0022】このように異方導電性フィルム11は、そ
の第一幅方向X一端11a側から第一幅方向X他端11
b側に向かって、領域B4、領域A4、領域B6、領域
A5、領域B5の順に、異方導電性領域と絶縁性領域と
が交互に配列される構成を有する。領域B4,B5,B
6は、上記の態様と同様に該フィルム11の、電子部品
の入出力電極と検査装置の電極との電気的接触に関係し
ない部分に対応するように形成される。したがって領域
B4,B5,B6の第一幅方向Xにおける長さD7,D
8,D9は同一である必要もなく特には限定されない
が、好ましくは長さD7が1〜30mm、長さD8が1
〜30mm、長さD9が1〜30mmであり、より好ま
しくは長さD7が2〜15mm、長さD8が2〜15m
m、長さD9が2〜15mmである。
As described above, the anisotropic conductive film 11 is moved from the first width direction X end 11a side to the first width direction X other end 11a.
An anisotropic conductive region and an insulating region are arranged alternately in the order of the region B4, the region A4, the region B6, the region A5, and the region B5 toward the b side. Regions B4, B5, B
6 is formed so as to correspond to a portion of the film 11 which is not related to the electrical contact between the input / output electrodes of the electronic component and the electrodes of the inspection device, as in the above embodiment. Therefore, the lengths D7, D of the regions B4, B5, B6 in the first width direction X
8 and D9 need not be the same and are not particularly limited, but preferably have a length D7 of 1 to 30 mm and a length D8 of 1
~ 30mm, length D9 is 1 ~ 30mm, more preferably length D7 is 2 ~ 15mm, length D8 is 2 ~ 15m
m and the length D9 are 2 to 15 mm.

【0023】上記の異方導電性フィルム11は、絶縁性
領域のうち少なくとも領域B6の弾性率が、図2に示し
た異方導電性フィルム6の絶縁性領域と同様に、好まし
くは0.01〜10GPa、より好ましくは0.05〜
5GPaである。
The anisotropic conductive film 11 preferably has an elastic modulus of at least the region B6 of the insulating region, preferably at least 0.01, similarly to the insulating region of the anisotropic conductive film 6 shown in FIG. -10 GPa, more preferably 0.05-
5 GPa.

【0024】本発明の異方導電性フィルムにおける異方
導電性領域ならびに絶縁性領域の材料などは、その好ま
しい製造方法と関連させて後述する。
The material of the anisotropic conductive region and the insulating region in the anisotropic conductive film of the present invention will be described later in connection with a preferred production method.

【0025】図4は、図3に示す態様の異方導電性フィ
ルム11の領域B4,B5に折り曲げ加工が施された状
態を示す断面図である。本発明の異方導電性フィルム
は、絶縁性領域のうち少なくともいずれかの領域に該フ
ィルムの厚み方向への折り曲げ加工が施されていてもよ
い。絶縁性領域は、異方導電性領域と異なり導通路3を
有しないので、たとえば折り曲げ加工など、後述する本
発明の異方導電性フィルムを用いた電子部品の機能検査
において検査装置の電極および電子部品の入出力電極に
異方導電性領域を位置合わせし易くするための様々な加
工を容易に施すことができる。詳しく述べると、絶縁性
領域がフィルムの両端に配置される領域を必ず有する本
発明の第一グループに属する異方導電性フィルムの場
合、絶縁性領域のうち上記両端に配置される領域に少な
くとも上記加工を施すことができる。また異方導電性領
域がフィルムの両端に配置される領域を必ず有する、換
言すれば絶縁性領域が異方導電性領域に挟まれる領域を
必ず有する本発明の第二グループに属する異方導電性フ
ィルムの場合、上記異方導電性領域に挟まれる領域に少
なくとも加工を施すことができる。図3に示した本発明
の第一グループに属する異方導電性フィルム11につい
ては、領域B4,B5,B6のうちいずれの領域に上記
加工が施されてもよい。図4に示す場合では、たとえば
両端に配置される領域B4,B5に折り曲げ加工が施さ
れる。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state in which the regions B4 and B5 of the anisotropic conductive film 11 of the embodiment shown in FIG. 3 are bent. In the anisotropic conductive film of the present invention, at least one of the insulating regions may be bent in the thickness direction of the film. Since the insulating region does not have the conduction path 3 unlike the anisotropic conductive region, the electrode and the electronic device of the inspection device are used in the function inspection of an electronic component using the anisotropic conductive film of the present invention, which will be described later, such as bending. Various processes can be easily performed to facilitate alignment of the anisotropic conductive region with the input / output electrodes of the component. More specifically, in the case of an anisotropic conductive film belonging to the first group of the present invention, the insulating region necessarily having a region arranged at both ends of the film, at least the above-described region in the insulating region arranged at both ends of the insulating region Processing can be performed. Further, the anisotropic conductive region belonging to the second group of the present invention necessarily has a region arranged at both ends of the film, in other words, the insulating region necessarily has a region sandwiched between the anisotropic conductive regions. In the case of a film, at least processing can be performed on a region sandwiched between the anisotropic conductive regions. Regarding the anisotropic conductive film 11 belonging to the first group of the present invention shown in FIG. 3, the above processing may be applied to any of the regions B4, B5, and B6. In the case shown in FIG. 4, for example, the regions B4 and B5 arranged at both ends are bent.

【0026】図4に示す異方導電性フィルム11は、領
域B4内の端部分14が折り目15を形成して厚み方向
Z一方側に折り曲げられるとともに、領域B5内の端部
分16が折り目17を形成して厚み方向Z一方側に折り
曲げられてなる。ここで上記端部分14は該フィルム1
1の端部11aの最も第一幅方向X一方側の部分であ
り、上記端部分16は該フィルム11の端部11bの最
も第一幅方向X他方側の部分である。折り目15,17
の形成のされ方は特には限定されないが、好ましくは第
二幅方向Yと略平行に形成される。なお図4において第
二幅方向Yは、紙面に対して垂直な方向となる。
In the anisotropic conductive film 11 shown in FIG. 4, the end portion 14 in the region B4 forms a fold 15 and is bent to one side in the thickness direction Z, and the end portion 16 in the region B5 forms the fold 17 It is formed and bent to one side in the thickness direction Z. Here, the end portion 14 is the film 1
One end 11a is the part on the one side in the first width direction X, and the end part 16 is the end 11b of the film 11 on the other side in the first width direction X. Creases 15, 17
Is not particularly limited, but is preferably formed substantially parallel to the second width direction Y. In FIG. 4, the second width direction Y is a direction perpendicular to the paper surface.

【0027】図4では該フィルム11の各端部分14,
16が各々厚み方向Z一方側に折り曲げられた態様を示
したけれども、各端部分14,16は共に厚み方向Z他
方側に折り曲げられてもよい。また該フィルム11を装
着する検査装置および/または検査すべき電子部品の形
態によっては、各端部分14,16のうちいずれか一方
が厚み方向Z一方側に折り曲げられ、いずれか他方が厚
み方向Z他方側に折り曲げられる態様であってもよい。
またいずれかの絶縁性領域に、後述する貫通孔または凹
所をさらに形成してもよい。
In FIG. 4, each end portion 14,
Although each of the end portions 14 and 16 is bent to the other side in the thickness direction Z, although each of the end portions 16 is shown to be bent to one side in the thickness direction Z. Further, depending on the type of the inspection device to which the film 11 is mounted and / or the form of the electronic component to be inspected, one of the end portions 14 and 16 is bent in one direction in the thickness direction Z, and the other is in the thickness direction Z. It may be configured to be bent to the other side.
Further, a through-hole or a recess described later may be further formed in any of the insulating regions.

【0028】上記各折り目15,17が形成される位置
は、該フィルム11を装着する検査装置および/または
検査対象である電子部品の形態によって様々に設定する
ことができる。このように折り目15,17の位置はフ
ィルム11の両端に配置される領域B4,B5内であれ
ば特には限定されないが、たとえば図4に示すように折
り目15,17が共に第二幅方向Yに略平行であるとす
る場合、この折り目15,17間の部分18の第一幅方
向Xにおける長さD10は、好ましくは2〜40mm、
より好ましくは8〜25mmである。
The positions at which the folds 15 and 17 are formed can be set variously depending on the type of the inspection device on which the film 11 is mounted and / or the electronic component to be inspected. The positions of the folds 15 and 17 are not particularly limited as long as they are within the regions B4 and B5 arranged at both ends of the film 11, but for example, as shown in FIG. If the length D10 of the portion 18 between the folds 15 and 17 in the first width direction X is preferably 2 to 40 mm,
More preferably, it is 8 to 25 mm.

【0029】図5は、図4の折り曲げ加工を施された異
方導電性フィルム11の電子部品の機能検査への使用の
一例を模式的に示す図である。なお図5に示す機能検査
においては、検査する電子部品の一例としてSOP(S
mall outlinepackage)のパッケー
ジのIC19を用い、該IC19の外部との電気的接続
のための入出力電極を接触対象とする。入出力電極は、
IC19の外部に向けて伸びる導体部分であるリードピ
ン20を有する。また検査装置としては、SOPパッケ
ージのIC検査用ソケット21を用いる。図5(a)で
は該検査用ソケット21が開放された状態が示され、図
5(b)では該検査用ソケット21が閉じられた状態が
示される。
FIG. 5 is a diagram schematically showing an example of use of the bent anisotropic conductive film 11 of FIG. 4 for function inspection of an electronic component. In the function test shown in FIG. 5, the SOP (S
An IC 19 of a package of a mall outline package is used, and input / output electrodes for electrical connection to the outside of the IC 19 are to be contacted. Input and output electrodes are
It has a lead pin 20 which is a conductor portion extending toward the outside of the IC 19. As the inspection device, an IC inspection socket 21 of an SOP package is used. FIG. 5A shows a state in which the inspection socket 21 is opened, and FIG. 5B shows a state in which the inspection socket 21 is closed.

【0030】図5に示すようにIC19は、上記リード
ピン20がパッケージ22の厚み方向W一方側から規則
的に複数個突出する。パッケージ22は、その厚み方向
Wに対して垂直な断面形状が略長方形となるような略直
方体である。リードピン20は、パッケージ22の上記
略長方形の長辺となる二辺を各々形成する外縁に、該各
長辺に沿って任意の間隔をあけて突出する。図5では、
リードピン20は紙面に対して垂直な方向に任意の間隔
をあけて並んでいる。
As shown in FIG. 5, in the IC 19, a plurality of the lead pins 20 regularly protrude from one side in the thickness direction W of the package 22. The package 22 is a substantially rectangular parallelepiped whose cross section perpendicular to the thickness direction W is substantially rectangular. The lead pins 20 protrude from the outer edges of the package 22 that form two long sides that are long sides of the substantially rectangular shape at an arbitrary interval along the long sides. In FIG.
The lead pins 20 are arranged at an arbitrary interval in a direction perpendicular to the paper surface.

【0031】検査装置である検査用ソケット21は、基
本的には、ハウジング23と、電極部24と、コンタク
トピン25とを有する。ハウジング23は、上蓋となる
第一ハウジング部26と、第一ハウジング部26側に開
口を有する箱状の第二ハウジング部27とを備える。第
一ハウジング部26と第二ハウジング部27とは、第一
ハウジング部26が軸23aまわりに角変位して検査用
ソケット21を開閉することができる。なお軸23a
は、図5において紙面に対し垂直な方向に伸びる。
The inspection socket 21 as an inspection device basically has a housing 23, an electrode portion 24, and a contact pin 25. The housing 23 includes a first housing portion 26 serving as an upper lid, and a box-shaped second housing portion 27 having an opening on the first housing portion 26 side. The first housing part 26 and the second housing part 27 can open and close the inspection socket 21 by the first housing part 26 being angularly displaced around the shaft 23a. The shaft 23a
Extends in a direction perpendicular to the plane of FIG.

【0032】電極部24は、その一端部が第二ハウジン
グ部27の底壁27aの中央付近から外部空間に突出す
るように、たとえば二個形成される。また該電極部24
は、その他端部が上記底壁27aを貫通し、第二ハウジ
ング部27の内部空間に露出する。このように電極部2
4は、第二ハウジング部27の底壁27aを介在して電
気的接続が可能であるように形成される。
For example, two electrode portions 24 are formed such that one end thereof protrudes from the vicinity of the center of the bottom wall 27a of the second housing portion 27 to the external space. The electrode portion 24
The other end penetrates the bottom wall 27 a and is exposed to the internal space of the second housing part 27. Thus, the electrode part 2
4 is formed so that electrical connection is possible via the bottom wall 27a of the second housing part 27.

【0033】コンタクトピン25は、ハウジング23内
に収容される導電性のピンであって、ソケット側接触部
28と、立ち上がり部29と、電子部品側接触部30と
を有する。ソケット側接触部28は、第二ハウジング部
27の内部空間において底壁27aの中央付近から底壁
27aに概ね沿って側壁に近づくように配置され、上記
の電極部24および立ち上がり部29に電気的接続が可
能なように連なる。立ち上がり部29は第二ハウジング
部27の底壁27a付近から第一ハウジング部26側に
向かうように各々立ち上がり、第二ハウジング部27の
開口付近において底壁27aに略平行に上記内部空間の
中央付近に向かう。電子部品側接触部30は、その各一
端部分30aが立ち上がり部29に電気的接続が可能な
ように連なる。また電子部品側接触部30は、各他端部
分30bが第二ハウジング部27の開口から突出する。
The contact pin 25 is a conductive pin accommodated in the housing 23, and has a socket-side contact portion 28, a rising portion 29, and an electronic component-side contact portion 30. The socket-side contact portion 28 is disposed in the internal space of the second housing portion 27 from near the center of the bottom wall 27a to approach the side wall substantially along the bottom wall 27a, and is electrically connected to the electrode portion 24 and the rising portion 29. Connect so that connection is possible. The rising portions 29 rise from the vicinity of the bottom wall 27a of the second housing portion 27 toward the first housing portion 26, respectively, and near the opening of the second housing portion 27 substantially parallel to the bottom wall 27a near the center of the internal space. Head for. Each of the electronic component-side contact portions 30 is connected so that one end portion 30 a thereof can be electrically connected to the rising portion 29. The other end portion 30 b of the electronic component side contact portion 30 projects from the opening of the second housing portion 27.

【0034】これによって、図5(b)に示す検査用ソ
ケット21を閉じた状態において、電極部24と、コン
タクトピン25の電子部品側接触部30の各他端部分3
0bとの間での電気的接続が可能となる。言うなれば電
子部品側接触部30の各他端部分30bが、検査装置の
電極に相当する。上述した構造を有する検査用ソケット
21を用いたIC19の機能検査において、該電子部品
側接触部30の各他端部分30bと入出力電極のリード
ピン20との間に、異方導電性フィルム11を介在させ
る。なお、異方導電性フィルム11は、異方導電性領域
としての領域A4および領域A5が、上記各他端部分3
0bおよび各入出力電極にそれぞれ接触する位置となる
ように介在される。
Thus, when the inspection socket 21 shown in FIG. 5B is closed, the other end portions 3 of the electrode portion 24 and the electronic component side contact portion 30 of the contact pin 25 are closed.
0b can be electrically connected. In other words, each other end portion 30b of the electronic component side contact portion 30 corresponds to an electrode of the inspection device. In the function test of the IC 19 using the test socket 21 having the above-described structure, the anisotropic conductive film 11 is placed between each other end portion 30b of the electronic component side contact portion 30 and the lead pin 20 of the input / output electrode. Intervene. In the anisotropic conductive film 11, the region A4 and the region A5 as anisotropic conductive regions have the other end portions 3 as described above.
0b and the input / output electrodes.

【0035】異方導電性フィルム11を上記のように介
在させた状態で、図5(b)に示すように第一ハウジン
グ部26を軸23aを中心として第二ハウジング部27
に近づく方向に角変位させて検査用ソケット21を閉じ
る。これによってコンタクトピン25、IC19および
異方導電性フィルム11のいずれもがハウジング23内
に収まらなければならず、上記入出力電極のリードピン
20および上記電子部品側接触部30には、異方導電性
フィルム11を介して接触抵抗値を測定可能な程度に互
いに押し付けられるような接触荷重が作用する。この状
態において、コンタクトピン25は上記接触荷重が失わ
れない程度にフィルム11の第一幅方向Xに概ね沿って
広がるようにずれて屈曲し、電子部品側接触部30、I
C19および異方導電性フィルム11のいずれもが、ハ
ウジング23内に収まることを可能にする。このように
して、電子部品側接触部30と入出力電極とが機能検査
可能に導通され、検査用ソケット21を用いてIC19
を機能検査できる。
With the anisotropic conductive film 11 interposed as described above, as shown in FIG. 5 (b), the first housing part 26 is pivoted about the shaft 23a to the second housing part 27.
The inspection socket 21 is closed by being angularly displaced in a direction approaching. As a result, all of the contact pins 25, the IC 19, and the anisotropic conductive film 11 must be accommodated in the housing 23. A contact load acts such that the contact resistance value can be measured to the extent that the contact resistance value can be measured via the film 11. In this state, the contact pins 25 are displaced and bent so as to spread substantially along the first width direction X of the film 11 to such an extent that the contact load is not lost, and the electronic component side contact portions 30 and I are bent.
Both C19 and anisotropic conductive film 11 allow it to fit within housing 23. In this manner, the electronic component-side contact portion 30 and the input / output electrode are electrically connected so that the function test can be performed.
Can be functionally tested.

【0036】このように電子部品の機能検査に異方導電
性フィルム11を使用することによって、従来検査を繰
り返している間に検査装置の電極に付着していた半田酸
化物などの汚れが、異方導電性フィルム11の表面に付
着する。これによって上記汚れが蓄積して測定に影響が
出るような抵抗の上昇が発生する前に異方導電性フィル
ム11のみを交換すれば良いので、検査装置の洗浄また
は交換が不要となる。したがって電子部品の機能検査工
程の中断時間および検査コストの上昇を抑えることがで
きる。
As described above, by using the anisotropic conductive film 11 for the function inspection of the electronic component, the stain such as the solder oxide adhered to the electrode of the inspection apparatus during the conventional inspection is removed. It adheres to the surface of the conductive film 11. As a result, only the anisotropic conductive film 11 needs to be replaced before the increase in the resistance that affects the measurement due to the accumulation of the dirt, so that cleaning or replacement of the inspection device is not required. Therefore, it is possible to suppress the interruption time of the function inspection process of the electronic component and an increase in the inspection cost.

【0037】上述したように異方導電性フィルム11
は、絶縁性領域のうち少なくとも領域B6の弾性率が、
好ましくは0.01〜10GPa、より好ましくは0.
05〜5GPaである。このように異方導電性フィルム
11は、領域A4,A5と比較して弾性率の低い領域B
6をその概ね中央付近に配置した構成である。さらに領
域B6は、該フィルム11の第二幅方向Yの全域にわた
る領域である。これによって上記のように接触荷重を作
用させた際のコンタクトピン25の第一幅方向Xに概ね
沿って広がるようなずれに対し、領域B6が第一幅方向
Xに概ね沿って伸び易く上記のずれを許容し得る構成と
することができる。したがって、上記弾性率を有する領
域が該フィルムの概ね中央付近で第二幅方向の全域にわ
たっていない構成と比較して、コンタクトピン25の電
子部品側接触部30の各他端部分30bの表面と、それ
に接触する該フィルム11の裏面との間の磨耗をより抑
制することができる。これによって、該フィルム11の
裏面の摩耗による汚れの発生をより抑制することができ
る。
As described above, the anisotropic conductive film 11
Is that the elastic modulus of at least the region B6 of the insulating regions is
Preferably from 0.01 to 10 GPa, more preferably from 0.1 to 10 GPa.
05 to 5 GPa. As described above, the anisotropic conductive film 11 has a region B having a lower elastic modulus than the regions A4 and A5.
6 is disposed near the center thereof. Further, the region B6 is a region covering the entire region of the film 11 in the second width direction Y. As a result, when the contact pin 25 is subjected to the contact load as described above, the region B6 is easily extended substantially along the first width direction X, while the contact pin 25 is displaced substantially along the first width direction X. It is possible to adopt a configuration that can tolerate the displacement. Therefore, as compared with a configuration in which the region having the elastic modulus does not cover the entire region in the second width direction near the center of the film, the surface of the other end portion 30b of the electronic component side contact portion 30 of the contact pin 25 includes: Abrasion between the film 11 and the back surface of the film 11 that contacts the film 11 can be further suppressed. Thereby, generation of dirt due to abrasion of the back surface of the film 11 can be further suppressed.

【0038】上記のように本発明における異方導電性領
域は、検査装置の電極と電子部品の入出力電極との間で
の電気的接続が可能なように、該電極と入出力電極とが
接触する部分に配置される必要がある。逆にいえば、該
フィルムのうち電気的接続の必要な部分のみに異方導電
性領域を配置すればよい。すなわち電気的接続の必要の
ない部分には、異方導電性領域よりも曲げ加工性、柔軟
性などに優れる絶縁性領域を配置するのが好ましい。
As described above, the anisotropic conductive region according to the present invention is formed so that the electrode of the inspection apparatus and the input / output electrode of the electronic component can be electrically connected to each other. It needs to be placed in the contacting part. Conversely, the anisotropic conductive region may be disposed only in a portion of the film that requires electrical connection. That is, it is preferable to dispose an insulating region having more excellent bending workability and flexibility than the anisotropic conductive region in a portion that does not require electrical connection.

【0039】このように本発明の異方導電性フィルム
は、異方導電性領域の占める割合を可及的に減らすこと
が可能である。異方導電性領域は、たとえば後述するよ
うに巻き線によって形成され、絶縁性領域と比較してコ
ストがかかる部分である。したがって本発明の異方導電
性フィルムは、異方導電性領域の占める割合の多い異方
導電性フィルムと比較して、より低いコストで製造する
ことが可能である。
As described above, in the anisotropic conductive film of the present invention, the proportion of the anisotropic conductive region can be reduced as much as possible. The anisotropic conductive region is, for example, formed by a winding as described later, and is a portion that costs more than the insulating region. Therefore, the anisotropic conductive film of the present invention can be manufactured at lower cost as compared with the anisotropic conductive film in which the proportion of the anisotropic conductive region occupies a large amount.

【0040】また図5では、図4に示した異方導電性フ
ィルム11が検査装置の電極と電子部品の入出力電極と
の間に介在されている。詳しく述べると、該フィルム1
1は、各端部分14,16が共に折り曲げられた方向
が、第二ハウジング部27の底壁27a側となるように
検査装置の電極上に被せて装着される。ここで、図4の
異方導電性フィルム11は、折り目15,17間の第一
幅方向Xにおける長さD10が、好ましくは電子部品側
接触部30の各他端部分30b間の距離よりもわずかに
大きくなるように形成される。
In FIG. 5, the anisotropic conductive film 11 shown in FIG. 4 is interposed between the electrode of the inspection device and the input / output electrode of the electronic component. Specifically, the film 1
1 is mounted over the electrode of the inspection device so that the direction in which both end portions 14 and 16 are bent is on the bottom wall 27a side of the second housing portion 27. Here, the length D10 of the anisotropic conductive film 11 in FIG. It is formed to be slightly larger.

【0041】上記のように折り曲げ加工を施した異方導
電性フィルム11を電子部品の機能検査に用いること
で、異方導電性領域を検査装置の電極上に容易に位置合
わせすることができる。これによって折り曲げ加工が施
されていない異方導電性フィルムと比較して、異方導電
性領域が電子部品の電極からずれることなくより容易に
かつ安定して検査装置に装着することができる。したが
って電気的な接続不良が起こりにくく、安定して電子部
品の機能検査を行うことができる。また上記のような折
り曲げ加工を施した異方導電性フィルム11は、検査装
置への装着が容易であるとともに、検査装置からの取り
外しも容易である。したがって上記のように繰り返しの
使用によって該フィルムに汚れが蓄積した場合には、折
り曲げ加工が施されていない異方導電性フィルムよりも
容易に交換することができる。
By using the anisotropic conductive film 11 that has been bent as described above for the function inspection of the electronic component, the anisotropic conductive region can be easily positioned on the electrode of the inspection device. As a result, as compared with an anisotropically conductive film that has not been bent, the anisotropically conductive region can be more easily and stably mounted on the inspection device without being shifted from the electrode of the electronic component. Accordingly, electrical connection failure is unlikely to occur, and the function test of the electronic component can be stably performed. In addition, the anisotropic conductive film 11 that has been subjected to the bending process as described above can be easily mounted on an inspection device and can be easily removed from the inspection device. Therefore, when dirt accumulates on the film due to repeated use as described above, the film can be replaced more easily than an anisotropic conductive film that has not been bent.

【0042】ここで上述した検査用ソケット21はあく
まで検査装置の一例に過ぎず、検査用ソケット以外の検
査装置、たとえば検査用基板などに本発明の異方導電性
フィルムを装着しても、同様の効果を得ることができ
る。またIC19もあくまで電子部品の一例であり、本
発明の異方導電性フィルムは、他の電子部品の機能検査
にも好適に使用することが可能である。
Here, the above-described inspection socket 21 is merely an example of an inspection device. Even if the anisotropic conductive film of the present invention is mounted on an inspection device other than the inspection socket, for example, an inspection substrate, the same applies. The effect of can be obtained. Further, the IC 19 is merely an example of an electronic component, and the anisotropic conductive film of the present invention can be suitably used for a function test of another electronic component.

【0043】図6は、本発明の好ましい他の例の異方導
電性フィルム31を簡略化して示す上面図である。異方
導電性フィルム31は、領域B4,B5に切れ目32,
33をさらに有する以外は、図3の異方導電性フィルム
11と同様であり、同様の構成を有する部分には同一の
参照符を付して説明は省略する。本発明の異方導電性フ
ィルムは、絶縁性領域のうち少なくともいずれかの領域
に、上記折り曲げ加工をより容易に施すための切れ目が
予め形成されてもよい。図6に示す場合では、たとえば
両端に配置される領域B4,B5に切れ目32,33が
形成される。該切れ目32,33に沿って折り曲げ加工
を施したときには、それぞれ折り目となる。切れ目32
は領域B4において第二幅方向Y全域にわたって形成さ
れるのが好ましく、同様に切れ目33は領域B5におい
て第二幅方向Y全域にわたって形成されるのが好まし
い。
FIG. 6 is a simplified top view showing another preferred example of the anisotropic conductive film 31 of the present invention. The anisotropic conductive film 31 has cuts 32 in regions B4 and B5.
Except for further having 33, it is the same as the anisotropic conductive film 11 of FIG. 3, and portions having the same configuration are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. In the anisotropic conductive film of the present invention, in at least one of the insulating regions, a cut may be formed in advance to more easily perform the bending process. In the case shown in FIG. 6, for example, cuts 32 and 33 are formed in regions B4 and B5 arranged at both ends. When a bending process is performed along the cuts 32 and 33, the cuts are formed. Break 32
Is preferably formed over the entire region in the second width direction Y in the region B4, and similarly, the cut 33 is preferably formed over the entire region in the second width direction Y in the region B5.

【0044】切れ目32,33は、図6に示すように断
続的な線状言わばミシン目状であってもよく、また連続
的な線状言わばスリット状であってもよい。ただし、切
れ目32,33をスリット状に形成する場合には、厚み
方向Zにおける適度な肉厚を残して形成する必要があ
る。
As shown in FIG. 6, the cuts 32 and 33 may be intermittent linear so-called perforations or continuous linear so-called slits. However, when the cuts 32 and 33 are formed in a slit shape, it is necessary to form the cuts while leaving an appropriate thickness in the thickness direction Z.

【0045】図7は、本発明の好ましいさらに他の例の
異方導電性フィルム35を簡略化して示す図であり、図
7(a)は上面図、図7(b)は図7(a)の切断面線
VIIb−VIIbからみた断面図である。なお切断面
線VIIb−VIIbは、異方導電性フィルム35の厚
み方向Z(図7(a)においては紙面に対して垂直な方
向)に平行でありかつ導通路3を通る仮想一平面におけ
る切断面線である。本発明の異方導電性フィルムにおい
ては、絶縁性領域のうち少なくともいずれかの領域に、
貫通孔または凹所が形成されてもよい。該貫通孔または
凹所は、本発明の異方導電性フィルムを用いた電子部品
の機能検査において検査装置の電極および電子部品の入
出力電極に異方導電性領域を位置合わせする基準とする
ことができ、これによって該位置合わせを容易に行うこ
とができる。異方導電性フィルム35は、領域B4,B
5に、上記厚み方向Zに概ね沿った貫通孔36a,36
b,37a,37bを有する以外は、図3の異方導電性
フィルム11と同様であり、同様の構成を有する部分に
は同一の参照符を付して説明は省略する。
FIG. 7 is a simplified view of an anisotropic conductive film 35 of still another preferred embodiment of the present invention. FIG. 7 (a) is a top view, and FIG. 7 (b) is a view showing FIG. 7) is a sectional view taken along line VIIb-VIIb of FIG. The cutting plane line VIIb-VIIb is parallel to the thickness direction Z of the anisotropic conductive film 35 (the direction perpendicular to the paper surface in FIG. 7A) and is a cut in a virtual plane passing through the conduction path 3. It is a surface line. In the anisotropic conductive film of the present invention, at least one of the insulating regions,
A through hole or recess may be formed. The through hole or the recess is used as a reference for aligning the anisotropic conductive region with the electrode of the inspection device and the input / output electrode of the electronic component in the function inspection of the electronic component using the anisotropic conductive film of the present invention. This facilitates the alignment. The anisotropic conductive film 35 has a region B4, B4
5, through-holes 36a, 36 substantially along the thickness direction Z.
Except for having b, 37a, and 37b, the configuration is the same as that of the anisotropic conductive film 11 in FIG. 3, and the portions having the same configuration are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

【0046】貫通孔36a,36b,37a,37b
は、上記のように本発明の異方導電性フィルムを電子部
品の機能検査に用いる場合に、異方導電性領域である領
域A4,A5を位置合わせするための基準となるように
形成される。図7の態様では、貫通孔36aは領域B4
の第二幅方向Y一方側に形成され、貫通孔36bは第二
幅方向Y他方側に形成される。また貫通孔37aは、領
域B5の第二幅方向Y一方側に形成され、貫通孔37b
は第二幅方向Y他方側に形成される。このような異方導
電性領域の位置合わせのための基準となる貫通孔の形
状、厚み方向Zに対して垂直な断面積、形成される個数
および形成される位置は、該フィルム35を装着する検
査装置の形態によって適宜変更することができる。また
上記貫通孔36a,36b,37a,37bに換えて、
上記厚み方向Zに貫通しない凹所を形成してもよい。
The through holes 36a, 36b, 37a, 37b
Is formed to be a reference for aligning the regions A4 and A5, which are the anisotropic conductive regions, when the anisotropic conductive film of the present invention is used for a function test of an electronic component as described above. . In the embodiment of FIG. 7, the through hole 36a is located in the region B4.
And the through hole 36b is formed on the other side in the second width direction Y. The through hole 37a is formed on one side of the region B5 in the second width direction Y, and the through hole 37b
Are formed on the other side in the second width direction Y. The shape of the through hole, the cross-sectional area perpendicular to the thickness direction Z, the number to be formed, and the position to be formed are used as the reference for positioning the anisotropic conductive region. It can be changed as appropriate depending on the form of the inspection device. Also, instead of the through holes 36a, 36b, 37a, 37b,
A recess that does not penetrate in the thickness direction Z may be formed.

【0047】図8は、図7の異方導電性フィルム35の
電子部品の機能検査への使用の一例を模式的に示す図で
ある。なお折り曲げ加工を施した異方導電性フィルム1
1に換えて貫通孔36a,36b,37a,37bを有
する異方導電性フィルム35を用いた以外は、図5
(a)に示した態様と同様であり、同様の構成を有する
部分には同一の参照符を付して説明は省略する。この機
能検査で用いる検査用ソケット38は、第二ハウジング
部27内においてその底壁27aから第一ハウジング部
26に向かって概ね垂直に突出した位置合わせ用ピン3
9a,39b,40a,40bが設けられていること以
外は、図5で用いた検査用ソケット21と同様である。
位置合わせ用ピン39b,40bは、それぞれ位置合わ
せ用ピン39a,40aよりも図8の紙面の奥行き側に
形成され、図8には現れない。
FIG. 8 is a diagram schematically showing an example of use of the anisotropic conductive film 35 of FIG. 7 for a function test of an electronic component. An anisotropic conductive film 1 that has been bent
5 except that an anisotropic conductive film 35 having through holes 36a, 36b, 37a, 37b was used in place of FIG.
This is the same as the embodiment shown in (a), and the portions having the same configuration are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted. The inspection socket 38 used in the function inspection is a positioning pin 3 that projects substantially vertically from the bottom wall 27a toward the first housing portion 26 in the second housing portion 27.
Except that 9a, 39b, 40a, and 40b are provided, it is the same as the test socket 21 used in FIG.
The positioning pins 39b and 40b are formed on the depth side of the sheet of FIG. 8 with respect to the positioning pins 39a and 40a, respectively, and do not appear in FIG.

【0048】上記貫通孔36a,36b,37a,37
bは、検査用ソケット38の位置合わせ用ピン39a,
39b,40a,40bに各々嵌まり込むような位置に
形成される。このように折り曲げ加工ではなく、位置合
わせのための基準となるような貫通孔または凹所を形成
した異方導電性フィルムを用いても、検査装置への装着
および取り外しを容易に行うことができ、電子部品の機
能検査において上記と同様の効果を得ることができる。
The through holes 36a, 36b, 37a, 37
b denotes a positioning pin 39a of the inspection socket 38,
39b, 40a, and 40b are formed at such positions as to be fitted respectively. As described above, even when using an anisotropic conductive film in which a through hole or a recess is formed as a reference for alignment, instead of bending, it can be easily attached to and detached from an inspection device. In the function inspection of the electronic component, the same effect as above can be obtained.

【0049】このように上述した各態様の異方導電性フ
ィルム1,6,11は、電子部品の機能検査において特
に好適に使用できるように、共に第二幅方向Yにおける
全域にわたる異方導電性領域と絶縁性領域とが互いに段
差を形成することなく交互に一列に配置され、絶縁性領
域のうち少なくともいずれかの領域に上記の様々な加工
を施し易い構成を有する。本発明の第一グループに属す
る異方導電性フィルムは、その両端に上記の様々な加工
を施し易い構成を有する。また本発明の第二グループに
属する異方導電性フィルムは、異方導電性領域間に挟ま
れた領域に上記の様々な加工を施し易い構成を有する。
As described above, the anisotropic conductive films 1, 6, and 11 of the above-described embodiments are both used in the second width direction Y so that the anisotropic conductive films 1, 6, and 11 can be used particularly suitably in the function inspection of electronic components. The regions and the insulating regions are alternately arranged in a row without forming a step, and have a configuration in which at least any one of the insulating regions can be easily subjected to the above-described various processes. The anisotropic conductive film belonging to the first group of the present invention has a configuration in which both ends thereof can be easily subjected to the various processes described above. Further, the anisotropic conductive film belonging to the second group of the present invention has a configuration in which the above-mentioned various processes can be easily applied to a region sandwiched between the anisotropic conductive regions.

【0050】したがって上述した折り曲げ、切れ目形
成、貫通孔または凹所の形成などの加工は、図1および
図2にそれぞれ示した態様の各異方導電性フィルム1,
6にも、好適に施すことができる。本発明の第一グルー
プに属する図1に示した異方導電性フィルム1では、フ
ィルム1の両端に配置される領域B1,B2に上記加工
を施すことで、異方導電性領域を検査装置の電極上に容
易に位置合わせできる異方導電性フィルムとすることが
できる。また図2に示した本発明の第二グループに属す
る異方導電性フィルム6では、たとえば位置合わせ用ピ
ンを備える検査装置に対し、領域B3に該位置合わせ用
ピンに対応して貫通孔または凹所を形成すれば、該検査
装置に容易に位置合わせできる異方導電性フィルムとす
ることができる。またたとえば位置合わせ用の凹型溝を
備える検査装置に対し、領域B3に該凹型溝に対応して
凹型に折り曲げることで、該検査装置に容易に位置合わ
せできる異方導電性フィルムとすることができる。
Therefore, the above-described processing such as bending, forming a cut, and forming a through hole or a recess is performed by the anisotropic conductive films 1 and 2 shown in FIGS. 1 and 2 respectively.
6 can also be suitably applied. In the anisotropic conductive film 1 shown in FIG. 1 belonging to the first group of the present invention, the above-described processing is performed on the regions B1 and B2 arranged at both ends of the film 1 so that the anisotropic conductive region can be inspected by the inspection apparatus. An anisotropic conductive film that can be easily positioned on the electrode can be obtained. Further, in the anisotropic conductive film 6 belonging to the second group of the present invention shown in FIG. 2, for example, in the inspection device having the positioning pins, a through hole or a recess is formed in the region B3 corresponding to the positioning pins. By forming a place, an anisotropic conductive film that can be easily aligned with the inspection device can be obtained. Further, for example, an anisotropic conductive film that can be easily aligned with the inspection device can be obtained by folding the region B3 into a concave shape corresponding to the concave groove in an inspection device having a concave groove for alignment. .

【0051】ここで、上記した各態様の異方導電性フィ
ルム1,6,11,31,35は、各導通路3とフィル
ム基材2との間に被覆層が形成されるような構成であっ
てもよい。該被覆層は、絶縁性材料からなり、各導通路
3のフィルム基材2の表裏面に露出したその両端部を除
く残余の部分を被覆する。各導通路3にこのような被覆
層が形成されることによって、フィルム基材2と各導通
路3との接着性、得られる異方導電性フィルムの強度、
耐熱性、誘電特性などが改善される。これらは、後述す
るようにフィルム基材の材料と該被覆層の材料とを適宜
選択することによって達成され得る。各導通路3とフィ
ルム基材2との間の被覆層の厚みは、目的の異方導電性
フィルムの導通路間のピッチ、即ち単位面積当たりの数
により適宜選択されるが、たとえば円筒状に形成された
場合において、好ましくは0.5〜50μm、より好ま
しくは1〜20μmである。またこのような被覆層は、
1層に限らず、複数層形成されてもよい。
Here, the anisotropic conductive films 1, 6, 11, 31, and 35 of the above-described embodiments have a configuration in which a coating layer is formed between each conductive path 3 and the film substrate 2. There may be. The coating layer is made of an insulating material, and covers the remaining portions of each conductive path 3 excluding both ends exposed on the front and back surfaces of the film substrate 2. By forming such a coating layer on each conductive path 3, the adhesiveness between the film substrate 2 and each conductive path 3, the strength of the obtained anisotropic conductive film,
Heat resistance and dielectric properties are improved. These can be achieved by appropriately selecting the material of the film substrate and the material of the coating layer as described later. The thickness of the coating layer between each conductive path 3 and the film substrate 2 is appropriately selected according to the pitch between the conductive paths of the desired anisotropic conductive film, that is, the number per unit area. When formed, the thickness is preferably 0.5 to 50 μm, more preferably 1 to 20 μm. Also, such a coating layer,
Not limited to one layer, a plurality of layers may be formed.

【0052】次に、本発明による異方導電性フィルムの
好ましい製造方法を、図1の異方導電性フィルム1を製
造する場合を例に挙げて説明する。上記製造方法の好ま
しい一例は、基本的には、巻き線コイル形成工程、
巻き線コイルブロック形成工程、複合ブロック形成工
程ならびにフィルム形成工程の四つの工程を有する。
Next, a preferred method of manufacturing the anisotropic conductive film according to the present invention will be described with reference to an example of manufacturing the anisotropic conductive film 1 shown in FIG. A preferred example of the above manufacturing method is basically a winding coil forming step,
It has four steps: a winding coil block forming step, a composite block forming step, and a film forming step.

【0053】巻き線コイル形成工程ではまず、導電性
材料からなる線材に、絶縁性材料からなる被覆層を少な
くとも1層以上形成し、絶縁導線を形成する。被覆層は
必要に応じて何層としてもよい。複数の被覆層を形成す
る場合には、その最外層が異方導電性領域のフィルム基
材に相当する。図1における導通路3の場合はフィルム
基材2との間に被覆層を有しないので、フィルム基材2
に相当する被覆層1層のみを形成する。線材の表面に被
覆層を形成する方法としては、従来公知の方法が採用さ
れ、例えば溶剤コーティング(湿式コーティング)、溶
融コーティング(乾式コーティング)等が挙げられる。
In the winding coil forming step, first, at least one coating layer made of an insulating material is formed on a wire made of a conductive material to form an insulated conductor. The coating layer may be any number of layers as needed. When a plurality of coating layers are formed, the outermost layer corresponds to the film substrate in the anisotropic conductive region. In the case of the conductive path 3 in FIG.
Is formed only in one coating layer. As a method for forming the coating layer on the surface of the wire, a conventionally known method is employed, and examples thereof include solvent coating (wet coating) and melt coating (dry coating).

【0054】この絶縁導線を芯材上に巻き線し、ロール
状の巻き線コイルを形成する。芯材の形状としては特に
は限定されないが、直方体状のものを用いるのが好まし
い。巻き線は、リレー、トランスなどの電磁コイルを製
造するための公知技術、例えば、芯材を回転させるスピ
ンドル方式や、絶縁導線を周回させるフライヤー方式な
どを応用してよい。巻き線は、1本の絶縁導線を芯材に
巻き付ける一般的な方法や、複数本の絶縁導線を芯材に
巻き取る方法などが挙げられる。また巻き線は、粗い送
りピッチで高速回転させる乱巻きや、送りピッチを線材
外径程度として比較的低速回転で密着巻きし下層の線材
に対して俵積みの様に最密に線材を積み重ねてゆく最密
巻きが挙げられる。これらの巻き線の態様は、線径、コ
スト、用途などに応じて自由に決定してよいが、導通路
が規則正しく配列される高い品質の異方導電性フィルム
を得るためには最密巻きが好ましい。また巻き幅(電磁
コイルにおけるボビンの全長であって、1層内のターン
数に関係する)、厚み(層数に関係する)などは、目的
の異方導電性フィルムの寸法に応じて適当に決定して行
えば良い。
This insulated conductor is wound on a core material to form a roll-shaped winding coil. The shape of the core material is not particularly limited, but a rectangular parallelepiped shape is preferably used. For the winding, a known technique for manufacturing an electromagnetic coil such as a relay or a transformer, for example, a spindle method for rotating a core material, a fryer method for rotating an insulated conductor, or the like may be applied. Examples of the winding method include a general method of winding one insulated conductor around a core material and a method of winding a plurality of insulated conductors around a core material. In addition, the winding wire is turbulent winding that rotates at a high speed with a coarse feed pitch, or closely wound at a relatively low speed rotation with the feed pitch about the outer diameter of the wire, and the wires are stacked densely like a bales stack on the lower wire. And the closest winding. The form of these windings may be freely determined according to the wire diameter, cost, application, etc., but in order to obtain a high quality anisotropic conductive film in which the conductive paths are regularly arranged, the closest winding is required. preferable. The winding width (the total length of the bobbin in the electromagnetic coil and related to the number of turns in one layer), the thickness (related to the number of layers), and the like are appropriately determined according to the size of the desired anisotropic conductive film. You only have to decide.

【0055】巻き線コイルブロック形成工程では、上
記巻き線コイルを加熱および/または加圧して、互いに
隣接する絶縁導線同士をその最外の被覆層で融着および
/または圧着させて一体化させる。これによって巻き線
コイルブロックを形成する。なお上記加熱および/また
は加圧は、の工程の途中で巻き線を行いながら形成途
上の巻き線コイルに対して行ってもよく、あるいは巻き
線完了後の完成された巻き線コイルに対して行ってもよ
い。
In the winding coil block forming step, the winding coil is heated and / or pressurized, and the insulated conductors adjacent to each other are fused and / or pressed with the outermost coating layer to integrate them. Thereby, a winding coil block is formed. The heating and / or pressing may be performed on the wound coil that is being formed while winding is performed in the middle of the process, or may be performed on the completed wound coil after the completion of the winding. You may.

【0056】上記加熱および/または加圧は、巻き線コ
イルには巻き線の際にある程度のテンションを作用させ
ているので、加熱のみまたは加熱と同時の加圧が好まし
い。加熱の温度は、被覆層の材料に応じて適宜選択され
るが、通常該材料の軟化温度〜300℃程度であり、具
体的には50〜300℃程度である。加圧する場合、好
ましくは1〜100kg/cm2、より好ましくは2〜
20kg/cm2程度である。また加熱および/または
加圧の際に、絶縁導線間の空隙の空気を抜くために減圧
下で行っても良い。
In the heating and / or pressurizing, a certain amount of tension is applied to the wound coil during winding, so that only heating or pressurizing simultaneously with heating is preferable. The heating temperature is appropriately selected according to the material of the coating layer, but is usually from the softening temperature of the material to about 300 ° C., specifically, from about 50 to 300 ° C. When pressurizing, preferably 1 to 100 kg / cm 2 , more preferably 2 to 100 kg / cm 2
It is about 20 kg / cm 2 . In addition, the heating and / or pressurization may be performed under reduced pressure in order to remove air in the gap between the insulated conductive wires.

【0057】複合ブロック形成工程では、まず上記
の工程で得られた巻き線コイルブロックから切り出すな
どして、芯材を含まない直方体状の含線材ブロックを形
成する。含線材ブロックは、線材が直線状となり、かつ
その直方体状の各辺に概ね沿った互いに垂直な三軸方向
のうちいずれかの軸方向と線材の軸方向とが概ね平行と
なるように形成される。このように形成した含線材ブロ
ックと、絶縁性材料からなる直方体状の樹脂ブロックと
を交互に積層して、積層体を形成する。この際、含線材
ブロックは、線材の軸方向が各ブロックを積層する方向
である積層方向と略平行となるように積層される。
In the composite block forming step, first, a rectangular parallelepiped wire-containing material block containing no core material is formed by cutting out the wound coil block obtained in the above process. The wire-containing material block is formed such that the wire is linear, and any one of the three perpendicular directions substantially parallel to each side of the rectangular parallelepiped and the axial direction of the wire is substantially parallel. You. The wire-containing material block thus formed and the rectangular parallelepiped resin block made of an insulating material are alternately laminated to form a laminate. In this case, the wire-containing material blocks are stacked such that the axial direction of the wire is substantially parallel to the stacking direction in which the blocks are stacked.

【0058】上記積層体の形成において、本発明の第一
グループの異方導電性フィルムを製造する場合には、積
層体における積層方向の両端の二つの最外層が必ず樹脂
ブロックとなるように積層する。また本発明の第二グル
ープの異方導電性フィルムを製造する場合には、積層体
における積層方向の両端の二つの最外層が必ず含線材ブ
ロックとなるように積層する。このようにして形成され
た積層体を、加熱および加圧する。図9は、この複合
ブロック形成工程を模式的に示す図である。図1の異方
導電性フィルム1を製造する場合、図9(a)に示すよ
うに二個の樹脂ブロック42の間に一個の含線材ブロッ
ク41が介在されるように積層する。このように積層し
たものを互いに隣り合うブロック41,42同士で融着
させて、図9(b)に示すような一体化した複合ブロッ
ク43を形成する。
In the formation of the above-mentioned laminate, when the first group of anisotropic conductive films of the present invention is produced, the two outermost layers at both ends of the laminate in the laminating direction are necessarily resin blocks. I do. In the case of producing the second group of anisotropic conductive films of the present invention, lamination is performed so that the two outermost layers at both ends in the laminating direction of the laminate always become wire-containing blocks. The laminate thus formed is heated and pressed. FIG. 9 is a diagram schematically showing this composite block forming step. When the anisotropic conductive film 1 of FIG. 1 is manufactured, the anisotropic conductive film 1 is laminated so that one wire-containing material block 41 is interposed between two resin blocks 42 as shown in FIG. The laminate thus formed is fused with the blocks 41 and 42 adjacent to each other to form an integrated composite block 43 as shown in FIG. 9B.

【0059】上記加熱の温度は、樹脂ブロックの材料に
応じて適宜選択されるが、通常、材料の軟化温度〜30
0℃程度であり、具体的には50〜300℃程度であ
る。加圧する場合、好ましくは1〜100kg/c
2、より好ましくは2〜20kg/cm2程度である。
また加熱および/または加圧の際、層間の空隙の空気を
抜くために、減圧下で行っても良い。
The heating temperature is appropriately selected according to the material of the resin block.
The temperature is about 0 ° C., specifically, about 50 to 300 ° C. When pressurized, preferably 1 to 100 kg / c
m 2 , more preferably about 2 to 20 kg / cm 2 .
In addition, the heating and / or pressurization may be performed under reduced pressure in order to remove air in the gap between the layers.

【0060】フィルム形成工程では、この複合ブロッ
クから、線材の部分を導通路とし、の工程で融着およ
び/または圧着された被覆層の部分をフィルム基材と
し、含線材ブロックの部分を異方導電性領域とし、樹脂
ブロックの部分を絶縁性領域として、本発明の異方導電
性フィルムを形成する。図10は、このフィルム形成
工程を模式的に示す図である。異方導電性フィルム1
は、後述するフィルム形成手段44を用いて、上記複合
ブロック43をたとえばシート状にスライスすることで
形成される。フィルム1は、含線材ブロック41の線材
の軸方向がフィルム基材2の厚み方向Zと概ね略一致
し、かつ所定の厚みD3を有するように形成される。こ
の様な製造方法によれば、今まで製造が困難であった厚
みD3が50μm以上の異方導電性フィルムも容易につ
くることが可能となる。
In the film forming step, from the composite block, the wire portion is used as a conductive path, the fusion-bonded and / or pressure-bonded coating layer portion is used as a film base in the step, and the wire-containing block portion is anisotropically formed. The anisotropic conductive film of the present invention is formed by using the conductive block as the conductive region and the resin block portion as the insulating region. FIG. 10 is a diagram schematically showing this film forming step. Anisotropic conductive film 1
Is formed by slicing the composite block 43 into, for example, a sheet using a film forming unit 44 described later. The film 1 is formed such that the axial direction of the wire of the wire-containing material block 41 substantially coincides with the thickness direction Z of the film substrate 2 and has a predetermined thickness D3. According to such a production method, an anisotropic conductive film having a thickness D3 of 50 μm or more, which has been difficult to produce, can be easily produced.

【0061】このような各工程を経て、図1の異方導電
性フィルム1を好適に製造できる。すなわち、線材の部
分が領域A1における導通路3に相当し、線材の被覆層
のうちの工程で融着および/または圧着させた最外の
被覆層の部分がフィルム基材2に相当し、これらを含む
含線材ブロック41の部分が領域A1に相当し、樹脂ブ
ロック42の部分が領域B1,B2に相当する。このよ
うな製造方法では、図1の異方導電性フィルム1に限ら
ず、の工程における各ブロックの積層のさせ方を適宜
変えることによって、図2および図3の各異方導電性フ
ィルム6,11を製造することができる。すなわち、異
方導電性フィルム6の場合には、二個の含線材ブロック
41の間に一個の樹脂ブロック42が介在されるように
積層すればよい。また異方導電性フィルム11の場合に
は、三個の樹脂ブロック42の間に、それぞれ一個ずつ
の含線材ブロック41が介在されるように積層すればよ
い。このような含線材ブロック41および樹脂ブロック
42の大きさおよび積層の組み合わせは、特には限定さ
れず、製造しようとする異方導電性フィルムの必要とさ
れる異方導電性領域および絶縁性領域の面積、位置関係
によって適宜変更することが可能である。
Through these steps, the anisotropic conductive film 1 shown in FIG. 1 can be suitably manufactured. That is, the portion of the wire corresponds to the conductive path 3 in the region A1, and the portion of the outermost coating layer that has been fused and / or pressed in the step of the coating layer of the wire corresponds to the film substrate 2. The portion of the wire-containing material block 41 including the above corresponds to the region A1, and the portion of the resin block 42 corresponds to the regions B1 and B2. In such a manufacturing method, not only the anisotropic conductive film 1 of FIG. 1 but also a method of laminating the respective blocks in the step of FIG. 11 can be manufactured. That is, in the case of the anisotropic conductive film 6, it is sufficient to laminate the two wire-containing material blocks 41 so that one resin block 42 is interposed. Further, in the case of the anisotropic conductive film 11, it may be laminated so that one wire-containing material block 41 is interposed between three resin blocks 42. The size and the combination of the lamination of the wire-containing material block 41 and the resin block 42 are not particularly limited, and the required anisotropic conductive region and insulating region of the anisotropic conductive film to be manufactured are not limited. It can be appropriately changed depending on the area and the positional relationship.

【0062】また次に、本発明による異方導電性フィル
ムの他の好ましい製造方法を、図3の異方導電性フィル
ム11を製造する場合を例に挙げて説明する。上記製造
方法の好ましい他の例は、基本的には、巻き線コイル
形成工程、複合ブロック形成工程、ならびにフィル
ム形成工程の三つの工程を有する。
Next, another preferred method of manufacturing the anisotropic conductive film according to the present invention will be described with reference to an example of manufacturing the anisotropic conductive film 11 shown in FIG. Another preferable example of the manufacturing method basically has three steps of a winding coil forming step, a composite block forming step, and a film forming step.

【0063】巻き線コイル形成工程は、用いられる芯
材が絶縁性材料からなる直方体状の芯材に限定される以
外は、上述の好ましい製造方法の一例の巻き線コイル
形成工程と同様である。図3の異方導電性フィルム11
の導通路3も、フィルム基材2との間に被覆層を有しな
い構造なので、この場合はフィルム基材2に相当する最
外の被覆層1層のみを形成する。図11は、このの工
程によって形成された巻き線コイル46を簡略化して示
す斜視図である。巻き線コイル46は、直方体状の芯材
47に絶縁導線48を巻き付けてなる。上記のように芯
材47は直方体状であり、絶縁性材料からなる。
The winding coil forming step is the same as the winding coil forming step of the above-described preferred manufacturing method, except that the core used is limited to a rectangular parallelepiped core made of an insulating material. Anisotropic conductive film 11 of FIG.
Since the conductive path 3 has no coating layer between itself and the film substrate 2, only one outermost coating layer corresponding to the film substrate 2 is formed in this case. FIG. 11 is a perspective view schematically showing the winding coil 46 formed by this step. The winding coil 46 is formed by winding an insulated conductor 48 around a core 47 having a rectangular parallelepiped shape. As described above, the core material 47 has a rectangular parallelepiped shape, and is made of an insulating material.

【0064】複合ブロック形成工程では、まず前記
の工程によって形成した巻き線コイル46と絶縁性材料
からなる樹脂ブロック49とを、交互に積層して積層体
を形成する。この際、巻き線コイル46は、互いに隣り
合う樹脂ブロック49との間に必ず絶縁導線48が介在
するように積層される。このようにして形成された積層
体を、加熱および加圧する。図12は、この複合ブロ
ック形成工程を模式的に示す図である。図12では図3
の異方導電性フィルム11を製造する場合なので、二個
の樹脂ブロック49の間に一個の巻き線コイル46が介
在されるように積層する。このように積層したものを上
記のように加熱および/または加圧して、互いに隣接す
る絶縁導線48同士を、その最外の被覆層で融着および
/または圧着させると同時に、樹脂ブロック49と芯材
47とを絶縁導線48を介して融着および/または圧着
させることで一体化させて、芯材47を含む複合ブロッ
ク50を形成する
In the composite block forming step, first, the winding coil 46 formed in the above-described step and the resin block 49 made of an insulating material are alternately laminated to form a laminate. At this time, the winding coil 46 is laminated so that the insulated conductor 48 is always interposed between the adjacent resin blocks 49. The laminate thus formed is heated and pressed. FIG. 12 is a diagram schematically showing this composite block forming step. In FIG. 12, FIG.
Since the anisotropic conductive film 11 is manufactured, it is laminated so that one winding coil 46 is interposed between two resin blocks 49. The laminate thus obtained is heated and / or pressurized as described above so that the insulated conductors 48 adjacent to each other are fused and / or crimped by the outermost coating layer, and at the same time, the resin block 49 and the core are bonded. The material 47 is fused and / or crimped through the insulated conducting wire 48 to be integrated to form a composite block 50 including the core material 47.

【0065】フィルム形成工程では、この複合ブロッ
ク50から、線材の部分を導通路とし、の工程で融着
および/または圧着された被覆層の部分をフィルム基材
とし、絶縁導線の部分を異方導電性領域とし、樹脂ブロ
ックの部分および芯材の部分を絶縁性領域として、本発
明の異方導電性フィルムを形成する。図13は、この
フィルム形成工程を模式的に示す図である。複合ブロッ
ク50からの異方導電性フィルム11の形成には、たと
えば図10に示したのと同様のフィルム形成手段44を
用いる。フィルム11は、巻き線コイル46の線材の軸
方向がフィルム基材2の厚み方向Zと概ね略一致し、か
つ所定の厚みD3を有するように形成される。すなわち
この製造方法では、芯材47ごとフィルム11に形成す
る。
In the film forming step, from the composite block 50, the wire portion is used as a conductive path, the coating layer portion fused and / or crimped in the step is used as a film substrate, and the insulated conductive wire portion is anisotropically. The anisotropic conductive film of the present invention is formed by using the conductive block as the insulating area and the resin block and the core as the insulating area. FIG. 13 is a diagram schematically showing this film forming step. For forming the anisotropic conductive film 11 from the composite block 50, for example, the same film forming means 44 as shown in FIG. 10 is used. The film 11 is formed such that the axial direction of the wire of the winding coil 46 substantially matches the thickness direction Z of the film substrate 2 and has a predetermined thickness D3. That is, in this manufacturing method, the core material 47 is formed on the film 11.

【0066】このような各工程を経て、図3の異方導電
性フィルム11を好適に製造することができる。すなわ
ち、線材の部分が領域A4,A5における導通路3に相
当し、線材の被覆層のうちの工程で融着および/また
は圧着させた最外の被覆層の部分がフィルム基材2に相
当し、これらを含む巻き線コイル46の部分が領域A
4,A5に相当する。またこの巻き線コイル46に積層
した樹脂ブロック49の部分が領域B4,B5に相当
し、芯材47の部分が領域B6に相当する。巻き線コイ
ル46および樹脂ブロック49の大きさおよび積層の組
み合わせは、製造しようとする異方導電性フィルムの必
要とされる異方導電性領域および絶縁性領域の面積、位
置関係によって適宜変更することが可能である。
Through these steps, the anisotropic conductive film 11 of FIG. 3 can be suitably manufactured. That is, the wire portion corresponds to the conductive path 3 in the regions A4 and A5, and the outermost coating layer portion fused and / or pressed in the step of the wire coating layer corresponds to the film substrate 2. , The part of the winding coil 46 including these
4, A5. The portion of the resin block 49 laminated on the winding coil 46 corresponds to the regions B4 and B5, and the portion of the core material 47 corresponds to the region B6. The combination of the size and lamination of the winding coil 46 and the resin block 49 should be appropriately changed according to the area and positional relationship of the required anisotropic conductive region and insulating region of the anisotropic conductive film to be manufactured. Is possible.

【0067】上述した本発明の製造方法では、従来作成
が困難であった互いに異なる材料からなりかつ同じ厚み
を有する領域同士が段差を形成することなく接する異方
導電性フィルムを好適に製造することができる。
According to the above-described manufacturing method of the present invention, it is possible to preferably manufacture an anisotropic conductive film made of different materials and having the same thickness, which are difficult to form in the past, and in which the regions contact each other without forming a step. Can be.

【0068】図10および図13ではフィルム形成手段
44が刃物であるように示しているけれども、フィルム
形成手段44はその様な態様には限定されず、全ての切
断手段、切断工具を含む。また、上記複合ブロックから
のフィルムの形成においては、一個の複合ブロックから
一枚の異方導電性フィルムを得るだけならば、切削研磨
してもよい。形成した異方導電性フィルムの各面の仕上
げは、必要に応じて行う。
Although the film forming means 44 is shown as a blade in FIGS. 10 and 13, the film forming means 44 is not limited to such an embodiment, and includes all cutting means and cutting tools. In the formation of a film from the composite block, cutting and polishing may be performed as long as only one anisotropic conductive film is obtained from one composite block. Finishing of each surface of the formed anisotropic conductive film is performed as needed.

【0069】また本発明のフィルムの第一幅方向X両端
にそれぞれ配置される絶縁性領域に、上述した切れ目を
形成する加工については、トムソン刃加工などの一般的
な加工方法が挙げられる。たとえば図3の異方導電性フ
ィルム11の領域B4,B5に、上記の加工方法でたと
えばミシン目状の切れ目をさらに形成することで、図6
の異方導電性フィルム31を好適に製造することができ
る。
The processing for forming the above-described cuts in the insulating regions disposed at both ends in the first width direction X of the film of the present invention includes a general processing method such as Thomson blade processing. For example, in the regions B4 and B5 of the anisotropic conductive film 11 in FIG.
Can be suitably manufactured.

【0070】またさらに本発明のフィルムの第一幅方向
X両端にそれぞれ配置される絶縁性領域に、異方導電性
領域の位置合わせの基準となる貫通孔または凹所を形成
する加工については、トムソン刃加工、金型加工、ドリ
ル加工など、穴あけに使われる一般的な方法が挙げられ
る。図3の異方導電性フィルム11の領域B4,B5
に、上記の加工方法でたとえば貫通孔をさらに形成する
ことで、図7の異方導電性フィルム35を好適に製造す
ることができる。
Further, regarding the processing for forming a through hole or a recess as a reference for alignment of the anisotropic conductive region in the insulating region arranged at both ends in the first width direction X of the film of the present invention, General methods used for drilling, such as Thomson blade processing, die processing, and drill processing, may be used. Regions B4 and B5 of the anisotropic conductive film 11 in FIG.
Further, for example, by further forming a through hole by the above processing method, the anisotropic conductive film 35 of FIG. 7 can be suitably manufactured.

【0071】フィルム形成時の導通路3に相当する線材
として好ましい導電性材料は、金、銅、アルニウムなど
の金属細線であって、銅、アルミニウム線などの公知の
巻き線可能な強度を有するものが好ましい。また上記導
電性材料は、たとえば黄銅、青銅、SUSなどの合金の
金属細線を用いてもよい。
A conductive material that is preferable as a wire corresponding to the conductive path 3 at the time of film formation is a thin metal wire such as gold, copper, or aluminum, which has a known winding strength such as a copper or aluminum wire. Is preferred. The conductive material may be, for example, a thin metal wire of an alloy such as brass, bronze, or SUS.

【0072】フィルム形成時のフィルム基材2に相当す
る絶縁導線の最外の被覆層の材料としては、絶縁性材料
であれば熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂を問わず、公知の
樹脂材料が挙げられる。具体的には、熱可塑性ポリイミ
ド樹脂、エポキシ樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリ
アミド樹脂、シリコーン樹脂、フェノキシ樹脂、アクリ
ル樹脂、ポリカルボジイミド樹脂、フッ素樹脂、ポリエ
ステル樹脂、ポリウレタン樹脂などが挙げられ、目的に
応じて適宜選択される。これらの樹脂は単独でもあるい
は2種類以上混合して使用しても良い。また、これらの
樹脂には、その用途に応じ、各種の充填剤、可塑剤等あ
るいはゴム材料を添加しても良い。充填剤としては例え
ば、SiO2、Al23などが挙げられ、可塑剤として
は例えばTCP(リン酸トリクレシル)、DOP(フタ
ル酸ジオクチル)、ゴム材料としては例えばNBS(ア
クリロニトリルブタジエンゴム)、SBS(ポリスチレ
ン−ポリブチレン−ポリスチレン)などが挙げられる。
被覆層を1層以上形成する場合には、上記樹脂の中から
適宜選択して用いる。
As the material of the outermost coating layer of the insulated conductor corresponding to the film substrate 2 at the time of forming the film, a known resin material may be used regardless of a thermosetting resin or a thermoplastic resin as long as it is an insulating material. No. Specifically, thermoplastic polyimide resin, epoxy resin, polyetherimide resin, polyamide resin, silicone resin, phenoxy resin, acrylic resin, polycarbodiimide resin, fluororesin, polyester resin, polyurethane resin, etc. Selected as appropriate. These resins may be used alone or in combination of two or more. Various fillers, plasticizers, or rubber materials may be added to these resins depending on the application. Examples of the filler include SiO 2 and Al 2 O 3. Examples of the plasticizer include TCP (tricresyl phosphate) and DOP (dioctyl phthalate). Examples of the rubber material include NBS (acrylonitrile butadiene rubber) and SBS. (Polystyrene-polybutylene-polystyrene).
When one or more coating layers are formed, they are appropriately selected from the above resins and used.

【0073】フィルム形成時の絶縁性領域に相当する樹
脂ブロック42,49ならびに上記製造方法の他の例で
用いられた芯材47の材料としては、エンジニアリング
プラスチックとして公知の材料が挙げられる。具体的に
は、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアセ
タール樹脂、変性ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリ
ブチレンテレフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエ
ーテルイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテ
ルサルホン樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリアリレート樹
脂、ポリオキシベンゾイル樹脂、ポリエーテルエーテル
ケトン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエ
チレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポ
リウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂、ポ
リプロピレン樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。芯
材47の材料としては、上述の材料の中でもその弾性率
が好ましくは0.01〜10GPa、より好ましくは
0.05〜5GPaであるものを用いる。
As the material of the resin blocks 42 and 49 corresponding to the insulating region at the time of forming the film and the core material 47 used in another example of the above-mentioned manufacturing method, a material known as an engineering plastic can be used. Specifically, polyamide resin, polycarbonate resin, polyacetal resin, modified polyphenylene oxide resin, polybutylene terephthalate resin, polyimide resin, polyetherimide resin, polyamideimide resin, polyethersulfone resin, polysulfone resin, polyarylate resin, polyarylate resin Oxybenzoyl resin, polyether ether ketone resin, polyphenylene sulfide resin, polyethylene resin, polystyrene resin, polyester resin, polyurethane resin, polyolefin resin, fluorine resin, polypropylene resin, epoxy resin and the like can be mentioned. As the material of the core material 47, a material having an elastic modulus of preferably 0.01 to 10 GPa, more preferably 0.05 to 5 GPa is used among the above-mentioned materials.

【0074】また上記のように含線材ブロック41また
は巻き線コイル46に積層する樹脂ブロック42,49
の厚みは、フィルム形成時に必要とされる絶縁性領域の
広さによって適宜選択される。樹脂ブロックの厚みは、
好ましくは1〜30mm、より好ましくは2〜15mm
である。また芯材47の厚みもフィルム形成時に必要な
異方導電性領域間に挟まれる絶縁性領域の広さによって
適宜選択されるが、好ましくは1〜30mm、より好ま
しくは2〜15mmである。なお上記樹脂ブロック4
2,49および上記芯材47の厚みとは、フィルム形成
時における第一幅方向に相当する方向における長さをさ
す。
As described above, the resin blocks 42 and 49 laminated on the wire material block 41 or the winding coil 46 are used.
Is appropriately selected depending on the width of the insulating region required at the time of film formation. The thickness of the resin block is
Preferably 1 to 30 mm, more preferably 2 to 15 mm
It is. The thickness of the core material 47 is also appropriately selected according to the width of the insulating region sandwiched between the anisotropic conductive regions required for forming the film, but is preferably 1 to 30 mm, more preferably 2 to 15 mm. The above resin block 4
2, 49 and the thickness of the core material 47 refer to a length in a direction corresponding to the first width direction at the time of film formation.

【0075】ここで、上記したそれぞれの製造方法によ
って、図1〜図3にそれぞれ好ましい各例として示され
る本発明の異方導電性フィルム1,6,11が好適に製
造されるけれども、これらの各異方導電性フィルム1,
6,11を製造する方法は上記の各製造方法には限定さ
れず、上記以外の製造方法によって製造されたものであ
ってもよい。また本発明の異方導電性フィルムは例示し
た構造に限定されず、本発明の範囲を逸脱しない限り使
用される電子部品の機能検査の態様に応じた様々な好ま
しい構造を含有する。
Here, the anisotropic conductive films 1, 6, and 11 of the present invention shown as preferable examples in FIGS. 1 to 3 are preferably manufactured by the above-described respective manufacturing methods. Each anisotropic conductive film 1,
The method for producing 6, 11 is not limited to the above-described production methods, but may be a method produced by a production method other than the above. Further, the anisotropic conductive film of the present invention is not limited to the exemplified structure, and includes various preferable structures according to the mode of the function inspection of the electronic component used without departing from the scope of the present invention.

【0076】[0076]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に
説明するが、これらは単なる例示であり、本発明は、こ
れらにより何ら限定されるものではない。 (実施例1)本実施例では、銅からなる線材の表面に1
層の被覆層を形成して、図1に示す態様の異方導電性フ
ィルム1を作成した。まず、外径30μmの線材の表面
にポリカルボジイミド樹脂によって厚み12.5μmの
被覆層を形成し、外径55μmの絶縁導線とした。ポリ
カルボジイミド樹脂は、40gの2,2−ジメチル−
1,3−ビス(4−イソシアナートフェノキシ)プロパ
ン、1.14gのカルボジイミド化触媒である3−メチ
ル−1−フェニル−2−ホスホレン−1−オキシド、お
よび2.19gのp−イソプロピルフェニルイソシアナ
ートをトルエン中で80℃、2時間重合させて得たもの
を用いた。なお得られたポリカルボジイミド樹脂の平均
分子量は、12000であった。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, which are merely examples, and the present invention is not limited thereto. (Embodiment 1) In this embodiment, the surface of a copper wire is
An anisotropic conductive film 1 of the embodiment shown in FIG. 1 was formed by forming a coating layer. First, a coating layer having a thickness of 12.5 μm was formed with a polycarbodiimide resin on the surface of a wire having an outer diameter of 30 μm to obtain an insulated conductor having an outer diameter of 55 μm. Polycarbodiimide resin is 40 g of 2,2-dimethyl-
1,3-bis (4-isocyanatophenoxy) propane, 1.14 g of carbodiimidation catalyst 3-methyl-1-phenyl-2-phospholene-1-oxide, and 2.19 g of p-isopropylphenylisocyanate Was polymerized in toluene at 80 ° C. for 2 hours. The average molecular weight of the obtained polycarbodiimide resin was 12,000.

【0077】次に巻き取り装置を用いて、全長(巻き
幅)100mm、断面形状が50mm×10mmの長方
形である直方体状のアルミ芯材に最密巻きし線材を最密
充填して、1層当たりの平均巻き数1800ターン、巻
き層数300層(=層の厚み:約12mm)の巻き線コ
イルを形成した。
Next, using a winding device, a rectangular parallelepiped aluminum core material having a total length (winding width) of 100 mm and a cross-sectional shape of 50 mm × 10 mm is closest-wrapped, and the wire material is closest-packed. A winding coil having an average number of turns of 1800 turns and a number of turns of 300 (= layer thickness: about 12 mm) was formed.

【0078】得られた巻き線コイルを、約160℃に加
熱しながら、20kg/cm2で加圧し、ポリカルボジ
イミド樹脂を融着させ、室温まで冷却して、巻き付けた
絶縁導線がお互いに一体化した巻き線コイルブロックを
得た。
The obtained wound coil was heated at about 160 ° C. and pressurized at 20 kg / cm 2 to fuse the polycarbodiimide resin, and cooled to room temperature. The wound insulated wires were integrated with each other. The obtained winding coil block was obtained.

【0079】この巻き線コイルブロックを、巻き付けら
れた線材と垂直に交わる面を断面として直方体の板状に
切断し、100mm×50mm×10mmの含芯線ブロ
ックを得た。得られた含芯線ブロックを、二個の樹脂ブ
ロックで挟むように積層させ、積層体を得た。樹脂ブロ
ックとしては、100mm×50mm×3mmのポリエ
ステル樹脂板((株)東レデュポン製、ハイトレル、弾
性率:0.09GPa)を用いた。該積層体を、約20
0℃に加熱しながら20kg/cm2で加圧し、含線材
ブロックのポリカルボジイミド樹脂と樹脂ブロックのポ
リエステル樹脂とを融着させた後、室温まで冷却して、
含線材ブロックと樹脂ブロックとが一体化した複合ブロ
ックを得た。
This wound coil block was cut into a rectangular parallelepiped plate with the cross section perpendicular to the wound wire rod to obtain a cored wire block of 100 mm × 50 mm × 10 mm. The obtained cored wire block was laminated so as to be sandwiched between two resin blocks to obtain a laminate. As the resin block, a 100 mm × 50 mm × 3 mm polyester resin plate (manufactured by Toray DuPont, Hytrel, elastic modulus: 0.09 GPa) was used. About 20
While heating to 0 ° C., pressure is applied at 20 kg / cm 2 to fuse the polycarbodiimide resin of the wire-containing block and the polyester resin of the resin block, and then cool to room temperature.
A composite block in which the wire-containing material block and the resin block were integrated was obtained.

【0080】この複合ブロックを、巻き線コイル巻き付
けられた線材と垂直に交わる面を断面として薄くスライ
スし、外径寸法を仕上げて、第一幅D1が15mm、第
二幅D2が16.5mmかつ厚みD3が0.1mmの図
1の異方導電性フィルム1を得た。
The composite block is thinly sliced with the surface perpendicular to the wire wound by the coil wound as a cross section, and the outer diameter is finished. The first width D1 is 15 mm, the second width D2 is 16.5 mm and The anisotropic conductive film 1 of FIG. 1 having a thickness D3 of 0.1 mm was obtained.

【0081】(実施例2)実施例1において、絶縁導線
の巻き層数を65層(=層の厚み:約2.5mm)とし
たこと、100mm×50mm×2mmの板状の二個の
含線材ブロックを形成したこと、二個の含線材ブロック
の間に樹脂ブロックとして100mm×50mm×6m
mのポリエステル樹脂板((株)東レデュポン製、ハイ
トレル、弾性率:0.09GPa)を挟み、さらに含線
材ブロックを二個の100mm×50mm×3mmのポ
リエステル樹脂板で挟んで複合ブロックとした事以外
は、実施例1と同様にして、第一幅D1が15mm、第
二幅D2が16.5mmかつ厚みD3が0.1mmの図
2の異方導電性フィルム11を得た。
(Example 2) In Example 1, the number of winding layers of the insulated conductor was set to 65 (= layer thickness: about 2.5 mm), and two 100 mm × 50 mm × 2 mm plate-like layers were included. Forming a wire block, 100 mm x 50 mm x 6 m as a resin block between two wire rod blocks
m, a polyester resin plate (manufactured by Toray Dupont Co., Ltd., Hytrel, elastic modulus: 0.09 GPa), and a wire-containing material block sandwiched between two 100 mm × 50 mm × 3 mm polyester resin plates to form a composite block. Except for the above, an anisotropic conductive film 11 of FIG. 2 having a first width D1 of 15 mm, a second width D2 of 16.5 mm and a thickness D3 of 0.1 mm was obtained in the same manner as in Example 1.

【0082】(実施例3)芯材として断面形状が50m
m×6mmの長方形である板状のポリサルホン樹脂板
(弾性率:2.5GPa)を用いて100mm×55m
m×11mmの巻き線コイルを形成し、樹脂ブロックと
して100mm×50mm×3mmのポリサルホン樹脂
板(弾性率:2.5GPa)を用いて、得られた巻き線
ブロックを二個の前記樹脂ブロックで挟んで複合ブロッ
クとした事以外は、実施例1と同様にして、第一幅D1
が15mm、第二幅D2が16.5mmかつ厚みD3が
0.1mmの図3の異方導電性フィルム11を得た。
(Embodiment 3) The core material has a cross section of 50 m.
100 mm x 55 m using a rectangular plate-shaped polysulfone resin plate (elastic modulus: 2.5 GPa) of mx 6 mm
An m × 11 mm winding coil is formed, and the obtained winding block is sandwiched between the two resin blocks by using a 100 mm × 50 mm × 3 mm polysulfone resin plate (elastic modulus: 2.5 GPa) as a resin block. In the same manner as in Example 1 except that the first width D1
Was 15 mm, the second width D2 was 16.5 mm, and the thickness D3 was 0.1 mm to obtain the anisotropic conductive film 11 of FIG.

【0083】(比較例1)絶縁導線の巻き層数を540
層(=層の厚み:約21mm)としたこと、得られた巻
き線コイルブロックを樹脂ブロックと積層しない事以外
は、実施例1と同様にして第一幅が15mm、第二幅が
16.5mmかつ厚みが0.1mmの異方導電性フィル
ムを得た。
(Comparative Example 1) The number of winding layers of the insulated conductor was 540
The first width was 15 mm and the second width was 16 mm in the same manner as in Example 1 except that the layer was a layer (= layer thickness: about 21 mm) and the obtained wound coil block was not laminated with a resin block. An anisotropic conductive film having a thickness of 5 mm and a thickness of 0.1 mm was obtained.

【0084】(比較例2)樹脂ブロックの材質をエポキ
シ樹脂硬化物(フィラー70W%含有、弾性率:12G
Pa)とした以外は、実施例2と同様にして第一幅が1
5mm、第二幅が16.5mm、かつ厚みが0.1mm
の異方導電性フィルムを得た。
(Comparative Example 2) The material of the resin block was a cured epoxy resin (containing 70 W% of filler, elastic modulus: 12 G).
Pa), except that the first width was 1 in the same manner as in Example 2.
5mm, second width is 16.5mm, and thickness is 0.1mm
Was obtained.

【0085】(評価1)実施例1〜3で得られた異方導
電性フィルム1,11の第一幅方向両端にそれぞれ配置
される絶縁性領域ならびに比較例1で得られた異方導電
性フィルムの第一幅方向両端に、ミシン目状の切れ目を
トムソン刃にて加工し、切れ目に沿った折り曲げ加工を
試みた。結果は、表1の様になった。
(Evaluation 1) Insulating regions respectively arranged at both ends in the first width direction of the anisotropic conductive films 1 and 11 obtained in Examples 1 to 3 and the anisotropic conductivity obtained in Comparative Example 1. At both ends in the first width direction of the film, perforated cuts were formed with a Thomson blade, and bending along the cuts was attempted. The results were as shown in Table 1.

【0086】[0086]

【表1】 [Table 1]

【0087】この結果から分かるように、該フィルムの
第一幅方向両端に絶縁性領域を有しない比較例1の異方
導電性フィルムでは、加工時に破断が発生するためミシ
ン目状の切れ目を形成することができなかった。これに
対して上記第一幅方向両端に絶縁性領域を有する実施例
1〜3の異方導電性フィルム1,11では、ミシン目状
の切れ目を形成することができ、この切れ目を折り目と
して容易に折り曲げ加工を施すことができた。したがっ
て実施例1〜3で得られた本発明の異方導電性フィルム
1,11は、比較例1で得られた本発明でない異方導電
性フィルムよりも、検査用ソケットなどの検査装置への
装着ならびに位置合わせを容易に行えることが分かっ
た。
As can be seen from the results, in the anisotropic conductive film of Comparative Example 1 having no insulating regions at both ends in the first width direction of the film, breakage occurs during processing, so that a perforated cut is formed. I couldn't. On the other hand, in the anisotropic conductive films 1 and 11 of Examples 1 to 3 having insulating regions at both ends in the first width direction, perforated cuts can be formed, and the cuts can be easily formed as folds. Was able to be bent. Therefore, the anisotropic conductive films 1 and 11 of the present invention obtained in Examples 1 to 3 are better than the non-inventive anisotropic conductive films obtained in Comparative Example 1 for an inspection device such as an inspection socket. It has been found that mounting and positioning can be easily performed.

【0088】(評価2)実施例1〜3で得られた異方導
電性フィルムの第一幅方向両端にそれぞれ配置される絶
縁性領域ならびに比較例1の異方導電性フィルムの第一
幅方向両端に、位置合わせのための基準となる貫通孔を
形成すべく金型で穴あけ加工した。結果は、表2の様に
なった。
(Evaluation 2) Insulating regions respectively arranged at both ends in the first width direction of the anisotropic conductive films obtained in Examples 1 to 3 and the first width direction of the anisotropic conductive film of Comparative Example 1 Drilling was performed at both ends with a mold to form through holes serving as references for alignment. The results were as shown in Table 2.

【0089】[0089]

【表2】 [Table 2]

【0090】この結果から分かるように、該フィルムの
第一幅方向両端に絶縁性領域を有しない比較例1の異方
導電性フィルムでは、加工時に破断が発生するため貫通
孔を形成することができなかった。これに対して、上記
第一幅方向両端に絶縁性領域を有する本発明の異方導電
性フィルム1,11では、容易に位置合わせができるよ
うに貫通孔を形成することができた。したがって実施例
1〜3で得られた本発明の異方導電性フィルム1,11
は、比較例1で得られた本発明でない異方導電性フィル
ムよりも、検査用ソケットなどの検査装置への装着なら
びに位置合わせを容易に行えることが分かった。
As can be seen from the results, in the anisotropic conductive film of Comparative Example 1 having no insulating regions at both ends in the first width direction of the film, breakage occurs during processing, so that a through hole may be formed. could not. On the other hand, in the anisotropic conductive films 1 and 11 of the present invention having insulating regions at both ends in the first width direction, a through-hole could be formed so as to be easily aligned. Therefore, the anisotropic conductive films 1 and 11 of the present invention obtained in Examples 1 to 3
It can be seen that can be more easily mounted and positioned on an inspection device such as an inspection socket than the anisotropic conductive film which is not the present invention obtained in Comparative Example 1.

【0091】(評価3)次に、実施例1〜3ならびに比
較例1で得られた異方導電性フィルムの、フィルム全体
に対する異方導電性領域の割合は、それぞれ表3のよう
になった。
(Evaluation 3) Next, the proportions of the anisotropic conductive regions of the anisotropic conductive films obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 with respect to the entire film are as shown in Table 3. .

【0092】[0092]

【表3】 [Table 3]

【0093】実施例1〜3で得られた異方導電性フィル
ム1,11、特に実施例2で得られた異方導電性フィル
ム11では、比較例1で得られた異方導電性フィルムと
比較して異方導電性領域の割合が小さく、その分の製造
コストを低減することができる。
The anisotropic conductive films 1 and 11 obtained in Examples 1 to 3, particularly the anisotropic conductive film 11 obtained in Example 2, were the same as the anisotropic conductive films obtained in Comparative Example 1. In comparison, the ratio of the anisotropic conductive region is small, and the manufacturing cost can be reduced accordingly.

【0094】(評価4)次に、SOP検査用ソケット
((株)山一電機社製)に各異方導電性フィルムを装着
して、検査の繰り返し耐久性を評価した。なお、実施例
1〜3で得られた異方導電性フィルム1,11について
は、フィルム両端の絶縁性領域に折り曲げ加工を予め施
した。比較例1,2で得られた異方導電性フィルムは、
折り曲げ加工を施すとフィルムが割れてしまうため、折
り曲げ加工を施さなかった。上記繰り返し耐久性の評価
は、検査用ソケットに装着した各フィルムにSOPパッ
ケージのICのリードピンを接触させた状態で該ソケッ
トを開閉し、ICのコンタクトピンヘの押し付けならび
にICのコンタクトピンからの開放を繰り返し行い、初
期、500回開閉後、1000回開閉後それぞれの接触
抵抗値の上昇、ならびに1000回開閉後のフィルム上
の汚れを肉眼で観察した。結果は、表4の様になった。
(Evaluation 4) Next, each anisotropic conductive film was mounted on a socket for SOP inspection (manufactured by Yamaichi Electric Co., Ltd.), and the durability of repeated inspection was evaluated. In addition, about the anisotropic conductive films 1 and 11 obtained in Examples 1 to 3, bending processing was performed in advance on insulating regions at both ends of the film. Anisotropic conductive films obtained in Comparative Examples 1 and 2,
Since the film was broken when the bending process was performed, the bending process was not performed. The above-mentioned evaluation of the repetition durability is performed by opening and closing the socket in a state where the lead pin of the IC of the SOP package is brought into contact with each film mounted on the inspection socket, pressing the IC to the contact pin and releasing the IC from the contact pin. The contact resistance was increased at the initial stage, after opening and closing 500 times, after opening and closing 1000 times, and stains on the film after opening and closing 1000 times were visually observed. The results were as shown in Table 4.

【0095】[0095]

【表4】 [Table 4]

【0096】第一幅方向Xにおける中央部付近に第二幅
方向全域にわたる上記弾性率の絶縁性領域を有する実施
例2,3で得られた異方導電性フィルム11では、耐久
試験での接触低抗値の上昇は特に低く抑えられており実
用上間題ないレベルであった。これに対して、弾性率の
低い部分を有さない実施例1および比較例1,2ではコ
ンタクトピンとの摩耗による汚れが発生しており、この
汚れによる大きな抵抗上昇が起っていた。
The anisotropic conductive film 11 obtained in Examples 2 and 3 having an insulating region having the above-mentioned elastic modulus over the whole area in the second width direction near the center in the first width direction X was not contacted in the durability test. The increase in the low resistance was particularly low and was at a practically unimpaired level. On the other hand, in Example 1 and Comparative Examples 1 and 2 which did not have a portion having a low elastic modulus, dirt was generated due to abrasion with the contact pin, and a large increase in resistance was caused by the dirt.

【0097】[0097]

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、繰り返しの機能検査の中での検査装置の電極上
の汚れを防止し、さらには検査装置に装着する際におけ
る位置合わせをより容易にすることができる異方導電性
フィルムを安価に提供すると共に、該異方導電性フィル
ムの好ましい製造方法を提供することができる。
As is apparent from the above description, according to the present invention, it is possible to prevent contamination on the electrodes of the inspection apparatus during repeated function inspections, and furthermore, to adjust the position when mounting on the inspection apparatus. And an inexpensive anisotropic conductive film that can be easily prepared, and a preferable method for producing the anisotropic conductive film can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第一グループの好ましい一例の異方導
電性フィルム1を簡略化して示す図であり、図1(a)
は上面図、図1(b)は図1(a)の切断面線Ib−I
bからみた断面図である。
FIG. 1 is a simplified diagram showing a preferred example of an anisotropic conductive film 1 of the first group of the present invention, and FIG.
1B is a top view, and FIG. 1B is a cross-sectional line Ib-I of FIG.
It is sectional drawing seen from b.

【図2】本発明の第二グループの好ましい一例の異方導
電性フィルム6を簡略化して示す図であり、図2(a)
は上面図、図2(b)は図2(a)の切断面線IIb−
IIbからみた断面図である。
FIG. 2 is a simplified view showing a preferred example of the anisotropic conductive film 6 of the second group of the present invention, and FIG.
2B is a top view, and FIG. 2B is a section line IIb− in FIG.
It is sectional drawing seen from IIb.

【図3】本発明の第一グループの好ましい他の例の異方
導電性フィルム11を簡略化して示す図であり、図3
(a)は上面図、図3(b)は図3(a)の切断面線I
IIb−IIIbからみた断面図である。
FIG. 3 is a simplified view showing another preferred example of the anisotropic conductive film 11 of the first group of the present invention.
3 (a) is a top view, and FIG. 3 (b) is a section line I of FIG. 3 (a).
It is sectional drawing seen from IIb-IIIb.

【図4】図3に示す態様の異方導電性フィルム11の領
域B4,B5に折り曲げ加工が施された状態を示す断面
図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state in which regions B4 and B5 of the anisotropic conductive film 11 of the embodiment shown in FIG. 3 are bent.

【図5】図4の折り曲げ加工を施された異方導電性フィ
ルム11の電子部品の機能検査への使用の一例を模式的
に示す図であり、図5(a)は該検査用ソケット21が
開放された状態を示し、図5(b)は該検査用ソケット
21が閉じられた状態を示す。
5 is a diagram schematically showing an example of use of the bent anisotropic conductive film 11 of FIG. 4 for function inspection of an electronic component, and FIG. 5 shows an opened state, and FIG. 5B shows a state in which the inspection socket 21 is closed.

【図6】本発明の好ましい他の例の異方導電性フィルム
31を簡略化して示す上面図である。
FIG. 6 is a simplified top view showing another preferred example of the anisotropic conductive film 31 of the present invention.

【図7】本発明の好ましいさらに他の例の異方導電性フ
ィルム35を簡略化して示す図であり、図7(a)は上
面図、図7(b)は図7(a)の切断面線VIIb−V
IIbからみた断面図である。
7A and 7B are simplified views of an anisotropic conductive film 35 according to still another preferred embodiment of the present invention. FIG. 7A is a top view, and FIG. 7B is a cutaway view of FIG. 7A. Surface line VIIb-V
It is sectional drawing seen from IIb.

【図8】図7の異方導電性フィルム35の電子部品の機
能検査への使用の一例を模式的に示す図である。
8 is a diagram schematically showing an example of use of the anisotropic conductive film 35 of FIG. 7 for a function test of an electronic component.

【図9】本発明の異方導電性フィルムの製造方法の好ま
しい一例の複合ブロック形成工程を模式的に示す図で
ある。
FIG. 9 is a view schematically showing a composite block forming step of a preferred example of the method for producing an anisotropic conductive film of the present invention.

【図10】本発明の異方導電性フィルムの製造方法の好
ましい一例のフィルム形成工程を模式的に示す図であ
る。
FIG. 10 is a view schematically showing a film forming step of a preferred example of the method for producing an anisotropic conductive film of the present invention.

【図11】本発明の異方導電性フィルムの製造方法の好
ましい他の例の巻き線コイル形成工程によって形成さ
れた巻き線コイル46を簡略化して示す斜視図である。
FIG. 11 is a simplified perspective view showing a winding coil 46 formed by a winding coil forming step of another preferred example of the method for producing an anisotropic conductive film of the present invention.

【図12】本発明の異方導電性フィルムの製造方法の好
ましい他の例の複合ブロック形成工程を模式的に示す
図である。
FIG. 12 is a view schematically showing a composite block forming step of another preferred example of the method for producing an anisotropic conductive film of the present invention.

【図13】本発明の異方導電性フィルムの製造方法の好
ましい他の例のフィルム形成工程を模式的に示す図で
ある。
FIG. 13 is a diagram schematically showing a film forming step of another preferred example of the method for producing an anisotropic conductive film of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,6,11,31,35 異方導電性フ
ィルム 2 フィルム基材 3 導通路 19 IC 21,38 検査用ソケッ
ト 25 コンタクトピ
ン 32,33 切れ目 36a,36b,37a,37b 貫通孔 A1,A2,A3,A4,A5 異方導電性領
域 B1,B2,B3,B4,B5,B6 絶縁性領域 X 第一幅方向 Y 第二幅方向 Z 厚み方向
1,6,11,31,35 Anisotropic conductive film 2 Film base 3 Conducting path 19 IC 21,38 Inspection socket 25 Contact pin 32,33 Cut 36a, 36b, 37a, 37b Through hole A1, A2, A3 , A4, A5 Anisotropic conductive region B1, B2, B3, B4, B5, B6 Insulating region X First width direction Y Second width direction Z Thickness direction

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01R 43/00 H01R 43/00 H (72)発明者 浅井 文輝 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 日東 電工株式会社内 Fターム(参考) 5E024 CA18 CB06 5E051 CA04 5G307 CC04 HA02 HB03 HC01 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01R 43/00 H01R 43/00 H (72) Inventor Fumi Asai 1-1-1, Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka No. 2 Nitto Denko Corporation F term (reference) 5E024 CA18 CB06 5E051 CA04 5G307 CC04 HA02 HB03 HC01

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁性を有するフィルム基材中に導電性
材料からなる複数個の導通路が該フィルム基材の厚み方
向に概ね沿って貫通して当該フィルム基材の表裏面に両
端部を露出させかつ互いに絶縁された状態で配置される
一または複数個の異方導電性領域と、絶縁性を有し少な
くとも該フィルムの両端に配置される領域を含む複数個
の絶縁性領域とを有する異方導電性フィルムであって、 異方導電性領域と絶縁性領域とが、互いに段差を形成す
ることなく交互に一列に配置されていることを特徴とす
る異方導電性フィルム。
1. A plurality of conductive paths made of a conductive material penetrate through an insulating film substrate substantially along the thickness direction of the film substrate, and both end portions are formed on the front and back surfaces of the film substrate. One or more anisotropic conductive regions exposed and arranged insulated from each other, and a plurality of insulating regions having an insulating property and including regions arranged at least at both ends of the film. An anisotropic conductive film, wherein an anisotropic conductive region and an insulating region are alternately arranged in a line without forming a step.
【請求項2】 絶縁性を有するフィルム基材中に導電性
材料からなる複数個の導通路が該フィルム基材の厚み方
向に概ね沿って貫通して当該フィルム基材の表裏面に両
端部を露出させかつ互いに絶縁された状態で配置され少
なくとも該フィルムの両端に配置される領域を含む複数
個の異方導電性領域と、絶縁性を有する一または複数個
の絶縁性領域とを有する異方導電性フィルムであって、 異方導電性領域と絶縁性領域とが、互いに段差を形成す
ることなく交互に一列に配置されていることを特徴とす
る異方導電性フィルム。
2. A plurality of conductive paths made of a conductive material penetrate through an insulating film substrate substantially along a thickness direction of the film substrate, and both end portions are formed on front and back surfaces of the film substrate. A plurality of anisotropic conductive regions including regions exposed and arranged at least at both ends of the film and insulated from each other; and one or more insulating regions having an insulating property. An anisotropic conductive film, wherein an anisotropic conductive region and an insulating region are alternately arranged in a line without forming a step.
【請求項3】 少なくとも下記〜の工程を有する製
造方法によって得られたことを特徴とする請求項1また
は2に記載の異方導電性フィルム。 導電性材料からなる線材に絶縁性材料からなる被覆層
を少なくとも1層以上設けて絶縁導線とし、該絶縁導線
を芯材にロール状に巻き線して巻き線コイルとする巻き
線コイル形成工程。 前記の工程において巻き線しながら、または前記
の工程の後巻き線コイルを加熱および/または加圧し
て、巻き付けられた絶縁導線の被覆層同士を融着および
/または圧着させて一体化させ巻き線コイルブロックを
形成する巻き線コイルブロック形成工程。 前記の工程で得られた巻き線コイルブロックから芯
材を含まない直方体状の含線材ブロックを形成し、該含
線材ブロックと絶縁性材料からなる直方体状の樹脂ブロ
ックとを交互に積層し、加熱および加圧して互いに隣り
合うブロック同士を融着させて一体化した複合ブロック
を形成する複合ブロック形成工程。 前記の工程で得られた複合ブロックから、線材の部
分を導通路とし、の工程で融着および/または圧着さ
れた被覆層の部分をフィルム基材とし、含線材ブロック
の部分を異方導電性領域とし、樹脂ブロックの部分を絶
縁性領域として、異方導電性フィルムを形成するフィル
ム形成工程。
3. The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the film is obtained by a production method having at least the following steps. A winding coil forming step in which at least one or more coating layers made of an insulating material are provided on a wire made of a conductive material to form an insulated conductor, and the insulated conductor is wound in a roll shape around a core to form a wound coil. Heating and / or pressurizing the wound coil while winding in the above-mentioned step or after the above-mentioned step to fuse and / or press-bond the coated layers of the insulated insulated wires to integrate them. A winding coil block forming step of forming a coil block. A rectangular parallelepiped wire-containing material block containing no core material is formed from the wound coil block obtained in the above step, and the wire-containing material block and a rectangular parallelepiped resin block made of an insulating material are alternately laminated and heated. And a step of forming a composite block in which adjacent blocks are fused together under pressure to form an integrated composite block. From the composite block obtained in the above step, the wire portion is used as a conductive path, the coating layer portion fused and / or crimped in the step is used as a film substrate, and the wire-containing block portion is used as an anisotropic conductive material. A film forming step of forming an anisotropic conductive film using the resin block as an insulating region and the resin block as an insulating region.
【請求項4】 検査装置を用いて、検査装置の電極と該
電子部品の入出力電極との間の導通を検査する電子部品
の機能検査において、上記検査装置の電極および該電子
部品の入出力電極との接触部分が異方導電性領域となる
ように検査装置の電極と該電子部品の入出力電極との間
に介在されることに使用される請求項1〜3のいずれか
に記載の異方導電性フィルム。
4. A function inspection of an electronic component for inspecting continuity between an electrode of the inspection device and an input / output electrode of the electronic component using the inspection device. The electrode according to any one of claims 1 to 3, which is used to be interposed between an electrode of the inspection device and an input / output electrode of the electronic component so that a contact portion with the electrode is an anisotropic conductive region. Anisotropic conductive film.
【請求項5】 絶縁性領域のうち少なくともいずれかの
領域には、該フィルムの厚み方向への折り曲げ加工が施
されていることを特徴とする請求項4に記載の異方導電
性フィルム。
5. The anisotropically conductive film according to claim 4, wherein at least one of the insulating regions is bent in a thickness direction of the film.
【請求項6】 絶縁性領域のうち少なくともいずれかの
領域には切れ目が予め形成されており、該切れ目で折り
曲げられていることを特徴とする請求項5に記載の異方
導電性フィルム。
6. The anisotropic conductive film according to claim 5, wherein a cut is formed in advance in at least one of the insulating regions, and the cut is formed at the cut.
【請求項7】 絶縁性領域のうち少なくともいずれかの
領域には、該フィルムの異方導電性領域を検査装置の電
極および電子部品の入出力電極に接触する部分に位置合
わせするための基準となる貫通孔または凹所が形成され
ていることを特徴とする請求項4に記載の異方導電性フ
ィルム。
7. A reference for aligning an anisotropic conductive area of the film with a part of the film which is in contact with an electrode of an inspection device and an input / output electrode of an electronic component, at least one of the insulating areas. The anisotropic conductive film according to claim 4, wherein a through hole or a recess is formed.
【請求項8】 上記異方導電性領域として一個の領域A
1と、上記絶縁性領域として二個の領域B1,B2とを
有することを特徴とする請求項1に記載の異方導電性フ
ィルム。
8. One region A as said anisotropic conductive region
2. The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the film has two regions B <b> 1 and B <b> 2 as the insulating region.
【請求項9】 上記異方導電性領域として二個の領域A
2,A3と、上記絶縁性領域として一個の領域B3とを
有することを特徴とする請求項2に記載の異方導電性フ
ィルム。
9. Two regions A as said anisotropic conductive regions
3. The anisotropic conductive film according to claim 2, comprising: A2, A3, and one region B3 as the insulating region.
【請求項10】 領域B3の弾性率が0.01〜10G
Paであることを特徴とする請求項9に記載の異方導電
性フィルム。
10. The elastic modulus of the region B3 is 0.01 to 10 G.
The anisotropic conductive film according to claim 9, wherein Pa is Pa.
【請求項11】 上記異方導電性領域として二個の領域
A4,A5と、上記絶縁性領域として三個の領域B4,
B5,B6とを有し、 領域B4および領域B5が各々該フィルムの両端に配置
され、該領域B4,B5間に領域A4および領域A5が
配置され、該領域A4,A5間に領域B6が配置される
ことを特徴とする請求項1に記載の異方導電性フィル
ム。
11. The two regions A4 and A5 as the anisotropic conductive region and the three regions B4 and B4 as the insulating region.
B5 and B6, the region B4 and the region B5 are respectively disposed at both ends of the film, the region A4 and the region A5 are disposed between the regions B4 and B5, and the region B6 is disposed between the regions A4 and A5. The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein:
【請求項12】 絶縁性領域のうち少なくとも領域B6
の弾性率が0.01〜10GPaであることを特徴とす
る請求項11に記載の異方導電性フィルム。
12. At least a region B6 of the insulating region
The anisotropic conductive film according to claim 11, wherein the elastic modulus of the anisotropic conductive film is 0.01 to 10 GPa.
【請求項13】 少なくとも下記〜の工程を有する
ことを特徴とする異方導電性フィルムの製造方法。 導電性材料からなる線材に絶縁性材料からなる被覆層
を少なくとも1層以上設けて絶縁導線とし、該絶縁導線
を芯材にロール状に巻き線して巻き線コイルとする巻き
線コイル形成工程。 前記の工程において巻き線しながら、または前記
の工程の後巻き線コイルを加熱および/または加圧し
て、巻き付けられた絶縁導線の被覆層同士を融着および
/または圧着させて一体化させ巻き線コイルブロックを
形成する巻き線コイルブロック形成工程。 前記の工程で得られた巻き線コイルブロックから芯
材を含まない直方体状の含線材ブロックを形成し、該含
線材ブロックと絶縁性材料からなる直方体状の樹脂ブロ
ックとを交互に積層し、加熱および加圧して互いに隣り
合うブロック同士を融着させて一体化した複合ブロック
を形成する複合ブロック形成工程。 前記の工程で得られた複合ブロックから、線材の部
分を導通路とし、の工程で融着および/または圧着さ
れた被覆層の部分をフィルム基材とし、含線材ブロック
の部分を異方導電性領域とし、樹脂ブロックの部分を絶
縁性領域として、異方導電性フィルムを形成するフィル
ム形成工程。
13. A method for producing an anisotropic conductive film, comprising at least the following steps: A winding coil forming step in which at least one or more coating layers made of an insulating material are provided on a wire made of a conductive material to form an insulated conductor, and the insulated conductor is wound in a roll shape around a core to form a wound coil. Heating and / or pressurizing the wound coil while winding in the above-mentioned step or after the above-mentioned step to fuse and / or press-bond the coated layers of the insulated insulated wires to integrate them. A winding coil block forming step of forming a coil block. A rectangular parallelepiped wire-containing material block containing no core material is formed from the wound coil block obtained in the above step, and the wire-containing material block and a rectangular parallelepiped resin block made of an insulating material are alternately laminated and heated. And a step of forming a composite block in which adjacent blocks are fused together under pressure to form an integrated composite block. From the composite block obtained in the above step, the wire portion is used as a conductive path, the coating layer portion fused and / or crimped in the step is used as a film substrate, and the wire-containing block portion is used as an anisotropic conductive material. A film forming step of forming an anisotropic conductive film using the resin block as an insulating region and the resin block as an insulating region.
【請求項14】 少なくとも下記〜の工程を有する
ことを特徴とする異方導電性フィルムの製造方法。 導電性材料からなる線材に絶縁性材料からなる被覆層
を少なくとも1層以上設けて絶縁導線とし、該絶縁導線
を絶縁性材料からなる直方体状の芯材にロール状に巻き
線して巻き線コイルとする巻き線コイル形成工程。 前記の工程の後、巻き線コイルと絶縁性材料からな
る直方体状の樹脂ブロックとを交互に積層し、加熱およ
び/または加圧して芯材に巻き付けられた絶縁導線の被
覆層同士を融着および/または圧着させると同時に、樹
脂ブロックと絶縁性材料からなる芯材とを巻き線コイル
を介して融着および/または圧着させて一体化させ複合
ブロックを形成する複合ブロック形成工程。 前記の工程で得られた複合ブロックから、線材の部
分を導通路とし、の工程で融着および/または圧着さ
れた被覆層の部分をフィルム基材とし、絶縁導線の部分
を異方導電性領域とし、樹脂ブロックの部分および芯材
の部分を絶縁性領域として、異方導電性フィルムを形成
するフィルム形成工程。
14. A method for producing an anisotropic conductive film, comprising at least the following steps: At least one coating layer made of an insulating material is provided on a wire made of a conductive material to form an insulated conductor, and the insulated wire is wound around a rectangular parallelepiped core made of an insulative material in a roll shape to form a winding coil. Winding coil forming step. After the above process, the winding coil and the rectangular parallelepiped resin block made of an insulating material are alternately laminated, and the coating layers of the insulated conductive wire wound around the core material by heating and / or pressing are fused and fused. A composite block forming step of forming a composite block by fusing and / or crimping a resin block and a core material made of an insulating material together with a core material made of an insulating material at the same time as crimping. From the composite block obtained in the above step, the wire portion is used as a conductive path, the coating layer portion fused and / or crimped in the step is used as a film substrate, and the insulated conductive wire portion is used as an anisotropic conductive region. And a film forming step of forming an anisotropic conductive film using the resin block portion and the core material portion as insulating regions.
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JP2005056844A (en) * 2003-08-05 2005-03-03 Xerox Corp Multi-element connector
CN103050170A (en) * 2011-10-17 2013-04-17 财团法人工业技术研究院 Anisotropic conductive film and manufacturing method thereof

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005056844A (en) * 2003-08-05 2005-03-03 Xerox Corp Multi-element connector
JP4597602B2 (en) * 2003-08-05 2010-12-15 ゼロックス コーポレイション Multi-element connector
CN103050170A (en) * 2011-10-17 2013-04-17 财团法人工业技术研究院 Anisotropic conductive film and manufacturing method thereof

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