JP2002008373A - Potential generating circuit - Google Patents

Potential generating circuit

Info

Publication number
JP2002008373A
JP2002008373A JP2000186449A JP2000186449A JP2002008373A JP 2002008373 A JP2002008373 A JP 2002008373A JP 2000186449 A JP2000186449 A JP 2000186449A JP 2000186449 A JP2000186449 A JP 2000186449A JP 2002008373 A JP2002008373 A JP 2002008373A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
charging
potential
period
generation circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2000186449A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshikatsu Hazama
敏克 間
Masaaki Kuwagata
正明 桑形
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Microelectronics Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2000186449A priority Critical patent/JP2002008373A/en
Publication of JP2002008373A publication Critical patent/JP2002008373A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a potential generating circuit having a circuit for charging electricity in a special case. SOLUTION: A potential generating circuit 16 forms a VBLH. The value of the VBLH is kept monitored at all times and is fed back by voltage dividing circuits R1 and R2 and a comparator circuit OP1 to the gate of a transistor MP1. The responsiveness of the feedback route of the potential generating circuit 16 is delayed in order to prevent the oscillation of the VBLH. At this time, the potential circuit 16 is in a stable state and the charging operation by the TR MP1 is not carried out in the special case, i.e., in the first operation period after the specified period when the non-operation period of a semiconductor circuit receiving the supply of the potential is a specified period or longer. The charging operation is forcedly carried out only in this special case.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電位生成回路に関
し、特に、半導体メモリのセンスアンプやバッファのよ
うな活性化される頻度が高い半導体回路に電位を供給す
る電位生成回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a potential generating circuit, and more particularly, to a potential generating circuit for supplying a potential to a semiconductor circuit which is frequently activated, such as a sense amplifier or a buffer of a semiconductor memory.

【0002】[0002]

【従来の技術】DRAM、SRAM、不揮発性半導体メ
モリ、ASIC(ASSM,メモリ混載ASICなどを
含む)、システムLSI、マイクロプロセッサなど、現
在では、種々の機能を、半導体チップ内に形成される複
数の半導体回路の組み合せにより実現することが可能に
なっている。
2. Description of the Related Art At present, various functions such as DRAM, SRAM, nonvolatile semiconductor memory, ASIC (including ASIC, ASIC with embedded memory), system LSI, microprocessor, etc. This can be realized by a combination of semiconductor circuits.

【0003】ここで、各半導体回路は、電源電位(外部
電源電位、内部電源電位を含む)又は中間電位(0Vと
電源電位の間の電位)により駆動されるため、電源電位
又は中間電位は、一定値に安定していることが好まし
い。しかし、電源電位や中間電位の値(レベル)は、種
々の要因(負荷の大きさ、寄生容量など)により変動す
ることが知られている。特に、半導体チップ内の電位生
成回路により生成された中間電位の値は、電位生成回路
の駆動力(充電能力)、負荷の大きさ、寄生容量などに
より、容易に変動する。
Here, each semiconductor circuit is driven by a power supply potential (including an external power supply potential and an internal power supply potential) or an intermediate potential (a potential between 0 V and the power supply potential). Preferably, it is stable at a constant value. However, it is known that the values (levels) of the power supply potential and the intermediate potential fluctuate due to various factors (load size, parasitic capacitance, etc.). In particular, the value of the intermediate potential generated by the potential generation circuit in the semiconductor chip easily varies depending on the driving force (charging ability) of the potential generation circuit, the size of the load, the parasitic capacitance, and the like.

【0004】従って、電源電位や中間電位の値の変動量
を小さくし、かつ、その値が変動した場合には、これを
元の値(一定値)に戻す動作が必要になる。
Therefore, it is necessary to reduce the amount of change in the power supply potential or the intermediate potential and, if the value fluctuates, return it to its original value (constant value).

【0005】以下、具体例として、半導体メモリ(特
に、DRAM)のセンスアンプに供給される中間電位V
BLH(0<VBLH<内部電源電位)を生成する電位
生成回路をとりあげ、これについて詳細に説明すること
にする。
Hereinafter, as a specific example, an intermediate potential V supplied to a sense amplifier of a semiconductor memory (particularly, a DRAM) will be described.
A potential generation circuit for generating BLH (0 <VBLH <internal power supply potential) will be described below in detail.

【0006】図18は、バンクタイプの従来のDRAM
の主要部の概略を示している。
FIG. 18 shows a conventional DRAM of the bank type.
The outline of the main part is shown.

【0007】メモリセルアレイ(バンク)11A,11
Bは、アレイ状に配置される複数のメモリセル(ダイナ
ミック型メモリセル)12から構成される。ワード線W
Lは、メモリセルアレイ11A,11B上においてロウ
方向に延び、その一端は、ロウデコーダ13A,13B
に接続される。ビット線対BL,/BLは、メモリセル
アレイ11A,11B上においてカラム方向に延びてい
る。
[0007] Memory cell arrays (banks) 11A, 11
B is composed of a plurality of memory cells (dynamic memory cells) 12 arranged in an array. Word line W
L extends in the row direction on the memory cell arrays 11A and 11B, and one end thereof is connected to the row decoders 13A and 13B.
Connected to. The bit line pair BL, / BL extends in the column direction on the memory cell arrays 11A, 11B.

【0008】メモリセルアレイ11A,11Bの間に
は、センスアンプ(S/A)14、カラム選択スイッチ
(SW)15などの周辺回路が配置される。センスアン
プ14及びカラム選択スイッチ15は、隣接する2つの
メモリセルアレイ11A,11Bのメモリセルに共有さ
れている。
Peripheral circuits such as a sense amplifier (S / A) 14 and a column selection switch (SW) 15 are arranged between the memory cell arrays 11A and 11B. The sense amplifier 14 and the column selection switch 15 are shared by the memory cells of two adjacent memory cell arrays 11A and 11B.

【0009】センスアンプ14には、VBLH生成回路
(降圧回路)16により生成される中間電位VBLHが
与えられる。この中間電位VBLHは、センスアンプ1
4を駆動するための高レベル側の電源電位となる(低レ
ベル側は接地電位)。センスアンプ14に内部電源電位
Vddではなく、中間電位VBLH(0<VBLH<V
dd)を与える理由の一つは、ビット線の充放電が高い
頻度で繰り返されるため、ビット線の充放電に要する消
費電力を低減することにある。但し、中間電位VBLH
が低すぎると、ビット線電位のセンス動作が十分に行え
なくなるため、中間電位VBLHの値は、センス動作が
十分に行え、かつ、低消費電力を達成できる所定の値に
設定される。
The sense amplifier 14 is supplied with an intermediate potential VBLH generated by a VBLH generation circuit (step-down circuit) 16. This intermediate potential VBLH is applied to sense amplifier 1
4 is driven to the high level power supply potential (the low level side is ground potential). The sense amplifier 14 supplies not the internal power supply potential Vdd but the intermediate potential VBLH (0 <VBLH <V
One of the reasons for giving dd) is to reduce the power consumption required for charging and discharging the bit line because the charging and discharging of the bit line are repeated at a high frequency. However, the intermediate potential VBLH
Is too low, the sensing operation of the bit line potential cannot be performed sufficiently. Therefore, the value of the intermediate potential VBLH is set to a predetermined value capable of sufficiently performing the sensing operation and achieving low power consumption.

【0010】ビット線対BL,/BLは、カラムスイッ
チ15を経由して、データ線対(DQ線対と称する)D
Q,/DQに接続される。DQ線対DQ,/DQは、D
Qバッファ17を経由して、書き込み/読み出し線対1
8に接続される。書き込み/読み出し線対18は、入出
力バッファ(I/O)19に接続される。
The bit line pair BL, / BL is connected to a data line pair (referred to as a DQ line pair) D via a column switch 15.
Q, / DQ. The DQ line pair DQ and / DQ
Write / read line pair 1 via Q buffer 17
8 is connected. The write / read line pair 18 is connected to an input / output buffer (I / O) 19.

【0011】図19は、従来のVBLH生成回路(降圧
回路)の一例を示している。
FIG. 19 shows an example of a conventional VBLH generation circuit (step-down circuit).

【0012】電源Vdd端子と出力ノードAの間には、
PチャネルMOSトランジスタMP1が接続される。出
力ノードAと電源Vss端子の間には、抵抗R1,R2
が直列接続される。
Between the power supply Vdd terminal and the output node A,
P channel MOS transistor MP1 is connected. Resistors R1 and R2 are connected between the output node A and the power supply Vss terminal.
Are connected in series.

【0013】抵抗R1,R2の接続点Bは、比較回路
(カレントミラー型増幅器)OP1を経由してMOSト
ランジスタMP1のゲートに接続される。比較回路OP
1は、電源Vdd端子と接地Vss端子の間に直列接続
されるPチャネルMOSトランジスタMP2及びNチャ
ネルMOSトランジスタMN1と、同様に、電源Vdd
端子と接地Vss端子の間に直列接続されるPチャネル
MOSトランジスタMP3及びNチャネルMOSトラン
ジスタMN2とから構成される。
The connection point B between the resistors R1 and R2 is connected to the gate of the MOS transistor MP1 via a comparison circuit (current mirror type amplifier) OP1. Comparison circuit OP
Reference numeral 1 denotes a power supply Vdd similarly to the P-channel MOS transistor MP2 and the N-channel MOS transistor MN1 connected in series between the power supply Vdd terminal and the ground Vss terminal.
It comprises a P-channel MOS transistor MP3 and an N-channel MOS transistor MN2 connected in series between the terminal and the ground Vss terminal.

【0014】MOSトランジスタMP2のゲートとドレ
インは、互いに接続され、MOSトランジスタMN1の
ゲートは、入力ノード(抵抗R1,R2の接続点)Bに
接続される。また、MOSトランジスタMP3のゲート
は、MOSトランジスタMP2のゲートに接続され、M
OSトランジスタMN2のゲートには、基準電位Vre
fが入力される。MOSトランジスタMP3,MN2の
接続点Cは、MOSトランジスタMP1のゲートに接続
される。
The gate and the drain of the MOS transistor MP2 are connected to each other, and the gate of the MOS transistor MN1 is connected to an input node (connection point of the resistors R1 and R2) B. Further, the gate of the MOS transistor MP3 is connected to the gate of the MOS transistor MP2,
The reference potential Vre is applied to the gate of the OS transistor MN2.
f is input. The connection point C between the MOS transistors MP3 and MN2 is connected to the gate of the MOS transistor MP1.

【0015】上述のVBLH生成回路では、抵抗分割に
より、出力ノードAの出力電位(VBLH)に基づき中
間電位(ノードBの電位)が生成される。ノードBの電
位は、基準電位Vrefと比較され、ノードBの電位が
基準電位Vrefよりも低いと、出力電位(ノードCの
電位)は、“L”となり、ノードBの電位が基準電位V
refよりも高いと、出力電位(ノードCの電位)は、
“H”となる。
In the above-described VBLH generation circuit, an intermediate potential (potential at node B) is generated based on the output potential (VBLH) of output node A by resistance division. The potential of the node B is compared with the reference potential Vref. If the potential of the node B is lower than the reference potential Vref, the output potential (potential of the node C) becomes “L” and the potential of the node B becomes the reference potential Vref.
If it is higher than ref, the output potential (potential at node C) is
It becomes "H".

【0016】つまり、VBLHが安定値の場合には、ノ
ードBの電位が基準電位Vrefよりも高くなるため、
MOSトランジスタMP1は、オフ状態を維持し、ノー
ドAの充電は、禁止される。これに対し、VBLHが安
定値よりも低い場合には、ノードBの電位が基準電位V
refよりも低くなるため、MOSトランジスタMP1
がオン状態となり、ノードAが充電される。
That is, when VBLH is a stable value, the potential of node B becomes higher than reference potential Vref.
MOS transistor MP1 maintains the off state, and charging of node A is prohibited. On the other hand, when VBLH is lower than the stable value, the potential of the node B becomes equal to the reference potential V
ref, the MOS transistor MP1
Is turned on, and the node A is charged.

【0017】図19のVBLH生成回路は、VBLHの
値を常にモニタし、VBLHの値が変動(低下)した場
合には、これを安定値に戻す機能を有するいわゆるフィ
ードバック型充電回路である。フィードバック型充電回
路は、例えば、図22に示すゲートに接地電位Vssが
印加され、電源端子と充電ノードの間に接続されたPチ
ャネルMOSトランジスタのみから構成される強制充電
型充電回路に比べ、VBLHの値を一定値(安定値)に
維持する点において非常に優れている。
The VBLH generation circuit shown in FIG. 19 is a so-called feedback type charging circuit having a function of constantly monitoring the value of VBLH and returning the value of VBLH to a stable value when the value of VBLH fluctuates (decreases). The feedback-type charging circuit has, for example, a structure in which the ground potential Vss is applied to the gate shown in FIG. 22 and a VBLH compared to a forced-charging-type charging circuit including only a P-channel MOS transistor connected between a power supply terminal and a charging node. Is very excellent in maintaining a constant value (stable value).

【0018】なお、上述の説明では、簡単のため、MO
Sトランジスタのオン/オフ(充電の有無)という具合
に、デジタル的に説明しているが、実際は、図19のV
BLH生成回路は、MOSトランジスタMP1のゲート
電位(VBLHの値に依存する)によりアナログ的に充
電能力が変わるものである。
In the above description, for simplicity, the MO
Although the description is made digitally, such as turning on / off the S transistor (presence / absence of charging), the V transistor shown in FIG.
In the BLH generation circuit, the charging capability is changed in an analog manner by the gate potential (depending on the value of VBLH) of the MOS transistor MP1.

【0019】また、図19のVBLH生成回路では、現
在のVBLHの値をモニタし、これに基づいてノードA
の充電の制御を行うフィードバック経路を設けている
が、このフィードバック経路の応答性を高速にすると、
VBLHの値が変動したときに、VBLHが発振状態と
なってしまう。そこで、このVBLHの発振現象を防止
するため、図19のVBLH生成回路では、フィードバ
ック経路の応答性を低速に設定している。
In the VBLH generation circuit of FIG. 19, the current value of VBLH is monitored, and based on this, the node A
Is provided with a feedback path for controlling the charging of the battery.
When the value of VBLH changes, VBLH enters an oscillation state. Therefore, in order to prevent the oscillation phenomenon of VBLH, the response of the feedback path is set to low speed in the VBLH generation circuit of FIG.

【0020】このため、図19のVBLH生成回路で
は、VBLHの値をフィードバックさせる時間が遅くな
り、例えば、VBLHの値が低下してからVBLHの値
を安定値に戻すための充電が開始されるまでに、長い時
間を必要としている。
For this reason, in the VBLH generation circuit of FIG. 19, the time for feeding back the value of VBLH is delayed. For example, after the value of VBLH decreases, charging for returning the value of VBLH to a stable value is started. By a long time is needed.

【0021】ところで、図18のDRAMにおいては、
データの読み出し時や書き込み時に、メモリセルアレイ
11A,11Bのメモリセルに対して、連続的又は断続
的にアクセス動作が行われる。即ち、メモリセルアレイ
11A,11Bに対するアクセス頻度は、一定しておら
ず、高い場合もあれば、逆に、低い場合もある。これに
伴い、ビット線対BL,/BLを充放電する頻度、即
ち、センスアンプ14が活性化される頻度も一定しな
い。
By the way, in the DRAM of FIG.
At the time of reading or writing data, the access operation to the memory cells of the memory cell arrays 11A and 11B is performed continuously or intermittently. That is, the frequency of access to the memory cell arrays 11A and 11B is not constant, and may be high or low. Accordingly, the frequency of charging and discharging the bit line pair BL and / BL, that is, the frequency of activating the sense amplifier 14 is not constant.

【0022】従って、例えば、図18のメモリセルアレ
イ11A,11Bのメモリセルに対して連続して複数の
アクセス動作が行われる場合の途中のアクセス動作で
は、センスアンプ14が活性化される頻度が高く、VB
LHの値は、安定値よりも低い状態が続くため、図19
のVBLH生成回路は、常に、出力ノードAを充電して
いる状態にある。つまり、このような場合には、図19
のVBLH生成回路のフィードバック経路の応答性が遅
くても、充電動作には問題が生じない。
Therefore, for example, in the access operation in the case where a plurality of access operations are continuously performed on the memory cells of the memory cell arrays 11A and 11B in FIG. 18, the sense amplifier 14 is frequently activated. , VB
Since the value of LH continues to be lower than the stable value, FIG.
VBLH generation circuit is always charging output node A. That is, in such a case, FIG.
Even if the response of the feedback path of the VBLH generation circuit is slow, no problem occurs in the charging operation.

【0023】しかし、例えば、図18のメモリセルアレ
イ11A,11Bのメモリセルに対して断続して複数の
アクセス動作が行われる場合の一定期間の断続後の最初
のアクセス動作では、断続期間中にVBLHの値は、安
定値を維持し、図19のVBLH生成回路は、安定状態
(出力ノードAを充電していない状態)になっている。
つまり、このような場合には、図19のVBLH生成回
路のフィードバック経路の応答性が遅いと、図20に示
すように、最初のアクセス動作が行われ、センスアンプ
14が活性化されると、VBLHの値が急激に低下する
にもかかわらず、充電が行われないため、VBLHの値
が大きく低下する問題が生じる。
However, for example, in a case where a plurality of access operations are performed intermittently with respect to the memory cells of the memory cell arrays 11A and 11B in FIG. Is maintained at a stable value, and the VBLH generation circuit in FIG. 19 is in a stable state (a state in which the output node A is not charged).
That is, in such a case, if the response of the feedback path of the VBLH generation circuit in FIG. 19 is slow, as shown in FIG. 20, when the first access operation is performed and the sense amplifier 14 is activated, Even though the value of VBLH drops sharply, charging is not performed, so that there is a problem that the value of VBLH drops significantly.

【0024】なお、図20は、図18の回路が4つ存在
し、それぞれをブロックとした場合を前提としている。
そして、4つのブロックは、それぞれ独立にアクセス動
作でき、かつ、独自にセンスアンプを有しており、ワー
ド線WL1〜WL4は、それぞれ異なるブロックに存在
することを想定している。但し、VBLH生成回路は、
4つのブロックのセンスアンプに共通になっている。
FIG. 20 is based on the premise that there are four circuits of FIG. 18, each of which is a block.
Each of the four blocks can perform an access operation independently and has its own sense amplifier. It is assumed that the word lines WL1 to WL4 exist in different blocks. However, the VBLH generation circuit is
It is common to the sense amplifiers of the four blocks.

【0025】ところで、上記の問題点を解決するもので
はないが、図21に示すような充電能力を大きな範囲で
変更できるVBLH生成回路16が存在する。図21の
VBLH生成回路は、図19のVBLH生成回路に、パ
ルス回路20と充電のためのPチャネルMOSトランジ
スタMP4を新規に追加したものである。
By the way, there is a VBLH generation circuit 16 which can change the charging capability in a large range as shown in FIG. 21, although it does not solve the above problem. The VBLH generation circuit in FIG. 21 is obtained by adding a pulse circuit 20 and a P-channel MOS transistor MP4 for charging to the VBLH generation circuit in FIG.

【0026】しかし、図21のVBLH生成回路は、図
18のメモリセルアレイ11A,11Bのメモリセルに
対するアクセス頻度、具体的には、連続したアクセス動
作の途中か又は一定期間の断続後の最初のアクセス動作
かに基づいて、充電能力を変えるものではないため、上
述の問題点を解決することはできない。
However, the VBLH generation circuit shown in FIG. 21 uses the access frequency to the memory cells of the memory cell arrays 11A and 11B shown in FIG. 18, specifically, the first access after a continuous access operation or after a certain period of intermittent operation. Since the charging ability is not changed based on the operation, the above-mentioned problem cannot be solved.

【0027】[0027]

【発明が解決しようとする課題】このように、従来は、
活性状態(動作状態)となる頻度が変わる半導体回路、
例えば、センスアンプに中間電位を与えるに当たって、
この半導体回路が連続して動作(一定期間未満の非動作
期間を有している場合も含む)している場合の途中の動
作期間では、電位生成回路は、充電動作を継続している
ため、この中間電位の値(レベル)が大きく低下するこ
とはない。
As described above, conventionally,
A semiconductor circuit whose frequency of activation (operation) changes,
For example, when applying an intermediate potential to the sense amplifier,
Since the potential generation circuit continues the charging operation in an intermediate operation period when the semiconductor circuit is continuously operating (including a case where the semiconductor circuit has a non-operation period shorter than a certain period), The value (level) of the intermediate potential does not decrease significantly.

【0028】しかし、半導体回路が、一定期間、非動作
状態を維持した後、最初に動作状態となる場合には、半
導体回路に与えられている中間電位の値は、安定値を維
持しており、電位生成回路も、安定状態(非充電状態)
になっている。従って、このような場合には、半導体回
路が最初に動作状態になった直後には、中間電位の値が
急激に低下するにもかかわらず、充電が行われないた
め、中間電位の値が大きく低下する。
However, in the case where the semiconductor circuit enters the operating state for the first time after maintaining the non-operating state for a certain period, the value of the intermediate potential given to the semiconductor circuit maintains the stable value. , Potential generation circuit is also in a stable state (non-charged state)
It has become. Therefore, in such a case, immediately after the semiconductor circuit enters the operating state for the first time, charging is not performed despite the rapid decrease in the value of the intermediate potential, so that the value of the intermediate potential is large. descend.

【0029】本発明は、このような問題点を解決するた
めになされたもので、その目的は、活性状態(動作状
態)となる頻度が変わる半導体回路に中間電位を与える
電位生成回路に関して、この半導体回路の非動作期間が
一定期間以上か又はそれ未満かを検出し、一定期間以上
の場合には、非動作期間後、最初に動作状態となる場合
の電位生成回路の充電能力を上げ(直ちに充電が行われ
るようにし)、一定期間未満の場合には、通常のフィー
ドバック型充電をそのまま行うようにして、安定した中
間電位を常に生成できるようにすることにある。
The present invention has been made to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a potential generating circuit for applying an intermediate potential to a semiconductor circuit whose active state (operating state) changes in frequency. It detects whether the non-operating period of the semiconductor circuit is longer than or equal to a predetermined period, and if the period is longer than the predetermined period, the charging capability of the potential generating circuit in the first operating state after the non-operating period is increased (immediately. Charging is performed), and when the charging time is less than a predetermined period, normal feedback-type charging is performed as it is so that a stable intermediate potential can be always generated.

【0030】[0030]

【課題を解決するための手段】本発明の電位生成回路
は、中間電位を生成し、前記中間電位を出力ノードを経
由して半導体回路に与える第1充電回路と、前記半導体
回路の非動作期間が一定期間以上か否かを検出し、その
検出結果に基づいて前記出力ノードを強制的に充電する
か否かを決定する第2充電回路とを備える。
According to the present invention, there is provided a potential generating circuit for generating an intermediate potential, applying the intermediate potential to a semiconductor circuit via an output node, and a non-operating period of the semiconductor circuit. And a second charging circuit for detecting whether or not the output node is longer than a predetermined period, and determining whether to forcibly charge the output node based on the detection result.

【0031】前記第1充電回路は、前記中間電位の値に
応じて前記出力ノードの充電能力を変えるフィードバッ
ク型充電回路である。前記フィードバック型充電回路の
応答性は、前記中間電位の値が発振状態とならない程度
に設定されている。
The first charging circuit is a feedback type charging circuit that changes the charging capability of the output node according to the value of the intermediate potential. The responsiveness of the feedback type charging circuit is set to such an extent that the value of the intermediate potential does not enter an oscillation state.

【0032】前記第2充電回路は、前記半導体回路の非
動作期間が前記一定期間以上の場合に、前記非動作期間
後の前記半導体回路の最初の動作期間において前記出力
ノードを強制的に充電する。
The second charging circuit forcibly charges the output node during a first operation period of the semiconductor circuit after the non-operation period when the non-operation period of the semiconductor circuit is equal to or longer than the predetermined period. .

【0033】前記一定期間は、前記半導体回路が非動作
状態になった後、前記第1充電回路により前記中間電位
が安定値となり、前記第1充電回路による充電が行われ
なくなるまでの期間である。
The fixed period is a period from when the semiconductor circuit enters a non-operating state to when the intermediate potential becomes a stable value by the first charging circuit and charging by the first charging circuit is not performed. .

【0034】本発明の電位生成回路は、前記中間電位の
値が安定値よりも高いか否かを判定する判定回路をさら
に備え、前記第2充電回路は、前記中間電位の値が前記
安定値よりも高い場合には、前記最初の動作期間におけ
る前記出力ノードの充電を禁止する。
[0034] The potential generation circuit of the present invention further comprises a determination circuit for determining whether or not the value of the intermediate potential is higher than a stable value. Otherwise, charging of the output node during the first operation period is prohibited.

【0035】前記半導体回路の非動作期間が前記一定期
間以上の場合に、前記非動作期間後の前記半導体回路の
最初の動作は、初期動作であり、前記半導体回路の非動
作期間が前記一定期間未満の場合に、前記半導体回路の
非動作期間と動作期間が繰り返される場合の動作は、連
続動作である。
When the non-operation period of the semiconductor circuit is equal to or longer than the predetermined period, the first operation of the semiconductor circuit after the non-operation period is an initial operation, and the non-operation period of the semiconductor circuit is the predetermined period. If the period is less than the above, the operation when the non-operation period and the operation period of the semiconductor circuit are repeated is a continuous operation.

【0036】前記第2充電回路は、前記一定期間を決定
するタイマと、前記半導体回路の非動作期間が前記一定
期間以上であるか否かを判断するロジック回路と、前記
半導体回路の非動作期間が前記一定期間以上である場合
に、前記出力ノードの充電の程度を決めるパルス信号を
生成するパルス幅調整回路と、前記パルス信号に基づい
て前記出力ノードを充電するトランジスタとから構成さ
れる。
The second charging circuit includes a timer for determining the predetermined period, a logic circuit for determining whether a non-operation period of the semiconductor circuit is equal to or longer than the predetermined period, and a non-operation period of the semiconductor circuit. A pulse width adjustment circuit that generates a pulse signal for determining the degree of charging of the output node when the period is equal to or longer than the predetermined period, and a transistor that charges the output node based on the pulse signal.

【0037】前記タイマは、クロック信号に同期して動
作するカウンタ又はシフトレジスタである。また、前記
タイマは、少なくとも1つのフリップフロップ回路から
構成される。前記タイマは、リングオシレータと、前記
リングオシレータの出力をカウントする回路とから構成
されていてもよい。
The timer is a counter or a shift register that operates in synchronization with a clock signal. The timer includes at least one flip-flop circuit. The timer may include a ring oscillator and a circuit that counts an output of the ring oscillator.

【0038】前記タイマは、電源投入時に初期化され
る。また、前記タイマは、前記半導体回路が動作状態に
なったときに初期化される。
The timer is initialized when the power is turned on. The timer is initialized when the semiconductor circuit enters an operating state.

【0039】前記タイマは、インバータ遅延回路により
構成される。前記出力ノードの充電の程度は、前記トラ
ンジスタの制御電圧としての前記パルス信号のパルス幅
及び大きさ、又は、前記トランジスタのチャネル幅及び
チャネル長の少なくとも1つにより決定される。前記半
導体回路は、半導体メモリに使用されるセンスアンプで
ある。
The timer is constituted by an inverter delay circuit. The degree of charging of the output node is determined by at least one of a pulse width and a magnitude of the pulse signal as a control voltage of the transistor, or a channel width and a channel length of the transistor. The semiconductor circuit is a sense amplifier used for a semiconductor memory.

【0040】[0040]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら、本発
明の電位生成回路について詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a potential generating circuit according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0041】本発明の電位生成回路は、電位の供給を受
ける半導体回路の活性化される頻度(例えば、センスア
ンプの場合には、メモリセルのアクセス頻度に等しい)
を検出し、その半導体回路の活性化される頻度に応じ
て、半導体回路に電位を供給するためのノードを充電す
る能力を変える点に特徴を有する。
In the potential generation circuit of the present invention, the frequency of activation of the semiconductor circuit receiving the supply of the potential (for example, in the case of a sense amplifier, it is equal to the access frequency of the memory cell)
Is detected, and the ability to charge a node for supplying a potential to the semiconductor circuit is changed in accordance with the frequency of activation of the semiconductor circuit.

【0042】具体的には、半導体回路の非動作期間(非
活性化期間)が一定期間以上か又はそれ未満かを検出
し、非動作期間が一定期間以上の場合には、非動作期間
後、最初に動作状態となる場合の電位生成回路の充電能
力を上げ(直ちに充電が行われるようにし)、非動作期
間が一定期間未満の場合(連続動作の場合)には、電位
生成回路による通常の充電をそのまま行うものである。
Specifically, it is detected whether the non-operation period (inactivation period) of the semiconductor circuit is longer than or equal to a predetermined period, and if the non-operation period is longer than the predetermined period, after the non-operation period, The charging capability of the potential generation circuit in the initial operation state is increased (so that charging is performed immediately), and when the non-operation period is less than a certain period (in the case of continuous operation), the normal operation by the potential generation circuit is performed. The charging is performed as it is.

【0043】本発明の電位生成回路は、このような特徴
を有するものであり、DRAM、SRAM、不揮発性半
導体メモリ、ASIC(ASSM,メモリ混載ASIC
などを含む)、システムLSI、マイクロプロセッサな
ど、種々の半導体集積回路に適用することができる。
The potential generation circuit according to the present invention has such features, and includes a DRAM, an SRAM, a non-volatile semiconductor memory, an ASIC (an ASIC incorporating a memory and an ASIC including a memory).
And the like), a system LSI, a microprocessor, and the like.

【0044】但し、以下では、代表例として、本発明の
電位生成回路を用いて、DRAMのセンスアンプに電位
を供給する場合について説明する。
However, hereinafter, a case where a potential is supplied to a sense amplifier of a DRAM using the potential generation circuit of the present invention will be described as a typical example.

【0045】[第1実施の形態]図1は、本発明の電位
生成回路が適用されるバンクタイプDRAMの主要部の
概略を示している。
[First Embodiment] FIG. 1 schematically shows a main part of a bank type DRAM to which a potential generating circuit according to the present invention is applied.

【0046】メモリセルアレイ(バンク)11A,11
Bは、アレイ状に配置される複数のメモリセル(ダイナ
ミック型メモリセル)12から構成される。ワード線W
Lは、メモリセルアレイ11A,11B上においてロウ
方向に延び、その一端は、ロウデコーダ13A,13B
に接続される。ビット線対BL,/BLは、メモリセル
アレイ11A,11B上においてカラム方向に延びてい
る。
Memory cell arrays (banks) 11A, 11
B is composed of a plurality of memory cells (dynamic memory cells) 12 arranged in an array. Word line W
L extends in the row direction on the memory cell arrays 11A and 11B, and one end thereof is connected to the row decoders 13A and 13B.
Connected to. The bit line pair BL, / BL extends in the column direction on the memory cell arrays 11A, 11B.

【0047】メモリセルアレイ11A,11Bの間に
は、センスアンプ(S/A)14、カラム選択スイッチ
(SW)15などの周辺回路が配置される。センスアン
プ14及びカラム選択スイッチ15は、隣接する2つの
メモリセルアレイ11A,11Bのメモリセルに共有さ
れている。
Peripheral circuits such as a sense amplifier (S / A) 14 and a column selection switch (SW) 15 are arranged between the memory cell arrays 11A and 11B. The sense amplifier 14 and the column selection switch 15 are shared by the memory cells of two adjacent memory cell arrays 11A and 11B.

【0048】センスアンプ14には、VBLH生成回路
16により生成される中間電位VBLHが与えられる。
この中間電位VBLHは、センスアンプ14を駆動する
ための高レベル側の電源電位となる(低レベル側は接地
電位)。センスアンプ14には、内部電源電位Vddで
はなく、中間電位VBLH(0<VBLH<Vdd)が
与えられる。その理由については、上述したように、ビ
ット線の充放電が高い頻度で繰り返されるため、ビット
線の充放電に要する消費電力を低減することにある。但
し、中間電位VBLHが低すぎると、ビット線電位のセ
ンス動作が十分に行えなくなるため、中間電位VBLH
の値は、センス動作が十分に行え、かつ、低消費電力を
達成できる所定の値に設定される。
The sense amplifier 14 is supplied with the intermediate potential VBLH generated by the VBLH generation circuit 16.
The intermediate potential VBLH is a high-level power supply potential for driving the sense amplifier 14 (the low-level side is a ground potential). The sense amplifier 14 is supplied with an intermediate potential VBLH (0 <VBLH <Vdd) instead of the internal power supply potential Vdd. The reason for this is, as described above, that the charging and discharging of the bit line is repeated at a high frequency, and thus the power consumption required for the charging and discharging of the bit line is reduced. However, if the intermediate potential VBLH is too low, the bit line potential sensing operation cannot be performed sufficiently.
Is set to a predetermined value capable of sufficiently performing the sensing operation and achieving low power consumption.

【0049】ビット線対BL,/BLは、カラムスイッ
チ15を経由して、データ線対(DQ線対と称する)D
Q,/DQに接続される。DQ線対DQ,/DQは、D
Qバッファ17を経由して、書き込み/読み出し線対1
8に接続される。書き込み/読み出し線対18は、入出
力バッファ(I/O)19に接続される。
The bit line pair BL, / BL is connected via a column switch 15 to a data line pair (referred to as a DQ line pair) D
Q, / DQ. The DQ line pair DQ and / DQ
Write / read line pair 1 via Q buffer 17
8 is connected. The write / read line pair 18 is connected to an input / output buffer (I / O) 19.

【0050】図2は、図1の破線22で囲んだ周辺回路
部の詳細を示している。本例では、ビット線対BL,/
BLのレイアウトを、折り返し+センスアンプ共有タイ
プとしている。
FIG. 2 shows details of a peripheral circuit section surrounded by a broken line 22 in FIG. In this example, the bit line pair BL, /
The layout of the BL is of a folded type and a shared sense amplifier type.

【0051】1つのセンスアンプ14に対して、複数の
ビット線対(本例では、2つのビット線対)BL,/B
Lが接続される。ビット線対BL,/BLには、ビット
線分離用NチャネルMOSトランジスタMN3L,MN
3Rが接続される。MOSトランジスタMN3Lのゲー
トには、制御信号φが入力され、MOSトランジスタM
N3Rのゲートには、制御信号/φが入力される。つま
り、1つのビット線対のみがセンスアンプに電気的に接
続されるようになっている。なお、/φは、φの反転信
号である。
For one sense amplifier 14, a plurality of bit line pairs (two bit line pairs in this example) BL, / B
L is connected. Bit line pairs BL and / BL have bit line isolation N-channel MOS transistors MN3L and MN
3R is connected. The control signal φ is input to the gate of the MOS transistor MN3L.
The control signal / φ is input to the gate of N3R. That is, only one bit line pair is electrically connected to the sense amplifier. Note that / φ is an inverted signal of φ.

【0052】ビット線分離用NチャネルMOSトランジ
スタMN3L,MN3Rの間には、センスアンプ14、
カラムスイッチ15及びイコライズ回路23が配置され
ている。センスアンプ14は、フリップフロップ接続さ
れたCMOSインバータから構成される。
A sense amplifier 14 is provided between the bit line isolation N-channel MOS transistors MN3L and MN3R.
The column switch 15 and the equalizing circuit 23 are arranged. The sense amplifier 14 includes a flip-flop connected CMOS inverter.

【0053】カラムスイッチ15は、NチャネルMOS
トランジスタMN5,MN6から構成され、データ線対
(DQ線対)DQ,/DQに接続される。カラムスイッ
チ15を構成するMOSトランジスタMN5,MN6の
ゲートは、カラムセレクト線CSLiに接続される。イ
コライズ回路23は、NチャネルMOSトランジスタM
N4から構成され、制御信号EQが“H”のときに、ビ
ット線対BL,/BLの電位を互いに等しくする。
The column switch 15 is an N-channel MOS
It comprises transistors MN5 and MN6, and is connected to a data line pair (DQ line pair) DQ and / DQ. The gates of the MOS transistors MN5 and MN6 forming the column switch 15 are connected to a column select line CSLi. The equalizing circuit 23 includes an N-channel MOS transistor M
When the control signal EQ is at "H", the potentials of the bit line pair BL and / BL are made equal to each other.

【0054】図3は、本発明に関わるVBLH生成回路
(降圧回路)を示している。
FIG. 3 shows a VBLH generation circuit (step-down circuit) according to the present invention.

【0055】本例のVBLH生成回路は、センスアンプ
に供給するVBLHのレベルを常にモニタし、VBLH
のレベルが低下したときには、充電動作によりVBLH
のレベルを安定値に戻すいわゆるフィードバック型電位
生成回路を改良したものである。
The VBLH generation circuit of this embodiment constantly monitors the level of VBLH supplied to the sense amplifier,
When the level of VBLH decreases, VBLH
Of the so-called feedback-type potential generating circuit for returning the level of the signal to a stable value.

【0056】電源Vdd端子と出力ノードAの間には、
PチャネルMOSトランジスタMP1が接続される。出
力ノードAと電源Vss端子の間には、抵抗R1,R2
から構成される分圧回路が接続される。抵抗R1,R2
は、抵抗素子、例えば、MOSトランジスタのチャネル
抵抗を利用した素子などから構成される。
Between the power supply Vdd terminal and the output node A,
P channel MOS transistor MP1 is connected. Resistors R1 and R2 are connected between the output node A and the power supply Vss terminal.
Is connected. Resistance R1, R2
Is composed of a resistance element, for example, an element utilizing the channel resistance of a MOS transistor.

【0057】抵抗R1,R2の接続点Bは、比較回路
(カレントミラー型増幅器)OP1を経由してMOSト
ランジスタMP1のゲートに接続される。比較回路OP
1は、電源Vdd端子と接地Vss端子の間に直列接続
されるPチャネルMOSトランジスタMP2及びNチャ
ネルMOSトランジスタMN1と、同様に、電源Vdd
端子と接地Vss端子の間に直列接続されるPチャネル
MOSトランジスタMP3及びNチャネルMOSトラン
ジスタMN2とから構成される。
The connection point B between the resistors R1 and R2 is connected to the gate of the MOS transistor MP1 via a comparison circuit (current mirror type amplifier) OP1. Comparison circuit OP
Reference numeral 1 denotes a power supply Vdd similarly to the P-channel MOS transistor MP2 and the N-channel MOS transistor MN1 connected in series between the power supply Vdd terminal and the ground Vss terminal.
It comprises a P-channel MOS transistor MP3 and an N-channel MOS transistor MN2 connected in series between the terminal and the ground Vss terminal.

【0058】MOSトランジスタMP2のゲートとドレ
インは、互いに接続され、MOSトランジスタMN1の
ゲートは、入力ノード(抵抗R1,R2の接続点)Bに
接続される。また、MOSトランジスタMP3のゲート
は、MOSトランジスタMP2のゲートに接続され、M
OSトランジスタMN2のゲートには、基準電位Vre
fが入力される。MOSトランジスタMP3,MN2の
接続点Cは、MOSトランジスタMP1のゲートに接続
される。
The gate and drain of MOS transistor MP2 are connected to each other, and the gate of MOS transistor MN1 is connected to an input node (connection point of resistors R1 and R2) B. Further, the gate of the MOS transistor MP3 is connected to the gate of the MOS transistor MP2,
The reference potential Vre is applied to the gate of the OS transistor MN2.
f is input. The connection point C between the MOS transistors MP3 and MN2 is connected to the gate of the MOS transistor MP1.

【0059】また、本例のVBLH生成回路では、出力
ノードAに補助の充電回路21が接続されている。この
充電回路21は、通常は、充電動作を行っておらず、特
別な場合にのみ、充電動作を行うものである。
Further, in the VBLH generation circuit of this embodiment, the auxiliary charging circuit 21 is connected to the output node A. The charging circuit 21 does not normally perform the charging operation, and performs the charging operation only in special cases.

【0060】具体的には、充電回路21は、センスアン
プの非動作期間(非活性化期間)が一定期間以上か又は
それ未満かを検出し、センスアンプの非動作期間が一定
期間以上の場合には、非動作期間後、センスアンプの最
初の動作期間に、出力ノードAを強制充電する。一方、
センスアンプの非動作期間が一定期間未満の場合(連続
動作の場合)には、充電回路21は、充電動作を行って
おらず、フィードバック型電位生成回路による通常の充
電動作のみが行われる。
More specifically, the charging circuit 21 detects whether the non-operation period (inactivation period) of the sense amplifier is longer than or equal to a predetermined period, and determines whether the non-operation period of the sense amplifier is longer than a predetermined period. After the non-operation period, the output node A is forcibly charged during the first operation period of the sense amplifier. on the other hand,
When the non-operating period of the sense amplifier is shorter than the fixed period (in the case of continuous operation), the charging circuit 21 does not perform the charging operation, and performs only the normal charging operation by the feedback-type potential generation circuit.

【0061】図4は、図3の充電回路21の具体例を示
している。本例の充電回路の主要部は、一定期間を決定
するカウンタ(又はシフトレジスタ)24、センスアン
プの非動作期間が一定期間以上か否かを判断するNAN
D回路NA1、センスアンプの非動作期間が一定期間以
上の場合に、出力ノードAの充電の程度を決めるパルス
信号を生成するパルス幅調整回路25及び出力ノードA
の充電を実行するためのPチャネルMOSトランジスタ
MP4から構成される。
FIG. 4 shows a specific example of the charging circuit 21 of FIG. The main part of the charging circuit of this example is a counter (or shift register) 24 for determining a fixed period, and a NAN for determining whether or not the non-operating period of the sense amplifier is longer than a fixed period.
When the non-operating period of the D circuit NA1 and the sense amplifier is equal to or longer than a predetermined period, the pulse width adjusting circuit 25 that generates a pulse signal that determines the degree of charging of the output node A, and the output node A
And a P-channel MOS transistor MP4 for executing the charging of.

【0062】カウンタ24は、複数個(本例では、2
個)のD(delay)タイプフリップフロップ回路FF
1,FF2から構成される。本例では、直列接続される
フリップフロップ回路FF1,FF2の数により、強制
充電を行うか否かの判断基準となる一定期間(センスア
ンプの非動作期間)を決めることができる。
There are a plurality of counters 24 (in this example, 2
) D (delay) type flip-flop circuit FF
1 and FF2. In this example, a certain period (non-operating period of the sense amplifier) serving as a criterion for determining whether to perform forced charging can be determined based on the number of flip-flop circuits FF1 and FF2 connected in series.

【0063】なお、強制充電を行うか否かの判断基準と
なる一定期間は、カウンタの値又はフリップフロップ回
路の数以外の他の手段によっても、当然に、決定するこ
とが可能である。
It is to be noted that the certain period as a criterion for determining whether or not to perform forced charging can be naturally determined by means other than the value of the counter or the number of flip-flop circuits.

【0064】例えば、リングオシレータとその出力をカ
ウントする回路を用いて一定期間を決めてもよい。つま
り、広い意味で時間を図ることができるタイマであれ
ば、強制充電を行うか否かの判断基準となる一定期間を
容易に決定できる。
For example, the fixed period may be determined using a ring oscillator and a circuit for counting its output. In other words, a timer that can take a time in a broad sense can easily determine a certain period as a criterion for determining whether to perform forced charging.

【0065】NOR回路NR1には、制御信号SAac
t,PowerOnが入力される。制御信号Power
Onは、例えば、システムの電源がオンになり、メモリ
チップに外部電源電位が与えたれたときに“H”レベル
となる信号であり、制御信号SAactは、例えば、メ
モリセルがアクセスされ、センスアンプが活性化される
ときに“H”レベルとなる信号である。
The control signal SAac is supplied to the NOR circuit NR1.
t and PowerOn are input. Control signal Power
On is, for example, a signal which goes to “H” level when the power of the system is turned on and an external power supply potential is applied to the memory chip. The control signal SAact is used when, for example, a memory cell is accessed and the sense amplifier is turned on. Is an "H" level signal when is activated.

【0066】NOR回路NR1の出力信号は、インバー
タI1,I2を経由した後、そのレベルが反転されて、
フリップフロップ回路FF1のリセット端子Rに入力さ
れる。また、NOR回路NR1の出力信号は、インバー
タI1,I2,I3を経由して、NOR回路NR2に入
力される。また、クロック信号CLOCKは、インバー
タI4を経由して、NOR回路NR2に入力される。
After the output signal of the NOR circuit NR1 passes through the inverters I1 and I2, its level is inverted.
The signal is input to the reset terminal R of the flip-flop circuit FF1. The output signal of the NOR circuit NR1 is input to the NOR circuit NR2 via the inverters I1, I2, and I3. The clock signal CLOCK is input to the NOR circuit NR2 via the inverter I4.

【0067】NOR回路NR2の出力信号は、インバー
タI5を経由して、フリップフロップ回路FF1のクロ
ック端子CPに入力される。フリップフロップ回路FF
1の出力端子Qからは、出力信号Q1が出力される。
The output signal of the NOR circuit NR2 is input to the clock terminal CP of the flip-flop circuit FF1 via the inverter I5. Flip-flop circuit FF
The output signal Q1 is output from one output terminal Q.

【0068】クロック信号CLOCKは、インバータI
6を経由した後、フリップフロップ回路FF2のクロッ
ク端子CPに入力される。制御信号PowerOnは、
インバータI7を経由した後、そのレベルが反転され
て、フリップフロップ回路FF2のリセット端子Rに入
力される。フリップフロップ回路FF1の出力信号Q1
は、フリップフロップ回路FF2の入力端子Dに入力さ
れる。フリップフロップ回路FF2の出力端子Qから
は、出力信号Q2が出力される。
The clock signal CLOCK is output from the inverter I
After that, the signal is input to the clock terminal CP of the flip-flop circuit FF2. The control signal PowerOn is
After passing through the inverter I7, its level is inverted and input to the reset terminal R of the flip-flop circuit FF2. Output signal Q1 of flip-flop circuit FF1
Is input to the input terminal D of the flip-flop circuit FF2. An output signal Q2 is output from an output terminal Q of the flip-flop circuit FF2.

【0069】NAND回路NA1には、制御信号SAa
ct及びフリップフロップ回路FF2の出力信号Q2が
入力される。つまり、制御信号SAactが“H”レベ
ルのとき、出力信号Q2の反転信号がパルス幅調整回路
25に入力される。
The control signal SAa is supplied to the NAND circuit NA1.
ct and the output signal Q2 of the flip-flop circuit FF2 are input. That is, when the control signal SAact is at the “H” level, an inverted signal of the output signal Q2 is input to the pulse width adjustment circuit 25.

【0070】パルス幅調整回路25は、NAND回路N
A1の出力信号に基づいて、所定幅(“L”の期間が所
定幅)のパルス信号CPを生成し、このパルス信号CP
を充電のためのPチャネルMOSトランジスタMP4の
ゲートに与える。
The pulse width adjusting circuit 25 includes a NAND circuit N
A pulse signal CP having a predetermined width (the period of “L” is a predetermined width) is generated based on the output signal of A1.
Is applied to the gate of P-channel MOS transistor MP4 for charging.

【0071】パルス幅調整回路25は、例えば、図5に
示すような回路から構成することができる。この回路で
は、入力信号(NAND回路NA1の出力信号)aのレ
ベルが“L”から“H”に変化したとき、奇数個のイン
バータ26により決まる遅延時間分のパルス幅を有する
パルス信号(CP)dが生成される。強制充電の程度
は、パルス信号(CP)dのパルス幅により調整でき、
そのパルス幅は、インバータ26の数により決めること
ができる。なお、図5の回路の動作波形は、図7に示す
ようになる。
The pulse width adjusting circuit 25 can be composed of, for example, a circuit as shown in FIG. In this circuit, when the level of the input signal (output signal of the NAND circuit NA1) a changes from “L” to “H”, the pulse signal (CP) having a pulse width corresponding to the delay time determined by the odd number of inverters 26 d is generated. The degree of forced charging can be adjusted by the pulse width of the pulse signal (CP) d,
The pulse width can be determined by the number of inverters 26. The operation waveform of the circuit of FIG. 5 is as shown in FIG.

【0072】そして、パルス幅調整回路25により生成
されたパルス信号CPがPチャネル型MOSトランジス
タMP4のゲートに入力されている間、即ち、MOSト
ランジスタMP4のゲートが“L”レベルの期間、VB
LH生成回路の出力ノードAの強制充電が行われる。
While the pulse signal CP generated by the pulse width adjusting circuit 25 is being input to the gate of the P-channel MOS transistor MP4, that is, while the gate of the MOS transistor MP4 is at the "L" level, VB
The output node A of the LH generation circuit is forcibly charged.

【0073】以上、説明したように、図1乃至図5に示
したようなDRAMのセンスアンプに電位を供給するV
BLH生成回路は、通常のフィードバック型充電回路に
加えて、新規に、特定の時期のみに充電動作を行う強制
充電のための充電回路を備えている。即ち、充電回路
は、センスアンプの非動作期間(非活性化期間)が一定
期間以上か又はそれ未満かを検出するためのタイマ(本
例では、カウンタ又はフリップフロップ回路)を有し、
現在のセンスアンプの動作が、初期動作か又は連続動作
かを判断している。
As described above, V is used to supply a potential to the sense amplifier of the DRAM as shown in FIGS.
The BLH generation circuit includes a new charging circuit for forced charging that performs a charging operation only at a specific time, in addition to a normal feedback-type charging circuit. That is, the charging circuit includes a timer (in this example, a counter or a flip-flop circuit) for detecting whether the non-operation period (inactivation period) of the sense amplifier is longer than or equal to a predetermined period,
It is determined whether the current operation of the sense amplifier is an initial operation or a continuous operation.

【0074】そして、初期動作の場合には、フィードバ
ック型充電回路は安定状態(非充電状態)にあり、応答
性が遅くなるように設定されたフィードバック型充電回
路による充電動作が不十分なため、本発明に関わる強制
充電回路による強制充電を行い、初期動作におけるVB
LHのレベルの極端な低下を防止する。また、連続動作
の場合には、フィードバック型充電回路は充電動作を継
続して行っているため、特に、本発明に関わる強制充電
回路による強制充電は不要であり、強制充電は、行わな
い。
In the initial operation, the feedback type charging circuit is in a stable state (non-charging state), and the charging operation by the feedback type charging circuit set so that the response is slow is insufficient. Forced charging by the forced charging circuit according to the present invention is performed, and VB
It prevents an extreme drop in the level of LH. In the case of continuous operation, since the feedback-type charging circuit continues to perform the charging operation, the forced charging by the forced charging circuit according to the present invention is unnecessary, and the forced charging is not performed.

【0075】従って、例えば、図8及び図9に示すよう
に、センスアンプが活性化される頻度(アクセス頻度)
によらず、常に、センスアンプに供給する電位VBLH
を安定値に近い値に維持することができるため、DRA
Mの安定動作に貢献することができる。
Accordingly, for example, as shown in FIGS. 8 and 9, the frequency at which the sense amplifier is activated (access frequency)
Irrespective of the potential VBLH supplied to the sense amplifier
Can be maintained at a value close to the stable value.
M can contribute to the stable operation.

【0076】なお、初期動作とは、センスアンプの非動
作期間(メモリセルに対する非アクセス期間)が一定期
間以上の場合に、非動作期間後、最初に行われるセンス
アンプの動作のことをいう。また、連続動作とは、セン
スアンプの非動作期間(メモリセルに対する非アクセス
期間)が一定期間未満の場合において、非動作期間と動
作期間が繰り返されることをいう(常に、センスアンプ
が動作状態である場合も含む)。
Note that the initial operation refers to the operation of the sense amplifier that is performed first after the non-operation period when the non-operation period (non-access period to the memory cell) of the sense amplifier is longer than a certain period. The continuous operation means that the non-operating period and the operating period are repeated when the non-operating period of the sense amplifier (the non-access period to the memory cell) is shorter than a certain period (always when the sense amplifier is in the operating state). Including some cases).

【0077】ここで、一定期間とは、センスアンプが非
活性状態(非動作状態)になった後、VBLHの値(レ
ベル)が安定値に落ち着き、VBLH生成回路が安定状
態(非充電状態)になるまでの期間をいう。
Here, the certain period is a period in which the value (level) of VBLH is settled to a stable value after the sense amplifier is deactivated (inactive), and the VBLH generation circuit is in a stable state (non-charged state). The period until it becomes.

【0078】次に、本発明に関わるVBLH生成回路の
動作について説明する。
Next, the operation of the VBLH generation circuit according to the present invention will be described.

【0079】図6は、図3及び図4の充電回路21の動
作波形を示している。
FIG. 6 shows operation waveforms of the charging circuit 21 shown in FIGS.

【0080】 非連続アクセス動作(図6(a)) 前提条件として、センスアンプの非動作期間が1クロッ
ク分(一定期間)以上の場合を非連続アクセス動作と呼
ぶことにする。
Non-Continuous Access Operation (FIG. 6A) As a precondition, a case where the non-operation period of the sense amplifier is equal to or longer than one clock (a certain period) is referred to as a non-continuous access operation.

【0081】まず、クロック信号CLOCKに同期して
制御信号PowerOnが“H”レベルとなり、フリッ
プフロップ回路FF1,FF2が初期化される。この
後、センスアンプを活性化するための制御信号SAac
tが“H”レベルになる。なお、制御信号PowerO
nが“H”レベルとなった後の最初のアクセス動作(制
御信号SAactが“H”レベルの期間)Aに関して
は、原則として、連続動作として扱われる。
First, the control signal PowerOn goes high in synchronization with the clock signal CLOCK, and the flip-flop circuits FF1 and FF2 are initialized. Thereafter, control signal SAac for activating the sense amplifier
t becomes "H" level. The control signal PowerO
The first access operation A (when the control signal SAact is at the “H” level) after n becomes the “H” level is treated as a continuous operation in principle.

【0082】その理由は、電源が投入された後(Pow
erOnが“H”になった後)に直ちにアクセス動作が
行われるのが一般的であり、また、この時、フィードバ
ック型充電回路により充電動作が行われているからであ
る。但し、電源が投入されてから所定期間が経過し、V
BLH生成回路が安定状態になっても、未だ、最初のア
クセス動作が行われない場合には、最初のアクセス動作
は、初期動作として扱われ、本発明に関わる強制充電が
実行される。
The reason is that after the power is turned on (Pow
This is because the access operation is generally performed immediately after erOn becomes “H”), and at this time, the charging operation is being performed by the feedback-type charging circuit. However, after a predetermined period has elapsed since the power was turned on, V
Even if the BLH generation circuit is in a stable state, if the first access operation is not yet performed, the first access operation is treated as an initial operation, and the forced charging according to the present invention is performed.

【0083】最初のアクセス動作が行われた後に、一定
期間の非アクセス期間(センスアンプの非動作期間)と
なる。本例では、この非アクセス期間は、1クロック分
以上であり、VBLH生成回路が安定状態(非充電状
態)となるのに十分な時間である。
After the first access operation is performed, a non-access period (a non-operation period of the sense amplifier) for a certain period is set. In this example, the non-access period is equal to or longer than one clock, and is a time sufficient for the VBLH generation circuit to be in a stable state (non-charged state).

【0084】ここで、クロック信号CLOCKが“H”
レベルになって最初のアクセス動作(期間A)が行われ
た後、次に、クロック信号CLOCKが“H”レベルに
なった時点(期間B)では、制御信号SAactは、
“L”レベルである。この時、NOR回路NR1の出力
信号は、“H”レベルとなり、NOR回路NR2の2つ
の入力信号は、共に、“L”レベルとなる。
Here, the clock signal CLOCK becomes "H".
After the first access operation (period A) is performed and the clock signal CLOCK goes to the “H” level (period B), the control signal SAact becomes:
This is the “L” level. At this time, the output signal of the NOR circuit NR1 becomes “H” level, and the two input signals of the NOR circuit NR2 both become “L” level.

【0085】従って、フリップフロップ回路FF1の入
力端子CPのレベルが“L”となり、フリップフロップ
回路FF1の出力信号Q1が“L”レベルから“H”レ
ベルに変化する。また、この後、クロック信号CLOC
Kのネガティブエッジにおいて、そのときのフリップフ
ロップFF1の出力信号Q1がフリップフロップ回路F
F2に伝達される。即ち、クロック信号CLOCKが
“H”レベルから“L”レベルに変化すると、フリップ
フロップ回路FF2の出力信号Q2は、“L”レベルか
ら“H”レベルに変化する。
Therefore, the level of the input terminal CP of the flip-flop circuit FF1 becomes "L", and the output signal Q1 of the flip-flop circuit FF1 changes from "L" level to "H" level. After this, the clock signal CLOC
At the negative edge of K, the output signal Q1 of the flip-flop FF1 at that time is
It is transmitted to F2. That is, when the clock signal CLOCK changes from “H” level to “L” level, the output signal Q2 of the flip-flop circuit FF2 changes from “L” level to “H” level.

【0086】そして、この後、クロック信号CLOCK
に同期して制御信号SAactが“H”レベルになる
と、NAND回路NA1の2つの入力信号が共に“H”
となるため、NAND回路NA1の出力信号(パルス幅
調整回路25の入力信号)は、“H”レベルから“L”
レベルに変化する。つまり、このアクセス動作は、充電
回路により、初期動作であると判断される。
Then, after that, the clock signal CLOCK
When the control signal SAact goes to the “H” level in synchronism with “1”, both of the two input signals of the NAND circuit NA1 become “H”.
Therefore, the output signal of the NAND circuit NA1 (the input signal of the pulse width adjusting circuit 25) changes from “H” level to “L” level.
Change to a level. That is, this access operation is determined by the charging circuit to be an initial operation.

【0087】ところで、制御信号SAactが“H”レ
ベルになった時点で、フリップフロップ回路FF1は、
初期化され、その出力信号Q1は、“L”レベルにな
る。また、この後、制御クロック(クロック信号CLO
CK)のネガティブエッジにおいて、そのときのフリッ
プフロップFF1の出力信号Q1がフリップフロップ回
路FF2に伝達される。
By the way, at the time point when the control signal SAact becomes “H” level, the flip-flop circuit FF1
Initialized, the output signal Q1 goes to "L" level. After this, the control clock (clock signal CLO)
At the negative edge of (CK), the output signal Q1 of the flip-flop FF1 at that time is transmitted to the flip-flop circuit FF2.

【0088】即ち、クロック信号CLOCKが“H”レ
ベルから“L”レベルに変化すると、フリップフロップ
回路FF2の出力信号Q2は、“H”レベルから“L”
レベルに変化する。そして、NAND回路NA1の出力
信号(パルス幅調整回路25の入力信号)は、“L”レ
ベルから“H”レベルに変化する。
That is, when the clock signal CLOCK changes from "H" level to "L" level, the output signal Q2 of the flip-flop circuit FF2 changes from "H" level to "L" level.
Change to a level. Then, the output signal of NAND circuit NA1 (the input signal of pulse width adjustment circuit 25) changes from "L" level to "H" level.

【0089】パルス幅調整回路25の入力信号が“L”
レベルから“H”レベルに変化すると、図5及び図7に
示すように、パルス幅調整回路25からは所定幅
(“L”の期間が所定幅)のパルス信号CP(charge p
ulse)が出力される。
The input signal of the pulse width adjustment circuit 25 is "L"
When the level changes from the “H” level to the “H” level, as shown in FIGS. 5 and 7, the pulse width adjustment circuit 25 outputs a pulse signal CP (charge p) having a predetermined width (the “L” period is a predetermined width).
ulse) is output.

【0090】このパルス信号CPは、図4のPチャネル
MOSトランジスタMP4のゲートに入力されるため、
クロック信号CLOCKが“H”レベルの期間Cにおけ
るアクセス動作(初期動作)では、センスアンプが活性
化されると共に、センスアンプにVBLHを供給するノ
ードAに対して強制充電が実行される。
This pulse signal CP is input to the gate of P-channel MOS transistor MP4 in FIG.
In the access operation (initial operation) during the period C in which the clock signal CLOCK is at the “H” level, the sense amplifier is activated and the node A that supplies VBLH to the sense amplifier is forcibly charged.

【0091】なお、ノードAに対する強制充電の程度
は、パルス信号CPのパルス幅及び大きさにより制御さ
れる。また、制御信号SAactが“H”になると、カ
ウンタ24、即ち、フリップフロップ回路が初期化さ
れ、次の動作(非動作期間の検出)に備える。
The degree of forced charging of node A is controlled by the pulse width and magnitude of pulse signal CP. When the control signal SAact becomes “H”, the counter 24, that is, the flip-flop circuit is initialized, and prepares for the next operation (detection of a non-operation period).

【0092】ところで、クロック信号CLOCKが
“H”レベルの期間Cにおいて制御信号SAactが
“L”レベルのときは、パルス信号CP(charge puls
e)が出力されることはないが(CPは、常に、
“H”)、センスアンプの非動作期間は継続されている
ため、再び、フリップフロップ回路FF1の出力信号Q
1が“H”レベルになる。
When the control signal SAact is at the "L" level during the period C in which the clock signal CLOCK is at the "H" level, the pulse signal CP (charge pulse)
e) is not output (CP always
"H"), since the non-operation period of the sense amplifier is continued, the output signal Q of the flip-flop circuit FF1 is again output.
1 becomes "H" level.

【0093】 連続アクセス動作(図6(b)) 前提条件として、1クロックごとにアクセス動作が行わ
れる場合、即ち、センスアンプの非動作期間が1クロッ
ク分(一定期間)未満の場合を連続アクセス動作と呼ぶ
ことにする。
Continuous Access Operation (FIG. 6B) As a prerequisite, continuous access is performed when the access operation is performed every clock, that is, when the non-operating period of the sense amplifier is less than one clock (constant period). Let's call it action.

【0094】まず、クロック信号CLOCKに同期して
制御信号PowerOnが“H”レベルとなり、フリッ
プフロップ回路FF1,FF2が初期化される。この
後、センスアンプを活性化するための制御信号SAac
tが“H”レベルになる。ここで、制御信号SAact
は、クロック信号CLOCKに同期して、1クロックご
とに“H”レベルになる。
First, the control signal PowerOn goes high in synchronization with the clock signal CLOCK, and the flip-flop circuits FF1 and FF2 are initialized. Thereafter, control signal SAac for activating the sense amplifier
t becomes "H" level. Here, the control signal SAact
Goes high at each clock in synchronization with the clock signal CLOCK.

【0095】この場合、クロック信号CLOCKが
“H”レベルのときに、制御信号SAactが“L”レ
ベルとなることはないため、NOR回路NR2の出力信
号が“H”レベルになることもない。
In this case, when the clock signal CLOCK is at the “H” level, the control signal SAact does not go to the “L” level, so that the output signal of the NOR circuit NR2 does not go to the “H” level.

【0096】従って、フリップフロップ回路FF1,F
F2の出力信号Q1,Q2は、常に、“L”レベルとな
り、パルス幅調整回路25からパルス信号CPが出力さ
れることはない。つまり、連続アクセス動作では、強制
充電は、行われない。
Therefore, the flip-flop circuits FF1, F
The output signals Q1 and Q2 of F2 are always at the “L” level, and the pulse signal CP is not output from the pulse width adjustment circuit 25. That is, in the continuous access operation, the forced charging is not performed.

【0097】なお、上述の動作例は、ビット線対のレベ
ルをセンスする間隔、即ち、センスアンプの非動作期間
が1クロックサイクル以上の場合に、強制充電を行うも
のであるが、当然に、フリップフロップ回路FF1,F
F2の数を増減することにより、強制充電を行うか否か
の判断基準となる一定期間を調整できる。
In the above-described operation example, forcible charging is performed when the interval for sensing the level of the bit line pair, that is, when the non-operating period of the sense amplifier is one clock cycle or more. Flip-flop circuits FF1, F
By increasing or decreasing the number of F2, it is possible to adjust a certain period as a criterion for determining whether to perform forced charging.

【0098】例えば、図4の充電回路において、フリッ
プフロップ回路の数を3つにすれば、ビット線対の電位
(レベル)をセンスする間隔、即ち、センスアンプの非
動作期間が2クロックサイクル以上の場合に、強制充電
が行われることになる(図16及び図23を参照)。
For example, in the charging circuit shown in FIG. 4, if the number of flip-flop circuits is set to three, the interval for sensing the potential (level) of the bit line pair, that is, the non-operating period of the sense amplifier is two clock cycles or more. In this case, forced charging is performed (see FIGS. 16 and 23).

【0099】図8及び図9は、本発明に関わる電位生成
回路(VBLH生成回路)を用いた場合の効果を示して
いる。
FIGS. 8 and 9 show the effect when the potential generation circuit (VBLH generation circuit) according to the present invention is used.

【0100】例えば、図1のメモリセルアレイ11A,
11Bのメモリセルに対して非連続アクセス動作が行わ
れる場合の一定期間の非アクセス後の最初のアクセス動
作では、VBLHの値は、安定値を維持し、図3のVB
LH生成回路は、安定状態(出力ノードAを充電してい
ない状態)になっている。また、上述したように、図3
のVBLH生成回路は、そのフィードバック経路の応答
性が遅くなるように設定されている。
For example, the memory cell array 11A of FIG.
In the first access operation after a non-access for a certain period when the non-continuous access operation is performed on the memory cell of 11B, the value of VBLH maintains a stable value, and VBH of FIG.
The LH generation circuit is in a stable state (a state in which the output node A is not charged). Further, as described above, FIG.
Is set such that the response of the feedback path is slow.

【0101】ここで、従来では、図8及び図9に示すよ
うに、一定期間の非アクセス後に、最初のアクセス動作
が行われ、センスアンプ14が活性化されると、VBL
Hの値が急激に低下するにもかかわらず、充電が行われ
ないため、VBLHの値が大きく低下する。
Here, conventionally, as shown in FIG. 8 and FIG. 9, when the first access operation is performed after the non-access for a certain period and the sense amplifier 14 is activated, the VBL
Despite the rapid decrease in the value of H, no charging is performed, so the value of VBLH drops significantly.

【0102】これに対し、本発明では、図8及び図9に
示すように、一定期間の非アクセス後に、最初のアクセ
ス動作が行われ、センスアンプ14が活性化されると、
直ちに、強制充電回路(図3の“21”)が充電動作を
開始するため、VBLH生成回路のフィードバック経路
の応答性が遅くても、VBLHの値が極端に低下するこ
とはない。
On the other hand, in the present invention, as shown in FIGS. 8 and 9, the first access operation is performed after a certain period of non-access and the sense amplifier 14 is activated.
Since the forced charging circuit ("21" in FIG. 3) immediately starts the charging operation, the value of VBLH does not extremely decrease even if the response of the feedback path of the VBLH generation circuit is slow.

【0103】なお、図9では、図1の回路が4つ存在
し、それぞれをブロックとした場合を前提としている。
そして、4つのブロックは、それぞれ独立にアクセス動
作でき、かつ、独自にセンスアンプを有しており、ワー
ド線WL1〜WL4は、それぞれ異なるブロックに存在
することを想定している。但し、VBLH生成回路は、
4つのブロックのセンスアンプに共通になっている。
FIG. 9 is based on the premise that there are four circuits of FIG. 1, each of which is a block.
Each of the four blocks can perform an access operation independently and has its own sense amplifier. It is assumed that the word lines WL1 to WL4 exist in different blocks. However, the VBLH generation circuit is
It is common to the sense amplifiers of the four blocks.

【0104】以上、説明したように、本発明の第1実施
の形態に関わる電位生成回路によれば、半導体回路の非
動作期間が一定期間以上か又はそれ未満かを検出し、半
導体回路の非動作期間が一定期間以上の場合には、非動
作期間後、最初に動作状態となる場合の電位生成回路の
充電能力を上げ(直ちに充電が行われるようにし)、半
導体回路の非動作期間が一定期間未満の場合には、通常
の充電をそのまま行うようにして、常に、安定した中間
電位を生成することが可能になる。
As described above, according to the potential generation circuit according to the first embodiment of the present invention, it is detected whether the non-operating period of the semiconductor circuit is equal to or longer than a predetermined period, and the non-operating period of the semiconductor circuit is determined. When the operation period is longer than a certain period, after the non-operation period, the charging capacity of the potential generation circuit when the operation is first performed is increased (so that charging is performed immediately), and the non-operation period of the semiconductor circuit is constant. If the period is less than the period, normal charging is performed as it is, so that a stable intermediate potential can always be generated.

【0105】[第2実施の形態]次に、本発明の第2実
施の形態に関わる電位生成回路について説明する。この
実施の形態に関わる電位生成回路は、強制充電回路の具
体的構成に特徴を持つものである。なお、電位生成回路
の構成としては、例えば、図3に示すようなフィードバ
ック型となる。
[Second Embodiment] Next, a potential generation circuit according to a second embodiment of the present invention will be described. The potential generating circuit according to this embodiment is characterized by a specific configuration of a forced charging circuit. The configuration of the potential generation circuit is, for example, a feedback type as shown in FIG.

【0106】図10は、本発明に関わる充電回路の具体
例を示している。この充電回路は、クロック信号(基本
クロック)CLOCKを用いることなく、制御信号SA
actのみにより、例えば、センスアンプの非動作期間
が一定期間以上か又はそれ未満かを検出し、その検出結
果に基づいて、強制充電を行うか否かを決定する。
FIG. 10 shows a specific example of a charging circuit according to the present invention. This charging circuit uses the control signal SA without using the clock signal (basic clock) CLOCK.
Only by act, for example, it is detected whether or not the non-operation period of the sense amplifier is longer than or equal to a predetermined period, and it is determined whether or not to perform forced charging based on the detection result.

【0107】本例の充電回路は、一定期間を決定するイ
ンバータ遅延回路27と、センスアンプの非動作期間が
一定期間以上か否かを判断するロジック回路(NAND
回路NA2)とから構成される。具体的には、制御信号
SAactは、4つのインバータI8,I9,I10,
I11を経由した後にNOR回路NR3に入力されると
共に、2つのインバータI8,I9を経由した後にNO
R回路NR3に入力される。NOR回路NR3の出力信
号a及び制御信号SAact(=b)は、それぞれNA
ND回路NA2に入力される。
The charging circuit of this embodiment includes an inverter delay circuit 27 for determining a fixed period and a logic circuit (NAND) for determining whether the non-operating period of the sense amplifier is longer than a fixed period.
Circuit NA2). Specifically, the control signal SAact includes four inverters I8, I9, I10,
After passing through I11, it is input to the NOR circuit NR3, and after passing through two inverters I8 and I9, NO
The signal is input to the R circuit NR3. The output signal a of the NOR circuit NR3 and the control signal SAact (= b)
The signal is input to the ND circuit NA2.

【0108】NAND回路NA2の出力信号cは、パル
ス幅調整回路25に入力され、パルス幅調整回路25
は、出力信号cに基づいてパルス信号CP(=d)を生
成する。なお、パルス幅調整回路25は、例えば、図5
に示すような構成を有し、かつ、図7に示すような動作
波形に従って動作する。
The output signal c of the NAND circuit NA2 is input to the pulse width adjustment circuit 25,
Generates a pulse signal CP (= d) based on the output signal c. Note that the pulse width adjustment circuit 25 is, for example, as shown in FIG.
And operates according to operation waveforms as shown in FIG.

【0109】パルス幅調整回路25の出力信号CP(=
d)は、Pチャネル型MOSトランジスタMP4のゲー
トに入力される。パルス信号(“L”レベル)がMOS
トランジスタMP4のゲートに入力されている間、充電
回路により、出力ノードAに対する強制充電が実行され
る。
The output signal CP of the pulse width adjusting circuit 25 (=
d) is input to the gate of the P-channel MOS transistor MP4. The pulse signal ("L" level) is MOS
While the signal is being input to the gate of the transistor MP4, the charging circuit performs forcible charging on the output node A.

【0110】図11は、図10のインバータの具体例を
示している。このインバータは、PチャネルMOSトラ
ンジスタMP5、Nチャネル型MOSトランジスタMN
7、抵抗R及び容量Cから構成される。抵抗R及び容量
Cから構成されるRC回路は、時定数を有しており、イ
ンバータ遅延回路27のタイミング調整を行うことを目
的に設けられている。
FIG. 11 shows a specific example of the inverter of FIG. This inverter includes a P-channel MOS transistor MP5 and an N-channel MOS transistor MN
7, a resistor R and a capacitor C. The RC circuit composed of the resistor R and the capacitor C has a time constant and is provided for the purpose of adjusting the timing of the inverter delay circuit 27.

【0111】次に、図12の動作波形を参照しながら、
図10の充電回路の動作について説明する。
Next, referring to the operation waveforms of FIG.
The operation of the charging circuit of FIG. 10 will be described.

【0112】制御信号SAactが“H”の期間は、セ
ンスアンプが動作状態、制御信号SAactが“L”の
期間は、センスアンプが非動作状態となっている。
While the control signal SAact is "H", the sense amplifier is in the operating state, and while the control signal SAact is "L", the sense amplifier is in the non-operating state.

【0113】まず、センスアンプの非動作期間がP1で
あり、この期間P1が、図10に示す充電回路21内の
インバータI8,I9,I10,I11により決定され
る一定期間Xよりも短いと仮定する。この場合、制御信
号SAactが“H”→“L”→“H”と変化しても、
この変化がNOR回路NR3の出力信号aに変化を与え
ることはない。つまり、SAact=“L”の期間が一
定期間Xよりも短いと、図10のインバータI8,I
9,I10,I11による遅延により、NOR回路NR
3の2つの入力信号が共に“L”レベルとなることがな
いため、NOR回路NR3の出力信号aは、“L”レベ
ルを維持する。
First, it is assumed that the non-operation period of the sense amplifier is P1, and this period P1 is shorter than a fixed period X determined by the inverters I8, I9, I10, I11 in the charging circuit 21 shown in FIG. I do. In this case, even if the control signal SAact changes from “H” → “L” → “H”,
This change does not change the output signal a of the NOR circuit NR3. That is, if the period of SAact = “L” is shorter than the fixed period X, the inverters I8 and I8 in FIG.
9, I10, I11, the NOR circuit NR
Therefore, the output signal a of the NOR circuit NR3 maintains the "L" level because both of the two input signals No. 3 and "3" do not go to the "L" level.

【0114】従って、制御信号SAactが“L”レベ
ルから“H”レベルになった時点で、信号aは、“L”
レベルであるため、NAND回路NA2の出力信号c
は、“H”レベルのままとなる。即ち、パルス幅調整回
路25の入力信号cが“H”レベルのままなので、パル
ス幅調整回路25からはパルス信号(CP)dが出力さ
れず、強制充電は、行われない。
Therefore, when the control signal SAact changes from "L" level to "H" level, the signal "a" becomes "L" level.
Level, the output signal c of the NAND circuit NA2
Remain at the “H” level. That is, since the input signal c of the pulse width adjustment circuit 25 remains at the “H” level, the pulse signal (CP) d is not output from the pulse width adjustment circuit 25, and the forced charging is not performed.

【0115】次に、センスアンプの非動作期間がP2で
あり、この期間P2が、図10に示す充電回路21内の
インバータI8,I9,I10,I11により決定され
る一定期間Xよりも長いと仮定する。この場合、制御信
号SAactが“H”→“L”→“H”と変化すると、
制御信号SAactが“H”レベルから“L”レベルに
変化した後、一定期間Xが経過したときに、NOR回路
NR3の出力信号aが“L”レベルから“H”レベルに
変化する。
Next, if the non-operating period of the sense amplifier is P2, and this period P2 is longer than a fixed period X determined by the inverters I8, I9, I10 and I11 in the charging circuit 21 shown in FIG. Assume. In this case, when the control signal SAact changes from “H” → “L” → “H”,
After the control signal SAact changes from “H” level to “L” level, when a certain period X has elapsed, the output signal “a” of the NOR circuit NR3 changes from “L” level to “H” level.

【0116】そして、NOR回路NR3の出力信号a
は、制御信号SAactが“L”レベルから“H”レベ
ルに変化した後、図10のインバータI8,I9により
決定される遅延時間Yが経過するまで、“H”レベルを
維持し、この遅延時間Yが経過した後に、“H”レベル
から“L”レベルに変化する。
Then, the output signal a of the NOR circuit NR3
Maintains the "H" level after the control signal SAact changes from the "L" level to the "H" level until the delay time Y determined by the inverters I8 and I9 in FIG. 10 elapses. After the lapse of Y, the level changes from “H” level to “L” level.

【0117】ここで、期間Yにおいては、制御信号SA
act(=b)及びNOR回路NR3の出力信号aが、
共に、“H”レベルである。
Here, in the period Y, the control signal SA
act (= b) and the output signal a of the NOR circuit NR3 are
Both are at “H” level.

【0118】従って、期間Yにおいては、NAND回路
NA2の出力信号cは、“L”レベルとなる。つまり、
パルス幅調整回路(例えば、図5参照)25は、NAN
D回路NA2の出力信号cの“L”→“H”の変化を検
出し、所定のパルス幅を有するパルス信号(CP)dを
出力する。
Therefore, in period Y, output signal c of NAND circuit NA2 is at "L" level. That is,
The pulse width adjustment circuit (for example, see FIG. 5) 25
A change in the output signal c of the D circuit NA2 from “L” to “H” is detected, and a pulse signal (CP) d having a predetermined pulse width is output.

【0119】そして、パルス信号(CP)dが“L”レ
ベルの間、PチャネルMOSトランジスタMP4がオン
状態になるため、強制充電が行われる。
Then, while the pulse signal (CP) d is at the "L" level, the P-channel MOS transistor MP4 is turned on, so that forced charging is performed.

【0120】以上、説明したように、本発明の第2実施
の形態に関わる電位生成回路によれば、第1実施の形態
に関わる電位生成回路と同様に、半導体回路の非動作期
間が一定期間以上か又はそれ未満かを検出し、半導体回
路の非動作期間が一定期間以上の場合には、非動作期間
後、最初に動作状態となる場合の電位生成回路の充電能
力を上げ(直ちに充電が行われるようにし)、半導体回
路の非動作期間が一定期間未満の場合には、通常の充電
をそのまま行うようにしているため、常に、安定した中
間電位を生成することが可能になる。
As described above, according to the potential generation circuit according to the second embodiment of the present invention, like the potential generation circuit according to the first embodiment, the non-operation period of the semiconductor circuit is a fixed period. If the non-operating period of the semiconductor circuit is equal to or longer than a predetermined period, the charging capability of the potential generating circuit when the semiconductor circuit is first operated after the non-operating period is increased (immediately after the non-operating period). And when the non-operating period of the semiconductor circuit is less than a certain period, normal charging is performed as it is, so that a stable intermediate potential can be always generated.

【0121】[第3実施の形態]次に、本発明の第3実
施の形態に関わる電位生成回路について説明する。この
実施の形態に関わる電位生成回路は、上述の第1及び第
2実施の形態に関わる電位生成回路の改良例である。
[Third Embodiment] Next, a potential generating circuit according to a third embodiment of the present invention will be described. The potential generation circuit according to this embodiment is an improved example of the potential generation circuits according to the above-described first and second embodiments.

【0122】即ち、本実施の形態では、図4(第1実施
の形態)及び図10(第2実施の形態)の充電回路に、
VBLHの電位を検出し、この検出結果に基づいて強制
充電を行うか否かを判定する判定回路を新規に付加して
いる。この判定回路は、VBLHの電位が安定値よりも
低下している場合には、充電回路による強制充電を許容
するが、VBLHの電位が安定値よりも上昇している場
合には、充電回路による強制充電を禁止する。
That is, in the present embodiment, the charging circuits shown in FIG. 4 (first embodiment) and FIG.
A determination circuit for detecting the potential of VBLH and determining whether to perform forced charging based on the detection result is newly added. This determination circuit allows forcible charging by the charging circuit when the potential of VBLH is lower than the stable value. However, when the potential of VBLH is higher than the stable value, Prohibit forced charging.

【0123】従って、第3の実施の形態において強制充
電が行われる条件は、電位の供給を受ける半導体回路の
非動作期間が一定期間以上継続した後の最初の半導体回
路の動作期間であり、かつ、半導体回路に供給する電位
のレベルが安定値よりも低下している場合となる。
Therefore, the condition under which the forced charging is performed in the third embodiment is the first operating period of the semiconductor circuit after the non-operating period of the semiconductor circuit supplied with the potential has continued for a certain period or more, and That is, the level of the potential supplied to the semiconductor circuit is lower than the stable value.

【0124】図13は、図4の充電回路を改良した例で
ある。本例の充電回路が図4の充電回路と異なる点は、
NAND回路NA1の入力を、1つ増やして、合計、3
つにし、かつ、増加した1つの入力端子に、判定信号J
を入力させた点にある。
FIG. 13 shows an example in which the charging circuit of FIG. 4 is improved. The difference between the charging circuit of this example and the charging circuit of FIG.
The input of the NAND circuit NA1 is increased by one, and a total of 3
And the increased input terminal is provided with a judgment signal J
Is entered.

【0125】判定信号Jは、VBLHの電位が安定値よ
りも低下している場合には、“H”レベル(充電許容)
に設定されているため、本例の充電回路の動作は、図4
の充電回路の動作(図6及びその説明を参照)と全く同
じとなる。一方、判定信号Jは、VBLHの電位が安定
値よりも上昇している場合には、“L”レベル(充電禁
止)に設定されているため、強制充電は、行われること
がない。
When the potential of VBLH is lower than the stable value, judgment signal J is at "H" level (charge allowed).
, The operation of the charging circuit of the present example is shown in FIG.
(See FIG. 6 and the description thereof). On the other hand, when the potential of VBLH is higher than the stable value, judgment signal J is set to the “L” level (charging prohibited), so that forced charging is not performed.

【0126】図14は、図10の充電回路を改良した例
である。本例の充電回路が図10の充電回路と異なる点
は、NAND回路NA2の入力を、1つ増やして、合
計、3つにし、かつ、増加した1つの入力端子に、判定
信号Jを入力させた点にある。
FIG. 14 shows an example in which the charging circuit of FIG. 10 is improved. The difference between the charging circuit of the present embodiment and the charging circuit of FIG. 10 is that the input of the NAND circuit NA2 is increased by one to a total of three, and the determination signal J is input to the increased one input terminal. It is in the point.

【0127】判定信号Jは、VBLHの電位が安定値よ
りも低下している場合には、“H”レベル(充電許容)
に設定されているため、本例の充電回路の動作は、図1
0の充電回路の動作(図12及びその説明を参照)と全
く同じとなる。一方、判定信号Jは、VBLHの電位が
安定値よりも上昇している場合には、“L”レベル(充
電禁止)に設定されているため、強制充電は、行われる
ことがない。
When the potential of VBLH is lower than the stable value, the determination signal J is at the “H” level (charge allowed).
, The operation of the charging circuit of this example is as shown in FIG.
The operation is exactly the same as the operation of the charging circuit of 0 (see FIG. 12 and its description). On the other hand, when the potential of VBLH is higher than the stable value, judgment signal J is set to the “L” level (charging prohibited), so that forced charging is not performed.

【0128】図15は、判定信号Jを生成する判定回路
の具体例を示している。この判定回路の構成は、例え
ば、図3に示すフィードバック型電位生成回路の構成と
実質的に同じになっている。即ち、図3の電位生成回路
において、充電回路21及びPチャネルMOSトランジ
スタMP1を削除し、比較回路(カレントミラー型増幅
器)OP1の出力信号をインバータにより反転した信号
を、判定信号Jとすると、図15の判定回路を得ること
ができる。
FIG. 15 shows a specific example of the judgment circuit for generating the judgment signal J. The configuration of this determination circuit is substantially the same as, for example, the configuration of the feedback potential generation circuit shown in FIG. That is, in the potential generation circuit of FIG. 3, the charge circuit 21 and the P-channel MOS transistor MP1 are deleted, and a signal obtained by inverting the output signal of the comparison circuit (current mirror amplifier) OP1 by an inverter is referred to as a determination signal J. Fifteen determination circuits can be obtained.

【0129】但し、この判定回路の応答性は、当然に、
図3のフィードバック経路の応答性よりも速くなるよう
に設定されている。即ち、判定回路では、VBLHの電
位(レベル)を検出し、その検出結果(判定信号J)
を、直ちに、強制充電回路21に伝えることが必要だか
らである。
However, the response of the determination circuit is, of course,
It is set to be faster than the response of the feedback path in FIG. That is, the determination circuit detects the potential (level) of VBLH, and the detection result (determination signal J)
Is required to be immediately transmitted to the forced charging circuit 21.

【0130】図15の動作を簡単に説明すると、VBL
Hが安定値よりも高い場合、分圧回路(抵抗R1’,R
2’)により得られた電位(比較回路OP2の入力信
号)は、基準電位Vrefよりも高くなる。従って、比
較回路OP2の出力信号は、“H”レベルとなり、判定
信号Jは、“L”レベルとなる。
The operation of FIG. 15 will be briefly described.
If H is higher than the stable value, the voltage dividing circuit (resistors R1 ′, R
2 ′) (the input signal of the comparison circuit OP2) is higher than the reference potential Vref. Therefore, the output signal of the comparison circuit OP2 becomes “H” level, and the determination signal J becomes “L” level.

【0131】一方、VBLHが安定値よりも低い場合、
分圧回路(抵抗R1’,R2’)により得られた電位
(比較回路OP2の入力信号)は、基準電位Vrefよ
りも低くなる。従って、比較回路OP2の出力信号は、
“L”レベルとなり、判定信号Jは、“H”レベルとな
る。
On the other hand, when VBLH is lower than the stable value,
The potential (input signal of the comparison circuit OP2) obtained by the voltage dividing circuit (resistors R1 ′, R2 ′) becomes lower than the reference potential Vref. Therefore, the output signal of the comparison circuit OP2 is
The signal becomes “L” level, and the determination signal J becomes “H” level.

【0132】このように、図4及び図10に示す強制充
電回路は、VBLHの電位をフィードバックしていない
ため、VBLHの電位(レベル)にかかわらず、半導体
回路の非動作期間が一定期間以上である場合の最初の半
導体回路の動作期間においては、強制的に、VBLH生
成回路の出力ノードが充電される。
As described above, since the forced charging circuits shown in FIGS. 4 and 10 do not feed back the potential of VBLH, the non-operating period of the semiconductor circuit is longer than a certain period regardless of the potential (level) of VBLH. In an operation period of the first semiconductor circuit in a certain case, the output node of the VBLH generation circuit is forcibly charged.

【0133】これは、経験則上、半導体回路の非動作期
間が一定期間以上である場合の最初の半導体回路の動作
期間において、VBLHの電位が極端に低下し易いこと
が明らかになっているためである(従来技術の説明を参
照)。
This is because, as a rule of thumb, it has been clarified that the potential of VBLH is liable to extremely decrease during the first operation period of the semiconductor circuit when the non-operation period of the semiconductor circuit is longer than a certain period. (See the description of the prior art).

【0134】しかし、何らかの原因により、半導体回路
の非動作期間が一定期間以上である場合の最初の半導体
回路の動作期間において、VBLHの電位が、安定値よ
りも大きくなっている場合には、このような強制充電
は、全く必要ない。
However, if the potential of VBLH is larger than the stable value during the first operation period of the semiconductor circuit when the non-operation period of the semiconductor circuit is longer than a certain period for some reason, Such forced charging is not required at all.

【0135】本実施の形態に関わるVBLH生成回路に
よれば、仮に、VBLHの電位が上昇している場合に
は、半導体回路の非動作期間が一定期間以上である場合
の最初の半導体回路の動作期間であっても、強制充電は
行わないため、このような不要な強制充電を禁止するこ
とができる。
According to the VBLH generation circuit according to this embodiment, if the potential of VBLH is rising, the operation of the first semiconductor circuit when the non-operation period of the semiconductor circuit is longer than a certain period Even during the period, since the forced charging is not performed, such unnecessary forced charging can be prohibited.

【0136】なお、電位生成回路の構成としては、例え
ば、図3に示すようなフィードバック型となる。
The configuration of the potential generation circuit is, for example, a feedback type as shown in FIG.

【0137】[第4実施の形態]次に、第4実施の形態
に関わる電位生成回路について説明する。本実施の形態
の電位生成回路は、上述の第1及び第2実施の形態に関
わる電位生成回路における強制充電を行うか否かの判断
基準となる一定期間の長さを変えたものである。
[Fourth Embodiment] Next, a potential generation circuit according to a fourth embodiment will be described. The potential generation circuit according to the present embodiment is obtained by changing the length of a certain period serving as a criterion for determining whether to perform forced charging in the potential generation circuits according to the first and second embodiments.

【0138】図16は、図4の充電回路の変形例であ
り、フリップフロップ回路の数が異なっている。本例で
は、フリップフロップ回路が3つ存在するため、強制充
電を行うか否かの判断基準となる一定期間は、制御クロ
ック(クロック信号CLOCK)の2サイクル分とな
る。従って、センスアンプの非動作期間が1クロックサ
イクル分のみである場合(連続アクセス動作の場合)に
は、この非動作期間後、最初のセンスアンプの動作期間
では、出力ノードAの強制充電は、行わない。また、こ
の時、次の動作(非動作期間の検出)に備えるため、カ
ウンタ24、即ち、フリップフロップ回路が初期化され
る。なお、図16の充電回路の動作波形は、図23に示
すようになる。
FIG. 16 shows a modification of the charging circuit shown in FIG. 4, in which the number of flip-flop circuits is different. In this example, since there are three flip-flop circuits, a certain period serving as a criterion for determining whether to perform forced charging is two cycles of the control clock (clock signal CLOCK). Therefore, when the non-operating period of the sense amplifier is only one clock cycle (in the case of a continuous access operation), forcibly charging the output node A during the first operating period of the sense amplifier after this non-operating period Not performed. At this time, in order to prepare for the next operation (detection of a non-operation period), the counter 24, that is, the flip-flop circuit is initialized. The operation waveform of the charging circuit in FIG. 16 is as shown in FIG.

【0139】また、図17は、図10の充電回路の変形
例であり、インバータの数が異なっている。このよう
に、強制充電を行うか否かの判断基準となる一定期間
は、例えば、通常のフィードバック型電位生成回路の性
能や、電位の供給先となる半導体回路の負荷の大きさな
どに基づいて、容易に変更することができる。
FIG. 17 shows a modification of the charging circuit shown in FIG. 10, in which the number of inverters is different. As described above, the certain period of time as a criterion for determining whether or not to perform forced charging is based on, for example, the performance of a normal feedback-type potential generation circuit, the magnitude of the load on the semiconductor circuit to which the potential is supplied, and the like. , Can be easily changed.

【0140】[その他]上述の実施の形態では、フード
バック型電位生成回路(図19)を改良した例について
説明したが、基本となる電位生成回路は、図19のフィ
ードバック型電位生成回路に限定されない。例えば、図
22に示すような強制充電回路に、本発明に関わる充電
回路を組みあわせてもよい。
[Others] In the above embodiment, an example in which the hood-back type potential generating circuit (FIG. 19) is improved has been described. However, the basic potential generating circuit is limited to the feedback type potential generating circuit of FIG. Not done. For example, a charging circuit according to the present invention may be combined with a forced charging circuit as shown in FIG.

【0141】また、本発明に関わる充電回路による強制
充電の程度は、PチャネルMOSトランジスタのゲート
に入力されるパルス信号のパルス幅及び大きさにより制
御したが、これに代えて、又はこれと共に、例えば、P
チャネルMOSトランジスタのサイズ(チャネル幅、チ
ャネル長)を変えることにより制御するようにしてもよ
い。
Further, the degree of the forced charging by the charging circuit according to the present invention is controlled by the pulse width and the magnitude of the pulse signal input to the gate of the P-channel MOS transistor, but instead or together with this. For example, P
The control may be performed by changing the size (channel width, channel length) of the channel MOS transistor.

【0142】また、上述の実施の形態では、DRAMを
例にとり、センスアンプに電位を供給するVBLH生成
回路について説明したが、本発明の電位生成回路は、種
々の半導体回路に適用することができる。例えば、図1
のDRAMを例にとると、DQ線対DQ,/DQを駆動
するDQバッファ17に電位を供給する電位生成回路
や、I/Oバッファ19に電位を供給する電位生成回路
などにも、本発明を適用できる。
In the above-described embodiment, the VBLH generation circuit for supplying a potential to a sense amplifier has been described by taking a DRAM as an example. However, the potential generation circuit of the present invention can be applied to various semiconductor circuits. . For example, FIG.
Taking a DRAM as an example, the present invention is applied to a potential generating circuit for supplying a potential to a DQ buffer 17 for driving a DQ line pair DQ and / DQ, a potential generating circuit for supplying a potential to an I / O buffer 19, and the like. Can be applied.

【0143】また、本発明は、当然に、DRAM以外の
他のメモリや、メモリ以外の集積回路などにも適用可能
である。
The present invention is naturally applicable to memories other than DRAMs and integrated circuits other than memories.

【0144】[0144]

【発明の効果】以上、説明したように、本発明によれ
ば、活性状態(動作状態)となる頻度が変わる半導体回
路に中間電位を与える電位生成回路に関して、この半導
体回路の非動作期間が一定期間以上か又はそれ未満かを
検出し、一定期間以上の場合には、非動作期間後、最初
に動作状態となる場合の電位生成回路の充電能力を上げ
(直ちに充電が行われるようにし)、一定期間未満の場
合には、通常のフィードバック型充電をそのまま行うよ
うにして、安定した中間電位を常に生成できるようにな
る。
As described above, according to the present invention, a non-operating period of a semiconductor circuit is constant with respect to a potential generating circuit which applies an intermediate potential to a semiconductor circuit whose active state (operating state) changes in frequency. Detecting whether it is longer than or less than the period, if it is more than a certain period, after the non-operation period, raise the charging capability of the potential generation circuit when it is first in the operating state (so that charging is performed immediately), If the period is less than the predetermined period, normal feedback-type charging is performed as it is, so that a stable intermediate potential can be always generated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の電位生成回路が適用されるDRAMの
概略を示す図。
FIG. 1 is a diagram schematically showing a DRAM to which a potential generation circuit of the present invention is applied.

【図2】図1のDRAMの周辺回路部を詳細に示す図。FIG. 2 is a diagram showing details of a peripheral circuit portion of the DRAM of FIG. 1;

【図3】本発明に関わるVBLH生成回路を示す図。FIG. 3 is a diagram showing a VBLH generation circuit according to the present invention.

【図4】本発明の第1実施の形態に関わる充電回路を示
す図。
FIG. 4 is a diagram showing a charging circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図5】図4のパルス幅調整回路の具体例を示す図。FIG. 5 is a diagram showing a specific example of the pulse width adjustment circuit of FIG. 4;

【図6】図4の充電回路の動作波形を示す図。FIG. 6 is a diagram showing operation waveforms of the charging circuit of FIG. 4;

【図7】図5のパルス幅調整回路の動作波形を示す図。FIG. 7 is a diagram showing operation waveforms of the pulse width adjustment circuit in FIG. 5;

【図8】本発明のVBLH生成回路を用いた場合のVB
LHの変化を示す図。
FIG. 8 shows VB when the VBLH generation circuit of the present invention is used.
The figure which shows the change of LH.

【図9】本発明のVBLH生成回路を用いた場合のVB
LHの変化を示す図。
FIG. 9 shows VB when the VBLH generation circuit of the present invention is used.
The figure which shows the change of LH.

【図10】本発明の第2実施の形態に関わる充電回路を
示す図。
FIG. 10 is a diagram showing a charging circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図11】図10のインバータの具体例を示す図。FIG. 11 is a diagram showing a specific example of the inverter in FIG. 10;

【図12】図10の充電回路の動作波形を示す図。FIG. 12 is a diagram showing operation waveforms of the charging circuit of FIG.

【図13】本発明の第3実施の形態に関わる充電回路を
示す図。
FIG. 13 is a diagram showing a charging circuit according to a third embodiment of the present invention.

【図14】本発明の第3実施の形態に関わる充電回路を
示す図。
FIG. 14 is a diagram showing a charging circuit according to a third embodiment of the present invention.

【図15】図13及び図14の判定信号Jを生成する判
定回路の具体例を示す図。
FIG. 15 is a diagram illustrating a specific example of a determination circuit that generates a determination signal J in FIGS. 13 and 14;

【図16】本発明の第4実施の形態に関わる充電回路を
示す図。
FIG. 16 is a diagram showing a charging circuit according to a fourth embodiment of the present invention.

【図17】本発明の第4実施の形態に関わる充電回路を
示す図。
FIG. 17 is a diagram showing a charging circuit according to a fourth embodiment of the present invention.

【図18】一般的なDRAMの概略を示す図。FIG. 18 is a view schematically showing a general DRAM.

【図19】従来のVBLH生成回路を示す図。FIG. 19 is a diagram showing a conventional VBLH generation circuit.

【図20】図19のVBLH生成回路を用いた場合のV
BLHの変化を示す図。
20 is a diagram showing V when the VBLH generation circuit shown in FIG. 19 is used;
The figure which shows the change of BLH.

【図21】従来のVBLH生成回路を示す図。FIG. 21 is a diagram showing a conventional VBLH generation circuit.

【図22】従来のVBLH生成回路を示す図。FIG. 22 is a diagram showing a conventional VBLH generation circuit.

【図23】図16の充電回路の動作波形を示す図。FIG. 23 is a diagram showing operation waveforms of the charging circuit of FIG.

【符号の説明】 11A,11B :メモリセルアレイ
(バンク)、 12 :メモリセル、 13A,13B :ロウデコーダ、 14 :センスアンプ、 15 :カラムスイッチ、 16 :VBLH生成回路、 17 :DQバッファ、 18 :書き込み/読み出し
線対、 19 :I/Oバッファ、 20 :パルス回路、 21 :充電回路(強制充電
回路)、 22 :周辺回路部、 23 :イコライズ回路、 24 :カウンタ、 25 :パルス幅調整回路、 26 :インバータ列、 27 :インバータ遅延回
路、 MP1〜MP5 :PチャネルMOSト
ランジスタ、 MN1〜MN7 :NチャネルMOSト
ランジスタ、 R1,R2 :抵抗素子、 I1〜I12 :インバータ、 NR1〜NR3 :NOR回路、 NA1,NA2 :NAND回路、 FF1,FF2 :フリップフロップ回
路、 OP1,OP2 :比較回路(カレント
ミラー型増幅器)。
[Description of References] 11A, 11B: Memory cell array (bank), 12: Memory cell, 13A, 13B: Row decoder, 14: Sense amplifier, 15: Column switch, 16: VBLH generation circuit, 17: DQ buffer, 18: Write / read line pair, 19: I / O buffer, 20: pulse circuit, 21: charging circuit (forcible charging circuit), 22: peripheral circuit section, 23: equalizing circuit, 24: counter, 25: pulse width adjusting circuit, 26: Inverter train, 27: Inverter delay circuit, MP1 to MP5: P-channel MOS transistor, MN1 to MN7: N-channel MOS transistor, R1, R2: Resistive element, I1 to I12: Inverter, NR1 to NR3: NOR circuit, NA1 , NA2: NAND circuit, FF1, FF2: Flip-flop circuit, OP1, OP2: comparing circuit (current mirror type amplifier).

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 桑形 正明 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝マイクロエレクトロニクスセン ター内 Fターム(参考) 5B015 JJ15 KB62 QQ10 5B024 AA03 AA15 BA09 BA27 CA07 5F038 BB04 BB08 DF01 DF05 DF06 EZ20  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Masaaki Kuwagata 1st address, Komukai Toshiba-cho, Saiwai-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa F-term in Toshiba Microelectronics Center Co., Ltd. 5B015 JJ15 KB62 QQ10 5B024 AA03 AA15 BA09 BA27 CA07 5F038 BB04 BB08 DF01 DF05 DF06 EZ20

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 中間電位を生成し、前記中間電位を出力
ノードを経由して半導体回路に与える第1充電回路と、
前記半導体回路の非動作期間が一定期間以上か否かを検
出し、その検出結果に基づいて前記出力ノードを強制的
に充電するか否かを決定する第2充電回路とを具備する
ことを特徴とする電位生成回路。
A first charging circuit for generating an intermediate potential and applying the intermediate potential to a semiconductor circuit via an output node;
A second charging circuit that detects whether the non-operating period of the semiconductor circuit is equal to or longer than a predetermined period, and determines whether to forcibly charge the output node based on the detection result. Potential generation circuit.
【請求項2】 前記第1充電回路は、前記中間電位の値
に応じて前記出力ノードの充電能力を変えるフィードバ
ック型充電回路であることを特徴とする請求項1記載の
電位生成回路。
2. The potential generating circuit according to claim 1, wherein the first charging circuit is a feedback type charging circuit that changes a charging capability of the output node according to the value of the intermediate potential.
【請求項3】 前記フィードバック型充電回路の応答性
は、前記中間電位の値が発振状態とならない程度に設定
されていることを特徴とする請求項2記載の電位生成回
路。
3. The potential generation circuit according to claim 2, wherein the responsiveness of the feedback type charging circuit is set to such an extent that the value of the intermediate potential does not enter an oscillation state.
【請求項4】 前記第2充電回路は、前記半導体回路の
非動作期間が前記一定期間以上の場合に、前記非動作期
間後の前記半導体回路の最初の動作期間において前記出
力ノードを強制的に充電することを特徴とする請求項1
記載の電位生成回路。
4. The semiconductor device according to claim 2, wherein the second charging circuit forcibly forces the output node during an initial operation period of the semiconductor circuit after the non-operation period, when the non-operation period of the semiconductor circuit is the predetermined period or more. The battery is charged.
The potential generation circuit according to any one of the preceding claims.
【請求項5】 前記一定期間は、前記半導体回路が非動
作状態になった後、前記第1充電回路により前記中間電
位が安定値となり、前記第1充電回路による充電が行わ
れなくなるまでの期間であることを特徴とする請求項4
記載の電位生成回路。
5. The fixed period is a period from when the semiconductor circuit enters a non-operating state to when the intermediate potential becomes a stable value by the first charging circuit and charging by the first charging circuit is not performed. 5. The method according to claim 4, wherein
The potential generation circuit according to any one of the preceding claims.
【請求項6】 前記中間電位の値が安定値よりも高いか
否かを判定する判定回路をさらに具備し、前記第2充電
回路は、前記中間電位の値が前記安定値よりも高い場合
には、前記最初の動作期間における前記出力ノードの充
電を禁止することを特徴とする請求項4記載の電位生成
回路。
6. The semiconductor device according to claim 1, further comprising a determination circuit configured to determine whether a value of the intermediate potential is higher than a stable value, wherein the second charging circuit determines whether the value of the intermediate potential is higher than the stable value. 5. The potential generation circuit according to claim 4, wherein charging of said output node during said first operation period is prohibited.
【請求項7】 前記半導体回路の非動作期間が前記一定
期間以上の場合に、前記非動作期間後の前記半導体回路
の最初の動作は、初期動作であり、前記半導体回路の非
動作期間が前記一定期間未満の場合に、前記半導体回路
の非動作期間と動作期間が繰り返される場合の動作は、
連続動作であることを特徴とする請求項1記載の電位生
成回路。
7. When the non-operation period of the semiconductor circuit is equal to or longer than the predetermined period, the first operation of the semiconductor circuit after the non-operation period is an initial operation, and the non-operation period of the semiconductor circuit is the When less than a certain period, the operation of the semiconductor circuit when the non-operation period and the operation period are repeated,
2. The potential generation circuit according to claim 1, wherein the operation is a continuous operation.
【請求項8】 前記第2充電回路は、前記一定期間を決
定するタイマと、前記半導体回路の非動作期間が前記一
定期間以上であるか否かを判断するロジック回路と、前
記半導体回路の非動作期間が前記一定期間以上である場
合に、前記出力ノードの充電の程度を決めるパルス信号
を生成するパルス幅調整回路と、前記パルス信号に基づ
いて前記出力ノードを充電するトランジスタとから構成
されることを特徴とする請求項1記載の電位生成回路。
8. The second charging circuit includes: a timer for determining the predetermined period; a logic circuit for determining whether a non-operation period of the semiconductor circuit is equal to or longer than the predetermined period; A pulse width adjustment circuit that generates a pulse signal that determines a degree of charging of the output node when the operation period is equal to or longer than the predetermined period; and a transistor that charges the output node based on the pulse signal. The potential generation circuit according to claim 1, wherein:
【請求項9】 前記タイマは、クロック信号に同期して
動作するカウンタ又はシフトレジスタであることを特徴
とする請求項8記載の電位生成回路。
9. The potential generation circuit according to claim 8, wherein the timer is a counter or a shift register that operates in synchronization with a clock signal.
【請求項10】 前記タイマは、少なくとも1つのフリ
ップフロップ回路から構成されていることを特徴とする
請求項8記載の電位生成回路。
10. The potential generation circuit according to claim 8, wherein said timer comprises at least one flip-flop circuit.
【請求項11】 前記タイマは、リングオシレータと、
前記リングオシレータの出力をカウントする回路とから
構成されていることを特徴とする請求項8記載の電位生
成回路。
11. The timer comprises: a ring oscillator;
9. The potential generation circuit according to claim 8, further comprising a circuit for counting an output of said ring oscillator.
【請求項12】 前記タイマは、電源投入時に初期化さ
れることを特徴とする請求項9又は10又は11記載の
電位生成回路。
12. The potential generation circuit according to claim 9, wherein the timer is initialized when power is turned on.
【請求項13】 前記タイマは、前記半導体回路が動作
状態になったときに初期化されることを特徴とする請求
項9又は10又は11記載の電位生成回路。
13. The potential generation circuit according to claim 9, wherein the timer is initialized when the semiconductor circuit enters an operation state.
【請求項14】 前記タイマは、インバータ遅延回路に
より構成されることを特徴とする請求項8記載の電位生
成回路。
14. The potential generation circuit according to claim 8, wherein said timer is constituted by an inverter delay circuit.
【請求項15】 前記出力ノードの充電の程度は、前記
トランジスタの制御電圧としての前記パルス信号のパル
ス幅及び大きさ、又は、前記トランジスタのチャネル幅
及びチャネル長の少なくとも1つにより決定されること
を特徴とする請求項8記載の電位生成回路。
15. The degree of charging of the output node is determined by at least one of a pulse width and a magnitude of the pulse signal as a control voltage of the transistor, or a channel width and a channel length of the transistor. 9. The potential generation circuit according to claim 8, wherein:
【請求項16】 前記半導体回路は、半導体メモリに使
用されるセンスアンプであることを特徴とする請求項1
記載の電位生成回路。
16. The semiconductor circuit according to claim 1, wherein said semiconductor circuit is a sense amplifier used in a semiconductor memory.
The potential generation circuit according to any one of the preceding claims.
JP2000186449A 2000-06-21 2000-06-21 Potential generating circuit Withdrawn JP2002008373A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000186449A JP2002008373A (en) 2000-06-21 2000-06-21 Potential generating circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000186449A JP2002008373A (en) 2000-06-21 2000-06-21 Potential generating circuit

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002008373A true JP2002008373A (en) 2002-01-11

Family

ID=18686608

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000186449A Withdrawn JP2002008373A (en) 2000-06-21 2000-06-21 Potential generating circuit

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002008373A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016103307A (en) * 2014-11-28 2016-06-02 力晶科技股▲ふん▼有限公司 Internal power supply voltage auxiliary circuit, semiconductor memory and semiconductor device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016103307A (en) * 2014-11-28 2016-06-02 力晶科技股▲ふん▼有限公司 Internal power supply voltage auxiliary circuit, semiconductor memory and semiconductor device
CN106205717A (en) * 2014-11-28 2016-12-07 力晶科技股份有限公司 Internal power source voltage auxiliary circuit, semiconductor storage and semiconductor device
CN106205717B (en) * 2014-11-28 2019-10-11 力晶积成电子制造股份有限公司 Internal power source voltage auxiliary circuit, semiconductor storage and semiconductor device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR940008147B1 (en) Semiconductor memory device
US5097303A (en) On-chip voltage regulator and semiconductor memory device using the same
KR100231951B1 (en) Semiconductor integrated circuit
KR940001640B1 (en) Semiconductor integrated circuit device
KR940009250B1 (en) Refresh timer for plural operating voltage
US7307901B2 (en) Apparatus and method for improving dynamic refresh in a memory device
JP2644261B2 (en) Dynamic semiconductor memory device
JP2000149547A (en) Semiconductor storage device
KR100262029B1 (en) Delay circuit having delay time free from influence of operation environment
US6100768A (en) Ring oscillator generating pulse signal at constant pulse period under unstable power voltage
JPH11144473A (en) Semiconductor memory device
JPH07107798B2 (en) Sense amplifier driving device and sense amplifier driving method in dynamic random access memory
KR100323324B1 (en) Semiconductor memory device
JP3753972B2 (en) Semiconductor memory device
US4875195A (en) Semiconductor device with a reference voltage generator
US6614270B2 (en) Potential detecting circuit having wide operating margin and semiconductor device including the same
KR100294450B1 (en) Internal voltage generation circuit of array of semiconductor memory device
JP4804609B2 (en) Memory circuit that prevents cell array power supply from rising
JP2002008373A (en) Potential generating circuit
JP5564829B2 (en) Semiconductor memory device and control method thereof
KR100792364B1 (en) Device for generating pumping voltage and semiconductor memory device with the same
JPH11328988A (en) Semiconductor storage device
JPH0673237B2 (en) Semiconductor integrated circuit device
JP2003085972A (en) Timer circuit and semiconductor memory
JP4841658B2 (en) Semiconductor memory device

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20070904