JP2002007202A - Semiconductor storage device and adjusting method - Google Patents

Semiconductor storage device and adjusting method

Info

Publication number
JP2002007202A
JP2002007202A JP2000187408A JP2000187408A JP2002007202A JP 2002007202 A JP2002007202 A JP 2002007202A JP 2000187408 A JP2000187408 A JP 2000187408A JP 2000187408 A JP2000187408 A JP 2000187408A JP 2002007202 A JP2002007202 A JP 2002007202A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
input
output
data
delay
circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2000187408A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazutoshi Hirayama
和俊 平山
Jun Nakai
潤 中井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2000187408A priority Critical patent/JP2002007202A/en
Publication of JP2002007202A publication Critical patent/JP2002007202A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor storage device and its adjusting method which can adjust differences in output time among pieces of data outputted from input/output terminals to be less than a reference value. SOLUTION: A phase comparing circuit 9 is connected to equal loads by pads 11 and 12 and wires 17 and 18, and the phase of the data outputted to the pad 11 is compared with the phase of the data outputted to the pad 12. Then the comparison result is outputted to a delay signal generating circuit 10. The delay signal generating circuit 10 outputs a delay signal SDL to a delay circuit 8, until the output signal of the phase comparing circuit 9 is switched from level L to level H and the delay circuit 8 delays the data according to the delay signal SDL. The delay signal generating circuit 10 outputs a delay fixation signal SDLC to the delay circuit 8 once the output signal of the phase comparing circuit 9 is switched from level L to level H, and the delay circuit 8 fixes the delay quantity according to the delay fixation signal SDLC.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体記憶装置
に関し、特に複数の入出力端子から出力されるデータの
出力時間差を基準値内にする半導体記憶装置およびその
調整方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device and, more particularly, to a semiconductor memory device for adjusting an output time difference between data output from a plurality of input / output terminals to a reference value and a method of adjusting the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体記憶装置には、クロック発生部を
有し、そのクロック発生部において発生させた基準クロ
ックに同期してデータを入出力するシンクロナスDRA
Mがある。また、基準クロックの立上がりと立下がりの
両方のタイミングでデータを入出力するDDR(Dou
ble Data Rate)−DRAMとランバスD
RAMとがある。
2. Description of the Related Art A semiconductor memory device has a clock generator and a synchronous DRA for inputting and outputting data in synchronization with a reference clock generated in the clock generator.
There is M. A DDR (Dou) that inputs and outputs data at both the rising and falling timings of the reference clock.
ble Data Rate) -DRAM and Rambus D
There is a RAM.

【0003】DDR−DRAMにおいては、100MH
z程度の周波数でDRAM外の装置とのデータのやり取
りが行なわれる。
In a DDR-DRAM, 100 MH
Data is exchanged with a device outside the DRAM at a frequency of about z.

【0004】また、ランバスDRAMは、複数のメモリ
セル、および複数のメモリセルにデータを入出力するた
めの入出力インタフェース回路等の周辺回路を含むメモ
リチップと、DRAM外の装置とのデータのやり取りを
行なうインタフェース回路とは別々に作製される。そし
て、メモリチップとインタフェース回路との間では、5
00MHz程度の周波数でデータが入出力され、DRA
M外の装置とインタフェース回路との間では800MH
zから1GHzの高周波数でデータのやり取りが行なわ
れる。
A Rambus DRAM exchanges data with a memory chip including a plurality of memory cells and a peripheral circuit such as an input / output interface circuit for inputting / outputting data to / from the plurality of memory cells, and a device outside the DRAM. Are manufactured separately from the interface circuit that performs the operation. Then, between the memory chip and the interface circuit, 5
Data is input and output at a frequency of about 00 MHz, and DRA
800 MH between the device outside M and the interface circuit
Data is exchanged at a high frequency of 1 GHz from z.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、DDR−DR
AMやランバスDRAMにおいては、基準クロックに基
づいてデータの出力タイミングをコントロールする出力
コントロールクロック回路は、隣接する2つの入出力端
子から等距離に接続されているとは限らず、DRDR−
DRAMやランバスDRAMの各入出力端子から出力さ
れるデータには出力時間差が生じるという問題がある。
However, DDR-DR
In an AM or Rambus DRAM, an output control clock circuit that controls data output timing based on a reference clock is not always connected equidistant from two adjacent input / output terminals.
There is a problem that data output from each input / output terminal of a DRAM or a Rambus DRAM has an output time difference.

【0006】特に、ランバスDRAMにおいては、イン
タフェース回路とDRAM外の装置とのデータのやり取
りは800MHZから1GHzの高周波数で行なわれる
ため入出力端子間におけるデータの出力タイミングのず
れは大きな問題である。
Particularly, in a Rambus DRAM, data exchange between an interface circuit and a device outside the DRAM is performed at a high frequency of 800 MHz to 1 GHz, so that a deviation in data output timing between input and output terminals is a serious problem.

【0007】そこで、本発明はかかる問題を解決するた
めになされたものであり、その目的は、複数の入出力端
子から出力されるデータの出力時間差を基準値内になる
ように調整可能な半導体記憶装置およびその調整方法を
提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of adjusting an output time difference between data output from a plurality of input / output terminals to be within a reference value. An object of the present invention is to provide a storage device and a method of adjusting the storage device.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】この発明による半導体記
憶装置は、複数の入出力端子と、メモリセルアレイから
読出されたデータを基準クロックに基づいて入出力端子
へ出力するインタフェース回路と、インタフェース回路
を介したテストモードのエントリーに対応してテストモ
ード信号を活性化するテストモード認識回路と、テスト
モード信号の活性化に伴い、複数の入出力端子から任意
に選択された隣接する第1および第2の入出力端子にお
いて、第1および第2の入出力端子からそれぞれ出力さ
れる第1および第2のデータ間における出力時間差を調
整する調整回路とを備え、調整回路は、第1および第2
の入出力端子から等負荷の条件下で第2のデータに対す
る第1のデータの出力時間差を検出し、その検出した出
力時間差に基づいて、第2のデータに対する第1のデー
タの出力時間差が基準値内になるように第1のデータを
遅延させる。
A semiconductor memory device according to the present invention comprises a plurality of input / output terminals, an interface circuit for outputting data read from a memory cell array to the input / output terminals based on a reference clock, and an interface circuit. A test mode recognizing circuit for activating a test mode signal in response to an entry of a test mode via the first and second input / output terminals arbitrarily selected from a plurality of input / output terminals in response to activation of the test mode signal And an adjustment circuit for adjusting an output time difference between first and second data output from the first and second input / output terminals, respectively, wherein the adjustment circuit comprises a first and a second input / output terminal.
, An output time difference of the first data with respect to the second data is detected from the input / output terminals under the same load condition, and based on the detected output time difference, the output time difference of the first data with respect to the second data is set as a reference. Delay the first data to be within the value.

【0009】この発明による半導体記憶装置において
は、テスト時、複数の入出力端子から任意に選択された
隣接する第1および第2の入出力端子において、第2の
入出力端子から出力される第2のデータに対する第1の
入出力端子から出力される第1のデータの出力時間差が
第1および第2の入出力端子と等負荷の条件下で検出さ
れる。そして、検出された出力時間差に基づいて第1の
データが遅延され、第2のデータに対する第1のデータ
の出力時間差が基準値内になるように調整される。な
お、インタフェース回路は、DDR−DRAMの場合は
入出力インタフェース回路であり、ランバスDRAMの
場合はインタフェース論理回路である。
In the semiconductor memory device according to the present invention, at the time of testing, adjacent first and second input / output terminals arbitrarily selected from a plurality of input / output terminals are output from the second input / output terminal. An output time difference of the first data output from the first input / output terminal for the second data is detected under the same load condition as the first and second input / output terminals. Then, the first data is delayed based on the detected output time difference, and the first data is adjusted so that the output time difference of the first data with respect to the second data is within the reference value. The interface circuit is an input / output interface circuit in the case of a DDR-DRAM, and an interface logic circuit in the case of a Rambus DRAM.

【0010】したがって、複数の入出力端子からデータ
を殆ど同じタイミングで出力する半導体記憶装置を作製
することができる。
Therefore, a semiconductor memory device which outputs data from a plurality of input / output terminals at almost the same timing can be manufactured.

【0011】また、隣接する2つの入出力端子から等負
荷の条件下で2つのデータの出力時間差が検出されるの
で、正確な出力時間差を検出できる。その結果、半導体
記憶装置における複数の入出力端子からのデータの出力
タイミングを正確に調整できる。
Further, since an output time difference between two data is detected from two adjacent input / output terminals under an equal load condition, an accurate output time difference can be detected. As a result, the output timing of data from the plurality of input / output terminals in the semiconductor memory device can be accurately adjusted.

【0012】好ましくは、調整回路は、第1および第2
の入出力端子と等負荷に接続され、第1のデータの位相
を第2のデータの位相と比較する位相比較回路と、位相
比較回路からの比較結果が第1の論理から第2の論理に
切替わるまで第1のデータを遅延させる遅延回路とを含
む。
Preferably, the adjustment circuit comprises a first and a second
A phase comparison circuit that is connected to the input / output terminal and the equal load and compares the phase of the first data with the phase of the second data; and that the comparison result from the phase comparison circuit is changed from the first logic to the second logic. And a delay circuit for delaying the first data until switching.

【0013】調整回路においては、第1のデータの位相
を第2のデータの位相と比較し、その比較結果が第1の
論理から第2の論理に切替わるまで第1のデータを遅延
させることにより第2のデータに対する第1のデータの
出力時間差が基準値内になるように調整される。つま
り、隣接する2つの入出力端子から出力される2つのデ
ータのうち、位相の遅れたデータに対して位相関係が切
替わるまで位相の進んだデータが遅延させられて2つの
データ間における出力時間差が基準値内になるように調
整される。
In the adjusting circuit, the phase of the first data is compared with the phase of the second data, and the first data is delayed until the comparison result switches from the first logic to the second logic. Is adjusted so that the output time difference between the first data and the second data is within the reference value. That is, of the two data output from the two adjacent input / output terminals, the data whose phase is advanced is delayed until the phase relation is switched with respect to the data whose phase is delayed, and the output time difference between the two data is delayed. Is adjusted to be within the reference value.

【0014】したがって、隣接する2つの入出力端子か
ら出力される2つのデータの位相差の変化を検出するこ
とによって出力時間差を基準値内なるように容易に調整
できる。
Therefore, the output time difference can be easily adjusted to be within the reference value by detecting a change in the phase difference between two data output from two adjacent input / output terminals.

【0015】好ましくは、調整回路は、位相比較回路の
比較結果に基づいて遅延信号もしくは遅延固定信号を生
成する遅延信号生成回路をさらに含み、遅延信号生成回
路は比較結果が第1の論理から第2の論理に切替わるま
で遅延信号を生成し、比較結果が第1の論理から第2の
論理に切替わると遅延固定信号を生成し、遅延回路は遅
延信号に基づいて第1のデータを遅延させ、遅延固定信
号に基づいて第1のデータの遅延量を固定する。
Preferably, the adjustment circuit further includes a delay signal generation circuit for generating a delay signal or a delay fixed signal based on a comparison result of the phase comparison circuit, wherein the delay signal generation circuit determines that the comparison result is from the first logic to the first logic. A delay signal is generated until the logic is switched to the second logic, and when the comparison result switches from the first logic to the second logic, a delay fixed signal is generated, and the delay circuit delays the first data based on the delay signal. Then, the delay amount of the first data is fixed based on the delay fixing signal.

【0016】調整回路においては、第1のデータの位相
を第2のデータの位相と比較した比較結果が第1の論理
から第2の論理に切替わるまで遅延信号が生成され、第
1のデータが遅延される。そして、比較結果が第1の論
理から第2の論理に切替わると遅延固定信号が生成さ
れ、第1のデータの遅延量が固定される。
In the adjustment circuit, a delay signal is generated until the comparison result of comparing the phase of the first data with the phase of the second data switches from the first logic to the second logic, Is delayed. Then, when the comparison result switches from the first logic to the second logic, a delay fixed signal is generated, and the delay amount of the first data is fixed.

【0017】したがって、位相比較回路における比較結
果が第1の論理から第2の論理に切替わるまで第1のデ
ータを遅延させることにより第2のデータに対する第1
のデータの出力時間差が基準値内になるように調整でき
る。
Therefore, by delaying the first data until the comparison result in the phase comparison circuit switches from the first logic to the second logic, the first data for the second data is delayed.
Can be adjusted so that the output time difference of the data is within the reference value.

【0018】好ましくは、遅延回路は、第1のデータを
遅延させる複数の遅延素子と、複数の遅延素子を選択的
に活性化させる複数のフューズとを含み、複数のフュー
ズをトリミングすることによって複数の遅延素子を選択
的に活性化させ、第1のデータの遅延量を固定する。
Preferably, the delay circuit includes a plurality of delay elements for delaying the first data, and a plurality of fuses for selectively activating the plurality of delay elements, and the plurality of fuses are trimmed by the plurality of fuses. Are selectively activated to fix the delay amount of the first data.

【0019】遅延回路においては、遅延固定信号が入力
されると複数のフューズのうち、一部のフューズがオフ
され、残りのフューズがオンされて複数の遅延素子が選
択的に活性化される。そして、第1のデータの遅延量が
固定される。
In the delay circuit, when a delay fixed signal is input, a part of the plurality of fuses is turned off, and the remaining fuses are turned on to selectively activate the plurality of delay elements. Then, the delay amount of the first data is fixed.

【0020】したがって、複数のフューズのうち、一部
のフューズをオフすることにより確実に第1のデータの
遅延量を固定できる。
Therefore, the delay amount of the first data can be reliably fixed by turning off some of the plurality of fuses.

【0021】好ましくは、調整回路の位相比較回路はダ
イシング部に設けられる。位相比較回路は、ダイシング
部に設けられ、複数の入出力端子の隣接する2つの入出
力端子から出力される2つのデータ間における位相差を
比較する。そして、2つのデータ間における出力時間差
が基準値内になるように調整される。
Preferably, the phase comparison circuit of the adjustment circuit is provided in the dicing section. The phase comparison circuit is provided in the dicing unit and compares a phase difference between two data output from two adjacent input / output terminals of the plurality of input / output terminals. Then, the output time difference between the two data is adjusted to be within the reference value.

【0022】したがって、調整終了後、ダイシングを切
断すれば良く、調整用の位相比較回路を含まないコンパ
クトな半導体記憶装置を作製することができる。
Therefore, the dicing may be cut after the adjustment is completed, and a compact semiconductor memory device not including the adjustment phase comparison circuit can be manufactured.

【0023】また、この発明による半導体記憶装置は、
実チップとダイシング部とを備えた半導体記憶装置であ
って、実チップは、複数の入出力端子と、メモリセルア
レイから読出されたデータを複数の入出力端子へ出力す
るインタフェース回路と、複数の入出力端子から任意に
選択された隣接する第1および第2の入出力端子におい
て、第1の入出力端子に対応して設けられた遅延回路と
を含み、ダイシング部は、第1の入出力端子に対向して
設けられた第3の入出力端子と、第2の入出力端子に対
向して設けられた第4の入出力端子と、第3および第4
の入出力端子と等負荷に接続された第5の入出力端子と
を含み、遅延回路は、テストモード信号の活性化に伴い
第1の入出力端子から出力される第1のデータを第3お
よび第5の入出力端子を介して位相比較回路へ入力し、
第2の入出力端子から出力される第2のデータを第4お
よび第5の入出力端子を介して位相比較回路へ入力し、
位相比較回路によって比較された第2のデータの位相に
対する第1のデータの位相の比較結果が第1の論理から
第2の論理に切替わるまで第1のデータを遅延させる。
Further, the semiconductor memory device according to the present invention
A semiconductor memory device including a real chip and a dicing unit, wherein the real chip includes a plurality of input / output terminals, an interface circuit that outputs data read from a memory cell array to the plurality of input / output terminals, and a plurality of input / output terminals. A delay circuit provided corresponding to the first input / output terminal in the adjacent first and second input / output terminals arbitrarily selected from the output terminal; A third input / output terminal provided opposite to the second input / output terminal, a fourth input / output terminal provided opposite to the second input / output terminal,
And a fifth input / output terminal connected to the equal load, and the delay circuit outputs the first data output from the first input / output terminal in response to the activation of the test mode signal to the third input / output terminal. And a fifth input / output terminal to input to the phase comparison circuit,
Inputting the second data output from the second input / output terminal to the phase comparison circuit through the fourth and fifth input / output terminals;
The first data is delayed until the result of comparing the phase of the first data with the phase of the second data compared by the phase comparison circuit switches from the first logic to the second logic.

【0024】この発明による半導体記憶装置において
は、複数の入出力端子とメモリセルアレイとを含む実チ
ップと異なるダイシング部に、複数の入出力端子のうち
隣接する2つの入出力端子から出力される2つのデータ
間における出力時間差を検出する複数の端子が設けられ
る。
In the semiconductor memory device according to the present invention, a dicing section different from an actual chip including a plurality of input / output terminals and a memory cell array outputs two output signals from two adjacent input / output terminals of the plurality of input / output terminals. A plurality of terminals for detecting an output time difference between the two data are provided.

【0025】そうすると、プローブを用いて実チップの
隣接する2つの入出力端子とダイシング部の入出力端子
とが接続され、隣接する2つの入出力端子間における位
相差が検出される。そして、検出された位相差に基づい
て2つのデータ間における出力時間差が基準値内になる
ように調整される。なお、インタフェース回路は、DD
R−DRAMの場合は入出力インタフェース回路であ
り、ランバスDRAMの場合はインタフェース論理回路
である。
Then, two adjacent input / output terminals of the actual chip are connected to the input / output terminal of the dicing unit using the probe, and a phase difference between the two adjacent input / output terminals is detected. Then, based on the detected phase difference, the output time difference between the two data is adjusted to be within the reference value. The interface circuit is DD
In the case of an R-DRAM, it is an input / output interface circuit, and in the case of a Rambus DRAM, it is an interface logic circuit.

【0026】したがって、位相比較回路を半導体記憶装
置に作製しなくても、2つのデータ間における出力時間
差を調整できる。
Therefore, the output time difference between the two data can be adjusted without manufacturing the phase comparison circuit in the semiconductor memory device.

【0027】また、調整終了後、ダイシング部を切断す
ればコンパクトな半導体記憶装置を作製できる。
Further, after the adjustment is completed, the semiconductor device can be made compact by cutting the dicing portion.

【0028】この発明による調整方法は、半導体記憶装
置から出力されるデータ間における出力時間差を調整す
る調整方法であって、テストモード信号の活性化に伴
い、複数の入出力端子のうち、隣接する第1および第2
の入出力端子から等負荷の条件下で第1の入出力端子か
ら出力される第1のデータに対する第2の入出力端子か
ら出力される第2のデータの出力時間差を検出する第1
のステップと、出力時間差に基づいて、第1のデータに
対する第2のデータの出力時間差が基準値内になるよう
に前記第2のデータを遅延させる第2のステップとを含
む。
An adjusting method according to the present invention is an adjusting method for adjusting an output time difference between data output from a semiconductor memory device. The adjusting method according to the present invention includes a plurality of input / output terminals adjacent to each other when a test mode signal is activated. First and second
Detecting an output time difference between the first data output from the first input / output terminal and the second data output from the second input / output terminal under the condition of equal load from the input / output terminal of the first input / output terminal
And a second step of delaying the second data based on the output time difference such that the output time difference of the second data with respect to the first data is within a reference value.

【0029】この発明による調整方法においては、テス
トモードがエントリーされると、複数の入出力端子から
任意に選択された隣接する2つの入出力端子において、
その2つの入出力端子から出力されるデータの出力時間
差が検出される。そして、一方の入出力端子から出力さ
れるデータを遅延させることによって出力時間差が基準
値内になるように調整される。
In the adjusting method according to the present invention, when the test mode is entered, two adjacent input / output terminals arbitrarily selected from a plurality of input / output terminals are used.
An output time difference between data output from the two input / output terminals is detected. Then, the output time difference is adjusted so as to be within the reference value by delaying the data output from one of the input / output terminals.

【0030】したがって、複数の入出力端子からデータ
を殆ど同じタイミングで出力可能な半導体記憶装置を作
製することができる。
Therefore, a semiconductor memory device capable of outputting data from a plurality of input / output terminals at almost the same timing can be manufactured.

【0031】また、隣接する2つの入出力端子から等負
荷の条件下で2つのデータの出力時間差が検出されるの
で、正確な出力時間差を検出できる。その結果、半導体
記憶装置における複数の入出力端子からのデータの出力
タイミングを正確に調整できる。
Since the output time difference between two data is detected from two adjacent input / output terminals under the condition of equal load, an accurate output time difference can be detected. As a result, the output timing of data from the plurality of input / output terminals in the semiconductor memory device can be accurately adjusted.

【0032】好ましくは、第1のステップにおいて、第
1および第2の入出力端子と等負荷に接続された位相比
較回路によって第2のデータの位相を第1のデータの位
相と比較し、第2のステップにおいて、位相比較回路の
比較結果が第1の論理から第2の論理に切替わるまで第
2のデータを遅延させる。
Preferably, in the first step, the phase of the second data is compared with the phase of the first data by a phase comparison circuit connected to the first and second input / output terminals and the equal load. In the second step, the second data is delayed until the comparison result of the phase comparison circuit switches from the first logic to the second logic.

【0033】位相比較回路によって第2のデータの位相
が第1のデータの位相と比較され、その比較結果が第1
の論理から第2の論理に切替わるまで遅延回路によって
第2のデータが遅延されて隣接する2つの入出力端子か
ら出力されるデータ間の出力時間差が基準値内になるよ
うに調整される。つまり、隣接する2つの入出力端子か
ら出力される2つのデータのうち、位相の遅れたデータ
に対して位相関係が切替わるまで位相の進んだデータが
遅延させられて2つのデータ間における出力時間差が基
準値内になるように調整される。
The phase of the second data is compared with the phase of the first data by the phase comparison circuit, and the comparison result is the first data.
The second data is delayed by the delay circuit until the logic is switched from the logic to the second logic, and the output time difference between the data output from two adjacent input / output terminals is adjusted to be within the reference value. That is, of the two data output from the two adjacent input / output terminals, the data whose phase is advanced is delayed until the phase relation is switched with respect to the data whose phase is delayed, and the output time difference between the two data is delayed. Is adjusted to be within the reference value.

【0034】したがって、隣接する2つの入出力端子か
ら出力される2つのデータの位相差の変化を検出するこ
とによって出力時間差を基準値内なるように容易に調整
できる。
Therefore, by detecting a change in the phase difference between two data output from two adjacent input / output terminals, the output time difference can be easily adjusted to be within the reference value.

【0035】好ましくは、位相比較回路はダイシング部
に設けられ、第2のステップが終了した後、ダイシング
部を切断する第3のステップをさらに含む。
Preferably, the phase comparison circuit is provided in the dicing section, and further includes a third step of cutting the dicing section after the second step is completed.

【0036】位相比較回路によって隣接する2つの入出
力端子から出力されるデータ間の位相差が検出され、2
つのデータ間の出力時間差が調整された後、位相比較回
路が設けられたダイシング部は切断される。
The phase difference between data output from two adjacent input / output terminals is detected by the phase comparison circuit,
After the output time difference between the two data is adjusted, the dicing unit provided with the phase comparison circuit is cut off.

【0037】したがって、複数の入出力端子から殆ど同
じタイミングでデータを出力可能なコンパクトな半導体
記憶装置を作製することができる。
Therefore, a compact semiconductor memory device capable of outputting data from a plurality of input / output terminals at almost the same timing can be manufactured.

【0038】また、好ましくは、テストモード信号の活
性化に伴い、第1の入出力端子と、第1の入出力端子に
対向して設けられた第3の入出力端子とを第1のプロー
ブによって接続し、第2の入出力端子と、第2の入出力
端子に対向して設けられた第4の入出力端子とを第2の
プローブによって接続し、第3の入出力端子および第4
の入出力端子と等負荷に接続された第5の入出力端子に
位相比較回路を第3のプローブによって接続するステッ
プを第1および第2のステップの前にさらに含む。
Preferably, the first input / output terminal and the third input / output terminal provided opposite to the first input / output terminal are connected to the first probe in accordance with activation of the test mode signal. The second input / output terminal is connected to the fourth input / output terminal provided opposite to the second input / output terminal by a second probe, and the third input / output terminal and the fourth input / output terminal are connected to each other.
Connecting the phase comparison circuit to the fifth input / output terminal connected to the equal load with the fifth input / output terminal by a third probe before the first and second steps.

【0039】実チップに設けられた複数の入出力端子の
うち、隣接する2つの入出力端子に対向して別の2つの
入出力端子がダイシング部に設けられる。そして、実チ
ップの2つの入出力端子とダイシング部の2つの入出力
端子とがプローブによって接続され、隣接する2つの入
出力端子間における位相差が検出される。そうすると、
検出された位相差に基づいて2つのデータ間における出
力時間差が基準値内になるように調整される。
Of the plurality of input / output terminals provided on the actual chip, another two input / output terminals are provided in the dicing section so as to face two adjacent input / output terminals. Then, two input / output terminals of the real chip and two input / output terminals of the dicing unit are connected by a probe, and a phase difference between two adjacent input / output terminals is detected. Then,
Based on the detected phase difference, the output time difference between the two data is adjusted to be within the reference value.

【0040】したがって、位相比較回路を半導体記憶装
置に作製しなくても、2つのデータ間における出力時間
差を調整できる。
Therefore, the output time difference between two data can be adjusted without manufacturing a phase comparison circuit in a semiconductor memory device.

【0041】好ましくは、第2のステップが終了した
後、ダイシング部を切断する第3のステップをさらに含
む。
Preferably, after the second step is completed, a third step of cutting the dicing portion is further included.

【0042】隣接する2つの入出力端子間におけるデー
タの出力時間差が基準値内になるように調整された後、
ダイシングが切断される。
After the data output time difference between two adjacent input / output terminals is adjusted to be within the reference value,
Dicing is cut.

【0043】したがって、出力タイミングが殆ど同じコ
ンパクトな半導体記憶装置を作製できる。
Therefore, a compact semiconductor memory device having almost the same output timing can be manufactured.

【0044】[0044]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら詳細に説明する。なお、図中同一
または相当部分には同一符号を付してその説明は繰返さ
ない。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding portions have the same reference characters allotted, and description thereof will not be repeated.

【0045】[実施の形態1]図1を参照して、本発明
による半導体記憶装置20は、入出力インタフェース回
路1と、行デコーダ2と、メモリセルアレイ3と、I/
O制御回路4と、列デコーダ5と、テストモード認識回
路6と、入出力端子DQ1〜DQnと、調整回路TC1
〜DQn−1とを備える。
[First Embodiment] Referring to FIG. 1, a semiconductor memory device 20 according to the present invention has an input / output interface circuit 1, a row decoder 2, a memory cell array 3, and an I / O interface circuit.
O control circuit 4, column decoder 5, test mode recognition circuit 6, input / output terminals DQ1 to DQn, adjustment circuit TC1
To DQn-1.

【0046】入出力インタフェース回路1は、アドレス
信号を入力し、アドレス信号を行デコーダ2と列デコー
ダ5へ出力する。入出力インタフェース回路1は、メモ
リセルアレイ3から読出されたデータをI/O制御回路
4を介して入力し、調整回路TC1〜TCn−1へ出力
する。また、入出力インタフェース回路1は、行アドレ
スストローブ信号/RAS=L(論理ロー)レベル、列
アドレスストローブ信号/CAS=Lレベル、モードエ
ントリ信号ME=Lレベルが入力され、特定パターンの
アドレス信号が入力されると、テストモードエントリ信
号TMEをテストモード認識回路6へ出力する。
The input / output interface circuit 1 receives an address signal and outputs the address signal to the row decoder 2 and the column decoder 5. The input / output interface circuit 1 inputs data read from the memory cell array 3 via the I / O control circuit 4 and outputs the data to the adjustment circuits TC1 to TCn-1. The input / output interface circuit 1 receives a row address strobe signal / RAS = L (logic low) level, a column address strobe signal / CAS = L level, and a mode entry signal ME = L level, and inputs an address signal of a specific pattern. When input, the test mode entry signal TME is output to the test mode recognition circuit 6.

【0047】行デコーダ2は、入出力インタフェース回
路1からの行アドレスをデコードし、その行アドレスに
対応するメモリセルアレイ3中のワード線対(図示せ
ず)を活性化する。メモリセルアレイ3は、複数のメモ
リセルを含み、行デコーダ2によって指定された行アド
レスと、列デコーダ5によって指定された列アドレスと
に基づいてメモリセルに書込まれたデータを記憶し、行
アドレスと列アドレスとによって指定されたメモリセル
のデータを出力する。I/O制御回路4は、メモリセル
アレイ3中のメモリセルへのデータの書込み/読出しを
制御する。列デコーダ5は、入出力インタフェース回路
1からの列アドレスをデコードし、その列アドレスに対
応するメモリセルアレイ3中のビット線対(図示せず)
を活性化する。
Row decoder 2 decodes a row address from input / output interface circuit 1, and activates a word line pair (not shown) in memory cell array 3 corresponding to the row address. Memory cell array 3 includes a plurality of memory cells, stores data written in the memory cells based on a row address specified by row decoder 2 and a column address specified by column decoder 5, and stores the row address. And outputs the data of the memory cell specified by the column address. The I / O control circuit 4 controls writing / reading of data to / from a memory cell in the memory cell array 3. Column decoder 5 decodes a column address from input / output interface circuit 1, and a bit line pair (not shown) in memory cell array 3 corresponding to the column address.
Activate.

【0048】テストモード認識回路6は、入出力インタ
フェース回路1からテストモードエントリ信号TMEを
入力すると、活性化されたテストモード信号TEを調整
回路TC1〜TCn−1の各々へ出力する。調整回路T
C1〜TCn−1の各々は、活性化されたテストモード
信号TEを入力すると、後述する方法により複数の入出
力端子DQ1〜DQnのうち、隣接する2つの入出力端
子DQ1,2、・・・、DQn−1,nから出力される
データ間における出力時間差が基準値内になるように調
整する。
When receiving test mode entry signal TME from input / output interface circuit 1, test mode recognition circuit 6 outputs an activated test mode signal TE to each of adjustment circuits TC1 to TCn-1. Adjustment circuit T
When each of C1 to TCn-1 receives the activated test mode signal TE, two adjacent input / output terminals DQ1, DQ1,. , DQn−1, n so that the output time difference between the data output from DQn−1, n is within the reference value.

【0049】図2を参照して、調整回路TC1〜TCn
−1の各々は、遅延回路8と、位相比較回路9と、遅延
信号生成回路10とを備える。パッド11,12は、複
数の入出力端子DQ1〜DQnから任意に選択された隣
接する2つの入出力端子に相当する。すなわち、遅延回
路8、位相比較回路9、および遅延信号生成回路10に
よって調整回路TC1が構成される場合、パッド11は
入出力端子DQ1に相当し、パッド12は入出力端子D
Q2に相当する。そして、遅延回路8、位相比較回路
9、および遅延信号生成回路10によって、それぞれ、
調整回路TC2〜TCn−1の各々が構成される場合、
パッド11はそれぞれ入出力端子DQ2〜DQn−1の
各々に相当し、パッド12はそれぞれ入出力端子DQ3
〜DQnの各々に相当する。
Referring to FIG. 2, adjustment circuits TC1 to TCn
Each of −1 includes a delay circuit 8, a phase comparison circuit 9, and a delay signal generation circuit 10. The pads 11 and 12 correspond to two adjacent input / output terminals arbitrarily selected from the plurality of input / output terminals DQ1 to DQn. That is, when the adjustment circuit TC1 is configured by the delay circuit 8, the phase comparison circuit 9, and the delay signal generation circuit 10, the pad 11 corresponds to the input / output terminal DQ1, and the pad 12 corresponds to the input / output terminal DQ.
It corresponds to Q2. Then, by the delay circuit 8, the phase comparison circuit 9, and the delay signal generation circuit 10,
When each of the adjustment circuits TC2 to TCn-1 is configured,
The pad 11 corresponds to each of the input / output terminals DQ2 to DQn-1, and the pad 12 corresponds to each of the input / output terminals DQ3
To DQn.

【0050】出力コントロールクロック回路7は、パッ
ド11,12から出力されるデータの出力タイミングを
基準クロックに基づいて制御するものであり、遅延回路
8と配線14Aを介して接続され、遅延回路13と配線
14Bを介して接続されている。遅延回路8はパッド1
1に配線15を介して接続され、遅延回路13はパッド
12に配線16を介して接続されている。なお、配線1
5と配線16とは同じ抵抗値および長さを有する。位相
比較回路9は、パッド11と配線17を介して接続さ
れ、パッド12と配線18を介して接続されている。そ
して、配線17と配線18とは、同じ抵抗値および長さ
を有する。すなわち、位相比較回路9は、パッド11お
よびパッド12と等負荷に接続されている。したがっ
て、位相比較回路9は、パッド11およびパッド12と
等負荷に接続された条件下でパッド11から出力される
データの位相をパッド12から出力されるデータの位相
と比較し、その比較結果を遅延信号生成回路10へ出力
する。その結果、位相比較回路9は、パッド12から出
力されるデータに対するパッド11から出力されるデー
タの位相差を正確に検出できる。
The output control clock circuit 7 controls the output timing of data output from the pads 11 and 12 based on a reference clock. The output control clock circuit 7 is connected to the delay circuit 8 via a wiring 14A. They are connected via a wiring 14B. Delay circuit 8 is pad 1
The delay circuit 13 is connected to the pad 12 via a wiring 16. In addition, wiring 1
5 and the wiring 16 have the same resistance value and length. The phase comparison circuit 9 is connected to the pad 11 via a wiring 17, and is connected to the pad 12 via a wiring 18. The wiring 17 and the wiring 18 have the same resistance value and length. That is, the phase comparison circuit 9 is connected to the pads 11 and the pads 12 at the same load. Therefore, the phase comparison circuit 9 compares the phase of the data output from the pad 11 with the phase of the data output from the pad 12 under the condition that the pads 11 and 12 are connected to the same load, and compares the comparison result. Output to the delay signal generation circuit 10. As a result, the phase comparison circuit 9 can accurately detect the phase difference between the data output from the pad 12 and the data output from the pad 11.

【0051】遅延信号生成回路10は、後述するように
位相比較回路9からの比較結果がLレベルからHレベル
に切替わるまで遅延信号SDLを生成し、その遅延信号
SDLを遅延回路8へ出力する。そして、位相比較回路
9からの比較結果がLレベルからHレベルに切替わると
遅延固定信号SDLCを生成し、その遅延固定信号SD
LCを遅延回路8へ出力する。
The delay signal generation circuit 10 generates the delay signal SDL until the comparison result from the phase comparison circuit 9 switches from the L level to the H level as described later, and outputs the delay signal SDL to the delay circuit 8. . When the comparison result from the phase comparison circuit 9 switches from the L level to the H level, a delay fixed signal SDLC is generated, and the delay fixed signal SDLC is generated.
LC is output to the delay circuit 8.

【0052】遅延回路8は、後述する方法により遅延信
号SDLに基づいてパッド11から出力されるデータを
遅延させ、遅延固定信号SDLCに基づいてパッド11
から出力されるデータの遅延量を固定する。
The delay circuit 8 delays the data output from the pad 11 based on the delay signal SDL by a method described later, and delays the data output from the pad 11 based on the delay fixed signal SDLC.
The delay amount of the data output from is fixed.

【0053】したがって、調整回路TC1〜TCn−1
の各々は、出力コントロールクロック回路7が基準クロ
ックに基づいてパッド11から出力されるデータとパッ
ド12から出力されるデータとの出力タイミングを制御
しても、配線14Aと配線14Bとの長さが異なること
に起因して発生する2つのデータ間の出力時間差が基準
値内になるように調整する調整回路である。なお、遅延
信号生成回路10は、遅延信号SDLおよび遅延固定信
号SDLCを遅延回路13へ出力しない。調整回路TC
1〜Tcn−1の各々は、隣接する2つの入出力端子で
あるパッド11,12から出力される2つのデータのう
ち、一方のデータの位相を基準にして他方のデータの位
相差を検出し、その検出した位相差に基づいて2つのデ
ータ間における出力時間差を基準値内に調整するからで
ある。
Therefore, the adjusting circuits TC1 to TCn-1
Of the wirings 14A and 14B, the output control clock circuit 7 controls the output timing of the data output from the pad 11 and the data output from the pad 12 based on the reference clock. This is an adjustment circuit that adjusts an output time difference between two data generated due to the difference to be within a reference value. Note that the delay signal generation circuit 10 does not output the delay signal SDL and the delay fixed signal SDLC to the delay circuit 13. Adjustment circuit TC
Each of 1 to Tcn-1 detects a phase difference between one of two data output from pads 11 and 12, which are two adjacent input / output terminals, based on the phase of the other data. This is because the output time difference between the two data is adjusted within the reference value based on the detected phase difference.

【0054】図3を参照して、位相比較回路9は、スイ
ッチ91と、NAND92〜97と、インバータ98〜
101とを備える。NAND92とNAND93、NA
ND94とNAND95、およびNAND96とNAN
D97はフリップ・フロップの機能を果たすものであ
る。
Referring to FIG. 3, a phase comparison circuit 9 includes a switch 91, NANDs 92 to 97, and inverters 98 to 97.
101. NAND 92 and NAND 93, NA
ND94 and NAND95, and NAND96 and NAN
D97 functions as a flip-flop.

【0055】信号REFの位相が信号RTNの位相と比
較される場合、位相比較回路9は、端子102,103
から信号REFを入力し、端子104から信号RTNを
入力する。また、スイッチ91は、NAND94の出力
信号である信号ZUPFを入力する。
When the phase of the signal REF is compared with the phase of the signal RTN, the phase comparison circuit 9
, And a signal RTN from the terminal 104. The switch 91 inputs a signal ZUPF which is an output signal of the NAND 94.

【0056】図4を参照して、位相比較回路9が信号
(a)を端子102,103から入力し、信号(b)を
端子104から入力すると、スイッチ91は信号(c)
を入力する。そうすると、UP端子は信号(d)を出力
する。すなわち、信号REFに相当する信号(a)の立
上がりにおいて信号RTNに相当する信号(b)がHレ
ベルであるとき、UP端子は信号(a)の立上がりのタ
イミングに、若干遅れてHレベルの信号を出力する。
Referring to FIG. 4, when phase comparison circuit 9 inputs signal (a) from terminals 102 and 103 and signal (b) from terminal 104, switch 91 outputs signal (c).
Enter Then, the UP terminal outputs the signal (d). That is, when the signal (b) corresponding to the signal RTN is at the H level at the rising of the signal (a) corresponding to the signal REF, the UP terminal outputs the H level signal slightly behind the rising timing of the signal (a). Is output.

【0057】また、図5を参照して、位相比較回路9が
信号(a)を端子102,103から入力し、信号
(b)を端子104から入力すると、スイッチ91は信
号(c)を入力する。そうすると、UP端子は信号
(d)を出力する。すなわち、信号REFに相当する信
号(a)の立上がりにおいて信号RTNに相当する信号
(b)がLレベルであるとき、UP端子はLレベルの信
号を出力する。
Referring to FIG. 5, when phase comparator 9 receives signal (a) from terminals 102 and 103 and signal (b) from terminal 104, switch 91 receives signal (c). I do. Then, the UP terminal outputs the signal (d). That is, when signal (b) corresponding to signal RTN is at L level at the rise of signal (a) corresponding to signal REF, UP terminal outputs a signal at L level.

【0058】したがって、比較対象である信号REFの
位相が基準信号である信号RTNの位相に対して遅れて
いる場合(図4参照)、位相比較回路9はHレベルの信
号をUP端子から出力し、信号REFの位相が信号RT
Nの位相に対して進んでいる場合(図5参照)、位相比
較回路9はLレベルの信号をUP端子から出力する。そ
の結果、UP端子から出力される信号によって比較対照
である信号REFの位相が基準信号である信号RTNの
位相に対して遅れているのか、進んでいるのかを判別す
ることができる。
Therefore, when the phase of the signal REF to be compared is behind the phase of the signal RTN as the reference signal (see FIG. 4), the phase comparison circuit 9 outputs an H level signal from the UP terminal. , The phase of the signal REF is the signal RT
When the phase is advanced with respect to the N phase (see FIG. 5), the phase comparison circuit 9 outputs an L level signal from the UP terminal. As a result, it is possible to determine from the signal output from the UP terminal whether the phase of the signal REF to be compared is delayed or advanced with respect to the phase of the signal RTN as the reference signal.

【0059】半導体記憶装置20の入出力端子DQ1,
DQ2間から出力されるデータの時間差を検出する場
合、位相比較回路9は入出力端子DQ1から出力される
データを端子102,103から入力し、入出力端子D
Q2から出力されるデータを端子104から入力する。
他の入出力端子間から出力されるデータの時間差を検出
する場合も同様である。
The input / output terminals DQ1, DQ1,
When detecting a time difference between data output from DQ2 and DQ2, the phase comparison circuit 9 inputs data output from the input / output terminal DQ1 from terminals 102 and 103, and
Data output from Q2 is input from terminal 104.
The same applies to the case where the time difference of data output from other input / output terminals is detected.

【0060】図6を参照して、位相比較回路9における
比較結果を用いて隣接する2つの入出力端子から出力さ
れるデータの時間差を調整する方法について説明する。
信号RTN(点線で示す。)の位相に対する信号REF
(実線で示す。)の位相を変化させたとき(図6の
(a)参照)、位相比較回路9は、上述したように信号
REFと信号RTNとの位相差に基づいてUP端子から
LレベルまたはHレベルの信号を出力する(図6の
(b)参照)。時間が0〜2.5nsecの領域では、
信号REFの位相が信号RTNの位相に対して大きく進
んでおり、位相比較回路9はLレベルの信号をUP端子
から出力する。信号REFの位相が遅延されて、時間4
nsecにおいて信号REFの位相が信号RTNの位相
に一致すると、位相比較回路9はUP端子からHレベル
の信号を出力する。そして、時間4nsec以上の領域
では、信号REFの位相がさらに遅延されて信号REF
の位相が信号RTNの位相に対して大きく遅れる。時間
が16nsecになると信号REFの位相が信号RTN
の位相に対してほぼ180度遅延され、位相比較回路9
はUP端子からLレベルの信号を出力する。
Referring to FIG. 6, a method of adjusting the time difference between data output from two adjacent input / output terminals using the comparison result in phase comparison circuit 9 will be described.
Signal REF for the phase of signal RTN (shown by the dotted line)
When the phase is changed (shown by a solid line) (see FIG. 6A), the phase comparison circuit 9 outputs the L level from the UP terminal based on the phase difference between the signal REF and the signal RTN as described above. Alternatively, an H-level signal is output (see FIG. 6B). In the area where the time is 0 to 2.5 nsec,
The phase of the signal REF is significantly ahead of the phase of the signal RTN, and the phase comparison circuit 9 outputs an L-level signal from the UP terminal. The phase of the signal REF is delayed,
When the phase of the signal REF matches the phase of the signal RTN at nsec, the phase comparison circuit 9 outputs an H-level signal from the UP terminal. In the time period of 4 nsec or more, the phase of the signal REF is further delayed and the signal REF is
Is greatly delayed with respect to the phase of the signal RTN. When the time reaches 16 nsec, the phase of the signal REF changes to the signal RTN.
Of the phase comparison circuit 9
Outputs an L-level signal from the UP terminal.

【0061】したがって、位相比較回路9は、基準信号
である信号RTNの位相に対して信号REFの位相を変
化させたとき、信号REFの位相が信号RTNの位相に
一致するときのみ、LレベルからHレベルに切替わる信
号を出力する。すなわち、タイミングT1で信号REF
の位相が信号RTNの位相に一致すると、位相比較回路
9のUP端子からの出力は、タイミングT2でLレベル
からHレベルに切替わる。そうすると、位相比較回路9
の出力がLレベルからHレベルに切替わるタイミングT
2を検出するまで、比較対象である信号REFの位相を
遅延させることによって信号REFの位相を信号RTN
の位相に一致させることができる。図6の(a)に示す
ように、信号RTNの位相に対する信号REFの位相差
を検出することによって信号RTNに対する信号REF
の出力時間差を検出できる。
Therefore, when the phase of the signal REF is changed with respect to the phase of the signal RTN, which is the reference signal, the phase comparison circuit 9 changes from the L level only when the phase of the signal REF matches the phase of the signal RTN. A signal that switches to the H level is output. That is, at the timing T1, the signal REF
Is in phase with the signal RTN, the output from the UP terminal of the phase comparison circuit 9 switches from the L level to the H level at timing T2. Then, the phase comparison circuit 9
T at which the output of L switches from L level to H level
2 is detected until the phase of the signal REF is delayed by delaying the phase of the signal REF to be compared.
Can be matched. As shown in FIG. 6A, by detecting the phase difference of the signal REF with respect to the phase of the signal RTN, the signal REF with respect to the signal RTN is detected.
Output time difference can be detected.

【0062】本発明においては、隣接する2つの入出力
端子DQ1,DQ2から出力される2つのデータを位相
比較回路9へ入力し、位相比較回路9からの出力信号が
LレベルからHレベルに切替わるまで入出力端子DQ1
から出力されるデータの位相を遅延させ、位相比較回路
9からの出力信号がLレベルからHレベルに切替わるタ
イミングT2を検出すると、入出力端子DQ1から出力
されるデータの位相を固定する。したがって、図2に示
す遅延信号生成回路10は、位相比較回路9からの出力
信号がLレベルまたはHレベルであるとき、遅延信号S
DLを生成して遅延回路8へ出力し、位相比較回路9か
らの出力信号がLレベルからHレベルに切替わると遅延
固定信号SDLCを生成して遅延回路8へ出力する。こ
の場合、遅延信号生成回路10は、遅延回路13には遅
延信号SDLおよび遅延固定信号SDLCを出力しな
い。パッド12から出力されるデータは位相比較を行な
う基準となる信号だからである。
In the present invention, two data output from two adjacent input / output terminals DQ1 and DQ2 are input to the phase comparison circuit 9, and the output signal from the phase comparison circuit 9 is switched from L level to H level. Input / output terminal DQ1
When the timing of switching the output signal from the phase comparison circuit 9 from the L level to the H level is detected, the phase of the data output from the input / output terminal DQ1 is fixed. Therefore, when the output signal from phase comparison circuit 9 is at L level or H level, delay signal generation circuit 10 shown in FIG.
DL is generated and output to the delay circuit 8, and when the output signal from the phase comparison circuit 9 switches from L level to H level, a delay fixed signal SDLC is generated and output to the delay circuit 8. In this case, the delay signal generation circuit 10 does not output the delay signal SDL and the delay fixed signal SDLC to the delay circuit 13. This is because the data output from the pad 12 is a signal serving as a reference for performing a phase comparison.

【0063】図7を参照して、遅延回路8,13は、ス
イッチ131と、端子132,133と、遅延部134
とを備える。スイッチ131は、遅延回路8,13に位
相比較の基準となるデータが入力されるとき端子133
に接続され、データは遅延されずにパッド12に出力さ
れる。そして、遅延回路8,13に位相比較の対象とな
るデータが入力されるときスイッチ131は端子132
に接続され、データは遅延部134で遅延されてパッド
11へ出力される。スイッチ131は、当初、端子13
3に接続されており、遅延信号生成回路10から遅延信
号SDLまたは遅延固定信号SDLCが入力されると端
子132に接続される。
Referring to FIG. 7, delay circuits 8 and 13 include switch 131, terminals 132 and 133, and delay section 134.
And The switch 131 is connected to a terminal 133 when data serving as a reference for phase comparison is input to the delay circuits 8 and 13.
, And the data is output to the pad 12 without delay. When data to be subjected to phase comparison is input to the delay circuits 8 and 13, the switch 131 is connected to the terminal 132.
, And the data is output to the pad 11 after being delayed by the delay unit 134. The switch 131 is initially connected to the terminal 13
3 and is connected to the terminal 132 when the delay signal SDL or the delay fixed signal SDLC is input from the delay signal generation circuit 10.

【0064】図8を参照して、遅延回路8,13の遅延
部134は、抵抗135〜139と、キャパシタ140
〜144と、フューズ145,147と、NチャネルM
OSトランジスタ146,148と、端子170,17
1とから成る。抵抗135〜139は、同じ抵抗値Rを
有し、キャパシタ140〜144は同じ容量Cを有す
る。抵抗135とキャパシタ140、抵抗136とキャ
パシタ141、抵抗137とキャパシタ142、抵抗1
38とキャパシタ143、および抵抗139とキャパシ
タ144は、それぞれ、入力信号の位相を一定量遅延さ
せる遅延段を構成する。フューズ145はNチャネルM
OSトランジスタ146と直列に接続され、その直列に
接続されたフューズ145およびNチャネルMOSトラ
ンジスタ146は、抵抗136と並列に接続されてい
る。また、フューズ147はNチャネルMOSトランジ
スタ148と直列に接続され、その直列に接続されたフ
ューズ147およびNチャネルMOSトランジスタ14
8は、抵抗138と並列に接続されている。
Referring to FIG. 8, delay units 134 of delay circuits 8 and 13 include resistors 135-139 and capacitors 140
To 144, fuses 145, 147, and N-channel M
OS transistors 146 and 148 and terminals 170 and 17
And 1. The resistors 135 to 139 have the same resistance value R, and the capacitors 140 to 144 have the same capacitance C. Resistance 135 and capacitor 140, resistance 136 and capacitor 141, resistance 137 and capacitor 142, resistance 1
38 and the capacitor 143, and the resistor 139 and the capacitor 144 each constitute a delay stage for delaying the phase of the input signal by a fixed amount. Fuse 145 is N-channel M
The fuse 145 and the N-channel MOS transistor 146 connected in series with the OS transistor 146 are connected in parallel with the resistor 136. Fuse 147 is connected in series with N-channel MOS transistor 148, and fuse 147 and N-channel MOS transistor 14 connected in series are connected.
8 is connected in parallel with the resistor 138.

【0065】NチャネルMOSトランジスタ146は、
信号/TM0によって活性化/不活性化され、Nチャネ
ルMOSトランジスタ148は、信号/TM1によって
活性化/不活性化される。信号/TM0,信号/TM1
は、遅延信号SDLまたは遅延固定信号SDLCを構成
する。信号/TM0=Lレベル、信号/TM1=Hレベ
ルから成る遅延信号SDLが遅延部134に入力される
と、NチャネルMOSトランジスタ146が不活性化さ
れ、NチャネルMOSトランジスタ148が活性化され
る。そうすると、遅延部134は、端子170から入力
された信号を抵抗135とキャパシタ140、抵抗13
6とキャパシタ141、抵抗137とキャパシタ14
2、および抵抗139とキャパシタ144から成る4段
の遅延段で遅延する。また、信号/TM0=Hレベル、
信号/TM1=Hレベルから成る遅延信号SDLが遅延
部134に入力されると、NチャネルMOSトランジス
タ146,148が活性化される。そうすると、遅延部
134は、端子170から入力された信号を抵抗135
とキャパシタ140、抵抗137とキャパシタ142、
および抵抗139とキャパシタ144から成る3段の遅
延段で遅延する。さらに、信号/TM0=Lレベル、信
号/TM1=Lレベルから成る遅延信号SDLが遅延部
134に入力されると、NチャネルMOSトランジスタ
146,148が不活性化される。そうすると、遅延部
134は、端子170から入力された信号を抵抗135
とキャパシタ140、抵抗136とキャパシタ141、
抵抗137とキャパシタ142、抵抗138とキャパシ
タ143、および抵抗139とキャパシタ144から成
る5段の遅延段で遅延する。したがって、遅延部134
においては、入力される遅延信号SDLの種類によって
遅延段の個数が3〜5段の範囲内で変えられる。
N-channel MOS transistor 146 has
Activated / inactivated by signal / TM0, N-channel MOS transistor 148 is activated / inactivated by signal / TM1. Signal / TM0, signal / TM1
Constitutes the delay signal SDL or the delay fixed signal SDLC. When delay signal SDL including signal / TM0 = L level and signal / TM1 = H level is input to delay section 134, N-channel MOS transistor 146 is inactivated and N-channel MOS transistor 148 is activated. Then, the delay unit 134 converts the signal input from the terminal 170 into the resistor 135, the capacitor 140, and the resistor 13
6, the capacitor 141, the resistor 137 and the capacitor 14
2, and four delay stages including a resistor 139 and a capacitor 144. Also, the signal / TM0 = H level,
When delay signal SDL having signal / TM1 = H level is input to delay section 134, N-channel MOS transistors 146 and 148 are activated. Then, the delay unit 134 converts the signal input from the terminal 170 into the resistor 135.
And the capacitor 140, the resistor 137 and the capacitor 142,
And a delay of three delay stages including a resistor 139 and a capacitor 144. Further, when delay signal SDL including signal / TM0 = L level and signal / TM1 = L level is input to delay section 134, N-channel MOS transistors 146 and 148 are inactivated. Then, the delay unit 134 converts the signal input from the terminal 170 into the resistor 135.
And the capacitor 140, the resistor 136 and the capacitor 141,
Delay is performed by five delay stages including a resistor 137 and a capacitor 142, a resistor 138 and a capacitor 143, and a resistor 139 and a capacitor 144. Therefore, the delay unit 134
In the above, the number of delay stages can be changed within a range of 3 to 5 stages depending on the type of the input delay signal SDL.

【0066】そして、遅延部134は、遅延固定信号S
DLCを入力するとフューズ145,147をトリミン
グして遅延量を固定する。例えば、遅延部134は、遅
延固定信号SDLCとして信号/TM0=Lレベル、信
号/TM1=Hレベルの信号を入力したときは、フュー
ズ145を除去してNチャネルMOSトランジスタ14
6を不活性化し、フューズ147を短絡してNチャネル
MOSトランジスタ148を活性化する。そうすると、
遅延部134は、入力信号を4段の固定された遅延段数
で遅延させて端子171から出力する。
Then, the delay section 134 outputs the delay fixed signal S
When the DLC is input, the fuses 145 and 147 are trimmed to fix the delay amount. For example, when a signal having a signal / TM0 = L level and a signal / TM1 = H level is input as the delay fixed signal SDLC, the delay unit 134 removes the fuse 145 and removes the N-channel MOS transistor 14
6 is inactivated, fuse 147 is short-circuited, and N-channel MOS transistor 148 is activated. Then,
The delay unit 134 delays the input signal by a fixed number of four delay stages and outputs the delayed signal from the terminal 171.

【0067】遅延部134は、図8に示す構成に限ら
ず、図9に示す構成であってもよい。図9を参照して、
遅延部134は、インバータ149〜157と、フュー
ズ158〜160と、NチャネルMOSトランジスタ1
61〜163と、端子164,165とから成る。イン
バータ149とインバータ150、インバータ152と
インバータ153、およびインバータ155とインバー
タ156は、各々、並列に接続されている。そして、イ
ンバータ149の出力端子とインバータ150の出力端
子との間にはフューズ158とNチャネルMOSトラン
ジスタ161とが直列に挿入されている。また、インバ
ータ152の出力端子とインバータ153の出力端子と
の間にはフューズ159とNチャネルMOSトランジス
タ162とが直列に挿入されている。さらに、インバー
タ155の出力端子とインバータ156の出力端子との
間にはフューズ160とNチャネルMOSトランジスタ
163とが直列に挿入されている。
The delay section 134 is not limited to the configuration shown in FIG. 8, but may have the configuration shown in FIG. Referring to FIG.
Delay unit 134 includes inverters 149 to 157, fuses 158 to 160, and N-channel MOS transistor 1
61 to 163, and terminals 164 and 165. The inverter 149 and the inverter 150, the inverter 152 and the inverter 153, and the inverter 155 and the inverter 156 are connected in parallel. Fuse 158 and N-channel MOS transistor 161 are inserted in series between the output terminal of inverter 149 and the output terminal of inverter 150. A fuse 159 and an N-channel MOS transistor 162 are inserted in series between the output terminal of the inverter 152 and the output terminal of the inverter 153. Further, between the output terminal of inverter 155 and the output terminal of inverter 156, fuse 160 and N-channel MOS transistor 163 are inserted in series.

【0068】インバータ149〜157は、同じチャネ
ル幅を有するNチャネルMOSトランジスタとPチャネ
ルMOSトランジスタとから構成される。NチャネルM
OSトランジスタ161は、信号/TM0によって活性
化/不活性化される。NチャネルMOSトランジスタ1
62は、信号/TM1によって活性化/不活性化され
る。NチャネルMOSトランジスタ163は、信号/T
M2によって活性化/不活性化される。そして、信号/
TM0,/TM1,/TM2は、遅延信号SDLまたは
遅延固定信号SDLCを構成する。
Inverters 149 to 157 each include an N-channel MOS transistor and a P-channel MOS transistor having the same channel width. N channel M
OS transistor 161 is activated / deactivated by signal / TM0. N channel MOS transistor 1
62 is activated / inactivated by the signal / TM1. N-channel MOS transistor 163 receives signal / T
Activated / inactivated by M2. And the signal /
TM0, / TM1, and / TM2 constitute the delay signal SDL or the delay fixed signal SDLC.

【0069】インバータ149とインバータ150、イ
ンバータ152とインバータ153、およびインバータ
155とインバータ156は並列接続されているため、
インバータを構成するNチャネルMOSトランジスタと
PチャネルMOSトランジスタのチャネル幅が広い1個
のインバータと考えることができる。そうすると、Nチ
ャネルMOSトランジスタ161〜163が活性化され
ると、インバータ149とインバータ150、インバー
タ152とインバータ153、およびインバータ155
とインバータ156は、各々、インバータ151,15
4,157における遅延量より大きい遅延量で入力信号
を遅延する。遅延部134は、NチャネルMOSトラン
ジスタ161〜163の全てが活性化されたとき、端子
164から入力した信号を最も多く遅延させ、Nチャネ
ルMOSトランジスタ161〜163の全てが不活性化
されたとき、端子164から入力した信号を最も少なく
遅延させる。そして、遅延部134は、遅延固定信号S
DLCが入力されたとき、上述した方法によりフューズ
158〜160をトリミングし、遅延量を固定する。
Since inverter 149 and inverter 150, inverter 152 and inverter 153, and inverter 155 and inverter 156 are connected in parallel,
It can be considered as one inverter having a wide channel width between the N-channel MOS transistor and the P-channel MOS transistor forming the inverter. Then, when N-channel MOS transistors 161 to 163 are activated, inverters 149 and 150, inverter 152 and inverter 153, and inverter 155
And inverter 156 are connected to inverters 151 and 15 respectively.
The input signal is delayed by a delay amount larger than the delay amount in 4,157. The delay unit 134 delays the signal input from the terminal 164 most when all of the N-channel MOS transistors 161 to 163 are activated. When all of the N-channel MOS transistors 161 to 163 are inactivated, The signal input from the terminal 164 is delayed the least. Then, the delay unit 134 outputs the delay fixed signal S
When the DLC is input, the fuses 158 to 160 are trimmed by the above-described method to fix the delay amount.

【0070】再び、図2を参照して、テストモード認識
回路6から活性化されたテストモード信号TEが入力さ
れると、位相比較回路9は、遅延回路8から配線15を
介してパッド11に出力されたデータと、遅延回路13
から配線16を介してパッド12に出力されたデータと
を等負荷の配線17,18を介して入力し、パッド11
に出力されたデータの位相をパッド12に出力されたデ
ータの位相と比較する。そして、位相比較回路9は、比
較結果に応じてLレベルまたはHレベルの信号を遅延信
号生成回路10へ出力する。遅延信号生成回路10は、
位相比較回路9からの出力信号がLレベルまたはHレベ
ルであるとき信号/TM0,/TM1(または信号/T
M0,/TM1,/TM2)から成る遅延信号SDLを
遅延回路8へ出力する。そうすると、遅延回路8の遅延
部134は、上述した方法により遅延信号SDLによっ
て決定される遅延量だけ、入力されたデータの位相を遅
延させてパッド11へ出力する。
Referring to FIG. 2 again, when the activated test mode signal TE is input from test mode recognition circuit 6, phase comparison circuit 9 connects to pad 11 from delay circuit 8 via line 15 to pad 11. The output data and the delay circuit 13
And the data output to the pad 12 via the wiring 16 from the pad 11 via the wirings 17 and 18 of equal load.
Is compared with the phase of the data output to the pad 12. Then, the phase comparison circuit 9 outputs an L level or H level signal to the delay signal generation circuit 10 according to the comparison result. The delay signal generation circuit 10
When the output signal from phase comparison circuit 9 is at L level or H level, signals / TM0, / TM1 (or signal / T
M0, / TM1, / TM2) to the delay circuit 8. Then, the delay unit 134 of the delay circuit 8 delays the phase of the input data by the delay amount determined by the delay signal SDL according to the method described above and outputs the delayed data to the pad 11.

【0071】遅延信号生成回路10は、位相比較回路9
からLレベルからHレベルに切替わる信号を入力する
と、信号/TM0,/TM1(または信号/TM0,/
TM1,/TM2)から成る遅延固定信号SDLCを遅
延回路8へ出力する。遅延回路8は、遅延固定信号SD
LCに基づいてフューズ145,147(またはフュー
ズ158〜160)をトリミングして入力されるデータ
の遅延量を固定する。これによってパッド11から出力
されるデータとパッド12から出力されるデータとの時
間差が数十ピコセカンド(psec)に抑えられる。
The delay signal generation circuit 10 includes a phase comparison circuit 9
When a signal that switches from L level to H level is input, signals / TM0 and / TM1 (or signals / TM0 and / TM0) are input.
(TM1, / TM2) is output to the delay circuit 8. The delay circuit 8 includes a delay fixed signal SD
The fuses 145 and 147 (or the fuses 158 to 160) are trimmed based on the LC to fix the delay amount of input data. As a result, the time difference between the data output from the pad 11 and the data output from the pad 12 is suppressed to several tens of picoseconds (psec).

【0072】本発明による半導体記憶装置は、図10に
示す半導体記憶装置100であってもよい。半導体記憶
装置100は、メモリチップ30と、インタフェース論
理回路40と、調整回路TC1〜TCn−1と、入出力
端子DQ1〜DQnとを備える。メモリチップ30は、
入出力インタフェース回路1と、行デコーダ2と、メモ
リセルアレイ3と、I/O制御回路4と、列デコーダ5
と、テストモード認識回路6とを備える。入出力インタ
フェース回路1、行デコーダ2、メモリセルアレイ3、
I/O制御回路4、列デコーダ5、およびテストモード
認識回路6についての説明は上述したとおりである。イ
ンタフェース論理回路40はメモリチップ30から読出
されたデータを入出力端子DQ1〜DQnへ出力し、入
出力端子DQ1〜DQnから入力されたデータをメモリ
チップ30へ入力する。調整回路TC1〜DQn−1
は、各々、隣接する2つの入出力端子DQ1,DQ2、
DQ2,DQ3、…・・、DQn−2,DQn−1間に
配置されており、図2に示した構成と同じ構成を有す
る。
The semiconductor memory device according to the present invention may be the semiconductor memory device 100 shown in FIG. The semiconductor memory device 100 includes a memory chip 30, an interface logic circuit 40, adjustment circuits TC1 to TCn-1, and input / output terminals DQ1 to DQn. The memory chip 30
I / O interface circuit 1, row decoder 2, memory cell array 3, I / O control circuit 4, column decoder 5
And a test mode recognition circuit 6. I / O interface circuit 1, row decoder 2, memory cell array 3,
The description of the I / O control circuit 4, the column decoder 5, and the test mode recognition circuit 6 is as described above. Interface logic circuit 40 outputs data read from memory chip 30 to input / output terminals DQ1 to DQn, and inputs data input from input / output terminals DQ1 to DQn to memory chip 30. Adjustment circuits TC1 to DQn-1
Are two adjacent input / output terminals DQ1, DQ2,
Are arranged between DQ2, DQ3,..., DQn-2 and DQn-1, and have the same configuration as the configuration shown in FIG.

【0073】半導体記憶装置100は、例えば、ランバ
スDRAMであり、メモリチップ30とインタフェース
論理回路40との間では500MHz程度の周波数でデ
ータの入出力が行なわれ、入出力端子DQ1〜DQnと
外部装置(図示せず)との間では800MHz〜1GH
zの周波数でデータのやり取りが行なわれる。したがっ
て、ランバスDRAMの場合には、入出力端子DQ1〜
DQnから出力されるデータ間の時間差を数十psec
程度に調整することは極めて重要である。
Semiconductor memory device 100 is, for example, a Rambus DRAM. Data is input / output between memory chip 30 and interface logic circuit 40 at a frequency of about 500 MHz, and input / output terminals DQ1-DQn are connected to external device. (Not shown) between 800 MHz and 1 GH
Data is exchanged at the frequency of z. Therefore, in the case of a Rambus DRAM, the input / output terminals DQ1 to DQ1
Time difference between data output from DQn is several tens of psec
It is extremely important to adjust the degree.

【0074】行アドレスストローブ信号/RAS=Lレ
ベル、列アドレスストローブ信号/CAS=Lレベル、
モードエントリ信号ME=Lレベルが入力され、特定パ
ターンのアドレス信号がインタフェース論理回路40か
らメモリチップ30の入出力インタフェース回路1へ入
力されると、入出力インタフェース回路1はテストモー
ドエントリ信号TMEをテストモード認識回路6へ出力
する。そして、テストモード認識回路6が活性化された
テストモード信号TEを調整回路TC1〜TCn−1の
各々に出力する。そうすると、調整回路TC1〜TCn
−1の各々は、上述した方法により隣接する2つの入出
力端子から出力されるデータの時間差を数十psec程
度に調整する。これにより半導体記憶装置100におけ
る入出力端子から出力されるデータ間の時間差が一定値
以内になるように調整される。
Row address strobe signal / RAS = L level, column address strobe signal / CAS = L level,
When the mode entry signal ME = L level is input and an address signal of a specific pattern is input from the interface logic circuit 40 to the input / output interface circuit 1 of the memory chip 30, the input / output interface circuit 1 tests the test mode entry signal TME. Output to the mode recognition circuit 6. Then, the test mode recognition circuit 6 outputs the activated test mode signal TE to each of the adjustment circuits TC1 to TCn-1. Then, the adjustment circuits TC1 to TCn
Each -1 adjusts the time difference between data output from two adjacent input / output terminals by the above-described method to about several tens of psec. Thereby, the time difference between the data output from the input / output terminals of the semiconductor memory device 100 is adjusted to be within a certain value.

【0075】図11を参照して、半導体記憶装置20,
100における隣接する2つの入出力端子から出力され
るデータの時間差を調整する調整方法について説明す
る。調整動作がスタートすると、隣接する2つの入出力
端子から出力される2つのデータ間における位相差が等
負荷の条件下で位相比較回路9によって検出される(ス
テップS1)。位相比較回路9からの出力信号がLレベ
ルからHレベルに切替わっているか否かが判別され(ス
テップS2)、位相比較回路9からの出力信号がLレベ
ルからHレベルに切替わっていなければ、遅延信号生成
回路10は遅延信号SDLを出力し、一方のデータの位
相を遅延信号SDLの種類によって決定される遅延量だ
け遅延させる(ステップS3)。そして、位相比較回路
9の出力信号がLレベルからHレベルに切替わるまでス
テップS1〜S3のループが繰返される。ステップS2
において位相比較回路9からの出力信号がLレベルから
Hレベルに切替わっていれば、遅延信号生成回路10は
遅延固定信号SDLCを出力し、トリミングにより遅延
量が固定される(ステップS4)。これにより隣接する
2つの入出力端子から出力されるデータの時間差の調整
動作が終了する。
Referring to FIG. 11, semiconductor memory devices 20,
An adjustment method for adjusting the time difference between the data output from two adjacent input / output terminals in 100 will be described. When the adjustment operation starts, a phase difference between two data output from two adjacent input / output terminals is detected by the phase comparison circuit 9 under an equal load condition (step S1). It is determined whether or not the output signal from the phase comparison circuit 9 has switched from the L level to the H level (step S2). If the output signal from the phase comparison circuit 9 has not switched from the L level to the H level, The delay signal generation circuit 10 outputs the delay signal SDL, and delays the phase of one data by a delay amount determined by the type of the delay signal SDL (step S3). Then, the loop of steps S1 to S3 is repeated until the output signal of the phase comparison circuit 9 switches from the L level to the H level. Step S2
If the output signal from the phase comparison circuit 9 has been switched from L level to H level, the delay signal generation circuit 10 outputs the delay fixing signal SDLC, and the delay amount is fixed by trimming (step S4). Thus, the operation of adjusting the time difference between the data output from the two adjacent input / output terminals is completed.

【0076】実施の形態1によれば、半導体記憶装置2
0,100は、隣接する2つの入出力端子から出力され
る2つのデータの位相差を等負荷の条件下で検出し、そ
の検出結果に応じて一方のデータを遅延させて2つのデ
ータの出力時間差を一定値内に調整する調整回路を備え
るので、入出力端子DQ1〜DQnからのデータの出力
タイミングを基準値内に調整することができる。
According to the first embodiment, semiconductor memory device 2
0 and 100 detect the phase difference between two data output from two adjacent input / output terminals under the condition of equal load, delay one of the data according to the detection result, and output the two data. Since the adjusting circuit for adjusting the time difference within a certain value is provided, the output timing of data from the input / output terminals DQ1 to DQn can be adjusted within the reference value.

【0077】[実施の形態2]図12を参照して、実施
の形態2による半導体記憶装置200は、実チップ50
とダイシング60とを備える。実チップ50は、出力コ
ントロールクロック回路7と、遅延回路8,13と、配
線14A,14B,15,16と、パッド11,12と
を備える。また、実チップ50は、図1に示した入出力
インタフェース回路1、行デコーダ2、メモリセル3、
I/O制御回路4、列デコーダ5、およびテストモード
認識回路6も備える。
[Second Embodiment] Referring to FIG. 12, a semiconductor memory device 200 according to a second embodiment
And dicing 60. The real chip 50 includes an output control clock circuit 7, delay circuits 8 and 13, wirings 14A, 14B, 15, and 16, and pads 11 and 12. The real chip 50 includes the input / output interface circuit 1, the row decoder 2, the memory cell 3,
It also includes an I / O control circuit 4, a column decoder 5, and a test mode recognition circuit 6.

【0078】ダイシング部60は、位相比較回路9と、
配線17,18とを備える。入出力インタフェース回路
1、行デコーダ2、メモリセル3、I/O制御回路4、
列デコーダ5、テストモード認識回路6、出力コントロ
ールクロック回路7、遅延回路8,13、位相比較回路
9、配線14A,14B,15,16〜18、およびパ
ッド11,12については、上述したとおりである。ま
た、半導体記憶装置200における隣接する2つの入出
力端子から出力されるデータ間における出力時間差の調
整方法も、上述したとおりである。
The dicing section 60 includes a phase comparison circuit 9
Wirings 17 and 18 are provided. I / O interface circuit 1, row decoder 2, memory cell 3, I / O control circuit 4,
The column decoder 5, the test mode recognition circuit 6, the output control clock circuit 7, the delay circuits 8, 13, the phase comparison circuit 9, the wirings 14A, 14B, 15, 16 to 18, and the pads 11, 12 are as described above. is there. The method of adjusting the output time difference between data output from two adjacent input / output terminals in the semiconductor memory device 200 is also as described above.

【0079】半導体記憶装置200は、実チップ50と
ダイシング部60とが接続された状態で作製される。そ
して、上述した方法によって隣接する2つの入出力端子
から出力されるデータ間の出力時間差の調整が終了した
後、ダイシング部60は実チップ50から切断される。
ダイシング部60を切断して実チップ50だけで半導体
記憶装置を作製することによってコンパクトな半導体記
憶装置を作製することができる。
The semiconductor memory device 200 is manufactured with the real chip 50 and the dicing unit 60 connected. Then, after the adjustment of the output time difference between the data output from the two adjacent input / output terminals is completed by the above-described method, the dicing unit 60 is disconnected from the actual chip 50.
By cutting the dicing section 60 and manufacturing a semiconductor memory device using only the actual chip 50, a compact semiconductor memory device can be manufactured.

【0080】図13を参照して、半導体記憶装置200
における出力時間差の調整方法について説明する。半導
体記憶装置200における出力時間差の調整方法は、図
11のフローチャートにステップS5を追加したもので
ある。すなわち、隣接する2つの入出力端子から出力さ
れるデータ間の出力時間差が数十psec程度に調整さ
れた後、ダイシング部を切断する(ステップS5)。こ
れにより、半導体記憶装置200における隣接する2つ
の入出力端子から出力されるデータ間の出力時間差の調
整が終了する。
Referring to FIG. 13, semiconductor memory device 200
The method for adjusting the output time difference in the above will be described. The method of adjusting the output time difference in the semiconductor memory device 200 is obtained by adding step S5 to the flowchart of FIG. That is, after the output time difference between the data output from the two adjacent input / output terminals is adjusted to about several tens of psec, the dicing unit is cut off (step S5). Thus, the adjustment of the output time difference between the data output from the two adjacent input / output terminals in the semiconductor memory device 200 ends.

【0081】実施の形態2によれば、半導体記憶装置2
00は、隣接する2つの入出力端子から出力される2つ
のデータの位相差を等負荷の条件下で検出し、その検出
結果に応じて一方のデータを遅延させて2つのデータの
出力時間差を一定値内に調整する調整回路を備えるの
で、入出力端子DQ1〜DQnからのデータの出力タイ
ミングを基準値内に調整することができる。
According to the second embodiment, semiconductor memory device 2
00 detects a phase difference between two data output from two adjacent input / output terminals under an equal load condition, delays one data according to the detection result, and determines an output time difference between the two data. Since the adjustment circuit is provided for adjusting the data to be within a certain value, the output timing of the data from the input / output terminals DQ1 to DQn can be adjusted to be within the reference value.

【0082】また、半導体記憶装置200は、隣接する
2つの入出力端子から出力される2つのデータの位相差
を等負荷の条件下で検出する位相比較回路9をダイシン
グ部60に有し、2つのデータ間における出力時間差が
調整された後、ダイシング部は切断されるので、コンパ
クト化を図れる。
Further, the semiconductor memory device 200 includes a phase comparison circuit 9 in the dicing section 60 for detecting a phase difference between two data output from two adjacent input / output terminals under an equal load condition. After the output time difference between the two data is adjusted, the dicing unit is cut off, so that compactness can be achieved.

【0083】[実施の形態3]図14を参照して、実施
の形態3による半導体記憶装置300は、実チップ70
とダイシング部80とを備える。実チップ70は、出力
コントロールクロック回路7と、遅延回路8,13と、
配線14A,14B,15,16と、パッド11,12
とを備える。また、実チップ70は、図1に示した入出
力インタフェース回路1、行デコーダ2、メモリセル
3、I/O制御回路4、列デコーダ5、およびテストモ
ード認識回路6も備える。
[Third Embodiment] Referring to FIG. 14, a semiconductor memory device 300 according to a third embodiment
And a dicing unit 80. The real chip 70 includes an output control clock circuit 7, delay circuits 8 and 13,
Wirings 14A, 14B, 15, 16 and pads 11, 12
And The real chip 70 also includes the input / output interface circuit 1, row decoder 2, memory cell 3, I / O control circuit 4, column decoder 5, and test mode recognition circuit 6 shown in FIG.

【0084】入出力インタフェース回路1、行デコーダ
2、メモリセル3、I/O制御回路4、列デコーダ5、
テストモード認識回路6、出力コントロールクロック回
路7、遅延回路8,13、位相比較回路9、配線14
A,14B,15,16〜18、およびパッド11,1
2については、上述したとおりである。一方、ダイシン
グ80はパッド81〜83と、配線84,85とを備え
る。パッド81は、実チップ70のパッド11に対向し
て形成され、パッド83は実チップ70のパッド12に
対向して形成される。また、パッド82は、配線84に
よってパッド81と接続され、配線85によってパッド
83と接続されている。そして、配線84と配線85と
は等負荷であり、同じ長さである。つまり、パッド82
は、配線84,85によってパッド81,83と等負荷
に接続されている。
An input / output interface circuit 1, a row decoder 2, a memory cell 3, an I / O control circuit 4, a column decoder 5,
Test mode recognition circuit 6, output control clock circuit 7, delay circuits 8, 13, phase comparison circuit 9, wiring 14
A, 14B, 15, 16 to 18, and pads 11, 1
2 is as described above. On the other hand, the dicing 80 includes pads 81 to 83 and wirings 84 and 85. The pad 81 is formed to face the pad 11 of the real chip 70, and the pad 83 is formed to face the pad 12 of the real chip 70. The pad 82 is connected to the pad 81 by a wiring 84, and is connected to the pad 83 by a wiring 85. The wiring 84 and the wiring 85 have the same load and the same length. That is, the pad 82
Are connected to the pads 81, 83 and the same load by wirings 84, 85.

【0085】半導体記憶装置300において、隣接する
2つの入出力端子から出力される2つのデータ間の出力
時間差が調整されるとき、実チップ70のパッド11と
ダイシング部80のパッド81とがプローブ86によっ
て接続され、実チップ70のパッド12とダイシング部
80のパッド83とがプローブ87によって接続され
る。そして、プローブ86とプローブ87とは等負荷で
ある。パッド82は、プローブ88によって位相比較回
路9と接続されている。位相比較回路9および遅延信号
生成回路10は、半導体記憶装置300外に配置され
る。
In the semiconductor memory device 300, when an output time difference between two data output from two adjacent input / output terminals is adjusted, the pad 11 of the real chip 70 and the pad 81 of the dicing unit 80 are connected to the probe 86. The pad 12 of the real chip 70 and the pad 83 of the dicing unit 80 are connected by the probe 87. The probes 86 and 87 have the same load. The pad 82 is connected to the phase comparison circuit 9 by a probe 88. Phase comparison circuit 9 and delay signal generation circuit 10 are arranged outside semiconductor memory device 300.

【0086】行アドレスストローブ信号/RAS=Lレ
ベル、列アドレスストローブ信号/CAS=Lレベル、
モードエントリ信号ME=Lレベルが入力され、特定パ
ターンのアドレス信号が入出力インタフェース回路1か
ら入力され、入出力インタフェース回路1がテストモー
ドエントリ信号TMEを出力すると、テストモード認識
回路6が活性化されたテストモード信号TEを出力す
る。そうすると、遅延回路8から配線15を介してパッ
ド11へ出力されたデータは、プローブ86、パッド8
1、配線84、パッド82、およびプローブ88を介し
て位相比較回路9へ入力される。また、遅延回路13か
ら配線16を介してパッド12へ出力されたデータは、
プローブ87、パッド83、配線85、パッド82、お
よびプローブ88を介して位相比較回路9へ入力され
る。
Row address strobe signal / RAS = L level, column address strobe signal / CAS = L level,
When the mode entry signal ME = L level is input, an address signal of a specific pattern is input from the input / output interface circuit 1, and the input / output interface circuit 1 outputs the test mode entry signal TME, the test mode recognition circuit 6 is activated. The test mode signal TE is output. Then, the data output from the delay circuit 8 to the pad 11 via the wiring 15 is transmitted to the probe 86 and the pad 8.
1, the wiring 84, the pad 82, and the probe 88 are input to the phase comparison circuit 9. The data output from the delay circuit 13 to the pad 12 via the wiring 16 is
The signal is input to the phase comparison circuit 9 via the probe 87, the pad 83, the wiring 85, the pad 82, and the probe 88.

【0087】そして、位相比較回路9は、一方のデータ
の位相を他方のデータの位相と比較し、その比較結果に
応じた信号を遅延信号生成回路10へ出力する。遅延信
号生成回路10は、位相比較回路9からの信号がLレベ
ルからHレベルに切替わるまで遅延信号SDLを遅延回
路8へ出力し、位相比較回路9からの信号がLレベルか
らHレベルに切替わると遅延固定信号SDLCを遅延回
路8へ出力する。遅延回路8におけるデータの遅延およ
び遅延量の固定については、実施の形態1の説明と同じ
である。
The phase comparison circuit 9 compares the phase of one data with the phase of the other data, and outputs a signal corresponding to the comparison result to the delay signal generation circuit 10. Delay signal generation circuit 10 outputs delay signal SDL to delay circuit 8 until the signal from phase comparison circuit 9 switches from L level to H level, and switches the signal from phase comparison circuit 9 from L level to H level. After that, the delay fixed signal SDLC is output to the delay circuit 8. The delay of the data and the fixing of the delay amount in the delay circuit 8 are the same as those described in the first embodiment.

【0088】隣接する2つの入出力端子から出力される
2つのデータ間における出力時間差が調整されると、ダ
イシング部80が切断される。
When the output time difference between two data output from two adjacent input / output terminals is adjusted, the dicing unit 80 is cut off.

【0089】図15を参照して、半導体記憶装置300
における隣接する2つの入出力端子から出力される2つ
のデータ間における出力時間差の調整方法について説明
する。図15に示すフローチャートは、図13に示すフ
ローチャートにステップS0を挿入したものであり、そ
の他は図13と同じである。
Referring to FIG. 15, semiconductor memory device 300
The method of adjusting the output time difference between two data output from two adjacent input / output terminals will be described. The flowchart shown in FIG. 15 is the same as FIG. 13 except that step S0 is inserted in the flowchart shown in FIG.

【0090】調整動作がスタートすると、ステップS0
において、実チップ70とダイシング部80の対向する
パッド11,81、およびパッド12,83が等負荷の
条件下で接続されるように、それぞれ、プローブ86,
87を接触させる。その後の動作は図13の説明と同じ
である。図15に示す調整動作が隣接する2つの入出力
端子間で行なわれる。
When the adjustment operation starts, step S0
In this case, the probes 86 and 83 are respectively connected so that the pads 11 and 81 and the pads 12 and 83 of the dicing unit 80 facing the real chip 70 are connected under the same load condition.
87 is brought into contact. Subsequent operations are the same as those described with reference to FIG. The adjustment operation shown in FIG. 15 is performed between two adjacent input / output terminals.

【0091】実施の形態3によれば、半導体記憶装置3
00は、隣接する2つの入出力端子から出力される2つ
のデータの位相差を等負荷の条件下で検出するパッドを
有するダイシング部を備えるので、プローブによりダイ
シング部のパッドに位相比較回路を接続すれば、2つの
データの出力時間差を一定値内に調整することができ
る。
According to the third embodiment, semiconductor memory device 3
00 is provided with a dicing unit having a pad for detecting a phase difference between two data output from two adjacent input / output terminals under the condition of equal load, so that a phase comparison circuit is connected to a pad of the dicing unit by a probe. Then, the output time difference between the two data can be adjusted within a certain value.

【0092】また、半導体記憶装置300は、隣接する
2つの入出力端子から出力される2つのデータの位相差
を等負荷の条件下で検出するためのパッドをダイシング
部に有するので、出力時間差が調整されたダイシング部
は切断でき、コンパクト化を図れる。
Since the semiconductor memory device 300 has a pad for detecting the phase difference between two data output from two adjacent input / output terminals under the condition of equal load, the output time difference is reduced. The adjusted dicing portion can be cut, and the size can be reduced.

【0093】今回開示された実施の形態はすべての点で
例示であって制限的なものではないと考えられるべきで
ある。本発明の範囲は、上記した実施の形態の説明では
なくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲
と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる
ことが意図される。
The embodiments disclosed this time are to be considered in all respects as illustrative and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description of the embodiments, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

【0094】[0094]

【発明の効果】本発明による半導体集積回路は、調整回
路が第1および第2の入出力端子から等負荷の条件下で
第2のデータに対する第1のデータの出力時間差を検出
し、その検出した出力時間差に基づいて、第2のデータ
に対する第1のデータの出力時間差が基準値内になるよ
うに第1のデータを遅延させるので、複数の入出力端子
からデータを殆ど同じタイミングで出力する半導体記憶
装置を作製することができる。
According to the semiconductor integrated circuit of the present invention, the adjusting circuit detects the output time difference of the first data from the second data under the condition of equal load from the first and second input / output terminals, and detects the difference. Based on the output time difference, the first data is delayed so that the output time difference of the first data with respect to the second data falls within the reference value, so that the data is output from the plurality of input / output terminals at almost the same timing. A semiconductor memory device can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 実施の形態1による半導体記憶装置の概略ブ
ロック図である。
FIG. 1 is a schematic block diagram of a semiconductor memory device according to a first embodiment.

【図2】 調整回路の概略ブロック図である。FIG. 2 is a schematic block diagram of an adjustment circuit.

【図3】 位相比較回路の回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram of a phase comparison circuit.

【図4】 位相比較回路における信号を示す図であるFIG. 4 is a diagram showing signals in a phase comparison circuit.

【図5】 位相比較回路における信号を示す図であるFIG. 5 is a diagram showing signals in a phase comparison circuit.

【図6】 位相比較回路における信号を示す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating signals in a phase comparison circuit.

【図7】 遅延回路の構成図である。FIG. 7 is a configuration diagram of a delay circuit.

【図8】 図7の遅延部の回路図である。FIG. 8 is a circuit diagram of a delay unit of FIG. 7;

【図9】 図7の遅延部の他の回路図である。FIG. 9 is another circuit diagram of the delay unit of FIG. 7;

【図10】 実施の形態1による半導体記憶装置の他の
概略ブロック図である。
FIG. 10 is another schematic block diagram of the semiconductor memory device according to the first embodiment;

【図11】 実施の形態1による出力時間差の調整方法
を示すフローチャートである。
FIG. 11 is a flowchart showing a method for adjusting an output time difference according to the first embodiment.

【図12】 実施の形態2による半導体記憶装置の概略
ブロック図である。
FIG. 12 is a schematic block diagram of a semiconductor memory device according to a second embodiment.

【図13】 実施の形態2による出力時間差の調整方法
を示すフローチャートである。
FIG. 13 is a flowchart showing a method for adjusting an output time difference according to the second embodiment.

【図14】 実施の形態3による半導体記憶装置の概略
ブロック図である。
FIG. 14 is a schematic block diagram of a semiconductor memory device according to a third embodiment.

【図15】 実施の形態3による出力時間差の調整方法
を示すフローチャートである。
FIG. 15 is a flowchart showing a method for adjusting an output time difference according to the third embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 入出力インタフェース回路、2 行デコーダ、3
メモリセルアレイ、4I/O制御回路、5 列デコー
ダ、6 テストモード認識回路、7 出力コントロール
クロック回路、8,13 遅延回路、9 位相比較回
路、10 遅延信号生成回路、11,12 パッド、1
4A,14B,15〜18,84,85配線、20,1
00,200,300 半導体記憶装置、30 メモリ
チップ、40 インタフェース論理回路、50,70
実チップ、60,80 ダイシング部、81〜83 パ
ッド、86〜88 プローブ、91,131 スイッ
チ、92〜97 NAND、98〜101,149〜1
57 インバータ、102〜104,132,133,
164,165,170,171 端子、134 遅延
部、135〜139 抵抗、140〜144 キャパシ
タ、145,147,158〜160 フューズ、14
6,148,161〜163 NチャネルMOSトラン
ジスタ。
1 I / O interface circuit, 2 row decoder, 3
Memory cell array, 4 I / O control circuit, 5 column decoder, 6 test mode recognition circuit, 7 output control clock circuit, 8 and 13 delay circuit, 9 phase comparison circuit, 10 delay signal generation circuit, 11 and 12 pads, 1
4A, 14B, 15 to 18, 84, 85 wiring, 20, 1
00, 200, 300 semiconductor memory device, 30 memory chip, 40 interface logic circuit, 50, 70
Real chip, 60,80 dicing part, 81-83 pad, 86-88 probe, 91,131 switch, 92-97 NAND, 98-101, 149-1
57 inverters, 102 to 104, 132, 133,
164, 165, 170, 171 terminals, 134 delay unit, 135 to 139 resistor, 140 to 144 capacitor, 145, 147, 158 to 160 fuse, 14
6,148,161 to 163 N-channel MOS transistors.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5B024 AA03 BA23 BA29 CA07 CA27 EA01 EA04 5B060 CC01 CC03 5L106 AA01 DD11 EE03 GG03  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 5B024 AA03 BA23 BA29 CA07 CA27 EA01 EA04 5B060 CC01 CC03 5L106 AA01 DD11 EE03 GG03

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の入出力端子と、 メモリセルアレイから読出されたデータを基準クロック
に基づいて前記入出力端子へ出力するインタフェース回
路と、 前記インタフェース回路を介したテストモードのエント
リーに対応してテストモード信号を活性化するテストモ
ード認識回路と、 前記テストモード信号の活性化に伴い、前記複数の入出
力端子から任意に選択された隣接する第1および第2の
入出力端子において、前記第1および第2の入出力端子
からそれぞれ出力される第1および第2のデータ間にお
ける出力時間差を調整する調整回路とを備え、 前記調整回路は、前記第1および第2の入出力端子から
等負荷の条件下で前記第2のデータに対する前記第1の
データの出力時間差を検出し、その検出した出力時間差
に基づいて、前記第2のデータに対する前記第1のデー
タの出力時間差が基準値内になるように前記第1のデー
タを遅延させる、半導体記憶装置。
A plurality of input / output terminals, an interface circuit for outputting data read from a memory cell array to the input / output terminals based on a reference clock, and a test mode entry via the interface circuit. A test mode recognition circuit for activating a test mode signal; and an adjacent first and second input / output terminal arbitrarily selected from the plurality of input / output terminals in accordance with the activation of the test mode signal. An adjustment circuit that adjusts an output time difference between first and second data output from the first and second input / output terminals, respectively, wherein the adjustment circuit is configured to control the output time difference from the first and second input / output terminals. Detecting an output time difference of the first data with respect to the second data under a load condition, and, based on the detected output time difference, Output time difference between the first data to the second data delaying the first data to be in the reference value, the semiconductor memory device.
【請求項2】 前記調整回路は、 前記第1および第2の入出力端子と等負荷に接続され、
前記第1のデータの位相を前記第2のデータの位相と比
較する位相比較回路と、 前記位相比較回路からの比較結果が第1の論理から第2
の論理に切替わるまで前記第1のデータを遅延させる遅
延回路とを含む、請求項1に記載の半導体記憶装置。
2. The adjustment circuit is connected to the first and second input / output terminals and an equal load,
A phase comparison circuit for comparing the phase of the first data with the phase of the second data;
2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising: a delay circuit that delays the first data until the logic is switched to the first logic.
【請求項3】 前記調整回路は、前記比較結果に基づい
て遅延信号もしくは遅延固定信号を生成する遅延信号生
成回路をさらに含み、 前記遅延信号生成回路は、前記比較結果が第1の論理か
ら第2の論理に切替わるまで前記遅延信号を生成し、前
記比較結果が第1の論理から第2の論理に切替わると前
記遅延固定信号を生成し、 前記遅延回路は、前記遅延信号に基づいて前記第1のデ
ータを遅延させ、前記遅延固定信号に基づいて前記第1
のデータの遅延量を固定する、請求項2に記載の半導体
記憶装置。
3. The adjustment circuit further includes a delay signal generation circuit that generates a delay signal or a delay fixed signal based on the comparison result, wherein the delay signal generation circuit determines that the comparison result is from a first logic to a first logic. And generating the delay signal until the comparison result switches from the first logic to the second logic. The delay circuit generates the delay fixed signal based on the delay signal. The first data is delayed, and the first data is delayed based on the delay fixed signal.
3. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the data delay amount is fixed.
【請求項4】 前記遅延回路は、 前記第1のデータを遅延させる複数の遅延素子と、 前記複数の遅延素子を選択的に活性化させる複数のフュ
ーズとを含み、 前記複数のフューズをトリミングすることによって前記
複数の遅延素子を選択的に活性化させ、前記第1のデー
タの遅延量を固定する、請求項3に記載の半導体記憶装
置。
4. The delay circuit includes: a plurality of delay elements for delaying the first data; and a plurality of fuses for selectively activating the plurality of delay elements, and trims the plurality of fuses. 4. The semiconductor memory device according to claim 3, wherein said plurality of delay elements are selectively activated to fix a delay amount of said first data.
【請求項5】 前記位相比較回路はダイシング部に設け
られる、請求項2に記載の半導体記憶装置。
5. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein said phase comparison circuit is provided in a dicing unit.
【請求項6】 実チップとダイシング部とを備えた半導
体記憶装置であって、 前記実チップは、 複数の入出力端子と、 メモリセルアレイから読出されたデータを前記複数の入
出力端子へ出力するインタフェース回路と、 前記複数の入出力端子から任意に選択された隣接する第
1および第2の入出力端子において、前記第1の入出力
端子に対応して設けられた遅延回路とを含み、 前記ダイシング部は、 前記第1の入出力端子に対向して設けられた第3の入出
力端子と、 前記第2の入出力端子に対向して設けられた第4の入出
力端子と、 前記第3および第4の入出力端子と等負荷に接続された
第5の入出力端子とを含み、 前記遅延回路は、前記テストモード信号の活性化に伴い
前記第1の入出力端子から出力される第1のデータを前
記第3および第5の入出力端子を介して位相比較回路へ
入力し、前記第2の入出力端子から出力される第2のデ
ータを前記第4および第5の入出力端子を介して位相比
較回路へ入力し、前記位相比較回路によって比較された
前記第2のデータの位相に対する前記第1のデータの位
相の比較結果が第1の論理から第2の論理に切替わるま
で前記第1のデータを遅延させる、半導体記憶装置。
6. A semiconductor memory device including a real chip and a dicing unit, wherein the real chip outputs a plurality of input / output terminals and data read from a memory cell array to the plurality of input / output terminals. An interface circuit, and a delay circuit provided corresponding to the first input / output terminal at adjacent first and second input / output terminals arbitrarily selected from the plurality of input / output terminals, A dicing unit, a third input / output terminal provided to face the first input / output terminal, a fourth input / output terminal provided to face the second input / output terminal, A third input / output terminal connected to an equal load and a fifth input / output terminal, wherein the delay circuit is output from the first input / output terminal when the test mode signal is activated. The first data is stored in the third And the second data output from the second input / output terminal to the phase comparison circuit via the fourth and fifth input / output terminals. And delaying the first data until the result of comparison of the phase of the first data with the phase of the second data compared by the phase comparison circuit switches from the first logic to the second logic. Semiconductor storage device.
【請求項7】 半導体記憶装置から出力されるデータ間
における出力時間差を調整する調整方法であって、 テストモード信号の活性化に伴い、複数の入出力端子の
うち、隣接する第1および第2の入出力端子から等負荷
の条件下で前記第1の入出力端子から出力される第1の
データに対する前記第2の入出力端子から出力される第
2のデータの出力時間差を検出する第1のステップと、 前記出力時間差に基づいて、前記第1のデータに対する
前記第2のデータの出力時間差が基準値内になるように
前記第2のデータを遅延させる第2のステップとを含
む、調整方法。
7. An adjusting method for adjusting an output time difference between data output from a semiconductor memory device, wherein, when a test mode signal is activated, adjacent first and second input / output terminals are selected from a plurality of input / output terminals. Detecting an output time difference between the first data output from the first input / output terminal and the second data output from the second input / output terminal under the condition of equal load from the input / output terminal Adjusting, based on the output time difference, a second step of delaying the second data such that an output time difference of the second data with respect to the first data is within a reference value. Method.
【請求項8】 前記第1のステップにおいて、前記第1
および第2の入出力端子と等負荷に接続された位相比較
回路によって前記第2のデータの位相を前記第1のデー
タの位相と比較し、 前記第2のステップにおいて、前記位相比較回路の比較
結果が第1の論理から第2の論理に切替わるまで前記第
2のデータを遅延させる、請求項7に記載の調整方法。
8. The method according to claim 1, wherein in the first step, the first
And comparing the phase of the second data with the phase of the first data by a phase comparison circuit connected to a second input / output terminal and an equal load. In the second step, comparing the phase of the phase comparison circuit The adjustment method according to claim 7, wherein the second data is delayed until a result switches from the first logic to the second logic.
【請求項9】 前記位相比較回路はダイシング部に設け
られ、前記第2のステップが終了した後、前記ダイシン
グ部を切断する第3のステップをさらに含む、請求項8
に記載の調整方法。
9. The phase comparing circuit is provided in a dicing unit, and further includes a third step of cutting the dicing unit after the completion of the second step.
Adjustment method described in 1.
【請求項10】 前記テストモード信号の活性化に伴
い、 前記第1の入出力端子と、該第1の入出力端子に対向し
て設けられた第3の入出力端子とを第1のプローブによ
って接続し、 前記第2の入出力端子と、該第2の入出力端子に対向し
て設けられた第4の入出力端子とを第2のプローブによ
って接続し、 前記第3の入出力端子および前記第4の入出力端子と等
負荷に接続された第5の入出力端子に位相比較回路を第
3のプローブによって接続するステップを前記第1およ
び第2のステップの前にさらに含む、請求項7に記載の
調整方法。
10. A first probe, comprising: a first probe connected to the first input / output terminal and a third input / output terminal provided opposite to the first input / output terminal in response to activation of the test mode signal. The second input / output terminal is connected to a fourth input / output terminal provided opposite to the second input / output terminal by a second probe. The third input / output terminal And a step of connecting a phase comparison circuit to a fifth input / output terminal connected to the fourth input / output terminal and the equal load by a third probe, before the first and second steps. Item 8. The adjustment method according to Item 7.
【請求項11】 前記第2のステップが終了した後、前
記ダイシング部を切断する第3のステップをさらに含
む、請求項10に記載の調整方法。
11. The adjusting method according to claim 10, further comprising a third step of cutting the dicing unit after the second step is completed.
JP2000187408A 2000-06-22 2000-06-22 Semiconductor storage device and adjusting method Withdrawn JP2002007202A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000187408A JP2002007202A (en) 2000-06-22 2000-06-22 Semiconductor storage device and adjusting method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000187408A JP2002007202A (en) 2000-06-22 2000-06-22 Semiconductor storage device and adjusting method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002007202A true JP2002007202A (en) 2002-01-11

Family

ID=18687391

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000187408A Withdrawn JP2002007202A (en) 2000-06-22 2000-06-22 Semiconductor storage device and adjusting method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002007202A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009107443A1 (en) * 2008-02-29 2009-09-03 Kabushiki Kaisha Toshiba Memory system

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009107443A1 (en) * 2008-02-29 2009-09-03 Kabushiki Kaisha Toshiba Memory system
JP2009211208A (en) * 2008-02-29 2009-09-17 Toshiba Corp Memory system
JP4519923B2 (en) * 2008-02-29 2010-08-04 株式会社東芝 Memory system

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6522598B2 (en) Synchronous semiconductor memory device having improved operational frequency margin at data input/output
KR100240539B1 (en) Synchronous semiconductor memory device in which current consumed by input buffer circuit is reduced
US6489819B1 (en) Clock synchronous semiconductor memory device allowing testing by low speed tester
US6178123B1 (en) Semiconductor device with circuit for phasing internal clock signal
KR100443323B1 (en) Semiconductor memory device capable of adjusting phase of output data and memory system using the same
US7355901B2 (en) Synchronous output buffer, synchronous memory device and method of testing access time
US6538956B2 (en) Semiconductor memory device for providing address access time and data access time at a high speed
JPH11353878A (en) Semiconductor device
KR19990013465A (en) Semiconductor integrated circuit device, semiconductor memory system and clock synchronization circuit
KR100527399B1 (en) A DLL driver in Semiconductor Memory Device
JP2002042498A (en) Semiconductor memory, auxiliary device, and test device
JP4274811B2 (en) Synchronous semiconductor memory device
US7602656B2 (en) Power supply control circuit and controlling method thereof
US6339353B1 (en) Input circuit of a memory having a lower current dissipation
US11929749B2 (en) Methods and apparatuses for temperature independent delay circuitry
JP2000206197A (en) Semiconductor device, its testing method, and semiconductor integrated circuit
US7053686B2 (en) Data strobe circuit using clock signal
US6318707B1 (en) Semiconductor integrated circuit device
US6185141B1 (en) Semiconductor device allowing efficient evaluation of fast operation
JPH11120769A (en) Synchronous semiconductor memory
US6373784B2 (en) Semiconductor memory device
JP2002007202A (en) Semiconductor storage device and adjusting method
JP2002222591A (en) Synchronous semiconductor memory device
JP3930198B2 (en) Semiconductor integrated circuit
JP3595591B2 (en) Semiconductor integrated circuit

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20070904