JP2001527557A - Synthetic method of carbapenem intermediate - Google Patents

Synthetic method of carbapenem intermediate

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JP2001527557A JP54927898A JP54927898A JP2001527557A JP 2001527557 A JP2001527557 A JP 2001527557A JP 54927898 A JP54927898 A JP 54927898A JP 54927898 A JP54927898 A JP 54927898A JP 2001527557 A JP2001527557 A JP 2001527557A
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Abstract

(57)【要約】 式(I)(式中、Rはハロを表すまたは、Pが保護基であるOPで置換されたまたは置換されていないC1 〜6アルキルを表す。)で示される化合物を合成する方法であって、(a)式(II)で示される化合物をクロロスルホン酸と反応させて式(III)で示される化合物を製造すること、(b)化合物(III)をNHRab(式中、RaおよびRbはHまたはC1 〜6アルキルを表す。)と反応させて式(IV)で示される化合物を製造すること、(c)化合物(IV)をHNO3と反応させて式Vで示される化合物を製造すること、(d)化合物(V)を還元剤と反応させて式(VI)で示される化合物を製造すること、および(e)化合物(VI)を酸と反応させて式(I)で示される化合物を製造することを含んでなる方法が開示される。カルバペネム側鎖の合成において有用な中間体化合物も包含される。 (57) Abstract: Formula (I) (wherein, R or represents halo, represents. A C 1 to 6 alkyl P is not the or substituted substituted with OP is a protecting group), a compound represented by (A) reacting a compound represented by the formula (II) with chlorosulfonic acid to produce a compound represented by the formula (III); (b) converting the compound (III) to NHR a (wherein, R a and R b represents H or C 1 to 6 alkyl.) R b is reacted with to produce a compound of formula (IV), HNO 3 (c) a compound (IV) To produce a compound of formula V, (d) reacting compound (V) with a reducing agent to produce a compound of formula (VI), and (e) compound (VI) With an acid to produce a compound of formula (I). A method is disclosed. Also included are intermediate compounds useful in the synthesis of carbapenem side chains.

Description

【発明の詳細な説明】 カルバペネム中間体の合成方法 発明の背景 ここに記載の発明は、カルバペネムの合成において有用な中間体化合物に関す る。カルバペネムは、グラム陽性、グラム陰性および嫌気性微生物を含む広い抗 菌範囲を有する抗生物質である。 本発明のナフトスルタムが有用であるカルバペネムは、2位においてカルバペ ネム核に付加している側鎖にナフトスルタム環系を含む。2位においてナフトス ルタム含有側鎖で置換されたカルバペネムの例が、1996年4月24日に出願 された米国出願No.60/016,184において見られ、その教示をここで 参照により取り入れる。ナフトスルタム基体は、カルバペネム核に直接、または 硫黄原子、メチレン基またはより高分子量のアルキレン基のような結合部分を介 して付加されている。 1または2以上の置換基もナフトスルタム基体に付加し得る。生成されるナフ トスルタムは、カルバペネムに適切に結合され た場合、活性な基盤薬物である。発明の概要 式I: (式中、Rはハロを表すまたは、Pが保護基であるOPで置換されたもしくは置 換されていないC1 〜6アルキルを表す。) で示される化合物を合成する方法であって、 (a)式II:(式中、Rは先のように定義される。) で示される化合物をクロロスルホン酸と反応させて式III: で示される化合物を製造すること、 (b)化合物IIIをNHRab(式中、RaおよびRbはHまたはC1 〜6アル キルを表す。)と反応させて式IV: で示される化合物を製造すること、 (c)化合物IVをHNO3と反応させて式V で示される化合物を製造すること、 (d)化合物vを還元剤と反応させて式VI:で示される化合物を製造すること、および (e)化合物VIを酸と反応させて式Iで示される化合物を製造すること を含んでなる方法が開示される。 カルバペネム側鎖の合成において有用な中間体化合物も含まれる。発明の詳細な説明 本発明を、特記しない限り以下の定義を用いて説明する。 アルキルは、直鎖または分岐してよいC1 〜6アルキル基を意味する。 ハロゲンおよびハロは、独立した基準に基づいて選択される塩素、臭素および ヨードを意味する。好ましいハロは、ブロモおよびヨードを含む。最も好ましく は、ハロはブロモである。 ここで用いられる酸は、塩酸、蟻酸、硫酸、トルエンスルホン酸等のような強 酸を意味する。 ここに記載の方法は、適切に置換されたナフタレンスルホンアミドを環化して 適切に置換された1,8−ナフトスルタムを提供することを含む。本発明の1つ の局面において、本発明は、式I: (式中、Rはハロを表すまたは、Pが保護基であるOPで置換されたもしくは置 換されていないC1 〜6アルキルを表す。) で示される化合物の合成であって、 (a)式II: (式中、Rは先のように定義される。) で示される化合物をクロロスルホン酸と反応させて式III: で示される化合物を製造すること、 (b)化合物IIIをNHRab(式中、RaおよびRbは HまたはC1 〜6アルキルを表す。)と反応させて式IV: で示される化合物を製造すること、 (c)化合物IVをHNO3と反応させて式Vで示される化合物を製造すること、 (d)化合物Vを還元剤と反応させて式VI: で示される化合物を製造すること、および (e)化合物VIを酸と反応させて式Iで示される化合物を 製造すること を含んでなる合成を包含する。 本発明の好ましい局面において、Rはメチルを表す。本発明のもう1つの好ま しい局面において、Rはハロ、好ましくはBrまたはI、おおび最も好ましくは Brを表す。 本発明のもう1つの好ましい局面において、RaとRbの一方はHまたはC1 〜6 アルキルを表し、他方はC1 〜6アルキルである。特には、両方がC1 〜6アルキル であり、最も好ましくは、両方がエチルを表す。 本発明のもう1つの好ましい局面において、式X:で示される化合物を製造する方法であって、 式XI: で示される化合物をリチウム化剤と反応させて式XII: で示される化合物を製造すること、 リチウム化化合物をCO2と反応させて式XIV: で示される化合物を製造すること、および この化合物を還元剤と反応させて式Xで示される化合物を製造すること を含んでなる方法が包含される。 本発明のもう1つの好ましい局面において、式X: で示される化合物を製造する方法であって、 式XI: で示される化合物をリチウム化剤と反応させて式XII: で示される化合物を製造すること、 リチウム化化合物をHCHOと反応させて式X: で示される化合物を製造すること を含んでなる方法が包含される。 本発明のもう1つの局面において、式I: (式中、Rはハロを表すまたは、Pが保護基であるOPで置換されたもしくは置 換されていないC1 〜6アルキルを表す。) で示される中間体化合物が包含される。 本発明のもう1つの局面において、式V: (式中、Rはハロを表すまたは、Pが保護基であるOPで置換されたもしくは置 換されていないC1 〜6アルキルを表し;RaおよびRbはHまたはC1 〜6アルキル を表す。) で示される中間体化合物が包含される。 本発明のもう1つの局面において、式XI:で示される中間体化合物が包含される。 本発明のもう1つの局面において、式XII: で示される中間体化合物が包含される。 本発明のもう1つの局面において、式XIV: で示される中間体化合物が包含される。 一般的に、1−ハロナフタレンまたは1−アルキルナフタレンとクロロスルホ ン酸との反応は、ニトロ置換有機化合物、例 えば、ニトロメタンおよびニトロベンゼン、およびハロ置換有機溶媒、例えば、 オルト、メタまたはパラ置換ベンゼンを含むジクロロベンゼン、ジクロロメタン 、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタンおよびトリフルオロ酢酸(TFA )のような有機溶媒中で行うことができる。好ましくは、溶媒としてTFAが用 いられる。 反応は、典型的に、約−40℃〜約100℃、好ましくは約0℃〜約25℃で 行われる。 スルホンアミドの形成は、典型的に、非反応性有機溶媒中で行われる。その例 は、2級および3級アルコール、例えば、イソプロパノール、3級ブタノール、 芳香族化合物、例えば、トルエン、キシレン、ヘキサン、エーテル、エステル、 テトラヒドロフラン、および前述したような多くの塩素化溶媒を含む。反応は、 典型的に、約−50℃〜還流温度で行われる。 硝酸との反応は、典型的に、トリフルオロ酢酸、硫酸、ニトロベンゼンまたは 前述したような塩素化有機溶媒中で行われる。温度範囲は、典型的に、約−30 ℃〜60℃、より好ましくは約0℃〜約20℃である。 ニトロ基からアミンを形成する還元および環化は、実質的に いかなる溶媒中においても、約−40℃〜流温度で行うことができる。 本発明において有用である還元剤は、例えば、H2/Pdおよび任意の他の触 媒;蟻酸、蟻酸アンモニウム、任意の蟻酸金属、任意の蟻酸トリアルキルアンモ ニウムまたはシクロヘキセンのような化学的搬送剤を伴うPd/C、および塩化 錫等を含む。 環化に有用な酸は、例えば、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸およびメタンスル ホン酸を含む。好ましくは、塩酸が用いられる。 カルボキシル化(連鎖延長)は、典型的に、THFおよびエーテル、例えばジ エチルエーテルのような溶媒中で、通常約−100℃〜約70℃の温度で行うこ とができる。反応に含まれる塩基は典型的にリチウムジアルキルアミド、例えば 、リチウムジイソプロピルアミドである。 カルボン酸からアルコールを形成する還元は、典型的に、THFまたはジエチ ルエーテルのような溶媒中で行われる。適当な還元剤は、THF中のボラン、お よび同様の試薬を含む。この反応は、典型的に、約−50℃〜還流温度で行われ る。 本発明において合成されるカルバペネムは、適当に保護され た活性化2−ヒドロキシメチル−カルバペン−2−エム−3−カルボキシレート と、ナフトスルタムとを反応させ、このように導入された側鎖を要すれば変性し 、次に、所望の最終生成物を提供するように、存在する保護基を除去することに より調製される。この方法を、以下の一般的反応図式により説明する。 フローシートA 前記フローシートAによれば、ナフトスルタム側鎖基を、まず、2位に活性化 ヒドロキシメチル基を有する適当に保護されたカルバペン−2−エム−3−カル ボキシレートと反応させることができる。 2位に−CH2OH置換基を有するカルバペネム核は、Schmitt,S. M.ら著,J.Antibiotics,第41(6)巻:780〜787(1 988年)に従って得ることができ、その教示をここに参照により取り入れる。 カルバペネムのC−3におけるカルボン酸基は、通常、p−ニトロベンジル(P NB)、アリル、p−メトキシベンジル、トリクロロエチル、2−トリメチルシ リルエチル等のようなカルボキシル保護基として保護される。さらに、6−(ヒ ドロキシエチル)側鎖のヒドロキシル基は、任意に、トリメチルシリル(TMS )、トリエチルシリル(TES)、tert−ブチルジメチルシリル(TBDM S)、tert−ブチルジフェニルシリル(TBDPS)、アセチル、アリロキ シカルボニル、2−トリメチルシリルエトキシカルボニル、2−トリクロロエト キシカルボニル等のようなヒドロキシル保護基で保護される。 カルバペネムへのナフトスルタム側鎖基(SCG)の付加は、 テトラヒドロフラン(THF)、エーテル、アセトニトリル、ジメチルホルムア ミド(DMF)、ベンゼン、ジメチルスルホキシド(DMSO)等のような適当 な溶媒中にヒドロキシメチル−カルバペネムとナフトスルタム側鎖基を含む溶液 を、(予備混合された)適当な活性化剤、例えば、ジエチルアゾジカルボキシレ ート(DEAD)/トリフェニルホスフィン、ジイソプロピルアゾジカルボキシ レート(DIAD)/トリブチルホスフィン等で、約−20℃〜35℃の温度で 、約5〜90分間処理することにより行われる。 また、ナフトスルタムおよびカルバペネムを一緒に、適当な溶媒中において、 アゾジカルボキシレートまたはホスフィン試薬と混合することができ、活性化試 薬(それぞれ、ホスフィンまたはアゾジカルボキシレート)の他の成分をこの混 合物に溺加することができる。ナフトスルタム、カルバペネムおよび活性化試薬 が一旦混合されると、反応は、約−20℃〜35℃の温度で約5〜約90分間進 行される。 得られる混合物を、次に、標準的作業手順により粗2−ナフトスルタム−メチ ル置換カルバペネムを得、それを要すれば、再結晶により、またはシリカゲル上 のクロマトグラフィーにお いて、ヘキサン、酢酸エチル、エーテル、ベンゼン、ジクロロメタン、クロロホ ルム、アセトン、メタノール等のような適当な溶媒または2種以上の溶媒の混合 物で溶離して精製する。 帯電置換基の導入に通常必要である、化合物のナフトスルタム側鎖の修飾は、 保護基の除去前に行うのが最も良い。側鎖にヒドロキシル基を含む化合物の場合 、まず、トリフレート、メシレート、トシレート、ヨージド、クロライド、ブロ ミド等のような適当な脱離基に転化することによりヒドロキシル基を活性化し、 次に、得られる脱離基を、求核試薬として作用し得る窒素原子を含むN−メチル イミダゾール、N−(2−ヒドロキシエチル)−イミダゾール、N−メチル−ジ アザビシクロオクタン、1−(カルバモイルメチル)−4−アザ−1−アゾニア ビシクロ−[2.2.2]−オクタン、1−(3−ヒドロキシプロプ−1−イル )−4−アザ−1−アゾニアビシクロ−[2.2.2]−オクタン、ピリジン、 モルホリン等のような四級化化合物で置換することにより側鎖に陽帯電置換基を 導入することができる。 また、帯電した置換基は、ナフトスルタムをカルバペネムに付加する前に、ナ フトスルタム側鎖に組み込むことができる、 または、脱保護後に導入することができる。脱保護前の帯電された置換基の導入 は、非常に好ましい。 ヒドロキシル基の適当な脱離基への転化は、ヒドロキシル置換化合物を、ジク ロロメタン、テトラヒドロフラン、エーテル、ベンゼン等のような適当な溶媒中 において、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン 等のような適当な塩基の存在下に、トリフルオロメタンスルホン酸無水物、メタ ンスルホン酸無水物、トルエンスルホン酸無水物、塩化メタンスルホニル、塩化 ベンゼンスルホニル、塩化トルエンスルホニル等のような活性化剤により、約− 100℃〜0℃の温度で約5〜120分間処理することにより達成される。この ように得られる中間体は脱離基を含み、これは、アセトン、メチルエチルケトン 等のような適当な溶媒中にその中間体を含む溶液を、約−10℃〜50℃の温度 で、過剰のヨ−化ナトリウムまたはヨ−化カリウムで約0.25〜24時間処理 することにより別の脱離基であるヨージドに転化することができる。 多くの場合、ヨージドは、さらに精製することなく用いることができる充分に 純粋な状態で得られる。取り扱い容易のために、ヨージドを、結晶でない場合、 ベンゼンから凍結乾燥して 無定形の取り扱い容易な固形物を得ることができる。 活性化ヒドロキシル基またはヨージドは、活性化中間体を活性化試薬と反応さ せることにより置換される。ある場合には、活性化および置換は、1段工程で達 成することができる。活性化試薬は、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、エ ーテル、DMF、ベンゼン、アセトニトリル、DMSO等のような適当な溶媒中 において、適当な塩基の存在下に、ヒドロキシ置換化合物の溶液に添加される。 得られる活性化中間体は、1〜3モル当量のナフトスルタムにより、約−78℃ 〜50℃の温度で約15〜20分間処理される。ある場合には、一種の溶媒中で 活性化中間体を形成し、活性化中間体を単離し、異なる溶媒中で置換反応を行う ことが望ましい。他の場合には、置換は、中間体を単離することなく行うことが でき、塩基としてQ*も用いられる場合は、活性化中間体の形成と並行して行う こともできる。 ヨージドを用いることにより置換反応が最も良好に達成される場合は、ヨージ ドの溶液が、略当量(0.9〜1.05モル当量)のナフトスルタムと組み合わ される。トリフルオロメタンスルホン酸銀、テトラフルオロホウ酸銀等のような 非求核酸 の塩を添加することができる。反応は、銀塩の不存在下に進行されるが、反応は 、適当な塩の存在下においてより迅速に進行する。さらに、塩は、反応混合物か らの置換ヨージドの除去を補助し、そのことは次の工程の効率を向上させること ができる。次に、得られる混合物は、当業者が良く知っている標準的作業手順に 付されて粗生成物が提供され、それは、要すれば、再結晶またはクロマトグラフ ィーにより精製される。 陽電荷を側鎖に導入するための別の方法が、ヨ−化メチル、臭化メチル、ベン ジルトリクロロアセトイミデート、トリフルオロメタンスルホン酸メチル、テト ラフルオロホウ酸トリエチルオキソニウム等のような適当なアルキル化試薬との 反応により四級化し得る窒素原子を含む側鎖に適用することができる。側鎖中の 窒素原子の四級化は、化合物の溶液を、僅かに過剰(1.05〜1.2モル当量 )のアルキル化試薬で処理することにより行われる。 標的化合物の合成は、典型的には、当業者に良く知られている標準的技術を用 いて末位から2番目に置換基を有する中間体中に存在する保護基を除去すること により完了される。脱保護された最終生成物は、次に、要すれば、イオン交換ク ロマトグ ラフィー、逆相シリカゲル上のHPLC、逆相ポリスチレンゲル上のMPLC等 のような標準的技術を用いて、または再結晶により精製される。 最終生成物は、NMR、IR、MSおよびUVのような標準的技術により構造 的に特徴付けることができる。取り扱いの容易さのために、最終生成物を、結晶 性でない場合、水から凍結乾燥して無定形の取り扱い容易な固形物を得ることが できる。 好ましいRの値は、ハロ、メチル、エチルおよびプロピルを含み、これらはP がヒドロキシル保護基であるOPにより置換されているか置換されてないもので ある。 保護基Pの代表例は、トリメチルシリル(TMS)、トリエチルシリル(TE S)、tert−ブチルジメチルシリル(TBDMS)、tert−ブチルジフ ェニルシリル(TBDPS)、アセチル、アリロキシカルボニル、2−トリメチ ルシリルエトキシカルボニル、2−トリクロロエトキシカルボニル等を含む。 好ましいRaおよびRbの値はH、メチル、エチルおよびプロピルを含む。最も 好ましくは、各々がエチルを表す。すなわち、好ましくは、NHRabは、ジメ チルアミン、ジエチルアミンまたはジプロピルアミンを表す。 ここで使用する「還元剤」という用語は、化合物Vと反応したときに、8位の 窒素基をアミノ基に転化する化合物を意味する。適当な還元剤の例は、金属と組 み合わされたH2、例えば、Pd/C、金属と組み合わされた蟻酸、金属と組み 合わされた蟻酸トリアルキルアンモニウム、シクロヘキサンと金属、塩化錫等を 含む。 実施例1 クロロスルホン化 三つ口フラスコに、メチルナフタレン(2.63kg)よびトリフルオロ酢酸 (13.2L)を仕込んだ。2相混合物を攪拌し、氷水浴を用いて5℃に冷却し た。クロロスルホン酸(2.93L)を、反応温度を20℃未満に維持しつつ、 30分間かかって添加した。反応液を、脱イオン水により、10〜20℃で15 分間かかって停止した。 生成物は、水の添加時に結晶化して白色スラリーを得た。 反応容器を、TFA/水(1:1、1.0L)で洗い、洗浄液を停止容器に添 加した。ケーキを、ボリプロピレンフィルター布上で濾過し、水洗した。ケーキ を窒素流中で一晩乾燥した。 実施例2 スルホンアミド フラスコに塩化メチルナフタレンスルホニル(4.0kg)およびイソプロパ ノール(12.0L)を仕込んだ。ジエチルアミン(3.73L)を10分かか ってスラリーに添加した。 約65℃への発熱が起こり、出発材料が溶解した。反応の進行を、HPLCで モニターした。 溶液を20℃に冷却し、水(4L)を添加した。混合物に、スルホンアミド生 成物(2gm)を添加し、20℃で20分間熟成した。残りの水(32L)を1 時間かかって添加した。得られたスラリーを20℃で20分間熟成した。 スラリーを、23’’ポリプロピレンフィルター布上で濾過 し、水(12L)で洗った。ケーキを窒素流中で一晩乾燥した。 実施例3 ニトロ化 窒素導入口、攪拌器、添加漏斗および温度プローブを備えた2Lフラスコに、 N,N−ジエチル−1−メチル−4−ナフタレンスルホンアミド(30g)およ びトリフルオロ酢酸(TFA)(150mL)を仕込んだ。得られた溶液を15 ℃に冷却した。濃硫酸(30mL)を2分かかって添加した。溶液を−3℃に冷 却した。 発煙硝酸(6.2mL)を、迅速に攪拌しつつ、反応温度を−3℃〜+5℃に 維持しつつ約30分かかって溶液に添加した。 反応の進行をHPLCによりモニターした。反応は、出発物質の残留量がHP LC分析により1%未満(200nmでの生成物に対する面積による)となった ときに完了したとみなされ る。 氷水浴を用いて反応停止温度を25℃未満に維持しつつ、溶液に水(375m L)を60分かかって添加した。得られたスラリーを、20℃で30分間熟成し 、濾過し、ケーキを水(100mL)で洗った。 ケーキを、残留水含量が35重量%未満になるまで窒素流中で乾燥した。 部分的に乾燥された固形物を、酢酸エチル(75mL)中で30℃で30分間 スラリー化した。ヘキサン(150mL)を20分かかって添加し、スラリーを 、20℃で30分間熟成した。スラリーを濾過し、ヘキサン(100mL)で洗 い、窒素流中で一晩乾燥した。 実施例4 還元−環化 72L丸底フラスコに、N2入口、熱電対、およびオーバーヘッドスターラー を取りつけた。フラスコに、エタノール(20L)と一緒に1−メチル−4−ジ エチルスルホンアミド−5−ニトロナフタレン2.20kgを仕込んだ。 Pd/C10重量%(50重量%水湿潤、0.17kg)を、水中のスラリー として仕込み、水(80mL)およびエタノール(6L)で濯ぎ落とした。得ら れたスラリーに、蟻酸カリウム(1.74kg)を一度に淵加した。スラリーを 、60℃に1時間暖め、次に1時間還流した。 反応は、HPLC分析により測定して、出発材料に対する残留SM量が0.2 %未満になったときに完了したとみなされる。 反応完了時に、混合物を20℃に冷却し、濃塩酸(2.73L)を約20分間 かかって添加した。 得られたスラリーを、solka−flocTMのパッドを通して濾過し、ケー キをエタノール中の10%塩酸(合計13L)で洗った。合わせた濾液を、清浄 化された72Lフラスコに再び仕込み、還流温度(81℃)で3〜4時間加熱し て環化を達成した。 溶液を40℃に冷却し、濃縮したスラリーにした。スラリー を20℃に冷却し、水(7.5L)を30分間かかって添加した。スラリーを5 ℃に冷却し、15分間熟成させた。 スラリーを濾過し、水(5L)で洗った。結晶性固形物を窒素流下に一晩乾燥 した。 実施例5 ジリチウム化−カルボキシル化 窒素入口、スターラー、温度プローブ、および添加漏斗を備える2.0Lフラ スコに、THF(5L)を仕込んだ。ジイソプロピルアミン(1.34L)を添 加した。溶液を−15℃に冷却し、反応温度を−15℃〜0℃に維持しつつn− ブチルリチウム(6.0L)を滴下してリチウムジイソプロピルアミド(LDA )を得た。 スターラーおよび窒素入口を備える別の50Lフラスコに、 THF(10L)および1−Me NHナフトスルタム(1.0kg)を仕込ん だ。溶液を、減圧/窒素置換により脱気し、−15℃に冷却し、溶液温度を−1 5℃〜−5℃に維持しつつLDA溶液を滴下してジアニオン溶液を生成した。 ジアニン溶液を−15℃で30分間熟成した。 スターラー、窒素入口および温度プローブを備える別の100Lフラスコに、 THF(10L)を仕込み、減圧/窒素置換により脱気した。溶液を−20℃に 冷却し、絶乾級CO2を、飽和するまでTHFに吹き込んだ。次に、ジアニン溶 液を、得られたスラリーが充分に混合されるように確保しつつ、この炭酸化溶液 にゆっくり添加した。10℃まで暖めた後、2NHClの10Lを溶液に添加し 、30分間熟成した。 溶液を大気圧下に約10Lまで濃縮して、THFを除去し、結晶化を開始させ た。得られるスラリーを、15℃で30分間熟成し、濾過し、ケーキを水(10 L)で洗い、窒素流中で乾燥した。実施例6 ボラン還元 50L丸底フラスコに、N2入口、熱電対、添加漏斗およびオーバーヘッドス ターラーを取りつけ備えた。フラスコに、乾燥NH−スルタムカルボン酸(1. 14kg)およびTHF(18L)を仕込んだ。スラリーを15℃まで冷却した 。このスラリーにNaBH4(327g)を添加し、続いて、BF3エーテレート (1.42L)をゆっくり添加した。 スラリーを、15〜20℃で熟成し、反応の進行をHPLCによりモニターし た。 スラリーを10℃に冷却し、メタノール(1.2L)をゆっくりと添加して過 剰のボランをクエンチした。2NHCl(11L)をゆっくり添加し、30分間 熟成した。停止反応混合物 を大気圧下に蒸留して揮発分を除去した。得られる溶液を55℃に冷却し、種材 料を加えて結晶化を開始し、1時間かかって15℃に冷却した。30分間熟成後 、スラリーを濾過し、水10Lで洗い、窒素流下に乾燥した。 実施例7 ジリチウム化−ヒドロキシメチル化 窒素入口、スターラー、および温度プローブを備える10mLフラスコに、T HF(2mL)を仕込んだ。 ジイソプロピルアミン(0.14mL)を添加した。溶液を−15℃に冷却し 、反応温度を−15℃〜0℃に維持しつつn−ブチルリチウム(0.66mL) を滴下してリチウムジイソプロピルアミド(LDA)を得た。 スターラーおよび窒素入口を備える別の20mLフラスコに、THF(2mL )および1−Me NHナフトスルタム(0.07g)を仕込んだ。溶液を、減 圧/窒素置換により脱気し、−15℃に冷却し、溶液温度を−15℃〜−5℃に 維持しつつLDA溶液を滴下してジアニオン溶液を生成した。 ジアニン溶液を−15℃で30分間熟成した。 スターラー、窒素入口および温度プローブを備える別の20 mLフラスコに、THF(2mL)およびパラホルムアルデヒド(0.12g) を仕込み、減圧/窒素置換により脱気した。溶液を−20℃に冷却した。次に、 ジアニン溶液を、充分な混合を確保しつつ、このパラホルムアルデヒド溶液にゆ っくり添加した。10℃まで暖めた後、2NHClの10mLを溶液に添加し、 30分間熟成した。 溶液を大気圧下に約10mLまで濃縮して、THFを除去し、結晶化を開始さ せた。得られるスラリーを、15℃で30分間熟成し、濾過し、ケーキを水(1 0mL)で洗い、窒素流中で乾燥した。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION                       Synthetic method of carbapenem intermediate Background of the Invention   The invention described herein relates to intermediate compounds useful in the synthesis of carbapenems. You. Carbapenem has a broad spectrum of antimicrobial properties, including Gram-positive, Gram-negative and anaerobic microorganisms. It is an antibiotic with a bacterial spectrum.   Carbapenems for which the naphthosultams of the invention are useful are carbape The side chain attached to the nem nucleus contains a naphthosultam ring system. Naftos in second place Examples of Carbapenems Substituted with Latum-Containing Side Chains Applied on April 24, 1996 U.S. application Ser. 60 / 016,184, the teachings of which are incorporated herein by reference. Incorporated by reference. The naphthosultam substrate can be directly on the carbapenem nucleus or Via a linking moiety such as a sulfur atom, a methylene group or a higher molecular weight alkylene group Has been added.   One or more substituents may also be added to the naphthosultam substrate. Nuff generated Tosultam is properly bound to carbapenem If active, it is an active base drug.Summary of the Invention   Formula I: (In the formula, R represents halo, or P is substituted or substituted with OP which is a protecting group. Unconverted C1 ~ 6Represents alkyl. ) A method for synthesizing a compound represented by   (A) Formula II:(Wherein R is defined as above.) Is reacted with chlorosulfonic acid to give a compound of formula III: Producing a compound represented by   (B) Compound III is converted to NHRaRb(Where RaAnd RbIs H or C1 ~ 6Al Represents a kill. ) To react with Formula IV: Producing a compound represented by   (C) Compound IV is converted to HNOThreeAnd reacting with the formula V Producing a compound represented by   (D) reacting compound v with a reducing agent to form a compound of formula VI:Producing a compound represented by:   (E) reacting compound VI with an acid to produce a compound of formula I A method comprising:   Also included are intermediate compounds useful in the synthesis of carbapenem side chains.Detailed description of the invention   The invention will be described using the following definitions unless otherwise specified.   The alkyl is a C.sub.4 which may be linear or branched.1 ~ 6It means an alkyl group.   Halogen and halo are chlorine, bromine and Means iodine. Preferred halo include bromo and iodo. Most preferred Is halo is bromo.   The acids used here are strong acids such as hydrochloric acid, formic acid, sulfuric acid, and toluenesulfonic acid. Means acid.   The method described herein involves cyclizing an appropriately substituted naphthalene sulfonamide Providing an appropriately substituted 1,8-naphthosultam. One of the present invention In an aspect, the invention provides a compound of formula I: (In the formula, R represents halo, or P is substituted or substituted with OP which is a protecting group. Unconverted C1 ~ 6Represents alkyl. ) A synthesis of a compound represented by   (A) Formula II: (Wherein R is defined as above.) Is reacted with chlorosulfonic acid to give a compound of formula III: Producing a compound represented by   (B) Compound III is converted to NHRaRb(Where RaAnd RbIs H or C1 ~ 6Represents alkyl. ) To react with Formula IV: Producing a compound represented by   (C) Compound IV is converted to HNOThreeAnd reacting with the formula VProducing a compound represented by   (D) reacting compound V with a reducing agent to form a compound of formula VI: Producing a compound represented by:   (E) reacting compound VI with an acid to give a compound of formula I Manufacturing And a synthesis comprising   In a preferred aspect of the invention, R represents methyl. Another preferred embodiment of the present invention In a preferred aspect, R is halo, preferably Br or I, and most preferably Represents Br.   In another preferred aspect of the invention, RaAnd RbOne of them is H or C1 ~ 6 Alkyl, the other being C1 ~ 6Alkyl. In particular, both are C1 ~ 6Alkyl And most preferably both represent ethyl.   In another preferred aspect of the invention, a compound of formula X:A method for producing a compound represented by the formula:   Formula XI: Is reacted with a lithiating agent to give a compound of formula XII: Producing a compound represented by   Lithiated compounds with COTwoAnd reacting with formula XIV: Producing a compound represented by:   Reacting this compound with a reducing agent to produce a compound of formula X   And methods comprising:   In another preferred aspect of the invention, a compound of formula X: A method for producing a compound represented by the formula:   Formula XI: Is reacted with a lithiating agent to give a compound of formula XII: Producing a compound represented by   The lithiated compound is reacted with HCHO to form a compound of formula X: Producing the compound represented by   And methods comprising:   In another aspect of the invention, a compound of formula I: (In the formula, R represents halo, or P is substituted or substituted with OP which is a protecting group. Unconverted C1 ~ 6Represents alkyl. ) And intermediate compounds represented by   In another aspect of the present invention, Formula V: (In the formula, R represents halo, or P is substituted or substituted with OP which is a protecting group. Unconverted C1 ~ 6R represents alkyl;aAnd RbIs H or C1 ~ 6Alkyl Represents ) And intermediate compounds represented by   In another aspect of the invention, a compound of formula XI:And intermediate compounds represented by   In another aspect of the invention, a compound of formula XII: And intermediate compounds represented by   In another aspect of the invention, a compound of formula XIV: And intermediate compounds represented by   Generally, 1-halonaphthalene or 1-alkylnaphthalene and chlorosulfo Reaction with acid is a nitro-substituted organic compound, e.g. For example, nitromethane and nitrobenzene, and halo-substituted organic solvents, for example, Dichlorobenzene with ortho, meta or para substituted benzene, dichloromethane , Chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane and trifluoroacetic acid (TFA ) Can be carried out in an organic solvent such as Preferably, TFA is used as a solvent. Can be.   The reaction is typically carried out at about -40C to about 100C, preferably at about 0C to about 25C. Done.   The formation of the sulfonamide is typically performed in a non-reactive organic solvent. Examples Are secondary and tertiary alcohols such as isopropanol, tertiary butanol, Aromatic compounds, such as toluene, xylene, hexane, ether, ester, Includes tetrahydrofuran, and many chlorinated solvents as described above. The reaction is Typically, it is carried out at about -50 ° C to reflux temperature.   Reaction with nitric acid typically involves trifluoroacetic acid, sulfuric acid, nitrobenzene or It is performed in a chlorinated organic solvent as described above. The temperature range is typically about -30 C. to 60.degree. C., more preferably from about 0.degree. C. to about 20.degree.   The reduction and cyclization to form an amine from the nitro group is substantially The reaction can be carried out in any solvent at a temperature of about -40 ° C to a flowing temperature.   Reducing agents useful in the present invention include, for example, HTwo/ Pd and any other touch Medium: formic acid, ammonium formate, any metal formate, any trialkylammonium formate Pd / C with chemical carriers such as chromium or cyclohexene, and chloride Including tin etc.   Acids useful for cyclization include, for example, hydrochloric acid, sulfuric acid, trifluoroacetic acid and methanesulfur. Contains fonic acid. Preferably, hydrochloric acid is used.   Carboxylation (chain extension) is typically carried out with THF and ethers such as di- It is usually carried out in a solvent such as ethyl ether at a temperature of about -100 ° C to about 70 ° C. Can be. The base involved in the reaction is typically a lithium dialkylamide, such as , Lithium diisopropylamide.   Reduction to form alcohols from carboxylic acids typically involves THF or diethyl alcohol. The reaction is performed in a solvent such as toluene. Suitable reducing agents include borane in THF, and And similar reagents. The reaction is typically performed at about -50 ° C to reflux temperature. You.   The carbapenems synthesized in the present invention are suitably protected Activated 2-hydroxymethyl-carbapene-2-em-3-carboxylate And naphthosultam, and if necessary, denature the side chains thus introduced. And then removing the protecting groups present to provide the desired end product. It is prepared from This method is illustrated by the following general reaction scheme.                              Flow sheet A   According to the flow sheet A, the naphthosultam side chain group is first activated to the 2-position. Appropriately protected carbapen-2-em-3-cal having a hydroxymethyl group It can be reacted with boxylate.   -CH at position 2TwoCarbapenem nuclei with OH substituents are described in Schmitt, S .; M. J. et al. Antibiotics, Vol. 41 (6): 780-787 (1 988), the teachings of which are incorporated herein by reference. The carboxylic acid group at C-3 of carbapenem is usually p-nitrobenzyl (P NB), allyl, p-methoxybenzyl, trichloroethyl, 2-trimethylc Protected as a carboxyl protecting group such as rilethyl and the like. Furthermore, 6- (hi The hydroxyl group of the (droxyethyl) side chain may optionally be trimethylsilyl (TMS ), Triethylsilyl (TES), tert-butyldimethylsilyl (TBDM S), tert-butyldiphenylsilyl (TBDPS), acetyl, allyloxy Sicarbonyl, 2-trimethylsilylethoxycarbonyl, 2-trichloroeth Protected with hydroxyl protecting groups such as xyloxycarbonyl and the like.   The addition of the naphthosultam side group (SCG) to carbapenem is Tetrahydrofuran (THF), ether, acetonitrile, dimethylforma Suitable such as amide (DMF), benzene, dimethyl sulfoxide (DMSO), etc. Containing hydroxymethyl-carbapenem and naphthosultam side groups in a suitable solvent With a suitable activator (premixed) such as diethylazodicarboxylate (DEAD) / triphenylphosphine, diisopropylazodicarboxy Rate (DIAD) / tributylphosphine etc. at a temperature of about -20 ° C to 35 ° C. For about 5 to 90 minutes.   Also, naphthosultam and carbapenem together in a suitable solvent, Can be mixed with azodicarboxylate or phosphine reagents, The other components of the drug (phosphine or azodicarboxylate, respectively) are You can drown in the compound. Naphthosultam, carbapenem and activating reagent Once mixed, the reaction proceeds at a temperature of about -20C to 35C for about 5 to about 90 minutes. Is performed.   The resulting mixture is then purified according to standard operating procedures to the crude 2-naphthosultam-methyl To obtain substituted carbapenems, if necessary, by recrystallization or on silica gel. Chromatography Hexane, ethyl acetate, ether, benzene, dichloromethane, chloropho A suitable solvent such as lume, acetone, methanol, etc. or a mixture of two or more solvents And purified by elution.   Modification of the naphthosultam side chain of the compound, which is usually required for the introduction of a charged substituent, Best before removal of the protecting groups. For compounds containing a hydroxyl group in the side chain First, triflate, mesylate, tosylate, iodide, chloride, broth Activating the hydroxyl group by converting it to a suitable leaving group such as a amide, Next, the resulting leaving group is converted to an N-methyl containing a nitrogen atom capable of acting as a nucleophile. Imidazole, N- (2-hydroxyethyl) -imidazole, N-methyl-di Azabicyclooctane, 1- (carbamoylmethyl) -4-aza-1-azonia Bicyclo- [2.2.2] -octane, 1- (3-hydroxyprop-1-yl ) -4-aza-1-azoniabicyclo- [2.2.2] -octane, pyridine, Positively charged substituent on the side chain by substitution with a quaternized compound such as morpholine Can be introduced.   Also, charged substituents can be added before naphthosultam is added to the carbapenem. Can be incorporated into the fosultam side chain, Alternatively, it can be introduced after deprotection. Introduction of charged substituents before deprotection Is highly preferred.   Conversion of the hydroxyl group to a suitable leaving group can convert the hydroxyl-substituted compound In a suitable solvent such as dichloromethane, tetrahydrofuran, ether, benzene, etc. , Triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine In the presence of a suitable base such as trifluoromethanesulfonic anhydride, meta Sulfonic anhydride, toluenesulfonic anhydride, methanesulfonyl chloride, chloride With an activator such as benzenesulfonyl, toluenesulfonyl chloride and the like, about- This is achieved by treating at a temperature of 100 ° C to 0 ° C for about 5 to 120 minutes. this The resulting intermediate contains a leaving group, such as acetone, methyl ethyl ketone A solution containing the intermediate in a suitable solvent such as, for example, at a temperature of about -10 ° C to 50 ° C. For about 0.25 to 24 hours with excess sodium or potassium iodide By doing so, it can be converted into another leaving group, iodide.   In many cases, iodide is sufficiently pure that it can be used without further purification. Obtained in a pure state. For ease of handling, if iodide is not crystalline, Lyophilized from benzene An amorphous, easy-to-handle solid can be obtained.   Activated hydroxyl groups or iodides react the activating intermediate with the activating reagent. To be replaced. In some cases, activation and displacement are accomplished in a single step. Can be achieved. Activating reagents include dichloromethane, tetrahydrofuran, In a suitable solvent such as ether, DMF, benzene, acetonitrile, DMSO, etc. , Is added to the solution of the hydroxy-substituted compound in the presence of a suitable base. The resulting activated intermediate is prepared at about −78 ° C. with 1-3 molar equivalents of naphthosultam. Treated at a temperature of 5050 ° C. for about 15-20 minutes. In some cases, in a kind of solvent Form an activated intermediate, isolate the activated intermediate, and perform the displacement reaction in different solvents It is desirable. In other cases, substitutions can be made without isolating the intermediate. Yes, when Q * is also used as the base, it is performed in parallel with the formation of the activated intermediate You can also.   If the displacement reaction is best achieved by using iodide, Solution is combined with approximately equivalents (0.9 to 1.05 molar equivalents) of naphthosultam Is done. Such as silver trifluoromethanesulfonate, silver tetrafluoroborate, etc. Non-nucleophilic Can be added. The reaction proceeds in the absence of silver salt, but the reaction is Proceeds more rapidly in the presence of the appropriate salt. In addition, the salt Aid in the removal of these substituted iodides, which in turn increases the efficiency of the next step Can be. The resulting mixture is then subjected to standard working procedures familiar to those skilled in the art. To provide the crude product, which may be recrystallized or chromatographed if necessary. Purified by   Other methods for introducing a positive charge into the side chain include methyl iodide, methyl bromide, Diltrichloroacetimidate, methyl trifluoromethanesulfonate, tet With a suitable alkylating reagent such as triethyloxonium lafluoroborate, etc. It can be applied to side chains containing nitrogen atoms which can be quaternized by the reaction. In the side chain Quaternization of the nitrogen atom results in a slight excess (1.05 to 1.2 molar equivalents) of the compound solution. )).   The synthesis of the target compound typically employs standard techniques well known to those skilled in the art. The protecting group present in the intermediate having the second substituent from the terminal Is completed by The deprotected end product can then be ion-exchanged, if necessary. Romatog Raffy, HPLC on reversed-phase silica gel, MPLC on reversed-phase polystyrene gel, etc. Purified using standard techniques such as, or by recrystallization.   The final product is structured by standard techniques such as NMR, IR, MS and UV Can be characterized. The final product is crystallized for ease of handling. If not, freeze-dry from water to obtain amorphous, easy-to-handle solids. it can.   Preferred values of R include halo, methyl, ethyl and propyl, which are Is substituted or unsubstituted by the hydroxyl protecting group OP is there.   Representative examples of the protecting group P include trimethylsilyl (TMS), triethylsilyl (TE S), tert-butyldimethylsilyl (TBDMS), tert-butyldiph Enylsilyl (TBDPS), acetyl, allyloxycarbonyl, 2-trimethyl It includes lucylylethoxycarbonyl, 2-trichloroethoxycarbonyl and the like.   Preferred RaAnd RbValues include H, methyl, ethyl and propyl. most Preferably, each represents ethyl. That is, preferably, NHRaRbIs Represents tylamine, diethylamine or dipropylamine.   As used herein, the term “reducing agent” refers to the position at position 8 when reacted with compound V. It means a compound that converts a nitrogen group into an amino group. Examples of suitable reducing agents include metals H combinedTwoFor example, Pd / C, formic acid combined with metal, combined with metal Combined trialkyl ammonium formate, cyclohexane and metal, tin chloride, etc. Including.                                 Example 1 Chlorosulfonation   In a three-necked flask, add methylnaphthalene (2.63 kg) and trifluoroacetic acid (13.2 L) was charged. The two-phase mixture is stirred and cooled to 5 ° C. using an ice-water bath. Was. Chlorosulfonic acid (2.93 L) was added while maintaining the reaction temperature below 20 ° C. The addition took 30 minutes. The reaction solution is treated with deionized water at 15 It took a minute and stopped.   The product crystallized on addition of water to give a white slurry.   The reaction vessel was washed with TFA / water (1: 1, 1.0 L), and the washing solution was added to the stop vessel. Added. The cake was filtered on a polypropylene filter cloth and washed with water. cake Was dried in a stream of nitrogen overnight.                                 Example 2 Sulfonamide   Fill the flask with methylnaphthalenesulfonyl chloride (4.0 kg) and isopropa Noll (12.0 L) was charged. Diethylamine (3.73 L) in 10 minutes Was added to the slurry.   An exotherm to about 65 ° C. occurred and the starting material dissolved. The progress of the reaction is monitored by HPLC Monitored.   The solution was cooled to 20 ° C. and water (4 L) was added. Mix the raw sulfonamide The product (2 gm) was added and aged at 20 ° C. for 20 minutes. 1 ml of remaining water (32L) Added over time. The obtained slurry was aged at 20 ° C. for 20 minutes.   Filter the slurry over a 23 "polypropylene filter cloth And washed with water (12 L). The cake was dried overnight under a stream of nitrogen.                                 Example 3 Nitration   In a 2 L flask equipped with a nitrogen inlet, stirrer, addition funnel and temperature probe, N, N-diethyl-1-methyl-4-naphthalenesulfonamide (30 g) and And trifluoroacetic acid (TFA) (150 mL). The resulting solution is Cooled to ° C. Concentrated sulfuric acid (30 mL) was added over 2 minutes. Cool solution to -3 ° C Rejected.   The reaction temperature was raised to -3 ° C to + 5 ° C while rapidly stirring fuming nitric acid (6.2 mL). It was added to the solution over about 30 minutes while maintaining.   The progress of the reaction was monitored by HPLC. The reaction was carried out with a residual amount of HP starting material. LC analysis <1% (by area for product at 200 nm) Is considered complete when You.   While maintaining the reaction stop temperature below 25 ° C. using an ice water bath, add water (375 m L) was added over 60 minutes. The obtained slurry was aged at 20 ° C. for 30 minutes. , Filtered and the cake was washed with water (100 mL).   The cake was dried in a stream of nitrogen until the residual water content was less than 35% by weight.   The partially dried solid is taken up in ethyl acetate (75 mL) at 30 ° C. for 30 minutes A slurry was formed. Hexane (150 mL) was added over 20 minutes and the slurry was And aged at 20 ° C. for 30 minutes. Filter the slurry and wash with hexane (100 mL) And dried overnight in a stream of nitrogen.                                 Example 4 Reduction-cyclization   In a 72L round bottom flask, add NTwoInlets, thermocouples, and overhead stirrers Was installed. Add 1-methyl-4-diethanol with ethanol (20 L) to the flask. 2.20 kg of ethylsulfonamido-5-nitronaphthalene was charged.   10% by weight of Pd / C (50% by weight in water, 0.17 kg) was slurried in water And rinsed off with water (80 mL) and ethanol (6 L). Get Potassium formate (1.74 kg) was added to the slurry at once. The slurry , Warmed to 60 ° C for 1 hour and then refluxed for 1 hour.   The reaction was determined by HPLC analysis with a residual SM of 0.2% relative to the starting material. When it is less than%, it is considered completed.   Upon completion of the reaction, the mixture was cooled to 20 ° C. and concentrated hydrochloric acid (2.73 L) was added for about 20 minutes. It was added.   The resulting slurry is solka-flocTMFilter through a pad of The ki was washed with 10% hydrochloric acid in ethanol (13 L total). Clean the combined filtrates And heated at reflux temperature (81 ° C.) for 3-4 hours. Cyclization was achieved.   The solution was cooled to 40 ° C. to a concentrated slurry. slurry Was cooled to 20 ° C. and water (7.5 L) was added over 30 minutes. 5 slurry C. and aged for 15 minutes.   The slurry was filtered and washed with water (5L). Dry crystalline solids overnight under nitrogen flow did.                                 Example 5 Dilithiation-carboxylation   2.0 L flask with nitrogen inlet, stirrer, temperature probe, and addition funnel Sco was charged with THF (5L). Add diisopropylamine (1.34 L) Added. The solution was cooled to −15 ° C., and n- Butyl lithium (6.0 L) was added dropwise to lithium diisopropylamide (LDA). ) Got.   In another 50L flask equipped with a stirrer and nitrogen inlet, Charge THF (10 L) and 1-Me NH naphthosultam (1.0 kg). It is. The solution was degassed by vacuum / replacement with nitrogen, cooled to −15 ° C., The LDA solution was added dropwise while maintaining the temperature at 5 ° C. to −5 ° C. to form a dianion solution.   The dianine solution was aged at −15 ° C. for 30 minutes.   In another 100 L flask equipped with a stirrer, nitrogen inlet and temperature probe, THF (10 L) was charged and degassed by reduced pressure / substitution with nitrogen. Bring the solution to -20 ° C Cool, absolutely dry grade COTwoWas blown into THF until saturated. Next, The carbonated solution while ensuring that the resulting slurry is well mixed. Was slowly added. After warming to 10 ° C., 10 L of 2N HCl was added to the solution. And aged for 30 minutes.   The solution was concentrated under atmospheric pressure to about 10 L to remove THF and initiate crystallization. Was. The resulting slurry was aged at 15 ° C. for 30 minutes, filtered and the cake was washed with water (10 L) and dried in a stream of nitrogen.Example 6 Borane reduction   In a 50L round bottom flask, add NTwoInlets, thermocouples, addition funnels and overheads A thaler was installed. In a flask, dry NH-sultamcarboxylic acid (1. 14 kg) and THF (18 L). The slurry was cooled to 15 ° C . NaBH is added to this slurry.Four(327 g) was added followed by BFThreeEtherate (1.42 L) was added slowly.   The slurry was aged at 15-20 ° C and the progress of the reaction was monitored by HPLC. Was.   Cool the slurry to 10 ° C and slowly add methanol (1.2 L) Excess borane was quenched. Slowly add 2N HCl (11 L) for 30 minutes Matured. Termination reaction mixture Was distilled at atmospheric pressure to remove volatiles. The resulting solution is cooled to 55 ° C. The crystallization was started by adding the material and cooled to 15 ° C. over 1 hour. After aging for 30 minutes The slurry was filtered, washed with 10 L of water and dried under a stream of nitrogen.                                 Example 7 Dilithiation-hydroxymethylation   In a 10 mL flask equipped with a nitrogen inlet, stirrer, and temperature probe, add T HF (2 mL) was charged.   Diisopropylamine (0.14 mL) was added. Cool the solution to -15 ° C N-Butyllithium (0.66 mL) while maintaining the reaction temperature at -15 ° C to 0 ° C Was added dropwise to obtain lithium diisopropylamide (LDA).   In a separate 20 mL flask equipped with a stirrer and nitrogen inlet, THF (2 mL) ) And 1-MeNHNaphthosultam (0.07 g). Reduce the solution Degas by pressure / nitrogen displacement, cool to -15 ° C and bring solution temperature to -15 ° C to -5 ° C. The LDA solution was added dropwise while maintaining to produce a dianion solution.   The dianine solution was aged at −15 ° C. for 30 minutes.   Another 20 with stirrer, nitrogen inlet and temperature probe In a mL flask, THF (2 mL) and paraformaldehyde (0.12 g) And deaerated by vacuum / replacement with nitrogen. The solution was cooled to -20 <0> C. next, Add the dianine solution to this paraformaldehyde solution while ensuring thorough mixing. It was added very well. After warming to 10 ° C., 10 mL of 2N HCl was added to the solution, Aged for 30 minutes.   The solution was concentrated under atmospheric pressure to about 10 mL to remove THF and initiate crystallization. I let you. The resulting slurry was aged at 15 ° C for 30 minutes, filtered and the cake was washed with water (1 0 mL) and dried in a stream of nitrogen.

【手続補正書】特許法第184条の8第1項 【提出日】平成11年5月20日(1999.5.20) 【補正内容】 請求の範囲 1. 式I: (式中、Rはハロを表すまたは、Pが保護基であるOPで置換されたまたは置換 されていないC1 〜6アルキルを表す。) で示される化合物を合成する方法であって、 (a)式II: (式中、Rは先のように定義される。) で示される化合物をクロロスルホン酸と反応させて式III: で示される化合物を製造すること、 (b)化合物IIIをNHRab(式中、RaおよびRbはHまたはC1 〜6アル キルを表す。)と反応させて式IV: で示される化合物を製造すること、 (c)化合物IVをHNO3と反応させて式V で示される化合物を製造すること、 (d)化合物Vを還元剤と反応させて式VI: で示される化合物を製造すること、および (e)化合物VIを酸と反応させて式Iで示される化合物を製造すること を含んでなる方法。 2. Rがメチルを表す請求項1に記載の方法。 3. Rがハロを表す請求項1に記載の方法。 4. RaとRbの一方がHまたはC1 〜6アルキルを表し、他方がC1 〜6アルキル である請求項1に記載の方法。 5. RaおよびRbがC1 〜6アルキルを表す請求項4に記載の方法。 6. RaおよびRbがエチルを表す請求項5に記載の方法。 7. 工程(a)を、ニトロメタン、ニトロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジク ロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、およびトリフルオロ 酢酸からなる群より選択される溶媒中で行う請求項1に記載の方法。 8. 溶媒がトリフルオロ酢酸である請求項7に記載の方法。 9. 工程(a)を、約−40℃から約100℃の温度で行う請求項7に記載の 方法。 10. 工程(b)を、実質的に非反応性の有機溶媒中で行う 請求項1に記載の方法。 11. 溶媒が、イソプロパノール、三級ブタノール、トルエン、キシレン、ヘ キサン、エーテル、エステル、テトラヒドロフラン、および前述のような多くの 塩素化溶媒から選択される請求項10に記載の方法。 12. 工程(b)の反応温度が約−50℃から還流温度である請求項11に記 載の方法。 13. 工程(c)を、トリフルオロ酢酸、硫酸、ニトロベンゼンおよび塩素化 有機溶媒から選択される溶媒中で行う請求項1に記載の方法。 14. 工程(c)を、約−30℃から約60℃で行う請求項13に記載の方法 。 15. 工程(c)を、約0℃から約20℃で行う請求項14に記載の方法。 16. 工程(d)を、約−40℃から還流温度で行う請求項1に記載の方法。 17. 工程(d)を、水素ガス、蟻酸または蟻酸誘導体[蟻酸アンモニウム、 金属(ナトリウム、カリウム、リチウムおよびカルシウムから選択される)の蟻 酸金属、蟻酸トリ−C1 〜6ア ルキルアンモニウムから選択される]、ホウ水素化ナトリウム、シクロヘキセン および塩化錫からなる群より選択される還元剤を用いて行う請求項16に記載の 方法。 18. 工程(e)を、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸およびメタンスルホン酸 からなる群より選択される酸を用いて行う請求項1に記載の方法。 19. 酸が塩酸である請求項19に記載の方法。 20. 式X: で示される化合物を製造する方法であって、 式XI: で示される化合物をリチウム化剤と反応させて式XII: で示される化合物を製造すること、 リチウム化化合物をCO2と反応させて式XIV:で示される化合物を製造すること、および この化合物を還元剤と反応させて式Xで示される化合物を製造すること を含んでなる方法。 21. 式X: で示される化合物を製造する方法であって、 式XI: で示される化合物をリチウム化剤と反応させて式XII:で示される化合物を製造すること、および リチウム化化合物をHCHOと反応させて式X: で示される化合物を製造すること を含んでなる方法。 22. 式XII: で示される化合物。 23. 式XIV:で示される化合物。[Procedure for Amendment] Article 184-8, Paragraph 1 of the Patent Act [Date of Submission] May 20, 1999 (May 20, 1999) [Details of Amendment] Claims 1. Formula I: (Wherein, R halo are presented or,. Representing a C 1 to 6 alkyl P is not been or substituted substituted with OP is a protecting group) A method of synthesizing a compound represented by, (a ) Formula II: (Wherein R is defined as above) by reacting a compound of formula III with chlorosulfonic acid In that to produce a compound represented, (b) (. Wherein, R a and R b representing H or C 1 to 6 alkyl) Compound III NHR a R b is reacted with the formula IV: (C) reacting compound IV with HNO 3 to form a compound of formula V (D) reacting compound V with a reducing agent to form a compound of formula VI: And (e) reacting compound VI with an acid to produce a compound of formula I. 2. 2. The method according to claim 1, wherein R represents methyl. 3. 2. The method according to claim 1, wherein R represents halo. 4. One of R a and R b represents H or C 1 to 6 alkyl, The method of claim 1 the other is C 1 to 6 alkyl. 5. The method of claim 4, R a and R b represents C 1 to 6 alkyl. 6. 6. The method according to claim 5, wherein Ra and Rb represent ethyl. 7. The method of claim 1, wherein step (a) is performed in a solvent selected from the group consisting of nitromethane, nitrobenzene, dichlorobenzene, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, and trifluoroacetic acid. 8. The method according to claim 7, wherein the solvent is trifluoroacetic acid. 9. The method of claim 7, wherein step (a) is performed at a temperature from about -40C to about 100C. 10. The method of claim 1, wherein step (b) is performed in a substantially non-reactive organic solvent. 11. The method according to claim 10, wherein the solvent is selected from isopropanol, tertiary butanol, toluene, xylene, hexane, ether, ester, tetrahydrofuran, and many chlorinated solvents as described above. 12. The method according to claim 11, wherein the reaction temperature of step (b) is from about -50C to reflux temperature. 13. The method according to claim 1, wherein step (c) is performed in a solvent selected from trifluoroacetic acid, sulfuric acid, nitrobenzene and chlorinated organic solvents. 14. 14. The method of claim 13, wherein step (c) is performed at about -30C to about 60C. 15. 15. The method of claim 14, wherein step (c) is performed at about 0C to about 20C. 16. 2. The method of claim 1, wherein step (d) is performed at a temperature from about -40 <0> C to reflux. 17. Step a (d), hydrogen gas, formic acid or formic acid derivative [ammonium formate, metal formate metal (sodium, potassium, is selected from lithium and calcium), it is selected from formic acid tri -C 1 to 6 alkylammonium, 17. The method according to claim 16, which is performed using a reducing agent selected from the group consisting of sodium borohydride, cyclohexene, and tin chloride. 18. The method according to claim 1, wherein step (e) is performed using an acid selected from the group consisting of hydrochloric acid, sulfuric acid, trifluoroacetic acid and methanesulfonic acid. 19. The method according to claim 19, wherein the acid is hydrochloric acid. 20. Formula X: Or a compound of the formula XI: Is reacted with a lithiating agent to give a compound of formula XII: By reacting the lithiated compound with CO 2 to form a compound of formula XIV: And reacting the compound with a reducing agent to produce a compound of formula X. 21. Formula X: Or a compound of the formula XI: Is reacted with a lithiating agent to give a compound of formula XII: And reacting the lithiated compound with HCHO to form a compound of formula X: Producing a compound represented by the formula: 22. Formula XII: A compound represented by the formula: 23. Formula XIV: A compound represented by the formula:

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR, NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,KE,L S,MW,SD,SZ,UG,ZW),EA(AM,AZ ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM),AL ,AM,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY, CA,CN,CU,CZ,EE,GE,GW,HU,I D,IL,IS,JP,KG,KR,KZ,LC,LK ,LR,LT,LV,MD,MG,MK,MN,MX, NO,NZ,PL,RO,RU,SG,SI,SK,S L,TJ,TM,TR,TT,UA,US,UZ,VN ,YU (72)発明者 ミラー,ロス・エイ アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカー ン・アベニユー・126 (72)発明者 リーバーマン,デイビツド・アール アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカー ン・アベニユー・126 【要約の続き】 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (81) Designated country EP (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE ), OA (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, ML, MR, NE, SN, TD, TG), AP (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SZ, UG, ZW), EA (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM), AL, AM, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CN, CU, CZ, EE, GE, GW, HU, ID, IL, IS, JP, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LT, LV, MD, MG, MK, MN, MX , NO, NZ, PL, RO, RU, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, US, UZ, VN, YU (72) Inventor Miller, Ross A United States of America, New Jersey 07065, Lowway, East Lincoln Avenue 126 (72) Inventor Lieberman, David Earl United States, New Jersey 07065, Lowway, East Lincoln Avenue 126 [continued abstract]

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1. 式I: (式中、Rはハロを表すまたは、Pが保護基であるOPで置換されたまたは置換 されていないC1 〜6アルキルを表す。) で示される化合物を合成する方法であって、 (a)式II: (式中、Rは先のように定義される。) で示される化合物をクロロスルホン酸と反応させて式III: で示される化合物を製造すること、 (b)化合物IIIをNHRab(式中、RaおよびRbはHまたはC1 〜6アル キルを表す。)と反応させて式IV:で示される化合物を製造すること、 (c)化合物IVをHNO3と反応させて式V で示される化合物を製造すること、 (d)化合物Vを還元剤と反応させて式VI: で示される化合物を製造すること、および (e)化合物VIを酸と反応させて式Iで示される化合物を製造すること を含んでなる方法。 2. Rがメチルを表す請求項1に記載の方法。 3. Rがハロを表す請求項1に記載の方法。 4. RaとRbの一方がHまたはC1 〜6アルキルを表し、他方がC1 〜6アルキル である請求項1に記載の方法。 5. RaおよびRbがC1 〜6アルキルを表す請求項4に記載の方法。 6. RaおよびRbがエチルを表す請求項5に記載の方法。 7. 工程(a)を、ニトロメタン、ニトロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジク ロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、およびトリフルオロ 酢酸からなる群より選択される溶媒中で行う請求項1に記載の方法。 8. 溶媒がトリフルオロ酢酸である請求項7に記載の方法。 9. 工程(a)を、約−40℃から約100℃の温度で行う請求項7に記載の 方法。 10. 工程(b)を、実質的に非反応性の有機溶媒中で行う 請求項1に記載の方法。 11. 溶媒が、イソプロパノール、三級ブタノール、トルエン、キシレン、ヘ キサン、エーテル、エステル、テトラヒドロフラン、および前述のような多くの 塩素化溶媒から選択される請求項10に記載の方法。 12. 工程(b)の反応温度が約−50℃から還流温度である請求項11に記 載の方法。 13. 工程(c)を、トリフルオロ酢酸、硫酸、ニトロベンゼンおよび塩素化 有機溶媒から選択される溶媒中で行う請求項1に記載の方法。 14. 工程(c)を、約−30℃から約60℃で行う請求項13に記載の方法 。 15. 工程(c)を、約0℃から約20℃で行う請求項14に記載の方法。 16. 工程(d)を、約−40℃から還流温度で行う請求項1に記載の方法。 17. 工程(d)を、水素ガス、蟻酸または蟻酸誘導体[蟻酸アンモニウム、 金属(ナトリウム、カリウム、リチウムおよびカルシウムから選択される)の蟻 酸金属、蟻酸トリ−C1 〜6ア ルキルアンモニウムから選択される]、ホウ水素化ナトリウム、シクロヘキセン および塩化錫からなる群より選択される還元剤を用いて行う請求項16に記載の 方法。 18. 工程(e)を、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸およびメタンスルホン酸 からなる群より選択される酸を用いて行う請求項1に記載の方法。 19. 酸が塩酸である請求項19に記載の方法。 20. 式X: で示される化合物を製造する方法であって、 式XI: で示される化合物をリチウム化剤と反応させて式XII: で示される化合物を製造すること、 リチウム化化合物をCO2と反応させて式XIV:で示される化合物を製造すること、および この化合物を還元剤と反応させて式Xで示される化合物を製造すること を含んでなる方法。 21. 式X: で示される化合物を製造する方法であって、 式XI: で示される化合物をリチウム化剤と反応させて式XII:で示される化合物を製造すること、および リチウム化化合物をHCHOと反応させて式X: で示される化合物を製造すること を含んでなる方法。 22. 式I: (式中、Rはハロを表すまたは、Pが保護基であるOPで置換されたまたは置換 されていないC1 〜6アルキルを表す。) で示される化合物。 23. 式V:(式中、Rはハロを表すまたは、Pが保護基であるOPで置換されたまたは置換 されていないC1 〜6アルキルを表し;RaおよびRbはHまたはC1 〜6アルキルを 表す。) で示される化合物。 24. 式XI: で示される化合物。 25. 式XII: で示される化合物。 26. 式XまたはXIV:で示される化合物。[Claims] 1. Formula I: (Wherein, R halo are presented or,. Representing a C 1 to 6 alkyl P is not been or substituted substituted with OP is a protecting group) A method of synthesizing a compound represented by, (a ) Formula II: (Wherein R is defined as above) by reacting a compound of formula III with chlorosulfonic acid In that to produce a compound represented, (b) (. Wherein, R a and R b representing H or C 1 to 6 alkyl) Compound III NHR a R b is reacted with the formula IV: (C) reacting compound IV with HNO 3 to form a compound of formula V (D) reacting compound V with a reducing agent to form a compound of formula VI: And (e) reacting compound VI with an acid to produce a compound of formula I. 2. 2. The method according to claim 1, wherein R represents methyl. 3. 2. The method according to claim 1, wherein R represents halo. 4. One of R a and R b represents H or C 1 to 6 alkyl, The method of claim 1 the other is C 1 to 6 alkyl. 5. The method of claim 4, R a and R b represents C 1 to 6 alkyl. 6. 6. The method according to claim 5, wherein Ra and Rb represent ethyl. 7. The method of claim 1, wherein step (a) is performed in a solvent selected from the group consisting of nitromethane, nitrobenzene, dichlorobenzene, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, and trifluoroacetic acid. 8. The method according to claim 7, wherein the solvent is trifluoroacetic acid. 9. The method of claim 7, wherein step (a) is performed at a temperature from about -40C to about 100C. 10. The method of claim 1, wherein step (b) is performed in a substantially non-reactive organic solvent. 11. The method according to claim 10, wherein the solvent is selected from isopropanol, tertiary butanol, toluene, xylene, hexane, ether, ester, tetrahydrofuran, and many chlorinated solvents as described above. 12. The method according to claim 11, wherein the reaction temperature of step (b) is from about -50C to reflux temperature. 13. The method according to claim 1, wherein step (c) is performed in a solvent selected from trifluoroacetic acid, sulfuric acid, nitrobenzene and chlorinated organic solvents. 14. 14. The method of claim 13, wherein step (c) is performed at about -30C to about 60C. 15. 15. The method of claim 14, wherein step (c) is performed at about 0C to about 20C. 16. 2. The method of claim 1, wherein step (d) is performed at a temperature from about -40 <0> C to reflux. 17. Step a (d), hydrogen gas, formic acid or formic acid derivative [ammonium formate, metal formate metal (sodium, potassium, is selected from lithium and calcium), it is selected from formic acid tri -C 1 to 6 alkylammonium, 17. The method according to claim 16, which is performed using a reducing agent selected from the group consisting of sodium borohydride, cyclohexene, and tin chloride. 18. The method according to claim 1, wherein step (e) is performed using an acid selected from the group consisting of hydrochloric acid, sulfuric acid, trifluoroacetic acid and methanesulfonic acid. 19. The method according to claim 19, wherein the acid is hydrochloric acid. 20. Formula X: Or a compound of the formula XI: Is reacted with a lithiating agent to give a compound of formula XII: By reacting the lithiated compound with CO 2 to form a compound of formula XIV: And reacting the compound with a reducing agent to produce a compound of formula X. 21. Formula X: Or a compound of the formula XI: Is reacted with a lithiating agent to give a compound of formula XII: And reacting the lithiated compound with HCHO to form a compound of formula X: Producing a compound represented by the formula: 22. Formula I: (Wherein, R or represents halo, represents. A C 1 to 6 alkyl P is not the or substituted substituted with OP is a protecting group), a compound represented by. 23. Formula V: (Wherein, R or represents halo, represents C 1 to 6 alkyl P is not been or substituted substituted with OP is a protective group; R a and R b represents H or C 1 to 6 alkyl ). 24. Formula XI: A compound represented by the formula: 25. Formula XII: A compound represented by the formula: 26. Formula X or XIV: A compound represented by the formula:
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