JP2001525332A - 6−o−アルキルエリスロマイシンcの化学合成 - Google Patents
6−o−アルキルエリスロマイシンcの化学合成Info
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Abstract
(57)【要約】
エリスロマイシンCの6−O−アルキル誘導体の製造方法が提供される。該方法には、アセチル保護基およびケタール保護基によって2’,4”−および9−オキシムの水酸基を保護する段階、6−水酸基をアルキル化する段階、保護基を脱離させる段階、および脱オキシム化を行う段階がある。該方法で使用される中間体も提供される。
Description
【0001】 (技術分野) 本発明は、エリスロマイシン誘導体に関する。詳細には本発明は、エリスロマ
イシンCの6−O−アルキル誘導体の化学合成方法に関するものである。
イシンCの6−O−アルキル誘導体の化学合成方法に関するものである。
【0002】 (背景技術) エリスロマイシンCの6−O−アルキル誘導体は、抗菌剤としての用途を有す
る。例えば、以下に示した6−O−メチルエリスロマイシンC(クラリスロマイ
シンC(clarithromycin C))は、強力なマクロリド系抗生物質である。
る。例えば、以下に示した6−O−メチルエリスロマイシンC(クラリスロマイ
シンC(clarithromycin C))は、強力なマクロリド系抗生物質である。
【0003】
【化2】
【0004】 6−O−メチルエリスロマイシンCは、Mucor circinelloidesによる6−O−
メチルエリスロマイシンAの微生物変換の発酵副生成物である(McAlpine et al
., 27th International Conference of Antimicrobial Agents and Chemotherap
y, New York, October, 1987)。しかし、6−O−メチルエリスロマイシンCの
化学合成方法は報告されていない。従って当業界では、エリスロマイシンCの6
−O−アルキル誘導体、特に6−O−メチルエリスロマイシンCの迅速かつ効率
的な化学合成方法の提供が望まれている。
メチルエリスロマイシンAの微生物変換の発酵副生成物である(McAlpine et al
., 27th International Conference of Antimicrobial Agents and Chemotherap
y, New York, October, 1987)。しかし、6−O−メチルエリスロマイシンCの
化学合成方法は報告されていない。従って当業界では、エリスロマイシンCの6
−O−アルキル誘導体、特に6−O−メチルエリスロマイシンCの迅速かつ効率
的な化学合成方法の提供が望まれている。
【0005】 (発明の開示) 本発明は、6−O−アルキルエリスロマイシンC誘導体、特に6−O−メチル
エリスロマイシンCの効率的かつ実用的な合成方法を提供するものである。該合
成方法では最初に、エリスロマイシンCの9−オキシムエリスロマイシンCへの
変換を行う。9−オキシムエリスロマイシンCのオキシム水酸基(N−OH)を
保護する。9−オキシム保護誘導体について、2’および4”−水酸基でのO−
保護を行い、6−水酸基をアルキル化する。9−オキシム水酸基の脱保護、2’
および4”−水酸基の脱保護、ならびに9−オキシムの脱オキシム化によって、
6−O−アルキルエリスロマイシンC誘導体が得られる。
エリスロマイシンCの効率的かつ実用的な合成方法を提供するものである。該合
成方法では最初に、エリスロマイシンCの9−オキシムエリスロマイシンCへの
変換を行う。9−オキシムエリスロマイシンCのオキシム水酸基(N−OH)を
保護する。9−オキシム保護誘導体について、2’および4”−水酸基でのO−
保護を行い、6−水酸基をアルキル化する。9−オキシム水酸基の脱保護、2’
および4”−水酸基の脱保護、ならびに9−オキシムの脱オキシム化によって、
6−O−アルキルエリスロマイシンC誘導体が得られる。
【0006】 好ましい実施態様では、オキシム水酸基の保護は、9−オキシムエリスロマイ
シンCを低級アルキルシクロアルキルケタールなどのケタール化試薬と反応させ
ることで行う。2’および4”−水酸基の保護は、アシル保護基を用いて行う。
最も好ましいアシル保護基はアセチルである。
シンCを低級アルキルシクロアルキルケタールなどのケタール化試薬と反応させ
ることで行う。2’および4”−水酸基の保護は、アシル保護基を用いて行う。
最も好ましいアシル保護基はアセチルである。
【0007】 9−オキシム誘導体(オキシムは保護されているか未保護である)は、3’−
ジメチルアミノ位で未置換であっても良く、その位置で従来のN−保護基を有し
ていても良い。好ましいN−保護基の例としては、アルコキシカルボニル基、ア
ルコキシアルコキシカルボニル基、ハロアルコキシカルボニル基、不飽和アルコ
キシカルボニル基、置換ベンジルオキシカルボニル基、置換フェノキシカルボニ
ル基などがある。
ジメチルアミノ位で未置換であっても良く、その位置で従来のN−保護基を有し
ていても良い。好ましいN−保護基の例としては、アルコキシカルボニル基、ア
ルコキシアルコキシカルボニル基、ハロアルコキシカルボニル基、不飽和アルコ
キシカルボニル基、置換ベンジルオキシカルボニル基、置換フェノキシカルボニ
ル基などがある。
【0008】 本発明はさらに、6−O−アルキルエリスロマイシンCの製造において有用な
新規な中間体に関するものでもある。その中間体は、6位でアルキル化され、2
’、3’および/または4’位が未置換であるか置換されている9−オキシム誘
導体である。
新規な中間体に関するものでもある。その中間体は、6位でアルキル化され、2
’、3’および/または4’位が未置換であるか置換されている9−オキシム誘
導体である。
【0009】 (発明を実施するための最良の形態) I.定義 本明細書においては、本発明の特定の構成要素の呼称として、多くの定義され
た用語を使用する。そのように使用される場合、以下の意味があるものとする。
た用語を使用する。そのように使用される場合、以下の意味があるものとする。
【0010】 「アルキル」という用語は、炭素数1〜10の飽和の直鎖もしくは分岐炭化水
素基を指し、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、tert
−ブチルおよびネオペンチルなどがあるが、これらに限定されるものではない。
より好ましくはアルキルは、炭素数1〜6の低級アルキルに限定される。
素基を指し、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、tert
−ブチルおよびネオペンチルなどがあるが、これらに限定されるものではない。
より好ましくはアルキルは、炭素数1〜6の低級アルキルに限定される。
【0011】 「アルキル化剤」という用語は、求核性部位にアルキル基を結合させることが
できる試薬を指し、臭化メチル、臭化エチル、臭化n−プロピル、ヨウ化メチル
、ヨウ化エチルなどのハロゲン化アルキル類;硫酸ジメチル、硫酸ジエチルおよ
び硫酸ジ−n−プロピルなどの硫酸ジアルキル類;ならびにp−トルエンスルホ
ン酸メチル、メタンスルホン酸エチル、メタンスルホン酸n−プロピルなどのス
ルホン酸アルキルもしくはスルホン酸アリールなどがあるが、これらに限定され
るものではない。
できる試薬を指し、臭化メチル、臭化エチル、臭化n−プロピル、ヨウ化メチル
、ヨウ化エチルなどのハロゲン化アルキル類;硫酸ジメチル、硫酸ジエチルおよ
び硫酸ジ−n−プロピルなどの硫酸ジアルキル類;ならびにp−トルエンスルホ
ン酸メチル、メタンスルホン酸エチル、メタンスルホン酸n−プロピルなどのス
ルホン酸アルキルもしくはスルホン酸アリールなどがあるが、これらに限定され
るものではない。
【0012】 「アリール(低級アルキル)」という用語は、1〜3個の芳香族炭化水素基が
結合している低級アルキル基を指し、例えばベンジル、ジフェニルベンジル、ト
リチルおよびフェニルエチルなどがある。
結合している低級アルキル基を指し、例えばベンジル、ジフェニルベンジル、ト
リチルおよびフェニルエチルなどがある。
【0013】 「アリールオキシ」という用語は、分子の残りの部分にエーテル連結を介して
(すなわち、酸素原子を介して)結合している芳香族炭化水素基を指し、例えば
フェノキシがある。
(すなわち、酸素原子を介して)結合している芳香族炭化水素基を指し、例えば
フェノキシがある。
【0014】 「シクロアルキル」という用語は、3〜8個の環炭素原子を有し、低級アルキ
ル、ハロ(低級アルキル)、低級アルコキシおよびハロゲンから選択される1〜
3個の別の基で置換されていても良い飽和単環式炭化水素基を指す。シクロアル
キル基の例としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシル、シクロヘプチル、1−フルオロ−シクロプロピルおよび2−フルオロ
シクロプロピルなどがあるが、これらに限定されるものではない。
ル、ハロ(低級アルキル)、低級アルコキシおよびハロゲンから選択される1〜
3個の別の基で置換されていても良い飽和単環式炭化水素基を指す。シクロアル
キル基の例としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシル、シクロヘプチル、1−フルオロ−シクロプロピルおよび2−フルオロ
シクロプロピルなどがあるが、これらに限定されるものではない。
【0015】 「ケタール」という用語は、ケトンのカルボニル酸素が2個のアルコキシ基に
よって置き換わっている化合物を指す。
よって置き換わっている化合物を指す。
【0016】 「低級アルケニル」という用語は、炭素数2〜6で、1以上の炭素−炭素二重
結合を有する直鎖もしくは分岐の炭化水素基を指す。低級アルケニル基の例とし
ては、ビニル、アリル、2−もしくは3−ブテニル、2−,3−もしくは4−ペ
ンテニル、2−,3−,4−もしくは5−ヘキセニルおよびそれらの異性体など
がある。
結合を有する直鎖もしくは分岐の炭化水素基を指す。低級アルケニル基の例とし
ては、ビニル、アリル、2−もしくは3−ブテニル、2−,3−もしくは4−ペ
ンテニル、2−,3−,4−もしくは5−ヘキセニルおよびそれらの異性体など
がある。
【0017】 「低級アルコキシ」という用語は、分子の残りの部分にエーテル連結を介して
(すなわち、酸素原子を介して)結合している低級アルキル基を指す。低級アル
コキシ基の例としては、メトキシおよびエトキシなどがあるが、これらに限定さ
れるものではない。
(すなわち、酸素原子を介して)結合している低級アルキル基を指す。低級アル
コキシ基の例としては、メトキシおよびエトキシなどがあるが、これらに限定さ
れるものではない。
【0018】 「低級アルキル」という用語は、1〜6個の炭素原子を有するアルキル基を指
し、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、tert−
ブチルおよびネオペンチルなどがあるが、これらに限定されるものではない。
し、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、tert−
ブチルおよびネオペンチルなどがあるが、これらに限定されるものではない。
【0019】 「極性非プロトン性溶媒」という用語は、容易に脱離するプロトンを持たない
極性有機溶媒を指し、例えばN,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、N−メチル−2−ピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、アセトニ
トリルなどがあるが、これらに限定されるものではない。
極性有機溶媒を指し、例えばN,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、N−メチル−2−ピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、アセトニ
トリルなどがあるが、これらに限定されるものではない。
【0020】 「シリル」という用語は、式Si(R1)(R2)(R3)の基を指し、R1 、R2およびR3はそれぞれ独立に、水素、低級アルキル、アリール、フェニル
、フェニル置換低級アルキル、シクロアルキルまたはアルケニルである。
、フェニル置換低級アルキル、シクロアルキルまたはアルケニルである。
【0021】 「強アルカリ金属塩基」という用語は、弱い共役酸を有するアルカリ金属塩基
を指し、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化
カリウム、カリウムt−ブトキシドなどがあるが、これらに限定されるものでは
ない。
を指し、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化
カリウム、カリウムt−ブトキシドなどがあるが、これらに限定されるものでは
ない。
【0022】 「置換アリール(低級アルキル)」という用語は、それぞれ独立にハロゲン、
低級アルコキシ、低級アルキル、水酸基置換低級アルキルおよび(低級アルキル
)アミノから選択される1〜3個の水素以外の環置換基を有する上記で定義のア
リール(低級アルキル)残基を指す。置換アリール(低級アルキル)基の例とし
ては、2−フルオロフェニルメチル、4−フルオロフェニルエチルおよび2,4
−ジフルオロフェニルプロピルなどがある。
低級アルコキシ、低級アルキル、水酸基置換低級アルキルおよび(低級アルキル
)アミノから選択される1〜3個の水素以外の環置換基を有する上記で定義のア
リール(低級アルキル)残基を指す。置換アリール(低級アルキル)基の例とし
ては、2−フルオロフェニルメチル、4−フルオロフェニルエチルおよび2,4
−ジフルオロフェニルプロピルなどがある。
【0023】 「弱有機アミン塩基」という用語は、強共役酸を有する有機アミン塩基を指し
、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、2−
メトキシピリジン、1−メチルピロリジン、1−メチルピペリジンおよび1−エ
チルピペリジンなどがあるが、これらに限定されるものではない。
、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、2−
メトキシピリジン、1−メチルピロリジン、1−メチルピペリジンおよび1−エ
チルピペリジンなどがあるが、これらに限定されるものではない。
【0024】 II.6−O−アルキルエリスロマイシンCの製造方法 1態様において、本発明はエリスロマイシンCの6−O−アルキル誘導体の製
造方法を提供する。その方法には、エリスロマイシンCを9−オキシムエリスロ
マイシンCに変換する段階、オキシム水酸基(N−OH)を保護する段階、なら
びに9−オキシム保護エリスロマイシンCをアルキル化剤と反応させる段階があ
る。
造方法を提供する。その方法には、エリスロマイシンCを9−オキシムエリスロ
マイシンCに変換する段階、オキシム水酸基(N−OH)を保護する段階、なら
びに9−オキシム保護エリスロマイシンCをアルキル化剤と反応させる段階があ
る。
【0025】 本発明の方法では、代表的には発酵を用いて製造されるエリスロマイシンCを
原料として使用する。9−オキシムエリスロマイシンCへの変換は、当業界で公
知の標準的な手順を用いて行われる。すなわち、エリスロマイシンCを、メタノ
ール中でヒドロキシルアミン塩酸塩および塩基である遊離ヒドロキシルアミンと
反応させるか、あるいはヒドロキシルアミンおよび有機酸と反応させる(例えば
、米国特許5274085号参照;該特許の開示内容は、引用によって本明細書
に含まれるものとする)。好ましくはエリスロマイシンCのオキシム化は、ヒド
ロキシルアミンおよびギ酸を用いて行う。
原料として使用する。9−オキシムエリスロマイシンCへの変換は、当業界で公
知の標準的な手順を用いて行われる。すなわち、エリスロマイシンCを、メタノ
ール中でヒドロキシルアミン塩酸塩および塩基である遊離ヒドロキシルアミンと
反応させるか、あるいはヒドロキシルアミンおよび有機酸と反応させる(例えば
、米国特許5274085号参照;該特許の開示内容は、引用によって本明細書
に含まれるものとする)。好ましくはエリスロマイシンCのオキシム化は、ヒド
ロキシルアミンおよびギ酸を用いて行う。
【0026】 次に、9−オキシムエリスロマイシンCの9−オキシム水酸基(N−OH)の
保護を行う。9−オキシム水酸基の好適な保護基は、シリル基およびケタール基
である。9−オキシムエリスロマイシンCは、該化合物をシリル化試薬と反応さ
せることでシリル化することができる。好ましいシリル化試薬は下記の式を有す
る。
保護を行う。9−オキシム水酸基の好適な保護基は、シリル基およびケタール基
である。9−オキシムエリスロマイシンCは、該化合物をシリル化試薬と反応さ
せることでシリル化することができる。好ましいシリル化試薬は下記の式を有す
る。
【0027】
【化3】 式中、R’、R’’およびR’’’は独立に、水素、低級アルキル、アリール
、フェニル、フェニル置換低級アルキル、シクロアルキルまたはアルケニルであ
り;Xはハロゲンまたはスルホネート(例:メシレート、トシレート)である。
シリル化反応は、トリエチルアミン(Et3N)、ピリジン、イミダゾールまた
はジ−トリメチルシリルアミン[HN(TMS)2]などの好適な有機塩基の存
在下に行う。シリル化反応は、HCO2Hなどの好適な酸の存在下に行うことも
できる。
、フェニル、フェニル置換低級アルキル、シクロアルキルまたはアルケニルであ
り;Xはハロゲンまたはスルホネート(例:メシレート、トシレート)である。
シリル化反応は、トリエチルアミン(Et3N)、ピリジン、イミダゾールまた
はジ−トリメチルシリルアミン[HN(TMS)2]などの好適な有機塩基の存
在下に行う。シリル化反応は、HCO2Hなどの好適な酸の存在下に行うことも
できる。
【0028】 別のシリル化試薬の例として下記式のものがある。
【0029】
【化4】 式中、R’、R’’およびR’’’は上記で定義した通りである。
【0030】 オキシム水酸基の保護は、9−オキシムエリスロマイシンCを好適なケタール
化試薬と反応させることによっても行われる。そのようなケタール化試薬の好ま
しい例としては、低級アルキルシクロアルキルケタールがある。特に好ましいケ
タール化試薬としては、イソプロピルシクロヘキシルケタールである。
化試薬と反応させることによっても行われる。そのようなケタール化試薬の好ま
しい例としては、低級アルキルシクロアルキルケタールがある。特に好ましいケ
タール化試薬としては、イソプロピルシクロヘキシルケタールである。
【0031】 当業界で公知のように、エリスロマイシンCを6−OH位で効果的かつ選択的
にアルキル化するには、2’位および/または4”位の水酸基を保護してから、
メチル化を行わなければならない。さらに、3’−ジメチルアミノ基を保護する
ことが望ましい場合がある。そのような保護は、それらの基を従来のO−または
N−保護基で保護することで行う。9−オキシムと2’,4”−OH基の保護の
順序は変えることができる。
にアルキル化するには、2’位および/または4”位の水酸基を保護してから、
メチル化を行わなければならない。さらに、3’−ジメチルアミノ基を保護する
ことが望ましい場合がある。そのような保護は、それらの基を従来のO−または
N−保護基で保護することで行う。9−オキシムと2’,4”−OH基の保護の
順序は変えることができる。
【0032】 O−保護基の好ましい例としては、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソ
プチリルなどのアシル基または低級アルキルモノカルボニル基がある。エリスロ
マイシン誘導体製造におけるO−保護基の使用については報告がある(例えば、
米国特許4672109号および欧州特許出願0260938A2号参照;これ
らの開示内容は、引用によって本明細書に含まれるものとする)。
プチリルなどのアシル基または低級アルキルモノカルボニル基がある。エリスロ
マイシン誘導体製造におけるO−保護基の使用については報告がある(例えば、
米国特許4672109号および欧州特許出願0260938A2号参照;これ
らの開示内容は、引用によって本明細書に含まれるものとする)。
【0033】 上記のような従来のO−保護基を、当業界で公知の標準的方法を用いて導入す
る。例えば、エリスロマイシンC(9−オキシムまたは9−オキシムケタール)
を非プロトン性溶媒中でアセチル化剤と反応させることで2’位および4”位に
アセチル基を配置することができる。使用可能な好適なアセチル化剤には、式(
R4CO)2OまたはR4COClの無水物および酸ハライド化合物などがあり
、式中R4は、水素あるいは低級アルキル(例:メチル、エチル、n−プロピル
、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、t−ブチルなど)またはアリー
ル(例:フェニル、p−メトキシフェニル、p−クロロフェニル、m−クロロフ
ェニル、o−クロロフェニル、2,4−ジクロロフェニル、p−ブロモフェニル
、m−ニトロフェニル、p−ニトロフェニル、ベンズヒドリル、1−ナフチルな
ど)のような置換基である。非プロトン性溶媒の例としては、塩化メチレン、ク
ロロホルム、DMF、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、酢酸エチル
、N−メチル−2−ピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、1,2−ジメ
トキシエタン、アセトニトリルなどがある。
る。例えば、エリスロマイシンC(9−オキシムまたは9−オキシムケタール)
を非プロトン性溶媒中でアセチル化剤と反応させることで2’位および4”位に
アセチル基を配置することができる。使用可能な好適なアセチル化剤には、式(
R4CO)2OまたはR4COClの無水物および酸ハライド化合物などがあり
、式中R4は、水素あるいは低級アルキル(例:メチル、エチル、n−プロピル
、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、t−ブチルなど)またはアリー
ル(例:フェニル、p−メトキシフェニル、p−クロロフェニル、m−クロロフ
ェニル、o−クロロフェニル、2,4−ジクロロフェニル、p−ブロモフェニル
、m−ニトロフェニル、p−ニトロフェニル、ベンズヒドリル、1−ナフチルな
ど)のような置換基である。非プロトン性溶媒の例としては、塩化メチレン、ク
ロロホルム、DMF、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、酢酸エチル
、N−メチル−2−ピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、1,2−ジメ
トキシエタン、アセトニトリルなどがある。
【0034】 当業者であれば、従来のN−保護基を用いて、エリスロマイシン類の3’位の
ジメチルアミノ部分のメチル基を置換することが有利な場合のあることは明らか
であろう。好ましいN−保護基の例としては、アルコキシカルボニル基(例:メ
トキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、n
−プロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、イソブチルオキシカル
ボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、t−ブチルオキシカルボニル基
、2−エチルヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基
、メチルオキシカルボニル基など);アルコキシアルコキシカルボニル基(例:
メトキシメトキシカルボニル基、エトキシメトキシカルボニル基、2−メトキシ
エトキシカルボニル基、2−エトキシエチルカルボニル基、2−エトキシエトキ
シカルボニル基、2−ブトキシエトキシカルボニル基、2−メトキシエトキシメ
トキシカルボニル基など);ハロアルコキシカルボニル基(例:2−クロロエト
キシカルボニル基、2−クロロエトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロ
エトキシカルボニル基など);不飽和アルコキシカルボニル基(例:アリルオキ
シカルボニル基、プロパルギルオキシカルボニル基、2−ブテノキシカルボニル
基、3−メチル−2−ブテノキシカルボニル基など);置換ベンジルオキシカル
ボニル基(例:ベンジルオキシカルボニル基、p−メチルベンジルオキシカルボ
ニル基、p−メトキシベンジルオキシカルボニル基、p−ニトロベンジルオキシ
カルボニル基、2,4−ジニトロベンジルオキシカルボニル基、3,5−ジメチ
ルベンジルオキシカルボニル基、p−クロロベンジルオキシカルボニル基、p−
ブロモベンジルオキシカルボニル基など);置換フェノキシカルボニル基[例:
フェノキシカルボニル基、p−ニトロフェノキシカルボニル基、o−ニトロフェ
ノキシカルボニル基、2,4−ジニトロフェノキシカルボニル基、p−メチルフ
ェノキシカルボニル基、m−メチルフェノキシカルボニル基、o−ブロモフェノ
キシカルボニル基、3,5−ジメチルフェノキシカルボニル基、p−クロロ−フ
ェノキシカルボニル基、2−クロロ−4−ニトロフェノキシカルボニル基など(
米国特許4672109号)]がある。
ジメチルアミノ部分のメチル基を置換することが有利な場合のあることは明らか
であろう。好ましいN−保護基の例としては、アルコキシカルボニル基(例:メ
トキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、n
−プロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、イソブチルオキシカル
ボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、t−ブチルオキシカルボニル基
、2−エチルヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基
、メチルオキシカルボニル基など);アルコキシアルコキシカルボニル基(例:
メトキシメトキシカルボニル基、エトキシメトキシカルボニル基、2−メトキシ
エトキシカルボニル基、2−エトキシエチルカルボニル基、2−エトキシエトキ
シカルボニル基、2−ブトキシエトキシカルボニル基、2−メトキシエトキシメ
トキシカルボニル基など);ハロアルコキシカルボニル基(例:2−クロロエト
キシカルボニル基、2−クロロエトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロ
エトキシカルボニル基など);不飽和アルコキシカルボニル基(例:アリルオキ
シカルボニル基、プロパルギルオキシカルボニル基、2−ブテノキシカルボニル
基、3−メチル−2−ブテノキシカルボニル基など);置換ベンジルオキシカル
ボニル基(例:ベンジルオキシカルボニル基、p−メチルベンジルオキシカルボ
ニル基、p−メトキシベンジルオキシカルボニル基、p−ニトロベンジルオキシ
カルボニル基、2,4−ジニトロベンジルオキシカルボニル基、3,5−ジメチ
ルベンジルオキシカルボニル基、p−クロロベンジルオキシカルボニル基、p−
ブロモベンジルオキシカルボニル基など);置換フェノキシカルボニル基[例:
フェノキシカルボニル基、p−ニトロフェノキシカルボニル基、o−ニトロフェ
ノキシカルボニル基、2,4−ジニトロフェノキシカルボニル基、p−メチルフ
ェノキシカルボニル基、m−メチルフェノキシカルボニル基、o−ブロモフェノ
キシカルボニル基、3,5−ジメチルフェノキシカルボニル基、p−クロロ−フ
ェノキシカルボニル基、2−クロロ−4−ニトロフェノキシカルボニル基など(
米国特許4672109号)]がある。
【0035】 3’位のジメチルアミノ部分は、3’−ジメチルアミノ誘導体A−X(Aは2
−アルケニル基、ベンジル基または置換ベンジル基であり、Xはハロゲン原子で
ある)と反応させることで、4級塩として保護することもできる(例えば、米国
特許4670549号参照)。次に、9−オキシムシリル、2’−および4”−
置換エリスロマイシンC誘導体を、6位で選択的にアルキル化する。エリスロマ
イシンA誘導体の6位をアルキル化するための方法および試薬は、当業界で公知
である(例えば、米国特許4672109号および4670549号参照)。
−アルケニル基、ベンジル基または置換ベンジル基であり、Xはハロゲン原子で
ある)と反応させることで、4級塩として保護することもできる(例えば、米国
特許4670549号参照)。次に、9−オキシムシリル、2’−および4”−
置換エリスロマイシンC誘導体を、6位で選択的にアルキル化する。エリスロマ
イシンA誘導体の6位をアルキル化するための方法および試薬は、当業界で公知
である(例えば、米国特許4672109号および4670549号参照)。
【0036】 保護後、6−水酸基を選択的にアルキル化する。すなわち、塩基存在下に、水
酸基保護化合物を好適なアルキル化剤と反応させる。好ましいアルキル化剤の例
としては、臭化メチル、臭化エチル、臭化n−プロピル、ヨウ化メチル、ヨウ化
エチル、ヨウ化n−プロピルなどのハロゲン化アルキル類、硫酸ジメチル、硫酸
ジエチル、硫酸ジ−n−プロピル、p−トルエンスルホン酸メチル、メタンスル
ホン酸エチル、メタンスルホン酸n−プロピルがある。
酸基保護化合物を好適なアルキル化剤と反応させる。好ましいアルキル化剤の例
としては、臭化メチル、臭化エチル、臭化n−プロピル、ヨウ化メチル、ヨウ化
エチル、ヨウ化n−プロピルなどのハロゲン化アルキル類、硫酸ジメチル、硫酸
ジエチル、硫酸ジ−n−プロピル、p−トルエンスルホン酸メチル、メタンスル
ホン酸エチル、メタンスルホン酸n−プロピルがある。
【0037】 好ましい塩基の例としては、好ましくは水素化アルカリ金属、水酸化アルカリ
金属またはアルカリ金属アルコキシドから成る群から選択される強アルカリ金属
塩基、ならびに好ましくはトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピル
アミン、ピリジン、2−メトキシピリジン、1−メチルピロリジン、1−メチル
ピペリジンおよび1−エチルピペリジンからなる群から選択される弱有機アミン
塩基がある。
金属またはアルカリ金属アルコキシドから成る群から選択される強アルカリ金属
塩基、ならびに好ましくはトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピル
アミン、ピリジン、2−メトキシピリジン、1−メチルピロリジン、1−メチル
ピペリジンおよび1−エチルピペリジンからなる群から選択される弱有機アミン
塩基がある。
【0038】 アルキル化段階は、メチル−t−ブチルエーテルなどの好適な溶媒中で行う。
好ましい溶媒の例としては、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、N−メチル−2−ピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、テトラヒ
ドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、アセトニトリルもしくは酢酸エチルな
どの極性非プロトン性溶媒あるいはそのような極性非プロトン性溶媒の混合物が
ある。その溶媒は、アルキル化を行うだけの時間にわたって反応温度に維持し、
好ましくは−15℃から室温までの温度で1〜8時間経過させる。
好ましい溶媒の例としては、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、N−メチル−2−ピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、テトラヒ
ドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、アセトニトリルもしくは酢酸エチルな
どの極性非プロトン性溶媒あるいはそのような極性非プロトン性溶媒の混合物が
ある。その溶媒は、アルキル化を行うだけの時間にわたって反応温度に維持し、
好ましくは−15℃から室温までの温度で1〜8時間経過させる。
【0039】 6−O−アルキルエリスロマイシンCの製造は、2’位および4”位からO−
保護基を脱離させ、9−オキシムケタールからケタール基を脱離させ、9−オキ
シムの脱オキシム化を行うことで行う。2’位および4”位のO−保護基を脱離
させる手段は当業界では公知であり、保護基の性質によって決まる。
保護基を脱離させ、9−オキシムケタールからケタール基を脱離させ、9−オキ
シムの脱オキシム化を行うことで行う。2’位および4”位のO−保護基を脱離
させる手段は当業界では公知であり、保護基の性質によって決まる。
【0040】 例えば、2’位および/または4”位をアセチル化する場合、式R5OH(R 5 はアルキル(例:メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、s
ec−ブチル、t−ブチルなど)である)の化合物とアセチル化誘導体とを反応
させることで、アセチル基を脱離させることができる。該反応は、酸(例:ギ酸
、酢酸)もしくは水の非存在下または存在下で行うことができるか、あるいは塩
基(例:KCO3、NaCO3、KHCO3、NaHCO3)の非存在下または
存在下で行うことができる。
ec−ブチル、t−ブチルなど)である)の化合物とアセチル化誘導体とを反応
させることで、アセチル基を脱離させることができる。該反応は、酸(例:ギ酸
、酢酸)もしくは水の非存在下または存在下で行うことができるか、あるいは塩
基(例:KCO3、NaCO3、KHCO3、NaHCO3)の非存在下または
存在下で行うことができる。
【0041】 9−オキシムケタールからのケタール基の脱離は、酸性化を用いて行う。6−
O−アルキルエリスロマイシンC製造の最終段階は脱オキシム化である。脱オキ
シム化は、当業界で公知の標準的な手順に従って行う(例えば、米国特許467
2109号参照)。すなわち、9−オキシムエリスロマイシンCをアルコール(
例:エタノール)中で亜硫酸水素ナトリウムと反応させ、還流する。溶液を冷却
し、アルカリ性とし、重炭酸アルカリ金属の水溶液で沈殿させる。上記反応で生
成した沈殿を濾取し、洗浄し、アルコールで再結晶させる。
O−アルキルエリスロマイシンC製造の最終段階は脱オキシム化である。脱オキ
シム化は、当業界で公知の標準的な手順に従って行う(例えば、米国特許467
2109号参照)。すなわち、9−オキシムエリスロマイシンCをアルコール(
例:エタノール)中で亜硫酸水素ナトリウムと反応させ、還流する。溶液を冷却
し、アルカリ性とし、重炭酸アルカリ金属の水溶液で沈殿させる。上記反応で生
成した沈殿を濾取し、洗浄し、アルコールで再結晶させる。
【0042】 以下において、本発明の方法を用いた6−O−メチルエリスロマイシンC合成
の詳細を実施例で示す。本発明による合成法の1実施態様の図式的表示を以下の
図式1に示してある。
の詳細を実施例で示す。本発明による合成法の1実施態様の図式的表示を以下の
図式1に示してある。
【0043】
【化5】 図式1について説明すると、エリスロマイシンC(化合物1)を、ギ酸および
メタノール存在下にヒドロキシルアミンと反応させて、9−オキシムエリスロマ
イシンC(化合物2)を形成する。
メタノール存在下にヒドロキシルアミンと反応させて、9−オキシムエリスロマ
イシンC(化合物2)を形成する。
【0044】 次に、化合物2をケタール化試薬と反応させ、次にアセトニトリル中でピリジ
ン塩酸塩および無水酢酸と反応させて、2’,4”−ジアセチル−9−オキシム
ケタールエリスロマイシンC(化合物3)を形成する。
ン塩酸塩および無水酢酸と反応させて、2’,4”−ジアセチル−9−オキシム
ケタールエリスロマイシンC(化合物3)を形成する。
【0045】 次に、適切な溶媒[ジメチルスルホキシド(DMSO)およびテトラヒドロフ
ラン(THF)]中、化合物3をメチル化剤(臭化メチル)および水酸化カリウ
ムと反応させることで6−OH基のメチル化を行って、2’,4”−ジアセチル
−6−O−メチル−9−オキシムケタールエリスロマイシンC(化合物4)を形
成する。化合物4をギ酸と反応させることで、9位のケタールを脱離させる。得
られた9−オキシムをメタ重亜硫酸ナトリウムで脱オキシム化する。エチルアル
コール、水、メタノール(MeOH)および炭酸カリウム(K2CO3)との反
応によって、2’位および4”位のアセチル基を脱離させて、6−O−メチルエ
リスロマイシンC(化合物5)を得る。
ラン(THF)]中、化合物3をメチル化剤(臭化メチル)および水酸化カリウ
ムと反応させることで6−OH基のメチル化を行って、2’,4”−ジアセチル
−6−O−メチル−9−オキシムケタールエリスロマイシンC(化合物4)を形
成する。化合物4をギ酸と反応させることで、9位のケタールを脱離させる。得
られた9−オキシムをメタ重亜硫酸ナトリウムで脱オキシム化する。エチルアル
コール、水、メタノール(MeOH)および炭酸カリウム(K2CO3)との反
応によって、2’位および4”位のアセチル基を脱離させて、6−O−メチルエ
リスロマイシンC(化合物5)を得る。
【0046】 III.6−O−アルキル−9−オキシムエリスロマイシンC誘導体 本発明はさらに、エリスロマイシンの9−オキシム誘導体をも提供するもので
ある。該誘導体は、6−O−アルキルエリスロマイシンC合成の中間体である。
本発明の9−オキシム誘導体は6位でアルキル化されており、2’位、4”位ま
たは3’位は未置換であるか(すなわち、2’−OH、4”−OH、3’−ジメ
チル)上記のような従来の保護基によって置換されている。本発明の9−オキシ
ムエリスロマイシンC誘導体は、下記の構造Iに相当する。
ある。該誘導体は、6−O−アルキルエリスロマイシンC合成の中間体である。
本発明の9−オキシム誘導体は6位でアルキル化されており、2’位、4”位ま
たは3’位は未置換であるか(すなわち、2’−OH、4”−OH、3’−ジメ
チル)上記のような従来の保護基によって置換されている。本発明の9−オキシ
ムエリスロマイシンC誘導体は、下記の構造Iに相当する。
【0047】
【化6】 式中、Rは水素、ケタールまたはシリルであり;R6は水素またはアルキルで
あり;R7およびR8はそれぞれ独立に、水素または従来のO−保護基であり;
R9は−NR10CH3であり;R10はメチル(CH3)または従来のN−保
護基または−N+(CH3)2R11Xであり;R11は2−アルケニル、ベン
ジルまたは置換ベンジルであり;XはBr、ClまたはIなどのハロゲンである
。
あり;R7およびR8はそれぞれ独立に、水素または従来のO−保護基であり;
R9は−NR10CH3であり;R10はメチル(CH3)または従来のN−保
護基または−N+(CH3)2R11Xであり;R11は2−アルケニル、ベン
ジルまたは置換ベンジルであり;XはBr、ClまたはIなどのハロゲンである
。
【0048】 構造Iの化合物は、結合の空間的方向を示さずに図示してある。従って構造I
は全ての組み合わせの空間的方向を定義するものであり、全ての可能な立体配置
(例:エピマー類)を含むものである。好ましい実施態様では、構造Iの結合の
方向は、6−O−メチルエリスロマイシンCについて上記で示したものと同じで
ある。
は全ての組み合わせの空間的方向を定義するものであり、全ての可能な立体配置
(例:エピマー類)を含むものである。好ましい実施態様では、構造Iの結合の
方向は、6−O−メチルエリスロマイシンCについて上記で示したものと同じで
ある。
【0049】 1実施態様では、9−オキシムエリスロマイシンCは、2’位、3’位および
4”位で未置換(未保護)である。そのような誘導体のケタール化により、R7 およびR8がいずれも水素であり、R6がメチルである構造Iの9−オキシムケ
タール誘導体が形成される。
4”位で未置換(未保護)である。そのような誘導体のケタール化により、R7 およびR8がいずれも水素であり、R6がメチルである構造Iの9−オキシムケ
タール誘導体が形成される。
【0050】 別の実施態様では、当該合成方法で使用される9−オキシムエリスロマイシン
Cは、2’位および/または4”位に従来のO−保護基を有する。アルキル化か
ら水酸基を保護するための従来のO−保護基は当業界では公知であり、シリル基
、アシル基、低級アルケニルモノカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アル
キルカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアルキルカルボニル基およびアリ
ールカルボニル基などがある。
Cは、2’位および/または4”位に従来のO−保護基を有する。アルキル化か
ら水酸基を保護するための従来のO−保護基は当業界では公知であり、シリル基
、アシル基、低級アルケニルモノカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アル
キルカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアルキルカルボニル基およびアリ
ールカルボニル基などがある。
【0051】 以下の実施例は、本発明の好ましい実施態様を示すものであって、いかなる形
でも本明細書および特許請求の範囲を限定するものではない。
でも本明細書および特許請求の範囲を限定するものではない。
【0052】 実施例1:9−オキシムエリスロマイシンCの製造 エリスロマイシンC 15.38g(21.4mmol)をメタノール150
mLに溶かし、50重量%ヒドロキシルアミン46.6gおよびギ酸(88%)
14.5gを室温で加えた。温度は36℃まで上昇し、外部加熱を開始した。溶
液を16時間還流させ、次に冷却して室温とした。減圧蒸留で溶液の容量を半量
とし、酢酸エチル200mLを加えて生成物を抽出した。分液を行った後、下層
の水層を酢酸エチル200mLで再度抽出した。2つの酢酸エチル層を合わせ、
水50mLで洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで脱水し、固体を濾去して透
明溶液を得て、それをロータリーエバポレータで溶媒留去して、標題化合物15
.06gを得た。
mLに溶かし、50重量%ヒドロキシルアミン46.6gおよびギ酸(88%)
14.5gを室温で加えた。温度は36℃まで上昇し、外部加熱を開始した。溶
液を16時間還流させ、次に冷却して室温とした。減圧蒸留で溶液の容量を半量
とし、酢酸エチル200mLを加えて生成物を抽出した。分液を行った後、下層
の水層を酢酸エチル200mLで再度抽出した。2つの酢酸エチル層を合わせ、
水50mLで洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで脱水し、固体を濾去して透
明溶液を得て、それをロータリーエバポレータで溶媒留去して、標題化合物15
.06gを得た。
【0053】 実施例2:9−オキシムケタールエリスロマイシンCの製造 実施例1からの9−オキシムエリスロマイシンC(3.1g、4.2mmol
)をアセトニトリル12mLに溶かし、ジイソプロピルシクロヘキシルケタール
5.4gを加え、次にピリジン塩酸塩のアセトニトリル溶液(1.0M溶液)1
2mLを加えた。反応混合物にヘプタン100mLおよび2N NaOH 20m
Lを加えて反応停止した。分液を行い、ヘプタン層中の生成物を濾取して、標題
化合物1.9gを得た。
)をアセトニトリル12mLに溶かし、ジイソプロピルシクロヘキシルケタール
5.4gを加え、次にピリジン塩酸塩のアセトニトリル溶液(1.0M溶液)1
2mLを加えた。反応混合物にヘプタン100mLおよび2N NaOH 20m
Lを加えて反応停止した。分液を行い、ヘプタン層中の生成物を濾取して、標題
化合物1.9gを得た。
【0054】 実施例3:2’,4”−ジアセチル−9−オキシムエリスロマイシンCの製造 実施例2からの生成物をピリジン20mLに溶かし、それに無水酢酸2mLを
加えた。混合物を26時間撹拌し、エーテル100mLおよび氷50gで反応停
止した。次に、2N水酸化ナトリウム20mLおよび塩化ナトリウム10gを加
えた。分液を行い、上側の有機層を飽和塩溶液15mLで洗浄した。有機層を硫
酸マグネシウムで脱水し、固体を濾去した。溶媒を減圧下に蒸留し、残留油状物
をトルエン15mLで3回不純物除去して、標題化合物2.0gを得た。
加えた。混合物を26時間撹拌し、エーテル100mLおよび氷50gで反応停
止した。次に、2N水酸化ナトリウム20mLおよび塩化ナトリウム10gを加
えた。分液を行い、上側の有機層を飽和塩溶液15mLで洗浄した。有機層を硫
酸マグネシウムで脱水し、固体を濾去した。溶媒を減圧下に蒸留し、残留油状物
をトルエン15mLで3回不純物除去して、標題化合物2.0gを得た。
【0055】 実施例4:2’,4”−ジアセチル−6−O−メチル−9−オキシムケタール エリスロマイシンCの製造 実施例3からの生成物1.8gをテトラヒドロフラン14mLおよびジメチル
スルホキシド18mLに溶かし、冷却して0〜5℃とし、次に臭化メチル5mL
およびKOH粉末0.1gを加えた。混合物をその温度で10分間撹拌し、ヘプ
タン110mLおよび2N水酸化ナトリウム10mLで反応停止した。分液を行
い、上側のヘプタン層を硫酸マグネシウムで脱水し、溶媒を除去して、標題化合
物1.2gを得た。
スルホキシド18mLに溶かし、冷却して0〜5℃とし、次に臭化メチル5mL
およびKOH粉末0.1gを加えた。混合物をその温度で10分間撹拌し、ヘプ
タン110mLおよび2N水酸化ナトリウム10mLで反応停止した。分液を行
い、上側のヘプタン層を硫酸マグネシウムで脱水し、溶媒を除去して、標題化合
物1.2gを得た。
【0056】 実施例5:6−O−メチルエリスロマイシンCの製造 実施例4からの生成物の脱ケタール化および脱オキシム化を、ケタール官能基
の酸加水分解とそれに続く重亜硫酸ナトリウム処理によって行った。そこで、実
施例4からの生成物1.2gを、ギ酸(88%)0.31gを含む3Aアルコー
ル60mLおよび水60mLに溶かした。溶液を加熱して60〜65℃として2
時間経過させ、重亜硫酸ナトリウム3.0gを加え、混合物を2時間撹拌した。
溶液を冷却して室温とし、減圧蒸留によって容量を半量とした。塩化メチレン(
100mL)を用いて生成物を抽出した。溶媒除去後、2’−アセチルエリスロ
マイシンC(0.82g)を得た。その固体をメタノール20mLおよび5%炭
酸カリウム10mLに溶かし、室温で3時間撹拌した。減圧下にその溶液の溶媒
留去を行って油状物を得て、その油状物を塩化メチレン50mLに溶かし、硫酸
マグネシウムで脱水し、濾過した。溶媒除去後、6−O−メチルエリスロマイシ
ンC(0.66g)を得た。YMCカラムおよび50/50のアセトニトリル/
緩衝液を用いる分取HPLCによって分析サンプルを得た。得られた生成物の構
造確認は、NMRによって行った。緩衝液には、7.0の0.25%のKH2P
O4が含有されていた。NMR分析の結果を以下の表に示す。
の酸加水分解とそれに続く重亜硫酸ナトリウム処理によって行った。そこで、実
施例4からの生成物1.2gを、ギ酸(88%)0.31gを含む3Aアルコー
ル60mLおよび水60mLに溶かした。溶液を加熱して60〜65℃として2
時間経過させ、重亜硫酸ナトリウム3.0gを加え、混合物を2時間撹拌した。
溶液を冷却して室温とし、減圧蒸留によって容量を半量とした。塩化メチレン(
100mL)を用いて生成物を抽出した。溶媒除去後、2’−アセチルエリスロ
マイシンC(0.82g)を得た。その固体をメタノール20mLおよび5%炭
酸カリウム10mLに溶かし、室温で3時間撹拌した。減圧下にその溶液の溶媒
留去を行って油状物を得て、その油状物を塩化メチレン50mLに溶かし、硫酸
マグネシウムで脱水し、濾過した。溶媒除去後、6−O−メチルエリスロマイシ
ンC(0.66g)を得た。YMCカラムおよび50/50のアセトニトリル/
緩衝液を用いる分取HPLCによって分析サンプルを得た。得られた生成物の構
造確認は、NMRによって行った。緩衝液には、7.0の0.25%のKH2P
O4が含有されていた。NMR分析の結果を以下の表に示す。
【0057】
【表1】
【0058】 実施例6:6−O−メチルエリスロマイシンCの抗菌活性 実施例1〜5に従って製造した6−O−メチルエリスロマイシンCについて、
以下のようにして抗菌活性をin vitroでアッセイした。無菌脳-心臓浸出物(B HI)寒天培地(Difco 0418-01-5)10mLと混合した被験化合物の連続希釈 水溶液を含むシャーレ12個を準備した。スティアス(Steers)レプリケータブ
ロックを用いて、各プレートに32種類までの各種微生物の1:100希釈液(
またはMIcrococcusおよびStreptococcusなどの成長の遅い菌株については1:1
0希釈液)を接種した。接種したプレートを35〜37℃で20〜24時間イン
キュベートした。さらに、被験化合物を含まないBHI寒天培地を用いた対照プ
レートを準備し、各試験の開始時および終了後にインキュベートした。
以下のようにして抗菌活性をin vitroでアッセイした。無菌脳-心臓浸出物(B HI)寒天培地(Difco 0418-01-5)10mLと混合した被験化合物の連続希釈 水溶液を含むシャーレ12個を準備した。スティアス(Steers)レプリケータブ
ロックを用いて、各プレートに32種類までの各種微生物の1:100希釈液(
またはMIcrococcusおよびStreptococcusなどの成長の遅い菌株については1:1
0希釈液)を接種した。接種したプレートを35〜37℃で20〜24時間イン
キュベートした。さらに、被験化合物を含まないBHI寒天培地を用いた対照プ
レートを準備し、各試験の開始時および終了後にインキュベートした。
【0059】 試験微生物について既知の感受性パターンを有し、被験化合物と同じ抗生物質
分類に属する化合物を含む別のプレートも準備し、さらに別の対照としてインキ
ュベートして、試験間の比較も行った。
分類に属する化合物を含む別のプレートも準備し、さらに別の対照としてインキ
ュベートして、試験間の比較も行った。
【0060】 インキュベーション後、各シャーレの読み取りを行った。最低阻害濃度(MI
C)は、成長対照と比較して、接種物スポットでの成長がない、わずかな濁りを
生じる、あるいはまばらに孤立したコロニーを生じる薬剤の最低濃度と定義した
。以下の表2および3に示したこのアッセイの結果は、6−O−メチルエリスロ
マイシンCが有効な抗菌剤であるという結論を裏付けるものである。
C)は、成長対照と比較して、接種物スポットでの成長がない、わずかな濁りを
生じる、あるいはまばらに孤立したコロニーを生じる薬剤の最低濃度と定義した
。以下の表2および3に示したこのアッセイの結果は、6−O−メチルエリスロ
マイシンCが有効な抗菌剤であるという結論を裏付けるものである。
【0061】
【表2】
【0062】
【表3】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アイブズ,マイケル・デイー アメリカ合衆国、オハイオ・43512、デザ イアンス、ハーデイング・ストリート・ 361 (72)発明者 リウ,チー−ホア アメリカ合衆国、イリノイ・60048、グリ ーン・オークス、レイン・コート・31645 Fターム(参考) 4C057 BB02 DD01 KK12 4C086 AA03 AA04 EA13 ZB35
Claims (11)
- 【請求項1】 エリスロマイシンCの6−O−アルキル誘導体の製造方法に
おいて、 a)エリスロマイシンCをオキシム化して9−オキシムエリスロマイシンCを
形成する段階; b)9−オキシムエリスロマイシンCをケタール化して、9−オキシムケター
ルエリスロマイシンCを形成する段階; c)9−オキシムケタールエリスロマイシンCをアシル化して、2’,4”−
ジアシル−9−オキシムケタールエリスロマイシンCを形成する段階; d)2’,4”−ジアシル−9−オキシムケタールエリスロマイシンCの6−
水酸基をアルキル化して、2’,4”−ジアシル−6−アルキル−9−オキシム
ケタールエリスロマイシンC誘導体を形成する段階;および e)9−オキシム水酸基、2’位および4”位の水酸基の脱保護を行い、9−
オキシムエリスロマイシンCの脱オキシム化を行って、6−O−アルキルエリス
ロマイシンC誘導体を得る段階 を有してなることを特徴とする方法。 - 【請求項2】 エリスロマイシンCを、有機酸の存在下にヒドロキシルアミ
ンと反応させる請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 前記有機酸がギ酸である請求項2に記載の方法。
- 【請求項4】 9−オキシムエリスロマイシンCを低級アルキルシクロアル
キルケタールと反応させる請求項1に記載の方法。 - 【請求項5】 前記低級アルキルシクロアルキルケタールがイソプロピルシ
クロヘキシルケタールである請求項4に記載の方法。 - 【請求項6】 9−オキシムケタールエリスロマイシンC誘導体を、ピリジ
ン中で無水酢酸と反応させる請求項1に記載の方法。 - 【請求項7】 2’,4”−ジアシル−9−オキシムケタールエリスロマイ
シンCをアルキルハライドと反応させる請求項1に記載の方法。 - 【請求項8】 前記アルキルハライドが臭化メチルである請求項7に記載の
方法。 - 【請求項9】 下記式Iの構造を有する化合物。 【化1】 [式中、Rは水素、ケタールまたはシリルであり;R6は水素またはアルキル
であり;R7およびR8はそれぞれ独立に、水素または従来のO−保護基であり
;R9は−NR10CH3であり;R10はメチル(CH3)または従来のN−
保護基または−N+(CH3)2R11X−であり;R11は2−アルケニル、
ベンジルまたは置換ベンジルであり;Xはハロゲンである。] - 【請求項10】 Rがイソプロピルシクロヘキシルケタールである請求項9
に記載の化合物。 - 【請求項11】 R7およびR8がいずれもアセチルであり、R9がジメチ
ルである請求項9に記載の化合物。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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US98221497A | 1997-12-01 | 1997-12-01 | |
US08/982,214 | 1997-12-01 | ||
PCT/US1998/024601 WO1999028333A1 (en) | 1997-12-01 | 1998-11-17 | Chemical synthesis of 6-o-alkyl erythromycin c |
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Publication Number | Publication Date |
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---|---|
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JP (1) | JP2001525332A (ja) |
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KR100317907B1 (ko) * | 1998-11-24 | 2001-12-24 | 김 완 주 | 신규한 중간체, 이를 이용한 마크로라이드계 항생제의제조방법 |
ES2195727B1 (es) * | 2001-07-05 | 2005-03-01 | Ercros Industrial, S.A. | Un procedimiento para la obtencion de claritromicina. |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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