JP2001516888A - Scintillation detector, refractive coating for scintillator, and process for producing the coating - Google Patents
Scintillation detector, refractive coating for scintillator, and process for producing the coatingInfo
- Publication number
- JP2001516888A JP2001516888A JP2000512099A JP2000512099A JP2001516888A JP 2001516888 A JP2001516888 A JP 2001516888A JP 2000512099 A JP2000512099 A JP 2000512099A JP 2000512099 A JP2000512099 A JP 2000512099A JP 2001516888 A JP2001516888 A JP 2001516888A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- scintillator
- light
- refractive
- scintillation detector
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 118
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 114
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 23
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 41
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000011343 solid material Substances 0.000 claims abstract description 4
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 claims description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 5
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 claims description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 4
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 claims description 3
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 3
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- NCGICGYLBXGBGN-UHFFFAOYSA-N 3-morpholin-4-yl-1-oxa-3-azonia-2-azanidacyclopent-3-en-5-imine;hydrochloride Chemical compound Cl.[N-]1OC(=N)C=[N+]1N1CCOCC1 NCGICGYLBXGBGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000002182 crystalline inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N lead tin Chemical compound [Sn].[Pb] LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 238000002211 ultraviolet spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
- G01T1/16—Measuring radiation intensity
- G01T1/20—Measuring radiation intensity with scintillation detectors
- G01T1/2002—Optical details, e.g. reflecting or diffusing layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】 この発明は、− シンチレータ材料からなるブロック（１１０）と、− 該シンチレータ材料ブロック上に形成された低屈折率を有する固体材料からなる屈折コーティング（１５０）とを具備し、必要により、− 前記屈折コーティング（１５０）上に形成された光散乱または反射材料からなるカバーコーティング（１５２）とを具備するシンチレーション検出器である。この発明は、セグメントからなる検出器を構成するのに有用である。 (57) The present invention comprises:-a block (110) made of a scintillator material; and-a refractive coating (150) made of a solid material having a low refractive index formed on the scintillator material block; Optionally,-a scintillation detector comprising a cover coating (152) of light scattering or reflective material formed on said refractive coating (150). INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is useful for configuring a detector composed of segments.
Description
【０００１】 （発明の分野） この発明は、光を材料内に捕獲するために使用することができる、少なくとも
１つの光屈折コーティングを含む光コーティングに関するものである。 この発明は、さらに詳細には、シンチレータクリスタル内にシンチレーション
を捕獲するために用いることができる。FIELD OF THE INVENTION [0001] The present invention relates to optical coatings that include at least one photorefractive coating that can be used to trap light in a material. The invention can be used, more particularly, to capture scintillation in a scintillator crystal.
【０００２】 一般に、シンチレータは、シンチレータ材料と呼ばれる結晶性の無機材料から
なるブロックである。この材料は、そこを通過する電離放射線のエネルギの全部
または一部をシンチレーションに変換することができる。シンチレータは、シン
チレーションを関知する光検出器に接続された電離放射線検出装置の製造に使用
される。Generally, a scintillator is a block made of a crystalline inorganic material called a scintillator material. This material can convert all or part of the energy of the ionizing radiation passing therethrough into scintillation. A scintillator is used to manufacture an ionizing radiation detection device connected to a photodetector that is aware of scintillation.
【０００３】 一般に、シンチレーション検出装置では、光検出器は、シンチレータ材料から
なるブロックの一部の壁のみを覆っている。したがって、放出されたシンチレー
ションの一部は、検出されることなく、シンチレータの外部に放出され、または
、光検出器に到達する前にシンチレータ材料内で吸収される。シンチレーション
検出装置の性能は、光検出器により受光される光の量、したがって、放出された
光に対する検出された光の比として定義される光の収集効率に依存する。In general, in a scintillation detection device, a photodetector covers only a part of a wall of a block made of a scintillator material. Thus, a portion of the released scintillation is released without detection, outside the scintillator, or absorbed in the scintillator material before reaching the photodetector. The performance of a scintillation detector depends on the amount of light received by the photodetector, and thus on the light collection efficiency, defined as the ratio of detected light to emitted light.
【０００４】 収集効率は、本質的に、シンチレータの大きさ、および、シンチレーションに
対するシンチレータ材料の透過性に依存している。収集効率は、シンチレータ内
にシンチレーションを捕獲することによってのみ改善することができる。捕獲は
、上述したように、この発明において言及されるコーティングの主な用途の１つ
である。[0004] Collection efficiency depends essentially on the size of the scintillator and the permeability of the scintillator material to scintillation. Collection efficiency can only be improved by capturing the scintillation in the scintillator. Capture is one of the main uses of the coatings referred to in the present invention, as described above.
【０００５】 （従来技術） 以下に説明される図１〜図３は、シンチレーション検出器の収集効率を改善す
るために考案された、種々の公知の方法を示している。これらの図において、同
一の符号は、同一または同様の部材を、それぞれ示している。図１において、符
号１０は、シンチレータを構成するシンチレータ材料のブロックを示している。
クリスタル１０の一面１２上には、例えば、シンチレーションを検出して電気検
出信号を供給する光電子増倍管のような光検出器１３が貼り付けられている。Prior Art FIGS. 1-3, described below, show various known methods devised to improve the collection efficiency of a scintillation detector. In these drawings, the same reference numerals indicate the same or similar members. In FIG. 1, reference numeral 10 denotes a scintillator material block constituting the scintillator.
On one surface 12 of the crystal 10, for example, a photodetector 13 such as a photomultiplier tube for detecting scintillation and supplying an electric detection signal is attached.
【０００６】 図１に示す例では、シンチレータの壁１４は、該壁において全反射された光を
シンチレータ内に閉じこめるように研磨されている。 矢印１８は、シンチレータ材料の内部に貫通する、γ線のような電離放射線を
示している。符号２０の地点において、相互作用が、シンチレーションの放出に
伴って生じている。符号２１，２２，２３は、それぞれ、地点２０における相互
作用において生じた光線がとり得る経路の３つのタイプに対応している。In the example shown in FIG. 1, the wall 14 of the scintillator is polished to confine the light totally reflected at the wall into the scintillator. Arrow 18 indicates ionizing radiation, such as gamma radiation, penetrating into the scintillator material. At point 20, an interaction has occurred with the release of scintillation. Numerals 21, 22, and 23 respectively correspond to the three types of paths that light rays produced in the interaction at point 20 can take.
【０００７】 第１の場合において、光線２１は、光検出器の方向に直接向かう経路を通過す
る。このような光線は、シンチレータ材料を通る経路にわたって、短い距離を移
動する。したがって、このような光線は吸収されることなく、光検出器１３によ
って検出される。[0007] In the first case, the light ray 21 passes along a path directly towards the photodetector. Such a ray travels a short distance over a path through the scintillator material. Therefore, such a light beam is detected by the photodetector 13 without being absorbed.
【０００８】 第２の場合において、光線２２は、壁１４に垂直な方向に対して、θ≧θＣ、
θＣ＝ｓｉｎ−１（１／ｎ）となるような、一定の角度θでシンチレータの壁１
４に到達する。ここで、ｎはシンチレータ材料の屈折率である。 この場合に、光線２２は全反射によって反射され、シンチレータから外部に出
ることはない。このようにして、光線２２は光検出器に到達することができる。In the second case, the ray 22 is directed to a direction perpendicular to the wall 14 by θ ≧ θ C ,
Scintillator wall 1 at a constant angle θ such that θ C = sin −1 (1 / n)
Reach 4 Here, n is the refractive index of the scintillator material. In this case, the light ray 22 is reflected by total reflection and does not go out of the scintillator. In this way, the light beam 22 can reach the light detector.
【０００９】 第３の場合には、光線２３は壁１４の表面に直交する方向に対して、上記にお
いて定義した角度θＣより小さい角度θで壁１４に入射する。光線２３は、屈折
してシンチレータ外部に出ることになり、もはや検出することはできない。In the third case, the light ray 23 enters the wall 14 at an angle θ smaller than the angle θ C defined above with respect to a direction orthogonal to the surface of the wall 14. The light ray 23 is refracted and exits the scintillator and can no longer be detected.
【００１０】 収集効率を改善するために考案された１つの例が、図２に示されている。それ
は、不透明なディフューザを構成する材料からなるシート３０によってシンチレ
ータ１０を覆うものである。例えば、シート３０は、白い紙から構成することが
できる。One example devised to improve collection efficiency is shown in FIG. That is, the scintillator 10 is covered with a sheet 30 made of a material constituting an opaque diffuser. For example, the sheet 30 can be composed of white paper.
【００１１】 外被を構成する不透明シート３０は、空気の薄い層３２によってシンチレータ
１０から分離されている。この層３２の厚さは、約１０〜１００μｍであり、図
２では、明確化のために、誇張して示されている。シート３０の厚さも誇張され
ている。The opaque sheet 30 that constitutes the envelope is separated from the scintillator 10 by a thin layer 32 of air. The thickness of this layer 32 is about 10-100 μm and is exaggerated in FIG. 2 for clarity. The thickness of the sheet 30 is also exaggerated.
【００１２】 図２において、符号２１，２２は、光検出器を直接打撃するシンチレーション
光線、または、シンチレータの壁１４上で全て反射されたシンチレーション光線
をそれぞれ示している。 符号２３は、屈折してシンチレータの外部に出るような角度（θ＜θＣ）で壁
１４に入射する光線を示している。しかしながら、光線２３は、不透明なディフ
ューザ薄膜３０によって散乱されてシンチレータ内に戻り、光検出器１３に到達
することが可能である。 このように、外被３０によって、シンチレーションは、シンチレータ内部に閉
じ込められた経路内に配され、収集効率が改善される。In FIG. 2, reference numerals 21 and 22 denote scintillation light rays that directly hit the photodetector or scintillation light rays totally reflected on the scintillator wall 14, respectively. Reference numeral 23 denotes a light beam incident on the wall 14 at an angle (θ <θ C ) at which the light refracts and exits the scintillator. However, the light rays 23 can be scattered by the opaque diffuser film 30 back into the scintillator and reach the photodetector 13. In this way, the jacket 30 places the scintillation in a path confined inside the scintillator, improving collection efficiency.
【００１３】 しかしながら、図２の装置は、不透明シート３０の厚さが数十分の１ｍｍであ
ることに関連して、大きな欠点を有している。すなわち、電離放射線検出器の多
くは、相互に隣接する多数のシンチレータを有するセグメントに分かれた検出器
であり、各セグメントが基本検出器を構成している。しかしながら、セグメント
検出器では、隣接する基本検出器が、可能な限り、相互に近接していることが好
ましい。さらに、基本検出器は光学的に独立し、高い収集効率を与えるものでな
ければならない。However, the apparatus of FIG. 2 has a major drawback associated with the thickness of the opaque sheet 30 being a few tens of millimeters. That is, most of the ionizing radiation detectors are detectors divided into segments having a large number of scintillators adjacent to each other, and each segment constitutes a basic detector. However, in a segment detector, it is preferred that adjacent elementary detectors be as close as possible to each other. In addition, the elementary detector must be optically independent and provide high collection efficiency.
【００１４】 したがって、不透明シート３０は収集効率を向上することを可能にするもので
あるけれども、その厚さのために、特にコンパクトなセグメント検出器を製造す
ることが困難である。Thus, although the opaque sheet 30 allows for improved collection efficiency, it is difficult to manufacture a particularly compact segment detector due to its thickness.
【００１５】 検出器のコンパクトさを減殺しないための他の可能性として、各検出器のシン
チレータを、シンチレータ材料のブロックの壁面に直接堆積した薄い不透明薄膜
によって覆うことが考えられる。 この方法は、図３に示されている。この図では、光散乱または屈折材料、例え
ば、金属コーティングまたは白い酸化チタン塗料のコーティングからなる薄いコ
ーティング４０が、シンチレータ１０の壁１４に形成されている。Another possibility for not compromising the compactness of the detectors is to cover the scintillator of each detector with a thin opaque film deposited directly on the walls of the block of scintillator material. This method is shown in FIG. In this figure, a thin coating 40 of a light-scattering or refracting material, for example, a metal coating or a coating of white titanium oxide paint, is formed on the wall 14 of the scintillator 10.
【００１６】 このようなコーティング、特に、薄いコーティングは、前記基本検出器を相互
に近接状態に隣接配置することを可能としている。 図３において、符号２１は、常に反射することなく光検出器に直接到達する光
線を示している。符号２２，２３を付した光線は、シンチレータの壁面１４を打
撃する光線である。これらの光線は、それらの入射角度に関わらず、壁面１４に
おいて金属反射され、または、散乱されることが認められる。Such a coating, in particular a thin coating, makes it possible to arrange the elementary detectors in close proximity to one another. In FIG. 3, reference numeral 21 denotes a light beam that directly reaches the photodetector without being constantly reflected. Light rays denoted by reference numerals 22 and 23 are light rays that strike the wall surface 14 of the scintillator. It will be appreciated that these rays will be metallicly reflected or scattered on the wall 14 regardless of their angle of incidence.
【００１７】 したがって、この図３の装置によれば、シンチレーションの閉じ込めが可能で
ある。しかしながら、薄いコーティング４０が金属コーティングである場合には
、薄いコーティング上における金属反射率Ｒが１より小さくなり、壁面における
連続した反射回数の増加により、光が損失することになる。Therefore, according to the apparatus shown in FIG. 3, it is possible to confine the scintillation. However, if the thin coating 40 is a metal coating, the metal reflectivity R on the thin coating will be less than 1 and light will be lost due to the increased number of consecutive reflections on the wall.
【００１８】 さらに、コーティング４０が光散乱材料からなる場合には、シンチレータの壁
面上における光の散乱が、シンチレータを通る光線の光路長を増加させ、したが
って、シンチレータ材料による光の吸収が促進される。 金属反射による光損失または吸収は、収集効率に悪影響を及ぼすものである。Furthermore, if the coating 40 is made of a light scattering material, the scattering of light on the walls of the scintillator increases the optical path length of the light rays passing through the scintillator, thus promoting light absorption by the scintillator material. . Light loss or absorption due to metal reflections has a negative effect on collection efficiency.
【００１９】 この明細書の末尾に示されている文献（１）〜（３）は、シンチレータ装置を
記述しており、シンチレータに接続された、低い反射率を有する間隔コーティン
グまたは被覆を示唆している。しかしながら、これらの文献において提案されて
いる誘電材料は、それらの反射率が十分い低くないために、あまり高い収集効率
を得ることができない。Documents (1) to (3) at the end of this specification describe scintillator devices, suggesting a spacing coating or coating with low reflectivity connected to the scintillator. I have. However, the dielectric materials proposed in these documents cannot achieve very high collection efficiencies because their reflectivity is not sufficiently low.
【００２０】 （発明の概要） この発明の１つの目的は、例えば、閃光をシンチレータ内に光学的な閉じ込め
のために使用することができ、かつ、上述した欠点を有しない光コーティングを
提案することである。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to propose an optical coating which can be used, for example, for optical confinement of a flash in a scintillator and which does not have the disadvantages mentioned above. It is.
【００２１】 さらに詳細には、この発明の目的は、光を効率的に絶縁し、隣接する基本検出
器を含むセグメントに分かれた電離放射線検出器における使用を可能とするよう
に小さい厚さを有する、この種のコーティングを提案することである。 他の目的は、工業的に使用され、かつ、コーティングの厚さの精確な検査を可
能にするこの種のコーティングの製造プロセスを提案することである。More particularly, an object of the present invention is to have a small thickness to efficiently insulate light and allow use in segmented ionizing radiation detectors including adjacent elementary detectors. Is to propose a coating of this kind. Another object is to propose a process for the production of such coatings which is used industrially and which allows an accurate inspection of the thickness of the coating.
【００２２】 さらに、他の目的は、上述した光コーティングを有する電離放射線検出器内に
おいて使用可能なシンチレータを提案することである。 さらに、他の目的は、良好な機械的耐性と取り扱いの容易性を提供するコーテ
ィングを提案することである。 最後に、この発明の１つの目的は、光収集に関して、良好な効率を提供するシ
ンチレーション検出器を提案することである。Yet another object is to propose a scintillator that can be used in an ionizing radiation detector having the above-mentioned optical coating. Yet another object is to propose a coating that provides good mechanical resistance and ease of handling. Finally, one object of the present invention is to propose a scintillation detector that offers good efficiency with respect to light collection.
【００２３】 上述した目的を達成するために、この発明は、さらに詳細には、 − シンチレータ材料からなるブロックと、 − 該シンチレータ材料ブロックの表面に形成された、１．３より小さい屈折率
を提供する固体材料からなる屈折コーティングと を有するシンチレーション検出器を得ることを目指している。In order to achieve the above-mentioned object, the invention more particularly provides: a block of scintillator material; and a refractive index of less than 1.3 formed on the surface of the scintillator material block. And a refraction coating made of a solid material.
【００２４】 この発明によるシンチレータは、屈折コーティングの低い屈折率により、良好
な光収集効率を得ることができる。このことは、ＣｓＩのようなシンチレータ材
料自体が比較的低い屈折率を有する場合に、特に重要である。この屈折率は、１
．２６以下に選択することが好ましい。The scintillator according to the present invention can obtain good light collection efficiency due to the low refractive index of the refractive coating. This is particularly important where the scintillator material itself, such as CsI, has a relatively low refractive index. This refractive index is 1
. It is preferable to select 26 or less.
【００２５】 さらに、検出器は、屈折コーティング上に形成される、散乱または光反射材料
からなるカバーコーティングを含んでいてもよい。 シンチレータ材料とは、例えば、γ線のような電離放射線を、一般に可視光ま
たは紫外光スペクトルの光線に変換することができる材料をいう。シンチレータ
材料の例として、タンクステン酸鉛ＰｂＷＯ４、または、ゲルマニウム酸ビスマ
スＢＧＯに言及することができる。Further, the detector may include a cover coating made of a scattering or light reflecting material formed on the refractive coating. A scintillator material refers to, for example, a material that can convert ionizing radiation, such as gamma rays, into light in the visible or ultraviolet spectrum. As examples of the scintillator material, mention may be made of lead tin stearate PbWO 4 or bismuth germanate BGO.
【００２６】 さらに、散乱、反射または屈折の語句は、シンチレーションの波長に適用され
るものと理解される。 固体材料（すなわち、非ガス）の屈折層を、光を反射または散乱することがで
きるカバーコーティングと組み合わせることにより、非常に薄い厚さの優れた光
閉じ込めコーティングを得ることができる。Furthermore, the terms scattering, reflection or refraction are understood to apply to the wavelength of the scintillation. By combining a refractive layer of a solid material (ie, a non-gas) with a cover coating that can reflect or scatter light, an excellent light confinement coating of very thin thickness can be obtained.
【００２７】 屈折コーティングの厚さは、光の効果的な屈折を許容するのに十分となるよう
に選択される。この厚さは、０．８〜２μｍの間に選択されることが好ましい。
すなわち、厚さが不十分な場合には、屈折コーティングは、使用される材料に依
存して、非反射コーティングのように機能する。The thickness of the refractive coating is selected to be sufficient to allow for effective refraction of light. This thickness is preferably chosen between 0.8 and 2 μm.
That is, if the thickness is insufficient, the refractive coating behaves like a non-reflective coating, depending on the material used.
【００２８】 コーティングの一実施形態では、屈折コーティングは、結合材で被覆されたコ
ロイドシリカを含んでいてもよい。このような材料は、低屈折率を達成するのに
、特に適している。この種のコーティングは、グラウンド−ゲルプロセスによっ
て容易に構成することができる。この種のプロセスは、特に、工業設備に適合さ
れる。In one embodiment of the coating, the refractive coating may include colloidal silica coated with a binder. Such materials are particularly suitable for achieving a low refractive index. This type of coating can be easily constructed by a ground-gel process. Processes of this kind are particularly adapted to industrial equipment.
【００２９】 グラウンド−ゲルプロセスによるコーティングの製造の一例として、この明細
書の末尾に示されている文献（４），（５）を参照することができる。カバーコ
ーティングは金属層、例えば、銀のコーティングでよい。この種のコーティング
は、従来の公知の技術の１つである真空蒸着によって構成することができる。最
後に、ポリマーコーティングのような保護コーティングが、金属コーティングを
酸化から保護するために設けられる。As an example of the production of a coating by the ground-gel process, reference can be made to the documents (4) and (5) given at the end of this specification. The cover coating may be a metal layer, for example a silver coating. This type of coating can be formed by vacuum deposition, one of the known techniques of the prior art. Finally, a protective coating, such as a polymer coating, is provided to protect the metal coating from oxidation.
【００３０】 これに代えて、カバーコーティングは、金属酸化物のコーティング、例えば、
酸化チタンのコーティングでもよい。この種のコーティングも、グラウンド−ゲ
ルプロセスによって形成することができる。Alternatively, the cover coating may be a metal oxide coating, for example,
A coating of titanium oxide may be used. This type of coating can also be formed by a ground-gel process.
【００３１】 この場合に、シンチレーション波長の散乱を保証するのに十分な大きさの粒子
を有するコロイド状の高屈折率を有する金属酸化物を使用することが好ましい。 電離放射線検出器への一適用例において、屈折コーティングおよびカバーコー
ティングは、光検出器を取り付ける表面部分を除き、シンチレータ表面の全体ま
たは一部に形成してもよいことを特筆しておく。In this case, it is preferable to use a colloidal metal oxide having a high refractive index having particles large enough to guarantee scattering of the scintillation wavelength. It is noted that in one application to an ionizing radiation detector, the refractive coating and the cover coating may be formed on all or part of the scintillator surface, except for the surface portion on which the photodetector is mounted.
【００３２】 さらに詳細には、シンチレータが、複数の面を有する結晶質のブロックである
場合には、これらの面の１つまたは複数が上述したコーティングで覆われてもよ
い。More particularly, if the scintillator is a crystalline block having a plurality of faces, one or more of these faces may be covered with a coating as described above.
【００３３】 この発明は、基材上に、光を捕獲するためのコーティングを形成するプロセス
であって、 ａ） シロキサン結合材で被覆されたコロイドシリカを含むグラウンド−ゲルコ
ーティングを基材上に形成するステップと、 ｂ） 結合材内にシロキサン結合を構成するために熱処理するステップとを含む
プロセスにも関連している。The present invention is a process for forming a light-trapping coating on a substrate, comprising: a) forming a ground-gel coating on the substrate comprising colloidal silica coated with a siloxane binder. And b) heat treating to form siloxane bonds in the binder.
【００３４】 このプロセスにおいて、処理ａ），ｂ）は、コーティングが０．８〜２μｍの
厚さになるまで繰り返される。 さらに詳細には、基材は、シンチレータ材料からなるブロックでよい。In this process, steps a) and b) are repeated until the coating is between 0.8 and 2 μm thick. More specifically, the substrate may be a block of scintillator material.
【００３５】 このプロセスによれば、ひび割れおよび／または内部割裂面を有しない一定し
たコーティングを得ることができる。さらに、形成されたコーティングは、摩耗
およびγ線、Ｘ線および中性子線に対する耐性を有する。According to this process, a consistent coating without cracks and / or internal split surfaces can be obtained. Furthermore, the formed coating is resistant to abrasion and gamma, x-ray and neutron radiation.
【００３６】 ステップａ），ｂ）の前に、接着を促進するように設計されたコーティングを
基材に塗布しておくことが好ましい。グラウンド−ゲルコーティングは、その後
、接着促進コーティングに塗布される。 接着促進剤は、例えば、エポキシ−アルコキシランでよい。Prior to steps a) and b), it is preferred that a coating designed to promote adhesion has been applied to the substrate. The ground-gel coating is then applied to the adhesion promoting coating. The adhesion promoter may be, for example, an epoxy-alkoxy lan.
【００３７】 さらに、基材にコーティングを塗布する前に、洗剤の水溶液で基材を洗浄し、
その後、水およびアルコールで濯ぐことからなる洗浄段階を行うことができる。
このようにして、特に撥水表面を有する基材を得ることができる。 この発明の実施形態において、グラウンド−ゲルコーティングは、浸漬によっ
て堆積することが好ましい。Further, before applying the coating to the substrate, the substrate is washed with an aqueous solution of a detergent,
Thereafter, a washing step consisting of rinsing with water and alcohol can be performed.
In this way, a substrate having a water-repellent surface can be obtained. In embodiments of the present invention, the ground-gel coating is preferably deposited by dipping.
【００３８】 この発明の他の側面によれば、このプロセスは、さらに、ステップａ），ｂ
）の後に、光散乱または反射材料からなるカバーコーティングの形成ステップを
含んでいてもよい。 カバーコーティングは、光を反射する金属コーティング、または、光を散乱す
る金属酸化物のコーティングでよい。According to another aspect of the invention, the process further comprises steps a), b
) May be followed by the step of forming a cover coating made of a light-scattering or reflecting material. The cover coating may be a metal coating that reflects light or a metal oxide that scatters light.
【００３９】 後者の場合には、金属酸化物のコストも、浸漬およびグラウンド−ゲルのよう
なプロセスによって形成することができる。この発明の他の特徴および利点は、
添付図面を参照した以下の説明から明らかになる。この説明は、純粋に例示目的
のためのものであり、限定を意図するものではない。In the latter case, the cost of the metal oxide can also be formed by processes such as dipping and ground-gel. Other features and advantages of the invention include:
It will be apparent from the following description with reference to the accompanying drawings. This description is purely for the purpose of illustration and is not intended to be limiting.
【００４０】 （図面の簡単な説明） 既に説明した図１〜図３は、公知の形式のシンチレータ電離放射線検出器の簡
略化した概略断面図である。 図４は、この発明に係るシンチレータを有する電離放射線検出器を示す簡略化
した概略断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIGS. 1 to 3 already described are simplified schematic cross-sectional views of a known type of scintillator ionizing radiation detector. FIG. 4 is a simplified schematic sectional view showing an ionizing radiation detector having a scintillator according to the present invention.
【００４１】 （発明の実施の形態の詳細な説明） 図４において、図１〜３の部位と同一または同様の部位には、同じ符号に１０
０を加えた符号を付してある。このようにすることで、これらの部位に関しては
上述した説明を参照することができる。(Detailed Description of Embodiments of the Invention) In FIG. 4, the same or similar parts as those in FIGS.
The code is added with 0. By doing so, the above description can be referred to for these portions.
【００４２】 図４の検出器は、シンチレータを構成するシンチレータ材料のブロック１１０
を具備している。該シンチレータ材料は、例えば、ＰｂＷＯ４の結晶からなって
いる。 結晶の表面１１２には、きわめて簡略に表された光電子増倍管が貼着されてい
る。The detector of FIG. 4 is a block 110 of scintillator material constituting the scintillator.
Is provided. The scintillator material is made of, for example, PbWO 4 crystals. A very simple photomultiplier tube is adhered to the surface 112 of the crystal.
【００４３】 最後に、シンチレータの外壁１１４は、２つのコーティング１５０，１５２に
よって覆われている。 最初のコーティング１５０は、屈折コーティングと呼ばれ、シンチレータ材料
上に直接、または破線で示したエポキシ−アルコキシランからなる接着層１５１
上のいずれかに形成されている。０．８〜２μｍの厚さを有する屈折コーティン
グは、１．３より小さく、かつ、シンチレータ材料の屈折率より小さい屈折率を
有している。Finally, the outer wall 114 of the scintillator is covered by two coatings 150, 152. The first coating 150 is called a refractive coating and is an adhesive layer 151 made of epoxy-alkoxylan, either directly on the scintillator material or shown in broken lines.
It is formed on any of the above. A refractive coating having a thickness of 0.8-2 μm has a refractive index less than 1.3 and less than the refractive index of the scintillator material.
【００４４】 この例において、屈折コーティングは、コロイド状コーティングである。シロ
キサン結合材内に囲われたコロイドシリカを含んでいる。 グラウンド−ゲル製造プロセスにより、このコーティングが摩擦に対する良好
な耐性を提供することが保証される。In this example, the refractive coating is a colloidal coating. It includes colloidal silica enclosed within a siloxane binder. The ground-gel manufacturing process ensures that this coating provides good resistance to friction.
【００４５】 第２のカバーコーティング１５２は、屈折コーティング１５０上に形成されて
いる。 該コーティング１５２は、真空蒸着によって堆積された銀コーティングである
。このコーティングは、約０．１μｍの厚さを有し、シンチレーションを反射す
るコーティングを形成している。該コーティングは、図４において破線により示
された、ポリマーからなる外側コーティング１５３によって防護されていてもよ
い。The second cover coating 152 is formed on the refractive coating 150. The coating 152 is a silver coating deposited by vacuum evaporation. This coating has a thickness of about 0.1 μm and forms a scintillation reflecting coating. The coating may be protected by an outer coating 153 of a polymer, indicated by dashed lines in FIG.
【００４６】 上述した図面と同様に、符号１１８，１２０は、それぞれ、シンチレータを貫
通し、シンチレータ材料との相互作用点を通る電離放射線を示している。 符号１２２は、シンチレーションにより放射され、シンチレータの壁面１１４
において反射された光線を示している。符号１２３は、シンチレータの外部に配
されている屈折コーティング１５０内に屈折する光線を示している。この光線が
、カバーコーティング１５２に到達すると、屈折させられて、シンチレータ材料
内に戻される。 したがって、シンチレーションは、シンチレータ材料内に閉じ込められ、収集
効率が改善される。Similar to the figures described above, reference numerals 118 and 120 indicate ionizing radiation, respectively, that penetrates the scintillator and passes through the point of interaction with the scintillator material. The symbol 122 is radiated by scintillation and the wall 114 of the scintillator
Shows the rays reflected at. Reference numeral 123 indicates a light beam that refracts into the refractive coating 150 disposed outside the scintillator. When the light beam reaches the cover coating 152, it is refracted and returned into the scintillator material. Thus, the scintillation is confined within the scintillator material, improving collection efficiency.
【００４７】 これに代えて、カバーコーティング１５２を形成する銀のコーティングは、チ
タン酸化物のコーティングのような金属酸化物のコーティングによって置き換え
てもよい。その場合には、カバーコーティングは、光散乱コーティングである。Alternatively, the silver coating forming cover coating 152 may be replaced by a metal oxide coating, such as a titanium oxide coating. In that case, the cover coating is a light scattering coating.
【００４８】 この目的のために、カバーコーティングは１．８を超える高い屈折率を有する
ことが好ましい。 このカバーコーティングは、例えば、シンチレーションの波長を確実に散乱す
るのに十分な平均粒径を有する金属酸化物コロイドを含んでいる。For this purpose, the cover coating preferably has a high refractive index of more than 1.8. The cover coating includes, for example, a metal oxide colloid having an average particle size sufficient to reliably scatter the scintillation wavelength.
【００４９】 （参考文献） （１） ＥＰ−Ａ−０２５０９８３ （２） ＥＰ−Ａ−０５３４６８３ （３） ＤＥ−Ａ−４２２３８６１ （４） ＥＰ−Ａ−０６０００２２ （５） ＵＳ−Ａ−４３９７６６６(References) (1) EP-A-0250983 (2) EP-A-0534683 (3) DE-A-4223861 (4) EP-A-0600022 (5) US-A-4399666
【図１】 公知の形式のシンチレータ電離放射線検出器の簡略化した概略断
面図である。FIG. 1 is a simplified schematic cross-sectional view of a known type of scintillator ionizing radiation detector.
【図２】 シンチレータ電離放射線検出器の他の公知例を示す概略断面図で
ある。FIG. 2 is a schematic sectional view showing another known example of a scintillator ionizing radiation detector.
【図３】 シンチレータ電離放射線検出器の他の公知例を示す概略断面図で
ある。FIG. 3 is a schematic sectional view showing another known example of a scintillator ionizing radiation detector.
【図４】 この発明に係るシンチレータを有する電離放射線検出器を示す簡
略化した概略断面図である。FIG. 4 is a simplified schematic sectional view showing an ionizing radiation detector having a scintillator according to the present invention.
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書[Procedural Amendment] Submission of translation of Article 34 Amendment of the Patent Cooperation Treaty
【提出日】平成１２年３月２１日（２０００．３．２１）[Submission date] March 21, 2000 (2000.3.21)
【手続補正１】[Procedure amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】特許請求の範囲[Correction target item name] Claims
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【特許請求の範囲】[Claims]
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ベルヴィル， フィリップ フランス国 エフ−92400 クールブヴォ ワ， リュ デュ シャトー デュ ルワ ール ６ (72)発明者 ランベール， ベノイト フランス国 エフ−92300 ルヴァイヨワ ペレ， リュ アナトール フランス 96 Ｆターム(参考） 2G088 GG18 2H047 KA13 MA07 QA01 QA07 RA01──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Belleville, Philippe F-92400 Courbevoie, Rue du Chateau du Loire 6 (72) Inventor Lambert, Benoit France 96 F term (reference) 2G088 GG18 2H047 KA13 MA07 QA01 QA07 RA01
Claims (17)
屈折率を有する固体材料からなる屈折コーティング（１５０）とを具備すること
を特徴とするシンチレーション検出器。1. A block (110) made of a scintillator material and a refractive coating (150) made of a solid material having a refractive index less than 1.3 formed on the surface of the block made of the scintillator material. A scintillation detector.
を有することを特徴とする請求項１記載のシンチレーション検出器。2. A scintillation detector according to claim 1, wherein said refractive coating has a thickness of between 0.8 and 2 μm.
カを含むことを特徴とする請求項１記載のシンチレーション検出器。3. The scintillation detector according to claim 1, wherein said refractive coating comprises colloidal silica coated with a binder.
料からなるカバーコーティング（１５２）をさらに具備することを特徴とする請
求項１記載のシンチレーション検出器。4. The scintillation detector according to claim 1, further comprising a cover coating made of a light scattering or reflecting material on the refractive coating.
らなるコーティングであることを特徴とする請求項４記載のシンチレーション検
出器。5. A scintillation detector according to claim 4, wherein said cover coating is a coating made of a metal that reflects light.
化物からなるコーティングであることを特徴とする請求項４記載のシンチレーシ
ョン検出器。6. The scintillation detector according to claim 4, wherein said cover coating is a coating of a light-scattering metal oxide.
ション検出器に接続された少なくとも１つの光検出器とを具備することを特徴と
する電離放射線検出装置。7. An ionizing radiation detection apparatus comprising: the scintillation detector according to claim 1; and at least one photodetector connected to the scintillation detector.
する光屈折コーティング（１５０）を具備することを特徴とする、基材のために
光を捕獲するコーティング。8. A light-trapping coating for a substrate, comprising a photorefractive coating (150) comprising colloidal silica and having a refractive index less than 1.3.
とを特徴とするコーティング。9. The coating according to claim 1, wherein said refractive coating has a thickness of 0.8 to 2 μm.
射材料からなるコーティング（１５２）をさらに具備することを特徴とするコー
ティング。10. The coating according to claim 1, further comprising a coating made of a light scattering or reflecting material formed on the light refraction coating.
コーティングの製造方法であって、 ａ） シロキサン結合材内で被覆されたコロイドシリカを含むグラウンドゲルコ
ーティング（１５０）を基材上に形成するステップと、 ｂ） 結合材の内部でシロキサン結合を形成するために熱処理するステップとを
具備し、 これらステップａ），ｂ）を、０．８〜２μｍの厚さのコーティングが得られ
るまで繰り返すことを特徴とするプロセス。11. A method of making a coating that forms a light-trapping coating on a substrate (11), comprising: a) a ground gel coating (150) comprising colloidal silica coated within a siloxane binder. Forming on a substrate; and b) heat treating to form siloxane bonds within the binder, wherein steps a) and b) are coated with a 0.8 to 2 μm thick coating. A process characterized by repeating until a is obtained.
５１）を基材に塗布し、前記グラウンドゲルコーティング（１５０）を前記接着
促進コーティング（１５１）に塗布することを特徴とする請求項１１記載のプロ
セス。12. An adhesion-promoting coating (1) prior to step a)
The process of claim 11, wherein 51) is applied to a substrate and the ground gel coating (150) is applied to the adhesion promoting coating (151).
コキシランからなることを特徴とする請求項１２記載のプロセス。13. The process of claim 12, wherein said adhesion promoting coating (151) comprises an epoxy-alkoxy lan.
堆積されることを特徴とする請求項１１記載のプロセス。14. The process according to claim 11, wherein the ground gel coating is deposited by dipping.
らなるカバーコーティング（１５２）を形成するステップをさらに具備すること
を特徴とする請求項１１記載のプロセス。15. The process of claim 11, further comprising, after steps a) and b), forming a cover coating (152) of a light scattering or reflective material.
成された銀のコーティングであることを特徴とする請求項１５記載のプロセス。16. The process of claim 15, wherein said cover coating (152) is a silver coating formed by vacuum evaporation.
金属酸化物を用いたグラウンドゲルコーティングであることを特徴とする請求項
１５記載のプロセス。17. The process according to claim 15, wherein the cover coating is a ground gel coating using at least one metal oxide.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9711645A FR2768522B1 (en) | 1997-09-18 | 1997-09-18 | SCINTILLATION DETECTOR, REFRACTOR COATING FOR SCINTILLATOR AND METHOD FOR MANUFACTURING SUCH A COATING |
| FR97/11645 | 1997-09-18 | ||
| PCT/FR1998/001995 WO1999014618A1 (en) | 1997-09-18 | 1998-09-17 | Scintillation detector, refractor coating for scintillator and method for making such a coating |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001516888A true JP2001516888A (en) | 2001-10-02 |
Family
ID=9511231
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000512099A Pending JP2001516888A (en) | 1997-09-18 | 1998-09-17 | Scintillation detector, refractive coating for scintillator, and process for producing the coating |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1015910A1 (en) |
| JP (1) | JP2001516888A (en) |
| FR (1) | FR2768522B1 (en) |
| WO (1) | WO1999014618A1 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021020491A1 (en) | 2019-07-31 | 2021-02-04 | キヤノン株式会社 | Scintillator unit, and radiation detector |
| US11828889B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-11-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Scintillator unit and radiation detector |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10033613A1 (en) * | 2000-07-11 | 2002-01-31 | Siemens Ag | X-ray detector comprises lumiphor for converting X-rays into visible light, and detector at lumiphor outlet |
| GB2437979B (en) * | 2006-05-12 | 2010-12-01 | Symetrica Ltd | Plastic scintillators |
| FR2908523B1 (en) * | 2006-11-14 | 2011-04-01 | Saint Gobain | PLANE DIFFUSING STRUCTURE, MANUFACTURING METHOD AND APPLICATIONS THEREOF. |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3859531A (en) * | 1973-02-23 | 1975-01-07 | Searle & Co | Scintillation camera with light pipe inserts for improved linearity |
| JPS5777044A (en) * | 1980-10-30 | 1982-05-14 | Central Glass Co Ltd | Manufacture of glass from metallic alcoholate |
| US4720426A (en) * | 1986-06-30 | 1988-01-19 | General Electric Company | Reflective coating for solid-state scintillator bar |
| JPS63114184A (en) * | 1986-10-31 | 1988-05-19 | Hoya Corp | Slab type laser to which reflecting film is formed |
| DE4223861A1 (en) * | 1991-08-05 | 1993-02-11 | Siemens Ag | Radiation converter for medical diagnostics - with reflective sheath and low refractive index intermediate layer |
| FR2680583B1 (en) * | 1991-08-22 | 1993-10-08 | Commissariat A Energie Atomique | MATERIAL HAVING ANTI-REFLECTIVE, HYDROPHOBIC AND ABRASION RESISTANCE PROPERTIES AND METHOD FOR DEPOSITING AN ANTI-REFLECTIVE, HYDROPHOBIC AND ABRASION RESISTANT LAYER ON A SUBSTRATE. |
| US5208460A (en) * | 1991-09-23 | 1993-05-04 | General Electric Company | Photodetector scintillator radiation imager having high efficiency light collection |
| CZ156893A3 (en) * | 1993-08-03 | 1995-06-14 | Conte Prof Dott Francesco De N | Scintillation detector |
-
1997
- 1997-09-18 FR FR9711645A patent/FR2768522B1/en not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-09-17 WO PCT/FR1998/001995 patent/WO1999014618A1/en not_active Application Discontinuation
- 1998-09-17 JP JP2000512099A patent/JP2001516888A/en active Pending
- 1998-09-17 EP EP98944014A patent/EP1015910A1/en not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021020491A1 (en) | 2019-07-31 | 2021-02-04 | キヤノン株式会社 | Scintillator unit, and radiation detector |
| US20220179105A1 (en) | 2019-07-31 | 2022-06-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Scintillator unit and radiation detector |
| US11774605B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-10-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Scintillator unit and radiation detector |
| US11828889B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-11-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Scintillator unit and radiation detector |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO1999014618A1 (en) | 1999-03-25 |
| EP1015910A1 (en) | 2000-07-05 |
| FR2768522A1 (en) | 1999-03-19 |
| FR2768522B1 (en) | 1999-10-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0250983B1 (en) | Reflective coating for solid-state scintillator bar | |
| JP5031172B2 (en) | Scintillator panel, radiation image sensor and manufacturing method thereof | |
| CA1268360A (en) | Reading device for stimulable phosphor panel | |
| EP0534683A2 (en) | Photodetector scintillator radiation imager | |
| US5258145A (en) | Method for manufacturing a high resolution structured x-ray detector | |
| CN108387923B (en) | Packaged scintillator with photonic crystal layer and scintillation detector | |
| FR2718852A1 (en) | Remote radiation detection device. | |
| CN205720688U (en) | Device for detection of radioactive radiation | |
| AU626950B2 (en) | Radiation detector | |
| JP2001516888A (en) | Scintillation detector, refractive coating for scintillator, and process for producing the coating | |
| US5038042A (en) | High resolution scintillation counters | |
| JP2018511028A (en) | Method, crystal, and use thereof for optimizing the collection of photons in a scintillator crystal | |
| WO1993003496A1 (en) | Improvements in particle detector spatial resolution | |
| JPS63129304A (en) | Scintillator fiber having high light emission efficiency | |
| JP5976429B2 (en) | Radiation discrimination detector and manufacturing method thereof | |
| JP5502341B2 (en) | Rod-shaped radiation detector and manufacturing method thereof | |
| JP4060483B2 (en) | Radiation detector | |
| JP2011149731A (en) | Manufacturing method of plastic scintillator member and radiation detector | |
| CN201212910Y (en) | Cherenkov probe | |
| JPS5944678A (en) | Radiant ray detector | |
| FR2853084A1 (en) | X-ray detection scintillator has assembly of parallel polymer fibres containing compound emissive into UV, visible or near infrared light | |
| JPS6052414B2 (en) | Radiation image information reading device | |
| US11694819B1 (en) | Electromagnetic wave-trapping device | |
| CN216870420U (en) | X-ray detector | |
| JPH05107362A (en) | Manufacture of x-ray detecting element |