JP2001358273A - Tool for processing semiconductor lead - Google Patents

Tool for processing semiconductor lead

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JP2001358273A
JP2001358273A JP2000180437A JP2000180437A JP2001358273A JP 2001358273 A JP2001358273 A JP 2001358273A JP 2000180437 A JP2000180437 A JP 2000180437A JP 2000180437 A JP2000180437 A JP 2000180437A JP 2001358273 A JP2001358273 A JP 2001358273A
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JP
Japan
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die
punch
processing
lead
semiconductor package
Prior art date
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Application number
JP2000180437A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiko Takahashi
和彦 高橋
Tsutomu Fukuda
努 福田
Takeshi Takahashi
高橋  健
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Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a tool for processing a semiconductor lead which can provide a stable and precise processing over a long period of time, wherein recessed or projecting curved parts 18D, 19D can be formed precisely, as well as increasing an abrasion resistance of processing sections 16, 17. SOLUTION: A die 11 which can be relatively drawn near to or separated from a punch 12 in the facing direction is provided with a die-side processing section 16 whereon a semiconductor package P is placed to process a lead L of the package into a predetermined shape between the die-side processing section 16 and a punch-side processing section 17. The punch 12 which can be relatively drawn near to or separated from the die 11 in the facing direction is provided with the punch-side processing section 17 whereon the semiconductor package P is placed to process the lead L of the package into a specified shape between the punch-side processing section 17 and die-side processing section 16. These processing sections 16, 17 are provided with sintered materials 20, 21 having a superhigh hardness, chief of which is diamond or CBN.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体パッケージ
から突出したリードを所定の形状に加工する半導体リー
ド加工用工具に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor lead processing tool for processing leads projecting from a semiconductor package into a predetermined shape.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えばQFP(クワッドフラットパッケ
ージ)やDIP(デュアルインラインパッケージ)など
の半導体パッケージにはその側面にリードが水平に突出
しており、これを回路基板に取り付けるには、このリー
ドをL字状やS字状に折り曲げて、回路基板に差し込ん
だりはんだ付けしたりして取付可能な所定の形状に加工
しなければならない。そこで、このようなリードの加工
には、図9に示すようなリード加工用工具が用いられ
る。
2. Description of the Related Art For example, a semiconductor package such as a QFP (quad flat package) or a DIP (dual in-line package) has a horizontal protruding lead on a side surface thereof. It must be bent into a shape or an S-shape, inserted into a circuit board or soldered, and processed into a predetermined shape that can be attached. Therefore, a lead processing tool as shown in FIG. 9 is used for such lead processing.

【0003】この図9において符号1,2で示すのは、
図示されない加工機に取り付けられて互いに対向して相
対的に離接可能に設けられた上記半導体リード加工用工
具としてのダイとパンチであり、ダイ1のパンチ2側を
向く部分には、半導体パッケージPのリードLが載置さ
れる突壁状のダイ側加工部3が設けられるとともに、パ
ンチ2のダイ1側を向く部分には、このダイ側加工部3
に対応した位置にやはり突壁状をなすパンチ側加工部4
が設けられていて、これらダイ側加工部3とパンチ側加
工部4との間でリードLを挟み込んで折り曲げることに
より、このリードLをL字状やS字状の所定の形状に加
工する。なお、これらダイ側加工部3とパンチ側加工部
4とのリードLに接する先端部には、互いに間隔をあけ
て突き合わされる凹凸曲部5,6がそれぞれ形成されて
おり、上記リードLはこれらの凹凸曲部5,6間に画成
される間隙部の形状に合わせてL字状やS字状に加工さ
れる。
In FIG. 9, reference numerals 1 and 2 denote:
A die and a punch as the semiconductor lead processing tool attached to a processing machine (not shown) and opposed to each other so as to be relatively separated from each other; A protruding wall-shaped die-side processing portion 3 on which the lead L of P is placed is provided, and the die-side processing portion 3 is provided on a portion of the punch 2 facing the die 1 side.
Punch side processing part 4 which also forms a protruding wall at a position corresponding to
The lead L is sandwiched and bent between the die-side processing portion 3 and the punch-side processing portion 4 to process the lead L into a predetermined L-shaped or S-shaped shape. In addition, concave and convex curved portions 5 and 6 are formed at front ends of the die-side processed portion 3 and the punch-side processed portion 4 which are in contact with the leads L at intervals, respectively. It is processed into an L-shape or an S-shape according to the shape of the gap defined between these concave and convex curved portions 5 and 6.

【0004】ところで、これらダイ1やパンチ2の半導
体リード加工用工具は、耐摩耗性の観点から従来より硬
質の超硬合金によって形成されていたが、このような材
質でも、上記加工部3,4先端の特にリードLに接触す
る上記凹凸曲部5,6では摩耗が早く、従って工具交換
も頻繁に行わなければならなくなって、この交換作業や
交換後の工具位置の調整作業などに多くの時間を費やす
とともに、リードLのはんだメッキがこれら加工部3,
4に付着するため、これを磨いて取り除くのにも時間を
要する結果となる。そこで、最近では、これらダイ側加
工部3やパンチ側加工部4の先端にダイヤモンドコーテ
ィングやDLCコーティング、あるいはTiNコーティ
ング等の硬質皮膜をコーティングしてその耐摩耗性をさ
らに向上させるとともに、上記凹凸曲部5,6を表面粗
さがRy0.1μm以下となるように研磨してリードL
との摩擦を低減することにより、リードLとの摩擦を低
減してはんだメッキの付着防止を図ったものが提案され
ている。
[0004] By the way, these semiconductor lead machining tools for the die 1 and the punch 2 are conventionally formed from a hard cemented carbide from the viewpoint of abrasion resistance. (4) The uneven portions 5, 6 at the tip, especially the lead L, wear quickly, so that the tool must be changed frequently, and many operations are required for this changing operation and the adjusting operation of the tool position after the changing. While spending time, the solder plating of the lead L
As a result, it takes time to polish and remove it. Therefore, recently, a hard coating such as a diamond coating, a DLC coating, or a TiN coating is coated on the tips of the die-side processing portion 3 and the punch-side processing portion 4 to further improve the wear resistance, and the unevenness curve is formed. The parts 5 and 6 are polished so that the surface roughness is Ry 0.1 μm or less, and the lead L
A proposal has been made to reduce the friction with the lead L to thereby prevent the adhesion of the solder plating by reducing the friction with the lead L.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところが、このうち上
記加工部3,4にダイヤモンドコーティングを施したも
のにあっては、ダイヤモンドコーティング自体が高価で
あるためコスト高となることが避けられないとともに、
上記凹凸曲部5,6のうち特に凹曲部5となる部分につ
いては皮膜を均一な厚さに形成するのが困難であり、し
かもコーティング後は皮膜が極めて硬質となるために仕
上げ加工で所定の形状に成形するというのも難しい。一
方、DLCコーティングやTiNコーティングを施した
ものにあっては、ダイヤモンドコーティングよりは廉価
であって加工性も良いものの、耐摩耗性についてはダイ
ヤモンドコーティングよりも劣るため、工具の長寿命化
にも限度がある。さらに、これらのコーティングを施し
た工具では皮膜を均質に形成することも難しく、皮膜が
部分的に剥離してしまって安定した加工ができなくなる
といった問題もあり、しかもこの剥離の問題は、曲率半
径が小さくなるためにリードとの接触によって応力が集
中することとなる上記凹凸曲部5,6において特に顕著
となる。
However, among the above-mentioned processing parts 3 and 4 in which a diamond coating is applied, it is inevitable that the cost is high because the diamond coating itself is expensive.
It is difficult to form a film having a uniform thickness especially on the concave curved portion 5 among the concave and convex curved portions 5 and 6, and since the film is extremely hard after coating, it is required to perform a finishing process. It is also difficult to mold it into a shape. On the other hand, those coated with DLC or TiN are cheaper and have better workability than diamond coating, but have a lower abrasion resistance than diamond coating. There is. In addition, it is difficult to form a uniform film with these coated tools, and there is a problem that the film is partially peeled off, making stable processing impossible. This is particularly noticeable in the concave and convex curved portions 5 and 6 where stresses are concentrated due to contact with the leads due to a decrease in the diameter.

【0006】本発明は、このような背景の下に為された
もので、上述のような半導体リード加工用工具におい
て、その加工部の耐摩耗性の向上を図ることは勿論、凹
凸曲部などを精度よく形成することができ、長期に亙っ
て安定かつ高精度の加工が可能な工具を提供することを
目的としている。
The present invention has been made under such a background. In the above-described tool for processing semiconductor leads, it is not only possible to improve the wear resistance of the processed portion, but also to form a concave and convex curved portion. It is an object of the present invention to provide a tool which can form a surface with high precision and can perform stable and high-precision machining for a long period of time.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決して、こ
のような目的を達成するために、本発明は、第1に、パ
ンチに対向して相対的に離接可能とされるダイに、半導
体パッケージを載置してそのリードを上記パンチ側の加
工部との間で所定の形状に加工するダイ側加工部を設
け、このダイ側加工部に、ダイヤモンドまたはCBNを
主成分とする超高硬度焼結体を配設したことを特徴と
し、また第2に、ダイに対向して相対的に離接可能とさ
れるパンチに、上記ダイ側の加工部に載置された半導体
パッケージのリードを該ダイ側加工部との間で所定の形
状に加工するパンチ側加工部を設け、このパンチ側加工
部に、ダイヤモンドまたはCBNを主成分とする超高硬
度焼結体を配設したことを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems and to achieve such an object, the present invention firstly provides a die which can be relatively moved toward and away from a punch. A die-side processing part for mounting a semiconductor package and processing a lead of the semiconductor package into a predetermined shape between the lead-side processing part and the punch-side processing part; Secondly, a high-hardness sintered body is provided, and secondly, a semiconductor package mounted on a processed portion on the die side is provided on a punch which can be relatively separated from and separated from the die. A punch-side processing part for processing the lead into a predetermined shape between the lead-side processing part and the die-side processing part is provided, and an ultra-high-hardness sintered body mainly composed of diamond or CBN is provided in the punch-side processing part. It is characterized by.

【0008】すなわち、本発明では、ダイやパンチの加
工部に、ダイヤモンドやCBNの超硬質粒子をバインダ
ーを介して高温高圧で焼結した超高硬度焼結体が配設さ
れているので、DLCコーティングやTiNコーティン
グに比べては高い耐摩耗性を得ることができる一方、ダ
イヤモンドを直接的にコーティングしたダイヤモンドコ
ーティングに比べては加工性がよく、従って所定の形状
の凹凸曲部を高精度に形成することが可能となる。さら
に、こうして焼結により形成された超高硬度焼結体は、
コーティングされた皮膜よりは均質で、適当な大きさに
成形したものを上記加工部にろう付け等によって接合し
たりして配設することにより、剥離などを生じることな
く長期に亙って安定的に加工に供することができる。な
お、上記加工部においては上述のようにその凹曲接部に
応力が集中するため、上記超高硬度焼結体は、該超高硬
度焼結体が配設される加工部のうち、少なくともこの加
工部が凹凸曲する部分に配設されるのが望ましい。
That is, according to the present invention, the ultra-hard sintered body obtained by sintering ultra-hard particles of diamond or CBN at a high temperature and a high pressure via a binder is disposed in the processing part of the die or the punch. Higher abrasion resistance than coating and TiN coating can be obtained, but workability is better than diamond coating which directly coated diamond. It is possible to do. Furthermore, the ultra-high hardness sintered body thus formed by sintering is
It is stable over a long period of time without peeling, etc. Can be used for processing. In addition, since stress concentrates on the concave bending contact portion in the processed portion as described above, the ultra-high hardness sintered body is at least one of the processed portions in which the ultra-high hardness sintered body is disposed. It is desirable that this processed portion is disposed in a portion that is curved in an uneven manner.

【0009】さらに、本発明は、第3に、ダイ側の加工
部に向けて出没可能とされる位置決め治具の先端に、上
記ダイ側の加工部に載置された半導体パッケージに当接
して該加工部上の上記半導体パッケージの位置を位置決
めする当接部を設け、この当接部に、ダイヤモンドまた
はCBNを主成分とする超高硬度焼結体を配設したこと
を特徴とする。しかるに、上述のようなダイやパンチを
備えた半導体リード加工用工具では、ダイ側の加工部に
半導体パッケージを載置した上で、このダイ側加工部に
向けて位置決め治具を出没させて、その先端の当接部を
加工部上の半導体パッケージに当接させることにより、
該半導体パッケージの加工部上の位置を所定の位置に位
置決めするようにしており、このような位置決め治具先
端の当接部においても摩耗が生じると、半導体パッケー
ジを正確に位置決めすることができなくなってリードの
加工精度も損なわれることになるが、この第3の発明で
はそのような当接部に上記超高硬度焼結体を配すること
により、このような問題点を解消することが可能とな
る。
Furthermore, the present invention is, in the third aspect, abutting a tip of a positioning jig which can be protruded and retracted toward a processing part on the die side to a semiconductor package mounted on the processing part on the die side. A contact portion for positioning a position of the semiconductor package on the processed portion is provided, and an ultra-high-hardness sintered body mainly composed of diamond or CBN is provided in the contact portion. However, in a semiconductor lead processing tool provided with a die or a punch as described above, a semiconductor package is placed on a processing portion on the die side, and a positioning jig is caused to protrude and retract toward the processing portion on the die side. By contacting the contact part at the tip with the semiconductor package on the processing part,
The position of the processed portion of the semiconductor package on the processed portion is positioned at a predetermined position, and if the abutting portion of such a positioning jig also wears, the semiconductor package cannot be accurately positioned. However, in the third invention, such a problem can be solved by arranging the ultra-high hardness sintered body in such a contact portion. Becomes

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】図1ないし図3は、本発明の第1
の実施形態としてのダイ11と第2の実施形態としての
パンチ12と第3の実施形態としての複数(本実施形態
では4つ)の位置決め治具13…とを示すものであり、
図示されない加工機の下側に上記ダイ11が取り付けら
れるとともに上側には上記パンチ12が取り付けられ、
これらダイ11とパンチ12とは互いに対向して上記加
工機により上下方向に相対的に離接可能とされるととも
に、上記位置決め治具13…はこれら上下方向に離接す
るダイ11およびパンチ12の周りに配置されている。
ここで、これら第1、第2の実施形態のダイ11および
パンチ12は、図1に示すように長方形平板状にパッケ
ージングされた半導体パッケージPの互いに反対側を向
く一対の側面からリードLが突出させられたDIPのリ
ードL加工用のものであり、いずれも上記加工機側に取
り付けられる平板状の取付部14,15に、断面「凹」
字形をなして突壁状に延びる加工部16,17が一体に
設けられた構成とされている。
1 to 3 show a first embodiment of the present invention.
A die 11 as an embodiment, a punch 12 as a second embodiment, and a plurality (four in the present embodiment) of positioning jigs 13 as a third embodiment.
The die 11 is attached to the lower side of a processing machine (not shown) and the punch 12 is attached to the upper side,
The die 11 and the punch 12 are opposed to each other and can be relatively separated in the vertical direction by the processing machine, and the positioning jigs 13 are arranged around the die 11 and the punch 12 separated in the vertical direction. Are located in
Here, as shown in FIG. 1, the die 11 and the punch 12 of the first and second embodiments have leads L from a pair of side faces facing each other of a semiconductor package P packaged in a rectangular flat plate shape. It is for processing the lead L of the protruded DIP, and each of the flat-shaped mounting portions 14 and 15 mounted on the processing machine side has a “recessed” cross section.
Processing portions 16 and 17 extending in the shape of a protruding wall in the shape of a letter are provided integrally.

【0011】このうち、第1の実施形態のダイ11側の
加工部16の先端部においては、このダイ側加工部16
の断面「凹」字形をなす一対の突壁部18,18の互い
に対向する内壁面18A,18A間の間隔が上記半導体
パッケージPの幅よりも僅かに大きく設定されていて、
これらの内壁面18A,18A間に半導体パッケージP
が位置した状態で、突壁部18,18の上側を向く先端
面18B,18B上に半導体パッケージPの両側の上記
リードLがそれぞれ載置可能とされている。また、この
突壁部18の上記先端面18Bと両突壁部18,18同
士で互いに反対側を向く各突壁部18の外壁面18Cと
の交差稜線部分は、断面1/4円弧状をなす凸曲部18
Dとされている。
Of these, at the tip of the processing portion 16 on the die 11 side of the first embodiment, the die-side processing portion 16
The interval between the opposing inner wall surfaces 18A, 18A of the pair of projecting wall portions 18, 18 having a “recessed” cross section is set to be slightly larger than the width of the semiconductor package P,
A semiconductor package P is provided between these inner wall surfaces 18A, 18A.
Are positioned, the leads L on both sides of the semiconductor package P can be placed on the tip surfaces 18B, 18B facing the upper side of the protruding wall portions 18, 18, respectively. The crossing ridge line between the front end face 18B of the protruding wall portion 18 and the outer wall surface 18C of each protruding wall portion 18 facing each other on both protruding wall portions 18 has a 1/4 arc shape in cross section. Convex curved part 18
D.

【0012】一方、第2の実施形態のパンチ12側の上
記加工部17においても、その断面「凹」字形をなす一
対の突壁部19,19の互いに対向する内壁面19A,
19A間の間隔は、半導体パッケージPの幅よりも大き
く設定され、特にダイ側加工部16の上記内壁面18
A,18A間の間隔よりも僅かに大きくされるととも
に、両突壁部19,19同士で互いに反対側を向く外壁
面19B,19B間の間隔もダイ側加工部16の両外壁
面18C,18C同士の間隔より大きくされている。さ
らに、各突壁部19の下側を向く先端面19Cと上記内
壁面19Aとの交差稜線部分には、上記凸曲面18Dよ
りもほぼリードLの厚さ分だけ大きな曲率半径を有する
断面1/4円弧状の凹曲部19Dが形成されている。
On the other hand, also in the processing portion 17 on the side of the punch 12 in the second embodiment, opposed inner wall surfaces 19A, 19A of a pair of projecting wall portions 19, 19 having a "recessed" cross section.
The interval between the semiconductor package P is set to be larger than the width of the semiconductor package P.
The distance between the outer wall surfaces 19B, 19B, which are slightly larger than the distance between A, 18A, and which are opposite to each other between the two projecting wall portions 19, 19, are also the outer wall surfaces 18C, 18C of the die-side processing portion 16. It is larger than the distance between them. Further, a cross-section 1 / having a radius of curvature larger by the thickness of the lead L than the convex curved surface 18D is formed at the intersection ridge line between the tip surface 19C facing the lower side of each projecting wall portion 19 and the inner wall surface 19A. A four-arc concave portion 19D is formed.

【0013】そして、これらダイ11、パンチ12の加
工部16,17において、上記凸曲部18Dおよび凹曲
部19Dを含む部分には、それぞれダイヤモンドまたは
CBNを主成分とする超高硬度焼結体20,21が配設
されている。なお、これらの超高硬度焼結体20,21
以外のダイ11およびパンチ12の本体部分は、本実施
形態では超硬合金または鋼材によって形成されている。
In the working portions 16 and 17 of the die 11 and the punch 12, portions including the above-mentioned convexly curved portion 18 D and concavely curved portion 19 D are respectively provided with ultra-high hardness sintered bodies mainly composed of diamond or CBN. 20, 21 are provided. In addition, these ultra-high hardness sintered bodies 20, 21
In the present embodiment, the other parts of the die 11 and the punch 12 are formed of a cemented carbide or a steel material.

【0014】ここで、これら第1、第2の実施形態で
は、そのダイ側加工部16およびパンチ側加工部17の
突壁部18,19の先端面18B,19Cと内壁面18
A,19Aとの交差稜線部分に、それぞれの先端側およ
び内側に開口する凹部18E,19Eが、上記凸曲部1
8Dおよび凹曲部19Dを含む範囲を断面L字状に切り
欠くようにして形成されており、ダイ11の凹部18E
には凸曲部18Dが形成された断面略扇形の上記超高硬
度焼結体20が、またパンチ12の凹部19Eには凹曲
部19Dが形成された断面略L字形の上記超高硬度焼結
体21が、それぞれその突壁部18,19側の上記先端
面18B,19Cと内壁面18A,19Aとに連なる側
面をこれら先端面18B,19Cおよび内壁面18A,
19Aに面一となるようにして、活性ろう材等によって
ろう付けされて接合されることにより配設されている。
さらに、これらの超高硬度焼結体20,21の上記凸曲
部18Dおよび凹曲部19Dと上記側面とは、その表面
粗さがRy3.2μm以下となるように設定されてい
る。
In the first and second embodiments, the front end surfaces 18B and 19C of the projecting wall portions 18 and 19 of the die-side processing portion 16 and the punch-side processing portion 17 and the inner wall surface 18 are provided.
A and 19A are provided with concave portions 18E and 19E, which open to the front end side and inward, respectively, at the intersection ridge line portion with the convex curved portion 1A.
8D and a concave portion 19D are formed so as to be cut out in an L-shaped cross section, and the concave portion 18E of the die 11 is formed.
The super-hardness sintered body 20 having a substantially fan-shaped cross section having a convex curved portion 18D formed thereon, and the ultra-high-hardness sintered body having a substantially L-shaped cross section having a concave curved portion 19D formed in a concave portion 19E of the punch 12 is provided. The body 21 is formed by connecting the side surfaces connected to the end surfaces 18B, 19C and the inner wall surfaces 18A, 19A on the protruding wall portions 18, 19 side to the end surfaces 18B, 19C and the inner wall surfaces 18A, 19A, respectively.
It is arranged by brazing with an active brazing material or the like so as to be flush with 19A.
Furthermore, the surface roughness of the convex portions 18D and the concave portions 19D of the ultra-high hardness sintered bodies 20 and 21 and the side surfaces are set to be Ry 3.2 μm or less.

【0015】一方、上記4つの位置決め治具13…は、
基端部が扁平したL字状とされた概略四角柱状のピン型
部材であって、図2に示すように上記ダイ11とパンチ
12とが相対的に離接してリードLを加工する前のダイ
側加工部16上に半導体パッケージPが載置された状態
において、この半導体パッケージPのリードLよりも上
側の側面部を通る一つの水平面上に、それぞれその先端
部を上記側面部に垂直に対向させ、かつ互いに平面視に
十字に延びるように配設されている。さらに、各位置決
め治具13…は、図示されない出没装置によって半導体
パッケージP側すなわち上記ダイ側加工部16に向けて
出没可能とされており、ダイ側加工部16から後退した
状態においては、ダイ11とパンチ12との相対的な離
接には干渉しないようにされる一方、ダイ側加工部16
側に突出した状態においては、その先端部が半導体パッ
ケージPの上記各側面部に当接して一対ずつ互いに反対
側から該半導体パッケージPを直線上に挟み込むように
されており、これにより、このダイ側加工部16上にお
ける半導体パッケージPの位置が上記一つの水平面に沿
って所定の位置に位置決めされるようになされている。
On the other hand, the four positioning jigs 13 are:
A substantially square pillar-shaped pin-shaped member having a flat L-shaped base end, and the die 11 and the punch 12 are relatively separated from each other as shown in FIG. In a state where the semiconductor package P is mounted on the die-side processed portion 16, the front ends of the semiconductor package P are perpendicular to the side surface on one horizontal plane passing through the side surface above the lead L of the semiconductor package P. They are arranged so as to face each other and extend crosswise in a plan view. Further, each positioning jig 13 is capable of protruding and retracting toward the semiconductor package P side, that is, the die-side processing portion 16 by a retracting device (not shown). And the punch 12 is prevented from interfering with each other.
In the state protruding to the side, the front end portions thereof come into contact with the respective side surface portions of the semiconductor package P so as to sandwich the semiconductor package P linearly from opposite sides one by one. The position of the semiconductor package P on the side processing portion 16 is positioned at a predetermined position along the one horizontal plane.

【0016】従って、これらの第3の実施形態の位置決
め治具13…においては、それぞれその先端部が半導体
パッケージPへの当接部22とされることとなり、本実
施形態ではこの当接部22の全体に、ダイヤモンドやC
BNを主成分とする超高硬度焼結体23が、やはり活性
ろう材等によるろう付けによって接合されて取り付けら
れている。なお、この第3の実施形態においては、上述
のように位置決め治具13が四角柱状に形成されてい
て、半導体パッケージPの上記側面部に当接する超高硬
度焼結体23より成る当接部22の先端面も四角形の平
坦面状に形成されており、第1、第2の実施形態のダイ
11やパンチ12のように加工部16,17の凸曲部1
8Dや凹曲部19D上に超高硬度焼結体20,21が配
設されてはいない。
Therefore, in each of the positioning jigs 13 of the third embodiment, the tip ends thereof are the contact portions 22 to the semiconductor package P, and in the present embodiment, the contact portions 22 are provided. Of diamonds and C
An ultra-high-hardness sintered body 23 mainly composed of BN is joined and attached by brazing with an active brazing material or the like. In the third embodiment, the positioning jig 13 is formed in the shape of a quadrangular prism as described above, and the abutting portion made of the ultra-hard sintered body 23 abutting on the side surface of the semiconductor package P The tip end surface of the machining portion 16 is also formed in the shape of a square flat surface, like the die 11 and the punch 12 of the first and second embodiments.
The ultrahigh-hardness sintered bodies 20, 21 are not provided on the 8D or the concavely curved portion 19D.

【0017】このように構成された半導体リード加工用
工具、すなわちダイ11、パンチ12、および位置決め
治具13…においては、まず図2に示すようにダイ11
の加工部16における突壁部18,18の先端面18
B,18BにリードLが載せられて該加工部16上に半
導体パッケージPが載置された上で、この半導体パッケ
ージPの上記側面部に上記出没装置によって突出させら
れた位置決め治具13…先端の当接部22が当接するこ
とにより、該半導体パッケージPの位置が位置決めされ
る。次いで、各位置決め治具13を後退させた上でダイ
11とパンチ12とを相対的に接近させることにより、
図3に示すようにこれらのダイ側加工部16とパンチ側
加工部17との間で上記リードLが挟み込まれて折り曲
げられ、下向きに延びるL字状に加工される。すなわ
ち、より詳しくは、リードLの上記凸曲部18D上に位
置する部分が、この凸曲部18Dとパンチ12の上記凹
曲部19Dとの間に挟み込まれることによって1/4円
弧状をなすように90°下向きに折り曲げられ、これに
より該リードLがその先端を下向きにしてL字状に加工
されるのである。
In the semiconductor lead machining tool having such a structure, that is, the die 11, the punch 12, and the positioning jigs 13,...
End surface 18 of protruding wall portions 18, 18 in machined portion 16
After the lead L is placed on the B and 18B and the semiconductor package P is placed on the processing portion 16, the positioning jig 13 which is protruded from the side surface of the semiconductor package P by the projecting device,. The position of the semiconductor package P is determined by the abutment of the abutment portions 22. Next, the die 11 and the punch 12 are relatively approached after each positioning jig 13 is retracted,
As shown in FIG. 3, the lead L is sandwiched and bent between the die-side processing portion 16 and the punch-side processing portion 17, and is processed into an L-shape extending downward. That is, in more detail, a portion of the lead L located on the convex curved portion 18D is interposed between the convex curved portion 18D and the concave curved portion 19D of the punch 12 to form a quarter-arc shape. Thus, the lead L is processed into an L-shape with its tip facing downward.

【0018】しかして、まず上記構成のダイ11および
パンチ12によれば、このようにしてリードLを折り曲
げて加工するその加工部16,17に、ダイヤモンドや
CBNを主成分とする超高硬度焼結体20,21が配設
されており、従ってダイやパンチの全体がこれらの加工
部を含めて超硬合金によって形成されている場合に比べ
ては勿論、これらの加工部にDLCコーティングやTi
Nコーティングが施されたものに比べても、耐摩耗性の
大幅な向上を図ることができる。その一方で、上記加工
部にダイヤモンドコーティングが施された工具に対して
は、コストの抑制を図ることができるとともに、加工性
がよいので、ダイ側加工部16の上記凸曲部18Dや特
にパンチ側加工部17の上記凹曲部19Dを精度よく形
成することができ、従って上記リードLも高精度に加工
することが可能となるという効果が得られる。
According to the die 11 and the punch 12 having the above-described structure, the processing portions 16 and 17 where the lead L is bent and processed in this manner are subjected to an ultra-high hardness firing mainly composed of diamond or CBN. The binders 20 and 21 are provided, so that the DLC coating or Ti coating is applied to these processed parts as compared with the case where the entire die or punch is formed of a cemented carbide including these processed parts.
Abrasion resistance can be significantly improved as compared with the case where the N coating is applied. On the other hand, for a tool in which the above-mentioned processing portion is coated with diamond, the cost can be suppressed and the workability is good. The concave portion 19D of the side processing portion 17 can be formed with high accuracy, and therefore, the effect that the lead L can be processed with high accuracy can be obtained.

【0019】そして、何よりもこの超高硬度焼結体2
0,21は、上述のようにダイヤモンドやCBNをバイ
ンダーを介して焼結してなるものであって、ダイヤモン
ドコーティングやDLCコーティング、TiNコーティ
ングのような皮膜を加工部表面にコーティングしたもの
に比べ、均質な組成のものをばらつきなく安定して焼結
成形して供給することができ、上記皮膜のように部分的
に剥離したり脱落したりしてしまうようなことがない。
従って、上記耐摩耗性の向上効果とも相俟って、上述の
ような高い加工精度をより長期に亙って安定的に維持す
ることができるので、上記構成の半導体リード加工用工
具、すなわちダイ11やパンチ12によれば、工具寿命
の大幅な延長を図るとともに、工具交換頻度を低減して
交換作業や調整作業に要する総時間を削減することが可
能となり、これにより効率的かつ経済的なリードLの加
工を行うことができる。
And, above all, this ultra-high hardness sintered body 2
Nos. 0 and 21 are obtained by sintering diamond or CBN via a binder as described above, and are compared with those obtained by coating a surface such as a diamond coating, a DLC coating, or a TiN coating on the surface of a processed portion. It is possible to sinter and supply a homogeneous composition stably without variation, and there is no partial peeling or falling off as in the case of the above-mentioned film.
Accordingly, the above-described high machining accuracy can be stably maintained for a longer period of time in combination with the above-described effect of improving the wear resistance. According to the punch 11 and the punch 12, the tool life can be greatly extended, and the frequency of tool change can be reduced to reduce the total time required for the change work and the adjustment work. Processing of the lead L can be performed.

【0020】しかも、上記第1、第2の実施形態におい
ては、特にリードLの折り曲げの際に応力が集中する加
工部16,17の上記凸曲部18Dと凹曲部19Dとに
上記超高硬度焼結体20,21が配設されているので、
このような応力集中にも拘らず、より確実に高い加工精
度の維持と工具寿命の延長とを促すことができる。ま
た、こうして凸曲部18Dと凹曲部19Dとに超高硬度
焼結体20,21を配設するに際して、本実施形態では
加工部16,17の突壁部18,19先端に凹部18
E,19Eを断面L字状に切り欠くように形成し、これ
らの凹部18E,19Eに超高硬度焼結体20,21を
ろう付けして接合することにより配設しているので、こ
の超高硬度焼結体20,21の大きさを必要最小限に抑
えて一層の低コスト化を図ることができる一方、加工部
16,17とのろう付け面積は十分に確保して該超高硬
度焼結体20,21の脱落等を確実に防止することが可
能となる。
In addition, in the first and second embodiments, the super-height portions are formed on the convex portions 18D and the concave portions 19D of the processing portions 16, 17 where stress is concentrated particularly when the lead L is bent. Since the hardness sintered bodies 20 and 21 are provided,
Despite such stress concentration, maintenance of high machining accuracy and extension of tool life can be more reliably promoted. Further, when the super-hardened sintered bodies 20 and 21 are disposed on the convex curved portion 18D and the concave curved portion 19D in this embodiment, the concave portions 18 are formed at the tips of the protruding wall portions 18 and 19 of the processed portions 16 and 17 in the present embodiment.
E, 19E are formed so as to be cut out in an L-shaped cross section, and the super-hard sintered bodies 20, 21 are brazed and joined to these recesses 18E, 19E. The size of the high-hardness sintered bodies 20 and 21 can be minimized to further reduce the cost, while the brazing area with the working portions 16 and 17 can be sufficiently secured to achieve the ultra-high hardness. It is possible to reliably prevent the sintered bodies 20 and 21 from falling off.

【0021】なお、本実施形態ではこのように、超硬合
金や鋼材よりなるダイ11やパンチ12の加工部16,
17先端に形成された凹部18E,19Eに超高硬度焼
結体20,21を、活性ろう材等によってろう付けする
ことにより直接的に接合して配設しているが、例えば超
高硬度焼結体と超硬合金とを一体に焼結成形して層状焼
結体を形成するとともに、この層状焼結体の超高硬度焼
結体部分に上記凸曲部18Dや凹曲部19Dを形成した
ものを、超硬合金や鋼材よりなるダイ11やパンチ12
の本体の突壁部先端にろう付け等によって接合したりし
て加工部16,17に配設するようにしてもよい。ま
た、場合によっては、超硬合金よりなるダイ11やパン
チ12の本体とその加工部16,17の超高硬度焼結体
20,21部分とを一体に焼結成形することにより、こ
れらの半導体リード加工用工具を製造することも可能で
ある。
In this embodiment, as described above, the processing portion 16 of the die 11 and the punch 12 made of cemented carbide or steel is used.
The ultra-high hardness sintered bodies 20, 21 are directly joined to the recesses 18E, 19E formed at the tip 17 by brazing with an active brazing material or the like. The sintered body and the cemented carbide are integrally sintered and formed to form a layered sintered body, and the above-mentioned protruding portion 18D and concave portion 19D are formed in the ultra-high hardness sintered portion of the layered sintered body. Die 11 and punch 12 made of cemented carbide or steel
And may be arranged on the processing portions 16 and 17 by brazing or the like to the tip of the protruding wall portion of the main body. In some cases, these semiconductors are formed by integrally sintering the main body of the die 11 or the punch 12 made of cemented carbide and the ultra-high-hardness sintered bodies 20 and 21 of the processing portions 16 and 17 thereof. It is also possible to manufacture a tool for lead processing.

【0022】一方、当該半導体リード加工用工具では、
これら第1,第2の実施形態のダイ11およびパンチ1
2に併せて、第3の実施形態として位置決め治具13…
が備えられており、上述のようにこれらの位置決め治具
13…が出没してその先端の当接部22がダイ11の加
工部16上に載置された半導体パッケージPの側面部に
当接することにより、この加工部16における半導体パ
ッケージPの位置が位置決めされ、これによってリード
Lも正確に所定の位置で折り曲げられるようになされて
いる。そして、本実施形態では、この13の上記当接部
22も、ダイヤモンドやCBNを主成分とする超高硬度
焼結体23によって形成されているので、直接的にリー
ドLを曲げ加工したりはしないものの、この当接部22
の半導体パッケージPとの接触による摩耗等を防ぐこと
ができ、従って長期に亙って半導体パッケージPをダイ
側加工部16上の所定の位置に精度よく位置決めするこ
とが可能となって、リードLの加工精度も高精度に維持
することができる。
On the other hand, in the semiconductor lead machining tool,
The die 11 and the punch 1 according to the first and second embodiments
2 and a positioning jig 13 as a third embodiment.
As described above, these positioning jigs 13 protrude and retract, and the contact portion 22 at the tip thereof contacts the side surface portion of the semiconductor package P placed on the processed portion 16 of the die 11. Thus, the position of the semiconductor package P in the processing portion 16 is determined, whereby the lead L can be bent exactly at a predetermined position. In the present embodiment, since the contact portion 22 of the thirteen is also formed of the ultra-high hardness sintered body 23 mainly composed of diamond or CBN, it is not possible to directly bend the lead L. Although the contact portion 22 is not
Abrasion due to contact with the semiconductor package P can be prevented, and therefore, the semiconductor package P can be accurately positioned at a predetermined position on the die-side processing portion 16 for a long period of time, and the leads L The processing accuracy can be maintained with high accuracy.

【0023】次に、図4ないし図6は本発明の第4の実
施形態としてのダイ24と第5の実施形態としてのパン
チ25とを示すものであり、図1ないし図3に示した実
施形態と共通する部分には同一の符号を配して説明を省
略する。すなわち、これら第4、第5の実施形態の半導
体リード加工用工具としてのダイ24およびパンチ22
は、方形平板状の半導体パッケージPの4つの側面から
リードLが突出したQFP用のものであり、加工機側に
取り付けられる取付部14,15にはそれぞれ4つの突
壁部18…,19…が平面視に方形状に設けられてい
て、ダイ側加工部26およびパンチ側加工部27とされ
ている。
FIGS. 4 to 6 show a die 24 as a fourth embodiment of the present invention and a punch 25 as a fifth embodiment of the present invention. The same reference numerals are assigned to portions common to the embodiments, and description thereof will be omitted. That is, the die 24 and the punch 22 as the semiconductor lead processing tools of the fourth and fifth embodiments are used.
Are for a QFP in which leads L project from four side surfaces of a semiconductor package P having a rectangular plate shape, and four projecting wall portions 18, 19... Are formed in a square shape in plan view, and are a die-side processing portion 26 and a punch-side processing portion 27.

【0024】ここで、このようなQFPの半導体パッケ
ージPは、そのリードLの先端が回路基板の端子上に位
置決めされて載置された上で、このリードL先端と端子
とをはんだ付けすることにより接続されることが多く、
このためこのリードLは、上記DIPの場合と同様に一
旦下向きにL字状に折り曲げられた後、その下端が外側
にL字状に折り曲げられた、概略S字状に加工されるこ
ととなる。そこで、これに合わせて本実施形態では、上
記ダイ側加工部26の突壁部18の先端面18Bが、そ
の内壁部18A側の部分18aに対して外壁部18Cの
部分18cが一段後退するように形成されており、この
うち内壁面18A側の部分18aとこの部分18aから
外壁面18C側の部分18b側に向かう壁面部分18c
との交差稜線部分には凸曲部18Dが、またこの壁面部
分18cと上記外壁面18C側の部分18bとの交差稜
線部には凹曲部18Fがそれぞれ形成されている。
Here, in such a QFP semiconductor package P, the tip of the lead L is positioned and mounted on the terminal of the circuit board, and then the tip of the lead L and the terminal are soldered. Are often connected by
Therefore, the lead L is once bent downward in an L-shape as in the case of the above-described DIP, and then the lower end thereof is bent outward in an L-shape. . Accordingly, in this embodiment, the tip surface 18B of the protruding wall portion 18 of the die-side processing portion 26 is configured such that the portion 18c of the outer wall portion 18C is retracted by one step with respect to the portion 18a on the inner wall portion 18A side. A portion 18a on the inner wall surface 18A side and a wall portion 18c from the portion 18a toward the portion 18b side on the outer wall surface 18C side
A convex curved portion 18D is formed at the intersection ridge line portion of the outer wall surface 18C, and a concave curved portion 18F is formed at the intersection ridge line portion between the wall surface portion 18c and the portion 18b on the outer wall surface 18C side.

【0025】一方、上記パンチ側加工部27の突壁部1
9の先端面19Cにおいては、これとは逆に、内壁面1
9A側の部分19aが外壁面19B側の部分19bより
も一段後退するように形成され、これらの部分19a,
19b間の壁面部分19cと内壁面19A側の部分19
aとの交差稜線部分には凹曲部19Dが、また該壁面部
分19cと外壁面19B側の部分19bとの交差稜線部
には凸曲部19Fがそれぞれ形成されている。しかし
て、本実施形態では、これらの部分18a〜18c,1
9a〜19cおよび上記凹凸曲部18F,19D,18
D,19Fが形成された突壁部18,19の先端部分全
体が、それぞれダイヤモンドやCBNを主成分とする超
高硬度焼結体28,29をろう付けすることによって形
成されている。
On the other hand, the projecting wall portion 1 of the punch side machining portion 27
On the other hand, the inner wall surface 1
The portion 19a on the 9A side is formed to retreat one step from the portion 19b on the outer wall surface 19B, and these portions 19a,
The wall portion 19c between 19b and the portion 19 on the inner wall surface 19A side
A concave curved portion 19D is formed at the intersection ridge line with a, and a convex curved portion 19F is formed at the intersection ridge line between the wall surface portion 19c and the portion 19b on the outer wall surface 19B side. Thus, in the present embodiment, these portions 18a to 18c, 1
9a to 19c and the concave / convex curved portions 18F, 19D, 18
The entire distal end portions of the protruding wall portions 18 and 19 on which D and 19F are formed are formed by brazing ultra-high-hardness sintered bodies 28 and 29 mainly containing diamond or CBN, respectively.

【0026】従って、このように構成された第4、第5
の実施形態の半導体リード加工用工具、すなわちダイ2
4、パンチ25においても、その加工部26,27にダ
イヤモンドやCBNを主成分とする上記超高硬度焼結体
28,29が配設されているので、第1、第2の実施形
態と同様に耐摩耗性の向上を図って高い加工精度を長期
に亙って安定的に維持し、効率的かつ経済的なリードL
の加工を行うことが可能となる。また、これら第4、第
5の実施形態ではダイ側加工部26とパンチ側加工部2
7との双方に凸曲部18D,19Fと凹曲部18F,1
9Dとがそれぞれ形成されているのに対し、その突壁部
18,19の先端部分全体が超高硬度焼結体28,29
によって形成されており、これらの凹凸曲部18F,1
9D,18D,19Fに集中する応力に対しても十分な
耐摩耗性を確保することが可能となる。
Therefore, the fourth and fifth components thus constructed are
Lead machining tool of the embodiment, ie, die 2
4. Also in the punch 25, since the ultra-high-hardness sintered bodies 28 and 29 containing diamond or CBN as a main component are disposed in the processing portions 26 and 27, the same as in the first and second embodiments. In order to improve the abrasion resistance, high machining accuracy is stably maintained over a long period of time, and an efficient and economical lead L
Can be processed. In the fourth and fifth embodiments, the die-side processing unit 26 and the punch-side processing unit 2
7, the convex curved portions 18D and 19F and the concave curved portions 18F and 1F
9D are formed, respectively, while the entire distal end portions of the projecting wall portions 18 and 19 are formed of ultra-hard sintered bodies 28 and 29.
These uneven curved portions 18F, 1
Sufficient wear resistance can be ensured even for stress concentrated on 9D, 18D, and 19F.

【0027】なお、この第4、第5の実施形態において
も、第1、第2の実施形態と同様に突壁部18,19の
先端に断面L字状に切り欠いた凹部を形成して、これら
の凹部に上記凹凸曲部18F,19D,18D,19F
が形成された断面L字状の超高硬度焼結体28,29を
接合したりして配設するようにしてもよい。また、この
ようにリードLをS字状に2段に曲折するように加工す
る際には、例えば上記第1、第2の実施形態のダイ1
1、パンチ12によってリードLをL字状に曲折した
後、その先端を第4、第5の実施形態のダイ24、パン
チ25によってさらに外側に曲折するようにしてもよ
く、この場合には第1、第2の実施形態の第11、パン
チ12によって加工する際に、リードLを完全に90°
にまで折り曲げずに、僅かに外側に開いた状態にさせて
おくのが望ましい。さらに、これら図4ないし図6の第
4、第5の実施形態や次述する図7および図8の第6、
第7の実施形態の半導体リード加工用工具では図示され
てはいないが、これらにおいても上述のような位置決め
治具を併せて備えるのが望ましく、その場合には、上記
第3の実施形態の位置決め治具13のように半導体パッ
ケージPに当接する当接部22に超高硬度焼結体23が
配設されるのが望ましい。
In the fourth and fifth embodiments as well, similarly to the first and second embodiments, recesses are formed at the tips of the projecting wall portions 18 and 19 by cutting out L-shaped sections. The concave and convex curved portions 18F, 19D, 18D, 19F are formed in these concave portions.
The super-hard sintered bodies 28 and 29 having an L-shaped cross-section and formed thereon may be joined or disposed. When the lead L is bent in two steps in an S-shape, the die 1 of the first and second embodiments may be used.
1. After the lead L is bent into an L shape by the punch 12, the tip may be further bent outward by the die 24 and the punch 25 of the fourth and fifth embodiments. 1. When processing with the eleventh and punch 12 of the second embodiment, the lead L is completely 90 °
It is desirable to keep it slightly open outward without bending it. Further, the fourth and fifth embodiments of FIGS. 4 to 6 and the sixth and fifth embodiments of FIGS.
Although not shown in the semiconductor lead machining tool of the seventh embodiment, it is desirable that these also include the positioning jig as described above, in which case, the positioning jig of the third embodiment is used. It is desirable that an ultra-high-hardness sintered body 23 be provided at a contact portion 22 that contacts the semiconductor package P like the jig 13.

【0028】次に、図7および図8は本発明の第6、第
7の実施形態のダイ31、パンチ32を示すものであっ
て、これらは特に半導体パッケージPが1辺数mm程度の
極小さいもののリードLを略S字状に折り曲げ加工する
ためのものである。ここで、第6の実施形態のダイ31
は、そのダイ側加工部33が直方体ブロック状の突部3
4を備え、この突部34の先端部中央には半導体パッケ
ージPの幅と略等しい幅の頂部が平坦な突条部34Aが
形成されるとともに、この突条部34Aの両側部分は外
側に向かうに従い緩やかに後退傾斜する傾斜面34B,
34Bとされている。
FIGS. 7 and 8 show a die 31 and a punch 32 according to sixth and seventh embodiments of the present invention. This is for bending a small lead L into a substantially S-shape. Here, the die 31 of the sixth embodiment is used.
The die-side processing portion 33 has a rectangular parallelepiped block-shaped projection 3.
In the center of the tip of the protrusion 34, a protrusion 34A having a flat top with a width substantially equal to the width of the semiconductor package P is formed, and both side portions of the protrusion 34A face outward. Inclined surface 34B that gradually recedes in accordance with
34B.

【0029】一方、第7の実施形態のパンチ32のパン
チ側加工部35も上記ダイ31と同様に直方体ブロック
状の突部36を備え、その先端部には上記突条部34A
の幅よりも大きな溝幅の断面「コ」字状の凹溝36Aが
形成されるとともに、この凹溝36Aの両側の部分は外
側に向けて緩やかに先端側に突出する傾斜面36B,3
6Bとされている。さらに、これらの傾斜面36B,3
6Bの内側の凹溝36Aとの交差稜線部分は凸曲部36
C,36Cとされている。そして、本実施形態では、上
記ダイ側加工部33においてその突部34の先端部全体
が突条部34および傾斜面34B,34Bを含めて超高
硬度焼結体37により形成されている一方、パンチ側加
工部35では、突部36の先端側において上記凹溝36
Aの両外側の上記傾斜面36B,36Bを含む一対の突
壁部分の先端部が超高硬度焼結体38,38とされてい
る。
On the other hand, the punch-side processing portion 35 of the punch 32 according to the seventh embodiment also has a rectangular parallelepiped block-like projection 36 similar to the die 31, and the tip thereof has the projection 34A.
A groove 36A having a U-shaped cross section having a groove width larger than the width of the groove 36A is formed, and both sides of the groove 36A are inclined surfaces 36B, 3 gently projecting outward toward the distal end.
6B. Furthermore, these inclined surfaces 36B, 3
The intersection ridge line portion with the concave groove 36A inside 6B is a convex curved portion 36.
C and 36C. In the present embodiment, the entire front end of the protrusion 34 in the die-side processed portion 33 is formed of the ultra-high hardness sintered body 37 including the protrusions 34 and the inclined surfaces 34B, 34B. In the punch-side processing portion 35, the concave groove 36
The tips of a pair of projecting wall portions including the inclined surfaces 36B, 36B on both outer sides of A are made of ultra-high hardness sintered bodies 38, 38.

【0030】このように構成された第6、第7の実施形
態において、半導体パッケージPはダイ31のダイ側加
工部33の上記突条部34A上に載置され、これに対向
してパンチ32を接近させることにより、そのリードL
は図8に示すように、まずパンチ側加工部35の上記凸
曲部36C,36Cに押し付けられて下方に折り曲げら
れた後、その先端がこのパンチ側加工部35の上記傾斜
面36B,36Bとダイ側加工部33の上記傾斜面34
B,34Bとの間に挟み込まれて外側に折り曲げられ、
概略S字状に加工される。そして、これら第6、第7の
実施形態でも、そのダイ31のダイ側加工部33とパン
チ32のパンチ側加工部35とに超高硬度焼結体37,
38が配設されているので、上記第1、第2および第
4、第5の実施形態と同様の効果を得ることができる。
また、特に第6の実施形態のダイ31にあっては、半導
体パッケージPを上記突条部34A上に載置して位置決
めしているので、この半導体パッケージPが上述のよう
に極小さなものであっても安定して保持することがで
き、一層高精度の加工を促すことが可能となる。
In the sixth and seventh embodiments configured as described above, the semiconductor package P is placed on the ridge 34A of the die-side processed portion 33 of the die 31, and the punch 32 is opposed thereto. , The lead L
As shown in FIG. 8, firstly, after being pressed downward by the convex portions 36C, 36C of the punch-side processing portion 35 and bent downward, the tip ends thereof are in contact with the inclined surfaces 36B, 36B of the punch-side processing portion 35. The inclined surface 34 of the die-side processing portion 33
B, 34B and are bent outward,
It is processed into an approximate S shape. Also in these sixth and seventh embodiments, the ultra-high-hardness sintered body 37, the die-side processed portion 33 of the die 31 and the punch-side processed portion 35 of the punch 32 are provided.
Since the 38 is provided, the same effects as those of the first, second, fourth, and fifth embodiments can be obtained.
In the die 31 of the sixth embodiment, the semiconductor package P is placed on the ridge portion 34A and positioned, so that the semiconductor package P is extremely small as described above. Even if there is, it can be stably held, and it is possible to promote processing with higher precision.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ダイ側の加工部やパンチ側の加工部、あるいは先端の当
接部にダイヤモンドやCBNを主成分とする超高硬度焼
結体を配設することにより、これらの加工部や当接部の
耐摩耗性を向上させつつも、該加工部を精度よく形成す
ることができるとともに剥離などによる精度の劣化も防
ぐことができ、従って高い加工精度を長期に亙って安定
して維持することが可能となって、効率的かつ経済的な
半導体リードの加工を促すことができる。
As described above, according to the present invention,
By disposing an ultra-high-hardness sintered body containing diamond or CBN as a main component in the processing part on the die side, the processing part on the punch side, or the contact part at the tip, the resistance of these processed parts and contact parts is improved. While improving the abrasion, the processed part can be formed with high accuracy and the precision can be prevented from deteriorating due to delamination, so that high processing accuracy can be stably maintained over a long period of time. As a result, efficient and economical processing of semiconductor leads can be promoted.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の第1〜第3の実施形態を示す図であ
る。
FIG. 1 is a diagram showing first to third embodiments of the present invention.

【図2】 図1に示す実施形態による加工前の断面図で
ある。
FIG. 2 is a sectional view before processing according to the embodiment shown in FIG. 1;

【図3】 図1に示す実施形態による加工時の断面図で
ある。
FIG. 3 is a sectional view at the time of processing according to the embodiment shown in FIG. 1;

【図4】 本発明の第4、第5の実施形態を示す図であ
る。
FIG. 4 is a diagram showing fourth and fifth embodiments of the present invention.

【図5】 図4に示す実施形態による加工前の断面図で
ある。
FIG. 5 is a sectional view before processing according to the embodiment shown in FIG. 4;

【図6】 図4に示す実施形態による加工時の断面図で
ある。
FIG. 6 is a sectional view at the time of processing according to the embodiment shown in FIG. 4;

【図7】 本発明の第6、第7の実施形態を示す図であ
る。
FIG. 7 is a diagram showing sixth and seventh embodiments of the present invention.

【図8】 図7に示す実施形態による加工時の断面図で
ある。
FIG. 8 is a cross-sectional view at the time of processing according to the embodiment shown in FIG. 7;

【図9】 従来の半導体リード加工用工具を示す図であ
る。
FIG. 9 is a view showing a conventional tool for processing semiconductor leads.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11,24,31 ダイ(半導体リード加工用工具) 12,25,32 パンチ(半導体リード加工用工具) 13 位置決め治具(半導体リード加工用工具) 16,26,33 ダイ側加工部 17,27,35 パンチ側加工部 18D,19F,36C 凸曲部 18F,19D 凹曲部 18E,19E 凹部 20,21,23,28,29,37,38 超高硬度
焼結体 22 当接部 P 半導体パッケージ L リード
11, 24, 31 Die (semiconductor lead processing tool) 12, 25, 32 Punch (semiconductor lead processing tool) 13 Positioning jig (semiconductor lead processing tool) 16, 26, 33 Die side processing section 17, 27, 35 Punch side processing portion 18D, 19F, 36C Convex curved portion 18F, 19D Concave curved portion 18E, 19E Concave portion 20, 21, 23, 28, 29, 37, 38 Ultra-hard sintered body 22 Contact portion P Semiconductor package L Lead

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 健 岐阜県安八郡神戸町大字横井字中新田1528 番地 三菱マテリアル株式会社岐阜製作所 内 Fターム(参考) 4E070 AB15 BC13 5F067 DA11  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Ken Takahashi 1528 Nakashinda, Yokoi, Kobe-cho, Anpachi-gun, Gifu Prefecture F-term in Mitsubishi Materials Corporation Gifu Works (reference) 4E070 AB15 BC13 5F067 DA11

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 パンチに対向して相対的に離接可能とさ
れるダイに、半導体パッケージが載置されてそのリード
を上記パンチ側の加工部との間で所定の形状に加工する
ダイ側加工部が設けられ、このダイ側加工部には、ダイ
ヤモンドまたはCBNを主成分とする超高硬度焼結体が
配設されていることを特徴とする半導体リード加工用工
具。
1. A die side on which a semiconductor package is mounted on a die which is relatively detachable and opposed to a punch, and a lead of the semiconductor package is processed into a predetermined shape between the die and a processing portion on the punch side. A tool for processing semiconductor leads, wherein a processing part is provided, and an ultra-hard sintered body containing diamond or CBN as a main component is disposed in the die-side processing part.
【請求項2】 ダイに対向して相対的に離接可能とされ
るパンチに、上記ダイ側の加工部に載置された半導体パ
ッケージのリードを該ダイ側加工部との間で所定の形状
に加工するパンチ側加工部が設けられ、このパンチ側加
工部には、ダイヤモンドまたはCBNを主成分とする超
高硬度焼結体が配設されていることを特徴とする半導体
リード加工用工具。
2. A semiconductor device comprising a semiconductor package mounted on a processing part on the die side and a punch having a predetermined shape formed between the punch and the processing part on the die side. 1. A tool for processing semiconductor leads, characterized in that a punch-side processing portion for processing is provided, and an ultra-high-hardness sintered body containing diamond or CBN as a main component is disposed in the punch-side processing portion.
【請求項3】 上記超高硬度焼結体は、該超高硬度焼結
体が配設される上記加工部のうち、少なくとも該加工部
が凹凸曲する部分に配設されていることを特徴とする請
求項1または請求項2に記載の半導体リード加工用工
具。
3. The ultra-high-hardness sintered body is characterized in that at least the processed part of the processed part on which the ultra-high-hardness sintered body is disposed is provided at a portion where the processed part is unevenly curved. The semiconductor lead machining tool according to claim 1 or 2, wherein
【請求項4】 ダイ側の加工部に向けて出没可能とされ
る位置決め治具の先端に、上記ダイ側の加工部に載置さ
れた半導体パッケージに当接して該加工部上の上記半導
体パッケージの位置を位置決めする当接部が設けられ、
この当接部には、ダイヤモンドまたはCBNを主成分と
する超高硬度焼結体が配設されていることを特徴とする
半導体リード加工用工具。
4. A semiconductor package mounted on the processing part on the die is brought into contact with a tip of a positioning jig which can be protruded and retracted toward the processing part on the die side and the semiconductor package on the processing part. A contact portion for positioning the position of
A semiconductor lead machining tool characterized in that an ultra-high-hardness sintered body containing diamond or CBN as a main component is disposed in the contact portion.
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