JP2001355823A - Thermal oxidizing and decomposition type waste gas treating device and operating method thereof - Google Patents

Thermal oxidizing and decomposition type waste gas treating device and operating method thereof

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JP2001355823A
JP2001355823A JP2000180340A JP2000180340A JP2001355823A JP 2001355823 A JP2001355823 A JP 2001355823A JP 2000180340 A JP2000180340 A JP 2000180340A JP 2000180340 A JP2000180340 A JP 2000180340A JP 2001355823 A JP2001355823 A JP 2001355823A
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exhaust gas
heater
decomposition type
waste gas
treating device
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Akiko Nakajima
晶子 中島
Yoshiaki Sugimori
由章 杉森
Osayasu Tomita
修康 富田
Shuichi Koseki
修一 小関
Hirotaka Mangyo
大貴 万行
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Japan Oxygen Co Ltd
Nippon Sanso Corp
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Japan Oxygen Co Ltd
Nippon Sanso Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermal oxidizing and decomposing type waste gas treating device and the operating method of the device capable of reducing an electric power consumption while effecting the removal treatment of poisonous constituents surely. SOLUTION: A heater installed in the thermal oxidizing and decomposing type waste gas treating device is divided into a plurality of series and the operation of respective heaters is controlled in accordance with the condition of the poisonous constituents in waste gas.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、熱酸化分解式排ガ
ス処理装置及びその運転方法に関し、詳しくは、半導体
や液晶の製造装置から排出される排ガス等に含まれるモ
ノシラン、ジクロルシラン、ホスフィン等の可燃性ガス
や、六フッ化エタン、三フッ化窒素等の不燃性又は支燃
性ガスのような有害成分を熱酸化分解処理によって無害
化する熱酸化分解式排ガス処理装置及びその運転方法に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thermal oxidative decomposition type exhaust gas treatment apparatus and a method of operating the same, and more particularly, to the combustion of monosilane, dichlorosilane, phosphine, etc. contained in exhaust gas discharged from a semiconductor or liquid crystal manufacturing apparatus. The present invention relates to a thermal oxidative decomposition type exhaust gas treatment apparatus for detoxifying harmful components such as nonflammable or combustible gases such as reactive gas and ethane hexafluoride and nitrogen trifluoride by thermal oxidative decomposition treatment and a method of operating the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体工業プロセス、例えば、半導体製
造装置や液晶製造装置から排出される排ガス中には、毒
性ガス、腐食性ガス、可燃性ガス、地球環境に悪影響を
及ぼす不燃性ガス等の有害成分が含まれているため、こ
れらの有害成分の除害(無害化)処理を行ってから排ガ
スを排出する必要がある。排ガスの除害を行うための装
置の一つとして、例えば特開平10−85555号公報
に記載されているような熱酸化分解式排ガス処理装置が
知られている。
2. Description of the Related Art Harmful gases such as toxic gases, corrosive gases, flammable gases, and non-flammable gases that adversely affect the global environment are contained in exhaust gas discharged from semiconductor manufacturing processes such as semiconductor manufacturing equipment and liquid crystal manufacturing equipment. Since the components are contained, it is necessary to perform the detoxification (detoxification) treatment of these harmful components before discharging the exhaust gas. 2. Description of the Related Art As one of the apparatuses for removing exhaust gas, a thermal oxidation decomposition type exhaust gas processing apparatus described in, for example, JP-A-10-85555 is known.

【0003】この熱酸化分解式排ガス処理装置は、電気
ヒーターを内蔵した反応器内に排ガスを導入し、電気ヒ
ーターによって排ガスを1000℃以上に加熱すること
により、有害成分を熱酸化して分解するようにしてい
る。
[0003] In this thermal oxidation decomposition type exhaust gas treatment apparatus, exhaust gas is introduced into a reactor containing an electric heater, and the exhaust gas is heated to 1000 ° C or more by the electric heater to thermally oxidize and decompose harmful components. Like that.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の熱酸化
分解式排ガス処理装置は、排ガス等の除害処理を行って
いない場合や、排ガス中の有害成分が比較的熱分解しや
すい可燃性ガスの場合であっても、常に電気ヒーターを
作動させているため、消費電力量が極めて多くなり、除
害処理のランニングコストが高くなって半導体等の製造
コストにも影響を与えることがあった。
However, the conventional thermal oxidative decomposition type exhaust gas treatment apparatus does not perform harmful treatment of exhaust gas or the like, or flammable gas in which harmful components in exhaust gas are relatively easily thermally decomposed. Even in the case of (1), since the electric heater is always operated, the power consumption becomes extremely large, the running cost of the detoxification treatment is increased, and the production cost of semiconductors and the like may be affected.

【0005】そこで本発明は、有害成分の除害処理を確
実に行いながら電力消費量の低減を図れる熱酸化分解式
排ガス処理装置及びその運転方法を提供することを目的
としている。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a thermo-oxidative decomposition type exhaust gas treatment apparatus capable of reducing power consumption while reliably performing harmful component removal treatment and an operation method thereof.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の熱酸化分解式排ガス処理装置は、排ガスを
ヒーターで加熱して該排ガス中の有害成分を酸化分解し
て無害化する熱酸化分解式排ガス処理装置において、前
記ヒーターを複数の系統に分割するとともに、排ガス中
の有害成分の状態に応じて各ヒーターの作動を制御する
制御装置を設けたことを特徴としている。
Means for Solving the Problems To achieve the above object, a thermal oxidative decomposition type exhaust gas treatment apparatus of the present invention heats exhaust gas with a heater to oxidize and decompose harmful components in the exhaust gas to render them harmless. The oxidative decomposition type exhaust gas treatment apparatus is characterized in that the heater is divided into a plurality of systems, and a control device is provided for controlling the operation of each heater according to the state of harmful components in the exhaust gas.

【0007】また、本発明の熱酸化分解式排ガス処理装
置の運転方法は、上記構成の熱酸化分解式排ガス処理装
置の運転方法であって、該装置に流入する前記排ガス中
の有害成分を分析し、該分析結果に基づいて前記制御装
置を介して各ヒーターの作動を制御することを特徴とし
ている。
[0007] A method of operating a thermal oxidation decomposition type exhaust gas treatment apparatus according to the present invention is an operation method of a thermal oxidation decomposition type exhaust gas treatment apparatus having the above-mentioned structure, wherein harmful components in the exhaust gas flowing into the apparatus are analyzed. The operation of each heater is controlled via the control device based on the analysis result.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】図1及び図2は、本発明の熱酸化
分解式排ガス処理装置における反応器の一形態例を示す
もので、図1は縦断面図、図2は図1のII−II線断
面図である。なお、反応器の前後に設けられているガス
水洗設備やフィルター等は、従来と同様に形成できるの
で、図示及び詳細な説明は省略する。
1 and 2 show an embodiment of a reactor in a thermal oxidative decomposition type exhaust gas treatment apparatus according to the present invention. FIG. 1 is a longitudinal sectional view, and FIG. 2 is II in FIG. FIG. 2 is a sectional view taken along line II. The gas washing equipment and filters provided before and after the reactor can be formed in the same manner as in the prior art, so that illustration and detailed description are omitted.

【0009】まず、熱酸化分解式排ガス処理装置の反応
器11は、円筒状の密閉容器内に、大径筒状のメインヒ
ーター12と小径筒状のサブヒーター13とを同心円状
に配置し、両ヒーター12,13と、サブヒーター天板
14及びメインヒーター底板15とにより、サブヒータ
ー13内周の第1流路16、メインヒーター内周とサブ
ヒーター外周との間の第2流路17、メインヒーター外
周と容器内周との間の第3流路18をそれぞれ形成して
いる。
First, a reactor 11 of a thermal oxidation decomposition type exhaust gas treatment apparatus has a large-diameter cylindrical main heater 12 and a small-diameter cylindrical sub-heater 13 concentrically arranged in a cylindrical closed vessel. The first and second heaters 12, 13 and the sub-heater top plate 14 and the main heater bottom plate 15 form a first flow path 16 on the inner circumference of the sub-heater 13, a second flow path 17 between the inner circumference of the main heater and the outer circumference of the sub-heater, Third flow paths 18 are formed between the outer periphery of the main heater and the inner periphery of the container.

【0010】除害処理を行う排ガスは、サブヒーター1
3の内方上部に開口したガス流入管19から反応器11
内に流入し、サブヒーター13によって加熱されながら
第1流路16を流下する。第1流路16を出た排ガス
は、メインヒーター底板15に突き当たって反転し、両
ヒーター12,13によって加熱されながら第2流路1
7内を上昇する。さらに、第2流路17を出た排ガス
は、サブヒーター天板14に突き当たって反転し、メイ
ンヒーター12によって加熱されながら第3流路18内
を下降し、反応器11の下端に設けられた排気管20か
ら排出される。
Exhaust gas to be subjected to detoxification treatment is supplied to the sub heater 1
3 through the gas inflow pipe 19 opened to the upper inside.
And flows down the first flow path 16 while being heated by the sub-heater 13. The exhaust gas flowing out of the first flow path 16 hits the main heater bottom plate 15 and is inverted.
7 rise inside. Further, the exhaust gas that has flowed out of the second flow path 17 hits the sub-heater top plate 14, is inverted, descends in the third flow path 18 while being heated by the main heater 12, and is provided at the lower end of the reactor 11. It is discharged from the exhaust pipe 20.

【0011】通常の運転時は、メイン・サブ両ヒーター
12,13に通電し、排ガスを1000℃以上の高温に
加熱し、六フッ化エタン、三フッ化窒素等の不燃性ガス
や支燃性ガスを含む各種有害成分の熱酸化分解処理を行
う。
During normal operation, both the main and sub heaters 12 and 13 are energized to heat the exhaust gas to a high temperature of 1000 ° C. or more, and the non-combustible gas such as ethane hexafluoride and nitrogen trifluoride and the combustion support Performs thermal oxidative decomposition treatment of various harmful components including gas.

【0012】そして、排ガス中の有害成分が、モノシラ
ンのような可燃性ガスのみの場合は、メインヒーター1
2又はサブヒーター13への通電を停止し、いずれか一
方のヒーターのみを作動させた状態とする。このとき、
一方のヒーターのみでは、排ガスを1000℃以上に加
熱することは困難であるが、有害成分が可燃性ガスの場
合、例えばモノシランやホスフィンは室温でも自然発火
するので、500℃程度に加熱することにより、許容濃
度未満にまで除害処理することができる。
When the harmful components in the exhaust gas are only flammable gas such as monosilane, the main heater 1
The power supply to the second or sub-heater 13 is stopped, and only one of the heaters is operated. At this time,
It is difficult to heat the exhaust gas to 1000 ° C. or more with only one heater, but when the harmful component is a flammable gas, for example, monosilane and phosphine spontaneously ignite even at room temperature. , Can be treated to a concentration lower than the allowable concentration.

【0013】このように、不燃性ガスや支燃性ガスが反
応器11に流入するときにのみ両ヒーター12,13を
作動させ、可燃性ガスのみが流入するときには一方のヒ
ーターのみを作動させるようにすることにより、消費電
力を大幅に低減することができる。また、一方のヒータ
ーを作動させてある程度以上の温度に保持しておくこと
により、不燃性ガスや支燃性ガスが流入するときの立ち
上がりも短時間で行うことができる。
As described above, the heaters 12 and 13 are operated only when the non-combustible gas or the supporting gas flows into the reactor 11, and only one heater is operated when only the combustible gas flows. By doing so, power consumption can be significantly reduced. In addition, by operating one of the heaters and maintaining the temperature at a certain level or more, the rise when the non-combustible gas or the supporting gas flows in can be performed in a short time.

【0014】このようなメインヒーター12、サブヒー
ター13のオンオフは、切換えスイッチ等の簡単な構成
の制御装置(図示せず)で行うことができ、例えば、排
ガス発生源の運転状況で排ガス中の有害成分の種類が決
まる場合は、運転状況に応じて手動でヒーターの作動を
切換えることも可能であり、排ガス発生源の運転操作に
連動した信号でヒーターを切換えるようにすることもで
きる。また、オンオフではなく容量制御を行うこともで
きる。
The turning on and off of the main heater 12 and the sub-heater 13 can be performed by a control device (not shown) having a simple configuration such as a changeover switch. When the type of the harmful component is determined, the operation of the heater can be manually switched according to the operating condition, and the heater can be switched by a signal linked to the operation of the exhaust gas generation source. Also, capacity control can be performed instead of on / off.

【0015】なお、反応容器やその内部のヒーターの配
置、流路の形状等の構造は任意であり、処理量等の条件
に応じて適宜な構造を採用することができ、ヒーターを
3系統以上に分割して2段階以上のヒーター制御を行う
ことも可能である。
The structure of the reaction vessel and the arrangement of the heater therein, the shape of the flow path, and the like are arbitrary, and an appropriate structure can be adopted according to the conditions such as the throughput and the like. It is also possible to perform the heater control in two or more stages by dividing into two.

【0016】図3は、本発明方法の一形態例を示すもの
であって、排ガス発生源の運転状況に関係なく、自動的
にヒーターの制御を行うようにした例を示す概略系統図
である。本形態例では、半導体製造装置や液晶製造装置
等の排ガス発生源21から熱酸化分解式排ガス処理装置
の反応器11に至る排ガス経路22に、排ガス中の有害
成分を分析する分析計23を設置し、該分析計23の分
析結果に基づいて制御装置24によりヒーター12,1
3を制御するようにしている。
FIG. 3 shows an embodiment of the method of the present invention, and is a schematic system diagram showing an example in which the heater is automatically controlled regardless of the operating condition of the exhaust gas generation source. . In the present embodiment, an analyzer 23 for analyzing harmful components in exhaust gas is installed in an exhaust gas path 22 from an exhaust gas source 21 such as a semiconductor manufacturing apparatus or a liquid crystal manufacturing apparatus to a reactor 11 of a thermal oxidation decomposition type exhaust gas processing apparatus. Then, based on the analysis result of the analyzer 23, the controller 12 controls the heaters 12, 1.
3 is controlled.

【0017】例えば、分析計23としてフーリエ変換赤
外分光分析計(FT−IR)を使用して高温での処理が
必要な不燃性、支燃性有害成分の分析を行い、これらが
検出されたら、あるいは、これらが所定濃度以上になっ
たら、制御装置24を介して両ヒーター12,13を作
動状態とし、これらが検出されない場合等は、制御装置
24を介して例えばサブヒーター13への通電を停止し
てメインヒーター12のみで熱分解処理を行うようにす
る。
For example, a Fourier transform infrared spectrometer (FT-IR) is used as the analyzer 23 to analyze nonflammable and combustible harmful components that require high-temperature processing. Alternatively, when these concentrations become equal to or higher than the predetermined concentration, the heaters 12 and 13 are activated via the control device 24. If these are not detected, for example, the sub-heater 13 is energized via the control device 24. The thermal decomposition process is stopped and the main heater 12 alone is used.

【0018】さらに、この分析計23を使用した制御
と、前述の排ガス発生源21の運転操作に連動した信号
を使用した制御とを併用することにより、最小の電力消
費量で確実な除害処理運転を行うことができる。
Further, by using both the control using the analyzer 23 and the control using the signal linked to the operation of the exhaust gas generation source 21 described above, reliable detoxification processing with minimum power consumption can be achieved. Driving can be performed.

【0019】[0019]

【実施例】図1,図2に示す構造で、メインヒーターの
表面温度を1200℃、サブヒーターの表面温度を60
0℃に設定した反応器内に、1L/minの六フッ化エ
タンを窒素で希釈して総流量を200L/minとした
ガスを導入して除害処理を1時間行った。反応容器から
排出されたガス中の六フッ化エタン濃度をFT−IR
(Midac社製I−2000)で測定したが、常に4
00ppm程度で安定していた。このときの電力使用量
は12kWであった。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the structure shown in FIGS. 1 and 2, the surface temperature of the main heater is 1200.degree.
A gas having a total flow rate of 200 L / min by diluting 1 L / min of ethane hexafluoride with nitrogen was introduced into the reactor set at 0 ° C., and the detoxification treatment was performed for 1 hour. The concentration of ethane hexafluoride in the gas discharged from the reaction vessel was determined by FT-IR
(Midac I-2000).
It was stable at about 00 ppm. The power consumption at this time was 12 kW.

【0020】次に、メインヒーターの作動を停止させた
状態で、2L/minのモノシランを窒素で希釈して総
流量を200L/minとしたガスを反応容器内に導入
し、サブヒーターのみによる除害処理を1時間行った。
反応容器から排出されたガス中のモノシラン濃度をガス
検知器(バイオニクス社製TG−4000TA)で測定
したが、常に5ppm未満であった。このときの電力使
用量は8kWであった。
Next, while the operation of the main heater is stopped, 2 L / min of monosilane is diluted with nitrogen to introduce a gas having a total flow rate of 200 L / min into the reaction vessel, and the gas is removed only by the sub-heater. Damage treatment was performed for 1 hour.
The concentration of monosilane in the gas discharged from the reaction vessel was measured with a gas detector (TG-4000TA manufactured by Bionics), and was always less than 5 ppm. The power consumption at this time was 8 kW.

【0021】すなわち、有害成分がモノシランのような
可燃性ガスのみの場合は、メインヒーターを停止させて
除害処理を行うことにより、1時間あたり4kwの電力
を節減できることになる。
That is, when the harmful component is only a flammable gas such as monosilane, the power consumption of 4 kW per hour can be saved by stopping the main heater and performing the detoxification process.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
熱酸化分解処理による除害処理を確実に行いながら、電
力消費量を低減することができ、除害処理のランニング
コストを削減することができる。
As described above, according to the present invention,
The power consumption can be reduced while reliably performing the abatement treatment by the thermal oxidative decomposition treatment, and the running cost of the abatement treatment can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の熱酸化分解式排ガス処理装置におけ
る反応器の一形態例を示す縦断面図である。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing one embodiment of a reactor in a thermal oxidation decomposition type exhaust gas treatment apparatus of the present invention.

【図2】 図1のII−II線断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II of FIG.

【図3】 本発明方法の一形態例を示す概略系統図であ
る。
FIG. 3 is a schematic system diagram showing one embodiment of the method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11…反応器、12…メインヒーター、13…サブヒー
ター、14…サブヒーター天板、15…メインヒーター
底板、16…第1流路、17…第2流路、18…第3流
路、19…ガス流入管、20…排気管、21…排ガス発
生源、22…排ガス経路、23…分析計、24…制御装
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Reactor, 12 ... Main heater, 13 ... Sub heater, 14 ... Sub heater top plate, 15 ... Main heater bottom plate, 16 ... First flow path, 17 ... Second flow path, 18 ... Third flow path, 19 ... gas inflow pipe, 20 ... exhaust pipe, 21 ... exhaust gas generation source, 22 ... exhaust gas path, 23 ... analyzer, 24 ... control device

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 富田 修康 東京都港区西新橋1−16−7 日本酸素株 式会社内 (72)発明者 小関 修一 東京都港区西新橋1−16−7 日本酸素株 式会社内 (72)発明者 万行 大貴 東京都港区西新橋1−16−7 日本酸素株 式会社内 Fターム(参考) 3K062 AA23 AC19 BA02 CA05 CB08 DA21 DB14 3K078 AA03 AA05 BA20 BA26 BA29 CA08  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Shuyasu Tomita 1-16-7 Nishi-Shimbashi, Minato-ku, Tokyo Inside Nippon Sanso Corporation (72) Inventor Shuichi Koseki 1-16-7, Nishi-Shimbashi, Minato-ku, Tokyo Japan Within Oxygen Co., Ltd.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 排ガスをヒーターで加熱して該排ガス中
の有害成分を酸化分解して無害化する熱酸化分解式排ガ
ス処理装置において、前記ヒーターを複数の系統に分割
するとともに、排ガス中の有害成分の状態に応じて各ヒ
ーターの作動を制御する制御装置を設けたことを特徴と
する熱酸化分解式排ガス処理装置。
1. A thermo-oxidative decomposition type exhaust gas treatment apparatus that heats exhaust gas with a heater to oxidize and decompose harmful components in the exhaust gas to render it harmless. A thermo-oxidative decomposition type exhaust gas treatment device, comprising a control device for controlling the operation of each heater according to the state of the components.
【請求項2】 請求項1記載の熱酸化分解式排ガス処理
装置の運転方法であって、該装置に流入する前記排ガス
中の有害成分を分析し、該分析結果に基づいて前記制御
装置を介して各ヒーターの作動を制御することを特徴と
する熱酸化分解式排ガス処理装置の運転方法。
2. The method for operating a thermal oxidative decomposition type exhaust gas treatment apparatus according to claim 1, wherein harmful components in the exhaust gas flowing into the apparatus are analyzed, and based on the analysis result, the harmful component is passed through the control device. A method for operating a thermal oxidation decomposition type exhaust gas treatment apparatus, wherein the operation of each heater is controlled.
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