JP2001351205A - Thin-film magnetic head and its manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体に対
し情報の書き込みを行う薄膜磁気ヘッドに係り、特に複
数の絶縁層を有する薄膜磁気ヘッドに関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin film magnetic head for writing information on a magnetic recording medium, and more particularly to a thin film magnetic head having a plurality of insulating layers.
【０００２】[0002]
【従来の技術】図８乃至図１０は、この種の薄膜磁気ヘ
ッドの従来技術を説明するためのものであり、図８に示
すように、この薄膜磁気ヘッド２１は、Ｆｅ−Ｎｉ系合
金（パーマロイ）等の軟磁性材料からなる下部磁気コア
層２２上に、順に、アルミナ等からなるギャップ層２
３、有機絶縁材料からなる第１の絶縁層２４、Ｃｕ等の
電気抵抗が低い導電材料からなる渦巻状の導電性コイル
層２５が積層されて、第１の絶縁層２４上に、導電性コ
イル層２５を被覆する有機絶縁材料からなる第２の絶縁
層２６が形成されており、第２の絶縁層２６上には、Ｆ
ｅ−Ｎｉ系合金等の軟磁性材料からなる上部磁気コア層
２７が設けられ、上部磁気コア層２７の直線状のポール
部２８が第１，第２の絶縁層２４，２６の先端部に形成
された傾斜面２４ａ，２６ａ及びギャップ層２３の先端
部上を覆っている。2. Description of the Related Art FIGS. 8 to 10 are for explaining the prior art of this type of thin-film magnetic head. As shown in FIG. A gap layer 2 made of alumina or the like is sequentially formed on the lower magnetic core layer 22 made of a soft magnetic material such as permalloy.
3. A first insulating layer 24 made of an organic insulating material and a spiral conductive coil layer 25 made of a conductive material having a low electric resistance such as Cu are laminated, and a conductive coil is formed on the first insulating layer 24. A second insulating layer 26 made of an organic insulating material that covers the layer 25 is formed.
An upper magnetic core layer 27 made of a soft magnetic material such as an e-Ni alloy is provided, and a linear pole portion 28 of the upper magnetic core layer 27 is formed at the tip of the first and second insulating layers 24 and 26. It covers the inclined surfaces 24 a and 26 a and the tip of the gap layer 23.
【０００３】そして、媒体対向面２９側の下部磁気コア
層２２と上部磁気コア層２７との間が磁気ギャップ３０
とされ、媒体対向面２９から第１の絶縁層２４の先端ま
での距離が磁気ギャップ３０のギャップ深さＧｄとなっ
ており、この磁気ギャップ３０のギャップ深さゼロの位
置が第１の絶縁層２４の先端位置で決定されている。ま
た、上部磁気コア層２７は下部磁気コア層２２よりも幅
細に形成され、図９に示すように、より幅細に形成され
たポール部２８の先端部の幅がトラック幅Ｔｗとされて
おり、トラック幅Ｔｗが上部磁気コア層２７のポール部
２８の先端部の幅によって定められている。A magnetic gap 30 is formed between the lower magnetic core layer 22 and the upper magnetic core layer 27 on the medium facing surface 29 side.
The distance from the medium facing surface 29 to the tip of the first insulating layer 24 is the gap depth Gd of the magnetic gap 30, and the position of the magnetic gap 30 where the gap depth is zero is the first insulating layer. 24 are determined. The upper magnetic core layer 27 is formed to be narrower than the lower magnetic core layer 22. As shown in FIG. 9, the width of the tip of the narrower pole portion 28 is set to the track width Tw. The track width Tw is determined by the width of the tip of the pole 28 of the upper magnetic core layer 27.
【０００４】このように構成された薄膜磁気ヘッド２１
では、その導電性コイル層２５に記録電流が与えられる
と、下部磁気コア層２２及び上部磁気コア層２７に記録
磁界が誘導され、媒体対向面２９における磁気ギャップ
３０からの漏れ磁界により磁気記録媒体に対し情報の書
き込みが行われるようになっている。The thin-film magnetic head 21 constructed as described above
Then, when a recording current is applied to the conductive coil layer 25, a recording magnetic field is induced in the lower magnetic core layer 22 and the upper magnetic core layer 27, and the leakage magnetic field from the magnetic gap 30 in the medium facing surface 29 causes the magnetic recording medium to move. The information is written to the.
【０００５】この薄膜磁気ヘッド２１の製造は、図１０
Ａ乃至図１０Ｃに示すように、先ず、下部磁気コア層２
２上にギャップ層２３および第１の絶縁層２４から第２
の絶縁層２６までの各層を順次形成し、次いで、図１０
Ｄに示すように、ギャップ層２３の先端部上から第２の
絶縁層２６上にわたりＦｅ−Ｎｉ系合金等の軟磁性材料
からなるめっき下地層３１を形成して、めっき下地層３
１上にレジスト層３２を塗布形成する。次に、フォトリ
ソグラフィー技術を用いてこのレジスト層３２を露光・
現像してレジスト層３２を部分的に除去し、ポール部２
８を含めた上部磁気コア層２７の形状に対応するパター
ンをレジスト層３２に形成したのち、レジスト膜３２が
除去された前記パターン部分に電気めっきを施して上部
磁気コア層２７及びそのポール部２８を形成する。そし
て、残ったレジスト層３２を除去することにより薄膜磁
気ヘッド２１の製造が完了する。The production of the thin-film magnetic head 21 is described in FIG.
10A to 10C, first, the lower magnetic core layer 2
2 from the gap layer 23 and the first insulating layer 24 to the second
Each layer up to the insulating layer 26 of FIG.
As shown in D, a plating base layer 31 made of a soft magnetic material such as an Fe—Ni alloy is formed from the top of the gap layer 23 to the top of the second insulating layer 26.
A resist layer 32 is applied and formed on 1. Next, this resist layer 32 is exposed and exposed using photolithography technology.
The resist layer 32 is partially removed by developing, and the pole portion 2 is removed.
After forming a pattern corresponding to the shape of the upper magnetic core layer 27 including the resist layer 8 on the resist layer 32, the pattern portion from which the resist film 32 has been removed is subjected to electroplating to form the upper magnetic core layer 27 and its pole portions 28. To form Then, the manufacture of the thin-film magnetic head 21 is completed by removing the remaining resist layer 32.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の薄膜磁気ヘッド２１にあっては、ギャップ層２
３上に第１の絶縁層２４が形成され、さらにこの第１の
絶縁層２４上に第２の絶縁層２６が形成されており、ギ
ャップ層２３の上面から第２の絶縁層２６の上面までの
膜厚寸法Ｔ１が大きなものとなっているため、めっき下
地層３１上に塗布形成されるレジスト層３２は流動性を
有することから、ギャップ層２３の先端部上から第１，
第２の絶縁層２４，２６の傾斜面２４ａ，２６ａ上にか
けてのレジスト層３２の膜厚Ｔ２が厚くなって、この部
分においてフォトリソグラフィー技術による解像度が極
端に悪くなり、その結果、レジスト層３２に形成される
前記パターンの寸法精度が著しく低下し、上部磁気コア
層２７のポール部２８の先端部の幅、すなわちトラック
幅Ｔｗを精度良く形成することができず、狭トラック化
を実現することができないという問題があった。However, in the above-mentioned conventional thin film magnetic head 21, the gap layer 2
3, a first insulating layer 24 is formed, and a second insulating layer 26 is further formed on the first insulating layer 24. From the upper surface of the gap layer 23 to the upper surface of the second insulating layer 26, Is large, the resist layer 32 applied and formed on the plating base layer 31 has fluidity.
The thickness T2 of the resist layer 32 over the inclined surfaces 24a and 26a of the second insulating layers 24 and 26 is increased, and the resolution by the photolithography technique is extremely deteriorated in this portion. The dimensional accuracy of the pattern to be formed is remarkably reduced, and the width of the tip of the pole portion 28 of the upper magnetic core layer 27, that is, the track width Tw cannot be formed with high accuracy. There was a problem that it was not possible.
【０００７】また、フォトリソグラフィー技術によりレ
ジスト層３２に前記パターンを形成する際に、レジスト
層３２を露光する光が第１，第２の絶縁層２４，２６の
先端に形成された傾斜面２４ａ，２６ａで乱反射を起こ
すことによって前記パターンに歪みが生じ、上部磁気コ
ア層２７のポール部２８の先端部を所定のトラック幅Ｔ
ｗに精度良く形成することができないという問題があ
り、この問題は、第１，第２の絶縁層２４，２６を上部
磁気コア層２７の後端部側（矢印Ｙ方向）に後退させて
ポール部２８を長くすることによって解決できるが、ギ
ャップ深さＧｄが大きくなって磁気記録媒体に対するオ
ーバーライト特性等の情報書き込み特性に悪影響を与え
ることとなる。When the pattern is formed on the resist layer 32 by photolithography, light for exposing the resist layer 32 is exposed to the inclined surfaces 24a, 24a formed at the tips of the first and second insulating layers 24, 26. The pattern is distorted by the irregular reflection at 26a, and the tip of the pole portion 28 of the upper magnetic core layer 27 is moved to a predetermined track width T.
The problem is that the first and second insulating layers 24 and 26 are retracted to the rear end side (in the direction of arrow Y) of the upper magnetic core layer 27 to prevent the pole from being formed. The problem can be solved by increasing the length of the portion 28, but the gap depth Gd is increased, which adversely affects information writing characteristics such as overwriting characteristics with respect to the magnetic recording medium.
【０００８】図１１は、複数個の薄膜磁気ヘッド２１の
トラック幅Ｔｗを測定した結果を示すグラフであり、薄
膜磁気ヘッド２１のトラック幅Ｔｗがその所定値０．５
７μｍに対して大きくばらつき、この所定値から外れた
トラック幅Ｔｗを有する薄膜磁気ヘッド２１が数多く存
在することが見て取れる。FIG. 11 is a graph showing the result of measuring the track width Tw of a plurality of thin film magnetic heads 21. The track width Tw of the thin film magnetic head 21 is set to a predetermined value of 0.5.
It can be seen that there are many thin-film magnetic heads 21 having a track width Tw that greatly fluctuates from 7 μm and deviates from this predetermined value.
【０００９】本発明は上述した従来技術の事情に鑑みて
なされたもので、その目的は、上部磁気コア層の先端部
を所定のトラック幅に精度良く形成することができ、情
報書き込み特性の良好な薄膜磁気ヘッド及びその製造方
法を提供することにある。The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances of the prior art, and has as its object to form the leading end of the upper magnetic core layer with a predetermined track width with high accuracy, and to improve the information writing characteristics. And a method of manufacturing the same.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の薄膜磁気ヘッドは、上部磁気コア層と、こ
の上部磁気コア層に対向して配置された下部磁気コア層
と、これら上部磁気コア層と下部磁気コア層との間に設
けられた導電性コイル層と、前記下部磁気コア層と前記
導電性コイル層との間に設けられ、前記下部磁気コア層
と前記導電性コイル層とを電気的に絶縁する第１の絶縁
層と、前記上部磁気コア層と前記導電性コイル層との間
に設けられ、前記上部磁気コア層と前記導電性コイル層
とを電気的に絶縁する第２の絶縁層とを備え、前記第１
の絶縁層は、前記上部磁気コア層の先端部と対向する前
記下部磁気コア層の先端部を除いた該下部磁気コア層上
に設けられ、前記上部・下部両磁気コア層間には、前記
下部磁気コア層の先端部上に、前記第１の絶縁層の厚み
に等しい膜厚を有する下部磁極層が前記第１の絶縁層の
先端に連続して形成されており、この下部磁極層上に前
記上部磁気コア層の先端部がギャップ層を介して設けら
れているとともに、前記第２の絶縁層が前記下部磁極層
よりも前記上部磁気コア層の後端部側に位置しているこ
とを特徴としている。In order to achieve the above object, a thin film magnetic head according to the present invention comprises an upper magnetic core layer, a lower magnetic core layer disposed opposite to the upper magnetic core layer, and A conductive coil layer provided between an upper magnetic core layer and a lower magnetic core layer; and a conductive coil layer provided between the lower magnetic core layer and the conductive coil layer, wherein the lower magnetic core layer and the conductive coil A first insulating layer that electrically insulates the upper magnetic core layer and the conductive coil layer; and electrically insulates the upper magnetic core layer and the conductive coil layer from each other. A second insulating layer,
Is provided on the lower magnetic core layer excluding the tip of the lower magnetic core layer facing the tip of the upper magnetic core layer, and the lower layer is provided between the upper and lower magnetic core layers. A lower magnetic pole layer having a thickness equal to the thickness of the first insulating layer is formed continuously on the front end of the magnetic core layer at the front end of the first insulating layer. The tip of the upper magnetic core layer is provided via a gap layer, and the second insulating layer is located on the rear end side of the upper magnetic core layer with respect to the lower magnetic pole layer. Features.
【００１１】また、上記構成において、前記第１の絶縁
層には、前記下部磁極層から前記上部磁気コア層の後端
部側に所定の間隔を置いて前記導電性コイル層を収容す
る凹部が形成されていることが好ましい。In the above structure, the first insulating layer has a recess for accommodating the conductive coil layer at a predetermined distance from the lower magnetic pole layer to a rear end of the upper magnetic core layer. Preferably, it is formed.
【００１２】また、上記構成において、前記上部磁気コ
ア層は、先端部が前記ギャップ層を介して前記下部磁極
層上に設けられた幅細のポール部と、このポール部の後
端部に連設された該ポール部よりも幅広のヨーク部とを
有し、前記ポール部の後端部が、前記下部磁極層と前記
凹部と間において前記第１の絶縁層と対向していること
が好ましい。Further, in the above structure, the upper magnetic core layer has a leading end connected to a narrow pole provided on the lower pole layer via the gap layer, and a rear end of the pole. A yoke portion wider than the pole portion provided, and a rear end of the pole portion preferably faces the first insulating layer between the lower magnetic pole layer and the concave portion. .
【００１３】また、上記構成において、前記上部磁気コ
ア層と前記下部磁極層とは各々２層構造とされ、前記下
部磁極層の上層上に前記上部磁気コア層の下層が前記ギ
ャップ層を介して設けられており、前記上部磁気コア層
の下層および前記下部磁極層の上層の飽和磁束密度が、
前記上部磁気コア層の上層および前記下部磁極層の下層
の飽和磁束密度よりも高く設定されていることが好まし
い。In the above structure, each of the upper magnetic core layer and the lower magnetic pole layer has a two-layer structure, and a lower layer of the upper magnetic core layer is formed on an upper layer of the lower magnetic pole layer via the gap layer. Is provided, the saturation magnetic flux density of the lower layer of the upper magnetic core layer and the upper layer of the lower magnetic pole layer,
It is preferable that the saturation magnetic flux density is set higher than the saturation magnetic flux density of the upper layer of the upper magnetic core layer and the lower layer of the lower magnetic pole layer.
【００１４】また、上記構成において、前記ギャップ層
が前記導電性コイル層と前記第１の絶縁層との間に延設
されていることが好ましい。In the above structure, it is preferable that the gap layer extends between the conductive coil layer and the first insulating layer.
【００１５】また、上記構成において、前記下部磁気コ
ア層は、磁気記録媒体に対し情報の読み出しを行う磁気
抵抗効果型ヘッドの上部シールド層を兼ねることが好ま
しい。また、上記目的を達成するために、本発明の薄膜
磁気ヘッドの製造方法は、下部磁気コア層上に下部磁極
層を形成する工程と、前記下部磁気コア層上に第１の絶
縁層を前記下部磁極層の後端部上を覆うように形成する
工程と、前記第１の絶縁層の膜厚と前記下部磁極層の膜
厚とが等しくなるように前記第１の絶縁層を研磨する工
程と、前記第１の絶縁層に凹部を形成する工程と、前記
下部磁極層及び前記第１の絶縁層上にギャップ層を前記
凹部内に至るように形成する工程と、前記凹部内に形成
された前記ギャップ層上に導電性コイル層を形成する工
程と、前記ギャップ層上に前記導電性コイル層を被覆す
る第２の絶縁層をその先端部が前記下部磁極層の後方に
位置するように形成する工程と、前記第２の絶縁層及び
ギャップ層上に上部磁気コア層を形成する工程とを有す
ることを特徴としている。In the above structure, it is preferable that the lower magnetic core layer also serves as an upper shield layer of a magnetoresistive head for reading information from a magnetic recording medium. In order to achieve the above object, a method of manufacturing a thin-film magnetic head according to the present invention includes a step of forming a lower magnetic pole layer on a lower magnetic core layer, and a step of forming a first insulating layer on the lower magnetic core layer. Forming the lower pole layer so as to cover the rear end thereof, and polishing the first insulating layer so that the thickness of the first insulating layer is equal to the thickness of the lower pole layer. Forming a recess in the first insulating layer; forming a gap layer on the lower magnetic pole layer and the first insulating layer so as to reach the inside of the recess; Forming a conductive coil layer on the gap layer, and disposing a second insulating layer covering the conductive coil layer on the gap layer such that the tip is located behind the lower pole layer. Forming an upper magnetic layer on the second insulating layer and the gap layer. It is characterized by a step of forming a A layer.
【００１６】また、上記目的を達成するために、本発明
の薄膜磁気ヘッドは、下部磁気コア層と、前記下部磁気
コア層上に形成された下部磁極層と、少なくとも前記下
部磁極層上に形成された非磁性のギャップ層と、記録媒
体との対向面で前記ギャップ層上に形成される上部磁気
コア層と、前記下部磁極層のハイト方向後方に形成され
た、前記下部磁気コア層及び上部磁気コア層に記録磁界
を誘導するコイル層とが設けられており、前記上部磁気
コア層は、前記記録媒体との対向面でトラック幅で露出
する先端領域と、前記先端領域の終端からハイト方向後
方へ向けトラック幅方向の幅が広がる後端領域とを有
し、前記下部磁極層のハイト方向後方を前記下部磁極層
の上面と同一の高さに平坦化するための平坦絶縁層が形
成され、前記平坦絶縁層が一定の平坦面と、ハイト方向
へ後方へ向かうほどに薄くなる傾斜面を有し、前記平坦
面の高さは、前記コイル層の形成されるコイル層形成面
よりも高いことを特徴とする。According to another aspect of the present invention, there is provided a thin-film magnetic head comprising: a lower magnetic core layer; a lower magnetic pole layer formed on the lower magnetic core layer; A non-magnetic gap layer, an upper magnetic core layer formed on the gap layer at a surface facing the recording medium, and a lower magnetic core layer and an upper portion formed behind the lower magnetic pole layer in the height direction. A coil layer for inducing a recording magnetic field is provided on the magnetic core layer, and the upper magnetic core layer has a tip region exposed at a track width on a surface facing the recording medium, and a height direction from the end of the tip region. And a rear end region in which the width in the track width direction increases rearward, and a flat insulating layer for flattening a rear portion in the height direction of the lower magnetic pole layer to the same height as the upper surface of the lower magnetic pole layer is formed. The flattery The layer has a constant flat surface and an inclined surface that becomes thinner toward the rear in the height direction, and the height of the flat surface is higher than the coil layer forming surface on which the coil layer is formed. I do.
【００１７】前記平坦面の高さを前記コイル層の形成さ
れるコイル層形成面よりも高くすることにより、相対的
にギャップ層から上部コア層の後端領域までの高さを小
さくすることができるので上部磁気コア層形成時のパタ
ーン歪みが小さく、精度のよい上部磁気コア層とするこ
とができる。By making the height of the flat surface higher than the coil layer forming surface on which the coil layer is formed, it is possible to make the height from the gap layer to the rear end region of the upper core layer relatively small. As a result, pattern distortion during the formation of the upper magnetic core layer is small, and an accurate upper magnetic core layer can be obtained.
【００１８】また、前記傾斜面のハイト方向後方に延び
た平坦絶縁層上に、ギャップ層を介してあるいは直接に
前記コイル層が形成されることが好ましい。Further, it is preferable that the coil layer is formed on a flat insulating layer extending rearward in the height direction of the inclined surface via a gap layer or directly.
【００１９】また、前記平坦面の高さは、前記コイル層
の形成されるコイル層形成面よりも高く、前記コイル層
の上面の高さよりも低いことが好ましい。下部磁極層の
形成精度を向上し、下部磁極層の磁気飽和を防ぐことが
できる。Preferably, the height of the flat surface is higher than the surface on which the coil layer is formed and lower than the height of the upper surface of the coil layer. The accuracy of forming the lower magnetic pole layer can be improved, and magnetic saturation of the lower magnetic pole layer can be prevented.
【００２０】また、前記下部磁極層は、前記下部磁気コ
ア層よりも飽和磁束密度が高くすることが好ましい。下
部磁気コア層よりも下部磁極層を飽和磁束密度が高くす
ると下部磁極へ層へより磁束を集中させることができ
る。Preferably, the lower magnetic pole layer has a higher saturation magnetic flux density than the lower magnetic core layer. When the saturation magnetic flux density of the lower magnetic pole layer is higher than that of the lower magnetic core layer, the magnetic flux can be more concentrated on the lower magnetic pole layer.
【００２１】また、前記下部磁極層は、少なくとも２層
以上の磁性層が積層されて形成され、前記ギャップ層に
近い磁性層ほど飽和磁束密度が高く形成されることが好
ましい。Preferably, the lower magnetic pole layer is formed by laminating at least two or more magnetic layers, and the magnetic layer closer to the gap layer has a higher saturation magnetic flux density.
【００２２】また、前記上部磁気コア層は、少なくとも
先端流域で２層以上の磁性層が積層されて形成され、前
記ギャップ層に近い磁性層ほど飽和磁束密度が高く形成
されることが好ましい。It is preferable that the upper magnetic core layer is formed by laminating two or more magnetic layers at least in the front flow region, and the magnetic layer closer to the gap layer has a higher saturation magnetic flux density.
【００２３】下部磁極層または上部磁気コア層は、少な
くとも２層以上の磁性層が積層されて形成され、前記ギ
ャップ層に近い磁性層ほど飽和磁束密度が高く形成され
ることにより、磁気ギャップにより多くの磁束を集中さ
せることができるため、磁気記録媒体に対する情報書き
込み特性を一層良好なものとすることができる。The lower magnetic pole layer or the upper magnetic core layer is formed by laminating at least two or more magnetic layers, and the magnetic layer closer to the gap layer is formed with a higher saturation magnetic flux density, so that the magnetic gap is larger. Can be concentrated, so that the information writing characteristics on the magnetic recording medium can be further improved.
【００２４】[0024]
【発明の実施の形態】以下、本発明の薄膜磁気ヘッドの
一実施形態を磁気記録媒体に対し情報の読み出しを行う
磁気抵抗効果型ヘッドと組み合わせた場合を例として図
１乃至図７に基づいて説明する。磁気抵抗効果型ヘッド
は、異方性磁気抵抗効果（ＡＭＲ）ヘッド、巨大磁気抵
抗効果（ＧＭＲ）ヘッド、トンネル磁気抵抗効果（ＴＭ
Ｒ）ヘッド等である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment in which a thin film magnetic head according to the present invention is combined with a magnetoresistive head for reading information from a magnetic recording medium will be described below with reference to FIGS. explain. The magneto-resistance effect type head includes an anisotropic magneto-resistance effect (AMR) head, a giant magneto-resistance effect (GMR) head, a tunnel magneto-resistance effect (TM)
R) a head or the like.
【００２５】図１に示すように、薄膜磁気ヘッド１は、
磁気抵抗効果型ヘッド１２の上部シールド層を兼ねる下
部磁気コア層５と、この下部磁気コア層５上に形成され
た第１の絶縁層６及び下部磁極層７と、これら第１の絶
縁層６及び下部磁極層７上に形成されたギャップ層８
と、このギャップ層８上に形成された導電性コイル層１
０及びこの導電性コイル層１０を被覆する第２の絶縁層
１１と、この第２の絶縁層１１上に形成され、第２の絶
縁層１１の先端部に形成された傾斜面１１ａ及びギャッ
プ層８の先端部上を覆う上部磁気コア層２とを備え、上
部及び下部両磁気コア層２，５、ギャップ層８及び下部
磁極層７の各先端面が磁気記録媒体に対向する媒体対向
面１６となっている。As shown in FIG. 1, the thin-film magnetic head 1 comprises:
A lower magnetic core layer 5 also serving as an upper shield layer of the magnetoresistive head 12; a first insulating layer 6 and a lower magnetic pole layer 7 formed on the lower magnetic core layer 5; And gap layer 8 formed on lower pole layer 7
And the conductive coil layer 1 formed on the gap layer 8
0, a second insulating layer 11 covering the conductive coil layer 10, an inclined surface 11 a formed on the second insulating layer 11 and formed at a tip end of the second insulating layer 11, and a gap layer 11 a. And an upper magnetic core layer 2 covering the top of the magnetic recording medium, and the respective top surfaces of the upper and lower magnetic core layers 2 and 5, the gap layer 8 and the lower pole layer 7 face the magnetic recording medium. It has become.
【００２６】一方、薄膜磁気ヘッド１と組み合わされる
磁気抵抗効果型ヘッド１２は、上部シールド層として機
能する下部磁気コア層５と、この下部磁気コア層５と対
向して配置されたＦｅ−Ｎｉ系合金（パーマロイ）等の
軟磁性材料からなる下部シールド層１３と、下部磁気コ
ア層５と下部シールド１３間に非磁性絶縁層１４を介し
て挟持された矩形状の磁気抵抗効果素子１５とを備え、
下部磁気コア層５と下部シールド１３、非磁性絶縁層１
４及び磁気抵抗効果素子１５の各先端面が上記媒体対向
面１６とされている。尚、前記下部磁気コア層５の下側
にに磁気抵抗効果型ヘッドが積層される場合、前記下部
磁気コア層５とは別個に、磁気抵抗効果素子をノイズか
ら保護するシールド層を設けても良いし、図１及び図２
に示すように、あるいはシールド層を設けず、前記下部
磁気コア層５を磁気抵抗効果型ヘッドの上部シールド層
として機能させても良い。尚、図示はしていないが、下
部磁気コア層５のトラック幅方向（図示Ｘ軸方向）の両
側には絶縁層が形成されている。On the other hand, the magnetoresistive head 12 combined with the thin-film magnetic head 1 has a lower magnetic core layer 5 functioning as an upper shield layer and an Fe-Ni-based magnetic layer disposed opposite to the lower magnetic core layer 5. A lower shield layer 13 made of a soft magnetic material such as an alloy (permalloy) is provided, and a rectangular magnetoresistive element 15 sandwiched between the lower magnetic core layer 5 and the lower shield 13 with a nonmagnetic insulating layer 14 interposed therebetween. ,
Lower magnetic core layer 5, lower shield 13, non-magnetic insulating layer 1
4 and the front end surface of the magnetoresistive element 15 serve as the medium facing surface 16. When a magnetoresistive head is laminated below the lower magnetic core layer 5, a shield layer for protecting the magnetoresistive element from noise may be provided separately from the lower magnetic core layer 5. Good, Figures 1 and 2
Or the shield layer is not provided, and the lower magnetic core layer 5 may function as an upper shield layer of a magnetoresistive head. Although not shown, insulating layers are formed on both sides of the lower magnetic core layer 5 in the track width direction (X-axis direction in the drawing).
【００２７】次に、上述した薄膜磁気ヘッド１の各層の
詳細について順次説明する。Next, details of each layer of the above-described thin film magnetic head 1 will be sequentially described.
【００２８】上部磁気コア層２は、Ｆｅ−Ｎｉ系合金等
の軟磁性材料からなり、図３に示すように、先端面が媒
体対向面１６とされた先端領域である細幅のポール部３
と、このポール部３の後端部３ａに連設された後端領域
であるヨーク部４とを有し、ヨーク部４の先端部分に
は、第２の絶縁層１１の形状が反映されてポール部３の
後端部３ａから緩やかに立ち上がる傾斜面４ａが形成さ
れ、ポール部３の後端部３ａから媒体対向面１６までの
距離がポール部３の長さとなっている。また、図２，図
３に示すように、ポール部３の先端部の幅がトラック幅
Ｔｗとされ、トラック幅Ｔｗがポール部３の先端部の幅
によって定められている。また、図３に示すように、後
端領域であるヨーク部４は、ハイト方向（矢印Ｙ方向）
後方へ向けトラック幅方向（図示Ｘ軸方向）の幅が広が
っている。The upper magnetic core layer 2 is made of a soft magnetic material such as an Fe—Ni alloy or the like, and as shown in FIG.
And a yoke portion 4 which is a rear end region connected to the rear end portion 3a of the pole portion 3, and the front end portion of the yoke portion 4 reflects the shape of the second insulating layer 11. An inclined surface 4 a that rises gently from the rear end 3 a of the pole 3 is formed, and the distance from the rear end 3 a of the pole 3 to the medium facing surface 16 is the length of the pole 3. As shown in FIGS. 2 and 3, the width of the tip of the pole portion 3 is defined as the track width Tw, and the track width Tw is determined by the width of the tip of the pole portion 3. Further, as shown in FIG. 3, the yoke portion 4 which is the rear end region is in the height direction (the direction of the arrow Y).
The width in the track width direction (the X-axis direction in the drawing) increases rearward.
【００２９】また、図２に示すように、磁気記録媒体に
対向する媒体対向面１６において、トラック幅Ｔｗで形
成された上部磁気コア層３と下部磁極層７との間に挟ま
れたギャップ層８はトラック幅Ｔｗで形成され、下部磁
極層７は、ギャップ層８との接合面において、トラック
幅Ｔｗで形成されている。さらにこの実施形態では、下
部磁極層７には、下部磁気コア層５と接する裾部７ｃよ
りも幅寸法が狭くなって上部磁気コア層３へ向かって延
びる隆起部７ａが形成され、トラック幅Ｔｗで形成され
た隆起部７ａの上面が、ギャップ層９と接合されてい
る。As shown in FIG. 2, a gap layer sandwiched between the upper magnetic core layer 3 and the lower magnetic pole layer 7 formed with the track width Tw on the medium facing surface 16 facing the magnetic recording medium. 8 is formed with a track width Tw, and the lower magnetic pole layer 7 is formed with a track width Tw on the joint surface with the gap layer 8. Further, in this embodiment, the lower pole layer 7 is formed with a raised portion 7a which is narrower in width than the skirt portion 7c in contact with the lower magnetic core layer 5 and extends toward the upper magnetic core layer 3, and has a track width Tw. The upper surface of the raised portion 7 a formed by the above is joined to the gap layer 9.
【００３０】また、下部磁極層７の両側面には、隆起部
７ａの基端からトラック幅方向両側へ向かって、上部磁
気コア層３から離れるように傾斜する傾斜面７ｂ，７ｂ
が形成されている。さらに、下部磁極層７のトラック幅
方向の両側に位置する下部磁気コア層５の上面には、前
記下部磁極層７に形成された傾斜面７ｂ，７ｂと連続す
る傾斜面５ｂ，５ｂが形成されている。On both side surfaces of the lower magnetic pole layer 7, inclined surfaces 7b, 7b inclined from the base end of the raised portion 7a toward both sides in the track width direction so as to be separated from the upper magnetic core layer 3.
Are formed. Further, on the upper surface of the lower magnetic core layer 5 located on both sides of the lower magnetic pole layer 7 in the track width direction, inclined surfaces 5b, 5b continuous with the inclined surfaces 7b, 7b formed on the lower magnetic pole layer 7 are formed. ing.
【００３１】下部磁気コア層５は、Ｆｅ−Ｎｉ系合金等
の軟磁性材料からなり、上部磁気コア層２と対向して配
置され、図１に示すように、上部磁気コア層２の後端部
と磁気的に結合されている。そして、この下部磁気コア
層５は、磁気抵抗効果素子１５に磁気記録媒体からの漏
れ磁界以外の磁界が影響するのを防止する機能を有して
おり、上部磁気コア層２よりも幅広に形成されている。The lower magnetic core layer 5 is made of a soft magnetic material such as an Fe—Ni alloy and is disposed so as to face the upper magnetic core layer 2. As shown in FIG. Magnetically coupled with the part. The lower magnetic core layer 5 has a function of preventing the magnetic field other than the leakage magnetic field from the magnetic recording medium from affecting the magnetoresistive element 15, and is formed wider than the upper magnetic core layer 2. Have been.
【００３２】第１の絶縁層６は、アルミナ等の無機絶縁
材料またはノボラック樹脂等の有機絶縁材料からなり、
上部磁気コア層２のポール部３の先端部と対向する下部
磁気コア層５の先端部を除いた、下部磁気コア層５上に
設けられ、導電性コイル層１０と下部磁気コア層５とを
電気的に絶縁しており、下部磁極層７から上部磁気コア
層２の後端部側に所定の間隔を置いた位置には導電性コ
イル層１０を収容する凹部６ａが形成されている。The first insulating layer 6 is made of an inorganic insulating material such as alumina or an organic insulating material such as novolak resin.
The conductive coil layer 10 and the lower magnetic core layer 5 are provided on the lower magnetic core layer 5 except for the distal end of the lower magnetic core layer 5 facing the distal end of the pole portion 3 of the upper magnetic core layer 2. A concave portion 6a for accommodating the conductive coil layer 10 is formed at a position spaced apart from the lower magnetic pole layer 7 by a predetermined distance from the lower magnetic pole layer 7 to the rear end of the upper magnetic core layer 2.
【００３３】すなわち、図１に示すように、第１の絶縁
層６は、下部磁極層のハイト方向（矢印Ｙ方向）後方を
下部磁極層の上面と同一の高さに平坦化するための平坦
絶縁層であり、前記平坦絶縁層が一定の平坦面６ｂと、
ハイト方向へ後方へ向かうほどに薄くなる傾斜面６ｃを
有している。平坦絶縁層である第１の絶縁層６は、上記
傾斜面６ｃのハイト方向後方に延びた絶縁層上に、ギャ
ップ層を介してコイル層が形成される。尚、上記傾斜面
６ｃのハイト方向後方に延びた平坦絶縁層上６ａに直接
コイル層が形成されてもよい。That is, as shown in FIG. 1, the first insulating layer 6 is flattened to flatten the rear of the lower pole layer in the height direction (the direction of arrow Y) to the same height as the upper surface of the lower pole layer. An insulating layer, wherein the flat insulating layer has a constant flat surface 6b;
It has an inclined surface 6c that becomes thinner toward the rear in the height direction. In the first insulating layer 6, which is a flat insulating layer, a coil layer is formed on the insulating layer extending rearward in the height direction of the inclined surface 6c via a gap layer. The coil layer may be formed directly on the flat insulating layer 6a extending rearward in the height direction of the inclined surface 6c.
【００３４】下部磁極層７は、Ｆｅ−Ｎｉ系合金等の軟
磁性材料からなるもので、第１の絶縁層６の厚みに等し
い膜厚を有し、下部磁気コア層５の前記先端部上に、第
１の絶縁層６の先端に連続して形成されており、この下
部磁極層７の上面と第１の絶縁層６の上面とが連続した
一平面となっている。尚、情報書き込み特性の観点か
ら、下部磁極層７の膜厚は、下部磁極層７の膜厚と下部
磁気コア層５の膜厚を足し合わせた総膜厚に対し、３０
％〜７０％の厚みであることが望ましく、具体的には、
０．５μｍ〜１．５μｍの厚みであることが好ましい。The lower magnetic pole layer 7 is made of a soft magnetic material such as an Fe—Ni alloy and has a thickness equal to the thickness of the first insulating layer 6. The upper surface of the lower magnetic pole layer 7 and the upper surface of the first insulating layer 6 form a continuous plane. From the viewpoint of information writing characteristics, the thickness of the lower magnetic pole layer 7 is 30 times the total thickness of the thickness of the lower magnetic pole layer 7 and the thickness of the lower magnetic core layer 5.
% To 70%, and specifically,
The thickness is preferably 0.5 μm to 1.5 μm.
【００３５】ギャップ層８は、ＳｉＯ2，Ａｌ2Ｏ3等の
非磁性絶縁材料からなるもので、下部磁極層７の前記上
面上及び第１の絶縁層６の前記上面上に、第１の絶縁層
６の凹部６ａ内に至るように形成されており、このギャ
ップ層８を介して下部磁極層７上に上部磁気コア層２の
ポール部３が設けられ、媒体対向面１６側の下部磁気コ
ア層５と上部磁気コア層２との間（ギャップ層８の膜
厚）が磁気ギャップ９とされている。そして、上部・下
部両磁気コア層２，５及び下部磁極層７で磁気回路が構
成され、第１の絶縁層６がその先端で磁気ギャップ９の
ギャップ深さゼロの位置を規定し、媒体対向面１６から
下部磁極層７の後端までの距離が磁気ギャップ９のギャ
ップ深さＧｄとなっている。The gap layer 8 is made of a non-magnetic insulating material such as SiO 2 , Al 2 O 3, etc., and is provided on the upper surface of the lower magnetic pole layer 7 and on the upper surface of the first insulating layer 6. The pole portion 3 of the upper magnetic core layer 2 is provided on the lower magnetic pole layer 7 with the gap layer 8 interposed between the concave portions 6 a of the insulating layer 6. A magnetic gap 9 is formed between the core layer 5 and the upper magnetic core layer 2 (the thickness of the gap layer 8). The upper and lower magnetic core layers 2 and 5 and the lower magnetic pole layer 7 constitute a magnetic circuit, and the first insulating layer 6 defines the position of the magnetic gap 9 at the leading end where the gap depth is zero. The distance from the surface 16 to the rear end of the lower magnetic pole layer 7 is the gap depth Gd of the magnetic gap 9.
【００３６】導電性コイル層１０は、Ｃｕ等の電気抵抗
が低い導電性材料からなり、第１の絶縁層６の凹部６ａ
内において、ギャップ層８上に平面視渦巻状に形成され
ている。The conductive coil layer 10 is made of a conductive material having a low electric resistance, such as Cu, and has a concave portion 6 a of the first insulating layer 6.
Inside, it is formed in a spiral shape in plan view on the gap layer 8.
【００３７】コイル層１０は、コイル層の形成されるコ
イル層形成面１０ａが、上記下部磁極層７のハイト方向
後方へ平坦化された平坦面６ｂよりも低い位置にされる
ことが好ましい。下部磁極層７のハイト方向後方へ平坦
化された平坦面６ｂの高さがコイル層の形成されるコイ
ル層形成面１０ａよりも高いことにより、相対的にギャ
ップ層から上部コア層の後端領域までの高さを小さくす
ることができる。従って、上部磁気コア層形成時のパタ
ーン歪みが小さく、精度のよい上部磁気コア層とするこ
とができる。In the coil layer 10, it is preferable that the coil layer forming surface 10a on which the coil layer is formed is positioned lower than the flat surface 6b flattened rearward in the height direction of the lower magnetic pole layer 7. Since the height of the flat surface 6b flattened rearward in the height direction of the lower magnetic pole layer 7 is higher than the coil layer forming surface 10a on which the coil layer is formed, the rear end region from the gap layer to the upper core layer relatively. Height can be reduced. Therefore, pattern distortion during the formation of the upper magnetic core layer is small, and the upper magnetic core layer can be formed with high accuracy.
【００３８】また、平坦面６ｂは、コイル層１０の上面
１０ｂよりも低いことが好ましい。平坦面６ｂがコイル
層１０の上面１０ｂよりも高いと下部磁極層７の高さを
高くしなければならないため、下部磁極層７での飽和が
起こりやすくなり、また下部磁極層７の形成精度が悪く
なる恐れがあるからである。The flat surface 6b is preferably lower than the upper surface 10b of the coil layer 10. If the flat surface 6b is higher than the upper surface 10b of the coil layer 10, the height of the lower magnetic pole layer 7 must be increased, so that saturation in the lower magnetic pole layer 7 easily occurs, and the accuracy of forming the lower magnetic pole layer 7 is reduced. This is because there is a risk of becoming worse.
【００３９】第２の絶縁層１１は、ノボラック樹脂等の
有機絶縁材料からなり、ギャップ層８上に導電性コイル
層１０を覆うように形成されて、下部磁極層７よりも上
部磁気コア層２の後端側に位置しており、導電性コイル
層１０と上部磁気コア層２とを電気的に絶縁している。
そして、第２の絶縁層１１の先端部には傾斜面１１ａが
形成されており、第２の絶縁層１１上及びギャップ層８
上に上部磁気コア層２が設けられ、ポール部３の後端部
３ａが、下部磁極層７と凹部６ａとの間において第１の
絶縁層６と対向している。The second insulating layer 11 is made of an organic insulating material such as a novolak resin and is formed on the gap layer 8 so as to cover the conductive coil layer 10. And electrically insulates the conductive coil layer 10 from the upper magnetic core layer 2.
An inclined surface 11 a is formed at the tip end of the second insulating layer 11, and is formed on the second insulating layer 11 and the gap layer 8.
The upper magnetic core layer 2 is provided thereon, and the rear end portion 3a of the pole portion 3 faces the first insulating layer 6 between the lower magnetic pole layer 7 and the concave portion 6a.
【００４０】次に、このように構成された薄膜磁気ヘッ
ド１の製造方法について説明する。Next, a method of manufacturing the thin-film magnetic head 1 thus configured will be described.
【００４１】先ず、図４Ａに示すように、磁気抵抗効果
型ヘッド１２を構成する下部磁気コア層５上に、電解め
っき法により下部磁極層７を形成し、次いで、図４Ｂに
示すように、下部磁気コア層５上に第１の絶縁層６を下
部磁極層７の後端部上を覆うように形成する。そして、
図４Ｃに示すように、ＣＰＭ法（ケミカル・メカニカル
・ポリッシング）により、第１の絶縁層６の膜厚と下部
磁極層７の膜厚とが等しくなるように第１の絶縁層６を
研磨し、次いで、図４Ｄに示すように、イオンミリング
法により第１の絶縁層６に凹部６ａを形成する。First, as shown in FIG. 4A, a lower magnetic pole layer 7 is formed on the lower magnetic core layer 5 constituting the magnetoresistive head 12 by electrolytic plating, and then, as shown in FIG. A first insulating layer is formed on the lower magnetic core layer so as to cover the rear end of the lower magnetic pole layer. And
As shown in FIG. 4C, the first insulating layer 6 is polished by CPM (Chemical Mechanical Polishing) so that the thickness of the first insulating layer 6 is equal to the thickness of the lower magnetic pole layer 7. Then, as shown in FIG. 4D, a concave portion 6a is formed in the first insulating layer 6 by an ion milling method.
【００４２】次に、図４Ｅに示すように、スパッタリン
グ法により下部磁極層７及び第１の絶縁層６上にギャッ
プ層８を第１の絶縁層６の凹部６ａ内に至るように形成
し、次いで、図４Ｆに示すように、スパッタリング法、
電解めっき法及びフォトリソグラフィー技術を組み合わ
せることにより、凹部６ａ内に形成されたギャップ層８
上に導電性コイル層１０を形成して、このギャップ層８
上に導電性コイル層１０を被覆する第２の絶縁層１１を
その先端部が下部磁極層７の後方に位置するように形成
する。Next, as shown in FIG. 4E, a gap layer 8 is formed on the lower magnetic pole layer 7 and the first insulating layer 6 by a sputtering method so as to reach the recess 6a of the first insulating layer 6. Next, as shown in FIG. 4F, a sputtering method,
By combining the electrolytic plating method and the photolithography technique, the gap layer 8 formed in the concave portion 6a is formed.
A conductive coil layer 10 is formed on the gap layer 8.
A second insulating layer 11 covering the conductive coil layer 10 is formed thereon such that its tip is located behind the lower pole layer 7.
【００４３】次に、図４Ｇに示すように、下部磁極層７
上を覆うギャップ層８の先端部上から第２の絶縁層１１
上にわたり、Ｆｅ−Ｎｉ系合金等の軟磁性材料からなる
めっき下地層１７を形成し、このめっき下地層１７上に
流動性を有するレジスト層１８を塗布形成する。次に、
フォトリソグラフィー技術を用いてこのレジスト層１８
を露光・現像してレジスト層１８を部分的に除去し、上
部磁気コア層２の形状に対応するパターンをレジスト層
１８に形成したのち、レジスト膜１８が除去された前記
パターン部分に電気めっきを施して、第２の絶縁層１１
上及びギャップ層８上に上部磁気コア層２を形成する。
そして、残ったレジスト層１８を除去することにより、
図４Ｈのようになる。Next, as shown in FIG. 4G, the lower magnetic pole layer 7
The second insulating layer 11 from the top of the gap layer 8 covering
A plating base layer 17 made of a soft magnetic material such as an Fe-Ni alloy is formed over the upper surface, and a flowable resist layer 18 is applied on the plating base layer 17. next,
This resist layer 18 is formed using photolithography technology.
Is exposed and developed to partially remove the resist layer 18, a pattern corresponding to the shape of the upper magnetic core layer 2 is formed on the resist layer 18, and then electroplating is performed on the pattern portion from which the resist film 18 has been removed. To form the second insulating layer 11
The upper magnetic core layer 2 is formed on the upper and gap layers 8.
Then, by removing the remaining resist layer 18,
As shown in FIG. 4H.
【００４４】ここで、図１４ないし図１６は、磁気記録
媒体対向面１６側から見た図４Ｈに続く薄膜磁気ヘッド
の製造工程を示すものであり、図２に示す磁気記録媒体
対向面１６側から見た薄膜磁気ヘッドの正面形状の形成
方法を説明するための薄膜磁気ヘッドの部分正面図であ
る。FIGS. 14 to 16 show a manufacturing process of the thin-film magnetic head subsequent to FIG. 4H viewed from the magnetic recording medium facing surface 16 side, and show the magnetic recording medium facing surface 16 side shown in FIG. FIG. 4 is a partial front view of the thin-film magnetic head for describing a method of forming the front shape of the thin-film magnetic head as viewed from above.
【００４５】そして、図１４に示す工程では、上部磁気
コア層３の基端からトラック幅方向（図示Ｘ方向）へ延
びるギャップ層８を矢印Ｒ方向（垂直方向）からのみ行
なわれる異方性エッチングにより除去する。異方性エッ
チングとしては、例えばプラズマエッチングを使用す
る。この工程により図１４に示す点線部分のギャップ層
８が除去され、前記ギャップ層８は幅寸法が、上部磁気
コア層３の幅寸法と同様にトラック幅Ｔｗとして上部磁
気コア層３と下部磁極層１１との間に残される。In the step shown in FIG. 14, the gap layer 8 extending from the base end of the upper magnetic core layer 3 in the track width direction (X direction in the drawing) is anisotropically etched only in the direction of arrow R (vertical direction). To remove. As the anisotropic etching, for example, plasma etching is used. By this step, the gap layer 8 indicated by the dotted line shown in FIG. 14 is removed, and the gap layer 8 has a width dimension similar to the width dimension of the upper magnetic core layer 3 as the track width Tw and the upper magnetic core layer 3 and the lower magnetic pole layer. 11 is left.
【００４６】なおプラズマエッチングは、化学的作用に
より非磁性材料を除去するものであるため、このプラズ
マエッチングにより、下部磁極層７および上部磁気コア
層３は、ダメージを受けることがない。前記ギャップ層
８が除去された部分では、下部磁極層７の表面が露出し
た状態にされる。Since the non-magnetic material is removed by a chemical action in the plasma etching, the lower magnetic pole layer 7 and the upper magnetic core layer 3 are not damaged by the plasma etching. In the portion where the gap layer 8 has been removed, the surface of the lower magnetic pole layer 7 is exposed.
【００４７】次に、図１５に示す工程では、第１イオン
ミリングにより、ギャップ層８の除去により、トラック
幅Ｔｗよりもトラック幅方向両側における下部磁極層７
の上面を削る。前記第１イオンミリングには、中性イオ
ン化されたＡｒ（アルゴン）ガスが使用される。この第
１イオンミリングでは、矢印Ｓ方向および矢印Ｔ方向か
らイオン照射が行われるが、このイオン照射の角度θ１
は０から３０°の範囲内であることが好ましい。つま
り、この工程における第１イオンミリングでは、垂直に
近い方向から、下部磁極層７の上面に対してイオンが照
射される。Next, in the step shown in FIG. 15, the gap layer 8 is removed by the first ion milling, so that the lower magnetic pole layer 7 on both sides in the track width direction with respect to the track width Tw.
Scrape the top of In the first ion milling, neutral ionized Ar (argon) gas is used. In the first ion milling, ion irradiation is performed from the direction of arrow S and the direction of arrow T.
Is preferably in the range of 0 to 30 °. That is, in the first ion milling in this step, the upper surface of the lower magnetic pole layer 7 is irradiated with ions from a direction nearly perpendicular.
【００４８】下部磁極層７に、垂直に近い方向（矢印Ｓ
およびＴ）からイオンが照射されると、物理的作用によ
り、前記下部磁極層７のギャップ層９との対向面の両側
部分が、ほぼ矩形状に削られる。これにより、前記下部
磁極層７には、ほぼ直角に段差が形成され、前記ギャッ
プ層９の下には、上部コア層１３の幅寸法（＝トラック
幅Ｔｗ）とほぼ同じ幅寸法よる隆起部７ａが形成され
る。The lower magnetic pole layer 7 is oriented in a direction almost perpendicular (arrow S
When the ions are irradiated from T and T), both sides of the lower magnetic pole layer 7 facing the gap layer 9 are cut into a substantially rectangular shape by physical action. As a result, a step is formed at a substantially right angle in the lower magnetic pole layer 7, and a protrusion 7 a having a width substantially equal to the width (= track width Tw) of the upper core layer 13 is formed below the gap layer 9. Is formed.
【００４９】なお前記第１イオンミリングにおけるイオ
ン照射角度θ１により、前記隆起部７ｂの正面形状は変
化し、前記イオン照射角度θ１が、ほぼ垂直方法から行
なわれる場合には、前記隆起部７ａの正面形状は、直方
形状となるが、前記イオン照射角度θ１に、ある程度角
度がついている場合には、前記隆起部７ａの両側面は傾
斜面となり、前記隆起部７ａの正面形状は、上面よりも
基端の幅寸法が大きい台形状になる。なお図示されてい
ないが、前記第１イオンミリングにより削り取られた下
部磁極層７の磁粉が、上部磁気コア層３、ギャップ層９
及び隆起部７ａの両側に付着する。このような磁粉の付
着は、記録特性を劣化させることから適切に除去しなけ
ればならず、さらにライトフリンジングの抑制に効果的
な傾斜面７ｂ，７ｂを下部磁極層７に形成すべく、第２
次イオンミリングを行う。The frontal shape of the raised portion 7b changes depending on the ion irradiation angle θ1 in the first ion milling. When the ion irradiation angle θ1 is performed by a substantially vertical method, the frontal shape of the raised portion 7a is changed. Although the shape is a rectangular shape, when the ion irradiation angle θ1 has a certain angle, both side surfaces of the raised portion 7a are inclined surfaces, and the front shape of the raised portion 7a is more basic than the upper surface. A trapezoidal shape with a large end width is used. Although not shown, the magnetic powder of the lower magnetic pole layer 7 scraped off by the first ion milling is used for the upper magnetic core layer 3 and the gap layer 9.
And on both sides of the raised portion 7a. Such adhesion of the magnetic powder must be appropriately removed because it degrades the recording characteristics. Further, in order to form the inclined surfaces 7 b, 7 b on the lower magnetic pole layer 7 that are effective in suppressing the write fringing, 2
Next ion milling is performed.
【００５０】第２次イオンミリングでは、第１次イオン
ミリングと同様に中性イオン化されたＡｒ（アルゴン）
ガスが使用される。この第２次イオンミリングでは、図
１６に示すように、矢印Ｕ方向および矢印Ｖ方向からイ
オン照射が行われるが、このイオン照射の角度θ２は４
５°から７０°の範囲内であることが好ましい。つま
り、第１次イオンミリング（イオン照射角度θ１は０°
（ｄｅｇ）から３０°（ｄｅｇ））に比べて、より斜め
方向からイオンが照射される。In the second ion milling, similarly to the first ion milling, neutralized Ar (argon) is ionized.
Gas is used. In this secondary ion milling, as shown in FIG. 16, ion irradiation is performed from the directions of arrow U and arrow V. The angle θ2 of this ion irradiation is 4
Preferably it is in the range of 5 ° to 70 °. That is, the first ion milling (the ion irradiation angle θ1 is 0 °
The ions are irradiated from a more oblique direction as compared with (deg) to 30 ° (deg).
【００５１】次に、図１６に示す工程で、矢印Ｕおよび
矢印Ｖ方向からイオンが照射されると、物理的作用によ
り、隆起部７ａの基端からトラック幅方向に延びる下部
磁極層７の両側上面が、斜めに削り取られ、前記下部磁
極層７に傾斜面７ｂ，７ｂが形成される。なおこの際、
下部磁気コア層５の両側上面も削られていき、前記傾斜
面７ｂ，７ｂと連続する傾斜面５ｂ，５ｂが形成され
る。また同時に、第２次イオンミリングでは、上部磁気
コア層３、ギャップ層９、および隆起部７ａの両側面に
付着した磁粉が削り取られ、除去され、図１，２、３に
示すような薄膜磁気ヘッドの製造が完了する。前記磁粉
が除去されることにより、前記上部コア層１３と下部磁
極層７との間において、磁気的な短絡が発生しない。Next, in the step shown in FIG. 16, when ions are irradiated from the directions of arrows U and V, both sides of the lower magnetic pole layer 7 extending in the track width direction from the base end of the raised portion 7a by a physical action. The upper surface is cut off obliquely, and inclined surfaces 7b, 7b are formed in the lower magnetic pole layer 7. In this case,
The upper surfaces on both sides of the lower magnetic core layer 5 are also shaved to form inclined surfaces 5b, 5b continuous with the inclined surfaces 7b, 7b. At the same time, in the second ion milling, the magnetic powder adhering to both side surfaces of the upper magnetic core layer 3, the gap layer 9, and the protruding portion 7a is scraped and removed, and the thin film magnetic layer as shown in FIGS. The manufacture of the head is completed. By removing the magnetic powder, no magnetic short circuit occurs between the upper core layer 13 and the lower magnetic pole layer 7.
【００５２】また本発明では、第１次イオンミリングや
第２次イオンミリングにより、上部磁気コア層３の両側
も削れ、前記上部磁気コア層３の幅寸法で規制されるト
ラック幅Ｔｗは、より小さくなり今後の高記録密度化に
おける狭トラック化に対応可能な薄膜磁気ヘッドを製造
することが可能である。本発明では前記トラック幅Ｔｗ
を、０．５μｍ〜１．５μｍの範囲内で形成することが
好ましい。In the present invention, both sides of the upper magnetic core layer 3 are also shaved by the first ion milling and the second ion milling, and the track width Tw regulated by the width dimension of the upper magnetic core layer 3 is further increased. It is possible to manufacture a thin-film magnetic head which is smaller and can cope with a narrower track in the future of higher recording density. In the present invention, the track width Tw is used.
Is preferably formed in the range of 0.5 μm to 1.5 μm.
【００５３】以上のように、第１イオンミリング工程及
び第２イオンミリング工程により、さらになる狭トラッ
ク化に対応可能な薄膜磁気ヘッドを製造できると共に、
下部磁極層７に隆起部７ａ及び傾斜面７ｂの形成、ある
いは下部磁気コア層５に隆起部５ａ及び傾斜面５ｂの形
成を行うことにより、ライトフリンジングの発生を適正
に抑制することができる。As described above, the first ion milling step and the second ion milling step make it possible to manufacture a thin-film magnetic head capable of coping with a further narrower track.
The formation of the raised portion 7a and the inclined surface 7b on the lower magnetic pole layer 7 or the formation of the raised portion 5a and the inclined surface 5b on the lower magnetic core layer 5 can appropriately suppress the occurrence of write fringing.
【００５４】このようにして、薄膜磁気ヘッド１の製造
は完了するが、製造後においては、上部・下部両磁気コ
ア層２，５間に導電性コイル層１０が設けられ、下部磁
気コア層５と導電性コイル層１０との間に第１の絶縁層
６が設けられているとともに、上部磁気コア層２と導電
性コイル層１０との間に第２の絶縁層１１が設けられた
状態となっている。In this way, the manufacture of the thin-film magnetic head 1 is completed. After the manufacture, the conductive coil layer 10 is provided between the upper and lower magnetic core layers 2 and 5, and the lower magnetic core layer 5 is provided. A state where a first insulating layer 6 is provided between the upper magnetic core layer 2 and the conductive coil layer 10 and a second insulating layer 11 is provided between the upper magnetic core layer 2 and the conductive coil layer 10. Has become.
【００５５】このように構成・製造された薄膜磁気ヘッ
ド１は、磁気抵抗効果型ヘッド１２と共に磁気ディスク
等の磁気記録再生装置に組み込まれて使用され、薄膜磁
気ヘッド１の導電性コイル層１０に記録電流が与えられ
ると、上部・下部両磁気コア層２，５及び下部磁極層７
に記録磁界が誘導され、媒体対向面１６における磁気ギ
ャップ９からの漏れ磁界により磁気記録媒体に対し情報
の書き込みが行われ、この書き込まれた情報は磁気抵抗
効果型ヘッド１２に備わる磁気抵抗効果素子１５の電気
抵抗の変化として読み出されるようになっている。The thin-film magnetic head 1 thus constructed and manufactured is used together with a magnetoresistive head 12 in a magnetic recording / reproducing apparatus such as a magnetic disk, and is used for the conductive coil layer 10 of the thin-film magnetic head 1. When a recording current is applied, both upper and lower magnetic core layers 2 and 5 and lower magnetic pole layer 7
A recording magnetic field is induced in the magnetic recording medium, and information is written to the magnetic recording medium by a leakage magnetic field from the magnetic gap 9 in the medium facing surface 16, and the written information is stored in a magnetoresistive element provided in the magnetoresistive head 12. 15 is read as a change in the electrical resistance.
【００５６】しかして、この薄膜磁気ヘッド１にあって
は、第１の絶縁層６がギャップ層８の下に配設され、ギ
ャップ層８上に第２の絶縁層１１が直接形成されている
ので、ギャップ層８の上面から第２の絶縁層１１の上面
までの膜厚寸法Ｔ１が、第１の絶縁層６の膜厚の分だけ
従来技術に示した薄膜磁気ヘッド２１に比べ小さなもの
となり、このため、ギャップ層８の先端部上から第２の
絶縁層１１の傾斜面１１ａ上にかけてのレジスト層１８
の膜厚Ｔ２を薄くすることができ、その結果、レジスト
層１８に形成される前記パターンの寸法精度の低下を招
くことなく、上部磁気コア層２のポール部３の先端部の
幅、すなわちトラック幅Ｔｗを狭トラック化に対応して
精度良く形成することができる。さらに、この薄膜磁気
ヘッド１は、導電性コイル層１０が第１の絶縁層６の凹
部６ａ内に収容されて、ギャップ層８の上面から第２の
絶縁層１１の上面までの膜厚寸法Ｔ１が、従来技術に示
した薄膜磁気ヘッド２１に比べより小さなものとなって
いるため、トラック幅Ｔｗを一層精度良く形成すること
ができる。Thus, in the thin-film magnetic head 1, the first insulating layer 6 is provided below the gap layer 8, and the second insulating layer 11 is formed directly on the gap layer 8. Therefore, the thickness T1 from the upper surface of the gap layer 8 to the upper surface of the second insulating layer 11 is smaller than the thin film magnetic head 21 shown in the prior art by the thickness of the first insulating layer 6. Therefore, the resist layer 18 extends from the top of the gap layer 8 to the inclined surface 11a of the second insulating layer 11.
The thickness T2 of the top portion of the pole portion 3 of the upper magnetic core layer 2, that is, the track, can be reduced without lowering the dimensional accuracy of the pattern formed on the resist layer 18 as a result. The width Tw can be formed with high accuracy corresponding to the narrow track. Further, in the thin-film magnetic head 1, the conductive coil layer 10 is accommodated in the concave portion 6a of the first insulating layer 6, and the thickness T1 from the upper surface of the gap layer 8 to the upper surface of the second insulating layer 11 is set. However, since it is smaller than the thin-film magnetic head 21 shown in the prior art, the track width Tw can be formed more accurately.
【００５７】また、この薄膜磁気ヘッド１は、磁気ギャ
ップ９のギャップ深さゼロの位置が第１の絶縁層６の先
端位置で規定されており、従来技術に示した薄膜磁気ヘ
ッド２１のようにギャップ深さＧｄを大きくすることな
く、第２の絶縁層１１を上部磁気コア層２の後端部側
（矢印Ｙ方向）に後退させて配設することができる。In the thin-film magnetic head 1, the position of the magnetic gap 9 where the gap depth is zero is defined by the position of the tip of the first insulating layer 6, as in the thin-film magnetic head 21 shown in the prior art. The second insulating layer 11 can be disposed so as to recede toward the rear end side (the direction of the arrow Y) of the upper magnetic core layer 2 without increasing the gap depth Gd.
【００５８】ポール部３の後端部３ａが下部磁極層７と
凹部６ａとの間において第１の絶縁層６と対向するよう
に、ポール部３の長さを長く設計することにより、レジ
スト層１８を露光する光が第２の絶縁層１１の傾斜面１
１ａで乱反射を起こすことによって生じる前記パターン
の影響を抑え、上部磁気コア層２のポール部３の先端部
を所定のトラック幅Ｔｗに精度良く形成することがで
き、且つ、磁気記録媒体に対する情報書き込み特性を良
好なものとすることができる。The length of the pole portion 3 is designed to be long so that the rear end portion 3a of the pole portion 3 faces the first insulating layer 6 between the lower magnetic pole layer 7 and the concave portion 6a. 18 exposes the inclined surface 1 of the second insulating layer 11
1a, the influence of the pattern caused by the irregular reflection can be suppressed, the tip of the pole portion 3 of the upper magnetic core layer 2 can be formed with a predetermined track width Tw with high accuracy, and information can be written on the magnetic recording medium. Good characteristics can be obtained.
【００５９】また、第１の絶縁層６は、下部磁極層のハ
イト方向（矢印Ｙ方向）後方を下部磁極層の上面と同一
の高さに平坦化するための平坦絶縁層である。従って、
下部磁極層の上面と平坦絶縁層の上面が一定の平坦面６
ｂとすることにより、平坦面６ｂにギャップ層８を介し
て対向する上部磁気コア層の先端領域も記録媒体対向面
からハイト方向後方へ向けて、一定の間、略同じ高さで
形成することが可能になり、レジスト層１８に形成され
る前記パターンの寸法精度の低下を招くことなく、上部
磁気コア層２の先端領域であるポール部３の先端部の
幅、すなわちトラック幅Ｔｗを狭トラック化に対応して
精度良く形成することができる。The first insulating layer 6 is a flat insulating layer for flattening the rear of the lower magnetic pole layer in the height direction (the direction of arrow Y) to the same height as the upper surface of the lower magnetic pole layer. Therefore,
A flat surface 6 in which the upper surface of the lower pole layer and the upper surface of the flat insulating layer are constant.
b, the leading end region of the upper magnetic core layer facing the flat surface 6b via the gap layer 8 is also formed at a substantially same height for a certain period toward the rear in the height direction from the recording medium facing surface. The width of the tip of the pole portion 3, which is the tip region of the upper magnetic core layer 2, that is, the track width Tw can be reduced without reducing the dimensional accuracy of the pattern formed on the resist layer 18. It can be formed with high accuracy in accordance with the development of the semiconductor device.
【００６０】また、この薄膜磁気ヘッド１にあっては、
ギャップ層８を導電性コイル層１０と第１の絶縁層６と
の間に延設させて、導電性コイル層１０と下部磁気コア
層５との電気的な絶縁をより確実なものとしているが、
これら導電性コイル層１０と下部磁気コア層５との電気
的な絶縁が第１の絶縁層６のみで十分に確保できる場合
には、図６に示すように、ギャップ層８を導電性コイル
層１０よりも媒体対向面１６側で止めるように短く形成
してもよく、この場合、ギャップ層８をＮｉＰ等の非磁
性導電材料を用いて形成することができ、ギャップ層８
を形成する材料に設計的自由度を持たせることができ
る。In this thin-film magnetic head 1,
Although the gap layer 8 extends between the conductive coil layer 10 and the first insulating layer 6, the electrical insulation between the conductive coil layer 10 and the lower magnetic core layer 5 is further ensured. ,
When electrical insulation between the conductive coil layer 10 and the lower magnetic core layer 5 can be sufficiently ensured only by the first insulating layer 6, as shown in FIG. 10, the gap layer 8 may be formed to be shorter at the medium facing surface 16 side. In this case, the gap layer 8 can be formed using a nonmagnetic conductive material such as NiP.
Can be designed with a degree of freedom.
【００６１】図５は、複数個の薄膜磁気ヘッド１のトラ
ック幅Ｔｗを測定した結果を示すグラフであり、従来技
術と比較して、薄膜磁気ヘッド１のトラック幅Ｔｗは、
その所定値０．５７μｍに対しばらつきが小さく、上部
磁気コア層２のポール部３が精度良く形成できているこ
とが見て取れる。FIG. 5 is a graph showing the results of measuring the track width Tw of a plurality of thin-film magnetic heads 1. The track width Tw of the thin-film magnetic head 1 is smaller than that of the prior art.
It can be seen that the variation is small with respect to the predetermined value of 0.57 μm, and the pole portion 3 of the upper magnetic core layer 2 can be formed with high accuracy.
【００６２】図７は本発明の他の応用例を示す図であっ
て、この薄膜磁気ヘッド１９が上述した薄膜磁気ヘッド
１と異なる点は、上部磁気コア層２と下部磁極層７とを
各々２層構造とし、下部磁極層７の上層７ｄ上に上部磁
気コア層２の下層２ｅがギャップ層８を介して設けら
れ、上部磁気コア層２の下層２ｅ及び下部磁極層７の上
層７ｄの飽和磁束密度が、上部磁気コア層２の上層２ｄ
及び下部磁極層７の下層７ｅの飽和磁束密度よりも高く
設定されている点が異なるのみで、他は薄膜磁気ヘッド
１と同様である。FIG. 7 shows another application example of the present invention. This thin film magnetic head 19 is different from the above-described thin film magnetic head 1 in that an upper magnetic core layer 2 and a lower magnetic pole layer 7 are respectively provided. A lower layer 2e of the upper magnetic core layer 2 is provided on the upper layer 7d of the lower magnetic pole layer 7 via the gap layer 8, so that the lower magnetic layer 2e of the upper magnetic core layer 2 and the upper layer 7d of the lower magnetic pole layer 7 are saturated. The magnetic flux density is higher than the upper layer 2d of the upper magnetic core layer 2.
The other points are the same as those of the thin-film magnetic head 1 except that they are set higher than the saturation magnetic flux density of the lower layer 7e of the lower magnetic pole layer 7.
【００６３】これら各層はいずれも電解めっき法によっ
て形成され、上部磁気コア層２の下層２ｅ及び下部磁極
層７の上層７ｄにはＮｉ５０Ｆｅ５０（数字はａｔ％を
表す）が用いられ、また、上部磁気コア層２の上層２ｄ
及び下部磁極層７の下層７ｅには合金組成の異なるＮｉ
８０Ｆｅ２０（数字はａｔ％を表す）が使用されてい
る。尚、上部磁気コア層２の下層２ｅ及び下部磁極層７
の上層７ｄの膜厚は０．３μｍ以上であることが望まし
い。Each of these layers is formed by electrolytic plating, and Ni50Fe50 (the number represents at%) is used for the lower layer 2e of the upper magnetic core layer 2 and the upper layer 7d of the lower magnetic pole layer 7; Upper layer 2d of core layer 2
And a lower layer 7e of the lower magnetic pole layer 7 is made of Ni having a different alloy composition.
80Fe20 (numbers represent at%) is used. The lower magnetic layer 2e and the lower magnetic pole layer 7
The thickness of the upper layer 7d is preferably 0.3 μm or more.
【００６４】このように下部磁極層または上部磁気コア
層は、少なくとも２層以上の磁性層が積層されて形成さ
れ、前記ギャップ層に近い磁性層ほど飽和磁束密度が高
く形成されることにより、磁気ギャップ９に、より多く
の磁束を集中させることができるため、磁気記録媒体に
対する情報書き込み特性を一層良好なものとすることが
できる。As described above, the lower magnetic pole layer or the upper magnetic core layer is formed by laminating at least two or more magnetic layers, and the magnetic layer closer to the gap layer has a higher saturation magnetic flux density. Since more magnetic flux can be concentrated in the gap 9, the information writing characteristics on the magnetic recording medium can be further improved.
【００６５】また、図１２ないし図１３に示す薄膜磁気
ヘッドは、図２に示す薄膜磁気ヘッドの変形例であり、
記録媒体との対向面に露出する薄膜磁気ヘッドの構造を
示す部分正面図である。The thin-film magnetic head shown in FIGS. 12 and 13 is a modification of the thin-film magnetic head shown in FIG.
FIG. 3 is a partial front view showing a structure of a thin-film magnetic head exposed on a surface facing a recording medium.
【００６６】図１２に示す変形例では、図２と同様にギ
ャップ層９はトラック幅Ｔｗで形成され、また下部磁極
層７には、前記ギャップ層９との接合面がトラック幅Ｔ
ｗで形成された隆起部７ａと、前記隆起部７ａの基端か
ら延びる両側上面には、上部磁気コア層３から離れるに
方向に傾斜する傾斜面７ｂ，７ｂが形成されている。こ
の変形例では、下部磁極層７にのみ傾斜面７ｂが形成さ
れ、前記下部磁気コア層５には、図２のような傾斜面５
ｂ，５ｂは形成されていない。In the modification shown in FIG. 12, the gap layer 9 is formed with a track width Tw, as in FIG. 2, and the lower magnetic pole layer 7 has a joint surface with the gap layer 9 having a track width T.
The raised portion 7a formed by w and inclined surfaces 7b, 7b which are inclined in a direction away from the upper magnetic core layer 3 are formed on both upper surfaces extending from the base end of the raised portion 7a. In this modification, an inclined surface 7b is formed only on the lower magnetic pole layer 7, and the lower magnetic core layer 5 has an inclined surface 5b as shown in FIG.
b and 5b are not formed.
【００６７】図１３に示す変形例では、記録媒体との対
向面において、上部磁気コア層３と下部磁極層７間に挟
まれるギャップ層９はトラック幅Ｔｗで形成され、また
前記下部磁極層７は、ギャップ層９との接合面ではトラ
ック幅Ｔｗで形成されている。さらに、前記下部磁気コ
ア層５には、下部磁極層７の両側側面と連続する側面を
有する隆起部５ａが形成されており、前記隆起部５ａの
基端から延びる両側上面には、トラック幅方向に、上部
磁気コア層３から離れる方向に従って傾斜する傾斜面５
ｂ，５ｂが形成されている。In the modification shown in FIG. 13, the gap layer 9 sandwiched between the upper magnetic core layer 3 and the lower magnetic pole layer 7 on the surface facing the recording medium is formed with a track width Tw. Are formed with a track width Tw on the joint surface with the gap layer 9. Further, the lower magnetic core layer 5 is formed with raised portions 5a having side surfaces that are continuous with both side surfaces of the lower magnetic pole layer 7, and the upper surfaces on both sides extending from the base end of the raised portion 5a have a track width direction. An inclined surface 5 inclined in a direction away from the upper magnetic core layer 3.
b, 5b are formed.
【００６８】この図１３に示す変形例では、記録媒体と
の対向面において、前記下部磁極層７は、下部磁気コア
層５と接合する裾部７ｃまで、トラック幅Ｔｗで形成さ
れた直方形状となっている。または前記裾部７ｃの幅寸
法が、トラック幅Ｔｗよりも大きい台形状となっていて
もよい。また、この変形例では、図１３中に点線で示す
ように、前記下部磁気コア層５に隆起部５ａが形成され
ておらず、前記下部磁極層７の基端から延びる下部磁気
コア層５の両側上面に傾斜面５ｂ，５ｂが形成されてい
てよい。In the modification shown in FIG. 13, on the surface facing the recording medium, the lower magnetic pole layer 7 has a rectangular shape formed with a track width Tw up to a foot 7c joined to the lower magnetic core layer 5. Has become. Alternatively, the width of the skirt 7c may be trapezoidal, which is larger than the track width Tw. Further, in this modification, as shown by a dotted line in FIG. 13, the raised portion 5a is not formed in the lower magnetic core layer 5, and the lower magnetic core layer 5 extending from the base end of the lower magnetic pole layer 7 is formed. The inclined surfaces 5b may be formed on both upper surfaces.
【００６９】また図２，図１２に示す下部磁極層７の隆
起部７ａ、および図１３に示す下部磁気コア層５の隆起
部５ａは、その上面から基端まで同じ幅寸法で形成さ
れ、記録媒体との対向面において、直方形状で形成され
ていてもよいし、あるいは基端が上面よりも大きく形成
されて、台形状に形成されていてもよいし、あるいは基
端が上面よりも小さく形成されて、逆台形状に形成され
てもよい。The protruding portion 7a of the lower magnetic pole layer 7 shown in FIGS. 2 and 12 and the protruding portion 5a of the lower magnetic core layer 5 shown in FIG. 13 are formed to have the same width from the upper surface to the base end. The surface facing the medium may be formed in a rectangular shape, or the base end may be formed larger than the upper surface and formed in a trapezoidal shape, or the base end may be formed smaller than the upper surface. Then, it may be formed in an inverted trapezoidal shape.
【００７０】また例えば図１２および図１３に示す変形
例の場合、下部磁極層７及び下部磁気コア層５に傾斜面
５ｂ，７ｂが形成されず、両側上面がトラック幅方向
（図示Ｘ方向）と平行な方向に形成されていてもよい。In the case of the modification shown in FIGS. 12 and 13, for example, the inclined surfaces 5b, 7b are not formed on the lower magnetic pole layer 7 and the lower magnetic core layer 5, and the upper surfaces on both sides are in the track width direction (X direction in the drawing). They may be formed in parallel directions.
【００７１】そして、図２，図１２，図１３に示すよう
に、下部磁極層７は、ギャップ層９との接合面において
トラック幅Ｔｗで形成され、さらに隆起部７ａまたは傾
斜面７ｂが形成され、あるいは下部磁気コア層５にも同
様に、隆起部５ａまたは傾斜面５ｂが形成されること
で、下部磁極層７の両側上面あるいは下部磁気コア層５
の両側上面が上部磁気コア層３から適切に離れ、下部磁
極層７に隆起部７ａがない薄膜磁気ヘッドの構造に比べ
て、ライトフリンジングの発生を適正に抑制することが
可能であると同時に、狭トラック化を実現することがで
きる。As shown in FIGS. 2, 12, and 13, the lower magnetic pole layer 7 is formed with a track width Tw at the joint surface with the gap layer 9, and further, a raised portion 7a or an inclined surface 7b is formed. Alternatively, the raised portion 5a or the inclined surface 5b is similarly formed on the lower magnetic core layer 5 so that the upper surface on both sides of the lower magnetic pole layer 7 or the lower magnetic core layer 5 is formed.
The upper surfaces of both sides of the thin film magnetic head can be appropriately separated from the upper magnetic core layer 3 and the lower magnetic pole layer 7 does not have the protruding portion 7a. , A narrow track can be realized.
【００７２】なお図１２及び図１３に示す薄膜磁気ヘッ
ドの正面形状を形成するには、上述した第１イオンミリ
ング及び第２イオンミリングのミリング時間及びミリン
グ角度等を適正に行うことにより、形成することができ
る。The front shape of the thin-film magnetic head shown in FIGS. 12 and 13 is formed by appropriately performing the milling time and the milling angle of the first ion milling and the second ion milling described above. be able to.
【００７３】まず図１２に示す薄膜磁気ヘッドの正面形
状を形成するには、第２イオンミリングの際、イオン照
射角度θ２を、図１６に示す工程の場合に比べて、大き
くすることで、下部磁極層７にのみ傾斜面７ｂ，７ｂを
形成でき、下部磁気コア層５に、傾斜面を形成しないよ
うにすることができる。First, in order to form the front shape of the thin film magnetic head shown in FIG. 12, the ion irradiation angle θ2 is made larger in the second ion milling than in the step shown in FIG. The inclined surfaces 7b, 7b can be formed only on the pole layer 7, and the inclined surface can be prevented from being formed on the lower magnetic core layer 5.
【００７４】また図１３に示す薄膜磁気ヘッドの正面形
状を形成するには、第１イオンミリングの際におけるミ
リング時間を長くし、ギャップ層９の基端から両側に延
びる下部磁極層７を全て除去し、前記下部磁極層７のギ
ャップ層９との接合面の幅寸法をトラック幅Ｔｗと一致
させて、前記下部磁極層７を、記録媒体との対向面で、
直方形状または、下部磁気コア層５との基端がギャップ
層９との接合面での幅寸法より大きい台形状で形成す
る。さらに、ミリング時間を長くすることで、前記下部
磁気コア層５に、前記下部磁極層７と接する部分におい
て、前記下部磁極層７の基端の幅と同じ幅寸法を有する
隆起部５ａを形成する。その後、第２イオンミリングに
より、前記隆起部５ａの基端から延びる下部磁気コア層
５の両側上面に、上部磁気コア層３から離れるに従って
傾斜する傾斜面５ｂ，５ｂを形成する。In order to form the front shape of the thin-film magnetic head shown in FIG. 13, the milling time in the first ion milling is increased, and the lower magnetic pole layer 7 extending on both sides from the base end of the gap layer 9 is removed. The width of the joint surface of the lower magnetic pole layer 7 with the gap layer 9 is made equal to the track width Tw so that the lower magnetic pole layer 7 is
It is formed in a rectangular shape or a trapezoidal shape whose base end with the lower magnetic core layer 5 is larger than the width dimension at the joint surface with the gap layer 9. Further, by prolonging the milling time, a protruding portion 5 a having the same width dimension as the width of the base end of the lower magnetic pole layer 7 is formed in the lower magnetic core layer 5 at a portion in contact with the lower magnetic pole layer 7. . Thereafter, inclined surfaces 5b, 5b which are inclined with increasing distance from the upper magnetic core layer 3 are formed on both upper surfaces of the lower magnetic core layer 5 extending from the base end of the raised portion 5a by second ion milling.
【００７５】また、下部磁気コア層５と下部磁極層７と
が一体形成された場合も、上記と同様の方法を使用する
ことで、下部磁極層７を、下部磁気コア層５から一体に
隆起した形状で形成でき、さらに、前記下部磁気コア層
５のトラック幅方向の上面に、前記下部磁極層７の基端
からトラック幅方向に両側に向けて上部磁気コア層３か
ら離れる方向に傾斜する傾斜面５ｂ，５ｂを形成するこ
とができる。When the lower magnetic core layer 5 and the lower magnetic pole layer 7 are integrally formed, the lower magnetic pole layer 7 is integrally raised from the lower magnetic core layer 5 by using the same method as described above. The lower magnetic core layer 5 is inclined on the upper surface in the track width direction in a direction away from the upper magnetic core layer 3 from the base end of the lower magnetic pole layer 7 toward both sides in the track width direction. The inclined surfaces 5b, 5b can be formed.
【００７６】そして、これらの変形例においても、第１
イオンミリング工程及び第２イオンミリング工程によ
り、さらになる狭トラック化に対応可能な薄膜磁気ヘッ
ドを製造できると共に、下部磁極層７に隆起部７ａ及び
傾斜面７ｂの形成、あるいは下部磁気コア層５に隆起部
５ａ及び傾斜面５ｂの形成を行うことにより、ライトフ
リンジングの発生を適正に抑制することができる。In these modified examples, the first
By the ion milling step and the second ion milling step, it is possible to manufacture a thin-film magnetic head capable of coping with a further narrower track, and to form a raised portion 7a and an inclined surface 7b on the lower pole layer 7 or a The formation of the raised portion 5a and the inclined surface 5b can appropriately suppress the occurrence of light fringing.
【００７７】[0077]
【発明の効果】本発明は、以上説明したような形態で実
施され、以下に記載されるような効果を奏する。The present invention is embodied in the form described above and has the following effects.
【００７８】上部磁気コア層と、この上部磁気コア層に
対向して配置された下部磁気コア層と、これら上部磁気
コア層と下部磁気コア層との間に設けられた導電性コイ
ル層と、前記下部磁気コア層と前記導電性コイル層との
間に設けられ、前記下部磁気コア層と前記導電性コイル
層とを電気的に絶縁する第１の絶縁層と、前記上部磁気
コア層と前記導電性コイル層との間に設けられ、前記上
部磁気コア層と前記導電性コイル層とを電気的に絶縁す
る第２の絶縁層とを備え、前記第１の絶縁層は、前記上
部磁気コア層の先端部と対向する前記下部磁気コア層の
先端部を除いた該下部磁気コア層上に設けられ、前記上
部・下部両磁気コア層間には、前記下部磁気コア層の先
端部上に、前記第１の絶縁層の厚みに等しい膜厚を有す
る下部磁極層が前記第１の絶縁層の先端に連続して形成
されており、この下部磁極層上に前記上部磁気コア層の
先端部がギャップ層を介して設けられているとともに、
前記第２の絶縁層が前記下部磁極層よりも前記上部磁気
コア層の後端部側に位置しているので、前記ギャップ層
の上面から前記第２の絶縁層の上面までの膜厚寸法を前
記第１の絶縁層の膜厚の分だけ小さくすることができる
ため、前記上部磁気ギャップ層を形成するのに必要なレ
ジスト層の膜厚を薄くすることができ、前記上部磁気コ
ア層の先端部の幅、すなわちトラック幅を狭トラック化
に対応して精度良く形成することができる。An upper magnetic core layer, a lower magnetic core layer disposed opposite to the upper magnetic core layer, a conductive coil layer provided between the upper magnetic core layer and the lower magnetic core layer, A first insulating layer provided between the lower magnetic core layer and the conductive coil layer to electrically insulate the lower magnetic core layer and the conductive coil layer; A second insulating layer provided between the upper magnetic core layer and the upper magnetic core layer for electrically insulating the upper magnetic core layer and the conductive coil layer from each other; The lower magnetic core layer is provided on the lower magnetic core layer except for the front end of the lower magnetic core layer facing the front end of the layer. Between the upper and lower magnetic core layers, on the front end of the lower magnetic core layer, A lower magnetic pole layer having a thickness equal to the thickness of the first insulating layer Are formed continuously to the tip of the first insulating layer, the tip of the upper magnetic core layer with provided with the gap layer on the lower magnetic pole layer,
Since the second insulating layer is located closer to the rear end of the upper magnetic core layer than the lower magnetic pole layer, the thickness dimension from the upper surface of the gap layer to the upper surface of the second insulating layer is smaller. Since the thickness can be reduced by the thickness of the first insulating layer, the thickness of the resist layer required for forming the upper magnetic gap layer can be reduced, and the tip of the upper magnetic core layer can be reduced. The width of the portion, that is, the track width can be formed with high precision in response to the narrowing of the track.
【００７９】また、前記第１の絶縁層には、前記下部磁
極層から前記上部磁気コア層の後端部側に所定の間隔を
置いて前記導電性コイル層を収容する凹部が形成されて
いるので、前記ギャップ層の上面から前記第２の絶縁層
の上面までの膜厚寸法をより小さくすることができるた
め、前記トラック幅を一層精度良く形成することができ
る。In the first insulating layer, a concave portion for accommodating the conductive coil layer is formed at a predetermined distance from the lower magnetic pole layer to the rear end of the upper magnetic core layer. Therefore, the film thickness from the upper surface of the gap layer to the upper surface of the second insulating layer can be made smaller, so that the track width can be formed more accurately.
【００８０】また、前記上部磁気コア層は、先端部が前
記ギャップ層を介して前記下部磁極層上に設けられた幅
細のポール部と、このポール部の後端部に連設された該
ポール部よりも幅広のヨーク部とを有し、前記ポール部
の後端部が、前記下部磁極層と前記凹部と間において前
記第１の絶縁層と対向しているので、前記ポール部の長
さを長くとることができため、前記ポール部の先端部を
所定のトラック幅に精度良く形成することができるとと
もに、磁気記録媒体に対する情報書き込み特性を良好な
ものとすることができる。Further, the upper magnetic core layer has a tip portion provided with a narrow pole portion provided on the lower magnetic pole layer via the gap layer, and a rear end portion of the pole portion. A yoke portion wider than the pole portion, and a rear end of the pole portion faces the first insulating layer between the lower magnetic pole layer and the concave portion. Since the length of the pole portion can be made long, the tip portion of the pole portion can be accurately formed with a predetermined track width, and the information writing characteristics on the magnetic recording medium can be improved.
【００８１】また、前記上部磁気コア層と前記下部磁極
層とは各々２層構造とされ、前記下部磁極層の上層上に
前記上部磁気コア層の下層が前記ギャップ層を介して設
けられており、前記上部磁気コア層の下層および前記下
部磁極層の上層の飽和磁束密度が、前記上部磁気コア層
の上層および前記下部磁極層の下層の飽和磁束密度より
も高く設定されているので、磁気記録媒体に対する情報
書き込み特性を一層良好なものとすることができる。The upper magnetic core layer and the lower magnetic pole layer each have a two-layer structure, and a lower layer of the upper magnetic core layer is provided on an upper layer of the lower magnetic pole layer via the gap layer. Since the saturation magnetic flux density of the lower layer of the upper magnetic core layer and the upper layer of the lower magnetic pole layer is set higher than the saturation magnetic flux density of the upper layer of the upper magnetic core layer and the lower layer of the lower magnetic pole layer, The information writing characteristics on the medium can be further improved.
【００８２】また、前記ギャップ層が前記導電性コイル
層と前記第１の絶縁層との間に延設されているので、前
記導電性コイル層と前記下部磁気コア層との電気的な絶
縁をより確実なものとすることができる。Also, since the gap layer extends between the conductive coil layer and the first insulating layer, electrical insulation between the conductive coil layer and the lower magnetic core layer is reduced. It can be more reliable.
【００８３】また、前記下部磁気コア層は、磁気記録媒
体に対し情報の読み出しを行う磁気抵抗効果型ヘッドの
上部シールド層を兼ねるので、前記薄膜磁気ヘッドと組
み合わせた場合の製造工程を簡素化でき、磁気記録媒体
に対する情報読み出し特性を良好なものとすることがで
きる。Further, since the lower magnetic core layer also serves as an upper shield layer of a magnetoresistive head for reading information from a magnetic recording medium, the manufacturing process when combined with the thin film magnetic head can be simplified. In addition, the information reading characteristics of the magnetic recording medium can be improved.
【００８４】また、下部磁気コア層上に下部磁極層を形
成する工程と、前記下部磁気コア層上に第１の絶縁層を
前記下部磁極層の後端部上を覆うように形成する工程
と、前記第１の絶縁層の膜厚と前記下部磁極層の膜厚と
が等しくなるように前記第１の絶縁層を研磨する工程
と、前記第１の絶縁層に凹部を形成する工程と、前記下
部磁極層及び前記第１の絶縁層上にギャップ層を前記凹
部内に至るように形成する工程と、前記凹部内に形成さ
れた前記ギャップ層上に導電性コイル層を形成する工程
と、前記ギャップ層上に前記導電性コイル層を被覆する
第２の絶縁層をその先端部が前記下部磁極層の後方に位
置するように形成する工程と、前記第２の絶縁層及びギ
ャップ層上に上部磁気コア層を形成する工程とを有する
ので、前記ギャップ層の上面から前記第２の絶縁層の上
面までの膜厚寸法を前記第１の絶縁層の膜厚の分だけ小
さくすることができるため、前記上部磁気ギャップ層を
形成するのに必要なレジスト層の膜厚を薄くすることが
でき、前記上部磁気コア層の先端部の幅、すなわちトラ
ック幅を狭トラック化に対応して精度良く形成すること
ができる優れた薄膜磁気ヘッドを得ることができる。A step of forming a lower magnetic pole layer on the lower magnetic core layer; and a step of forming a first insulating layer on the lower magnetic core layer so as to cover a rear end of the lower magnetic pole layer. Polishing the first insulating layer so that the film thickness of the first insulating layer is equal to the film thickness of the lower magnetic pole layer; and forming a recess in the first insulating layer. Forming a gap layer on the lower pole layer and the first insulating layer so as to reach the inside of the concave portion, and forming a conductive coil layer on the gap layer formed in the concave portion; Forming a second insulating layer covering the conductive coil layer on the gap layer such that the tip is located behind the lower magnetic pole layer; and forming a second insulating layer on the second insulating layer and the gap layer. Forming the upper magnetic core layer. Since the thickness from the upper surface to the upper surface of the second insulating layer can be reduced by the thickness of the first insulating layer, the thickness of the resist layer necessary for forming the upper magnetic gap layer can be reduced. It is possible to obtain an excellent thin-film magnetic head that can be formed with a small thickness and that can be formed with high precision in response to the narrowing of the track width, that is, the width of the tip of the upper magnetic core layer.
【図１】本発明の薄膜磁気ヘッドの断面図。FIG. 1 is a sectional view of a thin-film magnetic head according to the present invention.
【図２】本発明の薄膜磁気ヘッドの媒体対向面側から見
た部分正面図。FIG. 2 is a partial front view of the thin-film magnetic head of the present invention viewed from a medium facing surface side.
【図３】本発明の薄膜磁気ヘッドの平面図。FIG. 3 is a plan view of the thin-film magnetic head of the present invention.
【図４】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法の製造工程
を説明するための断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining a manufacturing process of the method for manufacturing a thin-film magnetic head according to the present invention.
【図５】本発明の薄膜磁気ヘッドのトラック幅を測定し
た結果を示すグラフを表す図。FIG. 5 is a graph showing a result of measuring a track width of the thin-film magnetic head of the present invention.
【図６】本発明の薄膜磁気ヘッドの短く形成したギャッ
プ層を説明するための断面図。FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining a gap layer formed short in the thin-film magnetic head of the present invention.
【図７】本発明の薄膜磁気ヘッドの応用例を説明するた
めの断面図。FIG. 7 is a sectional view for explaining an application example of the thin-film magnetic head of the present invention.
【図８】従来の薄膜磁気ヘッドの断面図。FIG. 8 is a sectional view of a conventional thin film magnetic head.
【図９】従来の薄膜磁気ヘッドの平面図。FIG. 9 is a plan view of a conventional thin-film magnetic head.
【図１０】従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法の製造工程
を説明するための断面図。FIG. 10 is a cross-sectional view for explaining a manufacturing process of a conventional method for manufacturing a thin-film magnetic head.
【図１１】従来の薄膜磁気ヘッドのトラック幅を測定し
た結果を示すグラフを表す図。FIG. 11 is a graph showing a result of measuring a track width of a conventional thin film magnetic head.
【図１２】本発明における他の薄膜磁気ヘッドの構造を
示す部分正面図。FIG. 12 is a partial front view showing the structure of another thin-film magnetic head according to the present invention.
【図１３】本発明における他の薄膜磁気ヘッドの構造を
示す部分正面図。FIG. 13 is a partial front view showing the structure of another thin-film magnetic head according to the present invention.
【図１４】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造工程を説明す
るための断面図。FIG. 14 is a cross-sectional view for explaining a manufacturing process of the thin-film magnetic head of the present invention.
【図１５】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造工程を説明す
るための断面図。FIG. 15 is a sectional view for explaining a manufacturing process of the thin-film magnetic head of the present invention.
【図１６】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造工程を説明す
るための断面図。FIG. 16 is a cross-sectional view for explaining a manufacturing process of the thin-film magnetic head of the present invention.
１ 薄膜磁気ヘッド ２ 上部磁気コア層 ３ ポール部 ３ａ 後端部 ４ ヨーク部 ４ａ 傾斜面 ５ 下部磁気コア層 ５ａ 傾斜面 ５ｂ 傾斜面 ６ 第１の絶縁層 ６ａ 凹部 ７ 下部磁極層 ７ａ 傾斜面 ７ｂ 傾斜面 ７ｃ 裾部 ８ ギャップ層 ９ 磁気ギャップ １０ 導電性コイル層 １１ 第２の絶縁層 １１ａ 傾斜面 １２ 磁気抵抗効果型ヘッド １３ 下部シールド層 １４ 非磁性絶縁層 １５ 磁気抵抗効果素子 １６ 媒体対向面 １７ めっき下地層 １８ レジスト層 １９ 薄膜磁気ヘッド DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Thin-film magnetic head 2 Upper magnetic core layer 3 Pole part 3a Rear end part 4 Yoke part 4a Inclined surface 5 Lower magnetic core layer 5a Inclined surface 5b Inclined surface 6 First insulating layer 6a Depression 7 Lower pole layer 7a Inclined surface 7b Inclined surface Surface 7c Foot 8 Gap layer 9 Magnetic gap 10 Conductive coil layer 11 Second insulating layer 11a Inclined surface 12 Magnetoresistive head 13 Lower shield layer 14 Nonmagnetic insulating layer 15 Magnetoresistive element 16 Medium facing surface 17 Plating Underlayer 18 Resist layer 19 Thin-film magnetic head
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 5/39 Ｇ１１Ｂ 5/39 (72)発明者 山田 稔 東京都大田区雪谷大塚町１番７号 アルプ ス電気株式会社内 Ｆターム(参考） 5D033 BA07 BA08 BA12 BA21 BA41 BB43 DA31 5D034 AA03 BA02 BA18 DA07 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification FI FI Theme Court ゛ (Reference) G11B 5/39 G11B 5/39 (72) Inventor Minoru Yamada 1-7 Yukitani Otsukacho, Ota-ku, Tokyo Alp F-term in SUMITOMO ELECTRIC CO., LTD. (Reference) 5D033 BA07 BA08 BA12 BA21 BA41 BB43 DA31 5D034 AA03 BA02 BA18 DA07
Claims (13)
に対向して配置された下部磁気コア層と、これら上部磁
気コア層と下部磁気コア層との間に設けられた導電性コ
イル層と、前記下部磁気コア層と前記導電性コイル層と
の間に設けられ、前記下部磁気コア層と前記導電性コイ
ル層とを電気的に絶縁する第１の絶縁層と、前記上部磁
気コア層と前記導電性コイル層との間に設けられ、前記
上部磁気コア層と前記導電性コイル層とを電気的に絶縁
する第２の絶縁層とを備え、前記第１の絶縁層は、前記
上部磁気コア層の先端部と対向する前記下部磁気コア層
の先端部を除いた該下部磁気コア層上に設けられ、前記
上部・下部両磁気コア層間には、前記下部磁気コア層の
先端部上に、前記第１の絶縁層の厚みに等しい膜厚を有
する下部磁極層が前記第１の絶縁層の先端に連続して形
成されており、この下部磁極層上に前記上部磁気コア層
の先端部がギャップ層を介して設けられているととも
に、前記第２の絶縁層が前記下部磁極層よりも前記上部
磁気コア層の後端部側に位置していることを特徴とする
薄膜磁気ヘッド。1. An upper magnetic core layer, a lower magnetic core layer disposed opposite to the upper magnetic core layer, and a conductive coil layer provided between the upper magnetic core layer and the lower magnetic core layer A first insulating layer provided between the lower magnetic core layer and the conductive coil layer to electrically insulate the lower magnetic core layer from the conductive coil layer; and And a second insulating layer provided between the conductive coil layer and electrically insulating the upper magnetic core layer and the conductive coil layer from each other. The lower magnetic core layer is provided on the lower magnetic core layer except for the front end portion of the lower magnetic core layer facing the front end portion of the magnetic core layer, and is provided between the upper and lower magnetic core layers on the front end portion of the lower magnetic core layer. A lower magnetic pole layer having a thickness equal to the thickness of the first insulating layer. The top end of the upper magnetic core layer is provided on the lower pole layer via a gap layer, and the second insulating layer is formed on the lower pole layer. A thin-film magnetic head, which is located closer to the rear end of the upper magnetic core layer than the lower magnetic pole layer.
から前記上部磁気コア層の後端部側に所定の間隔を置い
て前記導電性コイル層を収容する凹部が形成されている
ことを特徴とする請求項１に記載の薄膜磁気ヘッド。2. A recess for accommodating the conductive coil layer at a predetermined distance from the lower pole layer to a rear end of the upper magnetic core layer in the first insulating layer. 2. The thin-film magnetic head according to claim 1, wherein:
ャップ層を介して前記下部磁極層上に設けられた幅細の
ポール部と、このポール部の後端部に連設された該ポー
ル部よりも幅広のヨーク部とを有し、前記ポール部の後
端部が、前記下部磁極層と前記凹部と間において前記第
１の絶縁層と対向していることを特徴とする請求項１又
は２に記載の薄膜磁気ヘッド。3. An upper magnetic core layer, wherein a front end portion is provided with a narrow pole portion provided on the lower pole layer via the gap layer, and a rear end portion of the pole portion is connected to the narrow pole portion. A yoke portion wider than the pole portion, wherein a rear end portion of the pole portion faces the first insulating layer between the lower magnetic pole layer and the concave portion. 3. The thin-film magnetic head according to 1 or 2.
は各々２層構造とされ、前記下部磁極層の上層上に前記
上部磁気コア層の下層が前記ギャップ層を介して設けら
れており、前記上部磁気コア層の下層および前記下部磁
極層の上層の飽和磁束密度が、前記上部磁気コア層の上
層および前記下部磁極層の下層の飽和磁束密度よりも高
く設定されていることを特徴とする請求項１，２又は３
に記載の薄膜磁気ヘッド。4. The upper magnetic core layer and the lower magnetic pole layer each have a two-layer structure, and a lower layer of the upper magnetic core layer is provided on an upper layer of the lower magnetic pole layer via the gap layer. The saturation magnetic flux density of the lower layer of the upper magnetic core layer and the upper layer of the lower magnetic pole layer is set higher than the saturation magnetic flux density of the upper layer of the upper magnetic core layer and the lower layer of the lower magnetic pole layer. Claim 1, 2, or 3
2. The thin-film magnetic head according to 1.
前記第１の絶縁層との間に延設されていることを特徴と
する請求項１，２，３又は４に記載の薄膜磁気ヘッド。5. The thin-film magnetic head according to claim 1, wherein the gap layer extends between the conductive coil layer and the first insulating layer. .
に対し情報の読み出しを行う磁気抵抗効果型ヘッドの上
部シールド層を兼ねることを特徴とする請求項１，２，
３，４又は５に記載の薄膜磁気ヘッド。6. The magnetic head according to claim 1, wherein the lower magnetic core layer also functions as an upper shield layer of a magnetoresistive head for reading information from a magnetic recording medium.
6. The thin-film magnetic head according to 3, 4, or 5.
る工程と、前記下部磁気コア層上に第１の絶縁層を前記
下部磁極層の後端部上を覆うように形成する工程と、前
記第１の絶縁層の膜厚と前記下部磁極層の膜厚とが等し
くなるように前記第１の絶縁層を研磨する工程と、前記
第１の絶縁層に凹部を形成する工程と、前記下部磁極層
及び前記第１の絶縁層上にギャップ層を前記凹部内に至
るように形成する工程と、前記凹部内に形成された前記
ギャップ層上に導電性コイル層を形成する工程と、前記
ギャップ層上に前記導電性コイル層を被覆する第２の絶
縁層をその先端部が前記下部磁極層の後方に位置するよ
うに形成する工程と、前記第２の絶縁層及びギャップ層
上に上部磁気コア層を形成する工程と、を有することを
特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。7. A step of forming a lower pole layer on the lower magnetic core layer, and a step of forming a first insulating layer on the lower magnetic core layer so as to cover a rear end of the lower pole layer. Polishing the first insulating layer so that the film thickness of the first insulating layer is equal to the film thickness of the lower magnetic pole layer; and forming a recess in the first insulating layer. Forming a gap layer on the lower pole layer and the first insulating layer so as to reach the inside of the concave portion, and forming a conductive coil layer on the gap layer formed in the concave portion; Forming a second insulating layer covering the conductive coil layer on the gap layer such that the tip is located behind the lower magnetic pole layer; and forming a second insulating layer on the second insulating layer and the gap layer. Forming an upper magnetic core layer. Head manufacturing method.
上に形成された下部磁極層と、少なくとも前記下部磁極
層上に形成された非磁性のギャップ層と、記録媒体との
対向面で前記ギャップ層上に形成される上部磁気コア層
と、前記下部磁極層のハイト方向後方に形成された、前
記下部磁気コア層及び上部磁気コア層に記録磁界を誘導
するコイル層とが設けられており、 前記上部磁気コア層は、前記記録媒体との対向面でトラ
ック幅で露出する先端領域と、前記先端領域の終端から
ハイト方向後方へ向けトラック幅方向の幅が広がる後端
領域とを有し前記下部磁極層のハイト方向後方を前記下
部磁極層の上面と同一の高さに平坦化するための平坦絶
縁層が形成され、前記平坦絶縁層が一定の平坦面と、ハ
イト方向へ後方へ向かうほどに薄くなる傾斜面を有し、 前記平坦面の高さは、前記コイル層の形成されるコイル
層形成面よりも高いことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。8. A lower magnetic core layer, a lower magnetic pole layer formed on the lower magnetic core layer, a nonmagnetic gap layer formed on at least the lower magnetic pole layer, and a surface facing the recording medium. An upper magnetic core layer formed on the gap layer; and a coil layer formed behind the lower magnetic pole layer in a height direction, for inducing a recording magnetic field in the lower magnetic core layer and the upper magnetic core layer. The upper magnetic core layer has a leading end region exposed at a track width on a surface facing the recording medium, and a trailing end region whose width in the track width direction increases rearward in the height direction from the end of the leading end region. A flat insulating layer for flattening the rear of the lower magnetic pole layer in the height direction to the same height as the upper surface of the lower magnetic pole layer is formed, and the flat insulating layer has a constant flat surface and the rear in the height direction. Thinner as you go An inclined surface, the height of the flat surface, a thin film magnetic head being higher than the coil layer forming surface formed of the coil layer.
坦絶縁層上に、ギャップ層を介してあるいは直接に前記
コイル層が形成されることを特徴とする請求項８に記載
の薄膜磁気ヘッド。9. The thin-film magnetic head according to claim 8, wherein the coil layer is formed on a flat insulating layer extending rearward in the height direction of the inclined surface via a gap layer or directly. .
形成されるコイル層形成面よりも高く、前記コイル層の
上面の高さよりも低いことを特徴とする請求項８または
９に記載の薄膜磁気ヘッド。10. The flat surface according to claim 8, wherein a height of the flat surface is higher than a surface on which the coil layer is formed and lower than a height of an upper surface of the coil layer. Thin film magnetic head.
層よりも飽和磁束密度が高い請求項８乃至１０に記載の
薄膜磁気ヘッド。11. The thin-film magnetic head according to claim 8, wherein the lower magnetic pole layer has a higher saturation magnetic flux density than the lower magnetic core layer.
上の磁性層が積層されて形成され、前記ギャップ層に近
い磁性層ほど飽和磁束密度が高く形成される請求項８乃
至１１に記載の薄膜磁気ヘッド。12. The thin film according to claim 8, wherein the lower magnetic pole layer is formed by stacking at least two or more magnetic layers, and the magnetic layer closer to the gap layer has a higher saturation magnetic flux density. Magnetic head.
端流域で２層以上の磁性層が積層されて形成され、前記
ギャップ層に近い磁性層ほど飽和磁束密度が高く形成さ
れる請求項８乃至１２に記載の薄膜磁気ヘッド。13. The magnetic layer according to claim 8, wherein the upper magnetic core layer is formed by laminating two or more magnetic layers at least in a front flow region, and the magnetic layer closer to the gap layer has a higher saturation magnetic flux density. 2. The thin-film magnetic head according to 1.
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| JP2000106726 | 2000-04-04 | ||
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