JP2001349952A - Scattering ray removing grid - Google Patents

Scattering ray removing grid

Info

Publication number
JP2001349952A
JP2001349952A JP2000175270A JP2000175270A JP2001349952A JP 2001349952 A JP2001349952 A JP 2001349952A JP 2000175270 A JP2000175270 A JP 2000175270A JP 2000175270 A JP2000175270 A JP 2000175270A JP 2001349952 A JP2001349952 A JP 2001349952A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
grid
radiation
parallel
strips
grids
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000175270A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Eiji Ogawa
英二 小川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2000175270A priority Critical patent/JP2001349952A/en
Publication of JP2001349952A publication Critical patent/JP2001349952A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily manufacture a scattering ray removing grid as a focusing grid. SOLUTION: Six parallel grids 2A to 2F are formed. The curvature of a curved face 3a supporting the parallel grids 2A to 2F in a support member 3 is set in accordance with a position of a radiation source when used. The parallel grids 2A to 2F are bonded on the curved face 3a of the support member 3 to form the scattering ray removing grid.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は放射線撮影装置に使
用される散乱線除去グリッドに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a grid for removing scattered radiation used in a radiographic apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、生体等の被写体を透過した放射線
により被写体の放射線透過像を撮影する際、散乱線の少
ない高画質の透過像を得るために、被写体を透過する放
射線が被写体により散乱されて発生する散乱線を吸収す
る散乱線除去グリッドを用いることが知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, when a radiographic image of a subject is taken with radiation transmitted through the subject such as a living body, radiation transmitted through the subject is scattered by the subject in order to obtain a high-quality transmitted image with little scattered radiation. It is known to use a scattered radiation removal grid that absorbs the scattered radiation generated.

【0003】この散乱線除去グリッドの一般的な形状
は、放射線の進行方向に幅を持った放射線吸収部(スト
リップ)と放射線透過部とが交互に平行に、あるいは使
用時の放射線源に向けて集束させるように傾斜させて並
設されて、これらを支持部材により支持することにより
全体として平板状に形成されたもので、放射線が被写体
に散乱されて斜めに進む散乱線は放射線吸収部により吸
収されて除去され、略直線的に透過する主透過線のみが
放射線透過部を透過して検出器上に到達し放射線透過像
を形成するようになっている。この放射線透過部は木、
アルミニウム等により形成され、鉛等から形成される放
射線吸収部と交互に密接させて配置することにより全体
として強度を保っている。
The general shape of the scattered radiation removing grid is such that a radiation absorbing portion (strip) having a width in the traveling direction of radiation and a radiation transmitting portion are alternately parallel to each other or directed toward a radiation source in use. They are arranged side by side so as to be focused so as to converge, and they are formed as a whole by supporting them with a support member.The scattered radiation that is scattered by the subject and travels obliquely is absorbed by the radiation absorber. Then, only the main transmission line, which is substantially linearly transmitted, is transmitted through the radiation transmitting portion and reaches the detector to form a radiation transmission image. This radiation transmitting part is a tree,
It is made of aluminum or the like, and alternately and closely arranged with a radiation absorbing part made of lead or the like, thereby maintaining the strength as a whole.

【0004】また、この放射線透過部は、主透過線の透
過率を低下させないよう、放射線の透過率が高いもので
あるのが望ましい。このため、放射線透過部を空気とし
た散乱線除去グリッド、いわゆるエアグリッドや、放射
線透過部を発泡材とした発泡材グリッドが提案されてい
る(例えば特開平10−5207号)。なお、ここで、
放射線吸収部と放射線透過部が互いに平行に並設された
グリッドを平行グリッド、使用時の放射線源に向けて集
束させるように傾斜させて並設されたグリッドを集束グ
リッドと称する。
It is desirable that the radiation transmitting portion has a high radiation transmittance so as not to lower the transmittance of the main transmission line. For this reason, a scattered radiation removing grid using air as a radiation transmitting portion, a so-called air grid, and a foam material grid using a radiation transmitting portion as a foam material have been proposed (for example, JP-A-10-5207). Here,
A grid in which the radiation absorbing portion and the radiation transmitting portion are arranged in parallel to each other is referred to as a parallel grid, and a grid in which the radiation absorbing portion and the radiation transmitting portion are arranged side by side so as to be focused toward the radiation source in use is referred to as a focusing grid.

【0005】このような散乱線除去グリッドは、支持部
材に放射線吸収部であるストリップを挿入するためのス
ロットを形成し、このスロットにおいてストリップを支
持することにより形成される。
[0005] Such a scattered radiation removing grid is formed by forming a slot for inserting a strip, which is a radiation absorbing portion, in a support member, and supporting the strip in this slot.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、散乱線
除去グリッドにおいて使用されるストリップは数百個も
あるため、とくに集束グリッドを製造する場合には、支
持部材に形成されたスロットにストリップを挿入するの
は非常に手間がかかり、また集束角度の制御も非常に困
難なものである。
However, since there are hundreds of strips used in the scatter grid, especially when manufacturing a focusing grid, the strips are inserted into slots formed in the support member. This is very time consuming and the control of the focusing angle is very difficult.

【0007】本発明は上記事情に鑑みなされたものであ
り、散乱線除去グリッドが集束グリッドであっても、そ
の製造を簡易に行うことができる散乱線除去グリッドを
提供することを目的とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a scattered radiation eliminating grid which can be easily manufactured even if the scattered radiation eliminating grid is a focusing grid. It is.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の散乱線除去グリ
ッドは、放射線吸収物質からなり、放射線が照射される
領域全体に亘って所定の間隔で配置される放射線の進行
方向に幅を持った複数のストリップを備えた散乱線除去
グリッドにおいて、前記複数のストリップが前記所定の
間隔で平行に配設されてなる、グリッドの全幅の1/2
以下の幅を有する複数の平行グリッドと、該各平行グリ
ッドを構成する複数のストリップを使用時の放射線源の
方向を略向くように傾斜させて、該各平行グリッドを支
持する支持面を有する支持部材とを備えたことを特徴と
するものである。
The scattered radiation removing grid of the present invention is made of a radiation absorbing material, and has a width in the traveling direction of the radiation arranged at a predetermined interval over the entire area irradiated with the radiation. A scattered radiation removal grid having a plurality of strips, wherein the plurality of strips are arranged in parallel at the predetermined interval, and are の of a full width of the grid.
A support having a plurality of parallel grids having the following widths, and a plurality of strips constituting each of the parallel grids being inclined so as to substantially face the direction of the radiation source in use, and having a support surface for supporting each of the parallel grids. And a member.

【0009】なお、本発明においては、ストリップが配
置される方向をグリッドの幅方向とする。
In the present invention, the direction in which the strips are arranged is defined as the width direction of the grid.

【0010】平行グリッドは、グリッドの全幅の1/2
以下の幅を有するが、平行グリッドの幅をより小さく
し、より多くの平行グリッドを用いることが好ましい。
A parallel grid is 1 / of the full width of the grid.
Although it has the following widths, it is preferred to make the width of the parallel grids smaller and use more parallel grids.

【0011】また、平行グリッドは、ストリップと放射
線透過部材とを交互に平行に配置したものであってもよ
く、エアグリッド、発泡材グリッドであってもよい。
Further, the parallel grid may be one in which strips and radiation transmitting members are alternately arranged in parallel, and may be an air grid or a foam grid.

【0012】ストリップは、鉛、鉛とステンレスとの合
金(鉛合金)、タングステンなどの放射線を吸収する材
料からなる。
The strip is made of a material that absorbs radiation, such as lead, an alloy of lead and stainless steel (lead alloy), and tungsten.

【0013】放射線透過部材および支持部材は、アルミ
ニウム、樹脂などの放射線を透過しやすい材料からな
る。
The radiation transmitting member and the supporting member are made of a material that easily transmits radiation, such as aluminum and resin.

【0014】放射線源は使用時には通常、グリッドの中
央部上方に位置するので、散乱線除去グリッドにおける
両端に位置する平行グリッドのストリップほど放射線源
に向くよう最も傾斜し、内方に位置する平行グリッドの
ストリップほどその傾斜が緩やかになるように、支持部
材の支持面が形成される。すなわち、支持部材の支持面
は、例えば、平行グリッドが支持面に配置された際、前
記各平行グリッドのストリップが概略放射線源に収束す
るような曲面あるいはステップ状の支持面に形成され
る。
Since the radiation source is usually located above the center of the grid in use, the parallel grid strips located at both ends of the anti-scatter grid are most inclined to face the radiation source, and the parallel grid located inwardly The supporting surface of the supporting member is formed such that the inclination of the strip becomes gentler as the strip becomes. That is, the support surface of the support member is formed as a curved surface or a step-like support surface such that, for example, when the parallel grids are arranged on the support surface, the strips of the respective parallel grids are substantially converged on the radiation source.

【0015】ここで、傾斜は、グリッドの中央上部に位
置する放射線源からグリッドの中央部に下した垂線に対
する傾斜のことをいう。
Here, the inclination refers to an inclination with respect to a vertical line lowered from the radiation source located at the upper center of the grid to the center of the grid.

【0016】[0016]

【発明の効果】本発明によれば、各平行グリッドを構成
する複数のストリップを使用時の放射線源の方向を略向
くように傾斜させて、各平行グリッドを支持するように
したたものである。ここで、平行グリッドはストリップ
の集束角度を制御する必要はないため、その製造は容易
なものである。したがって、平行グリッドを支持する支
持面の傾斜角度や曲率のみを制御して各平行グリッドを
支持すれば、複数のストリップが使用時の放射線源の方
向を略向いた擬似的な集束グリッドを得ることができる
ため、集束グリッドの製造を簡易に行うことができる。
According to the present invention, a plurality of strips constituting each parallel grid are inclined so as to substantially face the direction of the radiation source in use, so as to support each parallel grid. . Here, the parallel grid is easy to manufacture because it is not necessary to control the convergence angle of the strip. Therefore, if each parallel grid is supported by controlling only the inclination angle and the curvature of the support surface that supports the parallel grid, a pseudo focusing grid in which a plurality of strips are substantially oriented in the direction of the radiation source in use can be obtained. Therefore, it is possible to easily manufacture the focusing grid.

【0017】なお、本発明による散乱線除去グリッドを
用いて被写体の撮影を行うことにより得られた放射線画
像においては、平行グリッドの数が少ないと、各平行グ
リッドの辺縁部において放射線透過率が減少するため、
ムラが生じる場合がある。このため、平行グリッドの数
をできる限り多くすることにより、このムラを低減する
ことができる。また、このムラはグリッドに起因する規
則的なものであるため、画像処理により容易に除去する
ことができる。
In a radiographic image obtained by photographing a subject using the scattered X-ray removal grid according to the present invention, if the number of parallel grids is small, the radiation transmittance at the edge of each parallel grid is low. To decrease,
Unevenness may occur. Therefore, the unevenness can be reduced by increasing the number of parallel grids as much as possible. Further, since this unevenness is regular due to the grid, it can be easily removed by image processing.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態について説明する。なお、図は説明のための概略
図であり、各部材の板厚、ストリップの数、あるいは各
部材の寸法の比率等は実際とは必ずしも整合していな
い。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. The drawings are schematic diagrams for explanation, and the plate thickness of each member, the number of strips, the ratio of the dimensions of each member, and the like do not always match the actual ones.

【0019】図1は、本発明の実施形態による散乱線除
去グリッド(以下、単にグリッドという)1の構成を示
す図である。本実施形態によるグリッド1は、6個の平
行グリッド2A〜2Fを支持部材3により支持すること
により構成されている。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a scattered radiation removing grid (hereinafter simply referred to as a grid) 1 according to an embodiment of the present invention. The grid 1 according to the present embodiment is configured by supporting six parallel grids 2 </ b> A to 2 </ b> F with a support member 3.

【0020】図2は平行グリッド2A〜2Fの構成を示
す図である。図2に示すように、平行グリッド2A〜2
Fは、放射線を吸収する材料からなるストリップ4およ
び放射線を透過させる材料からなる中間物質5を互いに
平行となるように配設し、ストリップ4および中間物質
5を天板6および底板7により支持することにより構成
されている。具体的には、図3に示すようにストリップ
4および中間物質5の厚さに対応する幅を有するガイド
11に複数のストリップ4および複数の中間物質5を交
互に挿入して並列させ、並列させたストリップ4および
中間物質5をガイド11から取り外した後に、これらを
天板6および底板7により支持することにより構成され
る。
FIG. 2 is a diagram showing the configuration of the parallel grids 2A to 2F. As shown in FIG. 2, the parallel grids 2A to 2A
In F, a strip 4 made of a material that absorbs radiation and an intermediate substance 5 made of a material that transmits radiation are disposed so as to be parallel to each other, and the strip 4 and the intermediate substance 5 are supported by a top plate 6 and a bottom plate 7. It is constituted by. Specifically, as shown in FIG. 3, a plurality of strips 4 and a plurality of intermediate substances 5 are alternately inserted and arranged in a guide 11 having a width corresponding to the thickness of the strip 4 and the intermediate substance 5, and the guides 11 are arranged in parallel. After the strip 4 and the intermediate material 5 are removed from the guide 11, they are supported by the top plate 6 and the bottom plate 7.

【0021】なお、ストリップ4は、具体的には、鉛、
鉛とステンレスとの合金である鉛合金、タングステンな
どの放射線吸収物質からなり、厚さは0.1mm、高さ
10mm、長さ430mmのものを用いることができ
る。一方、中間物質5は、アルミニウム、樹脂などの放
射線を透過する材料からなり、厚さは1mm、高さ10
mm、長さ430mmのものを用いることができる。
Note that the strip 4 is specifically made of lead,
It is made of a radiation absorbing material such as a lead alloy, tungsten, which is an alloy of lead and stainless steel, and has a thickness of 0.1 mm, a height of 10 mm, and a length of 430 mm. On the other hand, the intermediate substance 5 is made of a material that transmits radiation, such as aluminum or resin, and has a thickness of 1 mm and a height of 10 mm.
mm and a length of 430 mm can be used.

【0022】なお、グリッド1の幅(図1における左右
方向)を460mmとした場合、平行グリッド2A〜2
Fの幅は、70mm程度とされる。
When the width of the grid 1 (the horizontal direction in FIG. 1) is 460 mm, the parallel grids 2A to 2A
The width of F is about 70 mm.

【0023】支持部材3は、アルミニウム、樹脂などの
放射線を透過する材料からなり、6個の平行グリッド2
A〜2Fを支持する曲面3aを有する。曲面3aは、グ
リッド1の使用時の放射線源の位置を曲率中心としてい
る。具体的には、放射線画像撮影装置における放射線源
とグリッド1との位置関係に応じて、例えば100c
m、110cmおよび180cmの位置にある放射線源
を考慮して曲面3aの曲率が設定される。なお、曲面3
aは支持部材3が樹脂からなる場合には、予め曲面3a
を有するように成形を行う。一方、支持部材3が金属で
ある場合には打ち出しなどにより成形を行えばよい。ま
た、平行グリッド2A〜2Fは、その長手方向の2辺に
接着剤を塗布して支持部材3に接着することにより、支
持部材3に支持されることとなる。
The support member 3 is made of a radiation-permeable material such as aluminum or resin, and is made of six parallel grids 2.
It has a curved surface 3a that supports A to 2F. The curved surface 3a has the center of curvature at the position of the radiation source when the grid 1 is used. Specifically, according to the positional relationship between the radiation source and the grid 1 in the radiation image capturing apparatus, for example, 100c
The curvature of the curved surface 3a is set in consideration of the radiation sources at m, 110 cm, and 180 cm. In addition, curved surface 3
When the supporting member 3 is made of a resin, a
Is formed so as to have On the other hand, when the support member 3 is made of metal, it may be formed by stamping or the like. The parallel grids 2A to 2F are supported by the support member 3 by applying an adhesive to two sides in the longitudinal direction and bonding the adhesive to the support member 3.

【0024】このように、支持部材3の曲面3aの曲率
を設定することにより、平行グリッド2A〜2Fを構成
するストリップ4は、使用時の放射線源に略向かうよう
に傾斜されて支持部材3に支持されることとなる。具体
的には、両端の平行グリッド2A,2Fのストリップ4
は放射線源に向くよう最も傾斜し、内方に位置を変える
にしたがい、順次その傾斜が緩やかになり支持部材3の
下面に対し直角に近づくものとなる。なお、両端の平行
グリッド2A,2Fの表面(天板6,底板7)の支持部
材3の下面に対する傾斜角度θは、曲面3aの曲率を1
80cm、グリッド1の幅を460mmとした場合、θ
=tan-1(230/1800)=7.28°となる。
As described above, by setting the curvature of the curved surface 3a of the support member 3, the strips 4 constituting the parallel grids 2A to 2F are inclined so as to be substantially directed toward the radiation source in use, and Will be supported. Specifically, strips 4 of parallel grids 2A and 2F at both ends
Is inclined most toward the radiation source, and as the position is changed inward, the inclination gradually becomes gentle and approaches a right angle to the lower surface of the support member 3. The inclination angle θ of the surfaces (top plate 6 and bottom plate 7) of the parallel grids 2A and 2F at both ends with respect to the lower surface of the support member 3 is such that the curvature of the curved surface 3a is 1
When 80 cm and the width of the grid 1 are 460 mm, θ
= Tan -1 (230/1800) = 7.28 °.

【0025】このように、本実施形態においては、平行
グリッド2A〜2Fを構成する複数のストリップ4を、
使用時の放射線源の方向を略向くように傾斜させて、各
平行グリッド2A〜2Fを支持部材3により支持するよ
うにしたたものである。ここで、平行グリッド2A〜2
Fはストリップ4の集束角度を制御する必要はないた
め、その製造は容易なものである。したがって、支持部
材3における平行グリッド2A〜2Fを支持する曲面3
aの曲率のみを制御して平行グリッド2A〜2Fを支持
すれば、ストリップ4が使用時の放射線源の方向を略向
いた擬似的な集束グリッドを得ることができるため、集
束グリッドの製造を簡易に行うことができる。
As described above, in the present embodiment, the plurality of strips 4 forming the parallel grids 2A to 2F are
Each of the parallel grids 2 </ b> A to 2 </ b> F is supported by the support member 3 by being inclined so that the direction of the radiation source in use is substantially directed. Here, the parallel grids 2A to 2A
Since F does not need to control the convergence angle of the strip 4, its manufacture is easy. Therefore, the curved surface 3 supporting the parallel grids 2A to 2F in the support member 3
If only the curvature a is controlled to support the parallel grids 2A to 2F, it is possible to obtain a pseudo focusing grid in which the strip 4 is substantially oriented in the direction of the radiation source at the time of use, thereby simplifying the manufacturing of the focusing grid. Can be done.

【0026】なお、上記実施形態においては、使用時の
放射線源の位置に応じた曲率の曲面3aを有する支持部
材3により平行グリッド2A〜2Fを支持しているが、
図4に示すように、ステップ状の支持面を有する支持部
材13により平行グリッド2A〜2Fを支持してもよ
い。この場合、両端の平行グリッド2A,2Fを支持す
る支持面は放射線源に向くよう支持部材13の下面に対
して最も傾斜し、内方に位置を変えるにしたがい、順次
その傾斜が緩やかになり支持部材13の下面に対し平行
に近づくものとなる。
In the above embodiment, the parallel grids 2A to 2F are supported by the support member 3 having the curved surface 3a having a curvature corresponding to the position of the radiation source at the time of use.
As shown in FIG. 4, the parallel grids 2A to 2F may be supported by a support member 13 having a step-like support surface. In this case, the support surfaces for supporting the parallel grids 2A and 2F at both ends are inclined most with respect to the lower surface of the support member 13 so as to face the radiation source, and as the position is changed inward, the inclination gradually becomes gentler. It becomes closer to the lower surface of the member 13 in parallel.

【0027】また、上記実施形態においては、平行グリ
ッドの数を6個としているが、これに限定されるもので
はなく、2個以上であればよいものである。しかしなが
ら、平行グリッドの数が少ないと、各平行グリッドの辺
縁部において放射線透過率が減少するため、得られる放
射線画像にムラが生じる場合がある。このため、平行グ
リッドの数をできる限り多くすることにより、このムラ
を低減することができる。また、このムラはグリッドに
起因する規則的なものであるため、画像処理により容易
に除去することができる。
Further, in the above embodiment, the number of parallel grids is six, but the number is not limited to six, and may be any number as long as it is two or more. However, when the number of the parallel grids is small, the radiation transmittance decreases at the peripheral portion of each parallel grid, so that the obtained radiographic image may be uneven. Therefore, the unevenness can be reduced by increasing the number of parallel grids as much as possible. Further, since this unevenness is regular due to the grid, it can be easily removed by image processing.

【0028】さらに、上記実施形態において、中間物質
5を使用することなく平行グリッドを構成することによ
り、散乱線除去グリッド1をエアグリッドとしてもよ
い。また、平行グリッドをエアグリッドとして製造した
後、ストリップ4の間に発泡材を充填し、発泡材グリッ
ドとしてもよい。
Further, in the above embodiment, the scattered radiation removing grid 1 may be an air grid by forming a parallel grid without using the intermediate substance 5. Alternatively, after the parallel grid is manufactured as an air grid, a foam material may be filled between the strips 4 to form a foam material grid.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態による散乱線除去グリッドの
構成を示す図
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a scattered radiation removal grid according to an embodiment of the present invention.

【図2】平行グリッドの構成を示す図FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a parallel grid.

【図3】平行グリッドの製造方法を説明するための図FIG. 3 is a view for explaining a method of manufacturing a parallel grid.

【図4】本発明の他の実施形態による散乱線除去グリッ
ドの構成を示す図
FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a scattered radiation removal grid according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 散乱線除去グリッド 2A〜2F 平行グリッド 3,13 支持部材 4 ストリップ 5 中間物質 6 天板 7 底板 11 ガイド DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Scattered-ray removal grid 2A-2F Parallel grid 3,13 Support member 4 Strip 5 Intermediate material 6 Top plate 7 Bottom plate 11 Guide

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 放射線吸収物質からなり、放射線が照射
される領域全体に亘って所定の間隔で配置される放射線
の進行方向に幅を持った複数のストリップを備えた散乱
線除去グリッドにおいて、 前記複数のストリップが前記所定の間隔で平行に配設さ
れてなる、グリッドの全幅の1/2以下の幅を有する複
数の平行グリッドと、 該各平行グリッドを構成する複数のストリップを使用時
の放射線源の方向を略向くように傾斜させて、該各平行
グリッドを支持する支持面を有する支持部材とを備えた
ことを特徴とする散乱線除去グリッド。
1. A scattered radiation removing grid comprising a plurality of strips made of a radiation absorbing material and having a width in a traveling direction of radiation and arranged at a predetermined interval over an entire area to be irradiated with radiation. A plurality of parallel grids each having a width equal to or less than の of the entire width of the grid, in which a plurality of strips are arranged in parallel at the predetermined interval; and radiation when using the plurality of strips constituting each of the parallel grids. A support member having a support surface for supporting each of the parallel grids, the support member being inclined so as to substantially face the direction of the source.
【請求項2】 前記支持面は、前記平行グリッドが支持
面に配置された際、前記各平行グリッドのストリップが
概略放射線源に収束するような曲面であることを特徴と
する請求項1記載の散乱線除去グリッド。
2. The apparatus of claim 1, wherein the support surface is a curved surface such that when the parallel grids are disposed on the support surface, the strips of each of the parallel grids generally converge on a radiation source. Scatter removal grid.
【請求項3】 前記支持面は、前記平行グリッドが支持
面に配置された際、前記各平行グリッドのストリップが
概略放射線源に収束するようなステップ状の支持面であ
ることを特徴とする請求項1記載の散乱線除去グリッ
ド。
3. The support surface is a step-like support surface such that when the parallel grids are disposed on the support surface, the strips of each parallel grid converge substantially to a radiation source. Item 2. A scattered radiation removal grid according to Item 1.
JP2000175270A 2000-06-12 2000-06-12 Scattering ray removing grid Pending JP2001349952A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000175270A JP2001349952A (en) 2000-06-12 2000-06-12 Scattering ray removing grid

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000175270A JP2001349952A (en) 2000-06-12 2000-06-12 Scattering ray removing grid

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001349952A true JP2001349952A (en) 2001-12-21

Family

ID=18677170

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000175270A Pending JP2001349952A (en) 2000-06-12 2000-06-12 Scattering ray removing grid

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001349952A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012053368A1 (en) * 2010-10-19 2012-04-26 富士フイルム株式会社 Grid for radiation imaging, method for manufacturing same, and radiation imaging system
JP2012127734A (en) * 2010-12-14 2012-07-05 Fujifilm Corp Grid for imaging radiation image, method for manufacturing the grid, and radiation image imaging system
CN103690185A (en) * 2013-02-06 2014-04-02 苏州波影医疗技术有限公司 Adjustable photon detection system for multilayer x-ray computed tomography system
EP3633686A1 (en) * 2018-10-04 2020-04-08 Koninklijke Philips N.V. Directional x-ray beam modifier

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012053368A1 (en) * 2010-10-19 2012-04-26 富士フイルム株式会社 Grid for radiation imaging, method for manufacturing same, and radiation imaging system
JP2012127734A (en) * 2010-12-14 2012-07-05 Fujifilm Corp Grid for imaging radiation image, method for manufacturing the grid, and radiation image imaging system
CN103690185A (en) * 2013-02-06 2014-04-02 苏州波影医疗技术有限公司 Adjustable photon detection system for multilayer x-ray computed tomography system
CN103690185B (en) * 2013-02-06 2016-06-15 苏州波影医疗技术有限公司 Adjustable photon detection system for multilamellar X-ray computerized tomography system
EP3633686A1 (en) * 2018-10-04 2020-04-08 Koninklijke Philips N.V. Directional x-ray beam modifier

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6894281B2 (en) Grid for the absorption of X-rays
US6363136B1 (en) Grid for the absorption of X-rays
CN102245263B (en) Particle beam treatment apparatus
JP2003116846A (en) Anti-scatter grid for x-ray device
JP4149110B2 (en) Scattering removal grid
US8666025B2 (en) Back focused anti-scatter grid
JP4718949B2 (en) X-ray CT apparatus and X-ray CT apparatus manufacturing method
JP2000325332A (en) Collimator for imaging system and its manufacture
JP2002191596A (en) X-ray scattering preventing grid
JP5616895B2 (en) Method for manufacturing grid for selective transmission of electromagnetic radiation and scattered radiation removal grid
US7291844B2 (en) X-ray radiation detector, X-ray imaging apparatus, X-ray CT apparatus and method of manufacturing X-ray detector
FI68330B (en) ROENTGENKOLLIMATOR
US11058375B2 (en) X-ray imaging apparatus for compact (quasi-)isotropic multi source x-ray imaging
KR102393604B1 (en) Apparatus for Manufacturing X-ray Grid Having Increased X-ray Transmittance
JP2001349952A (en) Scattering ray removing grid
CN102846329B (en) Imaging method used for X-radiography
JP2011133395A (en) Radiation detector and radiographic device
JP2005164585A (en) Scattered radiation shielding method in front of detector array
JP2001333896A (en) Grid for removing scattering radiation
JP2001349992A (en) Method of manufacturing scattered ray eliminating grid
EP1982337B1 (en) Anti-scatter device, method and system
JP2015136390A (en) Control apparatus and tomography apparatus
US9927532B2 (en) Radiation detection apparatus and radiation tomography apparatus
JP2000217813A (en) Scattered-beam eliminating grid, grid apparatus, and manufacture of scattered-beam eliminating grid
JPH119591A (en) Scattered ray screen

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050912

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20061201

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070920

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071002

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080304