JP2001349714A

JP2001349714A - メッシュ状パターンの均一性評価方法

Info

Publication number: JP2001349714A
Application number: JP2000170302A
Authority: JP
Inventors: Osamu Hirose; 修廣瀬
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 2000-06-07
Filing date: 2000-06-07
Publication date: 2001-12-21

Abstract

(57)【要約】【課題】メッシュ状パターンについて、目視でのむら
を感じる程度に適合する定量評価方法を確立する。【解決手段】被検査フィルム１０には、レーザ１１か
らのレーザビームが照射され、レンズ１３でフーリエ変
換されて、スクリーン１４にはFraunhofer回析パターン
が得られる。回析像をカメラ１５で撮像し、画像解析装
置１６で強度分布に基づく評価を行う。評価は、回析パ
ターンに現れるスポット列のピークを滑らかに結ぶ包絡
線についての係数等を利用たり、スポット列を選択し
て、重心位置の変化に基づいて行うことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、一定幅の線が等間
隔に配置されて形成されるメッシュ状パターンについ
て、むらの程度を定量的に評価するメッシュ状パターン
の均一性評価方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、プラズマディスプレイの前面
板として使用される導電性メッシュシートや、液晶ディ
スプレイに使用されるカラーフィルタ等には、高精度的
なメッシュ状パターンが形成されている。図１６は、プ
ラズマディスプレイの導電性メッシュシートの構造の一
例を示す。この導電性メッシュシート１は、透明シート
２の表面に、遮光性のメッシュ３を等間隔に配置して形
成される。この例では線幅ｗは２０μｍであり、間隔ｄ
は２００μｍである。液晶ディスプレイに使用されるカ
ラーフィルタでは、透明なガラス基板上に規則的な形状
でブラックマトリクスやカラーパターンが形成される。

【０００３】特に、導電性メッシュシート１やカラーフ
ィルタ等は、表示材に使用され、メッシュの線幅が部分
的に不均一であると、人間の目には明るさのむらとして
感じる。したがって、導電性メッシュシート１やカラー
フィルタの製造時には、均一性の良好な製品を製造する
ことが重要であり、また製品検査の工程でも、均一性を
定量的に評価して、均一性の良好な製品を出荷すること
が重要となる。

【０００４】メッシュ状パターンの均一性を損なうむら
について、従来は、顕微鏡やＣＣＤカメラ等で各線を直
接観察したり、通常照明下での画像処理でむらを検出し
たりしている。直接観察する場合は、メッシュを構成す
る各線の線幅を直接観察し、測定する。画像処理でむら
を検出する場合は、むらの検出用として、積算差分フィ
ルタに代表される各種の解析手法が用いられる。

【０００５】また、レーザー回析を薄膜の厚みの均一性
の計測に応用することも考えられる。特開平９−２６４
７２６号公報には、回析パターンからカラーフィルタの
オーバコートの微小凹凸（厚みむら）を検査する手法が
示されている。この手法では、回析像で明るさが極大に
なる複数箇所の明スポットの位置に光センサをそれぞれ
配置し、光センサが検出する各明スポットでの光の強度
の比較に基づいて微小凹凸を検出するようにしている。

【０００６】半導体集積回路を形成する上でも、線幅を
高精度に測定することは重要であり、回析パターンを利
用して測定することについて、「精密工学会誌」５７／
１１／１９９１の第１５１ページ〜第１５７ページ、お
よび「APPLIED OPTICS」のＶｏｌ．１９，Ｎｏ．４（１
５ February 1980）の第５２５ページ〜第５３３ペー
ジなどに開示されている。これらの考え方を、メッシュ
状パターンに適用すると、被検査体を通過または反射し
たレーザ光のFraunhofer回析パターンからメッシュの寸
法を評価する。すなわち、回析パターンでのスポット間
隔、スポットの強度等を精密に計測し、これらの値から
メッシュの寸法を算出し、個々のメッシュ寸法を求め
る。「愛知工業大学研究報告」第２３号Ｂ（昭和６３
年）第４１ページ〜第４５ページには、回析パターンに
対し、良品で明スポットが得られる部分を完全に遮断す
るような空間フィルタを用いて、欠陥を有して良品でな
い検体を判別する考え方が示されている。

【０００７】「Optical Engineering」Vol.36 No.12（D
ecember1997）の第３３０９ページ〜第３３１１ペー
ジ、および「PROCEEDINGS OF THE IEEE」Vol.57,No.9
（SEPTEMBER 1969）には、フーリエ光学系を利用したＬ
ＳＩマスクパターンの欠陥検査について開示されてい
る。被検査体を通過したレーザ光を第１レンズでフーリ
エ変換し、フーリエ変換面に配置した空間フィルタによ
り正常メッシュからの回析パターンを遮断し、透過した
光を第２のレンズで再度フーリエ変換（逆フーリエ変
換）して、ＣＣＤカメラなどの受光素子で撮蔵する。Ｌ
ＳＩのマスクパターンなど、極微細構造の精密な計測お
よび検査が可能である。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】むらを直接観察によっ
て計測する従来技術では、メッシュが細かいほど計測に
時間がかかるようになる。また、個々の線のばらつきに
ついては詳細に計測することができるけれども、分布す
る線幅不均一は計測しにくい。画像処理でむらを検出す
る従来技術の手法では、人間が見るイメージとほぼ同じ
画像を使用するため、目視と相関を取りやすい。この手
法では照明のシェーディングの除去が重要であるけれど
も、シェーディングを完全に除去することは非常に困難
となる。シェーディングの原因としては、照明自身の明
るさむらや、被検査体の搬送時の反りなどの動的な変動
が挙げられる。

【０００９】特開平９−２６４７２６号公報の先行技術
では、回析パターンのスポットでのピーク値の包絡線の
形状と微小凹凸の大きさとの関係について、定量的な関
係は何も示されていない。被検査体を通過または反射し
たレーザ光のFraunhofer回析パターンからメッシュの寸
法を評価する考え方は、位置、光パワーの計測精度がメ
ッシュ寸法の評価精度に直結する。このため、製品の製
造ライン中で連続的に評価する必要がある工場環境での
実現は非常に困難である。フーリエ光学系を利用したマ
スクパターンの欠陥検査では、波長オーダ以下（Ｏ．１
μｍ）のアライメント精度が必要となる。また、被検査
体の搬送の安定性も確保し難い。このため、工場環境で
の実現は非常に困難である。ただし、微細構造の計測に
は適しており、むらの評価には不向きといえる。さら
に、空間フィルタを用いて回析パターンから良品に対応
する明スポットを除き、残った光パワーを計測しても、
正規パターン以外の場所にある局所的な欠陥しか原理的
に評価することができない。

【００１０】したがって、メッシュ状パターンの均一性
評価のためには、次のような課題が解決すべきものとし
て存在している。

【００１１】目視でむらを感じる線幅不均一のみを定
量評価する方法の確立。工場環境で実用に耐える評価技術の確立。評価のオンライン化による高速評価技術の確立。メッシュの微視的なばらつきや突発的な欠陥の影響を
受けない評価技術の確立。

【００１２】本発明の目的は、前述の課題を解決しうる
メッシュ状パターンの均一性評価方法を提供することで
ある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明は、一定幅の線が
等間隔に配置されて形成されるメッシュ状パターンに可
干渉光を照射し、Fraunhofer回析像を観測して該パター
ンの均一性を評価することを特徴とするメッシュ状パタ
ーンの均一性評価方法である。

【００１４】本発明に従えば、メッシュ状パターンに可
干渉光を照射して、Fraunhofer回析像を観測する。回折
像のパターンの均一性は、メッシュ状パターンの均一性
を反映しているので、Fraunhofer回折像の観測からメッ
シュ状パターンの均一性を評価することができる。

【００１５】また本発明は、前記Fraunhofer回析像につ
いて、受光面での強度分布から離散的に現れる明スポッ
ト群のピーク位置を抽出し、抽出された明スポット群の
ピーク位置での強度を滑らかに結ぶsinc² 関数を評価
し、sinc² 関数の係数の評価値に基づいて均一度を決定
することを特徴とする。

【００１６】本発明に従えば、受光面での強度分布に離
散的に現れる明スポット群のピーク位置を抽出する。各
明スポット群のピーク強度を滑らかに結ぶ包絡線は、理
論上、sinc関数の２乗で近似される。包絡線の形状はsi
nc² 関数の係数に対応して変化する。sinc² 関数の係数
にはメッシュ状パターンのむらに対応する係数があるの
で，この係数を評価することによって、均一性を定量的
に評価することができる。

【００１７】また本発明は、前記Fraunhofer回析像につ
いて、受光面での強度分布から離散的に現れる明スポッ
ト群のピーク位置を抽出し、該回析像の原点から明スポ
ットのピーク位置での強度を順次観測して、該ピーク強
度が予め定める基準値以下になるピーク位置を評価し、
該ピーク位置の評価値に基づいて均一度を決定すること
を特徴とする。

【００１８】本発明に従えば、メッシュ状パターンに可
干渉光を照射して、Fraunhofer回析像を観測し、受光面
での強度分布に離散的に現れる明スポット群のピーク位
置を抽出する。回析像は、メッシュ状パターンに照射さ
れる可干渉光の光軸上に原点を有する。明スポット群ピ
ーク強度を原点から順次観測し、ピーク強度が予め定め
る基準値以下になるピーク位置を評価する。ピーク強度
が予め定める基準値以下になるピーク位置はメッシュ状
パターンの線幅に対応する。もしこのピーク位置が変動
するならばそれは線幅が一定でないことを意味する。し
たがって、このピーク位置を評価することによって、均
一性を定量的に評価することができる。

【００１９】また本発明は、前記Fraunhofer回析像につ
いて、受光面での強度分布から離散的に現れる明スポッ
ト群のピーク位置を抽出し、予め選定される位置の範囲
の明スポット群について、該明スポット群内での強度分
布について重心位置を評価し、該重心位置の評価値に基
づいて均一度を決定することを特徴とする。

【００２０】本発明に従えば、メッシュ状パターンに可
干渉光を照射して、Fraunhofer回析像を観測し、受光面
での強度分布に離散的に現れる明スポット群のピーク位
置を抽出する。明スポット群の各ピーク位置での強度
は、メッシュ状パターンのむらを反映して分布が変化す
る。明スポット群を予め選択して、群内での強度分布に
ついて重心位置を評価すれば、メッシュ状パターンのむ
らを反映した評価を行うことができ、均一性を定量的に
評価することができる。

【００２１】また本発明で、前記均一度の決定は、前記
回析像から得られる評価値と、目視で感じる均一度との
相関を表す換算式を予め求めておき、該換算式に基づい
て行うことを特徴とする。

【００２２】本発明に従えば、メッシュ状パターンに可
干渉光を照射して、Fraunhofer回析像を観測し、回析像
からメッシュ状パターンのむらについての評価値を得
る。評価値は、目視で感じる均一度との相関を表す換算
式を予め求めておき、その換算式に基づいて均一度を決
定するので、人間の目視と適合する定量的な評価を容易
かつ迅速に行うことができる。

【００２３】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の実施の第１形態
として、メッシュ状パターンの均一性評価方法の概要を
示す。評価対象のメッシュ状パターンは、プラズマディ
スプレイの前面板として使用される導電性メッシュシー
トとしての透明な被検査フィルム１０に形成される。被
検査フィルム１０の一方の表面には、レーザ１１から発
生され、ビームエクスパンダ１２によって広げられたレ
ーザ光が可干渉光として照射される。被検査フィルム１
０を透過した光は、レンズ１３を通過し、結像位置に配
置されるスクリーン１４上に結像する。被検査フィルム
１０を透過するレーザ光は、メッシュ状パターンで回析
され、レンズ１３を通過しスクリーン１４に至るまでの
間にフーリエ変換され、スクリーン１４上にはFraunhof
er回析パターンが得られる。カメラ１５は、スクリーン
１４上に結像した回析パターンを撮像し、画像解析装置
１６で回析パターンを評価する。

【００２４】被検査フィルム１０は、検査時には回析格
子として機能する。レーザ１１は、たとえばヘリウムネ
オン（Ｈｅ−Ｎｅ）レーザを用いる。ビームエクスパン
ダ１２は、レーザビームの径を変換する。被検査フィル
ム１０のメッシュ寸法に応じて使用する。すなわち、メ
ッシュ寸法が小さければ、小さなレーザビーム径でも充
分な数のメッシュから回析像を得ることができるけれど
も、メッシュ寸法が大きくなれば、回析像を得るための
メッシュの数を多くするためにレーザビーム径を広げる
必要がある。レンズ１３は、Fraunhofer回析パターンを
得るため、必要に応じて使用する。後述するように、Fr
aunhofer回析パターンを得るためには、観測位置までの
距離をレーザビームの径や照射部分の開口の広がりに比
較して非常に大きくする必要がある。凸レンズを用いれ
ば、この距離を短縮することができる。スクリーン１４
は、回析パターンを投影させるために用いる。ＣＣＤカ
メラやディジタルカメラであるカメラ１５の受光面に直
接結像させることが可能な場合は不要である。

【００２５】図２は、Fraunhofer回析パターンの形成原
理を示す。一般に、レーザビームのようなコヒーレント
な光が開口面を通過した後、観測距離ｚ_iが開口面の広
がりに比べて充分に大きい場合の観測面強度分布は、次
の第１式に示すようなFraunhofer近似式と呼ばれる複素
関数で表しうることが知られている。

【００２６】

【数１】

【００２７】第１式で、レーザ１１から発生されるレー
ザ光の光軸をｚ軸とし、メッシュ状パターンが形成され
ている被検査フィルム１０の位置をｚ＝０とし、スクリ
ーン１４の位置をｚ＝ｚ_iとする。ｊは、単位虚数を示
す。ｘ，ｙは、ｚ軸に直交し、相互に直交する２方向と
する。ｇ（ｘ₀，ｙ₀）は開口面強度分布を示す関数であ
る。二重積分項は、開口面強度分布を示す関数ｇ
（ｘ₀，ｙ₀）のフーリエ変換と同じ形である。また、二
重積分項より前の部分は、ｚ_iが大きくなると定数とみ
なすことができる。したがって、Fraunhofer回析パター
ンを表す観測面強度分布の関数ｕ（ｘ_i，ｙ_i）は、開口
面強度分布を示す関数ｇ（ｘ₀，ｙ₀）のフーリエ変換で
求め得ることが判る。

【００２８】図３は、本発明の実施の第２形態として、
図２のようにして得られるレーザビームの照射部分と回
析パターンとの関係を示す。図３（ａ）は機器構成を示
し、図１の実施形態での機器構成に対応する部分には同
一の参照符を付し、重複する説明を省略する。以下に示
す第３形態以降の機器構成についても同様である。本実
施形態では、フーリエ変換用のレンズ１３を省略してい
る。被検査フィルム１０とスクリーン１４との間の距離
が前述の条件を満たしていれば、レンズ１３を用いなく
てもFraunhofer回析パターンが得られる。被検査フィル
ム１０上に形成されているメッシュ構造の開口面にレー
ザビームを照射すると、図３（ｂ）に示すような開口面
強度分布が得られる。通常、レーザビームの強度分布は
ガウス関数で表される。この光がFresnel 領域を抜ける
のに充分な距離を伝搬した後の強度分布は、図３（ｃ）
に示すように、一定間隔のスポット列となる。

【００２９】図４は、図３（ｃ）に示すスポット列につ
いて、スクリーン１４の表面に設定される衝立面座標
で、ｘ軸方向に沿っての回析パターンの強度分布である
断面波形としてのパワー分布を示す。図３（ｂ）に示す
ような矩形のメッシュ状パターンから得られる明スポッ
トのピークを滑らかに結ぶと、包絡線はａ・ｓｉｎｃ²
（ｂ（ｘ_i−ｃ））の関数で表される。ここでｓｉｎｃ
は、正弦関数ｓｉｎから派生する関数であり、ｓｉｎｃ
（πｘ）＝ｓｉｎ（πｘ）／πｘと定義される。ａは解
析上の原点での振幅、ｂは包絡線の周期、ｃは観測原点
と解析上の原点とのオフセットである。

【００３０】図５は、メッシュの線幅が不均一となると
きの包絡線の周期の変化を示す。線幅が細くなると周期
が長くなり、線幅が太くなると周期が短くなることが判
る。したがって、包絡線の周期が変化する現象を観測す
ることによって、線幅の均一性の評価が可能である。

【００３１】定量評価は、たとえば次のような方法で行
うことができる。包絡線波形の最小自乗フィッティングから。・観測された回析画像の断面波形から各スポットのピー
ク点を抽出する。・これらのピーク点を滑らかに結ぶｓｉｎｃ² 関数を最
小自乗法で求める。・ｓｉｎｃ² 関数の係数のうち、線幅むらに依存して変
化するのはｂであるのでｂの値をもとに、線幅のむらま
たは均一度を決定する。

【００３２】特定の明スポット群の出現位置から。・回析パターンの原点から明スポットの強度を順次観測
していき、明スポットのピーク強度が初めて指定レベル
以下になる位置を求め、この値から線幅の均一度を決定
する。・回析パターンの特定のスポット群を予め選定してお
き、こららスポット群の強度分布の重心位置を求め、こ
の値から線幅の均一度を決定する。

【００３３】前述のいずれの場合も、観測画像から得ら
れた評価値と、目視で感じる線幅むらとの相関を表す換
算式を多数のデータを基に作成しておき、この換算式に
基づいて均一度評価を行うことが効果的である。

【００３４】図６、図７および図８は、本発明の実施の
第２形態、第３形態および第４形態としての機器構成を
それぞれ示す。図６は、図３（ａ）と同一であり、最も
簡単な構成である。ただし、レーザビームが照射される
スポット径が１ｍｍ程度であれば、被検査フィルム１０
とスクリーン１４との間の距離は数１０ｃｍ程度となる
けれども、距離はスポット径の２乗に比例して大きくと
る必要がある。図７は、図６の構成のカメラ１５をスク
リーン１４よりも被検査フィルム１０側に移動させた構
成を示す。スクリーン１４としては、反射スクリーンを
使用する。図８は、フーリエ変換用のレンズ１３を用
い、スクリーンを使用せずに、直接カメラ１５の受光面
に回析パターンを結像させる構成を示す。全体的な機器
構成を小型化することができる。

【００３５】図９は、（ａ）で本発明の実施の第５形態
としての機器構成を示す。図１の実施形態でスクリーン
１４を反射スクリーンとし、カメラ１５をレンズ１３側
に移動させた構成を有する。被検査フィルム１０には、
線幅２０μｍ、間隔１９５μｍのメッシュ状パターンが
形成されている。レーザ１１は、波長λ＝０．６３２８
μｍのＨｅ−Ｎｅレーザを使用する。レンズ１３は、フ
ーリエ変換および結像を目的とした平凸レンズであり、
焦点距離はｆ＝６０ｍｍである。スクリーン１４と被検
査フィルム１０との間の距離は５００ｍｍである。カメ
ラ１５は、５１２×４８０画素の工業用白黒ＣＣＤカメ
ラを使用する。画像解析装置１６は、汎用の画像処理装
置を使用し、解析用のソフトウエアは新たに開発してい
る。

【００３６】本実施形態では、前述のおよびで示し
た定量評価の方法のうち、回析パターンの特定のスポッ
ト群を予め選定しておき、こららスポット群の強度分布
の重心位置を求め、この値から線幅の均一度を決定する
方法を採用する。本実施形態の評価のため、次のような
サンプルを、以下の各群から各３種、計１２種用意し
た。

【００３７】・Ａ群：良品（正常な線幅で、ほぼ均一な
メッシュ）・Ｂ群：目視で淡くむらが感じられる。・Ｃ群：目視で比較的強くむらが感じられる。・Ｄ群：場所によってむらにばらつきがある。

【００３８】図１０は、サンプルを移動させながら重心
位置を計測している状態を示す。図１１は、サンプルの
移動に伴う回析パターンの強度分布の変化を示す。特定
スポット群としては、たとえば第１サイドローブを選択
することができる。

【００３９】図１２は、回析パターンの第１サイドロー
ブを選択したときの衝立面での重心位置変化を示す。レ
ーザビームの径は４．４ｍｍである。目視においてむら
の度合いが異なるＡ群、Ｂ群、Ｃ群は明確に分離しうる
ことが判る。Ｄ群は、場所によってむらの度合いにばら
つきがあるため、ビームが走査した場所に応じた評価値
が得られている。したがって、評価値と目視結果とは良
好な相関があることが判る。たとえば、重心位置８．０
〜９．０の範囲を正常範囲とし、フィルム搬送状態で重
心位置の計測を連続的に行い、正常範囲を外れた場所を
不良と判定することで、検査を自動化することが可能と
なる。

【００４０】以上の説明では、メッシュ状パターンの線
幅の均一性を評価しているけれども、本発明は線間隔の
均一性の評価にも適用することができる。図１３は、本
発明の実施の第６形態として、不均一メッシュにレーザ
ビームを照射するときの開口面強度分布を示す。不均一
メッシュは、線幅２０μｍ、間隔２５０μｍの均一メッ
シュで中央の２箇所だけ間隔が２３０μｍとなるように
して形成した。レーザビーム径は０．６ｍｍであり、レ
ーザ波長はλ＝０．６３２８μｍである。伝搬距離は、
ｚ_i ＝５００ｍｍである。

【００４１】図１４は、図１３に示す開口面強度分布に
対応する回析パターンを示す。図１５は、均一メッシュ
と不均一メッシュとを、断面波形で比較して示す。図１
５（ａ）は、均一メッシュと不均一メッシュとを同時に
表示した状態を示す。図１５（ｂ）は、均一メッシュを
表示した状態を示す。図１５（ｃ）は、不均一メッシュ
を表示した状態を示す。間隔が不均一な場合、回析パタ
ーンには、等間隔スポット列以外の場所にも光パワーが
現れていることが判る。したがって、均一メッシュから
の回析スポット列を空間フィルタなどで遮断し、残った
光パワーを計測すれば、メッシュの間隔の均一性の定量
的な評価が可能となる。

【００４２】また本発明は、透明シート上に形成される
メッシュ状パターンばかりではなく、線材で網目を形成
したメッシュに対しても適用可能で、均一性を評価する
ことができるのはもちろんである。

【００４３】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、メッシュ
状パターンからのFraunhofer回析像について、観測され
る回折パターンの均一性から、メッシュ状パターンの均
一性を評価することができる。

【００４４】また本発明によれば、受光面での強度分布
に離散的に現れる明スポット群のピーク強度を滑らかに
結ぶ包絡線をsinc² 関数で近似し、係数を評価すること
によって、均一性を定量的に評価することができる。

【００４５】また本発明によれば、メッシュ状パターン
に可干渉光を照射して、Fraunhofer回析像を観測し、受
光面での強度分布に離散的に現れる明スポット群ピーク
強度を原点から順次観測し、ピーク強度が予め定める基
準値以下になるピーク位置を評価する。メッシュ状パタ
ーンのむらに対応するピーク位置を評価することによっ
て、均一性を定量的に評価することができる。

【００４６】また本発明によれば、メッシュ状パターン
からのFraunhofer回析像を観測し、受光面での強度分布
に離散的に現れる明スポット群のピーク位置を抽出す
る。明スポット群を予め選択して、群内での強度分布に
ついて重心位置を評価すれば、メッシュ状パターンのむ
らを反映した評価を行うことができ、均一性を定量的に
評価することができる。

【００４７】また本発明によれば、メッシュ状パターン
に可干渉光を照射して得られるFraunhofer回析像から、
メッシュ状パターンのむらについての評価値を得る。評
価値に対して、目視で感じる均一度との相関を表す換算
式を予め求めておく。その換算式に基づいて均一度を決
定するので、人間の目視結果と適合する定量的な評価を
容易かつ迅速に行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の第１形態の機器構成を示す簡略
化したブロック図である。

【図２】メッシュ状パターンから回析像が得られる原理
を示す図である。

【図３】本発明の実施の第２形態の機器構成を示す簡略
化したブロック図、および開口面強度分布と回析パター
ンとを示す図である。

【図４】図３（ｃ）に示す回析パターンについて、パワ
ー分布形状を示すグラフである。

【図５】図３（ｃ）に示す回析パターンについて、線幅
むらによる包絡線の変化を示すグラフである。

【図６】本発明の実施の第２形態の機器構成を示す簡略
化したブロック図である。

【図７】本発明の実施の第３形態の機器構成を示す簡略
化したブロック図である。

【図８】本発明の実施の第４形態の機器構成を示す簡略
化したブロック図である。

【図９】本発明の実施の第５形態の機器構成を示す簡略
化した斜視図、およびスポット列を選択して重心位置を
求める状態を示す図である。

【図１０】図９の実施形態で、サンプルを移動させなが
ら重心位置を計測する考え方を示す図である。

【図１１】図９の実施形態でサンプルの移動に伴う回析
パターンの変化を示すグラフである。

【図１２】図９の実施形態で、サンプルの種類と重心位
置との関係を示すグラフである。

【図１３】本発明の実施の第６形態として、開口面強度
分布を示す図である。

【図１４】図１３の実施形態で得られる回析パターンの
一部を示す図である。

【図１５】図１３の実施形態で得られる回析パターンを
比較してを示すグラフである。

【図１６】プラズマディスプレイ用の導電性メッシュシ
ートのメッシュ構造を示す図である。

【符号の説明】

１０被検査フィルム１１レーザ１２ビームエクスパンダ１３レンズ１４スクリーン１５カメラ１６画像解析装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2F065 AA17 AA49 BB02 DD06 DD11 FF01 FF48 GG04 GG05 JJ03 JJ26 LL09 LL21 LL49 QQ18 QQ29 QQ31 2G051 AA90 AB20 AC22 BA10 CA04 CA12 CB06 EA03 EB01 EB05 EC06 2G086 EE05 EE10 EE12

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一定幅の線が等間隔に配置されて形成さ
れるメッシュ状パターンに可干渉光を照射し、Fraunhof
er回析像を観測して該パターンの均一性を評価すること
を特徴とするメッシュ状パターンの均一性評価方法。
【請求項２】前記Fraunhofer回析像について、受光面
での強度分布から離散的に現れる明スポット群のピーク
位置を抽出し、抽出された明スポット群のピーク位置での強度を滑らか
に結ぶsinc² 関数を評価し、 sinc² 関数の係数の評価値に基づいて均一度を決定する
ことを特徴とする請求項１記載のメッシュ状パターンの
均一性評価方法。
【請求項３】前記Fraunhofer回析像について、受光面
での強度分布から離散的に現れる明スポット群のピーク
位置を抽出し、該回析像の原点から明スポットのピーク位置での強度を
順次観測して、該ピーク強度が予め定める基準値以下に
なるピーク位置を評価し、該ピーク位置の評価値に基づいて均一度を決定すること
を特徴とする請求項１記載のメッシュ状パターンの均一
性評価方法。
【請求項４】前記Fraunhofer回析像について、受光面
での強度分布から離散的に現れる明スポット群のピーク
位置を抽出し、予め選定される位置の範囲の明スポット群について、該
明スポット群内での強度分布について重心位置を評価
し、該重心位置の評価値に基づいて均一度を決定することを
特徴とする請求項１記載のメッシュ状パターンの均一性
評価方法。
【請求項５】前記均一度の決定は、前記回析像から得
られる評価値と、目視で感じる均一度との相関を表す換
算式を予め求めておき、該換算式に基づいて行うことを
特徴とする請求項２〜４のいずれかに記載のメッシュ状
パターンの均一性評価方法。