JP2001338757A - Method of manufacturing electroluminescent element - Google Patents

Method of manufacturing electroluminescent element

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JP2001338757A JP2000159371A JP2000159371A JP2001338757A JP 2001338757 A JP2001338757 A JP 2001338757A JP 2000159371 A JP2000159371 A JP 2000159371A JP 2000159371 A JP2000159371 A JP 2000159371A JP 2001338757 A JP2001338757 A JP 2001338757A
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hole transport
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transport layer
light emitting
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Osamu Okada
修 岡田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance the utilization efficiency of a material for forming an organic EL layer and for forming a uniform organic film over a wide area, in an electroluminescent element having the organic EL layer. SOLUTION: An anode electrode 2, a hole transport layer 3, a light-emitting layer 4, and a cathode electrode 5 are formed on a transparent substrate 1. The hole transport layer 3 and the light-emitting layer 4 are formed through electrodepostion method. The utilization efficiency of the materials for forming the hole transport layer 3 and the light-emitting layer 4 can be enhanced, as compared with the case of formation by over vapor deposition method, and the uniform organic film can be formed over a wide area.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、有機EL(エレ
クトロルミネッセンス)層を備えた電界発光素子の製造
方法に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a method for manufacturing an electroluminescent device having an organic EL (electroluminescence) layer.

【0002】[0002]

【従来の技術】有機EL層を備えた電界発光素子は、自
己発光を行うため視野角が広く、固体素子であるため耐
衝撃性に優れ、直流低電圧駆動素子を実現するものとし
て注目を集めている。しかしながら、このような有機E
L層を備えた電界発光素子では、無機薄膜素子(有機分
散型無機EL素子)、例えばZnS:Mn系の無機薄膜
素子に比較して、長期保存信頼性(寿命)に欠ける等の
実用化を阻む問題点を有していた。
2. Description of the Related Art An electroluminescent device having an organic EL layer has attracted attention as a device which emits light by itself, has a wide viewing angle, is a solid device, has excellent impact resistance, and realizes a DC low voltage driving device. ing. However, such organic E
An electroluminescent device having an L layer has a practical use such as lack of long-term storage reliability (lifetime) as compared with an inorganic thin film device (organic dispersion type inorganic EL device), for example, a ZnS: Mn based inorganic thin film device. It had problems to prevent.

【0003】ところが、近年では、2層型構造(正孔輸
送層と発光層)の開発と発光層にレーザ色素をドーピン
グすることにより発光効率が改善され、素子駆動時の半
減寿命も1万時間を越える報告がなされている。この場
合、電界発光素子は、透明基板上に第1電極、正孔輸送
層、発光層および第2電極をこの順で形成した構造とな
っている。
However, in recent years, the development of a two-layer structure (a hole transport layer and a light emitting layer) and doping of the light emitting layer with a laser dye have improved the light emitting efficiency and have a half-life of 10,000 hours when the element is driven. Have been reported. In this case, the electroluminescent device has a structure in which a first electrode, a hole transport layer, a light emitting layer, and a second electrode are formed in this order on a transparent substrate.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
このような電界発光素子を製造する場合、正孔輸送層お
よび発光層の材料をるつぼ等に入れ加熱して蒸着させる
蒸着法により形成しているので、正孔輸送層および発光
層を形成するための材料の利用効率が悪く、コスト高に
なってしまう。また、蒸着法では、大面積に均一な有機
膜を形成することが困難であり、電界発光素子の大型化
に限界がある。この発明は、有機EL層を形成するため
の材料の利用効率を良くし、また大面積に均一な有機膜
を形成することができるようにすることである。
However, in the case of manufacturing such a conventional electroluminescent device, the material of the hole transport layer and the light emitting layer is formed in a crucible or the like by a vapor deposition method of heating and vapor deposition. Therefore, the use efficiency of the materials for forming the hole transport layer and the light emitting layer is low, and the cost is increased. In addition, it is difficult to form a uniform organic film over a large area by the vapor deposition method, and there is a limit to increasing the size of the electroluminescent element. An object of the present invention is to improve the efficiency of using a material for forming an organic EL layer and to form a uniform organic film over a large area.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】この発明は、透明基板上
に第1電極、有機EL層および第2電極がこの順で形成
された電界発光素子の製造方法において、前記有機EL
層を電着法により形成するようにしたものである。この
発明によれば、有機EL層を電着法により形成している
ので、蒸着法により形成する場合と比較して、有機EL
層を形成するための材料の利用効率を良くすることがで
き、また大面積に均一な有機膜を形成することができ
る。
According to the present invention, there is provided a method of manufacturing an electroluminescent device in which a first electrode, an organic EL layer, and a second electrode are formed in this order on a transparent substrate.
The layer is formed by an electrodeposition method. According to the present invention, the organic EL layer is formed by the electrodeposition method, so that the organic EL layer is
The utilization efficiency of a material for forming a layer can be improved, and a uniform organic film can be formed over a large area.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】次に、この発明の一実施形態にお
ける電界発光素子の製造方法について、図1を参照して
説明する。まず、透明基板1を用意する。透明基板1
は、ポリエステル、ポリアクリレート、ポリカーボネー
ト、ポリスルホン、ポリエーテルケトン等の樹脂やガラ
ス等からなっている。
Next, a method of manufacturing an electroluminescent device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. First, the transparent substrate 1 is prepared. Transparent substrate 1
Is made of resin such as polyester, polyacrylate, polycarbonate, polysulfone, polyetherketone, glass, or the like.

【0007】次に、透明基板1の上面にアノード電極2
を形成する。アノード電極2は、Al、Au、Ag、M
g、Ni、Zn、V、In、Sn等の単体、ITOのよ
うなこれらの単体から選択された化合物、または金属フ
ィラーを含む導電性接着剤等からなり、その光透過率は
80%以上であることが望ましい。アノード電極2の形
成は、スパッタリング法、イオンプレーティング法、蒸
着法等が好ましいが、スピンコート法、グラビアコート
法、ナイフコート法等のコート法、スクリーン印刷法、
フレキソ印刷法等の印刷法等であってもよい。この実施
形態の場合、スパッタリング法により、ITOを厚さ2
000Åとなるように形成した。
Next, an anode electrode 2 is formed on the upper surface of the transparent substrate 1.
To form The anode electrode 2 is made of Al, Au, Ag, M
g, Ni, Zn, V, In, Sn or the like, a compound selected from these simple substances such as ITO, or a conductive adhesive containing a metal filler, etc., and the light transmittance thereof is 80% or more. Desirably. The anode electrode 2 is preferably formed by a sputtering method, an ion plating method, a vapor deposition method, etc., but a coating method such as a spin coating method, a gravure coating method, a knife coating method, a screen printing method,
A printing method such as a flexographic printing method may be used. In the case of this embodiment, the ITO is deposited to a thickness of 2 by sputtering.
000 °.

【0008】次に、アノード電極2を含む透明基板1の
上面に正孔輸送層3を形成する。この場合、正孔輸送層
3の材料として、まず、ポリアクリル酸をアンモニウム
塩に水溶化し、具体的には純水100g中に、ポリアク
リル酸(アルドリッチ社製の分子量2000程度)を5
wt%と25%アンモニア水(和光純薬社製)を10w
t%溶かし込み、ヒーターを用いて温度80℃で3時間
撹拌し、粘性のある溶液を得た。次に、この溶液中に、
保護コロイドとして、水に不溶性なモノマー、例えばチ
オフェン誘導体、具体的には3,4−エチレンジオキシ
チオフェン1gと3−メチルチオフェン0.5gを入
れ、ホモミキサーにてミキシングし、プレエマルジョン
化してなる溶液を得た。
Next, a hole transport layer 3 is formed on the upper surface of the transparent substrate 1 including the anode electrode 2. In this case, as a material of the hole transport layer 3, first, polyacrylic acid is made water-soluble in an ammonium salt, and specifically, polyacrylic acid (molecular weight: about 2000, manufactured by Aldrich) is added to 100 g of pure water.
10% w / w and 25% ammonia water (Wako Pure Chemical Industries)
The mixture was stirred at 80 ° C. for 3 hours using a heater to obtain a viscous solution. Next, in this solution,
As a protective colloid, a monomer insoluble in water, for example, a thiophene derivative, specifically, 1 g of 3,4-ethylenedioxythiophene and 0.5 g of 3-methylthiophene are added, mixed by a homomixer, and pre-emulsified. A solution was obtained.

【0009】次に、この溶液中に、硫酸鉄、過硫酸物等
の酸化剤を入れてパール重合し、具体的には純水20g
中に過硫酸アンモニウム2gを溶かし込んだものを入
れ、次いで温度75℃で6時間加熱し、続いて温度90
℃で1時間加熱し、0.1〜10wt%(固形分濃度)
の透明な溶液を得た。次に、この溶液中に、乾燥調整剤
IPA(関東化学社製のELグレード)3%とγ−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン(東レ・ダウコー
ニング・シリコン社製のSH6040)0.05gを添
加し、さらに純水300gを入れ、これにより正孔輸送
層形成用の電着液を得た。そして、透明基板1をこの電
着液を溜めた漕で浸し、電着法により、透明基板1のア
ノード電極2上に厚さ0.01〜1μmとなるように電
着し、次いで加熱乾燥器にて温度60〜200℃の範囲
で1分〜2時間乾燥し、正孔輸送層3を形成した。
Next, an oxidizing agent such as iron sulfate or persulfate is added to the solution, and pearl polymerization is performed.
2 g of ammonium persulfate dissolved therein and then heated at a temperature of 75 ° C. for 6 hours, followed by a temperature of 90 ° C.
Heated at ℃ for 1 hour, 0.1 ~ 10wt% (solid content concentration)
A clear solution was obtained. Next, 3% of a drying regulator IPA (EL grade, manufactured by Kanto Kagaku) and 0.05 g of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (SH6040, manufactured by Dow Corning Toray Silicone) were added to the solution. Then, 300 g of pure water was further added, whereby an electrodeposition liquid for forming a hole transport layer was obtained. Then, the transparent substrate 1 is immersed in a tank in which the electrodeposition liquid is stored, electrodeposited on the anode electrode 2 of the transparent substrate 1 so as to have a thickness of 0.01 to 1 μm by an electrodeposition method, and then heated and dried. At a temperature of 60 to 200 ° C. for 1 minute to 2 hours to form a hole transport layer 3.

【0010】このように、ポリアクリル酸をアンモニウ
ム塩に水溶化し、保護コロイドとして水に不溶性のモノ
マーを分散し、パール重合することにより、正孔輸送層
形成用の電着液(正孔性高分子材分散体)を得ている。
この場合、保護コロイドがアニオン性を有することによ
り、液中での電気泳動性を付与することができる。この
結果、上述の如く、電着法により正孔輸送層3を形成す
ることができる。また、正孔輸送層3はポリチオフェン
で構成されるので、導電性を帯びることになる。この結
果、次に説明するように、正孔輸送層3の上面に発光層
4を電着法により形成することが可能となる。
As described above, polyacrylic acid is made water-soluble in an ammonium salt, a water-insoluble monomer is dispersed as a protective colloid, and pearl polymerization is carried out to form an electrodeposition solution for forming a hole transport layer (a hole transporting layer). Molecular material dispersion).
In this case, when the protective colloid has an anionic property, electrophoresis in a liquid can be imparted. As a result, as described above, the hole transport layer 3 can be formed by the electrodeposition method. Further, since the hole transport layer 3 is made of polythiophene, it has conductivity. As a result, as described below, the light emitting layer 4 can be formed on the upper surface of the hole transport layer 3 by the electrodeposition method.

【0011】次に、正孔輸送層3の上面に発光層4を形
成する。この場合、発光層4の材料として、まず、チオ
フェン並びにチオフェン単量体と共重合可能な単量体で
構成される構造のポリマーを、具体的にはRGB(赤、
緑、青)発光するパラフェニレン誘導体とチオフェン誘
導体共重合体をボールミルにて粉砕し、平均径が0.0
5〜0.2μm(好ましくは0.05〜0.1μm)に
分級した、水に不溶性の発光性高分子分散体微粒子を得
た。次に、この発光性高分子分散体微粒子を界面活性剤
にてミセル化し、具体的には発光性高分子分散体微粒子
200mgに対し、界面活性剤を混ぜ合わせた水溶液、
具体的にはフェロセニルウンデシルポリオキシエチレン
エーテル(同仁化学社製のFerrocenyl−PE
G)5mモル−0.2MLiBr水溶液を50ml添加
し、撹拌し、これにより発光層形成用の電着液を得た。
次に、この電着液を用いた電着法(ミセル分解法)によ
り、厚さ0.01〜1μmとなるように正孔輸送層3上
に電着し、発光層4を形成した。
Next, the light emitting layer 4 is formed on the upper surface of the hole transport layer 3. In this case, as a material of the light emitting layer 4, first, a polymer having a structure composed of thiophene and a monomer copolymerizable with a thiophene monomer, specifically, RGB (red,
Green, blue) A paraphenylene derivative and a thiophene derivative copolymer that emit light are pulverized with a ball mill to have an average diameter of 0.0
Water-insoluble luminescent polymer dispersion fine particles classified to 5 to 0.2 μm (preferably 0.05 to 0.1 μm) were obtained. Next, the luminescent polymer dispersion fine particles were formed into micelles with a surfactant, and specifically, an aqueous solution in which a surfactant was mixed with 200 mg of the luminescent polymer dispersion fine particles,
Specifically, ferrocenylundecyl polyoxyethylene ether (Ferrocenyl-PE manufactured by Dojin Chemical Co., Ltd.)
G) 50 ml of a 5 mmol-0.2 M LiBr aqueous solution was added and stirred, whereby an electrodeposition solution for forming a light emitting layer was obtained.
Next, an electrodeposition method (micelle decomposition method) using this electrodeposition solution was applied to the hole transport layer 3 so as to have a thickness of 0.01 to 1 μm to form a light emitting layer 4.

【0012】このように、発光層4を形成する場合、水
に不溶性の発光性高分子分散体微粒子を界面活性剤にて
ミセル化し、ミセル分解法により、すなわち、ミセル内
部に可溶化している発光層材料が正孔輸送層3上に沈着
することにより、電着しているので、水に不溶性の発光
性高分子を電着して、発光層4を形成することができ
る。
As described above, when the light-emitting layer 4 is formed, the water-insoluble luminescent polymer dispersion fine particles are formed into micelles with a surfactant, and are solubilized by the micelle decomposition method, that is, inside the micelles. Since the light emitting layer material is electrodeposited by being deposited on the hole transport layer 3, the light emitting polymer insoluble in water can be electrodeposited to form the light emitting layer 4.

【0013】ここで、上記界面活性剤は、アニオン・カ
チオン・ノニオン系等のイオン系界面活性剤である。ア
ニオン性界面活性剤としては、脂肪酸塩、アルキル硫酸
エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸
エステル塩、アルキルアリル硫酸エステル塩、アルキル
ベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォ
ン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、アルキルジフェニ
ルエーテルジスルフォン酸塩、アルキルリン酸塩、ナフ
タレンスルフォン酸ホルマリン縮合物、特殊ポリカルボ
ン酸型高分子系である。カチオン性界面活性剤として
は、アルキルアミン塩、フェロセニルアルキルアンモニ
ウム塩、第4級アンモニウム塩である。ノニオン性界面
活性剤としては、フェロセニルアルキルポリオキシエチ
レンエーテルである。いずれにしても上記界面活性剤は
極性を有しているため電気泳動性に優れ、電着法に適し
ている。
Here, the above-mentioned surfactant is an ionic surfactant such as an anion / cation / nonion type. Examples of anionic surfactants include fatty acid salts, alkyl sulfate salts, polyoxyethylene alkyl ether sulfate salts, alkyl allyl sulfate salts, alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl sulfosuccinates, and alkyl diphenyl ether diacids. It is a sulfonate, an alkyl phosphate, a naphthalene sulfonic acid formalin condensate, and a special polycarboxylic acid type polymer. Examples of the cationic surfactant include an alkylamine salt, a ferrocenylalkylammonium salt, and a quaternary ammonium salt. The nonionic surfactant is ferrocenylalkyl polyoxyethylene ether. In any case, since the above-mentioned surfactant has polarity, it has excellent electrophoretic properties and is suitable for the electrodeposition method.

【0014】次に、発光層4の上面等にカソード電極5
を形成する。カソード電極4は、発光層4に電子注入を
効果的に行うことができる仕事関数値の低い金属、好ま
しくは、Ca、Mg、Sn、In、Al、Ag、Li、
希土類等の単体、またはこれらの単体から選択された合
金等からなっている。
Next, a cathode electrode 5 is formed on the upper surface of the light emitting layer 4 or the like.
To form The cathode electrode 4 is made of a metal having a low work function value capable of effectively injecting electrons into the light emitting layer 4, preferably Ca, Mg, Sn, In, Al, Ag, Li,
It is made of a simple substance such as a rare earth element or an alloy selected from these simple substances.

【0015】以上のように、正孔輸送層3および発光層
4を電着法により形成しているので、蒸着法により形成
する場合と比較して、正孔輸送層3および発光層4を形
成するための材料の利用効率を良くすることができ、ひ
いてはコストを低減することができる。また、電着法で
は、蒸着法と比較して、大面積に均一な有機膜を形成す
ることができ、ひいては電界発光素子を大型化すること
ができる。さらに、発光層4の材料としてRGB発光す
るパラフェニレン誘導体等を用いることができるので、
この発明を加法混色白色バックライト、RGBフルカラ
ー表示素子、CMYフルカラー表示素子等に適用するこ
とができる。
As described above, since the hole transport layer 3 and the light emitting layer 4 are formed by the electrodeposition method, the hole transport layer 3 and the light emitting layer 4 are formed in comparison with the case of forming by the vapor deposition method. In this case, the efficiency of the use of the materials for the purpose can be improved, and the cost can be reduced. In addition, in the electrodeposition method, a uniform organic film can be formed over a large area as compared with the vapor deposition method, and the size of the electroluminescent element can be increased. Furthermore, since a paraphenylene derivative or the like that emits RGB light can be used as a material of the light emitting layer 4,
The present invention can be applied to an additive-mixed white backlight, an RGB full-color display device, a CMY full-color display device, and the like.

【0016】[0016]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、有機EL層を電着法により形成しているので、蒸着
法により形成する場合と比較して、有機EL層を形成す
るための材料の利用効率を良くすることができ、ひいて
はコストを低減することができ、また大面積に均一な有
機膜を形成することができ、ひいては電界発光素子を大
型化することができる。
As described above, according to the present invention, the organic EL layer is formed by the electrodeposition method. The utilization efficiency of the material can be improved, the cost can be reduced, a uniform organic film can be formed over a large area, and the size of the electroluminescent device can be increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の一実施形態における電界発光素子の
製造方法を説明するために示す断面図。
FIG. 1 is a cross-sectional view for explaining a method for manufacturing an electroluminescent device according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明基板 2 アノード電極 3 正孔輸送層 4 発光層 5 カソード電極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent substrate 2 Anode electrode 3 Hole transport layer 4 Light emitting layer 5 Cathode electrode

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基板上に第1電極、有機EL層およ
び第2電極がこの順で形成された電界発光素子の製造方
法において、前記有機EL層を電着法により形成するこ
とを特徴とする電界発光素子の製造方法。
1. A method for manufacturing an electroluminescent device in which a first electrode, an organic EL layer, and a second electrode are formed in this order on a transparent substrate, wherein the organic EL layer is formed by an electrodeposition method. Of manufacturing an electroluminescent device.
【請求項2】 請求項1に記載の発明において、前記有
機EL層は、電着法により形成された正孔輸送層と、そ
の上に電着法により形成された発光層とからなることを
特徴とする電界発光素子の製造方法。
2. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the organic EL layer comprises a hole transport layer formed by an electrodeposition method, and a light emitting layer formed thereon by an electrodeposition method. A method for manufacturing an electroluminescent device.
【請求項3】 請求項2に記載の発明において、前記正
孔輸送層を、イオン性保護コロイドで分散された導電性
正孔輸送層材料により形成することを特徴とする電界発
光素子の製造方法。
3. The method according to claim 2, wherein said hole transport layer is formed of a conductive hole transport layer material dispersed with an ionic protective colloid. .
【請求項4】 請求項3に記載の発明において、前記導
電性正孔輸送層材料は導電性高分子であることを特徴と
する電界発光素子の製造方法。
4. The method according to claim 3, wherein the material of the conductive hole transport layer is a conductive polymer.
【請求項5】 請求項2に記載の発明において、前記発
光層を、発光層材料を界面活性剤によりミセル化してな
るものによって形成することを特徴とする電界発光素子
の製造方法。
5. The method according to claim 2, wherein the light emitting layer is formed of a material obtained by converting a material of the light emitting layer into micelles with a surfactant.
【請求項6】 請求項5に記載の発明において、前記発
光層をミセル電解法により形成することを特徴とする電
界発光素子の製造方法。
6. The method according to claim 5, wherein the light emitting layer is formed by a micellar electrolysis method.
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