JP2001331910A - Magnetic head, its manufacturing method and magnetic reproducing device - Google Patents

Magnetic head, its manufacturing method and magnetic reproducing device

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JP2001331910A
JP2001331910A JP2000148701A JP2000148701A JP2001331910A JP 2001331910 A JP2001331910 A JP 2001331910A JP 2000148701 A JP2000148701 A JP 2000148701A JP 2000148701 A JP2000148701 A JP 2000148701A JP 2001331910 A JP2001331910 A JP 2001331910A
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JP
Japan
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film
magnetic
forming
conductive metal
soft magnetic
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JP2000148701A
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Japanese (ja)
Inventor
Akio Kuroe
章郎 黒江
Sayuri Muramatsu
小百合 村松
Akio Murata
明夫 村田
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To increase impedance of a magnetic impedance element(MI element) to enhance output and to suppress a leakage magnetic field from a magnetic body gap due to the energizing to the MI element, in a magnetic head using the MI element. SOLUTION: A first and a second MI elements 22 and 23 constituted of conductive metal thin films 2 and 2' and soft magnetic body films 4, 5, 4' and 5' disposed on both surfaces thereof, respectively, are disposed in magnetic paths of ring type magnetic cores 1 and 1' on both sides of the surface of a gap 7, respectively. Electrodes are provided at both end parts of the conductive metal thin films in a direction of the width of the gap and electrodes on one side in the direction of the width of the gap of the electrodes of the conductive metal thin films of the first and the second MI element are connected with each other and high frequency carrier signal current is applied to the electrodes through the electrodes of the other sides. Thud the impedance is increased as the number of intersections of a magnetic circuit and the high frequency current and generated magnetic fluxes are cancelled each other at a gap part.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規な高周波イン
ピーダンス変化を用いた、高感度なアクティブ磁気ヘッ
ド及び高密度磁気再生装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high-sensitivity active magnetic head and a high-density magnetic reproducing apparatus using a novel high-frequency impedance change.

【0002】[0002]

【従来の技術】図6は、電子情報学会技報MR95−8
0に報告された、磁気インピーダンスの変化を用いた磁
気インピーダンス素子(MI素子と略称する)及びヘッ
ドの構造及び動作原理を示す。図6のMI素子は、導電
性金属薄膜からなる検出導体膜64を、トラック幅65
にわったって軟磁性コア68及び69によってサンドイ
ッチした構造である。軟磁性コア68及び69は、パー
マロイ膜66とSiO2膜67の積層膜からなる。UH
F帯の高周波発信器70より、高周波信号を抵抗71を
介して検出導体膜64に印加して、電流72を流す。そ
れにより、検出導体薄膜64の両端に配備した端子73
及び74間の磁気インピーダンスの変化に基づく、その
端子間の電圧変化を検出する。すなわち、磁気記録媒体
75上の磁化76から発生する信号磁界が存在しない場
合には、端子73及び74間には、電流72と検出導体
薄膜64の端子73及び74間のインピーダンスとの積
に相当するUHFキャリア信号の電圧が発生する。磁気
録媒体75からの信号磁界を受けた場合には、素子の軟
磁性コア68、69の磁化の容易磁化方向がトラック幅
方向に配向されているため、磁化が信号磁界によって、
配向方向から傾き、磁気インピーダンスが小さくなる。
従って、UHFキャリア信号が磁気記録媒体の信号磁界
によってAM変調された形で検出されるものである。こ
の信号をAM検波することによって、磁気記録媒体75
上の信号磁化76を読み出すことができる。
2. Description of the Related Art FIG. 6 is a technical report of IEICE MR95-8.
0 shows the structure and operating principle of a magneto-impedance element (abbreviated as MI element) using a change in magnetic impedance and a head reported in FIG. The MI element shown in FIG. 6 includes a detection conductor film 64 made of a conductive metal thin film and a track width 65.
This is a structure sandwiched by the soft magnetic cores 68 and 69. The soft magnetic cores 68 and 69 are made of a laminated film of a permalloy film 66 and a SiO 2 film 67. UH
A high-frequency signal is applied from a high-frequency transmitter 70 in the F band to the detection conductor film 64 via a resistor 71, and a current 72 flows. Thereby, the terminals 73 provided at both ends of the detection conductor thin film 64
And 74, based on the change in magnetic impedance between the terminals. That is, when there is no signal magnetic field generated from the magnetization 76 on the magnetic recording medium 75, the voltage between the terminals 73 and 74 corresponds to the product of the current 72 and the impedance between the terminals 73 and 74 of the detection conductor thin film 64. A UHF carrier signal voltage is generated. When a signal magnetic field from the magnetic recording medium 75 is received, the easy magnetization direction of the magnetization of the soft magnetic cores 68 and 69 of the element is oriented in the track width direction.
It is tilted from the orientation direction, and the magnetic impedance decreases.
Therefore, the UHF carrier signal is detected in a form where it is AM-modulated by the signal magnetic field of the magnetic recording medium. By performing AM detection on this signal, the magnetic recording medium 75 is detected.
The upper signal magnetization 76 can be read.

【0003】このヘッドが実現されると、現在開発が進
められているジャイアントMRヘッドに比べて約10倍
の出力が得られる可能性が予想される。また、図7は図
6に示すMI素子の動作カーブを示す。キャリア信号周
波数を1.0GHzとして、上記素子をヘルムホルツコ
イルの中央部においてdc磁界を加えて求めたものであ
る。図7から分かるように、感度良く信号を再生し、歪
みの小さな波形を得るには、直流バイアス77点の設定
が必要になる。上記モデルでは、キャリア信号と直流電
流を導体中に流して直流磁界を発生させ、バイアスとし
ている。このようにして大きなインピーダンスの変化率
(印加磁界が零の場合と、所定の磁界を印加した場合の
比)が得られるが、磁気記録における高密度磁気記録化
に伴い、トラック幅が狭くなる傾向がある。
[0003] If this head is realized, it is expected that about ten times the output can be obtained as compared with a giant MR head currently under development. FIG. 7 shows an operation curve of the MI element shown in FIG. The above element was determined by applying a dc magnetic field at the center of the Helmholtz coil with the carrier signal frequency set to 1.0 GHz. As can be seen from FIG. 7, in order to reproduce a signal with high sensitivity and obtain a waveform with small distortion, it is necessary to set a DC bias at 77 points. In the above model, a carrier signal and a DC current are passed through a conductor to generate a DC magnetic field, which is used as a bias. In this way, a large rate of change in impedance (the ratio between the case where the applied magnetic field is zero and the case where a predetermined magnetic field is applied) can be obtained, but the track width tends to become narrower as the density of magnetic recording becomes higher. There is.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】この場合トラック幅の
減少と比例して上記高周波信号電圧が小さくなるため、
できるだけインピーダンスの大きい構成にすることが求
められる。また、高周波キャリア信号や直流バイアス電
流を導電性金属膜に通電した場合、磁性体ギャップから
の漏れ磁界により、磁性体の磁化を消去する恐れがあ
り、できるだけギャップからの漏れ磁界を弱める必要が
あった。
In this case, the high-frequency signal voltage decreases in proportion to the decrease in the track width.
It is required to make the configuration as large as possible in impedance. Further, when a high-frequency carrier signal or a DC bias current is applied to the conductive metal film, the magnetization of the magnetic material may be erased due to the leakage magnetic field from the magnetic material gap, and it is necessary to reduce the leakage magnetic field from the gap as much as possible. Was.

【0005】本発明は、上記課題を解決し、MI素子の
インピーダンスを大きくするとともに、磁性体ギャップ
からの漏れ磁界を抑制して、高出力な高周波インピーダ
ンス型磁気ヘッドを提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a high-output high-frequency impedance type magnetic head which solves the above problems, increases the impedance of the MI element, and suppresses the leakage magnetic field from the magnetic material gap. .

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドは、
前提となる基本的な構成として、ギャップを有するリン
グ型磁気コアと、導電性金属薄膜及びその両面に配置さ
れた軟磁性体膜を有して前記リング型磁気コアの磁路中
に配備されるとともに、前記導電性金属薄膜の前記ギャ
ップの幅方向における両端部に電極が設けられた磁気イ
ンピーダンス素子(以下、MI素子と称する)を含むM
I素子部と、前記導電性金属薄膜の電極間に、所定の抵
抗を介して高周波キャリア信号電流を印加する電流印加
手段と、前記導電性金属薄膜に対して直流バイアス磁界
を印加するバイアス磁界印加手段と、前記導電性金属薄
膜の電極から検出されるAM変調された高周波キャリア
信号の検波及び高周波増幅を行う回路とを備え、外部磁
界によって変化する前記導電性金属薄膜の電極間のイン
ピーダンスの変化を、高周波キャリア信号の変化として
検出する。上述の課題を解決するために、前記MI素子
部は、前記リング型磁気コアのギャップ面に対して両側
に各々配備された第1及び第2のMI素子を有し、前記
第1及び第2のMI素子の前記導電性金属薄膜に設けた
それぞれの電極のうち、前記ギャップの幅方向における
一方の側の前記電極どうしが接続され、他方の側の前記
電極を介して、前記高周波キャリア信号電流が印加され
る。
According to the present invention, there is provided a magnetic head comprising:
As a basic configuration, a ring-shaped magnetic core having a gap, a conductive metal thin film, and a soft magnetic film disposed on both surfaces thereof are provided in a magnetic path of the ring-shaped magnetic core. And a magneto-impedance element (hereinafter, referred to as MI element) in which electrodes are provided at both ends of the conductive metal thin film in the width direction of the gap.
Current applying means for applying a high-frequency carrier signal current between the I element portion and the electrode of the conductive metal thin film via a predetermined resistor; and applying a bias magnetic field for applying a DC bias magnetic field to the conductive metal thin film. Means, and a circuit for detecting and amplifying high-frequency AM signals modulated from the electrodes of the conductive metal thin film and for performing high-frequency amplification, wherein a change in impedance between the electrodes of the conductive metal thin film is changed by an external magnetic field. Is detected as a change in the high-frequency carrier signal. In order to solve the above-described problem, the MI element unit includes first and second MI elements provided on both sides of a gap surface of the ring-shaped magnetic core, and the first and second MI elements are provided. Of the respective electrodes provided on the conductive metal thin film of the MI element, the electrodes on one side in the width direction of the gap are connected to each other, and the high-frequency carrier signal current is passed through the electrode on the other side. Is applied.

【0007】この構成によれば、ギャップ面に対称に配
置した第1のMI素子部と第2のMI素子部を用いるこ
とにより、磁気回路と高周波電流との差交数が増加して
インピーダンスが増大し、出力の大幅な向上を図ること
ができる。また、高周波キャリア信号や直流バイアス信
号の通電に起因してギャップから漏洩する磁界が相殺さ
れて、磁気記録媒体上の信号磁化が消去されることが抑
制される。
According to this configuration, by using the first MI element and the second MI element arranged symmetrically on the gap surface, the number of crossings between the magnetic circuit and the high-frequency current increases, and the impedance is increased. And the output can be greatly improved. Further, the magnetic field leaking from the gap due to the energization of the high-frequency carrier signal or the DC bias signal is canceled, and the erasure of the signal magnetization on the magnetic recording medium is suppressed.

【0008】上記の構成において好ましくは、前記第1
及び第2のMI素子を、前記ギャップ面に対して対称な
位置に配置する。
In the above configuration, preferably, the first
And the second MI element is arranged at a position symmetrical with respect to the gap plane.

【0009】また、上記の構成において好ましくは、前
記高周波キャリア信号電流に直流電流を重畳して通電す
ることにより、直流バイアスを印加する。
Preferably, in the above configuration, a DC bias is applied by superimposing a DC current on the high-frequency carrier signal current and applying a current.

【0010】さらに、上記の構成において好ましくは、
前記MI素子部の軟磁性体膜に対して直流バイアス磁界
を印加する永久磁石膜を備え、前記永久磁石膜をその極
性が磁気記録媒体面に対して同一になるように配置した
構成とする。
Further, in the above configuration, preferably,
A permanent magnet film for applying a DC bias magnetic field to the soft magnetic film of the MI element portion is provided, and the permanent magnet film is arranged so that its polarity is the same as the surface of the magnetic recording medium.

【0011】さらに、上記の構成において好ましくは、
前記永久磁石膜を導電性材料膜とする。
Further, in the above configuration, preferably,
The permanent magnet film is a conductive material film.

【0012】さらに、上記の構成において好ましくは、
前記永久磁石膜を前記ギャップ面に対して対称な位置に
配置する。
Further, in the above configuration, preferably,
The permanent magnet film is arranged at a position symmetrical with respect to the gap plane.

【0013】さらに、上記の構成において好ましくは、
前記第1及び第2のMI素子を構成する軟磁性体膜のう
ち、前記リング型磁気コアの窓側に配置された軟磁性体
膜の厚みを、外側の軟磁性体膜の厚みより大となるよう
構成する。
Further, in the above configuration, preferably,
Among the soft magnetic films constituting the first and second MI elements, the thickness of the soft magnetic film disposed on the window side of the ring-shaped magnetic core is larger than the thickness of the outer soft magnetic film. The configuration is as follows.

【0014】さらに、上記の構成において好ましくは、
前記第1及び第2のMI素子は、前記導電性金属薄膜を
軟磁性体膜と永久磁石膜とで挟み込んだ構成とする。
Further, in the above configuration, preferably,
Each of the first and second MI elements has a configuration in which the conductive metal thin film is sandwiched between a soft magnetic film and a permanent magnet film.

【0015】さらに、上記の構成において好ましくは、
非磁性体の基板上に形成した第1の軟磁性体膜、前記第
1の軟磁性体膜の一部を除去した領域(以下Z領域と称
する)に形成した永久磁石膜、前記永久磁石膜の上に形
成した導電性金属薄膜、前記導電性金属薄膜上に形成し
た第2の軟磁性膜、及び前記Z領域内に形成した絶縁膜
を含む第1の磁気ヘッド半体と、前記第1の磁気ヘッド
半体上に設けたギャップ材層により形成されたギャップ
と、ギャップ面に対して前記第1の磁気ヘッド半体と対
称に形成した絶縁膜、第2の軟磁性体膜、導電性金属薄
膜、及び第1の軟磁性体膜を含む第2の磁気ヘッド半体
とを備えた構成とする。
Further, in the above configuration, preferably,
A first soft magnetic film formed on a non-magnetic substrate, a permanent magnet film formed in a region (hereinafter referred to as a Z region) in which a part of the first soft magnetic film is removed, and the permanent magnet film A first magnetic head half including a conductive metal thin film formed on the conductive metal thin film, a second soft magnetic film formed on the conductive metal thin film, and an insulating film formed in the Z region; A gap formed by a gap material layer provided on the magnetic head half, and an insulating film, a second soft magnetic film, and a conductive film formed symmetrically with respect to the gap surface with respect to the first magnetic head half. The structure includes a metal thin film and a second magnetic head half including the first soft magnetic film.

【0016】本発明の磁気ヘッドの製造方法は、基板上
に第1の軟磁性体膜を形成する工程、前記第1の軟磁性
体膜の一部を前記基板面までエッチングすることによっ
て凹部を形成する工程、前記凹部に永久磁石膜を形成す
る工程、前記凹部の永久磁石膜上に導電性金属薄膜を形
成する工程、前記導電性金属膜の上に第2の軟磁性体膜
を形成する工程、及び前記凹部の第2の軟磁性体膜上に
絶縁膜を形成する工程とを含む工程により製造した2つ
の片側コアを、非磁性のギャップ膜を介して圧接固着す
ることにより磁気ヘッドを構成することを特徴とする。
In a method of manufacturing a magnetic head according to the present invention, a step of forming a first soft magnetic film on a substrate, and etching a part of the first soft magnetic film to the surface of the substrate to form a recess. Forming, forming a permanent magnet film in the recess, forming a conductive metal thin film on the permanent magnet film in the recess, forming a second soft magnetic film on the conductive metal film. And a step of forming an insulating film on the second soft magnetic film in the concave portion by pressing and fixing the two single-sided cores via a non-magnetic gap film. It is characterized by comprising.

【0017】また、本発明の他の磁気ヘッドの製造方法
は、基板上に第1の軟磁性膜を形成する工程と、前記第
1の軟磁性体膜の一部を基板面までエッチングすること
によって凹部を形成する工程と、前記凹部に永久磁石膜
を形成する工程と、前記凹部の永久磁石膜上に導電性金
属薄膜を形成する工程と、前記導電性金属膜の上に第2
の軟磁性体膜を形成する工程と、前記凹部の第2の軟磁
性体膜上に非磁性の絶縁膜を形成する工程と、前記第2
の軟磁性体と絶縁膜を平滑化する工程と、平滑化した面
に非磁性膜を形成する工程と、前記凹部が形成されたZ
領域の非磁性膜上に絶縁膜を形成する工程と、前記Z領
域の絶縁膜上に第2の磁性体膜を形成する工程と、前記
Z領域の第2の軟磁性体膜上に導電性金属膜を形成する
工程と、前記Z領域の導電性金属膜上に永久磁石膜を形
成する工程と、その上に第1の軟磁性体膜を形成して上
記各工程において前記Z領域に形成された凸部とその他
の領域との間を平坦化する工程と、さらにその上から絶
縁体膜を形成する工程とを有する。
According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a magnetic head, comprising: forming a first soft magnetic film on a substrate; and etching a part of the first soft magnetic film to a substrate surface. Forming a permanent magnet film in the concave portion, forming a conductive metal thin film on the permanent magnet film in the concave portion, forming a second conductive film on the conductive metal film.
Forming a non-magnetic insulating film on the second soft magnetic film in the concave portion;
Smoothing the soft magnetic material and the insulating film, forming a non-magnetic film on the smoothed surface, and forming the Z in which the concave portion is formed.
Forming an insulating film on the non-magnetic film in the region, forming a second magnetic film on the insulating film in the Z region, and forming a conductive film on the second soft magnetic film in the Z region. Forming a metal film, forming a permanent magnet film on the conductive metal film in the Z region, forming a first soft magnetic film thereon, and forming the first soft magnetic film in the Z region in each of the above steps A step of flattening the gap between the formed convex portion and the other region, and a step of forming an insulator film thereon.

【0018】上記のいずれかの磁気ヘッド、あるいは上
記のいずれかの製造方法により製造された磁気ヘッド
と、記録媒体上に記録されている信号を前記磁気ヘッド
によって再生するために記録媒体を保持する手段と、前
記記録媒体上の指定された位置へ磁気ヘッドを位置決め
するための位置決め手段とを備えて、磁気再生装置を構
成することができる。
Any one of the above magnetic heads, or a magnetic head manufactured by any one of the above manufacturing methods, and a recording medium for holding a signal recorded on the recording medium for reproduction by the magnetic head. Means, and a positioning means for positioning the magnetic head at a designated position on the recording medium.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】(実施の形態1)図1は、本発明
の実施の形態1におけるリング型MIヘッドの断面図を
示す。ギャップ面(a)−(a')に対称な位置に第1
のMI素子部22及び第2のMI素子部23が形成され
ている。 MI素子部22は、導電性金属薄膜2を挟み
込んだ軟磁性体膜4及び5より厚い、軟磁性体膜からな
る磁気コア1及び6と直列に配置されている。また、M
I素子部23は、導電性金属膜2’を挟み込むように構
成した軟磁性体膜4’及び5’より厚い、軟磁性体膜か
らなる磁気コア1’及び6’と直列に配置されている。
これらがギャップ面(a)−(a')面で付き合わされ
た構成である。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a sectional view of a ring-type MI head according to Embodiment 1 of the present invention. The first position is symmetrical with respect to the gap plane (a)-(a ′).
And the second MI element section 23 are formed. The MI element unit 22 is arranged in series with the magnetic cores 1 and 6 made of a soft magnetic film and having a thickness larger than the soft magnetic films 4 and 5 with the conductive metal thin film 2 interposed therebetween. Also, M
The I element portion 23 is arranged in series with the magnetic cores 1 'and 6' made of a soft magnetic film, which are thicker than the soft magnetic films 4 'and 5' and sandwich the conductive metal film 2 '. .
These are a configuration in which the gap surfaces (a)-(a ') are joined together.

【0020】図2には、図1における矢印A側から見た
MIヘッドの概要図に、信号検出のための結線図を併せ
て示した。磁気コア1及び1’は、ほぼギャップ面
(a)−(a')に対称に作成されている。 また第1
のMI素子部22を貫通する導電性金属薄膜2の端部2
8及び29と、第2のMI素子部23を貫通する導電性
金属薄膜2’の端部30及び31のうち、磁気コア1及
び1’のトラックTWに対して同一側となるそれぞれの
端部29及び31における電極32、33が接続されて
いる。また、トラックTWに対して他方の側となるそれ
ぞれの端部28、30に、第1の対の電極端子40及び
41、第2の対の電極端子34及び35が設けられてい
る。
FIG. 2 shows a schematic diagram of the MI head viewed from the arrow A side in FIG. 1 and a connection diagram for signal detection. The magnetic cores 1 and 1 'are formed substantially symmetrically with respect to the gap plane (a)-(a'). Also the first
End portion 2 of conductive metal thin film 2 penetrating MI element portion 22 of FIG.
8 and 29 and the ends 30 and 31 of the conductive metal thin film 2 ′ penetrating the second MI element section 23, which are on the same side with respect to the track TW of the magnetic cores 1 and 1 ′ The electrodes 32, 33 at 29 and 31 are connected. Further, a first pair of electrode terminals 40 and 41 and a second pair of electrode terminals 34 and 35 are provided at respective ends 28 and 30 on the other side with respect to the track TW.

【0021】第2の対の電極端子34及び35に対し
て、高周波発信器25より高周波キャリア信号と直流電
源26から直流バイアス電流を抵抗27を介して加える
ことによって、導電性金属薄膜2に矢印38、導電性金
属薄膜2’に矢印39の方向に電流が通電される。ま
た、第1の対の電極端子40及び41には、高周波増幅
器42が接続される。このようにして第1の対の電極端
子40及び41を通して供給されるAM変調された高周
波信号が高周波増幅器42で増幅され、この高周波増幅
器42に含まれているAM検波器を通過して信号が復調
される。
By applying a high-frequency carrier signal from a high-frequency transmitter 25 and a DC bias current from a DC power supply 26 to a second pair of electrode terminals 34 and 35 via a resistor 27, an arrow is applied to the conductive metal thin film 2. 38, a current is applied to the conductive metal thin film 2 'in the direction of arrow 39. A high-frequency amplifier 42 is connected to the first pair of electrode terminals 40 and 41. In this way, the AM-modulated high-frequency signal supplied through the first pair of electrode terminals 40 and 41 is amplified by the high-frequency amplifier 42, and passes through the AM detector included in the high-frequency amplifier 42 so that the signal is Demodulated.

【0022】このように構成された本発明の特徴につい
て説明する。以下で説明する電流は上記高周波キャリア
信号電流及び直流を意味するが、瞬時瞬時を考えると直
流的扱いをしても差し支えないものである。このように
構成することにより、図1中、第1のMI素子部22の
導電性金属薄膜2には電流3が紙面と垂直に内部へ、一
方、第2の素子部23の導電性金属薄膜2’中では電流
3’が、紙面から手前の向きに電流が流れる。
The features of the present invention thus configured will be described. The current described below means the high-frequency carrier signal current and the direct current. However, considering the instantaneous moment, the direct current treatment may be used. With this configuration, in FIG. 1, the current 3 is applied to the inside of the conductive metal thin film 2 of the first MI element unit 22 perpendicular to the plane of the drawing, while the conductive metal thin film of the second element unit 23 is In 2 ′, a current 3 ′ flows in a direction toward the front from the page.

【0023】電流3、3’によって発生する磁束は、実
際には分布を持っているが、分かりやすくするため、模
式的に実線で示したようになる。すなわち、第1のMI
素子部22の軟磁性体膜5及び4を流れる磁束9は、矢
印15の方向に流れる。第2のMI素子部23の軟磁性
体膜4’及び5’を流れる磁束は、磁束10が矢印19
の方向に、磁束11が矢印21の方向に流れる。
The magnetic flux generated by the currents 3 and 3 'actually has a distribution, but for the sake of simplicity, is schematically indicated by a solid line. That is, the first MI
The magnetic flux 9 flowing through the soft magnetic films 5 and 4 of the element section 22 flows in the direction of arrow 15. The magnetic flux flowing through the soft magnetic films 4 ′ and 5 ′ of the second MI element section 23 is
, The magnetic flux 11 flows in the direction of arrow 21.

【0024】一方、第2のMI素子部23の導電性金属
薄膜2’中を流れる電流3’によって生じる磁束は、破
線で示される。第2のMI素子部23の磁性膜4’及び
5’を流れる磁束9’は、矢印18の方向に流れる。第
1のMI素子部22の磁性膜4及び5を流れる磁束は、
磁束10’が矢印14の方向に、磁束11’が矢印12
の方向に流れる。
On the other hand, the magnetic flux generated by the current 3 ′ flowing in the conductive metal thin film 2 ′ of the second MI element section 23 is shown by a broken line. The magnetic flux 9 ′ flowing through the magnetic films 4 ′ and 5 ′ of the second MI element 23 flows in the direction of arrow 18. The magnetic flux flowing through the magnetic films 4 and 5 of the first MI element unit 22 is
The magnetic flux 10 'is in the direction of arrow 14 and the magnetic flux 11' is in the direction of arrow 12.
Flows in the direction of

【0025】図1のギャップ部7の軟磁性体膜中では、
第1のMI素子部22から発生する磁束と第2のMI素
子部23から発生する磁束は矢印16及び17に示すよ
うに互いに反対方向になり相殺される。また、磁気コア
1及び1’においても、矢印43及び44で示されるよ
うに磁束の向きは逆向きとなり、打ち消す方向である。
このように、特に、ギャップ7の先端からの漏れ磁界は
極めて小さく、磁気記録媒体上の信号磁化を消去するな
どの問題は解消される。
In the soft magnetic film of the gap portion 7 in FIG.
The magnetic flux generated from the first MI element unit 22 and the magnetic flux generated from the second MI element unit 23 are opposite to each other as shown by arrows 16 and 17, and are canceled. Also, in the magnetic cores 1 and 1 ', the directions of the magnetic fluxes are reversed as shown by arrows 43 and 44, and are the directions of canceling out.
Thus, particularly, the leakage magnetic field from the tip of the gap 7 is extremely small, and the problem of erasing signal magnetization on the magnetic recording medium is solved.

【0026】また、第1のMI素子部22の軟磁性体膜
4では、矢印14及び15に示すように、電流3から発
生する磁束9と電流3’から発生する磁束11’とが強
め合う形となる。一方、第1のMI素子部22の磁性体
膜5では、矢印13と矢印12に示すように、電流3か
ら発生する磁束10と電流3’から発生する磁束11’
とが打ち消すような形となる。しかし、軟磁性体膜5の
中では、完全に打ち消し合うわけではなく、電流3から
発生した磁束10の大きさは、電流3’から発生した磁
束11’より大きいので、インピーダンスの発生には、
若干ながら寄与する。これらのことから、動作時には、
主として窓8に面する軟磁性体膜4が、インピーダンス
の発生に寄与することが判る。また、同様に第2のMI
素子部23の軟磁性体膜4’では、矢印18及び19が
示すように、互いに強め合い、軟磁性体膜5’では矢印
21及び20が示すように打ち消す方向になる。
In the soft magnetic film 4 of the first MI element section 22, the magnetic flux 9 generated from the current 3 and the magnetic flux 11 'generated from the current 3' reinforce each other as shown by arrows 14 and 15. It takes shape. On the other hand, in the magnetic film 5 of the first MI element section 22, as shown by arrows 13 and 12, a magnetic flux 10 generated from the current 3 and a magnetic flux 11 'generated from the current 3'.
Is a form that cancels out. However, in the soft magnetic film 5, the magnitude of the magnetic flux 10 generated from the current 3 is not larger than that of the magnetic flux 11 'generated from the current 3'.
Contributes slightly. From these, during operation,
It can be seen that the soft magnetic film 4 mainly facing the window 8 contributes to the generation of impedance. Similarly, the second MI
In the soft magnetic film 4 ′ of the element portion 23, they strengthen each other as shown by arrows 18 and 19, and in the soft magnetic film 5 ′, they cancel each other out as shown by arrows 21 and 20.

【0027】したがって、MI素子部を形成する軟磁性
体膜4及び4’の膜厚をそれぞれ軟磁性体膜5及び5’
より大きく構成する事によって、直流バイアスの動作磁
界を同じになるように構成すると、MI効果に対して能
率の良い磁気回路を構成することができる。また、イン
ピーダンスは電流と磁路の差交数の2乗に比例するが、
上記のように構成する事によって、差交数が2となるの
で、従来例に対してインピーダンスが増大し、4倍の出
力が得られる。
Therefore, the thicknesses of the soft magnetic films 4 and 4 'forming the MI element portion are changed to the soft magnetic films 5 and 5', respectively.
If the configuration is made larger so that the operating magnetic field of the DC bias becomes the same, a magnetic circuit having high efficiency for the MI effect can be formed. The impedance is proportional to the square of the number of crossings between the current and the magnetic path,
With the above-described configuration, the number of crossings becomes two, so that the impedance is increased as compared with the conventional example, and a four-fold output is obtained.

【0028】(実施の形態2)実施の形態2におけるM
Iヘッドは、直流バイアス磁界を磁石によって印加する
例であり、図3にその断面図を示す。また、図4は、図
3の矢印B側から見た側面図と結線図を示す。高周波キ
ャリア信号の動作は、実施の形態1の場合と同様である
ため、説明は省略する。
(Embodiment 2) M in Embodiment 2
The I head is an example in which a DC bias magnetic field is applied by a magnet, and FIG. 3 is a sectional view thereof. FIG. 4 shows a side view and a connection diagram as viewed from the arrow B side in FIG. The operation of the high-frequency carrier signal is the same as that of the first embodiment, and the description is omitted.

【0029】本実施の形態では、第1のMI素子部22
の軟磁性体膜5及び第2のMI素子部23の側面に、そ
れぞれ、永久磁石膜43、44を配置する。2つの永久
磁石膜43、44の極性は、媒体対向面(b)−
(b')側に向かって同一である。このように構成する
と、永久磁石膜43、44から発生する磁束は第1のM
I素子部22と第2のMI素子部23の軟磁性体膜に流
れ、バイアス磁界を発生する。その動作について説明す
る。永久磁石膜43から発生した磁束は、第1のMI素
子部の軟磁性体膜5中では磁束45が矢印46方向に流
れ、永久磁石膜に戻る。また永久磁石膜44から発生し
た磁束50’は矢印53の方向に流れるため、互いに強
め合う形となる。軟磁性体膜4の中では、永久磁石膜4
3からの磁束47と永久磁石膜44からの磁束49’が
それぞれ矢印48及び54に示すように強め合う形とな
る。第2のMI素子部23の軟磁性体膜4’及び5’の
中でも同様に、永久磁石膜43及び44からの磁束が強
め合い、効率の良い直流バイアス磁界の設定が可能であ
る。
In the present embodiment, the first MI element section 22
The permanent magnet films 43 and 44 are disposed on the side surfaces of the soft magnetic film 5 and the second MI element section 23, respectively. The polarities of the two permanent magnet films 43 and 44 are opposite to the medium facing surface (b) −
It is the same toward the (b ′) side. With this configuration, the magnetic flux generated from the permanent magnet films 43 and 44 is the first M
It flows through the soft magnetic films of the I element section 22 and the second MI element section 23 to generate a bias magnetic field. The operation will be described. The magnetic flux 45 generated from the permanent magnet film 43 flows in the direction of the arrow 46 in the soft magnetic film 5 of the first MI element portion, and returns to the permanent magnet film. Further, the magnetic flux 50 'generated from the permanent magnet film 44 flows in the direction of the arrow 53, so that the magnetic flux 50' reinforces each other. Among the soft magnetic films 4, the permanent magnet film 4
The magnetic flux 47 from 3 and the magnetic flux 49 'from the permanent magnet film 44 reinforce each other as shown by arrows 48 and 54, respectively. Similarly, among the soft magnetic films 4 'and 5' of the second MI element unit 23, the magnetic fluxes from the permanent magnet films 43 and 44 reinforce each other, and it is possible to set an efficient DC bias magnetic field.

【0030】また、磁気コア1及び1’では、永久磁石
膜43から発生する磁束と永久磁石膜44から発生する
磁束とがそれぞれ矢印57及び58に示すように相殺す
る。また、磁気コア6及び6’のギャップ部では同様に
矢印55及び56に示されるように相殺する。そのため
ギャップ7からの漏れ磁界が極めて小さく、磁気媒体上
の信号磁化を消去する問題は解消される。また実施の形
態1と同様インピーダンスが4倍に増大し、出力が増大
する効果がある。
In the magnetic cores 1 and 1 ', the magnetic flux generated from the permanent magnet film 43 and the magnetic flux generated from the permanent magnet film 44 cancel each other as shown by arrows 57 and 58, respectively. Similarly, the gaps between the magnetic cores 6 and 6 'cancel each other as shown by arrows 55 and 56. Therefore, the leakage magnetic field from the gap 7 is extremely small, and the problem of erasing the signal magnetization on the magnetic medium is solved. Further, similarly to the first embodiment, there is an effect that the impedance increases four times and the output increases.

【0031】(実施の形態3)図5は、実施の形態3に
おけるMIヘッドの断面図を示す。実施の形態1及び2
より、MI素子部の軟磁性体膜のうち、窓8に接する軟
磁性体膜4及び4’がインピーダンスに効果的に働くこ
とが分かった。本実施の形態は、この結果を考慮したも
のである。つまり、実施の形態2の軟磁性体膜5及び
5’を除去し、その位置に直流バイアス磁界印加用の永
久磁石膜43及び44を形成したものである。
(Embodiment 3) FIG. 5 is a sectional view of an MI head according to Embodiment 3. Embodiments 1 and 2
From the above, it was found that, out of the soft magnetic films of the MI element portion, the soft magnetic films 4 and 4 ′ in contact with the window 8 effectively act on the impedance. The present embodiment takes this result into consideration. That is, the soft magnetic films 5 and 5 'of the second embodiment are removed, and permanent magnet films 43 and 44 for applying a DC bias magnetic field are formed at the positions.

【0032】NiTiMgセラミック基板59上にTe
TaNからなる第1の軟磁性体膜を形成し、イオンビー
ムエッチング法を用いて1点鎖線(c')−(c) 及
び(d')−(d)にはさまれた部分(以下Z領域と呼
ぶ)の第1の磁性膜を除去する。これにより第1の軟磁
性体膜の残部の上部が磁気コア1となり、下部が磁気コ
ア6となる。次にZ領域及び磁気コア1及び6上に、C
oCrPtなどの永久磁石膜を成膜し、フォトリソグラ
フィ技術によってZ領域にのみ永久磁石膜43を形成す
る。さらにCuからなる導電性金属膜2を形成した後、
第1の軟磁性体膜より膜厚の小さなFeTaNからなる
第2の軟磁性体膜4を形成する。さらに絶縁体膜である
アルミナ膜を形成してフォトリソグラフィ技術と研磨工
程を用いて、Z領域のみアルミナ膜60を残存させる。
次にSiO2からなる絶縁膜61を形成しギャップ7を
構成する。このギャップ面に対称にアルミナ膜60’、
第2の軟磁性体膜4’、Cuからなる導電性金属膜
2’、永久磁石膜43’さらに、第1の軟磁性体膜から
なる磁気コア1’、6’をフォトリソ技術及び機械加工
技術を用いて形成し、磁気ヘッドを構成する。
Te on a NiTiMg ceramic substrate 59
A first soft magnetic film made of TaN is formed, and a portion sandwiched between alternate long and short dash lines (c ′)-(c) and (d ′)-(d) by ion beam etching (hereinafter referred to as Z). The first magnetic film (referred to as a region) is removed. Thus, the upper portion of the remaining portion of the first soft magnetic film becomes the magnetic core 1 and the lower portion becomes the magnetic core 6. Next, on the Z region and the magnetic cores 1 and 6, C
A permanent magnet film such as oCrPt is formed, and the permanent magnet film 43 is formed only in the Z region by a photolithography technique. After further forming the conductive metal film 2 made of Cu,
A second soft magnetic film 4 made of FeTaN having a smaller thickness than the first soft magnetic film is formed. Further, an alumina film as an insulator film is formed, and the alumina film 60 is left only in the Z region by using a photolithography technique and a polishing process.
Next, an insulating film 61 made of SiO 2 is formed to form the gap 7. Alumina film 60 ′ is symmetrical with respect to this gap plane,
The second soft magnetic film 4 ′, the conductive metal film 2 ′ made of Cu, the permanent magnet film 43 ′, and the magnetic cores 1 ′ and 6 ′ made of the first soft magnetic film are photolithographically and mechanically processed. To form a magnetic head.

【0033】このように構成した磁気ヘッドの、導電性
金属膜2、2’の端子34、35に接続された第2の対
の電極端子36及び37に、実施の形態2と同様に高周
波発信器25より抵抗27を介して高周波キャリア信号
を印加し、磁気記録媒体62の磁化63から発生する磁
束によってAM変調された高周波信号を、第1の対の電
極端子40及び41に接続された高周波増幅器42で再
生した。実施の形態2で述べたように、磁気回路と電流
の差交数が2のため、従来の4倍の出力が得られた。ま
た、実施の形態2と同様に、直流バイアス磁界がギャッ
プから漏れ出ることが無く、磁気記録媒体62上に書き
込まれた磁化63を消去する現象は皆無であった。ま
た、永久磁石膜43及び44として導電性の硬質磁性材
料を用いると高周波電流が流れるリードの面積が広くな
るため、信号磁界によって変化しないリード部のインピ
ーダンスが小さくなり、インピーダンス変化率が大きく
とれることが分かった。
In the magnetic head thus configured, the second pair of electrode terminals 36 and 37 connected to the terminals 34 and 35 of the conductive metal films 2 and 2 ′ transmit high-frequency waves in the same manner as in the second embodiment. A high-frequency carrier signal is applied from the device 25 via the resistor 27, and the high-frequency signal AM-modulated by the magnetic flux generated from the magnetization 63 of the magnetic recording medium 62 is converted to a high-frequency signal connected to the first pair of electrode terminals 40 and 41. It was reproduced by the amplifier 42. As described in the second embodiment, since the number of crossings between the magnetic circuit and the current is 2, an output four times that of the related art is obtained. As in the second embodiment, the DC bias magnetic field did not leak out of the gap, and there was no phenomenon of erasing the magnetization 63 written on the magnetic recording medium 62. In addition, when conductive hard magnetic materials are used as the permanent magnet films 43 and 44, the area of the lead through which the high-frequency current flows becomes large, so that the impedance of the lead portion, which does not change due to the signal magnetic field, decreases, and the impedance change rate can be increased. I understood.

【0034】上記の例では、軟磁性体膜として、FeT
aNを用いたが、1GHzにおける実効透磁率の優れた
Fe系、Co系金属磁性体膜、あるいは酸化物磁性体膜
のいずれでも用いることができる。また、ギャップ材と
してSiO2を用いた例を示したが、アルミナやCuな
ど非磁性体の全ての材料が有効である。基板としては、
NiTiMgのセラミック基板を用いた例を示したが、
AlTiCなどその他のセラミック、ガラス系材料、カ
ーボン基板も有効である。また、永久磁石膜としてCo
CrPtを用いたが、SmCoやFe系等の硬質磁性体
の全てが有効である。
In the above example, the soft magnetic film is made of FeT
Although aN was used, any of an Fe-based, Co-based metal magnetic film, or oxide magnetic film having an excellent effective magnetic permeability at 1 GHz can be used. Although an example using SiO 2 as the gap material has been described, all non-magnetic materials such as alumina and Cu are effective. As a substrate,
Although an example using a NiTiMg ceramic substrate is shown,
Other ceramics such as AlTiC, glass-based materials, and carbon substrates are also effective. In addition, Co is used as a permanent magnet film.
Although CrPt was used, all hard magnetic materials such as SmCo and Fe-based materials are effective.

【0035】[0035]

【発明の効果】本発明によれば、ギャップ面に対称に配
置した第1のMI素子部と第2のMI素子部を用いるこ
とにより、磁気回路と高周波電流との差交数が増加して
インピーダンスが増大し、出力の大幅な向上を図ること
ができる。また、高周波キャリア信号や直流バイアス信
号の通電に起因してギャップから漏洩する磁界が相殺さ
れて、磁気記録媒体上の信号磁化が消去されることが抑
制される。
According to the present invention, the number of crossings between the magnetic circuit and the high-frequency current is increased by using the first and second MI element sections symmetrically arranged on the gap plane. The impedance is increased, and the output can be significantly improved. Further, the magnetic field leaking from the gap due to the energization of the high-frequency carrier signal or the DC bias signal is canceled, and the erasure of the signal magnetization on the magnetic recording medium is suppressed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1におけるMIヘッドの断
面図
FIG. 1 is a sectional view of an MI head according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態1におけるMIヘッドの結
線図
FIG. 2 is a connection diagram of an MI head according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態2におけるMIヘッドの断
面図
FIG. 3 is a sectional view of an MI head according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施の形態2におけるMIヘッドの結
線図
FIG. 4 is a connection diagram of an MI head according to a second embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施の形態3におけるMIヘッドの断
面図
FIG. 5 is a sectional view of an MI head according to a third embodiment of the present invention.

【図6】従来例のMIヘッドの構成及び動作を示す斜視
FIG. 6 is a perspective view showing the configuration and operation of a conventional MI head.

【図7】従来例のMIヘッドの動作原理を示すグラフFIG. 7 is a graph showing the operation principle of a conventional MI head.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、1’ 磁気コア(第1の軟磁性体膜) 2、2’ 導電性金属膜 3、3’ 電流 4、4’、5、5’ 第2の軟磁性体膜 6、6’ 磁気コア(第1の軟磁性体膜) 7 ギャップ 8 窓 9、9’、10、10’、11、11’ 磁束 12、13、14、15、16、17、18、19、2
0、21 磁束の方向を示す矢印 22 第1のMI素子部 23 第2のMI素子部 25 高周波発信器 26 直流電源 27 抵抗 28、29 第1のMI素子の導電性金属薄膜 30、31 第2のMI素子の導電性金属薄膜 32、33、34、35 電極 36、37 第2の対の電極端子 38、39 電流の方向 40、41 第1の対の電極端子 42 高周波増幅器 43 第1の永久磁石膜 44 第2の永久磁石膜 45、47、49、49’、50、50’ 磁束 46、48、51、52、53、54、55、56、5
7、58 磁束の方向を示す矢印 59 基板 60、60’絶縁体膜 61 非磁性膜 62 磁気記録媒体 63 磁化 64 検出導体膜 65 トラック幅 66 パーマロイ膜 67 SiO2膜 68、69 軟磁性体膜 70 高周波発信器 71 抵抗 72 電流 73、74 電極端子 75 磁気記録媒体 76 磁化 77 直流バイアス
1, 1 'magnetic core (first soft magnetic film) 2, 2' conductive metal film 3, 3 'current 4, 4', 5, 5 'second soft magnetic film 6, 6' magnetic core (First soft magnetic film) 7 Gap 8 Window 9, 9 ', 10, 10', 11, 11 'Magnetic flux 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 2,
0, 21 Arrow indicating the direction of magnetic flux 22 First MI element section 23 Second MI element section 25 High-frequency oscillator 26 DC power supply 27 Resistance 28, 29 Conductive metal thin film of first MI element 30, 31 Second Conductive metal thin film 32, 33, 34, 35 electrode 36, 37 Second pair of electrode terminals 38, 39 Current direction 40, 41 First pair of electrode terminals 42 High frequency amplifier 43 First permanent Magnet film 44 Second permanent magnet film 45, 47, 49, 49 ', 50, 50' Magnetic flux 46, 48, 51, 52, 53, 54, 55, 56, 5
7,58 arrows 59 substrate 60, 60 indicating the direction of the magnetic flux 'insulating film 61 non-magnetic film 62 magnetic recording medium 63 magnetized 64 detects conductive film 65 track width 66 permalloy film 67 SiO 2 film 68 and 69 soft magnetic film 70 High frequency oscillator 71 Resistance 72 Current 73, 74 Electrode terminal 75 Magnetic recording medium 76 Magnetization 77 DC bias

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ギャップを有するリング型磁気コアと、 導電性金属薄膜及びその両面に配置された軟磁性体膜を
有して前記リング型磁気コアの磁路中に配備されるとと
もに、前記導電性金属薄膜の前記ギャップの幅方向にお
ける両端部に電極が設けられた磁気インピーダンス素子
(以下、MI素子と称する)を含むMI素子部と、 前記導電性金属薄膜の電極間に、所定の抵抗を介して高
周波キャリア信号電流を印加する電流印加手段と、 前記導電性金属薄膜に対して直流バイアス磁界を印加す
るバイアス磁界印加手段と、 前記導電性金属薄膜の電極から検出されるAM変調され
た高周波キャリア信号の検波及び高周波増幅を行う回路
とを備え、 外部磁界によって変化する前記導電性金属薄膜の電極間
のインピーダンスの変化を、高周波キャリア信号の変化
として検出する磁気ヘッドにおいて、 前記MI素子部は、前記リング型磁気コアのギャップ面
に対して両側に各々配備された第1及び第2のMI素子
を有し、 前記第1及び第2のMI素子の前記導電性金属薄膜に設
けたそれぞれの電極のうち、前記ギャップの幅方向にお
ける一方の側の前記電極どうしが接続され、他方の側の
前記電極を介して、前記高周波キャリア信号電流が印加
されることを特徴とする磁気ヘッド。
1. A ring-shaped magnetic core having a gap, a conductive metal thin film and soft magnetic films disposed on both surfaces thereof are provided in a magnetic path of the ring-shaped magnetic core, A predetermined resistance is provided between an MI element portion including a magneto-impedance element (hereinafter, referred to as an MI element) in which electrodes are provided at both ends in a width direction of the gap of the conductive metal thin film, and an electrode of the conductive metal thin film. Current applying means for applying a high-frequency carrier signal current through the conductive metal thin film; bias magnetic field applying means for applying a DC bias magnetic field to the conductive metal thin film; and AM-modulated high frequency detected from an electrode of the conductive metal thin film. A circuit for detecting a carrier signal and amplifying the high-frequency signal. In a magnetic head that detects a change in a signal, the MI element unit includes first and second MI elements disposed on both sides of a gap surface of the ring-shaped magnetic core, respectively. Among the electrodes provided on the conductive metal thin film of the second MI element, the electrodes on one side in the width direction of the gap are connected to each other, and the high-frequency carrier is connected via the electrode on the other side. A magnetic head to which a signal current is applied.
【請求項2】 前記第1及び第2のMI素子を、前記ギ
ャップ面に対して対称な位置に配置したことを特徴とす
る請求項1記載の磁気ヘッド。
2. The magnetic head according to claim 1, wherein the first and second MI elements are arranged at positions symmetrical with respect to the gap plane.
【請求項3】 前記高周波キャリア信号電流に直流電流
を重畳して通電することにより、直流バイアスを印加す
ることを特徴とする請求項1記載の磁気ヘッド。
3. The magnetic head according to claim 1, wherein a DC bias is applied by superimposing a DC current on the high-frequency carrier signal current and applying a current.
【請求項4】 前記MI素子部の軟磁性体膜に対して直
流バイアス磁界を印加する永久磁石膜を備え、前記永久
磁石膜をその極性が磁気記録媒体面に対して同一になる
ように配置したことを特徴とする請求項1記載の磁気ヘ
ッド。
4. A permanent magnet film for applying a DC bias magnetic field to the soft magnetic film of the MI element portion, wherein the permanent magnet film is arranged so that its polarity is the same as the surface of the magnetic recording medium. 2. The magnetic head according to claim 1, wherein:
【請求項5】 前記永久磁石膜が導電性材料膜であるこ
とを特徴とする請求項4記載の磁気ヘッド。
5. The magnetic head according to claim 4, wherein the permanent magnet film is a conductive material film.
【請求項6】 前記永久磁石膜を前記ギャップ面に対し
て対称な位置に配置したことを特徴とする請求項1記載
の磁気ヘッド。
6. The magnetic head according to claim 1, wherein the permanent magnet film is arranged at a position symmetrical with respect to the gap plane.
【請求項7】 前記第1及び第2のMI素子を構成する
軟磁性体膜のうち、前記リング型磁気コアの窓側に配置
された軟磁性体膜の厚みを、外側の軟磁性体膜の厚みよ
り大となるよう構成したことを特徴とする請求項1記載
の磁気ヘッド。
7. The thickness of the soft magnetic material film disposed on the window side of the ring-shaped magnetic core among the soft magnetic material films constituting the first and second MI elements is set to the thickness of the outer soft magnetic material film. 2. The magnetic head according to claim 1, wherein the magnetic head is configured to have a thickness larger than the thickness.
【請求項8】 前記第1及び第2のMI素子は、前記導
電性金属薄膜を軟磁性体膜と永久磁石膜とで挟み込んだ
構成であることを特徴とする請求項1記載の磁気ヘッ
ド。
8. The magnetic head according to claim 1, wherein the first and second MI elements have a configuration in which the conductive metal thin film is sandwiched between a soft magnetic film and a permanent magnet film.
【請求項9】 非磁性体の基板上に形成した第1の軟磁
性体膜、前記第1の軟磁性体膜の一部を除去した領域
(以下Z領域と称する)に形成した永久磁石膜、前記永
久磁石膜の上に形成した導電性金属薄膜、前記導電性金
属薄膜上に形成した第2の軟磁性膜、及び前記Z領域内
に形成した絶縁膜を含む第1の磁気ヘッド半体と、前記
第1の磁気ヘッド半体上に設けたギャップ材層により形
成されたギャップと、ギャップ面に対して前記第1の磁
気ヘッド半体と対称に形成した絶縁膜、第2の軟磁性体
膜、導電性金属薄膜、及び第1の軟磁性体膜を含む第2
の磁気ヘッド半体とを備えたことを特徴とする請求項1
記載の磁気ヘッド。
9. A first soft magnetic film formed on a non-magnetic substrate, and a permanent magnet film formed in a region (hereinafter referred to as a Z region) in which a part of the first soft magnetic film is removed. A first magnetic head half including a conductive metal thin film formed on the permanent magnet film, a second soft magnetic film formed on the conductive metal thin film, and an insulating film formed in the Z region A gap formed by a gap material layer provided on the first magnetic head half; an insulating film formed symmetrically to the first magnetic head half with respect to the gap surface; A second film including a body film, a conductive metal thin film, and a first soft magnetic film;
2. A magnetic head half according to claim 1.
The magnetic head as described.
【請求項10】 基板上に第1の軟磁性体膜を形成する
工程、前記第1の軟磁性体膜の一部を前記基板面までエ
ッチングすることによって凹部を形成する工程、前記凹
部に永久磁石膜を形成する工程、前記凹部の永久磁石膜
上に導電性金属薄膜を形成する工程、前記導電性金属膜
の上に第2の軟磁性体膜を形成する工程、及び前記凹部
の第2の軟磁性体膜上に絶縁膜を形成する工程とを含む
工程により製造した2つの片側コアを、非磁性のギャッ
プ膜を介して圧接固着することにより磁気ヘッドを構成
することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
10. A step of forming a first soft magnetic film on a substrate, a step of forming a concave portion by etching a part of the first soft magnetic film to the substrate surface, Forming a magnet film, forming a conductive metal thin film on the permanent magnet film in the recess, forming a second soft magnetic film on the conductive metal film, and forming a second soft magnetic film on the recess. Forming a magnetic head by pressing and fixing two single-sided cores manufactured by a process including a process of forming an insulating film on a soft magnetic film through a non-magnetic gap film. Head manufacturing method.
【請求項11】 基板上に第1の軟磁性膜を形成する工
程と、前記第1の軟磁性体膜の一部を基板面までエッチ
ングすることによって凹部を形成する工程と、前記凹部
に永久磁石膜を形成する工程と、前記凹部の永久磁石膜
上に導電性金属薄膜を形成する工程と、前記導電性金属
膜の上に第2の軟磁性体膜を形成する工程と、前記凹部
の第2の軟磁性体膜上に非磁性の絶縁膜を形成する工程
と、前記第2の軟磁性体と絶縁膜を平滑化する工程と、
平滑化した面に非磁性膜を形成する工程と、前記凹部が
形成されたZ領域の非磁性膜上に絶縁膜を形成する工程
と、前記Z領域の絶縁膜上に第2の磁性体膜を形成する
工程と、前記Z領域の第2の軟磁性体膜上に導電性金属
膜を形成する工程と、前記Z領域の導電性金属膜上に永
久磁石膜を形成する工程と、その上に第1の軟磁性体膜
を形成して上記各工程において前記Z領域に形成された
凸部とその他の領域との間を平坦化する工程と、さらに
その上から絶縁体膜を形成する工程とを有することを特
徴とする磁気ヘッドの製造方法。
11. A step of forming a first soft magnetic film on a substrate, a step of forming a concave portion by etching a part of the first soft magnetic film to a substrate surface, and a step of permanently forming the concave portion in the concave portion. Forming a magnet film, forming a conductive metal thin film on the permanent magnet film in the recess, forming a second soft magnetic film on the conductive metal film, Forming a non-magnetic insulating film on the second soft magnetic film, and smoothing the second soft magnetic material and the insulating film;
Forming a non-magnetic film on the smoothed surface, forming an insulating film on the non-magnetic film in the Z region in which the recess is formed, and forming a second magnetic film on the insulating film in the Z region Forming a conductive metal film on the second soft magnetic film in the Z region; forming a permanent magnet film on the conductive metal film in the Z region; Forming a first soft magnetic film, flattening the gap between the protrusion formed in the Z region and the other region in each of the above steps, and further forming an insulator film thereon And a method for manufacturing a magnetic head.
【請求項12】 請求項1〜9のいずれかに記載の磁気
ヘッド、あるいは請求項10または11に記載の製造方
法により製造された磁気ヘッドと、記録媒体上に記録さ
れている信号を前記磁気ヘッドによって再生するために
記録媒体を保持する手段と、前記記録媒体上の指定され
た位置へ磁気ヘッドを位置決めするための位置決め手段
とを備えたことを特徴とする磁気再生装置。
12. A magnetic head according to any one of claims 1 to 9, or a magnetic head manufactured by the manufacturing method according to claim 10 or 11, and a signal recorded on a recording medium, A magnetic reproducing apparatus comprising: means for holding a recording medium for reproduction by a head; and positioning means for positioning a magnetic head at a designated position on the recording medium.
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