JP2001316473A - Dendrimer-structure-container polymer - Google Patents

Dendrimer-structure-container polymer

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JP2001316473A
JP2001316473A JP2000131638A JP2000131638A JP2001316473A JP 2001316473 A JP2001316473 A JP 2001316473A JP 2000131638 A JP2000131638 A JP 2000131638A JP 2000131638 A JP2000131638 A JP 2000131638A JP 2001316473 A JP2001316473 A JP 2001316473A
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Japan
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group
silicon
hydrogen atom
bonded hydrogen
atom
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JP2000131638A
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Makoto Yoshitake
誠 吉武
Toshinori Watanabe
俊範 渡辺
Satoru Onodera
哲 小野寺
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DuPont Toray Specialty Materials KK
Original Assignee
Dow Corning Toray Silicone Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel dendrimer-structure-containing polymer obtained by hydrosilylating an organosilicon compound having an acrylic or methacrylic group and a specified dendrimer structure with a silicon-bonded-hydrogen- containing polymer. SOLUTION: There is provided is a dendrimer-structure-containing polymer obtained by reacting an organosilicon compound represented by the general formula: (wherein R1 is a 1-10C alkyl or an aryl; R2 is a divalent organic group; c is 2 or 3; X1 is a specified silylalkyl; and Y is an organic group containing an acrylic or methacrylic group) with a silicon-bonded-hydrogen-containing polymer in the presence of a transition metal hydrosilylation catalyst.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は新規なデンドリマー
構造含有重合体に関する。詳しくは、アクリル基もしく
はメタクリル基と特定のデンドリマー構造を有する有機
ケイ素化合物と、ケイ素原子結合水素原子含有重合体と
を、ヒドロシリル化反応させて得られる新規なデンドリ
マー構造含有重合体に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel polymer having a dendrimer structure. More specifically, the present invention relates to a novel polymer having a dendrimer structure obtained by subjecting an organosilicon compound having an acrylic group or a methacrylic group and a specific dendrimer structure to a polymer containing a silicon-bonded hydrogen atom, by a hydrosilylation reaction.

【0002】[0002]

【従来の技術】ラジカル重合可能な基を一分子中に1個
含有し、かつ、分子内に2個以上の分岐点を有する多分
岐状のシロキサン・シルアルキレン共重合体、即ち、ラ
ジカル重合反応性カルボシロキサンデンドリマーは知ら
れており、さらにこれを他のラジカル重合性モノマーと
反応させることによって、側鎖にデンドリマー構造を有
する様々なグラフト共重合体が得られることも知られて
いる(特開平11−1485号公報および特開平11−
1530号公報参照)。さらに本発明者らは、多分岐構
造とラジカル重合性基との連結構造をアルキレン基以外
の有機基にすることにより、高いラジカル重合反応性を
示すカルボシロキサンデンドリマーを提案した(特願平
11−216468号明細書)。しかし、このようなラ
ジカル重合反応性カルボシロキサンデンドリマーとケイ
素原子結合水素原子含有化合物とのヒドロシリル化反応
については知られていなかった。特に、アクリル基やメ
タクリル基はアルケニル基に比べてヒドロシリル化反応
性が低く、加えて、アクリル基もしくはメタクリル基と
ケイ素原子結合水素原子とのヒドロシリル化反応は、一
般に、炭素−炭素二重結合だけでなく、炭素−酸素二重
結合あるいは共役した炭素−炭素結合および炭素−酸素
二重結合の両端でも進行するので、ケイ素原子結合水素
原子と炭素−炭素二重結合の反応だけを選択的に進行さ
せるのが困難とされていたためである。これらのことか
ら、アクリル基もしくはメタクリル基を有するカルボシ
ロキサンデンドリマーとケイ素原子結合水素原子含有化
合物とのヒドロシリル化反応生成物は知られていなかっ
た。
2. Description of the Related Art A polybranched siloxane / silalkylene copolymer containing one radically polymerizable group in one molecule and having two or more branch points in the molecule, that is, a radical polymerization reaction Functional carbosiloxane dendrimers are known, and it is also known that various graft copolymers having a dendrimer structure in a side chain can be obtained by reacting them with other radically polymerizable monomers (Japanese Patent Application Laid-open No. Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-1485 and Japanese Unexamined Patent Application Publication No.
No. 1530). Furthermore, the present inventors have proposed a carbosiloxane dendrimer exhibiting high radical polymerization reactivity by using a linking structure between the multibranched structure and the radical polymerizable group as an organic group other than an alkylene group (Japanese Patent Application No. 11-110). 216468). However, a hydrosilylation reaction between such a radical polymerization reactive carbosiloxane dendrimer and a compound containing a silicon-bonded hydrogen atom has not been known. In particular, acrylic and methacrylic groups have lower hydrosilylation reactivity than alkenyl groups.In addition, the hydrosilylation reaction between an acrylic or methacrylic group and a silicon-bonded hydrogen atom generally involves only a carbon-carbon double bond. In addition, it proceeds at both ends of the carbon-oxygen double bond or the conjugated carbon-carbon bond and carbon-oxygen double bond, so that only the reaction between the silicon-bonded hydrogen atom and the carbon-carbon double bond proceeds selectively. This was because it was considered difficult. From these, a hydrosilylation reaction product of a carbosiloxane dendrimer having an acryl group or a methacryl group and a compound having a silicon-bonded hydrogen atom has not been known.

【0003】一方、含ケイ素デンドリマーの製造方法と
しては、発散法と収束法が知られている。発散法がデン
ドリマー分子の核から分岐構造を放射状に組み立ててい
く方法であるのに対して、収束法は初めに分岐構造をも
つ中間体を複数作っておき、それらをデンドリマー分子
の核となる構造単位に結合させる方法である。しかしな
がら、従来、収束法では、合成法の都合上から、中間体
がデンドリマー形成に必要な官能基をひとつだけしか有
することができず、また、利用できる中間体は分子量が
1000以下のものに限られていた。このため、収束法
によって含ケイ素デンドリマーの世代数を2つ以上増加
させることはできなかった。
On the other hand, as a method for producing a silicon-containing dendrimer, a divergence method and a convergence method are known. While the divergence method is a method of radially assembling a branched structure from the nucleus of a dendrimer molecule, the convergence method first creates a plurality of intermediates having a branched structure, and then uses them as a structure that becomes the core of the dendrimer molecule. This is a method of bonding to units. However, conventionally, in the convergent method, due to the convenience of the synthesis method, the intermediate can have only one functional group required for dendrimer formation, and the available intermediate is limited to those having a molecular weight of 1,000 or less. Had been. For this reason, it was not possible to increase the number of silicon-containing dendrimers by two or more by the convergence method.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは上記問題
点を解消すべく鋭意検討した結果、本発明に到達した。
即ち、本発明の目的は、アクリル基もしくはメタクリル
基と特定のデンドリマー構造を有する有機ケイ素化合物
と、ケイ素原子結合水素原子含有重合体とを、ヒドロシ
リル化反応させて得られる新規なデンドリマー構造含有
重合体を提供することにある。
The inventors of the present invention have made intensive studies to solve the above problems, and as a result, have reached the present invention.
That is, an object of the present invention is to provide a novel dendrimer structure-containing polymer obtained by subjecting an organosilicon compound having an acrylic group or a methacryl group and a specific dendrimer structure to a polymer containing a silicon-bonded hydrogen atom to undergo a hydrosilylation reaction. Is to provide.

【0005】[0005]

【問題を解決するための手段】本発明は、一般式:SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a compound represented by the general formula:

【化5】 {式中、R1は炭素原子数1〜10のアルキル基もしくは
アリール基であり、R2は二価有機基であり、cは2〜3
であり、X1はi=1とした場合の次式で示されるシリルア
ルキル基である。
Embedded image In the formula, R 1 is an alkyl group or an aryl group having 1 to 10 carbon atoms, R 2 is a divalent organic group, and c is 2 to 3
And X 1 is a silylalkyl group represented by the following formula when i = 1.

【化6】 (式中、R1は前記と同じであり、R3は炭素原子数2〜1
0のアルキレン基であり、R4は炭素原子数1〜10のア
ルキル基であり、Xi+1は上記シリルアルキル基または脂
肪族不飽和結合を含まない炭素原子数1〜30の置換も
しくは非置換の一価炭化水素基である。iは該シリルア
ルキル基の階層を示している1〜10の整数であり、ai
は0〜3であり、biは0〜1である。)Yは、一般式:
Embedded image (Wherein, R 1 is the same as described above, and R 3 has 2 to 1 carbon atoms.
0 is an alkylene group, R 4 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and X i + 1 is a substituted or unsubstituted 1 to 30 carbon atom containing no silylalkyl group or aliphatic unsaturated bond. It is a substituted monovalent hydrocarbon group. i is an integer of 1 to 10 indicating the hierarchy of the silylalkyl group ;
It is 0~3, b i is 0-1. ) Y is a general formula:

【化7】 またはEmbedded image Or

【化8】 (式中、R5は水素原子もしくはメチル基であり、R6は水
素原子または炭素原子数1〜10のアルキル基もしくは
アリール基である。)で示される基である。}で示され
る有機ケイ素化合物と、ケイ素原子結合水素原子含有重
合体を、遷移金属ヒドロシリル化反応用触媒存在下で反
応させて得られるデンドリマー構造含有重合体に関す
る。
Embedded image (In the formula, R 5 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 6 is a hydrogen atom or an alkyl group or an aryl group having 1 to 10 carbon atoms.) The present invention relates to a polymer having a dendrimer structure obtained by reacting an organosilicon compound represented by} with a polymer having a silicon-bonded hydrogen atom in the presence of a catalyst for a transition metal hydrosilylation reaction.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】最初に、本発明のデンドリマー構
造含有重合体の原料となる有機ケイ素化合物について説
明する。本発明で使用される有機ケイ素化合物は、アク
リル基もしくはメタクリル基を一分子中に1個有するカ
ルボシロキサンデンドリマーであり、一般式:
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First, an organosilicon compound as a raw material of the polymer having a dendrimer structure of the present invention will be described. The organosilicon compound used in the present invention is a carbosiloxane dendrimer having one acryl group or methacryl group in one molecule, and has a general formula:

【化9】 で示される。上式中、R1は炭素原子数1〜10のアルキ
ル基もしくはアリール基であり、アルキル基としてはメ
チル基,エチル基,プロピル基,ブチル基,ペンチル
基,イソプロピル基,イソブチル基,シクロペンチル
基,シクロヘキシル基が例示され、アリール基としては
フェニル基,ナフチル基が例示される。これらの中でも
メチル基が好ましい。R2は二価の有機基であるが、炭素
原子,ケイ素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、イ
オウ原子から選ばれる複数の元素から構成される基であ
ることが好ましい。このR2として具体的には、式:
Embedded image Indicated by In the above formula, R 1 is an alkyl group or an aryl group having 1 to 10 carbon atoms, and as the alkyl group, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a cyclopentyl group, A cyclohexyl group is exemplified, and a phenyl group and a naphthyl group are exemplified as the aryl group. Among these, a methyl group is preferred. R 2 is a divalent organic group, but is preferably a group composed of a plurality of elements selected from a carbon atom, a silicon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom. Specifically, R 2 is represented by the formula:

【化10】 で示されるようなアルキレン基、式:Embedded image An alkylene group as shown by the formula:

【化11】 で示されるようなアリーレン基もしくはアラルキレン
基、式:
Embedded image An arylene group or an aralkylene group represented by the formula:

【化12】 で示されるようなエーテル結合含有炭化水素基もしくは
エーテル結合含有水酸基置換炭化水素基、式:
Embedded image An ether bond-containing hydrocarbon group or an ether bond-containing hydroxyl-substituted hydrocarbon group represented by the formula:

【化13】 で示されるようなカルボシロキシ基、式:Embedded image A carboxyloxy group as shown by the formula:

【化14】 で示されるようなシロキシ基の他、次式で示される基が
挙げられる。
Embedded image And a group represented by the following formula, in addition to a siloxy group represented by

【化15】 Yは、一般式:Embedded image Y is a general formula:

【化16】 またはEmbedded image Or

【化17】 で示されるアクリル基もしくはメタクリル基含有有機基
である。R5は水素原子もしくはメチル基であり、R6は水
素原子または炭素原子数1〜10のアルキル基もしくは
アリール基である。炭素原子数1〜10のアルキル基も
しくはアリール基としては、 R1と同様の基が例示され
る。このようなR2とYが結合したY-R2-としては、次式で
示される基が例示される。
Embedded image And an organic group containing an acryl group or a methacryl group. R 5 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 6 is a hydrogen atom or an alkyl group or an aryl group having 1 to 10 carbon atoms. As the alkyl group or the aryl group having 1 to 10 carbon atoms, the same groups as in R 1 are exemplified. Examples of such YR 2 — in which R 2 and Y are bonded include a group represented by the following formula.

【化18】 cは2〜3である。X1はi=1とした場合の次式で示される
シリルアルキル基である。
Embedded image c is 2-3. X 1 is a silylalkyl group represented by the following formula when i = 1.

【化19】 上式中、R3は炭素原子数2〜10のアルキレン基であ
り、エチレン基,プロピレン基,ブチレン基,ヘキシレ
ン基などの直鎖状アルキレン基;メチルメチレン基,メ
チルエチレン基,1−メチルペンチレン基、1,4−ジ
メチルブチレン基のような分岐状アルキレン基が例示さ
れる。この中でも、エチレン基,メチルメチレン基,ヘ
キシレン基,1−メチルペンチレン基、1,4−ジメチ
ルブチレン基が好ましい。R4は炭素原子数1〜10のア
ルキル基であり、メチル基,エチル基,プロピル基,ブ
チル基,ペンチル基,イソプロピル基,イソブチル基,
シクロペンチル基,シクロヘキシル基が例示される。こ
れらの中でも、メチル基が好ましい。R1は前記と同じで
ある。Xi+1は上記シリルアルキル基または脂肪族不飽和
結合を含まない炭素原子数1〜30の置換もしくは非置
換の一価炭化水素基である。脂肪族不飽和結合を含まな
い炭素原子数1〜30の置換炭化水素基としては、アル
コール性水酸基,フェノール性水酸基,アミノ基,カル
ボキシル基,ニトリル基,ハロゲン原子,環状もしくは
非環状のエーテル,カルボン酸エステルから選択される
ひとつまたは複数の基、原子または構造を含有する炭化
水素基が好ましい。具体的には、アルコール性水酸基含
有炭化水素基として3−ヒドロキシプロピル基,ヒドロ
キシメチル基,ヒドロキシエトキシプロピル基が例示さ
れ、フェノール性水酸基含有炭化水素基としてヒドロキ
シフェニル基,ヒドロキシフェニルプロピル基が例示さ
れ、アミノ基含有炭化水素基としてアミノプロピル基,
アミノメチル基,N−ブチルアミノプロピル基,N−シ
クロヘキシルアミノプロピル基,N,N−ジブチルアミ
ノプロピル基,N,N−ジブチルアミノメチル基が例示
され、カルボキシル基含有炭化水素基として3−カルボ
キシプロピル基,10−カルボキシデシル基が例示さ
れ、ニトリル基含有炭化水素基として2−シアノエチル
基,3−シアノプロピル基;ハロゲン原子含有炭化水素
基として3−クロロプロピル基,クロロメチル基,3,
3,3−トリフルオロプロピル基,p−クロロメチルフ
ェネチル基,ノナフルオロヘキシル基が例示され、環状
エーテル含有炭化水素基としてグリシドキシプロピル
基,5,6−オキシラニルブチル基,テトラヒドロフリ
ロキシプロピル基が例示され、非環状エーテル含有炭化
水素基としてメトキシエトキシプロピル基,ポリオキシ
エチレニルプロピル基,ポリオキシプロピレニルプロピ
ル基が例示され、カルボン酸エステル含有炭化水素基と
してアセトキシプロピル基,エトキシカルボニルプロピ
ル基が例示される。脂肪族不飽和結合を含まない非置換
の炭化水素基としては、メチル基,エチル基,プロピル
基,ブチル基,ペンチル基,イソプロピル基,イソブチ
ル基,シクロペンチル基,シクロヘキシル基などのアル
キル基;フェニル基,ナフチル基,トリル基,キシリル
基などのアリール基; ベンジル基,フェネチル基など
のアラルキル基が例示される。aiは0〜3であり、bi
0〜1であるが、(ai+bi)は3以下であることが必要
である。iは1〜10の整数であり、これは該シリルア
ルキル基の階層数、即ち、該シリルアルキル基の繰り返
し数を示している。従って、階層数が1である有機ケイ
素化合物は、一般式:
Embedded image In the above formula, R 3 is an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and a linear alkylene group such as ethylene group, propylene group, butylene group, hexylene group; methylmethylene group, methylethylene group, 1-methylpentene Examples include a branched alkylene group such as a len group and a 1,4-dimethylbutylene group. Among them, an ethylene group, a methylmethylene group, a hexylene group, a 1-methylpentylene group, and a 1,4-dimethylbutylene group are preferred. R 4 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, an isopropyl group, an isobutyl group,
Examples thereof include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Among these, a methyl group is preferred. R 1 is the same as described above. X i + 1 is a silylalkyl group or a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which does not contain an aliphatic unsaturated bond. Examples of the substituted hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms not containing an aliphatic unsaturated bond include an alcoholic hydroxyl group, a phenolic hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a nitrile group, a halogen atom, a cyclic or acyclic ether, and a carboxylic acid. Hydrocarbon groups containing one or more groups, atoms or structures selected from acid esters are preferred. Specifically, 3-hydroxypropyl group, hydroxymethyl group, hydroxyethoxypropyl group is exemplified as the alcoholic hydroxyl group-containing hydrocarbon group, and hydroxyphenyl group, hydroxyphenylpropyl group is exemplified as the phenolic hydroxyl group-containing hydrocarbon group. An aminopropyl group as an amino group-containing hydrocarbon group,
Examples include aminomethyl group, N-butylaminopropyl group, N-cyclohexylaminopropyl group, N, N-dibutylaminopropyl group, N, N-dibutylaminomethyl group, and 3-carboxypropyl as a carboxyl group-containing hydrocarbon group. And a 10-carboxydecyl group; a 2-cyanoethyl group and a 3-cyanopropyl group as a nitrile group-containing hydrocarbon group; a 3-chloropropyl group, a chloromethyl group and a 3,3 as a halogen atom-containing hydrocarbon group;
Examples thereof include 3,3-trifluoropropyl, p-chloromethylphenethyl and nonafluorohexyl, and glycidoxypropyl, 5,6-oxiranylbutyl, and tetrahydrofuryloxy as cyclic ether-containing hydrocarbon groups. Propyl group, and methoxyethoxypropyl, polyoxyethylenylpropyl, and polyoxypropylenylpropyl groups as non-cyclic ether-containing hydrocarbon groups, and acetoxypropyl group and ethoxy as carboxylic acid ester-containing hydrocarbon groups. An example is a carbonylpropyl group. Examples of the unsubstituted hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated bond include an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a cyclopentyl group and a cyclohexyl group; And aryl groups such as naphthyl group, tolyl group and xylyl group; and aralkyl groups such as benzyl group and phenethyl group. a i is 0 to 3 and b i is 0 to 1, but (a i + b i ) needs to be 3 or less. i is an integer of 1 to 10, which indicates the number of levels of the silylalkyl group, that is, the number of repetitions of the silylalkyl group. Accordingly, an organosilicon compound having one rank has the general formula:

【化20】 (式中、R1,R2,R3,R4,Yおよびcは前記と同じであ
り、R7は脂肪族不飽和結合を含まない炭素原子数1〜3
0の置換もしくは非置換の一価炭化水素基である。a1
0〜3であり、 b1は0〜1である。)で示される。階
層数が2である場合には、一般式:
Embedded image (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , Y and c are the same as described above, and R 7 has 1 to 3 carbon atoms not containing an aliphatic unsaturated bond.)
0 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group. a 1 is a 0~3, b 1 is 0-1. ). If the number of layers is 2, the general formula:

【化21】 (式中、R1,R2,R3,R4,R7,Yおよびcは前記と同じで
あり、a1およびa2は0〜3であり、b1およびb2は0〜1
であり、(a1+b1)は3未満である。)で示される。階
層数が3である場合には、一般式:
Embedded image (Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 7 , Y and c are the same as above, a 1 and a 2 are 0 to 3, b 1 and b 2 are 0 to 1
And (a 1 + b 1 ) is less than 3. ). If the number of layers is three, the general formula:

【化22】 (式中、R1,R2,R3,R4,R7,Yおよびcは前記と同じで
あり、a1,a2およびa3は0〜3であり、b1,b2およびb
3は0〜1であり、(a1+b1)と(a2+b2)はそれぞれ
3未満である。)で示される。
Embedded image (Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 7 , Y and c are the same as above, a 1 , a 2 and a 3 are 0 to 3, b 1 , b 2 and b
3 is 0 to 1 , and (a 1 + b 1 ) and (a 2 + b 2 ) are each less than 3. ).

【0007】このような有機ケイ素化合物として具体的
には、下記平均分子式で示される有機ケイ素化合物が例
示される。
Specific examples of such an organosilicon compound include an organosilicon compound represented by the following average molecular formula.

【化23】 Embedded image

【化24】 Embedded image

【化25】 Embedded image

【0008】本発明のデンドリマー構造含有重合体のも
うひとつの原料であるケイ素原子結合水素原子含有重合
体について説明する。本発明に使用されるケイ素原子結
合水素原子含有重合体は、1分子中に2個以上のケイ素
原子結合水素原子を含有し、上記有機ケイ素化合物とヒ
ドロシリル化反応して結合を形成するものである。この
ような重合体としては、ケイ素原子結合水素原子含有オ
ルガノポリシロキサン,ケイ素原子結合水素原子含有ポ
リオレフィン,ケイ素原子結合水素原子含有ポリアルキ
レンオキシド,ケイ素原子結合水素原子含有ポリエステ
ル,ケイ素原子結合水素原子含有ポリアミド,ケイ素原
子結合水素原子含有ポリイミド,ケイ素原子結合水素原
子末端置換デンドリマーが挙げられる。これらの中で
も、ケイ素原子結合水素原子含有オルガノポリシロキサ
ンまたはケイ素原子結合水素原子末端置換デンドリマー
が好ましい。
A polymer containing a silicon-bonded hydrogen atom, which is another raw material of the polymer having a dendrimer structure of the present invention, will be described. The polymer containing a silicon-bonded hydrogen atom used in the present invention contains two or more silicon-bonded hydrogen atoms in one molecule and forms a bond by a hydrosilylation reaction with the organosilicon compound. . Examples of such polymers include organopolysiloxane containing silicon-bonded hydrogen atoms, polyolefin containing silicon-bonded hydrogen atoms, polyalkylene oxide containing silicon-bonded hydrogen atoms, polyester containing silicon-bonded hydrogen atoms, and polyester containing silicon-bonded hydrogen atoms. Examples include polyamides, polyimides containing silicon-bonded hydrogen atoms, and dendrimers substituted with silicon-bonded hydrogen atoms. Among these, organopolysiloxanes containing silicon-bonded hydrogen atoms or dendrimers substituted with silicon-bonded hydrogen atoms are preferred.

【0009】ケイ素原子結合水素原子含有オルガノポリ
シロキサンとしては、線状、分岐状、環状のシロキサン
が挙げられる。このオルガノポリシロキサン中、水素原
子以外のケイ素原子に結合した有機基としては、メチル
基,エチル基,プロピル基,ブチル基,ペンチル基,イ
ソプロピル基,イソブチル基,シクロペンチル基,シク
ロヘキシル基などのアルキル基;フェニル基,ナフチル
基,トリル基,キシリル基などのアリール基; ベンジ
ル基,フェネチル基などのアラルキル基等の一価炭化水
素基が挙げられる。このようなオルガノポリシロキサン
としては、下記平均分子式で示されるシロキサンが例示
される。
Examples of the organopolysiloxane containing silicon-bonded hydrogen atoms include linear, branched and cyclic siloxanes. In this organopolysiloxane, an organic group bonded to a silicon atom other than a hydrogen atom includes an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. An aryl group such as a phenyl group, a naphthyl group, a tolyl group, and a xylyl group; and a monovalent hydrocarbon group such as an aralkyl group such as a benzyl group and a phenethyl group. As such an organopolysiloxane, a siloxane represented by the following average molecular formula is exemplified.

【化26】 Embedded image

【0010】ケイ素原子結合水素原子末端置換デンドリ
マーは、本発明のデンドリマー構造含有重合体を収束法
で合成する場合の核構造を構成する成分である。このデ
ンドリマーは、分岐末端すなわち最外殻にケイ素原子結
合水素原子を有する多分岐状の化合物であり、核構造や
世代数は特に限定されない。デンドリマーの骨格を構成
する結合単位としては、シロキサン,シルアルキレン,
アミン,アミド,エステル,エーテルが挙げられる。こ
れらの中でも、シロキサン単位とシルアルキレン単位か
ら構成されるカルボシロキサンデンドリマーであること
が好ましい。このようなデンドリマーとしては、下記式
で示される化合物が例示される。
[0010] The silicon-bonded hydrogen atom terminal-substituted dendrimer is a component constituting a core structure when the polymer containing a dendrimer structure of the present invention is synthesized by a convergent method. This dendrimer is a multi-branched compound having a silicon-bonded hydrogen atom at the branch end, that is, the outermost shell, and the core structure and the number of generations are not particularly limited. Bonding units constituting the dendrimer skeleton include siloxane, silalkylene,
Examples include amines, amides, esters, and ethers. Among these, a carbosiloxane dendrimer composed of a siloxane unit and a silalkylene unit is preferable. As such a dendrimer, a compound represented by the following formula is exemplified.

【化27】 Embedded image

【0011】本発明のデンドリマー構造含有重合体は、
上記したアクリル基もしくはメタクリル基を一分子中に
1個有する有機ケイ素化合物と、ケイ素原子結合水素原
子含有重合体とを、遷移金属ヒドロシリル化反応用触媒
の存在下で反応させることにより製造される。前記した
ように、アクリル基もしくはメタクリル基とケイ素原子
結合水素原子のヒドロシリル化反応は、炭素−炭素二重
結合だけでなく、炭素−酸素二重結合あるいは共役した
炭素−炭素結合および炭素−酸素二重結合の両端でも進
行するために炭素−炭素二重結合に対する反応だけを達
成するのは従来困難とされていたが、本発明では驚くべ
きことに、ヒドロシリル化反応が炭素−炭素二重結合で
のみ進行することが判明した。この理由は定かではない
が、デンドリマー構造の立体的嵩高さが影響しているも
のと考えられる。遷移金属ヒドロシリル化反応用触媒と
しては白金系遷移金属触媒が好ましく、塩化白金酸,ア
ルコール変性塩化白金酸,白金のオレフィン錯体,白金
のジケトナート錯体が例示される。本発明のデンドリマ
ー構造含有重合体の分子形状は特定されず、ケイ素原子
結合水素原子含有重合体の選択によって多種多様な形状
が可能である。例えば、デンドリマー部分を球状と見な
した場合に、線状重合体の片末端あるいは両末端に球体
が結合したもの、線状重合体の側鎖にいくつかの球体が
結合したもの、分岐重合体の任意の部分に球体が結合し
たもの、球状の核に球体が多数結合し、全体として大き
な球体を形成するものが挙げられる。またその数平均分
子量は、1,000〜100,0000の範囲であるこ
とが好ましく、2,000〜50,000の範囲である
ことがより好ましい。このような本発明のデンドリマー
構造含有重合体としては、下記式で示す重合体が例示さ
れる。
The polymer having a dendrimer structure of the present invention is
The above acrylic or methacrylic group in one molecule
It is produced by reacting one organosilicon compound and a polymer containing silicon-bonded hydrogen atoms in the presence of a catalyst for a transition metal hydrosilylation reaction. As described above, the hydrosilylation reaction between an acryl group or a methacryl group and a silicon-bonded hydrogen atom involves not only a carbon-carbon double bond but also a carbon-oxygen double bond or a conjugated carbon-carbon bond and a carbon-oxygen dibond. Although it has been conventionally difficult to achieve only the reaction for the carbon-carbon double bond because it proceeds at both ends of the heavy bond, the present invention surprisingly shows that the hydrosilylation reaction is carried out at the carbon-carbon double bond. Only found to progress. The reason for this is not clear, but it is considered that the steric bulkiness of the dendrimer structure has an effect. As the catalyst for the transition metal hydrosilylation reaction, a platinum-based transition metal catalyst is preferable, and examples thereof include chloroplatinic acid, alcohol-modified chloroplatinic acid, an olefin complex of platinum, and a diketonate complex of platinum. The molecular shape of the polymer having a dendrimer structure of the present invention is not specified, and a wide variety of shapes can be obtained by selecting the polymer having a silicon-bonded hydrogen atom. For example, assuming that the dendrimer portion is spherical, a linear polymer having spheres bonded to one or both ends, a linear polymer having several spheres bonded to its side chain, or a branched polymer And spheres bonded to an arbitrary portion of the sphere, and a large sphere formed as a whole by bonding a large number of spheres to a spherical nucleus. The number average molecular weight is preferably in the range of 1,000 to 100,000, and more preferably in the range of 2,000 to 50,000. Examples of such a polymer having a dendrimer structure of the present invention include a polymer represented by the following formula.

【化28】 Embedded image

【化29】 Embedded image

【化30】 Embedded image

【0012】以上のような本発明のデンドリマー構造含
有重合体は、高分岐構造を部分的あるいは分子全体に有
するにもかかわらず、ゲル化することなく低粘度を維持
するという特徴を有する。特に、デンドリマー構造表面
に反応性官能基を有する場合、即ち、Xi+1が各種反応性
基で置換された基である場合には、それらの反応性が非
常に高く、種々の高分子材料の粘弾性改良剤や架橋剤な
どとして有用であるという利点を有する。さらに本発明
のデンドリマー構造含有重合体は、デンドリマーの特性
を発揮するのに十分な分子量のデンドリマー構造体を使
用して1段階で製造することができる。従ってこの方法
によれば、線状重合体の任意の部位にデンドリマー構造
を有する新規な特殊構造の重合体や、2世代以上の世代
拡大された新規なデンドリマーを1段階で製造できると
いう利点を有する。特に、このような収束法におけるデ
ンドリマーの世代増大反応は、各種高分子化合物の特定
部位にデンドリマー構造を導入する場合にも応用できる
可能性があるので、様々なデンドリマー構造含有重合体
の合成が期待される。
The polymer having a dendrimer structure of the present invention as described above has a characteristic that it maintains a low viscosity without gelling, despite having a highly branched structure partially or in the whole molecule. In particular, when the dendrimer structure has a reactive functional group on its surface, that is, when X i + 1 is a group substituted with various reactive groups, their reactivity is very high, and various polymer materials are used. Is useful as a viscoelasticity improver or a crosslinking agent. Furthermore, the polymer having a dendrimer structure of the present invention can be produced in one step using a dendrimer structure having a molecular weight sufficient to exhibit the properties of a dendrimer. Therefore, according to this method, there is an advantage that a polymer having a new special structure having a dendrimer structure at an arbitrary site of a linear polymer or a new dendrimer having two or more generations expanded can be produced in one step. . In particular, the reaction to increase the generation of dendrimers in such a convergent method may be applicable to the case where a dendrimer structure is introduced into a specific site of various polymer compounds. Therefore, it is expected that various dendrimer structure-containing polymers are synthesized. Is done.

【0013】[0013]

【実施例】以下、本発明を実施例により説明する。The present invention will be described below with reference to examples.

【0014】[0014]

【実施例1】攪拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロー
トをつけた200mlの4つ口フラスコに、式:
Example 1 A 200-ml four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a dropping funnel was charged with the following formula:

【化31】 で示される有機ケイ素化合物 27.0gと白金ジビニ
ルテトラメチルジシロキサン錯体のジビニルヘキサメチ
ルジシロキサン溶液(白金濃度4重量%)7.5mgを
仕込み、これらを攪拌しながら140℃まで加熱した。
次いでこれに、平均式:
Embedded image Was charged and 7.5 mg of a divinylhexamethyldisiloxane solution of platinum divinyltetramethyldisiloxane complex (platinum concentration: 4% by weight) was heated to 140 ° C. while stirring.
This is then added to the average formula:

【化32】 で示される両末端ケイ素原子結合水素原子含有ポリジメ
チルシロキサン30.3gを30分間かけて滴下した。
滴下終了後、反応溶液を140℃で2時間加熱した。冷
却後、57.3gの微褐色透明液体が得られた。この液
体を核磁気共鳴分析により分析したところ、得られた反
応生成物は、下記の平均分子式で示されるデンドリマー
構造含有ジメチルポリシロキサンであることが判明し
た。またこのデンドリマー構造含有ジメチルポリシロキ
サンは、ゲル透過クロマトグラフィーによるポリスチレ
ン換算数平均分子量が4330であり、分散度指数が
1.46であることが確認された。
Embedded image Was added dropwise over 30 minutes.
After completion of the dropwise addition, the reaction solution was heated at 140 ° C. for 2 hours. After cooling, 57.3 g of a light brown transparent liquid was obtained. When this liquid was analyzed by nuclear magnetic resonance analysis, it was found that the obtained reaction product was a dimethylpolysiloxane having a dendrimer structure represented by the following average molecular formula. It was also confirmed that the dendrimer structure-containing dimethylpolysiloxane had a number average molecular weight in terms of polystyrene of 4330 as determined by gel permeation chromatography and a dispersity index of 1.46.

【化33】 Embedded image

【0015】[0015]

【実施例2】攪拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロー
トをつけた100mlの4つ口フラスコに、式:
Example 2 In a 100 ml four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a dropping funnel, the formula:

【化34】 で示される有機ケイ素化合物19.0gと白金ジビニル
テトラメチルジシロキサン錯体のジビニルヘキサメチル
ジシロキサン溶液(白金濃度4重量%)6.3mgを仕
込み、これらを攪拌しながら140℃まで加熱した。次
いでこれに、平均式:
Embedded image Was charged and 6.3 mg of a divinylhexamethyldisiloxane solution of a platinum divinyltetramethyldisiloxane complex (platinum concentration: 4% by weight) was heated to 140 ° C. with stirring. This is then added to the average formula:

【化35】 で示される両末端ケイ素原子結合水素原子含有ポリジメ
チルシロキサン30.3gを30分間かけて滴下した。
滴下終了後、反応溶液を140℃で2時間加熱した。冷
却後、49.3gの微褐色透明液体が得られた。この液
体を核磁気共鳴分析により分析したところ、得られた反
応生成物は、下記の平均分子式で示されるデンドリマー
構造含有ジメチルポリシロキサンであることが判明し
た。またこのデンドリマー構造含有ジメチルポリシロキ
サンは、ゲル透過クロマトグラフィーによるポリスチレ
ン換算数平均分子量が3925であり、分散度指数が
1.44であることが確認された。
Embedded image Was added dropwise over 30 minutes.
After completion of the dropwise addition, the reaction solution was heated at 140 ° C. for 2 hours. After cooling, 49.3 g of a light brown transparent liquid was obtained. When this liquid was analyzed by nuclear magnetic resonance analysis, it was found that the obtained reaction product was a dimethylpolysiloxane having a dendrimer structure represented by the following average molecular formula. In addition, it was confirmed that the dendrimer structure-containing dimethylpolysiloxane had a number average molecular weight in terms of polystyrene of 3925 as determined by gel permeation chromatography and a dispersity index of 1.44.

【化36】 Embedded image

【0016】[0016]

【実施例3】攪拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロー
トをつけた200mlの4つ口フラスコに、式:
Example 3 A 200-ml four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a dropping funnel was charged with the following formula:

【化37】 で示される有機ケイ素化合物 20.2gと白金ジビニ
ルテトラメチルジシロキサン錯体のジビニルヘキサメチ
ルジシロキサン溶液(白金濃度4重量%)7.5mgを
仕込み、これらを攪拌しながら140℃まで加熱した。
次いでこれに、平均式:
Embedded image Was charged and 7.5 mg of a divinylhexamethyldisiloxane solution of a platinum divinyltetramethyldisiloxane complex (platinum concentration: 4% by weight) was heated to 140 ° C. while stirring.
This is then added to the average formula:

【化38】 で示されるケイ素原子結合水素原子含有ポリジオルガノ
シロキサン2.6gを10分間かけて滴下した。滴下終
了後、反応溶液を140℃で2時間加熱した。冷却後、
22.8gの微褐色透明液体が得られた。この液体を核
磁気共鳴分析により分析したところ、得られた反応生成
物は、下記の平均分子式で示されるデンドリマー構造含
有シロキサンであることが判明した。またこのデンドリ
マー構造含有シロキサンは、ゲル透過クロマトグラフィ
ーによるポリスチレン換算数平均分子量が5312であ
り、分散度指数が1.23であることが確認された。
Embedded image 2.6 g of a silicon-bonded hydrogen atom-containing polydiorganosiloxane represented by the formula below was added dropwise over 10 minutes. After completion of the dropwise addition, the reaction solution was heated at 140 ° C. for 2 hours. After cooling,
22.8 g of a light brown transparent liquid were obtained. When this liquid was analyzed by nuclear magnetic resonance analysis, the obtained reaction product was found to be a siloxane having a dendrimer structure represented by the following average molecular formula. In addition, it was confirmed that the dendrimer structure-containing siloxane had a number average molecular weight in terms of polystyrene of 5312 by gel permeation chromatography and a dispersity index of 1.23.

【化39】 Embedded image

【0017】[0017]

【実施例4】攪拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロー
トをつけた200mlの4つ口フラスコに、式:
Example 4 A 200-ml four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a dropping funnel was charged with the formula:

【化40】 で示される有機ケイ素化合物 21.0gと白金ジビニ
ルテトラメチルジシロキサン錯体のジビニルヘキサメチ
ルジシロキサン溶液(白金濃度4重量%)7.5mgを
仕込み、これらを攪拌しながら140℃まで加熱した。
次いでこれに、平均式:
Embedded image Was charged and 7.5 mg of a divinylhexamethyldisiloxane solution of a platinum divinyltetramethyldisiloxane complex (platinum concentration: 4% by weight) was heated to 140 ° C. while stirring.
This is then added to the average formula:

【化41】 で示されるケイ素原子結合水素原子末端置換カルボシロ
キサンデンドリマー0.97gを5分間かけて滴下し
た。滴下終了後、反応溶液を140℃で2時間加熱し
た。冷却後、22.0gの微褐色透明液体が得られた。
この液体を核磁気共鳴分析により分析したところ、得ら
れた反応生成物は、下記の平均分子式で示されるカルボ
シロキサンデンドリマーであることが判明した。またこ
のカルボシロキサンデンドリマーは、ゲル透過クロマト
グラフィーによるポリスチレン換算数平均分子量が92
30であり、分散度指数が1.08であることが確認さ
れた。
Embedded image Was added dropwise over 5 minutes over a period of 5 minutes. After completion of the dropwise addition, the reaction solution was heated at 140 ° C. for 2 hours. After cooling, 22.0 g of a light brown transparent liquid was obtained.
When this liquid was analyzed by nuclear magnetic resonance analysis, it was found that the obtained reaction product was a carbosiloxane dendrimer represented by the following average molecular formula. The carbosiloxane dendrimer has a number average molecular weight in terms of polystyrene of 92 by gel permeation chromatography.
30, and the dispersity index was confirmed to be 1.08.

【化42】 Embedded image

【0018】[0018]

【発明の効果】本発明のデンドリマー構造含有重合体
は、アクリル基もしくはメタクリル基と特定のデンドリ
マー構造を有する有機ケイ素化合物と、ケイ素原子結合
水素原子含有重合体とを、ヒドロシリル化反応させて得
られる新規な重合体であるという特徴を有する。
The polymer having a dendrimer structure of the present invention can be obtained by subjecting an organosilicon compound having an acrylic or methacrylic group and a specific dendrimer structure to a polymer containing a silicon-bonded hydrogen atom by a hydrosilylation reaction. It has the characteristic of being a novel polymer.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08G 73/10 C08G 73/10 4J100 (72)発明者 小野寺 哲 千葉県市原市千種海岸2番2 東レ・ダウ コーニング・シリコーン株式会社研究開発 本部内 Fターム(参考) 4J001 DA01 DD20 GE07 4J005 AA02 BD08 4J029 AA01 AB02 KH01 4J035 BA04 CA02U CA021 CA10M CA101 FB01 FB03 FB10 GA01 GA03 GA06 GA08 GA10 HA01 4J043 PA02 PB19 YB19 YB40 4J100 AA00P BA15H BA75H CA01 CA27 CA31 HA35 HA61 HC80Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI Theme coat II (Reference) C08G 73/10 C08G 73/10 4J100 (72) Inventor Satoshi Onodera 2-2 Chikusa Kaigan, Ichihara-shi, Chiba Dow Corning Toray F-term in Silicone Corporation R & D Headquarters (reference) HA35 HA61 HC80

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式: 【化1】 {式中、R1は炭素原子数1〜10のアルキル基もしくは
アリール基であり、R2は二価有機基であり、cは2〜3
であり、X1はi=1とした場合の次式で示されるシリルア
ルキル基である。 【化2】 (式中、R1は前記と同じであり、R3は炭素原子数2〜1
0のアルキレン基であり、R4は炭素原子数1〜10のア
ルキル基であり、Xi+1は上記シリルアルキル基または脂
肪族不飽和結合を含まない炭素原子数1〜30の置換も
しくは非置換の一価炭化水素基である。iは該シリルア
ルキル基の階層を示している1〜10の整数であり、ai
は0〜3であり、biは0〜1である。)Yは、一般式: 【化3】 または 【化4】 (式中、R5は水素原子もしくはメチル基であり、R6は水
素原子または炭素原子数1〜10のアルキル基もしくは
アリール基である。)で示される基である。}で示され
る有機ケイ素化合物と、ケイ素原子結合水素原子含有重
合体を、遷移金属ヒドロシリル化反応用触媒存在下で反
応させて得られるデンドリマー構造含有重合体。
1. A compound of the general formula: In the formula, R 1 is an alkyl group or an aryl group having 1 to 10 carbon atoms, R 2 is a divalent organic group, and c is 2 to 3
And X 1 is a silylalkyl group represented by the following formula when i = 1. Embedded image (Wherein, R 1 is the same as described above, and R 3 has 2 to 1 carbon atoms.
0 is an alkylene group, R 4 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and X i + 1 is a substituted or unsubstituted 1 to 30 carbon atom containing no silylalkyl group or aliphatic unsaturated bond. It is a substituted monovalent hydrocarbon group. i is an integer of 1 to 10 indicating the hierarchy of the silylalkyl group ;
It is 0~3, b i is 0-1. ) Y is a general formula: Or (In the formula, R 5 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 6 is a hydrogen atom or an alkyl group or an aryl group having 1 to 10 carbon atoms.) A dendrimer structure-containing polymer obtained by reacting the organosilicon compound represented by} with a silicon-bonded hydrogen atom-containing polymer in the presence of a transition metal hydrosilylation reaction catalyst.
【請求項2】 ケイ素原子結合水素原子含有重合体が、
ケイ素原子結合水素原子含有オルガノポリシロキサン,
ケイ素原子結合水素原子末端置換デンドリマー,ケイ素
原子結合水素原子含有ポリオレフィン,ケイ素原子結合
水素原子含有ポリアルキレンオキシド,ケイ素原子結合
水素原子含有ポリエステル,ケイ素原子結合水素原子含
有ポリアミドおよびケイ素原子結合水素原子含有ポリイ
ミドからなる群から選択される重合体である、請求項1
に記載のデンドリマー構造含有重合体。
2. A polymer containing a silicon atom-bonded hydrogen atom,
Organopolysiloxane containing silicon-bonded hydrogen atoms,
Silicon atom-bonded hydrogen atom terminal substituted dendrimer, Silicon atom-bonded hydrogen atom-containing polyolefin, Silicon atom-bonded hydrogen atom-containing polyalkylene oxide, Silicon atom-bonded hydrogen atom-containing polyester, Silicon atom-bonded hydrogen atom-containing polyamide and Silicon atom-bonded hydrogen atom-containing polyimide 2. A polymer selected from the group consisting of:
4. The polymer having a dendrimer structure according to 1.).
【請求項3】 ケイ素原子結合水素原子含有重合体が、
ケイ素原子結合水素原子含有オルガノポリシロキサンま
たはケイ素原子結合水素原子末端置換デンドリマーであ
る請求項1に記載のデンドリマー構造含有重合体。
3. A polymer containing a silicon atom-bonded hydrogen atom,
The dendrimer structure-containing polymer according to claim 1, which is a silicon-bonded hydrogen atom-containing organopolysiloxane or a silicon-bonded hydrogen atom terminal-substituted dendrimer.
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