JP2001281223A - Apparatus and method for plasma ion source mass spectrometric analysis - Google Patents
Apparatus and method for plasma ion source mass spectrometric analysisInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、試料をプラズマ中
でイオン化して元素分析を行うプラズマイオン源質量分
析装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma ion source mass spectrometer for performing elemental analysis by ionizing a sample in plasma.
【0002】[0002]
【従来の技術】環境水中の微量金属の測定は、近年の環
境問題の多発化を受けて注目されている。測定対象とな
る環境水として、例えば海水があるが、海水中には微量
金属以外に大量の塩の成分(Na,Ca,Mg,K等)
が含有されており、測定する際には、これらの塩の成分
を除去しなければならない。2. Description of the Related Art The measurement of trace metals in environmental water has attracted attention due to the recent frequent occurrence of environmental problems. There is, for example, seawater as an environmental water to be measured. In seawater, a large amount of salt components (Na, Ca, Mg, K, etc.) other than trace metals.
When measuring, the components of these salts must be removed.
【0003】従来、このような測定対象となる元素以外
の他の元素が多量に含まれる場合、フローインジェクシ
ョン(FIA)や、溶媒抽出,共沈などの前処理を行
い、試料中の高濃度元素除去や目的元素の濃縮などの処
理を行った後に、原子吸光光度計やICP発光分析装置
などで前処理の結果を確認し、その後に誘導結合プラズ
マ(ICP)やマイクロ波誘導プラズマ(MIP)など
を用いたプラズマイオン源質量分析装置によって微量金
属元素の測定を行っていた。Conventionally, when a large amount of elements other than the element to be measured are contained, pretreatment such as flow injection (FIA), solvent extraction, and coprecipitation is performed to obtain a high concentration element in a sample. After performing processes such as removal and concentration of the target element, confirm the results of the pretreatment with an atomic absorption spectrometer or ICP emission spectrometer, and then use inductively coupled plasma (ICP) or microwave induced plasma (MIP). The trace metal element was measured by the plasma ion source mass spectrometer using the TEM.
【0004】このプラズマイオン源質量分析装置は、n
g/Lオーダーの高感度測定を行うことができ、かつ多
元素の迅速測定が可能な分析装置である。ただしプラズ
マイオン源質量分析装置は高感度・高精度であるがゆえ
に、高濃度元素の測定に関しては適していない。[0004] This plasma ion source mass spectrometer has an n
The analyzer is capable of performing high-sensitivity measurement on the order of g / L and capable of rapid measurement of multiple elements. However, since the plasma ion source mass spectrometer has high sensitivity and high accuracy, it is not suitable for measurement of high concentration elements.
【0005】特に、高濃度の元素(特に、塩)が導入さ
れるとサンプリングコーンの詰まり、検知器の劣化など
の影響が出る。更には、感度の低下が起こり、データの
信頼性が落ちる。よってFIAなどの前処理装置による
高濃度元素の除去(脱塩)の処理が必須である。そして
この前処理装置による高濃度元素の除去が確実に行われ
ることが、サンプリングコーンの詰まり、検知器の劣化
などを防ぐためには重要である。In particular, when a high concentration of an element (particularly salt) is introduced, the sampling cone is clogged and the detector is deteriorated. Further, the sensitivity is reduced, and the reliability of the data is reduced. Therefore, it is essential to remove (desalinate) high-concentration elements using a pretreatment device such as FIA. It is important that the high-concentration elements be reliably removed by the pretreatment device in order to prevent clogging of the sampling cone, deterioration of the detector, and the like.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】従来の技術では、測定
試料が例えば海水の場合、μg/L,ng/L程度の低
濃度の金属元素を測定対象としたときに、塩類が数百m
g/L程の高濃度で含まれているため、上述したように
プラズマイオン源質量分析装置で直接測定を行うことは
困難であった。したがって、余計な塩類の除去や測定対
象元素の濃縮などの前処理は必須である。In the prior art, when a sample to be measured is, for example, seawater, when a metal element having a low concentration of about μg / L or ng / L is measured, a salt of several hundreds of meters is required.
Since it is contained at a concentration as high as about g / L, it has been difficult to directly measure with a plasma ion source mass spectrometer as described above. Therefore, pretreatment such as removal of unnecessary salts and concentration of the element to be measured is indispensable.
【0007】また更に、前処理の信頼性を確保するた
め、前処理を行った試料をプラズマイオン源質量分析装
置に導入する前に他の分析装置(原子吸光光度計,IC
P発光分析装置など)で塩の成分(Na,Ca,Mg,
K)の測定を行い、脱塩等の前処理が正確に行われた事
を確認した後に、プラズマイオン源質量分析装置に導入
して目的微量金属を測定する、という二度手間が必要で
あった。このような操作は、煩雑で手間がかかる、時間
がかかるという問題が生じ、さらに手間がかかる分、誤
操作を招く要因を増加させてしまうという危険もある。Further, in order to ensure the reliability of the pre-treatment, before introducing the pre-treated sample into the plasma ion source mass spectrometer, another analysis device (atomic absorption spectrometer, IC
P components such as Na, Ca, Mg,
K) is measured, and after confirming that pretreatment such as desalination has been performed accurately, it is necessary to perform the work twice, that is, the sample is introduced into a plasma ion source mass spectrometer to measure the target trace metal. Was. Such an operation has a problem that it is complicated, time-consuming, and time-consuming, and there is a danger that the time-consuming operation may increase the number of factors that cause an erroneous operation.
【0008】本発明の目的は、前処理の結果を他の分析
装置で確認することを必要とせずに、試料を直接プラズ
マイオン源質量分析装置に導入し、測定対象元素と同時
に他の共存元素が含まれる場合でも安全に測定を行える
プラズマイオン源質量分析装置を提供することにある。[0008] An object of the present invention is to introduce a sample directly into a plasma ion source mass spectrometer without having to confirm the result of the pretreatment with another analyzer, and simultaneously with the element to be measured, other coexisting elements. It is an object of the present invention to provide a plasma ion source mass spectrometer capable of safely performing a measurement even when the measurement is included.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的を達成
するための特徴は、複数の元素が混在する試料をプラズ
マによってイオン化し、イオントラップ機能を備えた質
量分析計で測定を行うプラズマイオン源質量分析装置に
おいて、測定者が指定した複数の元素のそれぞれについ
て、定量分析または定性分析、或いは予め記憶された検
量線を基に半定量分析を行うことである。A feature of the present invention to achieve the above object is that a sample in which a plurality of elements are mixed is ionized by plasma and the measurement is performed by a mass spectrometer having an ion trap function. In the source mass spectrometer, quantitative analysis or qualitative analysis or semi-quantitative analysis is performed on each of a plurality of elements specified by a measurer based on a calibration curve stored in advance.
【0010】即ち、本来測定したい目的元素以外の元素
を含むと思われる試料を測定する際に、試料中の目的元
素を従来通りの定量分析或いは定性分析を行うと同時
に、目的外元素を半定量分析するという、1試料で2つ
の測定動作を行うことができるものである。That is, when measuring a sample which is thought to contain an element other than the target element to be measured, a conventional quantitative or qualitative analysis of the target element in the sample is performed, and a non-target element is semi-quantified. The analysis can perform two measurement operations with one sample.
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を実
施例に基づいて図面と共に説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings based on embodiments.
【0012】図1は、本発明を適用するためのプラズマ
イオン源質量分析装置の全体構成を示すブロック図であ
る。FIG. 1 is a block diagram showing the overall configuration of a plasma ion source mass spectrometer to which the present invention is applied.
【0013】図1に示すように、本発明のプラズマイオ
ン源質量分析装置は、主として、試料を霧化するための
試料導入部11,前記試料導入部から導入された試料を
イオン化するためのプラズマ23を発生させるプラズマ
室12,プラズマ23を生成するための高周波電源部1
3,プラズマ室12でイオン化された試料の測定を行う
質量分析部18,装置全体の制御と測定結果から定量・
定性演算等を行うデータ処理装置17とからなる。As shown in FIG. 1, a plasma ion source mass spectrometer according to the present invention mainly includes a sample introduction section 11 for atomizing a sample and a plasma for ionizing a sample introduced from the sample introduction section. Plasma chamber 12 for generating plasma 23, high frequency power supply 1 for generating plasma 23
3, a mass spectrometer 18 for measuring the ionized sample in the plasma chamber 12, control of the entire apparatus and quantitative determination based on the measurement results.
And a data processing device 17 for performing qualitative calculations and the like.
【0014】更に、プラズマ室12は、石英からなるプ
ラズマトーチ21と、プラズマトーチ21の外周に巻か
れる高周波誘導コイル22とからなり、高周波誘導コイ
ル22には、高周波電源部13から高周波(RF出力)
が印加される。また、質量分析部18は、イオンを効率
よく質量分析部に導入するためのイオン光学系14,イ
オンを質量数ごとに分離するためのイオントラップ部1
5,イオントラップ部15から取り出された信号を検出
するイオン検出部16とで構成されている。図2に、イ
オントラップ部15の構造を示す。イオントラップ部1
5は、回転双曲面のリング電極5と、それを挟む一対の
エンドキャップ電極6から成る。これらの電極に高周波
電圧と直流電圧を印加することで三次元四重極空間を形
成し、イオンをこの空間に閉じ込めることが出来る。Further, the plasma chamber 12 includes a plasma torch 21 made of quartz and a high-frequency induction coil 22 wound around the outer periphery of the plasma torch 21. )
Is applied. The mass spectrometer 18 includes an ion optical system 14 for efficiently introducing ions into the mass spectrometer, and an ion trap unit 1 for separating ions for each mass number.
5, and an ion detector 16 for detecting a signal extracted from the ion trap 15. FIG. 2 shows the structure of the ion trap section 15. Ion trap part 1
Numeral 5 includes a ring electrode 5 having a hyperboloid of revolution and a pair of end cap electrodes 6 sandwiching the ring electrode 5. By applying a high-frequency voltage and a DC voltage to these electrodes, a three-dimensional quadrupole space is formed, and ions can be confined in this space.
【0015】測定を行う場合には、プラズマ23によっ
て生成されたイオンをこの空間に閉じ込め、そこで各電
極に高周波電圧が印加され、ある質量数を持つイオンの
みを一定時間閉じ込める。具体的には、図3に示すよう
に、期間31においてリング電極5に所定の振幅を有す
る高周波電圧を印加する。これにより印加された振幅に
対応する質量数以上のイオンがトラップされる。また同
時に、エンドキャップ電極6にFNF(Filtered Noise
Field)信号を印加して、特定の質量数以外のイオンを
三次元四重極空間から除去する。FNF信号は、図4に
示されるように、トラップするイオンに対応する固有周
波数f0 以外の周波数成分を印加する信号である。When measurement is performed, ions generated by the plasma 23 are confined in this space, and a high-frequency voltage is applied to each electrode there, and only ions having a certain mass number are confined for a certain time. Specifically, as shown in FIG. 3, a high-frequency voltage having a predetermined amplitude is applied to the ring electrode 5 during the period 31. As a result, ions having a mass number or more corresponding to the applied amplitude are trapped. At the same time, FNF (Filtered Noise) is applied to the end cap electrode 6.
Field) signal is applied to remove ions other than a specific mass number from the three-dimensional quadrupole space. As shown in FIG. 4, the FNF signal is a signal for applying a frequency component other than the natural frequency f 0 corresponding to the ions to be trapped.
【0016】上記期間31により、特定の質量数のイオ
ンをトラップすると、次に、期間32でリング電極5に
印加する振幅を増加させることで、三次元四重極空間に
トラップしていたイオンを排出する。この排出されたイ
オンをイオン検出部16で検出することにより、特定の
質量数のイオンを測定することが出来る。When ions having a specific mass number are trapped during the period 31, the ions applied to the three-dimensional quadrupole space are increased by increasing the amplitude applied to the ring electrode 5 during the period 32. Discharge. By detecting the ejected ions by the ion detector 16, ions having a specific mass number can be measured.
【0017】このイオントラップ部15は、上述のよう
に特定の質量数のイオンをある一定量閉じ込める事がで
きる。イオン閉じ込め時間、即ち、図3の期間31を調
節することで閉じ込める量、つまり感度を調節すること
ができる。The ion trap section 15 can confine a certain amount of ions having a specific mass number as described above. The amount of confinement, that is, sensitivity, can be adjusted by adjusting the ion confinement time, that is, the period 31 in FIG.
【0018】本発明においては、上記イオントラップ部
15の機能を応用し、1サンプルの測定で、期間31と
32の状態を繰り返し、複数の元素について測定を行
う。つまり、元素毎に閉じ込めては測定を行い、閉じ込
めては測定を行いという動作を繰り返す。この時、元素
別に閉じ込め時間(期間31)を元素濃度に適した時間
に変えることが可能である。In the present invention, by applying the function of the ion trap section 15, the state of the periods 31 and 32 is repeated and the measurement of a plurality of elements is performed by measuring one sample. In other words, the operation of confining each element and performing measurement, and then confining and performing measurement is repeated. At this time, it is possible to change the confinement time (period 31) for each element to a time suitable for the element concentration.
【0019】つまり、海水中のNa,Ca,Mg,Kの
ような高濃度元素については閉じ込め時間を小さく、微
量元素については感度を稼ぐ為に閉じ込め時間を大きく
して測定を行うことで、高濃度元素と低濃度元素が混在
した試料でも同時に測定を行うことが出来る。That is, by measuring the confinement time for high-concentration elements such as Na, Ca, Mg and K in seawater, and increasing the confinement time for trace elements in order to increase the sensitivity, measurement is made possible. Measurement can be performed simultaneously on a sample in which the concentration element and the low concentration element are mixed.
【0020】本発明の分析工程のフローチャートを図1
1に示す。以下フローチャートにそって説明する。FIG. 1 is a flowchart of the analysis process of the present invention.
It is shown in FIG. Hereinafter, description will be given along a flowchart.
【0021】100;プラズマイオン源質量分析装置
(以下、ICP−MSという)の測定条件を設定する。
測定条件の設定100では、ステップ101〜105の
各設定を行う。100: Measurement conditions of a plasma ion source mass spectrometer (hereinafter referred to as ICP-MS) are set.
In the setting 100 of the measurement condition, each setting of steps 101 to 105 is performed.
【0022】101:まず、ICP−MSの測定モード
として、「定性分析」「定量分析」の何れかを選択す
る。101: First, one of "qualitative analysis" and "quantitative analysis" is selected as a measurement mode of ICP-MS.
【0023】102:次に、「マトリクス元素濃度診断
測定」を選択する。ここで、マトリクス元素とは、測定
対象となる元素以外に含まれる元素のことを言う。即
ち、測定対象元素以外の元素が含まれているかもしれな
いと想定される場合に、このモードを選択する。102: Next, "matrix element concentration diagnostic measurement" is selected. Here, the matrix element refers to an element contained in addition to the element to be measured. That is, this mode is selected when it is assumed that an element other than the element to be measured may be contained.
【0024】このモードを選択しない場合は、通常の定
量又は定性分析を行う。When this mode is not selected, ordinary quantitative or qualitative analysis is performed.
【0025】103:測定対象元素とマトリクス元素の
設定を行う。この設定は、周期律表を制御部17のモニ
タ画面上に表示し、この周期律表から選択することで行
われる。103: Set the element to be measured and the matrix element. This setting is performed by displaying the periodic table on the monitor screen of the control unit 17 and selecting from the periodic table.
【0026】図6に設定画面例を示す。[測定元素]8
をクリックした後に元素名をクリックすると、測定対象
の元素と認識され、同様に[マトリクス元素]7をクリ
ックした後に元素名をクリックすると、選択された元素
がマトリクス元素として認識される。この際、測定対象
元素とマトリクス元素は、表示色や網掛け模様を異なら
せることで区別できるように表示する。FIG. 6 shows an example of a setting screen. [Measurement element] 8
If you click on the element name after clicking, the element is recognized as the element to be measured. Similarly, if you click on the [matrix element] 7 and then click on the element name, the selected element is recognized as a matrix element. At this time, the element to be measured and the matrix element are displayed so that they can be distinguished from each other by differentiating display colors and hatching patterns.
【0027】また更に、周期律表の下部に、認識された
測定対象元素とマトリクス元素を示す表示領域9が表示
される。Further, a display area 9 indicating the recognized element to be measured and the matrix element is displayed below the periodic table.
【0028】104:ステップ103で指定した元素毎
の「イオン閉じ込め時間」の設定を行う。即ち、図3の
期間31を元素毎に設定する。104: Set the "ion confinement time" for each element specified in step 103. That is, the period 31 in FIG. 3 is set for each element.
【0029】図7に「イオン閉じ込め時間」設定画面例
を示す。設定画面は、「測定元素設定枠」10と「マト
リクス元素設定枠」11からなる。FIG. 7 shows an example of a screen for setting the “ion confinement time”. The setting screen includes a “measurement element setting frame” 10 and a “matrix element setting frame” 11.
【0030】「マトリクス元素」については、「イオン
閉じ込め時間=10msec 」と固定にされている。これ
は、半定量を一定条件で行うためである。データ処理装
置17には、予め、周期律表に示された各元素につい
て、イオン閉じ込め時間10msec 時における既知検量
線が格納されている。図5に既知検量線の例を示す。図
5(a)は、Agの既知検量線、図5(b)は、Naの
既知検量線の例である。The "matrix element" is fixed at "ion confinement time = 10 msec". This is because semi-quantitative determination is performed under certain conditions. The data processing device 17 stores in advance a known calibration curve at an ion confinement time of 10 msec for each element shown in the periodic table. FIG. 5 shows an example of the known calibration curve. FIG. 5A is an example of a known calibration curve of Ag, and FIG. 5B is an example of a known calibration curve of Na.
【0031】他のイオン閉じ込め時間の既知検量線が格
納されている場合には、特定の既知検量線を測定者が選
択可能である。この場合には、「マトリクス元素設定
枠」11に示されるイオン閉じ込め時間が、測定者の選
択した既知検量線に該当する時間に自動的に変更され
る。When a known calibration curve of another ion confinement time is stored, a specific known calibration curve can be selected by the operator. In this case, the ion confinement time indicated in the “matrix element setting frame” 11 is automatically changed to a time corresponding to the known calibration curve selected by the operator.
【0032】対して「測定元素」については、測定者が
「測定元素設定枠」10の数値を元素毎に設定する。基
本的には、測定元素の濃度が低い場合には閉じ込め時間
を長く、濃度が比較的高いと思われる場合には、閉じ込
め時間を短めに設定する。On the other hand, for the "measuring element", the measurer sets the numerical value of the "measuring element setting frame" 10 for each element. Basically, if the concentration of the element to be measured is low, the confinement time is set long, and if the concentration is considered to be relatively high, the confinement time is set short.
【0033】ここで設定する「イオン閉じ込め時間」の
違いで高濃度のマトリクス元素と低濃度の測定元素を同
時に測定する事が可能となる。It is possible to simultaneously measure a high-concentration matrix element and a low-concentration measurement element by changing the “ion confinement time” set here.
【0034】105:その他、測定に必要な諸条件を適
宜設定する。105: Other various conditions necessary for the measurement are appropriately set.
【0035】以上のステップ101−105が、1試料
に対する条件設定である。他に測定する試料が存在する
ときは、この条件設定を繰り返す。データ処理装置17
には、試料毎に測定条件が分類されて記憶される。The above steps 101 to 105 are the condition setting for one sample. If there is another sample to be measured, this condition setting is repeated. Data processing device 17
In, measurement conditions are classified and stored for each sample.
【0036】110;条件設定が終了すると、ICP−
MSに試料を導入し、設定条件に従って測定を行う。
「定量測定」モードの場合は、必要に応じて、標準試料
測定,実試料測定を連続して行う。110: When the condition setting is completed, ICP-
The sample is introduced into the MS, and the measurement is performed according to the set conditions.
In the case of the “quantitative measurement” mode, the standard sample measurement and the actual sample measurement are continuously performed as necessary.
【0037】120;測定が終了すると、ステップ10
1で選択した測定モードに基づき、何れかの分析処理を
行う。「定量測定」モードの場合は、「測定試料の定量
分析」と「マトリクス元素の半定量分析」を実行する。
また、「定性測定」モードの場合は、「測定試料の定性
分析」と「マトリクス元素の半定量分析」を実行する。
マトリクス元素の半定量分析では、上述の予めデータ処
理装置17内のメモリに格納されたイオン閉じ込め時間
に該当する既知検量線に基づき、概算濃度を算出する。
「定量測定」モードの測定試料の定量分析は、既知検量
線ではなく、標準試料測定または実試料中の内標準元素
測定によって検量線を別途算出し、この検量線に基づい
て定量を行う。120: When the measurement is completed, step 10
One of the analysis processes is performed based on the measurement mode selected in step 1. In the case of the "quantitative measurement" mode, "quantitative analysis of a measurement sample" and "semi-quantitative analysis of matrix elements" are executed.
In the case of the "qualitative measurement" mode, "qualitative analysis of a measurement sample" and "semi-quantitative analysis of matrix elements" are executed.
In the semi-quantitative analysis of the matrix elements, the approximate concentration is calculated based on the known calibration curve corresponding to the ion confinement time stored in the memory of the data processing device 17 in advance.
In the quantitative analysis of the measurement sample in the “quantitative measurement” mode, a calibration curve is separately calculated not by a known calibration curve but by standard sample measurement or internal standard element measurement in an actual sample, and quantification is performed based on the calibration curve.
【0038】130;分析処理を終了すると、その結果
をデータ処理装置17のモニタ画面上に表示する。130: When the analysis process is completed, the result is displayed on the monitor screen of the data processing device 17.
【0039】モニタ画面に表示されるマトリクス元素と
測定対象元素の測定結果(プロファイル)は、容易に区
別できる様に表示される。モニタ画面例を図8,図9に
示す。The measurement results (profiles) of the matrix elements and the elements to be measured displayed on the monitor screen are displayed so that they can be easily distinguished. 8 and 9 show examples of the monitor screen.
【0040】図8の表示例は、測定対象元素12とマト
リクス元素表示領域13を個別の表示領域に表した例で
ある。The display example of FIG. 8 is an example in which the element 12 to be measured and the matrix element display area 13 are represented in separate display areas.
【0041】図9の表示例は、両方のプロファイルを同
じ表示領域に表した例である。この場合、プロファイル
の色や、プロファイルの線の形で差別化を行う。The display example of FIG. 9 is an example in which both profiles are displayed in the same display area. In this case, the differentiation is performed in the form of the profile color or the profile line.
【0042】140;マトリクス元素の濃度診断を行
う。140: Diagnosis of matrix element concentration is performed.
【0043】ステップ120の分析処理の半定量分析で
算出した各マトリクス元素の濃度について、閾値以内で
あるか否かを判定する。閾値は、半定量用の既知検量線
と同様に、予めデータ処理装置17内のメモリ内に格納
しておく。It is determined whether or not the concentration of each matrix element calculated by the semi-quantitative analysis of the analysis processing in step 120 is within a threshold value. The threshold value is stored in the memory of the data processing device 17 in advance similarly to the known calibration curve for semi-quantitative analysis.
【0044】診断の結果は、図10のようにランク別に
分けて概略濃度と共にモニタ上に表示する。ここで、C
ランクは、検出できなかった元素、Bランクは、存在は
確認されたものの閾値以下の濃度であった元素、Aラン
クは、濃度が閾値以上であり、測定を続行するには危険
と判断される元素として区別している。The results of the diagnosis are displayed on a monitor together with the approximate density for each rank as shown in FIG. Where C
The rank was an element that could not be detected, the B rank was an element whose presence was confirmed but had a concentration equal to or lower than the threshold, and the A rank had a concentration equal to or higher than the threshold and was judged to be dangerous to continue the measurement. It is distinguished as an element.
【0045】150;ステップ140の診断で、全ての
マトリクス元素濃度が閾値以下の場合(Aランクの元素
がない場合)は、異常無しと判断し、他に測定すべき試
料がある場合は、ステップ110に戻り測定を続行す
る。測定する試料がない場合は、測定動作を終了する。In the diagnosis of step 140, if all the matrix element concentrations are below the threshold value (if there is no element of rank A), it is determined that there is no abnormality. Return to 110 and continue the measurement. If there is no sample to be measured, the measurement operation ends.
【0046】160;ステップ140での診断で、何れ
かのマトリクス元素が閾値以上(Aランク)の元素が存
在する場合、その試料は異常(前処理不十分)と判断
し、音声やモニタ上の表示で高濃度マトリクス元素が存
在する旨の警報を発し、測定動作を終了する。160; In the diagnosis in step 140, if any matrix element has an element whose threshold is equal to or more than the threshold (A rank), the sample is determined to be abnormal (pre-processing is insufficient), The display warns that a high-concentration matrix element is present, and terminates the measurement operation.
【0047】以上が本発明のICP−MSの測定動作で
ある。本発明においては、本来測定を行いたい微量の元
素以外にも、装置に対してまたは分析結果に対して悪影
響を及ぼすと思われる元素(マトリクス元素)が含まれ
ていると思われる場合、測定対象の定量・定性分析を行
うと同時にマトリクス元素に対して半定量分析を行うこ
とが可能となる。The above is the measurement operation of the ICP-MS of the present invention. In the present invention, when it is considered that an element (matrix element) which is considered to have a bad influence on an apparatus or an analysis result is included in addition to a trace element which is originally intended to be measured, Quantitative and qualitative analysis of matrix elements and semi-quantitative analysis of matrix elements can be performed at the same time.
【0048】[0048]
【発明の効果】本発明は以上説明したように、通常の定
量,定性分析と同時に、特定の元素に対して半定量分析
を実行することが出来る。これにより、前処理が充分に
行われたか否かをプラズマイオン質量分析装置で判断す
ることが出来る。As described above, according to the present invention, semi-quantitative analysis can be performed on a specific element simultaneously with ordinary quantitative and qualitative analysis. This makes it possible to determine whether or not the pretreatment has been sufficiently performed by the plasma ion mass spectrometer.
【0049】また、従来、前処理後に行っていた他の分
析装置による確認のための分析が不用になり、全体の分
析工程として迅速な分析を行うことが可能になる。Further, analysis for confirmation by another analyzer which has been conventionally performed after the pretreatment becomes unnecessary, and a rapid analysis can be performed as an entire analysis process.
【0050】更に、前処理が不十分な場合、装置に不具
合を生じさせる成分、例えば塩を測定してしまうことに
よって生ずる装置の劣化、データの信頼性の欠如などを
防止することができる。In addition, when the pretreatment is insufficient, it is possible to prevent deterioration of the apparatus caused by measurement of a component causing a problem in the apparatus, for example, salt, and lack of data reliability.
【図1】本発明が適用される全体構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an overall configuration to which the present invention is applied.
【図2】イオントラップ部の構造図である。FIG. 2 is a structural diagram of an ion trap unit.
【図3】イオントラップ部に印加される高周波電圧を示
す図である。FIG. 3 is a diagram showing a high-frequency voltage applied to an ion trap unit.
【図4】エンドキャップに印加されるFNF信号を示す
図である。FIG. 4 is a diagram showing an FNF signal applied to an end cap.
【図5】予め格納されている既知検量線の例を示す図で
ある。FIG. 5 is a diagram showing an example of a known calibration curve stored in advance.
【図6】測定元素・マトリクス元素の設定画面を示す図
である。FIG. 6 is a view showing a setting screen of a measurement element / matrix element.
【図7】イオン閉じ込め時間を設定する画面の例であ
る。FIG. 7 is an example of a screen for setting an ion confinement time.
【図8】測定結果を示すモニタ画面の例である。FIG. 8 is an example of a monitor screen showing measurement results.
【図9】測定結果を示すモニタ画面の例である。FIG. 9 is an example of a monitor screen showing measurement results.
【図10】マトリクス元素の診断結果を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing a diagnosis result of a matrix element.
【図11】本発明の測定シーケンスを示すフローチャー
トである。FIG. 11 is a flowchart showing a measurement sequence according to the present invention.
5…エンドキャップ電極、6…リング電極、7…マトリ
クス元素の設定ボタン、8…測定元素の設定ボタン、1
0…イオン閉じ込め時間設定画面「測定元素設定枠」、
11…イオン閉じ込め時間設定画面「マトリクス元素設
定枠」、12…プラズマ室、13…高周波電源部、14
…イオン光学系、15…イオントラップ部、16…イオ
ン検出部、17…データ処理装置、18…質量分析部、
21…プラズマトーチ、22…高周波誘導コイル、23
…プラズマ、80,91,93…測定元素のプロファイ
ル、81,92…マトリクス元素のプロファイル、94
…測定元素の単位、95…マトリクス元素の単位。5 end cap electrode, 6 ring electrode, 7 matrix element setting button, 8 measurement element setting button, 1
0… Ion confinement time setting screen “measurement element setting frame”
11: ion confinement time setting screen “matrix element setting frame”, 12: plasma chamber, 13: high-frequency power supply, 14
... Ion optical system, 15 ... Ion trap section, 16 ... Ion detection section, 17 ... Data processing device, 18 ... Mass analysis section,
21: plasma torch, 22: high frequency induction coil, 23
... plasma, 80, 91, 93 ... profile of measurement element, 81, 92 ... profile of matrix element, 94
... Unit of measurement element, 95. Unit of matrix element.
Claims (5)
ってイオン化し、イオントラップ機能を備えた質量分析
計で測定を行うプラズマイオン源質量分析装置におい
て、 測定者が指定した複数の元素のそれぞれについて、定量
分析または定性分析、或いは予め記憶された検量線を基
に半定量分析を行うことを特徴とするプラズマイオン源
質量分析装置。In a plasma ion source mass spectrometer for ionizing a sample in which a plurality of elements are mixed by plasma and performing measurement with a mass spectrometer having an ion trap function, each of a plurality of elements specified by a measurer is specified. , Quantitative analysis or qualitative analysis, or semi-quantitative analysis based on a previously stored calibration curve.
表を基に、定量分析或いは定性分析を行う元素と、半定
量分析を行う元素をそれぞれ指定することを特徴とする
プラズマイオン源質量分析装置。2. The method according to claim 1, wherein a periodic table is displayed for one sample measurement, and an element for performing a quantitative analysis or a qualitative analysis and an element for performing a semi-quantitative analysis are based on the periodic table. A plasma ion source mass spectrometer characterized by specifying each.
を設定することを特徴とするプラズマイオン源質量分析
装置。3. The mass spectrometer according to claim 2, wherein an ion confinement time is set for each element specified in the periodic table.
れた閾値以上の測定値である場合に、測定動作を終了す
ることを特徴とするプラズマイオン源質量分析装置。4. The plasma ion according to claim 1, wherein the measuring operation is terminated when any of the elements subjected to the semi-quantitative analysis has a measured value equal to or larger than a threshold value stored in advance. Source mass spectrometer.
ってイオン化し、イオントラップ機能を備えた質量分析
計で測定を行うプラズマイオン源質量分析装置を用いた
分析方法において、 定量分析或いは定性分析を行うかを指定するステップ
と、 半定量分析を行うか否かを指定するステップと、 定量分析或いは定性分析を行う元素と、半定量分析を行
う元素をそれぞれ指定するステップと、 前記指定された元素のそれぞれに対してイオントラップ
における閉じ込め時間を設定するステップと、 試料を導入し、測定するステップと、 定量分析と半定量分析、或いは定性分析と半定量分析を
行うステップと、 前記半定量分析の結果、予め格納された閾値を超える元
素が存在するとき、測定動作を終了するステップとを有
することを特徴とするプラズマイオン源質量分析装置を
用いた分析方法。5. An analysis method using a plasma ion source mass spectrometer for ionizing a sample in which a plurality of elements are mixed by plasma and performing measurement with a mass spectrometer having an ion trap function, wherein a quantitative analysis or a qualitative analysis is performed. A step of designating whether or not to perform semi-quantitative analysis, a step of designating an element for performing quantitative or qualitative analysis, and a step of designating an element for performing semi-quantitative analysis, respectively, Setting a confinement time in an ion trap for each of the following; introducing a sample and measuring; performing quantitative analysis and semi-quantitative analysis, or performing qualitative analysis and semi-quantitative analysis; Ending the measurement operation when there is an element exceeding the threshold value stored in advance as a result. An analysis method using a plasma ion source mass spectrometer.
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JP2000101179A JP2001281223A (en) | 2000-03-31 | 2000-03-31 | Apparatus and method for plasma ion source mass spectrometric analysis |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015127684A (en) * | 2013-12-27 | 2015-07-09 | アジレント・テクノロジーズ・インクAgilent Technologies, Inc. | Method of automatically generating mass analysis method |
-
2000
- 2000-03-31 JP JP2000101179A patent/JP2001281223A/en active Pending
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