JP2001273760A - Magnetic memory and recording method for the same - Google Patents

Magnetic memory and recording method for the same

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JP2001273760A JP2000090495A JP2000090495A JP2001273760A JP 2001273760 A JP2001273760 A JP 2001273760A JP 2000090495 A JP2000090495 A JP 2000090495A JP 2000090495 A JP2000090495 A JP 2000090495A JP 2001273760 A JP2001273760 A JP 2001273760A
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    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F10/00Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
    • H01F10/32Spin-exchange-coupled multilayers, e.g. nanostructured superlattices
    • H01F10/324Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer
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    • H01F10/3286Spin-exchange coupled multilayers having at least one layer with perpendicular magnetic anisotropy

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obviate the difficulty in the higher-scale integration of elements if current wires are arranged on one side or both sides of the elements with a magnetic memory using the megaro-magneto-resistive elements and tunnel magneto-resistive elements using perpendicularly magnetized films. SOLUTION: The upper parts or lower parts of the current wires 12 and 16 are provided with layers 11 and 17 consisting of high permeable magnetic materials and the elements at cross points are subjected to recording by the current wires arranged in the upper and lower parts of the extreme adjacent elements.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は垂直磁気異方性を有
する磁性層で構成された磁気抵抗効果素子を用いた磁気
メモリ及びその記録方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic memory using a magnetoresistive element composed of a magnetic layer having perpendicular magnetic anisotropy and a recording method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気磁性層と非磁性層を積層して得られ
る巨大磁気抵抗効果(GMR)素子やトンネル磁気抵抗
効果(TMR)素子は従来の異方性磁気抵抗効果(AM
R)素子と比較して大きな磁気抵抗変化率を有すること
から、磁気センサーとして高い性能が期待できる。
2. Description of the Related Art A giant magnetoresistive (GMR) element or a tunnel magnetoresistive (TMR) element obtained by laminating a magnetic magnetic layer and a nonmagnetic layer is a conventional anisotropic magnetoresistive (AM) element.
R) High performance can be expected as a magnetic sensor because it has a larger magnetoresistance change rate than the element.

【0003】GMR素子については既にハードディスク
ドライブ(HDD)の再生用磁気ヘッドとして実用化さ
れている。一方、TMR素子はGMR素子よりも更に高
い磁気抵抗変化率を有することから、磁気ヘッドのみな
らず、磁気メモリへの応用も考えられている。
The GMR element has already been put to practical use as a reproducing magnetic head for a hard disk drive (HDD). On the other hand, since the TMR element has a higher magnetoresistance ratio than the GMR element, application to not only a magnetic head but also a magnetic memory is considered.

【0004】従来のTMR素子の基本的な構成例として
特開平9―106514号公報に示されている例を図1
0に示す。
FIG. 1 shows an example disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-106514 as a basic configuration example of a conventional TMR element.
0 is shown.

【0005】図10に示すように、TMR素子は、第1
の磁性層101、絶縁層102、第2の磁性層103、
反強磁性層104を積層したものである。ここで、第1
の磁性層101および第2の磁性層103は、Fe、C
o、Ni、或はこれらの合金からなる強磁性体であり、
反強磁性層104は、FeMn,NiMn等であり、絶
縁層102はAl23である。
[0005] As shown in FIG.
Magnetic layer 101, insulating layer 102, second magnetic layer 103,
The antiferromagnetic layer 104 is stacked. Here, the first
The magnetic layer 101 and the second magnetic layer 103 of Fe, C
a ferromagnetic material composed of o, Ni, or an alloy thereof;
The antiferromagnetic layer 104 is made of FeMn, NiMn, or the like, and the insulating layer 102 is made of Al 2 O 3 .

【0006】また、図10の絶縁層102をCu等の導
電性を有する非磁性層に置き換えるとGMR素子とな
る。
When the insulating layer 102 in FIG. 10 is replaced with a nonmagnetic layer having conductivity such as Cu, a GMR element is obtained.

【0007】従来のGMR素子およびTMR素子では、
磁性層部分の磁化が面内方向であるため、狭トラック幅
の磁気ヘッドや高集積化磁気メモリのように素子寸法が
微細化すると、端部磁極で生じる反磁界の影響を強く受
けるようになる。このため磁性層の磁化方向が不安定と
なり、均一な磁化を維持することが困難になり、磁気ヘ
ッドおよび磁気メモリの動作不良を発生させることにな
る。
In conventional GMR elements and TMR elements,
Since the magnetization of the magnetic layer portion is in the in-plane direction, when the element size is reduced as in a magnetic head having a narrow track width or a highly integrated magnetic memory, the magnetic field is strongly affected by a demagnetizing field generated at an end magnetic pole. . For this reason, the magnetization direction of the magnetic layer becomes unstable, and it becomes difficult to maintain uniform magnetization, which causes a malfunction of the magnetic head and the magnetic memory.

【0008】これを解決する方法として、垂直磁気異方
性を有する磁性層を用いた磁気抵抗効果素子が特開平1
1―213650号公報に開示されている。該公報の素
子構造を図11に示す。
As a method for solving this problem, a magnetoresistive element using a magnetic layer having perpendicular magnetic anisotropy is disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei.
It is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-213650. FIG. 11 shows the element structure of this publication.

【0009】図11において、磁気抵抗効果素子は、低
い保磁力を有する垂直磁化膜からなる第1の磁性層11
1と、高い保磁力を有する垂直磁化膜からなる第2の磁
性層113の間に非磁性層112が挟まれた構造をして
いる。なお、第1の磁性層および第2の磁性層には希土
類−遷移元素合金のフェリ磁性膜、ガーネット膜、Pt
Co、PdCoなどが用いられている。
In FIG. 11, a magnetoresistive element has a first magnetic layer 11 composed of a perpendicular magnetization film having a low coercive force.
1 and a second magnetic layer 113 made of a perpendicular magnetization film having a high coercive force. The first magnetic layer and the second magnetic layer have a ferrimagnetic film of a rare earth-transition element alloy, a garnet film,
Co, PdCo, or the like is used.

【0010】この場合、端部磁極は磁性膜表面に生じる
ことから、素子の微細化に伴う反磁界の増加は抑えられ
る。従って、磁性膜の垂直磁気異方性エネルギーが端部
磁極による反磁界エネルギーよりも十分大きければ、素
子の寸法に関係なく磁化を垂直方向に安定化させること
ができる。
In this case, since the end magnetic poles are formed on the surface of the magnetic film, an increase in the demagnetizing field due to miniaturization of the element can be suppressed. Therefore, if the perpendicular magnetic anisotropy energy of the magnetic film is sufficiently larger than the demagnetizing field energy by the end pole, the magnetization can be stabilized in the vertical direction regardless of the dimensions of the element.

【0011】一方、垂直磁化膜を用いた磁気メモリへの
記録方法について、特開平11―213650号公報で
開示されているものを用いて説明する。該公報の磁気抵
抗効果素子、および書き込み線の配列を図12に示す。
On the other hand, a recording method for a magnetic memory using a perpendicular magnetization film will be described with reference to a method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-213650. FIG. 12 shows the arrangement of the magnetoresistive element and the write line in the publication.

【0012】図12の素子の構造は図11と同様、第1
磁性層121、非磁性層122、第2磁性層123から
なる。第1磁性層121をメモリ層とした場合、該素子
への情報の記録は、素子の両横に設置されている記録用
電流線124、125に電流を流し、上記電流線から発
生する磁界によって第1磁性層121の磁化を反転させ
ることにより行う。例えば、第1磁性層121の磁化の
向きを素子上方にしたい場合には、記録用電流線124
に紙面上方、記録用電流線125には紙面下方に電流を
流す。これら2本の電流線から発生する磁界の合成成分
は素子上方となるため、第1磁性層121の磁化を素子
上方に配列させることができる。
The structure of the device shown in FIG. 12 is similar to that of FIG.
It is composed of a magnetic layer 121, a non-magnetic layer 122, and a second magnetic layer 123. When the first magnetic layer 121 is a memory layer, information is recorded on the element by applying current to recording current lines 124 and 125 provided on both sides of the element, and by a magnetic field generated from the current line. This is performed by reversing the magnetization of the first magnetic layer 121. For example, when the direction of magnetization of the first magnetic layer 121 is desired to be above the element, the recording current line 124 is used.
A current is caused to flow upward in the drawing, and to the recording current line 125 downward in the drawing. Since the combined component of the magnetic field generated from these two current lines is above the element, the magnetization of the first magnetic layer 121 can be arranged above the element.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記記
録用電流線を磁気抵抗効果素子の横に配置すると、該素
子の高集積化には不利である。図12のように記録用電
流線を素子の両横に配置した場合には、隣接する素子間
の距離は配線ルール(F)を用ると4Fとなる。これに
対して、素子間に記録用電流線が存在しない通常の配列
パターンでは、隣接する素子間の距離は2Fとなる。メ
モリ作成においては、素子の高集積化が重要であること
を考慮すると、図12に示された磁気メモリでは素子の
高集積化には不利となる。
However, if the recording current line is arranged beside the magnetoresistive element, it is disadvantageous for high integration of the element. When the recording current lines are arranged on both sides of the element as shown in FIG. 12, the distance between adjacent elements is 4F when the wiring rule (F) is used. On the other hand, in a normal arrangement pattern in which a recording current line does not exist between elements, the distance between adjacent elements is 2F. In consideration of the importance of high integration of elements in memory creation, the magnetic memory shown in FIG. 12 is disadvantageous for high integration of elements.

【0014】さらに、図12で示された配線パターンで
は、選択された素子の横部に位置する素子には記録され
ないが、選択された素子の奥行き方向(紙面上方、或は
紙面下方)に位置する素子には記録が行われてしまう。
その結果、マトリクス状に配列している素子のクロスポ
イントを選択することはできない。
Further, in the wiring pattern shown in FIG. 12, the information is not recorded on the element located at the side of the selected element, but is located in the depth direction of the selected element (upward or downward on the paper). Recording is performed on the element that performs the recording.
As a result, it is not possible to select the cross points of the elements arranged in a matrix.

【0015】そこで本発明は上記課題を考慮し、従来に
比べ集積度が高く、かつマトリクス状に配列している素
子のクロスポイントに情報を記録することができる磁気
メモリおよび記録方法を提供する。
In view of the above problems, the present invention provides a magnetic memory and a recording method which have a higher degree of integration than before and can record information at cross points of elements arranged in a matrix.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明の第1発明は、少
なくとも第1の磁性層、非磁性層、第2の磁性層から構
成され、前記第1および第2の磁性層が垂直磁気異方性
を有する磁気抵抗効果素子を用いた磁気メモリであっ
て、前記磁気抵抗効果素子に情報を記録するための電流
線に高透磁率材料からなる層を積層し、前記電流線を前
記磁気抵抗効果素子の上下平面に配置したことを特徴と
する磁気メモリである。
The first invention of the present invention comprises at least a first magnetic layer, a non-magnetic layer, and a second magnetic layer, wherein the first and second magnetic layers are perpendicular magnetic layers. A magnetic memory using a magnetoresistive element having anisotropy, wherein a layer made of a high magnetic permeability material is laminated on a current line for recording information on the magnetoresistive element, and the current line is A magnetic memory, wherein the magnetic memory is arranged on upper and lower planes of an effect element.

【0017】また、第2発明は、少なくとも第1の磁性
層、非磁性層、第2の磁性層から構成され、前記第1お
よび第2の磁性層が垂直磁気異方性を有する磁気抵抗効
果素子に、高透磁率材料からなる層を積層し、且つ前記
磁気抵抗効果素子の上下平面に配置した電流線により情
報を記録することを特徴とする磁気メモリの記録方法で
ある。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a magnetoresistive effect comprising at least a first magnetic layer, a nonmagnetic layer, and a second magnetic layer, wherein the first and second magnetic layers have perpendicular magnetic anisotropy. A method for recording a magnetic memory, comprising laminating a layer made of a high magnetic permeability material on an element and recording information by current lines arranged on upper and lower planes of the magnetoresistive element.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、図をもとに本発明について
詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0019】<実施例1>図1に本実施例の磁気メモリ
の概略構成図を示す。本実施例の磁気メモリは、磁性層
13、非磁性層14、磁性層15からなる磁気抵抗効果
素子、および該素子の上部、あるいは下部に配置した電
流線12、16からなる。
<Embodiment 1> FIG. 1 shows a schematic configuration diagram of a magnetic memory according to the present embodiment. The magnetic memory according to the present embodiment includes a magnetoresistive element including a magnetic layer 13, a nonmagnetic layer 14, and a magnetic layer 15, and current lines 12 and 16 disposed above or below the element.

【0020】なお、該素子の上方に位置する電流線12
の上部、および該素子の下方に位置する電流線16の下
部にはそれぞれ高透磁率層11、17が設けられてい
る。電流線12、16の上部あるいは下部に高透磁率層
11、17を設けることにより、前記磁気抵抗効果素子
の記録層に対して上記電流線から発生する磁界を集中さ
せ、効率的に記録を行うことができる。
The current line 12 located above the element
And a lower portion of the current line 16 located below the element, are provided with high permeability layers 11 and 17, respectively. By providing the high magnetic permeability layers 11 and 17 above or below the current lines 12 and 16, the magnetic field generated from the current lines is concentrated on the recording layer of the magnetoresistive element, and efficient recording is performed. be able to.

【0021】本実施例の磁気メモリでは、最隣接素子間
隔は最小配線ルールFを用いて2Fとなる。従来技術の
ように記録用電流線を素子の横に配置した磁気メモリで
は際隣接素子間隔が4Fであるのに比べると、素子間距
離を半分に縮めたことになり従来技術に対して高密度化
を実現したことになる。
In the magnetic memory of this embodiment, the nearest neighbor element interval is 2F using the minimum wiring rule F. In a magnetic memory in which a recording current line is arranged beside a device as in the prior art, the distance between the devices is reduced to half compared to the case where the space between adjacent devices is 4F. This means that the realization has been realized.

【0022】電流線12、16はAl,Cuなどの導電
性非磁性体からなり、上記電流線12の上部もしくは電
流線16の下部に設けられた高透磁率層11もしくは1
7の材料としては、NiFe、CoZrNbなどが用い
られる。
The current lines 12 and 16 are made of a conductive non-magnetic material such as Al or Cu, and have a high magnetic permeability layer 11 or 1 provided above the current line 12 or below the current line 16.
As a material of No. 7, NiFe, CoZrNb, or the like is used.

【0023】第1の磁性層12および第2の磁性層14
は、いずれも希土類金属(RE)と鉄族遷移金属(T
M)の非晶質合金垂直磁化膜、あるいはCoCr系合金
などの結晶質合金垂直磁化膜からなる。
First magnetic layer 12 and second magnetic layer 14
Are rare earth metals (RE) and iron group transition metals (T
M) An amorphous alloy perpendicular magnetic film or a crystalline alloy perpendicular magnetic film such as a CoCr alloy.

【0024】第1の磁性層13を記録層とした場合、前
記第1の磁性層は上記電流線から発生する磁界によって
磁化反転可能な保磁力Hcを有し、かつ垂直磁気異方性
を保持している必要がある。このような特性を満足する
第1の磁性層13の材料としては、Ce、Pr等の軽希
土類金属を含有する希土類−遷移金属二元合金(CeC
o、PrCoなど)、或いは上記軽希土類金属―重希土
類金属―遷移金属からなる三元合金(PrGdFe、P
rGdCo、PrTbFe、PrTbCo、PrFeC
oなど)があげられる。
When the first magnetic layer 13 is a recording layer, the first magnetic layer has a coercive force Hc capable of reversing magnetization by a magnetic field generated from the current line, and has a perpendicular magnetic anisotropy. Need to be. As a material of the first magnetic layer 13 satisfying such characteristics, a rare earth-transition metal binary alloy (CeC) containing a light rare earth metal such as Ce or Pr is used.
o, PrCo) or a ternary alloy composed of the above-mentioned light rare earth metal-heavy rare earth metal-transition metal (PrGdFe, P
rGdCo, PrTbFe, PrTbCo, PrFeC
o etc.).

【0025】一方、第2の磁性層15は垂直磁気異方性
を維持しつつ、上記電流線から発生する磁界により充分
磁化反転しない程度の大きさの保磁力を有している必要
がある。このような特性を満足する第2の磁性層15に
適する材料としては、希土類金属として主としてTb、
Gd等の重希土類金属―遷移金属からなる二元合金(T
bFe、TbCo、GdFe、GdCoなど)、或いは
重希土類金属―遷移金属からなる三元合金(GdTbF
e、GdTbCo、TbFeCoなど)、更にはCoC
r、CoPt等の垂直磁気異方性を有する強磁性体があ
げられる。
On the other hand, the second magnetic layer 15 needs to have a coercive force of such a magnitude that the magnetization is not sufficiently reversed by the magnetic field generated from the current line while maintaining the perpendicular magnetic anisotropy. Materials suitable for the second magnetic layer 15 satisfying such characteristics include mainly rare earth metals such as Tb,
Binary alloys composed of heavy rare earth metals such as Gd and transition metals (T
bFe, TbCo, GdFe, GdCo, etc.) or a ternary alloy composed of heavy rare earth metal-transition metal (GdTbF
e, GdTbCo, TbFeCo, etc.)
Ferromagnetic materials having perpendicular magnetic anisotropy, such as r and CoPt, may be mentioned.

【0026】前記第1および第2の磁性層の膜厚は、薄
膜化による超常磁性化を考慮して50Å以上、厚膜化に
よる微細加工の困難性を考慮して5000Å以下が望ま
しい。
The thickness of the first and second magnetic layers is desirably 50 ° or more in consideration of superparamagnetism by thinning and 5000 ° or less in consideration of difficulty in fine processing by thickening.

【0027】なお、非磁性層14には従来のGMR素子
で使用されているCu等の導電性を有する非磁性体、あ
るいはTMR素子で使用されているAl23膜を用いる
こともできるが、磁性層の希土類金属が酸化される危険
性を考慮すると、絶縁性の非磁性層としては、AlN、
BN等のような窒化膜、或いはSi、ダイヤモンド、D
LC(ダイヤモンド・ライク・カーボン)等のような共
有結合を有する絶縁膜を用いるのが望ましい。
The non-magnetic layer 14 may be made of a conductive non-magnetic material such as Cu used in a conventional GMR element, or an Al 2 O 3 film used in a TMR element. Considering the danger of the rare earth metal of the magnetic layer being oxidized, the insulating nonmagnetic layer may be made of AlN,
Nitride film such as BN, or Si, diamond, D
It is desirable to use an insulating film having a covalent bond such as LC (diamond-like carbon).

【0028】非磁性層の膜厚は、TMR素子の場合に
は、膜厚が5Å以下であると磁性層間で電気的にショー
トしてしまう可能性があり、膜厚が30Å以上である場
合、電子のトンネル現象が起きにくくなってしまうた
め、5Å以上30Å以下がよい。一方、GMR素子で
は、膜厚が厚くなると素子抵抗が小さくなりすぎて磁気
抵抗変化率も低下するため、50Å以下がよい。
In the case of a TMR element, if the thickness of the non-magnetic layer is less than 5 °, there is a possibility that an electrical short circuit may occur between the magnetic layers, and if the thickness is more than 30 °, Since the electron tunneling phenomenon is less likely to occur, the angle is preferably 5 ° or more and 30 ° or less. On the other hand, in the case of the GMR element, when the film thickness is large, the element resistance becomes too small and the magnetoresistance change rate is also reduced.

【0029】なお、図には示していないが、電流線と磁
気抵抗素子が接続されるのを防ぐために、電流線と磁気
抵抗素子の間には絶縁膜が設けられている。これは再生
時に磁性薄膜素子に流す電流が記録用電流線に漏れて再
生信号が劣化することを防ぐなどのために必要である。
Although not shown in the figure, an insulating film is provided between the current line and the magnetoresistive element to prevent the current line from being connected to the magnetoresistive element. This is necessary, for example, to prevent the current flowing through the magnetic thin film element from leaking to the recording current line at the time of reproduction to prevent the reproduction signal from deteriorating.

【0030】次に、図2をもとに素子配列と電流線の配
置について説明する。なお、本実施例では、磁性層内部
の磁化状態を安定に保つため、円筒形に加工した素子を
用いる。
Next, the arrangement of the elements and the arrangement of the current lines will be described with reference to FIG. In this embodiment, an element processed into a cylindrical shape is used in order to stably maintain the magnetization state inside the magnetic layer.

【0031】前述したように磁気抵抗効果素子21〜2
5と電流線26a〜27cとは異なる平面上に存在す
る。ここで、電流線26a、26b、26cはそれぞれ
素子24、22、25の上部平面上に存在し、電流線2
7a、27b、27cはそれぞれ素子21、22、23
の下部平面上に存在する。
As described above, the magnetoresistance effect elements 21 to 2
5 and the current lines 26a to 27c exist on different planes. Here, the current lines 26a, 26b, 26c exist on the upper plane of the elements 24, 22, 25, respectively, and the current lines 2
7a, 27b and 27c are elements 21, 22, and 23, respectively.
Exists on the lower plane of.

【0032】図2のようにマトリクス状に素子が配列し
ている場合のクロスポイントに存在する素子22の選択
方法について説明する。
A method for selecting the elements 22 existing at the cross points when the elements are arranged in a matrix as shown in FIG. 2 will be described.

【0033】記録用電流線26a、26cに電流を流
し、列方向について素子を選択する。ただし、これだけ
では行方向の素子を選択することができない(素子2
1、22、23の全てが選択される)ため、もう一方の
記録用電流線27a、27cにも電流を流すことにより
クロスポイント22を選択することができる。
An electric current is applied to the recording current lines 26a and 26c to select an element in the column direction. However, it is not possible to select the element in the row direction only by this (element 2
1, 22, and 23 are all selected), so that the cross point 22 can be selected by applying a current to the other recording current lines 27a and 27c.

【0034】なお、図1で説明したように、記録用電流
線26a、26b、26cの上部、もしくは電流線27
a、27b、27cの下部には高透磁率材料からなる層
が設けられている。
As described with reference to FIG. 1, the upper portion of the recording current lines 26a, 26b, 26c or the current line 27
Below the layers a, 27b and 27c, a layer made of a high magnetic permeability material is provided.

【0035】図3に示すように、第1の磁性層31、非
磁性層32、第2の磁性層33からなる磁気抵抗効果素
子において、“0”、“1”の磁化情報を表す記録層の
磁化状態は、記録層(第1磁性層31)の磁化の向きが
(a)上向き、(b)下向きのどちらかに対応して記録
される。
As shown in FIG. 3, in a magnetoresistive effect element including a first magnetic layer 31, a nonmagnetic layer 32, and a second magnetic layer 33, a recording layer representing magnetization information of "0" and "1". Is recorded according to whether the magnetization direction of the recording layer (first magnetic layer 31) is either (a) upward or (b) downward.

【0036】一方、記録した情報の読み出しは第1の磁
性層31と第2の磁性層33の磁化の相対的な向きに依
存する抵抗値の差により“0”、“1”の識別を行う。
即ち、図3(a)のように第1の磁性層31と第2の磁
性層33の磁化の向きが平行の場合は低い抵抗値を示す
のに対し、図3(b)のように第1の磁性層31と第2
の磁性層33の磁化の向きが反平行の場合は高い抵抗値
を示す。
On the other hand, when reading recorded information, "0" or "1" is identified by a difference in resistance value depending on the relative direction of magnetization of the first magnetic layer 31 and the second magnetic layer 33. .
That is, when the magnetization directions of the first magnetic layer 31 and the second magnetic layer 33 are parallel as shown in FIG. The first magnetic layer 31 and the second
When the direction of magnetization of the magnetic layer 33 is antiparallel, a high resistance value is exhibited.

【0037】次に、図4、5をもとに、本発明における
記録方法の詳細を説明する。
Next, the details of the recording method according to the present invention will be described with reference to FIGS.

【0038】本発明の磁気抵抗効果素子への記録は、図
4に示す素子(44〜46)上部に配置した電流線43
aおよび43b、または、図5に示す素子(53〜5
5)下部に配置した電流線56aおよび56cから発生
する磁界の合成成分を用いて行う。
Recording on the magnetoresistive effect element of the present invention is performed by using a current line 43 disposed above the elements (44 to 46) shown in FIG.
a and 43b, or the elements shown in FIG.
5) This is performed by using a composite component of the magnetic field generated from the current lines 56a and 56c arranged below.

【0039】ここで、電流線43aと電流線43b、電
流線56aと電流線56bには、それぞれ逆向きに電流
を流す。
Here, currents flow in the current lines 43a and 43b, and in the current lines 56a and 56b in opposite directions.

【0040】電流線43aと電流線43b、または、電
流線56aと電流線56bから発生する磁界は、電流線
の上部あるいは下部に設置された高透磁率層(42a、
42c、57a、57c)により楕円形になる。
The magnetic field generated from the current line 43a and the current line 43b or the current line 56a and the current line 56b is applied to the high magnetic permeability layer (42a, 42a,
42c, 57a, 57c) form an ellipse.

【0041】このように電流線の上部、もしくは下部に
高透磁率材料を配置すると、電流線から発生する磁界は
高透磁率層側では遮蔽される。そのため電流線の周りの
磁界は非対称となり、素子側により強い磁界を及ぼすこ
とになる。この結果、高透磁率材料を設置しない場合に
比べて記録層の磁化を効率的に反転させることが可能と
なる。
When a high magnetic permeability material is disposed above or below the current line, the magnetic field generated from the current line is shielded on the high magnetic permeability layer side. Therefore, the magnetic field around the current line becomes asymmetric, and a stronger magnetic field is applied to the element side. As a result, it is possible to efficiently reverse the magnetization of the recording layer as compared with the case where the high magnetic permeability material is not provided.

【0042】ここでは、前記磁気抵抗効果素子の記録層
44、53の磁化の向きを素子上方に向けさせる場合の
記録方法を示しているが、前記記録層44、53の磁化
の向きを素子下方に向けさせるには、図4、図5におけ
る記録用電流線43a、電流線43b、電流線56a、
電流線56bに流す電流の向きを逆向きにすればよい。
Here, the recording method in the case where the magnetization directions of the recording layers 44 and 53 of the magnetoresistive element are directed to the upper side of the element is shown. 4 and FIG. 5, the recording current line 43a, the current line 43b, the current line 56a,
The direction of the current flowing through the current line 56b may be reversed.

【0043】また、前記素子を磁気メモリとして用いる
場合、読み出し用の電流線が必要となる。読み出し用の
電流線は素子上下部と接続している必要があり、記録用
電流線と別に配線を設けることもできるが、記録用電流
線と素子を接続することにより記録用電流線が読み出し
用電流線を兼ねることも可能である。
When the element is used as a magnetic memory, a current line for reading is required. The current line for reading needs to be connected to the upper and lower parts of the element, and wiring can be provided separately from the current line for recording. However, by connecting the current line for recording to the element, the current line for recording It is also possible to double as a current line.

【0044】一方、磁気メモリとして用いる場合に、ト
ランジスタ上に前記素子を積層するという構造が考えら
れているが、その場合は素子下部とトランジスタが接続
されていなければならない。そのため、トランジスタ上
に前記素子を積層する場合には素子上方の記録用電流線
は読み出し用電流線と兼ねることが可能であるが、素子
下部の記録用電流線は独立に存在することになる。
On the other hand, when the device is used as a magnetic memory, a structure in which the element is stacked on a transistor has been considered. In this case, the transistor must be connected to the lower part of the element. Therefore, when the element is stacked on the transistor, the recording current line above the element can also serve as the reading current line, but the recording current line below the element exists independently.

【0045】<実施例2>図6に本実施例の磁気メモリ
の概略構成図を示す。本実施例の磁気メモリは、磁性層
63/非磁性層64/磁性層65からなる磁気抵抗効果
素子、並びに該素子と異なる平面上に位置し、該素子と
隣合う素子との中間に配置した電流線62、66からな
る。
<Embodiment 2> FIG. 6 shows a schematic configuration diagram of a magnetic memory according to the present embodiment. The magnetic memory according to the present embodiment is located on a plane different from the magnetoresistive effect element including the magnetic layer 63 / nonmagnetic layer 64 / magnetic layer 65, and is disposed between the element and an adjacent element. It consists of current lines 62 and 66.

【0046】なお、前記磁気抵抗効果素子の上方に位置
する電流線62の上部、および該素子の下方に位置する
電流線66の下部にはそれぞれ高透磁率層61、67が
設けられている。電流線62、66の上部あるいは下部
に高透磁率層61、67を設けることにより、前記磁気
抵抗効果素子の記録層に対して上記電流線から発生する
磁界を集中させ、効率的に記録を行うことができる。
High magnetic permeability layers 61 and 67 are provided above the current line 62 located above the magnetoresistive element and below the current line 66 located below the element, respectively. By providing the high magnetic permeability layers 61 and 67 above or below the current lines 62 and 66, the magnetic field generated from the current lines is concentrated on the recording layer of the magnetoresistive element, and efficient recording is performed. be able to.

【0047】本発明の磁気メモリでは、実施例1の場合
と同様、最隣接素子間隔は最小配線ルールFを用いて2
Fとなり、本実施例の場合も従来技術の際隣接素子間隔
4Fに比べると、素子間距離を半分に縮めたことにな
る。
In the magnetic memory of the present invention, as in the case of the first embodiment, the nearest neighbor element interval is set to 2 using the minimum wiring rule F.
F, and in the case of this embodiment, the distance between the elements is reduced to half in comparison with the adjacent element interval 4F in the prior art.

【0048】次に、素子配列と記録用電流線の配置につ
いて、図7を用いて説明する。本実施例では、磁性層内
部の磁化状態を安定に保つため、実施例1と同じく円筒
形に加工した素子を用いる。
Next, the element arrangement and the arrangement of the recording current lines will be described with reference to FIG. In this embodiment, in order to stably maintain the magnetization state inside the magnetic layer, an element processed into a cylindrical shape as in the first embodiment is used.

【0049】図6で示したように、磁気抵抗効果素子7
1〜75と記録用電流線76〜79とは異なる平面上に
存在する。ここで、記録用電流線76、77は素子71
〜75の上部平面上に存在し、該電流線76は素子72
と74から等距離、電流線77は素子72と75から等
距離の位置にある。一方、電流線78、79は素子71
〜75の下部平面上に存在し、電流線78は素子71と
72から等距離、電流線79は素子72と73から等距
離の位置にある。
As shown in FIG. 6, as shown in FIG.
1 to 75 and the recording current lines 76 to 79 exist on different planes. Here, the recording current lines 76 and 77 are
75, and the current line 76 is
And 74, and the current line 77 is equidistant from the elements 72 and 75. On the other hand, the current lines 78 and 79
75, the current line 78 is equidistant from the elements 71 and 72, and the current line 79 is equidistant from the elements 72 and 73.

【0050】図7のようにマトリクス状に素子が配列し
ている場合のクロスポイントに存在する素子72の選択
方法について説明する。
A method of selecting the elements 72 present at the cross points when the elements are arranged in a matrix as shown in FIG. 7 will be described.

【0051】電流線76、77に電流を流し、列方向に
ついて素子を選択する。ただし、これだけでは行方向の
素子を選択することができない(素子71、72、73
の全てが選択される)ため、もう一方の記録用電流線7
8、79にも電流を流すことによりクロスポイント72
を選択することができる。
A current is supplied to the current lines 76 and 77 to select an element in the column direction. However, it is not possible to select an element in the row direction only by this (elements 71, 72, 73).
Are selected), the other recording current line 7
8 and 79, the cross point 72
Can be selected.

【0052】なお、図6で説明したように、記録用電流
線76、77の上部、もしくは電流線78、79の下部
には高透磁率材料からなる層が設けられている。
As described with reference to FIG. 6, a layer made of a high magnetic permeability material is provided above the recording current lines 76 and 77 or below the current lines 78 and 79.

【0053】本実施例における素子構造ならびに磁気メ
モリとして用いる材料は実施例1の場合と同じである。
The element structure in this embodiment and the materials used for the magnetic memory are the same as those in the first embodiment.

【0054】本実施例における記録方法の詳細を図8、
図9をもとに説明する。本発明の磁気抵抗効果素子への
記録は図8に示す素子上部に配置した記録用電流線8
3、または、図9に示す素子下部に配置した記録用電流
線96から発生する磁界の合成成分を用いて行う。ここ
で、隣接する電流線にはそれぞれ逆向きに電流を流す。
FIG. 8 shows details of the recording method in this embodiment.
This will be described with reference to FIG. Recording on the magnetoresistive effect element of the present invention is performed by using a recording current line 8 arranged above the element shown in FIG.
3, or by using a composite component of a magnetic field generated from the recording current line 96 arranged below the element shown in FIG. Here, currents flow in opposite directions in adjacent current lines.

【0055】記録用電流線83、もしくは96から発生
する磁界は、上記電流線の上部あるいは下部に設置され
た高透磁率層のため楕円形になる。このように記録用電
流線の上部、もしくは下部に高透磁率材料を配置する
と、記録用電流線から発生する磁界は高透磁率層側では
遮蔽される。そのため電流線の周りの磁界は非対称とな
り、素子側により強い磁界を及ぼすことになる。この結
果、高透磁率材料を設置しない場合に比べて記録層の磁
化を効率的に反転させることが可能となる。
The magnetic field generated from the recording current line 83 or 96 becomes elliptical due to the high magnetic permeability layer provided above or below the current line. When the high magnetic permeability material is disposed above or below the recording current line, the magnetic field generated from the recording current line is shielded on the high magnetic permeability layer side. Therefore, the magnetic field around the current line becomes asymmetric, and a stronger magnetic field is applied to the element side. As a result, it is possible to efficiently reverse the magnetization of the recording layer as compared with the case where the high magnetic permeability material is not provided.

【0056】ここでは、前記磁気抵抗効果素子の記録層
84、93の磁化の向きを素子上方に向けさせる場合の
記録方法を示しているが、前記記録層84、93の磁化
の向きを素子下方に向けさせるには、図8、図9におけ
る記録用電流線83、96に流す電流の向きを逆向きに
すればよい。
Here, the recording method in the case where the magnetization directions of the recording layers 84 and 93 of the magnetoresistive element are directed to the upper side of the element is shown. The direction of the current flowing through the recording current lines 83 and 96 in FIGS. 8 and 9 may be reversed.

【0057】また、前記素子を磁気メモリとして用いる
場合、読み出し用の電流線が必要となる。読み出し用の
電流線は素子上下部と接続している必要があり、記録用
電流線と別に配線を設けることもできるが、記録用電流
線と素子を接続することにより記録用電流線が読み出し
用電流線を兼ねることも可能である。
When the element is used as a magnetic memory, a current line for reading is required. The current line for reading needs to be connected to the upper and lower parts of the element, and wiring can be provided separately from the current line for recording. However, by connecting the current line for recording to the element, the current line for recording It is also possible to double as a current line.

【0058】一方、磁気メモリとして用いる場合に、ト
ランジスタ上に前記素子を積層するという構造が考えら
れているが、その場合は素子下部とトランジスタが接続
されていなければならない。そのため、トランジスタ上
に前記素子を積層する場合には素子上方の記録用電流線
は読み出し用電流線と兼ねることが可能であるが、素子
下部の記録用電流線は独立に存在することになる。
On the other hand, when using as a magnetic memory, a structure in which the element is stacked on a transistor has been considered. In this case, the transistor must be connected to the lower part of the element. Therefore, when the element is stacked on the transistor, the recording current line above the element can also serve as the reading current line, but the recording current line below the element exists independently.

【0059】[0059]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、従来に
比べ集積度が高く、高効率の記録を行うことのできる磁
気メモリならびに磁気メモリへの記録方法を提供するこ
とができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a magnetic memory having a higher degree of integration and higher efficiency of recording than before, and a method of recording on the magnetic memory.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1における磁気メモリの概略構成図であ
る。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a magnetic memory according to a first embodiment.

【図2】実施例1における磁気抵抗効果素子、ならびに
電流線の配置図を示した図である。
FIG. 2 is a diagram showing an arrangement diagram of a magnetoresistive element and a current line in Example 1.

【図3】磁気抵抗効果素子における“0”、“1”の磁
化状態を示した図である。
FIG. 3 is a diagram showing magnetization states of “0” and “1” in a magnetoresistance effect element.

【図4】実施例1における記録方法を説明する図であ
る。
FIG. 4 is a diagram illustrating a recording method according to the first embodiment.

【図5】実施例1における記録方法を説明する図であ
る。
FIG. 5 is a diagram illustrating a recording method according to the first embodiment.

【図6】実施例2における磁気メモリの概略構造図であ
る。
FIG. 6 is a schematic structural diagram of a magnetic memory according to a second embodiment.

【図7】実施例2における磁気抵抗効果素子、ならびに
電流線の配置図を示した図である。
FIG. 7 is a diagram showing a layout diagram of a magnetoresistive element and a current line in Example 2.

【図8】実施例2における記録方法を説明する図であ
る。
FIG. 8 is a diagram illustrating a recording method according to a second embodiment.

【図9】実施例2における記録方法を説明する図であ
る。
FIG. 9 is a diagram illustrating a recording method according to a second embodiment.

【図10】従来の磁気抵抗効果素子を示した図である。FIG. 10 is a diagram showing a conventional magnetoresistance effect element.

【図11】従来の磁気抵抗効果素子を示した図である。FIG. 11 is a view showing a conventional magnetoresistance effect element.

【図12】従来の磁気抵抗効果素子への記録方法を示し
た図である。
FIG. 12 is a diagram showing a conventional recording method for a magnetoresistive element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11、17、42a〜42c、48、51、57a〜5
7c、61、67、81、88、91、98
高透磁率層 12、16、26a〜26c、27a〜27c、43a
〜43c、47、52、56a〜56c、62、66、
76〜79、83、87、92、96 記録用電
流線 13、31、44、53、63、84、93
第1の磁性層 14、32、45、54、64、85、94、
非磁性層 15、33、46、55、65、86、95
第2の磁性層 21〜25、71〜75
磁気抵抗効果素子 41、58、82、97
発生磁界
11, 17, 42a to 42c, 48, 51, 57a to 5
7c, 61, 67, 81, 88, 91, 98
High permeability layer 12, 16, 26a-26c, 27a-27c, 43a
To 43c, 47, 52, 56a to 56c, 62, 66,
76 to 79, 83, 87, 92, 96 Current lines for recording 13, 31, 44, 53, 63, 84, 93
First magnetic layers 14, 32, 45, 54, 64, 85, 94,
Non-magnetic layer 15, 33, 46, 55, 65, 86, 95
Second magnetic layer 21-25, 71-75
Magnetoresistance effect element 41, 58, 82, 97
Generated magnetic field

フロントページの続き (72)発明者 道嶋 正司 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 Fターム(参考) 5F083 FZ10 GA09 JA36 JA37 Continued on the front page (72) Inventor Shoji Michishima 22-22 Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka F-term (reference) 5F083 FZ10 GA09 JA36 JA37

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも第1の磁性層、非磁性層、第
2の磁性層から構成され、前記第1および第2の磁性層
が垂直磁気異方性を有する磁気抵抗効果素子を用いた磁
気メモリであって、 前記磁気抵抗効果素子に情報を記録するための電流線に
高透磁率材料からなる層を積層し、 前記電流線を前記磁気抵抗効果素子の上下平面に配置し
たことを特徴とする磁気メモリ。
1. A magnetic device comprising a magnetoresistive element comprising at least a first magnetic layer, a nonmagnetic layer, and a second magnetic layer, wherein the first and second magnetic layers have perpendicular magnetic anisotropy. A memory, wherein a layer made of a high magnetic permeability material is laminated on a current line for recording information on the magnetoresistive element, and the current lines are arranged on upper and lower planes of the magnetoresistive element. Magnetic memory.
【請求項2】 少なくとも第1の磁性層、非磁性層、第
2の磁性層から構成され、前記第1および第2の磁性層
が垂直磁気異方性を有する磁気抵抗効果素子に、高透磁
率材料からなる層を積層し、且つ前記磁気抵抗効果素子
の上下平面に配置した電流線により情報を記録すること
を特徴とする磁気メモリの記録方法。
2. A high-permeability magnetoresistive element comprising at least a first magnetic layer, a nonmagnetic layer, and a second magnetic layer, wherein the first and second magnetic layers have perpendicular magnetic anisotropy. A recording method for a magnetic memory, comprising laminating layers made of a magnetic susceptibility material, and recording information by current lines arranged on upper and lower planes of the magnetoresistive element.
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