JP2001272569A - 光ファイバ - Google Patents

光ファイバ

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JP2001272569A
JP2001272569A JP2001009294A JP2001009294A JP2001272569A JP 2001272569 A JP2001272569 A JP 2001272569A JP 2001009294 A JP2001009294 A JP 2001009294A JP 2001009294 A JP2001009294 A JP 2001009294A JP 2001272569 A JP2001272569 A JP 2001272569A
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Takemi Hasegawa
健美 長谷川
Masayuki Nishimura
正幸 西村
Hideyori Sasaoka
英資 笹岡
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Sumitomo Electric Industries Ltd
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Sumitomo Electric Industries Ltd
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    • G02B6/02004Optical fibres with cladding with or without a coating characterised by the core effective area or mode field radius

Abstract

(57)【要約】 【課題】 均一なクラッド構造を有する光ファイバより
も負分散を大きくすると共に、実効コア断面積を大きく
させることができる光ファイバを提供する。 【解決手段】 中心に空洞部を有する第1コア領域1
と、それを取り囲み、その平均屈折率が第1コア領域1
より高く設定されている第2コア領域2と、それを取り
囲み主媒質4中に主媒質4とは異なる光学特性を有する
副媒質5からなる領域が点在して配置されているクラッ
ド領域3とを備え、クラッド領域3の平均屈折率は、第
1コア領域1と第2コア領域2を合わせたコア領域全体
の平均屈折率より低く設定されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光伝送路及び分散
補償器として好適な光ファイバに関する。
【0002】
【従来の技術】図12は、従来から知られているいわゆ
る微細構造を有する光ファイバの断面図である。この光
ファイバは、図12に示すように、シリカガラス71の
材料中に多数の微細構造であるボイド72(空孔)が設
けられた断面構造を有する。ボイド72が無い断面中心
部分がコア領域73であり、このコア領域73を包囲
し、ボイド72を多数含む部分がクラッド領域74であ
る。
【0003】このような微細構造を含む光ファイバの光
閉じ込めの原理は、定性的には実効屈折率という概念を
用いて説明される(例えば、T.A.Birksら、Optics Lette
rs Vol.22 p.961(1997))。微細構造を有するため、
厳格に考えるとコア領域73及びクラッド領域74内で
屈折率は複雑な分布を示すはずであるが、各領域を均一
な媒体で置換して光導波特性を近似したときの、この均
一な媒体の屈折率を実効屈折率と呼ぶ。実効屈折率n
effは、次の不等式を満たす。
【0004】
【数1】
【0005】ここで、nは屈折率、fは容積分率を表
す。また、添字1はシリカガラス、添字2は空気を表
す。容積分率については、f1+f2=1が成り立つ。通
常、n1>n2であるから、式(1)の最左辺と最右辺は、
2の増大に伴って小さくなる。従って、ボイド72を
多数含むクラッド領域74の実効屈折率は、コア領域7
3の実効屈折率よりも小さくなり、通常の光ファイバと
同様に光閉じ込め効果が実現される。
【0006】このような実効屈折率のモデルは、微細構
造スケールに比べて光の波長が長い場合については妥当
であると考えられる。しかし、光の波長が短くなってい
くことに伴い、屈折率の高い場所に光が局在するように
なるため、実効屈折率は上昇し、屈折率分布を持つ構造
を均一な媒質で置換できるという仮定も、妥当性を失っ
ていくと考えられる。
【0007】一方、このような光ファイバよりも大きい
負分散を持つ光ファイバが、例えば、特開平10−95
628号公報に開示されている。この光ファイバは、上
記のような微細構造を有するが、クラッド領域が内部ク
ラッド領域と外部クラッド領域とによって構成され、内
部クラッド領域の実効屈折率が外部クラッド領域の実効
屈折率よりも小さいという特徴を有する。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記公
報に開示されている光ファイバは、均一なクラッド構造
を有する光ファイバに比べて負分散が増大する一方、実
効コア断面積の低下、といった問題を有する。
【0009】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであり、均一なクラッド構造を有する光ファイバ
よりも負分散を大きくすると共に、実効コア断面積を大
きくさせることができる光ファイバを提供することを目
的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明に係る光ファイバは、ファイバ軸に沿って伸
びるコア領域と、このコア領域を包囲してファイバ軸に
沿って伸びるクラッド領域と、を有し、少なくともクラ
ッド領域中にクラッド領域を構成する主媒質と異なる光
学特性を有する副媒質が主媒質を分断することなく点在
して配置されている光ファイバにおいて、このコア領域
は、中心に空洞部を有する中心コア領域と、この中心コ
ア領域を包囲し、中心コア領域の平均屈折率より高い平
均屈折率を有する外側コア領域とがともにファイバ軸に
沿って伸びて構成されており、コア領域全体の平均屈折
率がクラッド領域の平均屈折率より高く設定されている
ことを特徴とする。
【0011】このように構成することにより、本発明に
係る光ファイバの構造分散は、均一クラッド構造を有す
る光ファイバの構造分散よりも負に大きくなる。また、
実効コア断面積も大きくなる。このため、大きな負分散
を得ることができると共に、従来の光ファイバと比較し
てより大きな実効コア断面積を確保することができる。
【0012】この光ファイバは、コア領域とクラッド領
域を構成する主媒質がシリカガラススであって、空洞部
を伝搬する光パワーの全光パワーに対する割合が1%以
上であることが好ましく、10%以上であればより好ま
しい。
【0013】このような光ファイバは、低非線形性、低
伝送損失の光伝送路の実現に適している。従来技術で
は、光ファイバを伝搬する光パワーのほとんどすべてが
主媒質中を伝搬するため、光ファイバにおける非線形性
や伝送損失は主媒質のそれに事実上等しくなる。しか
し、空洞部を伝搬する光パワーの割合を大きくすること
により、光ファイバにおける非線形性および伝送損失
は、空洞部と主媒質との中間的な値になる。そして、空
洞部に低非線形性と低伝送損失を有する不活性気体、乾
燥空気を封入するか、真空とすることで、低非線形性、
低伝送損失の光伝送路が実現できる。なお、シリカガラ
スには、Ge、F、B、P、Tiなどを添加してもよ
く、それによって伝送特性に変化を与えることができ
る。
【0014】この空洞部は少なくとも長手方向で一端が
閉止されていることが好ましく、両端を閉止した空洞部
を長手方向に周期的に配置すればより好ましい。
【0015】この構成により、ファイバ端に開いた空洞
部に汚染物質が侵入することによる伝送損失の発生を防
止できる。さらに、空洞部が閉止された部分が周期的に
存在することにより、これらの部分においてファイバを
切断して他の光部品との間で光結合を実現することが容
易になる。
【0016】この空洞部内は真空であってもよく、ある
いは空洞部内には光利得性の気体が封入されていても好
ましい。空洞部を真空とすることにより、低非線形性、
低伝送損失を実現できる。また、空洞部に光利得性の気
体を封入することにより、光増幅用ファイバを実現でき
る。この光ファイバでは、主媒質を伝搬する光パワーの
割合が低いために、高パワーまで増幅しても非線形光学
効果がおきにくい。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、添付図面に基づき、本発明
の実施の形態について説明する。なお、各図において同
一要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略す
る。また、図面の寸法比率は、説明のものと必ずしも一
致していない。
【0018】図1は、本発明係る光ファイバの断面にお
ける領域区分を示す図であり、図2は、上記実施の形態
に係る光ファイバの微細構造を説明する断面図である。
図1に示すように、本実施の形態では、断面が、第1コ
ア領域1と、第1コア領域1を包囲する第2コア領域2
と、第2コア領域2を包囲するクラッド領域3とから構
成される。第1コア領域1と、第2コア領域2とを合わ
せてコア領域10と呼ぶ。また、これらの各領域は、図
2に示すように、主媒質としてのシリカガラス4と副媒
質としての多数のボイド5とから構成されている。
【0019】以下の説明においては、各領域の屈折率と
して平均屈折率という概念を用いる。実効屈折率は、近
似を用いて定義されるために、定義があいまいであり、
構造の記述には適さないため、これを用いない。図3
は、本実施形態の光ファイバにおいて平均屈折率の求め
方を説明する図である。ある領域で着目した一つのボイ
ド5xについて、それを取り囲む全てのボイド5との間
に垂直二等分線を引く。これらの垂直二等分線によって
区画され、内部に1個のボイド5xのみを含む多角形を
定義する。これをセル6と呼ぶ。このセル6において、
平均屈折率navgを次式によって算出する。
【0020】
【数2】
【0021】ただし、ngはファイバ材料部分の屈折率、
hは、ポイド5x部分の屈折率であり、Acellはセル
6全体の面積、Aholeはボイド5xの面積を表す。所定
の領域の平均屈折率Navgは、その領域に含まれるセル
6のセル番号をj〜kとし、i番目のセル6の平均屈折
率をnavg,i、セル面積をAcell,iとすると、次式で表
すことができる。
【0022】
【数3】
【0023】本実施形態においては、コア領域10の平
均屈折率をクラッド領域3の平均屈折率より高く設定し
ていることを特徴とする。各領域の平均屈折率N
avgは、ボイド5の大きさを調整することで設定するこ
とが可能である。すなわち、単位断面積当たりのボイド
5の断面積を増加又は減少することによって、主媒質で
あるシリカガラス4と副媒質であるボイド5との割合が
増減するため、その領域の平均屈折率Navgを任意の値
に設定することができる。
【0024】本発明者らはボイド5の径、ピッチの異な
る3種類の光ファイバ(実施例1〜3と呼ぶ)を作成
し、これらと従来型の均一クラッド構造を有する光ファ
イバ(比較例と呼ぶ)とで特性の比較を行ったので、以
下、その結果について報告する。
【0025】実施例1〜3および比較例の光ファイバは
いずれもボイド5のピッチLは一定で層数mは7であ
る。光ファイバのファイバ中心にあるボイド5を中心と
するセル領域が第1コア領域1に該当し、これを取り囲
む6個のセル6が第2コア領域2に相当し、その外側の
162個のセル6がクラッド領域3に相当する。
【0026】実施例1〜3のそれぞれと比較例の各ピッ
チLと各領域におけるボイド5の直径とピッチLの比率
d/Lの分布を表1に示す。
【0027】
【表1】
【0028】表1から明らかなように、実施例1〜3の
各々と比較例とは光ファイバの中心に存在するボイド5
の径のみが異なる。図4は実施例2の断面構造を示す図
である。六方格子上にボイド5a、5b又は5cが並
び、第2コア領域2におけるボイド5bは、他領域にお
けるボイドに比べて径が小さい。これにより、第2コア
領域2の平均屈折率をクラッド領域3の屈折率より増大
させるとともに、第1コア領域の屈折率を第2コア領域
の屈折率より低下させることが可能である。
【0029】図5、図6は、実施例1、実施例3のそれ
ぞれについて、各ボイド5の中心Pをセル6の位置と
し、原点O(ファイバ軸)からPまでの距離をrとし
て、各セルの平均屈折率navgを散布図として表したも
のである。ここでは、材料のシリカガラス4の屈折率を
1.444、空気の屈折率を1として計算した。
【0030】いずれの実施例でも、第2コア領域2で
は、ボイド5の径が小さいために平均屈折率が高くなる
と共に、第1コア領域1ではボイド5の径が大きいため
に平均屈折率が低くなっている。コア領域10全体の平
均屈折率は、いずれの実施例においてもクラッド領域3
の平均屈折率より高くなる。
【0031】図7は、各実施例1〜3と比較例における
構造分散Dwgと実効コア断面積Aef fを比較した結果で
ある。左側の縦軸は構造分散Dwg、右側の縦軸は実効コ
ア断面積Aeff、横軸は光波長λである。破線は基底モ
ード、実線は高次モードの特性を示す。実施例1〜3、
比較例のいずれも、1.5μm付近に高次モードのカッ
トオフを有する。構造分散Dwgに関しては、比較例に対
して、実施例1、実施例2、実施例3の順で次第に負に
大きくなっている。実効コア断面積Aeffに関しても同
様に比較例に対して、実施例1、実施例2、実施例3の
順で次第に大きくなっている。このように、本実施形態
によれば、大きな負分散が得られると共に、大きな実効
コア断面積Aeffを得ることができることが確認され
た。
【0032】このように、大きな実効コア断面積を有す
るので、非線型光学現象の発生を抑制することができ、
伝送品質の向上を図ることができる。また、大きな負分
散を有するので、正の波長分散を補償するのに必要なフ
ァイバ長が短くて済む。
【0033】上述の実施形態においては、コア領域、ク
ラッド領域にはボイドを形成し、内部には空気が満たさ
れている例を説明してきたが、第1コア領域1以外につ
いては、ボイドに代えて主媒質たる光ファイバ材料とは
屈折率の異なる媒質で微細構造領域を形成してもよい。
また、第1コア領域1のボイド5aについても、内部を
真空としたり、光利得性の物質で満たしてもよい。
【0034】真空とすることにより、低伝送損失と低非
線形性を実現できる。また、光利得性の物質で満たすこ
とにより、シリカガラスでの非線形光学効果が抑えられ
た光増幅用ファイバを実現できる。
【0035】ここで、ボイド5を伝搬する光のパワーは
光ファイバを伝搬する光パワーの1%以上であることが
好ましく、10%以上であればさらに好ましい。このよ
うに空洞部を伝搬する光パワーを増大させるには、図8
に示されるような構造が適している。
【0036】図8に示される実施形態においては、第1
コア領域1c、第2コア領域2c、クラッド領域3cの
それぞれが主媒質であるシリカガラス4c中に副媒質で
あるボイド5cを設けることで構成されており、それぞ
れの領域における孔径/ピッチの比率d/Lは、0.8
6、0.77、0.80に設定されている。
【0037】図9は、ピッチLを0.8μm〜1.8μ
mの間で変化させた場合の波長1550nmにおける空
洞部を伝搬する光パワーの割合Fvoid、実効コア面積A
effを示している。ここで、図中には実効コア面積とし
て2つの異なる値Aeff1、Aeff2を示しているが、このう
ちAeff1は、次式で与えられる通常の定義による値であ
る。
【0038】
【数4】
【0039】ここで、太字のEは、光電界であり、Ωは
ファイバ断面全体である。(4)式で定義される実効コア
断面積は、通常の光ファイバにおける非線形性の指標と
しては役立つが、本発明のような非線形性を無視できる
副媒質を含む光ファイバではむしろ、次式で定義される
実効コア断面積Aeff2を指標として用いるべきである。
【0040】
【数5】
【0041】ここでΩ1は、主媒質の領域(非線形性を
無視できる副媒質の領域を除いた領域)を示す。
【0042】図9より明らかなように、この光ファイバ
では、副媒質領域を伝搬する光パワーの割合Fvoidが2
5%以上と高い。そして、Aeff2がAeff1より高いが、こ
れは非線形性の副媒質に光パワーの一部を伝搬させるこ
とによって、ファイバの非線形性が低減されることを示
している。
【0043】本発明に係る光ファイバは断面構造が軸方
向に一様である必要はない。例えば、図10に縦断面構
造を示すように、空洞部が閉止されている箇所(図11
に横断面を示す箇所)が軸方向に1ヶ所ないし数ヶ所設
けられていてもよい。また、この閉止されている箇所を
複数設ける場合は、閉止箇所を軸方向で周期的に配置す
ることが好ましい。
【0044】その結果、ファイバ端に開いた空洞部へ
の、水蒸気などの汚染物質の侵入を防ぐことができる。
そのため、他の光部品との光結合の実現に伴う伝送損失
の発生を防止することができる。さらに、ファイバの軸
方向に閉止部が周期的に存在することにより、接続の必
要性が生じた際に、これらの閉止部においてファイバを
切断して接続することができ、低損失の接続が容易とな
る。
【0045】ここでは、コア空洞部5aのみを周期的に
閉止する形態を図示したが、他のボイド5についても同
じ周期で閉止する構造をとってもよい。
【0046】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る光フ
ァイバの構造分散は、均一クラッド構造を有する光ファ
イバの構造分散よりも負に大きくなる。また、実効コア
断面積も大きくなる。このため、大きな負分散を得るこ
とができると共に、従来の光ファイバと比較してより大
きな実効コア断面積を確保することができる。
【0047】さらに、空洞部を伝搬する光パワーの割合
を大きくすることで、空洞部に不活性気体、乾燥空気を
封入するか、真空とすることで、低非線形性、低伝送損
失の光伝送路が実現できる。空洞部に光利得性の気体を
封入すれば、光増幅用ファイバを実現でき、主媒質を伝
搬する光パワーの割合が低いために、高パワーまで増幅
しても非線形光学効果がおきにくい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る光ファイバの断面における領域区
分を示す図である。
【図2】図1の光ファイバの構造を示す横断面図であ
る。
【図3】本発明における平均屈折率の定義を説明する図
である。
【図4】実施例2の光ファイバの断面構造を示す図であ
る。
【図5】実施例1内の平均屈折率分布を示す散布図であ
る。
【図6】実施例3内の平均屈折率分布を示す散布図であ
る。
【図7】実施例1〜3と比較例の構造分散と実効コア断
面積の計算結果を比較して示す図である。
【図8】本発明に係る光ファイバのさらに別の実施形態
の構造を示す横断面図である。
【図9】図8の光ファイバについてピッチに対して空洞
部を伝搬する光パワーの割合と実効コア断面積をプロッ
トしたグラフである。
【図10】本発明に係る光ファイバの別の実施形態の構
造を示す縦断面図である。
【図11】図10のXI−XI線断面図である。
【図12】従来から知られている微細構造を含む光ファ
イバの断面図である。
【符号の説明】
1…第1コア領域、2…第2コア領域、3…クラッド領
域、4…主媒質、5…副媒質(空孔=ボイド)、6…セ
ル、10…コア領域。
フロントページの続き (72)発明者 笹岡 英資 神奈川県横浜市栄区田谷町1番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 Fターム(参考) 2H050 AB04Z AC28 AC62 AC84

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ファイバ軸に沿って伸びるコア領域と、
    このコア領域を包囲してファイバ軸に沿って伸びるクラ
    ッド領域と、を有し、少なくともクラッド領域中にクラ
    ッド領域を構成する主媒質と異なる光学特性を有する副
    媒質が主媒質を分断することなく点在して配置されてい
    る光ファイバにおいて、 前記コア領域は、中心に空洞部を有する中心コア領域
    と、この中心コア領域を包囲し、前記中心コア領域の平
    均屈折率より高い平均屈折率を有する外側コア領域とが
    ともにファイバ軸に沿って伸びて構成されており、前記
    コア領域全体の平均屈折率が前記クラッド領域の平均屈
    折率より高く設定されている光ファイバ。
  2. 【請求項2】 前記コア領域および前記クラッド領域を
    構成する主媒質はシリカガラスであって、前記空洞部を
    伝搬する光パワーの全光パワーに対する割合が1%以上
    である請求項1記載の光ファイバ。
  3. 【請求項3】 前記空洞部を伝搬する光パワーの全光パ
    ワーに対する割合が10%以上である請求項2記載の光
    ファイバ。
  4. 【請求項4】 前記空洞部はその長手方向の少なくとも
    一端が閉止されている請求項1記載の光ファイバ。
  5. 【請求項5】 長手方向の両端が閉止された複数の前記
    空洞部が長手方向に周期的に配置されている請求項4記
    載の光ファイバ。
  6. 【請求項6】 前記空洞部内は真空である請求項1記載
    の光ファイバ。
  7. 【請求項7】 前記空洞部内には光利得性の気体が封入
    されている請求項1記載の光ファイバ。
JP2001009294A 2000-01-21 2001-01-17 光ファイバ Pending JP2001272569A (ja)

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