JP2001266586A - Read only semiconductor memory - Google Patents

Read only semiconductor memory

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JP2001266586A
JP2001266586A JP2000073593A JP2000073593A JP2001266586A JP 2001266586 A JP2001266586 A JP 2001266586A JP 2000073593 A JP2000073593 A JP 2000073593A JP 2000073593 A JP2000073593 A JP 2000073593A JP 2001266586 A JP2001266586 A JP 2001266586A
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JP
Japan
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voltage
bit line
channel transistor
circuit
memory cell
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JP2000073593A
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Japanese (ja)
Inventor
Tomoyuki Kawai
智之 河合
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Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the circuit scale of a read only semiconductor memory without using dummy cells. SOLUTION: This device is provided with a memory cell 1 storing information, a bit line 5 by which voltage is transferred in accordance with the storage information of a memory cell 1, a pre-charge circuit 3 for pre-charging the bit line 5, and a sense amplifier circuit 41 for deciding the storage information on the memory cell 1 by comparing the voltage VBIT of the bit line 5 with reference voltage VREF generated from the pre-charge circuit 3.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体読み出し専
用メモリに関するものであり、特に、そのチップサイズ
を低減するための技術に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor read-only memory, and more particularly to a technique for reducing a chip size.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体読み出し専用メモリ(以後、RO
Mと記す)は、図4に示すブロック図のように、情報を
記憶するメモリセル1と、メモリセル1の記憶情報に応
じてビット線5に流れる電流を検知し電圧に変換された
ビット線電圧をリファレンス電圧VREFと比較するこ
とによって、メモリセル1の記憶情報を判定するセンス
アンプ回路4と、リファレンス線6に流れる電流を検知
しリファレンス電圧VREFを発生するダミーセル2
と、ビット線5およびリファレンス線6をプリチャージ
するためのプリチャージ回路3とを備えている。図4に
示されるROMにおいては、ビット線電圧がリファレン
ス電圧VREFよりも高ければ、記憶情報は“1”であ
ると判断され、低ければ“0”であると判断される。
(特開平5−325600号公報参照) 図5は、図4のブロック図をより具体的に示した回路図
である。プリチャージ回路3は、Nチャンネルトランジ
スタQ1とノアゲートNOR2とから構成される。Nチ
ャンネルトランジスタQ1のドレイン、ゲート、および
ソースは、それぞれ電源(Vcc)、ノアゲートNOR
2の出力、およびノードN1に接続される。ノアゲート
NOR2の一方の入力にはチップイネーブルバー信号C
EB(選択時:”L”レベル、非選択時:”H”レベ
ル)が与えられ、他方の入力にはノードN1が接続され
る。ノードN1には、NチャンネルトランジスタQ2及
びQ3のドレインが接続される。Nチャンネルトランジ
スタQ2及びQ3のゲートにはプリチャージ信号PRが
入力される。NチャンネルトランジスタQ2及びQ3の
ソースには、それぞれビット線5およびリファレンス線
6が接続される。ビット線5はメモリセル1に接続さ
れ、リファレンス線6はダミーセル2に接続される。
2. Description of the Related Art Semiconductor read only memory (hereinafter referred to as RO)
M) is a memory cell 1 for storing information and a bit line converted to a voltage by detecting a current flowing through a bit line 5 in accordance with information stored in the memory cell 1 as shown in the block diagram of FIG. By comparing the voltage with the reference voltage VREF, a sense amplifier circuit 4 that determines the storage information of the memory cell 1 and a dummy cell 2 that detects the current flowing through the reference line 6 and generates the reference voltage VREF
And a precharge circuit 3 for precharging the bit line 5 and the reference line 6. In the ROM shown in FIG. 4, if the bit line voltage is higher than the reference voltage VREF, the stored information is determined to be "1", and if the bit line voltage is lower than the reference voltage VREF, it is determined to be "0".
FIG. 5 is a circuit diagram more specifically showing the block diagram of FIG. The precharge circuit 3 includes an N-channel transistor Q1 and a NOR gate NOR2. The drain, gate and source of the N-channel transistor Q1 are a power supply (Vcc) and a NOR gate NOR, respectively.
2 and to the node N1. One input of the NOR gate NOR2 has a chip enable bar signal C
EB (when selected: "L" level, when not selected: "H" level) is applied, and the other input is connected to node N1. The drains of N-channel transistors Q2 and Q3 are connected to node N1. The precharge signal PR is input to the gates of the N-channel transistors Q2 and Q3. The bit line 5 and the reference line 6 are connected to the sources of the N-channel transistors Q2 and Q3, respectively. Bit line 5 is connected to memory cell 1, and reference line 6 is connected to dummy cell 2.

【0003】図5において、プリチャージ回路3によっ
て、ノードN1が一定のプリチャージ電圧に充電される
原理を説明する。この回路が生成するプリチャージ電圧
は、ノアゲートNOR2の反転電圧を調整することによ
って決定される。
Referring to FIG. 5, the principle of charging the node N1 to a predetermined precharge voltage by the precharge circuit 3 will be described. The precharge voltage generated by this circuit is determined by adjusting the inversion voltage of the NOR gate NOR2.

【0004】最初、ノードN1は”L”レベルとする
と、読み出し動作が開始し、信号CEBが”L”レベル
になると、ノアゲートNOR2の出力は”H”レベルに
なるため、NチャンネルトランジスタQ1がオンする。
すると、ノードN1はNチャンネルトランジスタQ1の
ゲート電圧よりしきい値電圧だけ低い電圧まで充電され
る。しかし、このノードN1の電圧がノアゲートNOR
2の反転電圧を越えると、ノアゲートNOR2の出力
は”L”レベルになるため、Nチャンネルトランジスタ
Q1がオフし、ノードN1への充電は止まる。逆に、ノ
ードN1の電圧がノアゲートNOR2の反転電圧より下
がると、ノアゲートNOR2の出力は”H”レベルにな
るため、NチャンネルトランジスタQ1はオンし、ノー
ドN1は充電される。
First, when the node N1 is at "L" level, a read operation is started. When the signal CEB is at "L" level, the output of the NOR gate NOR2 is at "H" level, so that the N-channel transistor Q1 is turned on. I do.
Then, node N1 is charged to a voltage lower than the gate voltage of N-channel transistor Q1 by a threshold voltage. However, the voltage of this node N1 becomes NOR gate NOR.
When the inverted voltage exceeds 2, the output of the NOR gate NOR2 becomes "L" level, so that the N-channel transistor Q1 is turned off and the charging of the node N1 is stopped. Conversely, when the voltage at the node N1 falls below the inverted voltage of the NOR gate NOR2, the output of the NOR gate NOR2 goes to "H" level, so that the N-channel transistor Q1 turns on and the node N1 is charged.

【0005】このようにして、ノードN1のプリチャー
ジ電圧はノアゲートNOR2の反転電圧付近で安定す
る。通常、ノードN1のプリチャージ電圧は電源電圧の
半分くらいの電圧に設定される。例えば、電源電圧を
3.3Vとすると、ノードN1のプリチャージ電圧は
1.65Vである。
In this way, the precharge voltage of the node N1 is stabilized near the inverted voltage of the NOR gate NOR2. Normally, the precharge voltage of the node N1 is set to about half of the power supply voltage. For example, if the power supply voltage is 3.3 V, the precharge voltage of the node N1 is 1.65 V.

【0006】次に、メモリセルからの読み出し動作につ
いて説明する。
Next, a read operation from a memory cell will be described.

【0007】読み出し動作が開始後しばらくは、プリチ
ャージ信号PRは”H”レベルであるので、Nチャンネ
ルトランジスタQ2およびQ3はオンしており、ビット
線電圧VBITおよびリファレンス電圧VREFのレベ
ルは共にノードN1のプリチャージ電圧と同じ電圧
(1.65V)になっている。
Since the precharge signal PR is at "H" level for a while after the start of the read operation, the N-channel transistors Q2 and Q3 are on, and the levels of the bit line voltage VBIT and the reference voltage VREF are both at the node N1. Is the same voltage (1.65 V) as the precharge voltage.

【0008】その後、プリチャージ信号PRは”L”レ
ベルになり、NチャンネルトランジスタQ2およびQ3
はオフされる。ここで、メモリセルおよびダミーセルが
ワード線選択およびカラム選択されると、ビット線電圧
VBITはメモリセルの記憶情報に従って、異なる電圧
に近づいていく。このビット線電圧VBITは、メモリ
セルのオン抵抗と抵抗R1との比で決まる電圧である。
例えば、メモリセルの記憶情報が”0”の場合には、
1.45Vに近づいていき、メモリセルの記憶情報が”
1”の場合には、1.65Vのままである。一方、リフ
ァレンス電圧VREFはダミーセルのオン抵抗と抵抗R
2との比で決まる電圧に近づいていく。例えば、この電
圧は1.55Vである。
Thereafter, precharge signal PR attains "L" level, and N-channel transistors Q2 and Q3
Is turned off. Here, when a memory cell and a dummy cell are selected for a word line and a column, the bit line voltage VBIT approaches a different voltage according to information stored in the memory cell. This bit line voltage VBIT is a voltage determined by the ratio between the ON resistance of the memory cell and the resistance R1.
For example, when the storage information of the memory cell is “0”,
As the voltage approaches 1.45V, the stored information of the memory cell becomes "
In the case of “1”, the voltage remains at 1.65 V. On the other hand, the reference voltage VREF is the ON resistance of the dummy cell and the resistance R.
It approaches the voltage determined by the ratio of 2. For example, this voltage is 1.55V.

【0009】抵抗R1およびR2は、プリチャージ信号
PRが”L”レベルで、NチャネルトランジスタQ2お
よびQ3がオフ時に、リークにより生じるビット線5お
よびリファレンス線6の電位低下を補償し、また、セン
ス時のバランスをとるものであり、該抵抗R1およびR
2の抵抗値は、メモリセルおよびダミーセルのオン抵抗
値より、充分に大きな値に設定されている。
When the precharge signal PR is at "L" level and the N-channel transistors Q2 and Q3 are off, the resistors R1 and R2 compensate for the potential drop of the bit line 5 and the reference line 6 caused by leakage, and sense The resistors R1 and R1
The resistance value of 2 is set to a value sufficiently larger than the on-resistance values of the memory cell and the dummy cell.

【0010】そして、ビット線電圧VBITをセンスア
ンプ回路4によってリファレンス電圧VREFと比較す
ることによってメモリセル1の記憶情報をセンスアンプ
回路4から出力する。
Then, by comparing the bit line voltage VBIT with the reference voltage VREF by the sense amplifier circuit 4, information stored in the memory cell 1 is output from the sense amplifier circuit 4.

【0011】図6に、通常のセンスアンプ回路の構成を
示す。PチャンネルトランジスタQ4およびQ5のゲー
トに、それぞれビット線電圧VBITおよびリファレン
ス電圧VREFが入力される。Pチャンネルトランジス
タQ4およびQ5のソースは接続され、抵抗Rを介して
電源Vccに接続される。PチャンネルトランジスタQ
4およびQ5のドレインは、それぞれNチャンネルトラ
ンジスタQ6およびQ7のドレインに接続される。Nチ
ャンネルトランジスタQ6およびQ7のソースは共に接
地される。NチャンネルトランジスタQ6のドレイン、
ゲートおよびNチャンネルトランジスタQ7のゲートは
接続され、NチャンネルトランジスタQ7のドレイン
が、センスアンプ回路4の出力SAOUTとなる。ビッ
ト線電圧VBITとリファレンス電圧VREFを精度よ
く比較するために、PチャンネルトランジスタQ4およ
びQ5の形状は等しくなければならない。こうした通常
のセンスアンプ回路により、メモリセルの記憶情報が”
1”でありビット線電圧VBITがリファレンス電圧V
REFよりも高い場合には、センスアンプ出力SAOU
Tは“H”レベルとなり、メモリセルの記憶情報が”
0”でありビット線電圧VBITがリファレンス電圧V
REFよりも低い場合には、センスアンプ出力SAOU
Tは“L”レベルとなる。
FIG. 6 shows a configuration of a normal sense amplifier circuit. Bit line voltage VBIT and reference voltage VREF are input to the gates of P-channel transistors Q4 and Q5, respectively. The sources of P-channel transistors Q4 and Q5 are connected, and are connected to power supply Vcc via resistor R. P-channel transistor Q
The drains of 4 and Q5 are connected to the drains of N-channel transistors Q6 and Q7, respectively. The sources of N-channel transistors Q6 and Q7 are both grounded. The drain of the N-channel transistor Q6,
The gate and the gate of the N-channel transistor Q7 are connected, and the drain of the N-channel transistor Q7 becomes the output SAOUT of the sense amplifier circuit 4. In order to accurately compare the bit line voltage VBIT and the reference voltage VREF, the shapes of the P-channel transistors Q4 and Q5 must be equal. With such a normal sense amplifier circuit, the information stored in the memory cell
1 "and the bit line voltage VBIT is the reference voltage V
If it is higher than REF, the sense amplifier output SAOU
T becomes “H” level, and the storage information of the memory cell becomes “H”.
0 "and the bit line voltage VBIT is the reference voltage V
If it is lower than REF, the sense amplifier output SAOU
T becomes "L" level.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来のROM
では、リファレンス電圧VREFを発生させるためのダ
ミーセルが必要であった。このようなダミーセルは、メ
モリセルとの相似性を持たすために、レイアウト的に、
メモリセルと全く同じ構造に形成すると共に、リファレ
ンス電圧VREFを発生させるために、ダミーセルの同
一行にオンセルとオフセルとを混在させる。更に、隣接
セルへの回り込みを考慮した状態を実現させるために、
ダミーセルは1行当たり複数のメモリセルトランジスタ
(例えば16カラム)を持ち、メモリセルと同じ行数か
ら構成される。
The above-mentioned conventional ROM
Thus, a dummy cell for generating the reference voltage VREF was required. Such a dummy cell has a layout similar to that of a memory cell.
On-cells and off-cells are mixed in the same row of dummy cells in order to form the same structure as the memory cells and generate the reference voltage VREF. Furthermore, in order to realize a state in which wraparound to adjacent cells is considered,
The dummy cell has a plurality of memory cell transistors (for example, 16 columns) per row, and has the same number of rows as the memory cells.

【0013】このように、従来のダミーセルはかなり大
きな回路規模を有するものであった。
As described above, the conventional dummy cell has a considerably large circuit scale.

【0014】本発明は、上述のような従来の半導体読み
出し専用メモリの問題点に鑑みてなされたものであっ
て、ダミーセルを用いないことによって半導体読み出し
専用メモリの回路規模を削減することを目的とするもの
である。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the conventional semiconductor read-only memory, and has as its object to reduce the circuit scale of the semiconductor read-only memory by not using a dummy cell. Is what you do.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体読み出し
専用メモリは、情報を記憶するメモリセルと、前記メモ
リセルの記憶情報に応じて電圧が転送されるビット線
と、前記ビット線をプリチャージするためのプリチャー
ジ回路と、前記ビット線の電圧を前記プリチャージ回路
から発生されるリファレンス電圧と比較することによっ
て前記メモリセルの記憶情報を判定するセンスアンプ回
路とを備える。
A semiconductor read-only memory according to the present invention comprises a memory cell for storing information, a bit line to which a voltage is transferred in accordance with information stored in the memory cell, and a precharge for the bit line. And a sense amplifier circuit for comparing the voltage of the bit line with a reference voltage generated from the precharge circuit to determine the storage information of the memory cell.

【0016】プリチャージ期間中には、前記プリチャー
ジ回路からの出力が前記ビット線に供給され、プリチャ
ージ期間終了後に前記プリチャージ回路から前記ビット
線への供給が遮断され、選択されたメモリセルに流れる
電流が電圧に変換され前記ビット線に転送され、前記セ
ンスアンプ回路において前記ビット線に転送された電圧
が前記プリチャージ回路から発生されるリファレンス電
圧と比較され、前記メモリセルの記憶情報を出力する。
During the precharge period, an output from the precharge circuit is supplied to the bit line, and after the precharge period ends, the supply from the precharge circuit to the bit line is cut off. Is converted to a voltage and transferred to the bit line, and the voltage transferred to the bit line in the sense amplifier circuit is compared with a reference voltage generated from the precharge circuit, and the storage information of the memory cell is Output.

【0017】また、前記センスアンプ回路において、前
記ビット線電圧が第1の差動入力Pチャネルトランジス
タに与えられ、前記プリチャージ回路から発生されるリ
ファレンス電圧が第2の差動入力Pチャネルトランジス
タに与えられ、前記第1の差動入力Pチャネルトランジ
スタのコンダクタンスが前記第2の差動入力Pチャネル
トランジスタのそれより小さいことを特徴とする。
In the sense amplifier circuit, the bit line voltage is applied to a first differential input P-channel transistor, and the reference voltage generated from the precharge circuit is applied to a second differential input P-channel transistor. Wherein the conductance of the first differential input P-channel transistor is smaller than that of the second differential input P-channel transistor.

【0018】また、前記センスアンプ回路において、前
記ビット線電圧が第1の差動入力Nチャネルトランジス
タに与えられ、前記プリチャージ回路から発生されるリ
ファレンス電圧が第2の差動入力Nチャネルトランジス
タに与えられ、前記第1の差動入力Nチャネルトランジ
スタのコンダクタンスが前記第2の差動入力Nチャネル
トランジスタのそれより大きいことを特徴とする。
In the sense amplifier circuit, the bit line voltage is applied to a first differential input N-channel transistor, and the reference voltage generated from the precharge circuit is applied to a second differential input N-channel transistor. Wherein the conductance of the first differential input N-channel transistor is greater than that of the second differential input N-channel transistor.

【0019】かかる本発明の半導体読み出し専用メモリ
によれば、プリチャージ回路より出力されるプリチャー
ジ電圧を、センスアンプ回路に於けるリファレンス電圧
として利用することにより、従来の回路構成では必要で
あったダミーセルを不要とすることができるものであ
る。
According to the semiconductor read-only memory of the present invention, the precharge voltage output from the precharge circuit is used as a reference voltage in the sense amplifier circuit, which is necessary in the conventional circuit configuration. This eliminates the need for dummy cells.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態に基づ
いて、本発明を詳細に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments of the present invention.

【0021】図1は、本発明の半導体読み出し専用メモ
リの読み出し回路を示すブロック図である。情報を記憶
するメモリセル1と、メモリセル1の記憶情報に応じて
ビット線5に流れる電流を検知し電圧に変換されたビッ
ト線電圧VBITをリファレンス電圧VREFと比較す
ることによってメモリセル1の記憶情報を判定するセン
スアンプ回路41と、ビット線5およびリファレンス線
6をプリチャージするためのプリチャージ回路3とを備
えている。図4の従来回路と比べると、ダミーセル2が
削除され、回路規模が小さくなっている。図1におい
て、図4と同じ符号のブロックは同一のものである。た
だし、リファレンス電圧VREFはプリチャージ回路3
から発生される電圧である。
FIG. 1 is a block diagram showing a read circuit of a semiconductor read-only memory according to the present invention. A memory cell 1 for storing information, and a current flowing through a bit line 5 is detected according to the storage information of the memory cell 1, and the bit line voltage VBIT converted into a voltage is compared with a reference voltage VREF to store the data in the memory cell 1. A sense amplifier circuit 41 for determining information and a precharge circuit 3 for precharging the bit line 5 and the reference line 6 are provided. Compared with the conventional circuit of FIG. 4, the dummy cell 2 is eliminated and the circuit scale is reduced. In FIG. 1, blocks with the same reference numerals as those in FIG. 4 are the same. However, the reference voltage VREF is applied to the precharge circuit 3
Is the voltage generated from

【0022】次に、本発明の好適な実施形態について、
図面を参照して説明する。図2は、本発明の一実施形態
の構成図であり、図1のブロック図をより具体的に示し
た回路図である。
Next, a preferred embodiment of the present invention will be described.
This will be described with reference to the drawings. FIG. 2 is a block diagram of one embodiment of the present invention, and is a circuit diagram more specifically showing the block diagram of FIG.

【0023】図5と同様に、プリチャージ回路3は、N
チャンネルトランジスタQ1とノアゲートNOR2から
構成される。NチャンネルトランジスタQ1のドレイ
ン、ゲート、およびソースは、それぞれ電源(Vc
c)、ノアゲートNOR2の出力、およびノードN1に
接続される。ノアゲートNOR2の一方の入力にはチッ
プイネーブルバー信号CEBが与えられ、他方の入力に
はノードN1が接続される。ノードN1には、Nチャン
ネルトランジスタQ2及びQ3のドレインが接続され
る。NチャンネルトランジスタQ2及びQ3のゲートに
はプリチャージ信号PRが入力される。Nチャンネルト
ランジスタQ2及びQ3のソースには、それぞれビット
線5およびリファレンス線6が接続される。ビット線5
はメモリセル1およびセンスアンプ41の一方の入力に
接続され、リファレンス線6はセンスアンプ41の他方
の入力に接続される。図5の従来回路と比較すると、ダ
ミーセル2が削除されている。
As in FIG. 5, the precharge circuit 3
It comprises a channel transistor Q1 and a NOR gate NOR2. The drain, gate and source of the N-channel transistor Q1 are connected to a power supply (Vc
c), the output of the NOR gate NOR2, and the node N1. One input of NOR gate NOR2 is supplied with chip enable bar signal CEB, and the other input is connected to node N1. The drains of N-channel transistors Q2 and Q3 are connected to node N1. The precharge signal PR is input to the gates of the N-channel transistors Q2 and Q3. The bit line 5 and the reference line 6 are connected to the sources of the N-channel transistors Q2 and Q3, respectively. Bit line 5
Is connected to the memory cell 1 and one input of the sense amplifier 41, and the reference line 6 is connected to the other input of the sense amplifier 41. Compared with the conventional circuit of FIG. 5, the dummy cell 2 is omitted.

【0024】図2のプリチャージ回路3によって、ノー
ドN1が一定のプリチャージ電圧に充電される原理は、
図5の従来回路と同様であるので説明は省略する。電源
電圧を3.3Vとすると、ノードN1のプリチャージ電
圧は1.65Vに設定される。
The principle that the node N1 is charged to a constant precharge voltage by the precharge circuit 3 of FIG.
The description is omitted because it is the same as the conventional circuit of FIG. Assuming that the power supply voltage is 3.3V, the precharge voltage of node N1 is set to 1.65V.

【0025】次に、メモリセルからの読み出し動作につ
いて説明する。
Next, a read operation from a memory cell will be described.

【0026】読み出し動作が開始後しばらくは、プリチ
ャージ信号PRは”H”レベルであるので、Nチャンネ
ルトランジスタQ2およびQ3はオンしており、ビット
線電圧VBITおよびリファレンス電圧VREFのレベ
ルは共にノードN1のプリチャージ電圧と同じ電圧
(1.65V)になっている。その後、プリチャージ信
号PRは”L”レベルになり、Nチャンネルトランジス
タQ2およびQ3はオフされる。ここで、メモリセルが
ワード線選択およびカラム選択されると、図5の従来回
路と同様に、ビット線電圧VBITはメモリセルの記憶
情報にしたがって、異なる電圧に近づいていく。このビ
ット線電圧VBITは、メモリセルのオン抵抗と抵抗R
1との比で決まる電圧である。例えば、メモリセルの記
憶情報が”0”の場合には、1.45Vに近づいてい
き、メモリセルの記憶情報が”1”の場合には、1.6
5Vのままである。一方、リファレンス電圧VREFは
1.65Vのままである。そして、ビット線電圧VBI
Tを、センスアンプ回路41によってリファレンス電圧
VREFと比較することによって、メモリセル1の記憶
情報をセンスアンプ回路41から出力する。
Since the precharge signal PR is at "H" level for a while after the start of the read operation, the N-channel transistors Q2 and Q3 are on, and the bit line voltage VBIT and the reference voltage VREF are both at the node N1. Is the same voltage (1.65 V) as the precharge voltage. Thereafter, the precharge signal PR goes to "L" level, and the N-channel transistors Q2 and Q3 are turned off. Here, when a memory cell is selected for a word line and a column, the bit line voltage VBIT approaches a different voltage according to the storage information of the memory cell, as in the conventional circuit of FIG. This bit line voltage VBIT depends on the on-resistance of the memory cell and the resistance R.
It is a voltage determined by the ratio to 1. For example, when the storage information of the memory cell is “0”, the voltage approaches 1.45 V, and when the storage information of the memory cell is “1”, 1.6.
It remains at 5V. On the other hand, the reference voltage VREF remains at 1.65V. Then, the bit line voltage VBI
By comparing T with the reference voltage VREF by the sense amplifier circuit 41, information stored in the memory cell 1 is output from the sense amplifier circuit 41.

【0027】なお、NチャンネルトランジスタQ3のゲ
ートを常時電源(Vcc)に接続する構成の実施形態
(不図示)も考えられる。
An embodiment (not shown) in which the gate of the N-channel transistor Q3 is always connected to the power supply (Vcc) is also conceivable.

【0028】図3に、本発明の一実施形態に於けるセン
スアンプ回路の一構成例を示す。構成する素子および配
線などの手段は、図6に示した従来回路に用いたセンス
アンプ回路とほぼ同様であるので説明は省略する。異な
るのは、PチャンネルトランジスタQ41およびQ51
のトランジスタサイズのみである。Pチャンネルトラン
ジスタQ41のL/W(チャンネル長/チャンネル幅
比)を、PチャンネルトランジスタQ51のそれより大
きくすることによりコンダクタンスを下げ、ビット線電
圧VBITがリファレンス電圧VREFより低い所定電
圧でセンスアンプ出力が反転するようになっている。例
えば、ビット線電圧VBITがリファレンス電圧VRE
F=1.65Vより0.1Vだけ低い電圧1.55Vで
センスアンプ出力が反転するように、Pチャンネルトラ
ンジスタQ41およびQ51のトランジスタサイズを設
定すると、メモリセルの記憶情報が”0”の場合には、
ビット線電圧VBITは1.45Vになるので、センス
アンプ出力SAOUTは“L”レベルとなり、メモリセ
ルの記憶情報が”1”の場合には、ビット線電圧VBI
Tは1.65Vのままであるので、センスアンプ出力S
AOUTは“H”レベルとなる。
FIG. 3 shows a configuration example of a sense amplifier circuit according to an embodiment of the present invention. Means such as constituent elements and wiring are substantially the same as those of the sense amplifier circuit used in the conventional circuit shown in FIG. The difference is that the P-channel transistors Q41 and Q51
Transistor size. By making the L / W (channel length / channel width ratio) of the P-channel transistor Q41 larger than that of the P-channel transistor Q51, the conductance is reduced, and the sense amplifier output is output at a predetermined voltage where the bit line voltage VBIT is lower than the reference voltage VREF. It is designed to be inverted. For example, when the bit line voltage VBIT is the reference voltage VRE
When the transistor sizes of the P-channel transistors Q41 and Q51 are set such that the output of the sense amplifier is inverted at a voltage of 1.55V that is 0.1V lower than F = 1.65V, when the storage information of the memory cell is "0", Is
Since the bit line voltage VBIT becomes 1.45 V, the sense amplifier output SAOUT becomes “L” level, and when the storage information of the memory cell is “1”, the bit line voltage VBI is set.
Since T remains at 1.65 V, the sense amplifier output S
AOUT becomes "H" level.

【0029】図7に、本発明の一実施形態に於けるセン
スアンプ回路の他の構成例を示す。図3との相違点はト
ランジスタ極性を反転させている点である。
FIG. 7 shows another configuration example of the sense amplifier circuit according to one embodiment of the present invention. The difference from FIG. 3 is that the transistor polarity is inverted.

【0030】NチャンネルトランジスタQ11およびQ
12のゲートに、それぞれビット線電圧VBITおよび
リファレンス電圧VREFが入力される。Nチャンネル
トランジスタQ11およびQ12のソースは接続され、
抵抗R’を介して接地されている。Nチャンネルトラン
ジスタQ11およびQ12のドレインは、それぞれPチ
ャンネルトランジスタQ13およびQ14のドレインに
接続される。PチャンネルトランジスタQ13およびQ
14のソースは共に電源Vccに接続される。Pチャン
ネルトランジスタQ13のドレイン、ゲートおよびPチ
ャンネルトランジスタQ14のゲートは接続され、Pチ
ャンネルトランジスタQ14のドレインが、センスアン
プ回路の出力SAOUTとなる。
N-channel transistors Q11 and Q
The bit line voltage VBIT and the reference voltage VREF are input to the twelve gates, respectively. The sources of N-channel transistors Q11 and Q12 are connected,
It is grounded via a resistor R '. The drains of N-channel transistors Q11 and Q12 are connected to the drains of P-channel transistors Q13 and Q14, respectively. P-channel transistors Q13 and Q
14 are both connected to the power supply Vcc. The drain and gate of the P-channel transistor Q13 are connected to the gate of the P-channel transistor Q14, and the drain of the P-channel transistor Q14 becomes the output SAOUT of the sense amplifier circuit.

【0031】かかる構成において、Nチャンネルトラン
ジスタQ11のL/W(チャンネル長/チャンネル幅
比)を、NチャンネルトランジスタQ12のそれより小
さくすることにより、NチャネルトランジスタQ11の
コンダクタンスを、NチャネルトランジスタQ12のそ
れよりも上げ、ビット線電圧VBITがリファレンス電
圧VREFより低い所定電圧でセンスアンプ出力が反転
するようになっている。例えば、ビット線電圧VBIT
がリファレンス電圧VREF=1.65Vより0.1V
だけ低い電圧1.55Vでセンスアンプ出力が反転する
ように、NチャンネルトランジスタQ11およびQ12
のトランジスタサイズを設定すると、メモリセルの記憶
情報が”0”の場合には、ビット線電圧VBITは1.
45Vになるので、センスアンプ出力SAOUTは
“L”レベルとなり、メモリセルの記憶情報が”1”の
場合には、ビット線電圧VBITは1.65Vのままで
あるので、センスアンプ出力SAOUTは“H”レベル
となる。
In this configuration, the L / W (channel length / channel width ratio) of the N-channel transistor Q11 is made smaller than that of the N-channel transistor Q12, so that the conductance of the N-channel transistor Q11 is reduced. Above that, the sense amplifier output is inverted at a predetermined voltage where the bit line voltage VBIT is lower than the reference voltage VREF. For example, the bit line voltage VBIT
Is 0.1 V from the reference voltage VREF = 1.65 V
N-channel transistors Q11 and Q12 so that the output of the sense amplifier is inverted at a voltage as low as 1.55V.
Is set, when the storage information of the memory cell is “0”, the bit line voltage VBIT becomes 1.
Since the voltage becomes 45 V, the sense amplifier output SAOUT becomes “L” level, and when the storage information of the memory cell is “1”, the bit line voltage VBIT remains at 1.65 V. H "level.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、従来のプリチャージ回路から発生される電圧を
センスアンプ回路のリファレンス電圧に用い、センスア
ンプ回路の入力にオフセットを持たせることにより、従
来のリファレンス電圧の発生に用いられていた、かなり
大きな回路規模を要するダミーセルを削除することが可
能になり、チップ面積の削減を図ることができるもので
ある。
As described above in detail, according to the present invention, the voltage generated from the conventional precharge circuit is used as the reference voltage of the sense amplifier circuit, and the input of the sense amplifier circuit is offset. This makes it possible to eliminate a dummy cell which has been used for generating a reference voltage and which requires a considerably large circuit scale, thereby reducing the chip area.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の半導体読み出し専用メモリの構成を示
すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor read-only memory of the present invention.

【図2】本発明の一実施形態の構成を示す回路図であ
る。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of one embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施形態に用いるセンスアンプ回路
の一構成例を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration example of a sense amplifier circuit used in an embodiment of the present invention.

【図4】従来の半導体読み出し専用メモリの構成を示す
ブロック図である。
FIG. 4 is a block diagram showing a configuration of a conventional semiconductor read-only memory.

【図5】図4のブロック図をより具体的に示す回路図で
ある。
FIG. 5 is a circuit diagram more specifically showing the block diagram of FIG. 4;

【図6】従来のセンスアンプ回路を示す回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram showing a conventional sense amplifier circuit.

【図7】本発明の一実施形態に用いるセンスアンプ回路
の他の構成例を示す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing another configuration example of the sense amplifier circuit used in the embodiment of the present invention;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 メモリセル 3 プリチャージ回路 41 センスアンプ回路 5 ビット線 6 リファレンス線 Q1 Nチャネルトランジスタ NOR2 ノアゲート Q41、Q51 差動入力Pチャネルトランジ
スタ Q11、Q12 差動入力Nチャネルトランジ
スタ
Reference Signs List 1 memory cell 3 precharge circuit 41 sense amplifier circuit 5 bit line 6 reference line Q1 N-channel transistor NOR2 NOR gate Q41, Q51 differential input P-channel transistor Q11, Q12 differential input N-channel transistor

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 情報を記憶するメモリセルと、 前記メモリセルの記憶情報に応じて電圧が転送されるビ
ット線と、 前記ビット線をプリチャージするためのプリチャージ回
路と、 前記ビット線の電圧を、前記プリチャージ回路から発生
されるリファレンス電圧と比較することによって前記メ
モリセルの記憶情報を判定するセンスアンプ回路とを備
えたことを特徴とする半導体読み出し専用メモリ。
1. A memory cell for storing information, a bit line to which a voltage is transferred according to information stored in the memory cell, a precharge circuit for precharging the bit line, and a voltage of the bit line And a sense amplifier circuit for determining the storage information of the memory cell by comparing the reference voltage with a reference voltage generated from the precharge circuit.
【請求項2】 請求項1に記載の半導体読み出し専用メ
モリに於いて、Nチャンネルトランジスタのドレイン、
ゲート、およびソースが、それぞれ電源、ノアゲートの
出力、および前記ノアゲートの第1の入力に接続され、
前記ノアゲートの第2の入力にはチップイネーブルバー
信号が与えられる前記プリチャージ回路を備えたことを
特徴とする半導体読み出し専用メモリ。
2. The semiconductor read-only memory according to claim 1, wherein the drain of the N-channel transistor is
A gate and a source respectively connected to a power supply, an output of the NOR gate, and a first input of the NOR gate;
A semiconductor read-only memory, comprising: the precharge circuit to which a chip enable bar signal is supplied to a second input of the NOR gate.
【請求項3】 請求項1または2に記載の半導体読み出
し専用メモリに於いて、プリチャージ期間中には、前記
プリチャージ回路からの出力が前記ビット線に供給さ
れ、プリチャージ期間終了後に前記プリチャージ回路か
ら前記ビット線への供給が遮断され、選択されたメモリ
セルに流れる電流が電圧に変換され前記ビット線に転送
され、前記センスアンプ回路において、前記ビット線に
転送された電圧が前記プリチャージ回路から発生される
リファレンス電圧と比較され、前記メモリセルの記憶情
報を出力することを特徴とする半導体読み出し専用メモ
リ。
3. The semiconductor read-only memory according to claim 1, wherein an output from said precharge circuit is supplied to said bit line during a precharge period, and said precharge circuit is provided after the end of said precharge period. The supply from the charge circuit to the bit line is cut off, the current flowing in the selected memory cell is converted to a voltage and transferred to the bit line, and in the sense amplifier circuit, the voltage transferred to the bit line is A semiconductor read-only memory which is compared with a reference voltage generated from a charge circuit and outputs information stored in the memory cell.
【請求項4】 請求項1、2または3に記載の半導体読
み出し専用メモリに於いて、前記ビット線電圧が第1の
差動入力Pチャネルトランジスタに与えられ、前記プリ
チャージ回路から発生されるリファレンス電圧が第2の
差動入力Pチャネルトランジスタに与えられ、前記第1
の差動入力Pチャネルトランジスタのコンダクタンスが
前記第2の差動入力Pチャネルトランジスタのそれより
小さい前記センスアンプ回路を備えたことを特徴とする
半導体読み出し専用メモリ。
4. The semiconductor read-only memory according to claim 1, wherein the bit line voltage is applied to a first differential input P-channel transistor, and a reference generated from the precharge circuit. A voltage is applied to a second differential input P-channel transistor;
A semiconductor input-only memory comprising the sense amplifier circuit, wherein the conductance of the differential input P-channel transistor is smaller than that of the second differential input P-channel transistor.
【請求項5】 請求項1、2または3に記載の半導体読
み出し専用メモリに於いて、前記ビット線電圧が第1の
差動入力Nチャネルトランジスタに与えられ、前記プリ
チャージ回路から発生されるリファレンス電圧が第2の
差動入力Nチャネルトランジスタに与えられ、前記第1
の差動入力Nチャネルトランジスタのコンダクタンスが
前記第2の差動入力Nチャネルトランジスタのそれより
大きい前記センスアンプ回路を備えたことを特徴とする
半導体読み出し専用メモリ。
5. The semiconductor read-only memory according to claim 1, wherein said bit line voltage is applied to a first differential input N-channel transistor, and a reference generated from said precharge circuit. A voltage is applied to a second differential input N-channel transistor;
A semiconductor input-only memory comprising the sense amplifier circuit having a conductance of a differential input N-channel transistor larger than that of the second differential input N-channel transistor.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007172779A (en) * 2005-12-26 2007-07-05 Toshiba Corp Semiconductor memory device, and data reading method therefor
JP2009243063A (en) * 2008-03-28 2009-10-22 Shimizu Corp Oil recovery device and oil recovery method

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