JP2001256612A - Thin-film magnetic head and its manufacturing method - Google Patents

Thin-film magnetic head and its manufacturing method

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JP2001256612A JP2000065305A JP2000065305A JP2001256612A JP 2001256612 A JP2001256612 A JP 2001256612A JP 2000065305 A JP2000065305 A JP 2000065305A JP 2000065305 A JP2000065305 A JP 2000065305A JP 2001256612 A JP2001256612 A JP 2001256612A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thin-film magnetic head, capable of properly suppressing occurrence of side fringing. SOLUTION: Relating to an upper core layer 26, recesses 37 are formed in both side faces 26c and 26c in the track width direction, and that part forms a region A. When a place, having the recess 37 formed therein is cui from a direction parallel to a surface which is opposite to a recording medium, its sectional area becomes smaller than that of a region C positioned closer to the opposite surface than to the region A. Thus, the occurrence of side fringing is suppressed properly.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば浮上式磁気
ヘッドなどに使用される記録用の薄膜磁気ヘッドに係
り、特にサイドフリンジングを適切に低減させることが
できる薄膜磁気ヘッド及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin-film magnetic head for recording used, for example, in a floating magnetic head, and more particularly to a thin-film magnetic head capable of appropriately reducing side fringing and a method of manufacturing the same. .

【0002】[0002]

【従来の技術】図18は、従来における薄膜磁気ヘッド
(インダクティブヘッド)の構造を示す部分斜視図であ
る。
2. Description of the Related Art FIG. 18 is a partial perspective view showing the structure of a conventional thin-film magnetic head (inductive head).

【0003】図18に示す符号1は、パーマロイなどの
磁性材料で形成された下部コア層である。
[0005] Reference numeral 1 shown in FIG. 18 is a lower core layer formed of a magnetic material such as permalloy.

【0004】図18に示すように、前記下部コア層1上
には、ギャップ層4と上部磁極層5とがトラック幅Tw
で形成され、しかも記録媒体との対向面に露出形成され
ている。前記ギャップ層4及び上部磁極層5は、記録媒
体との対向面からハイト方向(図示Y方向)へ所定の長
さ寸法L1で形成される。
As shown in FIG. 18, a gap layer 4 and an upper pole layer 5 have a track width Tw on the lower core layer 1.
And exposed on the surface facing the recording medium. The gap layer 4 and the upper magnetic pole layer 5 are formed with a predetermined length L1 in the height direction (Y direction in the drawing) from the surface facing the recording medium.

【0005】なお図示されていないが、前記ギャップ層
4及び上部磁極層5のトラック幅方向(図示X方向)の
両側及びハイト側(図示Y方向)には、無機絶縁材料等
で形成された絶縁層が形成されている。
Although not shown, insulating layers made of an inorganic insulating material or the like are formed on both sides of the gap layer 4 and the upper magnetic pole layer 5 in the track width direction (X direction in the drawing) and on the height side (Y direction in the drawing). A layer is formed.

【0006】また前記ハイト側に形成された絶縁層上に
は、コイル層13が螺旋状にパターン形成されていお
り、さらに前記コイル層13は、有機絶縁材料で形成さ
れた絶縁層(図示しない)によって埋められている。
A coil layer 13 is spirally patterned on the insulating layer formed on the height side, and the coil layer 13 is formed of an insulating layer (not shown) made of an organic insulating material. Buried by

【0007】図18に示すように、上部磁極層5上に
は、例えばフレームメッキ法で形成された上部コア層6
が形成されている。前記上部コア層6は上部磁極層5と
磁気的に接続されている。
As shown in FIG. 18, an upper core layer 6 formed by, for example, a frame plating method is formed on the upper magnetic pole layer 5.
Are formed. The upper core layer 6 is magnetically connected to the upper magnetic pole layer 5.

【0008】また前記上部コア層6は、前記コイル層1
3を覆う絶縁層(図示しない)上に延びて形成され、前
記上部コア層6の基端部は下部コア層1に磁気的に接続
され、下部コア層1−上部コア層6−上部磁極層5を経
る閉磁路が形成される。
The upper core layer 6 is provided on the coil layer 1.
3, a base end of the upper core layer 6 is magnetically connected to the lower core layer 1, and the lower core layer 1-the upper core layer 6-the upper pole layer 5, a closed magnetic path is formed.

【0009】図18に示すように、前記上部コア層6
は、記録媒体との対向面に露出形成され、しかも前記上
部コア層6のトラック幅方向(図示X方向)の幅寸法T
1は、上部磁極層5の幅寸法(=トラック幅Tw)より
も大きくなっている。そして前記上部コア層6は、記録
媒体との対向面からハイト方向(図示Y方向)へ一定の
幅寸法T1で形成された先端領域と、前記先端領域の基
端からハイト方向へ徐々に幅寸法が広がる後端領域とで
構成されている。
As shown in FIG. 18, the upper core layer 6
Represents a width dimension T in the track width direction (X direction in the drawing) of the upper core layer 6 which is exposed on the surface facing the recording medium.
1 is larger than the width dimension (= track width Tw) of the upper magnetic pole layer 5. The upper core layer 6 has a tip region formed with a constant width T1 in the height direction (the Y direction in the drawing) from the surface facing the recording medium, and a width dimension gradually increased in the height direction from the base end of the tip region. And a rear end region where the width of the rear end increases.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら図18に
示す従来の薄膜磁気ヘッドの構成では以下のような問題
点があった。
However, the configuration of the conventional thin-film magnetic head shown in FIG. 18 has the following problems.

【0011】すなわち上部コア層6の記録媒体との対向
面に露出する先端面6aの幅寸法T1は、上部磁極層5
の幅寸法(=トラック幅Tw)よりも大きいために、前
記上部コア層6と上部磁極層5間でサイドフリンジング
が発生しやすいといった問題があった。
That is, the width dimension T1 of the tip surface 6a exposed on the surface of the upper core layer 6 facing the recording medium is equal to the upper magnetic pole layer 5
Therefore, there is a problem that side fringing easily occurs between the upper core layer 6 and the upper pole layer 5 because the width is larger than the width dimension (= track width Tw).

【0012】サイドフリンジングが発生すると、面記録
密度を低下させ、今後の高記録密度化に適正に対応する
ことができない。
When side fringing occurs, the areal recording density is reduced, and it is not possible to properly cope with future high recording density.

【0013】本発明は、上記従来の問題を解決するため
のものであり、特にサイドフリンジングを適切に防止す
ることができる薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を提供
することを目的としている。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, and an object of the present invention is to provide a thin-film magnetic head capable of appropriately preventing side fringing and a method of manufacturing the same.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明における薄膜磁気
ヘッドは、下部コア層と、前記下部コア層上に、下から
下部磁極層、ギャップ層、及び上部磁極層の順に積層さ
れ、あるいは下からギャップ層及び上部磁極層の順に積
層されて、記録媒体との対向面に露出する記録コアと、
前記記録コアのトラック幅方向の両側及びハイト側を覆
う絶縁層と、前記記録コアの前記上部磁極層の上に磁気
的に接合される上部コア層と、前記下部コア層、記録コ
ア及び上部コア層に記録用の磁界を誘導するコイルとが
設けられ、前記上部コア層は、前記対向面よりもハイト
方向奥側に位置する領域Aでの前記対向面と平行な断面
の面積が、前記領域Aよりも前記対向面側に位置する領
域での前記と同じ平行な断面の面積よりも小さいことを
特徴とするものである。
According to the present invention, there is provided a thin film magnetic head comprising: a lower core layer; a lower magnetic pole layer, a gap layer, and an upper magnetic pole layer laminated in this order on the lower core layer; A recording core that is stacked in the order of the gap layer and the upper magnetic pole layer and is exposed on the surface facing the recording medium;
An insulating layer covering both sides and a height side in the track width direction of the recording core, an upper core layer magnetically bonded on the upper pole layer of the recording core, the lower core layer, the recording core, and the upper core A coil for inducing a magnetic field for recording in the layer, wherein the upper core layer has an area of a cross section parallel to the opposing surface in a region A located on the back side in the height direction from the opposing surface, and It is characterized in that it is smaller than the area of the same parallel cross section in the region located on the opposite surface side than A.

【0015】このように本発明では、上部コア層に、前
記領域Aよりも前記対向面と平行な方向の断面積の小さ
い領域が、前記対向面側に形成されている。
As described above, in the present invention, a region having a smaller sectional area in a direction parallel to the opposing surface than the region A is formed in the upper core layer on the opposing surface side.

【0016】すなわち本発明では、前記領域Aよりも記
録媒体との対向面側に位置する領域Cの方が、断面積は
大きくなるために、断面積に反比例する磁束密度Bは、
前記領域Aよりも領域Cの方が小さくなる。
That is, in the present invention, since the cross-sectional area of the area C located on the side facing the recording medium is larger than that of the area A, the magnetic flux density B, which is inversely proportional to the cross-sectional area, becomes
The area C is smaller than the area A.

【0017】したがって上部コア層内をハイト側から記
録媒体との対向面側に流れる記録磁界は、前記領域Aを
通過した後、前記領域C内において小さくなり、よって
上部コア層の先端面から上部磁極層間に発生する漏れ磁
界が減少し、サイドフリンジングの発生を適切に抑制す
ることが可能である。
Therefore, the recording magnetic field flowing from the height side to the surface facing the recording medium in the upper core layer becomes smaller in the area C after passing through the area A, so that the recording magnetic field is reduced from the tip end face of the upper core layer to the upper part. The leakage magnetic field generated between the pole layers is reduced, and the occurrence of side fringing can be appropriately suppressed.

【0018】本発明では、前記上部コアは前記対向面側
に先端面を有し、この先端面が前記対向面と平行な面で
ある場合には、前記先端面の面積が前記領域Aでの前記
断面の面積よりも大きく、前記先端面が前記対向面と平
行な面でない場合には、前記先端面を前記対向面と平行
な面に投影したときの面積が、前記領域Aでの前記断面
の面積よりも大きいことが好ましい。
In the present invention, the upper core has a tip surface on the side of the facing surface, and when the tip surface is a surface parallel to the facing surface, the area of the tip surface in the region A When the tip surface is not a surface parallel to the facing surface, the area when the tip surface is projected on a surface parallel to the facing surface is larger than the area of the cross section, and the area in the region A is Is preferably larger than the area.

【0019】また本発明では、前記領域Aでは、少なく
とも前記上部コア層の下面においてトラック幅方向の幅
寸法が他の部分よりも細く形成されていることが好まし
い。
In the present invention, it is preferable that in the region A, at least on the lower surface of the upper core layer, the width dimension in the track width direction is formed smaller than other portions.

【0020】具体的には、前記領域Aにおいて、前記上
部コア層のトラック幅方向に対向する両側面に、上部コ
ア層を上下に貫通する凹部が形成されていたり、あるい
は前記領域Aにおいて、前記上部コア層のトラック幅方
向に対向する両側部に、前記上部コア層の下面から前記
上部コア層の高さ方向の途中まで延びる凹部が形成され
ていることが好ましい。これにより前記領域Aの断面積
を、前記対向面側に位置する領域の断面積よりも小さく
でき、サイドフリンジングの発生を適切に抑制すること
ができる。
Specifically, in the region A, a concave portion vertically penetrating the upper core layer is formed on both side surfaces of the upper core layer opposed to each other in the track width direction. It is preferable that a concave portion extending from the lower surface of the upper core layer to halfway in the height direction of the upper core layer is formed on both sides of the upper core layer facing the track width direction. Thereby, the cross-sectional area of the region A can be made smaller than the cross-sectional area of the region located on the side of the opposing surface, and the occurrence of side fringing can be appropriately suppressed.

【0021】上記の場合、前記領域Aでは、前記上部コ
ア層の下面から上部コア層の高さ方向の途中まで盛り上
がる曲面形状の表面を有する絶縁材料の盛り上げ層が形
成されており、前記上部コア層は前記盛り上げ層の間か
ら前記盛り上げ層の前記曲面上に渡って形成されている
ことが好ましい。
In the above case, in the region A, a raised layer of an insulating material having a curved surface that rises from the lower surface of the upper core layer to halfway in the height direction of the upper core layer is formed. It is preferable that the layer is formed over the curved surface of the raised layer from between the raised layers.

【0022】また前記盛り上げ層は、前記上部コア層を
メッキ成長させるためのメッキ下地層の上に形成されて
いることが好ましい。
It is preferable that the raised layer is formed on a plating underlayer for growing the upper core layer by plating.

【0023】前記メッキ下地層は、上部コア層をメッキ
成長させて形成するのに必要なものであるが、仮に前記
盛り上げ層上にメッキ下地層が形成されると、上部コア
層は、前記盛り上げ層上で良好なメッキ成長をし続け、
前記盛り上げ層上での上部コア層の表面は、盛り上がっ
てしまい、前記表面は平坦化されない。このため、前記
上部コア層の領域Aの断面積を、前記対向面側の領域で
の断面積よりも適切に小さくすることができず、サイド
フリンジングの適切な抑制を行うことが困難になる。
The plating underlayer is necessary for forming the upper core layer by plating. If the plating underlayer is formed on the raised layer, the upper core layer is removed from the raised core layer. Continue to grow good plating on the layer,
The surface of the upper core layer on the raised layer rises, and the surface is not flattened. For this reason, the cross-sectional area of the region A of the upper core layer cannot be made appropriately smaller than the cross-sectional area of the region on the facing surface side, and it becomes difficult to appropriately suppress the side fringing. .

【0024】そこで本発明では、上記したように、メッ
キ下地層の上に盛り上げ層を形成している。これによ
り、前記盛り上げ層上では、その周囲から成長するメッ
キにより上部コア層が形成されていき、これにより前記
上部コア層の表面を平坦化することができ、前記上部コ
ア層の領域Aの断面積を、前記対向面側に位置する領域
の断面積よりもより適切に小さくすることができるので
ある。
Therefore, in the present invention, as described above, the raised layer is formed on the plating underlayer. Thus, the upper core layer is formed on the raised layer by plating growing from the periphery thereof, whereby the surface of the upper core layer can be flattened, and the region A of the upper core layer can be cut off. The area can be made more appropriately smaller than the cross-sectional area of the region located on the facing surface side.

【0025】また本発明では、前記領域Aにおいて狭め
られた上部コア層の幅寸法の範囲内から、または前記範
囲を前記対向面側へ延長させた領域内から、前記記録コ
アが外れないように、前記記録コアと前記上部コア層と
のトラック幅方向での相対位置が決められていることが
好ましい。これにより上部コア層から上部磁極層へ適切
に記録磁界を流すことができ、しかもサイドフリンジン
グの発生を適切に抑制することが可能である。
Further, in the present invention, the recording core is prevented from coming off from within the range of the width dimension of the upper core layer narrowed in the region A or from the region in which the range is extended to the facing surface side. Preferably, a relative position in the track width direction between the recording core and the upper core layer is determined. As a result, a recording magnetic field can appropriately flow from the upper core layer to the upper magnetic pole layer, and the occurrence of side fringing can be appropriately suppressed.

【0026】または本発明では、前記記録コアは、前記
対向面からハイト方向奥側へ向けてトラック幅方向の幅
寸法が一定である先端領域と、前記先端領域のハイト方
向奥側を起点としてハイト方向奥側に向けてトラック幅
方向の幅寸法が徐々に広がる後端領域とを有し、前記領
域Aにおいて狭められた上部コア層の幅寸法の範囲内か
ら、または前記範囲を前記対向面側へ延長させた領域内
から、前記後端領域が外れないように、前記記録コアと
前記上部コア層とのトラック幅方向での相対位置が決め
られていることが好ましい。これにより上部コア層と上
部磁極層との接触面積を大きくすることができ、また前
記領域Aが、後端領域上に形成されると、前記領域Aの
部分から後端領域に効率良く、記録磁界を流すことがで
き記録特性を向上させることができる。
Alternatively, in the present invention, the recording core has a tip region having a constant width dimension in the track width direction from the facing surface to a depth side in the height direction, and a height starting from a depth side of the tip region in the height direction. A rear end region in which the width dimension in the track width direction gradually widens toward the back side in the direction, and from within the range of the width dimension of the upper core layer narrowed in the region A, or by moving the range from the facing surface side It is preferable that the relative position of the recording core and the upper core layer in the track width direction is determined so that the rear end region does not deviate from the region extended to the rear. As a result, the contact area between the upper core layer and the upper magnetic pole layer can be increased, and when the region A is formed on the rear end region, recording can be efficiently performed from the region A to the rear end region. A magnetic field can flow, and the recording characteristics can be improved.

【0027】また本発明では、前記上部コア層の前記先
端面は、トラック幅方向の両側に向かうにしたがって、
ハイト方向へ徐々に後退する曲面形状であることが好ま
しい。これによりより適切にサイドフリンジングの発生
を抑制することができる。
Further, in the present invention, the front end surface of the upper core layer is arranged so as to be closer to both sides in the track width direction.
It is preferable to have a curved surface shape that gradually retreats in the height direction. This makes it possible to more appropriately suppress the occurrence of side fringing.

【0028】また本発明における薄膜磁気ヘッドの製造
方法は、(a)下部コア層の上に、下から下部磁極層、
ギャップ層及び上部磁極層の順に積層し、または下から
ギャップ層及び上部磁極層の順に積層して、記録媒体と
の対向面でトラック幅方向の幅寸法が決められる記録コ
アを形成する工程と、(b)前記(a)の工程の前また
は後に、前記記録コアの周囲に絶縁層を形成し、さらに
前記記録コアと前記絶縁層の上面を同一平面にする工程
と、(c)前記記録コアと前記絶縁層の上にレジスト層
を形成する工程と、(d)前記レジスト層に、上部コア
層を形成するための抜きパターンを形成し、このとき、
前記対向面からハイト方向奥側において前記パターンの
トラック幅方向に対向する両側面に互いにパターン内に
突き出る突出部を形成し、この突出部で狭められた幅寸
法範囲内に前記記録コアを位置させ、または前記幅寸法
範囲を前記対向面側へ延長させた領域内に前記記録コア
を位置させる工程と、(e)前記パターン内に磁性材料
をメッキ形成し、前記レジスト層を除去することによ
り、前記突出部によってトラック幅方向の幅寸法が狭め
られた領域Aを有する上部コア層を形成する工程と、を
有することを特徴とするものである。
The method of manufacturing a thin film magnetic head according to the present invention comprises the steps of: (a) forming a lower magnetic pole layer from below on a lower core layer;
Laminating the gap layer and the upper magnetic pole layer in order, or laminating the gap layer and the upper magnetic pole layer in order from below, forming a recording core whose width in the track width direction is determined on the surface facing the recording medium, (B) before or after the step (a), forming an insulating layer around the recording core, and further making the upper surfaces of the recording core and the insulating layer flush with each other; (c) the recording core And forming a resist layer on the insulating layer; and (d) forming a cut pattern for forming an upper core layer on the resist layer,
On both sides of the pattern facing the track width direction on the back side in the height direction from the opposing surface, projecting portions projecting into the pattern are formed, and the recording core is positioned within a width dimension narrowed by the projecting portion. Or a step of positioning the recording core in a region where the width dimension range is extended to the facing surface side, and (e) plating a magnetic material in the pattern and removing the resist layer, Forming an upper core layer having a region A in which the width in the track width direction is reduced by the projecting portion.

【0029】上記の製造方法により、前記上部コア層の
トラック幅方向に対向する両側面に、上部コア層を上下
に貫通する凹部を形成することができ、この部分が前記
領域Aとなっている。前記領域Aでは、前記領域Aより
も前記対向面側に位置する領域の断面績よりも小さい断
面積を有し、適切にサイドフリンジングの発生を抑制で
きる薄膜磁気ヘッドを再現性良く製造することができ
る。
According to the above-described manufacturing method, a concave portion vertically penetrating the upper core layer can be formed on both side surfaces of the upper core layer opposed to each other in the track width direction, and this portion is the region A. . In the region A, a thin-film magnetic head having a cross-sectional area smaller than that of a region located on the facing surface side than the region A and capable of appropriately suppressing the occurrence of side fringing is manufactured with good reproducibility. Can be.

【0030】また上記の製造方法によれば、記録コア層
を領域Aのトラック幅方向への幅寸法内から外れないよ
うに形成することができるので、上部コア層からの記録
磁界を適切に上部磁極層へ流すことができ、しかもサイ
ドフリンジングの発生を適正に抑制可能な薄膜磁気ヘッ
ドの製造することが可能である。
According to the manufacturing method, the recording core layer can be formed so as not to deviate from the width dimension of the region A in the track width direction, so that the recording magnetic field from the upper core layer can be appropriately applied to the upper part. It is possible to manufacture a thin-film magnetic head that can flow to the pole layer and that can appropriately suppress the occurrence of side fringing.

【0031】または本発明における薄膜磁気ヘッドの製
造方法は、(f)下部コア層の上に、下から下部磁極
層、ギャップ層及び上部磁極層の順に積層し、または下
からギャップ層及び上部磁極層の順に積層して、記録媒
体との対向面でトラック幅方向の幅寸法が決められる記
録コアを形成する工程と、(g)前記(f)の工程の前
または後に、前記記録コアの周囲に絶縁層を形成し、さ
らに前記記録コアと前記絶縁層の上面を同一平面にする
工程と、(h)前記対向面からハイト方向奥側におい
て、前記絶縁層上にトラック幅方向に対向する突出部を
形成し、このとき前記突出部が対向する部分の幅寸法範
囲内に前記記録コアを位置させ、または前記幅寸法範囲
を前記対向面側へ延長させた領域内に前記記録コアを位
置させる工程と、(i)前記記録コアと前記絶縁層の上
に、レジスト層を形成する工程と、(j)前記レジスト
層に、上部コア層を形成するための抜きパターンを形成
し、このとき、前記対向面からハイト方向奥側において
前記パターンのトラック幅方向に対向する両側面から前
記突出部をパターン内に突き出させる工程と、(k)前
記パターン内に磁性材料をメッキ形成し、前記レジスト
層を除去することにより、前記突出部によってトラック
幅方向の幅寸法が狭められた領域Aを有する上部コア層
を形成する工程と、を有することを特徴とするものであ
る。
Alternatively, the method of manufacturing a thin-film magnetic head according to the present invention comprises: (f) laminating a lower magnetic pole layer, a gap layer, and an upper magnetic pole layer in this order on the lower core layer, or a gap magnetic layer and an upper magnetic pole from the bottom. (G) forming a recording core whose width in the track width direction is determined on the surface facing the recording medium by laminating in order of layers, and (g) before or after the step (f), around the recording core. Forming an insulating layer on the recording layer and making the upper surfaces of the recording core and the insulating layer flush with each other; and (h) protruding in the track width direction on the insulating layer on the back side in the height direction from the facing surface. Forming a portion, and at this time, the recording core is located within a width dimension range of a portion where the protruding portion faces, or the recording core is located within a region extending the width dimension range toward the facing surface side. And (i) Forming a resist layer on the recording core and the insulating layer; and (j) forming a cutout pattern for forming an upper core layer on the resist layer, wherein a pattern is formed in the height direction from the facing surface. A step of projecting the protrusion into the pattern from both sides facing the track width direction of the pattern on the back side, and (k) plating a magnetic material in the pattern and removing the resist layer, Forming an upper core layer having a region A in which the width in the track width direction is reduced by the projecting portion.

【0032】上記した製造方法によれば、前記上部コア
層のトラック幅方向に対向する両側面に、上部コア層を
上下に貫通する凹部を形成することができ、あるいは前
記上部コア層のトラック幅方向に対向する両側面に、前
記上部コア層の下面から前記上部コア層の高さ方向の途
中まで延びる凹部を形成でき、この部分が前記領域Aと
なっている。前記領域Aでは、前記領域Aよりも前記対
向面側に位置する領域の断面績よりも小さい断面積を有
し、適切にサイドフリンジングの発生を抑制できる薄膜
磁気ヘッドを再現性良く製造することができる。
According to the above-described manufacturing method, a concave portion vertically penetrating the upper core layer can be formed on both sides of the upper core layer opposed to each other in the track width direction. A concave portion extending from the lower surface of the upper core layer to halfway in the height direction of the upper core layer can be formed on both side surfaces facing each other, and this portion is the region A. In the region A, a thin-film magnetic head having a cross-sectional area smaller than that of a region located on the facing surface side than the region A and capable of appropriately suppressing the occurrence of side fringing is manufactured with good reproducibility. Can be.

【0033】また上記の製造方法によれば、記録コア層
を領域Aのトラック幅方向への幅寸法内から外れないよ
うに形成することができるので、上部コア層からの記録
磁界を適切に上部磁極層へ流すことができ、しかもサイ
ドフリンジングの発生を適正に抑制可能な薄膜磁気ヘッ
ドの製造することが可能である。
According to the manufacturing method described above, the recording core layer can be formed so as not to deviate from the width dimension of the region A in the track width direction, so that the recording magnetic field from the upper core layer can be appropriately applied to the upper part. It is possible to manufacture a thin-film magnetic head that can flow to the pole layer and that can appropriately suppress the occurrence of side fringing.

【0034】また本発明では、前記(g)の工程の後
に、前記絶縁層の上にメッキ下地層を形成し、前記
(h)の工程では、前記突出部を前記メッキ下地層の上
に形成し、前記(k)の工程では、前記レジスト層のパ
ターン内で前記突出部以外の領域に現れる前記メッキ下
地層の上にメッキを成長させることが好ましい。
In the present invention, after the step (g), a plating underlayer is formed on the insulating layer. In the step (h), the protrusion is formed on the plating underlayer. Preferably, in the step (k), plating is grown on the plating base layer that appears in a region other than the protruding portion in the pattern of the resist layer.

【0035】上記した製造方法によれば、前記絶縁層上
にメッキ下地層を形成した後、前記メッキ下地層上に突
起部を形成するので、前記突起部上では、その周囲から
のメッキ成長により上部コア層が形成されていき、した
がって前記突起部上の上部コア層表面が他の部分の上部
コア層表面に比べて盛り上がる形状にはならず、前記上
部コア層表面を適切に平坦化することができる。
According to the above-described manufacturing method, after forming the plating base layer on the insulating layer, the protrusion is formed on the plating base layer. The upper core layer is formed, so that the surface of the upper core layer on the protrusion does not become bulged as compared with the surface of the upper core layer in other portions, and the surface of the upper core layer is appropriately planarized. Can be.

【0036】これにより、上部コア層の下面に凹部が形
成された領域Aの断面積を、先端面の断面積よりも小さ
くすることができ、サイドフリンジングの発生を適切に
防止できる薄膜磁気ヘッドを製造することが可能であ
る。
Thus, the cross-sectional area of the region A in which the concave portion is formed on the lower surface of the upper core layer can be made smaller than the cross-sectional area of the front end surface, and the thin-film magnetic head can appropriately prevent the occurrence of side fringing. Can be manufactured.

【0037】また本発明では、前記(h)の工程で形成
される突出部を、後に形成される上部コア層の高さ寸法
の途中までの高さを有する曲面状の表面を有する絶縁材
料の盛り上げ層とし、前記(k)の工程では、前記曲面
状の前記表面の上にメッキを成長させて、下面から高さ
方向の途中まで延びる凹部を有する領域Aが設けられた
上部コア層を形成することが好ましい。
In the present invention, the protrusion formed in the step (h) may be replaced with an insulating material having a curved surface having a height halfway of the height of an upper core layer formed later. In the step (k), plating is grown on the curved surface to form an upper core layer provided with a region A having a recess extending from the lower surface to a halfway height direction. Is preferred.

【0038】上記の製造方法によれば、前記上部コア層
のトラック幅方向に対向する両側面に、前記上部コア層
の下面から前記上部コア層の高さ方向の途中まで延びる
凹部を形成できる。これによって適切にサイドフリンジ
ングの発生を抑制可能な薄膜磁気ヘッドを製造すること
ができる。
According to the above-described manufacturing method, a concave portion extending from the lower surface of the upper core layer to halfway in the height direction of the upper core layer can be formed on both side surfaces of the upper core layer opposed to each other in the track width direction. This makes it possible to manufacture a thin-film magnetic head capable of appropriately suppressing the occurrence of side fringing.

【0039】[0039]

【発明の実施の形態】図1は、本発明における薄膜磁気
ヘッドの構造を示す部分斜視図、図2は図1に示す薄膜
磁気ヘッドの正面図、図3は図2に示す3−3線から切
断し矢印方向から見た部分断面図、図4,5は、本発明
における薄膜磁気ヘッドの部分平面図の一例である。
FIG. 1 is a partial perspective view showing the structure of a thin film magnetic head according to the present invention, FIG. 2 is a front view of the thin film magnetic head shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a line 3-3 shown in FIG. 4 and 5 are examples of partial plan views of the thin-film magnetic head according to the present invention.

【0040】図1に示す薄膜磁気ヘッドは、記録用のイ
ンダクティブヘッドであるが、本発明では、このインダ
クティブヘッドの下に、磁気抵抗効果を利用した再生用
ヘッド(MRヘッド)が積層されていてもよい。
The thin-film magnetic head shown in FIG. 1 is an inductive head for recording. In the present invention, a reproducing head (MR head) utilizing a magnetoresistive effect is stacked under the inductive head. Is also good.

【0041】図1及び図2に示す符号20は、例えばパ
ーマロイなどの磁性材料で形成された下部コア層であ
る。なお、前記下部コア層20の下側に再生用ヘッドが
積層される場合、前記下部コア層20とは別個に、磁気
抵抗効果素子をノイズから保護するシールド層を設けて
もよいし、あるいは、前記シールド層を設けず、前記下
部コア層20を、前記再生用ヘッドの上部シールド層と
して機能させてもよい。
Reference numeral 20 shown in FIGS. 1 and 2 denotes a lower core layer made of a magnetic material such as permalloy. When a reproducing head is laminated below the lower core layer 20, a shield layer for protecting the magnetoresistive element from noise may be provided separately from the lower core layer 20, or Without providing the shield layer, the lower core layer 20 may function as an upper shield layer of the reproducing head.

【0042】図1及び図2に示すように、後述する下部
磁極層21の基端から延びる下部コア層20の上面20
aはトラック幅方向(図示X方向)と平行な方向に延び
て形成されていてもよく、あるいは、前記上部コア層2
6から離れる方向に傾斜する傾斜面20b,20bが形
成されていてもよい。前記下部コア層10の上面に傾斜
面20b,20bが形成されることで、サイドフリンジ
ングの発生をより適切に低減させることができる。
As shown in FIGS. 1 and 2, an upper surface 20 of a lower core layer 20 extending from a base end of a lower magnetic pole layer 21 described later.
a may be formed so as to extend in a direction parallel to the track width direction (the X direction in the drawing), or the upper core layer 2
The inclined surfaces 20b, 20b inclined in a direction away from 6 may be formed. By forming the inclined surfaces 20b, 20b on the upper surface of the lower core layer 10, the occurrence of side fringing can be more appropriately reduced.

【0043】図1ないし3に示すように、前記下部コア
層20上には、記録コア24が形成され、前記記録コア
24は記録媒体との対向面に露出形成されている。この
実施例において前記記録コア24はトラック幅Twで形
成された、いわばトラック幅規制部である。前記トラッ
ク幅Twは、0.7μm以下で形成されることが好まし
く、より好ましくは0.5μm以下である。
As shown in FIGS. 1 to 3, a recording core 24 is formed on the lower core layer 20, and the recording core 24 is exposed on a surface facing a recording medium. In this embodiment, the recording core 24 is a so-called track width regulating portion formed with a track width Tw. The track width Tw is preferably formed to be 0.7 μm or less, more preferably 0.5 μm or less.

【0044】図1ないし図3に示す実施例では、前記記
録コア24は、下部磁極層21、ギャップ層22、およ
び上部磁極層23の3層膜の積層構造で構成されてい
る。以下、前記磁極層21、23およびギャップ層22
について説明する。
In the embodiment shown in FIGS. 1 to 3, the recording core 24 has a laminated structure of three layers of a lower magnetic pole layer 21, a gap layer 22, and an upper magnetic pole layer 23. Hereinafter, the pole layers 21 and 23 and the gap layer 22 will be described.
Will be described.

【0045】図1ないし図3に示すように、前記下部コ
ア層20上には、記録コア24の最下層となる下部磁極
層21がメッキ形成されている。前記下部磁極層21
は、下部コア層20と磁気的に接続されており、前記下
部磁極層21は、前記下部コア層20と同じ材質でも異
なる材質で形成されていてもどちらでもよい。また単層
膜でも多層膜で形成されていてもどちらでもよい。なお
前記下部磁極層21の高さ寸法は、例えば0.3μm程
度で形成される。
As shown in FIGS. 1 to 3, a lower magnetic pole layer 21, which is the lowermost layer of the recording core 24, is formed on the lower core layer 20 by plating. The lower magnetic pole layer 21
Are magnetically connected to the lower core layer 20, and the lower magnetic pole layer 21 may be formed of the same material as the lower core layer 20 or of a different material. Further, either a single-layer film or a multilayer film may be used. The height of the lower magnetic pole layer 21 is, for example, about 0.3 μm.

【0046】また図1ないし図3に示すように、前記下
部磁極層21上には、非磁性のギャップ層22が積層さ
れている。
As shown in FIGS. 1 to 3, a non-magnetic gap layer 22 is laminated on the lower magnetic pole layer 21.

【0047】本発明では、前記ギャップ層22は、非磁
性金属材料で形成されて、下部磁極層21上にメッキ形
成されることが好ましい。なお本発明では、前記非磁性
金属材料として、NiP、NiPd、NiW、NiM
o、NiRh、Au、Pt、Rh、Pd、Ru、Crの
うち1種または2種以上を選択することが好ましく、前
記ギャップ層22は、単層膜で形成されていても多層膜
で形成されていてもどちらであってもよい。なお前記ギ
ャップ層22の高さ寸法は、例えば0.2μm程度で形
成される。
In the present invention, it is preferable that the gap layer 22 is formed of a non-magnetic metal material and is formed on the lower magnetic pole layer 21 by plating. In the present invention, as the nonmagnetic metal material, NiP, NiPd, NiW, NiM
Preferably, at least one of o, NiRh, Au, Pt, Rh, Pd, Ru, and Cr is selected. The gap layer 22 may be formed of a single-layer film or a multilayer film. May be either. The height of the gap layer 22 is, for example, about 0.2 μm.

【0048】次に前記ギャップ層22上には、後述する
上部コア層26と磁気的に接続する上部磁極層23がメ
ッキ形成されている。なお前記上部磁極層23は、上部
コア層26と同じ材質で形成されていてもよいし、異な
る材質で形成されていてもよい。また単層膜でも多層膜
で形成されていてもどちらでもよい。なお前記上部磁極
層23の高さ寸法は、例えば2.4μm〜2.7μm程
度で形成されている。
Next, on the gap layer 22, an upper magnetic pole layer 23, which is magnetically connected to an upper core layer 26 described later, is formed by plating. The upper magnetic pole layer 23 may be formed of the same material as the upper core layer 26 or may be formed of a different material. Further, either a single-layer film or a multilayer film may be used. The height of the upper magnetic pole layer 23 is, for example, about 2.4 μm to 2.7 μm.

【0049】上記したようにギャップ層22が、非磁性
金属材料で形成されていれば、下部磁極層21、ギャッ
プ層22および上部磁極層23を連続してメッキ形成す
ることが可能になる。
As described above, if the gap layer 22 is formed of a non-magnetic metal material, the lower magnetic pole layer 21, the gap layer 22, and the upper magnetic pole layer 23 can be continuously formed by plating.

【0050】なお本発明では前記記録コア24は、上記
3層膜の積層構造に限らない。前記記録コア24は、ギ
ャップ層22と上部磁極層23からなる2層膜で形成さ
れていてもよい。
In the present invention, the recording core 24 is not limited to the above three-layer structure. The recording core 24 may be formed of a two-layer film including the gap layer 22 and the upper magnetic pole layer 23.

【0051】また上記したように、記録コア24を構成
する下部磁極層21および上部磁極層23は、それぞれ
の磁極層が磁気的に接続されるコア層と同じ材質でも異
なる材質で形成されてもどちらでもよいが、記録密度を
向上させるためには、ギャップ層22に対向する下部磁
極層21および上部磁極層23は、それぞれの磁極層が
磁気的に接続されるコア層の飽和磁束密度よりも高い飽
和磁束密度を有していることが好ましい。このように下
部磁極層21および上部磁極層23が高い飽和磁束密度
を有していることにより、ギャップ近傍に記録磁界を集
中させ、記録密度を向上させることが可能になる。
As described above, the lower magnetic pole layer 21 and the upper magnetic pole layer 23 constituting the recording core 24 may be formed of the same material as or different from the core layer to which the respective magnetic pole layers are magnetically connected. Either way, in order to improve the recording density, the lower magnetic pole layer 21 and the upper magnetic pole layer 23 facing the gap layer 22 should be higher than the saturation magnetic flux density of the core layer to which each magnetic pole layer is magnetically connected. It is preferable to have a high saturation magnetic flux density. Since the lower magnetic pole layer 21 and the upper magnetic pole layer 23 have high saturation magnetic flux densities, the recording magnetic field can be concentrated near the gap and the recording density can be improved.

【0052】なお図3に示すように、下部磁極層21と
下部コア層20間には、メッキ下地層46が形成されて
いる。
As shown in FIG. 3, a plating base layer 46 is formed between the lower magnetic pole layer 21 and the lower core layer 20.

【0053】前記記録コア24は、図1及び図3に示す
ように、記録媒体との対向面からハイト方向(図示Y方
向)にかけて長さ寸法L1で形成されている。
As shown in FIGS. 1 and 3, the recording core 24 has a length L1 from the surface facing the recording medium in the height direction (Y direction in the drawing).

【0054】図1及び図3に示すように、下部コア層2
0上には、例えばレジスト等で形成されたGd決め絶縁
層27が形成されており、前記Gd決め絶縁層27の表
面は、例えば曲面形状で形成されている。そして図3に
示すように、前記曲面上に、上部磁極層23が延びて形
成されている。
As shown in FIGS. 1 and 3, the lower core layer 2
A Gd determining insulating layer 27 formed of, for example, a resist or the like is formed on 0, and the surface of the Gd determining insulating layer 27 is formed, for example, in a curved shape. Then, as shown in FIG. 3, an upper magnetic pole layer 23 is formed to extend on the curved surface.

【0055】前記Gd決め絶縁層27上に上部磁極層2
3を形成することで、前記上部磁極層23のハイト方向
への長さ寸法L1を長く形成できるため、前記上部磁極
層23のボリュームを稼ぐことができ、高記録密度化に
おいても前記上部磁極層23の磁気飽和を低減でき、記
録特性の向上を図ることができる。
The upper magnetic pole layer 2 is formed on the Gd determining insulating layer 27.
3, the length L1 in the height direction of the upper magnetic pole layer 23 can be increased, so that the volume of the upper magnetic pole layer 23 can be increased, and the upper magnetic pole layer 23 can be formed even in a high recording density. 23 can be reduced, and the recording characteristics can be improved.

【0056】また図1及び図3に示すように、前記Gd
決め絶縁層27の前面から記録媒体との対向面までの長
さ寸法L2は、ギャップデプスGdとして規制されてお
り、前記ギャップデプスGdは、薄膜磁気ヘッドの電気
特性に多大な影響を与えることから、予め所定の長さに
設定される。
As shown in FIGS. 1 and 3, the Gd
The length L2 from the front surface of the insulating layer 27 to the surface facing the recording medium is regulated as the gap depth Gd, and the gap depth Gd greatly affects the electrical characteristics of the thin-film magnetic head. Is set in advance to a predetermined length.

【0057】図1ないし3に示す実施例では、前記ギャ
ップデプスGdは、下部コア層20上に形成されたGd
決め絶縁層27の形成位置によって規制されることにな
る。
In the embodiment shown in FIGS. 1 to 3, the gap depth Gd is different from the Gd formed on the lower core layer 20.
It is regulated by the position where the insulating layer 27 is formed.

【0058】図3に示すように、前記記録コア24のハ
イト方向(図示Y方向)の後方であって下部コア層20
上には絶縁下地層28を介してコイル層29が螺旋状に
巻回形成されている。前記絶縁下地層28は、例えば、
AlO、Al23、SiO2、Ta25、TiO、Al
N、AlSiN、TiN、SiN、Si34、NiO、
WO、WO3、BN、CrN、SiONのうち少なくと
も1種からなる絶縁材料で形成されていることが好まし
い。
As shown in FIG. 3, the lower core layer 20 is located behind the recording core 24 in the height direction (the Y direction in the drawing).
A coil layer 29 is spirally wound thereover via an insulating base layer 28. The insulating base layer 28 is, for example,
AlO, Al 2 O 3 , SiO 2 , Ta 2 O 5 , TiO, Al
N, AlSiN, TiN, SiN, Si 3 N 4 , NiO,
It is preferable to be formed of an insulating material made of at least one of WO, WO 3 , BN, CrN, and SiON.

【0059】さらに前記コイル層29の各導体部のピッ
チ間は、絶縁層30によって埋められている。前記絶縁
層30は、AlO、Al23、SiO2、Ta25、T
iO、AlN、AlSiN、TiN、SiN、Si
34、NiO、WO、WO3、BN、CrN、SiON
のうち少なくとも1種から選択されることが好ましい。
The pitch between the conductors of the coil layer 29 is filled with an insulating layer 30. The insulating layer 30 is made of AlO, Al 2 O 3 , SiO 2 , Ta 2 O 5 , T
iO, AlN, AlSiN, TiN, SiN, Si
3 N 4, NiO, WO, WO 3, BN, CrN, SiON
It is preferable to select from at least one of the following.

【0060】前記絶縁層30は、図2に示すように、前
記記録コア24のトラック幅方向(図示X方向)の両側
に形成され、前記絶縁層30は記録媒体との対向面に露
出形成されている。
As shown in FIG. 2, the insulating layer 30 is formed on both sides of the recording core 24 in the track width direction (the X direction in the drawing), and the insulating layer 30 is formed exposed on the surface facing the recording medium. ing.

【0061】図3に示すように、前記絶縁層30上に
は、レジストやポリイミド等の有機絶縁料で形成された
絶縁層31が形成され、前記絶縁層31上には、第2の
コイル層33が螺旋状に巻回形成されている。
As shown in FIG. 3, an insulating layer 31 made of an organic insulating material such as a resist or polyimide is formed on the insulating layer 30, and a second coil layer is formed on the insulating layer 31. 33 is spirally formed.

【0062】図3に示すように、前記第2のコイル層3
3は、レジストやポリイミド等の有機材料で形成された
絶縁層32によって覆われ、前記絶縁層32上には、N
iFe合金等で形成された上部コア層26が例えばフレ
ームメッキ法等によりパターン形成されている。
As shown in FIG. 3, the second coil layer 3
3 is covered with an insulating layer 32 formed of an organic material such as a resist or a polyimide.
An upper core layer 26 made of an iFe alloy or the like is patterned by, for example, a frame plating method.

【0063】図1ないし図3に示すように、前記上部コ
ア層26の先端部26aは、前記上部磁極層23上に磁
気的に接続されて形成され、前記上部コア層26の基端
部26bは、下部コア層20上にNiFe合金等の磁性
材料で形成された盛り上げ層36上に磁気的に接続され
て形成されている。なお前記盛り上げ層36は形成され
ていなくても良く、この場合、前記上部コア層26の基
端部26bは、下部コア層20上に直接接続されること
になる。
As shown in FIGS. 1 to 3, a distal end 26 a of the upper core layer 26 is formed on the upper magnetic pole layer 23 by being magnetically connected thereto, and a base 26 b of the upper core layer 26 is formed. Are formed on the lower core layer 20 so as to be magnetically connected on the raised layer 36 made of a magnetic material such as a NiFe alloy. The raised layer 36 may not be formed. In this case, the base end portion 26b of the upper core layer 26 is directly connected to the lower core layer 20.

【0064】図1及び図3に示すように、前記上部コア
層26の記録媒体との対向面側の先端面26fは、その
幅寸法がT3であり、前記幅寸法T3はトラック幅Tw
よりも大きくなっている。
As shown in FIGS. 1 and 3, the leading end face 26f of the upper core layer 26 on the side facing the recording medium has a width dimension T3, and the width dimension T3 is the track width Tw.
Is bigger than.

【0065】なお図3に示す薄膜磁気ヘッドでは、コイ
ル層が2層積層されているが、1層で形成されていても
よい。この場合、例えば前記下部コア層20上であっ
て、記録コア24のハイト方向後方は絶縁層30によっ
て埋められ、前記絶縁層30上にコイル層が形成される
ことになる。あるいは図2に示す第2のコイル層33が
形成されず、絶縁層31上に沿って上部コア層26が形
成されることになる。
Although the thin-film magnetic head shown in FIG. 3 has two coil layers, it may be formed as a single layer. In this case, for example, on the lower core layer 20 and behind the recording core 24 in the height direction, the insulating layer 30 is filled, and a coil layer is formed on the insulating layer 30. Alternatively, the upper core layer 26 is formed along the insulating layer 31 without forming the second coil layer 33 shown in FIG.

【0066】次に本発明における上部コア層26の形状
について詳述する。本発明では、図1に示すように、上
部コア層26のトラック幅方向(図示X方向)の両側端
面26c,26cに、その下面26dから上面26eに
かけて貫通する凹部37,37が形成されている。
Next, the shape of the upper core layer 26 in the present invention will be described in detail. In the present invention, as shown in FIG. 1, concave portions 37, 37 penetrating from the lower surface 26d to the upper surface 26e are formed on both end surfaces 26c, 26c in the track width direction (X direction in the drawing) of the upper core layer 26. .

【0067】このため図1に示すように、前記凹部3
7,37の形成された領域Aを、記録媒体との対向面と
平行な方向から切断した任意の断面積S1は、前記領域
Aよりも前記対向面側に位置する領域Cでの前記と同じ
平行な断面の面積よりも小さくなっている。
For this reason, as shown in FIG.
An arbitrary cross-sectional area S1 obtained by cutting the area A in which the regions 7 and 37 are formed in a direction parallel to the surface facing the recording medium is the same as that in the region C located on the side of the facing surface relative to the region A. It is smaller than the area of the parallel cross section.

【0068】また図1に示すように本発明における上部
コア層26は、記録媒体との対向面側に先端面26fを
有している。この先端面26fが、前記対向面と平行な
面である場合には、前記先端面26fの面積が前記領域
Aでの前記断面の面積よりも大きくなっていることが好
ましい。
Further, as shown in FIG. 1, the upper core layer 26 in the present invention has a front end surface 26f on the side facing the recording medium. When the tip surface 26f is a surface parallel to the facing surface, it is preferable that the area of the tip surface 26f is larger than the area of the cross section in the region A.

【0069】また前記先端面26fが、前記対向面と平
行な面でない場合、例えば前記先端面26fが、下面か
ら上面に向けて徐々にハイト方向(図示Y方向)に傾く
傾斜面あるいは曲面で形成されている場合には、前記先
端面26fを前記対向面と平行な面に投影したときの面
積が、前記領域Aでの前記断面の面積よりも大きいこと
が好ましい。
When the tip surface 26f is not a surface parallel to the facing surface, for example, the tip surface 26f is formed as an inclined surface or a curved surface which is gradually inclined in the height direction (Y direction in the drawing) from the lower surface to the upper surface. In this case, it is preferable that the area of the tip surface 26f projected onto a plane parallel to the facing surface is larger than the area of the cross section in the region A.

【0070】なお前記凹部37は、上部コア層26のト
ラック幅方向における両側側面26c,26cに形成さ
れているが、片方の側面26cにのみ形成されていても
よい。
Although the recesses 37 are formed on both side surfaces 26c in the track width direction of the upper core layer 26, they may be formed only on one side surface 26c.

【0071】また前記凹部37の形状は如何なる形状で
あってもよい。図4及び図5に示すように、前記凹部3
7は上から見ると半円形状で形成されているが、例えば
上から見た場合に方形状等で形成されていてもかまわな
い。
The shape of the recess 37 may be any shape. As shown in FIG. 4 and FIG.
7 is formed in a semicircular shape when viewed from above, but may be formed in a square shape when viewed from above, for example.

【0072】ただし図1に示すように、前記凹部37が
前記上部コア層26の両側側面26c,26cに形成さ
れる場合、前記一対の凹部37,37は、トラック幅方
向(図示X方向)にて左右対称な形状で形成されること
が、上部コア層26から記録磁界を効率良く上部磁極層
23に流すことができて好ましい。
However, as shown in FIG. 1, when the concave portions 37 are formed on both side surfaces 26c, 26c of the upper core layer 26, the pair of concave portions 37, 37 are formed in the track width direction (X direction in the drawing). It is preferable that the recording magnetic field from the upper core layer 26 can efficiently flow to the upper magnetic pole layer 23.

【0073】ところで前記領域Aにおいて狭められた上
部コア層26の幅寸法の範囲内から、または前記範囲を
前記対向面側へ延長させた領域内から、前記記録コア2
4が外れないように、前記記録コア24と前記上部コア
層26とのトラック幅方向での相対位置が決められてい
ることが好ましい。
By the way, from within the range of the width dimension of the upper core layer 26 narrowed in the area A, or from the area where the range is extended to the facing surface side, the recording core 2
Preferably, the relative position in the track width direction between the recording core 24 and the upper core layer 26 is determined so that the recording core 4 does not come off.

【0074】図4に示す実施例では、前記記録コア24
は記録媒体との対向面からハイト方向へ長さ寸法L3で
形成され、しかも一定の幅寸法(=トラック幅Tw)で
形成されている。このように記録コア24が記録媒体と
の対向面から基端までトラック幅Twで形成されること
により、前記トラック幅Twを所定の寸法値内で形成し
やすい。
In the embodiment shown in FIG.
Is formed with a length L3 in the height direction from the surface facing the recording medium, and has a constant width (= track width Tw). Since the recording core 24 is formed with the track width Tw from the surface facing the recording medium to the base end, the track width Tw can be easily formed within a predetermined dimension value.

【0075】一方、図5に示す実施例では、前記記録コ
ア24は、記録媒体との対向面からハイト方向(図示Y
方向)にトラック幅Twで形成された先端領域Dと前記
先端領域のハイト方向奥側を起点としてハイト方向奥側
に向けてトラック幅方向の幅寸法が徐々に広がる後端領
域Eとで構成されている。この実施例では、トラック幅
Twよりも幅寸法が広い後端領域Eが形成されているこ
とで、上部コア層26が前記後端領域E上で接合される
ことにより、前記上部コア層26と記録コア24との接
触面積をより大きくすることができ、上部コア層26か
らの記録磁界を効率良く上部磁極層23に流すことがで
きる。
On the other hand, in the embodiment shown in FIG. 5, the recording core 24 is moved from the surface facing the recording medium in the height direction (Y in the drawing).
Direction), and a rear end area E whose width in the track width direction gradually increases from the depth side of the front end area in the height direction toward the depth side of the height direction. ing. In this embodiment, since the rear end region E having a width dimension larger than the track width Tw is formed, the upper core layer 26 is joined on the rear end region E, so that the upper core layer 26 The contact area with the recording core 24 can be increased, and the recording magnetic field from the upper core layer 26 can efficiently flow to the upper magnetic pole layer 23.

【0076】ところで図5に示すように、記録コア24
に幅寸法の広い後端領域Eが形成されている場合には、
前記領域Aにおいて狭められた上部コア層の幅寸法の範
囲内から、または前記範囲を前記対向面側へ延長させた
領域内から、前記後端領域Eが外れないように、前記記
録コア24と前記上部コア層26とのトラック幅方向で
の相対位置が決められていることが好ましい。
By the way, as shown in FIG.
When the rear end region E having a wide width is formed in
The recording core 24 and the recording core 24 are fixed so that the rear end region E does not deviate from the range of the width dimension of the upper core layer narrowed in the region A, or from the region in which the range is extended to the facing surface side. It is preferable that the relative position with respect to the upper core layer 26 in the track width direction is determined.

【0077】すなわち本発明では図4及び図5に示すよ
うに、前記記録コア24と接合する上部コア層26の領
域Aの下面の面積(斜線で示されている)は、前記領域
Aと接合する部分の記録コア24の上面の面積よりも大
きいことが好ましい。これにより上部コア層26からの
記録磁界を効率良く上部磁極層23に流すことができ
る。
That is, in the present invention, as shown in FIGS. 4 and 5, the area of the lower surface of the region A of the upper core layer 26 to be joined to the recording core 24 (shown by oblique lines) is the same as that of the region A. It is preferable that the area is larger than the area of the upper surface of the recording core 24 at the portion where the recording is performed. This allows the recording magnetic field from the upper core layer 26 to efficiently flow to the upper pole layer 23.

【0078】また前記記録コア24は、前記領域Aのト
ラック幅方向(図示X方向)範囲内においてその中央に
形成されることが好ましい。これにより前記上部コア層
26からの記録磁界を効率良く上部磁極層23に流すこ
とができ、サイドフリンジングの発生をより適切に防止
することが可能である。
The recording core 24 is preferably formed at the center of the area A within the range of the track width direction (X direction in the drawing). As a result, the recording magnetic field from the upper core layer 26 can efficiently flow to the upper magnetic pole layer 23, and the occurrence of side fringing can be more appropriately prevented.

【0079】このように本発明では、上部コア層26
は、記録媒体との対向面よりもハイト方向奥側に位置す
る領域Aでの前記対向面と平行な断面積が、前記領域A
よりも前記対向面側に位置する領域Cでの前記と同じ平
行な断面績よりも小さくなっている。これによって、サ
イドフリンジングの発生をより適正に防止することが可
能である。
As described above, in the present invention, the upper core layer 26
Is a cross-sectional area parallel to the facing surface in a region A located on the back side in the height direction from the facing surface with the recording medium.
In the area C located on the side of the opposing surface, the same parallel cross section as described above is smaller. This makes it possible to more appropriately prevent the occurrence of side fringing.

【0080】次にサイドフリンジングの発生を適正に抑
制できるその原理について説明する。磁束密度Bは、磁
束φが一定であるならば、断面積に反比例する。すなわ
ち前記磁束密度Bは、断面積が小さいほど大きくなり、
前記断面積が大きいほど小さくなる。
Next, a description will be given of the principle by which the occurrence of side fringing can be appropriately suppressed. The magnetic flux density B is inversely proportional to the cross-sectional area if the magnetic flux φ is constant. That is, the magnetic flux density B increases as the cross-sectional area decreases,
The smaller the cross-sectional area is, the smaller it becomes.

【0081】ここで本発明における上部コア層26内で
の磁束密度Bについて考察してみると、対向面側に位置
する領域Cの断面積よりも小さい断面積を有する領域A
では、磁束密度Bが大きくなり、一方、前記領域Cで
は、前記磁束密度Bが低下する。
Here, considering the magnetic flux density B in the upper core layer 26 in the present invention, the area A having a smaller cross-sectional area than the area C of the area C located on the facing surface side is considered.
In this case, the magnetic flux density B increases, while in the region C, the magnetic flux density B decreases.

【0082】すなわち記録磁界の領域Aから領域Cに流
れる量は減少し、一方、前記上部コア層26の前記領域
Aから上部磁極層23に前記記録磁界が流れ易くなる
(図3の矢印参照)。
That is, the amount of the recording magnetic field flowing from the region A to the region C decreases, while the recording magnetic field easily flows from the region A of the upper core layer 26 to the upper pole layer 23 (see the arrow in FIG. 3). .

【0083】このため記録媒体との対向面において、上
部コア層26の先端面26fと上部磁極層23間での漏
れ磁界が減り、サイドフリンジングの発生を適切に抑制
することが可能になるのである。また前記領域Aから上
部磁極層23に記録磁界が流れ易くなることにより、上
記したように領域Aにおいて狭められた上部コア層26
の幅寸法内から、前記記録コア24が外れないように、
前記記録コア24と前記上部コア層26とのトラック幅
方向での相対位置が決められる方が、記録特性を向上で
きて好ましい。
For this reason, on the surface facing the recording medium, the leakage magnetic field between the top end surface 26f of the upper core layer 26 and the upper magnetic pole layer 23 is reduced, and the occurrence of side fringing can be appropriately suppressed. is there. Further, since the recording magnetic field easily flows from the region A to the upper pole layer 23, the upper core layer 26 narrowed in the region A as described above.
So that the recording core 24 does not come off from within the width dimension of
It is preferable that the relative position between the recording core 24 and the upper core layer 26 in the track width direction be determined because the recording characteristics can be improved.

【0084】なお本発明では、図1の点線で示すよう
に、前記上部コア層26の先端面26fは、トラック幅
方向(図示X方向)の両側に向かうにしたがって、ハイ
ト方向(図示Y方向)へ徐々に後退する曲面形状で形成
されていてもよい。これにより前記先端面26fは、記
録媒体との対向面から一部のみが露出することになり、
サイドフリンジングの発生をより適切に抑制することが
可能である。
In the present invention, as shown by the dotted line in FIG. 1, the tip end face 26f of the upper core layer 26 moves in the height direction (Y direction in the drawing) toward both sides in the track width direction (X direction in the drawing). It may be formed in a curved surface shape that gradually recedes. As a result, only a part of the leading end surface 26f is exposed from the surface facing the recording medium,
It is possible to more appropriately suppress the occurrence of side fringing.

【0085】また図3に示すように、前記上部コア層2
6の先端面26fが、記録媒体との対向面から点線Fの
位置まで後退して形成され、前記先端面26fが前記対
向面から完全に露出しない形状としてもよい。これによ
りさらにサイドフリンジングの発生を抑制することが可
能である。
As shown in FIG. 3, the upper core layer 2
6 may be formed so as to recede from the surface facing the recording medium to the position indicated by the dotted line F, so that the front surface 26f is not completely exposed from the facing surface. This makes it possible to further suppress the occurrence of side fringing.

【0086】図6は本発明における第2実施形態の薄膜
磁気ヘッドの構造を示す部分斜視図、図7は図6に示す
薄膜磁気ヘッドの部分縦断面図である。
FIG. 6 is a partial perspective view showing the structure of the thin-film magnetic head according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a partial longitudinal sectional view of the thin-film magnetic head shown in FIG.

【0087】図6及び図7に示す薄膜磁気ヘッドの構造
は、図1ないし図5に示す薄膜磁気ヘッドの構造と比較
すると、上部コア層26の先端形状が異なるだけで他の
層構造(形状)は全く同じである。
The structure of the thin film magnetic head shown in FIGS. 6 and 7 is different from the structure of the thin film magnetic head shown in FIGS. 1 to 5 only in the shape of the tip of the upper core layer 26 except for the other layer structure (shape). ) Is exactly the same.

【0088】すなわち、図7に示すように、下部コア層
20上には、記録媒体との対向面からハイト方向に所定
長さ寸法L1で形成された記録コア24が形成されてお
り、前記記録コア24は、下から下部磁極層21、ギャ
ップ層22、及び上部磁極層23の3層膜、あるいはギ
ャップ層22、及び上部磁極層23の2層膜で構成され
ている。また前記下部コア層20と記録コア24との間
には、Gd決め絶縁層27が形成され、記録媒体との対
向面から前記Gd決め絶縁層27の前面までの長さ寸法
L2がギャップデプス(Gd)として規制される。
That is, as shown in FIG. 7, a recording core 24 having a predetermined length L1 in the height direction from the surface facing the recording medium is formed on the lower core layer 20. The core 24 is composed of a three-layer film of the lower magnetic pole layer 21, the gap layer 22, and the upper magnetic pole layer 23, or a two-layer film of the gap layer 22 and the upper magnetic pole layer 23 from below. Further, a Gd determining insulating layer 27 is formed between the lower core layer 20 and the recording core 24, and the length dimension L2 from the surface facing the recording medium to the front surface of the Gd determining insulating layer 27 has a gap depth ( Gd).

【0089】図7に示すように、下部コア層20上であ
って、記録コア24のハイト方向後方には、絶縁下地層
28を介してコイル層29が螺旋状に巻回形成されてい
る。さらに前記コイル層29の各導体部のピッチ間は無
機絶縁材料等で形成された絶縁層30によって覆われ、
前記絶縁層30は記録媒体との対向面に露出形成されて
いる。
As shown in FIG. 7, a coil layer 29 is spirally formed on the lower core layer 20 behind the recording core 24 in the height direction with an insulating base layer 28 interposed therebetween. Further, the pitch between the conductor portions of the coil layer 29 is covered with an insulating layer 30 formed of an inorganic insulating material or the like,
The insulating layer 30 is exposed on the surface facing the recording medium.

【0090】また前記コイル層29上には、有機絶縁材
料等で形成された絶縁層31が形成され、前記絶縁層3
1の上には第2のコイル層33が螺旋状に巻回形成され
ている。
On the coil layer 29, an insulating layer 31 made of an organic insulating material or the like is formed.
A second coil layer 33 is spirally formed on 1.

【0091】前記第2のコイル層33上は、有機絶縁材
料等で形成された絶縁層32に覆われ、さらに前記絶縁
層32上には上部コア層26が、例えばフレームメッキ
法等によりパターン形成されている。前記上部コア層2
6の先端部26aは、上部磁極層23上に重ねられて形
成され、前記上部コア層26と上部磁極層23とが磁気
的に接続された状態にされる。また前記上部コア層26
の基端部26は、下部コア層20上に形成された磁性材
料製の盛り上げ層36上に磁気的に接続された状態にさ
れている。
The second coil layer 33 is covered with an insulating layer 32 made of an organic insulating material or the like, and an upper core layer 26 is further formed on the insulating layer 32 by, for example, frame plating. Have been. The upper core layer 2
6 is formed on the upper magnetic pole layer 23 so that the upper core layer 26 and the upper magnetic pole layer 23 are magnetically connected to each other. The upper core layer 26
The base end portion 26 is magnetically connected to a raised layer 36 made of a magnetic material formed on the lower core layer 20.

【0092】図6及び7に示す実施例においても、図1
ないし図5に示す実施例と同様に、上部コア層26は、
記録媒体との対向面よりもハイト方向(図示Y方向)奥
側に位置する領域Aでの前記対向面と平行な断面の面積
が、前記領域Aよりも前記対向面側に位置する領域Cで
の前記と同じ平行な断面の面積よりも小さくなってい
る。
In the embodiment shown in FIGS. 6 and 7, FIG.
As in the embodiment shown in FIGS.
The area of the cross section parallel to the facing surface in the region A located in the height direction (the Y direction in the drawing) deeper than the facing surface with the recording medium is the region C located in the facing surface side of the region A. Is smaller than the area of the same parallel cross section.

【0093】ただし前記領域Aの形成手段が図1に示す
薄膜磁気ヘッドとでは異なっている。
However, the means for forming the region A is different from the thin film magnetic head shown in FIG.

【0094】図6に示す実施例では、前記領域Aでは、
前記上部コア層26の下面から上部コア層26の高さ方
向(図示Z方向)の途中まで盛り上がる曲面形状の表面
を有する絶縁材料の盛り上げ層40,40が形成されて
いる。
In the embodiment shown in FIG.
Raised layers 40, 40 of an insulating material having a curved surface that rises from the lower surface of the upper core layer 26 to the middle of the upper core layer 26 in the height direction (Z direction in the drawing) are formed.

【0095】この盛り上げ層40は、トラック幅方向
(図示X方向)の両側に形成された絶縁層30上に形成
されている。
The raised layers 40 are formed on the insulating layers 30 formed on both sides in the track width direction (X direction in the drawing).

【0096】そして前記上部コア層26の領域Aでは、
前記盛り上げ層40,40間から前記盛り上げ層40の
前記曲面上に渡って形成されている。
In the region A of the upper core layer 26,
It is formed over the curved surface of the raised layer 40 from between the raised layers 40, 40.

【0097】このように、前記上部コア層26下には盛
り上げ層40,40が形成されることにより、前記領域
Aでは、前記上部コア層26の下面から上部コア層26
のトラック幅方向に対向する両端部に、前記上部コア層
26の下面から前記上部コア層26の高さ方向(図示Z
方向)の途中まで延びる凹部41,41が形成される。
As described above, the raised layers 40, 40 are formed below the upper core layer 26, so that in the region A, the lower surface of the upper core layer 26
At the opposite ends in the track width direction from the lower surface of the upper core layer 26 in the height direction of the upper core layer 26 (Z in the drawing).
(Direction) are formed to extend halfway.

【0098】したがって前記凹部41が形成されている
箇所を記録媒体との対向面と平行に切断すると、その断
面積は、前記領域Aよりも対向面側に位置する領域Cで
の前記と同じ平行な断面積よりも小さくなっている。
Therefore, when the portion where the concave portion 41 is formed is cut in parallel with the surface facing the recording medium, the cross-sectional area is the same as that in the region C located on the side facing the surface A than the region A. Smaller than the normal cross-sectional area.

【0099】なお前記盛り上げ層41は、例えばAl
O、Al23、SiO2、Ta25、TiO、AlN、
AlSiN、TiN、SiN、Si34、NiO、W
O、WO 3、BN、CrN、SiON等の無機絶縁材料
や、レジストやポリイミド等の有機絶縁材料で形成され
る。
The raised layer 41 is made of, for example, Al.
O, AlTwoOThree, SiOTwo, TaTwoOFive, TiO, AlN,
AlSiN, TiN, SiN, SiThreeNFour, NiO, W
O, WO ThreeInsulating materials such as BN, CrN, SiON
Or made of organic insulating material such as resist or polyimide
You.

【0100】また図6に示す実施例では、前記盛り上げ
層41は、2つ形成されているが一つでもかまわない。
さらに図6に示すように盛り上げ層41が2つ形成され
る場合には、トラック幅方向(図示X方向)に左右対称
な形状で形成されていることが好ましい。これにより、
上部コア層26に形成される2つの凹部41,41もま
た同一形状で形成でき、上部コア層26からの記録磁界
を効率良く上部磁極層23に流すことができ、記録効率
を高めることが可能である。
In the embodiment shown in FIG. 6, two raised layers 41 are formed, but one may be provided.
Further, when two raised layers 41 are formed as shown in FIG. 6, it is preferable that the raised layers 41 be formed in a shape symmetrical in the track width direction (X direction in the drawing). This allows
The two concave portions 41, 41 formed in the upper core layer 26 can also be formed in the same shape, and the recording magnetic field from the upper core layer 26 can efficiently flow to the upper magnetic pole layer 23, and the recording efficiency can be improved. It is.

【0101】また前記盛り上げ層41は図6に示すよう
に表面が曲面形状となっているが、例えば矩形状で形成
されていてもよい。
The raised layer 41 has a curved surface as shown in FIG. 6, but may be formed in a rectangular shape, for example.

【0102】また前記上部コア層26は、盛り上げ層4
1上の少なくとも一部分に重ねて形成されることが必要
であるが、前記上部コア層26は、前記盛り上げ層41
上に完全に重ねて形成されていてもかまわない。
Further, the upper core layer 26 is
1, it is necessary to form the upper core layer 26 on the raised layer 41.
It may be formed so as to completely overlap with the upper part.

【0103】また本発明では、前記領域Aにおいて狭め
られた上部コア層26の幅寸法の範囲内から、または前
記範囲を前記対向面側へ延長させた領域内から、前記記
録コア24が外れないように、前記記録コア24と上部
コア層26とのトラック幅方向での相対位置が決められ
ていることが好ましい。
Also, in the present invention, the recording core 24 does not come off from within the range of the width dimension of the upper core layer 26 narrowed in the region A, or from a region in which the range is extended to the facing surface side. Thus, it is preferable that the relative position of the recording core 24 and the upper core layer 26 in the track width direction is determined.

【0104】本発明では、前記盛り上げ層41は、前記
記録コア層24のトラック幅方向の両側に形成される絶
縁層30上に形成される。これによって、前記記録コア
24を上部コア層26の幅寸法の範囲内から、または前
記範囲を前記対向面側へ延長させた領域内から、前記記
録コア24が外れないように形成することができる。
In the present invention, the raised layer 41 is formed on the insulating layer 30 formed on both sides of the recording core layer 24 in the track width direction. Thus, the recording core 24 can be formed so as not to come off from within the range of the width dimension of the upper core layer 26 or from within a region in which the range is extended to the facing surface side. .

【0105】これにより前記上部コア層26からの記録
磁界を効率良く上部磁極層23に流すことが可能であ
る。
Thus, the recording magnetic field from the upper core layer 26 can efficiently flow to the upper magnetic pole layer 23.

【0106】また図5に示すように前記記録コア24
が、記録媒体との対向面からハイト方向へトラック幅T
wで延びる先端領域Dと、前記先端領域Dのハイト方向
(図示Y方向)奥側を起点としてハイト方向奥側に向け
てトラック幅方向の幅寸法が徐々に広がる後端領域Eと
で構成される場合、前記上部コア層26の領域Aにおい
て狭められた上部コア層26の幅寸法の範囲内から、ま
たは前記範囲を前記対向面側へ延長させた領域内から、
前記後端領域Eが外れないように、前記記録コア24と
前記上部コア層26とのトラック幅方向での相対位置が
決められていることが好ましい。
Further, as shown in FIG.
Is the track width T from the surface facing the recording medium in the height direction.
w, and a rear end area E whose width in the track width direction gradually increases from the depth side (the Y direction in the drawing) of the front end area D toward the depth side in the height direction. In this case, from within a range of the width dimension of the upper core layer 26 narrowed in the region A of the upper core layer 26, or from a region in which the range is extended to the facing surface side,
It is preferable that the relative position in the track width direction between the recording core 24 and the upper core layer 26 is determined so that the rear end region E does not deviate.

【0107】この構成を達成するには、前記記録コア2
4の後端領域Eのトラック幅方向(図示X方向)の両側
に広がる絶縁層30上に盛り上げ層41が形成される
と、前記領域Aを記録コア24の後端領域E上に、前記
後端領域Eが外れないように重ねて形成することが可能
である。
To achieve this configuration, the recording core 2
When the raised layer 41 is formed on the insulating layer 30 extending on both sides in the track width direction (the X direction in the drawing) of the rear end region 4 of the recording core 24, the region A is placed on the rear end region E of the recording core 24. It is possible to form them so that the end regions E do not come off.

【0108】また前記記録コア24は、上部コア層26
の領域Aのトラック幅方向(図示X方向)の中央に形成
されることが、上部コア層26からの記録磁界を効率良
く上部磁極層23に流すことができて好ましい。
The recording core 24 includes an upper core layer 26
Is preferably formed at the center of the region A in the track width direction (X direction in the drawing) because the recording magnetic field from the upper core layer 26 can efficiently flow to the upper magnetic pole layer 23.

【0109】また図6及び7に示す実施例のように、前
記盛り上げ層31上に上部コア層26を重ねて形成する
場合には、図7に示すように盛り上げ層40の下側に上
部コア層26の形成に必要なメッキ下地層44を敷くこ
とが好ましい。
In the case where the upper core layer 26 is formed on the raised layer 31 as in the embodiment shown in FIGS. 6 and 7, the upper core layer 40 is formed under the raised layer 40 as shown in FIG. It is preferable to lay a plating base layer 44 necessary for forming the layer 26.

【0110】図7に示すように前記メッキ下地層44
は、記録コア24上及び前記記録コア24の両側に形成
されている絶縁層30上から前記第2のコイル層33上
を覆う絶縁層32上にかけて形成されており、前記メッ
キ下地層44上に盛り上げ層40が形成されているので
ある。
As shown in FIG. 7, the plating underlayer 44
Are formed on the recording core 24 and the insulating layer 30 formed on both sides of the recording core 24 to the insulating layer 32 covering the second coil layer 33, and are formed on the plating base layer 44. The raised layer 40 is formed.

【0111】そして上部コア層26は、前記メッキ下地
層44上からメッキ成長して形成されるが、上記したよ
うに盛り上げ層40上にはメッキ下地層44が形成され
ていないために、前記盛り上げ層40上では、その周囲
からのメッキ成長により上部コア層26が形成されてい
き、したがって完成後の上部コア層26の上面26e
は、平坦化されて形成される。
The upper core layer 26 is formed by plating from the plating base layer 44. However, since the plating base layer 44 is not formed on the build-up layer 40 as described above, the upper core layer 26 is formed. On the layer 40, the upper core layer 26 is formed by plating growth from the periphery thereof, and thus the upper surface 26e of the completed upper core layer 26 is formed.
Is formed by flattening.

【0112】一方、前記盛り上げ層40上にメッキ下地
層44が形成された場合には、前記盛り上げ層40上に
おいてもメッキ成長が活発化し、完成後の前記上部コア
層26の上面26eは、盛り上げ層40が形成されてい
る部分が盛り上がってしまい、実質的に領域Aの記録媒
体との対向面と平行な方向への断面積を、先端面26f
の面積より小さくすることができなくなる。
On the other hand, when the plating base layer 44 is formed on the raised layer 40, the plating growth is activated also on the raised layer 40, and the upper surface 26e of the completed upper core layer 26 is raised. The portion where the layer 40 is formed rises, and the cross-sectional area of the region A in the direction parallel to the surface facing the recording medium is substantially reduced to the tip surface 26f.
Cannot be made smaller than the area of.

【0113】よって本発明では、上記のようにメッキ下
地層44を盛り上げ層40の下側に敷くこととしてい
る。
Accordingly, in the present invention, the plating base layer 44 is laid below the raised layer 40 as described above.

【0114】またこの実施例においても、図1ないし図
5に示す実施例と同様に、前記上部コア層26の先端面
26fが、トラック幅方向(図示X方向)の両側に向か
うにしたがって、ハイト方向(図示Y方向)へ徐々に後
退する曲面形状で形成されていてもよい。また図7に示
すように先端面26fが、記録媒体との対向面から点線
Fの位置まで後退して形成され、前記先端面26fが前
記対向面から完全に露出しない形状としてもよい。
Also, in this embodiment, similarly to the embodiment shown in FIGS. 1 to 5, the height of the tip surface 26f of the upper core layer 26 increases toward the both sides in the track width direction (X direction in the drawing). It may be formed in a curved shape that gradually retreats in the direction (Y direction in the figure). Further, as shown in FIG. 7, the leading end surface 26f may be formed so as to recede from the surface facing the recording medium to the position of the dotted line F, and the leading end surface 26f may not be completely exposed from the facing surface.

【0115】図6、7に示す実施例では、磁束密度B
は、前記領域Aよりも領域Cの方が小さくなるため、記
録磁界は、領域Aから領域Cに流れると低下し、前記先
端面26fと上部磁極層23間での漏れ磁界は減少し、
サイドフリンジングの発生を適切に抑制することが可能
である。一方、磁束密度Bが高まった前記領域Aが、記
録コア24上で接合されていると、前記領域Aから記録
磁界が有効に上部磁極層23側に流れ(図7の矢印参
照)、磁束効率を上げることができ、今後の高記録密度
化に対応可能な薄膜磁気ヘッドを製造することが可能で
ある。
In the embodiment shown in FIGS. 6 and 7, the magnetic flux density B
Since the area C is smaller than the area A, the recording magnetic field decreases when flowing from the area A to the area C, and the leakage magnetic field between the tip end face 26f and the upper magnetic pole layer 23 decreases.
It is possible to appropriately suppress the occurrence of side fringing. On the other hand, if the area A where the magnetic flux density B is increased is joined on the recording core 24, the recording magnetic field effectively flows from the area A to the upper pole layer 23 side (see the arrow in FIG. 7), and the magnetic flux efficiency Therefore, it is possible to manufacture a thin film magnetic head capable of coping with a higher recording density in the future.

【0116】なお図1及び図6に示す実施例では、上部
コア層26の先端面26fよりも断面積の小さくなる領
域Aが一個所だけ形成されているが、前記領域Aが複数
形成されていてもかまわない。
In the embodiment shown in FIGS. 1 and 6, only one region A having a smaller cross-sectional area than the tip surface 26f of the upper core layer 26 is formed, but a plurality of the regions A are formed. It doesn't matter.

【0117】また本発明では、前記領域Aでは、少なく
とも前記上部コア層26の下面においてトラック幅方向
の幅寸法が他の部分よりも細く形成されていれば良く、
図1ないし図7に示す実施形態に限定されるものではな
い。
According to the present invention, in the region A, it is sufficient that the width dimension in the track width direction is formed at least on the lower surface of the upper core layer 26 to be smaller than other portions.
The present invention is not limited to the embodiment shown in FIGS.

【0118】また本発明では、前記領域Aでは、高さ方
向(図示Z方向)の厚みが、前記領域Aよりも対向面側
に位置する領域Cの前記厚みよりも薄く形成されていて
も良く、これによってもサイドフリンジングの発生を適
正に抑制することが可能になっている。
In the present invention, in the region A, the thickness in the height direction (Z direction in the drawing) may be formed to be smaller than the thickness in the region C located on the side opposite to the region A. This also makes it possible to appropriately suppress the occurrence of side fringing.

【0119】図8及び図9は、図1に示す薄膜磁気ヘッ
ド(実施例)と、図18に示す薄膜磁気ヘッド(比較
例)を用いて信号を記録媒体に記録した後、再生ヘッド
(MRヘッド)を用いて、前記信号を再生した際のトラ
ック幅Tw中央からトラック幅方向(図示X方向)への
位置と、その位置での再生出力(TAA)との関係を示
すグラフである。なお実験では、再生ヘッド(MRヘッ
ド)に同じ形状のものを使用している。またグラフに示
す横軸の0点は、再生ヘッドにおけるトラック幅Twの
中央位置を示している。
FIGS. 8 and 9 show a read head (MR) after signals are recorded on a recording medium using the thin film magnetic head (embodiment) shown in FIG. 1 and a thin film magnetic head (comparative example) shown in FIG. 6 is a graph showing a relationship between a position in the track width direction (X direction in the drawing) from the center of the track width Tw and a reproduction output (TAA) at that position when the signal is reproduced using a head. In the experiment, a reproducing head (MR head) having the same shape was used. The zero point on the horizontal axis shown in the graph indicates the center position of the track width Tw in the reproducing head.

【0120】図8に示すように、0点すなわちトラック
幅Twの中央部分では再生出力が最も大きくなり、前記
中央部分からトラック幅方向(図示X方向)へ離れるほ
ど再生出力(μV)は低下していき、トラック幅Tw中
央から±1μm程度離れた位置では、再生出力は0μV
となる。
As shown in FIG. 8, the reproduction output is maximum at the point 0, that is, at the center of the track width Tw, and the reproduction output (μV) decreases as the distance from the center to the track width direction (X direction in the drawing) increases. At a position about ± 1 μm away from the center of the track width Tw, the reproduction output becomes 0 μV
Becomes

【0121】図8に示すように、実施例の薄膜磁気ヘッ
ドでは、サイドフリンジングの発生が無いことが理解で
きる。
As shown in FIG. 8, it can be understood that side fringing does not occur in the thin film magnetic head of the embodiment.

【0122】一方、図9に示す比較例の薄膜磁気ヘッド
を用いた場合、図8と同様に、0点すなわちトラック幅
Twの中央部分からトラック幅方向(図示X方向)に離
れるにしたがって再生出力(μV)は低下していくもの
の、前記中央部分から約±1.1ないし1.3μm離れ
た位置で再び再生出力が向上することがわかる。すなわ
ち図9に示すグラフでは、再生出力が盛り上がる山が3
つ存在し、中央部分から約±1.1ないし1.3μm離
れた位置で上昇する再生出力はサイドフリンジングとし
て出力される。このように図9に示すように、比較例の
薄膜磁気ヘッドでは、サイドフリンジングが発生しやす
いことがわかる。
On the other hand, when the thin-film magnetic head of the comparative example shown in FIG. 9 is used, as in FIG. (ΜV) is reduced, but the reproduction output is improved again at a position about ± 1.1 to 1.3 μm away from the central portion. That is, in the graph shown in FIG.
The reproduction output that rises at a position about ± 1.1 to 1.3 μm away from the central portion is output as side fringing. Thus, as shown in FIG. 9, it can be seen that side fringing easily occurs in the thin film magnetic head of the comparative example.

【0123】このように実施例の薄膜磁気ヘッドを使用
した場合、サイドフリンジングが発生しにくいのは、上
記したように、上部コア層26は、記録媒体との対向面
よりもハイト方向奥側に位置する領域Aでの前記対向面
と平行な断面の面積が、前記領域Aよりも前記対向面側
に位置する領域Cでの前記と同じ平行な断面の面積より
も小さくなっているからであり、前記領域Aの存在によ
り、前記領域Aよりも対向面側に位置する領域Cに流れ
る記録磁界は低下し、サイドフリンジングの発生を適切
に抑制することが可能になっている。
When the thin-film magnetic head of the embodiment is used, side fringing is unlikely to occur, as described above, because the upper core layer 26 is located on the back side in the height direction from the surface facing the recording medium. The area of the cross section parallel to the opposing surface in the region A located in the region A is smaller than the area of the same parallel cross section in the region C located on the opposing surface side than the region A. In addition, due to the presence of the region A, the recording magnetic field flowing to the region C located on the side opposite to the region A is reduced, and it is possible to appropriately suppress the occurrence of side fringing.

【0124】次に本発明における薄膜磁気ヘッドの製造
方法について以下に説明する。図10ないし図14に示
す薄膜磁気ヘッドは図1に示す薄膜磁気ヘッドの製造工
程図である。また図10ないし13までが薄膜磁気ヘッ
ドの部分縦断面図、図14が部分平面図で示されてい
る。
Next, a method of manufacturing a thin film magnetic head according to the present invention will be described below. The thin film magnetic head shown in FIGS. 10 to 14 is a manufacturing process diagram of the thin film magnetic head shown in FIG. 10 to 13 are partial longitudinal sectional views of the thin-film magnetic head, and FIG. 14 is a partial plan view.

【0125】図10に示すようにまず下部コア層20上
に、Gd決めレジスト層27を形成した後、記録媒体と
の対向面からハイト方向(図示Y方向)へ所定の長さ寸
法にて、記録コア24を形成する。前記記録コア24
は、下から下部磁極層21、ギャップ層22、及び上部
磁極層23の順に積層される。なお前記記録コア24は
ギャップ層22と上部磁極層23の2層で構成されてい
てもよい。
As shown in FIG. 10, first, a Gd determining resist layer 27 is formed on the lower core layer 20 and then has a predetermined length in the height direction (Y direction in the drawing) from the surface facing the recording medium. The recording core 24 is formed. The recording core 24
Are sequentially stacked from the bottom in the order of the lower magnetic pole layer 21, the gap layer 22, and the upper magnetic pole layer 23. The recording core 24 may be composed of two layers, the gap layer 22 and the upper magnetic pole layer 23.

【0126】なお前記ギャップ層22を、メッキ形成可
能な非磁性金属材料で形成することが好ましい。具体的
には、前記非磁性金属材料を、NiP、NiPd、Ni
W、NiMo、Au、Pt、Rh、Pd、Ru、Crの
うち1種または2種以上から選択することが好ましい。
これにより前記記録コア24を連続メッキにより形成す
ることが可能である。
It is preferable that the gap layer 22 is formed of a non-magnetic metal material which can be formed by plating. Specifically, the nonmagnetic metal material is NiP, NiPd, Ni
It is preferable to select from one or more of W, NiMo, Au, Pt, Rh, Pd, Ru, and Cr.
Thus, the recording core 24 can be formed by continuous plating.

【0127】また前記記録コア24のトラック幅方向
(図示X方向)への幅寸法は、0.7μm以下、好まし
くは0.5μm以下である。前記記録コア24のトラッ
ク幅方向への幅寸法はトラック幅Twとして規制される
ので、できる限り小さく形成されることが好ましい。ま
た下部磁極層21の高さ寸法は、0.3μm程度で形成
され、ギャップ層22の高さ寸法は、0.2μm程度で
形成され、また上部磁極層23の高さ寸法は、3.0μ
m〜3.3μm程度で形成される。
The width of the recording core 24 in the track width direction (X direction in the figure) is 0.7 μm or less, preferably 0.5 μm or less. Since the width of the recording core 24 in the track width direction is regulated as the track width Tw, the recording core 24 is preferably formed as small as possible. The lower pole layer 21 has a height of about 0.3 μm, the gap layer 22 has a height of about 0.2 μm, and the upper pole layer 23 has a height of 3.0 μm.
m to about 3.3 μm.

【0128】次に図11に示すように、下部コア層20
上、さらには記録コア24上を絶縁層30によって埋め
る。前記絶縁層30を形成する絶縁材料としては、無機
絶縁材料であることが好ましい。具体的には、AlO、
Al23、SiO2、Ta2 5、TiO、AlN、Al
SiN、TiN、SiN、Si34、NiO、WO、W
3、BN、CrN、SiONのうち少なくとも1種か
ら選択されることが好ましい。
Next, as shown in FIG.
And the recording core 24 is filled with an insulating layer 30.
You. As an insulating material for forming the insulating layer 30, inorganic
Preferably, it is an insulating material. Specifically, AlO,
AlTwoOThree, SiOTwo, TaTwoO Five, TiO, AlN, Al
SiN, TiN, SiN, SiThreeNFour, NiO, WO, W
OThree, BN, CrN, SiON
It is preferable to be selected from these.

【0129】このように前記絶縁層30を無機絶縁材料
で形成する理由は、次に行なわれるCMP技術によって
前記絶縁層30の表面を研磨加工し易くするためであ
る。
The reason why the insulating layer 30 is formed of an inorganic insulating material is to make it easy to polish the surface of the insulating layer 30 by a CMP technique to be performed next.

【0130】図11に示すように前記絶縁層30をH−
H線から、CMP技術を用いて研磨加工する。これによ
って前記絶縁層30の表面は平坦化され、また前記絶縁
層30の表面からは上部磁極層23の表面が露出する。
As shown in FIG. 11, the insulating layer 30 is
Polishing is performed from the H line using a CMP technique. Thereby, the surface of the insulating layer 30 is planarized, and the surface of the upper magnetic pole layer 23 is exposed from the surface of the insulating layer 30.

【0131】次に図12工程では、前記記録コア24よ
りもハイト側(図示Y方向)に埋められた絶縁層30上
に、コイル層45を螺旋状にパターン形成し、さらに前
記コイル層45上を有機絶縁材料からなる絶縁層32に
よって覆う。
Next, in the step of FIG. 12, a coil layer 45 is spirally patterned on the insulating layer 30 buried on the height side (Y direction in the drawing) with respect to the recording core 24. Is covered with an insulating layer 32 made of an organic insulating material.

【0132】次に図13に示す工程では、前記記録コア
24上から前記絶縁層32上にかけてNiFe系合金等
からなるメッキ下地層44を形成する。
Next, in the step shown in FIG. 13, a plating base layer 44 made of a NiFe-based alloy or the like is formed from the recording core 24 to the insulating layer 32.

【0133】次に図14に示す工程では、前記メッキ下
地層44上にレジスト層42を塗布した後、前記レジス
ト層42に上部コア層26の抜きパターン42aを露光
現像によって形成する。
Next, in the step shown in FIG. 14, after a resist layer 42 is applied on the plating base layer 44, a pattern 42a of the upper core layer 26 is formed on the resist layer 42 by exposure and development.

【0134】前記パターン42aは図14に示すよう
に、記録媒体との対向面からハイト方向(図示Y方向)
にほぼ一定の幅寸法で形成された先端領域Fと前記先端
領域Fのハイト方向奥側を起点としてハイト方向奥側に
向けてトラック幅方向の幅寸法が広がる後端領域Gとで
構成される。図14に示すように前記先端領域Fの下側
には、記録コア24が形成されている。
As shown in FIG. 14, the pattern 42a extends from the surface facing the recording medium in the height direction (Y direction in the drawing).
And a rear end region G whose width in the track width direction increases from the depth side of the front end region F toward the depth side of the height direction. . As shown in FIG. 14, a recording core 24 is formed below the tip region F.

【0135】本発明では、前記パターン42aを形成す
るとき前記パターン42aの両側端面に前記パターン4
2a内に突き出る突起部42b,42bを形成する。前
記突起部42b,42bは、トラック幅方向(図示X方
向)と平行な方向に形成され、さらに前記トラック幅方
向に左右対称な形状で形成されることが好ましい。
In the present invention, when forming the pattern 42a, the pattern 4a is formed on both side end surfaces of the pattern 42a.
Projections 42b, 42b projecting into 2a are formed. It is preferable that the protrusions 42b are formed in a direction parallel to the track width direction (X direction in the drawing), and are further formed to be symmetrical in the track width direction.

【0136】また前記突起部42b,42bで狭められ
た幅寸法範囲内に前記記録コア24を位置させ、または
前記幅寸法範囲を記録媒体との対向面側へ延長させた領
域内に前記記録コア24を位置させる。
The recording core 24 is positioned within the width dimension narrowed by the protrusions 42b, 42b, or within the area where the width dimension is extended toward the surface facing the recording medium. Position 24.

【0137】また前記記録コア24が記録媒体との対向
面からハイト方向へトラック幅Twで延びる先端領域D
と、前記先端領域Dの両側終端からハイト方向(図示Y
方向)へ幅寸法が徐々に広がる後端領域Eで構成される
場合、前記突起部42b,42bで狭められた幅寸法範
囲内に前記記録コア24の後端領域Eを位置させ、また
は前記幅寸法範囲を記録媒体との対向面側へ延長させた
領域内に前記記録コア24の後端領域Eを位置させる。
Further, a tip region D in which the recording core 24 extends in the height direction from the surface facing the recording medium with a track width Tw.
From the both ends of the tip region D in the height direction (Y in the drawing).
Direction), the rear end area E of the recording core 24 is located within the width dimension narrowed by the protrusions 42b, or the width of the rear end area E gradually increases in the width direction. The rear end region E of the recording core 24 is located in a region where the dimensional range is extended toward the surface facing the recording medium.

【0138】そして前記パターン42b内に、磁性材料
をメッキ形成し、残された前記レジスト層42を除去す
ると、図1に示す、前記突出部によってトラック幅方向
の幅寸法が狭められた領域Aを有する上部コア層26を
形成することができる。
Then, when a magnetic material is formed by plating in the pattern 42b and the remaining resist layer 42 is removed, a region A shown in FIG. 1 in which the width dimension in the track width direction is narrowed by the protruding portion is formed. The upper core layer 26 can be formed.

【0139】すなわち上記した本発明における製造方法
によれば、前記上部コア層26の両側端面26c,26
cに凹部37,37を形成することができる。前記凹部
37,37の形成された領域Aでの前記対向面と平行な
断面の面積は、前記領域Aよりも前記対向面側に位置す
る領域Cでの前記と同じ平行な断面の面積よりも小さく
なり、したがってサイドフリンジングの発生を適切に抑
制可能な薄膜磁気ヘッドを製造することができる。
That is, according to the manufacturing method of the present invention described above, both end surfaces 26c and 26c of the upper core layer 26 are formed.
The recesses 37, 37 can be formed in c. The area of the cross section parallel to the opposing surface in the region A where the concave portions 37 and 37 are formed is larger than the area of the same parallel cross section in the region C located on the opposing surface side with respect to the region A. It is possible to manufacture a thin-film magnetic head which is reduced in size and can appropriately suppress the occurrence of side fringing.

【0140】また上記した製造方法によれば、レジスト
層42を露光現像によってパターン形成するだけで、メ
ッキ形成により完成した上部コア層26の両側端面26
c,26cにサイドフリンジングの発生の抑制可能な凹
部37,37を容易にしかも精度良く形成することが可
能である。
In addition, according to the above-described manufacturing method, the resist layer 42 is only formed by patterning by exposure and development, and the both end faces 26 of the upper core layer 26 completed by plating are formed.
It is possible to easily and accurately form the concave portions 37, 37 capable of suppressing the occurrence of side fringing in the c, 26c.

【0141】次に図15ないし図17に示す工程図を用
いて、図6に示す薄膜磁気ヘッドの製造方法について説
明する。なお図15及び図17は薄膜磁気ヘッドを部分
縦断面図で、図16は薄膜磁気ヘッドを部分平面図で示
している。
Next, a method of manufacturing the thin-film magnetic head shown in FIG. 6 will be described with reference to the process charts shown in FIGS. 15 and 17 are partial longitudinal sectional views of the thin-film magnetic head, and FIG. 16 is a partial plan view of the thin-film magnetic head.

【0142】まず図10ないし図13に示す工程を終え
た後、図15及び図16に示すように、メッキ下地層4
4上に盛り上げ層40,40を形成する。前記盛り上げ
層40は、例えばAlO、Al23、SiO2、Ta2
5、TiO、AlN、AlSiN、TiN、SiN、S
34、NiO、WO、WO3、BN、CrN、SiO
N等の無機絶縁材料や、レジストやポリイミド等の有機
絶縁材料で形成される。
First, after the steps shown in FIGS. 10 to 13 are completed, as shown in FIGS.
The raised layers 40, 40 are formed on 4. The raised layer 40 is made of, for example, AlO, Al 2 O 3 , SiO 2 , Ta 2 O
5 , TiO, AlN, AlSiN, TiN, SiN, S
i 3 N 4 , NiO, WO, WO 3 , BN, CrN, SiO
It is formed of an inorganic insulating material such as N or an organic insulating material such as a resist or polyimide.

【0143】また前記盛り上げ層40の形成される位置
は、図15に示す位置に限らないが、前記盛り上げ層4
0,40が対向する部分の幅寸法内に記録コア24を位
置させ、または前記幅寸法範囲を前記対向面側へ延長さ
せた領域内に前記記録コア24を位置させる必要があ
る。
The position where the raised layer 40 is formed is not limited to the position shown in FIG.
It is necessary to position the recording core 24 within the width dimension of the portion where 0 and 40 face each other, or to position the recording core 24 within a region where the width dimension range is extended toward the facing surface.

【0144】また前記盛り上げ層40、40は、図16
に示すように記録コア24のトラック幅方向(図示X方
向)の両側に形成されている絶縁層30上にメッキ下地
層44を介して形成され、また一対の盛り上げ層40,
40はトラック幅方向に平行な方向で形成されているこ
とが好ましい。さらに前記一対の盛り上げ層40,40
は、同じ形状で形成され、しかも前記記録コア24の中
央からトラック幅方向へ同じ距離だけ離れた位置に形成
されることが好ましい。
The raised layers 40, 40 are formed as shown in FIG.
As shown in FIG. 3, the recording core 24 is formed on the insulating layer 30 formed on both sides of the recording core 24 in the track width direction (X direction in the drawing) via the plating underlayer 44 and a pair of raised layers 40,
40 is preferably formed in a direction parallel to the track width direction. Further, the pair of raised layers 40, 40
Are preferably formed in the same shape and at the same distance from the center of the recording core 24 in the track width direction.

【0145】そして図16に示すように前記メッキ下地
層41及び盛り上げ層40上にレジスト層43を塗布
し、前記レジスト層43を露光現像して上部コア層26
の抜きパターン43aを形成する。
Then, as shown in FIG. 16, a resist layer 43 is applied on the plating base layer 41 and the raised layer 40, and the resist layer 43 is exposed and developed to form the upper core layer 26.
Is formed.

【0146】前記パターン43aの形成の際、図16に
示すように、前記対向面からハイト方向奥側において前
記パターン43aのトラック幅方向に対向する両側面か
ら前記盛り上げ層40を前記パターン43a内に突き出
させる。
When the pattern 43a is formed, as shown in FIG. 16, the raised layer 40 is inserted into the pattern 43a from both side surfaces facing the track width direction of the pattern 43a on the back side in the height direction from the opposing surface. Let it stick out.

【0147】そして前記パターン43a内に磁性材料を
メッキ形成し、残されたレジスト層43を除去すると、
前記盛り上げ層40によってトラック幅方向の幅寸法が
狭められた領域Aを有する上部コア層26が完成する。
Then, a magnetic material is formed in the pattern 43a by plating, and the remaining resist layer 43 is removed.
The upper core layer 26 having the region A in which the width dimension in the track width direction is narrowed by the raised layer 40 is completed.

【0148】前記上部コア層26には、図6に示すよう
に、その下面から高さ方向の途中まで延びる凹部41,
41が形成され、この前記凹部41が形成された部分が
領域Aとなっている。
In the upper core layer 26, as shown in FIG.
41 are formed, and a portion where the concave portion 41 is formed is a region A.

【0149】また上記した製造方法によれば、盛り上げ
層40の形成のみで、前記上部コア層26の下面の両側
端部にサイドフリンジングの発生の抑制可能な凹部4
1,41を容易にしかも精度良く形成することが可能で
ある。
In addition, according to the above-described manufacturing method, only by forming the raised layer 40, the recesses 4 capable of suppressing the occurrence of side fringing are formed on both side edges of the lower surface of the upper core layer 26.
1, 41 can be easily and accurately formed.

【0150】また本発明の製造方法によれば図15に示
すように、上部コア層26をメッキ成長で形成する際に
必要なメッキ下地層44を形成した後、その上に盛り上
げ層40を形成している。
According to the manufacturing method of the present invention, as shown in FIG. 15, after forming a plating base layer 44 necessary for forming the upper core layer 26 by plating growth, a raised layer 40 is formed thereon. are doing.

【0151】すなわち前記盛り上げ層40上にはメッキ
下地層44が形成されていないから前記盛り上げ層40
上でメッキ成長はされず、前記メッキ下地層44が形成
されている部分からのメッキ成長により、徐々に盛り上
げ層40上もメッキされ、図17に示すように、上部コ
ア層26の上面は平坦化されて形成される。
That is, since the plating base layer 44 is not formed on the raised layer 40, the raised layer 40
No plating is grown on the upper layer, and the plating is gradually grown on the raised layer 40 by plating growth from the portion where the plating base layer 44 is formed. As shown in FIG. 17, the upper surface of the upper core layer 26 is flat. Formed.

【0152】一方、盛り上げ層40上にメッキ下地層4
4が形成されていると、前記盛り上げ層40上でもメッ
キ成長していくために、上部コア層26の上面には点線
で示す盛り上がった部分が形成されてしまい、領域Aの
記録媒体との対向面と平行な方向からの断面積を、上部
コア層26の先端面26fの面積よりも有効に小さくす
ることができず好ましくない。よって本発明では、まず
メッキした地層41を形成した後、前記メッキ下地層4
4上に盛り上げ層40を形成しているのである。
On the other hand, the plating base layer 4
When the layer 4 is formed, a plating portion grows on the raised layer 40, so that a raised portion indicated by a dotted line is formed on the upper surface of the upper core layer 26, and the area A faces the recording medium. The cross-sectional area from a direction parallel to the plane cannot be effectively made smaller than the area of the front end face 26f of the upper core layer 26, which is not preferable. Therefore, in the present invention, first, after forming the plated ground layer 41, the plated underlayer 4 is formed.
The raised layer 40 is formed on the upper surface 4.

【0153】なお本発明では上記した製造方法に限られ
ない。例えば前記盛り上げ層40に代えて図1に示す凹
部37と同様の形状を有する円柱状の突出部を絶縁層3
0上に形成しておき、レジストによるパターン形成によ
り、図1に示す形状の上部コア層26(下面から上面へ
貫通する凹部37を有する)を形成することも可能であ
る。なおこの場合、前記上部コア層26をメッキ成長さ
せるために必要なメッキ下地層44を形成した後、前記
メッキ下地層上に前記突出部の下側に形成する必要があ
る。
The present invention is not limited to the manufacturing method described above. For example, a cylindrical protrusion having the same shape as the recess 37 shown in FIG.
It is also possible to form the upper core layer 26 (having a concave portion 37 penetrating from the lower surface to the upper surface) of the shape shown in FIG. In this case, it is necessary to form a plating base layer 44 necessary for growing the upper core layer 26 by plating, and then form the plating base layer on the plating base layer below the protrusion.

【0154】また上記した製造方法では、上部コア層2
0上に記録コア24を形成した後、前記記録コア24の
トラック幅方向の両側及びハイト側を絶縁層30によっ
て埋めているが、まず先に下部コア層20上に絶縁層3
0を形成した後、前記絶縁層30に記録コア24形成の
ための溝を形成し、前記溝内に記録コアを連続メッキし
てもよい。
In the manufacturing method described above, the upper core layer 2
After the recording core 24 is formed on the lower core layer 20, both sides and the height side in the track width direction of the recording core 24 are filled with the insulating layer 30.
After forming 0, a groove for forming the recording core 24 may be formed in the insulating layer 30, and the recording core may be continuously plated in the groove.

【0155】[0155]

【発明の効果】以上、詳細に説明した本発明によれば、
上部コア層は、前記対向面よりもハイト方向奥側に位置
する領域Aでの前記対向面と平行な断面の面積が、前記
領域Aよりも前記対向面側に位置する領域での前記と同
じ平行な断面の面積よりも小さくなっており、これによ
りサイドフリンジングの発生を適正に抑制することがで
きる。
According to the present invention described in detail above,
The upper core layer has an area of a cross section parallel to the opposing surface in a region A located on the depth side in the height direction from the opposing surface, and is the same as that in the region located on the opposing surface side than the region A. Since the area is smaller than the area of the parallel cross section, the occurrence of side fringing can be appropriately suppressed.

【0156】本発明では、前記領域Aの形成手段とし
て、例えば上部コア層のトラック幅方向に対向する両端
部に、前記上部コア層の下面から前記上部コア層の高さ
方向の途中まで延びる凹部を形成したり、あるいは上部
コア層の下面から上部コア層の高さ方向の途中まで延び
る凹部を形成している。これらの形成は、レジスト層を
使用したパターン形成や、絶縁材料製の盛り上げ層上に
上部コア層を重ねて形成することで達成することがで
き、サイドフリンジングの発生の抑制可能な上部コア層
の形状を容易にしかも再現性良く形成することができ
る。
In the present invention, as the means for forming the region A, for example, a concave portion extending from the lower surface of the upper core layer to a midway in the height direction of the upper core layer is provided at both ends of the upper core layer opposed to each other in the track width direction. Or a recess extending from the lower surface of the upper core layer to halfway in the height direction of the upper core layer. These formations can be achieved by forming a pattern using a resist layer or by forming an upper core layer on an insulating material build-up layer, thereby suppressing the occurrence of side fringing. Can be easily formed with good reproducibility.

【0157】また本発明では前記領域Aにおいて狭めら
れた上部コア層の幅寸法の範囲内から、または前記範囲
を前記対向面側へ延長させた領域内から、前記記録コア
が外れないように、前記記録コアと前記上部コア層との
トラック幅方向での相対位置が決められていることが好
ましく、これによりサイドフリンジングの発生を抑制で
きると同時に、前記領域Aからの記録磁界を効率良く上
部磁極層に流すことができ、今後の高記録密度化に対応
可能な薄膜磁気ヘッドを製造することができる。
Further, in the present invention, the recording core is prevented from coming off from within the range of the width dimension of the upper core layer narrowed in the region A or from the region in which the range is extended to the facing surface side. It is preferable that the relative position of the recording core and the upper core layer in the track width direction is determined, whereby the occurrence of side fringing can be suppressed and the recording magnetic field from the region A can be efficiently moved to the upper part. It is possible to manufacture a thin film magnetic head which can be supplied to the magnetic pole layer and can cope with a higher recording density in the future.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明における第1実施形態の薄膜磁気ヘッド
の構造を示す部分斜視図、
FIG. 1 is a partial perspective view showing a structure of a thin-film magnetic head according to a first embodiment of the present invention;

【図2】図1に示す薄膜磁気ヘッドの部分正面図、FIG. 2 is a partial front view of the thin-film magnetic head shown in FIG. 1,

【図3】図2に示す薄膜磁気ヘッドを3−3線から切断
した部分断面図、
FIG. 3 is a partial cross-sectional view of the thin-film magnetic head shown in FIG. 2, taken along line 3-3.

【図4】本発明における薄膜磁気ヘッドの部分平面図、FIG. 4 is a partial plan view of a thin-film magnetic head according to the present invention;

【図5】他の形状を示す薄膜磁気ヘッドの部分平面図、FIG. 5 is a partial plan view of a thin-film magnetic head showing another shape;

【図6】本発明における第2実施形態の薄膜磁気ヘッド
の構造を示す部分斜視図、
FIG. 6 is a partial perspective view showing a structure of a thin-film magnetic head according to a second embodiment of the present invention;

【図7】図6に示す薄膜磁気ヘッドの部分縦断面図、7 is a partial longitudinal sectional view of the thin-film magnetic head shown in FIG. 6,

【図8】実施例の薄膜磁気ヘッドを使用して信号を記録
し、再生ヘッドで再生した際におけるトラック幅Tw中
央からの位置と再生出力との関係を示すグラフ、
FIG. 8 is a graph showing the relationship between the position from the center of the track width Tw and the reproduction output when a signal is recorded using the thin-film magnetic head of the embodiment and reproduced by the reproduction head;

【図9】比較例の薄膜磁気ヘッドを使用して信号を記録
し、再生ヘッドで再生した際におけるトラック幅Tw中
央からの位置と再生出力との関係を示すグラフ、
FIG. 9 is a graph showing the relationship between the position from the center of the track width Tw and the reproduction output when a signal is recorded using the thin-film magnetic head of the comparative example and reproduced by the reproduction head;

【図10】本発明における薄膜磁気ヘッドの製造方法を
示す部分断面図、
FIG. 10 is a partial cross-sectional view showing a method for manufacturing a thin-film magnetic head according to the present invention;

【図11】図10工程の次に行なわれる工程を示す部分
断面図、
FIG. 11 is a partial cross-sectional view showing a step performed after the step in FIG. 10;

【図12】図11工程の次に行なわれる工程を示す部分
断面図、
FIG. 12 is a partial cross-sectional view showing a step performed after the step in FIG. 11;

【図13】図12工程の次に行なわれる工程を示す部分
断面図、
FIG. 13 is a partial cross-sectional view showing a step performed after the step shown in FIG. 12;

【図14】図13工程の次に行なわれる工程を示す部分
平面図、
14 is a partial plan view showing a step performed after the step in FIG.

【図15】本発明の別の製造方法を示す薄膜磁気ヘッド
の部分断面図、
FIG. 15 is a partial cross-sectional view of a thin-film magnetic head showing another manufacturing method of the present invention.

【図16】図15工程の次に行なわれる工程を示す部分
平面図、
16 is a partial plan view showing a step performed after the step in FIG.

【図17】図16工程の次に行なわれる工程を示す部分
断面図、
FIG. 17 is a partial cross-sectional view showing a step performed after the step in FIG. 16;

【図18】従来における薄膜磁気ヘッドの構造を示す部
分斜視図、
FIG. 18 is a partial perspective view showing the structure of a conventional thin film magnetic head.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20 下部コア層 21 下部磁極層 22 ギャップ層 23 上部磁極層 24 記録コア 26 上部コア層 26f 先端面 30 絶縁層 37 凹部 40 盛り上げ層 41 凹部 42、43 レジスト層 44 メッキ下地層 A、C 領域 REFERENCE SIGNS LIST 20 lower core layer 21 lower magnetic pole layer 22 gap layer 23 upper magnetic pole layer 24 recording core 26 upper core layer 26 f tip surface 30 insulating layer 37 concave portion 40 raised layer 41 concave portion 42, 43 resist layer 44 plating base layer A, C region

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 清 東京都大田区雪谷大塚町1番7号 アルプ ス電気株式会社内 Fターム(参考) 5D033 BA08 BA12 CA02 DA04 DA07 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Kiyoshi Sato 1-7 Yukitani Otsukacho, Ota-ku, Tokyo Alps Electric Co., Ltd. F-term (reference) 5D033 BA08 BA12 CA02 DA04 DA07

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下部コア層と、 前記下部コア層上に、下から下部磁極層、ギャップ層、
及び上部磁極層の順に積層され、あるいは下からギャッ
プ層及び上部磁極層の順に積層されて、記録媒体との対
向面に露出する記録コアと、 前記記録コアのトラック幅方向の両側及びハイト側を覆
う絶縁層と、 前記記録コアの前記上部磁極層の上に磁気的に接合され
る上部コア層と、 前記下部コア層、記録コア及び上部コア層に記録用の磁
界を誘導するコイルとが設けられ、 前記上部コア層は、前記対向面よりもハイト方向奥側に
位置する領域Aでの前記対向面と平行な断面の面積が、
前記領域Aよりも前記対向面側に位置する領域での前記
と同じ平行な断面の面積よりも小さいことを特徴とする
薄膜磁気ヘッド。
A lower core layer, a lower magnetic pole layer, a gap layer from below,
Stacked in the order of the upper magnetic pole layer, or stacked from the bottom in the order of the gap layer and the upper magnetic pole layer, and exposed to the surface facing the recording medium, and both sides and the height side of the recording core in the track width direction. An insulating layer to cover; an upper core layer magnetically bonded on the upper pole layer of the recording core; and a coil for inducing a magnetic field for recording in the lower core layer, the recording core, and the upper core layer. The upper core layer has an area of a cross section parallel to the opposing surface in a region A located on the back side in the height direction than the opposing surface,
The thin-film magnetic head according to claim 1, wherein the area of the parallel section is smaller than the area of the area A on the side of the facing surface.
【請求項2】 前記上部コアは前記対向面側に先端面を
有し、この先端面が前記対向面と平行な面である場合に
は、前記先端面の面積が前記領域Aでの前記断面の面積
よりも大きく、前記先端面が前記対向面と平行な面でな
い場合には、前記先端面を前記対向面と平行な面に投影
したときの面積が、前記領域Aでの前記断面の面積より
も大きい請求項1記載の薄膜磁気ヘッド。
2. The upper core has a tip surface on the side of the facing surface, and when the tip surface is a surface parallel to the facing surface, the area of the tip surface is the cross section in the region A. If the tip surface is not a surface parallel to the facing surface, the area when the tip surface is projected on a surface parallel to the facing surface is larger than the area of the cross section in the region A. 2. The thin film magnetic head according to claim 1, wherein
【請求項3】 前記領域Aでは、少なくとも前記上部コ
ア層の下面においてトラック幅方向の幅寸法が他の部分
よりも細く形成されている請求項1または2記載の薄膜
磁気ヘッド。
3. The thin-film magnetic head according to claim 1, wherein in the region A, at least on a lower surface of the upper core layer, a width dimension in a track width direction is formed smaller than other portions.
【請求項4】 前記領域Aにおいて、前記上部コア層の
トラック幅方向に対向する両側面に、上部コア層を上下
に貫通する凹部が形成されている請求項3記載の薄膜磁
気ヘッド。
4. The thin-film magnetic head according to claim 3, wherein in the region A, a concave portion vertically penetrating the upper core layer is formed on both side surfaces of the upper core layer opposed to each other in the track width direction.
【請求項5】 前記領域Aにおいて、前記上部コア層の
トラック幅方向に対向する両側部に、前記上部コア層の
下面から前記上部コア層の高さ方向の途中まで延びる凹
部が形成されている請求項3記載の薄膜磁気ヘッド。
5. In the region A, a concave portion extending from the lower surface of the upper core layer to halfway in the height direction of the upper core layer is formed on both sides of the upper core layer facing the track width direction. The thin-film magnetic head according to claim 3.
【請求項6】 前記領域Aでは、前記上部コア層の下面
から上部コア層の高さ方向の途中まで盛り上がる曲面形
状の表面を有する絶縁材料の盛り上げ層が形成されてお
り、前記上部コア層は前記盛り上げ層の間から前記盛り
上げ層の前記曲面上に渡って形成されている請求項5記
載の薄膜磁気ヘッド。
6. In the region A, a raised layer of an insulating material having a curved surface that rises from the lower surface of the upper core layer to halfway in the height direction of the upper core layer is formed. 6. The thin-film magnetic head according to claim 5, wherein the thin-film magnetic head is formed over the curved surface of the raised layer from between the raised layers.
【請求項7】 前記盛り上げ層は、前記上部コア層をメ
ッキ成長させるためのメッキ下地層の上に形成されてい
る請求項6記載の薄膜磁気ヘッド。
7. The thin-film magnetic head according to claim 6, wherein the raised layer is formed on a plating underlayer for growing the upper core layer by plating.
【請求項8】 前記領域Aにおいて狭められた上部コア
層の幅寸法の範囲内から、または前記範囲を前記対向面
側へ延長させた領域内から、前記記録コアが外れないよ
うに、前記記録コアと前記上部コア層とのトラック幅方
向での相対位置が決められている請求項3ないし7のい
ずれかに記載の薄膜磁気ヘッド。
8. The recording so that the recording core does not come off from within a range of the width dimension of the upper core layer narrowed in the region A or from a region in which the range is extended to the facing surface side. 8. The thin-film magnetic head according to claim 3, wherein a relative position in a track width direction between the core and the upper core layer is determined.
【請求項9】 前記記録コアは、前記対向面からハイト
方向奥側へ向けてトラック幅方向の幅寸法が一定である
先端領域と、前記先端領域のハイト方向奥側を起点とし
てハイト方向奥側に向けてトラック幅方向の幅寸法が徐
々に広がる後端領域とを有し、 前記領域Aにおいて狭められた上部コア層の幅寸法の範
囲内から、または前記範囲を前記対向面側へ延長させた
領域内から、前記後端領域が外れないように、前記記録
コアと前記上部コア層とのトラック幅方向での相対位置
が決められている請求項3ないし7のいずれかに記載の
薄膜磁気ヘッド。
9. The recording core has a tip region having a constant width dimension in the track width direction from the facing surface toward the back in the height direction, and a back portion in the height direction starting from the back side of the tip region in the height direction. And a rear end region in which the width dimension in the track width direction gradually widens toward the side, and extending from the range of the width dimension of the upper core layer narrowed in the region A or extending the range to the facing surface side. 8. The thin film magnetic device according to claim 3, wherein a relative position in the track width direction between the recording core and the upper core layer is determined so that the rear end region does not deviate from the inside of the region. head.
【請求項10】 前記上部コア層の前記先端面は、トラ
ック幅方向の両側に向かうにしたがって、ハイト方向へ
徐々に後退する曲面形状である請求項1ないし9のいず
れかに記載の薄膜磁気ヘッド。
10. The thin-film magnetic head according to claim 1, wherein the front end surface of the upper core layer has a curved surface shape that gradually recedes in a height direction toward both sides in a track width direction. .
【請求項11】 (a)下部コア層の上に、下から下部
磁極層、ギャップ層及び上部磁極層の順に積層し、また
は下からギャップ層及び上部磁極層の順に積層して、記
録媒体との対向面でトラック幅方向の幅寸法が決められ
る記録コアを形成する工程と、(b)前記(a)の工程
の前または後に、前記記録コアの周囲に絶縁層を形成
し、さらに前記記録コアと前記絶縁層の上面を同一平面
にする工程と、(c)前記記録コアと前記絶縁層の上に
レジスト層を形成する工程と、(d)前記レジスト層
に、上部コア層を形成するための抜きパターンを形成
し、このとき、前記対向面からハイト方向奥側において
前記パターンのトラック幅方向に対向する両側面に互い
にパターン内に突き出る突出部を形成し、この突出部で
狭められた幅寸法範囲内に前記記録コアを位置させ、ま
たは前記幅寸法範囲を前記対向面側へ延長させた領域内
に前記記録コアを位置させる工程と、(e)前記パター
ン内に磁性材料をメッキ形成し、前記レジスト層を除去
することにより、前記突出部によってトラック幅方向の
幅寸法が狭められた領域Aを有する上部コア層を形成す
る工程と、 を有することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
11. A recording medium comprising: (a) a lower magnetic pole layer, a gap layer, and an upper magnetic pole layer stacked in this order on the lower core layer, or a gap layer and an upper magnetic pole layer in order of bottom; Forming a recording core whose width in the track width direction is determined on the facing surface of (b); and (b) forming an insulating layer around the recording core before or after the step (a); (C) forming a resist layer on the recording core and the insulating layer; and (d) forming an upper core layer on the resist layer. At this time, on both sides of the pattern facing in the track width direction on the inner side in the height direction from the facing surface, projecting portions projecting into the pattern are formed, and narrowed by this projecting portion. Within the width dimension range Locating the recording core or locating the recording core in a region where the width dimension range is extended to the facing surface side; and (e) plating a magnetic material in the pattern, and forming the resist layer Forming a top core layer having a region A in which the width dimension in the track width direction is reduced by the protrusions.
【請求項12】 (f)下部コア層の上に、下から下部
磁極層、ギャップ層及び上部磁極層の順に積層し、また
は下からギャップ層及び上部磁極層の順に積層して、記
録媒体との対向面でトラック幅方向の幅寸法が決められ
る記録コアを形成する工程と、(g)前記(f)の工程
の前または後に、前記記録コアの周囲に絶縁層を形成
し、さらに前記記録コアと前記絶縁層の上面を同一平面
にする工程と、(h)前記対向面からハイト方向奥側に
おいて、前記絶縁層上にトラック幅方向に対向する突出
部を形成し、このとき前記突出部が対向する部分の幅寸
法範囲内に前記記録コアを位置させ、または前記幅寸法
範囲を前記対向面側へ延長させた領域内に前記記録コア
を位置させる工程と、(i)前記記録コアと前記絶縁層
の上に、レジスト層を形成する工程と、(j)前記レジ
スト層に、上部コア層を形成するための抜きパターンを
形成し、このとき、前記対向面からハイト方向奥側にお
いて前記パターンのトラック幅方向に対向する両側面か
ら前記突出部をパターン内に突き出させる工程と、
(k)前記パターン内に磁性材料をメッキ形成し、前記
レジスト層を除去することにより、前記突出部によって
トラック幅方向の幅寸法が狭められた領域Aを有する上
部コア層を形成する工程と、 を有することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
(F) a lower magnetic pole layer, a gap layer, and an upper magnetic pole layer are stacked on the lower core layer in this order from the bottom, or a gap layer and an upper magnetic pole layer are stacked in that order from below, and (G) forming a recording core whose width in the track width direction is determined on the opposing surface; (g) forming an insulating layer around the recording core before or after the step (f); Making the upper surface of the core and the insulating layer coplanar; and (h) forming a projecting portion facing the track width direction on the insulating layer on the back side in the height direction from the facing surface; Positioning the recording core within a width dimension range of a portion where the recording core faces each other, or positioning the recording core within a region where the width dimension range is extended toward the facing surface side; On the insulating layer, a resist layer And (j) forming a cutout pattern for forming an upper core layer on the resist layer, and at this time, both side faces facing the pattern in the track width direction on the back side in the height direction from the facing face. Projecting the projecting portion from within the pattern,
(K) forming a magnetic material in the pattern by plating and removing the resist layer to form an upper core layer having a region A in which a width dimension in a track width direction is reduced by the protrusion; A method for manufacturing a thin-film magnetic head, comprising:
【請求項13】 前記(g)の工程の後に、前記絶縁層
の上にメッキ下地層を形成し、前記(h)の工程では、
前記突出部を前記メッキ下地層の上に形成し、前記
(k)の工程では、前記レジスト層のパターン内で前記
突出部以外の領域に現れる前記メッキ下地層の上にメッ
キを成長させる請求項12記載の薄膜磁気ヘッドの製造
方法。
13. After the step (g), a plating base layer is formed on the insulating layer, and in the step (h),
The method according to claim 1, wherein the projecting portion is formed on the plating underlayer, and in the step (k), plating is grown on the plating underlayer appearing in a region other than the projecting portion in the pattern of the resist layer. 13. The method for manufacturing a thin film magnetic head according to item 12.
【請求項14】 前記(h)の工程で形成される突出部
を、後に形成される上部コア層の高さ寸法の途中までの
高さを有する曲面状の表面を有する絶縁材料の盛り上げ
層とし、前記(k)の工程では、前記曲面状の前記表面
の上にメッキを成長させて、下面から高さ方向の途中ま
で延びる凹部を有する領域Aが設けられた上部コア層を
形成する請求項12または13記載の薄膜磁気ヘッドの
製造方法。
14. The protrusion formed in the step (h) is a raised layer of an insulating material having a curved surface having a height halfway of the height of an upper core layer formed later. And, in the step (k), plating is grown on the curved surface to form an upper core layer provided with a region A having a concave portion extending from the lower surface to an intermediate position in the height direction. 14. The method for manufacturing a thin-film magnetic head according to 12 or 13.
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