JP2001255118A - Target for measuring center position and center position measuring apparatus and method - Google Patents

Target for measuring center position and center position measuring apparatus and method

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JP2001255118A
JP2001255118A JP2000065566A JP2000065566A JP2001255118A JP 2001255118 A JP2001255118 A JP 2001255118A JP 2000065566 A JP2000065566 A JP 2000065566A JP 2000065566 A JP2000065566 A JP 2000065566A JP 2001255118 A JP2001255118 A JP 2001255118A
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JP
Japan
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target
center position
imaging
image pickup
measuring
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Application number
JP2000065566A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshihiko Tsukada
敏彦 塚田
Takashi Wada
隆志 和田
Hiroshi Ito
伊藤  博
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Toyota Central R&D Labs Inc
Original Assignee
Toyota Central R&D Labs Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To measure the center position of a target at a higher accuracy, without being affected by quantum errors regardless of longer distance to an image pickup plane from the target. SOLUTION: An optical system 12 admits image pickup light from a target 11 into a CCD image sensor 13. The CCD image sensor 13 generates an image pickup signal, based on the incident image pickup light to be supplied to an arithmetic circuit 15 through an A/D converter 14. The arithmetic circuit 15 performs a selective arithmetic processing, based on the image pickup signal near the edge of a concentric circle of the target 11 to calculate the center position of the target 11.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、中心位置計測用の
ターゲット、中心位置計測装置及び方法に係り、特に、
ターゲットの中心位置を検出して3角測量により3次元
位置を計測する場合に用いて好適な中心位置計測用のタ
ーゲット、中心位置計測装置及び方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a target for central position measurement, an apparatus and method for central position measurement,
The present invention relates to a center position measuring target, a center position measuring apparatus, and a method suitable for use in detecting a center position of a target and measuring a three-dimensional position by triangulation.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
被測定物の位置を計測するために、この被測定物にター
ゲットを貼付し、当該ターゲットを撮像し、撮像出力に
所定の画像処理を施してこのターゲットの中心位置を測
定することが提案されている。例えば、特開平9−18
9513号公報では、ターゲットを菱形の形状にし、こ
のターゲットの中心位置を計測するマーカ重心計測方法
及び装置が開示されている。
2. Description of the Related Art
In order to measure the position of the object to be measured, it has been proposed that a target is attached to the object to be measured, an image of the target is taken, and a predetermined image processing is performed on an imaged output to measure the center position of the target. I have. For example, JP-A-9-18
No. 9513 discloses a marker center-of-gravity measuring method and apparatus for making a target rhombic and measuring the center position of the target.

【0003】しかし、この技術は、撮像装置で撮像する
場合に、菱形の長軸又は短軸が画素のX軸又はY軸に一
致することを前提としてターゲットの中心位置を計測す
るものである。したがって、ターゲットを3次元空間で
動くものに貼付した場合には、そのターゲットの中心位
置を全く計測することができなくなるという問題があ
る。
However, in this technique, when an image is taken by an imaging apparatus, the center position of a target is measured on the premise that the long axis or the short axis of the diamond coincides with the X axis or the Y axis of the pixel. Therefore, when the target is attached to a moving object in a three-dimensional space, there is a problem that the center position of the target cannot be measured at all.

【0004】また、特開平7−237094号公報にお
いて、画像処理によるターゲットマークの中心位置検出
方法が開示されている。この技術は、同心円のターゲッ
トマークを用いてその中心位置を検出するものである。
しかし、この技術では、カメラからターゲットマークま
での距離については示唆していない。したがって、カメ
ラからターゲットマークまでの距離が大きく変わった場
合には、ターゲットマークの中心位置を検出することが
できなくなるおそれがある。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-237094 discloses a method of detecting the center position of a target mark by image processing. In this technique, the center position is detected using concentric target marks.
However, this technique does not suggest the distance from the camera to the target mark. Therefore, when the distance from the camera to the target mark changes significantly, the center position of the target mark may not be detected.

【0005】さらに、上記技術では、撮像装置を用いる
場合の量子化誤差については全く考慮しておらず、サブ
ピクセルレベルでターゲットの中心位置の計測を行うの
は不可能である。
Further, in the above technique, no consideration is given to a quantization error in the case of using an imaging device, and it is impossible to measure the center position of a target at a sub-pixel level.

【0006】本発明は、上述した問題点を解消するため
になされたものであり、ターゲットの位置に拘らず、高
精度にターゲットの中心位置を計測することができる中
心位置計測用のターゲット、中心位置計測装置及び方法
を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problem, and has a target and a center for measuring a center position which can measure the center position of the target with high accuracy regardless of the target position. It is an object to provide a position measuring device and method.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明の中
心位置計測用のターゲットは、画像を撮像して中心位置
を計測する中心位置計測装置に用いる中心位置計測用の
ターゲットにおいて、照明光により高輝度に発光するパ
ターンと、一方向に複数のエッジとを備えたことを特徴
とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a target for measuring a center position used in a center position measuring device for measuring a center position by capturing an image. And a plurality of edges in one direction.

【0008】前記ターゲットはパターンを備えており、
そのパターンは照明光によって高輝度に発光する。した
がって、容易に撮像することができる。前記ターゲット
は、さらに一方向に複数のエッジを備えている。エッジ
とは、パターンの高輝度に発光する部位が変化する部位
をいい、例えば高輝度と低輝度の境界部をいう。したが
って、ターゲットは、一方向に高輝度のパターンに境界
部であるエッジを有したものである。これを撮像するこ
とで、高輝度部の境界を容易に検知可能な撮像信号を得
ることができる。この境界は複数あるので、例えば2つ
の境界から容易にその中心位置を求めることが可能とな
る。上記一方向とは、水平方向や垂直方向等の1つの方
向をいい、角度的には何れであってもよい。また、1つ
の方向に限定されるものではなく、2以上の方向であっ
てもよい。複数の方向を適用すれば、それぞれの方向に
ついて中心位置を求めることができる。
The target has a pattern,
The pattern emits light with high luminance by the illumination light. Therefore, an image can be easily taken. The target further has a plurality of edges in one direction. The edge refers to a portion where the portion of the pattern that emits high luminance changes, for example, a boundary between high luminance and low luminance. Therefore, the target has an edge that is a boundary in a high-luminance pattern in one direction. By imaging this, it is possible to obtain an imaging signal capable of easily detecting the boundary of the high-luminance portion. Since there are a plurality of these boundaries, for example, the center position can be easily obtained from the two boundaries. The one direction refers to one direction such as a horizontal direction and a vertical direction, and may be any angle. The direction is not limited to one direction, and may be two or more directions. If a plurality of directions are applied, the center position can be obtained for each direction.

【0009】前記複数のエッジは、請求項2記載の発明
のように、同心円状に分布するように構成してもよい。
同心円状に分布させることで、1つの円の中心位置と他
の円の中心位置とが一致し、適用する円の大きさに関係
なく、常に同一の中心位置を求めることを可能にさせる
ことができる。また、同心円上の何れの方向においても
エッジを検出することが可能になる。
[0009] The plurality of edges may be configured to be concentrically distributed as in the second aspect of the present invention.
By distributing concentrically, the center position of one circle matches the center position of another circle, and it is possible to always find the same center position regardless of the size of the applied circle. it can. Further, it is possible to detect an edge in any direction on the concentric circle.

【0010】また、請求項3記載の発明のように、前記
パターンの発光輝度を制御する発光制御手段をさらに備
えてもよい。
Further, as in the invention according to claim 3, the apparatus may further comprise light emission control means for controlling light emission luminance of the pattern.

【0011】請求項4記載の発明の中心位置計測装置
は、請求項1から請求項3のいずれか1項記載の中心位
置計測用のターゲットと、前記中心位置計測用のターゲ
ットを撮像して撮像信号を生成する撮像手段と、前記撮
像手段で生成された撮像信号に基づいて、前記中心位置
計測用のターゲットのエッジ近傍から前記ターゲットの
中心位置を計測する計測手段とを備えている。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a center position measuring apparatus according to any one of the first to third aspects, wherein the target for center position measurement and the target for center position measurement are imaged. An imaging unit for generating a signal, and a measuring unit for measuring the center position of the target from the vicinity of the edge of the target for center position measurement based on the imaging signal generated by the imaging unit are provided.

【0012】撮像手段により、中心位置計測用のターゲ
ットを撮像することで、少なくとも一方向の複数のエッ
ジに対応する撮像信号を得る。計測手段は、その撮像信
号からターゲットの中心位置を計測する。すなわち、撮
像により、エッジそのもの又はエッジ近傍の位置を特定
できる。したがって、複数のエッジの位置から、それら
の中心位置を計測できる。
[0012] The imaging means captures an image of the target for center position measurement, thereby obtaining imaging signals corresponding to a plurality of edges in at least one direction. The measuring means measures the center position of the target from the image signal. That is, the edge itself or a position near the edge can be specified by imaging. Therefore, from the positions of the plurality of edges, the center position thereof can be measured.

【0013】ところで、ターゲットと撮像手段との位置
関係は、一定であるとは限らない。本発明では、ターゲ
ットが複数のエッジを少なくとも一方向に備えているの
で、ターゲットと撮像手段との位置関係が接近したり離
間して光学的な倍率が変化しても、複数のエッジの何れ
かを捉えることができ、容易に中心位置を計測すること
ができる。この場合、ターゲットとして同心円上に分布
した複数のエッジを有するものを用いれば、位置関係の
みならず方向性も考慮でき、ターゲットの回転や計測手
段の計測方向に拘らず、容易に中心位置を計測できる。
The positional relationship between the target and the imaging means is not always constant. In the present invention, since the target has a plurality of edges in at least one direction, even if the optical magnification changes due to the positional relationship between the target and the imaging unit approaching or separating, any one of the plurality of edges may be used. And the center position can be easily measured. In this case, if a target having a plurality of edges distributed on concentric circles is used, not only the positional relationship but also the directionality can be considered, and the center position can be easily measured regardless of the rotation of the target or the measuring direction of the measuring means. it can.

【0014】撮像手段は、請求項5記載の発明のよう
に、入射光の絞りを制御する絞り制御手段をさらに備え
てもよい。これにより、中心位置計測用ターゲットまで
の距離が長くなっても、入射光を絞り込めば被写界深度
を深くすることができる。その結果、広範囲で良好な画
像を撮像できる。
[0014] The imaging means may further include an aperture control means for controlling the aperture of the incident light. Thus, even if the distance to the target for measuring the center position is long, the depth of field can be increased by narrowing the incident light. As a result, a good image can be captured in a wide range.

【0015】撮像手段は、請求項6記載の発明のよう
に、露光量を制御する露光制御手段をさらに備えてもよ
い。これにより、露光量が少なくなる場合であっても、
露光量を多くすることができる。例えば、露光時間を長
くすることによって十分な露光量を得ることができる。
[0015] The imaging means may further include an exposure control means for controlling an exposure amount. Thereby, even when the exposure amount becomes small,
Exposure can be increased. For example, a sufficient exposure amount can be obtained by lengthening the exposure time.

【0016】請求項7記載の発明の中心位置計測方法
は、請求項1から請求項3のいずれか1項記載の中心位
置計測用のターゲットを撮像して撮像信号を生成し、前
記生成された撮像信号に基づいて、前記中心位置計測用
のターゲットのエッジ近傍から前記ターゲットの中心位
置を計測する。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided the center position measuring method, wherein the target for center position measurement according to any one of the first to third aspects is imaged to generate an image signal, and the generated image signal is generated. The center position of the target is measured from the vicinity of the edge of the center position measurement target based on the imaging signal.

【0017】また、前記中心位置計測方法は、請求項8
記載の発明のように、前記撮像時に、入射光の絞りをさ
らに制御してもよい。
[0017] The center position measuring method may further include:
As in the invention described above, the stop of the incident light may be further controlled during the imaging.

【0018】また、前記中心位置計測方法は、請求項9
記載の発明のように、前記撮像時に、入射光の露光量を
さらに制御してもよい。
The method for measuring the center position may be as follows.
As in the invention described above, the exposure amount of incident light may be further controlled during the imaging.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら詳細に説明する。本発明は、例え
ば図1に示す構成の中心位置計測装置1に適用すること
ができる。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. The present invention can be applied to, for example, the center position measuring device 1 having the configuration shown in FIG.

【0020】中心位置計測装置1は、ターゲット11か
らの撮像光の絞り調整や焦点調整を行う光学系12と、
撮像信号を生成するCCDイメージセンサ13と、撮像
信号をディジタル化するA/Dコンバータ14と、ター
ゲット11の同心円の中心位置を演算する演算回路15
と、CCDイメージセンサ13の露光時間を制御する露
光制御回路16と、各回路を制御するCPU17とを備
える。
The center position measuring device 1 includes an optical system 12 for adjusting the aperture and the focus of the imaging light from the target 11;
A CCD image sensor 13 for generating an image signal, an A / D converter 14 for digitizing the image signal, and an arithmetic circuit 15 for calculating the center position of a concentric circle of the target 11
And an exposure control circuit 16 for controlling the exposure time of the CCD image sensor 13 and a CPU 17 for controlling each circuit.

【0021】ターゲット11は、図2(a)に示すよう
に、白黒の同心円パターンからなる。ターゲット11
は、具体的には図2(b)に示すように、例えば4wの
光を発する光源111と、同心円パターンが描かれてい
るガラス112とを備えている。なお、光源111の発
光輝度は、図示しない発光制御回路によって制御できる
ようになっている。光源111から射出した光は、同心
円パターンが描かれている部分を除いてガラス112を
透過して外部に出る。したがって、ガラス112上の同
心円が描かれている部分は遮光部113となり、それ以
外の部分は透過部114となる。この同心円パターンを
有するガラス112は、半導体製造プロセスのパターン
転写技術を用いて作製することができる。
The target 11 has a black and white concentric pattern as shown in FIG. Target 11
Specifically, as shown in FIG. 2B, a light source 111 that emits, for example, 4 w light, and a glass 112 on which a concentric pattern is drawn are provided. Note that the light emission luminance of the light source 111 can be controlled by a light emission control circuit (not shown). The light emitted from the light source 111 passes through the glass 112 except for the portion where the concentric pattern is drawn, and goes to the outside. Therefore, the portion where the concentric circle on the glass 112 is drawn becomes the light shielding portion 113, and the other portion becomes the transmission portion 114. The glass 112 having the concentric pattern can be manufactured by using a pattern transfer technique of a semiconductor manufacturing process.

【0022】半導体製造プロセスを流用したターゲット
11の製作方法は、ガラス基板上に半導体プロセスのマ
スク転写の技術を応用して金属の同心円パターンを描く
ものである。ガラスとしては石英ガラスやBK−5やB
K−7など、金属としてはアルミなどを蒸着させること
が可能である。この製作方法によれば、確立された技術
により高精度なマスクパターンを描画製作することが容
易にでき、かつ、これと同等の精度を有するパターンを
容易に多数複製することができる。
The method of manufacturing the target 11 utilizing the semiconductor manufacturing process draws a metal concentric pattern on a glass substrate by applying a mask transfer technique of the semiconductor process. Quartz glass, BK-5 or B
As a metal such as K-7, aluminum or the like can be deposited. According to this manufacturing method, it is easy to draw and manufacture a highly accurate mask pattern by an established technique, and it is possible to easily duplicate many patterns having the same accuracy as this.

【0023】さらに、蒸着により形成された例えばアル
ミからなる金属パターンは、その厚みが非常に薄く(数
ミクロン)なっている。したがって、撮像装置からこの
ターゲットを撮像する場合に、その位置関係によるエッ
ジの見え隠れの影響がほとんどない。さらに、アルミな
どの金属蒸着部は、ほとんど光を透過しないために、透
過照明によりガラス部との明度コントラストを明確にす
ることができ、エッジとして最適なものである。また、
金属蒸着部への外部からの光の反射を防ぐために、例え
ばアルミなどの金属蒸着部に、アルマイト処理などの表
面処理を施してもよい。これにより、無用な光の反射を
防止することができる。
Further, the metal pattern made of, for example, aluminum formed by vapor deposition has a very small thickness (several microns). Therefore, when the target is imaged from the image pickup device, there is almost no influence of the visibility of the edge due to the positional relationship. Further, since a metal deposition part such as aluminum hardly transmits light, the brightness contrast with the glass part can be clarified by the transmitted illumination, and it is optimal as an edge. Also,
In order to prevent reflection of light from the outside to the metal deposition portion, a surface treatment such as an alumite treatment may be applied to the metal deposition portion such as aluminum. Thereby, unnecessary reflection of light can be prevented.

【0024】また、ターゲット11の輝度分布は、図3
に示すように、同心円内で一様である。一般的に、ター
ゲットの輝度分布は、一様になっているよりも、図4に
示すように、正規分布している方が重心演算による中心
の検出精度が高いと考えられている。しかし、実際に
は、そのような輝度分布を呈するターゲットを製作する
ことは非常で困難であり、仮にそのようなターゲットが
製作されたとしても撮像時の輝度の量子化誤差の影響が
円内全体に渡って発生する。そこで、ターゲット11
は、輝度の量子化誤差を無視することができるように、
一様の輝度分布を一様にして構成されている。
The luminance distribution of the target 11 is shown in FIG.
As shown in FIG. Generally, as shown in FIG. 4, it is considered that the accuracy of detection of the center by the center of gravity calculation is higher when the target has a normal luminance distribution than when the target has a uniform luminance distribution. However, in practice, it is very difficult to produce a target exhibiting such a luminance distribution, and even if such a target is produced, the influence of the quantization error of the luminance at the time of imaging will be entirely within the circle. Occurs over. Therefore, target 11
Is so that the quantization error of luminance can be ignored.
It has a uniform luminance distribution.

【0025】ターゲット11は、このように光源111
により透過照明を行っているので、同心円パターンの輝
度を高くすることができる。さらに、ターゲット11の
パターンを円形とすることで、当該円形の中心を回転軸
としてターゲット11が回転した場合であっても、その
回転方向成分をキャンセルすることができる。
The target 11 is thus a light source 111
, The brightness of the concentric pattern can be increased. Furthermore, by making the pattern of the target 11 circular, even if the target 11 rotates around the center of the circle as a rotation axis, the rotation direction component can be canceled.

【0026】光学系12は、輝度の高いターゲット11
を適正な明るさで撮像するために、撮像光の絞りを大き
く又は小さく調整するアイリス機能を備える。また、光
学系12は、図示しない複数のレンズの位置を固定して
いる。このため、CCDイメージセンサ13に入射され
る撮像光は、非合焦になる。これにより、撮像信号に基
づく画像が得られた場合において、光学系12は、ター
ゲット11の同心円のエッジがシャープにならないよう
に、輝度値を徐々に255から0(又はその逆)に変化
させている。
The optical system 12 includes a target 11 having high brightness.
An iris function is provided for adjusting the aperture of the imaging light to be large or small in order to image the image with appropriate brightness. Further, the optical system 12 fixes the positions of a plurality of lenses (not shown). Therefore, the imaging light incident on the CCD image sensor 13 is out of focus. Thereby, when an image based on the imaging signal is obtained, the optical system 12 gradually changes the luminance value from 255 to 0 (or vice versa) so that the edge of the concentric circle of the target 11 is not sharpened. I have.

【0027】CCDイメージセンサ13は、光学系12
を介して入射される撮像光に基づいて撮像信号を生成
し、この撮像信号をA/Dコンバータ14に供給する。
A/Dコンバータ14は、撮像信号をディジタル化して
演算回路15に供給する。
The CCD image sensor 13 includes an optical system 12
An imaging signal is generated based on imaging light incident through the A / D converter, and the imaging signal is supplied to the A / D converter.
The A / D converter 14 digitizes the image pickup signal and supplies it to the arithmetic circuit 15.

【0028】演算回路15は、A/Dコンバータ14か
らの撮像信号に基づいて同心円の中心位置を算出する。
具体的には最初に、前記撮像信号に基づく画像を2値化
する。2値化の閾値は、ターゲット11が透過照明を行
っているために高めがよく、透過光のみを検出するよう
な値がよい。例えば、256階調の場合は、200程度
が好ましい。
The arithmetic circuit 15 calculates the center position of the concentric circle based on the imaging signal from the A / D converter 14.
Specifically, first, an image based on the imaging signal is binarized. The threshold value for binarization is preferably high because the target 11 is performing transmitted illumination, and is preferably a value that detects only transmitted light. For example, in the case of 256 gradations, about 200 is preferable.

【0029】演算回路15は、撮像面からターゲット1
1までの距離に応じて、同心円パターンの構成、すなわ
ち同心円の濃淡の数を認識する。この同心円の濃淡の数
は、例えばCPU17によって設定してもよく、また、
撮像面からターゲット11までの距離に応じて自動的に
設定してもよい。そして、演算回路15は、中心から濃
淡が変わる回数を計数し、対象とする同心円の中心半径
を求める。そして、濃淡画像に戻って、対象となる同心
円から径方向に±Δ(Δは例えば対象となる同心円から
内側の同心円までの距離の1/2)の範囲内にある点で
重心演算を行い、円の中心を算出する。ここで、円周座
標の周辺部分とは、前述したように、エッジが徐々に変
化している部分をいう。重心演算は、輝度値をVとした
とき中心点(Ci,Cj)は以下の式に従って行われ
る。
The arithmetic circuit 15 detects the target 1 from the imaging surface.
In accordance with the distance to 1, the configuration of the concentric pattern, that is, the number of shades of the concentric circle is recognized. The number of shades of this concentric circle may be set by, for example, the CPU 17.
It may be set automatically according to the distance from the imaging surface to the target 11. Then, the arithmetic circuit 15 counts the number of times that the shading changes from the center, and obtains the center radius of the target concentric circle. Then, returning to the grayscale image, the center of gravity is calculated at a point within a range of ± Δ (Δ is, for example, 距離 of the distance from the target concentric circle to the inner concentric circle) in the radial direction from the target concentric circle, Calculate the center of the circle. Here, the peripheral portion of the circumferential coordinates refers to a portion where the edge gradually changes, as described above. The center of gravity (Ci, Cj) is calculated according to the following equation when the luminance value is V.

【0030】 Ci=Σ(V×座標値i)/ΣV Cj=Σ(V×座標値j)/ΣVCi = Σ (V × coordinate value i) / ΣV Cj = Σ (V × coordinate value j) / ΣV

【0031】露光制御回路16は、CCDイメージセン
サ13の露光時間を制御する。露光制御回路16は、例
えば光学系12が撮像光を絞っている場合は露光時間が
長くなるように制御し、光学系12が撮像光を絞ってい
ない場合は露光時間が短くなるように制御する。
The exposure control circuit 16 controls the exposure time of the CCD image sensor 13. The exposure control circuit 16 controls, for example, to increase the exposure time when the optical system 12 is narrowing down the imaging light, and to control to shorten the exposure time when the optical system 12 is not narrowing down the imaging light. .

【0032】CPU17は、図示しない操作部の操作に
基づいて、光学系12、演算回路15や露光制御回路1
6を制御する。
The CPU 17 controls the optical system 12, the arithmetic circuit 15, and the exposure control circuit 1 based on the operation of an operation unit (not shown).
6 is controlled.

【0033】前記中心位置計測装置1は、被写界深度を
拡大することで撮像面からターゲット11までの距離
(以下、「撮像距離」という。)を長くすることができ
る。このとき、撮像可能なターゲットの大きさも変化す
る。
The center position measuring device 1 can increase the distance from the imaging surface to the target 11 (hereinafter, referred to as “imaging distance”) by increasing the depth of field. At this time, the size of the target that can be imaged also changes.

【0034】ここで、ターゲット11の同心円の大きさ
は、量子化誤差の影響を考慮して決定する必要がある。
詳しくは後述するが、シミュレーションによる計測精度
の検証により、所定条件の下、画角50mmのときに3
μm程度の中心検出精度が得られる。撮像距離内(10
0mmから1000mm)での目標精度を10μmとす
ると、画角は最大で150mmとなる。画角は撮像距離
に比例して大きくなることから、例えば図5に示すよう
に、撮像距離が最も長い1000mmにおける画角を1
50mmに設定した。なお、画角150mmは、縦横の
画素数を各500画素とした場合、画素分解能0.3m
m/画素に相当する。この条件を得るために、CCDイ
メージセンサ13のサイズは1/3インチ、レンズf=
25mm、エクステンションリング1mmを採用した。
Here, the size of the concentric circle of the target 11 needs to be determined in consideration of the influence of the quantization error.
As will be described in detail later, by verifying the measurement accuracy by simulation, under a predetermined condition, when the angle of view is 50 mm, 3
A center detection accuracy of about μm can be obtained. Within the imaging distance (10
If the target accuracy at 0 mm to 1000 mm) is 10 μm, the angle of view is 150 mm at the maximum. Since the angle of view increases in proportion to the imaging distance, for example, as shown in FIG.
It was set to 50 mm. Note that the angle of view 150 mm is a pixel resolution of 0.3 m when the number of vertical and horizontal pixels is 500 pixels.
m / pixel. To obtain this condition, the size of the CCD image sensor 13 is 1/3 inch and the lens f =
25 mm and an extension ring of 1 mm were employed.

【0035】したがって、ターゲット11は、150m
mよりも小さい直径の同心円パターンを備えればよい。
しかし、同心円の大きさが画面ぎりぎりであったり、そ
の大きさが10画素程度であっては、必要精度で中心位
置を検出することができない。そこで、必要とされる同
心円の大きさを150画素から300画素とする。これ
は、CCDイメージセンサ13の縦方向画素数の約1/
3から2/3に相当する。
Therefore, the target 11 is 150 m
What is necessary is just to provide a concentric pattern with a diameter smaller than m.
However, if the size of the concentric circle is almost the same as the screen or the size is about 10 pixels, the center position cannot be detected with the required accuracy. Therefore, the required size of the concentric circle is set to 150 to 300 pixels. This is about one-third of the number of pixels in the vertical direction of the CCD image sensor 13.
3 to 2/3.

【0036】ターゲット11の同心円の数とその直径の
大きさについては、以下のように決定する。ここで、撮
像距離1000mmの場合に画角は150mmであるも
のと設定し、撮像距離と画角との関係を図6に示す。水
平に引いた線分は、縦軸の目盛を直径としたターゲット
11が画角の中で150画素から300画素を占める範
囲を示している。例えば、線分AA’は、直径30mm
の円を示す。この円は、撮像距離350mmの場合では
画角中の300画素を占め、撮像距離750mmの場合
では画角中の150画素を占めている。線分BB’は、
直径約60mmの円を示す。この円は、撮像距離750
mmの場合では画角中で300画素を占め、撮像距離1
000mmの場合では画角中で約180画素を占めてい
るので、撮像距離1000mmまでをカバーすることが
できる。この考え方に基づいて、100mmから100
0mmまでにおいて画角中の画素数が150から300
になるように、同心円の数と直径を決定する。例えば、
直径7mm,14mm,28mm,56mmの4つの同
心円パターンを決定することができる。
The number of concentric circles of the target 11 and the size of its diameter are determined as follows. Here, the angle of view is set to 150 mm when the imaging distance is 1000 mm, and the relationship between the imaging distance and the angle of view is shown in FIG. A horizontal line segment indicates a range in which the target 11 occupying 150 to 300 pixels in the angle of view has a diameter on the scale of the vertical axis. For example, the line segment AA ′ has a diameter of 30 mm.
Indicates a circle. This circle occupies 300 pixels in the angle of view when the imaging distance is 350 mm, and occupies 150 pixels in the angle of view when the imaging distance is 750 mm. The line segment BB 'is
Shows a circle with a diameter of about 60 mm. This circle has an imaging distance of 750
mm, occupy 300 pixels in the angle of view, and the imaging distance is 1
In the case of 000 mm, about 180 pixels are occupied in the angle of view, so that an imaging distance of up to 1000 mm can be covered. Based on this concept, 100mm to 100mm
Up to 0 mm, the number of pixels in the angle of view is 150 to 300
Determine the number and diameter of the concentric circles so that For example,
Four concentric patterns with diameters of 7 mm, 14 mm, 28 mm and 56 mm can be determined.

【0037】そして、このような構成の中心位置計測装
置1は、以下のようにして被写界深度を変えてターゲッ
ト11を撮像する。
Then, the center position measuring device 1 having such a configuration captures an image of the target 11 while changing the depth of field as follows.

【0038】例えば撮像距離が100mmの場合、光学
系12は、撮像光の焦点位置を変えず、当該撮像光の絞
りを大きくする。演算回路15は、CCDイメージセン
サ13,A/Dコンバータ14からの撮像信号に基づい
てターゲット11の中心位置(中心座標)を算出する。
For example, when the imaging distance is 100 mm, the optical system 12 enlarges the aperture of the imaging light without changing the focal position of the imaging light. The arithmetic circuit 15 calculates the center position (center coordinates) of the target 11 based on the imaging signals from the CCD image sensor 13 and the A / D converter 14.

【0039】演算回路15は、距離100mmの場合に
はターゲット11の同心円パターンのうち内側の同心円
を選択する。具体的には、演算回路15は、A/Dコン
バータ14からの撮像信号に基づく画像を2値化し、そ
してターゲット11の濃淡が変わる回数をカウントし
て、選択する同心円を認識する。演算回路15は,この
同心円のエッジ近傍から重心演算により中心座標を算出
する。
When the distance is 100 mm, the arithmetic circuit 15 selects the inner concentric circle from the concentric circle pattern of the target 11. Specifically, the arithmetic circuit 15 binarizes the image based on the imaging signal from the A / D converter 14, counts the number of times the density of the target 11 changes, and recognizes the concentric circle to be selected. The arithmetic circuit 15 calculates the center coordinates from the vicinity of the edge of the concentric circle by calculating the center of gravity.

【0040】したがって、中心位置計測装置1は、ター
ゲット11に描かれた同心円の中心座標を高精度に計測
することができる。
Therefore, the center position measuring device 1 can measure the center coordinates of the concentric circle drawn on the target 11 with high accuracy.

【0041】また、例えば撮像距離が1000mmの場
合、光学系12は、被写界深度を拡大すべく、ターゲッ
ト11からの撮像光の絞りを小さくする。露光制御回路
16は、露光時間を調整して所定の露光量になるように
CCDイメージセンサ13を制御する。
For example, when the imaging distance is 1000 mm, the optical system 12 reduces the aperture of the imaging light from the target 11 to increase the depth of field. The exposure control circuit 16 controls the CCD image sensor 13 so as to adjust the exposure time to obtain a predetermined exposure amount.

【0042】CCDイメージセンサ13は、光学系12
を介して入射される撮像光に基づいて撮像信号を生成
し、A/Dコンバータ14を介して演算回路15に供給
する。演算回路15は、CCDイメージセンサ13,A
/Dコンバータ14からの撮像信号に基づいてターゲッ
ト11の中心座標を算出する。
The CCD image sensor 13 includes an optical system 12
An imaging signal is generated based on imaging light incident through the A / D converter and supplied to the arithmetic circuit 15 via the A / D converter. The arithmetic circuit 15 includes a CCD image sensor 13, A
The center coordinates of the target 11 are calculated based on the imaging signal from the / D converter 14.

【0043】演算回路15は、距離1000mmの場合
にはターゲット11の同心円パターンのうち外側の同心
円を選択する。具体的には、演算回路15は、A/Dコ
ンバータ14からの撮像信号に基づく画像を2値化し、
そしてターゲット11の濃淡が変わる回数をカウントし
て、選択する同心円を認識する。演算回路15は,この
同心円のエッジ近傍から重心演算により中心座標を算出
する。
When the distance is 1000 mm, the arithmetic circuit 15 selects an outer concentric circle from the concentric circle pattern of the target 11. Specifically, the arithmetic circuit 15 binarizes the image based on the imaging signal from the A / D converter 14,
Then, the number of times the density of the target 11 changes is counted, and the concentric circle to be selected is recognized. The arithmetic circuit 15 calculates the center coordinates from the vicinity of the edge of the concentric circle by calculating the center of gravity.

【0044】以上のように、中心位置計測装置1は、撮
像面からターゲット11までの距離が長い場合であって
も、アイリスの絞りを小さくすれば被写界深度を拡大す
ることができる。この結果、ターゲット11の計測可能
な3次元範囲を拡大することができる。
As described above, even when the distance from the imaging surface to the target 11 is long, the center position measuring apparatus 1 can increase the depth of field by reducing the iris diaphragm. As a result, the measurable three-dimensional range of the target 11 can be expanded.

【0045】このとき、中心位置計測装置1は、所定の
露光量になるように露光時間を調整するので、撮像面か
らターゲット11までの距離が短い場合と同様に、ター
ゲット11の輝度を高くして量子化誤差を低減し、正確
に重心演算処理を行うことができる。なお、ターゲット
11の発光輝度を制御することによって、所定の露光量
を得るようにしてもよい。
At this time, since the center position measuring device 1 adjusts the exposure time so as to obtain a predetermined exposure amount, the luminance of the target 11 is increased as in the case where the distance from the imaging surface to the target 11 is short. Thus, the quantization error can be reduced, and the center-of-gravity calculation processing can be performed accurately. Note that a predetermined exposure amount may be obtained by controlling the emission luminance of the target 11.

【0046】中心位置計測装置1は、非合焦の撮像光か
ら撮像信号を生成してターゲット11の中心位置を計測
することができるので、ズーミング制御やレンズ中心軸
の補正をする手間を省くことができる。
The center position measuring device 1 can measure the center position of the target 11 by generating an image signal from out-of-focus image light, so that it is not necessary to perform zooming control and correction of the lens center axis. Can be.

【0047】また、中心位置計測装置1は、撮像距離が
長くなって画素分解能が変化するような場合であって
も、同心円パターンの描かれたターゲット11を用い
て、その距離に応じた最適な同心円を選択して重心演算
処理を行うので、撮像距離が短い場合と同等の高精度で
同心円の中心座標を計測することができる。
The center position measuring device 1 uses the target 11 on which the concentric circle pattern is drawn even if the image resolution changes due to the increase of the imaging distance, and the optimum position corresponding to the distance is obtained. Since the concentric circle is selected and the center-of-gravity calculation process is performed, the center coordinates of the concentric circle can be measured with the same high accuracy as when the imaging distance is short.

【0048】さらに、中心位置計測装置1は、量子化誤
差の影響を低減するために、ターゲット11の同心円の
エッジ部分での濃淡値のみを用いた重心演算を行なって
いるので、2値化した円や正規化した円を描いたターゲ
ットを用いるよりも、より正確に中心位置を計測するこ
とができる。
Further, since the center position measuring device 1 performs the center-of-gravity calculation using only the gray value at the edge of the concentric circle of the target 11 in order to reduce the influence of the quantization error, it is binarized. The center position can be measured more accurately than using a target that draws a circle or a normalized circle.

【0049】また、中心位置計測装置1は、ターゲット
11に同心円パターンが描かれていることから、撮像距
離が短い場合であっても長い場合であっても同心円の中
心を求める重心演算処理は変わらないので、同じアルゴ
リズムで処理することができるメリットもある。
Further, since the concentric pattern is drawn on the target 11, the center position measuring device 1 changes the center of gravity calculation processing for finding the center of the concentric circle regardless of whether the imaging distance is short or long. There is also an advantage that it can be processed with the same algorithm since there is no such algorithm.

【0050】なお、本発明は、上述した実施の形態に限
定されるものではなく、例えばターゲット11に描かれ
る同心円は複数でなくて単一であってもよい。また、タ
ーゲット11は、透過型であるのが好ましいが、再帰型
であってもよく、また、十分な輝度が得られる場合であ
れば反射型であってもよい。
The present invention is not limited to the above-described embodiment. For example, concentric circles drawn on the target 11 may be single instead of plural. The target 11 is preferably of a transmission type, but may be of a recursive type, or of a reflection type if sufficient luminance can be obtained.

【0051】ターゲット11は、同心円パターンが白黒
になっているものとしていたが、高輝度の同心円パター
ンになっていれば他の色であってもよい。さらに、ター
ゲット11は、同心円パターンが描かれていなくても、
正方形、正六角形、正八角形をはじめとする点対称のパ
ターンが描かれていれば、それを適用することもでき
る。
Although the concentric circle pattern of the target 11 is black and white, other colors may be used as long as the concentric circle pattern has a high luminance. Furthermore, even if the concentric circle pattern is not drawn on the target 11,
If a point-symmetric pattern such as a square, a regular hexagon, or a regular octagon is drawn, it can be applied.

【0052】また、上記実施の形態では、連続した円状
のパターンを用いた場合を例に挙げて説明したが、円状
の一部を用いた円弦状のものを用いてもよい。これは、
計測方向が一定範囲であるときに有効である。また、矩
形状の微小パターンや微小円を、同心円状又は円弧状に
配列してもよい。
Further, in the above-described embodiment, the case where a continuous circular pattern is used has been described as an example. However, a chord shape using a part of a circular shape may be used. this is,
This is effective when the measurement direction is within a certain range. Further, rectangular minute patterns or minute circles may be arranged concentrically or arcuately.

【0053】[0053]

【発明の効果】本発明に係る中心位置計測用のターゲッ
トによれば、照明光により高輝度に発光するパターン
と、一方向に複数のエッジとを備えることによって、中
心位置計測の際の量子化誤差の影響を低減して、複数の
エッジの位置関係からターゲットの中心位置を高精度に
計測させることができる。
According to the target for center position measurement according to the present invention, by providing a pattern which emits light with high luminance by illumination light and a plurality of edges in one direction, quantization at the time of center position measurement is achieved. The influence of the error is reduced, and the center position of the target can be measured with high accuracy from the positional relationship between the plurality of edges.

【0054】本発明に係る中心位置計測装置及び方法に
よれば、中心位置計測用のターゲットからの入射光から
撮像信号を生成し、この撮像信号に基づいて前記中心位
置計測用のターゲットのエッジ近傍から前記パターンの
中心位置を計測することによって、撮像面からターゲッ
トまでの距離によらずに、光学系の条件を変えることな
く、高精度にターゲットの中心位置を計測することがで
きる。
According to the apparatus and method for measuring the center position according to the present invention, an imaging signal is generated from incident light from the target for center position measurement, and the vicinity of the edge of the target for center position measurement is generated based on the imaging signal. By measuring the center position of the pattern from, the center position of the target can be measured with high accuracy without changing the conditions of the optical system regardless of the distance from the imaging surface to the target.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を適用した中心位置計測装置の構成を示
すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a center position measuring device to which the present invention is applied.

【図2】中心位置計測装置で用いられるターゲットの
(a)正面図と(b)要部側面図である。
FIG. 2A is a front view of a target used in the center position measuring device, and FIG.

【図3】輝度分布が一様になっているターゲットを示す
図である。
FIG. 3 is a diagram showing a target having a uniform luminance distribution.

【図4】輝度分布が正規化しているターゲットを示す図
である。
FIG. 4 is a diagram showing a target whose luminance distribution is normalized.

【図5】撮像距離1000mmで画角150mmに設定
したときの画角と撮像距離の関係を示す図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating a relationship between an angle of view and an imaging distance when an imaging distance is set to 1000 mm and an angle of view is set to 150 mm.

【図6】撮像距離1000mmで画角150mmに設定
したときの画角と撮像距離の関係を示す図に、画素数を
示した図である。
FIG. 6 is a diagram showing the number of pixels in a diagram showing the relationship between the angle of view and the imaging distance when the imaging distance is set to 1000 mm and the angle of view is set to 150 mm.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 中心位置計測装置 11 ターゲット 12 光学系 13 CCDイメージセンサ 15 演算回路 16 露光制御回路 Reference Signs List 1 center position measuring device 11 target 12 optical system 13 CCD image sensor 15 arithmetic circuit 16 exposure control circuit

フロントページの続き (72)発明者 伊藤 博 愛知県愛知郡長久手町大字長湫字横道41番 地の1 株式会社豊田中央研究所内 Fターム(参考) 2F065 AA17 BB01 CC00 FF01 FF04 JJ03 JJ26 LL30 LL50 NN02 NN12 QQ03 QQ04 QQ31 UU09 5L096 AA11 FA04 FA06 FA60 FA62 FA69 JA18 Continuing from the front page (72) Inventor Hiroshi Ito 41 No. 41, Chukumi Yokomichi, Nagakute-cho, Aichi-gun, Aichi Prefecture F-term (reference) 2F065 AA17 BB01 CC00 FF01 FF04 JJ03 JJ26 LL30 LL50 NN02 NN12 QQ03 QQ04 QQ31 UU09 5L096 AA11 FA04 FA06 FA60 FA62 FA69 JA18

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 画像を撮像して中心位置を計測する中心
位置計測装置に用いる中心位置計測用のターゲットにお
いて、 照明光により高輝度に発光するパターンと、 一方向に複数のエッジと、 を備えたことを特徴とする中心位置計測用のターゲッ
ト。
1. A center position measuring target used in a center position measuring device for measuring a center position by capturing an image, comprising: a pattern that emits light with high brightness by illuminating light; and a plurality of edges in one direction. A target for center position measurement, characterized in that:
【請求項2】 前記複数のエッジは、同心円状に分布す
ることを特徴とする請求項1記載の中心位置計測用のタ
ーゲット。
2. The center position measuring target according to claim 1, wherein the plurality of edges are concentrically distributed.
【請求項3】 前記パターンの発光輝度を制御する発光
制御手段をさらに備えたことを特徴とする請求項1又は
請求項2記載の中心位置計測用のターゲット。
3. The target for center position measurement according to claim 1, further comprising light emission control means for controlling light emission luminance of said pattern.
【請求項4】 請求項1から請求項3のいずれか1項記
載の中心位置計測用のターゲットと、 前記中心位置計測用のターゲットを撮像して撮像信号を
生成する撮像手段と、 前記撮像手段で生成された撮像信号に基づいて、前記中
心位置計測用のターゲットのエッジ近傍から前記ターゲ
ットの中心位置を計測する計測手段と、を備えた中心位
置計測装置。
4. The target for center position measurement according to claim 1, an imaging unit for generating an image signal by imaging the target for center position measurement, and the imaging unit Measuring means for measuring the center position of the target from the vicinity of the edge of the target for center position measurement based on the imaging signal generated in step (a).
【請求項5】 前記撮像手段は、入射光の絞りを制御す
る絞り制御手段をさらに備えたことを特徴とする請求項
4記載の中心位置計測装置。
5. The center position measuring device according to claim 4, wherein said image pickup means further comprises a stop control means for controlling a stop of incident light.
【請求項6】 前記撮像手段は、露光量を制御する露光
制御手段をさらに備えたことを特徴とする請求項4又は
請求項5記載の中心位置計測装置。
6. The center position measuring device according to claim 4, wherein said image pickup means further comprises an exposure control means for controlling an exposure amount.
【請求項7】 請求項1から請求項3のいずれか1項記
載の中心位置計測用のターゲットを撮像して撮像信号を
生成し、 前記生成された撮像信号に基づいて、前記中心位置計測
用のターゲットのエッジ近傍から前記ターゲットの中心
位置を計測する中心位置計測方法。
7. An image pickup signal is generated by imaging the target for center position measurement according to any one of claims 1 to 3, and an image pickup signal is generated based on the generated image pickup signal. A center position measuring method for measuring the center position of the target from the vicinity of the edge of the target.
【請求項8】 前記撮像時に、入射光の絞りをさらに制
御することを特徴とする請求項7記載の中心位置計測方
法。
8. The center position measuring method according to claim 7, further comprising controlling the stop of the incident light during the imaging.
【請求項9】 前記撮像時に、入射光の露光量をさらに
制御することを特徴とする請求項7又は請求項8記載の
中心位置計測方法。
9. The center position measuring method according to claim 7, wherein an exposure amount of incident light is further controlled during the image pickup.
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