JP2001252530A - Method and apparatus for treating malodorous gas - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 35
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 claims abstract description 297
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims abstract description 30
- 238000013032 photocatalytic reaction Methods 0.000 claims abstract description 28
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims abstract description 23
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims abstract description 12
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 44
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 claims description 24
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 12
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 10
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 9
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims description 9
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 2
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 8
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 8
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 3
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 3
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 230000001877 deodorizing effect Effects 0.000 description 2
- DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N ethanethiol Chemical compound CCS DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 102100032566 Carbonic anhydrase-related protein 10 Human genes 0.000 description 1
- 101000867836 Homo sapiens Carbonic anhydrase-related protein 10 Proteins 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 238000004523 catalytic cracking Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000004332 deodorization Methods 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000010800 human waste Substances 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 231100000572 poisoning Toxicity 0.000 description 1
- 230000000607 poisoning effect Effects 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、臭気ガス中から悪
臭成分を分解除去して脱臭処理する臭気ガス処理方法お
よびその装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an odor gas treatment method for deodorizing and removing an odor component from odor gas and an apparatus therefor.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、例えば食品工場、し尿処理場、ご
みピットなどにおいて発生する臭気ガス中の悪臭成分を
脱臭する脱臭方法としては、 （Ａ）悪臭成分を活性炭等の吸着剤に吸着させて除去す
る方法 （Ｂ）臭気ガスを触媒と接触させて悪臭成分を接触分解
する方法 （Ｃ）プラズマ放電によって悪臭成分を除去する方法 などがある。2. Description of the Related Art Conventionally, methods for deodorizing odorous components in odorous gas generated in, for example, food factories, human waste treatment plants, garbage pits, and the like are as follows. (A) Adsorbing odorous components to an adsorbent such as activated carbon. (B) A method of contacting odor gas with a catalyst to catalytically decompose malodorous components. (C) A method of removing malodorous components by plasma discharge.
【０００３】また、最近では、 （Ｄ）光触媒を用いて紫外線照射により臭気ガスを処理
する方法が検討されつつある。また、この方法をより具
体化させるために、以下のような処理方法が提案されて
いる。 （ａ）臭気ガスとの接触面に光触媒膜を固定し、この光
触媒膜に紫外線を照射して悪臭成分を分解する方法 （ｂ）脱臭塔内で臭気ガス中の悪臭ガス成分を光触媒粉
末に吸着させ、これを再生塔に導いて紫外線ランプによ
り紫外線を照射して悪臭ガス成分を分解する方法（例：
特開平１０−３１４５４３号公報）Recently, (D) a method of treating odorous gas by irradiation of ultraviolet rays using a photocatalyst is being studied. In order to make this method more concrete, the following processing method has been proposed. (A) A method in which a photocatalyst film is fixed to a contact surface with an odor gas, and this photocatalyst film is irradiated with ultraviolet rays to decompose a malodorous component. (B) A malodorous gas component in the odor gas is adsorbed to the photocatalyst powder in a deodorization tower. A method of decomposing odorous gas components by introducing it to a regeneration tower and irradiating ultraviolet rays with an ultraviolet lamp (example:
JP-A-10-314543)
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記
（Ａ）の吸着剤による処理方法においては、悪臭成分を
吸着した後に吸着剤の取り替えが必要になること、温度
変化により吸着物質の脱離が起こること、代表的な吸着
剤活性炭はＮＨ３やＳＯＸに対しての吸着能力が劣るこ
と等の問題点がある。また、前記（Ｂ）の触媒接触分解
による処理方法においては、低温の場合には吸着物質に
より被毒を受け易く、また加熱する場合にはエネルギー
が必要になるという問題点がある。さらに、前記（Ｃ）
のプラズマ放電による処理方法においては、ＮＨ３の処
理能力が劣ること、放電面積が限られること、放電部の
腐食が起こり易いこと、排気部に放電により生じるオゾ
ンの分解触媒が必要になること等の問題点がある。However, in the treatment method using the adsorbent (A), the adsorbent must be replaced after the malodorous component is adsorbed, and the adsorbed substance is desorbed due to a temperature change. In addition, typical adsorbent activated carbon has problems such as poor adsorption ability to NH 3 and SO X. Further, in the treatment method by catalytic catalytic cracking of the above (B), there is a problem that poisoning by an adsorbed substance is apt at low temperatures, and energy is required when heating. Further, the above (C)
In the treatment method using the plasma discharge described above, the treatment capacity of NH 3 is inferior, the discharge area is limited, the corrosion of the discharge part is apt to occur, and the exhaust part requires a catalyst for decomposing ozone generated by the discharge. There is a problem.
【０００５】一方、光触媒を用いる処理方法のうち、前
記（ａ）の方法では、臭気ガスと光触媒膜との接触面積
が小さいために、悪臭成分の分解効率が良くないという
問題がある。また、前記（ａ）（ｂ）のいずれの処理方
法の場合も、分解装置内部に紫外線照射源（紫外線ラン
プ）を設置する必要があるために、この紫外線照射源の
汚れ等によって紫外線強度が低下して分解効率が悪化し
てしまうという問題点がある。On the other hand, among the treatment methods using a photocatalyst, the method (a) has a problem that the efficiency of decomposing malodorous components is not good because the contact area between the odor gas and the photocatalyst film is small. In any of the processing methods (a) and (b), since an ultraviolet irradiation source (ultraviolet lamp) must be installed inside the decomposition apparatus, the ultraviolet intensity is reduced due to contamination of the ultraviolet irradiation source. Thus, there is a problem that the decomposition efficiency is deteriorated.
【０００６】本発明は、このような問題点を解消するた
めになされたもので、光源が汚染されることがなく安定
した照射強度を保持することができ、かつ分解効率も向
上させることのできる臭気ガス処理方法およびその装置
を提供することを目的とするものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve such a problem, and it is possible to maintain a stable irradiation intensity without contaminating a light source and to improve the decomposition efficiency. It is an object of the present invention to provide an odor gas treatment method and an apparatus therefor.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段および作用・効果】前記目
的を達成するために、第１発明による臭気ガス処理方法
は、悪臭成分を含む臭気ガスを処理する臭気ガス処理方
法であって、光触媒が収容されてなる光触媒反応装置内
に臭気ガスを導入してその臭気ガスにより光触媒を激し
く撹拌して臭気ガス中の悪臭成分を光触媒に吸着させる
とともに、前記光触媒反応装置外の光源から光ファイバ
ーを通してその光触媒反応装置内の光触媒に光を照射
し、その照射により発現する光触媒の酸化作用によって
その光触媒に吸着されている悪臭成分を分解除去するこ
とを特徴とするものである。Means for Solving the Problems and Action / Effect To achieve the above object, an odor gas treatment method according to a first aspect of the present invention is an odor gas treatment method for treating odor gas containing a malodorous component. An odor gas is introduced into the contained photocatalyst reactor, the photocatalyst is vigorously stirred by the odor gas, and the malodor component in the odor gas is adsorbed to the photocatalyst. The present invention is characterized in that a photocatalyst in a reactor is irradiated with light, and the odorous component adsorbed on the photocatalyst is decomposed and removed by the oxidizing action of the photocatalyst developed by the irradiation.
【０００８】本発明において、悪臭成分を含む臭気ガス
が光触媒反応装置内に導入されると、この臭気ガスによ
りその光触媒反応装置内に収容されている光触媒が激し
く撹拌され、この撹拌によって悪臭成分が光触媒に吸着
されて臭気ガス中から除去される。これと同時に、この
悪臭成分を吸着した光触媒に当該反応装置外の光源から
光ファイバーを通して光が照射されることにより、光触
媒の酸化作用が発現してその光触媒に吸着されている悪
臭成分が分解除去される。本発明によれば、光触媒が臭
気ガスにより激しく撹拌されて流動状態にされるため、
臭気ガスと光触媒とを良好に混合することができ、悪臭
成分の光触媒上への吸着が容易に行えるとともに、光触
媒への光の照射が効率的に行えて悪臭成分の分解効率を
高めることができる。また、光触媒へ照射される光が、
光触媒反応装置外の光源から光ファイバーを通して提供
されるので、反応装置内に光源を設置するもののように
光源が汚染されることもなく、光照射強度を安定保持す
ることができる。さらに、臭気ガス中の悪臭成分の光触
媒への吸着工程と、光触媒に吸着した悪臭成分の光照射
による分解工程の２つの工程を、光触媒反応装置内にて
同時に行うことができるので、装置をコンパクトにする
ことができる。In the present invention, when an odorous gas containing a malodorous component is introduced into the photocatalytic reactor, the photocatalyst contained in the photocatalytic reactor is vigorously stirred by the odorous gas, and this agitation causes the malodorous component to be removed. It is adsorbed by the photocatalyst and removed from the odor gas. At the same time, the photocatalyst adsorbing the malodorous component is irradiated with light from a light source outside the reactor through an optical fiber, whereby the oxidizing action of the photocatalyst is developed and the malodorous component adsorbed on the photocatalyst is decomposed and removed. You. According to the present invention, since the photocatalyst is vigorously stirred by the odor gas and brought into a fluidized state,
The odor gas and the photocatalyst can be satisfactorily mixed, the odor components can be easily adsorbed on the photocatalyst, and the photocatalyst can be efficiently irradiated with light, thereby increasing the decomposition efficiency of the odor components. . Also, the light irradiated on the photocatalyst is
Since the light is supplied from the light source outside the photocatalytic reaction device through the optical fiber, the light source is not contaminated as in the case where the light source is installed in the reaction device, and the light irradiation intensity can be stably maintained. Furthermore, the two steps of the step of adsorbing the malodorous components in the odor gas onto the photocatalyst and the step of decomposing the malodorous components adsorbed on the photocatalyst by light irradiation can be performed simultaneously in the photocatalytic reactor, so that the apparatus is compact. Can be
【０００９】次に、第２発明による臭気ガス処理方法
は、悪臭成分を含む臭気ガスを処理する臭気ガス処理方
法であって、光触媒が収容されてなる光触媒吸着搭内に
臭気ガスを導入してその臭気ガス中の悪臭成分を光触媒
に吸着させた後、この悪臭成分を吸着してなる光触媒を
光触媒反応装置内に導入してその光触媒反応装置内に導
入される流動用ガスにより激しく撹拌するとともに、前
記光触媒反応装置外の光源から光ファイバーを通してそ
の光触媒反応装置内の光触媒に光を照射し、その照射に
より発現する光触媒の酸化作用によってその光触媒に吸
着されている悪臭成分を分解除去することを特徴とする
ものである。Next, the odor gas treatment method according to the second invention is an odor gas treatment method for treating odor gas containing a malodorous component, wherein the odor gas is introduced into a photocatalyst adsorption tower containing a photocatalyst. After the stench component in the odor gas is adsorbed on the photocatalyst, the photocatalyst adsorbing the stench component is introduced into the photocatalytic reactor, and vigorously stirred by the flowing gas introduced into the photocatalytic reactor. Irradiating a photocatalyst in the photocatalyst reactor with light from a light source outside the photocatalyst reactor through an optical fiber, and decomposing and removing malodorous components adsorbed on the photocatalyst by oxidizing action of the photocatalyst developed by the irradiation. It is assumed that.
【００１０】本発明において、悪臭成分を含む臭気ガス
は、まず光触媒吸着搭内に導入され、この光触媒吸着搭
内における光触媒の吸着作用により臭気ガス中より悪臭
成分が吸着除去される。この後、悪臭成分を吸着した光
触媒が光触媒反応装置内に導入されると、この光触媒反
応装置内では流動用ガスによりその光触媒反応装置内の
光触媒が激しく撹拌され、これと同時に、悪臭成分を吸
着した光触媒に当該反応装置外の光源から光ファイバー
を通して光が照射されることにより、光触媒の酸化作用
によってその光触媒に吸着されている悪臭成分が分解除
去される。本発明によれば、光触媒吸着搭にて臭気ガス
と光触媒とが良好に混合されることで、悪臭成分の光触
媒上への吸着が容易に行え、また光触媒反応装置内部で
は流動用ガスにて光触媒が激しく撹拌された状態にされ
るので、光触媒への光の照射が効率的に行えて悪臭成分
の分解効率を高めることができる。また、光触媒へ照射
される光が、光触媒反応装置外の光源から光ファイバー
を通して提供されるので、光源が汚染されることもな
く、光照射強度を安定保持することができる。さらに、
吸着剤として光触媒を用いているので、この光触媒の再
生処理後の再利用が容易であり、ランニングコストを削
減することができる。In the present invention, the odorous gas containing the malodorous component is first introduced into the photocatalyst adsorption tower, and the malodorous component is adsorbed and removed from the odorous gas by the photocatalytic adsorption action in the photocatalyst adsorption tower. Thereafter, when the photocatalyst adsorbing the malodorous component is introduced into the photocatalytic reactor, the photocatalyst in the photocatalytic reactor is vigorously stirred by the flowing gas in the photocatalytic reactor, and at the same time, the malodorous component is adsorbed. By irradiating the photocatalyst with light from a light source outside the reactor through an optical fiber, an odor component adsorbed on the photocatalyst is decomposed and removed by an oxidizing action of the photocatalyst. According to the present invention, the odor gas and the photocatalyst are mixed well in the photocatalyst adsorption tower, so that the malodorous component can be easily adsorbed on the photocatalyst. Is violently stirred, so that the photocatalyst can be efficiently irradiated with light, and the decomposition efficiency of the malodorous component can be increased. Further, since the light applied to the photocatalyst is provided from the light source outside the photocatalytic reaction device through the optical fiber, the light source is not contaminated and the light irradiation intensity can be stably maintained. further,
Since the photocatalyst is used as the adsorbent, the photocatalyst can be easily reused after the regeneration treatment, and the running cost can be reduced.
【００１１】次に、第３発明による臭気ガス処理装置
は、第１発明による臭気ガス処理方法を具体的に実現す
るための装置の一態様に関わるものであって、光触媒が
収容されてなる光触媒反応装置を用いて悪臭成分を含む
臭気ガスを処理する臭気ガス処理装置であって、前記光
触媒反応装置が、臭気ガスを導入する臭気ガス導入口、
悪臭成分分解後の処理ガスを排出する処理ガス排出口、
光触媒を供給する光触媒供給口および光触媒を排出する
光触媒排出口を有するハウジングと、このハウジングの
外部に設けられる光源と、この光源から前記ハウジング
内へ光を導く光ファイバーと、この光ファイバーを通し
て光触媒に光を照射して得られる悪臭成分分解後の処理
ガスと光触媒とを分離する濾過フィルターを備えること
を特徴とするものである。Next, an odor gas treatment apparatus according to a third aspect of the present invention relates to one embodiment of an apparatus for specifically realizing the odor gas treatment method according to the first aspect of the present invention, and comprises a photocatalyst containing a photocatalyst. An odor gas treatment device that treats an odor gas containing a malodorous component using a reaction device, wherein the photocatalytic reaction device has an odor gas introduction port that introduces an odor gas.
A processing gas outlet for discharging the processing gas after decomposition of the odorous components,
A housing having a photocatalyst supply port for supplying the photocatalyst and a photocatalyst discharge port for discharging the photocatalyst; a light source provided outside the housing; an optical fiber for guiding light from the light source into the housing; and light to the photocatalyst through the optical fiber. It is characterized by comprising a filtration filter for separating a photocatalyst and a processing gas obtained by irradiation after decomposing malodorous components.
【００１２】本発明によれば、前記第１発明と同様の作
用効果を奏するほか、光触媒に吸着されている悪臭成分
の分解除去後、濾過フィルターによって光触媒を光触媒
反応装置内に流動化状態で滞留させて、再度悪臭成分の
吸着、分解に連続的に用いることができる。また、光触
媒反応装置内の光触媒の交換時には、光触媒排出口から
装置内の光触媒を排出させ、光触媒供給口から新たな光
触媒を供給することができる。According to the present invention, in addition to having the same function and effect as the first invention, after the decomposition and removal of the offensive odor component adsorbed on the photocatalyst, the photocatalyst is retained in the photocatalytic reactor in a fluidized state by the filter. Then, it can be continuously used again for adsorption and decomposition of the malodorous component. Further, when replacing the photocatalyst in the photocatalytic reaction device, the photocatalyst in the device can be discharged from the photocatalyst discharge port, and a new photocatalyst can be supplied from the photocatalyst supply port.
【００１３】次に、第４発明による臭気ガス処理装置
は、第１発明による臭気ガス処理方法を具体的に実現す
るための装置の他の態様に関わるものであって、光触媒
が収容されてなる光触媒反応装置と、悪臭成分分解後の
処理ガスと光触媒とを分離する分離装置とを用いて悪臭
成分を含む臭気ガスを処理する臭気ガス処理装置であっ
て、前記光触媒反応装置が、臭気ガスを導入する臭気ガ
ス導入口、悪臭成分分解後の処理ガスと光触媒との混合
物を排出する混合物排出口、光触媒を供給する光触媒供
給口および光触媒を排出する光触媒排出口を有するハウ
ジングと、このハウジングの外部に設けられる光源と、
この光源から前記ハウジング内へ光を導く光ファイバー
を備え、前記光触媒反応装置の混合物排出口が前記分離
装置に接続されるとともに、この分離装置にて分離され
た光触媒を排出する光触媒排出口が前記光触媒反応装置
の光触媒供給口に接続されることを特徴とするものであ
る。Next, an odor gas processing apparatus according to a fourth aspect of the present invention relates to another aspect of the apparatus for specifically realizing the odor gas processing method according to the first aspect of the present invention, and contains a photocatalyst. A photocatalyst reaction device, and an odor gas treatment device that treats an odor gas containing a malodor component using a separation device that separates a processing gas after decomposition of the odor component and a photocatalyst, wherein the photocatalytic reaction device converts the odor gas into an odor gas. A housing having an odor gas inlet for introduction, a mixture outlet for discharging a mixture of the processing gas after decomposition of the malodorous component and the photocatalyst, a photocatalyst supply port for supplying the photocatalyst, and a photocatalyst outlet for discharging the photocatalyst; A light source provided in the
An optical fiber for guiding light from the light source into the housing, a mixture outlet of the photocatalytic reaction device is connected to the separation device, and a photocatalyst outlet for discharging the photocatalyst separated by the separation device is the photocatalyst. It is characterized in that it is connected to the photocatalyst supply port of the reactor.
【００１４】本発明によれば、悪臭成分分解後の処理ガ
スと光触媒との混合物が光触媒反応装置とは別に設置さ
れた分離装置に導かれ、この分離装置にて処理ガスが光
触媒と分離され、この分離後の光触媒がその分離装置の
光触媒排出口から光触媒反応装置の光触媒供給口へ環流
されて再利用される。また、光触媒反応装置内の光触媒
の交換時には、光触媒排出口から装置内の光触媒が排出
され、光触媒供給口から新たな光触媒が供給される。According to the present invention, the mixture of the processing gas and the photocatalyst after the decomposition of the offensive odor component is led to the separation device provided separately from the photocatalytic reaction device, and the processing gas is separated from the photocatalyst by the separation device. The separated photocatalyst is recirculated from the photocatalyst discharge port of the separation device to the photocatalyst supply port of the photocatalytic reaction device and is reused. Further, when replacing the photocatalyst in the photocatalytic reaction device, the photocatalyst in the device is discharged from the photocatalyst discharge port, and a new photocatalyst is supplied from the photocatalyst supply port.
【００１５】次に、第５発明による臭気ガス処理装置
は、第２発明による臭気ガス処理方法を具体的に実現す
るための装置に関わるものであって、光触媒が収容され
てなる光触媒吸着搭と、悪臭成分を吸着した光触媒に光
を照射してその悪臭成分を分解する光触媒反応装置とを
用いて悪臭成分を含む臭気ガスを処理する臭気ガス処理
装置であって、前記光触媒吸着搭が、臭気ガス導入口
と、悪臭成分吸着後の処理ガスを排出する処理ガス排出
口と、光触媒を供給する光触媒供給口と、光触媒を排出
する光触媒排出口とを備え、前記光触媒反応装置が、流
動用ガスを導入する流動用ガス導入口、流動用ガスを排
出する流動用ガス排出口、光触媒を供給する光触媒供給
口および光触媒を排出する光触媒排出口を有するハウジ
ングと、このハウジングの外部に設けられる光源と、こ
の光源から前記ハウジング内へ光を導く光ファイバー
と、前記ハウジング内の光触媒と流動用ガスとを分離す
る濾過フィルターを備え、前記光触媒反応装置の光触媒
排出口が前記光触媒吸着搭の光触媒供給口に接続される
とともに、前記光触媒吸着搭の光触媒排出口が前記光触
媒反応装置の光触媒供給口に接続されることを特徴とす
るものである。Next, an odor gas treatment apparatus according to a fifth aspect of the present invention relates to an apparatus for specifically realizing the odor gas treatment method according to the second aspect of the present invention. An odor gas treatment device that treats an odor gas containing an odor component by irradiating light to the photocatalyst that has adsorbed the odor component and decomposing the odor component by using a photocatalytic reaction device, wherein the photocatalyst adsorption tower has an odor component. A gas inlet, a processing gas outlet for discharging the processing gas after the adsorption of the malodorous component, a photocatalyst supply port for supplying a photocatalyst, and a photocatalyst outlet for discharging the photocatalyst; And a housing having a fluid gas inlet for introducing the gas, a fluid gas outlet for discharging the fluid gas, a photocatalyst supply port for supplying the photocatalyst, and a photocatalyst discharge port for discharging the photocatalyst. A light source provided outside the light source, an optical fiber for guiding light from the light source into the housing, and a filter for separating a photocatalyst and a flowing gas in the housing, wherein a photocatalyst outlet of the photocatalytic reaction device is provided with the photocatalyst. A photocatalyst supply port of the adsorption tower is connected, and a photocatalyst discharge port of the photocatalyst adsorption tower is connected to a photocatalyst supply port of the photocatalytic reaction device.
【００１６】本発明によれば、前記第３発明と同様の作
用効果を奏するほか、光触媒反応装置において光触媒を
その光触媒に吸着されている悪臭成分の分解除去後、濾
過フィルターによって光触媒反応装置内に流動化状態で
滞留させて、悪臭成分の完全分解まで連続的に用いるこ
とができる。また、使用後には再度光触媒吸着搭へ供給
して使用することができる。According to the present invention, in addition to having the same operation and effect as the third invention, after the photocatalyst is decomposed and removed by the photocatalyst in the photocatalytic reactor, the malodorous component adsorbed by the photocatalyst is removed by the filtration filter, and the photocatalyst is introduced into the photocatalytic reactor. By staying in a fluidized state, it can be used continuously until complete decomposition of malodorous components. After use, it can be supplied to the photocatalyst adsorption tower again for use.
【００１７】前記第５発明において、前記光触媒吸着塔
は、光触媒が上部から下部へ移動できる通過孔を有する
分散板にて多段に仕切られてなる多段流動床型の吸着塔
で構成されるのが好ましい（第６発明）。こうすること
で、粒子径の小さな光触媒を用いることが可能となり、
これによって臭気ガスと光触媒との接触が良くなって吸
着率が向上するとともに、光触媒反応装置での光照射効
率も良くなる。In the fifth invention, the photocatalyst adsorption tower is constituted by a multistage fluidized bed type adsorption tower which is divided into multiple stages by a dispersion plate having a passage hole through which the photocatalyst can move from the upper part to the lower part. Preferred (sixth invention). This makes it possible to use a photocatalyst with a small particle size,
As a result, the contact between the odor gas and the photocatalyst is improved, the adsorption rate is improved, and the light irradiation efficiency in the photocatalytic reactor is also improved.
【００１８】また、前記第５発明または第６発明におい
て、前記光触媒反応装置のハウジングにおける光触媒排
出口に、光触媒中に含まれる煤塵等を除去するふるい分
器が設けられるのが好ましい（第７発明）。こうするこ
とで、光触媒反応装置内で悪臭成分の分解に使用された
光触媒中の煤塵および摩擦によって発生した粉等をふる
い分器で除去することができ、この除去後にその光触媒
を光触媒吸着搭にて再利用することができる。In the fifth or sixth aspect of the present invention, it is preferable that a sieve sorter for removing dust and the like contained in the photocatalyst is provided at a photocatalyst outlet of the housing of the photocatalytic reactor (the seventh aspect of the present invention). ). By doing so, dust and dust generated by friction in the photocatalyst used for decomposing the malodorous components in the photocatalyst reactor can be removed by a sieve separator, and after this removal, the photocatalyst is transferred to the photocatalyst adsorption tower. Can be reused.
【００１９】また、前記第３発明〜第７発明において、
前記光触媒反応装置のハウジングにおける光照射口に冷
却装置が設けられるのが好ましい（第８発明）。こうす
ることで、光ファイバーの光照射口を冷却することがで
きて、光ファイバー等の過熱防止および光ファイバー等
へのダスト付着防止を図ることができる。In the third to seventh inventions,
It is preferable that a cooling device is provided at a light irradiation port in the housing of the photocatalytic reaction device (an eighth invention). By doing so, the light irradiation port of the optical fiber can be cooled, and overheating of the optical fiber and the like and dust adhesion to the optical fiber and the like can be prevented.
【００２０】[0020]
【発明の実施の形態】次に、本発明による臭気ガス処理
方法およびその装置の具体的な実施の形態について、図
面を参照しつつ説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, specific embodiments of an odor gas treatment method and apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings.
【００２１】（第１実施例）図１には本発明の第１実施
例に係る臭気ガス処理装置の全体概略構成図（ａ）およ
びその部分拡大図（ｂ）がそれぞれ示され、図２には本
実施例の臭気ガス処理工程のブロック図が示されてい
る。(First Embodiment) FIG. 1 shows an overall schematic configuration diagram (a) and a partially enlarged view (b) of an odor gas treatment apparatus according to a first embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 3 is a block diagram of an odor gas treatment step of the present embodiment.
【００２２】本実施例においては、光触媒反応装置１を
用いて臭気ガス中の悪臭成分が分解除去されるように構
成されている。この光触媒反応装置１のハウジング２に
は、下部に被処理ガス（臭気ガス）３を導入する臭気ガ
ス導入口４と、ハウジング２内に充填されている光触媒
５を排出・回収する光触媒排出口６とが設けられるとと
もに、上部に悪臭成分分解後の処理ガス７を排出する処
理ガス排出口９が設けられ、側部にハウジング２内に光
触媒５を供給・充填する光触媒供給口１０が設けられて
いる。In this embodiment, the photocatalytic reactor 1 is used to decompose and remove malodorous components in the odor gas. An odor gas inlet 4 for introducing a gas to be treated (odor gas) 3 into a lower portion of the housing 2 of the photocatalytic reactor 1 and a photocatalyst outlet 6 for discharging and recovering the photocatalyst 5 filled in the housing 2 are provided. And a processing gas discharge port 9 for discharging the processing gas 7 after the decomposition of the offensive odor component is provided at an upper portion, and a photocatalyst supply port 10 for supplying and filling the photocatalyst 5 into the housing 2 is provided at a side portion. I have.
【００２３】また、前記ハウジング２の上部寄りの外周
部には複数個の光照射口１１が配され、これら光照射口
１１には光ファイバー１２が接続されている。各光ファ
イバー１２は、ハウジング２の外部に設けられる光源１
３に接続され、光源１３からの光が光ファイバー１２を
通してハウジング２の内部に照射されるようにされてい
る。Further, a plurality of light irradiation ports 11 are arranged on the outer peripheral portion near the upper portion of the housing 2, and an optical fiber 12 is connected to these light irradiation ports 11. Each optical fiber 12 is provided with a light source 1 provided outside the housing 2.
3, the light from the light source 13 is applied to the inside of the housing 2 through the optical fiber 12.
【００２４】ここで、前記光源１３としては、紫外線ラ
ンプ、ブラックライトもしくは太陽光などが用いられ、
照射光は波長２００〜４００ｍｍの紫外線とされる。ま
た、前記光触媒５としては、主成分が酸化チタンおよび
／またはゼオライトよりなり、球状もしくは顆粒状に成
形したものを造粒体としてあるいは担持体として使用さ
れる。Here, as the light source 13, an ultraviolet lamp, black light or sunlight is used.
The irradiation light is ultraviolet light having a wavelength of 200 to 400 mm. As the photocatalyst 5, a main component composed of titanium oxide and / or zeolite and formed into a spherical or granular shape is used as a granulated body or as a carrier.
【００２５】前記ハウジング２における光照射口１１の
上方にはバグフィルター（濾過フィルター）１４が設置
されていて、このバグフィルター１４によって光触媒５
と処理ガス７とを分離するようにされている。A bag filter (filtration filter) 14 is provided above the light irradiation port 11 in the housing 2.
And the processing gas 7 are separated.
【００２６】また、前記光照射口１１においては、光フ
ァイバー１２等の過熱防止および光ファイバー１２等へ
のダスト付着防止のために、光ファイバー１２の先端部
に取り付けられる先端レンズ１５の周囲に空冷ジャケッ
ト１６が設けられている。そして、この空冷ジャケット
１６には、ハウジング２の外側において開口する冷却用
空気入口１７と、ハウジング２の内側において開口する
冷却用空気出口１８とが設けられ、図１（ｂ）の矢印に
て示されるように冷却用空気が先端レンズ１５の周囲に
流通されることで、これら先端レンズ１５および光ファ
イバー１２等が冷却されるようになっている。なお、好
ましくは排気側に誘引ファンを設け、光触媒反応装置１
内を負圧にすることにより冷却用空気を吸気できるよう
な構造とするのが良い。At the light irradiation port 11, an air cooling jacket 16 is provided around a tip lens 15 attached to the tip of the optical fiber 12 in order to prevent overheating of the optical fiber 12 and the like and prevent dust from adhering to the optical fiber 12 and the like. Is provided. The cooling jacket 16 is provided with a cooling air inlet 17 opening outside the housing 2 and a cooling air outlet 18 opening inside the housing 2, as indicated by arrows in FIG. As the cooling air is circulated around the front end lens 15, the front end lens 15, the optical fiber 12, and the like are cooled. Preferably, an induction fan is provided on the exhaust side, and the photocatalytic reactor 1
It is preferable to adopt a structure in which cooling air can be taken in by making the inside of the inside negative pressure.
【００２７】本実施例の光触媒反応装置１は以上のよう
に構成されているので、ハウジング２内に光触媒５が充
填・収容された状態で、悪臭成分を含む被処理ガス（臭
気ガス）３が下部の臭気ガス導入口４からハウジング２
内に導入されると、この被処理ガス３によりそのハウジ
ング２内に収容されている光触媒５が激しく撹拌される
とともに、被処理ガス３と光触媒５とが混合され（混合
工程１９）、この撹拌・混合によって被処理ガス３中に
含まれている悪臭成分が光触媒５に吸着されて臭気ガス
中から除去される。これと同時に、悪臭成分を吸着した
光触媒５に光源１３から光ファイバー１２を通して光
（紫外線）が照射される（光照射工程２０）。Since the photocatalyst reactor 1 of this embodiment is configured as described above, the gas to be treated (odor gas) 3 containing a malodorous component is generated while the photocatalyst 5 is filled and accommodated in the housing 2. Odor gas inlet 4 at the bottom and housing 2
When the gas is introduced into the inside, the photocatalyst 5 housed in the housing 2 is vigorously stirred by the gas 3 to be processed, and the gas 3 to be processed and the photocatalyst 5 are mixed (mixing step 19). The malodor component contained in the gas to be treated 3 is adsorbed by the photocatalyst 5 and removed from the odor gas by mixing. At the same time, light (ultraviolet light) is irradiated from the light source 13 through the optical fiber 12 to the photocatalyst 5 that has adsorbed the offensive odor component (light irradiation step 20).
【００２８】この光照射工程２０により光触媒５の酸化
作用が発現し、その光触媒５に吸着されている悪臭成分
が分解除去される。この後、悪臭成分分解後の処理ガス
７は、バグフィルター１４によって光触媒５と分離され
（濾過工程２１）、上部の処理ガス排出口９から排出さ
れる。なお、光触媒５はハウジング２内に流動化状態で
滞留し、再度悪臭成分の吸着、分解に連続的に用いられ
る。また、ハウジング２内の光触媒５を交換する際に
は、光触媒排出口６から装置内の光触媒５を排出させ、
光触媒供給口１０から新たな光触媒が供給される。By the light irradiation step 20, the oxidizing action of the photocatalyst 5 is developed, and the malodorous component adsorbed on the photocatalyst 5 is decomposed and removed. Thereafter, the processing gas 7 after the decomposition of the offensive odor component is separated from the photocatalyst 5 by the bag filter 14 (filtration step 21), and is discharged from the processing gas outlet 9 on the upper part. The photocatalyst 5 stays in a fluidized state in the housing 2 and is continuously used again for adsorbing and decomposing malodorous components. When the photocatalyst 5 in the housing 2 is replaced, the photocatalyst 5 in the apparatus is discharged from the photocatalyst discharge port 6, and
A new photocatalyst is supplied from the photocatalyst supply port 10.
【００２９】本実施例において、光触媒反応装置１へ供
給される被処理ガス３の温度は、悪臭成分を光触媒５上
へ吸着し易くするために、できれば室温とするのが好ま
しい。In the present embodiment, the temperature of the gas 3 to be treated supplied to the photocatalyst reactor 1 is preferably set to room temperature, if possible, in order to facilitate the adsorption of malodorous components onto the photocatalyst 5.
【００３０】本実施例の臭気ガス処理装置によれば、以
下のような種々の利点がある。 １）臭気ガス中の悪臭成分の光触媒への吸着工程と、光
照射による悪臭成分の分解工程とを光触媒反応装置１内
で同時に行うことができるので、装置がコンパクトにな
る。 ２）光触媒反応装置１内では光触媒５が臭気ガス３によ
り激しく撹拌されて流動状態にあるため、臭気ガス３と
光触媒５との混合が良く、悪臭成分が光触媒上に吸着し
易い。 ３）光触媒５が臭気ガス３により激しく撹拌されて流動
状態にあるため、光を効率良く照射することができ、悪
臭成分の分解効率が高くなる。 ４）光触媒反応装置１の外部の光源１３より装置内部へ
光を照射するので、光源が汚染されることなく、また光
照射強度を安定させることができる。According to the odor gas treatment apparatus of this embodiment, there are various advantages as follows. 1) The step of adsorbing the offensive odor component in the odor gas onto the photocatalyst and the step of decomposing the offensive odor component by light irradiation can be performed simultaneously in the photocatalytic reactor 1, so that the apparatus becomes compact. 2) Since the photocatalyst 5 is vigorously stirred by the odor gas 3 and is in a fluid state in the photocatalyst reactor 1, the odor gas 3 and the photocatalyst 5 are well mixed, and the malodorous component is easily adsorbed on the photocatalyst. 3) Since the photocatalyst 5 is vigorously stirred by the odor gas 3 and is in a fluid state, it can be irradiated with light efficiently, and the decomposition efficiency of the malodorous component is increased. 4) Since light is emitted from the light source 13 outside the photocatalytic reaction device 1 to the inside of the device, the light source is not contaminated and the light irradiation intensity can be stabilized.
【００３１】（第２実施例）図３には本発明の第２実施
例に係る臭気ガス処理装置の全体概略構成図が示され、
図４には本実施例の臭気ガス処理工程のブロック図が示
されている。(Second Embodiment) FIG. 3 shows an overall schematic configuration diagram of an odor gas treatment apparatus according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 4 shows a block diagram of the odor gas treatment process of this embodiment.
【００３２】前記第１実施例においては、光触媒反応装
置１のハウジング２内にバグフィルター１４を設けるよ
うにされているが、本第２実施例の光触媒反応装置３１
においては、当該反応装置の本体を構成するハウジング
２とは別置きに、悪臭成分分解後の処理ガスと光触媒と
を分離する分離装置としてのサイクロン３２が設けられ
ている。なお、本実施例において、基本的構成は第１実
施例と異なるところがないので、第１実施例と共通する
部分には図に同一符号を付すに留めてその詳細な説明を
省略するものとする。In the first embodiment, the bag filter 14 is provided in the housing 2 of the photocatalyst reactor 1, but the photocatalyst reactor 31 of the second embodiment is provided.
In addition, a cyclone 32 is provided separately from the housing 2 constituting the main body of the reaction device, as a separation device for separating the processing gas after the decomposition of the offensive odor component and the photocatalyst. In this embodiment, since the basic configuration does not differ from that of the first embodiment, parts common to the first embodiment are denoted by the same reference numerals in the drawings, and detailed description thereof will be omitted. .
【００３３】本実施例においては、悪臭成分を含む被処
理ガス（臭気ガス）３がハウジング２下部の臭気ガス導
入口４から導入されると、この被処理ガス３によりその
ハウジング２内に収容されている光触媒５が激しく撹拌
されるとともに、被処理ガス３と光触媒５とが混合され
（混合工程１９）、この撹拌・混合によって被処理ガス
３中に含まれている悪臭成分が光触媒５に吸着されて臭
気ガス中から除去される。これと同時に、悪臭成分を吸
着した光触媒５に光源１３から光ファイバー１２を通し
て光（紫外線）が照射される（光照射工程２０）。In this embodiment, when a gas to be treated (odor gas) 3 containing a malodorous component is introduced from the odor gas inlet 4 at the lower portion of the housing 2, the gas to be treated is housed in the housing 2 by the gas 3 to be treated. The photocatalyst 5 is vigorously stirred and the gas 3 to be treated is mixed with the photocatalyst 5 (mixing step 19). By this stirring and mixing, the malodorous components contained in the gas 3 to be treated are adsorbed on the photocatalyst 5. And removed from the odorous gas. At the same time, light (ultraviolet light) is irradiated from the light source 13 through the optical fiber 12 to the photocatalyst 5 that has adsorbed the offensive odor component (light irradiation step 20).
【００３４】この光照射工程２０により光触媒５の酸化
作用が発現し、その光触媒５に吸着されている悪臭成分
が分解除去される。この後、悪臭成分分解後の処理ガス
と光触媒５との混合物は混合物排出口３３から混合物移
動管３４を介してサイクロン３２に導入される。サイク
ロン３２では、処理ガス７と光触媒５とが分離され（濾
過工程２１）、処理ガス７はサイクロン３２上部の処理
ガス排出口９’から排出され、光触媒５は光触媒排出口
３５から光触媒排出管３６およびハウジング２の光触媒
供給口１０を介してハウジング２内に戻されて再利用さ
れる。また、ハウジング２内の光触媒５を交換する際に
は、光触媒排出口６から装置内の光触媒５が排出され
る。In the light irradiation step 20, the oxidizing action of the photocatalyst 5 is developed, and the malodorous component adsorbed on the photocatalyst 5 is decomposed and removed. Thereafter, the mixture of the processing gas after decomposition of the offensive odor component and the photocatalyst 5 is introduced into the cyclone 32 from the mixture outlet 33 through the mixture transfer pipe 34. In the cyclone 32, the processing gas 7 and the photocatalyst 5 are separated (filtration step 21), the processing gas 7 is discharged from the processing gas outlet 9 'above the cyclone 32, and the photocatalyst 5 is passed from the photocatalyst outlet 35 to the photocatalyst discharge pipe 36. And is returned to the housing 2 through the photocatalyst supply port 10 of the housing 2 and reused. When replacing the photocatalyst 5 in the housing 2, the photocatalyst 5 in the device is discharged from the photocatalyst outlet 6.
【００３５】本実施例のような構成によっても、第１実
施例と同様の作用効果を得ることができる。The same operation and effect as in the first embodiment can be obtained by the structure as in this embodiment.
【００３６】（第３実施例）図５には本発明の第３実施
例に係る臭気ガス処理装置の全体概略構成図（ａ）およ
びその部分拡大図（ｂ）がそれぞれ示され、図６には本
実施例の臭気ガス処理工程のブロック図が示されてい
る。(Third Embodiment) FIGS. 5A and 5B show an overall schematic configuration diagram (a) and a partially enlarged view (b) of an odor gas treatment apparatus according to a third embodiment of the present invention, respectively. FIG. 3 is a block diagram of an odor gas treatment step of the present embodiment.
【００３７】本実施例においては、前記第１実施例にお
ける、光触媒による悪臭成分の吸着除去工程と、光触媒
の酸化作用による悪臭成分の酸化分解工程とを個別の装
置により行うように構成したものである。本実施例にお
いても、第１実施例と共通する部分には図に同一符号を
付すに留めてその詳細な説明を省略することとする。In this embodiment, the step of adsorbing and removing malodorous components by the photocatalyst and the process of oxidizing and decomposing malodorous components by the oxidizing action of the photocatalyst in the first embodiment are performed by separate devices. is there. Also in the present embodiment, parts common to the first embodiment are denoted by the same reference numerals in the drawings, and detailed description thereof will be omitted.
【００３８】本実施例では、光触媒反応装置４１とは別
に移動床型の光触媒吸着搭４２が設けられている。この
光触媒吸着搭４２においては、上部に光触媒供給口４３
が設けられるとともに、下部に光触媒排出口４４が設け
られ、上部から供給された光触媒５が下部へ移動するよ
うにされている。また、この光触媒５に悪臭成分を含ん
だ臭気ガスを接触させるために、側部の上方には被処理
ガス（臭気ガス）３を導入する臭気ガス導入口４５が設
けられ、また側部の下方には悪臭成分の吸着除去後の処
理ガス７を排出する処理ガス排出口４６が設けられてい
る。また、前記光触媒排出口４４は光触媒反応装置４１
の光触媒供給口１０に接続され、光触媒吸着搭４２にて
悪臭成分を吸着した光触媒５はその光触媒供給口１０を
介して光触媒反応装置４１内に供給されるようになって
いる。In the present embodiment, a moving bed type photocatalyst adsorption tower 42 is provided separately from the photocatalytic reaction device 41. In this photocatalyst adsorption tower 42, a photocatalyst supply port 43
Is provided, and a photocatalyst discharge port 44 is provided at the lower portion, so that the photocatalyst 5 supplied from the upper portion moves to the lower portion. Further, in order to bring the photocatalyst 5 into contact with an odor gas containing a malodorous component, an odor gas introduction port 45 for introducing the gas to be treated (odor gas) 3 is provided above the side portion, and below the side portion. Is provided with a processing gas outlet 46 for discharging the processing gas 7 after the adsorption and removal of the offensive odor component. Further, the photocatalyst outlet 44 is connected to the photocatalyst reactor 41.
The photocatalyst 5 connected to the photocatalyst supply port 10 and adsorbing the malodorous component by the photocatalyst adsorption tower 42 is supplied into the photocatalyst reactor 41 through the photocatalyst supply port 10.
【００３９】一方、光触媒反応装置４１のハウジング２
においては、下部に流動用ガス４７を導入する流動用ガ
ス導入口４８が設けられており、このハウジング２内で
はその流動用ガス４７によって光触媒５が激しく撹拌さ
れた状態にある。また、このハウジング２の下部に設け
られる光触媒排出口６はふるい分器４９に接続され、こ
のふるい分器４９により煤塵および摩擦により発生した
粉等を除去するようにされている。そして、このふるい
分器４９にてふるい分けされた煤塵、粉等は排出管５０
にて排出され、一方光触媒５は再度光触媒吸着搭４２に
環流されてその光触媒供給口４３から投入される。ま
た、ハウジング２内の流動用ガス４７は、ハウジング２
上部に設けられる流動用ガス排出口５１を介して排出さ
れる。On the other hand, the housing 2 of the photocatalytic reaction device 41
In the figure, a flowing gas inlet 48 for introducing a flowing gas 47 is provided at a lower portion, and the photocatalyst 5 is vigorously stirred by the flowing gas 47 in the housing 2. The photocatalyst discharge port 6 provided at the lower portion of the housing 2 is connected to a sieve sorter 49, and the sieve sorter 49 removes dust and powder generated by friction. The dust, powder and the like sieved by the sieve separator 49 are discharged from the discharge pipe 50.
The photocatalyst 5 is returned to the photocatalyst adsorption tower 42 again, and is injected from the photocatalyst supply port 43. The flowing gas 47 in the housing 2 is
The gas is discharged through a flowing gas discharge port 51 provided at the upper part.
【００４０】本実施例においては、悪臭成分を含む被処
理ガス（臭気ガス）３は、光触媒吸着搭４２において光
触媒５と接触することにより吸着除去され、この悪臭成
分を吸着した光触媒５は光触媒排出口４４から光触媒供
給口１０を介して光触媒反応装置４１のハウジング２内
に導入される。このハウジング２内では、下部の流動用
ガス導入口４８から流動用ガス４７が導入されることに
よりそのハウジング２内に収容されている光触媒５が激
しく撹拌されることになる。これと同時に、悪臭成分を
吸着した光触媒５に光源１３から光ファイバー１２を通
して光（紫外線）が照射される（光照射工程２０）。In the present embodiment, the gas to be treated (odorous gas) 3 containing a malodorous component is adsorbed and removed by contact with the photocatalyst 5 in the photocatalyst adsorption tower 42, and the photocatalyst 5 adsorbing the malodorous component is discharged from the photocatalyst. It is introduced into the housing 2 of the photocatalytic reaction device 41 from the outlet 44 via the photocatalyst supply port 10. In the housing 2, the photocatalyst 5 contained in the housing 2 is vigorously stirred by introducing the flowing gas 47 from the lower flowing gas inlet 48. At the same time, light (ultraviolet light) is irradiated from the light source 13 through the optical fiber 12 to the photocatalyst 5 that has adsorbed the offensive odor component (light irradiation step 20).
【００４１】この光照射工程２０により光触媒５の酸化
作用が発現し、その光触媒５に吸着されている悪臭成分
が分解除去される。この後、流動用ガス４７はバグフィ
ルター１４によって光触媒５と分離され（濾過工程２
１）、上部の流動用ガス排出口５１から排出される。な
お、光触媒５はハウジング２内に流動化状態で滞留し、
再度悪臭成分の吸着、分解に連続的に用いられる。ま
た、ハウジング２内の光触媒５を取り出す際には、光触
媒排出口６から装置内の光触媒５が排出されて再度光触
媒吸着搭４２へ供給される。なお、この光触媒５の再利
用時に、ふるい分器４９にて煤塵、粉等が分離・排出さ
れる。In the light irradiation step 20, the oxidizing action of the photocatalyst 5 is developed, and the malodorous component adsorbed on the photocatalyst 5 is decomposed and removed. Thereafter, the flowing gas 47 is separated from the photocatalyst 5 by the bag filter 14 (filtration step 2).
1) The gas is discharged from the upper flowing gas discharge port 51. The photocatalyst 5 stays in the housing 2 in a fluidized state,
It is again used continuously for adsorption and decomposition of odorous components. When the photocatalyst 5 in the housing 2 is taken out, the photocatalyst 5 in the apparatus is discharged from the photocatalyst outlet 6 and supplied to the photocatalyst adsorption tower 42 again. When the photocatalyst 5 is reused, dust, powder, and the like are separated and discharged by the sieve separator 49.
【００４２】本実施例の臭気ガス処理装置によれば、以
下のような種々の利点がある。 １）光触媒反応装置４１では光触媒に吸着された悪臭成
分を短時間で処理できるので、装置がコンパクトにな
る。 ２）光触媒反応装置４１内では光触媒５が流動用ガス４
７により激しく撹拌されて流動状態にあるため、光を効
率良く照射することができ、悪臭成分の分解効率が高く
なる。 ３）光触媒反応装置４１の外部の光源１３より装置内部
へ光を照射するので、光源が汚染されることなく、また
光照射強度を安定させることができる。 ４）吸着剤として光触媒を用いているため、この光触媒
の再生処理後の再利用が容易であり、ランニングコスト
を削減することができる。According to the odor gas treatment apparatus of this embodiment, there are various advantages as follows. 1) In the photocatalytic reaction device 41, the malodorous component adsorbed on the photocatalyst can be treated in a short time, so that the device becomes compact. 2) In the photocatalyst reaction device 41, the photocatalyst 5 contains the flowing gas 4
7 and is in a fluidized state, it is possible to irradiate light efficiently, and the decomposition efficiency of the malodorous component is increased. 3) Since light is emitted from the light source 13 outside the photocatalytic reaction device 41 to the inside of the device, the light source is not contaminated and the light irradiation intensity can be stabilized. 4) Since the photocatalyst is used as the adsorbent, the photocatalyst can be easily reused after the regeneration treatment, and the running cost can be reduced.
【００４３】（第４実施例）図７には本発明の第４実施
例に係る臭気ガス処理装置の全体概略構成図（ａ）およ
びその部分拡大図（ｂ）がそれぞれ示されている。(Fourth Embodiment) FIGS. 7A and 7B are an overall schematic configuration diagram (a) and a partially enlarged view (b) of an odor gas treatment apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.
【００４４】本実施例においては、前記第３実施例にお
ける光触媒吸着塔として、多段流動床型の光触媒吸着塔
４２Ａを採用するとともに、この光触媒吸着塔４２Ａの
側部下方に被処理ガス（臭気ガス）３を導入する臭気ガ
ス導入口４５を設け、かつ側部の上方に悪臭成分の吸着
除去後の処理ガス７を排出する処理ガス排出口４６を設
けるように構成されたものである。これ以外の部分につ
いては第３実施例と同様であるので、その詳細な説明を
省略する。In this embodiment, a multistage fluidized bed type photocatalyst adsorption tower 42A is employed as the photocatalyst adsorption tower in the third embodiment, and the gas to be treated (odorous gas) is disposed below the side of the photocatalyst adsorption tower 42A. 3) An odor gas inlet 45 for introducing 3 is provided, and a processing gas outlet 46 for discharging the processing gas 7 after adsorption and removal of the offensive odor component is provided above the side portion. The other parts are the same as in the third embodiment, and a detailed description thereof will be omitted.
【００４５】本実施例の光触媒吸着塔４２Ａにおいて
は、内部がパンチングメタル等の分散板６１により数段
（本実施例では４段）に仕切られており、各分散板６１
には互い違いの位置に光触媒５を通過させるための通過
孔６２が設けられている。また、各通過孔６２の隣接位
置には分散板６１に堰６３が設けられ、この堰６３によ
って光触媒５が一定時間滞留され、その滞留量が多くな
ったときに光触媒５がその堰８を越えて下方へ落下する
ように構成されている。In the photocatalyst adsorption tower 42A of this embodiment, the inside is divided into several stages (four in this embodiment) by a dispersion plate 61 made of punched metal or the like.
Are provided with passage holes 62 for allowing the photocatalyst 5 to pass at alternate positions. Further, a weir 63 is provided on the dispersion plate 61 at a position adjacent to each of the passage holes 62, and the photocatalyst 5 is retained by the weir 63 for a certain period of time, and when the retention amount increases, the photocatalyst 5 passes over the weir 8. It is configured to fall downward.
【００４６】こうして、悪臭成分を含んだ被処理ガス
（臭気ガス）３は臭気ガス導入口４５を介して光触媒吸
着塔４２Ａの下部から供給され、矢印Ｐにて示されるよ
うに上方へ向けて移動し、その際に分散板６１上の光触
媒５を流動化させることにより、その光触媒５によって
被処理ガス３中の悪臭成分が効率よく吸着除去され、こ
の吸着除去後の処理ガス７は処理ガス排出口４６を介し
て排出される。一方、悪臭成分を吸着した光触媒５は、
矢印Ｑにて示されるように分散板６１上から通過孔６２
を通って下方へ移動し、最終的に光触媒吸着塔４２Ａの
下部まで移動した後光触媒排出口４４から排出され、光
触媒供給口１０を介して光触媒反応装置４１内に供給さ
れる。In this manner, the gas to be treated (odor gas) 3 containing the malodorous component is supplied from the lower portion of the photocatalyst adsorption tower 42A through the odor gas inlet 45 and moves upward as indicated by the arrow P. At this time, by fluidizing the photocatalyst 5 on the dispersion plate 61, the photocatalyst 5 efficiently adsorbs and removes the malodorous component in the gas 3 to be treated. Discharged via outlet 46. On the other hand, the photocatalyst 5 which has adsorbed the offensive odor component is
As shown by the arrow Q, the passing holes 62
After passing through the photocatalyst adsorption tower 42A and finally moving to the lower part of the photocatalyst adsorption tower 42A, the photocatalyst is discharged from the photocatalyst discharge port 44 and supplied into the photocatalyst reactor 41 through the photocatalyst supply port 10.
【００４７】このように本実施例の臭気ガス処理装置に
よれば、多段流動床型の光触媒吸着塔４２Ａが用いられ
ているので、粒子径の小さな光触媒５を用いることがで
き、臭気ガス３と光触媒５との接触が良くなり、吸着率
を向上させることができるとともに、光触媒反応装置４
１での光照射効率が良くなり、高い分解性能を得ること
ができるという利点がある。また、これにより、光触媒
反応装置４１において光触媒５に吸着した悪臭成分を短
時間に処理することが可能となるので、装置構成がコン
パクトになるという効果もある。As described above, according to the odor gas treatment apparatus of this embodiment, since the multistage fluidized bed type photocatalyst adsorption tower 42A is used, the photocatalyst 5 having a small particle diameter can be used, and the odor gas 3 The contact with the photocatalyst 5 is improved, and the adsorption rate can be improved.
1 has an advantage that the light irradiation efficiency can be improved and high decomposition performance can be obtained. In addition, this makes it possible to process the malodorous component adsorbed on the photocatalyst 5 in the photocatalyst reaction device 41 in a short time, so that there is also an effect that the device configuration becomes compact.
【図１】図１は、本発明の第１実施例に係る臭気ガス処
理装置の全体概略構成図（ａ）およびその部分拡大図
（ｂ）である。FIG. 1 is an overall schematic configuration diagram (a) of an odor gas treatment device according to a first embodiment of the present invention and an enlarged view (b) of a part thereof.
【図２】図２は、第１実施例の臭気ガス処理工程のブロ
ック図である。FIG. 2 is a block diagram of an odor gas treatment step of the first embodiment.
【図３】図３は、本発明の第２実施例に係る臭気ガス処
理装置の全体概略構成図である。FIG. 3 is an overall schematic configuration diagram of an odor gas treatment device according to a second embodiment of the present invention.
【図４】図４は、第２実施例の臭気ガス処理工程のブロ
ック図である。FIG. 4 is a block diagram of an odor gas treatment process according to a second embodiment.
【図５】図５は、本発明の第３実施例に係る臭気ガス処
理装置の全体概略構成図（ａ）およびその部分拡大図
（ｂ）である。FIG. 5 is an overall schematic configuration diagram (a) of an odor gas treatment apparatus according to a third embodiment of the present invention and an enlarged view (b) of a part thereof.
【図６】図６は、第３実施例の臭気ガス処理工程のブロ
ック図である。FIG. 6 is a block diagram of an odor gas treatment process according to a third embodiment.
【図７】図７は、本発明の第４実施例に係る臭気ガス処
理装置の全体概略構成図（ａ）およびその部分拡大図
（ｂ）である。FIGS. 7A and 7B are an overall schematic configuration diagram (a) and a partially enlarged view (b) of an odor gas processing apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.
１，３１，４１ 光触媒反応装置 ２ ハウジング ３ 被処理ガス（臭気ガス） ４，４５ 臭気ガス導入口 ５ 光触媒 ６，３５，４４ 光触媒排出口 ７ 処理ガス ９，９’，４６ 処理ガス排出口 １０，４３ 光触媒供給口 １１ 光照射口 １２ 光ファイバー １３ 光源 １４ バグフィルター（濾過フィルタ
ー） １５ 先端レンズ １６ 空冷ジャケット １９ 混合工程 ２０ 光照射工程 ２１ 濾過工程 ３２ サイクロン（分離装置） ３３ 混合物排出口 ３４ 混合物移動管 ４２，４２Ａ 光触媒吸着搭 ４７ 流動用ガス ４８ 流動用ガス導入口 ４９ ふるい分器 ５０ 排出管 ５１ 流動用ガス排出口1,31,41 Photocatalytic reactor 2 Housing 3 Gas to be treated (odor gas) 4,45 Odor gas inlet 5 Photocatalyst 6,35,44 Photocatalyst outlet 7 Process gas 9,9 ', 46 Process gas outlet 10, 43 Photocatalyst supply port 11 Light irradiation port 12 Optical fiber 13 Light source 14 Bag filter (filtration filter) 15 Tip lens 16 Air cooling jacket 19 Mixing step 20 Light irradiation step 21 Filtration step 32 Cyclone (separation device) 33 Mixture discharge port 34 Mixture transfer pipe 42 , 42A Photocatalyst adsorption tower 47 Fluid gas 48 Fluid gas inlet 49 Sieve separator 50 Discharge pipe 51 Fluid gas outlet
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｊ 20/18 Ｂ０１Ｊ 21/06 Ａ 29/04 Ａ 21/06 35/02 Ｊ 29/04 Ｂ０１Ｄ 53/36 ＺＡＢＨ 35/02 Ｊ Ｆターム(参考） 4C080 AA05 AA07 AA10 BB02 CC01 HH05 JJ04 KK08 LL02 MM02 MM04 4D048 AA22 AB03 BA07X BA11X BA41X BB01 CB01 CB03 CB04 CC23 CC40 CC41 CC62 CD01 CD03 CD05 EA01 EA04 4G066 AA25B AA61B CA02 DA03 FA26 GA18 4G069 AA02 AA03 AA15 BA04B BA07B BA48A BC50B CA10 CA17 DA08 EA02Y ED04 ZA01B ZA35B ZA46B ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) B01J 20/18 B01J 21/06 A 29/04 A 21/06 35/02 J 29/04 B01D 53/36 ZABH 35/02 JF term (reference) 4C080 AA05 AA07 AA10 BB02 CC01 HH05 JJ04 KK08 LL02 MM02 MM04 4D048 AA22 AB03 BA07X BA11X BA41X BB01 CB01 CB03 CB04 CC23 CC40 CC41 CC62 CD01 CD03 CD05 A03A AA03 AA15 BA04B BA07B BA48A BC50B CA10 CA17 DA08 EA02Y ED04 ZA01B ZA35B ZA46B
Claims (8)
ガス処理方法であって、光触媒が収容されてなる光触媒
反応装置内に臭気ガスを導入してその臭気ガスにより光
触媒を激しく撹拌して臭気ガス中の悪臭成分を光触媒に
吸着させるとともに、前記光触媒反応装置外の光源から
光ファイバーを通してその光触媒反応装置内の光触媒に
光を照射し、その照射により発現する光触媒の酸化作用
によってその光触媒に吸着されている悪臭成分を分解除
去することを特徴とする臭気ガス処理方法。An odor gas treatment method for treating an odor gas containing a malodorous component, the method comprising introducing an odor gas into a photocatalyst reactor containing a photocatalyst, and vigorously stirring the photocatalyst with the odor gas. While the malodorous component in the gas is adsorbed on the photocatalyst, the photocatalyst in the photocatalyst reactor is irradiated with light from a light source outside the photocatalyst reactor through an optical fiber, and is adsorbed on the photocatalyst by the oxidizing action of the photocatalyst developed by the irradiation. An odor gas treatment method comprising decomposing and removing a bad odor component.
ガス処理方法であって、光触媒が収容されてなる光触媒
吸着搭内に臭気ガスを導入してその臭気ガス中の悪臭成
分を光触媒に吸着させた後、この悪臭成分を吸着してな
る光触媒を光触媒反応装置内に導入してその光触媒反応
装置内に導入される流動用ガスにより激しく撹拌すると
ともに、前記光触媒反応装置外の光源から光ファイバー
を通してその光触媒反応装置内の光触媒に光を照射し、
その照射により発現する光触媒の酸化作用によってその
光触媒に吸着されている悪臭成分を分解除去することを
特徴とする臭気ガス処理方法。2. An odor gas treatment method for treating an odor gas containing an odor component, wherein the odor gas is introduced into a photocatalyst adsorption tower containing a photocatalyst, and the odor component in the odor gas is adsorbed on the photocatalyst. After that, the photocatalyst formed by adsorbing the malodorous component is introduced into the photocatalytic reactor, and vigorously stirred by the flowing gas introduced into the photocatalytic reactor, and a light source outside the photocatalytic reactor is passed through an optical fiber. Irradiate light to the photocatalyst in the photocatalytic reactor,
An odor gas treatment method comprising decomposing and removing malodorous components adsorbed on a photocatalyst by an oxidizing action of the photocatalyst developed by the irradiation.
を用いて悪臭成分を含む臭気ガスを処理する臭気ガス処
理装置であって、 前記光触媒反応装置が、臭気ガスを導入する臭気ガス導
入口、悪臭成分分解後の処理ガスを排出する処理ガス排
出口、光触媒を供給する光触媒供給口および光触媒を排
出する光触媒排出口を有するハウジングと、このハウジ
ングの外部に設けられる光源と、この光源から前記ハウ
ジング内へ光を導く光ファイバーと、この光ファイバー
を通して光触媒に光を照射して得られる悪臭成分分解後
の処理ガスと光触媒とを分離する濾過フィルターを備え
ることを特徴とする臭気ガス処理装置。3. An odor gas treatment device for treating an odor gas containing a malodorous component using a photocatalyst reaction device containing a photocatalyst, wherein the photocatalyst reaction device has an odor gas inlet for introducing an odor gas, A housing having a processing gas outlet for discharging the processing gas after decomposition of the offensive odor component, a photocatalyst supply port for supplying a photocatalyst, and a photocatalyst outlet for discharging the photocatalyst; a light source provided outside the housing; An odor gas treatment device comprising: an optical fiber for guiding light into the inside; and a filter for separating a photocatalyst from a processing gas after decomposing malodorous components obtained by irradiating the photocatalyst with light through the optical fiber.
と、悪臭成分分解後の処理ガスと光触媒とを分離する分
離装置とを用いて悪臭成分を含む臭気ガスを処理する臭
気ガス処理装置であって、 前記光触媒反応装置が、臭気ガスを導入する臭気ガス導
入口、悪臭成分分解後の処理ガスと光触媒との混合物を
排出する混合物排出口、光触媒を供給する光触媒供給口
および光触媒を排出する光触媒排出口を有するハウジン
グと、このハウジングの外部に設けられる光源と、この
光源から前記ハウジング内へ光を導く光ファイバーを備
え、前記光触媒反応装置の混合物排出口が前記分離装置
に接続されるとともに、この分離装置にて分離された光
触媒を排出する光触媒排出口が前記光触媒反応装置の光
触媒供給口に接続されることを特徴とする臭気ガス処理
装置。4. An odor gas treatment device for treating an odor gas containing an odor component using a photocatalyst reaction device containing a photocatalyst and a separation device for separating the processing gas after decomposition of the odor component and the photocatalyst. The photocatalyst reaction device has an odor gas inlet for introducing an odor gas, a mixture outlet for discharging a mixture of a processing gas and a photocatalyst after decomposing malodorous components, a photocatalyst supply port for supplying a photocatalyst, and a photocatalyst for discharging a photocatalyst. A housing having an outlet, a light source provided outside the housing, and an optical fiber for guiding light from the light source into the housing; and a mixture outlet of the photocatalytic reaction device is connected to the separation device. A photocatalyst discharge port for discharging the photocatalyst separated by the separation device is connected to a photocatalyst supply port of the photocatalytic reaction device; Scan processing apparatus.
と、悪臭成分を吸着した光触媒に光を照射してその悪臭
成分を分解する光触媒反応装置とを用いて悪臭成分を含
む臭気ガスを処理する臭気ガス処理装置であって、 前記光触媒吸着搭が、 臭気ガス導入口と、悪臭成分吸着後の処理ガスを排出す
る処理ガス排出口と、光触媒を供給する光触媒供給口
と、光触媒を排出する光触媒排出口とを備え、 前記光触媒反応装置が、 流動用ガスを導入する流動用ガス導入口、流動用ガスを
排出する流動用ガス排出口、光触媒を供給する光触媒供
給口および光触媒を排出する光触媒排出口を有するハウ
ジングと、このハウジングの外部に設けられる光源と、
この光源から前記ハウジング内へ光を導く光ファイバー
と、前記ハウジング内の光触媒と流動用ガスとを分離す
る濾過フィルターを備え、 前記光触媒反応装置の光触媒排出口が前記光触媒吸着搭
の光触媒供給口に接続されるとともに、前記光触媒吸着
搭の光触媒排出口が前記光触媒反応装置の光触媒供給口
に接続されることを特徴とする臭気ガス処理装置。5. An odor gas containing a malodorous component is treated by using a photocatalyst adsorption tower containing a photocatalyst and a photocatalytic reaction device for irradiating the photocatalyst adsorbing the malodorous component with light to decompose the malodorous component. An odor gas processing apparatus, wherein the photocatalyst adsorption tower comprises: an odor gas inlet, a processing gas outlet for discharging a processing gas after adsorption of malodorous components, a photocatalyst supply port for supplying a photocatalyst, and a photocatalyst for discharging a photocatalyst. An outlet, wherein the photocatalytic reactor comprises: a flowing gas inlet for introducing a flowing gas; a flowing gas outlet for discharging a flowing gas; a photocatalyst supply port for supplying a photocatalyst; and a photocatalyst outlet for discharging a photocatalyst. A housing having an outlet, a light source provided outside the housing,
An optical fiber for guiding light from the light source into the housing, and a filter for separating a photocatalyst and a flowing gas in the housing, wherein a photocatalyst outlet of the photocatalyst reactor is connected to a photocatalyst supply port of the photocatalyst adsorption tower. The odor gas treatment device, wherein a photocatalyst discharge port of the photocatalyst adsorption tower is connected to a photocatalyst supply port of the photocatalytic reaction device.
下部へ移動できる通過孔を有する分散板にて多段に仕切
られてなる多段流動床型の吸着塔で構成される請求項５
に記載の臭気ガス処理装置。6. The photocatalyst adsorption tower is constituted by a multistage fluidized bed type adsorption tower in which a photocatalyst is divided into multistages by a dispersion plate having a passage hole through which a photocatalyst can move from an upper part to a lower part.
The odor gas treatment device according to item 1.
る光触媒排出口に、光触媒中に含まれる煤塵等を除去す
るふるい分器が設けられる請求項５または６に記載の臭
気ガス処理装置。7. The odor gas treatment device according to claim 5, wherein a sieve sorter for removing dust and the like contained in the photocatalyst is provided at a photocatalyst outlet of the housing of the photocatalytic reaction device.
る光照射口に冷却装置が設けられる請求項３〜７のうち
のいずれかに記載の臭気ガス処理装置。8. The odor gas treatment device according to claim 3, wherein a cooling device is provided at a light irradiation port in a housing of the photocatalytic reaction device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000068731A JP2001252530A (en) | 2000-03-13 | 2000-03-13 | Method and apparatus for treating malodorous gas |
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| JP2000068731A JP2001252530A (en) | 2000-03-13 | 2000-03-13 | Method and apparatus for treating malodorous gas |
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|---|---|
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006055821A (en) * | 2004-08-24 | 2006-03-02 | Osada Giken Co Ltd | Method and apparatus for treating gas from waste water tank |
| JP2014522317A (en) * | 2011-07-14 | 2014-09-04 | エンパイア テクノロジー ディベロップメント エルエルシー | Gas purification using photocatalytic particles suspended in vortex |
-
2000
- 2000-03-13 JP JP2000068731A patent/JP2001252530A/en active Pending
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|---|---|---|---|---|
| JP2006055821A (en) * | 2004-08-24 | 2006-03-02 | Osada Giken Co Ltd | Method and apparatus for treating gas from waste water tank |
| JP2014522317A (en) * | 2011-07-14 | 2014-09-04 | エンパイア テクノロジー ディベロップメント エルエルシー | Gas purification using photocatalytic particles suspended in vortex |
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