JP2001246299A - Paste applying method and mounting device - Google Patents

Paste applying method and mounting device

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JP2001246299A
JP2001246299A JP2000061746A JP2000061746A JP2001246299A JP 2001246299 A JP2001246299 A JP 2001246299A JP 2000061746 A JP2000061746 A JP 2000061746A JP 2000061746 A JP2000061746 A JP 2000061746A JP 2001246299 A JP2001246299 A JP 2001246299A
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JP
Japan
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needle
height
camera
substrate
paste
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Application number
JP2000061746A
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Japanese (ja)
Inventor
Takao Watanabe
隆夫 渡辺
Noriyasu Kashima
規安 加島
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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  • Coating Apparatus (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a paste applying method which shows a function to correctly set a position for the tip of a needle even when a syringe or a needle is replaces and also correctly set a focal position for a camera as wall as a mounting device. SOLUTION: A dispenser 11 is moved to a substrate 3 in each of the axial directions X, Y, Z, together with a camera 41 for photographing an image of the surface of the substrate 3, according to data previously taught to a control part 61.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、接着剤、フラック
スなどの各種ぺーストを回路基板などの塗布対象物に塗
布するぺースト塗布方法およびそれを用いた実装装置に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a paste application method for applying various pastes such as an adhesive and a flux to an application object such as a circuit board, and a mounting apparatus using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】回路基板等に各種ペーストを塗布するペ
ースト塗布装置では、ペーストとして用いるポットライ
フが短い樹脂を用いる場合には、比較的小容量(例えば
10cc程度)のシリンジで供給し、シリンジは、汚れ
や詰まりによるトラブルを防止する目的で、通常使い捨
てとして交換している。それらは、例えば、毎日1回程
度の頻度で交換している。また交換の際に、樹脂が封入
された新しいシリンジに新しいニードルを装着してペー
スト供給装置に取り付けている。
2. Description of the Related Art In a paste application apparatus for applying various pastes to a circuit board or the like, when a resin having a short pot life is used as a paste, a relatively small volume (for example, about 10 cc) syringe is supplied. In order to prevent troubles due to dirt and clogging, they are usually replaced as disposable. They are exchanged, for example, about once a day. Also, at the time of replacement, a new needle is attached to a new syringe in which resin is sealed, and the syringe is attached to the paste supply device.

【0003】通常、従来のぺースト供給装置では、基板
に対してのニードル高さの設定は、オペレータがぺース
ト供給へッド部のマイクロメータを手動調整して、基板
に対してのニードル高さを設定するようにしている。
Normally, in a conventional paste supply apparatus, the needle height with respect to the substrate is set manually by an operator by manually adjusting a micrometer of the paste supply head. Is set.

【0004】また、特開平6−106112号公報に記
載されているように、長さの異なるニードルを交換する
場合に、まず、交換に先立ち、基準ニードルを装着して、
先端を基板の上面に合わせてZ軸座標の基準値とし、基
準ニードルと交換するニードルの差をオフセット値と
し、Z軸制御のプログラムデータのZ軸座標値を自動補
正している。なお、ペーストの塗布工程で発生するニー
ドル先端部の接着剤のはみ出し部分の除去は、オペレー
タが随時、綿棒等を使用して手動クリーニングしてい
た。
[0004] Further, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-106112, when exchanging needles having different lengths, first, before the exchange, a reference needle is attached.
The tip is aligned with the upper surface of the substrate and used as a reference value for the Z-axis coordinate, the difference between the reference needle and the needle to be replaced is used as an offset value, and the Z-axis coordinate value of the Z-axis control program data is automatically corrected. In addition, the removal of the adhesive protruding portion at the needle tip generated in the paste application process was manually cleaned by an operator as needed using a cotton swab or the like.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような方法では、通常、ニードルには、数十μmから数百
μmのレべルで長さのばらつきや曲りが存在しているた
め、ニードルの交換後に、ばらつきに応じてニードルの
先端位置が変わり、塗布位置やギャップが変わってしま
うという問題がある。
However, in the above-described method, the needle usually has a variation in length and a bend at a level of several tens μm to several hundred μm. After the replacement, there is a problem that the tip position of the needle changes according to the variation, and the application position and the gap change.

【0006】このため、塗布量のばらつきが問題になら
ない用途では、そのまま塗布作業を継続できるが、電子
部品の組立て等のように精密塗布が要求される場合に
は、ニードルの交換毎にニードル先端位置をマイクロメ
ータへッドなどによる調整機構を用いて製品に何度か試
し塗りをしながら微調整する方法を取らざるをえず、作
業能率が悪い。このように、例えば、1回/日の割合で
この調整作業が必要になるため、作業ロスが大きいばか
りでなく、試し塗りで製品を無駄にするという問題が生
じている。また、高さの異なる塗布対象物に品種を切り
換えする場合、カメラの焦点を合せ直すことが必要にな
る。従来は、カメラの取付け部を調整していたので、作
業に時間がかかるばかりでなく、位置や光学倍率が微妙
に変化し、結果的に塗布位置が変わってしまうという問
題が存在している。本発明はこれらの事情にもとづいて
ずいなされたもので、シリンジやニードルを交換して
も、ニードルの先端位置を正確に設定することができ、
また、カメラの焦点位置も正確に設定できる機能を有す
るぺースト塗布方法、および、その装置を提供すること
を目的としている。
Therefore, the application operation can be continued as it is in an application where the variation of the application amount does not cause a problem. However, when precise application is required such as assembling of an electronic component, the needle tip must be replaced every time the needle is replaced. Using a mechanism for adjusting the position using a micrometer head or the like requires a method of finely adjusting the product while trial-coating the product several times, resulting in poor work efficiency. Thus, for example, since this adjustment work is required once per day, not only is the work loss large, but also there is a problem that the product is wasted in trial coating. In addition, when the type is changed to a coating object having a different height, it is necessary to refocus the camera. Conventionally, since the mounting portion of the camera has been adjusted, there is a problem that not only takes a long time for the operation, but also that the position and the optical magnification slightly change, resulting in a change in the application position. The present invention has been made based on these circumstances, and even if the syringe or the needle is replaced, the tip position of the needle can be accurately set,
It is another object of the present invention to provide a paste coating method having a function of accurately setting the focal position of a camera, and an apparatus therefor.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明による手
段によれば、ニードルが基板の塗布面に接する高さを検
出する塗布面高さ検出工程と、塗布時のニードル高さを
設定するニードル高さ設定工程と、前記ニードルとカメ
ラとのオフセット量を設定するカメラオフセット設定工
程と、前記カメラの焦点が塗布対象物に合う高さを設定
するカメラ高さを設定するカメラ高さ設定工程と、描画
パターンを設定する描画パターン設定工程と、前記カメ
ラによって塗布対象物の位置を認識する認識工程と、前
記オフセット量と前記認識結果に基づいて前記ニードル
をXY方向に位置決めするニードルXY位置決め工程
と、前記塗布面高さと前記ニードル高さ設定値に基づい
て前記ニードルを高さ方向に位置決めするニードル高さ
位置決め工程と、前記描画パターンに基づいて前記ニー
ドルをXY方向に描画しつつぺーストを吐出する塗布工
程とを有することを特微とするぺースト塗布方法であ
る。
According to the first aspect of the present invention, a coating surface height detecting step of detecting a height at which a needle contacts a coating surface of a substrate, and setting a needle height at the time of coating. A needle height setting step, a camera offset setting step of setting an offset amount between the needle and the camera, and a camera height setting step of setting a camera height for setting a height at which a focus of the camera is adjusted to a coating object. A drawing pattern setting step of setting a drawing pattern; a recognition step of recognizing a position of an application target by the camera; and a needle XY positioning step of positioning the needle in the XY directions based on the offset amount and the recognition result. A needle height positioning step of positioning the needle in the height direction based on the application surface height and the needle height set value; While drawing the needle in the XY direction based on the drawing pattern is a paste coating method of wherein there further comprising a coating step of discharging the paste.

【0008】また請求項2の発明による手段によれば、
前記基板が同一品種で、それに対して連続的に所定パタ
ーンを塗布する場合は、最初にティーチングされたデー
タをそのまま用いて制御することを特徴とするペースト
塗布方法である。また請求項3の発明による手段によれ
ば、前記カメラの焦点位置設定後に、前記基板に対して任
意の位置において前記ニードルの捨て打ち動作によって
1点塗布または圧痕付けを行こない、さらに前記カメラ
を前記塗布点または圧痕の位置に移動させて、そのXY
方向の移動量をオフセット量として登録することを特微
とするペースト塗布方法である。また請求項4の発明に
よる手段によれば、基板上の所定個所にニードルからペ
ーストを吐出しながら移動し所定パターンを描画するデ
ィスペンサと、このディスペンサと前記基板の表面を撮
像するカメラとを備えたペースト塗布装置において、前
記ディスペンサと前記カメラは、一体に制御部により予
めこの制御部にティーチングされたデータにもとづい
て、前記基板に対してX、Y、Zの各軸方向に移動させ
られることを特徴とする実装装置である。
According to the second aspect of the present invention,
When the substrates are of the same product type and a predetermined pattern is continuously applied thereto, the paste application method is characterized in that control is performed using the data that has been first taught as it is. Further, according to the means of the invention of claim 3, after the focal position of the camera is set, one point application or indentation is not performed by a discarding operation of the needle at an arbitrary position with respect to the substrate. Move to the position of the application point or indentation, and
This is a paste application method characterized in that a moving amount in a direction is registered as an offset amount. Further, according to the means according to the invention of claim 4, the dispenser which moves while discharging paste from a needle to a predetermined location on the substrate and draws a predetermined pattern, and a camera which images the dispenser and the surface of the substrate are provided. In the paste application device, the dispenser and the camera may be integrally moved by the control unit in the X, Y, and Z axis directions with respect to the substrate based on data previously taught to the control unit. This is a mounting device that is a feature.

【0009】また請求項5の発明による手段によれば、
前記ディスペンサの前記ニードルをシート材に接触させ
るクリーニング機構を有することを特徴とする実装装置
である。
Further, according to the means of the invention of claim 5,
A mounting apparatus comprising a cleaning mechanism for bringing the needle of the dispenser into contact with a sheet material.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、本発明のペースト塗布方法
とこの方法を用いたペースト塗布機構を具える実装装置
についての実施の形態を図面を参照して説明する。図1
は、本発明の実装装置で塗布した一例を示す光電変換装
置の半導体パッケージの断面側面図である。この半導体
パッケージ1は、裏面側にガラス板2が接合された基板
3に、表面側にICチップ4をバンプ5a、5b、5c
…5nを介してフリップチップボンディングにより実装
したしたもので、バンプ5a、5b、5c…5nでの接
合個所をペースト6(例えば、異方性導電ペースト)で
封止し、ICチップ4のバンプ5a、5b、5c…5n
と基板3の回路端子(不図示)の接続とICチップ4を
封止してパッケージングを形成している。なお、基板3
には開口部7が形成されている。図2は、基板へのペー
ストの供給による塗布状況を示す斜視図である。裏面に
ガラス板2が接合された基板3は、後述する実装装置
(不図示)の塗布位置に、キャリア8に載置されて搬送
されてくる。キャリア8には基板3の四隅を固定するガ
イド9a、9b、9c、9dが設けられており、このガ
イド9a、9b、9c、9dで固定された基板3には、
対角位置に位置を認識するための認識マーク10a、1
0bが付与されている。したがって、この位置でカメラ
(不図示)により認識マーク10a、10bの検出で位
置が算出された基板3は、開口部7の周囲の回路端子1
4上にディスペンサ11のニードル12により予め定め
られた所定のパターンを描画してペースト6を塗布す
る。なお、ニードル12は、予め、基板3のニードル高さ
検出位置13の個所で位置が検出されて、塗布時の高さ
が設定されている。次に、本発明の実装装置について説明
する。図3は本発明の実装装置が具えるペースト塗布機
構の模式斜視図であり、図4は実装装置のペースト塗布
機構における基板の位置決め部の側面断面図である。図
1で示した基板3が、図2で示したキャリア8に載置し
た状態で搬送される搬送路20が、一対の搬送レール2
1a、21bにより構成されてる。塗布位置では、基板
3は、ガラス板2の下面をステージ22の上面に設けら
れた真空吸着孔23と、継手24を介して図示しない真
空装置により、ステージ22に真空吸着されている。ス
テージ22は、ブロック25に固定されされ、このブロ
ック25はステージ上下駆動部26に固定されており、
ステージ上下駆動部26はべース板27に固定されてい
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a paste applying method according to the present invention and a mounting apparatus having a paste applying mechanism using the method will be described below with reference to the drawings. FIG.
1 is a cross-sectional side view of a semiconductor package of a photoelectric conversion device showing an example of application by a mounting device of the present invention. This semiconductor package 1 has a substrate 3 with a glass plate 2 bonded on the back side, and an IC chip 4 on the front side with bumps 5a, 5b, 5c.
.. Mounted by flip-chip bonding via 5n, and the joints at the bumps 5a, 5b, 5c... 5n are sealed with a paste 6 (for example, anisotropic conductive paste), and the bumps 5a of the IC chip 4 are formed. , 5b, 5c ... 5n
The circuit is connected to circuit terminals (not shown) of the substrate 3 and the IC chip 4 is sealed to form a packaging. In addition, the substrate 3
Has an opening 7 formed therein. FIG. 2 is a perspective view showing an application state by supplying a paste to a substrate. The substrate 3 having the glass plate 2 bonded to the back surface is placed on a carrier 8 and transported to a coating position of a mounting device (not shown) described later. The carrier 8 is provided with guides 9a, 9b, 9c, 9d for fixing the four corners of the substrate 3, and the substrate 3 fixed by the guides 9a, 9b, 9c, 9d has
Recognition marks 10a, 1 for recognizing positions at diagonal positions
0b is given. Accordingly, at this position, the substrate 3 whose position has been calculated by the detection of the recognition marks 10a and 10b by the camera (not shown) is the circuit terminal 1 around the opening 7.
A predetermined pattern predetermined by the needle 12 of the dispenser 11 is drawn on 4 and the paste 6 is applied. The position of the needle 12 is detected in advance at the position of the needle height detection position 13 of the substrate 3, and the height at the time of application is set. Next, the mounting apparatus of the present invention will be described. FIG. 3 is a schematic perspective view of a paste application mechanism included in the mounting apparatus of the present invention, and FIG. 4 is a side cross-sectional view of a positioning portion of a substrate in the paste application mechanism of the mounting apparatus. The transport path 20 on which the substrate 3 shown in FIG. 1 is transported while being mounted on the carrier 8 shown in FIG.
1a and 21b. At the application position, the substrate 3 is vacuum-sucked on the stage 22 by a vacuum device (not shown) via a vacuum suction hole 23 provided on the upper surface of the stage 22 and a joint 24 on the lower surface of the glass plate 2. The stage 22 is fixed to a block 25, and the block 25 is fixed to a stage vertical drive unit 26,
The stage vertical drive unit 26 is fixed to a base plate 27.

【0011】搬送路20の塗布位置の近傍のベース板2
7上には、置き台28が設けられ、この置き台28の上
には、シート材29が載置され、周囲を枠状の押さえ板
30で固定されている。
The base plate 2 in the vicinity of the application position of the conveyance path 20
A table 28 is provided on 7, and a sheet material 29 is mounted on the table 28, and the periphery thereof is fixed by a frame-shaped pressing plate 30.

【0012】搬送路20の塗布位置の近傍のベース板2
7上の、置き台28が設けられ反対側には、テーブル台
31が設けられている。テーブル台31上にはXテーブ
ル32が設けられ、さらに、このXテーブル32上には
Yテーブル33が設けられている。また、Yテーブル3
3上にはヘッド上下駆動部34が固定されている。この
ヘッド上下駆動部34は搬送路20側の先端部にカム3
5が固定されている。このカム35は、ヘッド上下駆動部
34に内蔵されて設けられたモータ(不図示)により所
定角度回動される。また、ヘッド上下駆動部34は搬送
路20に側に案内面が設けられ、ヘッド上下部37を上
下方向へ直線案内を行なっている。このヘッド上下部3
7は、上部にローラ38が設けられ、ローラ38の下方部
にはカム35を回転させる回転軸(不図示)が貫通する
逃げ孔39が形成されている。つまり、回転軸に固定さ
れたカム35の外周にローラ38が接触している状態に
設定されている。したがって、ヘッド上下部37はカム3
5の回転に応じて所定の変位量ずつ上下方向に移動す
る。ヘッド上下部37の下部にはカメラ41とスライド
ブロック42が固定されている。このスライドブロック
42には、ニードル12の高さ検出センサ43がホルダ
44を介して固定されている。また、スライドブロック
42には恒温ブロック45が固定されている。この恒温
ブロック45には、検出センサ43と係合する検出板4
6が固定され、また、内部にペースト(不図示)を充填
したシリンジ47が着脱自在に装着されている。このシ
リンジ47の先端にはニードル12が固定されている。
なお、シリンジ47の上部は圧力付与手段(不図示)に
連通する管51が接続されている。また、これらの各部
を制御する制御部61は、ニードル高さ検出コントロー
ラ62、ディスぺンサコントローラ63、カメラコント
ローラ64、メインコントローラ65で構成され、それ
ぞれが制御対象部に接続されている。
The base plate 2 in the vicinity of the application position of the transport path 20
A table table 31 is provided on the opposite side of the table 7 on which the placing table 28 is provided. An X table 32 is provided on the table table 31, and a Y table 33 is provided on the X table 32. Also, Y table 3
A head up / down driving unit 34 is fixed on 3. The head vertical drive unit 34 has a cam 3
5 is fixed. The cam 35 is rotated by a predetermined angle by a motor (not shown) provided in the head vertical drive unit 34. The head vertical drive unit 34 is provided with a guide surface on the side of the transport path 20, and linearly guides the head vertical unit 37 in the vertical direction. This head upper and lower part 3
7, a roller 38 is provided at an upper portion, and a relief hole 39 through which a rotating shaft (not shown) for rotating the cam 35 penetrates is formed below the roller 38. That is, the roller 38 is set in a state of being in contact with the outer periphery of the cam 35 fixed to the rotating shaft. Therefore, the head upper and lower portions 37 are
5 in the vertical direction by a predetermined amount of displacement in accordance with the rotation of 5. A camera 41 and a slide block 42 are fixed below the head upper and lower portions 37. A height detection sensor 43 of the needle 12 is fixed to the slide block 42 via a holder 44. A constant temperature block 45 is fixed to the slide block 42. The constant temperature block 45 includes a detection plate 4 that engages with the detection sensor 43.
6, a syringe 47 filled with a paste (not shown) is detachably mounted. The needle 12 is fixed to the tip of the syringe 47.
The upper part of the syringe 47 is connected to a pipe 51 communicating with a pressure applying means (not shown). Further, a control unit 61 for controlling these units includes a needle height detection controller 62, a dispenser controller 63, a camera controller 64, and a main controller 65, each of which is connected to a control target unit.

【0013】次に、この実装装置の作用について、図3
乃至図4および図5に示したフロー図を参照して説明す
る。
Next, the operation of this mounting apparatus will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to the flowcharts shown in FIGS.

【0014】まず、メインコントローラ65に、(イ)
塗布面高さ検出条件、(ロ)ニードル12高さ設定条
件、(ハ)カメラ41オフセット設定条件、(ニ)カメ
ラ41高さ設定条件、(ホ)描画パターン設定条件等の
拘束条件を入力する(S1)。基板3を搭載したキャリ
ア8を塗布位置まで搬送して停止し、この位置で、ステー
ジ22と連結したステージ駆動部26を上昇して、ガラ
ス板22を真空吸着する。次に基板3の認識マーク10
a、10bをカメラ41で撮像し位置認識する(S
2)。
First, (a) the main controller 65
Constraint conditions such as application surface height detection condition, (b) needle 12 height setting condition, (c) camera 41 offset setting condition, (d) camera 41 height setting condition, and (e) drawing pattern setting condition are input. (S1). The carrier 8 carrying the substrate 3 is conveyed to the application position and stopped there. At this position, the stage drive unit 26 connected to the stage 22 is raised to vacuum-suction the glass plate 22. Next, the recognition mark 10 on the substrate 3
a and 10b are imaged by the camera 41 and their positions are recognized (S
2).

【0015】この位置認識結果により、基板3をニード
ル12の高さ検出位置13の位置に移動する(S3)。
ニードル12を移動した位置で、ニードル12を下降さ
せ接触させて基板3の高さ位置を検出する。ニードル1
2の高さ検出は、検出板46が検出センサ43から離間
した変化位置を検出して行なう。基板3に接触したニー
ドル12の高さを基に基板3の上面に対してニードル1
2高さを設定し、その値をディスペンサコントロール6
3に記憶する(S4)。
Based on the position recognition result, the substrate 3 is moved to the position of the height detection position 13 of the needle 12 (S3).
At the position where the needle 12 is moved, the needle 12 is lowered and brought into contact with the needle 12 to detect the height position of the substrate 3. Needle 1
The height detection of 2 is performed by detecting a change position where the detection plate 46 is separated from the detection sensor 43. Based on the height of the needle 12 in contact with the substrate 3, the needle 1
2 Set the height and set the value to the dispenser control 6
3 (S4).

【0016】次に、ニードル12の高さの値から、ニー
ドル12とカメラ41とのオフセット量(ニードル12
とカメラ41のオフセット量はそれぞれ、(S1)にて
設定された条件により算出する)を設定する(S5)。
このカメラ41のオフセット量により、カメラ41の焦
点が基板3の塗布面に合う高さに設定し、その値をカメ
ラコントロール64に記憶させる(S6)。以下で塗布
経路についてのティーチングが終了する。次に基板3の
回路端子14のペースト6を塗布する。すなわち、基板
3の上面にニードル12移動してニードル12を近接方
向に移動させる。設定された高さ分だけ離れるように制
御しながら、(S4)にて設定された高さになった時点
で、基板3からニードル12を離して、ディスぺンサコ
ントローラ63を作動させて、ニードル12からペース
ト6を吐出させて、回路端子14の部分に線引き塗布す
る。その際の直線や曲線引きの塗布速度はあらかじめ設
定した塗布速度で塗布する(S7)。以下同様な作用を
繰り返すことにより順次、所定のパターンの塗布を行な
う。また、複数の同品種の塗布対象物に対して連続して
順次ペーストを塗布する場合は、最初のティーチングで
設定された各条件をそのまま使用して行なう。また、カ
メラオフセット設定の工程では、任意の位置においてニ
ードルの捨て打ち動作によって1点塗布または圧痕付け
を行った後、ニードルと一体となってX、Y移動するカ
メラを、塗布点または圧痕の位置に移動して、そのX、
Y移動量をオフセット量として登録する。
Next, based on the height value of the needle 12, the offset amount between the needle 12 and the camera 41 (the needle 12
And the offset amount of the camera 41 are calculated based on the conditions set in (S1) (S5).
Based on the offset amount of the camera 41, the camera 41 is set to a height at which the focal point of the camera 41 matches the application surface of the substrate 3, and the value is stored in the camera control 64 (S6). In the following, the teaching for the application path ends. Next, the paste 6 of the circuit terminal 14 of the substrate 3 is applied. That is, the needle 12 is moved to the upper surface of the substrate 3 to move the needle 12 in the approaching direction. While controlling so as to separate by the set height, when the height reaches the set height in (S4), the needle 12 is separated from the substrate 3 and the dispenser controller 63 is operated to operate the needle. The paste 6 is discharged from 12 to draw and apply to the circuit terminals 14. At this time, the application speed of the straight or curved line is applied at a preset application speed (S7). Thereafter, by repeating the same operation, application of a predetermined pattern is sequentially performed. When the paste is successively applied to a plurality of application objects of the same type in succession, the conditions set in the first teaching are used as they are. Further, in the camera offset setting process, after a single point application or indentation is performed by a discarding operation of the needle at an arbitrary position, the camera that moves X and Y integrally with the needle is moved to the position of the application point or the indentation. And move to that X,
The Y movement amount is registered as an offset amount.

【0017】また、塗布面高さの検出は、必ずしも塗布
面そのものでなくても、塗布面との高さの差が一定であ
る別の面によっても代用することができる。例えば、基
板を載置するステージの面を検出し、基板の厚さ分を補
正値として加えれば同様の効果が得られる。
In addition, the detection of the height of the application surface is not limited to the application surface itself, but may be performed by another surface having a constant height difference from the application surface. For example, the same effect can be obtained by detecting the surface of the stage on which the substrate is mounted and adding the thickness of the substrate as a correction value.

【0018】また、上述の実施の形態ではシリンジにニ
ードルを付け、空気圧で吐出する方式のディスペンサを
用いたが、これに限らず、例えば、機械的にペーストを送
りだすメカニカル方式のディスペンサを用いることもで
きる。
Further, in the above-described embodiment, a dispenser of a type in which a needle is attached to a syringe and ejected by air pressure is used. However, the present invention is not limited to this. For example, a mechanical type dispenser which mechanically sends out a paste may be used. it can.

【0019】なお、ニードル先端部のはみ出したペース
トのクリーニングは、プログラムにより、あらかじめ設
定した塗布回数を超えた時に、ペーストが転写されやす
いシート材の上面にニードルを移動下降させて、ニード
ルの先端部をシート材に押し付けて、はみ出したペース
トをシート材に接触させてクリーニングする。
The protruding portion of the needle at the tip of the needle is cleaned by moving the needle down to the upper surface of the sheet material on which the paste is easily transferred, when the number of times of application exceeds a preset number of times. Is pressed against the sheet material, and the protruding paste is brought into contact with the sheet material to be cleaned.

【0020】以上に述べたように、本発明では、シリン
ジおよびニードルを交換した際に、ニードルが塗布面に
接する高さを検出することにより、塗布時のニードルの
高さを補正すると共に、ニードル先端とカメラのオフセ
ット量を設定することにより、塗布時のニードルのXY
方向の位置を補正している。したがって、簡単な操作で
ニードルの高さとXY方向の位置を正確に合わせること
ができる。
As described above, according to the present invention, when the syringe and the needle are replaced, the height of the needle at the time of coating is corrected by detecting the height at which the needle contacts the coating surface. By setting the offset amount between the tip and the camera, the XY
The position in the direction is corrected. Therefore, the height of the needle and the position in the XY directions can be accurately adjusted with a simple operation.

【0021】また、それらの動作は、シリンジおよびニ
ードルを交換した際に1回だけ行い、複数の塗布対象物
に対して連続してペーストを塗布する場合は、前回のデ
ータをそのまま用いて行なうことができるので、生産性
が高い。
In addition, these operations are performed only once when the syringe and the needle are replaced, and when the paste is continuously applied to a plurality of objects to be applied, the previous data is used as it is. High productivity.

【0022】また、ニードルと共にカメラをZ軸方向に
移動可能に構成してあるので、塗布対象が高さの異なる
品種の場合でも、それらに対して容易に焦点を合わせる
ことができる。
Further, since the camera is configured to be movable in the Z-axis direction together with the needle, even if the object to be applied is a product having a different height, it is possible to easily focus on the product.

【0023】本実施の太陽にて示したペースト塗布機構
は、ペースト塗布装置として単体として用いる他に、フリ
ップチップボンダやダイボンダ等のマウント機構の前段
に配置して使用することが可能である。
The paste application mechanism shown by the sun according to the present embodiment can be used as a paste application device alone, or can be arranged and used in front of a mount mechanism such as a flip chip bonder or a die bonder.

【0024】[0024]

【発明の効果】本発明では、ペーストを塗布する基板の
高さが変化しても、ニードルの位置を容易に調整するこ
とができるので、常に、ペーストの供給を均一に安定し
て供給することができる。
According to the present invention, the position of the needle can be easily adjusted even if the height of the substrate on which the paste is applied changes, so that the paste can always be supplied uniformly and stably. Can be.

【0025】また、ニードル先端部の接着剤のはみ出し
のクリーニングをプログラム設定により、シート材にニ
ードルの先端を押し付けて自動クリーニングすることが
容易にできるので操作性が向上する。
Further, by setting the program for cleaning the protrusion of the adhesive at the tip of the needle, the tip of the needle can be easily pressed against the sheet material for automatic cleaning, thereby improving the operability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】半導体パッケージの断面側面図。FIG. 1 is a cross-sectional side view of a semiconductor package.

【図2】基板へのペースト塗布状況を示す斜視図。FIG. 2 is a perspective view showing a state of applying a paste to a substrate.

【図3】本発明の実装装置の模式斜視図。FIG. 3 is a schematic perspective view of a mounting device of the present invention.

【図4】実装装置の基板の位置決め部の側面断面図。FIG. 4 is a side sectional view of a positioning portion of a substrate of the mounting apparatus.

【図5】本発明の実装装置のフロー図。FIG. 5 is a flowchart of the mounting apparatus of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…半導体パッケージ、3…基板、6…ペースト、11
…ディスペンサ、12…ニードル、29…シート材、3
4…ヘッド上下駆動部、41…カメラ、47…シリン
ジ、61…制御部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Semiconductor package, 3 ... Substrate, 6 ... Paste, 11
... Dispenser, 12 ... Needle, 29 ... Sheet material, 3
4 head vertical drive unit, 41 camera, 47 syringe, 61 control unit

フロントページの続き Fターム(参考) 4D075 AC06 AC08 AC93 DC21 EA35 4F041 AA05 AB01 BA21 BA38 4F042 AA06 BA08 5E319 CD22 CD25 Continued on front page F term (reference) 4D075 AC06 AC08 AC93 DC21 EA35 4F041 AA05 AB01 BA21 BA38 4F042 AA06 BA08 5E319 CD22 CD25

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ニードルが基板の塗布面に接する高さを
検出する塗布面高さ検出工程と、塗布時のニードル高さ
を設定するニードル高さ設定工程と、前記ニードルとカ
メラとのオフセット量を設定するカメラオフセット設定
工程と、前記カメラの焦点が塗布対象物に合う高さを設
定するカメラ高さを設定するカメラ高さ設定工程と、描
画パターンを設定する描画パターン設定工程と、前記カ
メラによって塗布対象物の位置を認識する認識工程と、
前記オフセット量と前記認識結果に基づいて前記ニード
ルをXY方向に位置決めするニードルXY位置決め工程
と、前記塗布面高さと前記ニードル高さ設定値に基づい
て前記ニードルを高さ方向に位置決めするニードル高さ
位置決め工程と、前記描画パターンに基づいて前記ニー
ドルをXY方向に描画しつつぺーストを吐出する塗布工
程とを有することを特微とするぺースト塗布方法。
1. A coating surface height detection step for detecting a height at which a needle contacts a coating surface of a substrate, a needle height setting step for setting a needle height at the time of coating, and an offset amount between the needle and a camera. A camera offset setting step of setting a camera height setting step of setting a camera height for setting a height at which the focus of the camera matches an object to be coated; a drawing pattern setting step of setting a drawing pattern; A recognition step of recognizing the position of the application object by
A needle XY positioning step of positioning the needle in the XY directions based on the offset amount and the recognition result, and a needle height for positioning the needle in the height direction based on the application surface height and the needle height set value A paste coating method, comprising: a positioning step; and a coating step of discharging a paste while drawing the needle in the XY directions based on the drawing pattern.
【請求項2】 前記基板が同一品種で、それに対して連
続的に所定パターンを塗布する場合は、最初にティーチ
ングされたデータをそのまま用いて制御することを特徴
とする請求項1記載のペースト塗布方法。
2. The paste application according to claim 1, wherein when the substrate is of the same type and a predetermined pattern is continuously applied to the substrate, control is performed using data that has been initially taught as it is. Method.
【請求項3】 前記カメラの焦点位置設定後に、前記基
板に対して任意の位置において前記ニードルの捨て打ち
動作によって1点塗布または圧痕付けを行こない、さら
に前記カメラを前記塗布点または圧痕の位置に移動させ
て、そのXY方向の移動量をオフセット量として登録す
ることを特微とする請求項1記載のペースト塗布方法。
3. After the focal position of the camera is set, one-point application or indentation is not performed by a discarding operation of the needle at an arbitrary position on the substrate, and the camera is moved to the position of the application point or indentation. 2. The paste coating method according to claim 1, wherein the moving amount in the X and Y directions is registered as an offset amount.
【請求項4】 基板上の所定個所にニードルからペース
トを吐出しながら移動し所定パターンを描画するディス
ペンサと、このディスペンサと前記基板の表面を撮像す
るカメラとを備えたペースト塗布装置において、前記デ
ィスペンサと前記カメラは、一体に制御部により予めこ
の制御部にティーチングされたデータにもとづいて、前
記基板に対してX、Y、Zの各軸方向に移動させられる
ことを特徴とする実装装置。
4. A paste application apparatus comprising: a dispenser that moves while discharging paste from a needle to a predetermined location on a substrate to draw a predetermined pattern; and a dispenser and a camera that images a surface of the substrate. And the camera is moved in the X, Y, and Z axis directions with respect to the board based on data that has been previously taught to the control unit by the control unit.
【請求項5】 前記ディスペンサの前記ニードルをシー
ト材に接触させるクリーニング機構を有することを特徴
とする請求項4記載の実装装置。
5. The mounting apparatus according to claim 4, further comprising a cleaning mechanism for bringing said needle of said dispenser into contact with a sheet material.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003061357A1 (en) * 2001-12-27 2003-07-24 New System Srl System to form a layering of electronically-interactive material
JP2008006439A (en) * 2006-06-28 2008-01-17 Top Engineering Co Ltd Head unit of paste dispenser
JP2013188737A (en) * 2012-02-16 2013-09-26 Tdk Corp Liquid material discharge device
WO2013187321A1 (en) * 2012-06-13 2013-12-19 キヤノンマシナリー株式会社 Coating device
KR101388233B1 (en) * 2013-02-06 2014-04-24 한국영상기술(주) Agent dispensing apparatus
JP2015231044A (en) * 2014-06-09 2015-12-21 富士通周辺機株式会社 Device for coating underfill material
JP2016514037A (en) * 2013-02-18 2016-05-19 ノードソン コーポレーションNordson Corporation Automatic position locator for height sensor in dispensing system

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0663471A (en) * 1992-08-25 1994-03-08 Fujitsu Ltd Viscous liquid coating apparatus having cleaning device
JPH09172252A (en) * 1995-12-20 1997-06-30 Oki Electric Ind Co Ltd Solder applicator
JPH09292621A (en) * 1996-04-26 1997-11-11 Ntn Corp Correcting device for liquid crystal substrate and correcting method of the same
JPH1012642A (en) * 1996-06-26 1998-01-16 Toshiba Corp Resin application method and its apparatus

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0663471A (en) * 1992-08-25 1994-03-08 Fujitsu Ltd Viscous liquid coating apparatus having cleaning device
JPH09172252A (en) * 1995-12-20 1997-06-30 Oki Electric Ind Co Ltd Solder applicator
JPH09292621A (en) * 1996-04-26 1997-11-11 Ntn Corp Correcting device for liquid crystal substrate and correcting method of the same
JPH1012642A (en) * 1996-06-26 1998-01-16 Toshiba Corp Resin application method and its apparatus

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003061357A1 (en) * 2001-12-27 2003-07-24 New System Srl System to form a layering of electronically-interactive material
US7757628B2 (en) 2001-12-27 2010-07-20 New System Srl System for depositing electronically interactive liquefied material onto a support surface
US8196544B2 (en) 2001-12-27 2012-06-12 Cesare Fumo System for depositing liquid material onto a substrate
JP2008006439A (en) * 2006-06-28 2008-01-17 Top Engineering Co Ltd Head unit of paste dispenser
JP2013188737A (en) * 2012-02-16 2013-09-26 Tdk Corp Liquid material discharge device
WO2013187321A1 (en) * 2012-06-13 2013-12-19 キヤノンマシナリー株式会社 Coating device
JP2013255892A (en) * 2012-06-13 2013-12-26 Canon Machinery Inc Coating device
TWI507101B (en) * 2012-06-13 2015-11-01 Canon Machinery Inc Coating device
KR101388233B1 (en) * 2013-02-06 2014-04-24 한국영상기술(주) Agent dispensing apparatus
JP2016514037A (en) * 2013-02-18 2016-05-19 ノードソン コーポレーションNordson Corporation Automatic position locator for height sensor in dispensing system
JP2015231044A (en) * 2014-06-09 2015-12-21 富士通周辺機株式会社 Device for coating underfill material

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