JP2001237070A - Organic el element, manufacturing method and manufacturing device of organic el element - Google Patents
Organic el element, manufacturing method and manufacturing device of organic el elementInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、有機EL(エレク
トロルミネセンス)素子に関し、詳しくは、有機化合物
の薄膜に電界を印加して光を放出する素子に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic EL (electroluminescence) device, and more particularly to a device that emits light by applying an electric field to a thin film of an organic compound.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に有機EL素子は、ガラス基板上に
ITOなどの透明電極を形成し、その上に有機アミン系
のホール輸送層、電子導電性を示しかつ強い発光を示す
たとえばAlq3 材からなる有機発光層を積層し、さら
に、MgAgなどの仕事関数の小さい電極を形成した構
造の基本素子としている。2. Description of the Related Art In general, an organic EL device comprises a transparent electrode made of ITO or the like formed on a glass substrate, an organic amine-based hole transporting layer thereon, and, for example, an Alq3 material exhibiting electron conductivity and exhibiting strong light emission. This is a basic element having a structure in which an organic light emitting layer is laminated and an electrode having a small work function such as MgAg is formed.
【0003】これまでに報告されている素子構造として
は、ホール注入電極及び電子注入電極の間に1層または
複数層の有機化合物層が挟まれた構造となっており、有
機化合物層としては、2層構造あるいは3層構造があ
る。これらの有機層、あるいは無機層はいずれも真空蒸
着、またはスパッタリングといった気相堆積法により形
成されている。[0003] The element structure reported so far has a structure in which one or more organic compound layers are interposed between a hole injection electrode and an electron injection electrode. There is a two-layer structure or a three-layer structure. All of these organic layers or inorganic layers are formed by a vapor deposition method such as vacuum evaporation or sputtering.
【0004】このような気相堆積法を利用して、複数の
有機EL素子を有する表示装置を形成しようとする場
合、各画素ないしセグメントを形成するためのマスクが
必要となる。特に、フルカラーディスプレイを形成しよ
うとすると、R,G,Bの各色に対応したマスクが必要
である。When a display device having a plurality of organic EL elements is to be formed by using such a vapor deposition method, a mask for forming each pixel or segment is required. In particular, in order to form a full-color display, a mask corresponding to each of R, G, and B colors is required.
【0005】しかし、ディスプレイのサイズが大きくな
るに従い、使用するマスクも大きくなり、これに見合う
ような非常に大きな製造設備を必要とする。また、大き
なマスクを使用することにより、マスクの撓み、歪みが
生じ、発光部の位置ズレや混色などの問題を生じてしま
う。[0005] However, as the size of the display increases, the size of the mask used also increases, and accordingly, very large manufacturing equipment is required. In addition, the use of a large mask causes the mask to be bent and distorted, which causes problems such as misalignment of the light emitting portion and color mixing.
【0006】一方、特開平10−92576号公報に
は、ポリマー材料を発光層用の材料として用い、これを
溶剤に溶解して塗布法により形成する試みもなされてい
る。しかし、この文献に開示されている方法はスピンコ
ート法により塗布・形成しているため、単一材料でしか
発光層を形成することができず、カラー表示には向いて
いない。On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-92576 discloses an attempt to use a polymer material as a material for a light emitting layer, dissolve the polymer material in a solvent, and form the material by a coating method. However, since the method disclosed in this document is applied and formed by a spin coating method, the light emitting layer can be formed only by a single material, and is not suitable for color display.
【0007】このような欠点を補う方法として、例えば
特開平10−12377号公報では、溶媒に溶解させた
有機材料をインクジェット法により塗布し、発光層を形
成する手法が開示されている。この方法によれば、塗布
法でも比較的構成素子のサイズを小さく形成できるとと
もに、気相堆積法に比べ製造コストを格段に抑えること
ができるとされている。As a method for compensating for such a defect, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-12377 discloses a method in which an organic material dissolved in a solvent is applied by an ink jet method to form a light emitting layer. According to this method, the size of the constituent elements can be made relatively small even by the coating method, and the manufacturing cost can be significantly reduced as compared with the vapor deposition method.
【0008】しかしながら、このようなインクジェット
法を用いた場合、目的とする場所に正確、かつ均一に有
機材料を塗布することが困難である。また、特開平11
−74082号公報には、このような問題を解決するた
めの手段として塗布する場所の周囲に土手を形成する点
が、また特開平11−74076号公報では、シリコン
樹脂型を用いて塗布精度を向上させる点が示されてい
る。しかしながら、これらの手法を用いることとする
と、土手やシリコン樹脂型を形成するための工程が増
え、塗布型の大きな特徴である簡易な設備で、低コスト
に製造できるというメリットが生かし切れない。However, when such an ink jet method is used, it is difficult to apply an organic material accurately and uniformly to a target place. Also, Japanese Unexamined Patent Application Publication No.
Japanese Patent Application Laid-Open No. H07-74082 discloses that a bank is formed around a coating location as a means for solving such a problem. Points for improvement are shown. However, if these methods are used, the number of steps for forming a bank or a silicon resin mold increases, and the advantage of being able to manufacture at low cost with simple equipment, which is a major feature of the coating mold, cannot be fully utilized.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、精度
よく、均一な塗布が可能で、低コストかつ高効率、長寿
命な有機EL素子が得られる製造方法および有機EL素
子を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a manufacturing method and an organic EL device capable of obtaining a low-cost, high-efficiency, and long-life organic EL device capable of performing uniform coating with high accuracy. It is.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】すなわち、上記目的は以
下の構成により達成される。 (1) 一対の電極と、この一対の電極間に少なくとも
発光機能に関与する有機層とを有する有機EL素子の製
造方法であって、前記有機層の少なくとも一層を形成す
るに際し、溶媒中に溶解した有機材料を塗布マスク上か
ら塗布することにより形成する有機EL素子の製造方
法。 (2) スクリーン印刷法、またはスプレー法により塗
布する上記(1)の有機EL素子の製造方法。 (3) 上記(1)または(2)の製造方法により製造
された有機EL素子。 (4) 一対の電極と、この一対の電極間に少なくとも
発光機能に関与する有機層とを有する有機EL素子の製
造装置であって、少なくとも一方の電極が形成されてい
る基板上に、溶媒中に溶解した有機材料を塗布マスク上
から塗布し、前記有機層の少なくとも一層を形成する有
機層形成手段を有する有機EL素子の製造装置。 (5) 前記有機層形成手段は、スクリーン印刷法、ま
たはスプレー法により塗布する上記(4)の有機EL素
子の製造方法。 (6) 上記(4)または(5)の製造方法により製造
された有機EL素子。That is, the above object is achieved by the following constitutions. (1) A method for producing an organic EL device having a pair of electrodes and an organic layer involved in at least a light-emitting function between the pair of electrodes, wherein at least one of the organic layers is dissolved in a solvent. A method for manufacturing an organic EL element, which is formed by applying the prepared organic material from a coating mask. (2) The method for producing an organic EL device according to the above (1), wherein the method is applied by a screen printing method or a spray method. (3) An organic EL device manufactured by the manufacturing method of (1) or (2). (4) An apparatus for manufacturing an organic EL element having a pair of electrodes and an organic layer involved in at least a light emitting function between the pair of electrodes, wherein at least one electrode is formed on a substrate in a solvent. An organic EL device manufacturing apparatus comprising: an organic layer forming means for applying an organic material dissolved in an organic layer from a coating mask to form at least one of the organic layers. (5) The method for producing an organic EL device according to the above (4), wherein the organic layer forming means is applied by a screen printing method or a spray method. (6) An organic EL device manufactured by the manufacturing method of (4) or (5).
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】本発明の有機EL素子の製造方法
は、一対の電極と、この一対の電極間に少なくとも発光
機能に関与する有機層とを有する有機EL素子の製造方
法であって、前記有機層の少なくとも一層を形成するに
際し、溶媒中に溶解した有機材料を塗布マスク上から塗
布することにより形成するものである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The method for manufacturing an organic EL device according to the present invention is a method for manufacturing an organic EL device having a pair of electrodes and an organic layer at least involved in a light emitting function between the pair of electrodes. In forming at least one of the organic layers, the organic layer is formed by applying an organic material dissolved in a solvent from a coating mask.
【0012】このように、塗布マスク上から塗布するこ
とにより、比較的簡単な工程で、精度よく均一に有機材
料を塗布することができ、低コストかつ高効率、長寿命
な有機EL素子が得られる。As described above, by applying from an application mask, an organic material can be applied uniformly and accurately in a relatively simple process, and a low-cost, high-efficiency, and long-life organic EL device can be obtained. Can be
【0013】また、このような製造方法を用いて有機E
L素子を製造する装置として、少なくとも一方の電極が
形成されている基板上に、溶媒中に溶解した有機材料を
塗布マスク上から塗布し、前記有機層の少なくとも一層
を形成する有機層形成手段を有する製造装置が用いられ
る。この場合の塗布方法としては、スクリーン印刷法、
またはスプレー法が好ましい。[0013] In addition, the organic E
As an apparatus for producing an L element, an organic layer forming means for applying an organic material dissolved in a solvent from a coating mask onto a substrate on which at least one electrode is formed, and forming at least one of the organic layers. Is used. In this case, the coating method is a screen printing method,
Alternatively, a spray method is preferred.
【0014】塗布に際して用いられるマスクとしては、
通常、スクリーン印刷等で使用されるメッシュ(網目地
布製)のマスクが好ましい。また、塗布溶液に用いる溶
媒等によりメッシュのマスクが使用できない場合には蒸
着法等で用いられている金属製のマスクを用いてもよ
い。このような金属製のマスクは一般的な加工法、例え
ばレーザー加工法等により容易に加工でき所望のパター
ンを得ることができる。As a mask used for coating,
Usually, a mesh (made of mesh fabric) mask used for screen printing or the like is preferable. Further, when a mesh mask cannot be used due to a solvent or the like used for the coating solution, a metal mask used in an evaporation method or the like may be used. Such a metal mask can be easily processed by a general processing method, for example, a laser processing method, and a desired pattern can be obtained.
【0015】有機層を形成するための塗布方法として
は、細いスリットから一定量の塗布液が押し出され塗布
を行う方法、スクリーン印刷のように必要量が塗布開始
の場所に最初に吐出され、これをスキージで伸ばす方
法、ノズルから霧状の塗布液を塗布する方法、インクジ
ェット法等を挙げることができ、これらのなかでもスク
リーン印刷法、インクジェット法が好ましい。As a coating method for forming an organic layer, there is a method in which a predetermined amount of a coating liquid is extruded from a narrow slit to perform coating, or a required amount is first discharged to a place where coating is started as in screen printing. , A method of applying a mist-like coating liquid from a nozzle, an ink jet method, etc., of which a screen printing method and an ink jet method are preferable.
【0016】塗布液を噴霧したり、インクジェット法を
用いる場合、複数のノズルから噴霧、ないし吐出させる
ことにより、成膜スピードを向上させることができる。
また、細かいノズルを一列に並べて、ライン型のノズル
としてもよい。When a coating liquid is sprayed or an ink jet method is used, the film forming speed can be improved by spraying or discharging from a plurality of nozzles.
Further, fine nozzles may be arranged in a line to form a line type nozzle.
【0017】また、基板ないし有機EL構造体とマスク
とは接触していても非接触であってもよいが、マスクの
位置ずれを考慮すると接触している方が望ましい。マス
クと、基板ないし有機EL構造体とが接触する位置とし
ては、非表示部分、つまり電極取り出し部分や、基板−
封止板の貼り合わせのための糊代部分など、直接有機E
L構造体と接触しない位置が好ましい。また、この部分
に基板ないし有機EL構造体とマスクとの距離を一定に
保つためのスペーサや、ストッパー構造を設けてもよ
い。The substrate or the organic EL structure and the mask may be in contact with or not in contact with each other, but it is preferable that the substrate or the organic EL structure be in contact with the mask in consideration of positional deviation. The position where the mask is in contact with the substrate or the organic EL structure may be a non-display portion, that is, an electrode extraction portion or a substrate.
Direct organic E, such as a margin for gluing the sealing plate
A position not in contact with the L structure is preferable. Further, a spacer or a stopper structure for keeping a constant distance between the substrate or the organic EL structure and the mask may be provided in this portion.
【0018】マスクの開口面積は、基板ないし有機EL
構造体を真上からみたときの塗布必要面積(塗布予定領
域)より、僅かに小さくなるようにするとよい。必要面
積と同じか、これより大きくすると、隣の材料との混合
が生じたりして、所望の発色が得られない場合がある。
この場合、好ましくは必要面積の1%以上、より好まし
くは5%〜10%程度小さくするとよい。マスクの開口
面積が小さすぎても、発光面積が縮小してしまい、所望
の発光輝度が得られなくなる場合がある。The opening area of the mask is determined by the substrate or organic EL
It is preferable that the area is slightly smaller than the area required for application (area to be applied) when the structure is viewed from directly above. If the area is equal to or larger than the required area, a desired color may not be obtained due to mixing with the adjacent material.
In this case, it is preferable to reduce the required area by 1% or more, more preferably by about 5% to 10%. If the opening area of the mask is too small, the light emitting area may be reduced, and a desired light emission luminance may not be obtained.
【0019】本発明において、有機層を形成するための
有機材料としては、一般に有機EL素子に用いられてい
るような蛍光材料、電荷輸送材料(電子輸送性材料とホ
ール輸送性材料の総称である)などを用いることができ
る。In the present invention, as an organic material for forming an organic layer, a fluorescent material and a charge transporting material (generally referring to an electron transporting material and a hole transporting material) which are generally used for an organic EL device are used. ) Can be used.
【0020】例えば、溶解性の高い高分子蛍光体を用い
た発光層や、高分子蛍光体と電荷輸送材料との混合発光
層、あるいはこのような発光層と電子注入電極(陰極)
との間に電子注入輸送性材料を含有する電子注入輸送層
を有していたり、発光層とホール注入電極の間にホール
注入輸送性材料を含有するホール注入輸送層を有してい
てもよい。また、これら電子注入輸送層、ホール注入輸
送層に代えて、無機材料による高抵抗の電子注入輸送層
や、ホール注入輸送層を有していてもよい。For example, a light emitting layer using a polymer fluorescent substance having high solubility, a mixed light emitting layer of a polymer fluorescent substance and a charge transporting material, or such a light emitting layer and an electron injection electrode (cathode)
May have an electron injection / transport layer containing an electron injection / transport material, or may have a hole injection / transport layer containing a hole injection / transport material between a light emitting layer and a hole injection electrode. . Further, instead of the electron injection / transport layer and the hole injection / transport layer, a high resistance electron injection / transport layer or a hole injection / transport layer made of an inorganic material may be provided.
【0021】また、発光層は1層であっても2層以上あ
ってもよく、発光層と電荷輸送層で複数層を形成してい
てもよい。さらに、発光層には、高分子蛍光材料以外
に、下記の蛍光材料、電荷輸送性材料を含有していても
よい。また、前記高分子蛍光体および/または電荷輸送
材料を高分子化合物に分散させてもよい。The light emitting layer may be a single layer or two or more layers, and a plurality of light emitting layers and a charge transport layer may be formed. Further, the light emitting layer may contain the following fluorescent material and charge transporting material in addition to the polymer fluorescent material. Further, the polymeric fluorescent substance and / or the charge transport material may be dispersed in a polymeric compound.
【0022】本発明の高分子蛍光体と共に使用できる既
知の発光材料としては特に限定されないが、例えば、ナ
フタレン誘導体、アントラセンおよびその誘導体、ペリ
レンおよびその誘導体、ポリメチン系、キサンテン系、
クマリン系、シアニン系などの色素類、8−ヒドロキシ
キノリンおよびその誘導体の金属錯体、芳香族アミン、
テトラフェニルシクロペンタジエンおよびその誘導体、
テトラフェニルブタジエンおよびその誘導体などを用い
ることができる。具体的には、例えば、特開昭57−5
1781号、同59−194393号公報に記載されて
いるもの等、公知のものが使用可能である。Known light-emitting materials that can be used together with the polymeric fluorescent substance of the present invention are not particularly limited, and include, for example, naphthalene derivatives, anthracene and its derivatives, perylene and its derivatives, polymethine, xanthene,
Coumarin-based, cyanine-based dyes, metal complexes of 8-hydroxyquinoline and its derivatives, aromatic amines,
Tetraphenylcyclopentadiene and derivatives thereof,
Tetraphenylbutadiene and derivatives thereof can be used. Specifically, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-5
Known ones such as those described in JP-A Nos. 1781 and 59-194393 can be used.
【0023】本発明に使用することのできる電荷輸送性
材料としては、種々の電子輸送性材料、ホール輸送性材
料を用いることができ、特に限定されるものではない。As the charge transporting material that can be used in the present invention, various electron transporting materials and hole transporting materials can be used, and there is no particular limitation.
【0024】ホール輸送性材料としては、ピラゾリン誘
導体、アリールアミン誘導体、スチルペン誘導体、トリ
フェニルジアミン誘導体等を挙げることができる。Examples of the hole transporting material include pyrazoline derivatives, arylamine derivatives, stilpene derivatives, triphenyldiamine derivatives and the like.
【0025】電子輸送性材料としては、オキサジアゾー
ル誘導体、アントラキノジメタンおよびその誘導体、ベ
ンゾキノンおよびその誘導体、ナフトキノンおよびその
誘導体、アントラキノンおよびその誘導体、テトラシア
ノアンスラキノジメタンおよびその誘導体、フルオレン
およびその誘導体、ジフェニルジシアノエチレンおよび
その誘導体、ジフェノキノン誘導体、8−ヒドロキシキ
ノリンおよびその誘導体等の金属錯体等を挙げることが
できる。Examples of the electron transporting material include oxadiazole derivatives, anthraquinodimethane and its derivatives, benzoquinone and its derivatives, naphthoquinone and its derivatives, anthraquinone and its derivatives, tetracyanoanthraquinodimethane and its derivatives, fluorene and its derivatives. Metal complexes such as derivatives thereof, diphenyldicyanoethylene and derivatives thereof, diphenoquinone derivatives, and 8-hydroxyquinoline and derivatives thereof can be given.
【0026】具体的には、特開昭63−70257号公
報、同63−175860号公報、特開平2−1353
59号公報、同2−135361号公報、同2−209
988号公報、同3−37992号公報、同3−152
184号公報に記載されているものなどを挙げることが
できる。Specifically, JP-A-63-70257, JP-A-63-175860, and JP-A-2-1353
Nos. 59, 2-135361, 2-209
988, 3-37992, 3-152
No. 184, for example.
【0027】特にホール輸送性材料としては4,4−ビ
ス(N(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ)
ビフェニル、電子輸送性材料としては2−(4−ビフェ
ニリル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,
4−オキサジアゾール、ベンゾキノン、アントラキノ
ン、トリス(8−キノリノール)アルミニウムが好まし
い。Particularly, as a hole transporting material, 4,4-bis (N (3-methylphenyl) -N-phenylamino)
Biphenyl and 2- (4-biphenylyl) -5- (4-t-butylphenyl) -1,3,3 as an electron transporting material
4-oxadiazole, benzoquinone, anthraquinone, tris (8-quinolinol) aluminum are preferred.
【0028】これらのうち、電子輸送性の化合物とホー
ル輸送性の化合物のいずれか一方、または両方を同時に
使用するとよい。これらは単独で用いてもよいし、混合
して用いてもよい。Of these, one or both of the electron transporting compound and the hole transporting compound may be used simultaneously. These may be used alone or as a mixture.
【0029】電荷輸送材料の使用量は、使用する化合物
の種類などにより異なるので、十分な成膜性と発光特性
を阻害しない範囲で最適な添加量を決めればよい。通
常、蛍光材料(発光材料)に対して1〜40質量%であ
り、より好ましくは2〜30質量%である。The amount of the charge transporting material varies depending on the kind of the compound used and the like. Therefore, the optimum amount of the charge transporting material may be determined within a range that does not impair the sufficient film-forming property and the light emitting characteristics. Usually, it is 1 to 40% by mass, more preferably 2 to 30% by mass, based on the fluorescent material (light emitting material).
【0030】また、有機層として上記の発光層以外に電
子注入輸送層、ホール注入輸送層などを有していてもよ
い。有機材料からなる電子注入輸送層、ホール注入輸送
層に用いられる電子輸送性材料、ホール輸送性材料は上
記の材料のなかから、発光層や電極等との関係で好適な
ものを用いればよい。The organic layer may have an electron injection / transport layer, a hole injection / transport layer, etc. in addition to the light emitting layer. The electron transporting material and the hole transporting material used for the electron injecting and transporting layer and the hole injecting and transporting layer made of an organic material may be any of the above-mentioned materials that are suitable in relation to the light emitting layer, the electrode, and the like.
【0031】上記高分子蛍光体を用いた場合の発光層の
膜厚としては0.5nm〜10μm 、好ましくは1nm〜1
μm である。電流密度を上げて発光効率を上げるために
は、10〜500nmの範囲が好ましい。なお、塗布法に
より薄膜化した場合には、溶媒を除去するため、減圧下
あるいは不活性雰囲気下、30〜200℃、好ましくは
60〜100℃の温度で加熱乾燥することが望ましい。
このような、加熱乾燥工程を必要とする場合、下記に示
す無機の電荷注入層を電極との間に形成することが好ま
しい。When the above polymer fluorescent substance is used, the thickness of the light emitting layer is 0.5 nm to 10 μm, preferably 1 nm to 1 μm.
μm. In order to increase the current density and the luminous efficiency, the range of 10 to 500 nm is preferable. When the film is formed into a thin film by a coating method, it is desirable to heat and dry at a temperature of 30 to 200 ° C., preferably 60 to 100 ° C. under reduced pressure or an inert atmosphere in order to remove the solvent.
When such a heating and drying step is required, it is preferable to form an inorganic charge injection layer shown below between the electrodes.
【0032】また、電荷注入輸送層を発光層の下層に形
成する場合、発光層の形成に加熱重合工程を要するとき
は、ある程度の耐熱性が必要となる。この場合、好まし
くはガラス転移温度が200℃以上、より好ましくは3
00℃以上、特に350℃以上の化合物が好ましい。When the charge injection / transport layer is formed below the light emitting layer, a certain degree of heat resistance is required when a heat polymerization step is required for forming the light emitting layer. In this case, the glass transition temperature is preferably 200 ° C. or higher, more preferably 3 ° C.
Compounds having a temperature of at least 00 ° C, especially at least 350 ° C, are preferred.
【0033】有機のホール注入輸送層の厚さおよび電子
注入輸送層の厚さは、特に制限されるものではなく、形
成方法によっても異なるが、通常5〜500nm程度、特
に10〜300nmとすることが好ましい。ホールの注入
層と輸送層とを設ける場合は、注入層は1nm以上、輸送
層は1nm以上とするのが好ましい。このときの注入層、
輸送層の厚さの上限は、通常、注入層で500nm程度、
輸送層で500nm程度である。The thickness of the organic hole injecting and transporting layer and the thickness of the electron injecting and transporting layer are not particularly limited, and vary depending on the forming method, but are usually about 5 to 500 nm, especially 10 to 300 nm. Is preferred. When a hole injection layer and a transport layer are provided, it is preferable that the thickness of the injection layer is 1 nm or more and the thickness of the transport layer is 1 nm or more. The injection layer at this time,
The upper limit of the thickness of the transport layer is usually about 500 nm in the injection layer,
The thickness is about 500 nm in the transport layer.
【0034】本発明の有機層形成に用いられる溶媒とし
ては、有機材料が溶解し、塗布に際して障害が生じない
ものであれば特に限定されるものではない。具体的に
は、アルコール系、炭化水素系、ケトン系、エーテル系
等一般に用いられているものを使用することができる。
なかでも、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタ
ン、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレンなどが好
ましい。蛍光体の構造や分子量にもよるが、通常はこれ
らの溶媒に0.1質量%以上溶解させることができる。The solvent used for forming the organic layer of the present invention is not particularly limited as long as the organic material dissolves and does not cause any trouble during coating. Specifically, those generally used such as alcohols, hydrocarbons, ketones, and ethers can be used.
Among them, chloroform, methylene chloride, dichloroethane, tetrahydrofuran, toluene, xylene and the like are preferable. Although it depends on the structure and molecular weight of the phosphor, it can be usually dissolved in these solvents in an amount of 0.1% by mass or more.
【0035】陰電極(電子注入電極)は、無機電子注入
層等電子注入層との組み合わせでは、低仕事関数で電子
注入性を有している必要がないため、特に限定される必
要はなく、通常の金属を用いることができる。なかで
も、導電率や扱い易さの点で、Al,Ag,In,T
i,Cu,Au,Mo,W,Pt,PdおよびNi、特
にAl,Agから選択される1種または2種等の金属元
素が好ましい。The negative electrode (electron injection electrode) does not need to be particularly limited because it does not need to have a low work function and an electron injection property when combined with an electron injection layer such as an inorganic electron injection layer. Normal metals can be used. Among them, Al, Ag, In, T in terms of conductivity and ease of handling.
One, two or more metal elements selected from i, Cu, Au, Mo, W, Pt, Pd and Ni, particularly Al and Ag are preferable.
【0036】これら陰電極薄膜の厚さは、電子を高抵抗
の無機電子注入輸送層に与えることのできる一定以上の
厚さとすれば良く、50nm以上、好ましくは100nm以
上とすればよい。また、その上限値には特に制限はない
が、通常膜厚は50〜500nm程度とすればよい。The thickness of the negative electrode thin film may be a certain thickness or more that can provide electrons to the high-resistance inorganic electron injecting and transporting layer, and may be 50 nm or more, preferably 100 nm or more. Although the upper limit is not particularly limited, the film thickness may be generally about 50 to 500 nm.
【0037】また、電子注入電極として必要に応じて下
記のものを用いてもよい。例えば、K、Li、Na、M
g、La、Ce、Ca、Sr、Ba、Sn、Zn、Zr
等の金属元素単体、または安定性を向上させるためにそ
れらを含む2成分、3成分の合金系、例えばAg・Mg
(Ag:0.1〜50at%)、Al・Li(Li:0.
01〜14at%)、In・Mg(Mg:50〜80at
%)、Al・Ca(Ca:0.01〜20at%)、Li
F(F:0.01〜40at%)、Li2O等が挙げられ
る。The following may be used as the electron injection electrode, if necessary. For example, K, Li, Na, M
g, La, Ce, Ca, Sr, Ba, Sn, Zn, Zr
Or a two-component or three-component alloy system containing them for improving stability, for example, Ag.Mg.
(Ag: 0.1 to 50 at%), Al.Li (Li: 0.
01 to 14 at%), In.Mg (Mg: 50 to 80 at%)
%), Al.Ca (Ca: 0.01 to 20 at%), Li
F (F: 0.01~40at%), Li 2 O , and the like.
【0038】電子注入電極薄膜の厚さは、電子注入を十
分行える一定以上の厚さとすれば良く、0.1nm以上、
好ましくは0.5nm以上、特に1nm以上とすればよい。
また、その上限値には特に制限はないが、通常膜厚は1
〜500nm程度とすればよい。電子注入電極の上には、
さらに補助電極(保護電極)を設けてもよい。The thickness of the electron injecting electrode thin film may be a certain thickness or more for sufficiently injecting electrons.
The thickness is preferably 0.5 nm or more, particularly 1 nm or more.
The upper limit is not particularly limited.
It may be about 500 nm. On the electron injection electrode,
Further, an auxiliary electrode (protection electrode) may be provided.
【0039】補助電極の厚さは、電子注入効率を確保
し、水分や酸素あるいは有機溶媒の進入を防止するた
め、一定以上の厚さとすればよく、好ましくは50nm以
上、さらには100nm以上、特に100〜500nmの範
囲が好ましい。補助電極層が薄すぎると、その効果が得
られず、また、補助電極層の段差被覆性が低くなってし
まい、端子電極との接続が十分ではなくなる。一方、補
助電極層が厚すぎると、補助電極層の応力が大きくなる
ため、ダークスポットの成長速度が速くなってしまう等
といった弊害が生じてくる。The thickness of the auxiliary electrode may be a certain thickness or more, preferably 50 nm or more, more preferably 100 nm or more, in order to secure electron injection efficiency and to prevent entry of moisture, oxygen or an organic solvent. A range from 100 to 500 nm is preferred. If the auxiliary electrode layer is too thin, the effect cannot be obtained, and the step coverage of the auxiliary electrode layer is reduced, and the connection with the terminal electrode is not sufficient. On the other hand, if the auxiliary electrode layer is too thick, the stress of the auxiliary electrode layer increases, which causes adverse effects such as an increase in the growth rate of dark spots.
【0040】補助電極は、組み合わせる電子注入電極の
材質により最適な材質を選択して用いればよい。例え
ば、電子注入効率を確保することを重視するのであれば
Al等の低抵抗の金属を用いればよく、封止性を重視す
る場合には、TiN等の金属化合物を用いてもよい。As the auxiliary electrode, an optimum material may be selected and used depending on the material of the electron injection electrode to be combined. For example, if importance is placed on ensuring electron injection efficiency, a low-resistance metal such as Al may be used, and if importance is placed on sealing properties, a metal compound such as TiN may be used.
【0041】電子注入電極と補助電極とを併せた全体の
厚さとしては、特に制限はないが、通常50〜500nm
程度とすればよい。The total thickness of the electron injection electrode and the auxiliary electrode is not particularly limited, but is usually 50 to 500 nm.
It should be about the degree.
【0042】ホール注入電極材料は、高抵抗の無機ホー
ル注入輸送層、または有機のホール注入輸送層へホール
を効率よく注入することのできるものが好ましく、仕事
関数4.5eV〜5.5eVの物質が好ましい。具体的に
は、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、亜鉛ドープ酸
化インジウム(IZO)、酸化インジウム(In
2O3)、酸化スズ(SnO2 )および酸化亜鉛(Zn
O)のいずれかを主組成としたものが好ましい。これら
の酸化物はその化学量論組成から多少偏倚していてもよ
い。In2 O3 に対するSnO2 の混合比は、1〜20
wt%、さらには5〜12wt%が好ましい。また、IZO
でのIn2 O3 に対するZnOの混合比は、通常、12
〜32wt%程度である。The hole injecting electrode material is preferably a material capable of efficiently injecting holes into a high-resistance inorganic hole injecting and transporting layer or an organic hole injecting and transporting layer, and has a work function of 4.5 eV to 5.5 eV. Is preferred. Specifically, tin-doped indium oxide (ITO), zinc-doped indium oxide (IZO), indium oxide (In
2 O 3 ), tin oxide (SnO 2 ) and zinc oxide (Zn
O) having a main composition of either of them is preferable. These oxides may deviate somewhat from their stoichiometric composition. The mixing ratio of SnO 2 to In 2 O 3 is 1 to 20.
wt%, more preferably 5 to 12 wt%. Also, IZO
The mixing ratio of ZnO to In 2 O 3 is usually 12
About 32% by weight.
【0043】ホール注入電極は、仕事関数を調整するた
め、酸化シリコン(SiO2 )を含有していてもよい。
酸化シリコン(SiO2 )の含有量は、ITOに対する
SiO2 の mol比で0.5〜10%程度が好ましい。S
iO2 を含有することにより、ITOの仕事関数が増大
する。The hole injection electrode may contain silicon oxide (SiO 2 ) to adjust the work function.
The content of silicon oxide (SiO 2 ) is preferably about 0.5 to 10% by mol ratio of SiO 2 to ITO. S
The inclusion of iO 2 increases the work function of ITO.
【0044】光を取り出す側の電極は、発光波長帯域、
通常400〜700nm、特に各発光光に対する光透過率
が50%以上、さらには80%以上、特に90%以上で
あることが好ましい。透過率が低くなりすぎると、発光
層からの発光自体が減衰され、発光素子として必要な輝
度を得難くなってくる。The electrode on the light extraction side has an emission wavelength band,
The light transmittance is usually 400 to 700 nm, particularly preferably 50% or more, more preferably 80% or more, and particularly preferably 90% or more for each emitted light. If the transmittance is too low, the light emission itself from the light emitting layer is attenuated, and it becomes difficult to obtain the luminance required for the light emitting element.
【0045】電極の厚さは、50〜500nm、特に50
〜300nmの範囲が好ましい。また、その上限は特に制
限はないが、あまり厚いと透過率の低下や剥離などの心
配が生じる。厚さが薄すぎると、十分な効果が得られ
ず、製造時の膜強度等の点でも問題がある。The thickness of the electrode is 50 to 500 nm, especially 50
The range of -300 nm is preferred. The upper limit is not particularly limited. However, if the thickness is too large, there is a fear that the transmittance is reduced or the layer is peeled off. If the thickness is too small, a sufficient effect cannot be obtained, and there is a problem in film strength at the time of production and the like.
【0046】さらに、素子の有機層や電極の劣化を防ぐ
ために、素子上を封止板等により封止することが好まし
い。封止板は、湿気の浸入を防ぐために、接着性樹脂層
を用いて、封止板を接着し密封する。封止ガスは、A
r、He、N2 等の不活性ガス等が好ましい。また、こ
の封止ガスの水分含有量は、100ppm 以下、より好ま
しくは10ppm 以下、特には1ppm 以下であることが好
ましい。この水分含有量に下限値は特にないが、通常
0.1ppm 程度である。Further, in order to prevent deterioration of the organic layers and electrodes of the device, it is preferable to seal the device with a sealing plate or the like. The sealing plate adheres and seals the sealing plate using an adhesive resin layer in order to prevent moisture from entering. The sealing gas is A
An inert gas such as r, He, and N 2 is preferable. Further, the moisture content of the sealing gas is preferably 100 ppm or less, more preferably 10 ppm or less, and particularly preferably 1 ppm or less. Although there is no particular lower limit for the water content, it is usually about 0.1 ppm.
【0047】封止板の材料としては、好ましくは平板状
であって、ガラスや石英、樹脂等の透明ないし半透明材
料が挙げられるが、特にガラスが好ましい。このような
ガラス材として、コストの面からアルカリガラスが好ま
しいが、この他、ソーダ石灰ガラス、鉛アルカリガラ
ス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、シリカ
ガラス等のガラス組成のものも好ましい。特に、ソーダ
ガラスで、表面処理の無いガラス材が安価に使用でき、
好ましい。封止板としては、ガラス板以外にも、金属
板、プラスチック板等を用いることもできる。The material of the sealing plate is preferably a flat plate, and may be a transparent or translucent material such as glass, quartz, and resin. Glass is particularly preferred. As such a glass material, an alkali glass is preferable from the viewpoint of cost, and in addition, a glass composition such as soda lime glass, lead alkali glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, and silica glass is also preferable. In particular, soda glass, a glass material without surface treatment can be used at low cost,
preferable. As the sealing plate, other than a glass plate, a metal plate, a plastic plate, or the like can be used.
【0048】封止板は、スペーサーを用いて高さを調整
し、所望の高さに保持してもよい。スペーサーの材料と
しては、樹脂ビーズ、シリカビーズ、ガラスビーズ、ガ
ラスファイバー等が挙げられ、特にガラスビーズ等が好
ましい。スペーサーは、通常、粒径の揃った粒状物であ
るが、その形状は特に限定されるものではなく、スペー
サーとしての機能に支障のないものであれば種々の形状
であってもよい。その大きさとしては、円換算の直径が
1〜20μm 、より好ましくは1〜10μm 、特に2〜
8μm が好ましい。このような直径のものは、粒長10
0μm 以下程度であることが好ましく、その下限は特に
規制されるものではないが、通常直径と同程度以上であ
る。The height of the sealing plate may be adjusted by using a spacer and maintained at a desired height. Examples of the material of the spacer include resin beads, silica beads, glass beads, and glass fibers, and glass beads are particularly preferable. The spacer is usually a granular material having a uniform particle size, but the shape is not particularly limited, and may be various shapes as long as it does not hinder the function as the spacer. As the size, the diameter in terms of a circle is 1 to 20 μm, more preferably 1 to 10 μm, and especially 2 to 20 μm.
8 μm is preferred. Those having such a diameter have a grain length of 10
It is preferably about 0 μm or less, and the lower limit is not particularly limited, but is usually about the same as or larger than the diameter.
【0049】なお、封止板に凹部を形成した場合には、
スペーサーは使用しても、使用しなくてもよい。使用す
る場合の好ましい大きさとしては、前記範囲でよいが、
特に2〜8μm の範囲が好ましい。When a recess is formed in the sealing plate,
Spacers may or may not be used. The preferred size when used is within the above range,
Particularly, the range of 2 to 8 μm is preferable.
【0050】スペーサーは、予め封止用接着剤中に混入
されていても、接着時に混入してもよい。封止用接着剤
中におけるスペーサーの含有量は、好ましくは0.01
〜30質量%、より好ましくは0.1〜5質量%であ
る。The spacer may be mixed in the sealing adhesive in advance, or may be mixed at the time of bonding. The content of the spacer in the sealing adhesive is preferably 0.01
-30% by mass, more preferably 0.1-5% by mass.
【0051】接着剤としては、安定した接着強度が保
て、気密性が良好なものであれば特に限定されるもので
はないが、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ
樹脂接着剤を用いることが好ましい。The adhesive is not particularly limited as long as it can maintain stable adhesive strength and has good airtightness, but it is preferable to use a cationic curing type ultraviolet curing epoxy resin adhesive. .
【0052】本発明において、有機EL構造体を形成す
る基板としては、非晶質基板たとえばガラス、石英な
ど、結晶基板たとえば、Si、GaAs、ZnSe、Z
nS、GaP、InPなどがあげられ、またこれらの結
晶基板に結晶質、非晶質あるいは金属のバッファ層を形
成した基板も用いることができる。また金属基板として
は、Mo、Al、Pt、Ir、Au、Pdなどを用いる
ことができ、好ましくはガラス基板が用いられる。基板
は、光取り出し側となる場合、上記電極と同様な光透過
性を有することが好ましい。In the present invention, the substrate on which the organic EL structure is formed is an amorphous substrate such as glass or quartz, or a crystalline substrate such as Si, GaAs, ZnSe, or Z.
Examples thereof include nS, GaP, and InP, and a substrate in which a crystalline, amorphous, or metal buffer layer is formed on these crystalline substrates can also be used. As the metal substrate, Mo, Al, Pt, Ir, Au, Pd, or the like can be used, and a glass substrate is preferably used. When the substrate is on the light extraction side, it is preferable that the substrate has the same light transmittance as the above-mentioned electrodes.
【0053】さらに、本発明素子を、平面上に多数並べ
てもよい。平面上に並べられたそれぞれの素子の発光色
を変えて、カラーのディスプレーにすることができる。Further, a large number of the elements of the present invention may be arranged on a plane. By changing the emission color of each element arranged on a plane, a color display can be obtained.
【0054】基板に色フィルター膜や蛍光性物質を含む
色変換膜、あるいは誘電体反射膜を用いて発光色をコン
トロールしてもよい。The emission color may be controlled by using a color filter film, a color conversion film containing a fluorescent substance, or a dielectric reflection film on the substrate.
【0055】色フィルター膜には、液晶ディスプレイ等
で用いられているカラーフィルターを用いれば良いが、
有機EL素子の発光する光に合わせてカラーフィルター
の特性を調整し、取り出し効率・色純度を最適化すれば
よい。As the color filter film, a color filter used in a liquid crystal display or the like may be used.
The characteristics of the color filter may be adjusted in accordance with the light emitted from the organic EL element to optimize the extraction efficiency and the color purity.
【0056】また、EL素子材料や蛍光変換層が光吸収
するような短波長の外光をカットできるカラーフィルタ
ーを用いれば、素子の耐光性・表示のコントラストも向
上する。If a color filter capable of cutting off short-wavelength external light that is absorbed by the EL element material or the fluorescence conversion layer is used, the light resistance of the element and the display contrast are improved.
【0057】また、誘電体多層膜のような光学薄膜を用
いてカラーフィルターの代わりにしても良い。Further, an optical thin film such as a dielectric multilayer film may be used instead of the color filter.
【0058】蛍光変換フィルター膜は、EL発光の光を
吸収し、蛍光変換膜中の蛍光体から光を放出させること
で、発光色の色変換を行うものであるが、組成として
は、バインダー、蛍光材料、光吸収材料の三つから形成
される。The fluorescent conversion filter film absorbs the EL light and emits light from the phosphor in the fluorescent conversion film to convert the color of the emitted light. It is formed from a fluorescent material and a light absorbing material.
【0059】蛍光材料は、基本的には蛍光量子収率が高
いものを用いれば良く、EL発光波長域に吸収が強いこ
とが望ましい。実際には、レーザー色素などが適してお
り、ローダミン系化合物・ペリレン系化合物・シアニン
系化合物・フタロシアニン系化合物(サブフタロシアニ
ン等も含む)ナフタロイミド系化合物・縮合環炭化水素
系化合物・縮合複素環系化合物・スチリル系化合物・ク
マリン系化合物等を用いればよい。As the fluorescent material, basically, a material having a high fluorescence quantum yield may be used, and it is desirable that the material has a strong absorption in an EL emission wavelength region. In practice, laser dyes and the like are suitable, and rhodamine compounds, perylene compounds, cyanine compounds, phthalocyanine compounds (including subphthalocyanines, etc.) naphthalimide compounds, condensed ring hydrocarbon compounds, condensed heterocyclic compounds A styryl compound, a coumarin compound or the like may be used.
【0060】バインダーは、基本的に蛍光を消光しない
ような材料を選べば良く、フォトリソグラフィー・印刷
等で微細なパターニングが出来るようなものが好まし
い。また、基板上にホール注入電極と接する状態で形成
される場合、ホール注入電極(ITO、IZO)の成膜
時にダメージを受けないような材料が好ましい。As the binder, basically, a material that does not quench the fluorescence may be selected, and a binder that can be finely patterned by photolithography, printing, or the like is preferable. In the case where the hole injection electrode is formed on the substrate in contact with the hole injection electrode, a material which is not damaged when the hole injection electrode (ITO, IZO) is formed is preferable.
【0061】光吸収材料は、蛍光材料の光吸収が足りな
い場合に用いるが、必要のない場合は用いなくても良
い。また、光吸収材料は、蛍光性材料の蛍光を消光しな
いような材料を選べば良い。The light absorbing material is used when the light absorption of the fluorescent material is insufficient, but may be omitted when unnecessary. As the light absorbing material, a material that does not quench the fluorescence of the fluorescent material may be selected.
【0062】本発明の有機EL素子は、通常、直流駆動
型、パルス駆動型のEL素子として用いられるが、交流
駆動とすることもできる。印加電圧は、通常、2〜30
V 程度とされる。The organic EL device of the present invention is usually used as a DC drive type or pulse drive type EL device, but it can also be driven by AC. The applied voltage is usually 2 to 30
V.
【0063】本発明の有機EL素子は、例えば図1に示
すように、基板1/ホール注入電極2/発光層4/陰電
極5とが順次積層された構成としてもよいし、この逆の
積層構成としてもよい。積層構成は、たとえば、ディス
プレーの仕様や作製プロセス等により、適宜最適なもの
に調整すればよい。図1において、ホール注入電極2と
電子注入電極5の間には、駆動電源Eが接続されてい
る。The organic EL device of the present invention may have a structure in which a substrate 1, a hole injection electrode 2, a light emitting layer 4, and a negative electrode 5 are sequentially stacked as shown in FIG. It may be configured. The lamination structure may be appropriately adjusted to an optimum one according to, for example, the specifications of the display and the manufacturing process. In FIG. 1, a drive power source E is connected between the hole injection electrode 2 and the electron injection electrode 5.
【0064】本発明の有機EL素子は、ディスプレイと
しての応用の他、例えばメモり読み出し/書き込み等に
利用される光ピックアップ、光通信の伝送路中における
中継装置、フォトカプラ等、種々の光応用デバイスに用
いることができる。The organic EL element of the present invention can be applied to various optical applications such as an optical pickup used for memory read / write, a relay device in a transmission line of optical communication, a photocoupler, etc. in addition to application as a display. Can be used for devices.
【0065】[0065]
【実施例】ガラス基板としてコーニング社製商品名70
59基板を中性洗剤を用いてスクラブ洗浄した。EXAMPLE A glass substrate manufactured by Corning Co., Ltd. having a trade name of 70 was used.
The 59 substrates were scrub-cleaned using a neutral detergent.
【0066】この基板上にITO酸化物ターゲットを用
いRFマグネトロンスパッタリング法により、基板温度
250℃で、膜厚200nmのITOホール注入電極層を
形成した。An ITO hole injection electrode layer having a thickness of 200 nm was formed on this substrate at a substrate temperature of 250 ° C. by an RF magnetron sputtering method using an ITO oxide target.
【0067】ITO電極層等が形成された基板の表面を
UV/O3 洗浄した後、真空装置の基板ホルダーに固定
して、槽内を1×10-4Pa以下まで減圧した。この基板
の上に、50μm のストッパーがついたメタルマスクを
装着した。このマスクには、1mm角、0.5mm角、0.
2mm角の穴が形成されている。After the surface of the substrate on which the ITO electrode layer and the like were formed was washed with UV / O 3, it was fixed to a substrate holder of a vacuum device, and the pressure in the tank was reduced to 1 × 10 −4 Pa or less. A metal mask provided with a 50 μm stopper was mounted on the substrate. This mask has 1 mm square, 0.5 mm square, 0.
A 2 mm square hole is formed.
【0068】次に発光層として、10〜25gのメタノ
ールにつき1gのポリマー濃度のポリフェニレンビニレ
ン(PPV)の前駆体メタノール溶液を前記のマスク付
きITO透明電極基板上にスプレーコーティングした。Next, as a light emitting layer, a precursor methanol solution of polyphenylene vinylene (PPV) having a polymer concentration of 1 g per 10 to 25 g of methanol was spray-coated on the ITO transparent electrode substrate with the mask.
【0069】次に、得られた基板とポリマー前駆体層を
真空オーブン中、300℃の温度で12時間加熱した。
この熱処理によって、前駆体ポリマーはPPVに変換さ
れた。得られたPPV膜は100〜150nmの厚さであ
った。Next, the obtained substrate and the polymer precursor layer were heated in a vacuum oven at a temperature of 300 ° C. for 12 hours.
This heat treatment converted the precursor polymer to PPV. The obtained PPV film had a thickness of 100 to 150 nm.
【0070】次いで、減圧状態を保ったまま基板を真空
蒸着装置に移し、フッ化リチウム(LiF)を5nmの膜
厚に成膜し、続けてAlを200nmの厚さに蒸着して陰
電極とし、最後にガラス封止して有機EL素子を得た。Next, while maintaining the reduced pressure, the substrate was transferred to a vacuum deposition apparatus, and lithium fluoride (LiF) was deposited to a thickness of 5 nm, and Al was subsequently deposited to a thickness of 200 nm to form a negative electrode. Finally, glass sealing was performed to obtain an organic EL device.
【0071】得られた有機EL素子に空気中で、電界を
印加したところ、ダイオード特性を示し、ITO側をプ
ラス、LiF/Al電極側をマイナスにバイアスした場
合、電流は、電圧の増加とともに増加し、通常の室内で
はっきりとした発光が観察された。また、このとき発光
部の塗布位置の正確性を目標面積に占める発光面積で測
定した。また、その際に目標よりはみ出した部分もマイ
ナス評価とした。各大きさについては3箇所の平均値で
表した。結果を表1に示す。なお、繰り返し発光動作を
させても、輝度の低下はみられなかった。When an electric field was applied to the obtained organic EL device in air, the device showed diode characteristics. When the ITO side was biased positively and the LiF / Al electrode side was biased negatively, the current increased with increasing voltage. However, clear light emission was observed in a normal room. At this time, the accuracy of the application position of the light emitting section was measured by the light emitting area occupying the target area. At that time, the parts that exceeded the target were also evaluated negatively. Each size was represented by an average value at three places. Table 1 shows the results. Note that, even when the light emitting operation was repeatedly performed, no decrease in luminance was observed.
【0072】<実施例2>実施例1において、発光層に
用いる材料をPPVからポリビニルカルバゾール(PV
K)にクマリンを0.5 mol%添加した材料を用いた。
このとき、溶剤にはトルエンを使用し、スプレーコート
法の代わりに押し出しコート法を用いた以外は実施例1
と同様にして有機EL素子を得た。Example 2 In Example 1, the material used for the light emitting layer was changed from PPV to polyvinyl carbazole (PV).
A material obtained by adding 0.5 mol% of coumarin to K) was used.
At this time, Example 1 was repeated except that toluene was used as a solvent and an extrusion coating method was used instead of the spray coating method.
In the same manner as in the above, an organic EL device was obtained.
【0073】得られた素子を実施例1と同様にして駆動
し評価した。結果を表1に示す。The obtained device was driven and evaluated in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.
【0074】<比較例1>実施例1において、発光層を
形成する際にマスクを用いることなく、目標とする位置
にインクジェット装置を用いて塗布し、発光層を形成し
た。それ以外は実施例1と同様にして素子を作成した。<Comparative Example 1> In Example 1, a light-emitting layer was formed by applying an ink-jet device to a target position without using a mask when forming the light-emitting layer. Other than that produced the element similarly to Example 1.
【0075】得られた素子を実施例1と同様にして駆動
し評価した。結果を表1に示す。The obtained device was driven and evaluated in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.
【0076】[0076]
【表1】 [Table 1]
【0077】表1から明らかなように、本発明サンプル
は、いずれの大きさの塗布量域においても比較例より正
確な位置に塗布できていることがわかる。また、特に
0.5mm角以下の小さい領域においてその効果が顕著に
現れている。As is clear from Table 1, it can be seen that the sample of the present invention can be applied to a more accurate position than the comparative example in any size of the coating amount range. The effect is particularly remarkable in a small area of 0.5 mm square or less.
【0078】[0078]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、精度よ
く、均一な塗布が可能で、低コストかつ高効率、長寿命
な有機EL素子が得られる製造方法および有機EL素子
を提供することができる。As described above, according to the present invention, it is possible to provide a manufacturing method and an organic EL device capable of obtaining a low-cost, high-efficiency, and long-life organic EL device capable of performing uniform coating with high accuracy. Can be.
【図1】有機EL素子の基本構成を示す概略断面図であ
る。FIG. 1 is a schematic sectional view showing a basic configuration of an organic EL element.
1 基板 2 ホール注入電極 3 発光層 4 電子注入電極 Reference Signs List 1 substrate 2 hole injection electrode 3 light emitting layer 4 electron injection electrode
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 神戸 江美子 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 Fターム(参考) 3K007 AB02 AB03 AB11 AB18 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA01 5F041 AA43 AA44 CA08 CA45 CA67 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Emiko Kobe 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo F-term in TDK Corporation (reference) 3K007 AB02 AB03 AB11 AB18 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA01 5F041 AA43 AA44 CA08 CA45 CA67
Claims (6)
くとも発光機能に関与する有機層とを有する有機EL素
子の製造方法であって、 前記有機層の少なくとも一層を形成するに際し、 溶媒中に溶解した有機材料を塗布マスク上から塗布する
ことにより形成する有機EL素子の製造方法。1. A method for manufacturing an organic EL device having a pair of electrodes and an organic layer at least involved in a light emitting function between the pair of electrodes, wherein at least one of the organic layers is formed in a solvent. A method for manufacturing an organic EL device, wherein the organic material is formed by applying an organic material dissolved in a coating mask on a coating mask.
より塗布する請求項1の有機EL素子の製造方法。2. The method for producing an organic EL device according to claim 1, wherein the method is applied by a screen printing method or a spray method.
された有機EL素子。3. An organic EL device manufactured by the method according to claim 1.
くとも発光機能に関与する有機層とを有する有機EL素
子の製造装置であって、 少なくとも一方の電極が形成されている基板上に、溶媒
中に溶解した有機材料を塗布マスク上から塗布し、前記
有機層の少なくとも一層を形成する有機層形成手段を有
する有機EL素子の製造装置。4. An apparatus for manufacturing an organic EL element having a pair of electrodes and an organic layer involved in at least a light emitting function between the pair of electrodes, wherein at least one electrode is formed on a substrate. An apparatus for manufacturing an organic EL device, comprising: an organic layer forming means for applying an organic material dissolved in a solvent from above a coating mask to form at least one of the organic layers.
法、またはスプレー法により塗布する請求項4の有機E
L素子の製造方法。5. The organic layer according to claim 4, wherein said organic layer forming means is applied by a screen printing method or a spray method.
Manufacturing method of L element.
された有機EL素子。6. An organic EL device manufactured by the method according to claim 4.
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