JP2001222895A - Semiconductor storage device and its operating method - Google Patents

Semiconductor storage device and its operating method

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JP2001222895A
JP2001222895A JP2000030767A JP2000030767A JP2001222895A JP 2001222895 A JP2001222895 A JP 2001222895A JP 2000030767 A JP2000030767 A JP 2000030767A JP 2000030767 A JP2000030767 A JP 2000030767A JP 2001222895 A JP2001222895 A JP 2001222895A
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common data
data line
bit line
line
bit
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Koichi Yamada
光一 山田
Satoru Sekine
悟 関根
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Sanyo Electric Co Ltd
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Sanyo Electric Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor storage device and its operating method where an access time can be shortened. SOLUTION: Plural bit lines BL1-BLn are connected to a common data line CDL through a bit line selecting circuit 2. A dynamic pre-charge circuit 30 is connected to the common data line CDL. The dynamic pre-charge circuit 30 is composed of a capacitor transistor 30A, a transfer gate 30B, and a transistor 30C for charging. The capacitor transistor 30A is charged by turning on the transistor 30C for charging. The common data line CDL is connected to the capacitor transistor 30A by turning on the transfer gate 30B. After the common data line CDL and a selected bit line are charged, the transfer gate 30B is turned off, and the common data line CDL is separated from the capacitor transistor 30A.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置に
関し、特にビット線とワード線との交差部にメモリセル
が設けられ、ビット線がビット線選択回路を介して共通
データ線に接続された半導体記憶装置およびその動作方
法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device in which a memory cell is provided at an intersection of a bit line and a word line, and the bit line is connected to a common data line via a bit line selection circuit. The present invention relates to a semiconductor memory device and an operation method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】マスクROM(リードオンリメモリ)で
は、トランジスタからなるメモリセルに製造工程で情報
が書き込まれる。以下、メモリセルを構成するトランジ
スタをセルトランジスタと呼ぶ。例えば、情報“0”を
書き込む場合には、セルトランジスタのドレインをコン
タクトを介してビット線に接続し、情報“1”を書き込
む場合には、セルトランジスタのドレインをビット線に
接続しない。
2. Description of the Related Art In a mask ROM (read only memory), information is written in a memory cell composed of transistors in a manufacturing process. Hereinafter, a transistor included in a memory cell is referred to as a cell transistor. For example, when writing information "0", the drain of the cell transistor is connected to the bit line via a contact, and when writing information "1", the drain of the cell transistor is not connected to the bit line.

【0003】図4は従来のマスクROMの構成の一例を
示す回路図である。図4のマスクROMは特開平2−7
6259号に開示されている。
FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of the configuration of a conventional mask ROM. The mask ROM shown in FIG.
No. 6259.

【0004】図4に示すように、m本のワード線WL1
〜WLmおよびn本のビット線BL1〜BLnが互いに
交差するように配置されている。ここで、mおよびnは
それぞれ整数である。複数のワード線WL1〜WLmに
対応して複数の接地線SLが配置されている。
As shown in FIG. 4, m word lines WL1
To WLm and n bit lines BL1 to BLn are arranged to cross each other. Here, m and n are each an integer. A plurality of ground lines SL are arranged corresponding to the plurality of word lines WL1 to WLm.

【0005】また、(m×n)個のセルトランジスタT
11〜Tmnがマトリクス状に配置されている。各セル
トランジスタTijはワード線WLiとビット線BLj
との交差部に設けられている。ここで、i=1,2,
…,mであり、j=1,2,…,nである。各セルトラ
ンジスタTijのゲートは対応するワード線WLiに接
続され、ソースは接地線SLに接続されている。各セル
トランジスタTijのドレインは、記憶される情報が
“0”の場合には対応するビット線BLjに接続され、
記憶される情報が“1”の場合には対応するビット線B
Ljから切り離されている。
Further, (m × n) cell transistors T
11 to Tmn are arranged in a matrix. Each cell transistor Tij has a word line WLi and a bit line BLj.
Is provided at the intersection with. Where i = 1,2,2
, M and j = 1, 2,..., N. The gate of each cell transistor Tij is connected to the corresponding word line WLi, and the source is connected to the ground line SL. The drain of each cell transistor Tij is connected to the corresponding bit line BLj when the stored information is "0",
When the stored information is "1", the corresponding bit line B
Lj.

【0006】複数のワード線WL1〜WLmはワード線
選択回路11に接続され、複数のビット線BL1〜BL
nはビット線選択回路12を介して共通データ線CDL
に接続されている。ビット線選択回路12は、各ビット
線BL1〜BLnと共通データ線CDLとの間にそれぞ
れ接続された複数のトランスファゲートにより構成され
る。複数の接地線SLは複数の補強用接地線5に接続さ
れている。
A plurality of word lines WL1 to WLm are connected to a word line selection circuit 11, and a plurality of bit lines BL1 to BLm are connected.
n is a common data line CDL via the bit line selection circuit 12.
It is connected to the. The bit line selection circuit 12 includes a plurality of transfer gates connected between each of the bit lines BL1 to BLn and the common data line CDL. The plurality of ground lines SL are connected to the plurality of reinforcing ground lines 5.

【0007】複数のビット線BL1〜BLnにはそれぞ
れリセット回路21が接続されている。リセット回路2
1は、クロック信号Φrに応答してビット線BL1〜B
Lnを接地する。また、共通データ線CDLにはプリチ
ャージ回路13が接続されている。プリチャージ回路1
3は、クロック信号Φpに応答して共通データ線CDL
をチップ内の電源電圧Vccに充電する。電源電圧Vc
cは例えば回路の動作電圧5Vである。共通データ線C
DLと出力端子OLとの間には出力回路14が接続され
ている。
A reset circuit 21 is connected to each of the plurality of bit lines BL1 to BLn. Reset circuit 2
1 corresponds to the bit lines BL1 to BLB in response to the clock signal Φr.
Ln is grounded. The precharge circuit 13 is connected to the common data line CDL. Precharge circuit 1
3 is a common data line CDL in response to the clock signal Φp.
To the power supply voltage Vcc in the chip. Power supply voltage Vc
c is, for example, the operating voltage of the circuit of 5V. Common data line C
An output circuit 14 is connected between DL and the output terminal OL.

【0008】また、m個のセルトランジスタT11〜T
m1の側部にダミー回路20が設けられている。ダミー
回路20は、m個のダミーセルトランジスタ20A、ダ
ミービット線20B、ダミービット線プリチャージ回路
20Cおよびダミービット線用選択回路20Dを含む。
Further, m cell transistors T11 to T
A dummy circuit 20 is provided on the side of m1. The dummy circuit 20 includes m dummy cell transistors 20A, a dummy bit line 20B, a dummy bit line precharge circuit 20C, and a dummy bit line selection circuit 20D.

【0009】各ダミーセルトランジスタ20Aは、対応
するワード線WLiとダミービット線20Bとの交差部
に設けられている。ダミーセルトランジスタ20Aの構
成はセルトランジスタTijの構成と同様であり、ダミ
ービット線プリチャージ回路20Cの構成はプリチャー
ジ回路13の構成と同様である。
Each dummy cell transistor 20A is provided at an intersection of a corresponding word line WLi and a dummy bit line 20B. The configuration of the dummy cell transistor 20A is similar to the configuration of the cell transistor Tij, and the configuration of the dummy bit line precharge circuit 20C is similar to the configuration of the precharge circuit 13.

【0010】ダミービット線用選択回路20Dは、共通
データ線CDLとダミービット線20Bとの間に接続さ
れたトランスファゲートからなる。そのトランスファゲ
ートを構成するトランジスタのゲートには電源電圧Vc
cが与えられる。それにより、ダミービット線用選択回
路20Dを介して共通データ線CDLがダミービット線
20Bに常時接続されている。このダミービット線用選
択回路20Dは、回路動作上必要ないが、ダミー回路2
0のレイアウトをセルトランジスタT11〜Tmnおよ
びビット線選択回路12のレイアウトと共用するために
設けられている。
The dummy bit line selection circuit 20D comprises a transfer gate connected between the common data line CDL and the dummy bit line 20B. The power supply voltage Vc is applied to the gate of the transistor constituting the transfer gate.
c is given. Thus, the common data line CDL is always connected to the dummy bit line 20B via the dummy bit line selection circuit 20D. Although this dummy bit line selection circuit 20D is not necessary for the circuit operation,
It is provided to share the layout of 0 with the layout of the cell transistors T11 to Tmn and the bit line selection circuit 12.

【0011】次に、図4のマスクROMの読み出し動作
を説明する。待機時には、プリチャージ回路13により
共通データ線CDLが充電され、ダミービット線プリチ
ャージ回路20Cによりダミービット線20Bが充電さ
れる。それにより、共通データ線CDLおよびダミービ
ット線20Bの電位がハイレベルとなる。また、リセッ
ト回路21により全てのビット線BL1〜BLnの電位
がローレベルに設定される。
Next, the read operation of the mask ROM of FIG. 4 will be described. During standby, the precharge circuit 13 charges the common data line CDL, and the dummy bit line precharge circuit 20C charges the dummy bit line 20B. Thereby, the potentials of the common data line CDL and the dummy bit line 20B become high level. Further, the potentials of all the bit lines BL1 to BLn are set to a low level by the reset circuit 21.

【0012】読み出し動作時には、アドレス信号(図示
せず)に基づいて複数のセルトランジスタT1〜Tmn
のいずれかが選択される。ここでは、例えば、セルトラ
ンジスタT22が選択されるものとする。この場合に
は、ワード線選択回路11によりワード線WL2の電位
がハイレベルに立ち上げられ、ビット線選択回路12に
よりビット線BL2が共通データ線CDLに接続され
る。
In a read operation, a plurality of cell transistors T1 to Tmn are operated based on an address signal (not shown).
Is selected. Here, for example, it is assumed that the cell transistor T22 is selected. In this case, the potential of the word line WL2 is raised to the high level by the word line selection circuit 11, and the bit line BL2 is connected to the common data line CDL by the bit line selection circuit 12.

【0013】それにより、セルトランジスタT22に情
報“0”が記憶されている場合には、ダミービット線2
0Bおよび共通データ線CDLに蓄積された電荷がビッ
ト線BL2およびセルトランジスタT22を介して接地
線SLに放電される。セルトランジスタT22に情報
“1”が記憶されている場合には、ダミービット線20
Bおよび共通データ線CDLに蓄積されている電荷が放
電されずに保持される。出力回路14は、共通データ線
CDLの電位が所定のしきい値よりも高いか低いかに基
づいて出力端子OLの電位をハイレベルまたはローレベ
ルに変化させる。
Accordingly, when information "0" is stored in the cell transistor T22, the dummy bit line 2
The electric charge stored in 0B and the common data line CDL is discharged to the ground line SL via the bit line BL2 and the cell transistor T22. When information “1” is stored in the cell transistor T22, the dummy bit line 20
The charges stored in B and the common data line CDL are held without being discharged. The output circuit 14 changes the potential of the output terminal OL to a high level or a low level based on whether the potential of the common data line CDL is higher or lower than a predetermined threshold.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】従来のマスクROMに
おいては、選択されたセルトランジスタT22に情報
“1”が記憶されている場合に、予めハイレベルに充電
された共通データ線CDLの電位が出力回路14におけ
るしきい値よりも高いレベルを保持する必要がある。
In the conventional mask ROM, when information "1" is stored in the selected cell transistor T22, the potential of the common data line CDL previously charged to the high level is output. It is necessary to maintain a level higher than the threshold value in the circuit 14.

【0015】選択されたビット線BL2の電位はローレ
ベルにリセットされているため、ビット線選択回路12
によりビット線BL2が共通データ線CDLに接続され
ると、共通データ線CDLの電位が低下する。このと
き、共通データ線CDLの寄生容量がビット線BL2の
寄生容量に比べて小さいと、共通データ線CDLの電位
の低下量が大きくなる。
Since the potential of the selected bit line BL2 has been reset to a low level, the bit line selection circuit 12
Accordingly, when the bit line BL2 is connected to the common data line CDL, the potential of the common data line CDL decreases. At this time, if the parasitic capacitance of the common data line CDL is smaller than the parasitic capacitance of the bit line BL2, the amount of decrease in the potential of the common data line CDL increases.

【0016】そこで、図4のマスクROMでは、共通デ
ータ線CDLにダミービット線20Bが接続され、ダミ
ービット線20Bも予めハイレベルに充電されている。
すなわち、共通データ線CDLにはその共通データ線C
DLの寄生容量およびダミービット線20Bの寄生容量
が付加されている。そのため、ビット線BL2が共通デ
ータ線CDLに接続された場合に、共通データ線CDL
の電位の低下量が小さくなる。したがって、出力回路1
4が、選択されたセルトランジスタT22に記憶された
情報を正確に出力端子OLに出力することが可能とな
る。
Therefore, in the mask ROM of FIG. 4, the dummy bit line 20B is connected to the common data line CDL, and the dummy bit line 20B is also charged to a high level in advance.
That is, the common data line CDL is connected to the common data line CDL.
The parasitic capacitance of DL and the parasitic capacitance of dummy bit line 20B are added. Therefore, when the bit line BL2 is connected to the common data line CDL, the common data line CDL
Decreases in the potential of the first electrode. Therefore, the output circuit 1
4 can accurately output the information stored in the selected cell transistor T22 to the output terminal OL.

【0017】しかしながら、共通データ線CDLにその
共通データ線CDLの寄生容量に加えてダミービット線
20Bの寄生容量が付加されることにより、共通データ
線CDLの電位の変化が遅くなる。そのため、選択され
たセルトランジスタT22に情報“0”が記憶されてい
る場合に、共通データ線CDLの電位が出力回路14の
しきい値よりも低いレベルまで低下するために要する時
間が長くなる。その結果、マスクROMの動作速度が遅
くなり、アクセス時間の増大を招くことになる。
However, when the parasitic capacitance of the dummy bit line 20B is added to the common data line CDL in addition to the parasitic capacitance of the common data line CDL, the change in the potential of the common data line CDL is delayed. Therefore, when the information “0” is stored in the selected cell transistor T22, the time required for the potential of the common data line CDL to drop to a level lower than the threshold value of the output circuit 14 becomes longer. As a result, the operation speed of the mask ROM is reduced, and the access time is increased.

【0018】本発明の目的は、アクセス時間が短縮され
た半導体記憶装置およびその動作方法を提供することで
ある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device having a reduced access time and an operation method thereof.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段および発明の効果】第1の
発明に係る半導体記憶装置は、複数のビット線と、複数
のビット線に交差するように配置された複数のワード線
と、複数のビット線と複数のワード線との交差部に設け
られ、情報を記憶する複数のメモリセルと、複数のビッ
ト線に共通に設けられた共通データ線と、複数のビット
線のいずれかを選択し、選択されたビット線を共通デー
タ線に接続するビット線選択手段と、メモリセルから対
応するビット線への情報の読み出しのために複数のワー
ド線のいずれかを選択するワード線選択手段と、共通デ
ータ線に付加される容量の値を第1の値とした状態で共
通データ線をビット線選択手段により選択されたビット
線とともに充電した後、共通データ線に付加される容量
の値を第1の値よりも低い第2の値に減少させる充電手
段とを備えたものである。
A semiconductor memory device according to a first aspect of the present invention includes a plurality of bit lines, a plurality of word lines arranged to cross the plurality of bit lines, and a plurality of bit lines. Select one of a plurality of memory cells provided at the intersection of a bit line and a plurality of word lines to store information, a common data line provided commonly to the plurality of bit lines, and a plurality of bit lines. A bit line selecting means for connecting the selected bit line to the common data line, and a word line selecting means for selecting any of a plurality of word lines for reading information from a memory cell to a corresponding bit line; After charging the common data line together with the bit line selected by the bit line selection means with the value of the capacitance added to the common data line being the first value, the value of the capacitance added to the common data line is changed to the first value. The value of 1 It is obtained by a charging means for reducing to a low second value.

【0020】本発明に係る半導体記憶装置においては、
ビット線選択手段により複数のビット線のいずれかが選
択され、選択されたビット線が共通データ線に接続され
る。また、メモリセルから対応するビット線への情報の
読み出しのためにワード線選択手段により複数のワード
線のいずれかが選択される。
In the semiconductor memory device according to the present invention,
One of the plurality of bit lines is selected by the bit line selecting means, and the selected bit line is connected to the common data line. Further, one of the plurality of word lines is selected by the word line selecting means for reading information from the memory cell to the corresponding bit line.

【0021】一方、共通データ線に付加される容量の値
を第1の値とした状態で共通データ線および選択された
ビット線が所定の電位まで充電される。選択されたワー
ド線に接続されたメモリセルの情報に応じてビット線お
よび共通データ線の電位が低下するかまたは保持され
る。その後、共通データ線に付加される容量の値が第1
の値よりも小さい第2の値に減少される。それにより、
共通データ線の電位の変化の速度が速くなる。したがっ
て、短時間でメモリセルから情報を読み出すことがで
き、アクセス時間が短縮される。
On the other hand, the common data line and the selected bit line are charged to a predetermined potential with the value of the capacitance added to the common data line being the first value. The potential of the bit line and the common data line is reduced or held in accordance with the information of the memory cell connected to the selected word line. Thereafter, the value of the capacitance added to the common data line is changed to the first value.
Is reduced to a second value that is smaller than Thereby,
The speed of change of the potential of the common data line is increased. Therefore, information can be read from the memory cell in a short time, and the access time is shortened.

【0022】第2の発明に係る半導体記憶装置は、第1
の発明に係る半導体記憶装置の構成において、充電手段
は、容量手段と、容量手段を充電する容量充電手段と、
容量充電手段により充電された容量手段を共通データ線
に接続することにより共通データ線をビット線選択手段
により選択されたビット線とともに充電した後、容量手
段を共通データ線から切り離す接続手段とを含むもので
ある。
The semiconductor memory device according to the second invention has the first
In the configuration of the semiconductor memory device according to the invention, the charging unit includes a capacitance unit, a capacitance charging unit that charges the capacitance unit,
Connecting the capacitance means charged by the capacitance charging means to the common data line to charge the common data line together with the bit line selected by the bit line selection means, and then disconnecting the capacitance means from the common data line. It is a thing.

【0023】この場合、容量充電手段により容量手段が
充電される。そして、充電された容量手段が接続手段に
より共通データ線に接続される。それにより、共通デー
タ線および選択されたビット線が所定の電位まで充電さ
れる。選択されたワード線に接続されたメモリセルの情
報に応じてビット線および共通データ線の電位が低下す
るかまたは保持される。
In this case, the capacity means is charged by the capacity charging means. Then, the charged capacitance means is connected to the common data line by the connection means. Thereby, the common data line and the selected bit line are charged to a predetermined potential. The potential of the bit line and the common data line is reduced or held in accordance with the information of the memory cell connected to the selected word line.

【0024】その後、接続手段により容量手段が共通デ
ータ線から切り離される。それにより、共通データ線に
付加される容量の値が小さくなるため、共通データ線の
電位の変化の速度が速くなる。したがって、短時間でメ
モリセルから情報を読み出すことができ、アクセス時間
が短縮される。
Thereafter, the connection means disconnects the capacitance means from the common data line. Thereby, the value of the capacitance added to the common data line is reduced, and the speed of change in the potential of the common data line is increased. Therefore, information can be read from the memory cell in a short time, and the access time is shortened.

【0025】第3の発明に係る半導体記憶装置は、第2
の発明に係る半導体記憶装置の構成において、接続手段
は、共通データ線と容量手段との間に接続されたスイッ
チング素子であるものである。
The semiconductor memory device according to the third aspect of the present invention is the semiconductor memory device according to the second aspect.
In the configuration of the semiconductor memory device according to the invention, the connection means is a switching element connected between the common data line and the capacitance means.

【0026】この場合、スイッチング素子がオンするこ
とにより共通データ線が容量手段に接続され、スイッチ
ング素子がオフすることにより共通データ線が容量手段
から切り離される。
In this case, when the switching element is turned on, the common data line is connected to the capacitance means, and when the switching element is turned off, the common data line is disconnected from the capacitance means.

【0027】第4の発明に係る半導体記憶装置は、第2
または第3の発明に係る半導体記憶装置の構成におい
て、容量充電手段は、ビット線選択手段により選択され
たビット線が共通データ線に接続された状態で容量手段
を充電するものである。この場合、容量手段の充電のタ
イミングを任意に設定することが可能となる。
The semiconductor memory device according to the fourth aspect of the present invention is the semiconductor memory device according to the second aspect.
Alternatively, in the configuration of the semiconductor memory device according to the third aspect, the capacitance charging means charges the capacitance means in a state where the bit line selected by the bit line selection means is connected to the common data line. In this case, it is possible to arbitrarily set the charging timing of the capacitance means.

【0028】第5の発明に係る半導体記憶装置は、第2
〜第4のいずれかの発明に係る半導体記憶装置の構成に
おいて、ワード線選択手段は、ビット線選択手段により
複数のビット線のいずれかが選択された状態で複数のワ
ード線を順次選択するものである。
The semiconductor memory device according to a fifth aspect of the present invention is the semiconductor memory device according to the second aspect.
In the configuration of the semiconductor memory device according to any one of the fourth to fourth inventions, the word line selecting means sequentially selects a plurality of word lines while any one of the plurality of bit lines is selected by the bit line selecting means. It is.

【0029】この場合、接続手段により共通データ線を
容量手段から切り離すことができるので、選択されたビ
ット線を共通データ線に接続した状態で容量手段を充電
することができる。それにより、ビット線選択手段によ
り複数のビット線のいずれかが選択された状態で複数の
ワード線を順次選択する動作が可能となり、高速なアク
セス動作が実現される。
In this case, since the common data line can be disconnected from the capacitance means by the connection means, the capacitance means can be charged while the selected bit line is connected to the common data line. Thus, an operation of sequentially selecting a plurality of word lines while any one of the plurality of bit lines is selected by the bit line selecting means becomes possible, and a high-speed access operation is realized.

【0030】第6の発明に係る半導体記憶装置の動作方
法は、複数のビット線と、複数のビット線に交差するよ
うに配置された複数のワード線と、複数のビット線と複
数のワード線との交差部に設けられた複数のメモリセル
と、複数のビット線に共通に設けられた共通データ線と
を備えた半導体記憶装置の動作方法であって、複数のビ
ット線のいずれかを選択し、選択されたビット線を共通
データ線に接続するステップと、メモリセルから対応す
るビット線への情報の読み出しのために複数のワード線
のいずれかを選択するステップと、共通データ線に付加
される容量の値を第1の値とした状態で共通データ線を
選択されたビット線とともに充電した後、共通データ線
に付加される容量の値を第1の値よりも小さい第2の値
に減少させるステップとを備えたものである。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a method of operating a semiconductor memory device, comprising: a plurality of bit lines; a plurality of word lines arranged so as to intersect the plurality of bit lines; a plurality of bit lines and a plurality of word lines; A plurality of memory cells provided at the intersection of the plurality of bit lines, and a common data line provided commonly to the plurality of bit lines, the method comprising: selecting one of the plurality of bit lines. Connecting the selected bit line to a common data line; selecting one of a plurality of word lines for reading information from a memory cell to a corresponding bit line; After the common data line is charged together with the selected bit line with the value of the capacitance to be set as the first value, the value of the capacitance added to the common data line is set to the second value smaller than the first value. To reduce It is that a flop.

【0031】本発明に係る半導体記憶装置の動作方法に
おいては、複数のビット線のいずれかが選択され、選択
されたビット線が共通データ線に接続される。また、メ
モリセルから対応するビット線への情報の読み出しのた
めに複数のワード線のいずれかが選択される。
In the method of operating a semiconductor memory device according to the present invention, one of a plurality of bit lines is selected, and the selected bit line is connected to a common data line. Further, one of a plurality of word lines is selected for reading information from a memory cell to a corresponding bit line.

【0032】一方、共通データ線に付加される容量の値
を第1の値とした状態で共通データ線および選択された
ビット線が所定の電位まで充電される。選択されたワー
ド線に接続されたメモリセルの情報に応じてビット線お
よび共通データ線の電位が低下するかまたは保持され
る。その後、共通データ線に付加される容量の値が第1
の値よりも小さい第2の値に減少される。それにより、
共通データ線の電位の変化の速度が速くなる。したがっ
て、短時間でメモリセルから情報を読み出すことがで
き、アクセス時間が短縮される。
On the other hand, the common data line and the selected bit line are charged to a predetermined potential with the value of the capacitance added to the common data line being the first value. The potential of the bit line and the common data line is reduced or held in accordance with the information of the memory cell connected to the selected word line. Thereafter, the value of the capacitance added to the common data line is changed to the first value.
Is reduced to a second value that is smaller than Thereby,
The speed of change of the potential of the common data line is increased. Therefore, information can be read from the memory cell in a short time, and the access time is shortened.

【0033】第7の発明に係る半導体記憶装置の動作方
法は、第6の発明に係る半導体記憶装置の動作方法にお
いて、減少させるステップは、容量手段を充電するステ
ップと、充電された容量手段を共通データ線に接続する
ことにより共通データ線および選択されたビット線を充
電するステップと、容量手段による共通データ線および
選択されたビット線の充電後、容量手段を共通データ線
から切り離すステップとを含むものである。
In a method of operating a semiconductor memory device according to a seventh aspect of the present invention, in the method of operating a semiconductor memory device according to the sixth aspect of the present invention, the step of reducing includes a step of charging the capacitance means and a step of charging the charged capacitance means. Charging the common data line and the selected bit line by connecting to the common data line, and disconnecting the capacitance unit from the common data line after charging the common data line and the selected bit line by the capacitance unit. Including.

【0034】この場合、容量手段が充電され、充電され
た容量手段が共通データ線に接続される。それにより、
共通データ線および選択されたビット線が所定の電位ま
で充電される。選択されたワード線に接続されたメモリ
セルの情報に応じてビット線および共通データ線の電位
が低下するかまたは保持される。その後、容量手段が共
通データ線から切り離される。それにより、共通データ
線に付加される容量が小さくなるため、共通データ線の
電位の変化の速度が速くなる。したがって、短時間でメ
モリセルから情報を読み出すことができ、アクセス時間
が短縮される。
In this case, the capacitance means is charged, and the charged capacitance means is connected to the common data line. Thereby,
The common data line and the selected bit line are charged to a predetermined potential. The potential of the bit line and the common data line is reduced or held in accordance with the information of the memory cell connected to the selected word line. Thereafter, the capacitance means is disconnected from the common data line. Thus, the capacitance added to the common data line is reduced, and the speed of change in the potential of the common data line is increased. Therefore, information can be read from the memory cell in a short time, and the access time is shortened.

【0035】第8の発明に係る半導体記憶装置の動作方
法は、第7の発明に係る半導体記憶装置の動作方法にお
いて、容量手段を充電するステップは、選択されたビッ
ト線が共通データ線に接続された状態で容量手段を充電
するものである。この場合、容量手段の充電のタイミン
グを任意に設定することが可能となる。
In the method of operating a semiconductor memory device according to an eighth aspect of the present invention, in the operation method of the semiconductor memory device according to the seventh aspect of the present invention, the step of charging the capacitance means includes the step of connecting the selected bit line to a common data line. In this state, the capacity means is charged. In this case, it is possible to arbitrarily set the charging timing of the capacitance means.

【0036】第9の発明に係る半導体記憶装置の動作方
法は、第7または第8の発明に係る半導体記憶装置の動
作方法において、複数のワード線のいずれかを選択する
ステップは、選択されたビット線を共通データ線に接続
した状態で複数のワード線を順次選択するものである。
In the method of operating a semiconductor memory device according to a ninth aspect, in the method of operating a semiconductor memory device according to the seventh or eighth aspect, the step of selecting one of the plurality of word lines is selected. A plurality of word lines are sequentially selected while the bit lines are connected to the common data line.

【0037】この場合、共通データ線を容量手段から切
り離すことにより、選択されたビット線を共通データ線
に接続した状態で容量手段を充電することができる。そ
れにより、複数のビット線のいずれかが選択された状態
で複数のワード線を順次選択する動作が可能となり、高
速なアクセス動作が実現される。
In this case, by disconnecting the common data line from the capacitance means, the capacitance means can be charged while the selected bit line is connected to the common data line. Thereby, an operation of sequentially selecting a plurality of word lines while any one of the plurality of bit lines is selected becomes possible, and a high-speed access operation is realized.

【0038】[0038]

【発明の実施の形態】図1は本発明の一実施例における
半導体記憶装置の構成を示す回路図である。本実施例の
半導体記憶装置はマスクROMである。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention. The semiconductor memory device of the present embodiment is a mask ROM.

【0039】図1に示すように、m本のワード線WL1
〜WLmおよびn本のビット線BL1〜BLnが互いに
交差するように配置されている。ここで、mおよびnは
それぞれ整数である。複数のワード線WL1〜WLmに
対応して複数の接地線SLが配置されている。
As shown in FIG. 1, m word lines WL1
To WLm and n bit lines BL1 to BLn are arranged to cross each other. Here, m and n are each an integer. A plurality of ground lines SL are arranged corresponding to the plurality of word lines WL1 to WLm.

【0040】また、トランジスタからなる(m×n)個
のメモリセルC11〜Cmnがマトリクス状に配置され
ている。各メモリセルCijはワード線WLiとビット
線BLjとの交差部に設けられている。ここで、i=
1,2,…,mであり、j=1,2,…,nである。
In addition, (m × n) memory cells C11 to Cmn formed of transistors are arranged in a matrix. Each memory cell Cij is provided at the intersection of a word line WLi and a bit line BLj. Where i =
1, 2, ..., m, and j = 1, 2, ..., n.

【0041】各メモリセルCijのゲートは対応するワ
ード線WLiに接続され、ソースは接地線SLに接続さ
れている。各メモリセルCijのドレインは、記憶され
る情報が“0”の場合には対応するビット線BLjに接
続され、記憶される情報が“1”の場合には対応するビ
ット線BLjから切り離されている。
The gate of each memory cell Cij is connected to the corresponding word line WLi, and the source is connected to the ground line SL. The drain of each memory cell Cij is connected to the corresponding bit line BLj when the stored information is "0", and is separated from the corresponding bit line BLj when the stored information is "1". I have.

【0042】複数のワード線WL1〜WLmはワード線
選択回路1に接続されている。ワード線選択回路1は、
アドレス信号AWに応答して複数のワード線WL1〜W
Lmのうちいずれかを選択し、選択したワード線WLi
の電位をハイレベルに立ち上げる。
The plurality of word lines WL1 to WLm are connected to the word line selection circuit 1. The word line selection circuit 1
In response to the address signal AW, a plurality of word lines WL1 to WL
Lm, and selects the selected word line WLi.
Rise to a high level.

【0043】複数のビット線BL1〜BLnはビット線
選択回路2を介して共通データ線CDLに接続されてい
る。ビット線選択回路2は、複数のビット線BL1〜B
Lnと共通データ線CDLとの間にそれぞれ接続された
複数のトランスファゲート2Aにより構成される。図1
には1つのトランスファゲート2Aのみが示されてい
る。ビット線選択回路2は、アドレス信号ABに応答し
て複数のビット線BL1〜BLnのうちいずれかを選択
し、選択したビット線BLjを共通データ線CDLに接
続する。
The plurality of bit lines BL1 to BLn are connected to the common data line CDL via the bit line selection circuit 2. The bit line selection circuit 2 includes a plurality of bit lines BL1 to BL
It is constituted by a plurality of transfer gates 2A respectively connected between Ln and the common data line CDL. FIG.
Shows only one transfer gate 2A. The bit line selection circuit 2 selects one of the plurality of bit lines BL1 to BLn in response to the address signal AB, and connects the selected bit line BLj to the common data line CDL.

【0044】また、複数の補強用接地線5がビット線B
L1〜BLnにほぼ平行に配置されている。複数の接地
線SLは複数の補強用接地線5に接続されている。
Further, the plurality of reinforcing ground lines 5 are
They are arranged substantially parallel to L1 to BLn. The plurality of ground lines SL are connected to the plurality of reinforcing ground lines 5.

【0045】複数のビット線BL1〜BLnにはそれぞ
れリセット回路6が接続されている。リセット回路6
は、Nチャネルトランジスタからなり、クロック信号Φ
rに応答してビット線BL1〜BLnを接地する。
A reset circuit 6 is connected to each of the plurality of bit lines BL1 to BLn. Reset circuit 6
Consists of N-channel transistors, and the clock signal Φ
In response to r, the bit lines BL1 to BLn are grounded.

【0046】共通データ線CDLには、プリチャージ回
路7が接続されている。プリチャージ回路7は、Pチャ
ネルトランジスタからなり、クロック信号Φpに応答し
て共通データ線CDLを電源電圧Vccに充電する。電
源電圧Vccはチップ内の回路の動作電圧(例えば5
V)である。
The precharge circuit 7 is connected to the common data line CDL. Precharge circuit 7 is formed of a P-channel transistor, and charges common data line CDL to power supply voltage Vcc in response to clock signal φp. The power supply voltage Vcc is the operating voltage of a circuit in the chip (for example, 5
V).

【0047】また、共通データ線CDLには、ダイナミ
ックプリチャージ回路30が接続されている。ダイナミ
ックプリチャージ回路30は、1つのビット線BLjの
寄生容量よりも大きな容量値を有するキャパシタトラン
ジスタ30A、Pチャネルトランジスタからなるトラン
スファゲート30BおよびPチャネルトランジスタから
なる充電用トランジスタ30Cにより構成される。
Further, a dynamic precharge circuit 30 is connected to the common data line CDL. The dynamic precharge circuit 30 includes a capacitor transistor 30A having a capacitance value larger than the parasitic capacitance of one bit line BLj, a transfer gate 30B including a P-channel transistor, and a charging transistor 30C including a P-channel transistor.

【0048】トランスファゲート30Bは、共通データ
線CDLとノードNとの間に接続され、クロック信号Φ
2に応答してオンまたはオフする。キャパシタトランジ
スタ30Aは、ノードNと接地端子との間に接続されて
いる。充電用トランジスタ30Cは、電源電圧Vccを
受ける電源端子とノードNとの間に接続され、クロック
信号Φ1に応答してオンまたはオフする。
Transfer gate 30B is connected between common data line CDL and node N, and receives clock signal Φ.
Turns on or off in response to 2. Capacitor transistor 30A is connected between node N and a ground terminal. Charging transistor 30C is connected between a power supply terminal receiving power supply voltage Vcc and node N, and is turned on or off in response to clock signal Φ1.

【0049】共通データ線CDLと出力端子OLとの間
には、出力回路4が接続されている。出力回路4は、共
通データ線CDLの電位が所定のしきい値TH(例えば
電源電圧Vccと接地電位との中間レベル)よりも高い
か低いかに基づいて出力端子OLの電位をハイレベルま
たはローレベルに変化させる。
An output circuit 4 is connected between the common data line CDL and the output terminal OL. The output circuit 4 changes the potential of the output terminal OL to a high level or a low level based on whether the potential of the common data line CDL is higher or lower than a predetermined threshold value TH (for example, an intermediate level between the power supply voltage Vcc and the ground potential). To change.

【0050】次に、図1の半導体記憶装置の読み出し動
作を説明する。図2は図1の半導体記憶装置の読み出し
動作の一例を説明するための波形図である。
Next, the read operation of the semiconductor memory device of FIG. 1 will be described. FIG. 2 is a waveform chart for explaining an example of the read operation of the semiconductor memory device of FIG.

【0051】図2において、待機時には、クロック信号
Φrがハイレベルとなっている。それにより、リセット
回路6がオンし、全てのビット線BL1〜BLnの電位
がローレベルに設定される。また、クロック信号Φpが
ローレベルになっている。それにより、プリチャージ回
路7がオンし、共通データ線CDLの電位がハイレベル
に充電される。
In FIG. 2, during standby, the clock signal Φr is at a high level. As a result, the reset circuit 6 is turned on, and the potentials of all the bit lines BL1 to BLn are set to the low level. Further, the clock signal Φp is at the low level. Thereby, the precharge circuit 7 is turned on, and the potential of the common data line CDL is charged to a high level.

【0052】このとき、クロック信号Φ2はハイレベル
となっている。それにより、ダイナミックプリチャージ
回路30のトランスファゲート30Bがオフし、共通デ
ータ線CDLがノードNから切り離される。また、クロ
ック信号Φ1がローレベルになっている。それにより、
充電用トランジスタ30Cがオンし、ノードNが電源電
圧Vccに充電される。
At this time, the clock signal Φ2 is at a high level. Thereby, the transfer gate 30B of the dynamic precharge circuit 30 is turned off, and the common data line CDL is disconnected from the node N. Further, the clock signal Φ1 is at the low level. Thereby,
The charging transistor 30C is turned on, and the node N is charged to the power supply voltage Vcc.

【0053】読み出し動作時には、時点t1でクロック
信号Φrがローレベルに立ち下がる。それにより、リセ
ット回路6がオフする。また、クロック信号Φpがハイ
レベルに立ち上がる。それにより、プリチャージ回路7
がオフする。さらに、クロック信号Φ1がハイレベルに
立ち上がる。それにより、充電用トランジスタ30Cが
オフする。
At the time of the read operation, the clock signal Φr falls to the low level at time t1. Thereby, the reset circuit 6 is turned off. Further, the clock signal Φp rises to a high level. Thereby, the precharge circuit 7
Turns off. Further, the clock signal Φ1 rises to a high level. This turns off the charging transistor 30C.

【0054】その後、時点t2でクロック信号Φ2がロ
ーレベルに立ち下がる。それにより、トランスファゲー
ト30Bがオンし、共通データ線CDLがノードNに接
続される。
Thereafter, at time t2, the clock signal Φ2 falls to a low level. Thereby, the transfer gate 30B is turned on, and the common data line CDL is connected to the node N.

【0055】また、アドレス信号AB,AWに基づいて
複数のメモリセルC11〜Cmnのうちいずれかが選択
される。ここでは、メモリセルCijが選択されるもの
とする。この場合、ビット線選択回路2は、アドレス信
号ABに応答してビット線BLjを共通データ線CDL
に接続する。それにより、ビット線BLjの電位が上昇
するとともに、共通データ線CDLおよびノードNの電
位が低下する。
One of a plurality of memory cells C11 to Cmn is selected based on address signals AB and AW. Here, it is assumed that the memory cell Cij is selected. In this case, the bit line selection circuit 2 changes the bit line BLj to the common data line CDL in response to the address signal AB.
Connect to Thereby, the potential of bit line BLj increases, and the potentials of common data line CDL and node N decrease.

【0056】このとき、共通データ線CDLにノードN
を介してキャパシタトランジスタ30Aが接続されてい
るので、共通データ線CDLにはその共通データ線CD
Lの寄生容量およびキャパシタトランジスタ30Aの容
量が付加されている。そのため、共通データ線CDLお
よびビット線BLjの電位が出力回路4のしきい値TH
よりも高いレベル(例えば電源電圧Vccの2/3)に
設定される。このときの共通データ線CDLおよびビッ
ト線BLjの電位は、キャパシタトランジスタ30Aの
容量値の調整により任意に設定することができる。
At this time, the node N is connected to the common data line CDL.
Is connected to the common data line CDL via the common data line CDL.
The parasitic capacitance of L and the capacitance of the capacitor transistor 30A are added. Therefore, the potentials of common data line CDL and bit line BLj are set to threshold value TH of output circuit 4.
It is set to a higher level (for example, 2/3 of the power supply voltage Vcc). At this time, the potentials of the common data line CDL and the bit line BLj can be arbitrarily set by adjusting the capacitance value of the capacitor transistor 30A.

【0057】また、ワード線選択回路1は、アドレス信
号AWに応答してワード線WLiを選択し、選択したワ
ード線WLiの電位をハイレベルに立ち上げる。時点t
3でワード線WLiの電位が所定の電位を超える。選択
されたメモリセルCijに情報“0”が記憶されている
場合には、共通データ線CDLおよびノードNの電荷が
ビット線選択回路2、ビット線BLjおよびメモリセル
Cijを介して接地線SLに放電される。それにより、
共通データ線CDLおよびビット線BLjの電位が低下
する。
The word line selection circuit 1 selects the word line WLi in response to the address signal AW, and raises the potential of the selected word line WLi to a high level. Time t
At 3, the potential of the word line WLi exceeds a predetermined potential. When information “0” is stored in the selected memory cell Cij, the charges of the common data line CDL and the node N are transferred to the ground line SL via the bit line selection circuit 2, the bit line BLj and the memory cell Cij. Discharged. Thereby,
The potentials of the common data line CDL and the bit line BLj decrease.

【0058】時点t4でクロック信号Φ2がハイレベル
に立ち上がる。それにより、トランスファゲート30B
がオフし、共通データ線CDLがノードNおよびキャパ
シタトランジスタ30Aから切り離される。すなわち、
共通データ線CDLにはその共通データ線CDLの寄生
容量のみが付加される。したがって、共通データ線CD
Lおよびビット線BLjの電位の立ち下がり速度が速く
なる。そのため、時点t5で共通データ線CDLの電位
が出力回路4のしきい値TH以下に下降する。その結
果、出力回路4は、出力端子OLの電位をローレベルに
立ち下げる。
At time t4, the clock signal Φ2 rises to a high level. Thereby, the transfer gate 30B
Is turned off, and the common data line CDL is disconnected from the node N and the capacitor transistor 30A. That is,
Only the parasitic capacitance of the common data line CDL is added to the common data line CDL. Therefore, common data line CD
The falling speed of the potentials of L and bit line BLj increases. Therefore, at time t5, the potential of the common data line CDL falls below the threshold value TH of the output circuit 4. As a result, the output circuit 4 lowers the potential of the output terminal OL to a low level.

【0059】また、クロック信号Φ1がローレベルに立
ち下がる。それにより、充電用トランジスタ30Cがオ
ンし、ノードNが電源電圧Vccまで充電される。
Further, the clock signal Φ1 falls to a low level. As a result, the charging transistor 30C is turned on, and the node N is charged to the power supply voltage Vcc.

【0060】選択されたメモリセルCijに情報“1”
が記憶されている場合には、時点t3でワード線WLi
の電位が所定の電位を超えた後にも、共通データ線CD
Lおよびビット線BLjの電位は出力回路4のしきい値
THよりも高いハイレベルを維持する。したがって、出
力回路4は出力端子OLの電位をハイレベルに保持す
る。
Information "1" is stored in the selected memory cell Cij.
Is stored in the word line WLi at time t3.
After the potential of the common data line CD exceeds a predetermined potential.
L and the potential of the bit line BLj maintain a high level higher than the threshold value TH of the output circuit 4. Therefore, the output circuit 4 holds the potential of the output terminal OL at a high level.

【0061】なお、一点鎖線で示すように、読み出し動
作時にクロック信号Φ2の電位をローレベルのまま保つ
と、トランスファゲート30Bがオン状態を維持し、共
通データ線CDLがノードNに接続された状態を維持す
る。その場合、共通データ線CDLにはその共通データ
線CDLの寄生容量およびキャパシタトランジスタ30
Aの容量が付加された状態を維持するので、共通データ
線CDLおよびビット線BLjの電位の低下速度が遅く
なる。それにより、共通データ線CDLの電位が時点t
6で出力回路4のしきい値TH以下となり、出力端子O
Lの電位がローレベルに立ち下がる。
As shown by the dashed line, when the potential of the clock signal Φ2 is kept at the low level during the read operation, the transfer gate 30B is kept on, and the common data line CDL is connected to the node N. To maintain. In this case, the parasitic capacitance of the common data line CDL and the capacitor transistor 30 are connected to the common data line CDL.
Since the state where the capacitance of A is added is maintained, the rate of decrease in the potential of the common data line CDL and the bit line BLj is reduced. As a result, the potential of the common data line CDL becomes t
6, the output terminal 4 becomes equal to or less than the threshold value TH of the output circuit 4, and the output terminal O
The potential of L falls to a low level.

【0062】このように、選択されたビット線BLjを
共通データ線CDLを介してキャパシタトランジスタ3
0Aの電圧で充電した後にトランスファゲート30Bを
オフにして共通データ線CDLをキャパシタトランジス
タ30Aから切り離すことにより、出力端子OLの電位
の立ち下がりのタイミングを時間Δtだけ早めることが
できる。
As described above, the selected bit line BLj is connected to the capacitor transistor 3 via the common data line CDL.
By turning off the transfer gate 30B after charging with the voltage of 0A and disconnecting the common data line CDL from the capacitor transistor 30A, the fall timing of the potential of the output terminal OL can be advanced by the time Δt.

【0063】また、トランスファゲート30Bにより共
通データ線CDLをキャパシタトランジスタ30Aから
切り離すことにより任意のタイミングでキャパシタトラ
ンジスタ30Aを充電することができる。それにより、
待機時間を短縮することが可能になる。例えば図2のク
ロック信号Φ2を破線で示すように時点t3よりも早い
タイミングで立ち下げてもよい。
By separating the common data line CDL from the capacitor transistor 30A by the transfer gate 30B, the capacitor transistor 30A can be charged at an arbitrary timing. Thereby,
The waiting time can be reduced. For example, the clock signal Φ2 in FIG. 2 may fall at a timing earlier than the time point t3 as shown by a broken line.

【0064】なお、図4に示した従来のマスクROMで
は、ダミービット線20Bを充電するためにビット線選
択回路12によりビット線BL1〜BLnを共通データ
線CDLから切り離す必要がある。
In the conventional mask ROM shown in FIG. 4, the bit lines BL1 to BLn need to be separated from the common data line CDL by the bit line selection circuit 12 in order to charge the dummy bit line 20B.

【0065】これに対して、図1の半導体記憶装置で
は、トランスファゲート30Bにより共通データ線CD
Lをキャパシタトランジスタ30Aから切り離すことが
できるので、ビット線BL1〜BLnのいずれかがビッ
ト線選択回路2を介して共通データ線CDLに接続され
た状態でキャパシタトランジスタ30Aを充電すること
が可能となる。この場合の動作について以下に説明す
る。
On the other hand, in the semiconductor memory device of FIG. 1, the transfer gate 30B controls the common data line CD.
Since L can be separated from the capacitor transistor 30A, the capacitor transistor 30A can be charged in a state where any of the bit lines BL1 to BLn is connected to the common data line CDL via the bit line selection circuit 2. . The operation in this case will be described below.

【0066】図3は図1の半導体記憶装置の読み出し動
作の他の例を説明するための波形図である。
FIG. 3 is a waveform diagram for explaining another example of the read operation of the semiconductor memory device of FIG.

【0067】図3の例では、選択されたビット線BLj
がビット線選択回路2を介して共通データ線CDLに接
続された状態でワード線選択回路1により複数のワード
線WL1〜WLmがランダムに順次選択される。この
間、クロック信号Φrはローレベルとなっている。それ
により、リセット回路6はオフしている。
In the example of FIG. 3, the selected bit line BLj
Are connected to the common data line CDL via the bit line selection circuit 2 and the word line selection circuit 1 randomly selects a plurality of word lines WL1 to WLm. During this time, the clock signal Φr is at the low level. As a result, the reset circuit 6 is off.

【0068】まず、クロック信号Φpがハイレベルにな
っている。それにより、プリチャージ回路7はオフして
いる。このとき、クロック信号Φ2はハイレベルとなっ
ている。それにより、ダイナミックプリチャージ回路3
0のトランスファゲート30Bがオフし、共通データ線
CDLがノードNから切り離されている。また、クロッ
ク信号Φ1がローレベルになっている。それにより、充
電用トランジスタ30Cがオンし、ノードNが電源電圧
Vccに充電される。
First, the clock signal Φp is at the high level. Thus, the precharge circuit 7 is off. At this time, the clock signal Φ2 is at the high level. Thereby, the dynamic precharge circuit 3
The transfer gate 30B of 0 is turned off, and the common data line CDL is disconnected from the node N. Further, the clock signal Φ1 is at the low level. Thereby, charging transistor 30C is turned on, and node N is charged to power supply voltage Vcc.

【0069】このとき、ビット線BLjおよび共通デー
タ線CDLの電位は、ローレベルになっているものとす
る。時点t11で選択されたワード線WLiの電位がハ
イレベルに立ち上がる。
At this time, it is assumed that the potentials of bit line BLj and common data line CDL are at low level. At time t11, the potential of the selected word line WLi rises to a high level.

【0070】その後、クロック信号Φ1がハイレベルに
立ち上がる。それにより、充電用トランジスタ30Cが
オフする。
Thereafter, the clock signal Φ1 rises to a high level. This turns off the charging transistor 30C.

【0071】次に、時点t12でクロック信号Φ2がロ
ーレベルに立ち下がる。それにより、トランスファゲー
ト30Bがオンし、ビット線BLjおよび共通データ線
CDLがノードNに接続される。また、クロック信号Φ
pがローレベルに立ち下がる。それにより、プリチャー
ジ回路7がオンする。その結果、共通データ線CDLお
よびビット線BLjの電位が上昇する。
Next, at time t12, the clock signal Φ2 falls to a low level. Thereby, transfer gate 30B is turned on, and bit line BLj and common data line CDL are connected to node N. Also, the clock signal Φ
p falls to a low level. Thereby, the precharge circuit 7 turns on. As a result, the potentials of the common data line CDL and the bit line BLj increase.

【0072】本例では、ノードNの電位が既に電源電圧
Vccに充電されているので、共通データ線CDLおよ
びビット線BLjの電位の立ち上がり速度が速くなる。
In this example, since the potential of node N has already been charged to power supply voltage Vcc, the rising speed of the potential of common data line CDL and bit line BLj increases.

【0073】このとき、共通データ線CDLにノードN
を介してキャパシタトランジスタ30Aが接続されてい
るので、共通データ線CDLにはその共通データ線CD
Lの寄生容量およびキャパシタトランジスタ30Aの容
量が付加されている。そのため、共通データ線CDLお
よびビット線BLjの電位が出力回路4のしきい値TH
よりも高いレベルに設定される。
At this time, node N is connected to common data line CDL.
Is connected to the common data line CDL via the common data line CDL.
The parasitic capacitance of L and the capacitance of the capacitor transistor 30A are added. Therefore, the potentials of common data line CDL and bit line BLj are set to threshold value TH of output circuit 4.
Set to a higher level.

【0074】ワード線WLiおよびビット線BLjに接
続されたメモリセルCijに情報“0”が記憶されてい
る場合には、共通データ線CDLおよびノードNの電荷
がビット線選択回路2、ビット線BLjおよびメモリセ
ルCijを介して接地線SLに放電される。それによ
り、共通データ線CDLおよびビット線BLjの電位が
低下する。
When information "0" is stored in memory cell Cij connected to word line WLi and bit line BLj, charges on common data line CDL and node N are transferred to bit line selection circuit 2, bit line BLj And is discharged to ground line SL via memory cell Cij. Thereby, the potentials of common data line CDL and bit line BLj decrease.

【0075】時点t13でクロック信号Φ2がハイレベ
ルに立ち上がる。それにより、トランスファゲート30
Bがオフし、共通データ線CDLがノードNおよびキャ
パシタトランジスタ30Aから切り離される。同時に、
クロック信号Φpがハイレベルに立ち上がる。それによ
り、プリチャージ回路7がオフする。また、クロック信
号Φ1がローレベルに立ち下がる。それにより、充電用
トランジスタ30Cがオンし、ノードNが充電される。
At time t13, the clock signal Φ2 rises to a high level. Thereby, the transfer gate 30
B turns off, and the common data line CDL is disconnected from the node N and the capacitor transistor 30A. at the same time,
The clock signal Φp rises to a high level. Thereby, the precharge circuit 7 turns off. Further, the clock signal Φ1 falls to a low level. Thereby, the charging transistor 30C is turned on, and the node N is charged.

【0076】この場合、共通データ線CDLがキャパシ
タトランジスタ30Aから切り離されるため、共通デー
タ線CDLにはその共通データ線CDLの寄生容量のみ
が付加されている。したがって、共通データ線CDLお
よびビット線BLjの電位の立ち下がり速度が速くな
る。それにより、時点t14で共通データ線CDLの電
位が出力回路4のしきい値TH以下に下降する。その結
果、出力回路4は、出力端子OLの電位をローレベルに
立ち下げる。
In this case, since the common data line CDL is disconnected from the capacitor transistor 30A, only the parasitic capacitance of the common data line CDL is added to the common data line CDL. Therefore, the falling speed of the potentials of the common data line CDL and the bit line BLj increases. As a result, at time t14, the potential of the common data line CDL falls below the threshold value TH of the output circuit 4. As a result, the output circuit 4 lowers the potential of the output terminal OL to a low level.

【0077】ワード線WLiおよびビット線BLjに接
続されたメモリセルCijに情報“1”が記憶されてい
る場合には、ビット線BLjおよび共通データ線CDL
の電位が出力回路4のしきい値THよりも高いハイレベ
ルまで上昇してそのレベルを維持する。したがって、出
力回路4は出力端子OLの電位をハイレベルに保持す
る。
When information "1" is stored in memory cell Cij connected to word line WLi and bit line BLj, bit line BLj and common data line CDL are stored.
Rises to a high level higher than the threshold value TH of the output circuit 4 and maintains that level. Therefore, the output circuit 4 holds the potential of the output terminal OL at a high level.

【0078】なお、一点鎖線で示すように、時点t13
の後もクロック信号Φ2をローレベルのまま保つと、ト
ランスファゲート30Bがオン状態を維持し、共通デー
タ線CDLがノードNに接続された状態を維持する。そ
の場合、共通データ線CDLにはその共通データ線CD
Lの寄生容量およびキャパシタトランジスタ30Aの容
量が付加された状態を維持するので、ビット線BLjお
よび共通データ線CDLの電位の低下速度が遅くなる。
そのため、共通データ線CDLの電位が時点t15で出
力回路4のしきい値TH以下となり、出力端子OLの電
位がローレベルに立ち下がる。
As shown by the dashed line, at time t13
After that, if the clock signal Φ2 is kept at the low level, the transfer gate 30B maintains the ON state, and the state where the common data line CDL is connected to the node N is maintained. In this case, the common data line CDL is connected to the common data line CDL.
Since the state where the parasitic capacitance of L and the capacitance of the capacitor transistor 30A are added is maintained, the rate of decrease in the potential of the bit line BLj and the common data line CDL is reduced.
Therefore, the potential of the common data line CDL becomes equal to or lower than the threshold value TH of the output circuit 4 at time t15, and the potential of the output terminal OL falls to a low level.

【0079】本例においても、選択されたビット線BL
jを共通データ線CDLを介してキャパシタトランジス
タ30Aの電圧で充電した後に共通データ線CDLをキ
ャパシタトランジスタ30Aから切り離すことにより、
出力端子OLの電位の立ち下がりのタイミングを時間Δ
tだけ早めることができる。
Also in this example, the selected bit line BL
j is charged with the voltage of the capacitor transistor 30A via the common data line CDL, and then the common data line CDL is separated from the capacitor transistor 30A.
The timing of the fall of the potential of the output terminal OL is represented by time Δ
can be advanced by t.

【0080】上記のように、図1の半導体記憶装置で
は、トランスファゲート30Bにより共通データ線CD
Lをキャパシタトランジスタ30Aから切り離すことが
できるので、選択されたビット線BLjをビット線選択
回路2を介して共通データ線CDLに接続した状態でキ
ャパシタトランジスタ30Aを充電することができる。
したがって、選択されたビット線BLjをビット線選択
回路2を介して共通データ線CDLに接続したまま複数
のワード線WL1〜WLmをランダムに順次選択する動
作を行うことができ、高速のアクセス動作が実現され
る。
As described above, in the semiconductor memory device of FIG. 1, common data line CD is provided by transfer gate 30B.
Since L can be separated from the capacitor transistor 30A, the capacitor transistor 30A can be charged while the selected bit line BLj is connected to the common data line CDL via the bit line selection circuit 2.
Therefore, the operation of randomly selecting a plurality of word lines WL1 to WLm can be performed while the selected bit line BLj is connected to the common data line CDL via the bit line selection circuit 2, and a high-speed access operation can be performed. Is achieved.

【0081】なお、上記実施例では、本発明をマスクR
OMに適用した場合について説明したが、本発明は、マ
スクROMに限らず、その他のROMにも適用すること
ができ、あるいはその他の半導体記憶装置にも適用する
ことができる。
In the above embodiment, the present invention is applied to the mask R
Although the case where the present invention is applied to the OM has been described, the present invention is not limited to the mask ROM, but can be applied to other ROMs or other semiconductor memory devices.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例における半導体記憶装置の構
成を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention.

【図2】図1の半導体記憶装置の読み出し動作の一例を
説明するための波形図である。
FIG. 2 is a waveform chart for explaining an example of a read operation of the semiconductor memory device of FIG. 1;

【図3】図1の半導体記憶装置の読み出し動作の他の例
を説明するための波形図である。
FIG. 3 is a waveform chart for explaining another example of the read operation of the semiconductor memory device of FIG. 1;

【図4】従来のマスクROMの構成の一例を示す回路図
である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of a configuration of a conventional mask ROM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ワード線選択回路 2 ビット線選択回路 4 出力回路 6 リセット回路 7 プリチャージ回路 30 ダイナミックプリチャージ回路 30A キャパシタトランジスタ 30B トランスファゲート 30C 充電用トランジスタ WL1〜WLm ワード線 BL1〜BLn ビット線 N ノード CDL 共通データ線 OL 出力端子 Reference Signs List 1 word line selection circuit 2 bit line selection circuit 4 output circuit 6 reset circuit 7 precharge circuit 30 dynamic precharge circuit 30A capacitor transistor 30B transfer gate 30C charging transistor WL1 to WLm word line BL1 to BLn bit line N node CDL common data Line OL output terminal

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のビット線と、 前記複数のビット線に交差するように配置された複数の
ワード線と、 前記複数のビット線と前記複数のワード線との交差部に
設けられ、情報を記憶する複数のメモリセルと、 前記複数のビット線に共通に設けられた共通データ線
と、 前記複数のビット線のいずれかを選択し、選択されたビ
ット線を前記共通データ線に接続するビット線選択手段
と、 前記メモリセルから対応するビット線への情報の読み出
しのために前記複数のワード線のいずれかを選択するワ
ード線選択手段と、 前記共通データ線に付加される容量の値を第1の値とし
た状態で前記共通データ線を前記ビット線選択手段によ
り選択されたビット線とともに充電した後、前記共通デ
ータ線に付加される容量の値を前記第1の値よりも小さ
い第2の値に減少させる充電手段とを備えたことを特徴
とする半導体記憶装置。
A plurality of bit lines; a plurality of word lines arranged so as to intersect with the plurality of bit lines; and an information portion provided at an intersection between the plurality of bit lines and the plurality of word lines. A plurality of memory cells, a common data line provided in common with the plurality of bit lines, and selecting one of the plurality of bit lines, and connecting the selected bit line to the common data line Bit line selecting means; word line selecting means for selecting any of the plurality of word lines for reading information from the memory cell to a corresponding bit line; and a value of capacitance added to the common data line After the common data line is charged together with the bit line selected by the bit line selecting means in a state where is set to the first value, the value of the capacitance added to the common data line is smaller than the first value. And a charging means for reducing the value to a second value.
【請求項2】 前記充電手段は、 容量手段と、 前記容量手段を充電する容量充電手段と、 前記容量充電手段により充電された前記容量手段を前記
共通データ線に接続することにより前記共通データ線を
前記ビット線選択手段により選択されたビット線ととも
に充電した後、前記容量手段を前記共通データ線から切
り離す接続手段とを含むことを特徴とする請求項1記載
の半導体記憶装置。
2. The common data line according to claim 2, wherein said charging means comprises: a capacity means; a capacity charging means for charging said capacity means; and said capacity means charged by said capacity charging means connected to said common data line. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising: connection means for disconnecting said capacitance means from said common data line after charging with said bit line selected by said bit line selection means.
【請求項3】 前記接続手段は、前記共通データ線と前
記容量手段との間に接続されたスイッチング素子である
ことを特徴とする請求項2記載の半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein said connection means is a switching element connected between said common data line and said capacitance means.
【請求項4】 前記容量充電手段は、前記ビット線選択
手段により選択されたビット線が前記共通データ線に接
続された状態で前記容量手段を充電することを特徴とす
る請求項2または3記載の半導体記憶装置。
4. The capacitance charging unit according to claim 2, wherein the capacitance charging unit charges the capacitance unit in a state where the bit line selected by the bit line selection unit is connected to the common data line. Semiconductor storage device.
【請求項5】 前記ワード線選択手段は、前記ビット線
選択手段により前記複数のビット線のいずれかが選択さ
れた状態で複数のワード線を順次選択することを特徴と
する請求項2〜4のいずれかに記載の半導体記憶装置。
5. The word line selecting means sequentially selects a plurality of word lines while any one of the plurality of bit lines is selected by the bit line selecting means. The semiconductor memory device according to any one of the above.
【請求項6】 複数のビット線と、前記複数のビット線
に交差するように配置された複数のワード線と、前記複
数のビット線と前記複数のワード線との交差部に設けら
れたメモリセルと、前記複数のビット線に共通に設けら
れた共通データ線とを備えた半導体記憶装置の動作方法
であって、 前記複数のビット線のいずれかを選択し、選択されたビ
ット線を前記共通データ線に接続するステップと、 メモリセルから対応するビット線への情報の読み出しの
ために前記複数のワード線のいずれかを選択するステッ
プと、 前記共通データ線に付加される容量の値を第1の値とし
た状態で前記共通データ線を前記選択されたビット線と
ともに充電した後、前記共通データ線に付加される容量
の値を前記第1の値よりも小さい第2の値に減少させる
ステップとを備えたことを特徴とする半導体記憶装置の
動作方法。
6. A plurality of bit lines, a plurality of word lines arranged to cross the plurality of bit lines, and a memory provided at an intersection of the plurality of bit lines and the plurality of word lines. A method of operating a semiconductor memory device comprising: a cell; and a common data line provided commonly to the plurality of bit lines, the method comprising: selecting one of the plurality of bit lines; Connecting to a common data line, selecting one of the plurality of word lines for reading information from a memory cell to a corresponding bit line, and selecting a value of a capacitance added to the common data line. After charging the common data line with the selected bit line in the state where the first value is set, the value of the capacitance added to the common data line is reduced to a second value smaller than the first value. Letting And an operation method of the semiconductor memory device.
【請求項7】 前記減少させるステップは、 容量手段を充電するステップと、 充電された前記容量手段を前記共通データ線に接続する
ことにより前記共通データ線および前記選択されたビッ
ト線を充電するステップと、 前記容量手段による前記共通データ線および前記選択さ
れたビット線の充電後、前記容量手段を前記共通データ
線から切り離すステップとを含むことを特徴とする請求
項6記載の半導体記憶装置の動作方法。
7. The step of charging includes: charging a capacitance unit; and charging the common data line and the selected bit line by connecting the charged capacitance unit to the common data line. 7. The operation of the semiconductor memory device according to claim 6, further comprising: after charging the common data line and the selected bit line by the capacitance unit, disconnecting the capacitance unit from the common data line. Method.
【請求項8】 前記容量手段を充電するステップは、前
記選択されたビット線が前記共通データ線に接続された
状態で前記容量手段を充電することを特徴とする請求項
7記載の半導体記憶装置の動作方法。
8. The semiconductor memory device according to claim 7, wherein said step of charging said capacitance means charges said capacitance means with said selected bit line connected to said common data line. How it works.
【請求項9】 前記複数のワード線のいずれかを選択す
るステップは、前記選択されたビット線を前記共通デー
タ線に接続した状態で前記複数のワード線を順次選択す
ることを特徴とする請求項7または8記載の半導体記憶
装置の動作方法。
9. The method according to claim 1, wherein the step of selecting any one of the plurality of word lines includes sequentially selecting the plurality of word lines while the selected bit line is connected to the common data line. Item 9. The method for operating a semiconductor memory device according to item 7 or 8.
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