JP2001222000A - Liquid crystal panel and liquid crystal projector - Google Patents

Liquid crystal panel and liquid crystal projector

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JP2001222000A JP2000358723A JP2000358723A JP2001222000A JP 2001222000 A JP2001222000 A JP 2001222000A JP 2000358723 A JP2000358723 A JP 2000358723A JP 2000358723 A JP2000358723 A JP 2000358723A JP 2001222000 A JP2001222000 A JP 2001222000A
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舜平 山崎
Jun Koyama
潤 小山
Kazuhiko Tamai
和彦 玉井
Yutaka Takato
裕 高藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal panel that video brightness is high and deterioration of display quality due to defects such as display unevenness or uneven brightness, is suppressed. SOLUTION: The liquid crystal panel is provided with a pixel part having plural thin film transistors and pixel electrodes formed on the first substrate, the second substrate, a liquid crystal and gap holding members arranged between the first and the second substrates and a micro lens array having plural micro lenses arranged on the second substrate on the side opposite to the first substrate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本明細書で開示する発明は、
液晶パネルに関する。また液晶パネルを用いた液晶プロ
ジェクターに関する。
TECHNICAL FIELD [0001] The invention disclosed in the present specification is:
Related to liquid crystal panels. The invention also relates to a liquid crystal projector using a liquid crystal panel.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近安価なガラス基板上に半導体薄膜を
形成した半導体装置、例えば薄膜トランジスタ(TF
T)を作製する技術が急速に発達してきている。その理
由は、アクティブマトリクス型液晶パネルの需要が高ま
ってきたことによる。
2. Description of the Related Art Recently, a semiconductor device in which a semiconductor thin film is formed on an inexpensive glass substrate, for example, a thin film transistor (TF)
The technology for making T) is developing rapidly. The reason is that the demand for active matrix type liquid crystal panels has increased.

【0003】アクティブマトリクス型液晶パネル(液晶
パネル)は、マトリクス状に配置された数十〜数百万個
もの画素部にそれぞれ薄膜トランジスタ(画素TFT)
が配置され、各画素電極に出入りする電荷を画素TFT
のスイッチング機能により制御するものである。
An active matrix type liquid crystal panel (liquid crystal panel) includes thin film transistors (pixel TFTs) in tens to millions of pixel portions arranged in a matrix.
Are arranged, and the charge flowing into and out of each pixel electrode is
This is controlled by the switching function.

【0004】また、その中でも液晶パネルを用いた投射
型表示装置、いわゆるプロジェクターが、急速にその市
場を拡大してきている。その理由として、液晶プロジェ
クターは、CRTを用いたプロジェクターと比較して、
色再現性がよく、小型、軽量、低消費電力であること等
が上げられる。
[0004] Among them, a projection type display device using a liquid crystal panel, a so-called projector, is rapidly expanding its market. The reason is that the liquid crystal projector is compared with the projector using the CRT,
It has good color reproducibility, small size, light weight, low power consumption, and the like.

【0005】液晶プロジェクターは、使用する液晶パネ
ルの数によって3板式と単板式とに分類される。
[0005] Liquid crystal projectors are classified into three-panel type and single-panel type according to the number of liquid crystal panels used.

【0006】単板式の液晶プロジェクターは、上述した
3板式の液晶プロジェクターと比較して、光学部品が1
/3で済むことから、価格やサイズなどにおいて優れて
いる。しかし、3板式と従来の単板式とで同じ液晶パネ
ルを用いた場合、3板式は1つの画素に3色を重ねてい
るのに対して、単板式は1つの画素を一色の画素として
しか利用できないため、単板式は3板式に比べて画質が
劣る。しかも、上記の単板式の液晶プロジェクターは、
光源からの白色光のうち不要な成分をカラーフィルタに
吸収させることによって所望の色の画像を得ている。よ
って、液晶パネルに入射した白色光は、1/3しか透過
せず、光の利用効率が悪い。
A single-panel type liquid crystal projector has one optical component compared to the above-mentioned three-panel type liquid crystal projector.
Since only / 3 is required, it is excellent in price and size. However, when the same liquid crystal panel is used in the three-panel type and the conventional single-panel type, the three-panel type uses one pixel as a single-color pixel, whereas the three-panel type uses three colors on one pixel. Since the single-panel type cannot be used, the image quality is inferior to the three-panel type. Moreover, the single-panel LCD projector described above
An image of a desired color is obtained by absorbing unnecessary components of the white light from the light source into the color filter. Therefore, white light incident on the liquid crystal panel transmits only 1/3, and the light use efficiency is poor.

【0007】上記の単板式の液晶プロジェクターの明る
さを向上させるために、光源を明るくする方法がとられ
てきたが、カラーフィルタの光吸収による発熱および耐
光性に対する問題が生じていた。
[0007] In order to improve the brightness of the single-panel type liquid crystal projector, a method of increasing the brightness of a light source has been adopted. However, there have been problems with heat generation and light resistance due to light absorption of a color filter.

【0008】そこで、従来の単板式の液晶プロジェクタ
ーの欠点を克服するために3枚のダイクロイックミラー
を用いた三板式液晶プロジェクターが考え出された。
In order to overcome the drawbacks of the conventional single-panel liquid crystal projector, a three-panel liquid crystal projector using three dichroic mirrors has been devised.

【0009】図14を参照する。図14は、上記の三板
式の液晶プロジェクターの光学系の構成図である。14
01はランプとリフレクターとから成る光源である。光
源1401から赤、緑、青のスペクトルを持つ白色光が
出射される。光源1401は、出射された白色光の平行
度が高くなるように設定されている。また、ランプから
出射される白色光を有効利用するためにリフレクターが
用いられている。
Please refer to FIG. FIG. 14 is a configuration diagram of an optical system of the three-panel liquid crystal projector. 14
01 is a light source composed of a lamp and a reflector. Light source 1401 emits white light having red, green, and blue spectra. The light source 1401 is set so that the parallelism of the emitted white light is high. In addition, a reflector is used to effectively use white light emitted from the lamp.

【0010】光源1401から出射された白色光は、ダ
イクロイックミラー1402、1403に入射する。こ
れらの2枚のダイクロイックミラー1402、1403
は、光源1401からの白色光を3原色の光(赤、緑、
青)に分離する。
[0010] White light emitted from a light source 1401 enters dichroic mirrors 1402 and 1403. These two dichroic mirrors 1402, 1403
Converts white light from the light source 1401 into light of three primary colors (red, green,
Blue).

【0011】ダイクロイックミラー1402は、青
(B)の波長領域の光のみを反射し、その他の光を透過
させる。ダイクロイックミラー1403は、ダイクロイ
ックミラー1402を透過した光のうち赤(R)の波長
領域の光のみを反射し、その他の光を透過させる。全反
射ミラー1404は、ダイクロイックミラー1402お
よび1403を透過した緑の波長領域の光を反射させ
る。このような構成をとることによって、光源1401
から出射された白色光を3原色に分離することができ
る。
The dichroic mirror 1402 reflects only light in the blue (B) wavelength region and transmits other light. The dichroic mirror 1403 reflects only light in the red (R) wavelength region of the light transmitted through the dichroic mirror 1402 and transmits other light. The total reflection mirror 1404 reflects light in the green wavelength region transmitted through the dichroic mirrors 1402 and 1403. With such a configuration, the light source 1401
Can be separated into three primary colors.

【0012】ダイクロイックミラー1402および全反
射ミラー1404において分離された青、緑の光は全反
射ミラー1406および1405によって反射され、そ
れぞれ液晶パネル1407、1409に入射する。また
ダイクロイックミラー1403によって分離された赤の
光は、液晶パネル1408に入射する。液晶パネル14
07、1408、1409を透過した青、赤、緑の透過
光は、ダイクロイックプリズム1410で1つに集めら
れ、投影レンズ1411によってスクリーンに投影され
る。
The blue and green lights separated by the dichroic mirror 1402 and the total reflection mirror 1404 are reflected by total reflection mirrors 1406 and 1405 and enter the liquid crystal panels 1407 and 1409, respectively. The red light separated by the dichroic mirror 1403 enters the liquid crystal panel 1408. LCD panel 14
The blue, red, and green transmitted lights transmitted through 07, 1408, and 1409 are collected by a dichroic prism 1410 and projected on a screen by a projection lens 1411.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】近年、液晶プロジェク
ターは、その薄型、軽量化が求められると同時に、高精
細化、高画質化、及び高輝度化も要求されている。
In recent years, liquid crystal projectors have been required to be thinner and lighter, and also to have higher definition, higher image quality and higher brightness.

【0014】液晶プロジェクターの薄型、軽量化を図る
ためには、液晶パネルの基板サイズの小型化が必要とな
る。基板サイズを小さくして、なおかつ画質を落とさな
いためには、必然的に画素ピッチを小さくして画素部の
面積を小さくしなくてはならない。
In order to reduce the thickness and weight of the liquid crystal projector, it is necessary to reduce the substrate size of the liquid crystal panel. In order to reduce the substrate size and not to degrade the image quality, the pixel pitch must be reduced to reduce the area of the pixel portion.

【0015】図15に液晶パネルの画素の概略図を示
す。配線12と、活性層13と、配線12の一部である
ゲート電極14とを有する画素TFT15と、画素電極
16とが、図15に示すように設けられている。そして
配線12と画素TFT15との上に、可視光を透過する
必要のない領域を覆ってブラックマトリクス17が設け
られている。ブラックマトリクス(BM)とは、可視光
を透過させる必要のない配線、画素TFT等の上方に設
けられる遮光性を有する膜のことを指す。
FIG. 15 is a schematic view of a pixel of a liquid crystal panel. A pixel TFT 15 having a wiring 12, an active layer 13, and a gate electrode 14 which is a part of the wiring 12, and a pixel electrode 16 are provided as shown in FIG. A black matrix 17 is provided on the wiring 12 and the pixel TFT 15 so as to cover a region that does not need to transmit visible light. A black matrix (BM) refers to a light-blocking film provided above a wiring which does not need to transmit visible light, a pixel TFT, and the like.

【0016】画素ピッチLとは、画素11を挟んで向か
い合っている配線12どうしの距離の短い方を指す。ま
た、向かい合っている配線12どうしの距離が行方向の
配線と、列方向の配線とで同じ場合は、両方の配線同志
の距離を指す。
The pixel pitch L indicates a shorter distance between the wirings 12 facing each other across the pixel 11. If the distance between the wirings 12 facing each other is the same between the wiring in the row direction and the wiring in the column direction, it indicates the distance between both wirings.

【0017】液晶を駆動するための薄膜トランジスタ
(画素TFT)及び配線は、画素ピッチを縮小するのと
同じスケールで縮小することは難しい。
It is difficult to reduce the thin film transistor (pixel TFT) and the wiring for driving the liquid crystal on the same scale as reducing the pixel pitch.

【0018】薄膜トランジスタを小さくしすぎると流れ
る電流の量が限られてしまう。よって画素TFTが小さ
すぎると、液晶の駆動に必要な電流を流すことが難しく
なってしまう。また配線を細くしすぎると、配線の抵抗
が大きくなってしまう。このため画素TFTと配線とを
縮小するのには限界がある。
If the size of the thin film transistor is too small, the amount of current flowing is limited. Therefore, if the pixel TFT is too small, it becomes difficult to supply a current necessary for driving the liquid crystal. On the other hand, if the wiring is too thin, the resistance of the wiring increases. Therefore, there is a limit in reducing the pixel TFT and the wiring.

【0019】よって、画素ピッチを小さくすると、画素
TFTや配線などBMに覆われている部分の画素に占め
る割合が大きくなり、開口率が低下してしまう。
Therefore, when the pixel pitch is reduced, the ratio of the portion covered by the BM, such as the pixel TFT and the wiring, to the pixel increases, and the aperture ratio decreases.

【0020】開口率が低下すると、光源の輝度を上げな
い限り映像の輝度が低くなる。しかし光源の輝度を上げ
ると、消費電力が大きくなり好ましくない。
When the aperture ratio decreases, the brightness of the image decreases unless the brightness of the light source is increased. However, increasing the brightness of the light source is not preferable because power consumption increases.

【0021】そこで、光源の輝度を上げることなく映像
の輝度を上げるために、マイクロレンズアレイを液晶パ
ネルの光の入射する側に形成することが考えられる。
Therefore, in order to increase the brightness of an image without increasing the brightness of a light source, it is conceivable to form a microlens array on the light incident side of a liquid crystal panel.

【0022】ここで示すマイクロレンズアレイは、各画
素に1対1で対応したマイクロレンズを複数有するもの
である。マイクロレンズアレイによって、本来ブラック
マトリクスによって遮光されていた光は、画素部の可視
光が透過する部分に集められる。そのため、光の利用効
率を高めることができ、光源の輝度を上げることなく、
映像の輝度を上げることができる。
The microlens array shown here has a plurality of microlenses corresponding to each pixel on a one-to-one basis. The light originally blocked by the black matrix by the microlens array is collected at a portion of the pixel portion where visible light is transmitted. Therefore, the light use efficiency can be increased, and without increasing the brightness of the light source,
The brightness of the image can be increased.

【0023】図16にマイクロレンズアレイを有する液
晶パネルの断面図を示す。TFT基板21、画素TFT
23、画素電極22、配向膜31、液晶24、対向電極
25、BM26、対向基板28が図に示すように設けら
れている。
FIG. 16 is a sectional view of a liquid crystal panel having a microlens array. TFT substrate 21, pixel TFT
23, a pixel electrode 22, an alignment film 31, a liquid crystal 24, a counter electrode 25, a BM 26, and a counter substrate 28 are provided as shown in the figure.

【0024】複数のマイクロレンズ30を有するマイク
ロレンズアレイ27は、対向基板28に対してTFT基
板21の反対側に設けられている。図16ではマイクロ
レンズアレイ27は、対向基板28と接するように設け
られているが、対向基板28と距離をおいて設けても良
い。
The microlens array 27 having a plurality of microlenses 30 is provided on the opposite side of the TFT substrate 21 with respect to the counter substrate 28. In FIG. 16, the microlens array 27 is provided so as to be in contact with the counter substrate 28, but may be provided at a distance from the counter substrate 28.

【0025】1画素に対して1つのマイクロレンズ30
が対応するように設けられており、画素ピッチによって
マイクロレンズ30のサイズが決定する。
One micro lens 30 for one pixel
Are provided so as to correspond to each other, and the size of the microlens 30 is determined by the pixel pitch.

【0026】対向基板28側から入射する光はマイクロ
レンズ30によって集められ、画素の開口部29に入射
する。
Light incident from the counter substrate 28 is collected by the microlens 30 and enters the opening 29 of the pixel.

【0027】図17に、マイクロレンズ30の断面図を
示す。マイクロレンズ30の球面から入射した光は屈折
し、焦点Oを通過する。マイクロレンズの主点O’と焦
点Oとの距離が焦点距離fである。図に示すマイクロレ
ンズでは主点がマイクロレンズの球面の頂点となってい
るが、マイクロレンズの形状によって主点の位置は異な
る。
FIG. 17 is a sectional view of the microlens 30. As shown in FIG. Light incident from the spherical surface of the microlens 30 is refracted and passes through the focal point O. The distance between the principal point O ′ of the microlens and the focal point O is the focal length f. In the microlens shown in the figure, the principal point is the vertex of the spherical surface of the microlens, but the position of the principal point differs depending on the shape of the microlens.

【0028】マイクロレンズ30を球体の一部とみたと
きのその球体の中心を中心C、半径を曲率半径rとす
る。
When the microlens 30 is regarded as a part of a sphere, the center of the sphere is defined as a center C, and the radius is defined as a radius of curvature r.

【0029】マイクロレンズの直径Dは対応する画素の
画素ピッチで決まるため、液晶パネルの画素部の面積を
縮小すると、マイクロレンズの直径Dも縮小することが
必要である。
Since the diameter D of the microlens is determined by the pixel pitch of the corresponding pixel, it is necessary to reduce the diameter D of the microlens when the area of the pixel portion of the liquid crystal panel is reduced.

【0030】マイクロレンズの直径Dを小さくするに
は、曲率半径rを変えないで相似形を保ったまま小さく
する方法と、曲率半径rを小さくする方法とがある。
In order to reduce the diameter D of the microlens, there are a method of reducing the radius of curvature r while keeping the similar shape without changing the radius of curvature, and a method of reducing the radius of curvature r.

【0031】前者は、設計、製作上、容易ではなく、マ
イクロレンズアレイの単位面積あたりのマイクロレンズ
の数(集積度)を多くすることが難しい。
The former is not easy in design and manufacture, and it is difficult to increase the number of microlenses per unit area of the microlens array (integration degree).

【0032】またレンズのF値は焦点距離を直径で割っ
た値である。曲率半径が同じレンズは焦点距離が等し
い。そのため曲率半径rを変えないで相似形を保ったま
ま直径Dを小さくするとF値が大きくなり、像面に達す
る単位面積あたりの光量が少なくなり好ましくない。
The F value of the lens is a value obtained by dividing the focal length by the diameter. Lenses having the same radius of curvature have the same focal length. Therefore, if the diameter D is reduced while maintaining the similar shape without changing the curvature radius r, the F value increases, and the amount of light per unit area reaching the image plane decreases, which is not preferable.

【0033】曲率半径rを小さくすることで直径Dを小
さくする後者の方法は、前者の方法に比べて設計、製作
が比較的容易である。しかし曲率半径rを小さくすると
焦点深度が浅くなり、画素の開口部に光を効率よく集め
ることが難しくなる。以下にその理由を詳しく説明す
る。
The latter method of reducing the diameter D by reducing the radius of curvature r is relatively easier to design and manufacture than the former method. However, when the radius of curvature r is reduced, the depth of focus becomes shallow, and it becomes difficult to efficiently collect light at the opening of the pixel. The reason will be described below in detail.

【0034】焦点深度とは、結像面が光軸方向に移動し
た場合に要求分解能を満足しうる結像面の移動距離であ
る。焦点深度Tは要求分解能SとF値とから以下の式1
で求められる。
The depth of focus is a moving distance of the image plane that can satisfy the required resolution when the image plane moves in the optical axis direction. The depth of focus T is calculated from the required resolution S and F value by the following equation (1).
Is required.

【0035】[0035]

【式1】 T=2×S×F[Equation 1] T = 2 × S × F

【0036】要求分解能Sはこの場合、画素の開口部の
大きさに比例しており、開口部が大きい、つまり画素ピ
ッチが大きいと要求分解能Sは大きくなり、逆に開口部
が小さい、つまり画素ピッチが小さいと要求分解能Sは
小さくなる。
In this case, the required resolution S is proportional to the size of the opening of the pixel. The larger the opening, that is, the larger the pixel pitch, the larger the required resolution S, and conversely, the smaller the opening, that is, the pixel. If the pitch is small, the required resolution S becomes small.

【0037】F値は焦点距離fとマイクロレンズの直径
Dから、以下の式2によって求められる。
The F value is obtained from the focal length f and the diameter D of the microlens by the following equation (2).

【0038】[0038]

【式2】 F=f/D[Formula 2] F = f / D

【0039】マイクロレンズの直径Dは画素ピッチに比
例しており、要求分解能Sと同じく画素ピッチが大きい
と直径Dは大きくなり、画素ピッチが小さいと直径Dも
小さくなる。
The diameter D of the microlens is proportional to the pixel pitch. Like the required resolution S, the larger the pixel pitch, the larger the diameter D, and the smaller the pixel pitch, the smaller the diameter D.

【0040】焦点距離fはマイクロレンズの曲率半径r
と、マイクロレンズの屈折率及び媒体の屈折率で決定す
る定数nとから、以下の式3で求められる。
The focal length f is the radius of curvature r of the micro lens.
And the constant n determined by the refractive index of the microlens and the refractive index of the medium, are obtained by the following equation (3).

【0041】[0041]

【式3】 f=nr[Formula 3] f = nr

【0042】式1乃至式3から、焦点深度Tについて求
めると、以下の式4が導き出せる。
When the depth of focus T is obtained from the equations (1) to (3), the following equation (4) can be derived.

【0043】[0043]

【式4】 T=(2n×r)・S/D[Formula 4] T = (2n × r) · S / D

【0044】ここで要求分解能Sと直径Dとは画素ピッ
チ及び開口部の大きさによって決定する値であり、1次
の同じパラメーターを有している。よって式4から、焦
点深度Tは曲率半径rによって決まることがわかる。マ
イクロレンズアレイの曲率半径rを大きくすると焦点深
度Tも深くなり、逆に曲率半径rを小さくすると焦点深
度Tも浅くなる。
Here, the required resolution S and the diameter D are values determined by the pixel pitch and the size of the aperture, and have the same primary parameters. Therefore, it can be seen from Equation 4 that the depth of focus T is determined by the radius of curvature r. Increasing the radius of curvature r of the microlens array also increases the depth of focus T, and conversely, decreasing the radius of curvature r decreases the depth of focus T.

【0045】TFT基板および対向基板の上面は完全に
平坦ではない。よって、セルギャップが基板全体で不均
一になってしまった場合、そのマイクロレンズの直径D
が大きいときには問題がなくても、直径Dを小さくする
ことによって、映像の輝度ムラとなって見えてしまうと
いう問題があった。そこでセルギャップをより均一にす
ることが要求される。
The upper surfaces of the TFT substrate and the counter substrate are not completely flat. Therefore, when the cell gap becomes non-uniform over the entire substrate, the diameter D of the microlens
Is large, there is a problem that even if there is no problem, by reducing the diameter D, the image becomes uneven in luminance. Therefore, it is required to make the cell gap more uniform.

【0046】また、マイクロレンズはマイクロレンズア
レイ基板の一方の面に対してのみ形成されるため、マイ
クロレンズアレイ基板は平坦ではなく、反りが生じてい
る。また、マイクロレンズアレイを対向基板に紫外線硬
化性樹脂などの接着剤で貼り合わせる場合は、接着剤の
硬化時間のむら、硬化する際の紫外線硬化性樹脂の収
縮、貼り合わせ時の加圧が残留した状態で紫外線硬化性
樹脂が硬化することにより、接着後の対向基板には反り
が生じる。さらに、マイクロレンズアレイ基板と対向基
板の熱膨張係数が異なる場合には、温度変化による基板
の反りが発生する。また、軽量化、低価格化の観点から
薄い基板を使用する場合は、基板に剛性が欠けるため、
これらの基板の反りが発生し、その結果セルギャップが
不均一となり、色むらが生じるという問題があった。そ
こでセルギャップをより均一にすることが要求される。
Also, since the microlenses are formed only on one surface of the microlens array substrate, the microlens array substrate is not flat but warps. Also, when bonding the microlens array to the opposing substrate with an adhesive such as an ultraviolet-curable resin, unevenness in the curing time of the adhesive, shrinkage of the ultraviolet-curable resin during curing, and pressure during bonding remain. When the ultraviolet curable resin is cured in the state, the counter substrate after bonding is warped. Furthermore, when the microlens array substrate and the opposing substrate have different thermal expansion coefficients, the substrate is warped due to a temperature change. When a thin substrate is used from the viewpoint of weight reduction and cost reduction, the substrate lacks rigidity.
These substrates are warped, resulting in a non-uniform cell gap and color unevenness. Therefore, it is required to make the cell gap more uniform.

【0047】TFT基板と対向基板の間に球形のスペー
サを設けた場合、基板の場所によるセルギャップの差
(誤差)をある程度解消することが可能である。しか
し、今後は画素ピッチが40μm以下、好ましくは30
μm以下の液晶パネルを作製する必要があるため、画素
ピッチが小さくなると数μmの球形のスペーサでさえ
も、画素の開口部に存在する場合は表示品質の劣化につ
ながる。
When a spherical spacer is provided between the TFT substrate and the counter substrate, the difference (error) in the cell gap depending on the location of the substrate can be eliminated to some extent. However, in the future, the pixel pitch will be 40 μm or less, preferably 30 μm.
Since it is necessary to manufacture a liquid crystal panel having a size of μm or less, when the pixel pitch is reduced, even a spherical spacer having a size of several μm exists in the opening of the pixel, resulting in deterioration of display quality.

【0048】図18に球形のスペーサを用いた画素の概
略図を示す。配線42と、活性層43及び配線42の一
部であるゲート電極44を有する画素TFT45と、画
素電極46とが、図に示すように設けられている。そし
て配線42と画素TFT45との上に、可視光を透過す
る必要のない領域を覆ってBM47が設けられている。
FIG. 18 is a schematic view of a pixel using a spherical spacer. A wiring 42, a pixel TFT 45 having an active layer 43 and a gate electrode 44 which is a part of the wiring 42, and a pixel electrode 46 are provided as shown in the drawing. The BM 47 is provided on the wiring 42 and the pixel TFT 45 so as to cover a region that does not need to transmit visible light.

【0049】開口部48の画素電極46上に球形のスペ
ーサ49が位置していると、球形のスペーサ49の近傍
は液晶材料の配向性が乱れるため、画像表示の乱れ(デ
ィスクリネーション)が観測される場合がある。
If the spherical spacer 49 is located on the pixel electrode 46 in the opening 48, the liquid crystal material is disturbed in the vicinity of the spherical spacer 49, so that disturbance of image display (disclination) is observed. May be done.

【0050】また同様に配線42上に球形のスペーサ4
9を設けた場合でも、球形のスペーサ49が開口部に近
いとディスクリネーション50が観測される場合があ
る。
Similarly, a spherical spacer 4 is formed on the wiring 42.
Even when 9 is provided, the disclination 50 may be observed when the spherical spacer 49 is close to the opening.

【0051】そしてTFT基板および対向基板自体も、
その上面は完全に平坦ではない。よって、TFT基板の
上面に球形のスペーサを散布しても、基板の場所によっ
てセルギャップが異なってしまい、基板全体に渡って均
一なセルギャップを実現することができない。その結
果、対向基板にひずみを生じることになる。基板の場所
によるセルギャップの差や対向基板にひずみの生じた液
晶パネルには、表示ムラが生じる、対向基板上面に干渉
縞が生じるなどの欠陥が現れる。
The TFT substrate and the counter substrate themselves are also
Its top surface is not perfectly flat. Therefore, even if spherical spacers are scattered on the upper surface of the TFT substrate, the cell gap varies depending on the location of the substrate, and a uniform cell gap cannot be realized over the entire substrate. As a result, the counter substrate is distorted. Defects such as display unevenness and interference fringes appearing on the upper surface of the opposing substrate appear in the liquid crystal panel in which the cell gap differs depending on the position of the substrate and the opposing substrate has a distortion.

【0052】さらに、従来の球形のスペーサは、液晶材
料注入時に、液晶材料の流動によって球形のスペーサ自
体も流れてしまい、結果として均一なスペーサ散布密度
を得ることができず、基板の場所によるセルギャップの
差が生じる原因となることがあった。
Further, in the conventional spherical spacer, when the liquid crystal material is injected, the spherical spacer itself flows due to the flow of the liquid crystal material, and as a result, a uniform spacer distribution density cannot be obtained. In some cases, a gap difference was caused.

【0053】そして一般的に製造または試作されている
液晶パネルは画素ピッチに関係なく、4〜6μm程度の
セルギャップを確保している。また、最近注目されてき
ている強誘電性液晶を用いた液晶パネルには、その特性
上小さいセルギャップが求められている。
Generally, a liquid crystal panel manufactured or prototyped has a cell gap of about 4 to 6 μm irrespective of the pixel pitch. In addition, a liquid crystal panel using a ferroelectric liquid crystal, which has recently attracted attention, is required to have a small cell gap due to its characteristics.

【0054】しかし、従来のような球形のスペーサを用
いて小さく均一なセルギャップを有するセルを作製する
ことは、一般的に困難である。
However, it is generally difficult to manufacture a cell having a small and uniform cell gap using a conventional spherical spacer.

【0055】上述したように、従来の球形のスペーサを
用いてセルギャップを制御する場合は、さまざまな要因
により、良好な表示を得ることが難しいという問題があ
る。
As described above, when the cell gap is controlled using the conventional spherical spacer, there is a problem that it is difficult to obtain a good display due to various factors.

【0056】上述した問題に鑑み、本発明は液晶プロジ
ェクターの薄型、軽量化と同時に、高精細化、高画質化
及び高輝度化することを課題とする。特に光源の輝度を
上げることなく、映像の輝度を上げ、液晶プロジェクタ
ーの表示ムラ、輝度ムラなどの欠陥による表示品質の劣
化を抑えることを課題とする。
In view of the above problems, it is an object of the present invention to reduce the thickness and weight of a liquid crystal projector, and at the same time to increase the definition, image quality and luminance of a liquid crystal projector. In particular, it is an object to increase the luminance of an image without increasing the luminance of a light source, and to suppress deterioration of display quality due to defects such as display unevenness and uneven brightness of a liquid crystal projector.

【0057】[0057]

【課題を解決するための手段】本発明は、画素部を有す
るTFT基板と対向電極を有する対向基板の間に液晶と
ギャップ保持部材とを設けた液晶パネルを3つ有し、液
晶パネルの光が入射する側、つまり対向基板側にそれぞ
れマイクロレンズアレイを設けている三板式の液晶プロ
ジェクターに関する。特に本発明は、基板サイズが対角
1インチ以下の小さい液晶パネルに関する。
According to the present invention, there are provided three liquid crystal panels provided with a liquid crystal and a gap holding member between a TFT substrate having a pixel portion and a counter substrate having a counter electrode. The present invention relates to a three-panel type liquid crystal projector in which a microlens array is provided on the side where light is incident, that is, on the counter substrate side. In particular, the present invention relates to a small liquid crystal panel having a substrate size of 1 inch or less diagonally.

【0058】ギャップ保持部材(ギャップ保持部材)
は、TFT基板または対向基板上に形成された絶縁性被
膜をエッチングすることにより形成される。そのため球
形のスペーサと違って、所望の位置にスペーサを配置す
ることが可能である。そしてセルギャップを球形のスペ
ーサを用いた場合よりも均一に制御することが可能であ
る。
Gap holding member (gap holding member)
Is formed by etching an insulating film formed on a TFT substrate or a counter substrate. Therefore, unlike a spherical spacer, it is possible to arrange the spacer at a desired position. It is possible to control the cell gap more uniformly than when a spherical spacer is used.

【0059】ギャップ保持部材の形状は従来の球形のも
のとは異なっており、底面が円、楕円または多角形の柱
のもの、もしくはその側面がテーパー状のものがある。
また球体の一部を切り取った形のものもある。
The shape of the gap holding member is different from the conventional spherical shape, and may be a column having a circular, elliptical or polygonal bottom surface, or a tapered side surface.
Some spheres are cut out.

【0060】ギャップ保持部材は、画素の画素電極と画
素TFTのドレイン領域に接続された配線(ドレイン配
線)とのコンタクト部上に形成される。画素電極とドレ
イン配線とのコンタクト部は画素の開口部、言い換える
と実際の表示に用いられる可視光が透過する領域、には
位置していない。そして可視光が透過する領域(開口
部)とは、液晶材料の配向性が乱れない程度に離れてい
るので、画像表示の乱れ(ディスクリネーション)が生
じずらい。
The gap holding member is formed on a contact portion between the pixel electrode of the pixel and a wiring (drain wiring) connected to the drain region of the pixel TFT. The contact portion between the pixel electrode and the drain wiring is not located in the opening of the pixel, in other words, in the region where visible light used for actual display is transmitted. Since the liquid crystal material is separated from the region (opening) through which visible light is transmitted to such an extent that the orientation of the liquid crystal material is not disturbed, disturbance (disclination) of image display hardly occurs.

【0061】マイクロレンズアレイが有する複数のマイ
クロレンズは、画素部が有する複数の画素と1対1で対
応している。
The plurality of micro lenses included in the micro lens array correspond to the plurality of pixels included in the pixel portion on a one-to-one basis.

【0062】ギャップ保持部材によって、液晶パネルの
2つの基板を所望の値のセルギャップで均一に制御する
ことができるので、マイクロレンズアレイが微細化する
ことによって焦点深度が浅くなっても、、ディスクリネ
ーション、干渉縞などの液晶プロジェクターの表示ム
ラ、輝度ムラによる表示品質の劣化を抑えることが可能
になる。
Since the two substrates of the liquid crystal panel can be uniformly controlled with a desired value of the cell gap by the gap holding member, even if the depth of focus becomes shallow due to the miniaturization of the microlens array, the disk can be kept in the disc. Deterioration of display quality due to display unevenness and luminance unevenness of the liquid crystal projector such as ligation and interference fringes can be suppressed.

【0063】そして本発明は上記構成によって、光源の
輝度を上げることなく、映像の輝度を上げ、液晶プロジ
ェクターの薄型、軽量化と同時に、高精細化、高画質化
及び高輝度化の実現を可能にした。
According to the present invention, it is possible to increase the brightness of an image without increasing the brightness of a light source and to realize a thinner and lighter liquid crystal projector as well as a higher definition, a higher image quality and a higher brightness. I made it.

【0064】本発明は、特に基板サイズが対角1インチ
以下の小さい液晶パネルにおいて効果的である。
The present invention is particularly effective for a liquid crystal panel having a substrate size as small as 1 inch or less on a diagonal.

【0065】本発明によって、第1の基板と、第2の基
板と、前記第1の基板と前記第2の基板の間に設けられ
た液晶および複数のギャップ保持部材と、複数のマイク
ロレンズを有するマイクロレンズアレイと、を有する液
晶パネルであって、前記マイクロレンズアレイは、前記
第1の基板の、前記第2の基板とは反対の側に設けられ
ていることを特徴とする液晶パネルが提供される。
According to the present invention, a first substrate, a second substrate, a liquid crystal and a plurality of gap holding members provided between the first substrate and the second substrate, and a plurality of microlenses are provided. And a microlens array having the microlens array, wherein the microlens array is provided on a side of the first substrate opposite to the second substrate. Provided.

【0066】本発明によって、複数の画素電極を有する
第1の基板と、対向電極を有する第2の基板と、液晶
と、複数のギャップ保持部材と、複数のマイクロレンズ
を有するマイクロレンズアレイと、を有する液晶パネル
であって、前記第1の基板と前記第2の基板とは、前記
複数の画素電極と、前記対向電極と、液晶と、前記複数
のギャップ保持部材とを間に挟んで対面しており、前記
マイクロレンズアレイは、前記第1の基板の、前記第2
の基板とは反対の側に設けられていることを特徴とする
液晶パネルが提供される。
According to the present invention, a first substrate having a plurality of pixel electrodes, a second substrate having a counter electrode, a liquid crystal, a plurality of gap holding members, a microlens array having a plurality of microlenses, Wherein the first substrate and the second substrate face each other with the plurality of pixel electrodes, the counter electrode, the liquid crystal, and the plurality of gap holding members interposed therebetween. The microlens array is provided on the first substrate,
A liquid crystal panel provided on the side opposite to the substrate.

【0067】本発明によって、複数の画素電極を有する
第1の基板と、対向電極を有する第2の基板と、液晶
と、複数のギャップ保持部材と、複数のマイクロレンズ
を有するマイクロレンズアレイと、を有する液晶パネル
であって、前記第1の基板と前記第2の基板とは、前記
複数の画素電極と、前記対向電極と、液晶と、前記複数
のギャップ保持部材とを間に挟んで対面しており、前記
マイクロレンズアレイは、前記第2の基板の、前記第1
の基板とは反対の側に設けられていることを特徴とする
液晶パネルが提供される。
According to the present invention, a first substrate having a plurality of pixel electrodes, a second substrate having a counter electrode, a liquid crystal, a plurality of gap holding members, a microlens array having a plurality of microlenses, Wherein the first substrate and the second substrate face each other with the plurality of pixel electrodes, the counter electrode, the liquid crystal, and the plurality of gap holding members interposed therebetween. The microlens array is provided on the first substrate of the second substrate.
A liquid crystal panel provided on the side opposite to the substrate.

【0068】本発明によって、複数の画素電極を有する
第1の基板と、対向電極を有する第2の基板と、液晶
と、複数のギャップ保持部材と、複数のマイクロレンズ
を有するマイクロレンズアレイと、を有する液晶パネル
であって、前記第1の基板と前記第2の基板とは、前記
複数の画素電極と、前記対向電極と、液晶と、前記複数
のギャップ保持部材とを間に挟んで対面しており、前記
第2の基板の、前記第1の基板に向かう面とは反対側の
面上に、マイクロレンズアレイが設けられていることを
特徴とする液晶パネルが提供される。
According to the present invention, a first substrate having a plurality of pixel electrodes, a second substrate having a counter electrode, a liquid crystal, a plurality of gap holding members, a microlens array having a plurality of microlenses, Wherein the first substrate and the second substrate face each other with the plurality of pixel electrodes, the counter electrode, the liquid crystal, and the plurality of gap holding members interposed therebetween. A liquid crystal panel is provided, wherein a microlens array is provided on a surface of the second substrate opposite to a surface facing the first substrate.

【0069】本発明によって、複数の画素電極を有する
第1の基板と、対向電極を有する第2の基板と、液晶
と、複数のギャップ保持部材と、複数のマイクロレンズ
を有するマイクロレンズアレイと、を有する液晶パネル
であって、前記第1の基板と前記第2の基板とは、前記
複数の画素電極と、前記対向電極と、液晶と、前記複数
のギャップ保持部材とを間に挟んで対面しており、前記
第1の基板の、前記第2の基板に向かう面とは反対側の
面上に、マイクロレンズアレイが設けられていることを
特徴とする液晶パネルが提供される。
According to the present invention, a first substrate having a plurality of pixel electrodes, a second substrate having a counter electrode, a liquid crystal, a plurality of gap holding members, a microlens array having a plurality of microlenses, Wherein the first substrate and the second substrate face each other with the plurality of pixel electrodes, the counter electrode, the liquid crystal, and the plurality of gap holding members interposed therebetween. A liquid crystal panel is provided, wherein a microlens array is provided on a surface of the first substrate opposite to a surface facing the second substrate.

【0070】本発明によって、複数の薄膜トランジスタ
及び複数の画素電極を有する第1の基板と、対向電極を
有する第2の基板と、液晶と、複数のギャップ保持部材
と、複数のマイクロレンズを有するマイクロレンズアレ
イと、を有する液晶パネルであって、前記第1の基板と
前記第2の基板とは、前記複数の薄膜トランジスタと、
前記複数の画素電極と、前記対向電極と、液晶と、前記
複数のギャップ保持部材とを間に挟んで対面しており、
前記マイクロレンズアレイは、前記第1の基板の、前記
第2の基板とは反対の側に設けられていることを特徴と
する液晶パネルが提供される。
According to the present invention, a first substrate having a plurality of thin film transistors and a plurality of pixel electrodes, a second substrate having a counter electrode, a liquid crystal, a plurality of gap holding members, and a micro substrate having a plurality of micro lenses are provided. A liquid crystal panel having a lens array, wherein the first substrate and the second substrate include: the plurality of thin film transistors;
The plurality of pixel electrodes, the counter electrode, the liquid crystal, and facing each other with the plurality of gap holding members interposed therebetween,
The liquid crystal panel is provided, wherein the microlens array is provided on a side of the first substrate opposite to the side of the second substrate.

【0071】本発明によって、複数の薄膜トランジスタ
及び複数の画素電極を有する第1の基板と、対向電極を
有する第2の基板と、液晶と、複数のギャップ保持部材
と、複数のマイクロレンズを有するマイクロレンズアレ
イと、を有する液晶パネルであって、前記第1の基板と
前記第2の基板とは、前記複数の薄膜トランジスタと、
前記複数の画素電極と、前記対向電極と、液晶と、前記
複数のギャップ保持部材とを間に挟んで対面しており、
前記マイクロレンズアレイは、前記第2の基板の、前記
第1の基板とは反対の側に設けられていることを特徴と
する液晶パネルが提供される。
According to the present invention, a first substrate having a plurality of thin film transistors and a plurality of pixel electrodes, a second substrate having a counter electrode, a liquid crystal, a plurality of gap holding members, and a micro substrate having a plurality of micro lenses are provided. A liquid crystal panel having a lens array, wherein the first substrate and the second substrate include: the plurality of thin film transistors;
The plurality of pixel electrodes, the counter electrode, the liquid crystal, and facing each other with the plurality of gap holding members interposed therebetween,
The liquid crystal panel is provided, wherein the microlens array is provided on a side of the second substrate opposite to the first substrate.

【0072】本発明によって、複数の薄膜トランジスタ
及び複数の画素電極を有する第1の基板と、対向電極を
有する第2の基板と、液晶と、複数のギャップ保持部材
と、複数のマイクロレンズを有するマイクロレンズアレ
イと、を有する液晶パネルであって、前記複数の薄膜ト
ランジスタは前記複数の画素電極に与えられる電位を制
御しており、前記第1の基板と前記第2の基板とは、前
記複数の薄膜トランジスタと、前記複数の画素電極と、
前記対向電極と、液晶と、前記複数のギャップ保持部材
とを間に挟んで対面しており、前記第2の基板の、前記
第1の基板に向かう面とは反対側の面上に、マイクロレ
ンズアレイが設けられており、前記複数のマイクロレン
ズは、それぞれ前記複数の画素に1対1で対応して設け
られていることを特徴とする液晶パネルが提供される。
According to the present invention, a first substrate having a plurality of thin film transistors and a plurality of pixel electrodes, a second substrate having a counter electrode, a liquid crystal, a plurality of gap holding members, and a plurality of microlenses having a plurality of microlenses. A liquid crystal panel having a lens array, wherein the plurality of thin film transistors control a potential applied to the plurality of pixel electrodes, and wherein the first substrate and the second substrate are And the plurality of pixel electrodes;
The counter electrode, the liquid crystal, and the plurality of gap holding members are interposed therebetween, and a micro surface is formed on a surface of the second substrate opposite to a surface facing the first substrate. A liquid crystal panel is provided, wherein a lens array is provided, and the plurality of microlenses are provided in one-to-one correspondence with the plurality of pixels.

【0073】本発明によって、複数の薄膜トランジスタ
及び複数の画素電極を有する第1の基板と、対向電極を
有する第2の基板と、液晶と、複数のギャップ保持部材
と、複数のマイクロレンズを有するマイクロレンズアレ
イと、を有する液晶パネルであって、前記複数の薄膜ト
ランジスタは前記複数の画素電極に与えられる電位を制
御しており、前記第1の基板と前記第2の基板とは、前
記複数の薄膜トランジスタと、前記複数の画素電極と、
前記対向電極と、液晶と、前記複数のギャップ保持部材
とを間に挟んで対面しており、前記第1の基板の、前記
第2の基板に向かう面とは反対側の面上に、マイクロレ
ンズアレイが設けられており、前記複数のマイクロレン
ズは、それぞれ前記複数の画素に1対1で対応して設け
られていることを特徴とする液晶パネルが提供される。
According to the present invention, a first substrate having a plurality of thin film transistors and a plurality of pixel electrodes, a second substrate having a counter electrode, a liquid crystal, a plurality of gap holding members, and a plurality of micro lenses having a plurality of micro lenses are provided. A liquid crystal panel having a lens array, wherein the plurality of thin film transistors control a potential applied to the plurality of pixel electrodes, and wherein the first substrate and the second substrate are And the plurality of pixel electrodes;
The microelectrode facing the counter electrode, the liquid crystal, and the plurality of gap holding members, and facing the surface of the first substrate opposite to the surface facing the second substrate. A liquid crystal panel is provided, wherein a lens array is provided, and the plurality of microlenses are provided in one-to-one correspondence with the plurality of pixels.

【0074】本発明によって、白色光源と、前記白色光
源から発せられる白色光を、色が異なる複数の光に分離
する分離手段と、前記複数の光にそれぞれ対応した複数
の液晶パネルと、前記複数の光をそれぞれ対応する前記
複数の液晶パネルに照射させる第1の光学手段と、前記
複数の液晶パネルを透過した複数の透過光を集光する第
2の光学手段と、を有する液晶プロジェクターであっ
て、前記複数の液晶パネルのうち、少なくとも1つは第
1の基板と第2の基板とを有し、前記複数の光は前記第
2の基板側から前記液晶パネルに照射されており、前記
第1の基板と第2の基板の間には複数のギャップ保持部
材が設けられており、前記第2の基板の前記複数の光が
照射される側にはマイクロレンズアレイが設けられてい
ることを特徴とする液晶プロジェクターが提供される。
According to the present invention, a white light source, separating means for separating white light emitted from the white light source into a plurality of lights having different colors, a plurality of liquid crystal panels respectively corresponding to the plurality of lights, A liquid crystal projector comprising: a first optical unit that irradiates the plurality of liquid crystal panels with a plurality of light beams, and a second optical unit that collects a plurality of transmitted light beams transmitted through the plurality of liquid crystal panels. Wherein at least one of the plurality of liquid crystal panels has a first substrate and a second substrate, and the plurality of lights are applied to the liquid crystal panel from the second substrate side; A plurality of gap holding members are provided between the first substrate and the second substrate, and a microlens array is provided on a side of the second substrate to which the plurality of lights are irradiated. Characterized by Crystal projector is provided.

【0075】本発明によって、白色光源と、前記白色光
源から発せられる白色光を、色が異なる複数の光に分離
する分離手段と、前記複数の光にそれぞれ対応した複数
の液晶パネルと、前記複数の光をそれぞれ対応する前記
複数の液晶パネルに照射させる第1の光学手段と、前記
複数の液晶パネルを透過した複数の透過光を集光する第
2の光学手段と、を有する液晶プロジェクターであっ
て、前記複数の液晶パネルのうち、少なくとも1つは第
1の基板と第2の基板とを有し、前記複数の光は前記第
2の基板側から前記液晶パネルに照射されており、前記
第1の基板上に複数の画素が設けられており、前記複数
の画素は、画素電極と、前記画素電極に接続された薄膜
トランジスタとをそれぞれ有しており、前記第1の基板
と第2の基板の間には複数のギャップ保持部材が設けら
れており、前記第2の基板の前記複数の光が照射される
側にはマイクロレンズアレイが設けられており、前記マ
イクロレンズアレイが有する複数のマイクロレンズは、
それぞれ前記複数の画素に1対1で対応して設けられて
いることを特徴とする液晶プロジェクターが提供され
る。
According to the present invention, a white light source, separating means for separating white light emitted from the white light source into a plurality of lights having different colors, a plurality of liquid crystal panels respectively corresponding to the plurality of lights, A liquid crystal projector comprising: a first optical unit that irradiates the plurality of liquid crystal panels with a plurality of light beams, and a second optical unit that collects a plurality of transmitted light beams transmitted through the plurality of liquid crystal panels. Wherein at least one of the plurality of liquid crystal panels has a first substrate and a second substrate, and the plurality of lights are applied to the liquid crystal panel from the second substrate side; A plurality of pixels are provided over a first substrate, the plurality of pixels each including a pixel electrode and a thin film transistor connected to the pixel electrode, and wherein the first substrate and the second Between the substrates Is provided with a plurality of gap holding member, said the second side of the plurality of light of the substrate is irradiated are microlens array is provided, a plurality of microlenses in which the microlens array has the
A liquid crystal projector is provided, wherein the liquid crystal projector is provided so as to correspond to each of the plurality of pixels on a one-to-one basis.

【0076】本発明によって、白色光源と、前記白色光
源から発せられる白色光を、色が異なる複数の光に分離
する分離手段と、前記複数の光にそれぞれ対応した複数
の液晶パネルと、前記複数の光をそれぞれ対応する前記
複数の液晶パネルに照射させる第1の光学手段と、前記
複数の液晶パネルを透過した複数の透過光を集光する第
2の光学手段と、を有する液晶プロジェクターであっ
て、前記複数の液晶パネルのうち、少なくとも1つは第
1の基板と第2の基板とを有し、前記複数の光は前記第
2の基板側から前記液晶パネルに照射されており、前記
第1の基板上に複数の画素を有する画素部が設けられて
おり、前記複数の画素は、画素電極と、前記画素電極に
接続された薄膜トランジスタとをそれぞれ有しており、
前記画素部と第2の基板の間には複数のギャップ保持部
材が設けられており、前記第2の基板の前記複数の光が
照射される側にはマイクロレンズアレイが設けられてお
り、前記マイクロレンズアレイが有する複数のマイクロ
レンズは、それぞれ前記複数の画素に1対1で対応して
設けられていることを特徴とする液晶プロジェクターが
提供される。
According to the present invention, a white light source, separating means for separating white light emitted from the white light source into a plurality of lights having different colors, a plurality of liquid crystal panels respectively corresponding to the plurality of lights, A liquid crystal projector comprising: a first optical unit that irradiates the plurality of liquid crystal panels with a plurality of light beams, and a second optical unit that collects a plurality of transmitted light beams transmitted through the plurality of liquid crystal panels. Wherein at least one of the plurality of liquid crystal panels has a first substrate and a second substrate, and the plurality of lights are applied to the liquid crystal panel from the second substrate side; A pixel portion having a plurality of pixels is provided over the first substrate, the plurality of pixels each including a pixel electrode and a thin film transistor connected to the pixel electrode,
A plurality of gap holding members are provided between the pixel portion and the second substrate, and a microlens array is provided on a side of the second substrate to which the plurality of lights are irradiated, A liquid crystal projector is provided, wherein a plurality of micro lenses included in the micro lens array are provided in one-to-one correspondence with the plurality of pixels.

【0077】本発明は、前記複数の薄膜トランジスタ
が、ソース領域、ドレイン領域及びチャネル形成領域を
含む半導体膜をそれぞれ有しており、前記複数の薄膜ト
ランジスタがそれぞれ有する前記ソース領域または前記
ドレイン領域は、コンタクト部において前記複数の画素
電極と接続されており、前記複数のギャップ保持部材は
前記コンタクト部上に設けられていることを特徴として
いても良い。
According to the present invention, the plurality of thin film transistors each include a semiconductor film including a source region, a drain region, and a channel formation region, and the source region or the drain region of each of the plurality of thin film transistors is a contact region. The plurality of gap holding members may be connected to the plurality of pixel electrodes in a portion, and the plurality of gap holding members may be provided on the contact portion.

【0078】本発明は、前記複数のギャップ保持部材が
円柱形であることを特徴としていても良い。
The present invention may be characterized in that the plurality of gap holding members are cylindrical.

【0079】本発明は、前記複数のギャップ保持部材が
楕円柱形であることを特徴としていても良い。
The present invention may be characterized in that the plurality of gap holding members have an elliptical column shape.

【0080】本発明は、前記複数のギャップ保持部材が
多角柱形であることを特徴としていても良い。
In the present invention, the plurality of gap holding members may have a polygonal column shape.

【0081】本発明は、前記複数のギャップ保持部材の
側面がテーパー状であることを特徴としていても良い。
The present invention may be characterized in that the side surfaces of the plurality of gap holding members are tapered.

【0082】本発明は、前記複数のギャップ保持部材が
ポリイミド、アクリル、ポリアミド、ポリイミドアミド
またはエポキシ樹脂を有することを特徴としていても良
い。
The present invention may be characterized in that the plurality of gap holding members include polyimide, acrylic, polyamide, polyimide amide or epoxy resin.

【0083】本発明は、前記複数のギャップ保持部材が
紫外線硬化性樹脂または熱硬化性樹脂を有することを特
徴としていても良い。
The present invention may be characterized in that the plurality of gap holding members include an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin.

【0084】本発明は、前記液晶パネルが対角1インチ
以下であることを特徴としていても良い。
The present invention may be characterized in that the liquid crystal panel has a diagonal of 1 inch or less.

【0085】本発明は、前記複数のギャップ保持部材が
マイクロレンズの有効光束集光領域外、即ちマイクロレ
ンズの集光ピーク照度に対し、照度が1/10以下とな
る領域に設けられている事を特徴としていても良い。
According to the present invention, the plurality of gap holding members are provided outside the effective light beam converging region of the microlens, that is, in a region where the illuminance is 1/10 or less of the converging peak illuminance of the microlens. May be featured.

【0086】本発明は、前記複数のギャップ保持部材が
マイクロレンズの有効光束集光領域外、即ちマイクロレ
ンズの集光ピーク照度に対し、照度が1/20以下とな
る領域に設けられている事を特徴としていても良い。
According to the present invention, the plurality of gap holding members are provided outside the effective light beam converging region of the microlens, that is, in a region where the illuminance is 1/20 or less of the converging peak illuminance of the microlens. May be featured.

【0087】[0087]

【発明の実施の形態】図1〜図8を用いて本発明の実施
の形態を説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0088】図1に本発明の液晶プロジェクターが有す
る液晶パネルの、TFT基板の概略図を示す。図1
(A)に示したTFT基板の一部を拡大したものが図1
(B)である。
FIG. 1 is a schematic view of a TFT substrate of a liquid crystal panel included in the liquid crystal projector of the present invention. FIG.
FIG. 1 is an enlarged view of a part of the TFT substrate shown in FIG.
(B).

【0089】TFT基板101上にソース信号線駆動回
路103、ゲート信号線駆動回路104、画素部102
が図に示すように設けられている。TFT基板101の
周囲にはシール材105が設けられており、液晶注入口
106から液晶が注入される。画素部102上にはギャ
ップ保持部材107が設けられている。
On a TFT substrate 101, a source signal line driving circuit 103, a gate signal line driving circuit 104, and a pixel portion 102
Are provided as shown in the figure. A sealing material 105 is provided around the TFT substrate 101, and liquid crystal is injected from a liquid crystal injection port 106. A gap holding member 107 is provided on the pixel portion 102.

【0090】本実施の形態では画素部のみにギャップ保
持部材を設けているが、本発明においてギャップ保持部
材を配置する位置は画素部だけに限定されない。
In the present embodiment, the gap holding member is provided only in the pixel portion. However, the position where the gap holding member is arranged in the present invention is not limited to only the pixel portion.

【0091】図2にギャップ保持部材が設けられた画素
の拡大図を示す。画素113には、画素電極108が設
けられている。配線及び画素TFT(いずれも図示せ
ず)上にブラックマトリクス111が設けられている。
画素電極108と、画素電極108の下に設けられてい
るドレイン配線109とが接続しているコンタクト部1
10上にギャップ保持部材107が設けられている。
FIG. 2 is an enlarged view of a pixel provided with a gap holding member. The pixel 113 is provided with a pixel electrode 108. A black matrix 111 is provided on the wiring and the pixel TFT (both not shown).
The contact portion 1 where the pixel electrode 108 and the drain wiring 109 provided below the pixel electrode 108 are connected.
A gap holding member 107 is provided on 10.

【0092】画素電極108とドレイン配線109との
コンタクト部110は画素113の開口部112言い換
えると、実際の表示には用いられる可視光が透過する領
域には位置していない。
The contact portion 110 between the pixel electrode 108 and the drain wiring 109 is not located in the opening 112 of the pixel 113. In other words, it is not located in a region through which visible light used for actual display is transmitted.

【0093】開口部112は、可視光の透過する領域で
あり、ブラックマトリクス111で囲まれた領域の、ド
レイン配線109等の可視光を遮るものが設けられてい
る領域以外の部分を指す。
The opening 112 is a region through which visible light is transmitted, and refers to a portion of the region surrounded by the black matrix 111 other than the region where the one that blocks visible light such as the drain wiring 109 is provided.

【0094】そしてギャップ保持部材107は、可視光
が透過する領域(開口部112)とは液晶材料の配向性
が乱れない程度に離れているので、画像表示の乱れ(デ
ィスクリネーション)が生じずらい。
The gap holding member 107 is separated from the region (opening 112) through which visible light is transmitted to such an extent that the orientation of the liquid crystal material is not disturbed, so that image display disturbance (disclination) does not occur. Rai.

【0095】図2の場合、液晶パネルは構造的に機械強
度が高くなり、細いギャップ保持部材でもラビングに対
して欠損が生じ難い。
In the case of FIG. 2, the mechanical strength of the liquid crystal panel is increased structurally, and even a thin gap holding member is unlikely to cause rubbing damage.

【0096】図3及び図4を用いて、画素部におけるギ
ャップ保持部材の配置について説明する。
The arrangement of the gap holding member in the pixel portion will be described with reference to FIGS.

【0097】図3において、ギャップ保持部材307を
黒丸で示し、ギャップ保持部材が形成されていない画素
のコンタクト部310を白丸で示した。ソース信号線が
設けられている方向をX方向、ゲート信号線が設けられ
ている方向をY方向と定義する。最も近いギャップ保持
部材どうしで、できるだけ正三角形に近い三角形を形成
するために、Y方向に設けられた画素5つおきに1つ、
ギャップ保持部材307が設けられている。そしてX方
向に設けられた画素1つおきに1つ、ギャップ保持部材
307が設けられている。
In FIG. 3, the gap holding members 307 are indicated by black circles, and the contact portions 310 of the pixels where no gap holding members are formed are indicated by white circles. The direction in which the source signal lines are provided is defined as the X direction, and the direction in which the gate signal lines are provided is defined as the Y direction. In order to form a triangle as close as possible to an equilateral triangle with the closest gap holding members, one every five pixels provided in the Y direction,
A gap holding member 307 is provided. A gap holding member 307 is provided for every other pixel provided in the X direction.

【0098】このような配置にすることで、ギャップ保
持部材を一定の周期をもって画素部に散在させることが
できる。そのためセルギャップをより均一にすることが
できる。
With such an arrangement, the gap holding members can be dispersed in the pixel portion at a constant period. Therefore, the cell gap can be made more uniform.

【0099】図4を用いて、図3とは異なるギャップ保
持部材の配置について説明する。
Referring to FIG. 4, the arrangement of the gap holding member different from that of FIG. 3 will be described.

【0100】図4では、図3と同様にギャップ保持部材
407を黒丸で示し、ギャップ保持部材407が形成さ
れていない画素のコンタクト部410を白丸で示した。
ソース信号線が設けられている方向をX方向、ゲート信
号線が設けられている方向をY方向と定義する。Y方向
に設けられた画素2つおきに1つ、ギャップ保持部材4
07が設けられている。そしてX方向に設けられた画素
2つおきに1つ、ギャップ保持部材407が設けられて
いる。
In FIG. 4, similarly to FIG. 3, the gap holding members 407 are indicated by black circles, and the contact portions 410 of the pixels where the gap holding members 407 are not formed are indicated by white circles.
The direction in which the source signal lines are provided is defined as the X direction, and the direction in which the gate signal lines are provided is defined as the Y direction. One for every two pixels provided in the Y direction, a gap holding member 4
07 is provided. A gap holding member 407 is provided for every two pixels provided in the X direction.

【0101】このような配置にすることで、一定の周期
をもってギャップ保持部材が画素部に散在する。そのた
めセルギャップを均一にすることができる。
With such an arrangement, the gap holding members are scattered in the pixel portion at a constant period. Therefore, the cell gap can be made uniform.

【0102】なお本実施の形態では、上記2通りのギャ
ップ保持部材の配置の仕方について説明したが、本発明
はこの形態に限定されない。本発明において、ギャップ
保持部材の形成位置、個数はセルギャップを保持でき、
かつ表示の妨げにならないように、決定すればよい。
In the present embodiment, the above two arrangements of the gap holding member have been described, but the present invention is not limited to this embodiment. In the present invention, the formation position and the number of the gap holding members can hold the cell gap,
What is necessary is just to determine so that display may not be obstructed.

【0103】図5及び図6を用いて、本発明で用いるマ
イクロレンズアレイについて説明する。
The microlens array used in the present invention will be described with reference to FIGS.

【0104】液晶パネル502上に、複数のマイクロレ
ンズ503を有するマイクロレンズアレイ504が図5
に示すように設けられている。画素501はストライプ
状に配列しており、画素501 1つに対してマイクロ
レンズ503が1つ対応して設けられている。
A microlens array 504 having a plurality of microlenses 503 on a liquid crystal panel 502 is shown in FIG.
Are provided as shown in FIG. The pixels 501 are arranged in a stripe shape, and one microlens 503 is provided corresponding to one pixel 501.

【0105】マイクロレンズ503は1つ1つがほぼ同じ
形状をしており、球体の一部を切り取った形をしてい
る。
Each of the micro lenses 503 has substantially the same shape, and has a shape obtained by cutting a part of a sphere.

【0106】マイクロレンズアレイ504は液晶パネル
の対向基板側に設けられており、対向基板と密接して
も、距離を保っていてもよい。
The microlens array 504 is provided on the counter substrate side of the liquid crystal panel, and may be in close contact with the counter substrate or at a distance.

【0107】図6を用いて、図5とは別のマイクロレン
ズアレイについて説明する。
With reference to FIG. 6, another microlens array different from FIG. 5 will be described.

【0108】図6(A)が液晶パネル602の上面図で
あり、図6(A)のマイクロレンズアレイ604の斜視
図が図6(B)である。マイクロレンズアレイ604
は、光の入射側から見て六角形のマイクロレンズ603
を複数有している。このマイクロレンズ603は液晶パ
ネル602が有するデルタ配置の画素601の1つ1つに
対応して設けられている。
FIG. 6A is a top view of the liquid crystal panel 602, and FIG. 6B is a perspective view of the microlens array 604 of FIG. 6A. Micro lens array 604
Is a hexagonal micro lens 603 viewed from the light incident side.
Are provided. The microlenses 603 are provided corresponding to each of the delta-arranged pixels 601 of the liquid crystal panel 602.

【0109】マイクロレンズ603が六角形の場合、マ
イクロレンズ603の間に隙間がないため、丸いマイク
ロレンズと比較して、より効率よく光を画素に集めるこ
とができる。
When the microlenses 603 are hexagonal, since there is no gap between the microlenses 603, light can be more efficiently collected to the pixels as compared with a round microlens.

【0110】マイクロレンズの形状は、その製造プロセ
スによって制御され得る。上記のマイクロレンズ603
は、例えば、イオン交換法(例えば、Appl.Opt
ics,21(6)p.1052(1984)、Ele
ctron Lett.,17p.452(198
1))、光重合性ポリマーを用いる方法(例えば、鈴木
他;”プラスチックマイクロレンズの新しい作製法”,
第24回微小光学研究会)、フォトレジストを加熱して
表面張力によりレンズを形成する方法(例えば、Zor
an D.Popovic et al.,Appl.
Optics,27p.1281(1988))、蒸
着法(例えば、特開昭61−64158号公報)、機械
加工法、或いは特開平3−248125号公報に開示さ
れている方法等により製造され得る。
The shape of the microlens can be controlled by its manufacturing process. The above micro lens 603
Is, for example, an ion exchange method (for example, Appl. Opt.
ics, 21 (6) p. 1052 (1984), Ele
ctron Lett. , 17p. 452 (198
1)), a method using a photopolymerizable polymer (for example, Suzuki et al .; “A new method for producing a plastic microlens”),
The 24th Micro-Optics Research Society), a method of heating a photoresist to form a lens by surface tension (for example, Zor
an D. See Popovic et al. , Appl.
Optics, 27p. 1281 (1988)), a vapor deposition method (for example, JP-A-61-64158), a machining method, or a method disclosed in JP-A-3-248125.

【0111】なお本発明では、図5及び図6で示したマ
イクロレンズアレイに限定されない。本発明では、画素
部の画素1つに対してマイクロレンズが1つ設けられて
いるマイクロレンズアレイであればよい。
The present invention is not limited to the microlens array shown in FIGS. In the present invention, a microlens array in which one microlens is provided for one pixel in the pixel portion may be used.

【0112】また、図5及び図6では、対向基板側にマ
イクロレンズアレイを設ける構成について示したが、本
発明はこの構成に限定されない。マイクロレンズアレイ
はTFT基板側に設けても良い。
Although the structure in which the microlens array is provided on the counter substrate side is shown in FIGS. 5 and 6, the present invention is not limited to this structure. The micro lens array may be provided on the TFT substrate side.

【0113】図7は本実施の形態の液晶パネルの概略の
構成を示す斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view showing a schematic configuration of the liquid crystal panel of the present embodiment.

【0114】TFT基板701、画素702、配向膜7
03、ギャップ保持部材704、対向基板用配向膜70
5、対向電極706、対向基板707、複数のマイクロ
レンズ709を有するマイクロレンズアレイ708が図
に示すように設けられている。偏光板は省略している。
また配向膜をTFT基板と対向基板の両方に設けたが、
いずれか1つの基板だけに設ける構成としても良い。図
7に示した液晶パネルは、配向膜703と対向基板用配
向膜705の間に、ギャップ保持部材704の他に液晶
(図示せず)を有している。
TFT substrate 701, pixel 702, alignment film 7
03, gap holding member 704, alignment film 70 for counter substrate
5, a counter electrode 706, a counter substrate 707, and a microlens array 708 having a plurality of microlenses 709 are provided as shown in the figure. The polarizing plate is omitted.
Although the alignment film is provided on both the TFT substrate and the counter substrate,
It is good also as a structure provided only in any one board | substrate. The liquid crystal panel shown in FIG. 7 has a liquid crystal (not shown) in addition to the gap holding member 704 between the alignment film 703 and the alignment film 705 for the counter substrate.

【0115】なお、図7では、対向基板707側にマイ
クロレンズアレイ708を設ける構成について示した
が、本発明はこの構成に限定されない。マイクロレンズ
アレイ708はTFT基板701側に設けても良い。
Although FIG. 7 shows the configuration in which the microlens array 708 is provided on the counter substrate 707 side, the present invention is not limited to this configuration. The micro lens array 708 may be provided on the TFT substrate 701 side.

【0116】図8に図7で示した液晶パネルを有する三
板式の液晶プロジェクターを示す。
FIG. 8 shows a three-panel type liquid crystal projector having the liquid crystal panel shown in FIG.

【0117】図8(A)はフロント型プロジェクターで
あり、光源光学系及び液晶パネル2601、スクリーン
2602で構成される。
FIG. 8A shows a front type projector, which comprises a light source optical system, a liquid crystal panel 2601 and a screen 2602.

【0118】図8(B)はリア型プロジェクターであ
り、本体2701、光源光学系及び液晶パネル270
2、ミラー2703、スクリーン2704で構成され
る。
FIG. 8B shows a rear type projector, which includes a main body 2701, a light source optical system, and a liquid crystal panel 270.
2, a mirror 2703 and a screen 2704.

【0119】なお、図8(C)は、図8(A)及び図8
(B)中における光源光学系及び液晶パネル2601、
2702の構造の一例を示した図である。光源光学系及
び液晶パネル2601、2702は、光源光学系280
1、ミラー2802、2804〜2806、ダイクロイ
ックミラー2803、光学系2807、液晶パネル28
08、位相差板2809、投射光学系2810、マイク
ロレンズアレイ2817で構成される。投射光学系28
10は、投射レンズを備えた複数の光学レンズで構成さ
れる。
FIG. 8 (C) shows the state shown in FIG. 8 (A) and FIG.
(B) a light source optical system and a liquid crystal panel 2601 in FIG.
FIG. 3 shows an example of the structure of 2702. The light source optical system and the liquid crystal panels 2601 and 2702 are
1, mirrors 2802, 2804 to 2806, dichroic mirror 2803, optical system 2807, liquid crystal panel 28
08, a phase difference plate 2809, a projection optical system 2810, and a microlens array 2817. Projection optical system 28
Reference numeral 10 includes a plurality of optical lenses including a projection lens.

【0120】マイクロレンズアレイ2817は3つの液
晶パネル2808の光が入射する側にそれぞれ1つづつ
設けられている
The microlens array 2817 is provided on each of the three liquid crystal panels 2808 on the light incident side.

【0121】図8(C)中において矢印で示した光路に
実施者が適宜、光学レンズや、偏光機能を有するフィル
ムや、位相差を調節するためのフィルム、IRフィルム
等を設けてもよい。
In the optical path indicated by the arrow in FIG. 8C, the practitioner may appropriately provide an optical lens, a film having a polarizing function, a film for adjusting a phase difference, an IR film, or the like.

【0122】また、図8(D)は、図8(C)中におけ
る光源光学系2801の構造の一例を示した図である。
本実の形態では、光源光学系2801は、リフレクター
2811、光源2812、レンズアレイ2813、28
14、偏光変換素子2815、集光レンズ2816で構
成される。なお、図8(D)に示した光源光学系は一例
であって特に限定されない。例えば、光源光学系に実施
者が適宜、光学レンズや、偏光機能を有するフィルム
や、位相差を調節するフィルム、IRフィルム等を設け
てもよい。
FIG. 8D is a diagram showing an example of the structure of the light source optical system 2801 in FIG. 8C.
In the present embodiment, the light source optical system 2801 includes a reflector 2811, a light source 2812, and lens arrays 2813 and 2813.
14, a polarization conversion element 2815 and a condenser lens 2816. Note that the light source optical system shown in FIG. 8D is an example and is not particularly limited. For example, a practitioner may appropriately provide an optical lens, a film having a polarizing function, a film for adjusting a phase difference, an IR film, or the like to the light source optical system.

【0123】本発明は、画素部を有するTFT基板と対
向電極を有する対向基板の間に液晶とギャップ保持部材
とを設け、液晶パネルの光が入射する側、つまり対向基
板側にそれぞれマイクロレンズアレイを設けている。
According to the present invention, a liquid crystal and a gap holding member are provided between a TFT substrate having a pixel portion and a counter substrate having a counter electrode, and a micro lens array is provided on the side of the liquid crystal panel on which light is incident, that is, on the counter substrate side. Is provided.

【0124】上述した構成によって、本発明は所望の位
置にスペーサを配置することが可能である。そしてセル
ギャップを球形のスペーサを用いた場合よりも均一に制
御することが可能である。
According to the above-described structure, the present invention can arrange a spacer at a desired position. It is possible to control the cell gap more uniformly than when a spherical spacer is used.

【0125】ギャップ保持部材は、画素の画素電極と画
素TFTのドレイン領域に接続された配線(ドレイン配
線)とのコンタクト部上に形成するのが好ましい。画素
電極とドレイン配線とのコンタクト部は画素の開口部
(可視光が透過する領域)には位置していない。そして
可視光が透過する領域とは、液晶材料の配向性が乱れな
い程度に離れているので、画像表示の乱れ(ディスクリ
ネーション)が生じずらい。ギャップ保持部材はコンタ
クト部上に設けるのが好ましいが、本発明はこれに限定
されることはなく、ギャップ保持部材は表示画像が乱れ
ない位置に設けることが重要である。
The gap holding member is preferably formed on a contact portion between the pixel electrode of the pixel and a wiring (drain wiring) connected to the drain region of the pixel TFT. The contact portion between the pixel electrode and the drain wiring is not located in the opening of the pixel (a region through which visible light is transmitted). Since the liquid crystal material is separated from the region through which the visible light is transmitted to such an extent that the orientation of the liquid crystal material is not disturbed, disturbance (disclination) of image display hardly occurs. The gap holding member is preferably provided on the contact portion, but the present invention is not limited to this, and it is important that the gap holding member is provided at a position where the displayed image is not disturbed.

【0126】ギャップ保持部材によって、液晶パネルの
2つの基板を均一に、かつ所望の値のセルギャップで制
御することが可能になったので、マイクロレンズアレイ
が微細化することによって焦点深度が浅くなっても、液
晶プロジェクターの表示ムラ、輝度ムラによる表示品質
の劣化を抑えることが可能になった。
Since the two substrates of the liquid crystal panel can be controlled uniformly and with a desired value of the cell gap by the gap holding member, the depth of focus is reduced by miniaturization of the microlens array. However, it has become possible to suppress deterioration of display quality due to display unevenness and luminance unevenness of the liquid crystal projector.

【0127】そして本発明は上記構成によって、光源の
輝度を上げることなく、映像の輝度を上げ、液晶プロジ
ェクターの薄型、軽量化と同時に、高精細化、高画質化
及び高輝度化することを可能にした。
According to the present invention, it is possible to increase the brightness of an image without increasing the brightness of a light source and to reduce the thickness and weight of a liquid crystal projector, as well as to achieve higher definition, higher image quality and higher brightness. I made it.

【0128】本発明は、特に基板サイズが対角1インチ
以下の小さい液晶パネルにおいて効果的である。
The present invention is particularly effective for a liquid crystal panel having a substrate size as small as 1 inch or less on a diagonal.

【0129】なお本発明の液晶パネルは、ゴーグル型の
表示装置(ヘッドマウントディスプレイ)にも用いるこ
とができる。この場合、画素部の有する画素をR、G、
Bにそれぞれ対応させるようにカラーフィルターを形成
することが必要である。
The liquid crystal panel of the present invention can be used for a goggle type display device (head mounted display). In this case, the pixels of the pixel portion are R, G,
It is necessary to form color filters so as to correspond to B respectively.

【0130】[0130]

【実施例】図9〜図13、図19〜図27を用いて、本
発明の実施例を説明する。
Embodiment An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 9 to 13 and FIGS. 19 to 27.

【0131】(実施例1)本実施例では、TFT基板上
におけるギャップ保持部材の作製工程について図9を用
いて説明する。
(Embodiment 1) In this embodiment, a manufacturing process of a gap holding member on a TFT substrate will be described with reference to FIGS.

【0132】TFT基板901上に画素部(図示せず)
を形成し、画素部上に配向膜902を形成し、配向膜9
02にラビング処理を行った後の状態を図9(A)に示
す。
A pixel portion (not shown) is provided on a TFT substrate 901.
Is formed, and an alignment film 902 is formed on the pixel portion.
FIG. 9A shows a state after the rubbing process is performed on No. 02.

【0133】配向膜902上にギャップ保持部材となる
絶縁性被膜材料を塗布し、絶縁性被膜903を形成す
る。絶縁性被膜材料としては、液晶に近い比重と熱膨張
係数を有する樹脂材料が好ましい。例えば、ポリイミ
ド、アクリル、ポリアミド、ポリイミドアミドまたはエ
ポキシ樹脂から選ばれた樹脂材料が使用できる。また、
基板に熱的な影響を与えることが少なく形成可能な、紫
外線硬化性樹脂や熱硬化性樹脂材料を用いることができ
る。
An insulating film material serving as a gap holding member is applied on the alignment film 902 to form an insulating film 903. As the insulating coating material, a resin material having a specific gravity close to that of liquid crystal and a thermal expansion coefficient is preferable. For example, a resin material selected from polyimide, acrylic, polyamide, polyimide amide, or epoxy resin can be used. Also,
An ultraviolet curable resin or a thermosetting resin material which can be formed with little thermal influence on the substrate can be used.

【0134】塗布はスピンコート法で、900rpm、
10秒の条件で行った。絶縁性被膜903を形成後、1
80℃で60分加熱処理を施した。(図9(B))
The coating is performed by a spin coating method at 900 rpm,
The test was performed for 10 seconds. After forming the insulating film 903, 1
Heat treatment was performed at 80 ° C. for 60 minutes. (FIG. 9 (B))

【0135】次に絶縁性被膜903をパターニングし、
ギャップ保持部材904を形成した。絶縁性被膜903
のパターニングする方法としては、エッチング方法が挙
げられる。他のパターニング方法として、絶縁性被膜を
感光性材料で形成し、感光、現像処理でパターニングす
る方法を用いることができる。なお、ギャップ保持部材
904の形成位置、個数はセルギャップを保持でき、か
つ表示の妨げにならないように、決定すればよい。(図
9(C))
Next, the insulating coating 903 is patterned.
The gap holding member 904 was formed. Insulating coating 903
An example of the patterning method is an etching method. As another patterning method, a method in which an insulating film is formed from a photosensitive material and patterned by exposure to light and development can be used. Note that the formation position and the number of the gap holding members 904 may be determined so that the cell gap can be held and display is not hindered. (FIG. 9 (C))

【0136】本実施例においてギャップ保持部材の形状
は円柱形とし、円柱の直径は4μm、高さは3.2μm
とした。本実施例では、ギャップ保持部材904をラン
ダムに配置した。ギャップ保持部材904の配置密度
は、30〜160個/mm2とすればよい。本実施例で
は、ギャップ保持部材904は、50個/mm2で配置
された。
In this embodiment, the shape of the gap holding member is cylindrical, and the diameter of the column is 4 μm and the height is 3.2 μm.
And In this embodiment, the gap holding members 904 are randomly arranged. The arrangement density of the gap holding members 904 may be 30 to 160 pieces / mm 2 . In this embodiment, the gap holding members 904 are arranged at 50 pieces / mm 2 .

【0137】本実施例では、ギャップ保持部材の形状
は、円柱状としたが、ギャップ保持部材の形状は、楕円
形、流線形、あるいは、三角形、四角形などの多角形状
であってもよく、TFT基板901(第1の基板)と対
向基板906(第2の基板)とのセルギャップを制御で
きる形状であれば、いかなる形状を有することも許され
る。また、本実施例では、ギャップ保持部材は全て同形
としたが、複数種の形状を有したギャップ保持部材が形
成されてもよい。また、本実施例では、複数のセルギャ
ップ保持部材が、画素部に配置密度が均一となるように
形成されたが、TFT基板全面にギャップ保持部材を形
成しても良い。
In this embodiment, the shape of the gap holding member is cylindrical, but the shape of the gap holding member may be elliptical, streamlined, or polygonal such as triangular or square. Any shape is allowed as long as the cell gap between the substrate 901 (first substrate) and the counter substrate 906 (second substrate) can be controlled. Further, in the present embodiment, all the gap holding members have the same shape, but gap holding members having a plurality of types of shapes may be formed. Further, in this embodiment, the plurality of cell gap holding members are formed so that the arrangement density is uniform in the pixel portion. However, the gap holding members may be formed on the entire surface of the TFT substrate.

【0138】TFT基板901周辺を囲むように、配向
膜902上にシール材907を塗布する。そして対向基
板用配向膜905及び対向電極(図示せず)を有する対
向基板906とTFT基板901とを貼り合わせる。
[0138] A sealing material 907 is applied on the alignment film 902 so as to surround the periphery of the TFT substrate 901. Then, the TFT substrate 901 is bonded to the counter substrate 906 having the alignment film 905 for the counter substrate and the counter electrode (not shown).

【0139】次に、表示媒体としての液晶を液晶注入口
より注入する。よって、TFT基板901と対向基板9
06の間に液晶908が狭持された状態となる。本実施
例では、ギャップ保持部材904の形状は円柱形である
ので、液晶材料注入時に生じる液晶材料とギャップ保持
部材の表面との流動抵抗が小さい。よって、基板全面に
渡って均一に液晶材料を注入することができた。なお、
ギャップ保持部材908の形状および配置は、この流動
抵抗が小さくなるのが好ましい。
Next, liquid crystal as a display medium is injected from a liquid crystal injection port. Therefore, the TFT substrate 901 and the counter substrate 9
During the period 06, the liquid crystal 908 is held. In the present embodiment, since the shape of the gap holding member 904 is cylindrical, the flow resistance between the liquid crystal material and the surface of the gap holding member that occurs when the liquid crystal material is injected is small. Therefore, the liquid crystal material could be uniformly injected over the entire surface of the substrate. In addition,
The shape and arrangement of the gap holding member 908 preferably reduce this flow resistance.

【0140】その後、液晶材料注入口に封止剤(図示せ
ず)を塗布し、紫外線を照射することによって封止剤を
硬化させ、液晶材料をセル内に完全に封止した。
Thereafter, a sealant (not shown) was applied to the liquid crystal material injection port, and the sealant was cured by irradiating ultraviolet rays, whereby the liquid crystal material was completely sealed in the cell.

【0141】(実施例2)本実施例では、実施の形態で
示した液晶プロジェクターとは別の形態の三板式液晶プ
ロジェクターについて説明する。
(Embodiment 2) In this embodiment, a three-panel liquid crystal projector different from the liquid crystal projector described in the embodiment mode will be described.

【0142】図10を参照する。図10は、上記の三板
式の液晶プロジェクターの光学系の構成図である。24
01はランプとリフレクターとから成る白色光源であ
る。光源2401から赤、緑、青のスペクトルを持つ白
色光が出射される。光源2401は、出射された白色光
の平行度が高くなるように設定されている。また、ラン
プから出射される白色光を有効利用するためにリフレク
ターが用いられている。
Referring to FIG. FIG. 10 is a configuration diagram of an optical system of the above-mentioned three-panel type liquid crystal projector. 24
01 is a white light source composed of a lamp and a reflector. White light having red, green, and blue spectra is emitted from the light source 2401. The light source 2401 is set so that the emitted white light has a high degree of parallelism. In addition, a reflector is used to effectively use white light emitted from the lamp.

【0143】光源2401から出射された白色光は、ダ
イクロイックミラー2402、2403に入射する。こ
れらの2枚のダイクロイックミラー2402、2403
は、光源2401からの白色光を3原色の光(赤、緑、
青)に分離する。
The white light emitted from the light source 2401 enters the dichroic mirrors 2402 and 2403. These two dichroic mirrors 2402, 2403
Converts white light from the light source 2401 into light of three primary colors (red, green,
Blue).

【0144】ダイクロイックミラー2402、2403
によって分離された青、赤、緑の光は、1つは全反射ミ
ラー2406で反射されて、また残りの2つは直接、そ
れぞれ対応している液晶パネル2408、2409、2
410に照射される。液晶パネル2408、2409、
2410は、光が入射する側にそれぞれマイクロレンズ
アレイ2412、2413、2414を有している。
Dichroic mirrors 2402 and 2403
Blue, red, and green light separated by the liquid crystal panel 2408, 2409, and 2 are directly reflected by the total reflection mirror 2406, and the other two are directly reflected by the corresponding liquid crystal panels 2408, 2409, and 2 respectively.
Irradiated at 410. Liquid crystal panels 2408, 2409,
2410 has microlens arrays 2412, 2413, and 2414 on the light incident side, respectively.

【0145】液晶パネル2408、2409、2410
を透過した青、赤、緑の光は、ダイクロイックミラー2
404、2405とによって1つに集められ、投影レン
ズ2411によってスクリーンに投影される。
Liquid crystal panels 2408, 2409, 2410
Blue, red, and green light transmitted through the dichroic mirror 2
By 404 and 2405, they are collected together and projected on a screen by a projection lens 2411.

【0146】上記構成ではダイクロイックプリズムを用
いなくともよいので、液晶プロジェクターの値段を抑え
ることができる。
In the above configuration, since the dichroic prism does not have to be used, the price of the liquid crystal projector can be reduced.

【0147】(実施例3)本実施例では、図1とは異な
るギャップ保持部材の配置について説明する。
(Embodiment 3) In this embodiment, an arrangement of a gap holding member different from that of FIG. 1 will be described.

【0148】図11(A)に本発明の液晶プロジェクタ
ーが有する液晶パネルの、TFT基板の概略図を示す。
TFT基板1101上にソース信号線駆動回路110
3、ゲート信号線駆動回路1104、画素部1102が
図11(A)に示すように設けられている。TFT基板
1101の周囲にはシール材1105が設けられてお
り、液晶注入口1107から液晶が注入される。TFT
基板1101上全面にギャップ保持部材1106が設け
られている。
FIG. 11A is a schematic view of a TFT substrate of a liquid crystal panel included in the liquid crystal projector of the present invention.
A source signal line driving circuit 110 is provided on a TFT substrate 1101.
3. A gate signal line driver circuit 1104 and a pixel portion 1102 are provided as shown in FIG. A sealant 1105 is provided around the TFT substrate 1101, and liquid crystal is injected from a liquid crystal injection port 1107. TFT
A gap holding member 1106 is provided on the entire surface of the substrate 1101.

【0149】ギャップ保持部材は絶縁物なので、ソース
信号線駆動回路及びゲート信号線駆動回路を含む駆動回
路上にギャップ保持部材を設けると容量が形成されてし
まい、駆動回路の動作が遅くなってしまう。
Since the gap holding member is an insulator, if the gap holding member is provided on a drive circuit including the source signal line drive circuit and the gate signal line drive circuit, a capacitance is formed, and the operation of the drive circuit is slowed down. .

【0150】しかしこの場合、画素部1102のみにギ
ャップ保持部材を形成した場合に比べて、液晶パネル全
体の機械的強度が増し、セルギャップもより均一に保つ
ことができる。
In this case, however, the mechanical strength of the entire liquid crystal panel is increased and the cell gap can be maintained more uniform than when a gap holding member is formed only in the pixel portion 1102.

【0151】図11(B)に本発明の液晶プロジェクタ
ーが有する液晶パネルの、TFT基板の概略図を示す。
TFT基板1111上の画素部1112、ソース信号線
駆動回路1113及びゲート信号線駆動回路1114が
設けられている部分以外にギャップ保持部材1116が
設けられている。
FIG. 11B is a schematic view of a TFT substrate of a liquid crystal panel included in the liquid crystal projector of the present invention.
A gap holding member 1116 is provided on a portion of the TFT substrate 1111 other than the portion where the pixel portion 1112, the source signal line driver circuit 1113, and the gate signal line driver circuit 1114 are provided.

【0152】この場合、画素部1112上にギャップ保
持部材を設けないので、画素部にギャップ保持部材を設
ける場合のようにギャップ保持部材の位置の精密さは要
求されず、設計及び作成が容易になる。
In this case, since the gap holding member is not provided on the pixel portion 1112, the precision of the position of the gap holding member is not required as in the case where the gap holding member is provided on the pixel portion, and the design and production are easy. Become.

【0153】そしてソース信号線駆動回路1113及び
ゲート信号線駆動回路1114を含む駆動回路上にはギ
ャップ保持部材1116を形成しないので、駆動回路上
に容量が形成されることによって駆動回路の高速動作が
妨げられることがない。
Since the gap holding member 1116 is not formed on the drive circuit including the source signal line drive circuit 1113 and the gate signal line drive circuit 1114, high-speed operation of the drive circuit is achieved by forming a capacitor on the drive circuit. There is no hindrance.

【0154】図12に本発明の液晶プロジェクターが有
する液晶パネルの、TFT基板の概略図を示す。TFT
基板1201上の画素部1202にギャップ保持部材1
206が設けられている。そして保護膜1205がソー
ス信号線駆動回路1203及びゲート信号線駆動回路1
204とを覆い、尚かつ画素部1202を囲うように設
けられている。
FIG. 12 is a schematic view of a TFT substrate of a liquid crystal panel included in the liquid crystal projector of the present invention. TFT
The gap holding member 1 is provided in the pixel portion 1202 on the substrate 1201.
206 is provided. Then, the protective film 1205 includes the source signal line driving circuit 1203 and the gate signal line driving circuit 1
204 so as to cover the pixel portion 1202.

【0155】ギャップ保持部材は絶縁物なので、ソース
信号線駆動回路及びゲート信号線駆動回路を含む駆動回
路上にギャップ保持部材を設けると容量が形成されてし
まい、駆動回路の動作が遅くなってしまう。
Since the gap holding member is an insulator, if the gap holding member is provided on a drive circuit including the source signal line drive circuit and the gate signal line drive circuit, a capacitance is formed, and the operation of the drive circuit is slowed down. .

【0156】しかし、保護膜1205はシール材として
の役割を兼ねており、ソース信号線駆動回路1203及
びゲート信号線駆動回路1204を覆うことで、液晶パ
ネルの機械的強度を上げるという効果を得ることができ
る。
However, the protective film 1205 also serves as a sealing material, and has an effect of increasing the mechanical strength of the liquid crystal panel by covering the source signal line driving circuit 1203 and the gate signal line driving circuit 1204. Can be.

【0157】保護膜1205はギャップ保持部材120
6と同時に形成することも可能である。この場合、シー
ル材を新たに形成する必要がなくなるので、工程数を削
減することができる。
The protection film 1205 is formed by the gap holding member 120.
6 can be formed simultaneously. In this case, it is not necessary to newly form a sealing material, so that the number of steps can be reduced.

【0158】本発明は、本実施例の形態に限定されな
い。ギャップ保持部材1206の形成位置、個数はセル
ギャップを保持でき、かつ表示の妨げにならないよう
に、決定すればよい。
The present invention is not limited to the embodiment. The position and number of the gap holding members 1206 may be determined so that the cell gap can be held and display is not hindered.

【0159】(実施例4)本実施例では、本発明で用い
られる液晶パネルの駆動方法について説明する。
(Embodiment 4) In this embodiment, a method of driving a liquid crystal panel used in the present invention will be described.

【0160】本発明によるアクティブマトリクス型液晶
パネルの上面図を図13に示す。図13において、13
01はTFT基板であり、ソース信号線駆動回路130
3及びゲート信号線駆動回路1304からなる駆動回路
は回路TFT(図示せず)を有しており、画素部130
2はマトリクス状に配置された画素TFT(図示せず)
を有している。なお、TFT基板1301としては、ガ
ラス基板などが用いられる。
FIG. 13 is a top view of the active matrix type liquid crystal panel according to the present invention. In FIG. 13, 13
Reference numeral 01 denotes a TFT substrate, and the source signal line driving circuit 130
3 and a gate signal line driving circuit 1304 have a circuit TFT (not shown),
2 is a pixel TFT arranged in a matrix (not shown)
have. Note that a glass substrate or the like is used as the TFT substrate 1301.

【0161】また、画素部1302では、ソース信号線
駆動回路1303に接続されたソース信号線(図示せ
ず)と、ゲート信号線駆動回路1304に接続されたゲ
ート信号線(図示せず)とが交差している。そのソース
信号線とゲート信号線とに囲まれた領域が画素(図示せ
ず)である。
In the pixel portion 1302, a source signal line (not shown) connected to the source signal line driver circuit 1303 and a gate signal line (not shown) connected to the gate signal line driver circuit 1304 are provided. Intersect. A region surrounded by the source signal line and the gate signal line is a pixel (not shown).

【0162】ソース信号線駆動回路1303においてタ
イミング信号によりサンプリングされた画像信号が、ソ
ース信号線に供給される。ソース信号線に入力された画
像信号は、画素TFTにより選択され、所定の画素電極
に書き込まれる。画素TFTは、ゲート信号線駆動回路
1304からゲート信号線を介して入力される選択信号
により動作する。
The image signal sampled by the timing signal in the source signal line driving circuit 1303 is supplied to the source signal line. The image signal input to the source signal line is selected by a pixel TFT and written to a predetermined pixel electrode. The pixel TFT operates according to a selection signal input from the gate signal line driver circuit 1304 through the gate signal line.

【0163】(実施例5)ここでは画素部の画素TFT
と、画素部の周辺に設けられる駆動回路(ソース信号線
駆動回路、ゲート信号線駆動回路等)の回路TFTを同
一基板上に作製する方法について工程に従って詳細に説
明する。但し、説明を簡単にするために、CMOS回路
と、nチャネル型TFTとを図示することにする。
(Embodiment 5) Here, the pixel TFT in the pixel portion
In addition, a method for manufacturing circuit TFTs of driving circuits (a source signal line driving circuit, a gate signal line driving circuit, and the like) provided around the pixel portion over the same substrate will be described in detail according to the process. However, a CMOS circuit and an n-channel TFT will be illustrated for the sake of simplicity.

【0164】図19(A)において、6001は耐熱性
を有する基板であり、石英基板、シリコン基板、セラミ
ックス基板、金属基板(代表的にはステンレス基板)を
用いれば良い。どの基板を用いる場合においても、必要
に応じて下地膜(好ましくは珪素を主成分とする絶縁
膜)を設けても構わない。
In FIG. 19A, reference numeral 6001 denotes a substrate having heat resistance, which may be a quartz substrate, a silicon substrate, a ceramic substrate, or a metal substrate (typically, a stainless steel substrate). Whichever substrate is used, a base film (preferably, an insulating film containing silicon as a main component) may be provided as necessary.

【0165】次に、20〜150nm(好ましくは30
〜80nm)の厚さで非晶質構造を有する半導体膜を、
プラズマCVD法やスパッタ法などの公知の方法で形成
する。本実施例では、プラズマCVD法で非晶質シリコ
ン膜を53nmの厚さに形成した。非晶質構造を有する
半導体膜としては、非晶質半導体膜や微結晶半導体膜が
あり、非晶質シリコンゲルマニウム膜などの非晶質構造
を有する化合物半導体膜を適用しても良い。また、下地
膜を形成する場合、下地膜と非晶質シリコン膜とは同じ
成膜法で形成することが可能であるので、両者を連続形
成しても良い。下地膜を形成した後、一旦大気雰囲気に
晒さないことでその表面の汚染を防ぐことが可能とな
り、作製するTFTの特性バラツキやしきい値電圧の変
動を低減させることができる。
Next, 20 to 150 nm (preferably 30 nm)
Semiconductor film having an amorphous structure with a thickness of
It is formed by a known method such as a plasma CVD method or a sputtering method. In this embodiment, an amorphous silicon film is formed to a thickness of 53 nm by a plasma CVD method. As the semiconductor film having an amorphous structure, there are an amorphous semiconductor film and a microcrystalline semiconductor film, and a compound semiconductor film having an amorphous structure such as an amorphous silicon germanium film may be used. In the case of forming a base film, the base film and the amorphous silicon film can be formed by the same film formation method, and thus both may be formed continuously. After the formation of the base film, it is possible to prevent the surface from being contaminated by not once exposing it to the atmosphere, thereby reducing the variation in the characteristics of the TFT to be manufactured and the fluctuation of the threshold voltage.

【0166】そして、公知の結晶化技術を使用して非晶
質シリコン膜から結晶質シリコン膜6002を形成す
る。例えば、レーザー結晶化法や熱結晶化法(固相成長
法)を適用すれば良いが、ここでは、特開平7−130
652号公報で開示された技術に従って、触媒元素を用
いる結晶化法で結晶質シリコン膜6002を形成した。
Then, a crystalline silicon film 6002 is formed from the amorphous silicon film by using a known crystallization technique. For example, a laser crystallization method or a thermal crystallization method (solid phase growth method) may be applied.
According to the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 652/652, a crystalline silicon film 6002 was formed by a crystallization method using a catalytic element.

【0167】なお、非晶質珪素膜の結晶化を助長する触
媒元素としてニッケル(Ni)を含有した溶液をスピン
コート法により塗布し、Ni含有層を形成した。また、
触媒元素としてはニッケル以外にも、コバルト(C
o)、鉄(Fe)、パラジウム(Pd)、白金(P
t)、銅(Cu)、金(Au)等を用いることができ
る。
A solution containing nickel (Ni) as a catalyst element for promoting crystallization of the amorphous silicon film was applied by spin coating to form a Ni-containing layer. Also,
As a catalyst element, in addition to nickel, cobalt (C
o), iron (Fe), palladium (Pd), platinum (P
t), copper (Cu), gold (Au) or the like can be used.

【0168】また、上記触媒元素の添加工程は、レジス
トマスクを利用したイオン注入法またはプラズマドーピ
ング法を用いることもできる。この場合、添加領域の占
有面積の低減、横成長領域の成長距離の制御が容易とな
るので、微細化した回路を構成する際に有効な技術とな
る。
In the step of adding the catalyst element, an ion implantation method using a resist mask or a plasma doping method can be used. In this case, the reduction of the occupied area of the addition region and the control of the growth distance of the lateral growth region are facilitated, so that this is an effective technique when configuring a miniaturized circuit.

【0169】また結晶化の工程に先立って、非晶質シリ
コン膜の含有水素量にもよるが、400〜500℃で1
時間程度の熱処理を行い、含有水素量を5atom%以
下にしてから結晶化させることが望ましい。触媒元素の
添加工程が終了したら、450℃で1時間程度の水素出
しの後、不活性雰囲気、水素雰囲気または酸素雰囲気中
において500〜700℃(代表的には550〜650
℃)の温度で4〜24時間の加熱処理を加えて非晶質シ
リコン膜の結晶化を行う。本実施例では窒素雰囲気で6
00℃、12時間の加熱処理を行い非晶質シリコン膜の
結晶化を行った。
Prior to the crystallization step, depending on the amount of hydrogen contained in the amorphous silicon film, a temperature of 400-500 ° C.
It is desirable to perform heat treatment for about an hour to reduce the content of hydrogen to 5 atom% or less before crystallization. After the step of adding the catalyst element is completed, hydrogen is removed at 450 ° C. for about 1 hour, and then 500 to 700 ° C. (typically 550 to 650) in an inert atmosphere, a hydrogen atmosphere, or an oxygen atmosphere.
C.) for 4 to 24 hours to crystallize the amorphous silicon film. In the present embodiment, 6
A heat treatment was performed at 00 ° C. for 12 hours to crystallize the amorphous silicon film.

【0170】非晶質シリコン膜を結晶化させると原子の
再配列が起こり緻密化するので、作製される結晶質シリ
コン膜の厚さは当初の非晶質シリコン膜の厚さ(本実施
例では53nm)よりも1〜15%程度減少した。(図
19(A))。
When the amorphous silicon film is crystallized, rearrangement of atoms occurs and the film becomes denser. Therefore, the thickness of the crystalline silicon film to be formed is equal to the thickness of the original amorphous silicon film (in this embodiment, 53 nm). (FIG. 19A).

【0171】そして結晶質シリコン膜6002上に酸化
珪素膜からなる130nmの厚さの保護酸化膜6003
を形成した。そして結晶質シリコン膜6002にゲッタ
リング領域を形成するために、保護酸化膜6003に開
口部6004を形成した。(図19(B))
A 130 nm-thick protective oxide film 6003 made of a silicon oxide film is formed on the crystalline silicon film 6002.
Was formed. Then, an opening 6004 was formed in the protective oxide film 6003 in order to form a gettering region in the crystalline silicon film 6002. (FIG. 19B)

【0172】そして開口部6004及び結晶質シリコン
膜6002のpチャネル型TFTが形成される部分を覆
ってレジストマスク6005を形成した。そして結晶質
シリコン膜6002のnチャネル型TFTが形成される
部分にしきい値電圧を制御する目的で、p型を付与する
不純物としてボロン(B)をドーピングした。ドーピン
グは加速電圧30keV程度で行い、ボロン(B)の濃
度が5×1017〜5×1018atoms/cm3程度に
なるように調節した。本実施例では、ボロン(B)の濃
度が1×1018atoms/cm3となるようにした。
ボロン(B)の添加はイオンドープ法で実施しても良い
し、非晶質シリコン膜を成膜するときに同時に添加して
おくこともできる。そして結晶質シリコン膜6002の
特性によっては、しきい値電圧を制御するためにボロン
(B)ではなくリン(P)を添加しても良い。ここでの
ボロン(B)添加は必ずしも必要でないが、結晶質シリ
コン膜6002のボロン(B)を添加した部分(チャネ
ルドープ部)6006はnチャネル型TFTのしきい値
電圧を所定の範囲内に収めるために形成することが好ま
しかった。(図19(C))
A resist mask 6005 was formed to cover the opening 6004 and the portion of the crystalline silicon film 6002 where the p-channel TFT was to be formed. Then, in order to control the threshold voltage, a portion of the crystalline silicon film 6002 where the n-channel TFT is formed is doped with boron (B) as an impurity imparting p-type. The doping was performed at an acceleration voltage of about 30 keV, and the concentration of boron (B) was adjusted to be about 5 × 10 17 to 5 × 10 18 atoms / cm 3 . In this embodiment, the concentration of boron (B) is set to 1 × 10 18 atoms / cm 3 .
Boron (B) may be added by an ion doping method, or may be added simultaneously with the formation of the amorphous silicon film. Then, depending on the characteristics of the crystalline silicon film 6002, phosphorus (P) may be added instead of boron (B) in order to control the threshold voltage. Although the addition of boron (B) here is not necessarily required, a portion (channel doping portion) 6006 of the crystalline silicon film 6002 to which boron (B) is added can set the threshold voltage of the n-channel TFT within a predetermined range. It was preferable to form to fit. (FIG. 19C)

【0173】そしてレジストマスク6005を除去した
後に、結晶質シリコン膜6002中のニッケルを除去す
るために、リンをドーピングする。すると、開口部60
04から結晶質シリコン膜6002にリンがドーピング
され、ゲッタリング領域6007が形成される。このと
き、ドーピングの加速電圧と、酸化膜で成る保護酸化膜
6003厚さを最適化し、リンが保護酸化膜6003を
実質的に突き抜けないようにする。
After removing the resist mask 6005, phosphorus is doped to remove nickel in the crystalline silicon film 6002. Then, the opening 60
From 04, the crystalline silicon film 6002 is doped with phosphorus to form a gettering region 6007. At this time, the acceleration voltage for doping and the thickness of the protective oxide film 6003 made of an oxide film are optimized so that phosphorus does not substantially penetrate the protective oxide film 6003.

【0174】ドーピングはリン(P)の濃度が1×10
20〜1×1021atoms/cm3程度になるように調
節した。本実施例では、リン(P)の濃度が5×1020
atoms/cm3となるように、イオンドーピング装
置を用いて行った。
In the doping, the concentration of phosphorus (P) is 1 × 10
It was adjusted to be about 20 to 1 × 10 21 atoms / cm 3 . In this embodiment, the concentration of phosphorus (P) is 5 × 10 20
The ion doping apparatus was used to adjust the concentration to atoms / cm 3 .

【0175】なお、イオンドープの際の加速電圧は10
kevとした。10kevの加速電圧であれば、リンは
保護酸化膜6003の厚さを100nm以上とするとほ
とんど通過することができない。
The acceleration voltage during ion doping is 10
kev. At an acceleration voltage of 10 keV, phosphorus can hardly pass through when the thickness of the protective oxide film 6003 is 100 nm or more.

【0176】その後、600℃の窒素雰囲気にて1〜1
2時間(本実施例では12時間)熱アニールし、ニッケ
ル元素のゲッタリングを行った。加熱によりニッケルが
リンに吸い寄せられることになる。600℃の温度のも
とでは、リン原子は膜中をほとんど動かないが、ニッケ
ル原子は数100μm程度またはそれ以上の距離を移動
することができる。このことからリンがニッケルのゲッ
タリングに最も適した元素の1つであることが理解でき
る。(図19(D))
After that, in a nitrogen atmosphere at 600.degree.
Thermal annealing was performed for 2 hours (12 hours in this embodiment) to perform gettering of the nickel element. The heating causes nickel to be attracted to the phosphorus. At a temperature of 600 ° C., phosphorus atoms hardly move in the film, while nickel atoms can move a distance of several hundred μm or more. From this, it can be understood that phosphorus is one of the most suitable elements for gettering nickel. (FIG. 19D)

【0177】次に保護酸化膜6003をマスクとしてエ
ッチングし、ゲッタリング領域6007を除去する。
(図20(A))
Next, the gettering region 6007 is removed by etching using the protective oxide film 6003 as a mask.
(FIG. 20A)

【0178】そして保護酸化膜6003を除去した後に
(図20(B))、非晶質シリコン膜6002を覆うよ
うに基板6001上に酸化珪素膜からなる酸化膜600
8aを形成した。本実施例では20nmの厚さで形成し
た。(図20(C))
After removing the protective oxide film 6003 (FIG. 20B), the oxide film 600 made of a silicon oxide film is formed on the substrate 6001 so as to cover the amorphous silicon film 6002.
8a was formed. In this embodiment, it is formed with a thickness of 20 nm. (FIG. 20 (C))

【0179】次に結晶質シリコン膜6003を酸化性気
体の雰囲気下でアッシングすることにより、結晶質シリ
コン膜6003のシリコンの密度を上げ、膜を緻密にし
た。本実施例では、950℃で酸素雰囲気下で熱酸化
し、結晶質シリコン膜6003の膜厚を15nm程度減
少させた。(図20(D))
Next, by ashing the crystalline silicon film 6003 in an atmosphere of an oxidizing gas, the density of silicon of the crystalline silicon film 6003 was increased and the film was made dense. In this embodiment, thermal oxidation was performed at 950 ° C. in an oxygen atmosphere to reduce the thickness of the crystalline silicon film 6003 by about 15 nm. (FIG. 20 (D))

【0180】そして熱酸化により厚さが大きくなった熱
処理後酸化膜6008bを除去し(図21(A))、パ
ターニングすることによって、半導体膜6010、60
11、6012を形成した。(図21(B))
After heat treatment, the thickness of which has been increased by thermal oxidation, oxide film 6008b is removed (FIG. 21A), and semiconductor films 6010 and 6060 are patterned by patterning.
11, 6012 were formed. (FIG. 21 (B))

【0181】そして、半導体膜6010、6011、6
012を覆って第1ゲート絶縁膜6013が形成され
る。代表的には、酸化珪素膜又は窒化珪素膜からなる第
1ゲート絶縁膜6013を、その膜厚が5〜200nm
(好ましくは100〜150nm)となるように形成す
れば良い。本実施例では酸化珪素膜または酸化珪素を主
成分とする膜からなる第1ゲート絶縁膜6013の膜厚
を40nmとした。(図21(C))
Then, the semiconductor films 6010, 6011, 6
A first gate insulating film 6013 is formed to cover 012. Typically, a first gate insulating film 6013 made of a silicon oxide film or a silicon nitride film is formed to a thickness of 5 to 200 nm.
(Preferably 100 to 150 nm). In this embodiment, the first gate insulating film 6013 made of a silicon oxide film or a film containing silicon oxide as a main component has a thickness of 40 nm. (FIG. 21 (C))

【0182】次にレジストマスク6014を利用して第
1ゲート絶縁膜6013の一部をエッチングすることに
より、半導体膜6012の一部を露出させた。そしてリ
ンをドーピングすることによって、Csの一部となる不
純物領域(Cs領域)6015を形成した。ドーピング
は加速電圧10keV程度で行い、リン(P)の濃度が
1×1019〜1×1020atoms/cm3程度になる
ように調節した。本実施例では、リン(P)の濃度が5
×1019atoms/cm3となるように、イオンドー
ピング装置を用いて行った。(図21(D))
Next, a part of the first gate insulating film 6013 was etched using the resist mask 6014 to expose a part of the semiconductor film 6012. Then, an impurity region (Cs region) 6015 to be a part of Cs was formed by doping with phosphorus. The doping was performed at an acceleration voltage of about 10 keV, and the concentration of phosphorus (P) was adjusted to be about 1 × 10 19 to 1 × 10 20 atoms / cm 3 . In this embodiment, the concentration of phosphorus (P) is 5
As a × 10 19 atoms / cm 3, it was performed using an ion doping apparatus. (FIG. 21D)

【0183】レジストマスク6014を除去した後、第
2ゲート絶縁膜6016を形成した。代表的には、第2
ゲート絶縁膜6016の膜厚は5〜200nm(好まし
くは100〜150nm)とすれば良い。本実施例では
窒化珪素膜からなる第2ゲート絶縁膜6016を、その
膜厚が20nmとなるように形成した。(図22
(A))
After removing the resist mask 6014, a second gate insulating film 6016 was formed. Typically, the second
The thickness of the gate insulating film 6016 may be 5 to 200 nm (preferably 100 to 150 nm). In this embodiment, the second gate insulating film 6016 made of a silicon nitride film is formed so as to have a thickness of 20 nm. (FIG. 22
(A))

【0184】そして第1導電膜6017及び第2導電膜
6018を順に形成した。本実施例ではゲート電極を多
層構造とするが、ゲート電極を単層で形成していてもよ
い。
Then, a first conductive film 6017 and a second conductive film 6018 were sequentially formed. Although the gate electrode has a multilayer structure in this embodiment, the gate electrode may be formed as a single layer.

【0185】第1導電膜6017はn型の不純物を有す
る結晶質シリコン膜であり、CVD法を用いて150n
mの膜厚で形成されている。また第2導電膜6018は
タングステンシリサイドであり、スパッタリングにより
150nmの膜厚で形成されている。(図22(B))
この場合、金属膜を用いるよりも若干抵抗が上がるが、
金属シリサイド膜と珪素膜との積層構造は耐熱性も高
く、酸化にも強いので有効な構造である。なお第1導電
膜6017は窒化タンタル(TaN)、窒化タングステ
ン(WN)、窒化チタン(TiN)膜、窒化モリブデン
(MoN)、タングステンシリサイド、チタンシリサイ
ドまたはモリブデンシリサイドで形成しても良く、第2
導電膜6022はタンタル(Ta)、チタン(Ti)、
モリブデン(Mo)、タングステン(W)から選ばれた
元素、または前記元素を主成分とする合金か、前記元素
を組み合わせた合金膜(代表的にはMo−W合金膜、M
o−Ta合金膜)で形成しても良い。
The first conductive film 6017 is a crystalline silicon film having an n-type impurity, and is 150 nm thick by using the CVD method.
m. The second conductive film 6018 is tungsten silicide and is formed with a thickness of 150 nm by sputtering. (FIG. 22 (B))
In this case, although the resistance is slightly higher than using a metal film,
The stacked structure of the metal silicide film and the silicon film is effective because it has high heat resistance and is resistant to oxidation. Note that the first conductive film 6017 may be formed using tantalum nitride (TaN), tungsten nitride (WN), titanium nitride (TiN), molybdenum nitride (MoN), tungsten silicide, titanium silicide, or molybdenum silicide.
The conductive film 6022 is formed using tantalum (Ta), titanium (Ti),
An element selected from molybdenum (Mo) and tungsten (W), an alloy containing the above element as a main component, or an alloy film combining the above elements (typically, a Mo—W alloy film, M
(o-Ta alloy film).

【0186】次に第1導電膜6017及び第2導電膜6
018をパターニングし、pチャネル型TFTのゲート
電極6020、nチャネル型のTFTのゲート電極60
21、6022、Cs電極6023を形成した。(図2
2(C))
Next, the first conductive film 6017 and the second conductive film 6
018 is patterned to form a gate electrode 6020 of a p-channel TFT and a gate electrode 60 of an n-channel TFT.
21, 6022 and a Cs electrode 6023 were formed. (Figure 2
2 (C))

【0187】そしてゲート電極6020、6021、6
022、Cs電極6023をマスクとして利用し、半導
体膜6010、6011及び半導体膜6012の一部に
n型を付与する不純物をドーピングし、不純物領域60
24〜6029を形成した。n型を付与する不純物とし
ては、リン(P)や砒素(As)を用いれば良く、ここ
ではリン(P)を添加すべく、フォスフィン(PH3
を用いたイオンドープ法を適用した。ドーピングは加速
電圧40keV程度で行い、リン(P)の濃度が5×1
17〜5×1018atoms/cm3程度になるように
調節した。本実施例では、不純物領域6024〜602
9のリン(P)の濃度が1×1018atoms/cm3
となるように、イオンドーピング装置を用いて行った。
本明細書中では、ここで形成された不純物領域6024
〜6029に含まれるn型を付与する不純物の濃度を
(n-)と表す。(図22(D))
Then, the gate electrodes 6020, 6021, 6
022, a part of the semiconductor films 6010, 6011 and the semiconductor film 6012 is doped with an impurity imparting n-type by using the Cs electrode
24 to 6029 were formed. Phosphorus (P) or arsenic (As) may be used as the impurity for imparting n-type. In this case, phosphine (PH 3 ) is added to add phosphorus (P).
The ion doping method using is applied. The doping is performed at an acceleration voltage of about 40 keV and the concentration of phosphorus (P) is 5 × 1.
It was adjusted to be about 0 17 to 5 × 10 18 atoms / cm 3 . In this embodiment, the impurity regions 6024 to 602
The phosphorus (P) concentration of 9 is 1 × 10 18 atoms / cm 3
Was performed using an ion doping apparatus.
In this specification, the impurity region 6024 formed here is used.
The concentration of the impurity imparting n-type contained in 606029 is represented by (n ). (FIG. 22 (D))

【0188】次にpチャネル型TFTとなる半導体膜6
010と、nチャネル型TFTとなる半導体膜601
1、6012の一部を覆うようにレジストマスク603
0、6031、6032を形成した。そしてレジストマ
スク6030、6031、6032を利用して半導体膜
6011、6012の一部にn型を付与する不純物をド
ーピングし、不純物領域6033〜6036を形成し
た。
Next, a semiconductor film 6 to be a p-channel type TFT
010 and a semiconductor film 601 to be an n-channel TFT
1, 6012 so as to cover a part of the resist mask 603.
0, 6031 and 6032 were formed. Then, a part of the semiconductor films 6011 and 6012 was doped with an impurity imparting n-type using the resist masks 6030, 6031 and 6032 to form impurity regions 6033 to 6036.

【0189】不純物領域6033〜6036の形成は、
フォスフィン(PH3)を用いたイオンドープ法で行
い、ドーピングは加速電圧40keV程度で行い、リン
(P)の濃度が5×1019〜5×1020atoms/c
3程度になるように調節した。本実施例では、不純物
領域6033〜6036のリン(P)の濃度が1×10
20atoms/cm3となるようにした。本明細書中で
は、ここで形成された不純物領域6033〜6036に
含まれるn型を付与する不純物の濃度を(n+)と表
す。(図23(A))
The formation of the impurity regions 6033 to 6036
Phosphine (PHThree) Using ion doping method
Doping is performed at an acceleration voltage of about 40 keV,
The concentration of (P) is 5 × 1019~ 5 × 1020atoms / c
mThreeIt was adjusted to the extent. In this embodiment, the impurities
The concentration of phosphorus (P) in the regions 6033 to 6036 is 1 × 10
20atoms / cmThreeIt was made to become. In this specification
Are formed in the impurity regions 6033 to 6036 formed here.
The concentration of the impurity imparting n-type contained therein is (n+) And table
You. (FIG. 23 (A))

【0190】レジストマスク6030〜6032を除去
し、nチャネル型TFTとなる部分及びCsとなる部分
をレジストマスク6039で覆った。そして半導体膜6
010にp型を付与する不純物をドーピングした。本実
施例では、ジボラン(B26)を用いたイオンドープ法
で不純物領域6037、6038を形成した。ドーピン
グは加速電圧40keV程度で行い、ボロン(B)の濃
度が5×1019〜5×1020atoms/cm3程度に
なるように調節した。本実施例では、不純物領域603
7、6038のボロン(B)の濃度が1×1020ato
ms/cm3となるようにした。本明細書中では、ここ
で形成された不純物領域6037、6038に含まれる
p型を付与する不純物元素の濃度を(p+)と表す。不
純物領域6037、6038には、既に前工程で添加さ
れたリン(P)またはボロン(B)が含まれているが、
それに比して十分に高い濃度でボロン(B)が添加され
るので、p型の導電性が確保され、TFTの特性に何ら
影響を与えることはない。(図23(B))
The resist masks 6030 to 6032 were removed, and the portion to be an n-channel TFT and the portion to be Cs were covered with a resist mask 6039. And the semiconductor film 6
010 was doped with an impurity imparting p-type. In this embodiment, the impurity regions 6037 and 6038 are formed by an ion doping method using diborane (B 2 H 6 ). The doping was performed at an acceleration voltage of about 40 keV, and the concentration of boron (B) was adjusted so as to be about 5 × 10 19 to 5 × 10 20 atoms / cm 3 . In this embodiment, the impurity region 603 is used.
The concentration of boron (B) of 7,6038 is 1 × 10 20 atom
ms / cm 3 . In this specification, the concentration of the impurity element imparting p-type contained in the impurity regions 6037 and 6038 formed here is expressed as (p + ). Although the impurity regions 6037 and 6038 contain phosphorus (P) or boron (B) already added in the previous step,
Since boron (B) is added at a sufficiently high concentration, p-type conductivity is ensured, and the characteristics of the TFT are not affected at all. (FIG. 23 (B))

【0191】レジストマスク6039を除去した後、絶
縁膜6040を形成した。絶縁膜6040は窒化珪素膜
からなり、CVD法によって膜厚70nmに形成され
た。(図23(C))
After removing the resist mask 6039, an insulating film 6040 was formed. The insulating film 6040 is made of a silicon nitride film and has a thickness of 70 nm by a CVD method. (FIG. 23 (C))

【0192】次に窒素雰囲気下、850℃で30分の条
件で加熱することにより、不純物領域に含まれる不純物
が半導体膜6010〜6012内で拡散してゲート電極
6020〜6022の下部にまで広がる。ゲート電極6
020〜6022の下部に位置する不純物領域6041
〜6046をLov領域と称する。またゲート電極60
20〜6022の下部に位置しておらず、不純物領域
(ソース領域またはドレイン領域)6033〜6036
に接している不純物領域6047〜6050をLof領
域と称する。不純物領域6033〜6038、6041
〜6050は上記熱処理によって活性化される。(図2
4(A))
Next, by heating in a nitrogen atmosphere at 850 ° C. for 30 minutes, the impurities contained in the impurity regions diffuse in the semiconductor films 6010 to 6012 and spread to the lower portions of the gate electrodes 6020 to 6022. Gate electrode 6
Impurity region 6041 located below 0200 to 6022
606046 is referred to as a Lov region. Also, the gate electrode 60
Impurity regions (source regions or drain regions) 6033 to 6036
The impurity regions 6047 to 6050 in contact with are referred to as Lof regions. Impurity regions 6033 to 6038, 6041
~ 6050 are activated by the heat treatment. (Figure 2
4 (A))

【0193】次に酸化シリコン又は酸化窒化シリコンか
らなる第1の層間絶縁膜6052を500〜1500n
mの厚さで形成する。本実施例では、酸化窒化珪素を用
い1000nmの厚さで形成した。その後、ソース領域
またはドレイン領域6033〜6038に達するコンタ
クトホールを形成し、ソース配線6053、6055、
6057と、ドレイン配線6054、6056、605
8を形成する。なお、図示していないが、本実施例では
このソース配線、ドレイン配線を、Ti膜60nm、窒
素を含むTi膜40nm、Siを含むアルミニウム膜3
00nm、Ti膜100nmをスパッタ法で連続して形
成した4層構造の積層膜とした。(図24(B))
Next, a first interlayer insulating film 6052 made of silicon oxide or silicon oxynitride is formed to a thickness of 500 to 1500 n.
m. In this embodiment, silicon oxynitride is used to have a thickness of 1000 nm. After that, contact holes reaching the source or drain regions 6033 to 6038 are formed, and the source wirings 6053, 6055,
6057 and drain wirings 6054, 6056, 605
8 is formed. Although not shown, in the present embodiment, the source wiring and the drain wiring are formed of a Ti film 60 nm, a nitrogen-containing Ti film 40 nm, and an Si-containing aluminum film 3.
A four-layer laminated film was formed by successively forming a 00 nm film and a 100 nm Ti film by a sputtering method. (FIG. 24 (B))

【0194】次にソース配線6053、6055、60
57と、ドレイン配線6054、6056、6058を
覆うように第1層間絶縁膜6052上に窒化珪素膜から
なるパッシベーション膜6060を220nmの厚さで
形成する。(図24(C))そしてパッシベーション膜
6060を覆うようにして第2層間絶縁膜6061が形
成される。この第2層間絶縁膜6061はアクリル膜か
らなり、厚さが800nmに形成される。
Next, source wirings 6053, 6055, and 60
A passivation film 6060 made of a silicon nitride film is formed with a thickness of 220 nm on the first interlayer insulating film 6052 so as to cover the drain wirings 6054, 6056, and 6058. (FIG. 24C) Then, a second interlayer insulating film 6061 is formed so as to cover the passivation film 6060. This second interlayer insulating film 6061 is made of an acrylic film and has a thickness of 800 nm.

【0195】アクリル膜からなる第2層間絶縁膜606
1を150℃、0.3hrの条件で加熱した後、第2層
間絶縁膜6061の上にTi膜またはTiを主成分とす
る厚さが100nmの遮光膜6062を形成する。(図
25(A))
Second interlayer insulating film 606 made of an acrylic film
After the substrate 1 is heated at 150 ° C. for 0.3 hours, a Ti film or a light-shielding film 6062 mainly composed of Ti and having a thickness of 100 nm is formed on the second interlayer insulating film 6061. (FIG. 25A)

【0196】そして、遮光膜6062を覆うように第2
層間絶縁膜6061上に第3層間絶縁膜6063を形成
した。第3層間絶縁膜6063はアクリル膜からなり、
その厚さは500nm〜1000nmで形成される。本
実施例では第3層間絶縁膜6063の厚さを800nm
とした。(図25(B))
The second light-shielding film 6062 is
A third interlayer insulating film 6063 was formed over the interlayer insulating film 6061. The third interlayer insulating film 6063 is made of an acrylic film,
Its thickness is formed between 500 nm and 1000 nm. In this embodiment, the thickness of the third interlayer insulating film 6063 is set to 800 nm.
And (FIG. 25 (B))

【0197】第3層間絶縁膜6063にはコンタクトホ
ールが形成され、その後、画素電極6064が形成され
る。本実施例では画素電極6064の厚さを2.8μm
とした。画素電極6064はコンタクトホールを介して
ドレイン配線6058と電気的に接続される。画素電極
6064は透明導電膜を用いれば良い。(図25
(C))
A contact hole is formed in the third interlayer insulating film 6063, and then a pixel electrode 6064 is formed. In this embodiment, the thickness of the pixel electrode 6064 is 2.8 μm
And The pixel electrode 6064 is electrically connected to a drain wiring 6058 through a contact hole. The pixel electrode 6064 may be formed using a transparent conductive film. (FIG. 25
(C))

【0198】以上のように、本発明の半導体装置はドラ
イバー回路および画素マトリクス回路に様々な特徴を有
しており、これらの相乗効果によって明るく高精細な画
像が得られ、動作性能および信頼性の高い電気光学装置
を得る。そして、そのような電気光学装置を部品として
搭載した高性能な電子機器を得る。
As described above, the semiconductor device of the present invention has various features in the driver circuit and the pixel matrix circuit. A bright and high-definition image can be obtained by a synergistic effect of these, and the operation performance and the reliability are improved. Obtain a high electro-optical device. Then, a high-performance electronic device in which such an electro-optical device is mounted as a component is obtained.

【0199】(実施例6)本実施例では、液晶パネルの
セルギャップ精度について説明する。
(Embodiment 6) In this embodiment, the cell gap accuracy of a liquid crystal panel will be described.

【0200】以下の4種類の液晶パネルを作製した。 1)実施例1に示した方法でTFT基板上にギャップ保
持部材を形成し、且つ、対向基板にマイクロレンズアレ
イを有する液晶パネル。 2)実施例1に示した方法でTFT基板上にギャップ保
持部材を形成し、且つ、マイクロレンズアレイを有さな
い液晶パネル。 3)TFT基板上にギャップ保持部材を形成する代わり
に球状のスペーサを散布し、且つ、対向基板上にマイク
ロレンズアレイを有する液晶パネル。 4)TFT基板上にギャップ保持部材を形成する代わり
に球状のスペーサを散布し、且つ、対向基板上にマイク
ロレンズアレイを有さない液晶パネル。なお、本実施例
ではギャップ保持部材は高さ3.2μm、配置密度50
個/mm 2とし、球状スペーサは直径3.2μm、配置
密度50個/mm2とした。
The following four types of liquid crystal panels were produced. 1) The gap is kept on the TFT substrate by the method described in the first embodiment.
Forming a microlens array on the opposing substrate.
A liquid crystal panel having an a. 2) A gap is maintained on the TFT substrate by the method described in the first embodiment.
Holding member and having no microlens array
Liquid crystal panel. 3) Instead of forming a gap holding member on a TFT substrate
And a microphone on the opposite substrate.
A liquid crystal panel having a lens array. 4) Instead of forming a gap holding member on a TFT substrate
And a microphone on the opposite substrate.
A liquid crystal panel without a lens array. Note that this embodiment
In this case, the height of the gap holding member is 3.2 μm, and the arrangement density is 50
Pieces / mm TwoThe spherical spacers are 3.2 μm in diameter and arranged
Density 50 pieces / mmTwoAnd

【0201】これら4種類の液晶パネルのセルギャップ
精度、色むらに対するセルギャップ制御方法、マイクロ
レンズアレイの有無の影響を表1にまとめた。
Table 1 summarizes the cell gap accuracy of these four types of liquid crystal panels, the cell gap control method for color unevenness, and the influence of the presence or absence of a microlens array.

【0202】[0202]

【表1】 [Table 1]

【0203】セルギャップ制御方法が同じ場合は、マイ
クロレンズアレイを有しているとセルギャップ精度が低
くなることがわかる。これは、マイクロレンズアレイ基
板を設けることにより対向基板に反りが生じ、この反り
がセルギャップに影響しているためである。従来法にお
いては、マイクロレンズアレイ基板がない場合はセルギ
ャップむらが±0.2μmであり、色むらは発生してい
ない。一方マイクロレンズアレイ基板を設けた場合は±
0.35μmとなり色むらが発生した。したがって、マ
イクロレンズアレイを設ける場合にはより精度の高いセ
ルギャップ制御技術が必要となる。
It can be seen that when the cell gap control method is the same, the cell gap accuracy is reduced when the microlens array is provided. This is because the provision of the microlens array substrate causes the counter substrate to be warped, and this warp affects the cell gap. In the conventional method, when there is no microlens array substrate, the cell gap unevenness is ± 0.2 μm, and no color unevenness occurs. On the other hand, when a microlens array substrate is provided, ±
It was 0.35 μm, and color unevenness occurred. Therefore, when a microlens array is provided, a more accurate cell gap control technique is required.

【0204】本発明は、マイクロレンズアレイを設けて
もセルギャップ精度が高く、基板の反りの影響をより抑
制することが可能で、良好な表示品位が得られることが
わかる。
It can be seen that, in the present invention, even if a microlens array is provided, the cell gap accuracy is high, the influence of substrate warpage can be further suppressed, and good display quality can be obtained.

【0205】(実施例7)本実施例では、ギャップ保持
部材の配置について、図2で示したのとは別の例を示
す。
(Embodiment 7) In this embodiment, another example of the arrangement of the gap holding members, which is different from that shown in FIG.

【0206】本実施例では、ギャップ保持部材は画素開
口部の中央付近の、マイクロレンズの光軸(集光中心)
から最も距離が離れた位置に設けた。図26に画素部の
拡大図を示す。本実施例では、画素のサイズは18μm
×18μmであり、X方向の遮光部分の幅は最も細いと
ころで約3μm、Y方向の遮光部分の幅は最も細いとこ
ろで約9μmである。
In this embodiment, the gap holding member is located near the center of the pixel opening, and the optical axis of the microlens (the center of light collection).
It was provided at the position furthest away from. FIG. 26 shows an enlarged view of the pixel portion. In this embodiment, the pixel size is 18 μm
× 18 μm, the width of the light shielding portion in the X direction is about 3 μm at the narrowest point, and the width of the light shielding part in the Y direction is about 9 μm at the narrowest point.

【0207】図27はマイクロレンズの集光特性を示す
図である。横軸はマイクロレンズ光軸(集光中心)から
の距離(μm)を示し、縦軸は集光中心における光強度
を100%としたときの光強度(相対値)を示してい
る。
FIG. 27 is a diagram showing the light focusing characteristics of the microlens. The horizontal axis indicates the distance (μm) from the optical axis of the microlens (the center of light collection), and the vertical axis indicates the light intensity (relative value) when the light intensity at the center of light collection is 100%.

【0208】図27において、光強度が10%を超える
領域を有効光束集光領域と呼ぶ。図27において光強度
が10%以下となる領域、すなわち有効光束集光領域外
では、それより集光中心寄りの有効光束集光領域に比較
して、光強度は緩やかな勾配で変動することがわかる。
つまり、ギャップ保持部材の配置部分が、光強度が10
%となる領域を過ぎて集光中心に近づくに従い、光の利
用効率が急激に低下するようになる。
In FIG. 27, a region where the light intensity exceeds 10% is called an effective light beam converging region. In FIG. 27, the light intensity fluctuates with a gentler gradient outside the effective light beam converging region than in the effective light beam converging region closer to the light converging region. Understand.
That is, if the light intensity is 10
%, The light use efficiency sharply decreases as it approaches the light-collecting center after passing through the region of%.

【0209】例えば、直径3μmのスペーサを、光強度
が10%以下の領域内(例えば、図27の6〜9μmの
間と、−9〜−6μmの間)と、光強度が10%よりも
大きくなる領域内(図27の3〜6μmの間と、−6〜
−3μmの間)に配置したときとを比較してみれば、後
者の場合、前者の6倍以上も利用効率が低減される。
For example, when a spacer having a diameter of 3 μm is placed in a region where the light intensity is 10% or less (for example, between 6 and 9 μm and between −9 and −6 μm in FIG. In the area to be enlarged (between 3 to 6 μm in FIG.
Compared to the case where the antenna is arranged at a distance of -3 μm), in the latter case, the use efficiency is reduced by 6 times or more of the former.

【0210】したがって、マイクロレンズの集光領域内
にギャップ保持部材を配置する場合には、光強度が10
%以下となる領域内に納めることが好ましい。しかし、
遮光領域が狭くてギャップ保持部材が遮光領域からはみ
出してしまう場合や、設計・製造上の理由により遮光領
域上にギャップ保持部材を納めることができない場合等
には、遮光領域からはみ出した部分が、光強度が10%
以下となる領域内であれば良い。
Therefore, when the gap holding member is arranged in the light condensing area of the microlens, the light intensity becomes 10
% Or less. But,
If the light-shielding region is narrow and the gap holding member protrudes from the light-shielding region, or if the gap-holding member cannot be accommodated on the light-shielding region due to design and manufacturing reasons, the portion that protrudes from the light-shielding region is Light intensity is 10%
What is necessary is just within the area | region below.

【0211】また、ギャップ保持部材による液晶の配向
乱れ、貼り合わせ精度や、スペーサ形成精度を考慮すれ
ば、光強度が5%以下となる領域にギャップ保持部材を
配置することがさらに望ましい。
In consideration of the alignment disorder of the liquid crystal by the gap holding member, the bonding accuracy, and the spacer forming accuracy, it is more desirable to dispose the gap holding member in a region where the light intensity is 5% or less.

【0212】以上のように、好ましくは光強度が10%
以下、さらに好ましくは5%以下となる領域内にギャッ
プ保持部材を設けることによって、ギャップ保持部材周
辺における液晶の配向の乱れによってコントラストが低
下したり、表示画像が乱れる事がほとんどなくなり、実
質的に本実施例の画素サイズである18μm×18μm
のサイズの液晶パネルではギャップ保持部材の有無によ
るコントラストの差は認められない。
As described above, the light intensity is preferably 10%
Hereinafter, by providing the gap holding member in a region that is more preferably 5% or less, the contrast is not substantially reduced due to the disorder of the orientation of the liquid crystal around the gap holding member, and the displayed image is hardly disturbed. 18 μm × 18 μm which is the pixel size of the present embodiment
No difference in contrast between the presence and absence of the gap holding member is observed in the liquid crystal panel having the size of.

【0213】本実施例の場合、図2に示した場合と比較
してより一層コントラストの向上が認められた。従って
コントラストを向上させる点において、光の透過しない
領域が狭い場合には、ギャップ保持部材をマイクロレン
ズの集光ピークに対し、光強度が1/10乃至1/20
以下となる領域に設けることはより望ましい。
In the case of the present embodiment, the contrast was further improved as compared with the case shown in FIG. Therefore, in the case where the region through which light does not pass is small in terms of improving the contrast, the light intensity of the gap holding member is set to 1/10 to 1/20 with respect to the condensing peak of the microlens.
It is more desirable to provide them in the following regions.

【0214】尚、本実施例の構成は、図2に示す構成と
併用することも可能である。また、マイクロレンズアレ
イがTFT基板上に設けられる構成であっても、同様の
ルールでギャップ保持部材を配置することが望ましい。
The configuration of this embodiment can be used together with the configuration shown in FIG. Further, even when the microlens array is provided on the TFT substrate, it is desirable to arrange the gap holding members according to the same rule.

【0215】(実施例8)本発明において、CMP(ケ
ミカルメカニカルポリッシング)研磨を用いて基板、ま
たは基板上に直接形成された絶縁膜を平坦化しても良
い。CMP研磨は公知の方法を用いて行うことができ
る。
(Embodiment 8) In the present invention, the substrate or the insulating film directly formed on the substrate may be planarized by using CMP (Chemical Mechanical Polishing). CMP polishing can be performed using a known method.

【0216】本実施例ではシリカゾルと電解溶液とを混
合したもの用いて研磨を行う。電解溶液中において、1
00kg/cm2の圧力を研磨パッドから加えて研磨を
行う。この研磨の際の圧力は50kg/cm2〜150
kg/cm2程度の範囲から選択することができる。ま
た研磨を行う表面と研磨パッドとの隙間は0.1μmと
して研磨を行う。
In this embodiment, polishing is performed using a mixture of a silica sol and an electrolytic solution. In the electrolytic solution, 1
Polishing is performed by applying a pressure of 00 kg / cm 2 from the polishing pad. The pressure during this polishing is 50 kg / cm 2 to 150
It can be selected from a range of about kg / cm 2 . Polishing is performed with a gap between the polishing surface and the polishing pad being 0.1 μm.

【0217】本実施例では上記構成によって、基板、ま
たは基板上に直接形成された絶縁膜が平坦化されるの
で、液晶パネルの2つの基板を所望の値のセルギャップ
でより均一に制御することができる。そのためマイクロ
レンズアレイが微細化することによって焦点深度が浅く
なっても、液晶プロジェクターの表示ムラ、輝度ムラな
どの欠陥による表示品質の劣化を抑えることが可能にな
った。
In this embodiment, since the substrate or the insulating film directly formed on the substrate is flattened by the above structure, the two substrates of the liquid crystal panel can be more uniformly controlled with a desired value of the cell gap. Can be. Therefore, even if the depth of focus becomes shallow due to the miniaturization of the microlens array, it is possible to suppress the deterioration of display quality due to defects such as display unevenness and brightness unevenness of the liquid crystal projector.

【0218】[0218]

【発明の効果】上述した構成によって、本発明は所望の
位置にギャップ保持部材を配置することが可能になっ
た。そしてセルギャップを球形のスペーサを用いた場合
よりも均一に制御することが可能になった。
According to the above-described structure, the present invention makes it possible to arrange the gap holding member at a desired position. And it became possible to control the cell gap more uniformly than when a spherical spacer was used.

【0219】ギャップ保持部材は、画素の画素電極と画
素TFTのドレイン領域に接続された配線(ドレイン配
線)とのコンタクト部上に形成される。画素電極とドレ
イン配線とのコンタクト部は画素の開口部(実際の表示
には用いられる可視光が透過する領域)には位置してい
ない。そして可視光が透過する領域とは、液晶材料の配
向性が乱れない程度に離れているので、画像表示の乱れ
(ディスクリネーション)が生じずらい。
The gap holding member is formed on a contact portion between the pixel electrode of the pixel and a wiring (drain wiring) connected to the drain region of the pixel TFT. The contact portion between the pixel electrode and the drain wiring is not located in the opening of the pixel (the region through which visible light used for actual display is transmitted). Since the liquid crystal material is separated from the region through which the visible light is transmitted to such an extent that the orientation of the liquid crystal material is not disturbed, disturbance (disclination) of image display hardly occurs.

【0220】ギャップ保持部材によって、液晶パネルの
2つの基板を所望の値のセルギャップで均一に制御する
ことが可能になったので、マイクロレンズアレイが微細
化することによって焦点深度が浅くなっても、液晶プロ
ジェクターの表示ムラ、輝度ムラなどの欠陥による表示
品質の劣化を抑えることが可能になった。
The gap holding member enables the two substrates of the liquid crystal panel to be controlled uniformly with a desired value of the cell gap. Therefore, even if the depth of focus becomes shallow due to miniaturization of the microlens array. In addition, it is possible to suppress deterioration of display quality due to defects such as display unevenness and luminance unevenness of the liquid crystal projector.

【0221】そして本発明は上記構成によって、光源の
輝度を上げることなく、映像の輝度を上げ、液晶プロジ
ェクターの薄型、軽量化と同時に、高精細化、高画質化
及び高輝度化することを可能にした。
According to the present invention, it is possible to increase the brightness of an image without increasing the brightness of a light source, and to realize a thinner and lighter liquid crystal projector, as well as a higher definition, a higher image quality, and a higher brightness. I made it.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明のTFT基板の概略図。FIG. 1 is a schematic view of a TFT substrate of the present invention.

【図2】 本発明の画素の概略図。FIG. 2 is a schematic diagram of a pixel of the present invention.

【図3】 本発明の画素部の拡大図。FIG. 3 is an enlarged view of a pixel portion of the present invention.

【図4】 本発明の画素部の拡大図。FIG. 4 is an enlarged view of a pixel portion of the present invention.

【図5】 本発明で用いられるマイクロレンズアレイの
FIG. 5 is a diagram of a microlens array used in the present invention.

【図6】 本発明で用いられるマイクロレンズアレイの
FIG. 6 is a diagram of a microlens array used in the present invention.

【図7】 本発明の液晶パネルの断面の斜視図。FIG. 7 is a perspective view of a cross section of the liquid crystal panel of the present invention.

【図8】 本発明の液晶パネルを有する三板式の液晶プ
ロジェクターの図。
FIG. 8 is a diagram of a three-panel liquid crystal projector having the liquid crystal panel of the present invention.

【図9】 ギャップ保持部材の作製工程の図。FIG. 9 is a view showing a manufacturing process of a gap holding member.

【図10】 本発明の液晶パネルを有する三板式の液晶
プロジェクターの図。
FIG. 10 is a diagram of a three-panel liquid crystal projector having the liquid crystal panel of the present invention.

【図11】 本発明のTFT基板の上面図。FIG. 11 is a top view of a TFT substrate of the present invention.

【図12】 本発明のTFT基板の上面図。FIG. 12 is a top view of a TFT substrate of the present invention.

【図13】 TFT基板のブロック図。FIG. 13 is a block diagram of a TFT substrate.

【図14】 従来例の液晶パネルを用いた三板式液晶プ
ロジェクターの図。
FIG. 14 is a diagram of a three-panel liquid crystal projector using a conventional liquid crystal panel.

【図15】 液晶パネルの画素の拡大図。FIG. 15 is an enlarged view of a pixel of a liquid crystal panel.

【図16】 マイクロレンズアレイを有する液晶パネル
の断面図。
FIG. 16 is a cross-sectional view of a liquid crystal panel having a microlens array.

【図17】 マイクロレンズの断面図。FIG. 17 is a cross-sectional view of a microlens.

【図18】 画素におけるディスクリネーションを説明
する図。
FIG. 18 illustrates disclination in a pixel.

【図19】 TFTの作製工程の図。FIG. 19 is a diagram showing a manufacturing process of a TFT.

【図20】 TFTの作製工程の図。FIG. 20 illustrates a manufacturing process of a TFT.

【図21】 TFTの作製工程の図。FIG. 21 is a diagram showing a manufacturing process of a TFT.

【図22】 TFTの作製工程の図。FIG. 22 illustrates a manufacturing process of a TFT.

【図23】 TFTの作製工程の図。FIG. 23 illustrates a manufacturing process of a TFT.

【図24】 TFTの作製工程の図。FIG. 24 illustrates a manufacturing process of a TFT.

【図25】 TFTの作製工程の図。FIG. 25 illustrates a manufacturing process of a TFT.

【図26】 画素部の拡大図。FIG. 26 is an enlarged view of a pixel portion.

【図27】 マイクロレンズの集光特性を示す図。FIG. 27 is a diagram showing light-collecting characteristics of a microlens.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 TFT基板 102 画素部 103 ソース信号線駆動回路 104 ゲート信号線駆動回路 105 シール材 106 液晶注入口 107 ギャップ保持部材 108 画素電極 109 ドレイン配線 110 コンタクト部 111 ブラックマトリクス(BM) 112 開口部 113 画素 DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 TFT substrate 102 Pixel part 103 Source signal line drive circuit 104 Gate signal line drive circuit 105 Sealing material 106 Liquid crystal injection port 107 Gap holding member 108 Pixel electrode 109 Drain wiring 110 Contact part 111 Black matrix (BM) 112 Opening 113 Pixel

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H04N 5/66 102 H04N 5/74 K 5/74 9/31 C 9/31 G02F 1/136 500 (72)発明者 玉井 和彦 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 高藤 裕 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H04N 5/66 102 H04N 5/74 K 5/74 9/31 C 9/31 G02F 1/136 500 (72 ) Inventor Kazuhiko Tamai 22-22 Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka City, Osaka, Japan (72) Inventor Yutaka Takato 22-22 Nagaike-cho, Nagano-machi, Abeno-ku, Osaka City, Osaka

Claims (30)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】第1の基板と、第2の基板と、前記第1の
基板と前記第2の基板の間に設けられた液晶および複数
のギャップ保持部材と、複数のマイクロレンズを有する
マイクロレンズアレイと、 を有する液晶パネルであって、 前記マイクロレンズアレイは、前記第1の基板の、前記
第2の基板とは反対の側に設けられていることを特徴と
する液晶パネル。
A micro-lens having a first substrate, a second substrate, a liquid crystal and a plurality of gap holding members provided between the first and the second substrates, and a plurality of micro-lenses; A liquid crystal panel comprising: a lens array; and the microlens array is provided on a side of the first substrate opposite to the second substrate.
【請求項2】複数の画素電極を有する第1の基板と、対
向電極を有する第2の基板と、液晶と、複数のギャップ
保持部材と、複数のマイクロレンズを有するマイクロレ
ンズアレイと、を有する液晶パネルであって、 前記第1の基板と前記第2の基板とは、前記複数の画素
電極と、前記対向電極と、液晶と、前記複数のギャップ
保持部材とを間に挟んで対面しており、 前記マイクロレンズアレイは、前記第1の基板の、前記
第2の基板とは反対の側に設けられていることを特徴と
する液晶パネル。
2. A semiconductor device comprising: a first substrate having a plurality of pixel electrodes; a second substrate having a counter electrode; a liquid crystal; a plurality of gap holding members; and a microlens array having a plurality of microlenses. A liquid crystal panel, wherein the first substrate and the second substrate face each other with the plurality of pixel electrodes, the counter electrode, the liquid crystal, and the plurality of gap holding members interposed therebetween. The liquid crystal panel, wherein the microlens array is provided on a side of the first substrate opposite to the side of the second substrate.
【請求項3】複数の画素電極を有する第1の基板と、対
向電極を有する第2の基板と、液晶と、複数のギャップ
保持部材と、複数のマイクロレンズを有するマイクロレ
ンズアレイと、を有する液晶パネルであって、 前記第1の基板と前記第2の基板とは、前記複数の画素
電極と、前記対向電極と、液晶と、前記複数のギャップ
保持部材とを間に挟んで対面しており、 前記マイクロレンズアレイは、前記第2の基板の、前記
第1の基板とは反対の側に設けられていることを特徴と
する液晶パネル。
3. A semiconductor device comprising: a first substrate having a plurality of pixel electrodes; a second substrate having a counter electrode; a liquid crystal; a plurality of gap holding members; and a microlens array having a plurality of microlenses. A liquid crystal panel, wherein the first substrate and the second substrate face each other with the plurality of pixel electrodes, the counter electrode, the liquid crystal, and the plurality of gap holding members interposed therebetween. The liquid crystal panel, wherein the microlens array is provided on a side of the second substrate opposite to the first substrate.
【請求項4】複数の画素電極を有する第1の基板と、対
向電極を有する第2の基板と、液晶と、複数のギャップ
保持部材と、複数のマイクロレンズを有するマイクロレ
ンズアレイと、を有する液晶パネルであって、 前記第1の基板と前記第2の基板とは、前記複数の画素
電極と、前記対向電極と、液晶と、前記複数のギャップ
保持部材とを間に挟んで対面しており、 前記第2の基板の、前記第1の基板に向かう面とは反対
側の面上に、マイクロレンズアレイが設けられているこ
とを特徴とする液晶パネル。
4. A semiconductor device comprising: a first substrate having a plurality of pixel electrodes; a second substrate having a counter electrode; a liquid crystal; a plurality of gap holding members; and a microlens array having a plurality of microlenses. A liquid crystal panel, wherein the first substrate and the second substrate face each other with the plurality of pixel electrodes, the counter electrode, the liquid crystal, and the plurality of gap holding members interposed therebetween. A liquid crystal panel, wherein a microlens array is provided on a surface of the second substrate opposite to a surface facing the first substrate.
【請求項5】複数の画素電極を有する第1の基板と、対
向電極を有する第2の基板と、液晶と、複数のギャップ
保持部材と、複数のマイクロレンズを有するマイクロレ
ンズアレイと、を有する液晶パネルであって、 前記第1の基板と前記第2の基板とは、前記複数の画素
電極と、前記対向電極と、液晶と、前記複数のギャップ
保持部材とを間に挟んで対面しており、 前記第1の基板の、前記第2の基板に向かう面とは反対
側の面上に、マイクロレンズアレイが設けられているこ
とを特徴とする液晶パネル。
5. A semiconductor device comprising: a first substrate having a plurality of pixel electrodes; a second substrate having a counter electrode; a liquid crystal; a plurality of gap holding members; and a microlens array having a plurality of microlenses. A liquid crystal panel, wherein the first substrate and the second substrate face each other with the plurality of pixel electrodes, the counter electrode, the liquid crystal, and the plurality of gap holding members interposed therebetween. A liquid crystal panel, wherein a microlens array is provided on a surface of the first substrate opposite to a surface facing the second substrate.
【請求項6】複数の薄膜トランジスタ及び複数の画素電
極を有する第1の基板と、対向電極を有する第2の基板
と、液晶と、複数のギャップ保持部材と、複数のマイク
ロレンズを有するマイクロレンズアレイと、を有する液
晶パネルであって、 前記第1の基板と前記第2の基板とは、前記複数の薄膜
トランジスタと、前記複数の画素電極と、前記対向電極
と、液晶と、前記複数のギャップ保持部材とを間に挟ん
で対面しており、 前記マイクロレンズアレイは、前記第1の基板の、前記
第2の基板とは反対の側に設けられていることを特徴と
する液晶パネル。
6. A microlens array having a first substrate having a plurality of thin film transistors and a plurality of pixel electrodes, a second substrate having a counter electrode, a liquid crystal, a plurality of gap holding members, and a plurality of microlenses. A liquid crystal panel comprising: the first substrate and the second substrate, wherein the plurality of thin film transistors, the plurality of pixel electrodes, the counter electrode, the liquid crystal, and the plurality of gap holding members are provided. A liquid crystal panel, wherein the microlens array is provided on a side of the first substrate opposite to the second substrate.
【請求項7】複数の薄膜トランジスタ及び複数の画素電
極を有する第1の基板と、対向電極を有する第2の基板
と、液晶と、複数のギャップ保持部材と、複数のマイク
ロレンズを有するマイクロレンズアレイと、を有する液
晶パネルであって、 前記第1の基板と前記第2の基板とは、前記複数の薄膜
トランジスタと、前記複数の画素電極と、前記対向電極
と、液晶と、前記複数のギャップ保持部材とを間に挟ん
で対面しており、 前記マイクロレンズアレイは、前記第2の基板の、前記
第1の基板とは反対の側に設けられていることを特徴と
する液晶パネル。
7. A microlens array having a first substrate having a plurality of thin film transistors and a plurality of pixel electrodes, a second substrate having a counter electrode, a liquid crystal, a plurality of gap holding members, and a plurality of microlenses. A liquid crystal panel comprising: the first substrate and the second substrate, wherein the plurality of thin film transistors, the plurality of pixel electrodes, the counter electrode, the liquid crystal, and the plurality of gap holding members are provided. A liquid crystal panel, wherein the microlens array is provided on a side of the second substrate opposite to the first substrate.
【請求項8】複数の薄膜トランジスタ及び複数の画素電
極を有する第1の基板と、対向電極を有する第2の基板
と、液晶と、複数のギャップ保持部材と、複数のマイク
ロレンズを有するマイクロレンズアレイと、を有する液
晶パネルであって、 前記複数の薄膜トランジスタは前記複数の画素電極に与
えられる電位を制御しており、 前記第1の基板と前記第2の基板とは、前記複数の薄膜
トランジスタと、前記複数の画素電極と、前記対向電極
と、液晶と、前記複数のギャップ保持部材とを間に挟ん
で対面しており、 前記第2の基板の、前記第1の基板に向かう面とは反対
側の面上に、マイクロレンズアレイが設けられており、 前記複数のマイクロレンズは、それぞれ前記複数の画素
に1対1で対応して設けられていることを特徴とする液
晶パネル。
8. A microlens array having a first substrate having a plurality of thin film transistors and a plurality of pixel electrodes, a second substrate having a counter electrode, a liquid crystal, a plurality of gap holding members, and a plurality of microlenses. And wherein the plurality of thin film transistors control a potential applied to the plurality of pixel electrodes, and wherein the first substrate and the second substrate include the plurality of thin film transistors; The plurality of pixel electrodes, the counter electrode, the liquid crystal, and the plurality of gap holding members are interposed therebetween, and are opposed to a surface of the second substrate facing the first substrate. A microlens array provided on the side surface, wherein the plurality of microlenses are provided in one-to-one correspondence with the plurality of pixels, respectively. panel.
【請求項9】複数の薄膜トランジスタ及び複数の画素電
極を有する第1の基板と、対向電極を有する第2の基板
と、液晶と、複数のギャップ保持部材と、複数のマイク
ロレンズを有するマイクロレンズアレイと、を有する液
晶パネルであって、 前記複数の薄膜トランジスタは前記複数の画素電極に与
えられる電位を制御しており、 前記第1の基板と前記第2の基板とは、前記複数の薄膜
トランジスタと、前記複数の画素電極と、前記対向電極
と、液晶と、前記複数のギャップ保持部材とを間に挟ん
で対面しており、 前記第1の基板の、前記第2の基板に向かう面とは反対
側の面上に、マイクロレンズアレイが設けられており、 前記複数のマイクロレンズは、それぞれ前記複数の画素
に1対1で対応して設けられていることを特徴とする液
晶パネル。
9. A microlens array having a first substrate having a plurality of thin film transistors and a plurality of pixel electrodes, a second substrate having a counter electrode, a liquid crystal, a plurality of gap holding members, and a plurality of microlenses. And wherein the plurality of thin film transistors control a potential applied to the plurality of pixel electrodes, and wherein the first substrate and the second substrate include the plurality of thin film transistors; The plurality of pixel electrodes, the opposite electrode, the liquid crystal, and the plurality of gap holding members are interposed therebetween, and are opposed to each other, and the first substrate is opposite to a surface facing the second substrate. A microlens array provided on the side surface, wherein the plurality of microlenses are provided in one-to-one correspondence with the plurality of pixels, respectively. panel.
【請求項10】請求項6乃至請求項9のいずれか1項に
おいて、 前記複数の薄膜トランジスタは、ソース領域、ドレイン
領域及びチャネル形成領域を含む半導体膜をそれぞれ有
しており、 前記複数の薄膜トランジスタがそれぞれ有する前記ソー
ス領域または前記ドレイン領域は、コンタクト部におい
て前記複数の画素電極と接続されており、 前記複数のギャップ保持部材は前記コンタクト部上に設
けられていることを特徴とする液晶パネル。
10. The thin film transistor according to claim 6, wherein each of the plurality of thin film transistors has a semiconductor film including a source region, a drain region, and a channel formation region. The liquid crystal panel, wherein each of the source region or the drain region has a contact portion connected to the plurality of pixel electrodes, and the plurality of gap holding members are provided on the contact portion.
【請求項11】請求項1乃至請求項10のいずれか1項
において、前記複数のギャップ保持部材は円柱形である
ことを特徴とする液晶パネル。
11. A liquid crystal panel according to claim 1, wherein said plurality of gap holding members are cylindrical.
【請求項12】請求項1乃至請求項10のいずれか1項
において、前記複数のギャップ保持部材は楕円柱形であ
ることを特徴とする液晶パネル。
12. A liquid crystal panel according to claim 1, wherein said plurality of gap holding members have an elliptical column shape.
【請求項13】請求項1乃至請求項10のいずれか1項
において、前記複数のギャップ保持部材は多角柱形であ
ることを特徴とする液晶パネル。
13. A liquid crystal panel according to claim 1, wherein said plurality of gap holding members have a polygonal column shape.
【請求項14】請求項1乃至請求項13のいずれか1項
において、前記複数のギャップ保持部材の側面がテーパ
ー状であることを特徴とする液晶パネル。
14. The liquid crystal panel according to claim 1, wherein the side surfaces of the plurality of gap holding members are tapered.
【請求項15】請求項1乃至請求項14のいずれか1項
において、前記複数のギャップ保持部材はポリイミド、
アクリル、ポリアミド、ポリイミドアミドまたはエポキ
シ樹脂を有することを特徴とする液晶パネル。
15. The gap holding member according to claim 1, wherein the plurality of gap holding members are polyimide,
A liquid crystal panel comprising acrylic, polyamide, polyimide amide or epoxy resin.
【請求項16】請求項1乃至請求項15のいずれか1項
において、前記複数のギャップ保持部材は紫外線硬化性
樹脂または熱硬化性樹脂を有することを特徴とする液晶
パネル。
16. A liquid crystal panel according to claim 1, wherein said plurality of gap holding members include an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin.
【請求項17】請求項1乃至請求項16のいずれか1項
において、前記液晶パネルは対角1インチ以下であるこ
とを特徴とする液晶パネル。
17. The liquid crystal panel according to claim 1, wherein the liquid crystal panel has a diagonal of 1 inch or less.
【請求項18】請求項1乃至請求項17のいずれか1項
において、前記複数のギャップ保持部材はマイクロレン
ズの有効光束集光領域外、即ちマイクロレンズの集光ピ
ーク照度に対し、照度が1/10以下となる領域に設け
られている事を特徴とする液晶パネル。
18. The illuminance according to claim 1, wherein the plurality of gap holding members have an illuminance outside the effective luminous flux converging area of the microlens, that is, with respect to the converging peak illuminance of the microlens. A liquid crystal panel, wherein the liquid crystal panel is provided in an area of / 10 or less.
【請求項19】請求項1乃至請求項18のいずれか1項
において、前記複数のギャップ保持部材はマイクロレン
ズの有効光束集光領域外、即ちマイクロレンズの集光ピ
ーク照度に対し、照度が1/20以下となる領域に設け
られている事を特徴とする液晶パネル。
19. The illuminance according to claim 1, wherein the plurality of gap holding members have an illuminance outside the effective luminous flux converging area of the microlens, that is, the illuminance is 1 with respect to the converging peak illuminance of the microlens. A liquid crystal panel, wherein the liquid crystal panel is provided in a region where / 20 or less.
【請求項20】白色光源と、 前記白色光源から発せられる白色光を、色が異なる複数
の光に分離する分離手段と、 前記複数の光にそれぞれ対応した複数の液晶パネルと、 前記複数の光をそれぞれ対応する前記複数の液晶パネル
に照射させる第1の光学手段と、 前記複数の液晶パネルを透過した複数の透過光を集光す
る第2の光学手段と、を有する液晶プロジェクターであ
って、 前記複数の液晶パネルのうち、少なくとも1つは第1の
基板と第2の基板とを有し、 前記複数の光は前記第2の基板側から前記液晶パネルに
照射されており、 前記第1の基板と第2の基板の間には複数のギャップ保
持部材が設けられており、 前記第2の基板の前記複数の光が照射される側にはマイ
クロレンズアレイが設けられていることを特徴とする液
晶プロジェクター。
20. A white light source; separating means for separating white light emitted from the white light source into a plurality of lights having different colors; a plurality of liquid crystal panels respectively corresponding to the plurality of lights; A first optical means for irradiating the plurality of liquid crystal panels respectively, and a second optical means for condensing a plurality of transmitted lights transmitted through the plurality of liquid crystal panels, At least one of the plurality of liquid crystal panels has a first substrate and a second substrate, and the plurality of lights are applied to the liquid crystal panel from the second substrate side; A plurality of gap holding members are provided between the first substrate and the second substrate, and a microlens array is provided on a side of the second substrate to which the plurality of lights are irradiated. LCD Pro Ekuta.
【請求項21】白色光源と、 前記白色光源から発せられる白色光を、色が異なる複数
の光に分離する分離手段と、 前記複数の光にそれぞれ対応した複数の液晶パネルと、 前記複数の光をそれぞれ対応する前記複数の液晶パネル
に照射させる第1の光学手段と、 前記複数の液晶パネルを透過した複数の透過光を集光す
る第2の光学手段と、を有する液晶プロジェクターであ
って、 前記複数の液晶パネルのうち、少なくとも1つは第1の
基板と第2の基板とを有し、 前記複数の光は前記第2の基板側から前記液晶パネルに
照射されており、 前記第1の基板上に複数の画素が設けられており、 前記複数の画素は、画素電極と、前記画素電極に接続さ
れた薄膜トランジスタとをそれぞれ有しており、 前記第1の基板と第2の基板の間には複数のギャップ保
持部材が設けられており、 前記第2の基板の前記複数の光が照射される側にはマイ
クロレンズアレイが設けられており、 前記マイクロレンズアレイが有する複数のマイクロレン
ズは、それぞれ前記複数の画素に1対1で対応して設け
られていることを特徴とする液晶プロジェクター。
21. A white light source; separating means for separating white light emitted from the white light source into a plurality of lights having different colors; a plurality of liquid crystal panels respectively corresponding to the plurality of lights; A first optical means for irradiating the plurality of liquid crystal panels respectively, and a second optical means for condensing a plurality of transmitted lights transmitted through the plurality of liquid crystal panels, At least one of the plurality of liquid crystal panels has a first substrate and a second substrate, and the plurality of lights are applied to the liquid crystal panel from the second substrate side; A plurality of pixels are provided on the substrate, the plurality of pixels each have a pixel electrode and a thin film transistor connected to the pixel electrode, and the first substrate and the second substrate Multiple in between A cap holding member is provided; a microlens array is provided on a side of the second substrate to which the plurality of lights are irradiated; A liquid crystal projector, wherein the liquid crystal projector is provided in one-to-one correspondence with the pixels.
【請求項22】白色光源と、 前記白色光源から発せられる白色光を、色が異なる複数
の光に分離する分離手段と、 前記複数の光にそれぞれ対応した複数の液晶パネルと、 前記複数の光をそれぞれ対応する前記複数の液晶パネル
に照射させる第1の光学手段と、 前記複数の液晶パネルを透過した複数の透過光を集光す
る第2の光学手段と、を有する液晶プロジェクターであ
って、 前記複数の液晶パネルのうち、少なくとも1つは第1の
基板と第2の基板とを有し、 前記複数の光は前記第2の基板側から前記液晶パネルに
照射されており、 前記第1の基板上に複数の画素を有する画素部が設けら
れており、 前記複数の画素は、画素電極と、前記画素電極に接続さ
れた薄膜トランジスタとをそれぞれ有しており、 前記画素部と第2の基板の間には複数のギャップ保持部
材が設けられており、前記第2の基板の前記複数の光が
照射される側にはマイクロレンズアレイが設けられてお
り、 前記マイクロレンズアレイが有する複数のマイクロレン
ズは、それぞれ前記複数の画素に1対1で対応して設け
られていることを特徴とする液晶プロジェクター。
22. A white light source; separating means for separating white light emitted from the white light source into a plurality of lights having different colors; a plurality of liquid crystal panels respectively corresponding to the plurality of lights; A first optical means for irradiating the plurality of liquid crystal panels respectively, and a second optical means for condensing a plurality of transmitted lights transmitted through the plurality of liquid crystal panels, At least one of the plurality of liquid crystal panels has a first substrate and a second substrate, and the plurality of lights are applied to the liquid crystal panel from the second substrate side; A pixel portion having a plurality of pixels is provided over the substrate, wherein the plurality of pixels each include a pixel electrode and a thin film transistor connected to the pixel electrode; Between boards Is provided with a plurality of gap holding members, a microlens array is provided on the side of the second substrate to which the plurality of light is irradiated, a plurality of microlenses of the microlens array, A liquid crystal projector, wherein each of the plurality of pixels is provided in one-to-one correspondence.
【請求項23】請求項21または請求項22において、 前記複数の画素が有する前記薄膜トランジスタは、ソー
ス領域、ドレイン領域及びチャネル形成領域を含む半導
体膜をそれぞれ有しており、 前記ソース領域または前記ドレイン領域は、コンタクト
部において前記複数の画素電極と接続されており、 前記複数のギャップ保持部材は前記コンタクト部上に設
けられていることを特徴とする液晶プロジェクター。
23. The thin film transistor according to claim 21, wherein the thin film transistor included in the plurality of pixels includes a semiconductor film including a source region, a drain region, and a channel formation region, respectively. The liquid crystal projector, wherein the region is connected to the plurality of pixel electrodes at a contact portion, and the plurality of gap holding members are provided on the contact portion.
【請求項24】請求項20乃至請求項23のいずれか1
項において、前記複数のギャップ保持部材は円柱形であ
ることを特徴とする液晶プロジェクター。
24. Any one of claims 20 to 23
2. The liquid crystal projector according to claim 1, wherein the plurality of gap holding members are cylindrical.
【請求項25】請求項20乃至請求項23のいずれか1
項において、前記複数のギャップ保持部材は楕円柱形で
あることを特徴とする液晶プロジェクター。
25. One of claims 20 to 23.
3. The liquid crystal projector according to claim 1, wherein the plurality of gap holding members have an elliptical column shape.
【請求項26】請求項20乃至請求項23のいずれか1
項において、前記複数のギャップ保持部材は多角柱形で
あることを特徴とする液晶プロジェクター。
26. One of claims 20 to 23.
3. The liquid crystal projector according to claim 1, wherein the plurality of gap holding members have a polygonal prism shape.
【請求項27】請求項20乃至請求項26のいずれか1
項において、前記複数のギャップ保持部材の側面がテー
パー状であることを特徴とする液晶プロジェクター。
27. Any one of claims 20 to 26.
3. The liquid crystal projector according to claim 1, wherein the side surfaces of the plurality of gap holding members are tapered.
【請求項28】請求項20乃至請求項27のいずれか1
項において、前記複数のギャップ保持部材はポリイミ
ド、アクリル、ポリアミド、ポリイミドアミドまたはエ
ポキシ樹脂を有することを特徴とする液晶プロジェクタ
ー。
28. One of claims 20 to 27.
3. The liquid crystal projector according to claim 1, wherein the plurality of gap holding members include polyimide, acrylic, polyamide, polyimide amide, or epoxy resin.
【請求項29】請求項20乃至請求項28のいずれか1
項において、前記複数のギャップ保持部材は紫外線硬化
性樹脂または熱硬化性樹脂を有することを特徴とする液
晶プロジェクター。
29. Any one of claims 20 to 28
3. The liquid crystal projector according to claim 1, wherein the plurality of gap holding members include an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin.
【請求項30】請求項20乃至請求項29のいずれか1
項において、前記液晶パネルは対角1インチ以下である
ことを特徴とする液晶プロジェクター。
30. Any one of claims 20 to 29
3. The liquid crystal projector according to claim 1, wherein the liquid crystal panel has a diagonal of 1 inch or less.
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