JP2001191690A - Transferring medium - Google Patents

Transferring medium

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JP2001191690A
JP2001191690A JP2000004610A JP2000004610A JP2001191690A JP 2001191690 A JP2001191690 A JP 2001191690A JP 2000004610 A JP2000004610 A JP 2000004610A JP 2000004610 A JP2000004610 A JP 2000004610A JP 2001191690 A JP2001191690 A JP 2001191690A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transferring medium, which is used for manufacturing a magnetic information recording medium having an OVD excellent in decorativeness and can prevent the writing and reading errors of magnetic information and a working trouble by static electricity from developing. SOLUTION: The transferring medium has at least an OVD layer 12, a hiding layer 13, a magnetic layer 14 and a bonding layer 15 on a substrate 11. In addition, the hiding layer 13 is made of a thin film with no electric conductivity.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、偽造防止効果を必
要とするクレジットカードやキャッシュカード等の磁気
情報を有した磁気情報記録媒体を製造するための転写媒
体に関する。さらに詳しくは前記磁気情報記録媒体に偽
造防止効果を付与するためOVD画像を形成したOVD
を有する磁気情報記録媒体を製造するための転写媒体に
関わる。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transfer medium for manufacturing a magnetic information recording medium having magnetic information, such as a credit card or a cash card, which requires a forgery prevention effect. More specifically, an OVD image formed with an OVD image to impart a forgery prevention effect to the magnetic information recording medium
The present invention relates to a transfer medium for manufacturing a magnetic information recording medium having the following.

【0002】[0002]

【従来の技術】光の干渉を用いて立体画像や特殊な装飾
画像を表現し得る、ホログラムや回折格子、光学特性の
異なる薄膜を重ねることにより、見る角度により色の変
化(カラーシフト)を生じる多層薄膜のようなOVD
(Optical Variable Device)の開発が進められてい
る。
2. Description of the Related Art A hologram, a diffraction grating, and a thin film having different optical characteristics, which can express a three-dimensional image or a special decoration image using light interference, cause a color change (color shift) depending on a viewing angle. OVD like multilayer thin film
(Optical Variable Device) is under development.

【0003】ホログラムや回折格子のごときOVDは、
微細な凹凸パターンや、屈折率の異なる縞状パターンな
どの回折構造からなっており、これにより光の回折と干
渉により見る角度(すなわち、ホログラムを支持してい
る角度)に応じて、固有の像や色の変化(カラーシフ
ト)を生じる。一方、多層薄膜は光学特性の異なるセラ
ミックスや金属材料を幾重にも積層した構造でなる。こ
の多層薄膜は構成する材料の光学特性と膜厚により得ら
れる光の干渉作用を利用した表示技術であり、特定の波
長域に反射・透過特性を有しいるため、観察する角度に
よりカラーシフトを生じる。
[0003] OVDs such as holograms and diffraction gratings are:
It is composed of a diffractive structure such as a fine concavo-convex pattern or a striped pattern having a different refractive index. This allows a unique image to be formed according to the angle viewed by light diffraction and interference (that is, the angle supporting the hologram). Or color change (color shift). On the other hand, a multilayer thin film has a structure in which ceramics and metal materials having different optical properties are stacked in multiple layers. This multi-layer thin film is a display technology that uses the interference of light obtained by the optical characteristics and film thickness of the constituent materials, and has reflection and transmission characteristics in a specific wavelength range. Occurs.

【0004】本明細書においてはホログラムおよび回折
格子や多層薄膜などの光の干渉を利用した表示技術を総
称してOVDと称することとする。
[0004] In the present specification, display technologies utilizing light interference such as holograms, diffraction gratings and multilayer thin films are collectively referred to as OVD.

【0005】これらOVDは立体画像やカラーシフトと
いった独特な印象を与えるため、優れた装飾効果を有し
ており各種包装材や絵本、カタログ等の一般的な印刷物
に利用されている。さらに、このOVDは高度な製造技
術を要することから有効な偽造防止手段としてクレジッ
トカード、有価証券、証明書類等に形成され使用されて
いる。最近では、OVDの有する装飾効果に着目し媒体
の全面に形成したものも現れてきている。
[0005] These OVDs have an excellent decorative effect because they give unique impressions such as stereoscopic images and color shifts, and are used for general printed materials such as various packaging materials, picture books, catalogs and the like. Further, since this OVD requires advanced manufacturing technology, it is formed and used in credit cards, securities, certificates, etc. as effective counterfeit prevention means. Recently, some media have been formed on the entire surface of a medium by paying attention to the decorative effect of OVD.

【0006】一方、磁気情報記録部を有する情報媒体で
あるキャッシュカードやクレジットカードは黒色あるい
は茶褐色でなる磁気テープの色を隠蔽し、デザイン制限
ないカードを作ることが試みられてきた。その方法とし
ては、カードの色自体を磁気テープの色と合わせる手法
や白色、黒色あるいは銀色等の隠蔽インキを上から塗布
した後に絵柄の印刷を施す手法が取られている。
On the other hand, cash cards and credit cards, which are information media having a magnetic information recording section, have been attempted to conceal the color of a black or brown-colored magnetic tape and to produce a card having no design restriction. As the method, a method of matching the color of the card itself with the color of the magnetic tape or a method of printing a pattern after applying a concealing ink such as white, black or silver from above.

【0007】前者の場合、色が制限されるためにデザイ
ンが限定されてしまうという問題がある。後者の方法で
はデザインの幅が広がるが、その隠蔽および印刷の厚み
が厚くなるため、磁気出力が低下するという問題があっ
た。特に絵柄印刷上に前述のOVDを形成した場合に、
OVD分の厚みが増すためにより出力が低下し、読みと
りエラーを生じやすいという問題を有していた。具体例
を挙げるならば磁気ストライプを有するクレジットカー
ド等の磁気カードは磁気テープの性能にもよるが、一般
に約6μm程度の印刷が限界であり、それ以下にしなけ
ればならないという問題がある。
In the former case, there is a problem that the design is limited because the color is limited. In the latter method, the width of the design is widened, but the thickness of the concealment and printing is increased, so that there is a problem that the magnetic output is reduced. Especially when the above-mentioned OVD is formed on a pattern print,
Since the thickness of the OVD is increased, the output is reduced, and there is a problem that a reading error is likely to occur. To give a specific example, a magnetic card such as a credit card having a magnetic stripe depends on the performance of a magnetic tape, but generally has a problem that printing of about 6 μm is a limit and the printing must be less than that.

【0008】このような、偽造防止効果の高いOVDを
付与した磁気情報記録媒体は読み取り難い媒体であっ
た。特開平9−29443号公報によれば隠蔽層をAl
やNi等の金属薄膜で形成することにより薄膜化し、光
回折画像(ホログラムや回折格子)を形成しても出力が
低下しない構成が提案されている。しかしながら、この
構成はその情報媒体上に導電体である金属と絶縁体であ
るプラスチック材料を積層した構造であり、電荷のたま
りやすい構造のため、加工時に静電気による様々な不具
合を起こすほか、磁気情報を書き込むあるいは読み出す
際に電荷の放電によりエラーを生じやすい構成であっ
た。
[0008] Such a magnetic information recording medium provided with OVD having a high anti-counterfeiting effect has been difficult to read. According to JP-A-9-29443, the concealing layer is made of Al
There has been proposed a configuration in which the output is not reduced even if an optical diffraction image (hologram or diffraction grating) is formed by forming a thin film by forming a thin metal film such as Ni or Ni. However, this structure has a structure in which a metal, which is a conductor, and a plastic material, which is an insulator, are laminated on the information medium. Since the structure easily accumulates electric charges, it causes various problems due to static electricity at the time of processing. When writing or reading data, an error is likely to occur due to discharge of electric charge.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
に鑑みてなされたもので、装飾性に優れているOVDを
有した磁気情報記録媒体の製造において用いられる転写
媒体であって、静電気による磁気情報の書き込み、読み
とりエラーや加工時の不具合を防止することができる転
写媒体を提供することを課題としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and is directed to a transfer medium used in the manufacture of a magnetic information recording medium having an OVD which is excellent in decorativeness. It is an object of the present invention to provide a transfer medium that can prevent writing and reading errors of magnetic information and problems during processing.

【0010】上記課題を解決するためになされた請求項
1に記載の発明は、基材上に少なくともOVD層、隠蔽
層、磁気層、接着層を有した転写媒体であって、前記隠
蔽層が導電性を有していない薄膜によりなることを特徴
とした転写媒体である。
The invention according to claim 1, which has been made to solve the above problem, is a transfer medium having at least an OVD layer, a concealing layer, a magnetic layer, and an adhesive layer on a substrate, wherein the concealing layer is This is a transfer medium characterized by being formed of a thin film having no conductivity.

【0011】また、請求項2に記載の発明は、基材上に
少なくとも印刷層、OVD層、隠蔽層、磁気層、接着層
を有した転写媒体であって、前記隠蔽層が導電性を有し
ていない薄膜によりなることを特徴とした転写媒体であ
る。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a transfer medium having at least a printing layer, an OVD layer, a concealing layer, a magnetic layer, and an adhesive layer on a substrate, wherein the concealing layer has conductivity. This is a transfer medium characterized by being made of a thin film that has not been made.

【0012】また、請求項3に記載の発明は、前記隠蔽
層を構成する薄膜が島状構造を有した金属薄膜よりなる
ことを特徴とした請求項1、請求項2に記載の転写媒体
である。この隠蔽層を構成する薄膜は各々の島は導電性
を示すが、島と島の間が離れているために、膜自体では
導電性を示さない性質を有している。
According to a third aspect of the present invention, in the transfer medium according to the first or second aspect, the thin film forming the concealing layer is a metal thin film having an island structure. is there. Each island of the thin film constituting the concealment layer has conductivity, but since the islands are separated from each other, the film itself has a property of not exhibiting conductivity.

【0013】また、請求項4に記載の発明は、前記隠蔽
層を構成する薄膜が金属酸化物等の誘電体薄膜よりなる
ことを特徴とした請求項1、請求項2に記載の転写媒体
である。この金属酸化物等の誘電体薄膜も導電性を示さ
ない性質を有している。
According to a fourth aspect of the present invention, in the transfer medium according to the first or second aspect, the thin film constituting the concealing layer comprises a dielectric thin film such as a metal oxide. is there. This dielectric thin film such as a metal oxide also has a property of not exhibiting conductivity.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態によっ
て図面を参照して詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0015】図1は、本発明によってなる転写媒体の一
実施例を示す構成を示す断面図、図2は本発明の転写媒
体を使用した磁気情報記録媒体の一実施例を示し、
(A)は平面図であり、(B)は(A)の磁気情報記録
媒体のX−X線における断面図である。以降、これらの
図を用いて詳しく説明する。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration of an embodiment of a transfer medium according to the present invention. FIG. 2 is an embodiment of a magnetic information recording medium using the transfer medium of the present invention.
(A) is a plan view, and (B) is a cross-sectional view of the magnetic information recording medium of (A) taken along line XX. Hereinafter, a detailed description will be given with reference to these drawings.

【0016】図1に示す転写媒体(10)は、転写媒体
基材(11)上に剥離保護層(16)、印刷層(1
7)、OVD層(12)、隠蔽層(13)、磁気層(1
4)、接着層(15)の順に構成される。ただし、上記
の層のうち、剥離保護層(16)および印刷層(17)
は必須要件ではなく、必要に応じて設けられるものであ
る。この転写媒体(10)を被転写基材に転写したもの
が図2である。転写後には磁気情報記録媒体として用い
ることが可能なので、転写された後の状態を、磁気情報
記録媒体(20)と呼ぶこととする。図2に示した磁気
情報記録媒体(20)は、被転写基材(21)に接着層
(25)を介して磁気層(24)、隠蔽層(23)、O
VD層(22)、印刷層(27)、剥離保護層(26)
が設けられた形になり、外見では印刷である『☆』や
『IDCARD』の絵柄や文字およびOVD(22)で
ある『BANK』のパターンしか確認できない。磁気層
は隠蔽層の下側になっているので見ることができない。
The transfer medium (10) shown in FIG. 1 has a release protective layer (16) and a print layer (1) on a transfer medium substrate (11).
7), OVD layer (12), concealment layer (13), magnetic layer (1
4) and an adhesive layer (15). However, among the above-mentioned layers, the release protective layer (16) and the printed layer (17)
Is not an indispensable requirement and is provided as needed. FIG. 2 shows the transfer of the transfer medium (10) to the transfer-receiving substrate. After the transfer, it can be used as a magnetic information recording medium, and the state after the transfer is referred to as a magnetic information recording medium (20). The magnetic information recording medium (20) shown in FIG. 2 has a magnetic layer (24), a concealing layer (23), and an O layer on a substrate (21) to be transferred via an adhesive layer (25).
VD layer (22), printing layer (27), release protection layer (26)
, And only the pictures and characters of the print “☆” and “IDCARD” and the pattern of “BANK” as the OVD (22) can be confirmed. The magnetic layer is below the hiding layer and cannot be seen.

【0017】転写媒体基材(11)としては、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ
塩化ビニル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリメ
タクリル酸メチル、ポリスチレン等の合成樹脂のあるい
は天然樹脂、紙、合成紙などを単独で又は組合わせた複
合体が使用可能であるが、一般的には耐熱性や加工適
性、平滑性、コスト等を鑑み、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムが使用されることが多い。
As the transfer medium substrate (11), a synthetic resin such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyvinyl chloride, polyester, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polystyrene or the like, or a natural resin, paper, synthetic paper or the like is used alone. Although a composite of the above or in combination can be used, a polyethylene terephthalate film is generally used in general in consideration of heat resistance, workability, smoothness, cost, and the like.

【0018】隠蔽層(13)は磁気層(14)を隠蔽す
る層であり導電性のない薄膜でなる。例えば島状構造で
なる金属薄膜やセラミックス材料からなる薄膜が挙げら
れる。以降これらに関してさらに詳しく説明する。島状
構造でなる金属薄膜とは、サイズ0.02〜1μmの粒
子が間隔0.001〜0.5μm程度で各々が孤立した
島状に形成された薄膜であり、島同士が離れているた
め、薄膜全体では導電性を示さない。また、その間隔も
非常に小さいため、膜全体では光を反射する特性を示
し、磁気層(14)を隠蔽することが可能となる。
The concealing layer (13) is a layer for concealing the magnetic layer (14) and is a thin film having no conductivity. For example, a metal thin film having an island-like structure or a thin film made of a ceramic material can be used. Hereinafter, these will be described in more detail. A metal thin film having an island structure is a thin film in which particles having a size of 0.02 to 1 μm are formed in an isolated island shape at intervals of about 0.001 to 0.5 μm, and the islands are separated from each other. In addition, the entire thin film does not exhibit conductivity. In addition, since the interval is very small, the film as a whole exhibits a characteristic of reflecting light, and the magnetic layer (14) can be concealed.

【0019】この薄膜は真空蒸着、スパッタリング、イ
オンプレーティング等の薄膜形成法により直接形成する
方法(特公平6−6783号公報)があり、Sn、Sn
−Al合金、Sn−Si合金、Ti、Cr、Fe、N
i、Co、Si、Ge等が挙げられるが、融点の低い金
属や貴金属が加工に適しており、Sn、Sn−Al合
金、Sn−Si合金が好ましい。
This thin film can be directly formed by a thin film forming method such as vacuum deposition, sputtering, ion plating or the like (Japanese Patent Publication No. 6-6783).
-Al alloy, Sn-Si alloy, Ti, Cr, Fe, N
Although i, Co, Si, Ge, etc. are mentioned, a metal with a low melting point or a noble metal is suitable for processing, and Sn, a Sn-Al alloy, and a Sn-Si alloy are preferable.

【0020】その他に島状構造の薄膜を形成する方法と
しては、Alのような島状構造の蒸着が難しい材料であ
っても、一旦連続した薄膜を形成した後、島状構造とな
るようにエッチングにより部分的に薄膜を除去し製造す
ることも可能である。これら以外の方法であっても各々
が独立した島構造の薄膜が形成できる公知の手法であれ
ば利用可能であり、限定されるものではない。
Another method of forming a thin film having an island structure is to use a material such as Al which is difficult to deposit with an island structure after forming a continuous thin film and then forming the island structure. It is also possible to manufacture by removing a thin film partially by etching. Any other method can be used as long as it is a known method capable of forming a thin film having an independent island structure, and is not limited.

【0021】一方、金属酸化物、硫化物等の誘電体材料
を用いた隠蔽層は例えばTiO2 、Si2 3 、Si
O、SiO2 、Fe2 3 、ZnS、MgO、Al2
3 、AlF2 等のセラミックス材料が挙げられる。これ
ら材料は色調や光透過性の程度から様々ではあるが20
0Å〜10000Åの範囲にて公知の真空蒸着、スパッ
タリング、イオンプレーティング等の薄膜形成法で設け
られる。
On the other hand, the concealing layer using a dielectric material such as a metal oxide or a sulfide is made of, for example, TiO 2 , Si 2 O 3 , Si.
O, SiO 2 , Fe 2 O 3 , ZnS, MgO, Al 2 O
3 , ceramic materials such as AlF 2 . These materials vary depending on the color tone and the degree of light transmission.
It is provided in a range of 0 ° to 10000 ° by a known thin film forming method such as vacuum deposition, sputtering, or ion plating.

【0022】これらの材料は導電性を示さず、静電気に
よる不具合を生じにくい媒体が得られるが、いずれも透
明性が高く隠蔽性に劣る。しかしながらTiO2 、Si
2 3 、ZnS等の材料はプラスチック材料と屈折率が
異なるため、プラスッチック材料と積層した場合、その
境界で光を反射する特性を有している。この特性を利用
し薄膜を形成する面を予め細かく荒らしておき光の反射
面積をより多くし、更に反射光を散乱させることによ
り、白色の隠蔽層を得ることが可能である。
[0022] These materials do not exhibit conductivity, and are susceptible to static electricity.
Media that are unlikely to cause problems due to
High lightness and poor concealment. However, TiOTwo, Si
TwoO Three, ZnS and other materials have the same refractive index as plastic materials
Therefore, when laminated with plastic materials,
It has the property of reflecting light at boundaries. Use this property
Reflection of light by preliminarily roughening the surface on which the thin film is to be formed
By increasing the area and scattering the reflected light
And a white hiding layer can be obtained.

【0023】印刷層(27)は、転写した際、隠蔽層
(23)により隠蔽されないように隠蔽層より上になる
ようにする。したがって、図1においては、印刷層は
(17)は剥離保護層(16)とOVD層(12)の間
に設けてある。しかし、OVD層が透明で印刷層の絵
柄、文字等が被転写基材に転写した際、これらの絵柄、
文字等が判読できるならば、OVD層(12)と隠蔽層
(13)の間に印刷層が有っても構わない。
The printing layer (27) is formed above the concealing layer so as not to be concealed by the concealing layer (23) when transferred. Therefore, in FIG. 1, the printing layer (17) is provided between the peeling protection layer (16) and the OVD layer (12). However, when the OVD layer is transparent and the pattern, characters, etc. of the printing layer are transferred to the substrate to be transferred, these patterns,
As long as characters and the like can be read, a printing layer may be provided between the OVD layer (12) and the concealing layer (13).

【0024】転写された図2の磁気情報記録媒体(2
0)においては、『IDCARD』や『☆』の印刷で示
した部分が印刷層であり、文字や記号あるいはキャラク
ター等絵柄の目視確認可能な情報や背景が印刷される。
この印刷層は公知の材料・印刷方法にて設けられるが、
転写した場合、印刷層(27)は磁気層(24)の上に
なるので、厚く形成すると磁気出力の低下の原因となる
ため1〜3μm程度で設けることが好ましい。なお、印
刷層(27)は必須構成要件ではなく、用途によって必
要な場合に設ければ良い。
The transferred magnetic information recording medium (2
In (0), a portion indicated by printing “IDCARD” or “☆” is a printing layer, on which information such as a character, a symbol, or a character and a background that can be visually confirmed is printed.
This printing layer is provided by a known material and printing method,
When transferred, the printing layer (27) is on the magnetic layer (24), and if formed thick, it causes a decrease in magnetic output. The printing layer (27) is not an essential component, and may be provided if necessary depending on the application.

【0025】次にOVD層(12)に関して詳しく説明
する。OVD層(12)は前述した光の干渉を利用した
OVD画像を形成する層であり、立体画像の表現や見る
角度により色が変化するカラーシフトを生じる表示体を
形成する層である。その中でホログラムや回折格子のご
ときOVDとしては、光の干渉縞を微細な凹凸パターン
として平面に記録するレリーフ型や体積方向に干渉縞を
記録する体積型が挙げられる。
Next, the OVD layer (12) will be described in detail. The OVD layer (12) is a layer that forms an OVD image using the above-described light interference, and is a layer that forms a display body that causes a color shift in which a color changes depending on the expression of a stereoscopic image and a viewing angle. Among them, OVDs such as holograms and diffraction gratings include a relief type for recording interference fringes of light on a plane as a fine uneven pattern and a volume type for recording interference fringes in a volume direction.

【0026】レリーフ型とは、一般的に光学的な撮影方
法により微細な凹凸パターンからなるレリーフ型のマス
ターホログラムを作製し、これから電気メッキ法により
凹凸パターンを複製したニッケル製のプレス版を複製
し、このプレス版をホログラム形成層上に加熱押圧する
という周知の方法により大量複製が行われている。この
タイプのホログラムは、レリーフ型ホログラムと称され
ている。
In the relief type, a relief type master hologram composed of a fine concavo-convex pattern is generally produced by an optical photographing method, and a nickel press plate having the concavo-convex pattern reproduced by an electroplating method is duplicated. Mass replication is performed by a well-known method of heating and pressing this press plate on the hologram forming layer. This type of hologram is called a relief hologram.

【0027】また、レリーフ型ホログラムとは異なり、
感光性樹脂などの記録材を用いて、体積方向に干渉縞を
記録する体積型ホログラムと称されるものもある。この
型のホログラムではリップマンホログラムと呼ばれるも
のが一般に使用されており、これは感光性樹脂の屈折率
を体積方向に変化させ、反射型ホログラムとしたもので
ある。
Also, unlike a relief hologram,
There is a so-called volume hologram that records interference fringes in a volume direction using a recording material such as a photosensitive resin. In this type of hologram, a so-called Lippmann hologram is generally used, in which the refractive index of the photosensitive resin is changed in the volume direction to form a reflection hologram.

【0028】更に、この立体画像を再生し得るホログラ
ム画像とは異なり、微小なエリアに複数種類の単純な回
折格子を配置して画素とし、画像を表現するグレーティ
ングイメージ、ピクセルグラムといった回折格子画像も
また、レリーフ型ホログラムと同様な方法で大量複製が
行われ、一方、ホログラムや回折格子と手法が異なり、
光学特性の異なるセラミックスや金属材料の薄膜を積層
し、見る角度により色の変化(カラーシフト)を生じる
多層膜方式もその例である。これら、OVDの中でも量
産性やコストを考慮した場合には、レリーフ型ホログラ
ム(回折格子)や多層薄膜方式のものが好ましい。以
降、これらに関して詳しく説明する。
Further, unlike a hologram image capable of reproducing the three-dimensional image, a plurality of types of simple diffraction gratings are arranged in a minute area to form pixels, and a diffraction grating image such as a grating image or a pixelgram for expressing an image is also provided. In addition, mass replication is performed in the same way as a relief hologram, while the method is different from holograms and diffraction gratings.
Another example is a multilayer film system in which thin films of ceramics and metal materials having different optical characteristics are stacked and a color change (color shift) occurs depending on a viewing angle. Among these OVDs, in consideration of mass productivity and cost, a relief hologram (diffraction grating) or a multilayer thin film type is preferable. Hereinafter, these will be described in detail.

【0029】図3及び図4は、OVDの形態による本発
明の転写媒体を用いて転写後の情報媒体の実施例を説明
する断面図を示した。図3は、レリーフ型のホログラム
や回折格子をOVDとして用いた例であり、被転写基材
(31)上に接着層(35)を介して磁気層(34)、
隠蔽層(33)、OVD層(32)、印刷層(37)、
剥離保護層(36)が設けられた構成になっている。こ
の場合、OVD層(32)はOVD形成層(32a)お
よびOVD効果層(32b)から成っており、OVD効
果層(32b)はより回折効率が得られるよう光を反射
する高屈折材料薄膜や金属薄膜によりなる。また、図4
は、OVDとしてカラーシフトを生じる多層膜構成の断
面図を示したもので、OVD層(42)は光学特性の異
なる薄膜(42a、42b,42c)の多層膜構成とな
っている。このようにOVD層の構成はOVD形成方法
により異なり、その形態により複数の材料を積層した構
成となる。それゆえ、その構成は図3や図4に限定され
るものではなく、一実施例である。
FIGS. 3 and 4 are cross-sectional views illustrating an embodiment of an information medium after transfer using the transfer medium of the present invention in the OVD mode. FIG. 3 shows an example in which a relief-type hologram or diffraction grating is used as an OVD, and a magnetic layer (34), an adhesive layer (35) is provided on a substrate (31) to be transferred.
Hiding layer (33), OVD layer (32), printing layer (37),
It has a configuration provided with a peeling protection layer (36). In this case, the OVD layer (32) includes an OVD forming layer (32a) and an OVD effect layer (32b), and the OVD effect layer (32b) includes a high refractive material thin film that reflects light so as to obtain more diffraction efficiency. It consists of a metal thin film. FIG.
FIG. 1 is a cross-sectional view of a multilayer structure in which a color shift occurs as OVD. The OVD layer (42) has a multilayer structure of thin films (42a, 42b, 42c) having different optical characteristics. As described above, the configuration of the OVD layer differs depending on the OVD forming method, and a configuration in which a plurality of materials are stacked depending on the form is adopted. Therefore, the configuration is not limited to FIGS. 3 and 4, but is an embodiment.

【0030】レリーフ型のホログラム(回折格子)は前
述したように微細な凹凸パターンを有するプレス版を加
熱しOVD形成層(32a)に押し当て、そのパターン
を複製する方式である。それゆえ、OVD形成層(32
a)は熱による成形性が良好で、プレスムラが生じ難
く、明るい再生像が得られる材料であって、ポリカーボ
ネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂な
どの熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン
樹脂、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂、あるいは、ラ
ジカル重合性不飽和基を有する紫外線や電子線硬化性樹
脂を単独あるい複合して用いることができる。また、上
記以外ものでも、OVDレリーフパターンを形成可能な
材料であれば適宜使用可能である。
As described above, the relief type hologram (diffraction grating) is a system in which a press plate having a fine concavo-convex pattern is heated and pressed against the OVD forming layer (32a) to duplicate the pattern. Therefore, the OVD formation layer (32
a) is a material having good moldability by heat, hardly causing press unevenness, and providing a bright reproduced image, and is a thermoplastic resin such as a polycarbonate resin, a polystyrene resin, and a polyvinyl chloride resin, an unsaturated polyester resin, and a melamine resin. Or a thermosetting resin such as an epoxy resin or an ultraviolet or electron beam curable resin having a radically polymerizable unsaturated group, alone or in combination. In addition, any material other than the above can be used as long as it can form an OVD relief pattern.

【0031】また、レリーフ型のホログラム(回折格
子)を用いた場合、その回折効率を高めるためOVD形
成層(32a)で使用される高分子材料と屈折率の異な
る反射層(OVD効果層(32b))を設けることが好
ましい。このOVD効果層(32b)を設けることによ
り、回折効率が向上し、より鮮明な画像や色の変化をも
たらす。用いる材料としては、屈折率の異なるTi
2、Si2 3 、SiO、Fe2 3 、ZnS、など
の高屈折率材料やより反射効果の高いSn、Al等の島
状構造薄膜が挙げられ、これら材料を単独あるいは積層
して使用できる。これらの層は前述したように、導電性
を示さない材料が用いられ、これらに限定されるもので
はない。これらの材料は真空蒸着法、スパッタリング等
の公知の薄膜形成技術やエッチング法にて形成され、そ
の膜厚は用途によって異なるが、100Å〜10000
Å程度で形成される。
When a relief type hologram (diffraction grating) is used, a reflection layer (OVD effect layer (32b) having a different refractive index from the polymer material used in the OVD formation layer (32a) is used to increase the diffraction efficiency. )) Is preferably provided. By providing the OVD effect layer (32b), the diffraction efficiency is improved, and a clearer image and color change are brought about. As a material to be used, Ti having a different refractive index is used.
High refractive index materials such as O 2 , Si 2 O 3 , SiO, Fe 2 O 3 , ZnS, etc., and island-shaped thin films such as Sn, Al, etc., which have higher reflection effects, may be used alone or by laminating these materials. Can be used. As described above, a material that does not exhibit conductivity is used for these layers, and is not limited thereto. These materials are formed by a known thin film forming technique such as a vacuum evaporation method or a sputtering method or an etching method.
It is formed in about Å.

【0032】上記以外でも、OVD効果層(32b)を
構成する材料としては、その屈折率が、OVD形成層
(32a)で使用される高分子材料(屈折率n=1.3
〜1.5)よりも高く、導電性を示さない材料であれ
ば、上記の無機材料以外の有機系、有機無機複合体、有
機系材料に無機系フィラーを分散したものであっても使
用可能である。これらの材料はグラビアコート、ダイコ
ート、スクリーン印刷等の公知のコーティング法、や印
刷法にて0.1μm〜10μm程度形成される。さらに
は、上記以外の材料であっても反射性を有した材料であ
れば、適宜使用することが可能である。
In addition to the above, as a material constituting the OVD effect layer (32b), the refractive index thereof is a polymer material (refractive index n = 1.3) used in the OVD formation layer (32a).
-1.5), as long as the material does not exhibit conductivity, it can be used even if an inorganic filler is dispersed in an organic material, an organic-inorganic composite, or an organic material other than the above-mentioned inorganic material. It is. These materials are formed by a known coating method such as gravure coating, die coating, screen printing or the like, or a printing method to have a thickness of about 0.1 μm to 10 μm. Further, any material other than the above can be used as long as it has a reflective property.

【0033】一方、図4に示す多層薄膜方式にて形成さ
れるOVD層(42)は、前述したように、異なる光学
特性を有する多層薄膜層(42a、42b、42c)か
らなり、金属薄膜、セラミックス薄膜またはそれらを併
設してなる複合薄膜として積層形成される。例えば屈折
率の異なる薄膜を積層する場合、高屈折率の薄膜と低屈
折率の薄膜を組み合わせても良く、また特定の組み合わ
せを交互に積層するようにしてもよい。それらの組み合
わせにより、所望の多層薄膜を得ることができる。
On the other hand, the OVD layer (42) formed by the multilayer thin film system shown in FIG. 4 is composed of the multilayer thin films (42a, 42b, 42c) having different optical characteristics as described above, It is formed by laminating as a ceramic thin film or a composite thin film formed by attaching them. For example, when thin films having different refractive indices are stacked, a thin film having a high refractive index and a thin film having a low refractive index may be combined, or a specific combination may be alternately stacked. A desired multilayer thin film can be obtained by a combination thereof.

【0034】この多層薄膜層は、セラミックスや金属な
どの材料が用いられ、おおよそ2以上の高屈折率材料と
屈折率が1.5程度の低屈折率材料を所定の膜厚で積層
したものである。以下に用いられる材料の一例を挙げ
る。まず、セラミックスとしては、Sb2 3 (3.0
=屈折率n:以下同じ)、Fe2 3 (2.7)、Ti
2 (2.6)、CdS(2.6)、CeO2 (2.
3)、ZnS(2.3)、PbCl2 (2.3)、Cd
O(2.2)、Sb2 3 (2.0)、WO3 (2.
0)、SiO(2.0)、Si2 3 (2.5)、In
2 3 (2.0)、PbO(2.6)、Ta2
3 (2.4)、ZnO(2.1)、ZrO2 (2.
0)、MgO(1.6)、SiO2 (1.5)、MgF
2 (1.4)、CeF3 (1.6)、CaF2 (1.3
〜1.4)、AlF3 (1.6)、Al2 3 (1.
6)、GaO(1.7)等が挙げられ、金属材料として
は金属単体もしくは合金の島状構造を有した薄膜、例え
ばAl、Sn、Sn−Al等が挙げられる。
The multilayer thin film layer is made of a material such as ceramics or metal, and is formed by laminating approximately two or more high-refractive-index materials and a low-refractive-index material having a refractive index of about 1.5 to a predetermined thickness. is there. Examples of materials used below are given. First, as ceramics, Sb 2 O 3 (3.0
= Refractive index n: the same applies hereinafter), Fe 2 O 3 (2.7), Ti
O 2 (2.6), CdS (2.6), CeO 2 (2.
3), ZnS (2.3), PbCl 2 (2.3), Cd
O (2.2), Sb 2 O 3 (2.0), WO 3 (2.
0), SiO (2.0), Si 2 O 3 (2.5), In
2 O 3 (2.0), PbO (2.6), Ta 2 O
3 (2.4), ZnO (2.1), ZrO 2 (2.
0), MgO (1.6), SiO 2 (1.5), MgF
2 (1.4), CeF 3 (1.6), CaF 2 (1.3
~1.4), AlF 3 (1.6) , Al 2 O 3 (1.
6), GaO (1.7) and the like, and examples of the metal material include a thin film having an island structure of a simple metal or an alloy, for example, Al, Sn, Sn—Al and the like.

【0035】また、低屈折率の有機ポリマー、例えばポ
リエチレン(1.51)、ポリプロピレン(1.4
9)、ポリテトラフロロエチレン(1.35)、ポリメ
チルメタアクリレート(1.49)、ポリスチレン
(1.60)等が使用可能である。これらの高屈折率材
料もしくは30%〜60%透過性を有する島状構造の金
属薄膜より少なくとも一種、低屈折率材料より少なくと
も一種選択し、所定の厚さで交互に積層させる事によ
り、特定の波長の可視光に対する吸収あるいは反射を示
すものである。なお、金属から構成される薄膜は、構成
材料の状態や形成条件などにより、屈折率などの光学特
性が変わってくるため、本発明の実施例では一定の条件
における値を用いている。
Also, organic polymers having a low refractive index, for example, polyethylene (1.51), polypropylene (1.4)
9), polytetrafluoroethylene (1.35), polymethyl methacrylate (1.49), polystyrene (1.60) and the like can be used. By selecting at least one of these high refractive index materials or metal thin films having an island-like structure having a transmittance of 30% to 60% and at least one of low refractive index materials and alternately stacking them at a predetermined thickness, a specific thickness is obtained. It indicates absorption or reflection of visible wavelength light. In the thin film made of metal, the optical characteristics such as the refractive index change depending on the state of the constituent materials and the forming conditions. Therefore, in the embodiments of the present invention, values under certain conditions are used.

【0036】上記した各材料から屈折率、反射率、透過
率等の光学特性や耐候性、耐薬品性、層間密着性などに
基づき適宜選択され、薄膜として積層され多層薄膜を形
成する。形成方法は公知の手法を用いることができ、膜
厚、成膜速度、積層数、あるいは光学膜厚(=n・d、
n:屈折率、d:膜厚)などの制御が可能な、通常の真
空蒸着法、スパッタリング法などの物理的気相析出法や
CVD法などの化学的気相析出法を用いることができ
る。
The above materials are appropriately selected based on optical characteristics such as refractive index, reflectance, transmittance, etc., weather resistance, chemical resistance, interlayer adhesion, etc., and are laminated as thin films to form a multilayer thin film. As a forming method, a known method can be used, and the film thickness, the film forming speed, the number of layers, or the optical film thickness (= n · d,
An ordinary physical vapor deposition method such as a vacuum deposition method or a sputtering method or a chemical vapor deposition method such as a CVD method, which can control (n: refractive index, d: film thickness) and the like, can be used.

【0037】また、低屈折率有機ポリマーの成膜方法と
しては、公知のグラビア印刷方、オフセット印刷方、ス
クリーン印刷方などの印刷方法やバーコート法、グラビ
ア法、ロールコート法等などの塗布方法等を用いること
ができる。なお、本発明ではセラミックス・金属のみを
開示しているが、セラミックス・金属と同等、あるいは
類似する屈折率と反射率を有するものであれば、用いる
ことが可能である。
As a method for forming a low refractive index organic polymer, known printing methods such as gravure printing, offset printing, and screen printing, and coating methods such as bar coating, gravure, and roll coating are known. Etc. can be used. In the present invention, only ceramics / metals are disclosed, but any material having a refractive index and a reflectance similar or similar to ceramics / metals can be used.

【0038】この多層薄膜層の、具体例を挙げるなら
ば、その層厚が50〜20000Åの範囲であり、また
薄膜の層構成は上記した高屈折率の材料もしくは金属材
料からなる薄膜、例えばZnS、TiO2 、ZrO2
In2 3 、SnO、ITO、CeO2 、ZnO、Ta
2 3 、Al、Snなどと、上記した低屈折率の材料か
らなる薄膜、例えばMgF2 、SiO2 、CaF2 、M
gO、Al2 3 などとの組み合わせであり、それらを
交互に積層し、その積層数が2層以上であり、好ましく
は2層〜9層であるものが挙げられる。尚、用いられる
材料、組み合わせにより多層膜の光学特性が異なるた
め、これに限定されるものではない。
To give a specific example of the multilayer thin film layer, the layer thickness is in the range of 50 to 20000 °, and the layer structure of the thin film is a thin film made of the above-mentioned high refractive index material or metal material, for example, ZnS , TiO 2 , ZrO 2 ,
In 2 O 3 , SnO, ITO, CeO 2 , ZnO, Ta
Thin films made of the above materials having a low refractive index such as 2 O 3 , Al, Sn, etc., for example, MgF 2 , SiO 2 , CaF 2 , M
gO, Al 2 O 3, etc., which are alternately laminated, and the number of laminated layers is 2 or more, preferably 2 to 9 layers. Note that the optical characteristics of the multilayer film vary depending on the materials and combinations used, and the present invention is not limited to this.

【0039】剥離保護層は、図1の転写媒体(10)に
あっては剥離層であり、転写された図2にあってはOV
D形成層(22)や印刷層(27)を外傷から保護する
役割を持つもので、必要に応じて形成される。使用され
る樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系
樹脂、塩化ビニル樹脂−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリエ
ステル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ
スチレン系樹脂、ポリイミド樹脂等の従来公知の熱可塑
性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線または電子線硬化樹脂を
単独或いは、混合物して用いられる。
The release protection layer is a release layer in the transfer medium (10) of FIG. 1, and is an OV in FIG.
It has a role of protecting the D forming layer (22) and the printing layer (27) from damage, and is formed as necessary. As the resin used, for example, acrylic resin, urethane resin, vinyl chloride resin-vinyl acetate copolymer resin, polyester resin, melamine resin, epoxy resin, polystyrene resin, conventionally known resin such as polyimide resin A thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ultraviolet or electron beam curable resin is used alone or as a mixture.

【0040】更に、サーマルヘッド等による画像形成時
の印字痕防止のために、樹脂を架橋する硬化剤、ポリエ
チレンワッス、カルナバワックス、シリコンワックス等
のワックス類、或いは炭酸カルシウム、ステアリン酸亜
鉛、シリカ、アルミナ、タルク等の体質顔料、シリコ−
ン油脂等の油脂類を透明性が損なわれない範囲で添加す
ることができる。この剥離保護層(16)に用いる樹脂
は、例えばグラビア印刷法、スクリーン印刷法、ノズル
コーター法等の既知の塗布手段およびオフセット印刷
法、フレキソ印刷法等の印刷手段により塗工する。
Further, in order to prevent print marks at the time of image formation by a thermal head or the like, a curing agent for crosslinking the resin, waxes such as polyethylene washes, carnauba wax, silicone wax, calcium carbonate, zinc stearate, silica , Pigments such as alumina and talc, silicone
Fats and oils such as oils and fats can be added as long as the transparency is not impaired. The resin used for the release protective layer (16) is applied by a known application means such as a gravure printing method, a screen printing method, a nozzle coater method or the like, and a printing means such as an offset printing method or a flexographic printing method.

【0041】以上に説明したように転写媒体として、接
着層/磁気層/隠蔽層/OVD層/印刷層/剥離保護層
を積層した構成は、一例であり、商品の形態あるいは製
造方法により各層の上に接着層や印刷層を適宜設けるこ
とは可能である。また、その積層する順もこれに示した
限りでなく、例えばOVD層上に印刷層を有する構成や
OVD効果層が隠蔽層を兼ねる構成であってもよい。一
方、偽造防止を向上させるべく蛍光発色インキや赤外線
インキや液晶高分子等にて潜像を付与した構成も付け加
えることも可能である。
As described above, the configuration in which the adhesive layer / magnetic layer / concealing layer / OVD layer / printing layer / peeling protection layer is laminated as a transfer medium is an example, and each layer is formed according to the form of the product or the manufacturing method. It is possible to appropriately provide an adhesive layer or a printing layer on the top. The order in which the layers are stacked is not limited to the order described above. For example, a configuration having a printing layer on the OVD layer or a configuration in which the OVD effect layer also functions as the concealing layer may be used. On the other hand, it is also possible to add a configuration in which a latent image is provided with a fluorescent coloring ink, an infrared ink, a liquid crystal polymer or the like in order to improve forgery prevention.

【0042】[0042]

【実施例】本発明を、具体的な実施例を挙げて詳細に説
明する。
EXAMPLES The present invention will be described in detail with reference to specific examples.

【0043】[実施例1]図3に示した本発明の磁気情
報記録媒体を作製するための転写媒体(10)の一実施
例を示す断面図を用いて詳しく説明する。まず、厚み2
5μmのポリエチレンテレフタレートフィルムからなる
転写媒体基材(11)に以下の組成でなる剥離保護層
(16)をグラビア法で1μmの膜厚で、更に剥離保護
層に印刷層(17)として絵柄をオフセット印刷にて1
μm程度の厚みで印刷を施した。この後、OVD形成層
(12)をグラビア法で1μm、OVD効果層としてT
iO2 を真空蒸着にて500Å形成した後、ロールエン
ボス法を用いて140℃に熱したレリーフ型レインボー
ホログラムのスタンパーを押し当て、レインボーホログ
ラムパターンを成形した。さらに、隠蔽層(13)とし
てSnを島状構造で500Å蒸着したのち、磁気層(1
4)として、650Oeの磁気テープを転写後、表面を
平滑にするため、平滑なステンレス板にはさみ、4.9
MPa(50kg/cm2 ) 、100℃にて30分間の
加熱加圧プレスを行った。最後に接着層(15)とし
て、ソルバインA(日信化学(株)製塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合樹脂)を主成分とするワニスを乾燥厚み2
μmで設け、転写媒体を得た。
[Embodiment 1] A detailed description will be given with reference to a sectional view showing an embodiment of a transfer medium (10) for producing the magnetic information recording medium of the present invention shown in FIG. First, thickness 2
A transfer protection substrate (11) composed of a 5 μm polyethylene terephthalate film is coated with a release protection layer (16) having the following composition by a gravure method to a thickness of 1 μm, and a pattern is offset as a print layer (17) on the release protection layer. 1 by printing
Printing was performed with a thickness of about μm. After that, the OVD formation layer (12) is 1 μm by a gravure method and T
After forming iO 2 by vacuum evaporation at 500 °, a rainbow hologram pattern was formed by pressing a relief type rainbow hologram stamper heated to 140 ° C. using a roll embossing method. Further, Sn was deposited as an concealing layer (13) in an island structure at 500 [deg.] To form a magnetic layer (1).
As 4), after transferring the 650 Oe magnetic tape, the surface was smoothed with a stainless steel plate to smooth the surface.
A heating and pressing was performed at a pressure of 50 kg / cm 2 at 100 ° C for 30 minutes. Finally, as an adhesive layer (15), a varnish containing Solvain A (vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin manufactured by Nissin Chemical Co., Ltd.) as a main component was dried to a thickness of 2%.
μm to obtain a transfer medium.

【0044】 〈剥離保護層組成〉 アクリル樹脂 20部 ポリエチレンワックス 2部 MEK(メチルエチルケトン) 39部 トルエン 39部 〈OVD形成層組成〉 ポリエステル 20部 HMDI(ヘキサメチレンジイソシアネート) 5部 MEK(メチルエチルケトン) 50部 トルエン 25部 〈剥離保護層組成〉 ウレタンアクリレート 50部 アクリレートモノマ− 45部 光重合開始剤 5部<Composition of release protective layer> Acrylic resin 20 parts Polyethylene wax 2 parts MEK (methyl ethyl ketone) 39 parts Toluene 39 parts <OVD forming layer composition> Polyester 20 parts HMDI (hexamethylene diisocyanate) 5 parts MEK (methyl ethyl ketone) 50 parts Toluene 25 parts <Composition of release protective layer> Urethane acrylate 50 parts Acrylate monomer 45 parts Photopolymerization initiator 5 parts

【0045】続いて、得られた転写媒体(10)の接着
層(15)面を、被転写材である760μm厚の塩化ビ
ニルシートに重ね、圧力9.8MPa(100kg/c
2)、温度120℃で30分間加熱加圧プレスを行っ
て転写させた後、転写媒体基材(11)を取り除いて、
JIS規格に打ち抜き、図3の構成よりなる磁気カード
を得た。
Subsequently, the surface of the adhesive layer (15) of the obtained transfer medium (10) was overlaid on a 760 μm-thick vinyl chloride sheet as a material to be transferred, and a pressure of 9.8 MPa (100 kg / c) was applied.
m 2 ), after transferring by heating and pressing at a temperature of 120 ° C. for 30 minutes, removing the transfer medium substrate (11),
A magnetic card having the configuration shown in FIG. 3 was obtained by punching to the JIS standard.

【0046】このようにして得られた磁気カードは外見
では磁気層が確認されず、わずか500ÅのSn蒸着に
て隠蔽可能であった。また磁気出力も、その磁気テープ
上の印刷の厚みが3.0μm程度であるため良好な出力
が得られた。また、積み重ねた状態で電荷をためること
もなく、電気を急激に放電することもないので、作業が
しやすく、磁気情報の数十回書込読出を行ってもエラー
は生じなかった。
In the magnetic card thus obtained, no magnetic layer was confirmed in appearance, and the magnetic card could be concealed by only 500 ° Sn vapor deposition. A good magnetic output was obtained because the thickness of the print on the magnetic tape was about 3.0 μm. In addition, since no electric charge is accumulated in the stacked state and no sudden discharge of electricity occurs, the work is easy, and no error occurs even if magnetic information is written and read several tens of times.

【0047】[実施例2]図4に示した本発明の磁気情
報記録媒体を作製するための転写媒体の一実施例を示す
断面図を用いて詳しく説明する。OVD層(12)とし
て多層薄膜にした以外は実施例と同様な方法で実施例2
の磁気カードを得た。
[Embodiment 2] A detailed description will be given with reference to a sectional view showing an embodiment of a transfer medium for manufacturing the magnetic information recording medium of the present invention shown in FIG. Example 2 Example 2 was repeated in the same manner as in Example except that the OVD layer (12) was a multilayer thin film.
Got a magnetic card.

【0048】この多層箔薄膜として、ZnSー400
Å、SiO2 −5800Å、ZnS−800Åを順に形
成してOVD層(12)とした。
As this multilayer foil thin film, ZnS-400
SiO, SiO 2 -5800S and ZnS-800Å were sequentially formed to form an OVD layer (12).

【0049】このようにして得られた磁気カードは外見
では磁気層が確認されず、わずか500ÅのSn蒸着に
て隠蔽可能であった。また磁気出力も、その磁気テープ
上の印刷の厚みが6.0μm程度であるため良好な出力
が得られた。また、積み重ねた状態で電荷をためること
もなく、電気を急激に放電することもないので、作業が
しやすく、磁気情報の数十回書込読出を行ってもエラー
は生じなかった。一方、本実施例では多層薄膜のOVD
層が形成されているため、見る角度により色が変化する
装飾性の高いカードが得られた。
In the magnetic card thus obtained, no magnetic layer was confirmed in appearance, and the magnetic card could be concealed by only 500 ° Sn vapor deposition. A good magnetic output was obtained because the thickness of the print on the magnetic tape was about 6.0 μm. In addition, since no electric charge is accumulated in the stacked state and no sudden discharge of electricity occurs, the work is easy, and no error occurs even if magnetic information is written and read several tens of times. On the other hand, in this embodiment, the OVD of the multilayer thin film is used.
Since the layer was formed, a highly decorative card whose color changed depending on the viewing angle was obtained.

【0050】[0050]

【発明の効果】以上述べたように、本発明の転写媒体を
用いることによって、磁気情報記録媒体は導電性を示さ
ない薄膜にて磁気層を隠蔽することで、OVDが形成さ
れているにもかかわらず、十分な磁気出力が得られると
ともに、取り扱い時の不具合や、磁気情報の書込読出時
にもエラーを生じない媒体を提供することができる。す
なわち、外見では磁気層が確認されず、隠蔽可能であ
り、積み重ねた状態で電荷をためることも、静電気をを
急激に放電することもないので、作業がしやすく、磁気
情報の書込読出時にエラーを生じることのない情報記録
媒体である。
As described above, the use of the transfer medium of the present invention allows the magnetic information recording medium to cover the magnetic layer with a thin film that does not exhibit conductivity, so that the OVD is formed. Regardless, it is possible to provide a medium that can provide a sufficient magnetic output and that does not cause a problem at the time of handling or an error when writing or reading magnetic information. In other words, the magnetic layer is not apparent in appearance, can be concealed, does not accumulate charges in a stacked state, and does not rapidly discharge static electricity. This is an information recording medium that does not cause an error.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の転写媒体の一実施例を示す断面図であ
る。
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a transfer medium of the present invention.

【図2】本発明の転写媒体を用いて作製された磁気情報
記録媒体の一実施例を示し、(A)は平面図、(B)は
XーX線部に於ける断面図である。
FIGS. 2A and 2B show an embodiment of a magnetic information recording medium manufactured using the transfer medium of the present invention, wherein FIG. 2A is a plan view and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line XX.

【図3】本発明の転写媒体を用いて作製された磁気情報
記録媒体の一実施例を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing one embodiment of a magnetic information recording medium manufactured using the transfer medium of the present invention.

【図4】本発明の転写媒体を用いて作製された他の磁気
情報記録媒体の一実施例を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing one embodiment of another magnetic information recording medium manufactured using the transfer medium of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…転写媒体 11…転写媒体基材 12…OVD層 13…隠蔽層 14…磁気層 15…接着層 16…剥離保護層 17…印刷層 20…磁気情報記録媒体 21…被転写基材 22…OVD層 23…隠蔽層 24…磁気層 25…接着層 26…剥離保護層 27…印刷層 30…磁気情報記録媒体 31…被転写基材 32…OVD層 32a…OVD形成層 32b…OVD効果層 33…隠蔽層 34…磁気層 35…接着層 36…剥離保護層 37…印刷層 40…磁気情報記録媒体 41…被転写基材 42…OVD層 42a,42b,42c…薄膜層 43…隠蔽層 44…磁気層 45…接着層 46…剥離保護層 47…印刷層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Transfer medium 11 ... Transfer medium base material 12 ... OVD layer 13 ... Hiding layer 14 ... Magnetic layer 15 ... Adhesive layer 16 ... Peeling protection layer 17 ... Print layer 20 ... Magnetic information recording medium 21 ... Substrate to be transferred 22 ... OVD Layer 23 ... Hiding layer 24 ... Magnetic layer 25 ... Adhesive layer 26 ... Exfoliation protection layer 27 ... Print layer 30 ... Magnetic information recording medium 31 ... Substrate to be transferred 32 ... OVD layer 32a ... OVD formation layer 32b ... OVD effect layer 33 ... Hiding layer 34 Magnetic layer 35 Adhesive layer 36 Peeling protective layer 37 Printing layer 40 Magnetic information recording medium 41 Substrate to be transferred 42 OVD layers 42a, 42b, 42c Thin film layer 43 Hiding layer 44 Magnetic Layer 45: Adhesive layer 46: Peeling protection layer 47: Printing layer

フロントページの続き Fターム(参考) 2C005 HA26 HB01 HB09 HB10 JA02 JA18 JB08 KA09 LA20 2H113 AA06 BA03 BA05 BB08 CA39 CA47 DA26 DA45 DA49 DA50 DA53 DA57 3B005 EA12 EB01 FB61 Continued on the front page F term (reference) 2C005 HA26 HB01 HB09 HB10 JA02 JA18 JB08 KA09 LA20 2H113 AA06 BA03 BA05 BB08 CA39 CA47 DA26 DA45 DA49 DA50 DA53 DA57 3B005 EA12 EB01 FB61

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基材上に少なくともOVD層、隠蔽層、磁
気層、接着層を有した転写媒体であって、前記隠蔽層が
導電性を有していない薄膜によりなることを特徴とした
転写媒体。
1. A transfer medium having at least an OVD layer, a concealing layer, a magnetic layer, and an adhesive layer on a substrate, wherein the concealing layer is made of a thin film having no conductivity. Medium.
【請求項2】基材上に少なくとも印刷層、OVD層、隠
蔽層、磁気層、接着層を有した転写媒体であって、前記
隠蔽層が導電性を有していない薄膜によりなることを特
徴とした転写媒体。
2. A transfer medium having at least a printing layer, an OVD layer, a concealing layer, a magnetic layer, and an adhesive layer on a substrate, wherein the concealing layer is a thin film having no conductivity. Transfer media.
【請求項3】前記隠蔽層を構成する薄膜が島状構造を有
した金属薄膜よりなることを特徴とした請求項1、請求
項2に記載の転写媒体。
3. The transfer medium according to claim 1, wherein the thin film forming the concealing layer is a metal thin film having an island structure.
【請求項4】前記隠蔽層を構成する薄膜が金属酸化物等
の誘電体薄膜よりなることを特徴とした請求項1、請求
項2に記載の転写媒体。
4. The transfer medium according to claim 1, wherein the thin film forming the concealing layer comprises a dielectric thin film such as a metal oxide.
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