JP2001185625A - Wiring design method of semiconductor integrated circuit - Google Patents

Wiring design method of semiconductor integrated circuit

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JP2001185625A
JP2001185625A JP2000311026A JP2000311026A JP2001185625A JP 2001185625 A JP2001185625 A JP 2001185625A JP 2000311026 A JP2000311026 A JP 2000311026A JP 2000311026 A JP2000311026 A JP 2000311026A JP 2001185625 A JP2001185625 A JP 2001185625A
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JP
Japan
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signal
line
adjacent
wiring
semiconductor integrated
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JP2000311026A
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Itsuo Hidaka
逸雄 日高
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring design method of a semiconductor integrated circuit which can adjust capacitance formed by adjacent two signal lines and a delay value of a signal running in a signal line. SOLUTION: In this wiring design of a semiconductor integrated circuit, a signal line 201 is arranged. Adjacent lines which are adjacent to the signal line 201 and whose output ends 204o, 205o are opened are arranged. Capacitance formed by the signal line 201 and the adjacent lines 204, 205 is calculated. Wiring lengths L2, L3 of the adjacent lines 204, 205 are adjusted based on the capacitance. When the wiring lengths L2, L3 are adjusted, the capacitance changes.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路の
信号線を流れる信号の遅延値を調整することができる半
導体集積回路の配線設計方法と、その配線設計方法を実
行する半導体集積回路の設計支援システムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit wiring design method capable of adjusting a delay value of a signal flowing through a signal line of a semiconductor integrated circuit, and a semiconductor integrated circuit design for executing the wiring design method. Regarding support systems.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路は、設計支援システムを
使用して設計される。設計支援システムは、回路設計及
びレイアウト設計を支援する。設計支援システムは、CA
Dツール(Computer Aided design)とデータベースを備
えたコンピュータである。
2. Description of the Related Art A semiconductor integrated circuit is designed using a design support system. The design support system supports circuit design and layout design. Design support system is CA
It is a computer equipped with a D tool (Computer Aided design) and a database.

【0003】図9は、従来の半導体集積回路の設計支援
システムの構成を示す。図に示された設計支援システム
1は、自動配置ツール11と、自動配線ツール12と、
RC抽出ツール13と、遅延計算ツール14と、タイミ
ング解析ツール15と、修正値計算ツール16と、タイ
ミング修正ツール17を備える。これらツールは、コン
ピュータのプロセッサに制御される。プロセッサは、コ
ンピュータに格納されたツールプログラム及びデータベ
ースを参照して動作する。
FIG. 9 shows a configuration of a conventional semiconductor integrated circuit design support system. The design support system 1 shown in the figure includes an automatic placement tool 11, an automatic wiring tool 12,
An RC extraction tool 13, a delay calculation tool 14, a timing analysis tool 15, a correction value calculation tool 16, and a timing correction tool 17 are provided. These tools are controlled by a computer processor. The processor operates with reference to a tool program and a database stored in the computer.

【0004】図10は、従来の半導体集積回路の配線を
示す。図に示された半導体集積回路2は、第1信号線2
1と、第2信号線22と、第3信号線23を備える。第
1信号線21は、第1インバータ24と第2インバータ
25を備える。
FIG. 10 shows wiring of a conventional semiconductor integrated circuit. The semiconductor integrated circuit 2 shown in FIG.
1, a second signal line 22, and a third signal line 23. The first signal line 21 includes a first inverter 24 and a second inverter 25.

【0005】第1信号線21の入力21iは、出力バッ
ファ(図示されず)に結合する。第2信号線22の入力
22i及び第3信号線23の入力23iは、出力バッフ
ァ(図示されず)に結合する。
[0005] The input 21i of the first signal line 21 is coupled to an output buffer (not shown). An input 22i of the second signal line 22 and an input 23i of the third signal line 23 are coupled to an output buffer (not shown).

【0006】第1信号線21を流れる信号の遅延値は、
第1信号線21と配線基板が形成するキャパシタンスの
影響を受ける。第1信号線21を流れる信号の遅延値
は、第1信号線21に結合された出力バッファの駆動能
力(出力レベル)を変更すると、第1信号線21を流れ
る信号の遅延値が変化する。第1信号線21を流れる信
号の遅延値は、出力バッファの駆動能力を変更するか、
又は、第1信号線21の配線長L0を変更することでキ
ャパシタンスが変化し、調整される。
The delay value of the signal flowing through the first signal line 21 is
It is affected by the capacitance formed by the first signal line 21 and the wiring board. The delay value of the signal flowing through the first signal line 21 changes when the driving capability (output level) of the output buffer coupled to the first signal line 21 is changed. The delay value of the signal flowing through the first signal line 21 changes the driving capability of the output buffer,
Alternatively, the capacitance is changed and adjusted by changing the wiring length L0 of the first signal line 21.

【0007】信号の遅延値を補正する技術は、特開平8
-330934号公報に開示されている。この文献に
は、信号線を流れる信号よりも位相が進んだ進み信号
と、信号線を流れる信号よりも位相が遅れた遅れ信号を
用いて遅延値を相殺する技術が開示されている。
A technique for correcting the delay value of a signal is disclosed in
-330934. This document discloses a technique for canceling a delay value by using a leading signal whose phase is ahead of a signal flowing through a signal line and a delay signal whose phase is behind a signal flowing through the signal line.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】出力バッファの駆動能
力を変更するため、出力バッファには、選択可能な駆動
能力の倍率が用意される。選択肢の数は、出力バッファ
毎に相違する。駆動能力の倍率は、例えば整数倍であ
る、×1,×2,×4...で表される。
In order to change the driving capability of the output buffer, the output buffer is provided with a selectable magnification of the driving capability. The number of options differs for each output buffer. The magnification of the driving capability is represented by, for example, × 1, × 2, × 4.

【0009】選択可能な駆動倍率が整数倍といったよう
に限られると、所望の遅延値を設定できない事態が発生
する。出力バッファの駆動倍率が変更されると、出力バ
ッファの入力容量値が変化し、第1信号線21の前段に
位置する信号線の遅延値が変化する。このように1本の
信号線の遅延値を調整すると、他の信号線の遅延値の再
調整が必要である。
If the selectable drive magnification is limited to an integral multiple, a situation occurs in which a desired delay value cannot be set. When the drive magnification of the output buffer is changed, the input capacitance value of the output buffer changes, and the delay value of the signal line located before the first signal line 21 changes. Adjusting the delay value of one signal line in this way requires readjustment of the delay value of another signal line.

【0010】第1信号線21の配線長L0が変更される
と、当然、その信号線に結合するセル(素子群)のチッ
プ上の配置位置も変更される。セルは、配線に比べて広
い配置面積を専有するので、配置可能な位置が限られ
る。信号線の配線長に制約が発生すると、その配線長と
セルの配置位置の整合が困難になる。
When the wiring length L0 of the first signal line 21 is changed, the arrangement position on the chip of a cell (element group) coupled to the signal line is naturally changed. Since the cell occupies a wider area than the wiring, the position where the cell can be arranged is limited. If the wiring length of the signal line is restricted, it becomes difficult to match the wiring length with the cell arrangement position.

【0011】微細加工の技術が進歩すると、配線の配列
間隔が狭くなる。配線の配列間隔が狭くなると、隣接す
る2本の信号線が形成するキャパシタンスが遅延値に影
響する。上記整合を行いつつ、且つ、2本の信号線間の
キャパシタンスをも考慮された配線レイアウトは、非常
に困難となっている。
As the technology of fine processing advances, the spacing between the wirings becomes narrower. When the interval between the wirings is reduced, the capacitance formed by two adjacent signal lines affects the delay value. A wiring layout that performs the above-mentioned matching and also takes into account the capacitance between the two signal lines is very difficult.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】その課題を解決するため
の手段が、下記のように表現される。その表現中に現れ
る技術的事項には、括弧()付きで、番号、記号等が添
記されている。その番号、記号等は、本発明の実施の複
数の形態又は複数の実施例のうちの少なくとも1つの実
施の形態又は複数の実施例を構成する技術的事項、特
に、その実施の形態又は実施例に対応する図面に表現さ
れている技術的事項に付せられている参照番号、参照記
号等に一致している。このような参照番号、参照記号
は、請求項記載の技術的事項と実施の形態又は実施例の
技術的事項との対応・橋渡しを明確にしている。このよ
うな対応・橋渡しは、請求項記載の技術的事項が実施の
形態又は実施例の技術的事項に限定されて解釈されるこ
とを意味しない。
Means for solving the problem are described as follows. The technical items appearing in the expression are appended with numbers, symbols, etc. in parentheses (). The numbers, symbols, etc. are technical items that constitute at least one embodiment or a plurality of examples of the embodiments or examples of the present invention, in particular, the embodiments or the examples. Corresponds to the reference numerals, reference symbols, and the like assigned to the technical matters expressed in the drawings corresponding to the above. Such reference numbers and reference symbols clarify the correspondence and bridging between the technical matters described in the claims and the technical matters of the embodiments or examples. Such correspondence / bridge does not mean that the technical matters described in the claims are interpreted as being limited to the technical matters of the embodiments or the examples.

【0013】本発明は、隣接する2本の信号線が形成す
るキャパシタンスと、信号線を流れる信号の遅延値を調
整することができる半導体集積回路の配線設計方法を提
供する。
The present invention provides a wiring design method for a semiconductor integrated circuit that can adjust a capacitance formed by two adjacent signal lines and a delay value of a signal flowing through the signal lines.

【0014】本発明による半導体集積回路の配線設計方
法は、信号線(201)と前記信号線(201)に隣接する隣
接線(204,205)が形成するキャパシタンスの算出を行
い、そのキャパシタンスに基づいた隣接線(204,205)
の配線長(L2,L3)の調整を行う。
According to the wiring design method for a semiconductor integrated circuit of the present invention, the capacitance formed by the signal line (201) and the adjacent lines (204, 205) adjacent to the signal line (201) is calculated, and the adjacent line is calculated based on the capacitance. Line (204,205)
Adjust the wiring length (L2, L3).

【0015】本発明による更なる半導体集積回路の配線
設計方法は、信号線(201)を流れる信号の遅延値の算
出と、その遅延値と所望の遅延値との遅延差分の算出
と、その遅延差分に基づいた隣接線(204,205)の配線
長の算出が実行される。
According to another wiring design method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention, a delay value of a signal flowing through a signal line (201) is calculated, a delay difference between the delay value and a desired delay value is calculated, and the delay is calculated. Calculation of the wiring length of the adjacent line (204, 205) based on the difference is performed.

【0016】本発明による更なる半導体集積回路の設計
方法は、遅延差分に対応する差分キャパシタンスの算出
と、隣接線のキャパシタンス率と前記差分キャパシタン
スに基づいた前記配線長の算出が実行される。
In a further method for designing a semiconductor integrated circuit according to the present invention, calculation of a difference capacitance corresponding to a delay difference and calculation of the wiring length based on a capacitance ratio of an adjacent line and the difference capacitance are executed.

【0017】本発明による更なる半導体集積回路の設計
方法は、信号線(201)を流れる信号の位相調整方向に
応じて、隣接線(204,205)に供給する制御信号の位相
が決定される。
In a further semiconductor integrated circuit designing method according to the present invention, the phase of the control signal supplied to the adjacent lines (204, 205) is determined according to the phase adjustment direction of the signal flowing through the signal line (201).

【0018】本発明による更なる半導体集積回路の設計
方法は、位相調整方向が信号の遅れを示す場合、隣接線
(204,205)に供給する制御信号が無位相の固定電位に
設定される。
In a further method for designing a semiconductor integrated circuit according to the present invention, when the phase adjustment direction indicates a signal delay, the control signal supplied to the adjacent lines (204, 205) is set to a phase-free fixed potential.

【0019】本発明による更なる半導体集積回路の設計
方法は、位相調整方向が信号の進みを示す場合、隣接線
に供給する制御信号が信号と同相の第1制御信号に設定
される。
In a further method for designing a semiconductor integrated circuit according to the present invention, when the phase adjustment direction indicates a signal advance, the control signal supplied to the adjacent line is set to the first control signal having the same phase as the signal.

【0020】本発明による更なる半導体集積回路の設計
方法は、位相調整方向が信号の遅れを示す場合、隣接線
(204,205)に供給する制御信号が信号と逆相の第2制
御信号に設定される。
In a further method for designing a semiconductor integrated circuit according to the present invention, when the phase adjustment direction indicates a signal delay, the control signal supplied to the adjacent line (204, 205) is set to a second control signal having a phase opposite to that of the signal. You.

【0021】本発明による半導体集積回路の設計支援シ
ステムは、信号線(201)と、信号線(201)に隣接し、
且つ、出力端が開放された隣接線(204,205)を配線す
る配線ツール(102)と、信号線(201)を流れる信号の
遅延値に応じて、隣接線(204,205)の配線長を決定す
るタイミング調整ツール(106,107)とを備える。
A semiconductor integrated circuit design support system according to the present invention comprises a signal line (201), a signal line (201),
In addition, a wiring tool (102) for wiring the adjacent lines (204, 205) whose output ends are open, and a timing for determining the wiring length of the adjacent lines (204, 205) according to the delay value of the signal flowing through the signal line (201). Adjustment tools (106, 107).

【0022】本発明による更なる半導体集積回路の設計
支援システムは、タイミング調整ツール(106,107)
が、信号線(201)を流れる信号の遅延値を測定し、測
定された遅延値と所望の遅延値との差分を示す遅延差分
を算出し、その遅延差分に対応する配線長を算出する。
A further design support system for a semiconductor integrated circuit according to the present invention is a timing adjustment tool (106, 107).
Measures a delay value of a signal flowing through the signal line (201), calculates a delay difference indicating a difference between the measured delay value and a desired delay value, and calculates a wiring length corresponding to the delay difference.

【0023】本発明による更なる半導体集積回路の設計
支援システムは、タイミング調整ツール(106,107)
が、遅延差分に応じた差分キャパシタンスを算出し、隣
接線のキャパシタンス率と差分キャパシタンスを参照し
て隣接線の配線長を算出する。
A further design support system for a semiconductor integrated circuit according to the present invention is a timing adjustment tool (106, 107).
Calculates the difference capacitance according to the delay difference, and calculates the wiring length of the adjacent line with reference to the capacitance ratio and the difference capacitance of the adjacent line.

【0024】本発明による更なる半導体集積回路の設計
支援システムは、タイミング調整ツール(106,107)
が、信号線を流れる信号の位相調整方向に応じて、隣接
線に供給する制御信号の位相を決定する。
A further semiconductor integrated circuit design support system according to the present invention is a timing adjustment tool (106, 107).
Determines the phase of the control signal supplied to the adjacent line according to the phase adjustment direction of the signal flowing through the signal line.

【0025】本発明による更なる半導体集積回路の設計
支援システムは、タイミング調整ツール(106,107)
が、位相調整方向が信号の遅れを示す場合、位前記隣接
線に供給する制御信号を無位相の固定電位に設定する。
A further design support system for a semiconductor integrated circuit according to the present invention is a timing adjustment tool (106, 107).
However, if the phase adjustment direction indicates a signal delay, the control signal supplied to the adjacent line is set to a phase-free fixed potential.

【0026】本発明による更なる半導体集積回路の設計
支援システムは、タイミング調整ツール(106,107)
が、位相調整方向が信号の進みを示す場合、隣接線に供
給する制御信号を信号と同相の第1制御信号に設定す
る。
[0026] A further semiconductor integrated circuit design support system according to the present invention is a timing adjustment tool (106, 107).
However, when the phase adjustment direction indicates the advance of the signal, the control signal supplied to the adjacent line is set to the first control signal having the same phase as the signal.

【0027】本発明による更なる半導体集積回路の設計
支援システムは、タイミング調整ツール(106.107)
が、位相調整方向が信号の遅れを示す場合、隣接線に供
給する制御信号を信号と逆相の第2制御信号に設定す
る。
A further design support system for a semiconductor integrated circuit according to the present invention is a timing adjustment tool (106.107).
However, when the phase adjustment direction indicates a signal delay, the control signal supplied to the adjacent line is set to a second control signal having a phase opposite to that of the signal.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】図1は、本発明による半導体集積
回路の設計支援システムの構成を示す。図に示された設
計支援システム10は、自動配置ツール101と、自動配
線ツール102と、RC抽出ツール103と、遅延計算ツール
104と、タイミング解析ツール105と、配線長計算ツール
106と、タイミング修正ツール107を備える。
FIG. 1 shows a configuration of a design support system for a semiconductor integrated circuit according to the present invention. The design support system 10 shown in the figure includes an automatic placement tool 101, an automatic wiring tool 102, an RC extraction tool 103, and a delay calculation tool.
104, timing analysis tool 105, wiring length calculation tool
106 and a timing correction tool 107.

【0029】自動配置ツール101は、半導体集積回路の
セルの配置位置を決定する。自動配線ツール102は、信
号線の配線経路を決定する。RC抽出ツールは、配線の
抵抗値及びキャパシタンスを算出する。遅延計算ツール
104は、信号線を流れる遅延値を算出する。タイミング
解析ツール105は、信号線を流れる信号の伝送タイミン
グを検出する。配線長計算ツール106は、タイミング解
析ツール105の解析結果に基づいて、隣接配線の配線長
を算出する。タイミング修正ツールは、隣接長計算ツー
ルの算出結果に基づいて、隣接配線の配線長及び隣接配
線に供給する制御信号を決定する。
The automatic placement tool 101 determines a placement position of a cell of a semiconductor integrated circuit. The automatic wiring tool 102 determines a wiring path of the signal line. The RC extraction tool calculates the resistance value and the capacitance of the wiring. Delay calculator
104 calculates a delay value flowing through the signal line. The timing analysis tool 105 detects the transmission timing of a signal flowing through a signal line. The wiring length calculation tool 106 calculates the wiring length of the adjacent wiring based on the analysis result of the timing analysis tool 105. The timing correction tool determines a wiring length of the adjacent wiring and a control signal to be supplied to the adjacent wiring based on the calculation result of the adjacent length calculation tool.

【0030】これらのツールは、コンピュータのプロセ
ッサに制御される。プロセッサは、コンピュータに格納
されたツールプログラム及びデータベースを参照して動
作する。
These tools are controlled by a computer processor. The processor operates with reference to a tool program and a database stored in the computer.

【0031】配線長計算ツール106は、遅延対応表(例
えば図2や図3)を参照しながら隣接配線の配線長を算
出する。
The wiring length calculation tool 106 calculates the wiring length of the adjacent wiring with reference to the delay correspondence table (for example, FIGS. 2 and 3).

【0032】図2は、本発明に係るキャパシタンス特性
図を示す。図に示されたキャパシタンス特性図の縦軸
は、時間(sec)を示す。その横軸は、容量(F)を示
す。キャパシタンス特性図は、キャパシタンスと遅延値
の対応関係を示す対応表である。キャパシタンスは、信
号線と隣接線が形成する。遅延値は、信号線を流れる信
号の遅延値を示す。キャパシタンスが40fFの場合、
信号線を流れる信号には105psecの遅延が発生する。キ
ャパシタンスが0.12pFの場合、信号線を流れる信号に
は255psecの遅延が発生する。
FIG. 2 shows a capacitance characteristic diagram according to the present invention. The vertical axis of the capacitance characteristic diagram shown in the figure indicates time (sec). The horizontal axis indicates the capacity (F). The capacitance characteristic diagram is a correspondence table showing the correspondence between the capacitance and the delay value. The capacitance is formed by the signal line and the adjacent line. The delay value indicates a delay value of a signal flowing through the signal line. If the capacitance is 40 fF,
The signal flowing through the signal line has a delay of 105 psec. When the capacitance is 0.12 pF, a signal flowing through the signal line has a delay of 255 psec.

【0033】タイミング修正ツール107は、自動配線ツ
ール102に向けて、再配線の指示及び制御信号の種別を
指示する。自動配線ツール102は、固定電位、第1制御
信号及び第2制御信号の中から適切な制御信号を選択す
る。固定電位は、信号線を流れる信号の位相を遅らせる
場合に選択される。第1制御信号は、信号線を流れる信
号の位相を進める場合に選択される。第2制御信号は、
信号線を流れる信号の位相を遅らせる場合に選択され
る。位相の遅れは、固定電位が印加される場合よりも第
2制御信号が供給される場合の方が大きい。
The timing correction tool 107 instructs the automatic wiring tool 102 to instruct rewiring and the type of control signal. The automatic wiring tool 102 selects an appropriate control signal from the fixed potential, the first control signal, and the second control signal. The fixed potential is selected when delaying the phase of the signal flowing through the signal line. The first control signal is selected when the phase of the signal flowing through the signal line is advanced. The second control signal is
This is selected when the phase of the signal flowing through the signal line is delayed. The phase delay is greater when the second control signal is supplied than when a fixed potential is applied.

【0034】図3は、本発明に係る制御信号の特性波形
を示す。図に示された特性波形図の縦軸は遅延時間(se
c)を示す。横軸は、信号線の配線長に対する隣接線の
配線長の割合(%)を示す。その割合は、0〜200
(%)までが示されている。1本の信号線に対して1本
の隣接線を配置した場合、0〜100(%)の数値が参照
される。1本の信号線に対して2本の隣接線を配置した
場合、0〜200(%)の数値が参照される。割合100
(%)は、隣接線が1本の場合、その隣接線の配線長が
信号線長と同じ長さに設定される状態を示す。割合100
(%)は、隣接線が2本の場合、それら隣接線の配線長
が50(%)に設定される状態を示す。割合120(%)
の場合、配線長が60(%)に設定された2本の隣接線
が用意される状態を示す。割合200(%)は、配線長が1
00(%)に設定された2本の隣接線が用意される状態を
示す。
FIG. 3 shows a characteristic waveform of a control signal according to the present invention. The vertical axis of the characteristic waveform diagram shown in FIG.
c) is shown. The horizontal axis represents the ratio (%) of the wiring length of the adjacent line to the wiring length of the signal line. The ratio is 0 to 200
(%) Are shown. When one adjacent line is arranged for one signal line, a numerical value of 0 to 100 (%) is referred to. When two adjacent lines are arranged for one signal line, a numerical value of 0 to 200 (%) is referred to. Ratio 100
(%) Indicates a state in which, when there is one adjacent line, the wiring length of the adjacent line is set to the same length as the signal line length. Ratio 100
(%) Indicates a state in which, when there are two adjacent lines, the wiring length of the adjacent lines is set to 50 (%). Ratio 120 (%)
In the case of (2), a state is shown in which two adjacent lines having a wiring length set to 60 (%) are prepared. The wiring length is 1 when the ratio is 200 (%).
This shows a state in which two adjacent lines set to 00 (%) are prepared.

【0035】隣接線は、1本の信号線に対して1本又は
複数設けられる。1本の信号線に2本の隣接線を配置す
る場合、その隣接線は、信号線の上下又は左右に配置さ
れる。隣接線に固定電位が印加されると、遅延値は、隣
接線の配線長に比例して増減する。隣接線は、信号線を
周回するコイル状に設置することができる。
One or more adjacent lines are provided for one signal line. When two adjacent lines are arranged on one signal line, the adjacent lines are arranged above, below, or on the left and right of the signal line. When a fixed potential is applied to an adjacent line, the delay value increases or decreases in proportion to the wiring length of the adjacent line. The adjacent line can be installed in a coil shape around the signal line.

【0036】隣接線に信号線を流れる信号と同相の信号
である第1制御信号が供給されると、遅延値は、隣接線
の配線長に反比例して増減する。隣接線に信号線を流れ
る信号と逆相の信号である第2制御信号が供給される
と、遅延値は、隣接線の配線長に比例して増減する。
When the first control signal, which is a signal having the same phase as the signal flowing through the signal line, is supplied to the adjacent line, the delay value increases or decreases in inverse proportion to the wiring length of the adjacent line. When the second control signal, which is a signal having the opposite phase to the signal flowing through the signal line, is supplied to the adjacent line, the delay value increases or decreases in proportion to the wiring length of the adjacent line.

【0037】例えば図3の例では、隣接線に固定電位が
印加される場合、信号の立上り(LH)に対する遅延値
は、信号の立下り(HL)に対する遅延値よりも大きい。
隣接線に第1制御信号が供給される場合、信号の立上り
(LH)に対する遅延値は、信号の立下り(HL)に対する
遅延値よりも大きい。隣接線に第2制御信号が供給され
る場合、信号の立上り(LH)に対する遅延値は、信号の
立下り(HL)に対する遅延値よりも大きい。
For example, in the example of FIG. 3, when a fixed potential is applied to the adjacent line, the delay value for the rising edge (LH) of the signal is larger than the delay value for the falling edge (HL) of the signal.
When the first control signal is supplied to the adjacent line, the delay value for the rising edge (LH) of the signal is larger than the delay value for the falling edge (HL) of the signal. When the second control signal is supplied to the adjacent line, the delay value for the rising edge (LH) of the signal is larger than the delay value for the falling edge (HL) of the signal.

【0038】本発明に係る設計支援システム10は、立
上りに対するデータと立下りに対するデータを参照して
処理を実行することができる。本発明に係る設計支援シ
ステム10は、これらデータの平均値を参照して処理を
実行することができる。
The design support system 10 according to the present invention can execute processing by referring to data for a rise and data for a fall. The design support system 10 according to the present invention can execute processing with reference to the average value of these data.

【0039】図4は、本発明による半導体集積回路の配
線を示す。図に示された半導体集積回路20は、第1信
号線201と、第2信号線202と、第3信号線203を備え
る。半導体集積回路20は、第1隣接線204と第2隣接
線205を備える。第1信号線201は、入力201iと出力201o
を備える。第1信号線201は、第1インバータ206と第2
インバータ207を備える。第2信号線202は、入力202iと
出力202oを備える。第3信号線203は、入力203iと出力2
03oを備える。第1隣接線204は、入力204iと開放端204o
を備える。第1隣接線204は、インバータ208を備える。
第2隣接線205は、入力205iと開放端205oを備える。第
2隣接線205は、インバータ209を備える。
FIG. 4 shows wiring of a semiconductor integrated circuit according to the present invention. The illustrated semiconductor integrated circuit 20 includes a first signal line 201, a second signal line 202, and a third signal line 203. The semiconductor integrated circuit 20 includes a first adjacent line 204 and a second adjacent line 205. The first signal line 201 has an input 201i and an output 201o.
Is provided. The first signal line 201 is connected to the first inverter 206 and the second
An inverter 207 is provided. The second signal line 202 has an input 202i and an output 202o. The third signal line 203 has an input 203i and an output 2
Equipped with 03o. The first adjacent line 204 has an input 204i and an open end 204o.
Is provided. The first adjacent line 204 includes an inverter 208.
The second adjacent line 205 has an input 205i and an open end 205o. The second adjacent line 205 includes an inverter 209.

【0040】第1信号線201の入力201iは、出力バッフ
ァ(図示されず)に結合する。第2信号線202の入力202
i及び第3信号線203の入力203iは、出力バッファ(図示
されず)に結合する。第1隣接線204の入力204i及び第
2隣接線205の入力205iは、出力バッファ(図示され
ず)に結合する。
The input 201i of the first signal line 201 is coupled to an output buffer (not shown). Input 202 of second signal line 202
i and the input 203i of the third signal line 203 are coupled to an output buffer (not shown). The input 204i of the first adjacent line 204 and the input 205i of the second adjacent line 205 are coupled to an output buffer (not shown).

【0041】第1インバータ206の出力と第2インバー
タ207の入力の間の配線長は、L1に設定される。第3
インバータ208の出力と開放端204oの間の配線長はL2
は、変更することができる。第4インバータ209の出力
と開放端205oの間の配線長L3は、変更することができ
る。
The wiring length between the output of the first inverter 206 and the input of the second inverter 207 is set to L1. Third
The wiring length between the output of the inverter 208 and the open end 204o is L2
Can be changed. The wiring length L3 between the output of the fourth inverter 209 and the open end 205o can be changed.

【0042】図5は、本発明による半導体集積回路のキ
ャパシタンスの配置を示す。図に示された回路は、図4
に示された半導体集積回路20の一部である。
FIG. 5 shows an arrangement of capacitances of a semiconductor integrated circuit according to the present invention. The circuit shown in FIG.
Is a part of the semiconductor integrated circuit 20 shown in FIG.

【0043】第1信号線201と第1隣接線204の間には、
第1キャパシタンス31が形成される。第1信号線201
と第2隣接線205の間には、第2キャパシタンス32が
形成される。第1信号線201と基板210の間には、第3キ
ャパシタ33が形成される。第1隣接線204と基板210の
間には、第4キャパシタ34が形成される。第2隣接線
205と基板210の間には、第5キャパシタ35が形成され
る。
Between the first signal line 201 and the first adjacent line 204,
A first capacitance 31 is formed. First signal line 201
A second capacitance 32 is formed between the first and second adjacent lines 205. The third capacitor 33 is formed between the first signal line 201 and the substrate 210. The fourth capacitor 34 is formed between the first adjacent line 204 and the substrate 210. 2nd adjacent line
A fifth capacitor 35 is formed between 205 and the substrate 210.

【0044】第1隣接線204の配線長L2を変更する
と、キャパシタンス31のキャパシタC1が変化する。
第2隣接線205の配線長L3を変更すると、キャパシタ
ンス32のキャパシタC2が変化する。
When the wiring length L2 of the first adjacent line 204 is changed, the capacitance C1 of the capacitance 31 changes.
When the wiring length L3 of the second adjacent line 205 is changed, the capacitance C2 of the capacitance 32 changes.

【0045】図1乃至図5を参照して、本発明による半
導体集積回路の配線設計方法を説明する。ここでは、第
1信号線201を流れる信号の遅延値が調整される過程が
説明される。
A wiring design method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention will be described with reference to FIGS. Here, the process of adjusting the delay value of the signal flowing through the first signal line 201 will be described.

【0046】自動配置ツール101は、実装領域が効率的
に使用されるように、セル(図示されず)を配置する。
自動配線ツール102は、第1乃至第3信号線201〜203を
配線する。自動配線ツール102は、第1及び第2隣接線2
04,205を配線する。これら配線には、第1乃至第4イン
バータ206〜209が設けられる。RC抽出ツール103は、
第1乃至第3信号線201〜203が形成する抵抗及びキャパ
シタンスの値を検出する。RC抽出ツール103は、第1
及び第2隣接線208,209が形成する抵抗及びキャパシタ
ンスの値を検出する。遅延計算ツール104は、RC抽出
ツール103が検出した抵抗値及びキャパシタを参照し、
第1信号線201を流れる信号の遅延値を算出する。タイ
ミング解析ツール15は、第1信号線201を流れる信号
の遅延値が許容される値であるか解析する。タイミング
解析ツール15の解析結果が"許容可"を示す場合、設計
は完了する。
The automatic placement tool 101 places cells (not shown) so that the mounting area is used efficiently.
The automatic wiring tool 102 connects the first to third signal lines 201 to 203. The automatic wiring tool 102 is configured to use the first and second adjacent lines 2
Wire 04,205. These wirings are provided with first to fourth inverters 206 to 209. RC extraction tool 103
The resistance and capacitance values formed by the first to third signal lines 201 to 203 are detected. RC extraction tool 103
And the resistance and capacitance values formed by the second adjacent lines 208 and 209 are detected. The delay calculation tool 104 refers to the resistance value and the capacitor detected by the RC extraction tool 103,
A delay value of a signal flowing through the first signal line 201 is calculated. The timing analysis tool 15 analyzes whether the delay value of the signal flowing through the first signal line 201 is an allowable value. When the analysis result of the timing analysis tool 15 indicates “permissible”, the design is completed.

【0047】タイミング解析ツール15の解析結果が"
許容不可"を示す場合、配線長計算ツール106が起動す
る。配線長計算ツール106は、遅延値対応表(図2)を
参照して、隣接配線の配線長を計算する。配線長の計算
は、所望の遅延値と現在の遅延値の遅延差分Tdefを求
める。遅延差分Tdefは差分キャパシタCdefに換算され
る。
The analysis result of the timing analysis tool 15 is "
If "Unacceptable" is indicated, the wiring length calculation tool 106 is activated. The wiring length calculation tool 106 calculates the wiring length of the adjacent wiring with reference to the delay value correspondence table (FIG. 2). Then, a delay difference Tdef between the desired delay value and the current delay value is obtained, and the delay difference Tdef is converted into a difference capacitor Cdef.

【0048】差分キャパシタCdefは、Cdef=ε(s/
d)で表される。εは、誘電率を示す。sは、信号配線
と隣接配線の対向面積を示す。dは、信号配線と隣接配
線の対向長を示す。この数式から、隣接配線の配線長が
導かれる。配線長計算ツール106が算出した配線長は、
タイミング修正ツール107に通知される。
The difference capacitor Cdef is expressed as follows: Cdef = ε (s /
d). ε indicates a dielectric constant. s indicates the area of the signal line and the adjacent line facing each other. d indicates the opposing length of the signal wiring and the adjacent wiring. From this equation, the wiring length of the adjacent wiring is derived. The wiring length calculated by the wiring length calculation tool 106 is
The timing correction tool 107 is notified.

【0049】キャパシタンス率(単位長に対するキャパ
シタンス)を参照することもできる。差分キャパシタを
キャパシタンス率で除算すると、隣接配線の配線長の変
更量が算出される。
The capacitance ratio (capacitance per unit length) can also be referred to. When the difference capacitor is divided by the capacitance ratio, the amount of change in the wiring length of the adjacent wiring is calculated.

【0050】タイミング修正ツール107は、通知された
配線長を参照し、隣接配線202,203の配線長変更を自動
配線ツール102に通知する。自動配線ツール102は、隣接
配線204,205の配線長を変更し、RC抽出ツール103を起
動する。
The timing correction tool 107 refers to the notified wiring length, and notifies the automatic wiring tool 102 of a change in the wiring length of the adjacent wirings 202 and 203. The automatic wiring tool 102 changes the wiring length of the adjacent wirings 204 and 205 and activates the RC extraction tool 103.

【0051】タイミング修正ツール107は、隣接配線の
配線長の修正に加えて隣接配線204,205に供給する制御
信号を選択する。制御信号は、信号線を流れる信号の位
相の調整方向及びその程度に応じて設定される。タイミ
ング修正ツール107は、信号の位相を進める場合、隣接
配線に、信号線の信号と同相の第1制御信号を供給す
る。タイミング修正ツール107は、信号の位相を大幅に
遅らせる場合、隣接配線に、信号線の信号と逆相の第2
制御信号を供給する。タイミング修正ツール107は、信
号の位相を僅かに遅らせる場合、隣接配線に、固定電位
を印加する。
The timing correction tool 107 selects a control signal to be supplied to the adjacent wirings 204 and 205 in addition to correcting the wiring length of the adjacent wiring. The control signal is set according to the adjustment direction and the degree of the phase of the signal flowing through the signal line. When advancing the phase of the signal, the timing correction tool 107 supplies a first control signal having the same phase as the signal of the signal line to the adjacent wiring. When the timing correction tool 107 significantly delays the phase of a signal, the timing correction tool 107 adds a second signal having a phase opposite to that of the signal of the signal line to the adjacent wiring.
Supply control signals. When slightly delaying the phase of the signal, the timing correction tool 107 applies a fixed potential to the adjacent wiring.

【0052】図6は、本発明による半導体集積回路の第
1の配線方法の等価回路を示す。図に示された配線に
は、図4に示された信号線201と第1及び第2隣接線20
4,205が詳細に示されている。図6に示されたインバー
タ208,209に繋がる隣接線204,205には、第1制御信号
が供給される。
FIG. 6 shows an equivalent circuit of a first wiring method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention. The wiring shown in the figure includes the signal line 201 shown in FIG. 4 and the first and second adjacent lines 20.
4,205 is shown in detail. A first control signal is supplied to the adjacent lines 204 and 205 connected to the inverters 208 and 209 shown in FIG.

【0053】インバータ206に繋がる信号線201と第1及
び第2隣接配線204,205の入力は、インバータ220を介し
て供給される。信号線201の出力は、出力312に結合され
る。第1インバータ206と第2インバータ207の間には、
等価抵抗41が形成される。第3インバータ208の出力
には、等価抵抗42が形成される。第4インバータ209
の出力には、等価抵抗43が形成される。
The input of the signal line 201 connected to the inverter 206 and the inputs of the first and second adjacent wirings 204 and 205 are supplied through the inverter 220. The output of signal line 201 is coupled to output 312. Between the first inverter 206 and the second inverter 207,
An equivalent resistance 41 is formed. An equivalent resistor 42 is formed at the output of the third inverter 208. Fourth inverter 209
, An equivalent resistance 43 is formed.

【0054】信号線201と隣接線204の間には、キャパシ
タンス31が形成される。信号線201と隣接線205の間に
は、キャパシタンス32が形成される。信号線201と接
地端子(基板)の間には、キャパシタンス33が形成さ
れる。隣接線204と接地端子の間には、キャパシタンス
34が形成される。隣接線205と接地端子の間には、キ
ャパシタンス35が形成される。RC抽出ツール103
は、等価抵抗41〜43と、キャパシタンス31〜35
を抽出する。
A capacitance 31 is formed between the signal line 201 and the adjacent line 204. A capacitance 32 is formed between the signal line 201 and the adjacent line 205. A capacitance 33 is formed between the signal line 201 and a ground terminal (substrate). A capacitance 34 is formed between the adjacent line 204 and the ground terminal. A capacitance 35 is formed between the adjacent line 205 and the ground terminal. RC extraction tool 103
Are equivalent resistances 41 to 43 and capacitances 31 to 35
Is extracted.

【0055】隣接線204,205には、信号と同相の第1制
御信号が供給される。第1制御信号は、信号線201を流
れる信号に基づいて生成される。信号線201を流れる信
号は、位相が進む。
A first control signal having the same phase as the signal is supplied to the adjacent lines 204 and 205. The first control signal is generated based on a signal flowing through the signal line 201. The phase of the signal flowing through the signal line 201 is advanced.

【0056】図7は、本発明による半導体集積回路の第
2の配線方法の等価回路を示す。図に示された配線に
は、図4に示された信号線201と第1及び第2隣接線20
4,205に係る構成が詳細に示されている。図7に示され
るように、隣接線204,205は、インバータ208,209から
切り離されている。また、隣接線204,205には、固定電
位が印加される。
FIG. 7 shows an equivalent circuit of a second wiring method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention. The wiring shown in the figure includes the signal line 201 shown in FIG. 4 and the first and second adjacent lines 20.
The configuration according to 4,205 is shown in detail. As shown in FIG. 7, the adjacent lines 204 and 205 are separated from the inverters 208 and 209. A fixed potential is applied to the adjacent lines 204 and 205.

【0057】図7に示されるように、インバータ206に
繋がる信号線201の入力は、インバータ301を介して供給
される。信号線201の出力は、出力312に結合される。イ
ンバータ301は、インバータ206に信号を供給する。イン
バータ301に接続したインバータ208,209から切り離され
た隣接線204,205は、上述の固定電位が接地電位の場
合、接地端子に結合される。第1インバータ206と第2
インバータ207の間には、等価抵抗41が形成される。
第3インバータ208の出力側、図7に示された構成の場
合、隣接線204には、等価抵抗42が形成される。第4
インバータ209の出力側、図7に示された構成の場合、
隣接線205には、等価抵抗43が形成される。インバー
タ208,209の出力側の隣接線204,205が接地端子に結合さ
れるため、等価抵抗42,43は、接地端子に結合され
る。
As shown in FIG. 7, the input of the signal line 201 connected to the inverter 206 is supplied via the inverter 301. The output of signal line 201 is coupled to output 312. Inverter 301 supplies a signal to inverter 206. The adjacent lines 204 and 205 separated from the inverters 208 and 209 connected to the inverter 301 are coupled to the ground terminal when the above-mentioned fixed potential is the ground potential. The first inverter 206 and the second
An equivalent resistance 41 is formed between the inverters 207.
In the case of the configuration shown in FIG. 7 on the output side of the third inverter 208, the equivalent resistance 42 is formed on the adjacent line 204. 4th
The output side of the inverter 209, in the case of the configuration shown in FIG.
The equivalent resistance 43 is formed on the adjacent line 205. Since the adjacent lines 204 and 205 on the output side of the inverters 208 and 209 are coupled to the ground terminal, the equivalent resistances 42 and 43 are coupled to the ground terminal.

【0058】信号線201と隣接線204の間には、キャパシ
タンス31が形成される。信号線201と隣接線205の間に
は、キャパシタンス32が形成される。信号線201と接
地端子(基板)の間には、キャパシタンス33が形成さ
れる。隣接線204と接地端子の間には、キャパシタンス
34が形成される。隣接線205と接地端子の間には、キ
ャパシタンス35が形成される。RC抽出ツール103
は、等価抵抗41〜43と、キャパシタンス31〜35
を抽出する。
A capacitance 31 is formed between the signal line 201 and the adjacent line 204. A capacitance 32 is formed between the signal line 201 and the adjacent line 205. A capacitance 33 is formed between the signal line 201 and a ground terminal (substrate). A capacitance 34 is formed between the adjacent line 204 and the ground terminal. A capacitance 35 is formed between the adjacent line 205 and the ground terminal. RC extraction tool 103
Are equivalent resistances 41 to 43 and capacitances 31 to 35
Is extracted.

【0059】隣接線204,205には、固定電位が印加され
る。信号線201を流れる信号は、位相が遅れる。
A fixed potential is applied to the adjacent lines 204 and 205. The phase of the signal flowing through the signal line 201 is delayed.

【0060】図8は、本発明による半導体集積回路の第
3の配線方法の等価回路を示す。図に示された配線に
は、図4に示された信号線201と第1及び第2隣接線20
4,205に係る構成が詳細に示されている。図8に示され
るように、隣接線204,205は、インバータ208,209から
切り離されている。また、隣接線204,205には、インバ
ータ302,303を介して、第2制御信号が供給される。
FIG. 8 shows an equivalent circuit of a third wiring method for a semiconductor integrated circuit according to the present invention. The wiring shown in the figure includes the signal line 201 shown in FIG. 4 and the first and second adjacent lines 20.
The configuration according to 4,205 is shown in detail. As shown in FIG. 8, the adjacent lines 204 and 205 are separated from the inverters 208 and 209. In addition, a second control signal is supplied to the adjacent lines 204 and 205 via the inverters 302 and 303.

【0061】図8に示されるように、インバータ206に
繋がる信号線201の入力は、インバータ301を介して供給
される。信号線201の出力は、第2インバータ207を通り
出力322に出力される。インバータ301は、インバータ20
6に信号を供給する。
As shown in FIG. 8, the input of the signal line 201 connected to the inverter 206 is supplied via the inverter 301. The output of the signal line 201 passes through the second inverter 207 and is output to the output 322. Inverter 301, inverter 20
Supply signal to 6.

【0062】入力321には、信号線201と同相の信号が供
給される。隣接線204,205には、信号線201に流れる信号
と逆相の第2制御信号が供給される。
The input 321 is supplied with a signal having the same phase as that of the signal line 201. A second control signal having a phase opposite to that of the signal flowing through the signal line 201 is supplied to the adjacent lines 204 and 205.

【0063】第1インバータ206と第2インバータ207の
間には、等価抵抗41が形成される。第3インバータ20
8の出力側、図8に示された構成の場合、隣接線204に
は、等価抵抗42が形成される。第4インバータ209の
出力側、図8に示された構成の場合、隣接線205には、等
価抵抗43が形成される。
The equivalent resistance 41 is formed between the first inverter 206 and the second inverter 207. Third inverter 20
8, the equivalent resistance 42 is formed in the adjacent line 204. In the case of the configuration shown in FIG. 8 on the output side of the fourth inverter 209, the equivalent resistance 43 is formed on the adjacent line 205.

【0064】信号線201と隣接線202の間には、キャパシ
タンス31が形成される。信号線201と隣接線203の間に
は、キャパシタンス32が形成される。信号線201と接
地端子(基板)の間には、キャパシタンス33が形成さ
れる。隣接線204と接地端子の間には、キャパシタンス
34が形成される。隣接線205と接地端子の間には、キ
ャパシタンス35が形成される。RC抽出ツール103
は、等価抵抗41〜43と、キャパシタンス31〜35
を抽出する。
A capacitance 31 is formed between the signal line 201 and the adjacent line 202. A capacitance 32 is formed between the signal line 201 and the adjacent line 203. A capacitance 33 is formed between the signal line 201 and a ground terminal (substrate). A capacitance 34 is formed between the adjacent line 204 and the ground terminal. A capacitance 35 is formed between the adjacent line 205 and the ground terminal. RC extraction tool 103
Are equivalent resistances 41 to 43 and capacitances 31 to 35
Is extracted.

【0065】隣接線204,205には、固定電位が印加され
る。信号線201を流れる信号は、位相が遅れる。その遅
れ量は、隣接線204,205に固定電位が印加される場合よ
りも大きい。
A fixed potential is applied to the adjacent lines 204 and 205. The phase of the signal flowing through the signal line 201 is delayed. The delay amount is larger than when a fixed potential is applied to the adjacent lines 204 and 205.

【0066】[0066]

【発明の効果】本発明の半導体集積回路の配線設計方法
は、隣接線の配線長が変更されると信号線と隣接線が形
成するキャパシタが変化する。キャパシタが変化する
と、信号線を流れる信号の遅延値が変化する。信号線を
流れる信号の遅延値が調整される際、信号線の配線長を
変更する必要がない。信号線を流れる信号の遅延値は、
隣接線を介して隣接する他の信号線の影響を受けない。
従って、信号線を流れる信号の遅延値を調整するために
セルが移動される、という事態が生じないので、微妙な
遅延調整を大規模なレイアウト変更無しに行える。
According to the semiconductor integrated circuit wiring design method of the present invention, when the wiring length of the adjacent line is changed, the capacitor formed by the signal line and the adjacent line changes. When the capacitor changes, the delay value of the signal flowing through the signal line changes. When the delay value of the signal flowing through the signal line is adjusted, it is not necessary to change the wiring length of the signal line. The delay value of the signal flowing through the signal line is
It is not affected by other signal lines adjacent via the adjacent line.
Therefore, a situation in which a cell is moved to adjust a delay value of a signal flowing through a signal line does not occur, and fine delay adjustment can be performed without a large-scale layout change.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図は、本発明による半導体集積回路の設計支援
システムの構成を示す。
FIG. 1 shows a configuration of a semiconductor integrated circuit design support system according to the present invention.

【図2】図は、本発明に係るキャパシタンス特性を示
す。
FIG. 2 shows a capacitance characteristic according to the present invention.

【図3】図は、本発明に係る絵師魚信号の特性波形を示
す。
FIG. 3 shows a characteristic waveform of a painter fish signal according to the present invention.

【図4】図は、本発明に係る半導体集積回路の配線を示
す。
FIG. 4 shows wiring of a semiconductor integrated circuit according to the present invention.

【図5】図は、本発明に係る半導体集積回路のキャパシ
タンス配置を示す。
FIG. 5 shows a capacitance arrangement of a semiconductor integrated circuit according to the present invention.

【図6】図は、本発明に係る半導体集積回路の第1の配
線の等価回路を示す。
FIG. 6 shows an equivalent circuit of a first wiring of the semiconductor integrated circuit according to the present invention.

【図7】図は、本発明に係る半導体集積回路の第2の配
線の等価回路を示す。
FIG. 7 shows an equivalent circuit of a second wiring of the semiconductor integrated circuit according to the present invention.

【図8】図は、本発明に係る半導体集積回路の第3の配
線の等価回路を示す。
FIG. 8 shows an equivalent circuit of a third wiring of the semiconductor integrated circuit according to the present invention.

【図9】図は、従来の半導体集積回路の設計支援システ
ムの構成を示す。
FIG. 9 shows a configuration of a conventional semiconductor integrated circuit design support system.

【図10】図は、従来の半導体集積回路の配線を示す。FIG. 10 shows wiring of a conventional semiconductor integrated circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10:半導体集積回路の設計支援システム 101:自動配置ツール 102:自動配線ツール 103:RC抽出ツール 104:遅延計算ツール 105:タイミング解析ツール 106:配線長計算ツール 107:タイミング修正ツール 201:第1信号線 202:第2信号線 203:第3信号線 204:第1隣接線 205:第2隣接線 10: Design support system for semiconductor integrated circuits 101: Automatic placement tool 102: Automatic wiring tool 103: RC extraction tool 104: Delay calculation tool 105: Timing analysis tool 106: Wire length calculation tool 107: Timing correction tool 201: First signal Line 202: Second signal line 203: Third signal line 204: First adjacent line 205: Second adjacent line

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】信号線と前記信号線に隣接する隣接線が形
成するキャパシタンスの算出を行い、 前記キャパシタンスに基づいた前記隣接線の配線長の調
整を行う半導体集積回路の配線設計方法。
2. A wiring design method for a semiconductor integrated circuit, comprising: calculating a capacitance formed between a signal line and an adjacent line adjacent to the signal line; and adjusting a wiring length of the adjacent line based on the capacitance.
【請求項2】 請求項1に記載の方法において、 前記信号線を流れる信号の遅延値の算出と、 遅延値と所望の遅延値との遅延差分の算出と、 前記遅延差分に対応する前記配線長の算出が実行される
半導体集積回路の配線設計方法。
2. The method according to claim 1, wherein a delay value of a signal flowing through the signal line is calculated, a delay difference between a delay value and a desired delay value is calculated, and the wiring corresponding to the delay difference is calculated. A wiring design method for a semiconductor integrated circuit in which a length is calculated.
【請求項3】 請求項2に記載の方法において、 前記遅延差分に対応する差分キャパシタンスの算出と、 前記隣接線のキャパシタンス率と前記差分キャパシタン
スに基づいた前記配線長の算出が実行される半導体集積
回路の配線設計方法。
3. The method according to claim 2, wherein calculation of a difference capacitance corresponding to the delay difference and calculation of the wiring length based on a capacitance ratio of the adjacent line and the difference capacitance are performed. Circuit wiring design method.
【請求項4】 請求項3に記載の方法において、 前記信号線を流れる信号の位相調整方向に応じて、前記
隣接線に供給する制御信号の位相が決定される半導体集
積回路の配線設計方法。
4. The method according to claim 3, wherein a phase of a control signal supplied to the adjacent line is determined according to a phase adjustment direction of a signal flowing through the signal line.
【請求項5】 請求項4に記載の方法において、 前記位相調整方向が前記信号の遅れを示す場合、前記隣
接線に供給する制御信号が、無位相の固定電位に設定さ
れる半導体集積回路の配線設計方法。
5. The method according to claim 4, wherein when the phase adjustment direction indicates a delay of the signal, a control signal supplied to the adjacent line is set to a phase-free fixed potential. Wiring design method.
【請求項6】 請求項4に記載の方法において、 前記位相調整方向が前記信号の進みを示す場合、前記隣
接線に供給する制御信号が、前記信号と同相の第1制御
信号に設定される半導体集積回路の配線設計方法。
6. The method according to claim 4, wherein when the phase adjustment direction indicates the advance of the signal, a control signal supplied to the adjacent line is set to a first control signal having the same phase as the signal. A wiring design method for a semiconductor integrated circuit.
【請求項7】 請求項4に記載の方法において、 前記位相調整方向が前記信号の遅れを示す場合、前記隣
接線に供給する制御信号が、前記信号と逆相の第2制御
信号に設定される半導体集積回路の配線設計方法。
7. The method according to claim 4, wherein when the phase adjustment direction indicates a delay of the signal, a control signal supplied to the adjacent line is set to a second control signal having a phase opposite to the signal. Wiring design method for semiconductor integrated circuits.
【請求項8】 信号線と、前記信号線に隣接し、且つ、
隣接線を設置する配線ツールと、 前記信号線を流れる信号の遅延値に応じて、前記隣接線
の配線長を決定するタイミング調整ツールを備えた半導
体集積回路の設計支援システム。
8. A signal line, adjacent to the signal line, and
A design support system for a semiconductor integrated circuit, comprising: a wiring tool for setting an adjacent line; and a timing adjustment tool for determining a wiring length of the adjacent line according to a delay value of a signal flowing through the signal line.
【請求項9】 請求項8に記載のシステムにおいて、 前記タイミング調整ツールは、 前記信号線を流れる信号の遅延値の測定と、 測定された遅延値と所望の遅延値との差分を示す遅延差
分の算出と、 前記遅延差分に対応する前記配線長の算出を実行する半
導体集積回路の設計支援システム。
9. The system according to claim 8, wherein the timing adjustment tool includes: measuring a delay value of a signal flowing through the signal line; and a delay difference indicating a difference between the measured delay value and a desired delay value. And a calculation support system for calculating the wiring length corresponding to the delay difference.
【請求項10】 請求項9に記載のシステムにおいて、 前記タイミング調整ツールは、 前記遅延差分に対応する差分キャパシタンスの算出と、 前記隣接線のキャパシタンス率と前記差分キャパシタン
スに基づいた前記配線長の算出を実行する半導体集積回
路の設計支援システム。
10. The system according to claim 9, wherein the timing adjustment tool calculates a difference capacitance corresponding to the delay difference, and calculates the wiring length based on a capacitance ratio of the adjacent line and the difference capacitance. A design support system for a semiconductor integrated circuit that performs the following.
【請求項11】 請求項10に記載のシステムにおい
て、 前記タイミング調整ツールは、 前記信号線を流れる信号の位相調整方向に応じて、前記
隣接線に供給する制御信号の位相を決定する半導体集積
回路の設計支援システム。
11. The semiconductor integrated circuit according to claim 10, wherein the timing adjustment tool determines a phase of a control signal supplied to the adjacent line according to a phase adjustment direction of a signal flowing through the signal line. Design support system.
【請求項12】 請求項11に記載のシステムにおい
て、 前記タイミング調整ツールは、 前記位相調整方向が前記信号の遅れ示す場合、位前記隣
接線に供給する制御信号を無位相の固定電位に設定する
半導体集積回路の設計支援システム。
12. The system according to claim 11, wherein the timing adjustment tool sets a control signal supplied to the adjacent line to a phase-free fixed potential when the phase adjustment direction indicates a delay of the signal. Design support system for semiconductor integrated circuits.
【請求項13】 請求項11に記載のシステムにおい
て、 前記タイミング調整ツールは、 前記位相調整方向が前記信号の進みを示す場合、前記隣
接線に供給する制御信号を前記信号と同相の第1制御信
号に設定する半導体集積回路の設計支援システム。
13. The system according to claim 11, wherein the timing adjustment tool includes: a first control unit that, when the phase adjustment direction indicates the advance of the signal, controls a control signal supplied to the adjacent line to be in phase with the signal. A design support system for semiconductor integrated circuits that sets signals.
【請求項14】 請求項11に記載のシステムにおい
て、 前記タイミング調整ツールは、 前記位相調整方向が前記信号の遅れを示す場合、前記隣
接線に供給する制御信号を前記信号と逆相の第2制御信
号に設定する半導体集積回路の設計支援システム。
14. The system according to claim 11, wherein, when the phase adjustment direction indicates a delay of the signal, the timing adjustment tool sends a control signal to be supplied to the adjacent line to a second phase opposite to the signal. A design support system for a semiconductor integrated circuit set in a control signal.
【請求項15】 請求項1乃至7の何れか一項に記載の
方法を制御するプログラムを記憶したコンピュータ読取
り可能な記憶媒体。
15. A computer-readable storage medium storing a program for controlling the method according to claim 1. Description:
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