JP2001180960A - Press molding method of oxynitride glass and press molded oxynitride glass obtained by press molding method - Google Patents

Press molding method of oxynitride glass and press molded oxynitride glass obtained by press molding method

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JP2001180960A
JP2001180960A JP36833799A JP36833799A JP2001180960A JP 2001180960 A JP2001180960 A JP 2001180960A JP 36833799 A JP36833799 A JP 36833799A JP 36833799 A JP36833799 A JP 36833799A JP 2001180960 A JP2001180960 A JP 2001180960A
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JP
Japan
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press
oxynitride glass
glass
release layer
nitrogen
Prior art date
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Application number
JP36833799A
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Japanese (ja)
Inventor
Katsuhisa Takagi
勝寿 高木
Moriyoshi Kanamaru
守賀 金丸
Kazutaka Kunii
一孝 國井
Naoya Fujiwara
直也 藤原
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Kobe Steel Ltd
Original Assignee
Kobe Steel Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optimum mould release layer for a press molding of an oxynitride glass. SOLUTION: A press molding method of an oxynitride glass by a molding die is characterized by an existence of a mold release layer including carbon and/or boron nitride between a surface of an oxynitride glass and a surface of the molding die, in order to keep a nitrogen quantity in a molded oxynitride glass after press above 90% (mass ratio) of the nitrogen quantity in a molded oxynitride glass before press, with raising the mold release property between an oxynitride glass after press and a molding die.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク等記
録媒体用ディスク等に利用可能なオキシナイトライドガ
ラスプレス成形体を得る場合の離型層に着目したプレス
成形方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a press molding method which focuses on a release layer when obtaining an oxynitride glass press molded body usable for a disk for a recording medium such as a magnetic disk.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気ディスク装置の分野では、記録密度
と転送速度の向上を目指して日進月歩の技術開発がなさ
れている。昨今は、特に転送速度の向上を目指してディ
スクの高速回転化が急務となっており、高速回転中にも
振動しないような比剛性(=ヤング率/密度)の高いデ
ィスク材料が望まれている。従来から使用されているア
ルミニウム製ディスク(以下アルミディスクと言う)の
比剛性は26.7(=ヤング率:72GPa/密度:
2.7g/cm3)であり、10000rpmに及ぶ高
速回転中での使用には、その2倍以上の比剛性が必要と
言われている。しかしながら、アルミディスクの比剛性
を倍増させるためには、セラミックスとの複合化(MM
C)等の方法しかなく、コスト面から見て実用可能性は
低い。
2. Description of the Related Art In the field of magnetic disk drives, technical developments are being made more and more rapidly in order to improve recording density and transfer speed. In recent years, there has been an urgent need to increase the speed of rotation of a disk, particularly for the purpose of improving the transfer speed, and a disk material having high specific rigidity (= Young's modulus / density) that does not vibrate even during high speed rotation is desired. . The specific rigidity of a conventionally used aluminum disk (hereinafter referred to as aluminum disk) is 26.7 (= Young's modulus: 72 GPa / density:
2.7 g / cm 3 ), and it is said that specific stiffness more than twice that of use at a high speed rotation of 10,000 rpm is required. However, in order to double the specific rigidity of the aluminum disk, it is necessary to combine it with ceramics (MM
C) and the like, and the practicality is low in terms of cost.

【0003】一方、2.5インチサイズで使用されてい
るガラス製ディスク(以下ガラスディスクと言う)は、
高比剛性化し易いという点で注目を集めている。例えば
ガラスを適切な温度で熱処理し、高ヤング率の結晶相を
析出させることでガラスセラミックス化し、ヤング率を
向上させる試みが多くなされている。例えば、特開平6
−329440号公報、特開平8−111024号公
報、特開平8−221747号公報には、二酸化リチウ
ム結晶とαクオーツ結晶を析出させる例が開示されてい
る。また、特開平9−77531号公報には、尖晶石結
晶を析出させることによってヤング率を109〜144
GPa、比剛性を36〜47に向上させる例が開示され
ている。しかし、結晶化によってガラスの比剛性自体は
上がるものの、硬質結晶相と軟質ガラス相の複合組織に
なっているため、ポリシングの際に微細な段差が生じ、
ディスクに必要とされる超鏡面が得られにくい欠点があ
る。
On the other hand, a glass disk used in a 2.5-inch size (hereinafter, referred to as a glass disk) is
Attention is drawn to the fact that high specific rigidity is easily achieved. For example, there have been many attempts to improve the Young's modulus by heat-treating the glass at an appropriate temperature to precipitate a crystal phase having a high Young's modulus to form glass ceramics. For example, Japanese Unexamined Patent Publication
JP-A-329440, JP-A-8-111024 and JP-A-8-221747 disclose examples of depositing lithium dioxide crystals and α-quartz crystals. Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-77531 discloses that spinel crystals are precipitated to reduce the Young's modulus to 109 to 144.
An example in which GPa and specific rigidity are improved to 36 to 47 is disclosed. However, although the specific rigidity of the glass itself is increased by crystallization, a fine step occurs during polishing because it has a composite structure of a hard crystal phase and a soft glass phase,
There is a disadvantage that it is difficult to obtain a super mirror surface required for a disk.

【0004】一方、ガラスそのものの比剛性向上策とし
て、ガラスのヤング率を改善する効果が期待される希土
類元素を添加する方策も知られている。しかしながら、
希土類元素を添加するとガラスのヤング率が向上すると
同時に密度が増加し、その結果として比剛性は期待通り
には向上しない。
On the other hand, as a measure for improving the specific rigidity of the glass itself, a method of adding a rare earth element which is expected to have an effect of improving the Young's modulus of the glass is known. However,
The addition of the rare earth element increases the Young's modulus of the glass and at the same time increases the density, with the result that the specific stiffness does not improve as expected.

【0005】そこで、ガラスの密度を著しく増加させる
ことなく、ヤング率を向上させる方策として、ガラス中
の酸素を窒素で置き換えたオキシナイトライドガラスを
使用することが検討されている。本願出願人らは、高ヤ
ング率を与えるオキシナイトライドガラスの組成につい
て検討し、その検討結果を既に出願した(特願平11−
96987号)。そして、さらに、オキシナイトライド
ガラスの工業的生産方法の確立を目指し、種々の検討を
行っている。
Therefore, as a measure for improving the Young's modulus without significantly increasing the density of the glass, use of an oxynitride glass in which oxygen in the glass is replaced with nitrogen has been studied. The present applicants studied the composition of oxynitride glass giving a high Young's modulus, and filed the results of the study (Japanese Patent Application No. Hei 11-1999).
96987). Further, various studies are being conducted with the aim of establishing an industrial production method of oxynitride glass.

【0006】例えばオキシナイトライドガラスを磁気デ
ィスク等に適用するには、プレス成形法を採用すること
が工業的に最も効率がよいと考えられる。しかし、オキ
シナイトライドガラスは高温での粘性が高く、プレス後
に成形用型に付着するという問題があった。また、せっ
かく高ヤング率を与える組成のオキシナイトライドガラ
スをプレスしても、離型剤の種類によっては、プレス工
程の間に、ガラス中から窒素が奪われてガラスの組成が
変わり、所望の高ヤング率の成形体が得られないという
問題も生じていた。
For example, to apply oxynitride glass to a magnetic disk or the like, adopting a press molding method is considered to be the most efficient industrially. However, oxynitride glass has a high viscosity at a high temperature and has a problem that it adheres to a molding die after pressing. In addition, even if oxynitride glass having a composition that gives a high Young's modulus is pressed, nitrogen is deprived from the glass during the pressing process depending on the type of the release agent, and the composition of the glass changes. There has also been a problem that a molded article having a high Young's modulus cannot be obtained.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明では、プ
レス成形でオキシナイトライドガラスの成形体を得るに
当たり、成形用型とプレス後のオキシナイトライドガラ
スとの付着を防ぎ、しかも、オキシナイトライドガラス
の組成を所望の組成に保持できるプレス成形方法を確立
して、優れた性能を有するオキシナイトライドガラスの
プレス成形体を提供することを課題として掲げた。
Accordingly, in the present invention, in obtaining a molded article of oxynitride glass by press molding, it is necessary to prevent the molding die from being attached to the oxynitride glass after pressing, and to further reduce the oxynitride glass. An object of the present invention was to establish a press molding method capable of maintaining a glass composition at a desired composition and to provide a press molded article of oxynitride glass having excellent performance.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、成形用型によ
りオキシナイトライドガラスをプレス成形する方法であ
って、成形後のオキシナイトライドガラスと成形用型と
の離型性を高めると共に、プレス後のオキシナイトライ
ドガラス成形体中の窒素量をプレス前のオキシナイトラ
イドガラス中の窒素量の90%(質量比)以上に保持す
るために、オキシナイトライドガラス表面と成形用型表
面との間に炭素および/または窒化硼素を含む離型層を
存在させた状態でプレス成形するところに要旨を有す
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is a method for press-molding oxynitride glass using a molding die, which enhances the releasability between the molded oxynitride glass and the molding die. In order to maintain the amount of nitrogen in the oxynitride glass molded body after pressing at least 90% (mass ratio) of the amount of nitrogen in the oxynitride glass before pressing, the surface of the oxynitride glass and the surface of the molding die were used. The gist lies in performing press molding in a state where a release layer containing carbon and / or boron nitride is present between them.

【0009】この離型層の形成には、平均粒子径0.0
1〜100μmの炭素粉末および/または窒化硼素粉末
を含む離型剤を、成形用型の表面および/またはプレス
前のオキシナイトライドガラスの表面に塗布することに
よって設ける方法、または、成形用型の表面および/ま
たはプレス前のオキシナイトライドガラスの表面に、炭
素および/または窒化硼素を蒸着させることによって、
炭素および/または窒化硼素の蒸着膜として設ける方法
の、いずれも好ましく採用できる。
In order to form this release layer, an average particle diameter of 0.0
A method in which a release agent containing 1 to 100 μm of carbon powder and / or boron nitride powder is provided by applying to a surface of a molding die and / or a surface of oxynitride glass before pressing, or By depositing carbon and / or boron nitride on the surface and / or the surface of the oxynitride glass before pressing,
Any of the methods of providing a deposited film of carbon and / or boron nitride can be preferably employed.

【0010】上記離型剤を用いて離型層を設ける場合
は、離型層の形成量が、被形成物の形成面の単位表面積
あたりの質量として、1×10-5〜5×10-1g/cm
2となるようにすることが好ましく、蒸着膜を離型層と
して用いる場合は、離型層の厚みが、0.001〜10
μmとなるようにすることが好ましい。なお、本発明に
は、本発明のプレス成形方法を用いてプレス成形された
オキシナイトライドガラスのプレス成形体も含まれる。
[0010] In the case of providing a release layer using the release agent, the amount of the formed release layer, as the mass per unit surface area of the forming surface of the forming material, 1 × 10 -5 ~5 × 10 - 1 g / cm
Preferably to be 2, the case of using a deposited film as a release layer, the thickness of the release layer, 0.001 to 10
It is preferable that the thickness be set to μm. The present invention also includes a press-formed body of oxynitride glass press-formed using the press-forming method of the present invention.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明は、オキシナイトライドガ
ラスをプレス成形するに当たり、離型層として炭素およ
び/または窒化硼素を含む層を用いるところに最大の特
徴を有する。この構成により、プレス後のオキシナイト
ライドガラスと成形用型とが付着するのを防ぐことがで
きるようになった。また、プレス中にオキシナイトライ
ドガラスから窒素が奪われて、その組成が変化してしま
うのを防止することができるようになった。以下、本発
明を詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The most important feature of the present invention is that a layer containing carbon and / or boron nitride is used as a release layer when press-molding oxynitride glass. With this configuration, it is possible to prevent the oxynitride glass after pressing from adhering to the molding die. In addition, it has become possible to prevent nitrogen from being deprived from the oxynitride glass during the pressing, thereby changing the composition. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0012】本発明のプレス成形方法における離型層と
しては、炭素および/または窒化硼素を含む層でなけれ
ばならない。この離型層の形態としては、炭素単独層、
窒化硼素単独層、両者の混合層、あるいはこれらの層が
複数積層された層が挙げられる。オキシナイトライドガ
ラスがプレスによって展延し得る温度は、ガラスの組成
にもよるが、少なくとも650℃、通常1000〜18
00℃レベルであり、この温度で離型性を示す物質を本
発明者らが検討したところ、炭素、窒化硼素、炭化珪素
等が見出された。しかし、炭化珪素は、プレス中のオキ
シナイトライドガラスから窒素の一部を奪って窒化珪素
を生成することがわかった。すなわち、プレス後のガラ
ス組成がプレス前のものと異なり、窒素量の減少によっ
て所望の高ヤング率のガラス成形体が得られないのであ
る。オキシナイトライドガラスは、ガラス骨格中に、酸
素原子の代わりに窒素原子を強制的に導入していること
から、元々、窒素の存在状態は決して安定ではない。こ
のため、プレス中にガラス周囲に炭化珪素由来のSiと
いった窒素と結合しやすい元素が存在していると、ガラ
ス中から窒素が抜けてしまうのではないかと考えられ
る。
The release layer in the press molding method of the present invention must be a layer containing carbon and / or boron nitride. As the form of the release layer, a carbon-only layer,
Examples include a single layer of boron nitride, a mixed layer of both, or a layer in which a plurality of these layers are stacked. The temperature at which the oxynitride glass can be spread by pressing depends on the composition of the glass, but is at least 650 ° C, usually 1000 to 18 ° C.
When the present inventors examined a substance having a level of 00 ° C. and exhibiting releasability at this temperature, carbon, boron nitride, silicon carbide and the like were found. However, it has been found that silicon carbide forms a silicon nitride by removing a part of nitrogen from oxynitride glass during pressing. That is, the glass composition after pressing is different from that before pressing, and a desired glass molded body with a high Young's modulus cannot be obtained due to a decrease in the amount of nitrogen. Since oxynitride glass forcibly introduces a nitrogen atom instead of an oxygen atom into the glass skeleton, the existing state of nitrogen is never stable. For this reason, it is considered that if there is an element that easily bonds to nitrogen such as Si derived from silicon carbide around the glass during pressing, nitrogen may escape from the glass.

【0013】一方、炭素あるいは窒化硼素による離型層
では、ガラスの組成を変えることなく(窒素量を減少さ
せることなく)、良好な離型性を示した。そこで、本発
明では、炭素および/または窒化硼素を含む離型層を選
択したのである。窒化硼素は、窒素源を有していること
から、ガラス中から窒素を引き抜くことがないと考えら
れるが、炭素系離型層がガラスの窒素量を変更させない
理由は、明確にはなっていない。しかし、等方性グラフ
ァイト等の炭素系成形用型を、離型層を設けることなく
単独で用いると、ガラス中の窒素量が減少するが、炭素
系離型層を介在させることによって、ガラス中からの窒
素量の減少が抑えられることが確認されている。
On the other hand, the release layer made of carbon or boron nitride exhibited good release properties without changing the glass composition (without reducing the nitrogen content). Therefore, in the present invention, a release layer containing carbon and / or boron nitride was selected. Since boron nitride has a nitrogen source, it is considered that nitrogen is not extracted from the glass, but the reason why the carbon-based release layer does not change the nitrogen amount of the glass is not clear. . However, when a carbon-based molding die such as isotropic graphite is used alone without providing a release layer, the amount of nitrogen in the glass is reduced. It has been confirmed that the decrease in the amount of nitrogen from ash can be suppressed.

【0014】オキシナイトライドガラスの窒素量の変動
挙動の目安は、プレス前のガラスに含まれている窒素の
質量を100%としたときに、プレス後の成形体に含ま
れている窒素が質量比で90%未満になるとガラスのヤ
ング率が劣っていくので、本発明では、90%以上の窒
素保持を要件とした。
[0014] The standard of the fluctuation behavior of the nitrogen content of the oxynitride glass is that when the mass of nitrogen contained in the glass before pressing is 100%, the mass of nitrogen contained in the molded product after pressing is large. When the ratio is less than 90%, the Young's modulus of the glass becomes inferior. Therefore, in the present invention, it is required that nitrogen be retained at 90% or more.

【0015】プレス後の成形体表面には離型層が付着す
ることがあるため、プレス後の成形体に含まれている窒
素の定量は、成形体表面を研磨して、離型層を完全に除
去した後に行うこととし、離型層を窒化硼素で形成した
ときにもその窒素の影響を受けないようにした。
Since a release layer may adhere to the surface of the molded product after pressing, the amount of nitrogen contained in the molded product after pressing is determined by polishing the surface of the molded product and completely removing the release layer. This is done so that the release layer is not affected by the nitrogen when the release layer is formed of boron nitride.

【0016】研磨方法および窒素量の分析は以下のよう
に行った。 プレス成形により得られたオキシナイトライドガラス
の成形体をアセトン中に浸漬し、超音波洗浄を施す。 質量1kgのセラミックス板(支持体)に成形体を接
着し、この成形体が下側になるようにラッピング装置に
セットし、その下側から定盤(平坦度±1μm)を当接
させて、研磨荷重1kg(=セラミックス板の質量)、
定盤回転数60rpmで研磨する。 研磨剤として、粗研磨に粒子径15μmのダイヤモン
ドスラリー、仕上げ研磨に粒子径1μmのダイヤモンド
スラリーを用い、研磨中、潤滑剤と共に30秒間隔で2
秒ずつ定盤表面に吹き付ける。なお、オキシナイトライ
ドガラス表面に付着した離型層(着色している)があら
かた除去された段階で、粗研磨から仕上げ研磨に変え、
大体数分〜十数分で研磨終了とする。 プレス前のガラス中の窒素量、およびプレス後に研磨
によって離型層を除去したガラス中の窒素量を、それぞ
れ、蛍光X線分析法によって定量する。
The polishing method and the analysis of the amount of nitrogen were performed as follows. The molded body of oxynitride glass obtained by press molding is immersed in acetone and subjected to ultrasonic cleaning. A molded body is adhered to a ceramic plate (support) having a mass of 1 kg, and the molded body is set on a lapping apparatus so that the molded body is on a lower side, and a platen (flatness ± 1 μm) is brought into contact with the lower side, Polishing load 1 kg (= mass of ceramic plate)
Polishing is performed at a platen rotation speed of 60 rpm. As a polishing agent, a diamond slurry having a particle diameter of 15 μm is used for rough polishing, and a diamond slurry having a particle diameter of 1 μm is used for finishing polishing.
Spray on the surface of the platen every second. At the stage where the release layer (colored) attached to the surface of the oxynitride glass was removed, the rough polishing was changed to finish polishing.
Polishing is completed in about several minutes to several tens of minutes. The amount of nitrogen in the glass before pressing and the amount of nitrogen in the glass from which the release layer has been removed by polishing after pressing are each quantified by X-ray fluorescence analysis.

【0017】本発明において、炭素および/または窒化
硼素を「含む」層とは、離型性を阻害しない範囲で他の
物質が含まれていても良いことを意味する。また、オキ
シナイトライドガラスをプレス成形する温度は、最低で
も650℃であり、通常1000〜1800℃レベルな
ので、この温度域で炭化もしくは揮散してしまうような
化合物(例えば各種ポリマーや低分子の有機化合物等)
がプレス成形前の離型層に含まれていても、プレス成形
を行う上記温度範囲においては、本発明で言う「炭素お
よび/または窒化硼素を含む層」が生成しているので、
何ら問題はない。しかし、プレス中にガラスの組成を変
化させるような物質(例えば前記炭化珪素等)は、含ま
れていてはならない。
In the present invention, the layer “containing” carbon and / or boron nitride means that other substances may be contained as long as the releasability is not impaired. Further, the temperature at which the oxynitride glass is press-molded is at least 650 ° C., and is usually at a level of 1000 to 1800 ° C., so that compounds which are carbonized or volatilized in this temperature range (for example, various polymers and low molecular organic compounds) Compounds)
Is contained in the release layer before press molding, but in the above-mentioned temperature range in which press molding is performed, the “layer containing carbon and / or boron nitride” referred to in the present invention is generated.
There is no problem at all. However, substances that change the composition of the glass during pressing (for example, the silicon carbide) should not be included.

【0018】プレス成形時に上記離型層を設けるには、
大別して2通りの方法が挙げられる。第1の方法は、炭
素粉末および/または窒化硼素粉末を含む離型剤を、成
形用型の表面および/またはプレス前のオキシナイトラ
イドガラスのゴブ(いわゆるガラスゴブ)の表面に塗布
して塗膜を得る方法である。粉末のみで塗膜を得ること
は難しいので、加熱によって気化する溶媒あるいは分散
媒や、前記プレス温度において炭化するバインダー樹脂
成分が含まれている離型剤を用いることが好ましい。ま
た、離型剤には、乾燥促進剤、界面活性剤等の添加剤が
含まれていても良い。
In order to provide the release layer at the time of press molding,
There are roughly two methods. In the first method, a release agent containing carbon powder and / or boron nitride powder is applied to the surface of a molding die and / or the surface of a gob of oxynitride glass (so-called glass gob) before pressing to form a coating film. Is a way to get Since it is difficult to obtain a coating film using only powder, it is preferable to use a solvent or a dispersion medium that evaporates by heating or a release agent containing a binder resin component that carbonizes at the press temperature. Further, the release agent may contain additives such as a drying accelerator and a surfactant.

【0019】炭素粉末および/または窒化硼素粉末の大
きさは、平均粒子径で0.01〜100μmの範囲とす
ることが好ましい。粉末の平均粒子径が0.01μmよ
り小さい場合、離型性が充分に発揮されないことがあ
る。また、離型層は、プレス後の型開きの際に、その一
部が剥離してプレス成形体表面に付着することで離型性
を発揮すると考えられる。従って、粉末の平均粒子径が
100μmを超えると、プレス成形体表面にこれらの大
粒子径の粉末が付着することとなり、成形体の表面平滑
性や寸法精度・形状精度が劣るものとなる。より好まし
い粉末の平均粒子径は、0.1〜10μmである。
The size of the carbon powder and / or boron nitride powder is preferably in the range of 0.01 to 100 μm in average particle size. When the average particle size of the powder is smaller than 0.01 μm, the releasability may not be sufficiently exhibited. Further, it is considered that when the mold is opened after pressing, a part of the release layer is peeled off and adheres to the surface of the press-formed body to exhibit the releasability. Therefore, when the average particle diameter of the powder exceeds 100 μm, the powder having such a large particle diameter adheres to the surface of the press-formed body, and the surface smoothness, dimensional accuracy and shape accuracy of the formed body are deteriorated. The more preferable average particle diameter of the powder is 0.1 to 10 μm.

【0020】離型剤の塗布方法は特に限定されないが、
プレス成形に適用する塗布方法を考慮すると、ハケ塗り
法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法等
が採用できる。中でも、スプレーコーティング法が効率
的である。離型剤が、必要により溶剤等と共に、封入さ
れたスプレーを、成形用型の表面(ガラス当接面)、あ
るいは、プレス前のオキシナイトライドガラスゴブの表
面にまんべんなく噴射することによって、離型層を形成
することができる。
The method of applying the release agent is not particularly limited.
In consideration of a coating method applied to press molding, a brush coating method, a spin coating method, a spray coating method, or the like can be employed. Among them, the spray coating method is efficient. The mold release agent is sprayed evenly with the solvent etc., if necessary, onto the surface of the molding die (glass contact surface) or the surface of the oxynitride glass gob before pressing, thereby releasing the mold. Layers can be formed.

【0021】このとき、離型層の好ましい形成量は、被
形成物の形成面の単位表面積あたりの重量として、1×
10-5〜5×10-1g/cm2である。1×10-5g/
cm2よりも少ないと、プレス後のガラスと成形用型と
が付着してしまうため好ましくない。また、ガラス中の
窒素量の減少が起こることがある。より好ましい下限
は、0.0001g/cm2である。さらに好ましい下
限は、0.0004g/cm2である。一方、5×10
-1g/cm2を超えて離型層を形成しても、離型性が飽
和するので、経済的に無駄である。また、あまり離型層
の形成量が多いと、プレス成形体表面に付着してしまう
離型層の厚みも厚くなることになり、成形体の表面平滑
性や寸法精度・形状精度に問題が生じる恐れがあるため
好ましくない。なお、離型層形成量は、被形成物(成形
用型もしくはプレス前のガラスゴブ)について、離型層
形成前の質量と離型層形成後の質量をそれぞれ測定し、
後者と前者の差から離型層の質量を求め、被形成物の離
型層が形成されている部分の総面積で割り、離型層形成
量[g/cm2]を算出した。
At this time, a preferable formation amount of the release layer is 1 × as a weight per unit surface area of the surface on which the object is formed.
It is 10 -5 to 5 × 10 -1 g / cm 2 . 1 × 10 -5 g /
If it is less than cm 2 , the glass after pressing and the molding die will be undesirably adhered. Also, the amount of nitrogen in the glass may decrease. A more preferred lower limit is 0.0001 g / cm 2 . A more preferred lower limit is 0.0004 g / cm 2 . On the other hand, 5 × 10
Even if the release layer is formed in excess of -1 g / cm 2 , the releasability is saturated, so that it is economically useless. Also, if the amount of the release layer formed is too large, the thickness of the release layer that adheres to the surface of the press-formed body also increases, which causes problems in the surface smoothness, dimensional accuracy, and shape accuracy of the formed body. It is not preferable because of fear. The amount of the release layer formed is determined by measuring the mass before the formation of the release layer and the mass after the formation of the release layer for the object to be formed (the molding die or the glass gob before pressing).
The mass of the release layer was determined from the difference between the latter and the former, and the result was divided by the total area of the portion of the object on which the release layer was formed to calculate the release layer formation amount [g / cm 2 ].

【0022】離型層を設ける第2の方法は、蒸着を利用
する方法である。すなわち、炭素および/または窒化硼
素の蒸着膜を、成形用型の表面および/またはプレス前
のオキシナイトライドガラスゴブ表面に形成し、離型層
とする方法である。蒸着方法としては、CVD法、スパ
ッタリング法、イオンプレーティング法等公知の方法が
採用できる。このとき、離型層(蒸着膜)の厚み(膜
厚)は、0.001〜10μmとすることが好ましい。
薄すぎると、プレス後のガラスと成形用型とが付着した
り、ガラス中の窒素量が減少することがあるためであ
り、厚すぎると、前記したように離型性が飽和するので
無駄であると共に、成形体の表面平滑性や寸法精度・形
状精度に問題が生じる恐れがあるためである。
A second method for providing a release layer is a method utilizing vapor deposition. That is, this is a method in which a vapor deposited film of carbon and / or boron nitride is formed on the surface of a molding die and / or the surface of an oxynitride glass gob before pressing to form a release layer. Known methods such as a CVD method, a sputtering method, and an ion plating method can be employed as the vapor deposition method. At this time, the thickness (film thickness) of the release layer (evaporated film) is preferably set to 0.001 to 10 μm.
If the thickness is too small, the pressed glass and the molding die may adhere to each other, or the amount of nitrogen in the glass may decrease.If the thickness is too large, the releasability is saturated as described above, so that waste is lost. In addition, there is a possibility that problems may occur in the surface smoothness, dimensional accuracy, and shape accuracy of the molded body.

【0023】上記離型層は、成形用型の表面のみ、プレ
ス前のオキシナイトライドガラス(ガラスゴブ)の表面
のみ、さらにはその両方に形成しても良く、いずれかに
離型剤から形成された離型層を設けていずれかに蒸着層
を設けるケース、あるいは交互に積層する等、適宜選択
可能である。
The release layer may be formed only on the surface of the molding die, only on the surface of the oxynitride glass (glass gob) before pressing, or on both of them. It can be appropriately selected such as a case where a release layer is provided and a vapor deposition layer is provided on any of them, or a layer is alternately laminated.

【0024】オキシナイトライドガラスがプレスによっ
て展延し得る温度は、少なくとも650℃、通常100
0〜1800℃レベルであり、この温度で使用可能な成
形用型の素材としては、等方性グラファイト、不浸透性
カーボン、ガラス状カーボン等が挙げられる。
The temperature at which the oxynitride glass can be spread by pressing is at least 650 ° C., usually 100 ° C.
It is at a level of 0 to 1800 ° C., and as a material of a molding die usable at this temperature, there are exemplified isotropic graphite, impermeable carbon, glassy carbon and the like.

【0025】本発明で用いることのできるオキシナイト
ライドガラスの組成は特に限定されないが、 M1−Al−Si−O−N(M1は、Ca、Mg、Y、
Gd、CeおよびLaのうちの1種または2種以上)で
表されるオキシナイトライドガラス、 M2−Si−O−N(M2は、Caおよび/またはM
g)で表されるオキシナイトライドガラス、 およびのガラスを2種以上混合したオキシナイト
ライドガラスのいずれかが好ましい。
Although the composition of the oxynitride glass that can be used in the present invention is not particularly limited, M 1 -Al-Si-ON (M 1 is Ca, Mg, Y,
An oxynitride glass represented by one or more of Gd, Ce and La); M 2 —Si—ON (M 2 is Ca and / or M
Any of the oxynitride glass represented by g) and the oxynitride glass obtained by mixing two or more of these glasses are preferable.

【0026】において、通常、M1は、Ca、Mg、
Y、Gd、CeおよびLaのうちの1種である組成が知
られているが、2種以上の金属元素が混在していても構
わない。においても、MgとCaの両方が混在してい
ても良い。は、プレス前に2種以上の組成のガラスを
混合したような場合である。
In general, M 1 is Ca, Mg,
A composition that is one of Y, Gd, Ce and La is known, but two or more metal elements may be mixed. Also, both Mg and Ca may be mixed. Is a case where two or more types of glass are mixed before pressing.

【0027】本発明法において好ましく用いられるオキ
シナイトライドガラスは、O+N=100当量%とする
ときの窒素量が5当量%≦N≦25当量%のものであ
る。窒素量が5当量%より少ないと、ヤング率の高い成
形体を得にくく、窒素量が25当量%を超えると、プレ
ス中に窒化珪素等が析出する可能性があり成形体として
は好ましくないからである。高ヤング率で均質なガラス
を得ることのできる特に好ましい金属成分の組成は、本
願出願人によって出願された特願平11−96987号
に示されている。また、上記組成のガラスをプレス成形
するときの好ましい条件も、本願出願人によって別途出
願されている。
The oxynitride glass preferably used in the method of the present invention has an amount of nitrogen of 5 equivalent% ≦ N ≦ 25 equivalent% when O + N = 100 equivalent%. If the amount of nitrogen is less than 5 equivalent%, it is difficult to obtain a molded body having a high Young's modulus, and if the amount of nitrogen exceeds 25 equivalent%, silicon nitride or the like may precipitate during pressing, which is not preferable as a molded body. It is. A particularly preferred composition of the metal component capable of obtaining a homogeneous glass with a high Young's modulus is disclosed in Japanese Patent Application No. 11-96987 filed by the present applicant. Further, preferable conditions for press-molding a glass having the above composition have been separately filed by the present applicant.

【0028】オキシナイトライドガラスは、金属酸化物
(SiO2、Al23、MgO、CaO等)と、窒素源
となる窒化物(Si34、AlN、BN等)を、還元性
雰囲気下で混合し、高温で溶融後急冷する方法によって
作製することができる。また、金属酸化物をN2ガスや
NH3ガス中で溶融する方法、溶融ガラスにN2ガスやN
3ガスをバブリングで吹き込む方法、多孔質ガラスを
NH3ガス中で焼成する方法等も採用可能である。
The oxynitride glass is prepared by reducing a metal oxide (SiO 2 , Al 2 O 3 , MgO, CaO, etc.) and a nitride serving as a nitrogen source (Si 3 N 4 , AlN, BN, etc.) in a reducing atmosphere. It can be manufactured by a method of mixing below, melting at a high temperature and then quenching. In addition, a method of melting a metal oxide in N 2 gas or NH 3 gas, and adding N 2 gas or N
A method of blowing H 3 gas by bubbling, a method of baking porous glass in NH 3 gas, and the like can also be adopted.

【0029】なお、プレス後の成形体は、表面に付着し
た離型層を除去し、寸法精度を高めて表面を平滑にする
ために、研磨工程を経ることが好ましい。
It is preferable that the pressed body is subjected to a polishing step in order to remove the release layer adhering to the surface, increase dimensional accuracy and smooth the surface.

【0030】[0030]

【実施例】以下実施例によって本発明をさらに詳述する
が、下記実施例は本発明を制限するものではなく、本発
明の趣旨を逸脱しない範囲で変更実施することは、全て
本発明に含まれる。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the following examples do not limit the present invention, and all changes and modifications within the scope of the present invention are included in the present invention. It is.

【0031】実験例1 Ca−Al−Si−O−N系オキシナイトライドガラス
を用いてリヒートプレス方式のプレス成形実験を行っ
た。組成は、Ca:20当量%、Al:20当量%、S
i:60当量%、O:80当量%、N:20当量%であ
る。プレス条件は、プレス温度1200℃、プレス荷重
14220(N)、プレス時間10秒で行った。成形用
型は等方性グラファイト製で、直径96mm、厚み1.
2mmのガラスディスクが成形できるものを用いた。
Experimental Example 1 A press molding experiment of a reheat press method was performed using Ca-Al-Si-ON-based oxynitride glass. Composition: Ca: 20 equivalent%, Al: 20 equivalent%, S
i: 60 equivalent%, O: 80 equivalent%, N: 20 equivalent%. The pressing was performed at a pressing temperature of 1200 ° C., a pressing load of 14220 (N), and a pressing time of 10 seconds. The molding die is made of isotropic graphite and has a diameter of 96 mm and a thickness of 1.
One that can form a 2 mm glass disk was used.

【0032】離型剤として、炭素粉末(平均粒子径20
μm)入りスプレー「トヨカエース黒鉛系」、または窒
化硼素粉末(平均粒子径10μm)入りスプレー「トヨ
カエースBN系」(いずれもオリエンタル産業社製)を
用い、成形用型表面に塗布して離型層を形成した。比較
用に、炭化珪素粉末と窒化珪素粉末による離型層を設け
た例についても検討した。炭化珪素粉末(平均粒子径1
0μm)と窒化珪素粉末(平均粒子径10μm)による
離型層は、これらの粉末をそれぞれn−ヘキサンに分散
させた溶液を成形用型表面にスピンコーティング法で塗
布し、自然乾燥させることにより形成した。いずれも離
型層の付着量は、0.001g/cm2であった。下記
基準で離型性およびプレス後の窒素量(窒素減少量)を
評価し、表1にその結果を示した。
As a release agent, carbon powder (average particle size 20
μm) spray or “Toyoka Ace BN spray” (both manufactured by Oriental Sangyo Co., Ltd.) containing boron nitride powder (average particle diameter 10 μm). Formed. For comparison, an example in which a release layer made of silicon carbide powder and silicon nitride powder was provided was also examined. Silicon carbide powder (average particle size 1
0 μm) and a release layer made of silicon nitride powder (average particle diameter: 10 μm) are formed by applying a solution in which these powders are dispersed in n-hexane to the surface of a molding die by a spin coating method, and then naturally drying. did. In each case, the adhesion amount of the release layer was 0.001 g / cm 2 . The releasability and the amount of nitrogen after press (reduced amount of nitrogen) were evaluated according to the following criteria. Table 1 shows the results.

【0033】離型性 プレス後のガラスディスクと成形用型とが型開けの際に
付着せず、きれいに離型したときを○、一部付着する場
合を△、全体的に付着する場合を×とした。
Releasability: The glass disk after pressing and the molding die do not adhere during opening of the mold, and when the mold is cleanly released, ○: when partially adhered, Δ: when adhered entirely, ×: when entirely adhered. And

【0034】プレス後の窒素量 プレス後のオキシナイトライドガラスの成形体をアセト
ン中に浸漬し、超音波洗浄を施した後、質量1kgのセ
ラミックス板(支持体)に成形体を接着し、この成形体
が下側になるようにラッピング装置にセットした。成形
体の下側から定盤(平坦度±1μm)を当接させて、研
磨荷重1kg(=セラミックス板の質量)、定盤回転数
60rpmで研磨した。研磨剤として、粗研磨に粒子径
15μmのダイヤモンドスラリー、仕上げ研磨に粒子径
1μmのダイヤモンドスラリーを用い、研磨中、潤滑剤
と共に30秒間隔で2秒ずつ定盤表面に吹き付けた。オ
キシナイトライドガラス表面に付着した離型層(着色し
ている)があらかた除去された段階で、粗研磨から仕上
げ研磨に変え、大体数分〜十数分で研磨を終了した。プ
レス前のガラス中の窒素量、およびプレス後に研磨によ
って離型層を除去したガラス中の窒素量を、それぞれ、
蛍光X線分析法によって定量した。
Nitrogen content after pressing The pressed oxynitride glass compact was immersed in acetone, subjected to ultrasonic cleaning, and then adhered to a ceramic plate (support) having a mass of 1 kg. It was set in a lapping device so that the molded body was on the lower side. A platen (flatness: ± 1 μm) was brought into contact with the molded body from below, and polished at a polishing load of 1 kg (= mass of the ceramic plate) and a platen rotation speed of 60 rpm. As a polishing agent, a diamond slurry having a particle diameter of 15 μm was used for rough polishing, and a diamond slurry having a particle diameter of 1 μm was used for finish polishing, and was sprayed on the surface of the platen at intervals of 30 seconds together with a lubricant during polishing. At the stage where the release layer (colored) adhering to the oxynitride glass surface was almost removed, the polishing was changed from rough polishing to finish polishing, and the polishing was completed in about several minutes to several tens of minutes. The amount of nitrogen in the glass before pressing, and the amount of nitrogen in the glass from which the release layer was removed by polishing after pressing,
It was quantified by X-ray fluorescence analysis.

【0035】上記分析の結果、プレス成形前のガラスの
窒素量(質量)を100%としたとき、プレス成形後
(研磨後)のガラス中の窒素量が90%(質量)以上残
存しているものを○、80〜90%を△、80%未満の
ものを×とした。
As a result of the above analysis, assuming that the nitrogen content (mass) of the glass before press molding is 100%, 90% (mass) or more of the nitrogen content in the glass after press molding (after polishing) remains. The sample was rated as 、, 80 to 90% as Δ, and less than 80% as ×.

【0036】[0036]

【表1】 [Table 1]

【0037】表1から明らかなように、炭素を含む離型
層を存在させてプレスしたNo.4および窒化硼素を含
む離型層を存在させてプレスしたNo.5については、
良好な離型性を示し、窒素量の減少も認められなかっ
た。しかし、離型層がなかったNo.1は、離型性が発
現せず、窒素量も減少してしまった。炭化珪素を用いた
No.2では、離型性は発現したものの窒素量の減少が
みられ、窒化珪素を用いたNo.3では、窒素量の減少
は認められなかったが、離型性に問題があった。
As is clear from Table 1, No. 1 was pressed in the presence of a release layer containing carbon. No. 4 which was pressed in the presence of a release layer containing boron nitride and boron nitride. For 5,
Good release properties were exhibited, and no decrease in the amount of nitrogen was observed. However, no. In No. 1, no releasability was exhibited, and the amount of nitrogen also decreased. No. 1 using silicon carbide. In No. 2, although the releasability was exhibited, the amount of nitrogen was reduced, and No. 2 using silicon nitride was used. In No. 3, no decrease in the amount of nitrogen was observed, but there was a problem in the releasability.

【0038】実験例2 実験例1と同組成のオキシナイトライドガラスを用い、
粉末の平均粒子径、離型層の形成量、離型層配設部位を
表2(炭素系)および表3(窒化硼素系:BN系)に示
したように変更した以外は、実験例1と同条件でプレス
成形実験を行った。なお、ガラスゴブとあるのはプレス
前のガラスであり、本実施例においては、直径37.5
±2.5mm、厚み8.0±1.0mmの円盤形状のも
のを用いた。離型性およびプレス後の窒素量は前記のよ
うにして評価した。成形性は、厚み1.2mm±0.1
mmのディスクが得られたときを○、得られなかったと
きを×とした。
Experimental Example 2 Using an oxynitride glass having the same composition as in Experimental Example 1,
Experimental Example 1 except that the average particle diameter of the powder, the amount of the release layer formed, and the location of the release layer were changed as shown in Table 2 (carbon-based) and Table 3 (boron nitride-based: BN-based). A press molding experiment was performed under the same conditions. The glass gob is the glass before pressing, and in this embodiment, the diameter is 37.5.
A disk-shaped one having a thickness of ± 2.5 mm and a thickness of 8.0 ± 1.0 mm was used. The releasability and the amount of nitrogen after pressing were evaluated as described above. Formability is thickness 1.2mm ± 0.1
When a disc of mm was obtained, it was evaluated as ○, and when it was not obtained, as ×.

【0039】[0039]

【表2】 [Table 2]

【0040】[0040]

【表3】 [Table 3]

【0041】表2および表3から明らかなように、粉末
の平均粒子径は0.01〜100μmが好ましいこと、
離型層形成量は1×10-5〜5×10-1g/cm2が好
ましいことがわかる。好ましい範囲を満たす本発明例
は、炭素系、BN系のいずれにおいても、離型性、プレ
ス後の窒素量、成形性に優れていた。
As is apparent from Tables 2 and 3, the average particle diameter of the powder is preferably 0.01 to 100 μm.
It can be seen that the release layer formation amount is preferably 1 × 10 −5 to 5 × 10 −1 g / cm 2 . The examples of the present invention satisfying the preferred ranges were excellent in the releasability, the amount of nitrogen after pressing, and the moldability in both carbon-based and BN-based.

【0042】実験例3 実験例1と同組成のガラスゴブの表面に、離型層として
蒸着膜を設け、プレス成形実験を行った。蒸着は、プラ
ズマCVD装置を使用して、圧力2666.4Pa(2
0Torr)、基板温度:400℃、μ波パワー:90
0Wで行った。原料ガス組成は、例えば炭素蒸着膜につ
いてはCH4とH2の混合ガスを用い、その他は公知の手
法を用いて適宜組成を変えて行った。
Experimental Example 3 An evaporation film was provided as a release layer on the surface of a glass gob having the same composition as in Experimental Example 1, and a press molding experiment was performed. The deposition was performed using a plasma CVD apparatus at a pressure of 2666.4 Pa (2
0 Torr), substrate temperature: 400 ° C., μ-wave power: 90
Performed at 0W. For the composition of the source gas, for example, a mixed gas of CH 4 and H 2 was used for a carbon vapor deposition film, and the other components were appropriately changed in composition using a known method.

【0043】プレス成形実験条件は実験例1と同様であ
る。表4に結果を示す。表1の粉末系の場合と同様の結
果が得られている。
The conditions for the press molding experiment are the same as those in the experimental example 1. Table 4 shows the results. The same results as in the case of the powder system in Table 1 were obtained.

【0044】[0044]

【表4】 [Table 4]

【0045】実験例4 蒸着膜による離型層について、その種類、厚み(膜
厚)、離型層配設部位を表5に示したように変更し、そ
れ以外については、実験例1と同条件でプレス成形実験
を行った。評価結果を表5に示した。なお、成形用型と
して、ガラス状カーボンを用いた場合も、同様の結果が
得られた。
EXPERIMENTAL EXAMPLE 4 The type, thickness (film thickness) and release layer disposing portion of the release layer formed of a vapor-deposited film were changed as shown in Table 5, and the other conditions were the same as those of Experimental Example 1. A press molding experiment was performed under the conditions. Table 5 shows the evaluation results. Similar results were obtained when glassy carbon was used as the molding die.

【0046】[0046]

【表5】 [Table 5]

【0047】表5から明らかなように、離型層(蒸着
膜)の厚み(膜厚)は0.001〜10μmが最も適し
ていた。
As apparent from Table 5, the most suitable thickness (film thickness) of the release layer (deposited film) was 0.001 to 10 μm.

【0048】[0048]

【発明の効果】本発明法によって、オキシナイトライド
ガラスをプレス成形する際、炭素および/または窒化硼
素を含む離型層を、ガラスゴブの表面と成形用型の表面
との間に介在させた状態でプレスすることにより、型に
プレス後のガラスが付着するといった不都合が無くなっ
た。また、ガラスの組成を変動させずにプレスでき、し
かも、所望形状・寸法のプレス成形体を得ることができ
るようになった。
According to the method of the present invention, when press-molding oxynitride glass, a release layer containing carbon and / or boron nitride is interposed between the surface of the glass gob and the surface of the molding die. By pressing in this manner, the inconvenience that the pressed glass adheres to the mold was eliminated. In addition, it is possible to press without changing the composition of the glass, and to obtain a press-formed body having a desired shape and dimensions.

【0049】従って、本発明によれば、オキシナイトラ
イドガラスのプレス成形体を工業的規模で効率よく製造
できる。また、本発明法によって得られるオキシナイト
ライドガラスのプレス成形体は、特に、磁気ディスク等
記録媒体用の高比剛性ディスク等に有用である。
Therefore, according to the present invention, a press-formed body of oxynitride glass can be efficiently produced on an industrial scale. Further, the press-formed body of oxynitride glass obtained by the method of the present invention is particularly useful for a high specific rigidity disk for a recording medium such as a magnetic disk.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 國井 一孝 神戸市西区高塚台1丁目5番5号 株式会 社神戸製鋼所神戸総合技術研究所内 (72)発明者 藤原 直也 神戸市西区高塚台1丁目5番5号 株式会 社神戸製鋼所神戸総合技術研究所内 Fターム(参考) 4G015 HA02  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Kazutaka Kunii 1-5-5 Takatsukadai, Nishi-ku, Kobe In the Kobe Research Institute, Kobe Steel Ltd. (72) Inventor Naoya Fujiwara 1, Takatsukadai, Nishi-ku, Kobe City No.5 No.5 F-term in Kobe Steel Research Institute, Kobe Research Institute, Ltd. (reference) 4G015 HA02

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 成形用型によりオキシナイトライドガラ
スをプレス成形する方法であって、成形後のオキシナイ
トライドガラスと成形用型との離型性を高めると共に、
プレス後のオキシナイトライドガラス成形体中の窒素量
をプレス前のオキシナイトライドガラス中の窒素量の9
0%(質量比)以上に保持するために、オキシナイトラ
イドガラス表面と成形用型表面との間に、炭素および/
または窒化硼素を含む離型層を存在させた状態でプレス
成形することを特徴とするオキシナイトライドガラスの
プレス成形方法。
1. A method for press-molding an oxynitride glass using a molding die, wherein the mold release property between the molded oxynitride glass and the molding die is improved.
The amount of nitrogen in the oxynitride glass molded body after pressing was 9 times the amount of nitrogen in the oxynitride glass before pressing.
In order to maintain 0% (mass ratio) or more, carbon and / or carbon between the surface of the oxynitride glass and the surface of the molding die.
Alternatively, a press forming method for oxynitride glass, comprising press forming in a state where a release layer containing boron nitride is present.
【請求項2】 平均粒子径0.01〜100μmの炭素
粉末および/または窒化硼素粉末を含む離型剤を、成形
用型の表面および/またはプレス前のオキシナイトライ
ドガラスの表面に塗布することによって、前記離型層を
設けるものである請求項1に記載のプレス成形方法。
2. A method of applying a release agent containing carbon powder and / or boron nitride powder having an average particle diameter of 0.01 to 100 μm to the surface of a molding die and / or the surface of oxynitride glass before pressing. The press molding method according to claim 1, wherein the release layer is provided.
【請求項3】 離型層の形成量が、被形成物の形成面の
単位表面積あたりの質量として、1×10-5〜5×10
-1g/cm2である請求項2に記載のプレス成形方法。
3. The formation amount of the release layer is 1 × 10 −5 to 5 × 10 5 as a mass per unit surface area of a formation surface of an object.
The press molding method according to claim 2 , wherein the weight is -1 g / cm2.
【請求項4】 成形用型の表面および/またはプレス前
のオキシナイトライドガラスの表面に、炭素および/ま
たは窒化硼素を蒸着させて、炭素および/または窒化硼
素の蒸着膜を形成することによって、請求項1に記載の
離型層を設けるものである請求項1に記載のプレス成形
方法。
4. By depositing carbon and / or boron nitride on the surface of a molding die and / or the surface of oxynitride glass before pressing, to form a deposited film of carbon and / or boron nitride. The press molding method according to claim 1, wherein the release layer according to claim 1 is provided.
【請求項5】 離型層の厚みが、0.001〜10μm
である請求項4に記載のプレス成形方法。
5. The release layer has a thickness of 0.001 to 10 μm.
The press molding method according to claim 4, wherein
【請求項6】 請求項1〜5のいずれかに記載されたプ
レス成形方法を用いてプレス成形されたことを特徴とす
るオキシナイトライドガラスのプレス成形体。
6. A press-formed body of oxynitride glass formed by press-forming using the press-forming method according to claim 1.
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