JP2001180144A - Plate for lithographic printing - Google Patents

Plate for lithographic printing

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JP2001180144A
JP2001180144A JP37286899A JP37286899A JP2001180144A JP 2001180144 A JP2001180144 A JP 2001180144A JP 37286899 A JP37286899 A JP 37286899A JP 37286899 A JP37286899 A JP 37286899A JP 2001180144 A JP2001180144 A JP 2001180144A
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JP
Japan
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polymer
hydrophobic polymer
hydrophilic polymer
light
group
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Application number
JP37286899A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuko Suzuki
祐子 鈴木
Takayuki Sanada
隆幸 真田
Takatsuru Matsumoto
香鶴 松本
Hiroshi Mase
比呂志 間瀬
Sumio Hirose
純夫 広瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
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Publication date
Application filed by Mitsui Chemicals Inc filed Critical Mitsui Chemicals Inc
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Publication of JP2001180144A publication Critical patent/JP2001180144A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a printing plate which is excellent in hydrophilicity and water resistance and free from ablation by the irradiation of light and in which the hydrophilicity of a photosensitive layer is changed to be compatible with ink even without being subjected to development treatment to be excellent in sensitivity, resolution, printability, and printing resistance. SOLUTION: An original plate for lithographic printing contains a hydrophilic polymer, a crosslinking agent, a hydrophobic polymer, and a light absorbent in a substrate. The plate has a photosensitive layer in which a hydrophobic polymer phase is dispersed in a hydrophilic polymer phase. In the printing plate, the hydrophilicity of an irradiation part is made compatible with ink by emitting light to the original plate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は印刷用の版、特に近
赤外領域の光に感光し、明室でも取り扱うことができ、
版に直接レーザーで描画でき、且つ現像や拭き取り操作
が不要で、種々の印刷特性に優れた平版印刷用の版、特
に湿し水を用いる平版印刷用の版に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a printing plate, in particular, it is sensitive to light in the near infrared region and can be handled in a bright room.
The present invention relates to a planographic printing plate which can be directly drawn on a plate with a laser, does not require a developing or wiping operation, and is excellent in various printing characteristics, particularly a planographic printing plate using a dampening solution.

【0002】[0002]

【従来技術】平版印刷、所謂オフセット印刷は紙への印
刷に於いて主流であり、広く用いられている。従来この
オフセット印刷で用いられる刷版は、印刷原稿を一旦紙
等に出力した後、この原稿を写真撮影して版下フィルム
を作製し、この版下フィルムを通して感光性の刷版を露
光、現像することにより作られていた。
2. Description of the Related Art Lithographic printing, so-called offset printing, is the mainstream in printing on paper and is widely used. Conventionally, the printing plate used in this offset printing is to print the document once on paper or the like, then take a photograph of this document to create a composition film, and expose and develop a photosensitive plate through this composition film. It was made by doing.

【0003】しかし、近年情報のデジタル化とレーザー
の高出力化により刷版の作製に於いて上記した版下フィ
ルムを使用せずに、レーザーを走査して直接刷版に描画
して版を作製する方法、所謂CTP(Computer To Plat
e)法が実用に供されている。
However, in recent years, the digitization of information and the increase in the output of lasers have led to the use of lasers instead of the above-mentioned underlaying films in the production of printing plates. To do so-called CTP (Computer To Plat)
e) The method is in practical use.

【0004】現在実用化されているCTP用の版として
は、500nm前後の可視光による光反応を用いたフォ
トポリマー型の刷版があるが、この版は勿論現像を必要
とするだけでなく、解像度が劣り、また、明室での取り
扱いができないという問題点がある。
As a CTP plate currently in practical use, there is a photopolymer type printing plate using a photoreaction by visible light of about 500 nm. This plate, of course, requires not only development but also There are problems that the resolution is inferior and that it cannot be handled in a bright room.

【0005】そして、このような問題点を改良するため
に、特開平7−20629号公報には、近赤外線領域の
光による熱反応を用いた刷版が開示され、該版は既に市
場に供されている。しかしこの版は確かに明室で取り扱
うことができ、且つ解像度も優れるが、依然として現像
処理を必要としている。
In order to improve such a problem, Japanese Patent Laid-Open Publication No. Hei 7-20629 discloses a printing plate using a thermal reaction caused by light in the near-infrared region. Have been. However, although this plate can be handled in a bright room and has excellent resolution, it still requires development processing.

【0006】一方、現像を必要としない版としては、米
国特許4,034,183号公報には、水溶性のフィル
ム形成性有機化合物又は金属表面と有機酸や無機酸等と
の非水溶性反応生成物からなる非感光性親水性層を有す
る金属版で、該版に像に従って露光し、露光部した部分
が疎水性、親油性に変化する版が開示されいる。しかし
この版は感度が低く、高出力の光源を必要とするだけで
なく、水溶性フィルムを用いる場合はそのまま用いてい
るために、印刷直前に未露光部の該フィルムを溶解して
除去しなければならなかった。更に、基板は親水性の基
板を用いなければならず、基板の表面処理等が煩雑であ
った。又、金属とモノマー又はポリマー酸等との非水溶
性反応生成物からなる非感光性親水性層を有する版も開
示されているが、この版も感度が低く、高出力の光源を
必要とするだけでなく、解像度にも劣り、更に、親水性
層の基板との密着性が悪く、耐刷性に劣っていた。
On the other hand, as a plate which does not require development, US Pat. No. 4,034,183 discloses a water-soluble film-forming organic compound or a water-insoluble reaction of a metal surface with an organic acid or an inorganic acid. There is disclosed a metal plate having a non-photosensitive hydrophilic layer composed of a product, wherein the plate is exposed imagewise and the exposed portion changes to hydrophobic or lipophilic. However, this plate has low sensitivity and requires not only a light source with high output, but also a water-soluble film, which is used as it is, so that the unexposed portion of the film must be dissolved and removed immediately before printing. I had to. Furthermore, a hydrophilic substrate must be used as the substrate, and the surface treatment of the substrate is complicated. Further, a plate having a non-photosensitive hydrophilic layer composed of a water-insoluble reaction product of a metal and a monomer or a polymer acid is also disclosed, but this plate also has low sensitivity and requires a high-output light source. In addition, the resolution was inferior, the adhesion of the hydrophilic layer to the substrate was poor, and the printing durability was poor.

【0007】更に、現像処理の不要な版としては、特開
平7−314934号公報に、チタン又はチタン酸化物
等の無機系の光吸収層の上にシリコーン樹脂の撥インク
層を積層した構成の版も開示されている。そして、該版
も市販されているが、この版はシリコーン樹脂層がイン
クをはじき非画線部となり、近赤外光の照射により画線
部が形成されるが、光の照射だけでは照射部のシリコー
ン樹脂層は除去されず、印刷に際しては光を照射した部
分のシリコーン樹脂を除去するために拭き取り操作を必
要とする。もしこのシリコーン樹脂の拭き取りが不十分
な場合は照射部にインクが十分に付着せず、画線部に欠
陥が生じ、うまく印刷できない。
Further, as a plate which does not require development processing, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-314934 discloses a plate in which a silicone resin ink repellent layer is laminated on an inorganic light absorbing layer such as titanium or titanium oxide. A version is also disclosed. The plate is also commercially available, but in this plate, the silicone resin layer repels the ink to form a non-image area, and an image area is formed by irradiation with near-infrared light. The silicone resin layer is not removed, and a printing operation requires a wiping operation to remove the silicone resin in a portion irradiated with light. If the wiping of the silicone resin is insufficient, the ink does not sufficiently adhere to the irradiated portion, causing a defect in the image portion and making it impossible to print well.

【0008】また、例えば、特開平6−199064号
公報には、基体上にニトロセルロースにカーボンブラッ
クを分散した光吸収層とその上に親水層又は撥インク層
を積層してなる版が開示されている。この版は光吸収層
の熱分解により光吸収層とその上の親水層又は撥インク
層が取り除かれ、親インク性の基体表面を露呈させる、
所謂アブレーションによって版の露光が行われる。この
版は明室でも取り扱うことができ、現像や拭き取り等の
処理は不要であるが、光吸収層とその上の親水層又は撥
インク層の除去に多大なエネルギーが必要となり、露光
に長い時間を必要とし、また除去された光吸収層とその
上の親水層又は撥インク層やその分解物の一部が版の露
光部の周辺の未露光部の親水層又は撥インク層の上に堆
積し、インクが付着しない性質の低下を招くという問題
がある。
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-199064 discloses a plate in which a light-absorbing layer in which carbon black is dispersed in nitrocellulose and a hydrophilic layer or an ink-repellent layer are laminated on the substrate. ing. In this plate, the light absorbing layer and the hydrophilic layer or the ink repellent layer thereon are removed by thermal decomposition of the light absorbing layer, thereby exposing the ink-philic substrate surface.
The plate is exposed by so-called ablation. This plate can be handled in a bright room, and no processing such as development or wiping is required.However, a large amount of energy is required to remove the light absorbing layer and the hydrophilic layer or the ink repellent layer thereon, and the exposure takes a long time. In addition, a part of the removed light absorbing layer and the hydrophilic layer or the ink repellent layer thereon and the decomposed product are deposited on the unexposed hydrophilic layer or the ink repellent layer around the exposed portion of the plate. However, there is a problem that the property that ink does not adhere is reduced.

【0009】更に、特開昭60−52392号に、非吸
水性の樹脂膜の表面をスルホン化することにより親水化
して、該スルホン酸化された表層を光の照射により除去
するして親油化する版が開示されている。この場合はア
ブレーションによるが、極表層だけであるので分解物の
発生は極微量であり、この点からは改良されてはいる
が、この版は親水性が不十分で、地汚れし易く、更に、
スルホン化処理が煩雑で且つ危険性を伴い好ましくな
い。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-52392 discloses that the surface of a non-water-absorbing resin membrane is hydrophilized by sulfonation, and the sulfonated surface layer is removed by irradiation with light to make it lipophilic. Version is disclosed. In this case, although it depends on ablation, the generation of decomposed matter is very small because it is only the very surface layer, and although this point has been improved, this plate has insufficient hydrophilicity and is easily soiled. ,
The sulfonation treatment is undesirably complicated and dangerous.

【0010】アブレーションによらない版としては、U
S−3793033に、ヒドロキシエチルセルロースと
フェノール樹脂、及び光ラジカル発生剤からなる感光層
に光を照射による硬化により親油化する技術が開示され
ているが、親水性と光照射後の親油性のバランスが悪
く、奇麗な印刷ができない。
[0010] As a version not based on ablation, U
S-3793033 discloses a technique of lipophilicizing a photosensitive layer composed of hydroxyethylcellulose, a phenolic resin, and a photoradical generator by curing by irradiating light. The balance between hydrophilicity and lipophilicity after light irradiation is disclosed. Is not good, and clean printing cannot be performed.

【0011】更に、特開平7−1850には、親水性樹
脂中に該親水性樹脂中の親水基と反応する親油性物質を
含むマイクロカプセルを含有した感光層からなり、光の
照射によりマイクロカプセルを破壊して親水性樹脂を親
油化する技術が開示されている。しかしこの方法は解像
度を上げるにはマイクロカプセルの粒径を非常に小さく
しなければならず、製造が非常に困難である。
Further, JP-A-7-1850 discloses a photosensitive layer containing a microcapsule containing a lipophilic substance which reacts with a hydrophilic group in the hydrophilic resin in a hydrophilic resin. A technology has been disclosed in which a hydrophilic resin is made lipophilic by destroying the hydrophilic resin. However, this method requires a very small particle size of the microcapsules in order to increase the resolution, and is very difficult to manufacture.

【0012】また、樹脂等を含有する光吸収層を有する
基体に別の基体を密着させて光を照射し、その際に発生
する熱により光吸収層等を他方の基体に転写する方法も
提案されてはいるが、この方法はゴミ等が付着したりし
て基体同士を均一に密着させるのが困難であったり、転
写に多大なエネルギーを必要としたり、且つ、転写した
光吸収層の強度が弱く印刷時に剥がれてしまうという欠
点がある。
A method is also proposed in which another substrate is brought into close contact with a substrate having a light-absorbing layer containing a resin or the like, and light is irradiated, and the light-absorbing layer or the like is transferred to the other substrate by heat generated at that time. However, in this method, it is difficult to uniformly adhere the substrates to each other due to the attachment of dust and the like, a large amount of energy is required for transfer, and the strength of the transferred light absorbing layer is increased. However, there is a drawback that the film is weak and peels off during printing.

【0013】更に、特開平10−62970には、PS
版に通常用いられている親水性の陽極酸化アルミの代わ
りに親水性層として親水性ポリマーを主成分とする相と
疎水性ポリマーを主成分とする相からなる相分離構造を
有するポリマーの親水性膨潤層からなる版が開示されて
いる。この版は前記親水性膨潤層に光架橋剤や光硬化性
の感光性化合物を含有させ、露光部を選択的に架橋又は
硬化することにより該親水性膨潤層の初期弾性率を上昇
させて親インク性になる。しかしこの版も露光した後に
非露光部の架橋剤や感光性化合物を洗い出す処理を必要
としするだけでなく、親水性膨潤層に架橋剤や感光性化
合物を含侵したり、塗布しなければならず、原版の製造
が煩雑であった。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-62970 discloses that PS
The hydrophilicity of a polymer having a phase-separated structure consisting of a phase composed mainly of a hydrophilic polymer and a phase composed mainly of a hydrophobic polymer as a hydrophilic layer instead of the hydrophilic anodized aluminum commonly used for plates A plate consisting of a swelling layer is disclosed. This plate contains a photocrosslinking agent or a photocurable photosensitive compound in the hydrophilic swelling layer, and selectively crosslinks or cures the exposed portion to increase the initial elastic modulus of the hydrophilic swelling layer. It becomes ink-like. However, this plate also requires not only a treatment for washing out the cross-linking agent and the photosensitive compound in the non-exposed area after exposure, but also impregnating or applying the cross-linking agent and the photosensitive compound to the hydrophilic swelling layer. And the production of the original plate was complicated.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】このように従来のCT
P用の印刷版は上記した種々の問題点を抱えており、こ
のような問題点を改良したCTP用の版の開発が強く望
まれていた。すなわち本発明では、明室で取り扱うこと
ができ、現像や拭き取り操作が不要で、且つ感度、解像
度や種々の印刷特性に優れたCTP用の版及び光の露光
により描画した印刷版を提供することである。
As described above, the conventional CT
The printing plate for P has the above-mentioned various problems, and the development of a plate for CTP which has improved such problems has been strongly desired. That is, the present invention provides a CTP plate that can be handled in a bright room, does not require development and wiping operations, and has excellent sensitivity, resolution, and various printing characteristics, and a printing plate drawn by light exposure. It is.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明者ら上記した課題
を解決するために鋭意検討を行い、本発明を完成した。
即ち、本発明は、 (1)基板上に親水性ポリマー、架橋剤、疎水性ポリマ
ー、及び光吸収剤を含有してなり、疎水性ポリマー相が
親水性ポリマーからなる相に分散してなる感光層を有す
る平版印刷用の原版、(2)親水性ポリマーが側鎖にア
ミド基、カルボキシル基、水酸基、スルホン酸基から選
ばれた官能基を1種又は2種以上有する前記(1)記載
の平版印刷用の原版、(3)疎水性ポリマーが芳香族不
飽和モノマー、不飽和ニトリルモノマーから選ばれた不
飽和モノマーを主成分とし、乳化重合によって得られた
ポリマーである前記(1)又は(2)記載の平版印刷用
の原版、(4)疎水性ポリマーが親水性ポリマーの前記
官能基と反応する官能基を有するポリマーである前記
(3)記載の平版印刷用の原版、(5)疎水性ポリマー
に於いて、親水性ポリマーと反応する官能基がグリシジ
ル基である前記(4)記載の平版印刷用の原版、(6)
疎水性ポリマーのガラス転移温度が60℃以上である前
記(5)記載の平版印刷用の原版、(7)感光層が親水
性ポリマー92〜50質量%、架橋剤3〜35質量%、
疎水性ポリマーン5〜35質量%を含み、更に前記親水
性ポリマー、架橋剤、疎水性ポリマーの合計100質量
部に対して光吸収剤2〜20質量部を含有してなる前記
(1)〜(6)のいずれかに記載の平版印刷用の原版、
(8)光吸収剤が波長750〜1100nmの領域に光
吸収能を有するものである前記(1)〜(7)のいずれ
かに記載の平版印刷用の原版、(9)請求項1〜8のい
ずれかに記載の平版印刷用の原版に光を照射して、該感
光層の親水性を親インク性に変化させた平版印刷用の
版、(10)照射する光が750〜1100nmの波長
である前記(9)記載の平版印刷用の版、(11)親水
性ポリマー92〜50質量%、架橋剤3〜35質量%、
疎水性ポリマーン5〜35質量%、及び前記親水性ポリ
マー、架橋剤、疎水性ポリマーの合計100質量部に対
して光吸収剤2〜20質量部を含有する感光性組成物、
(12)親水性ポリマーが側鎖にアミド基、カルボキシ
ル基、水酸基、スルホン酸基から選ばれた官能基を1種
又は2種以上有する前記(11)記載の感光性組成物 (13)疎水性ポリマーが芳香族不飽和モノマー、不飽
和ニトリルモノマーから選ばれた不飽和モノマーを主成
分とし、乳化重合により得られたポリマーである前記
(11)又は(12)記載の感光性組成物、(14)疎
水性ポリマーが親水性ポリマーの前記官能基と反応する
官能基を有するポリマーである前記(13)記載の感光
性組成物。(15)疎水性ポリマーに於いて、親水性ポ
リマーの官能基と反応する官能基がグリシジル基である
前記(14)記載の感光性組成物、(16)光吸収剤が
波長750〜1100nmの領域に光吸収能を有するも
のである前記(11)〜(15)のいずれかに記載の感
光性組成物、である。
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and completed the present invention.
That is, the present invention provides: (1) a photosensitive composition comprising a substrate containing a hydrophilic polymer, a cross-linking agent, a hydrophobic polymer, and a light absorbing agent, wherein the hydrophobic polymer phase is dispersed in a hydrophilic polymer phase. (2) The lithographic printing plate precursor having a layer, wherein (2) the hydrophilic polymer has one or more functional groups selected from an amide group, a carboxyl group, a hydroxyl group, and a sulfonic acid group in a side chain. (3) The above-mentioned (1) or (1), wherein the hydrophobic polymer is a polymer obtained mainly by an unsaturated monomer selected from an aromatic unsaturated monomer and an unsaturated nitrile monomer and obtained by emulsion polymerization. (2) The lithographic printing plate precursor according to (2), (4) the lithographic printing plate precursor according to (3), wherein the hydrophobic polymer is a polymer having a functional group that reacts with the functional group of the hydrophilic polymer. Polymer Wherein the functional group that reacts with the hydrophilic polymer is a glycidyl group;
(5) the lithographic printing plate precursor according to the above (5), wherein the glass transition temperature of the hydrophobic polymer is 60 ° C. or higher; (7) the photosensitive layer is 92 to 50% by mass of the hydrophilic polymer, 3 to 35% by mass of the crosslinking agent;
The above (1) to (1) to (1) to (5), which contain 5 to 35% by mass of a hydrophobic polymer, and further contain 2 to 20 parts by mass of a light absorber with respect to 100 parts by mass of the total of the hydrophilic polymer, the crosslinking agent, and the hydrophobic polymer. 6) An original plate for lithographic printing according to any one of
(8) The lithographic printing plate precursor according to any one of (1) to (7), wherein the light absorbing agent has a light absorbing ability in a wavelength range of 750 to 1100 nm, (9). A lithographic printing plate in which the lithographic printing original plate according to any of the above is irradiated with light to change the hydrophilicity of the photosensitive layer to ink-philicity, (10) the irradiation light has a wavelength of 750 to 1100 nm. (11) a hydrophilic polymer in an amount of 92 to 50% by mass, a crosslinking agent in an amount of 3 to 35% by mass,
A photosensitive composition containing 5 to 35% by mass of a hydrophobic polymer, and 2 to 20 parts by mass of a light absorber with respect to a total of 100 parts by mass of the hydrophilic polymer, the crosslinking agent, and the hydrophobic polymer;
(12) The photosensitive composition according to (11), wherein the hydrophilic polymer has one or more functional groups selected from an amide group, a carboxyl group, a hydroxyl group, and a sulfonic acid group in a side chain. (14) The photosensitive composition according to the above (11) or (12), wherein the polymer is a polymer mainly containing an unsaturated monomer selected from an aromatic unsaturated monomer and an unsaturated nitrile monomer, and obtained by emulsion polymerization. The photosensitive composition according to (13), wherein the hydrophobic polymer is a polymer having a functional group that reacts with the functional group of the hydrophilic polymer. (15) The photosensitive composition according to the above (14), wherein the functional group which reacts with the functional group of the hydrophilic polymer in the hydrophobic polymer is a glycidyl group, and (16) the light absorber has a wavelength of 750 to 1100 nm. The photosensitive composition according to any one of the above (11) to (15), which has a light absorbing ability.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】本発明の平版印刷用の原版は、基
板上に親水性ポリマー、架橋剤、疎水性ポリマー、及び
光吸収剤を含有してなり、前記疎水性ポリマー相が親水
性ポリマーからなる相に分散してなる親水性の感光層を
有するものであり、該感光層が光の照射により、親水性
が失われ親インク性に変化するものであることを特徴と
する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The lithographic printing plate precursor of the present invention comprises a substrate containing a hydrophilic polymer, a cross-linking agent, a hydrophobic polymer, and a light absorbing agent, wherein the hydrophobic polymer phase is a hydrophilic polymer. A hydrophilic photosensitive layer dispersed in a phase consisting of the following, wherein the photosensitive layer loses hydrophilicity and changes to ink-philic by irradiation with light.

【0017】本発明の平版印刷用の原版に用いられる基
板の具体例としてはアルミ板、鋼板、ステンレス板、銅
板等の金属板やポリエステル、ナイロン、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ABS樹脂等
のプラスチックフィルムや紙、アルミ箔ラミネート紙、
金属蒸着紙、プラスチックフィルムラミネート紙等が挙
げられる。これらの基板の厚さは特に制限はないが通常
100〜400μm程度である。また、これらの基板は
密着性の改良等のために酸化処理、リン酸亜鉛処理、サ
ンドブラスト処理、コロナ放電処理等の表面処理を施し
てもよい。
Specific examples of the substrate used for the lithographic printing plate precursor of the present invention include metal plates such as aluminum plate, steel plate, stainless plate and copper plate, and plastic films such as polyester, nylon, polyethylene, polypropylene, polycarbonate and ABS resin. And paper, aluminum foil laminated paper,
Metal-deposited paper, plastic film laminated paper, etc. The thickness of these substrates is not particularly limited, but is usually about 100 to 400 μm. These substrates may be subjected to a surface treatment such as an oxidation treatment, a zinc phosphate treatment, a sand blast treatment, a corona discharge treatment or the like to improve the adhesion.

【0018】次に本発明の感光層に関して詳しく説明す
る。本発明の平版印刷用の版は湿し水を用いるオフセッ
ト印刷用の版であり、従って本発明の感光層は印刷に際
して、未露光部は水が付着することによりインクをはじ
く。従って、感光層は親水性が要求される。水が付着し
てインクをはじく性質は基本的には該層の表面だけに要
求されるが、該層を親水性のポリマーで構成した場合は
親水性ポリマーが水を吸収することによってインクをは
じくようになる。一方、版には耐刷性も必要であり、吸
水するほど親水性ではあるが、水に溶けないこと(耐水
性)も求められる。更に、本発明の感光層は画像を形成
するために照射した光を吸収し、熱を発生する。この発
生した熱により、本発明の版は露光後に現像や拭き取り
等の操作をしなくても、又、光を照射した部分の感光層
がアブレーションにより完全に取り除かれるようなこと
なしに、感光層の親水性が失われ、親インク性に変化す
る。上記したような種々の特性を具現化するには本発明
の感光層は、親水性ポリマー、架橋剤、疎水性ポリマ
ー、及び光吸収剤を含有してなる感光性組成物を基板に
塗布し、架橋してなり、且つ、感光層に於いては疎水性
ポリマー相が架橋した親水性ポリマーからなる相に分散
してなることが好ましい。親水性ポリマーは架橋剤によ
り架橋することにより水に不溶(耐水性)となる。又、
疎水性ポリマーが感光層中に分散していることにより、
感光層の耐水性が向上するだけでなく、露光した際の熱
により疎水性ポリマーが溶融し、感光層表面に該疎水性
ポリマーがマイグレートしたり、親水性ポリマーの官能
基と疎水性ポリマーの官能基が反応したりして、露光部
の感光層の親水性を消失させ、親インク性に変える働き
をする。
Next, the photosensitive layer of the present invention will be described in detail. The lithographic printing plate of the present invention is a plate for offset printing using dampening water. Therefore, when printing the photosensitive layer of the present invention, the unexposed portions repel the ink due to the adhesion of water. Therefore, the photosensitive layer is required to be hydrophilic. The property that water adheres and repels ink is basically required only on the surface of the layer, but when the layer is composed of a hydrophilic polymer, the hydrophilic polymer absorbs water and repels ink. Become like On the other hand, the printing plate also needs to have printing durability and is hydrophilic enough to absorb water, but is also required to be insoluble in water (water resistance). Further, the photosensitive layer of the present invention absorbs light irradiated to form an image and generates heat. Due to the generated heat, the plate of the present invention can be used without performing operations such as development and wiping after exposure, and without completely removing the photosensitive layer of the light-irradiated portion by ablation. Loses hydrophilicity and changes to ink-philic. To realize the various characteristics as described above, the photosensitive layer of the present invention, a hydrophilic polymer, a cross-linking agent, a hydrophobic polymer, and a photosensitive composition containing a light absorber, applied to a substrate, Preferably, it is crosslinked, and in the photosensitive layer, a hydrophobic polymer phase is dispersed in a crosslinked hydrophilic polymer phase. The hydrophilic polymer becomes insoluble (water resistant) in water by being crosslinked by a crosslinking agent. or,
By dispersing the hydrophobic polymer in the photosensitive layer,
Not only the water resistance of the photosensitive layer is improved, but also the hydrophobic polymer is melted by the heat at the time of exposure, and the hydrophobic polymer is migrated to the surface of the photosensitive layer, or the functional group of the hydrophilic polymer and the hydrophobic polymer are combined. When the functional group reacts, the hydrophilicity of the photosensitive layer in the exposed area is lost, and the photosensitive layer is converted to ink-philic property.

【0019】本発明の感光層に用いられる親水性ポリマ
ーは、親水基及び架橋剤と反応する官能基を有し、且つ
光の照射により発生する熱により該親水基の部分が分解
して親水性を失ったり、該親水基が疎水性ポリマー中の
官能基と反応して親水性を失うものが好ましい。親水基
の部分が分解したり、反応すると親水性が失われ、親イ
ンク化する。親水性ポリマーの具体例としては、ポリ酢
酸ビニルのけん化物類、セルロース類、ゼラチン等や側
鎖にアミド基、カルボキシル基、水酸基、スルホン酸基
から選ばれた官能基を1種又は2種以上有するポリマー
が挙げられ、中でもこれらの中でも架橋のし易さ、親水
性と耐水性のバランスの取り易さ、光の照射による親イ
ンク化の容易さ等から前記した側鎖にアミド基、カルボ
キシル基、水酸基、スルホン酸基を1種又は2種以上有
するポリマーが好ましく、より具体的には、前記したア
ミド基、カルボキシル基、水酸基、スルホン酸基を有す
る不飽和モノマー類を重合してなるポリマー類やこのポ
リマーの変性ポリマー類が挙げられる。これらのポリマ
ーに於いてはカルボキシル基やスルホン酸基はアルカリ
金属の水酸化物等やアミン等の塩基性化合物で全部又は
部分的に中和されていても良い。
The hydrophilic polymer used in the photosensitive layer according to the present invention has a hydrophilic group and a functional group which reacts with a crosslinking agent, and the hydrophilic group is decomposed by heat generated by irradiation with light. And those in which the hydrophilic group loses hydrophilicity by reacting with the functional group in the hydrophobic polymer. When the hydrophilic group is decomposed or reacted, the hydrophilicity is lost and the ink becomes lipophilic. Specific examples of the hydrophilic polymer include one or two or more functional groups selected from amide groups, carboxyl groups, hydroxyl groups, and sulfonic acid groups on the side chains of saponified polyvinyl acetate, celluloses, gelatin, and the like. Among these, amide groups, carboxyl groups, and the like in the above-mentioned side chains because of ease of cross-linking, ease of balancing hydrophilicity and water resistance, ease of ink affinity by light irradiation, and the like. And polymers having one or more kinds of hydroxyl groups and sulfonic acid groups, more specifically, polymers obtained by polymerizing the above-mentioned unsaturated monomers having an amide group, a carboxyl group, a hydroxyl group, and a sulfonic acid group. And modified polymers of this polymer. In these polymers, the carboxyl group or sulfonic acid group may be completely or partially neutralized with a basic compound such as an alkali metal hydroxide or an amine.

【0020】前記した官能基を側鎖に有する不飽和モノ
マーの具体例としては、アミド基を有する不飽和モノマ
ーとしては、無置換又は置換(メタ)アクリルアミド、
無置換又は置換イタコン酸アミド、無置換又は置換フマ
ル酸アミド、無置換又は置換マレイン酸アミド等が挙げ
られる。又、無置換又は置換マレイン酸イミドも本発明
のアミド基を有する不飽和モノマーに含まれる。無置換
又は置換(メタ)アクリルアミドのより具体例として
は、(メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アク
リルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミ
ド、N−エチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエ
チル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノ
プロピル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル
(メタ)アクリルアミド、ダイアセトン(メタ)アクリ
ルアミド、メチロール(メタ)アクリルアミド、メトキ
シメチル(メタ)アクリルアミド、ブトキシメチル(メ
タ)アクリルアミド、スルホン酸プロピル(メタ)アク
リルアミド、(メタ)アクリロイルモルホリン等のアク
リルアミド系モノマー、N―ビニルアセトアミド、N−
ビニルホルムアミド、N―ビニルピロリドン等が挙げら
れる。又、イタコン酸アミド、フマル酸アミド、マレイ
ン酸アミド等の二塩基酸アミドの場合に於いては、カル
ボキシル基の片方又は両方がアミド化していても良い。
片方がアミド化している場合はもう一方のカルボキシル
基はエステル化されていても良い。又、アミド基はアル
キル基等で置換されていても良い。
Specific examples of the unsaturated monomer having a functional group in the side chain include unsaturated monomers having an amide group include unsubstituted or substituted (meth) acrylamide,
Examples include unsubstituted or substituted itaconic amides, unsubstituted or substituted fumaric amides, unsubstituted or substituted maleic amides, and the like. Unsubstituted or substituted maleic imides are also included in the unsaturated monomer having an amide group of the present invention. More specific examples of unsubstituted or substituted (meth) acrylamide include (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N-ethyl (meth) acrylamide, N, N- Diethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, methylol (meth) acrylamide, methoxymethyl (meth) acrylamide, butoxymethyl (meth) ) Acrylamide monomers such as acrylamide, propyl sulfonate (meth) acrylamide, (meth) acryloylmorpholine, N-vinylacetamide, N-
Vinylformamide, N-vinylpyrrolidone, and the like. Further, in the case of dibasic amides such as itaconic amide, fumaric amide and maleic amide, one or both of the carboxyl groups may be amidated.
When one is amidated, the other carboxyl group may be esterified. Further, the amide group may be substituted with an alkyl group or the like.

【0021】水酸基を有する不飽和モノマーとしては、
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプ
ロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メ
タ)アクリレート、メチロール(メタ)アクリルアミド
や、該メチロール(メタ)アクリルアミドとメチルアル
コールやブチルアルコールとの縮合物であるメトキシメ
チル(メタ)アクリルアミド、ブトキシメチル(メタ)
アクリルアミド等が、カルボキシル基を有する不飽和モ
ノマーとしては、(メタ)アクリル酸等の一塩基不飽和
酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸及びその無水物
等の二塩基不飽和酸やこれら二塩基不飽和酸のモノエス
テル、モノアミド等が、また、スルホン酸基を有する不
飽和モノマーとしては、スルホン酸プロピル(メタ)ア
クリルアミド等が挙げられる。これらの不飽和モノマー
中のカルボキシル基やスルホン酸基は水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等の無機塩基やアミン類で中和され
ていて良い。前記した不飽和モノマーは1種又は2種以
上を用いても良い。
Examples of the unsaturated monomer having a hydroxyl group include:
Hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, methylol (meth) acrylamide, and methoxymethyl (meth), which is a condensate of methylol (meth) acrylamide with methyl alcohol or butyl alcohol ) Acrylamide, butoxymethyl (meth)
Examples of unsaturated monomers having a carboxyl group such as acrylamide include monobasic unsaturated acids such as (meth) acrylic acid, dibasic unsaturated acids such as itaconic acid, fumaric acid, maleic acid and anhydrides thereof, and dibasic unsaturated acids such as these. Monoesters and monoamides of unsaturated acids, and unsaturated monomers having a sulfonic acid group include propyl (meth) acrylamide sulfonate. The carboxyl group or sulfonic group in these unsaturated monomers may be neutralized with an inorganic base such as sodium hydroxide or potassium hydroxide or amines. One or more of the above unsaturated monomers may be used.

【0022】更に、重合に際してはこれらの不飽和モノ
マーと共重合可能なモノマーを併用しても良い。共重合
可能なモノマーとしては、例えばメチル(メタ)アクリ
レート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)
アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレー
ト、グリシジル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノ
エチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル
(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アク
リレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボロニ
ル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリ
レート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、スチレ
ン、α- メチルスチレン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル、酢酸ビニル等が挙げられる。尚、前記の記
述に於いて、(メタ)アクリルアミドや(メタ)アクリ
ル酸等に於ける(メタ)アクリル、(メタ)アクリロイ
ル、更に(メタ)アクリレート等はアクリルとメタクリ
ル、アクリロイルとメタクリロイル、アクリレートとメ
タクリレートの両者を意味する。
In the polymerization, a monomer copolymerizable with these unsaturated monomers may be used in combination. Examples of copolymerizable monomers include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, and butyl (meth) acrylate.
Acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, Adamantyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, styrene, α-methylstyrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl acetate and the like can be mentioned. In the above description, (meth) acrylamide and (meth) acrylic acid in (meth) acrylic acid and the like, (meth) acrylic acid, (meth) acryloyl, and further (meth) acrylate and the like are acrylic and methacrylic, acryloyl and methacryloyl, and acrylate. It means both methacrylate.

【0023】本発明の親水性ポリマーを架橋するのに用
いられる架橋剤としては、前記親水性ポリマーと架橋反
応して親水性ポリマーを水に不溶性にすることにより感
光層の耐水性を向上させるものであればよく、例えば、
親水性ポリマー中の架橋性官能基であるカルボキシル
基、スルホン酸基、水酸基、場合によってはアミド基と
反応する公知の多価アルコール化合物類、多価カルボン
酸化合物やその無水物類、多価グリシジル化合物類、多
価アミン、多価イソシアネート化合物、エポキシ樹脂、
オキサゾリン樹脂、アミノ樹脂等が挙げられる。本発明
に於いては前記した架橋剤の中でも、硬化速度と感光性
組成物の安定性や感光層の親水性と耐水性のバランス等
から公知の種々のエポキシ樹脂、公知のオキサゾリン樹
脂、公知のアミノ樹脂が好ましい。アミノ樹脂として
は、公知のメラミン樹脂、尿素樹脂、ベンゾグアナミン
樹脂やグリコールウリル樹脂等やこれら樹脂の変性樹
脂、例えばカルボキシ変性メラミン樹脂等が挙げられ
る。また、架橋反応を促進するために、前記したエポキ
シ樹脂を用いる際には3級アミン類を、アミノ樹脂を用
いる場合は、パラトルエンスルホン酸、ドデシルベンゼ
ンスルホン酸、塩化アンモニウム等の酸性化合物を併用
しても良い。
The crosslinking agent used to crosslink the hydrophilic polymer of the present invention is one that improves the water resistance of the photosensitive layer by making the hydrophilic polymer insoluble in water by a crosslinking reaction with the hydrophilic polymer. If it is, for example,
Known polyhydric alcohol compounds, polycarboxylic acid compounds and anhydrides thereof, which react with a carboxyl group, a sulfonic acid group, a hydroxyl group and, in some cases, an amide group, which are crosslinkable functional groups in the hydrophilic polymer, polyhydric glycidyl Compounds, polyamines, polyisocyanate compounds, epoxy resins,
Oxazoline resins, amino resins and the like. In the present invention, among the above crosslinking agents, various epoxy resins known from the balance between the curing speed and the stability of the photosensitive composition and the balance between hydrophilicity and water resistance of the photosensitive layer, known oxazoline resins, known Amino resins are preferred. Examples of the amino resin include known melamine resins, urea resins, benzoguanamine resins and glycoluril resins, and modified resins of these resins, such as carboxy-modified melamine resins. In order to accelerate the crosslinking reaction, tertiary amines are used when the above-mentioned epoxy resin is used, and acidic compounds such as paratoluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, and ammonium chloride are used together when the amino resin is used. You may.

【0024】本発明に於いて用いられる疎水性ポリマー
は感光層中に於いては前記親水性ポリマーからなる相に
分散してなるポリマーが好ましく、前記親水性ポリマー
と相溶性を有しないポリマーが好ましく、この点から具
体的には芳香族不飽和モノマー、不飽和二トリルから選
ばれたモノマーを主成分とするポリマーが好ましい。
In the photosensitive layer, the hydrophobic polymer used in the present invention is preferably a polymer dispersed in a phase composed of the hydrophilic polymer, and a polymer not compatible with the hydrophilic polymer is preferred. From this point, specifically, a polymer mainly containing a monomer selected from an aromatic unsaturated monomer and unsaturated nitrile is preferable.

【0025】又、感光層は光を照射した際に照射部分の
親水性が失われ、親インク性に変化することが求められ
るが、この親インク化のし易すさの点からは、該疎水性
ポリマーは親水性ポリマーの前記官能基と反応する官能
基を有する方がより好ましく、該官能基としてはグリシ
ジル基が好ましく、グリシジル基を有する不飽和モノマ
ーを芳香族不飽和モノマーや不飽和二トリルと共重合す
れば良い。
Further, when the photosensitive layer is irradiated with light, it is required that the irradiated portion loses the hydrophilicity of the irradiated portion and changes to an ink-affinity property. The hydrophilic polymer preferably has a functional group that reacts with the functional group of the hydrophilic polymer, and the functional group is preferably a glycidyl group, and the unsaturated monomer having a glycidyl group is replaced with an aromatic unsaturated monomer or unsaturated nitrile. May be copolymerized.

【0026】疎水性ポリマーの重合の際に主成分として
用いられる芳香族不飽和モノマーとしては、例えば、ス
チレン、α―メチルスチレン、クロルスチレン、ブロム
スチレン、ビニルトルエン、ビニルナフタレン、ジビニ
ルベンゼン等が、不飽和二トリルとしては、アクリロニ
トリル、メタアクリロニトリル等が、グリシジル基を有
する不飽和モノマーとしては、グリシジル(メタ)アク
リレート、メチルグリシジル(メタ)アクリレート、パ
ラビニルフェニルグリシジルエーテル、パライソプロペ
ニルフェニルグリシジルエーテル等が挙げられる。
Examples of the aromatic unsaturated monomer used as a main component in the polymerization of the hydrophobic polymer include styrene, α-methylstyrene, chlorostyrene, bromostyrene, vinyltoluene, vinylnaphthalene, divinylbenzene and the like. Examples of the unsaturated nitrile include acrylonitrile and methacrylonitrile, and examples of the unsaturated monomer having a glycidyl group include glycidyl (meth) acrylate, methyl glycidyl (meth) acrylate, paravinylphenyl glycidyl ether, and paraisopropenylphenyl glycidyl ether. No.

【0027】疎水性ポリマーを合成する際には、前記芳
香族不飽和モノマー、不飽和二トリルやグリシジル基を
有する不飽和モノマーと共重合可能な不飽和モノマーを
本発明の効果を損なわない範囲で共重合しても良い。共
重合可能な不飽和モノマーとしては、前記親水性ポリマ
ーに於いて用いられる不飽和モノマーが挙げられる。
In synthesizing the hydrophobic polymer, the unsaturated monomer which can be copolymerized with the above-mentioned aromatic unsaturated monomer, unsaturated nitrile or unsaturated monomer having a glycidyl group is used as long as the effects of the present invention are not impaired. It may be copolymerized. Examples of the copolymerizable unsaturated monomer include unsaturated monomers used in the hydrophilic polymer.

【0028】本発明の感光層に於いては、疎水性ポリマ
ーは親水性ポリマーからなる層中に分散してなるが、そ
の粒径は感光層の厚さと刷版の種々の印刷特性から0.
05〜1μm、好ましくは0.1〜0.5μm程度であ
る。このような粒径に疎水性ポリマーを感光層中に安定
且つ容易に制御できる点からは、該疎水性ポリマーは前
記した芳香族不飽和モノマーを主成分としたモノマー類
を乳化重合して得られるポリマーで、且つ、感光層の架
橋のための加熱時の分散安定性から、該疎水性ポリマー
のガラス転移温度は60℃以上が好ましい。上記した疎
水性ポリマーの乳化重合法には特に限定はなく、例えば
通常の界面活性剤を用いる方法、所謂ソープフリー重合
法、ポリビニルアルコールやアクリルアミド等を用いる
保護コロイド重合法等がある。特に、親水性ポリマー相
に対する安定性との関係からはポリビニルアルコールや
アクリルアミド等を用いいてエマルジョン粒子の表面を
該ポリマーで覆い安定化できる保護コロイド重合法が好
ましい。
In the photosensitive layer of the present invention, the hydrophobic polymer is dispersed in a layer composed of a hydrophilic polymer.
It is about 0.05 to 1 μm, preferably about 0.1 to 0.5 μm. In view of the fact that a hydrophobic polymer having such a particle size can be stably and easily controlled in the photosensitive layer, the hydrophobic polymer is obtained by emulsion polymerization of the above-mentioned monomer containing an aromatic unsaturated monomer as a main component. The glass transition temperature of the hydrophobic polymer is preferably 60 ° C. or higher from the viewpoint of the dispersion stability of the polymer at the time of heating for crosslinking of the photosensitive layer. The emulsion polymerization method of the above-mentioned hydrophobic polymer is not particularly limited, and examples thereof include a method using a normal surfactant, a so-called soap-free polymerization method, and a protective colloid polymerization method using polyvinyl alcohol, acrylamide, or the like. In particular, from the relation with the stability to the hydrophilic polymer phase, a protective colloid polymerization method that can stabilize the emulsion particles by covering the surface of the emulsion particles with the polymer using polyvinyl alcohol or acrylamide is preferable.

【0029】本発明の感光層に用いられる光吸収剤とし
ては、光を吸収して熱を生じるものであればよく、吸収
する光の波長に関しては特に制限はなく、露光に際して
は光吸収剤が吸収する波長域の光を適宜用いればよい。
光吸収剤の具体例としては、シアニン系色素、ポリメチ
ン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系
色素、アントラシアニン系色素、ポルフィリン系色素、
アゾ系色素、ベンゾキノン系色素、ナフトキノン系色
素、ジチオール金属錯体類、ジアミンの金属錯体類、ニ
グロシン、カーボンブラック等が挙げられる。これらの
光吸収剤に於いては、明室での取り扱い性、露光機に用
いる光源の出力や使い易さの点から750〜1100n
mの領域の光を吸収する光吸収剤が好ましい。光吸収剤
の吸収波長域に関しては置換基やπ電子の共役系の長さ
等により変えることができる。これらの光吸収剤は感光
性組成物や感光層に溶解していても、また分散していて
も良い。
The light absorbing agent used in the photosensitive layer of the present invention may be any as long as it absorbs light and generates heat, and there is no particular limitation on the wavelength of the light to be absorbed. Light in the wavelength range to be absorbed may be used as appropriate.
Specific examples of the light absorber include cyanine dyes, polymethine dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, anthocyanin dyes, porphyrin dyes,
Examples include azo dyes, benzoquinone dyes, naphthoquinone dyes, dithiol metal complexes, metal complexes of diamines, nigrosine, and carbon black. These light absorbers are 750 to 1100 n in terms of handleability in a bright room, output of a light source used in an exposure machine, and ease of use.
Light absorbers that absorb light in the region of m are preferred. The absorption wavelength range of the light absorber can be changed depending on the substituent, the length of the conjugated system of π electrons, and the like. These light absorbers may be dissolved or dispersed in the photosensitive composition or the photosensitive layer.

【0030】本発明の感光層は親水性ポリマー、架橋
剤、疎水性ポリマー及び光吸収剤を含有してなることが
好ましく、その割合は感光層の親水性と耐水性のバラン
ス、露光時の感度、解像度及び親インク化のし易さ、及
び種々の印刷特性(露光部の着インク性、非露光部の地
汚れ性、耐刷性)の点から、固形分で親水性ポリマー9
2〜50質量%、架橋剤3〜35質量%、疎水性ポリマ
ー5〜35質量%、及び親水性ポリマー、架橋剤、疎水
性ポリマーの合計100質量部に対して光吸収剤2〜2
0質量部が好ましい。架橋剤が3質量%以上であれば版
の耐水性が低下せず、耐刷性が十分であるが、5質量%
以上が更に好ましい。一方、架橋剤量が35質量%以下
の場合は版の親水性が低下せず、地汚れを生じないので
好ましい。又、疎水性ポリマーは5質量部以上であれば
版に光照射した場合の親インク化が十分であり、インク
の着肉性も充分である。一方、該疎水性ポリマーが35
質量部以下であれば版の親水性が低下しないので好まし
い。更に、光吸収剤の量が2質量部以上であれば版の感
度が低下せず好ましく、4質量部以上が更に好ましい。
光吸収剤量が20質量部以下であれば、アブレーション
が激しく起こることもなく、分解物が飛散することもな
く、経済性等の点からも好ましい。
The photosensitive layer of the present invention preferably contains a hydrophilic polymer, a cross-linking agent, a hydrophobic polymer and a light absorbing agent, and the proportion thereof is a balance between hydrophilicity and water resistance of the photosensitive layer and sensitivity at the time of exposure. From the viewpoint of resolution, easiness of making ink-friendly, and various printing characteristics (ink-adhesion property of exposed portion, stain resistance of non-exposed portion, printing durability), hydrophilic polymer 9 in solid content
2 to 50% by mass, 3 to 35% by mass of a crosslinking agent, 5 to 35% by mass of a hydrophobic polymer, and 2 to 2 parts of a light absorber based on 100 parts by mass of the total of the hydrophilic polymer, the crosslinking agent and the hydrophobic polymer.
0 parts by mass is preferred. When the cross-linking agent is 3% by mass or more, the water resistance of the plate does not decrease, and the printing durability is sufficient.
The above is more preferred. On the other hand, when the amount of the cross-linking agent is 35% by mass or less, the hydrophilicity of the plate is not reduced, and the background is not stained. If the hydrophobic polymer is at least 5 parts by mass, the ink will be sufficiently ink-friendly when the plate is irradiated with light, and the ink-filling property will be sufficient. On the other hand, when the hydrophobic polymer is 35
It is preferable that the amount is not more than part by mass because the hydrophilicity of the plate does not decrease. Further, when the amount of the light absorber is 2 parts by mass or more, the sensitivity of the plate is not reduced, and preferably 4 parts by mass or more.
When the amount of the light absorber is 20 parts by mass or less, ablation does not occur violently, decomposition products do not scatter, and it is preferable from the viewpoint of economy and the like.

【0031】本発明の感光層は、親水性ポリマー、架橋
剤、疎水性ポリマー及び光吸収剤を含有する感光性組成
物からなる液を基板に塗布し、乾燥、硬化すればよい。
塗布する方法としては塗布する感光性組成物の溶液の粘
度や塗布速度等によって異なるが、通常例えば、ロール
コーター、ブレードコーター、グラビアコーター、カー
テンフローコーター、ダイコーターやスプレー法等を用
いれば良い。この際、塗布溶液の消泡のためや、塗布膜
の平滑化のために塗布溶液に消泡剤、レベリング剤、ハ
ジキ防止剤、カップリング剤等の各種添加剤を用いても
良い。又、感光層の種々の特性を改良するために該感光
性組成物にフィラーを添加して用いることもできる。用
いられるフィラーは有機系であっても、無機系であって
も良い。
The photosensitive layer of the present invention may be prepared by applying a liquid comprising a photosensitive composition containing a hydrophilic polymer, a crosslinking agent, a hydrophobic polymer and a light absorbing agent to a substrate, followed by drying and curing.
The method of application varies depending on the viscosity of the solution of the photosensitive composition to be applied, the application speed, and the like. Usually, for example, a roll coater, a blade coater, a gravure coater, a curtain flow coater, a die coater, a spray method, or the like may be used. At this time, various additives such as an antifoaming agent, a leveling agent, an anti-cissing agent, and a coupling agent may be used in the coating solution for defoaming the coating solution and for smoothing the coating film. Further, a filler can be added to the photosensitive composition to improve various characteristics of the photosensitive layer. The filler used may be organic or inorganic.

【0032】感光性組成物からなる塗布液を塗布した
後、加熱して乾燥すると共に及び親水性ポリマー架橋、
硬化する。加熱温度は通常50〜200℃程度である。
感光層の膜厚は特に制限はないが、通常0.5〜10μ
m程度が好ましい。
After applying the coating composition comprising the photosensitive composition, the composition is heated and dried, and the hydrophilic polymer is crosslinked.
To cure. The heating temperature is usually about 50 to 200 ° C.
The thickness of the photosensitive layer is not particularly limited, but is usually 0.5 to 10 μm.
m is preferable.

【0033】本発明の印刷原版に於いては、感光層を成
膜した後、該感光層を保護するために感光層の上にフィ
ルムを積層しても良い。
In the printing plate precursor of the present invention, after forming the photosensitive layer, a film may be laminated on the photosensitive layer to protect the photosensitive layer.

【0034】本発明の印刷版は光吸収剤の吸収波長域の
光、例えば750〜1100nmの領域の光に露光する
と、光吸収剤が該光を吸収して発熱する。この発熱によ
り感光層を構成する親水性ポリマーの親水性官能基が部
分的に分解したり、親水性ポリマー相に分散している疎
水性ポリマー相が感光層表面にマイグレートしたり、又
は親水性ポリマー中のアミド基、カルボン酸基、スルホ
ン酸基等の親水性官能基が疎水性ポリマー中のグリシジ
ル基等と反応したりして該感光層の光露光部は親水性が
失われ親インク化する。この露光により露光部の感光層
は質量減少が生じたり、ガスの発生により発泡したりす
ることがある。そして露光部の感光層は発泡により未露
光部よりも隆起することもある。感光層の発泡により未
露光部よりも隆起している場合でも、印刷を開始すると
印圧により該隆起は減少したり、無くなることもある。
When the printing plate of the present invention is exposed to light in the absorption wavelength range of the light absorbing agent, for example, light in the range of 750 to 1100 nm, the light absorbing agent absorbs the light and generates heat. Due to this heat generation, the hydrophilic functional groups of the hydrophilic polymer constituting the photosensitive layer are partially decomposed, the hydrophobic polymer phase dispersed in the hydrophilic polymer phase migrates to the photosensitive layer surface, or The hydrophilic functional groups such as amide groups, carboxylic acid groups, and sulfonic acid groups in the polymer react with glycidyl groups in the hydrophobic polymer and the like, and the light-exposed portion of the photosensitive layer loses hydrophilicity and becomes ink-friendly. I do. Due to this exposure, the photosensitive layer in the exposed area may lose its mass or may foam due to the generation of gas. In addition, the photosensitive layer in the exposed portion may be raised from the unexposed portion due to foaming. Even when the photosensitive layer is raised from the unexposed area due to foaming, the printing may start to reduce or eliminate the protrusion due to the printing pressure.

【0035】本発明に於いては光の露光により感光層は
親インク化するが、親水性ポリマーの親水性官能基が脱
離したり、また、この脱離により架橋が一層進行するこ
とにより親水性が低下したり、また、該親水性官能基が
疎水性ポリマー中の官能基と反応し親水性をなくした
り、また、、疎水性ポリマーが感光層表面にマイグレー
トしたりして、親インク化する推定される。勿論熱によ
って光吸収剤や架橋剤も分解しても構わない。但し、露
光の際の照射光量を大きくし過ぎると感光層の殆どが分
解、燃焼等によって除去、融除されてしまうこともある
が、本発明においてはこのようなことは避けねばならな
い。
In the present invention, the photosensitive layer becomes ink-philic by exposure to light, but the hydrophilic functional groups of the hydrophilic polymer are eliminated, and the elimination promotes the crosslinking to further promote the hydrophilicity. Or the hydrophilic functional group reacts with the functional group in the hydrophobic polymer to lose hydrophilicity, or the hydrophobic polymer migrates to the surface of the photosensitive layer to form an ink-friendly ink. To be estimated. Of course, the light absorbing agent and the crosslinking agent may be decomposed by heat. However, if the irradiation light amount at the time of exposure is too large, most of the photosensitive layer may be removed or ablated by decomposition, combustion, or the like, but such a problem must be avoided in the present invention.

【0036】このように本発明の印刷用原版は光を照射
した部分の感光層の親水性が親インク性に特性が変化
し、現像や拭き取り操作をしなくても光の照射部にはイ
ンクが付着し、印刷が可能となる。
As described above, in the printing original plate of the present invention, the hydrophilicity of the photosensitive layer in the light-irradiated portion changes its characteristics to ink-philicity, and the ink-irradiated portion can be exposed without developing or wiping. Adheres and printing becomes possible.

【0037】本発明の印刷原版の露光に用いられる光の
波長は特に限定はなく、光吸収剤の吸収波長域に合致す
る光を用いればよい。露光に際しては露光速度の点から
収束光を高速で走査するのが好ましく、使用し易く、且
つ高出力の光源が適している。この点から露光する光と
してはレーザー光、特に750〜1100nmの波長域
の発振波長を有するレーザーの光が好ましく、例えば8
30nmの高出力半導体レーザーや1064nmのYA
Gレーザーが用いられ、これらのレーザーを搭載した露
光機は所謂サーマル用プレートセッター(露光機)とし
て既に市場に供されている。
The wavelength of light used for exposing the printing original plate of the present invention is not particularly limited, and light that matches the absorption wavelength range of the light absorbing agent may be used. At the time of exposure, it is preferable to scan convergent light at high speed from the viewpoint of exposure speed, and a light source that is easy to use and has high output is suitable. The light to be exposed from this point is preferably a laser beam, particularly a laser beam having an oscillation wavelength in the wavelength range of 750 to 1100 nm, for example, 8
30nm high power semiconductor laser or 1064nm YA
G lasers are used, and exposure machines equipped with these lasers are already on the market as so-called thermal platesetters (exposure machines).

【0038】[0038]

【実施例】以下、本発明の実施例を示す。 [実施例1〜6、比較例1〜2] (親水性ポリマーの合成)1000ccのフラスコに水 400g
を入れ、窒素をバブリングして溶存酸素を除去した後、
80℃に昇温する。窒素ガスをフラスコに流しながら、ア
クリルアミド78g、アクリル酸30g、ヒドロキシエチル
アクリレート12g 、水77gからなるモノマー溶液とV−
50(和光純薬(株)製の水溶性アゾ系開始剤)0.5 g
を水50gに溶解した開始剤の水溶液を、内温を75℃に維
持し、且つフラスコ内のpHをトリエチルアミンで常に
8〜9に維持しながら、別々に3時間に渡り連続滴下し
た。滴下終了後80℃で2時間重合を続けた後、更に90℃
で1時間重合した、最後に水150g加えて親水性ポリマ
ーの水溶液を合成した。このポリマーの水溶液は粘度が
38000mPa・s 、固形分は15重量%であった。 (疎水性ポリマーの合成)1000ccのフラスコに水350cc
、及びペレックスSSL (花王製の界面活性剤)0.5gを
入れ、窒素を流しながら72℃に昇温し、過硫酸カリ2.5g
を加え、10分後にアクリルアミド1.5g、ヒドロキシエチ
ルアクリレート0.5g、スチレン0.3g、グリシジルアクリ
レート0.2gを加え、72℃で20分間重合した。その後、予
めスチレン325g、グリシジルアクリレート75g 、シクロ
ヘキシルアクリレート80g 、アクリルアミド20gからな
るモノマー溶液を、水175g及びペレックスSSL 2gから
なる水溶液に分散した液を4 時間にわたり72℃で連続滴
下しながら乳化重合した。モノマー分散液の滴下終了後
75℃で3 時間更に重合を行い、疎水性ポリマーのエマル
ジョン液を得た。得られたポリマーエマルジョンの固形
分は50%、粒子径は0.25μmであった。又、ポリマー
のガラス転移温度は67℃であった。 (感光性組成物)次に上記親水性ポリマーと架橋剤とし
てサイメル350(三井サイテック(株)製のメチル化
メラミン樹脂)、及び上記疎水性ポリマーを固形分で表
1[表1]に示した重量部と、更に光吸収剤として、IR
-125(日本感光性色素(株)製のシアニン色素)5 重量
部を混合して、感光性組成物を作った。
Embodiments of the present invention will be described below. [Examples 1 to 6, Comparative Examples 1 and 2] (Synthesis of hydrophilic polymer) 400 g of water in a 1000 cc flask
After removing dissolved oxygen by bubbling nitrogen,
Heat to 80 ° C. While flowing nitrogen gas into the flask, a monomer solution consisting of 78 g of acrylamide, 30 g of acrylic acid, 12 g of hydroxyethyl acrylate and 77 g of water and V-
50 (water-soluble azo initiator manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.5 g
Was dissolved in 50 g of water, and the aqueous solution of the initiator was continuously dropped over 3 hours while maintaining the internal temperature at 75 ° C. and constantly maintaining the pH in the flask at 8 to 9 with triethylamine. After completion of dropping, polymerization was continued at 80 ° C for 2 hours, and then 90 ° C
, And finally 150 g of water was added to synthesize an aqueous solution of a hydrophilic polymer. An aqueous solution of this polymer has a viscosity
38000 mPa · s, the solid content was 15% by weight. (Synthesis of hydrophobic polymer) 350cc water in 1000cc flask
, And Perex SSL (surfactant made by Kao) 0.5g, heat up to 72 ℃ while flowing nitrogen, 2.5g potassium persulfate
After 10 minutes, 1.5 g of acrylamide, 0.5 g of hydroxyethyl acrylate, 0.3 g of styrene and 0.2 g of glycidyl acrylate were added, and polymerization was carried out at 72 ° C. for 20 minutes. Thereafter, a monomer solution consisting of 325 g of styrene, 75 g of glycidyl acrylate, 80 g of cyclohexyl acrylate, and 20 g of acrylamide was previously emulsion-polymerized while continuously dropping a solution of 175 g of water and 2 g of Perex SSL at 72 ° C. over 4 hours. After dropping of monomer dispersion
Polymerization was further performed at 75 ° C. for 3 hours to obtain an emulsion of a hydrophobic polymer. The solid content of the obtained polymer emulsion was 50%, and the particle size was 0.25 μm. The glass transition temperature of the polymer was 67 ° C. (Photosensitive composition) Next, the above hydrophilic polymer and Cymel 350 (a methylated melamine resin manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd.) as a crosslinking agent, and the above hydrophobic polymer are shown in Table 1 [Table 1] in solid content. Parts by weight and IR as a light absorber
A photosensitive composition was prepared by mixing 5 parts by weight of -125 (a cyanine dye manufactured by Nippon Senseki Dye Co., Ltd.).

【0039】[0039]

【表1】 [Table 1]

【0040】(印刷版の作成)0.2 μmのポリエステル
フィルムに上記感光性組成物をドクターブレードを用い
て塗布した後、120 ℃で1時間乾燥し、2μmの膜厚の
感光層を成膜して印刷原版を作成した。
(Preparation of printing plate) The above photosensitive composition was applied to a 0.2 μm polyester film using a doctor blade, and then dried at 120 ° C. for 1 hour to form a 2 μm thick photosensitive layer. A printing original plate was created.

【0041】(評価)印刷特性を評価するために、この
版に830nmの半導体レザー光を集光しながら光を走
査して情報の記録を行った。レーザー光を照射した部分
は青色から灰色に変色した。感度はいづれの版も略 270
mJ/c m 2 であった。この版の断面を顕微鏡で観察を行
ったところ、いずれの実施例及び比較例の版でも露光部
の感光層は発泡し、隆起していた。
(Evaluation) In order to evaluate the printing characteristics, information was recorded by scanning a laser beam while condensing 830 nm semiconductor laser light on this plate. The portion irradiated with the laser light turned from blue to gray. Sensitivity is approximately 270 for all versions
mJ / cm 2 . When the cross section of this plate was observed with a microscope, the photosensitive layer of the exposed portion was foamed and raised in all of the plates of Examples and Comparative Examples.

【0042】この露光した版を湿し水を用いるオフセッ
ト印刷機にセットして印刷を行った。実施例1〜6の印
刷版は光の未照射部にはインクが全く付かず、一方、照
射部にはインクが十分に付着し、綺麗な印刷ができた
(以後該特性を印刷性と称す)。また、解像度、耐刷性
にも優れていた。一方、比較例1及び3の版は光露光部
のインクの着肉性が悪く、比較例2の版は未露光部にも
インキが付着(地汚れ)し、うまく印刷できなかった。
比較例4の版は耐水性が悪く、印刷の開始と同時に感光
層が剥離した。尚、いずれの版も通常の明室下で取り扱
っても全く問題は生じなかった。
The exposed plate was set on an offset printing machine using dampening water and printing was performed. In the printing plates of Examples 1 to 6, no ink was attached to the non-irradiated portions, while the ink was sufficiently adhered to the irradiated portions, and a clean print was obtained (hereinafter, this property is referred to as printability). ). Also, the resolution and printing durability were excellent. On the other hand, the printing plates of Comparative Examples 1 and 3 were poor in the inking property of the ink in the light-exposed area, and the printing plates of Comparative Example 2 were not well printed because the ink was adhered to the unexposed area (background smear).
The plate of Comparative Example 4 had poor water resistance, and the photosensitive layer was peeled off at the same time as the start of printing. It should be noted that there was no problem at all when the plates were handled in a normal light room.

【0043】[実施例7〜12 、比較例3〜5]実施例
1の親水性ポリマーの合成に於いて、表2[表2]に示
した不飽和モノマーを、又、疎水性ポリマーの合成に於
いては表3[表3]に示した不飽和モノマーを用いる以
外は実施例1と同じ方法で親水性ポリマー及び疎水性ポ
リマーを合成し、表4に示した種類の親水性ポリマーと
疎水性ポリマーを用いる以外は、実施例1感光性組成物
と同じ配合処方で感光性組成物を作った。尚、合成した
疎水性ポリマーのガラス転移温度は、(イ)が84℃、
(ロ)が63℃、(ハ)が74℃、(ニ)が52℃、
(ホ)が82℃であった。
[Examples 7 to 12 and Comparative Examples 3 to 5] In the synthesis of the hydrophilic polymer of Example 1, the unsaturated monomers shown in Table 2 [Table 2] were used, and the synthesis of the hydrophobic polymer was carried out. In Example 3, a hydrophilic polymer and a hydrophobic polymer were synthesized in the same manner as in Example 1 except that the unsaturated monomers shown in Table 3 [Table 3] were used. A photosensitive composition was prepared according to the same formulation as in the photosensitive composition of Example 1 except that the photosensitive polymer was used. The glass transition temperature of the synthesized hydrophobic polymer was (a) 84 ° C.
(B) 63 ° C, (c) 74 ° C, (d) 52 ° C,
(E) was 82 ° C.

【0044】次に接着性向上のために予めプライマーと
して2μmの厚さのブチラール樹脂を塗布した 0.2μm
の厚さのアルミ板に表4[表4]の感光性組成物を塗布
し、160 ℃で15分乾燥し、3μmの厚さの感光層を有
する印刷原版を作成した。この版を用いて実施例1と同
じ方法で露光し、印刷評価を行った。印刷の評価結果
は、実施例7から12 のいずれの版も印刷性及び耐刷性
に優れていた。一方、比較例3〜5のいずれの版も未露
光部にインキが付着(地汚れ)し、綺麗な印刷はできな
かった。また、いずれの版も通常の明室下で取り扱って
も全く問題は生じなかった。
Next, a 2 μm-thick butyral resin was applied as a primer in advance to improve the adhesiveness.
The photosensitive composition shown in Table 4 was applied to an aluminum plate having a thickness of 3 mm and dried at 160 ° C. for 15 minutes to prepare a printing plate having a photosensitive layer having a thickness of 3 μm. Using this plate, exposure was performed in the same manner as in Example 1, and printing evaluation was performed. The printing evaluation results showed that all of the plates of Examples 7 to 12 were excellent in printability and printing durability. On the other hand, in all of the plates of Comparative Examples 3 to 5, ink adhered to the unexposed portions (ground stain), and clear printing was not possible. In addition, there was no problem in handling any of the plates in a normal light room.

【0045】[0045]

【表2】 [Table 2]

【0046】[0046]

【表3】 [Table 3]

【0047】[0047]

【表4】 [Table 4]

【0048】[実施例13〜15]実施例1の感光性組
成物に於いて架橋剤としてサイメル701 (三井サイテッ
ク(株)製品)を用い、又、光吸収剤として表5に示し
た種類の光吸収剤と量を用いて、先ず親水性ポリマー、
架橋剤、及び光吸収剤を混合した後、ボールミルで5時
間かけて光吸収剤を親水性ポリマーと架橋剤からなる液
に分散した。次にこの中に疎水性ポリマーのエマルジョ
ンを加えて感光性組成物を作った。次に、この感光性組
成物を用いて実施例7と同じ方法で印刷原版を作成し、
露光、印刷の評価を行った。感度は順に、240 、170 、
200mJ /cm2 であった。又、印刷の評価結果はいずれの
版も印刷性及び耐刷性に優れていた。
Examples 13 to 15 In the photosensitive composition of Example 1, Cymel 701 (manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd.) was used as a crosslinking agent, and a light absorbing agent of the type shown in Table 5 was used. Using a light absorber and an amount, first a hydrophilic polymer,
After mixing the crosslinking agent and the light absorbing agent, the light absorbing agent was dispersed in a liquid composed of the hydrophilic polymer and the crosslinking agent over 5 hours by a ball mill. Next, a photosensitive polymer composition was prepared by adding an emulsion of a hydrophobic polymer. Next, a printing original plate was prepared using the photosensitive composition in the same manner as in Example 7,
Exposure and printing were evaluated. The sensitivity is 240, 170,
It was 200 mJ / cm2. Further, the printing evaluation results showed that all the plates were excellent in printability and printing durability.

【0049】[0049]

【表5】 [Table 5]

【0050】[0050]

【発明の効果】湿し水を用いる平版印刷用の原版に於い
て、親水性ポリマー、架橋剤、疎水性ポリマー、及び光
吸収剤を含有してなり、疎水性ポリマー相が親水性ポリ
マーからなる相に分散してなる感光層を用いることによ
り、光の露光により該感光層の親水性が親インク性に変
化し、現像や拭き取り等の工程が不要で、且つ、親水性
と耐水性に優れ、地汚れせず、良好な感度、解像度と耐
刷性を有する等優れた特性を有する印刷版を提供する。
According to the present invention, a lithographic printing plate precursor using a fountain solution contains a hydrophilic polymer, a cross-linking agent, a hydrophobic polymer, and a light absorber, and the hydrophobic polymer phase is composed of the hydrophilic polymer. By using a photosensitive layer dispersed in a phase, the hydrophilicity of the photosensitive layer changes to ink-philic by exposure to light, so that steps such as development and wiping are not required, and the hydrophilicity and water resistance are excellent. The present invention provides a printing plate having excellent characteristics such as no background staining, good sensitivity, resolution and printing durability.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 間瀬 比呂志 千葉県袖ヶ浦市長浦字拓二号580番32 三 井化学株 式会社内 (72)発明者 広瀬 純夫 千葉県袖ヶ浦市長浦字拓二号580番32 三 井化学株 式会社内 Fターム(参考) 2H096 AA07 AA08 BA16 BA20 EA04 2H114 AA04 AA23 AA24 BA01 BA10 DA03 DA34 DA43 DA44 DA48 DA50 DA53 DA64 EA01 EA02 EA03 FA08 FA10  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Hiroshi Mase 580-32, Takuji Nagaura, Sodegaura-shi, Chiba 580-32 Inside Mitsui Chemicals, Inc. (72) Sumio Hirose 580 Takuji Nagaura, Sodegaura-shi, Chiba 580 No. 32 Mitsui Chemicals F-term (reference) 2H096 AA07 AA08 BA16 BA20 EA04 2H114 AA04 AA23 AA24 BA01 BA10 DA03 DA34 DA43 DA44 DA48 DA50 DA53 DA64 EA01 EA02 EA03 FA08 FA10

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に親水性ポリマー、架橋剤、疎水
性ポリマー、及び光吸収剤を含有してなり、疎水性ポリ
マー相が親水性ポリマーからなる相に分散してなる感光
層を有する平版印刷用の原版。
1. A lithographic plate having a photosensitive layer comprising a hydrophilic polymer, a crosslinking agent, a hydrophobic polymer, and a light absorber on a substrate, wherein a hydrophobic polymer phase is dispersed in a hydrophilic polymer phase. Original version for printing.
【請求項2】 親水性ポリマーが側鎖にアミド基、カル
ボキシル基、水酸基、スルホン酸基から選ばれた官能基
を1種又は2種以上有する請求項1記載の平版印刷用の
原版。
2. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the hydrophilic polymer has one or more functional groups selected from an amide group, a carboxyl group, a hydroxyl group and a sulfonic acid group in a side chain.
【請求項3】 疎水性ポリマーが芳香族不飽和モノマ
ー、不飽和ニトリルモノマーから選ばれた不飽和モノマ
ーを主成分とし、乳化重合によって得られたポリマーで
ある請求項1又は2記載の平版印刷用の原版。
3. The lithographic printing method according to claim 1, wherein the hydrophobic polymer is a polymer containing an unsaturated monomer selected from an aromatic unsaturated monomer and an unsaturated nitrile monomer as a main component and obtained by emulsion polymerization. Original version of.
【請求項4】 疎水性ポリマーが親水性ポリマー中の前
記した官能基と反応する官能基を有するポリマーである
請求項3記載の平版印刷用の原版。
4. The lithographic printing plate precursor according to claim 3, wherein the hydrophobic polymer is a polymer having a functional group that reacts with the functional group in the hydrophilic polymer.
【請求項5】 疎水性ポリマーに於いて、親水性ポリマ
ーの官能基と反応する官能基がグリシジル基である請求
項4記載の平版印刷用の原版。
5. The lithographic printing plate precursor according to claim 4, wherein in the hydrophobic polymer, the functional group that reacts with the functional group of the hydrophilic polymer is a glycidyl group.
【請求項6】 疎水性ポリマーのガラス転移温度が60℃
以上である請求項5記載の平版印刷用の原版。
6. The glass transition temperature of the hydrophobic polymer is 60 ° C.
The original plate for lithographic printing according to claim 5, which is as described above.
【請求項7】 感光層が親水性ポリマー92〜50質量
%、架橋剤3〜35質量%、疎水性ポリマーン5〜35
質量%を含み、更に前記親水性ポリマー、架橋剤、疎水
性ポリマーの合計100質量部に対して光吸収剤2〜2
0質量部を含有してなる請求項1〜6のいずれかに記載
の平版印刷用の原版。
7. The photosensitive layer contains 92 to 50% by weight of a hydrophilic polymer, 3 to 35% by weight of a crosslinking agent, and 5 to 35% of a hydrophobic polymer.
% Of the light absorbing agent based on 100 parts by mass of the total of the hydrophilic polymer, the crosslinking agent and the hydrophobic polymer.
The lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 6, comprising 0 parts by mass.
【請求項8】 光吸収剤が波長750〜1100nmの
領域に光吸収能を有するものである請求項1〜7のいず
れかに記載の平版印刷用の原版。
8. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the light absorbing agent has a light absorbing ability in a wavelength range of 750 to 1100 nm.
【請求項9】 請求項1〜8のいずれかに記載の平版印
刷用の原版に光を照射して、該感光層の親水性を親イン
ク性に変化させた平版印刷用の版。
9. A planographic printing plate in which the lithographic printing original plate according to claim 1 is irradiated with light to change the hydrophilicity of the photosensitive layer to ink-philicity.
【請求項10】 照射する光が750〜1100nmの
波長である請求項9記載の平版印刷用の版。
10. The planographic printing plate according to claim 9, wherein the irradiation light has a wavelength of 750 to 1100 nm.
【請求項11】 親水性ポリマー92〜50質量%、架
橋剤3〜35質量%、疎水性ポリマー5〜35質量%、
及び前記親水性ポリマー、架橋剤、疎水性ポリマーの合
計100質量部に対して光吸収剤2〜20質量部を含有
する感光性組成物。
11. A polymer comprising 92 to 50% by weight of a hydrophilic polymer, 3 to 35% by weight of a crosslinking agent, 5 to 35% by weight of a hydrophobic polymer,
And a photosensitive composition containing 2 to 20 parts by mass of a light absorber based on 100 parts by mass of the total of the hydrophilic polymer, the crosslinking agent, and the hydrophobic polymer.
【請求項12】 親水性ポリマーが側鎖にアミド基、カ
ルボキシル基、水酸基、スルホン酸基から選ばれた官能
基を1種又は2種以上有する請求項11記載の感光性組
成物。
12. The photosensitive composition according to claim 11, wherein the hydrophilic polymer has one or more functional groups selected from an amide group, a carboxyl group, a hydroxyl group, and a sulfonic acid group in a side chain.
【請求項13】 疎水性ポリマーが芳香族不飽和モノマ
ー、不飽和ニトリルモノマーから選ばれた不飽和モノマ
ーを主成分とし、乳化重合により得られたポリマーであ
る請求項11又は12記載の感光性組成物。
13. The photosensitive composition according to claim 11, wherein the hydrophobic polymer is a polymer containing an unsaturated monomer selected from an aromatic unsaturated monomer and an unsaturated nitrile monomer as a main component and obtained by emulsion polymerization. object.
【請求項14】 疎水性ポリマーが親水性ポリマーの前
記官能基と反応する官能基を有するポリマーである請求
項13記載の感光性組成物。
14. The photosensitive composition according to claim 13, wherein the hydrophobic polymer is a polymer having a functional group that reacts with the functional group of the hydrophilic polymer.
【請求項15】 疎水性ポリマーに於いて、親水性ポリ
マーの官能基と反応する官能基がグリシジル基である請
求項14記載の感光性組成物。
15. The photosensitive composition according to claim 14, wherein in the hydrophobic polymer, a functional group that reacts with a functional group of the hydrophilic polymer is a glycidyl group.
【請求項16】 光吸収剤が波長750〜1100nm
の領域に光吸収能を有するものである請求項11〜15
のいずれかに記載の感光性組成物。
16. The light absorbing agent has a wavelength of 750 to 1100 nm.
16. A region having a light absorbing ability in the region of
The photosensitive composition according to any one of the above.
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