JP2001174964A - Processing method for photosensitive material - Google Patents

Processing method for photosensitive material

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JP2001174964A
JP2001174964A JP36262499A JP36262499A JP2001174964A JP 2001174964 A JP2001174964 A JP 2001174964A JP 36262499 A JP36262499 A JP 36262499A JP 36262499 A JP36262499 A JP 36262499A JP 2001174964 A JP2001174964 A JP 2001174964A
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JP
Japan
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support
heat
film
photosensitive material
treatment
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Pending
Application number
JP36262499A
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Japanese (ja)
Inventor
Akio Fujita
章夫 藤田
Takeo Arai
健夫 荒井
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP36262499A priority Critical patent/JP2001174964A/en
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  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a processing method which ensures a slight dimensional slippage as a processing method for a photosensitive material in which heat drum drying is carried out. SOLUTION: In the processing method, a photosensitive material with a substrate subjected to heat relaxation treatment is dried with a heat drum.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、印刷製版用ハロゲ
ン化銀写真感光材料の処理方法に関し、特に寸度安定性
に優れた印刷製版用写真感光材料の処理方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for processing a silver halide photographic material for printing plate making, and more particularly to a method for processing a photographic material for printing plate making having excellent dimensional stability.

【0002】[0002]

【従来の技術】印刷、製版業界においては、現在原稿フ
ィルムの出力は、イメージセッターによるものが一般的
になっている。イメージセッターとはロールフィルムを
フィルムマガジンに収納し、任意の長さに引き出して露
光を行う露光装置であり、特徴としては、コンピュータ
ー等よりデジタルデータを直接露光装置に送り、文字、
画像を一度に描画できることである。これにより、従来
行われてきた文字原稿や画像原稿の切り貼りや毛抜き合
わせなど煩わしい作業もなくなり、かつて職人技であっ
た原稿の作成が誰にでも可能になり、生産性も大幅に上
がっている。
2. Description of the Related Art In the printing and plate making industries, the output of original films is currently generally provided by an image setter. An image setter is an exposure device that stores a roll film in a film magazine, draws out the film to an arbitrary length, and performs exposure.As a feature, digital data is sent directly to the exposure device from a computer or the like, and characters,
The ability to draw images at once. This eliminates the cumbersome work of cutting and pasting a character document or an image document and trimming the hair, which has been conventionally performed, and allows anyone to create a document that was once a craftsmanship, thereby greatly increasing productivity.

【0003】更に生産性に大きく貢献している装置にヒ
ートドラム乾燥装置が挙げられる。これは、湿式処理さ
れた感光材料を乾燥させる装置であるが、通常は温風を
当てて乾燥させる温風乾燥法に対して、加熱した円筒状
のヒートドラムと接触させて乾燥させることに特徴があ
る。このヒートドラム乾燥装置は、温風乾燥装置に比
べ、乾燥温度を上げることが可能なため、より迅速な乾
燥が可能である。また複数のローラーを有する温風乾燥
装置に比べ、小さくすることが可能で、それによる自動
現像機のコンパクト化も可能となる。
[0003] A heat drum drying device is another device that greatly contributes to productivity. This is a device that dries a wet-processed photosensitive material, but is characterized in that it is dried by bringing it into contact with a heated cylindrical heat drum, as opposed to a hot air drying method in which hot air is usually blown and dried. There is. This heat drum drying device can raise the drying temperature as compared with the hot air drying device, and thus can perform more rapid drying. Further, the size can be reduced as compared with a hot-air drying device having a plurality of rollers, thereby making it possible to reduce the size of the automatic developing machine.

【0004】しかし、このヒートドラム乾燥装置には、
大きな欠点が存在する。それは寸法ずれと呼ばれる現象
であり、寸法安定性という性能で呼ばれる。この寸法ず
れがどのようにして起こるかであるが、大きな原因とし
ては、ヒートドラム乾燥の際の温度が挙げられる。
However, this heat drum drying device includes:
There are major drawbacks. It is a phenomenon called dimensional deviation, which is called dimensional stability. As to how this dimensional deviation occurs, a major cause is a temperature during drying of the heat drum.

【0005】通常、ヒートドラムを用いて感光材料の乾
燥を行う場合、60℃以上のヒートドラムと接触させる
のが普通であるが、この条件においては、プラスチック
フィルムは一般に寸法が伸縮する。処理後の材料を印刷
製版用途として使用する場合、この伸縮は精密多色印刷
を行う時に重大な問題となる。また、この伸縮は、必ず
しも一定ではなく、感光材料の歪み、波打ち等も引き起
こし、重大な問題となることがある。
In general, when a photosensitive material is dried using a heat drum, the photosensitive material is usually brought into contact with a heat drum at 60 ° C. or higher. Under these conditions, the plastic film generally expands and contracts in size. When the processed material is used for printing plate making, this expansion and contraction becomes a serious problem when performing precision multicolor printing. Further, the expansion and contraction are not always constant, and may cause distortion, undulation and the like of the photosensitive material, which may be a serious problem.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記の様な問題に対
し、本発明の目的は、ヒートドラム乾燥を行う感光材料
の処理方法において特に寸法ずれの小さい、処理方法を
提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, an object of the present invention is to provide a processing method for a photosensitive material in which heat drum drying is performed, particularly with a small dimensional deviation.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、請
求項1に示されるような、熱弛緩処理を行った支持体を
使用することにより解決される。ここで言う熱弛緩処理
とは、感光材料を塗布する前に、一旦支持体の温度を上
昇させることにより、延伸中にフィルム中に残存する内
部歪みを緩和する処理のことを言う。この熱弛緩処理さ
れた支持体を用いた感材はヒートドラム乾燥を行っても
寸法の変化が小さく良好な結果が得られることが分かっ
た。
The above object of the present invention is attained by using a heat-relaxed support as defined in claim 1. The term "thermal relaxation treatment" as used herein refers to a treatment for reducing internal strain remaining in a film during stretching by temporarily increasing the temperature of a support before coating a photosensitive material. It was found that the photosensitive material using the heat-relaxed support had a small dimensional change even after the heat drum drying, and good results were obtained.

【0008】以下、本発明の詳細について説明する。本
発明における熱弛緩された支持体であるが、基本的には
種々の支持体を使用することができる。典型的な支持体
は、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート、ガラス転移点の高いも
のも好ましく、シンジオタクチックポリスチレン、ポリ
エーテルエチルケトン、ポリスチレン、ポリスルフォ
ン、ポリエーテルスルフォン、ポリアリレート、ポリカ
ーボネート等が使用できるが、勿論これらの限りではな
い。これらのうちでも、75〜200μm程度の、2軸
延伸したポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。
熱弛緩処理時の温度であるが、100〜270℃が好ま
しく、更に好ましくは100〜220℃である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. Although the support is a heat-relaxed support in the present invention, basically various supports can be used. Typical supports are preferably polyester film, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and those having a high glass transition point, such as syndiotactic polystyrene, polyether ethyl ketone, polystyrene, polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, and polycarbonate. Can be used, of course, but not limited to these. Among them, biaxially stretched polyethylene terephthalate of about 75 to 200 μm is particularly preferred.
The temperature at the time of the heat relaxation treatment is preferably 100 to 270 ° C, more preferably 100 to 220 ° C.

【0009】支持体中には本発明の目的を妨げない範囲
において、機能性付与のために無機微粒子、酸化防止
剤、UV吸収剤、帯電防止剤、染料、顔料、色素等を含
有させることが可能である。
The support may contain inorganic fine particles, an antioxidant, a UV absorber, an antistatic agent, a dye, a pigment, a dye, etc. for imparting functionality within a range not to impair the object of the present invention. It is possible.

【0010】製膜時に押し出す方法としては公知の方法
が適用できるが、例えばTダイで押し出すことが好まし
い。支持体の材料となるペレットを溶融、押し出して、
キャスティングロール上で静電印加しながら冷却固化さ
せて未延伸フィルムを作製する。次にこの未延伸フィル
ムを2軸延伸し、2軸配向させる。延伸方法としては公
知の方法、例えば縦延伸及び横延伸を順に行う逐次2軸
延伸法のほか、横延伸、縦延伸の逐次2軸延伸法、横・
縦・縦延伸法、縦・横・縦延伸法、縦・縦・横延伸法、
又は同時2軸延伸法等を採用することができ、要求され
る機械的強度や寸法安定性等の諸特性に応じて適宜選択
することができる。
As a method of extruding at the time of film formation, a known method can be applied. For example, it is preferable to extrude with a T-die. Melt and extrude pellets to be the material of the support,
It is cooled and solidified while applying static electricity on a casting roll to prepare an unstretched film. Next, the unstretched film is biaxially stretched and biaxially oriented. As the stretching method, in addition to a known method, for example, a sequential biaxial stretching method in which longitudinal stretching and transverse stretching are sequentially performed, a transverse biaxial stretching method of transverse stretching and longitudinal stretching, and a transverse / horizontal stretching method.
Vertical / longitudinal stretching method, vertical / horizontal / longitudinal stretching method, vertical / longitudinal / horizontal stretching method,
Alternatively, a simultaneous biaxial stretching method or the like can be adopted, and can be appropriately selected according to various properties such as required mechanical strength and dimensional stability.

【0011】一般に最初に長手方向に、次に幅手方向に
延伸を行う逐次2軸延伸方法が好ましく、この場合、縦
横の延伸倍率としては2.5〜6倍で、縦延伸温度はポ
リマーのガラス転移温度(Tg)に依存するが、通常
(Tg+10)℃〜(Tg+50)℃の温度範囲で延伸
する。幅手方向の延伸温度としては、長手方向より若干
高くして行うことが好ましい。次にこの2軸延伸フィル
ムを熱弛緩処理する。この場合の熱弛緩処理温度として
は用途に応じて適宜変更できる。寸法安定性を要求され
る写真、印刷、医用用途には目的に応じて適宜100〜
270℃の温度が採用される。熱処理時間は特に限定さ
れないが通常1秒から2分程度が採用される。
In general, a sequential biaxial stretching method in which stretching is performed first in the longitudinal direction and then in the width direction is preferable. In this case, the stretching ratio in the longitudinal and transverse directions is 2.5 to 6 times, and the longitudinal stretching temperature is the same as that of the polymer. Although it depends on the glass transition temperature (Tg), it is usually stretched in a temperature range of (Tg + 10) ° C. to (Tg + 50) ° C. The stretching temperature in the width direction is preferably slightly higher than that in the longitudinal direction. Next, the biaxially stretched film is subjected to a heat relaxation treatment. In this case, the heat relaxation treatment temperature can be appropriately changed depending on the application. For photographic, printing, and medical applications that require dimensional stability, 100-
A temperature of 270 ° C. is employed. The heat treatment time is not particularly limited, but is usually about 1 second to 2 minutes.

【0012】必要に応じて縦熱弛緩、横熱弛緩処理を施
してもよいことは言うまでもない。この後にフィルムを
急冷して巻き取っても良いが、Tg〜熱処理温度の間で
0.1分〜1500時間かけて徐冷し大きな径のコアに
巻き取り40℃〜Tg間で更に−0.01〜―20℃/
分の間の平均冷却速度で冷却すると、支持体に巻き癖を
付けにくくする効果がある点で好ましい。もちろん40
℃〜Tg間での熱処理は、支持体を巻き取ってから乳剤
塗布後、製品断裁までに0.1分〜1500時間恒温室
等に入れて行うことが好ましい。
It goes without saying that a longitudinal heat relaxation treatment and a horizontal heat relaxation treatment may be performed as required. After this, the film may be rapidly cooled and wound up, but it is gradually cooled between Tg and the heat treatment temperature for 0.1 minute to 1500 hours and wound up into a core having a large diameter. 01 to -20 ° C /
Cooling at an average cooling rate of minutes is preferable because it has an effect of making it difficult to form a curl on the support. Of course 40
It is preferable that the heat treatment at a temperature between ° C and Tg is carried out after winding the support, coating the emulsion, and placing the emulsion in a constant temperature chamber for 0.1 minute to 1500 hours before cutting the product.

【0013】上記の製膜法に加えて易滑性、接着性、帯
電防止性能等の諸特性を付与するため、支持体の少なく
とも片面に、前述の特性等を付与した支持体を積層した
積層フィルムを作製することも出来る。積層の方法は樹
脂が溶融された状態で層流で積層した後、ダイより押し
出すとか、冷却、固化した未延伸支持体又は一軸延伸支
持体に、溶融支持体原料を押出ラミネートし、しかる
後、縦・横両方向に又は、一軸延伸方向と直角方向に延
伸、熱弛緩処理して得られる。樹脂の押出条件、延伸温
度、延伸倍率、熱固定温度等は、積層支持体の組み合わ
せによっては若干異なるが、最適条件を選ぶように微調
整すれば良く、大幅な変更にはならない。勿論、積層は
2層以上の積層からなり、同種ポリマーの組み合わせ
(共重合ポリマーの組み合わせを含む)であっても良い
し、異種ポリマーであって良いことは言うまでもない。
In order to provide various properties such as slipperiness, adhesion and antistatic performance in addition to the above-mentioned film forming method, a support having the above-mentioned properties and the like is laminated on at least one surface of the support. Films can also be made. The method of lamination is laminating in a laminar flow in a state where the resin is melted, or extruded from a die, cooled, solidified unstretched support or uniaxially stretched support, extrusion-laminated the molten support raw material, and then It is obtained by stretching in both vertical and horizontal directions or in a direction perpendicular to the uniaxial stretching direction and heat relaxation treatment. The resin extrusion conditions, stretching temperature, stretching ratio, heat setting temperature, and the like are slightly different depending on the combination of the laminated supports, but may be finely adjusted so as to select the optimal conditions, and do not significantly change. Needless to say, the lamination is composed of two or more layers and may be a combination of the same type of polymer (including a combination of copolymers) or a different type of polymer.

【0014】上記の製膜法はその用途、目的に応じて適
宜変えられるもので、本発明はいかなる理由でも、これ
らの方法に限定されるものではない。
The above-mentioned film forming method can be appropriately changed depending on the use and purpose, and the present invention is not limited to these methods for any reason.

【0015】このようにして得られた延伸フィルムの厚
さは、用途に応じて異なるが、極薄コンデンサー用の
0.3μm厚さのもの、通常コンデンサー用の6μm、
12μm厚み、医用、印刷感材用の100μm、電気絶
縁材料(スロットライナー等)用の250μm厚さと、
多岐に亘るが上記製膜条件は、0.3〜500μmの厚
さのものに有効である。
The thickness of the stretched film thus obtained varies depending on the application, but is 0.3 μm for ultra-thin capacitors, 6 μm for ordinary capacitors,
12 μm thickness, 100 μm for medical and printing materials, 250 μm thickness for electrical insulation materials (slot liners, etc.)
The above-mentioned film forming conditions are effective for those having a thickness of 0.3 to 500 μm.

【0016】その他、強い接着力をもたせるために種々
の処理を施すことができる。例えば表面を薬品処理、機
械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線処理、高
周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザ
ー処理、混酸処理、オゾン酸化処理等の表面活性化処理
したり、酸成分、水酸基成分、エポキシ基成分、N−ア
ルカノール基成分、ジオレフィン単量体成分、ポリマー
ラテックス成分等の中から選ばれる単一または複数の成
分を含有する下引層を塗設する方法等である。
In addition, various treatments can be applied to give a strong adhesive force. For example, the surface may be subjected to surface treatment such as chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment, ozone oxidation treatment, and acid treatment. Component, hydroxyl group component, epoxy group component, N-alkanol group component, diolefin monomer component, polymer latex component, etc. is there.

【0017】本発明においては上記親水性コロイド層の
下に帯電防止層が塗設されていることが好ましい。帯電
防止層としてはイオン性高分子物質を含有する層が好ま
しく用いられる。又具体的には本発明において用いられ
るイオン性高分子化合物としては、特公昭49−238
28号、同49−23827号、同47−28937号
にみられるようなアニオン性高分子化合物:特公昭55
−734号、特開昭50−54672号、特公昭59−
14735号、同57−18175号、同57−181
76号、同57−56059号などにみられるような、
主鎖中に解離基をもつアイオネン型ポリマー:特公昭5
3−13223号、同57−15376号、特開昭53
−45231号、同55−145783号、同55−6
5950号、同55−67746号、同57−1134
2号、同57−19735号、特公昭58−56858
号にみられるような、側鎖中にカチオン性解離基をもつ
カチオン性ペンダント型ポリマー:等を挙げることがで
きる。帯電防止層としては、水溶性導電性ポリマー、疎
水性ラテックス及びエポキシ系硬化剤の反応生成物から
なることが望ましい。
In the present invention, an antistatic layer is preferably provided below the hydrophilic colloid layer. As the antistatic layer, a layer containing an ionic polymer substance is preferably used. More specifically, the ionic polymer compound used in the present invention is described in JP-B-49-238.
No. 28, 49-23827 and 47-28937: an anionic polymer compound: Japanese Patent Publication No. 55
-734, JP-A-50-54672, JP-B-59-
Nos. 14735, 57-18175, 57-181
Nos. 76 and 57-56059, etc.
Ionene-type polymer having a dissociating group in the main chain: Shoko 5
Nos. 3-13223 and 57-15376;
No. 45231, No. 55-145783, No. 55-6
No. 5950, No. 55-67746, No. 57-1134
No.2, No.57-19735, JP-B-58-56858
And cationic pendant polymers having a cationic dissociating group in the side chain, such as those described in No. The antistatic layer is preferably made of a reaction product of a water-soluble conductive polymer, a hydrophobic latex, and an epoxy-based curing agent.

【0018】水溶性導電性ポリマーについては、スルホ
ン酸基、硫酸エステル基、4級アンモニウム塩、3級ア
ンモニウム塩、カルボキシル基、から選ばれる少なくと
も1つの導電性基を有するポリマーが挙げられる。導電
性基はポリマー1分子当たり5質量%以上を必要とす
る。水溶性の導電性ポリマー中には、ヒドロキシ基、ア
ミノ基、エポキシ基、アジリジン基、活性メチレン基、
スルフィン酸基、アルデヒド基、ビニルスルホン基を含
んでいてもよい。
Examples of the water-soluble conductive polymer include polymers having at least one conductive group selected from sulfonic acid groups, sulfate groups, quaternary ammonium salts, tertiary ammonium salts, and carboxyl groups. The conductive group requires 5% by mass or more per polymer molecule. In the water-soluble conductive polymer, hydroxy group, amino group, epoxy group, aziridine group, active methylene group,
It may contain a sulfinic acid group, an aldehyde group and a vinyl sulfone group.

【0019】ポリマーの分子量は、3000〜1000
00であり、好ましくは3500〜50000である。
The molecular weight of the polymer is 3000 to 1000
00, preferably 3500 to 50,000.

【0020】以下、本発明に用いられる水溶性導電性ポ
リマーの化合物例を挙げるがこれに限定されるものでは
ない。
The following are examples of compounds of the water-soluble conductive polymer used in the present invention, but the invention is not limited thereto.

【0021】[0021]

【化1】 Embedded image

【0022】[0022]

【化2】 Embedded image

【0023】[0023]

【化3】 Embedded image

【0024】尚、上記P−1〜P−10において、Mn
は数平均分子量を表し、ポリエチレングリコール換算で
表したGPCによる測定値によるものである。
In the above P-1 to P-10, Mn
Represents a number average molecular weight and is a value measured by GPC in terms of polyethylene glycol.

【0025】さらに特開平4−107444号第10頁
右上欄〜第11頁右上欄のA−1〜A−21も用いられ
る。
Further, A-1 to A-21 in the upper right column on page 10 to the upper right column on page 11 in JP-A-4-107444 are also used.

【0026】本発明の水溶性導電性ポリマー層中に含有
させる疎水性ポリマー粒子は、実質的に水に溶解しない
所謂ラテックスで構成されている。この疎水性ポリマー
は、スチレン、スチレン誘導体、アルキルアクリレー
ト、アルキルメタクリレート、オレフィン誘導体、ハロ
ゲン化エチレン誘導体、ビニルエステル誘導体、アクリ
ルニトリル等の中から任意の組み合わせで選ばれるモノ
マーを重合して得られる。特にスチレン誘導体、アルキ
ルアクリレート、アルキルメタクリレートが少なくとも
30モル%含有されているのが好ましい。特に50モル
%以上が好ましい。以下に本発明のラテックスの具体例
を挙げる。
The hydrophobic polymer particles contained in the water-soluble conductive polymer layer of the present invention are composed of a so-called latex which is substantially insoluble in water. This hydrophobic polymer is obtained by polymerizing a monomer selected in any combination from styrene, a styrene derivative, an alkyl acrylate, an alkyl methacrylate, an olefin derivative, a halogenated ethylene derivative, a vinyl ester derivative, and acrylonitrile. In particular, it is preferable that at least 30 mol% of a styrene derivative, an alkyl acrylate, or an alkyl methacrylate is contained. In particular, 50 mol% or more is preferable. Hereinafter, specific examples of the latex of the present invention will be described.

【0027】[0027]

【化4】 Embedded image

【0028】[0028]

【化5】 Embedded image

【0029】[0029]

【化6】 Embedded image

【0030】さらに特開平4−107444号第13頁
左下欄〜第15頁左上欄記載のB−1〜B−26も用い
られる。次に本発明におけるエポキシ系硬化剤はエポキ
シ基があれば特に制限はなく、複数の硬化剤例えばアル
デヒド系、ビニルスルホン系等の硬化剤と併用すること
ができる。
Further, B-1 to B-26 described in JP-A-4-107444, page 13, lower left column to page 15, upper left column can also be used. Next, the epoxy-based curing agent in the present invention is not particularly limited as long as it has an epoxy group, and can be used in combination with a plurality of curing agents such as aldehyde-based and vinylsulfone-based curing agents.

【0031】好ましいエポキシ化合物としては、ヒドロ
キシ基又はエーテル縮合を含有するものである。本発明
においてエポキシ当量は下記一般式により示される値で
ある。
Preferred epoxy compounds are those containing a hydroxy group or an ether condensation. In the present invention, the epoxy equivalent is a value represented by the following general formula.

【0032】エポキシ当量=分子量/1分子内のエポキ
シ基数 この値は例えば新実験化学講座13(1)有機構造P5
8(丸善発行)の方法によって比色定量も可能である。
Epoxy equivalent = molecular weight / the number of epoxy groups in one molecule This value is, for example, the new experimental chemistry course 13 (1) Organic structure P5
Colorimetry is also possible by the method of 8 (published by Maruzen).

【0033】エポキシ当量は50〜300が好ましく、
更に好ましくは80〜210である。300以上では硬
化が弱く、量を増やすと塗布性が劣化する。硬化が弱い
とスリ傷が発生し易い。エポキシ当量が50以下では硬
化が強いがヘーズ及び残色が劣化し、量を減らしても良
化しない。本発明のエポキシ化合物の具体例を挙げる。
尚( )内の数字はエポキシ当量を表す。
The epoxy equivalent is preferably from 50 to 300,
More preferably, it is 80 to 210. If it is more than 300, the curing is weak, and if the amount is increased, the coating property is deteriorated. If the curing is weak, scratches are likely to occur. When the epoxy equivalent is 50 or less, curing is strong, but haze and residual color deteriorate, and even if the amount is reduced, it does not improve. Specific examples of the epoxy compound of the present invention will be given.
The numbers in parentheses indicate epoxy equivalents.

【0034】[0034]

【化7】 Embedded image

【0035】[0035]

【化8】 Embedded image

【0036】エポキシ硬化剤の添加量は5mg/m2
1g/m2が好ましい。次に金属酸化物を用いて導電性
層を形成する方法を説明する。
The amount of the epoxy curing agent added is 5 mg / m 2 to
1 g / m 2 is preferred. Next, a method for forming a conductive layer using a metal oxide will be described.

【0037】金属酸化物として好ましいのは、結晶性の
金属酸化物粒子であるが、酸素欠陥を含むもの及び用い
られる金属酸化物に対してドナーを形成する異種原子を
少量含むもの等は一般的に言って導電性が高いので特に
好ましく、特に後者の用いられる金属酸化物に対してド
ナーを形成する異種原子を少量含むものは、ハロゲン化
銀乳剤にカブリを与えないので特に好ましい。
Preferred as the metal oxide are crystalline metal oxide particles, and those containing oxygen vacancies and those containing a small amount of heteroatoms forming donors for the metal oxide used are generally used. In particular, those having a small amount of hetero atoms forming a donor for the latter metal oxide are particularly preferable because they do not give fog to the silver halide emulsion.

【0038】金属酸化物の例としては、ZnO2、Ti
2、SnO2、Al23、In23、SiO2、Mg
O、BaO、MoO3、V25等或はこれらの複合酸化
物が好ましく、特にZnO2、TiO2、SnO2が好ま
しい。
Examples of metal oxides include ZnO 2 , Ti
O 2 , SnO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , Mg
O, BaO, MoO 3 , V 2 O 5 and the like or a composite oxide thereof are preferable, and ZnO 2 , TiO 2 and SnO 2 are particularly preferable.

【0039】異種原子を含む例としては例えばSnO2
に対してSb等の添加あるいはTiO2に対してはN
b、Ta等の添加が効果的である。これら異種原子の添
加量は0.01〜30モル%の範囲が好ましいが、0.
1〜10モル%の範囲であれば特に好ましい。
As an example containing a hetero atom, for example, SnO 2
N for adding or TiO 2 and Sb or the like to
The addition of b, Ta, etc. is effective. The addition amount of these different atoms is preferably in the range of 0.01 to 30 mol%,
It is particularly preferable that it is in the range of 1 to 10 mol%.

【0040】本発明に用いられる金属酸化物の粒子は、
導電性を有するものであり、その体積抵抗率は107Ω
cm以下、特に105Ωcm以下であることが好まし
い。
The metal oxide particles used in the present invention are:
It has conductivity and its volume resistivity is 10 7 Ω
cm or less, particularly preferably 10 5 Ωcm or less.

【0041】この酸化物については特開昭56−143
431号、同56−120519号、同58−6264
7号に記載されている。金属酸化物の粒子はバインダー
中に分散又は溶解させて用いられる。使用できるバイン
ダーはフィルム形成能を有するものであれば特に限定さ
れない。
This oxide is disclosed in JP-A-56-143.
No. 431, No. 56-120519, No. 58-6264
No. 7. The metal oxide particles are used by being dispersed or dissolved in a binder. The binder that can be used is not particularly limited as long as it has a film forming ability.

【0042】特にゼラチン(石灰処理ゼラチン、酸処理
ゼラチン、酸素分解ゼラチン、フタル化ゼラチン、アセ
チル化ゼラチン等)、アセチルセルロース、ジアセチル
セルロース、トリアセチルセルロース、ポリビニルアル
コール、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸ブチル、ポリ
アクリルアミド、デキストランが好ましい。
In particular, gelatin (lime-treated gelatin, acid-treated gelatin, oxygen-decomposed gelatin, phthalated gelatin, acetylated gelatin, etc.), acetylcellulose, diacetylcellulose, triacetylcellulose, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, polybutyl acrylate, Polyacrylamide and dextran are preferred.

【0043】金属酸化物をより効果的に使用して導電性
層の抵抗を下げるために、導電性層中における金属酸化
物の体積含有率は高い方が好ましいが、層としての強度
を十分に持たせるために最低5%程度のバイダーが必要
であるので、金属酸化物の体積百分率は5〜95%の範
囲が好ましい。
In order to use the metal oxide more effectively and reduce the resistance of the conductive layer, it is preferable that the volume content of the metal oxide in the conductive layer is higher, but the strength of the layer is not sufficiently increased. Since at least about 5% of a binder is required to have the metal oxide, the volume percentage of the metal oxide is preferably in the range of 5 to 95%.

【0044】金属酸化物の使用量は0.05〜10g/
2が好ましく、より好ましくは0.01〜5g/m2
ある。これにより帯電防止性が得られる。
The amount of the metal oxide used is 0.05 to 10 g /
m 2 is preferable, and more preferably 0.01 to 5 g / m 2 . Thereby, an antistatic property is obtained.

【0045】[0045]

【実施例】以下に本発明の実施例を具体的に例証する
が、本発明がこれらに限定されるものではないことはい
うまでもない。
EXAMPLES Examples of the present invention will be specifically described below, but it goes without saying that the present invention is not limited to these examples.

【0046】実施例1 下記のごとくして試料を作製した。Example 1 A sample was prepared as follows.

【0047】(支持体A:熱弛緩処理無しの支持体の作
製)ポリエチレンテレフタレートペレットを330℃で
Tダイからフィルム状に溶融押し出しを行い、冷却ドラ
ム上で急冷固化して厚さ1265μmの未延伸フィルム
を得た。この未延伸フィルムを135℃予熱し、縦延伸
(3.1倍)した後、130℃で横延伸(3.4倍)
し、更に250℃で熱固定を行った。その結果、支持体
として、曲げ弾性率450kg/mm2の100μm厚
みの2軸延伸フィルムを得た。
(Support A: Preparation of Support without Heat Relaxation Treatment) Polyethylene terephthalate pellets were melt-extruded from a T-die at 330 ° C. into a film, quenched and solidified on a cooling drum, and unstretched to a thickness of 1265 μm. A film was obtained. This unstretched film is preheated at 135 ° C., longitudinally stretched (3.1 times), and then transversely stretched at 130 ° C. (3.4 times).
Then, heat setting was performed at 250 ° C. As a result, a 100 μm thick biaxially stretched film having a flexural modulus of 450 kg / mm 2 was obtained as a support.

【0048】(支持体B:熱弛緩処理有りの支持体の作
製)ポリエチレンテレフタレートペレットを330℃で
Tダイからフィルム状に溶融押し出しを行い、冷却ドラ
ム上で急冷固化して厚さ1265μmの未延伸フィルム
を得た。この未延伸フィルムを135℃予熱し、縦延伸
(3.1倍)した後、130℃で横延伸(3.4倍)
し、更に250℃で熱固定を行った。この熱固定時に、
縦、横をそれぞれ3%熱収縮させた(熱弛緩処理)その
結果、支持体として、曲げ弾性率450kg/mm2
100μm厚みの2軸延伸フィルムを得た。
(Support B: Preparation of Support with Heat Relaxation Treatment) Polyethylene terephthalate pellets were melt-extruded from a T-die at 330 ° C. into a film form, quenched and solidified on a cooling drum, and unstretched to a thickness of 1265 μm. A film was obtained. This unstretched film is preheated at 135 ° C., longitudinally stretched (3.1 times), and then transversely stretched at 130 ° C. (3.4 times).
Then, heat setting was performed at 250 ° C. During this heat fixation,
As a result, a 100 μm-thick biaxially stretched film having a flexural modulus of 450 kg / mm 2 was obtained as a support.

【0049】上記支持体の面上に、10W/(m2・m
in)でコロナ放電をかけた後、下記組成にてロールフ
ィットコーティングパン、およびエアーナイフを使用し
て塗布した。尚、乾燥は90℃、総括伝熱係数2.9k
W/(m2・℃)の平行流乾燥条件で30秒間行い、続
いて140℃90秒で行った。乾燥後のこの層の膜厚は
1μm、この層の表面比抵抗は23℃55%で1×10
8Ωであった。
On the surface of the support, 10 W / (m 2 · m
After applying a corona discharge in in), the composition was applied using a roll-fit coating pan and an air knife with the following composition. The drying was 90 ° C and the overall heat transfer coefficient was 2.9k.
The drying was performed for 30 seconds under the condition of parallel flow drying of W / (m 2 · ° C.), and then performed at 140 ° C. for 90 seconds. The thickness of this layer after drying is 1 μm, and the surface resistivity of this layer is 1 × 10 5 at 23 ° C. and 55%.
8 Ω.

【0050】[0050]

【化9】 Embedded image

【0051】 硫酸アンモニウム 0.5g/l ポリエチレンオキサイド化合物(平均分子量600) 6g/l 硬化剤 12g/lAmmonium sulfate 0.5 g / l Polyethylene oxide compound (average molecular weight 600) 6 g / l Hardener 12 g / l

【0052】[0052]

【化10】 Embedded image

【0053】(ハロゲン化銀乳剤Aの調製)同時混合法
を用いて塩化銀70モル%、残りは臭化銀からなる平均
直径0.09μmの塩臭化銀コア粒子を調製した。この
コア粒子混合時にK3Rh(NO)4(H2O)2を銀1モ
ル当たり粒子形成終了時の銀1モルに対して7×10-8
モル添加の存在下に、40℃、pH2.0、EAgを1
65mVに保ちながら硝酸銀水溶液と水溶性ハライド溶
液を同時混合した。そのコア粒子にEAgをNaClで
100mVに下げて、同時混合法を用いてシェルを付け
た。その際ハライド液にK2IrCl6を銀1モル当たり
3×10-7モル、K3RhCl6を9×10-8モル添加し
た。これにより得られた乳剤は平均粒径0.16μmの
コア/シェル型単分散(変動係数10%)の立方晶の塩
臭化銀乳剤であった。次いで特開平2−280139号
に記載の変性ゼラチン(ゼラチン中のアミノ基をフェニ
ルカルバミルで置換した例示化合物G8)を使い脱塩し
た。脱塩後のEAgは50℃で190mVであった。得
られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3
a,7−テトラザインデンを銀1モル当たり1.5×1
-3モル、臭化カリウムを8.5×10-4モル及びクエ
ン酸を添加してpH5.6、EAg123mVに調整し
た後、固体に分散した無機硫黄化合物(S8)PM12
00(セイシン企業(株)製)及び塩化金酸を1.5×
10-5モルを添加して温度55℃で120分間化学熟成
を行った後、4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3
a,7−テトラザインデンを銀1モル当たり2.0×1
-3モル、1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール
を3×10-4モル及び沃化カリウムを5×10-3モル添
加した後、クエン酸でpHを5.1に調整し、次いで4
0℃に降温した後、増感色素Dを銀1モル当たり2×1
-4モル添加し、色増感させ、これをハロゲン化銀乳剤
Aとした。
(Preparation of Silver Halide Emulsion A) A silver chlorobromide core particle having an average diameter of 0.09 μm, comprising 70 mol% of silver chloride and the remainder of silver bromide, was prepared by a double jet method. At the time of mixing the core particles, K 3 Rh (NO) 4 (H 2 O) 2 was added in an amount of 7 × 10 −8 per mol of silver per mol of silver at the end of grain formation.
In the presence of molar addition, 40 ° C., pH 2.0, 1 EAg
The silver nitrate aqueous solution and the water-soluble halide solution were simultaneously mixed while maintaining the temperature at 65 mV. The EAg was reduced to 100 mV with NaCl and the core particles were shelled using a double jet method. At that time, per mole of silver 3 × 10 -7 mol of K 2 IrCl 6 in halide solution, the K 3 RhCl 6 9 × 10 -8 mol was added. The emulsion thus obtained was a cubic silver chlorobromide emulsion having a core / shell type monodispersion (coefficient of variation: 10%) having an average particle size of 0.16 μm. Next, desalting was performed using a modified gelatin described in JP-A-2-280139 (exemplified compound G8 in which the amino group in gelatin was substituted with phenylcarbamyl). The EAg after desalting was 190 mV at 50 ° C. 4-Hydroxy-6-methyl-1,3,3 was added to the resulting emulsion.
a, 7-tetrazaindene in an amount of 1.5 × 1 per mole of silver
0 -3 mol, 8.5 × 10 -4 mol of potassium bromide and citric acid were added to adjust the pH to 5.6 and the EAg to 123 mV, and then the inorganic sulfur compound (S8) PM12 dispersed in the solid was dispersed.
00 (manufactured by Seishin Enterprise Co., Ltd.) and chloroauric acid 1.5 ×
After adding 10 -5 mol and performing chemical ripening at 55 ° C. for 120 minutes, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3
a, 7-tetrazaindene was added in an amount of 2.0 × 1 per mole of silver.
After adding 0 -3 mol, 3 × 10 -4 mol of 1-phenyl-5-mercaptotetrazole and 5 × 10 -3 mol of potassium iodide, the pH was adjusted to 5.1 with citric acid, and then 4 mol.
After cooling to 0 ° C., sensitizing dye D was added at 2 × 1 per mole of silver.
0 -4 mol was added, allowed to spectral sensitization, which was used as a silver halide emulsion A.

【0054】[0054]

【化11】 Embedded image

【0055】(ヒドラジン誘導体を含有する印刷製版用
ハロゲン化銀写真感光材料の調製)得られた乳剤を用い
1m2当たりの付き量が下記になるように、下引加工し
た支持体上の片側に、支持体側から下記第1層、第2層
を同時重層塗布し冷却セットした(乳剤処方A)。その
後、反対側の帯電防止層を有する下引層上には下記バッ
キング層を塗布スピード200m/minで塗布し、−
1℃で冷却セットし、両面を同時に乾燥することで試料
を得た。
(Preparation of a silver halide photographic light-sensitive material for printing plate making containing a hydrazine derivative) Using the obtained emulsion, one side of a subbed support was adjusted so that the coating weight per m 2 was as follows. From the support side, the following first and second layers were simultaneously coated in layers and cooled and set (emulsion formulation A). Then, the following backing layer was applied on the undercoating layer having the antistatic layer on the opposite side at a coating speed of 200 m / min.
A sample was obtained by cooling and setting at 1 ° C. and drying both sides simultaneously.

【0056】(支持体、下塗層)2軸延伸したポリエチ
レンテレフタレート支持体(厚み100μm)の両面に
30W/(m2・min)のコロナ放電をした後、下記
組成の下塗層を両面塗布し、100℃で1分間乾燥し
た。
(Support, Undercoat Layer) After a corona discharge of 30 W / (m 2 · min) was applied to both sides of a biaxially stretched polyethylene terephthalate support (thickness: 100 μm), an undercoat layer having the following composition was applied to both sides. And dried at 100 ° C. for 1 minute.

【0057】 2−ヒドロキシエチルメタクリレート(25)−ブチルアクリレート(30) −t−ブチルアクリレート(25)−スチレン(20)の共重合体 (数字は質量比) 0.5g/m2 界面活性剤A 3.6mg/m2 ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 10mg/m2 (帯電防止層)下塗層を施したポリエチレンテレフタレ
ート支持体に10W/(m2・min)のコロナ放電を
した後、片面に下記組成の帯電防止層を70m/min
の速さでロールフィットコーティングパン及びエアーナ
イフを使用して塗布し、90℃で2分間乾燥し、140
℃で90秒間熱処理した。
Copolymer of 2-hydroxyethyl methacrylate (25) -butyl acrylate (30) -t-butyl acrylate (25) -styrene (20) (numbers are mass ratio) 0.5 g / m 2 Surfactant A 3.6 mg / m 2 Hexamethylene-1,6-bis (ethylene urea) 10 mg / m 2 (Antistatic layer) A corona discharge of 10 W / (m 2 · min) was applied to a polyethylene terephthalate support provided with an undercoat layer. After that, an antistatic layer having the following composition was coated on one side at 70 m / min.
Apply using a roll-fit coating pan and air knife at a speed of 90 ° C., dry at 90 ° C. for 2 minutes,
Heat treated at 90 ° C. for 90 seconds.

【0058】 水溶性導電性ポリマーB 0.6g/m2 疎水性ポリマー粒子C 0.4g/m2 ポリエチレンオキサイド化合物(MW600) 0.1g/m2 硬化剤E 0.1g/m2 第1層(乳剤層) ゼラチン 1.0g ハロゲン化銀乳剤A 銀量として3.3g ヒドラジン誘導体Hy−1 0.015g ヒドラジン誘導体Hy−2 0.020g 5−ニトロインダゾール 0.01g 2−メルカプトヒポキサンチン 0.02g コロイダルシリカ75質量%と酢酸ビニル12.5質量%、及び ビニルピバリネート12.5質量%の懸濁重合物 1.4g デキストラン(平均分子量6万) 0.2g 4−メルカプト−3,5,6−フルオロフタル酸 0.05g ポリスチレンスルホン酸ナトリウム(平均分子量50万) 0.015g 塗布液pHは5.2であった。Water-soluble conductive polymer B 0.6 g / m 2 Hydrophobic polymer particles C 0.4 g / m 2 Polyethylene oxide compound (MW 600) 0.1 g / m 2 Curing agent E 0.1 g / m 2 First layer (Emulsion layer) Gelatin 1.0 g Silver halide emulsion A 3.3 g as silver amount Hydrazine derivative Hy-1 0.015 g Hydrazine derivative Hy-2 0.020 g 5-Nitroindazole 0.01 g 2-Mercaptohypoxanthine 0.02 g Suspended polymer of colloidal silica 75% by mass, vinyl acetate 12.5% by mass, and vinyl pivalinate 12.5% by mass 1.4 g Dextran (average molecular weight 60,000) 0.2 g 4-mercapto-3,5 6-fluorophthalic acid 0.05 g Sodium polystyrene sulfonate (average molecular weight 500,000) 0.015 g Coating solution pH 5 It was 2.

【0059】 第2層(保護層) ゼラチン 0.9g デキストラン(平均分子量6万) 0.2g 造核促進剤Na 0.15g コロイダルシリカ 0.10g 殺菌剤Z 0.005g ポリオキシエチレンラウリルエーテルスルホン酸ナトリウム0.001g ジヘキシルスルホコハク酸ナトリウム 0.015g シリカ(平均粒径5μm) 0.015g シリカ(平均粒径8μm) 0.15g 硬膜剤(1) 0.15g バッキング層 ゼラチン 1.8g F−1 0.01g F−2 0.03g F−3 0.10g コロイダルシリカ75質量%と酢酸ビニル12.5質量%、及び ビニルピバリネート12.5質量%の懸濁重合物 0.7g ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 0.010g マット剤:平均粒径3μmの単分散ポリメチルメタクリレート 0.045g 硬膜剤(2) 0.05g バッキング保護層 ゼラチン 1.8g マット剤:平均粒径3μmの単分散ポリメチルメタクリレート 0.045g ポリオキシエチレンラウリルエーテルスルホン酸ナトリウム 0.005g ジヘキシルスルホコハク酸ナトリウム 0.005g 硬膜剤(1) 0.15gSecond layer (protective layer) Gelatin 0.9 g Dextran (average molecular weight 60,000) 0.2 g Nucleation promoter Na 0.15 g Colloidal silica 0.10 g Fungicide Z 0.005 g Polyoxyethylene lauryl ether sulfonic acid Sodium 0.001 g Sodium dihexyl sulfosuccinate 0.015 g Silica (average particle size 5 μm) 0.015 g Silica (average particle size 8 μm) 0.15 g Hardener (1) 0.15 g Backing layer Gelatin 1.8 g F-10 0.01 g F-2 0.03 g F-3 0.10 g Suspension polymer of colloidal silica 75 mass%, vinyl acetate 12.5 mass%, and vinyl pivalinate 12.5 mass% 0.7 g sodium polystyrene sulfonate 0.010 g Matting agent: monodispersed polymethyl methacrylate having an average particle size of 3 μm 0 045 g Hardener (2) 0.05 g Backing protective layer Gelatin 1.8 g Matting agent: Monodispersed polymethyl methacrylate having an average particle diameter of 3 μm 0.045 g Sodium polyoxyethylene lauryl ether sulfonate 0.005 g Sodium dihexyl sulfosuccinate 0.05 g 005 g Hardener (1) 0.15 g

【0060】[0060]

【化12】 Embedded image

【0061】[0061]

【化13】 Embedded image

【0062】[0062]

【化14】 Embedded image

【0063】支持体A、Bにそれぞれ塗布を行い、試料
1、2を得た。各試料について以下の処理を行った。
Samples 1 and 2 were obtained by coating the supports A and B, respectively. The following processing was performed for each sample.

【0064】 (現像スタート液:1L当たり) ジエチレントリアミン5酢酸 1g 亜硫酸ナトリウム 30g 炭酸水素カリウム 17g 1−フェニル−4−メチル−4′−ヒドロキシルメチル−3−ピラゾリドン 1.5g エリソルビン酸ナトリウム・1水塩 40g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.025g 臭化カリウム 4g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.21g 2,5−ジヒドロキシ安息香酸 5g 8−メルカプトアデニン 0.07g KOHを使用液がpH9.8になる量を加え、1Lに仕
上げた。
(Development Start Solution: 1 L) Diethylenetriaminepentaacetic acid 1 g Sodium sulfite 30 g Potassium hydrogen carbonate 17 g 1-phenyl-4-methyl-4′-hydroxymethyl-3-pyrazolidone 1.5 g Sodium erythorbate monohydrate 40 g 1-phenyl-5-mercaptotetrazole 0.025 g potassium bromide 4 g 5-methylbenzotriazole 0.21 g 2,5-dihydroxybenzoic acid 5 g 8-mercaptoadenine 0.07 g KOH was used to adjust the amount of the used solution to pH 9.8. In addition, it was finished to 1L.

【0065】 (現像補充液:2倍濃縮液) ジエチレントリアミン5酢酸 1g 亜硫酸ナトリウム 30g 炭酸カリウム 70g 炭酸水素カリウム 17g 1−フェニル−4−メチル−4′−ヒドロキシルメチル−3−ピラゾリドン 1.5g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.03g 臭化カリウム 1g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.30g 2,5−ジヒドロキシ安息香酸 5g 8−メルカプトアデニン 0.10g KOHを使用液のpHが10.15になる量を加え、
0.5Lに仕上げた。
(Development replenisher: 2-fold concentrated solution) Diethylenetriaminepentaacetic acid 1 g Sodium sulfite 30 g Potassium carbonate 70 g Potassium hydrogen carbonate 17 g 1-phenyl-4-methyl-4′-hydroxymethyl-3-pyrazolidone 1.5 g 1-phenyl -5-mercaptotetrazole 0.03 g potassium bromide 1 g 5-methylbenzotriazole 0.30 g 2,5-dihydroxybenzoic acid 5 g 8-mercaptoadenine 0.10 g KOH was added in such an amount that the pH of the used solution became 10.15. ,
Finished to 0.5L.

【0066】 (定着スタート液:1L当たり) チオ硫酸ナトリウム 200g 亜硫酸ナトリウム 22g グルコン酸Na 5g クエン酸3Na・2H2O 12g クエン酸 12g 硫酸にて使用液のpHが5.4になるように調整し、1
Lに仕上げた。
(Fixing starter solution: 1 L) Sodium thiosulfate 200 g Sodium sulfite 22 g Na gluconate 5 g Citric acid 3Na · 2H 2 O 12 g Citric acid 12 g Adjust the pH of the working solution to 5.4 with sulfuric acid. , 1
L finished.

【0067】(水洗水)水道水1Lに対して、下記浄化
剤8.8ml加えたものを水洗槽へ入れて水洗水とし
た。
(Washing Water) To 1 L of tap water, 8.8 ml of the following purifying agent was added and placed in a washing tank to prepare washing water.

【0068】 (浄化剤の調製) 純水 800g サリチル酸 0.1g 35質量%過酸化水素水 171g プルロニックF−68 3.1g ホクサイトF−150 15g DTPA・5Na 10g 純水で1Lに仕上げる。(Preparation of Purifying Agent) Pure water 800 g Salicylic acid 0.1 g 35 mass% hydrogen peroxide water 171 g Pluronic F-68 3.1 g Hoksite F-150 15 g DTPA · 5Na 10 g Finished to 1 L with pure water.

【0069】 乾燥 ヒートドラム乾燥、ドラム温度:120℃ (感光材料の黒化率) 8% (処理液の補充量)上記処方の現像液、定着補充液、浄
化剤及び希釈用の水道水を、それぞれ現像槽、定着槽、
水洗槽に下記条件で直接補充した。
[0069] Drying Heat drum drying, drum temperature: 120 ° C. (blackening ratio of photosensitive material) 8% (replenishment amount of processing solution) Developer solution, fixing replenisher solution, purifying agent, and tap water for dilution described above are each supplied to a developing tank. , Fixing tank,
The washing tank was replenished directly under the following conditions.

【0070】 現像剤補充量 使用液 65ml/m2 希釈水 65ml/m2 定着剤補充率 濃縮液 65ml/m2 希釈水 65ml/m2 水洗水補充量 水道水 2.3L/m2 浄化剤 20ml/m2 得られた試料1、2について以下のような評価を行っ
た。
Replenishing amount of developer Working solution 65 ml / m 2 Dilution water 65 ml / m 2 Fixing agent replenishment rate Concentrate 65 ml / m 2 Dilution water 65 ml / m 2 Replenishing amount of washing water Tap water 2.3 L / m 2 Purifying agent 20 ml The following evaluation was performed on the samples 1 and 2 obtained.

【0071】(評価1:縦、横方向の寸法ずれ)環境温
湿度23℃50%RH下で次のような手順で露光、処理
を行った。
(Evaluation 1: Dimensional deviation in the vertical and horizontal directions) Exposure and processing were carried out at 23 ° C. and 50% RH under the following conditions.

【0072】露光機:簡易露光機(露光サイズ10cm
×50cm) 処理機:LDM−1060(大日本スクリーン製、本発
明ヒートドラム乾燥機接続済み) 尚、露光パターンは1cm×1cmの格子のパターンで
行った。
Exposure machine: Simple exposure machine (exposure size: 10 cm
X50cm) Processor: LDM-1060 (manufactured by Dainippon Screen, connected to the heat drum dryer of the present invention) The exposure pattern was a 1 cm x 1 cm lattice pattern.

【0073】(評価2:反り、波打ちの評価)評価1で
使用したフィルムを用いて、反り、波打ちの評価を行っ
た。これは、処理済みのフィルムを目視で評価して、平
面性、平滑性を評価したもので、平面性が反り、平滑性
が波打ちに相当する。
(Evaluation 2: Evaluation of Warpage and Rippling) Using the film used in Evaluation 1, evaluation of warpage and waving was performed. In this method, the processed film was visually evaluated to evaluate the flatness and smoothness. The flatness was warped and the smoothness was equivalent to waving.

【0074】各評価ランクは以下の通りである。 ランク1(劣):極めて強く発生、使用不可 ランク2 :強く発生、使用不可 ランク3 :発生が認められるが、なんとか使用可
能 ランク4 :僅かに発生するが、使用可能 ランク5(優):全く発生が無く、使用可能 結果を表1に示す。
Each evaluation rank is as follows. Rank 1 (poor): Extremely strong, unusable Rank 2: Strongly strong, unusable Rank 3: Occurred, but somehow usable Rank 4: Slightly generated, but usable Rank 5 (excellent): Not at all Table 1 shows the results.

【0075】[0075]

【表1】 [Table 1]

【0076】比較品である支持体Aを用いた試料1は、
寸法の収縮幅がかなり大きいのに対して、本発明の支持
体Bを用いた試料2は、収縮幅が小さく良好であること
がわかる。このことから、支持体Aを使用したフィルム
は、乾燥のために高温のヒートドラムと接触させると熱
収縮を起こしてしまうのに対して、本発明の支持体Bを
使用したフィルムは、寸法ずれが小さく良好であること
がわかった。
Sample 1 using the comparative support A was as follows:
It can be seen that Sample 2 using the support B of the present invention has a small shrinkage width and is excellent, while the shrinkage width of the dimension is considerably large. From this fact, the film using the support A undergoes thermal contraction when it is brought into contact with a high-temperature heat drum for drying, whereas the film using the support B of the present invention has a dimensional deviation. Was small and good.

【0077】比較品である支持体Aは反り、波打ちに関
して劣っているのに対して、本発明の支持体Bは、反
り、波打ちに優れていることがわかる。
It can be seen that the support A, which is a comparative product, is inferior in warping and waving, while the support B of the present invention is excellent in warping and waving.

【0078】又、従来品の支持体Aを使用したフィルム
は、ヒートドラム乾燥の際フィルムが、反ったり、波打
ったりするのに対して本発明の支持体Bを使用したフィ
ルムは、反り、歪み、波打ちも小さく良好であることが
わかる。
The film using the support A of the present invention was warped or wavy when the heat drum was dried, whereas the film using the support B of the present invention was warped. It can be seen that distortion and waving are small and good.

【0079】[0079]

【発明の効果】ヒートドラム乾燥自動現像機を用いる処
理においては、熱弛緩処理支持体を用いることにより、
寸法ずれ、反り、波打ちの少ない優れた処理済フィルム
を得ることが出来た。
According to the present invention, in a process using a heat drum drying automatic developing machine, by using a heat relaxation treatment support,
An excellent processed film with less dimensional deviation, warpage and waving was obtained.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 熱弛緩処理を施した支持体を有する感光
材料を、ヒートドラム乾燥することを特徴とする感光材
料の処理方法。
1. A method for processing a photosensitive material, comprising drying a photosensitive material having a support subjected to a thermal relaxation treatment with a heat drum.
【請求項2】 現像処理秒数5〜25秒、処理温度30
℃〜38℃で行うことを特徴とする請求項1記載の感光
材料の処理方法。
2. Development time: 5 to 25 seconds, processing temperature: 30 seconds
2. The method according to claim 1, wherein the process is carried out at a temperature of from 38 to 38 [deg.] C.
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