JP2001174373A - Odor distinguishing apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、複数個のガスセン
サを備えたにおい識別装置に関するものである。このよ
うなにおい識別装置は、消臭、芳香、食品の管理、悪臭
の測定などの分野において、においを同定又は識別する
ために用いられる。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an odor discriminating apparatus provided with a plurality of gas sensors. Such an odor identification device is used for identifying or identifying an odor in fields such as deodorization, aroma, food management, and measurement of offensive odor.
【０００２】[0002]
【従来の技術】ガスセンサとしては、酸化物半導体セン
サや導電性高分子センサ、水晶振動子の表面にガス吸着
膜を形成したセンサ（ＱＣＭ：Quartz Crystal Microba
lance、水晶振動子小重量法）、ＳＡＷ（Surface Acous
tic Wave：表面弾性波）デバイスの表面にガス吸着膜を
形成したセンサなどがある。酸化物半導体センサでは、
サンプルガス中のガス成分の酸化還元反応により酸化物
半導体の電気抵抗が変化する現象を利用する。導電性高
分子センサでは、ガス成分の吸着により導電性高分子の
導電率が変化する現象を利用する。ＱＣＭやＳＡＷデバ
イスでは、ガス吸着膜へのガス成分の吸着による重量変
化に伴い振動数が変化する現象を利用する。2. Description of the Related Art As a gas sensor, an oxide semiconductor sensor, a conductive polymer sensor, a sensor having a gas adsorption film formed on the surface of a quartz oscillator (QCM: Quartz Crystal Microba
lance, Quartz crystal small weight method, SAW (Surface Acous
tic Wave: a sensor having a gas adsorption film formed on the surface of a device. In oxide semiconductor sensors,
A phenomenon in which the electrical resistance of an oxide semiconductor changes due to a redox reaction of a gas component in a sample gas is used. The conductive polymer sensor utilizes a phenomenon in which the conductivity of the conductive polymer changes due to adsorption of a gas component. A QCM or SAW device utilizes a phenomenon in which a frequency changes with a change in weight due to adsorption of a gas component to a gas adsorption film.
【０００３】このような現象を利用してサンプルガス中
のガス成分を測定するにおい識別装置は、ガス成分に対
する応答特性の異なる複数個のガスセンサを備えてお
り、ガスセンサからの検出信号をそのまま表示するか、
又は複数個のガスセンサの検出信号を多変量解析に持ち
込む、いわゆるケモメトリクス（化学的計量法）と呼ば
れる技術を応用してサンプルガス中のガス成分を測定し
ている。[0003] An odor discriminating apparatus for measuring a gas component in a sample gas utilizing such a phenomenon is provided with a plurality of gas sensors having different response characteristics to the gas component, and directly displays a detection signal from the gas sensor. Or
Alternatively, a gas component in a sample gas is measured by applying a technique called chemometrics (chemical measurement method) that brings detection signals of a plurality of gas sensors into multivariate analysis.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】従来のにおい識別装置
では、配置されたすべてのガスセンサにサンプルガスが
ほぼ同程度に接触されるので、いずれかのガスセンサの
感度が高すぎる場合はそのガスセンサの出力が飽和した
り、感度が低い場合は出力が十分に出ないことがあっ
た。また、ガスセンサの感度はサンプルガスの種類や同
じ装置内に配置された他のガスセンサとの組合せによっ
て異なるので、出力を同程度にすることができなかっ
た。In the conventional odor discriminating apparatus, the sample gas is brought into almost the same contact with all of the arranged gas sensors. Therefore, if the sensitivity of any one of the gas sensors is too high, the output of the gas sensor becomes too high. Was saturated or the output was not sufficient when the sensitivity was low. Further, since the sensitivity of the gas sensor differs depending on the type of the sample gas and the combination with another gas sensor arranged in the same apparatus, the output cannot be made equal.
【０００５】また、ガスセンサの種類によっては、特定
の劣化ガス成分との接触によって劣化を引き起こすもの
があり、複数個配置されたガスセンサのうちの１個でも
そのようなガスセンサを含む場合は、劣化ガス成分を含
むサンプルガスを測定できなかった。そこで本発明は、
ガスセンサの出力を適当な値に調節することができ、さ
らに、劣化ガス成分を含むサンプルガスであっても、そ
の劣化ガス成分に対して耐性があるガスセンサを１個で
も備えていれば測定できるにおい識別装置を提供するこ
とを目的とするものである。Some types of gas sensors cause deterioration by contact with a specific deteriorating gas component. If at least one of a plurality of gas sensors includes such a gas sensor, the degraded gas The sample gas containing the components could not be measured. Therefore, the present invention
The output of the gas sensor can be adjusted to an appropriate value, and even a sample gas containing a degraded gas component can be measured if at least one gas sensor that is resistant to the degraded gas component is provided. It is an object to provide an identification device.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、複数個のガス
センサを備えたにおい識別装置であって、１又は複数個
のガスセンサが配置された複数のガスセンサ室と、導入
するサンプルガス量をガスセンサ室ごとに調節できるガ
ス量調節機構とを備えたものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to an odor discriminating apparatus provided with a plurality of gas sensors, comprising a plurality of gas sensor chambers in which one or a plurality of gas sensors are arranged, and a gas sensor for measuring an amount of sample gas to be introduced. A gas amount adjusting mechanism that can be adjusted for each room.
【０００７】複数個のガスセンサを、１又は複数個ずつ
に分けて複数のガスセンサ室に配置する。まず予備測定
として、ガス量調節機構により各ガスセンサ室に同じサ
ンプルガスをそれぞれ所望のガス量で導入する。各ガス
センサについて、予備測定時の検出信号及び導入ガス量
に基づいて出力が適当であるか否かを判定し、各ガスセ
ンサ室へ導入するサンプルガス量を決定する。ガスセン
サの出力が飽和した場合は、そのガスセンサが配置され
たガスセンサ室へ導入するサンプルガス量を減少させ、
ガスセンサの出力が低い場合は、そのガスセンサが配置
されたガスセンサ室へ導入するサンプルガス量を増加さ
せる。これにより、各ガスセンサごとに適当な出力を得
られるようになる。いずれかのガスセンサに対する劣化
ガス成分を含むサンプルガスを測定する場合は、ガス量
調節機構により、そのガスセンサが配置されたガスセン
サ室へのサンプルガスの導入を停止し、その劣化ガス成
分に対して耐性があるガスセンサを備えたガスセンサ室
にはサンプルガスを導入して測定を行なう。[0007] A plurality of gas sensors are arranged in one or a plurality of gas sensor chambers. First, as a preliminary measurement, the same sample gas is introduced into each gas sensor chamber with a desired gas amount by a gas amount adjusting mechanism. For each gas sensor, it is determined whether or not the output is appropriate based on the detection signal at the time of preliminary measurement and the amount of introduced gas, and the amount of sample gas introduced into each gas sensor chamber is determined. If the output of the gas sensor is saturated, reduce the amount of sample gas introduced into the gas sensor chamber where the gas sensor is located,
When the output of the gas sensor is low, the amount of the sample gas introduced into the gas sensor chamber in which the gas sensor is arranged is increased. Thereby, an appropriate output can be obtained for each gas sensor. When measuring a sample gas containing a deteriorating gas component for one of the gas sensors, the gas amount adjustment mechanism stops the introduction of the sample gas into the gas sensor chamber in which the gas sensor is located, and the resistance to the deteriorating gas component is reduced. A sample gas is introduced into a gas sensor chamber provided with a certain gas sensor to perform measurement.
【０００８】[0008]
【実施例】図１は、一実施例を示す概略構成図である。
ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるもので
はなく、特許請求の範囲に記載の要旨の範囲内で種々の
変更ができる。複数個のガスセンサが配置されたセンサ
部３のサンプルガス入口５ａに、サンプルガスが収容さ
れたサンプルガス容器が接続されるサンプル吸引口１が
接続されている。センサ部３のサンプルガス出口５ｂは
吸引ポンプ７の吸引側に接続されている。センサ部３に
は、センサ出力を表示する出力表示装置９が電気的に接
続されている。センサ部３のクリーニングガス入口１１
ａに、センサ部３に清浄なガスを供給するクリーニング
ガス供給部１３が接続されている。センサ部３のクリー
ニングガス出口１１ｂは吸引ポンプ７の吸引側に接続さ
れている。FIG. 1 is a schematic structural view showing one embodiment.
However, the present invention is not limited to the embodiments described below, and various changes can be made within the scope of the claims. A sample suction port 1 to which a sample gas container containing a sample gas is connected is connected to a sample gas inlet 5a of the sensor unit 3 in which a plurality of gas sensors are arranged. The sample gas outlet 5 b of the sensor section 3 is connected to the suction side of the suction pump 7. An output display device 9 for displaying a sensor output is electrically connected to the sensor unit 3. Cleaning gas inlet 11 of sensor unit 3
The cleaning gas supply unit 13 that supplies a clean gas to the sensor unit 3 is connected to a. The cleaning gas outlet 11 b of the sensor unit 3 is connected to the suction side of the suction pump 7.
【０００９】図２は、センサ部３を一部切り欠いて示す
斜視図である。図３は、センサ部３の動作を模式的に示
す断面図である。ただし、図３ではガスセンサ室の個数
を簡略化して３つのみが示されている。センサ部３を構
成する胴体部１５の上面と下面に溝が形成されており、
上面の溝が板状部材１７で被われてサンプルガス流路５
が形成され、下面の溝が板状部材１９で被われてクリー
ニングガス流路１１が形成されている。胴体部１５の一
方の端面１５ａにサンプルガス入口５ａ及びクリーニン
グガス入口１１ａが形成され、他方の端面１５ｂにサン
プルガス出口５ｂ及びクリーニングガス出口１１ｂが形
成されている。FIG. 2 is a perspective view showing the sensor section 3 with a part cut away. FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing the operation of the sensor unit 3. However, in FIG. 3, only three gas sensor chambers are shown in a simplified manner. Grooves are formed on the upper surface and the lower surface of the body portion 15 constituting the sensor portion 3,
The groove on the upper surface is covered with the plate-like member 17 so that the sample gas
Are formed, and the groove on the lower surface is covered with the plate-shaped member 19 to form the cleaning gas channel 11. A sample gas inlet 5a and a cleaning gas inlet 11a are formed on one end surface 15a of the body 15, and a sample gas outlet 5b and a cleaning gas outlet 11b are formed on the other end surface 15b.
【００１０】胴体部１５には、サンプルガス流路５とク
リーニングガス流路１１の間を貫通して形成された貫通
孔からなる６つのガスセンサ室２１がサンプルガス流路
５及びクリーニングガス流路１１に沿って形成されてい
る。各ガスセンサ室２１には互いに応答特性の異なるガ
スセンサ２３が１個ずつ配置されている。図３におい
て、サンプルガス及びクリーニングガスの流れ方向に順
に、３つのガスセンサ室２１をガスセンサ室２１ａ、２
１ｂ，２１ｃとし、それらのガスセンサ室に配置された
ガスセンサ２３をガスセンサ２３ａ，２３ｂ，２３ｃと
して示す。The body portion 15 includes six gas sensor chambers 21 each having a through hole formed between the sample gas flow path 5 and the cleaning gas flow path 11. Are formed along. Each gas sensor chamber 21 is provided with one gas sensor 23 having a different response characteristic. In FIG. 3, three gas sensor chambers 21 are sequentially arranged in the gas sensor chambers 21a and 21a in the flow direction of the sample gas and the cleaning gas.
1b and 21c, and the gas sensors 23 arranged in those gas sensor chambers are shown as gas sensors 23a, 23b and 23c.
【００１１】胴体部１５には、サンプルガス流路５と直
交する方向に、ガスセンサ室２１上部から一方の側面１
５ｃまで、ガスセンサ室２１の開口よりも大きい幅寸法
をもって矩形状の溝が各ガスセンサ室２１ごとに形成さ
れている。それらの溝には板状部材からなるシャッター
２５がそれぞれ配置されている。それらの溝内でサンプ
ルガス流路５と直交する方向にシャッター２５をそれぞ
れ独立して往復移動させるサンプルガス用アクチュエー
タ２７が側面１５ｃ付近に配置されており、シャッター
２５の移動により、ガスセンサ室２１上の空間が開閉さ
れる。The body 15 has one side surface 1 from the top of the gas sensor chamber 21 in a direction orthogonal to the sample gas flow path 5.
Up to 5c, a rectangular groove having a width dimension larger than the opening of the gas sensor chamber 21 is formed for each gas sensor chamber 21. Shutters 25 made of a plate-like member are arranged in these grooves. Sample gas actuators 27 for independently reciprocating the shutters 25 in directions perpendicular to the sample gas flow path 5 in the grooves are arranged near the side surface 15c. Space is opened and closed.
【００１２】胴体部１５には、クリーニングガス流路１
１と直交する方向に、ガスセンサ室２１下部から側面１
５ｃとは反対側の側面１５ｄまで、ガスセンサ室２１の
開口よりも大きい幅寸法をもって矩形状の溝が各ガスセ
ンサ室２１ごとに形成されている。それらの溝には板状
部材からなるシャッター２９がそれぞれ配置されてい
る。それらの溝内でクリーニングガス流路１１と直交す
る方向にシャッター２９をそれぞれ独立して往復移動さ
せるクリーニングガス用アクチュエータ３１が側面１５
ｄ付近に配置されており、シャッター２９の移動によ
り、ガスセンサ室２１下の空間が開閉される。The body portion 15 includes a cleaning gas flow path 1.
1 from the lower part of the gas sensor chamber 21 in a direction orthogonal to
A rectangular groove having a width larger than the opening of the gas sensor chamber 21 is formed for each gas sensor chamber 21 up to the side surface 15d opposite to the side 5c. Shutters 29 made of a plate-like member are arranged in these grooves. A cleaning gas actuator 31 for independently reciprocating the shutter 29 in a direction perpendicular to the cleaning gas flow path 11 in the groove is provided on the side surface 15.
The space below the gas sensor chamber 21 is opened and closed by the movement of the shutter 29.
【００１３】図３（Ａ）は、全てのシャッター２５，２
９を閉じた状態である。クリーニング時には、シャッタ
ー２５を閉じ、シャッター２９を開いた状態でクリーニ
ングガス流路１１にクリーニングガスを流してガスセン
サ室２１ａ，２１ｂ，２１ｃにクリーニングガスを導入
し、ガスセンサ２３ａ，２３ｂ，２３ｃの表面を洗浄す
る。サンプルガス測定時には、シャッター２５を開き、
シャッター２９を閉じた状態でサンプルガス流路５にサ
ンプルガスを流すことにより、ガスセンサ室２１ａ，２
１ｂ，２１ｃにサンプルガスを導入する。各ガスセンサ
２３の応答から得られたデータは、主成分分析やクラス
ター解析、ニューラルネットワークなど、多変量解析に
持ち込むことができる。FIG. 3A shows all the shutters 25 and 2.
9 is closed. During cleaning, the cleaning gas is introduced into the gas sensor chambers 21a, 21b, 21c by flowing the cleaning gas into the cleaning gas flow path 11 with the shutter 25 closed and the shutter 29 opened, thereby cleaning the surfaces of the gas sensors 23a, 23b, 23c. I do. When measuring the sample gas, open the shutter 25,
By flowing the sample gas into the sample gas flow path 5 with the shutter 29 closed, the gas sensor chambers 21a, 2a
A sample gas is introduced into 1b and 21c. Data obtained from the response of each gas sensor 23 can be brought to multivariate analysis such as principal component analysis, cluster analysis, and neural network.
【００１４】この実施例では、サンプルガスに接触させ
るガスセンサを選択して測定を行なうこともできる。例
えばサンプルガス中にガスセンサ２３ａを劣化させる劣
化ガス成分が含まれている場合、サンプルガス室２１ａ
のシャッター２５を閉じ、サンプルガス室２１ｂ，２１
ｃのシャッター２５を開いた状態でそのサンプルガスを
サンプルガス流路５に流して測定することにより、ガス
センサ２３ａの劣化を防ぐことができる（図３（Ｂ）参
照）。このように、劣化ガス成分を含むサンプルガスで
あっても、その劣化ガス成分に対して耐性があるガスセ
ンサを１個でも備えていればガスセンサを劣化させるこ
となく測定することができる。In this embodiment, measurement can be performed by selecting a gas sensor to be brought into contact with the sample gas. For example, when the sample gas contains a deteriorated gas component that deteriorates the gas sensor 23a, the sample gas chamber 21a
Of the sample gas chambers 21b and 21
By flowing the sample gas into the sample gas flow path 5 and performing measurement while the shutter 25 of c is open, deterioration of the gas sensor 23a can be prevented (see FIG. 3B). As described above, even a sample gas containing a degraded gas component can be measured without deteriorating the gas sensor if at least one gas sensor having resistance to the degraded gas component is provided.
【００１５】さらに、ガスセンサに接触させるサンプル
ガスの量をガスセンサごとに調節して測定を行なうこと
もできる。例えば予備測定時にガスセンサ２３ｂの出力
が飽和してしまった場合、シャッター２５の位置を調節
してガスセンサ室２１ｂの開放度合いを調節することに
より、ガスセンサ室２１ｂに導入されるサンプルガスの
量を調節してガスセンサ２３ｂの出力を最適化すること
ができる（図３（Ｃ）参照）。このように、全てのガス
センサ２３について出力が飽和するのを抑制することが
できる。また、１つだけ低感度の場合は、そのガスセン
サ２３が配置されたガスセンサ室２１のシャッター２５
を全開にし、他のガスセンサ室２１のシャッター２５の
開放度合いを少し閉じて調節した状態にして、サンプル
ガス流路５へ導入するサンプルガス流量を増加する。こ
れにより、他のガスセンサの出力を飽和させることな
く、低感度だったガスセンサの出力を増加させることが
できる。このように、各ガスセンサ室２３ごとに適当な
出力を得られるようになる。Further, the amount of the sample gas to be brought into contact with the gas sensor can be adjusted for each gas sensor to perform the measurement. For example, when the output of the gas sensor 23b is saturated at the time of the preliminary measurement, the amount of the sample gas introduced into the gas sensor chamber 21b is adjusted by adjusting the position of the shutter 25 to adjust the degree of opening of the gas sensor chamber 21b. Thus, the output of the gas sensor 23b can be optimized (see FIG. 3C). Thus, it is possible to suppress the output of all the gas sensors 23 from being saturated. When only one of the gas sensors 23 has low sensitivity, the shutter 25 of the gas sensor chamber 21 in which the gas sensor 23 is disposed is provided.
Is fully opened, the opening degree of the shutter 25 of the other gas sensor chamber 21 is slightly closed and adjusted, and the flow rate of the sample gas introduced into the sample gas flow path 5 is increased. Thus, the output of the gas sensor having low sensitivity can be increased without saturating the output of another gas sensor. Thus, an appropriate output can be obtained for each gas sensor chamber 23.
【００１６】この実施例では、各ガスセンサ室２１に１
個ずつガスセンサ２３を配置しているが、本発明はこれ
に限定されるものではなく、１個のガスセンサ室に複数
個のガスセンサを配置してもよい。この実施例では、そ
れぞれガスセンサ２３を備えたガスセンサ室２１をシャ
ッター２５によって開閉することによりガスセンサ室２
１に接触するサンプルガスの量を調節しているが、本発
明はこれに限定されるものではなく、各ガスセンサ室に
導入するサンプルガス量をそれぞれ調節できる機構であ
ればどのような機構であってもよい。In this embodiment, one gas sensor chamber 21 is provided.
Although the gas sensors 23 are arranged individually, the present invention is not limited to this, and a plurality of gas sensors may be arranged in one gas sensor chamber. In this embodiment, the gas sensor chamber 21 provided with the gas sensor 23 is opened and closed by a shutter 25 so that the gas sensor chamber 2 can be opened and closed.
Although the amount of the sample gas that comes into contact with 1 is adjusted, the present invention is not limited to this, and any mechanism that can adjust the amount of the sample gas to be introduced into each gas sensor chamber is used. You may.
【００１７】この実施例では応答特性の異なる６個の酸
化物半導体センサを用いているが、本発明はこれに限定
されるものではなく、ガスセンサの個数は２個以上であ
れば何個でもよく、同じ応答特性をもつガスセンサを２
個以上配置してもよい。この実施例において用いるガス
センサとしては、酸化物半導体センサや導電性高分子セ
ンサ、ＱＣＭ、ＳＡＷデバイスを利用したセンサなど、
どのようなガスセンサを用いてもよい。さらに、これら
の動作原理の異なるガスセンサを組み合わせて用いても
よい。In this embodiment, six oxide semiconductor sensors having different response characteristics are used. However, the present invention is not limited to this, and the number of gas sensors may be any number as long as it is two or more. , Two gas sensors with the same response characteristics
You may arrange more than this. Examples of the gas sensor used in this embodiment include an oxide semiconductor sensor, a conductive polymer sensor, a QCM, and a sensor using a SAW device.
Any gas sensor may be used. Further, gas sensors having different operation principles may be used in combination.
【００１８】[0018]
【発明の効果】本発明のにおい識別装置では、１又は複
数個のガスセンサが配置された複数のガスセンサ室へ、
ガス量調節機構によって、同じサンプルガスについて、
導入するサンプルガス量をガスセンサ室ごとに調節する
ようにしたので、ガスセンサの出力を適当な値に調節す
ることができ、さらに、劣化ガス成分を含むサンプルガ
スを、その劣化ガス成分に対して耐性があるガスセンサ
を１個でも備えていれば測定できるようになる。According to the odor discriminating apparatus of the present invention, one or a plurality of gas sensors are arranged in a plurality of gas sensor chambers.
By the gas amount adjustment mechanism, for the same sample gas,
Since the amount of sample gas to be introduced is adjusted for each gas sensor chamber, the output of the gas sensor can be adjusted to an appropriate value, and the sample gas containing the deteriorated gas component can be resistant to the deteriorated gas component. The measurement can be performed if at least one gas sensor is provided.
【図１】 一実施例を示す概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing one embodiment.
【図２】 同実施例のセンサ部を一部切り欠いて示す斜
視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a sensor part of the embodiment with a part cut away.
【図３】 同実施例のセンサ部の動作を模式的に示す断
面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing an operation of the sensor unit of the embodiment.
１ サンプルガス吸引口 ３ センサ部 ５ サンプルガス流路 ５ａ サンプルガス入口 ５ｂ サンプルガス出口 ７ 吸引ポンプ ９ 表示装置 １１ クリーニングガス流路 １１ａ クリーニングガス入口 １１ｂ クリーニングガス出口 １３ クリーニングガス供給部 １５ センサ部の胴体部 １５ａ，１５ｂ 胴体部の端面 １５ｃ，１５ｄ 胴体部の側面 １７，１９ 板状部材 ２１，２１ａ，２１ｂ，２１ｃ ガスセンサ室 ２３，２３ａ，２３ｂ，２３ｃ ガスセンサ ２５ サンプルガス流路側のシャッター ２７ サンプルガス用アクチュエータ ２９ クリーニングガス流路側のシャッター ３１ クリーニングガス用アクチュエータ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Sample gas suction port 3 Sensor part 5 Sample gas flow path 5a Sample gas inlet 5b Sample gas outlet 7 Suction pump 9 Display device 11 Cleaning gas flow path 11a Cleaning gas inlet 11b Cleaning gas outlet 13 Cleaning gas supply part 15 Body of sensor part Part 15a, 15b End face of body part 15c, 15d Side face of body part 17, 19 Plate member 21, 21a, 21b, 21c Gas sensor chamber 23, 23a, 23b, 23c Gas sensor 25 Shutter on sample gas flow path 27 Sample gas actuator 27 29 Cleaning gas channel side shutter 31 Cleaning gas actuator
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０１Ｎ 27/12 Ｇ０１Ｎ 27/12 Ｂ ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G01N 27/12 G01N 27/12 B
Claims (1)
装置において、 １又は複数個のガスセンサが配置された複数のガスセン
サ室と、 同じサンプルガスについて、導入するサンプルガス量を
前記ガスセンサ室ごとに調節できるガス量調節機構と、
を備えたことを特徴とするにおい識別装置。1. An odor discriminating apparatus provided with a plurality of gas sensors, wherein a plurality of gas sensor chambers in which one or a plurality of gas sensors are arranged, and an amount of sample gas introduced for the same sample gas are adjusted for each of the gas sensor chambers. A gas control mechanism that can
An odor identification device comprising:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35900099A JP4192374B2 (en) | 1999-12-17 | 1999-12-17 | Odor identification device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35900099A JP4192374B2 (en) | 1999-12-17 | 1999-12-17 | Odor identification device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001174373A true JP2001174373A (en) | 2001-06-29 |
| JP4192374B2 JP4192374B2 (en) | 2008-12-10 |
Family
ID=18462227
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35900099A Expired - Lifetime JP4192374B2 (en) | 1999-12-17 | 1999-12-17 | Odor identification device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4192374B2 (en) |
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