JP2001168402A - Method for soldering thermoelectric semiconductor chip with electrode and thermoelectric semiconductor module - Google Patents

Method for soldering thermoelectric semiconductor chip with electrode and thermoelectric semiconductor module

Info

Publication number
JP2001168402A
JP2001168402A JP34494199A JP34494199A JP2001168402A JP 2001168402 A JP2001168402 A JP 2001168402A JP 34494199 A JP34494199 A JP 34494199A JP 34494199 A JP34494199 A JP 34494199A JP 2001168402 A JP2001168402 A JP 2001168402A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solder
thermoelectric semiconductor
semiconductor chip
electrode
cream solder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP34494199A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seishi Moriyama
誠士 森山
Akihiro Morimoto
晃弘 森本
Takahiro Kimura
高廣 木村
Masakazu Ishiguro
正和 石黒
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Aisin Corp
Original Assignee
Aisin Seiki Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Aisin Seiki Co Ltd filed Critical Aisin Seiki Co Ltd
Priority to JP34494199A priority Critical patent/JP2001168402A/en
Publication of JP2001168402A publication Critical patent/JP2001168402A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To minimize variations in height, when a coated film thickness of solder is made uniform to fit a thermoelectric semiconductor chip on an electrode, and enhance an assembly property of the thermoelectric module in soldering the thermoelectric semiconductor chip with the electrode. SOLUTION: A cream solder is coated on an electrode plane of a substrate in a screen printing using a mesh screen 20. As using the mesh screen, this method is not affected by a deflection, etc., of a squeegee, and as a result, a thickness of a cream solder 41 to be coated on a predetermined plane of an electrode 14 is made uniform. Furthermore, in order to thin a coating film, a particle size of solder particles of the cream solder 41 is set as 15 to 50 μm, and the mesh size for a mesh plane 21 of the mesh screen 20 is set at 100 to 200 mesh.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この出願の発明は、熱電半導
体チップと電極との半田付け方法、熱電半導体モジュー
ル及び、熱電半導体モジュール作製用治具に関するもの
であり、より詳しくは、熱電半導体チップと電極とを半
田付けする際の半田塗布膜圧の薄膜化及び均一化、それ
により作製される熱電モジュールの構成、及び、その際
に使用する治具に係るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for soldering a thermoelectric semiconductor chip and an electrode, a thermoelectric semiconductor module, and a jig for producing a thermoelectric semiconductor module. More specifically, the present invention relates to a thermoelectric semiconductor chip and an electrode. The present invention relates to thinning and uniforming of a solder coating film pressure at the time of soldering, a configuration of a thermoelectric module manufactured thereby, and a jig used at that time.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在一般的に用いられている熱電モジュ
ールの構成は、図8に示すように、対向する2枚の絶縁
基板(放熱側基板101及び吸熱側基板102)と、2
枚の絶縁基板101、102のそれぞれの対向面にパタ
ーニングされた複数の電極(放熱側基板101にパター
ニングされた複数の放熱側電極103及び吸熱側基板1
02にパターニングされた複数の吸熱側電極104)
と、放熱側基板101と吸熱側基板102との間に配設
されるとともに半田105によって複数の各電極と接合
された複数のP型熱電半導体チップ106及びN型熱電
半導体チップ107とを備える。そして、放熱側電極1
03、吸熱側電極104を介してP型熱電半導体チップ
106とN型熱電半導体チップ107とが交互に電気的
に直列に接続されている。尚、図中、符号108はリー
ド線である。このように構成し、リード線108から通
電することにより、放熱側基板101側で放熱し、吸熱
側基板102側で吸熱する。そして、吸熱側基板102
を被冷却体に当接させることによって電子冷却が行われ
る。
2. Description of the Related Art As shown in FIG. 8, a thermoelectric module generally used at present has two insulating substrates (a heat-radiating substrate 101 and a heat-absorbing substrate 102) opposed to each other.
A plurality of electrodes patterned on the respective opposing surfaces of the insulating substrates 101 and 102 (a plurality of radiation-side electrodes 103 patterned on the radiation-side substrate 101 and a plurality of heat-absorption-side substrates 1).
Plural heat-absorbing electrodes 104 patterned in 02
And a plurality of P-type thermoelectric semiconductor chips 106 and N-type thermoelectric semiconductor chips 107 disposed between the heat radiation side substrate 101 and the heat absorption side substrate 102 and joined to the plurality of electrodes by solder 105. And the heat radiation side electrode 1
03, P-type thermoelectric semiconductor chips 106 and N-type thermoelectric semiconductor chips 107 are alternately and electrically connected in series via the heat-absorbing electrodes 104. In the figure, reference numeral 108 is a lead wire. With this configuration, when current is supplied from the lead wire 108, heat is radiated on the heat radiation side substrate 101 side and heat is absorbed on the heat absorption side substrate 102 side. Then, the heat absorption side substrate 102
Is brought into contact with the object to be cooled to perform electronic cooling.

【0003】上記のような熱電モジュールを作製する際
の、熱電半導体チップと電極との半田付け方法として
は、基板にパターニングされた電極の所定面にスクリー
ン印刷によってクリーム半田を塗布し、この所定面に熱
電半導体チップを載せた状態でクリーム半田を加熱して
クリーム半田中の半田粒子を溶融させて溶融半田とする
とともにフラックスを揮発させ、その後溶融半田を冷却
固化して熱電半導体チップと電極とを接合する方法が採
用され得る。クリーム半田を電極所定面に塗布する際の
スクリーン印刷では、従来は、図8に示すように、半田
塗布部が開口したメタルスクリーン108を用い、この
メタルスクリーン108を吸熱側基板102(放熱側基
板101)の吸熱側電極104(放熱側電極103)が
パターニングされた側に被せ、メタルスクリーン108
上に塗布されたクリーム半田をスキージ(図示略)で均
してメタルスクリーン108の開口部にクリーム半田1
09を送り込むことにより、吸熱側基板102(放熱側
基板101)にパターニングされた吸熱側電極104
(放熱側電極103)の所定面にクリーム半田を塗布し
ていた。
[0003] As a method for soldering the thermoelectric semiconductor chip and the electrodes when the above-described thermoelectric module is manufactured, cream solder is applied to a predetermined surface of the electrode patterned on the substrate by screen printing, and the predetermined surface is coated. Heating the cream solder with the thermoelectric semiconductor chip placed on it melts the solder particles in the cream solder to form molten solder, volatilizes the flux, and then cools and solidifies the molten solder to separate the thermoelectric semiconductor chip and electrodes. A joining method may be employed. Conventionally, in screen printing when applying cream solder to a predetermined surface of an electrode, as shown in FIG. 8, a metal screen 108 having an open solder application portion is used, and this metal screen 108 is attached to the heat absorbing side substrate 102 (radiation side substrate). 101) is covered on the side on which the heat absorbing side electrode 104 (radiating side electrode 103) is patterned and a metal screen 108 is formed.
The cream solder applied on the top is leveled with a squeegee (not shown), and cream solder 1 is
09, the heat absorbing side electrode 104 patterned on the heat absorbing side substrate 102 (radiation side substrate 101).
The cream solder was applied to a predetermined surface of the (radiation side electrode 103).

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の半田付け方法は、電極の所定箇所にクリーム半田を
塗布するスクリーン印刷において、半田塗布部が開口し
たメタルスクリーンを用いてクリーム半田を塗布してお
り、このメタルスクリーンは開口部がスキージの均し表
面に対して開口していることから、開口部に導入される
クリーム半田の量がスキージの撓みの影響を受け、図9
に示すように開口部全域にわたって均一の厚みでクリー
ム半田を塗布することが難しいといった問題がある。均
一の厚みでクリーム半田を塗布することができなかった
場合には、半田塗布膜厚がばらつき、その後に熱電半導
体チップを電極に取り付けた場合の高さのばらつきを生
じ、熱電モジュールをうまく組付けることができないお
それがある。また、半田塗布厚が最も薄い部分を必要と
すべきクリーム半田の塗布厚みとして設定しなければな
らず、塗布膜厚が均一な場合と比べて相対的にクリーム
半田の塗布量が多くなる。クリーム半田の塗布量が多い
場合、その後の工程で電極に熱電半導体チップを押し付
けるときに余剰の半田が押圧力により流動し、このよう
にして流動した半田は、電極におけるP型及びN型熱電
半導体チップ間の部分に溜り、このまま加熱・冷却され
て半田付けが完了する。すると、図8に示すように、各
電極におけるP型及びN型熱電半導体間で大きな半田の
盛り上がり部分(図示A)が形成される。この盛り上が
り部分の厚みは、従来のものでは約300〜400μm
程度である。この盛り上がり部分が大きい程、熱電半導
体チップ側面と半田の盛り上がり部分が接触する危険性
が大きくなる。通常熱電半導体チップは電極との接合面
にニッケルメッキ等を施して熱電半導体チップ内への半
田成分の拡散を防止しているが、その側面部分にはニッ
ケルメッキ等の拡散防止処理はなされていないので、チ
ップ側面が半田の盛り上がり部分に接触した場合、半田
成分が熱電半導体チップ内部に拡散してしまう。このた
め熱電半導体チップの材料特性変化が起き、信頼性、性
能低下の要因となっていた。
However, in the above-mentioned conventional soldering method, in screen printing for applying cream solder to a predetermined portion of an electrode, cream solder is applied using a metal screen having an open solder application portion. Since the opening of the metal screen is open to the leveling surface of the squeegee, the amount of cream solder introduced into the opening is affected by the deflection of the squeegee, and FIG.
As shown in (1), there is a problem that it is difficult to apply cream solder with a uniform thickness over the entire opening. If the cream solder cannot be applied with a uniform thickness, the thickness of the applied solder will vary, and then the height will vary when the thermoelectric semiconductor chip is attached to the electrodes. May not be possible. Also, the portion where the solder application thickness is the thinnest must be set as the required cream solder application thickness, so that the application amount of the cream solder becomes relatively large as compared with the case where the applied film thickness is uniform. When the applied amount of the cream solder is large, when the thermoelectric semiconductor chip is pressed against the electrode in a subsequent process, the excess solder flows due to the pressing force, and the solder thus flown is applied to the P-type and N-type thermoelectric semiconductors at the electrode. It collects in the portion between the chips and is heated and cooled as it is to complete the soldering. Then, as shown in FIG. 8, a large solder bump (A in the figure) is formed between the P-type and N-type thermoelectric semiconductors in each electrode. The thickness of the raised portion is about 300 to 400 μm in the conventional one.
It is about. The risk of contact between the thermoelectric semiconductor chip side surface and the raised portion of the solder increases as the raised portion increases. Normally, the thermoelectric semiconductor chip is coated with nickel plating or the like on the bonding surface with the electrode to prevent the diffusion of the solder component into the thermoelectric semiconductor chip, but the side surface portion is not subjected to the diffusion prevention treatment such as nickel plating. Therefore, when the side surface of the chip comes into contact with the raised portion of the solder, the solder component diffuses into the thermoelectric semiconductor chip. For this reason, the material characteristics of the thermoelectric semiconductor chip change, which causes a reduction in reliability and performance.

【0005】また、上述の半田の盛り上がり部分の高さ
が高いと、さらに以下のような弊害を起こす。すなわ
ち、例えば吸熱側電極に半田の盛り上がり部分が形成さ
れたとすると、吸熱側基板での冷熱はこの盛り上がり部
分にも伝達される。ここで、盛り上がり部分の高さが高
い程、放熱側基板との距離が短くなり、対流や輻射等で
冷熱が放熱側基板に熱移動してしまう量が多くなる。こ
のため冷却効率の悪化を招く要因ともなっていた。
If the height of the raised portion of the solder is high, the following adverse effects are caused. That is, for example, if a swelling portion of the solder is formed on the heat-absorbing side electrode, the cold heat in the heat-absorbing side substrate is also transmitted to the swelling portion. Here, as the height of the raised portion is higher, the distance from the heat radiation side substrate becomes shorter, and the amount of cold heat transferred to the heat radiation side substrate by convection or radiation increases. For this reason, the cooling efficiency was also a factor.

【0006】故に、本発明は、上記実情に鑑みてなされ
たものであり、熱電半導体チップと電極との半田付けに
おいて、半田の塗布膜厚を均一化して熱電半導体チップ
を電極に取り付けた場合の高さばらつきを極小とし、熱
電モジュールの組付け性を向上させることを第1の技術
的課題とする。また、塗布膜厚をできるだけ薄くし、半
田の塗布量の増加に起因した熱電半導体チップの信頼性
や性能低下を防止することを第2の技術的課題とする。
[0006] Therefore, the present invention has been made in view of the above circumstances, and in the case of soldering a thermoelectric semiconductor chip to an electrode, a case where the thermoelectric semiconductor chip is attached to the electrode by equalizing the thickness of the solder coating. A first technical problem is to minimize the height variation and improve the assemblability of the thermoelectric module. A second technical problem is to reduce the coating film thickness as much as possible and to prevent a decrease in the reliability or performance of the thermoelectric semiconductor chip due to an increase in the amount of solder applied.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記技術的課題を解決す
るためになされた請求項1に記載の発明は、基板にパタ
ーニングされた電極の所定面にスクリーン印刷によって
クリーム半田を塗布する塗布工程と、前記クリーム半田
が塗布された前記所定面に熱電半導体チップを押し付け
つつ前記クリーム半田を加熱して前記クリーム半田中の
半田粒子を溶融させて溶融半田とするとともにフラック
スを揮発させる加熱工程と、該加熱工程後に前記溶融半
田を冷却固化することにより前記熱電半導体チップと前
記電極とを接合する冷却固化工程とを含む熱電半導体チ
ップと電極との半田付け方法において、前記スクリーン
印刷は、メッシュスクリーンを用いて行われることを特
徴とする熱電半導体チップと電極との半田付け方法とし
たことである。
According to the first aspect of the present invention, there is provided an application step of applying cream solder to a predetermined surface of an electrode patterned on a substrate by screen printing. A heating step of heating the cream solder while pressing the thermoelectric semiconductor chip against the predetermined surface to which the cream solder has been applied to melt the solder particles in the cream solder to form a molten solder and volatilize the flux; In a method of soldering a thermoelectric semiconductor chip and an electrode including a cooling and solidifying step of joining the thermoelectric semiconductor chip and the electrode by cooling and solidifying the molten solder after the heating step, the screen printing uses a mesh screen. And a method of soldering a thermoelectric semiconductor chip and an electrode.

【0008】上記請求項1の発明によれば、熱電半導体
チップと電極との半田付け方法において、基板にパター
ニングされた電極の所定面にスクリーン印刷によってク
リーム半田を塗布する際、従来のようなメタルスクリー
ンではなく、メッシュスクリーンを用いてスクリーン印
刷を行う。
According to the first aspect of the present invention, in a method of soldering a thermoelectric semiconductor chip to an electrode, when cream solder is applied by screen printing to a predetermined surface of an electrode patterned on a substrate, a conventional metal solder is used. Screen printing is performed using a mesh screen instead of a screen.

【0009】請求項1の発明では上記構成のように、メ
ッシュスクリーンを用いてスクリーン印刷を行うため、
スキージによってメッシュスクリーン上のクリーム半田
を均す際、スキージと開口部との間にメッシュが介在す
る。このため開口部とスキージとは直接接触せず、スキ
ージで均されたクリーム半田はメッシュを経て開口部に
導入されるため、開口部に導入されるクリーム半田の量
がスキージの撓み等の影響を受けることはない。このた
め、開口部に導入されるクリーム半田の厚みのばらつき
を抑えられ、電極の所定面に塗布されるクリーム半田の
厚みが均一となる。
According to the first aspect of the present invention, since screen printing is performed using a mesh screen as in the above configuration,
When the cream solder on the mesh screen is leveled by the squeegee, the mesh is interposed between the squeegee and the opening. For this reason, the opening does not come into direct contact with the squeegee, and the cream solder leveled by the squeegee is introduced into the opening via the mesh. I will not receive it. For this reason, variation in the thickness of the cream solder introduced into the opening can be suppressed, and the thickness of the cream solder applied to the predetermined surface of the electrode becomes uniform.

【0010】請求項1の発明は、上記作用により電極の
所定面に塗布されるクリーム半田の厚みが均一となるの
で、その後に熱電半導体チップを電極に取り付けた場合
の高さのばらつきを抑えることができ、熱電モジュール
の組付け性を向上させることができる。
According to the first aspect of the present invention, since the thickness of the cream solder applied to a predetermined surface of the electrode is made uniform by the above-described operation, the height variation when the thermoelectric semiconductor chip is attached to the electrode after that is suppressed. And the assemblability of the thermoelectric module can be improved.

【0011】また、請求項2の発明は、請求項1におい
て、前記クリーム半田は粒径が15〜50μmの半田粒
子を含み、かつ、前記メッシュスクリーンはメッシュサ
イズが100〜200メッシュであることを特徴とする
熱電半導体チップと電極との半田付け方法とすることで
ある。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the cream solder contains solder particles having a particle size of 15 to 50 μm, and the mesh screen has a mesh size of 100 to 200 mesh. A feature is a method of soldering a thermoelectric semiconductor chip and an electrode.

【0012】通常クリーム半田中に含まれる半田粒子の
粒径は約60μm程度である。このような大きな半田粒
子が主として含まれている通常のクリーム半田を用いて
メッシュスクリーンによりスクリーン印刷を行なった場
合、塗布膜厚の均一化は実現できるものの、その膜厚は
実質的に100μm以上となり、塗布膜厚の薄膜化は実
現できない。そこで、請求項2の発明では、クリーム半
田として粒径が15〜50μmの半田粒子を含んだもの
を用いてメッシュスクリーンによりスクリーン印刷を行
う。このため半田塗布膜厚を約70μmもしくはそれ以
下とすることができ、クリーム半田の塗布膜厚の均一化
のみならず、塗布膜厚の薄膜化を共に実現することがで
きる。尚、半田粒子の粒径が15μm以下であると、半
田塗布量が安定せず、かすれが発生するため、半田付け
不良になるという不具合がある。また、50μm以下の
半田粒子をメッシュに通す必要上、スクリーンメッシュ
のメッシュサイズは100〜200メッシュのサイズと
する。
Usually, the particle size of the solder particles contained in the cream solder is about 60 μm. When screen printing is performed by a mesh screen using ordinary cream solder mainly containing such large solder particles, the coating film thickness can be made uniform, but the film thickness is substantially 100 μm or more. However, it is impossible to reduce the thickness of the applied film. Therefore, in the invention of claim 2, screen printing is performed by a mesh screen using cream solder containing solder particles having a particle size of 15 to 50 μm. For this reason, the thickness of the solder coating can be reduced to about 70 μm or less, and not only can the coating thickness of the cream solder be made uniform, but also the coating thickness can be reduced. If the particle size of the solder particles is 15 μm or less, the amount of solder applied is not stable, and blurring occurs. In addition, the mesh size of the screen mesh is set to 100 to 200 mesh because solder particles of 50 μm or less need to be passed through the mesh.

【0013】上記請求項2の発明によれば、上記構成及
び作用により、クリーム半田の塗布膜厚の薄膜化が図れ
る。このため、その後の工程で電極に熱電半導体チップ
を押し付けるときの押圧力により流動するクリーム半田
の流動量が減少し、半田付け完了後の半田の盛り上がり
部分を小さくすることができる。したがって、この盛り
上がり部分が熱電半導体チップの側面部分に接触する危
険性が小さくなり、半田と熱電半導体チップとの接触に
よるチップ内への半田成分の拡散が防止でき、ひいては
熱電半導体チップの材料特性の変化に伴う信頼性、性能
低下を防止することができる。また、半田の盛り上がり
部分を小さくできるので、この盛り上がり部分と対向す
る側の基板との距離も長く取れ、この距離が短いことに
起因する冷却効率の悪化を防止することもできる。
According to the second aspect of the present invention, the thickness and thickness of the cream solder applied can be reduced by the above configuration and operation. For this reason, the flow amount of the cream solder flowing due to the pressing force when pressing the thermoelectric semiconductor chip against the electrode in the subsequent process is reduced, and the swelling portion of the solder after the completion of the soldering can be reduced. Therefore, the danger of the raised portion coming into contact with the side surface portion of the thermoelectric semiconductor chip is reduced, and the diffusion of the solder component into the chip due to the contact between the solder and the thermoelectric semiconductor chip can be prevented. It is possible to prevent a decrease in reliability and performance due to the change. Further, since the swelling portion of the solder can be reduced, the distance between the swelling portion and the substrate on the side facing the swelling portion can be increased, and deterioration of the cooling efficiency due to the short distance can be prevented.

【0014】また、上記技術的課題を解決するためにな
された請求項3の発明は、対向する2枚の絶縁基板と、
前記2枚の絶縁基板のそれぞれの対向面にパターニング
された複数の電極と、前記2枚の絶縁基板間に配設され
るとともに前記複数の各電極と半田接合された複数のP
型熱電半導体チップ及びN型熱電半導体チップとを備
え、前記電極を介してP型熱電半導体チップとN型熱電
半導体チップとが交互に電気的に直列に接続されてなる
熱電モジュールにおいて、前記P型及びN型熱電半導体
チップと電極との間に介在する半田の厚みは10μm〜
30μmであり、前記複数の各電極における前記P型熱
電半導体チップと前記N型熱電半導体チップとの間の部
分に塗布された半田の厚みは150μm以下で有ること
を特徴とする熱電モジュールとすることである。
[0014] In order to solve the above-mentioned technical problem, the invention of claim 3 provides two opposing insulating substrates,
A plurality of electrodes patterned on respective opposing surfaces of the two insulating substrates; and a plurality of Ps disposed between the two insulating substrates and soldered to the plurality of electrodes.
A thermoelectric module comprising a thermoelectric semiconductor chip and an n-type thermoelectric semiconductor chip, wherein the p-type thermoelectric semiconductor chip and the n-type thermoelectric semiconductor chip are alternately and electrically connected in series via the electrodes. And the thickness of the solder interposed between the N-type thermoelectric semiconductor chip and the electrode is 10 μm or more.
30 μm, and a thickness of solder applied to a portion between the P-type thermoelectric semiconductor chip and the N-type thermoelectric semiconductor chip in each of the plurality of electrodes is 150 μm or less. It is.

【0015】上記請求項3の発明によれば、対向する2
枚の絶縁基板と、2枚の絶縁基板のそれぞれの対向面に
パターニングされた複数の電極と、2枚の絶縁基板間に
配設されるとともに複数の各電極と半田接合された複数
のP型熱電半導体チップ及びN型熱電半導体チップとを
備え、電極を介してP型熱電半導体チップとN型熱電半
導体チップとが交互に電気的に直列に接続されてなる熱
電モジュールにおいて、P型及びN型熱電半導体チップ
と電極との間に介在する半田の厚みが10μm〜30μ
mであり、複数の各電極におけるP型熱電半導体チップ
とN型熱電半導体チップとの間の部分に塗布された半田
の厚みは150μm以下である。上記P型及びN型熱半
導体チップと電極との間に介在する半田の厚みが10μ
m〜30μmと、非常に薄い半田膜であるので、半田の
使用量を節約することができる。また、上記複数の各電
極におけるP型熱電半導体チップとN型熱電半導体チッ
プ間の部分に塗布された半田の厚み(半田の盛り上がり
部分の厚み)が150μm以下と、従来のもの(約30
0〜400μm)と比べて小さいため、熱電半導体チッ
プの側面と接触する危険性が小さくなり、この接触によ
り半田成分が熱電半導体チップ内部に拡散することを防
止し、熱電半導体チップの材料特性変化の防止、ひいて
は信頼性、性能低下を防止することができるとともに、
相手側基板との距離が長く取れ、対流や輻射等による熱
移動を少なくして冷却効率の悪化を防止することができ
る。
According to the third aspect of the present invention, the two opposing
A plurality of insulating substrates, a plurality of electrodes patterned on respective opposing surfaces of the two insulating substrates, and a plurality of P-types disposed between the two insulating substrates and soldered to the plurality of electrodes. A thermoelectric module comprising a thermoelectric semiconductor chip and an N-type thermoelectric semiconductor chip, wherein a P-type thermoelectric semiconductor chip and an N-type thermoelectric semiconductor chip are alternately and electrically connected in series via electrodes. The thickness of the solder interposed between the thermoelectric semiconductor chip and the electrode is 10 μm to 30 μm
m, and the thickness of the solder applied to the portion between the P-type thermoelectric semiconductor chip and the N-type thermoelectric semiconductor chip in each of the plurality of electrodes is 150 μm or less. The thickness of the solder interposed between the P-type and N-type thermal semiconductor chips and the electrodes is 10 μm.
Since the thickness of the solder film is as thin as m to 30 μm, the amount of solder used can be reduced. In addition, the thickness of the solder (the thickness of the swelled portion of the solder) applied to the portion between the P-type thermoelectric semiconductor chip and the N-type thermoelectric semiconductor chip in each of the plurality of electrodes is 150 μm or less, which is about 30 μm or less.
0 to 400 μm), the danger of contact with the side surface of the thermoelectric semiconductor chip is reduced, and the solder component is prevented from diffusing into the thermoelectric semiconductor chip due to this contact, and the material property change of the thermoelectric semiconductor chip is reduced. Prevention, and eventually reliability and performance degradation,
The distance from the counterpart substrate can be increased, and heat transfer due to convection, radiation, or the like can be reduced, thereby preventing deterioration in cooling efficiency.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0017】まず、本例において作製する熱電モジュー
ルの構成について図1に基づいて説明する。図1におい
て、熱電モジュール10は、対向する2枚の絶縁基板
(放熱側基板11及び吸熱側基板12)を備える。放熱
側基板11の一表面には複数の放熱側電極13がパター
ニングされ、吸熱側基板12の一表面には複数の吸熱側
電極14がパターニングされている。そして、放熱側基
板11の放熱側電極13がパターニングされた面と吸熱
側基板12の吸熱側電極14がパターニングされた面と
は対面している。
First, the configuration of the thermoelectric module manufactured in this embodiment will be described with reference to FIG. In FIG. 1, a thermoelectric module 10 includes two opposing insulating substrates (a heat-radiating substrate 11 and a heat-absorbing substrate 12). A plurality of heat radiation side electrodes 13 are patterned on one surface of the heat radiation side substrate 11, and a plurality of heat absorption side electrodes 14 are patterned on one surface of the heat absorption side substrate 12. The surface of the heat-dissipating substrate 11 on which the heat-dissipating electrodes 13 are patterned and the surface of the heat-dissipating substrate 12 on which the heat-absorbing electrodes 14 are patterned face each other.

【0018】各電極13、14の表面には、半田層15
が形成されている。そして、半田層15の表面にはP型
熱電半導体チップ16及びN型熱電半導体チップ17が
接合されている。このような接合によって、各電極1
3、14にP型及びN型熱電半導体チップ16及び17
が接合されている。尚、図に示すように、両端の電極
(本例の場合は両端の吸熱側電極14)には熱電半導体
チップが1つのみ(本例の場合、図示右端の吸熱側電極
にはP型熱電半導体チップ16が1つのみ、図示左端の
吸熱側電極にはN型熱電半導体チップ17が1つのみ)
接合され、その他の電極にはP型熱電半導体チップ16
及びN型熱電半導体チップ17が共に、所定の間隔をお
いて接合されており、放熱側電極13、吸熱側電極14
を介してP型熱電半導体チップ16とN型熱電半導体チ
ップ17とが交互に電気的に直列に接続されている。
尚、図中、符号18はリード線である。
A solder layer 15 is provided on the surface of each of the electrodes 13 and 14.
Are formed. The P-type thermoelectric semiconductor chip 16 and the N-type thermoelectric semiconductor chip 17 are joined to the surface of the solder layer 15. By such bonding, each electrode 1
P-type and N-type thermoelectric semiconductor chips 16 and 17
Are joined. As shown in the figure, only one thermoelectric semiconductor chip is provided on the electrodes at both ends (in this example, the heat-absorbing electrodes 14 at both ends). (Only one semiconductor chip 16 and only one N-type thermoelectric semiconductor chip 17 on the heat absorbing side electrode at the left end in the figure)
The P-type thermoelectric semiconductor chip 16 is joined to the other electrodes.
The N-type thermoelectric semiconductor chip 17 and the N-type thermoelectric semiconductor chip 17 are joined at a predetermined interval.
The P-type thermoelectric semiconductor chips 16 and the N-type thermoelectric semiconductor chips 17 are alternately and electrically connected in series via.
In the drawing, reference numeral 18 is a lead wire.

【0019】熱電モジュール10はこのように構成さ
れ、リード線18から通電することにより、放熱側基板
11側で放熱し、吸熱側基板12側で吸熱する。そし
て、吸熱側基板12を被冷却体に当接させることによっ
て被冷却体から熱を奪い、電子冷却が行われる。
The thermoelectric module 10 is configured as described above, and when electricity is supplied from the lead wire 18, heat is radiated on the heat radiation side substrate 11 side and heat is absorbed on the heat absorption side substrate 12 side. Then, the heat absorption side substrate 12 is brought into contact with the object to be cooled, thereby removing heat from the object to be cooled and performing electronic cooling.

【0020】図2は、図1における部分拡大断面図であ
る。図2に示すように、半田層15は、P型熱電半導体
チップ16及びN型熱電半導体チップ17と電極13、
14との接合面の半田厚みである接合面厚みt1と、P
型熱電半導体チップ16とN型熱電半導体チップ17と
の間の部分の半田厚みである中間部厚みt2とで異なっ
た厚みとなっており、中間部厚みt2の方が接合面厚み
t1よりも厚く、半田層15の中央部が若干盛り上がっ
た状態となっている。本例の熱電モジュール10では、
この半田層15の厚みとして、接合面厚みt1が10μ
m〜30μm、中間部厚みt2が10μm〜150μm
の範囲である。
FIG. 2 is a partially enlarged sectional view of FIG. As shown in FIG. 2, the solder layer 15 includes a P-type thermoelectric semiconductor chip 16 and an N-type
14, the thickness of the joint surface t1, which is the solder thickness of the joint surface with
The intermediate portion thickness t2 which is the solder thickness of the portion between the type thermoelectric semiconductor chip 16 and the N-type thermoelectric semiconductor chip 17 has a different thickness, and the intermediate portion thickness t2 is larger than the bonding surface thickness t1. , The center of the solder layer 15 is slightly raised. In the thermoelectric module 10 of the present example,
As the thickness of the solder layer 15, the joining surface thickness t1 is 10 μm.
m to 30 μm, and the thickness t2 of the intermediate portion is 10 to 150 μm
Range.

【0021】上記構成に示すように、本例における熱電
モジュールの構成は、対向する放熱側基板11及び吸熱
側基板12と、これらの絶縁基板のそれぞれの対向面に
パターニングされた複数の電極(放熱側基板11にパタ
ーニングされた放熱側電極13及び吸熱側基板12にパ
ターニングされた吸熱側電極14)と、2枚の絶縁基板
11、12間に配設されるとともに複数の各電極13、
14と半田接合された複数のP型熱電半導体チップ16
及びN型熱電半導体チップ17とを備え、電極13、1
4を介してP型熱電半導体チップ16とN型熱電半導体
チップ17とが交互に電気的に直列に接続されてなる熱
電モジュール10において、P型及びN型熱電半導体チ
ップ16、17と電極13、14との間に介在する半田
の厚み(接合面厚み)t1は10μm〜30μmであ
り、複数の各電極13、14におけるP型熱電半導体チ
ップ16とN型熱電半導体チップ17との間の部分に塗
布された半田の盛り上がり部分の厚み(中間部厚み)t
2は150μm以下である。上記厚みt1が10μm〜
30μmと、非常に薄い半田膜であるので、半田の使用
量を節約することができる。また、上記厚みt2が15
0μm以下と、従来のもの(300〜400μm)と比
べて小さいため、熱電半導体チップ16、17と半田の
盛り上がり部分が接触する危険性が小さくなり、この接
触により半田成分が熱電半導体チップ内部に拡散するこ
とを防止し、熱電半導体チップの材料特性変化の防止、
ひいては信頼性、性能低下を防止することができるとと
もに、相手側基板との距離(図示距離L1)が長く取
れ、対流や輻射等による熱移動を少なくして冷却効率の
悪化を防止することができる。
As shown in the above configuration, the configuration of the thermoelectric module in this embodiment is such that the heat radiation side substrate 11 and the heat absorption side substrate 12 facing each other, and a plurality of electrodes (radiation side) patterned on the respective opposing surfaces of these insulating substrates. The heat-dissipating electrode 13 patterned on the side substrate 11 and the heat-absorbing electrode 14 patterned on the heat-absorbing substrate 12) and a plurality of electrodes 13 disposed between the two insulating substrates 11 and 12.
P-type thermoelectric semiconductor chips 16 solder-bonded to
And an N-type thermoelectric semiconductor chip 17.
In the thermoelectric module 10 in which the P-type thermoelectric semiconductor chips 16 and the N-type thermoelectric semiconductor chips 17 are alternately and electrically connected in series through the PDP 4, the P-type and N-type thermoelectric semiconductor chips 16, 17 and the electrodes 13, The thickness (joint surface thickness) t1 of the solder interposed between the P-type thermoelectric semiconductor chip 17 and the N-type thermoelectric semiconductor chip 17 in each of the plurality of electrodes 13 and 14 is 10 μm to 30 μm. Thickness (middle part thickness) t of the raised part of the applied solder
2 is 150 μm or less. The thickness t1 is 10 μm or more
Since the solder film is as thin as 30 μm, the amount of solder used can be reduced. The thickness t2 is 15
0 μm or less, which is smaller than the conventional one (300 to 400 μm), the risk of contact between the thermoelectric semiconductor chips 16 and 17 and the bulging portion of the solder is reduced, and the solder component diffuses into the thermoelectric semiconductor chip due to this contact. To prevent changes in material properties of thermoelectric semiconductor chips,
As a result, the reliability and performance can be prevented from deteriorating, and the distance (illustrated distance L1) from the counterpart substrate can be increased, so that heat transfer due to convection, radiation, or the like can be reduced to prevent deterioration in cooling efficiency. .

【0022】次に、上記のような構成の熱電モジュール
10の作製手順のうち、熱電半導体チップ16、17と
電極13、14との半田付け方法について説明する。
Next, a method of soldering the thermoelectric semiconductor chips 16 and 17 and the electrodes 13 and 14 in the procedure for manufacturing the thermoelectric module 10 having the above configuration will be described.

【0023】熱電モジュール10の半田付け方法は、本
例では、以下に示す5つの工程を主な工程とする。
In the present embodiment, the main steps of the method for soldering the thermoelectric module 10 are the following five steps.

【0024】(1)クリーム半田塗布工程 (2)中間組立体加熱工程 (3)中間組立体冷却固化工程 (4)最終組立体加熱工程 (5)最終組立体冷却固化工程 上記5つの工程において、(1)のクリーム半田塗布工
程が本発明における塗布工程に、(2)の中間組立体加
熱工程及び(4)の最終組立体加熱工程が本発明におけ
る加熱工程に、(3)の中間組立体冷却固化工程及び
(5)の最終組立体冷却固化工程が本発明における冷却
固化工程に、それぞれ該当する。
(1) Cream solder application step (2) Intermediate assembly heating step (3) Intermediate assembly cooling / solidification step (4) Final assembly heating step (5) Final assembly cooling / solidification step The cream solder applying step (1) corresponds to the applying step in the present invention, the intermediate assembly heating step (2) and the final assembly heating step (4) correspond to the heating step in the present invention, and the intermediate assembly (3). The cooling and solidifying step and the final assembly cooling and solidifying step (5) correspond to the cooling and solidifying step in the present invention, respectively.

【0025】以下、順に、工程毎に説明する。Hereinafter, each step will be described in order.

【0026】(1)塗布工程 まず、基板にパターニングされた電極の所定面に、図3
に示すようなスクリーン印刷機50でスクリーン印刷に
よりクリーム半田を塗布する。スクリーン印刷で使用す
るスクリーンは、図4に示すようなメッシュスクリーン
20である。このメッシュスクリーン20は、ステンレ
ス、テトロン等の細線で網目状に形成されたメッシュ面
21と樹脂プレート22とを重ね合わせて構成されてい
る。メッシュ面21と樹脂プレート22は、その厚みが
それぞれ70μm、30μmであり、樹脂プレート22
の所定箇所には表裏貫通した開口部22aが複数個形成
されている。メッシュ面21のメッシュサイズは150
メッシュとされている。このようなメッシュスクリーン
20を使用し、図5(a)〜(d)に示すようにしてク
リーム半田を電極の所定面に塗布する。具体的には、ま
ず図5(a)に示すように、基板(例えば吸熱側基板1
2)の電極(例えば吸熱側電極14)がパターニングさ
れた面にメッシュスクリーン20を被せる。このとき、
メッシュスクリーン20の樹脂プレート22が電極14
と対面するような向きで、かつ、樹脂プレート22の開
口部22aが電極14の所定面(半田を塗布したい面)
に対面するように位置を調整して被せる。次に、図5
(b)に示すように、メッシュスクリーン20のメッシ
ュ面21にクリーム半田41を垂らし、スキージ51
(図3参照)でクリーム半田41をメッシュ面21上に
均す。本例で使用するクリーム半田41は半田粒子及び
フラックスを含んでなり、このうちの半田粒子は、その
粒径が15〜50μmとなるように形成されている。従
って、クリーム半田41は、メッシュ面21の網目(メ
ッシュサイズ150メッシュ、即ちメッシュの開口幅が
100μm)を侵入し、図5(c)に示すように樹脂プ
レート22の開口部22a内にクリーム半田41が導か
れる。その後、図5(d)に示すようにメッシュスクリ
ーン20を基板12から取り外すと、電極14の所定面
にクリーム半田41が塗布される。
(1) Coating Step First, a predetermined surface of an electrode patterned on a substrate is
The cream solder is applied by screen printing using a screen printer 50 as shown in FIG. The screen used for screen printing is a mesh screen 20 as shown in FIG. The mesh screen 20 is configured by overlapping a mesh surface 21 formed of a fine wire of stainless steel, tetron or the like in a mesh shape with a resin plate 22. The mesh surface 21 and the resin plate 22 have a thickness of 70 μm and 30 μm, respectively.
A plurality of openings 22a penetrating from the front to the back are formed at predetermined locations. The mesh size of the mesh surface 21 is 150
It is a mesh. Using such a mesh screen 20, cream solder is applied to a predetermined surface of the electrode as shown in FIGS. 5 (a) to 5 (d). More specifically, first, as shown in FIG.
The mesh screen 20 is placed on the surface on which the electrode (2) (for example, the heat absorbing electrode 14) is patterned. At this time,
The resin plate 22 of the mesh screen 20 is
And the opening 22a of the resin plate 22 is a predetermined surface of the electrode 14 (the surface on which the solder is to be applied).
Adjust the position so that it faces and cover it. Next, FIG.
As shown in (b), the cream solder 41 is dropped on the mesh surface 21 of the mesh screen 20, and the squeegee 51
The cream solder 41 is leveled on the mesh surface 21 (see FIG. 3). The cream solder 41 used in this example includes solder particles and flux, and the solder particles are formed so that the particle size is 15 to 50 μm. Therefore, the cream solder 41 penetrates the mesh of the mesh surface 21 (mesh size 150 mesh, that is, the opening width of the mesh is 100 μm), and the cream solder 41 enters the opening 22a of the resin plate 22 as shown in FIG. 41 is led. Thereafter, as shown in FIG. 5D, when the mesh screen 20 is removed from the substrate 12, the cream solder 41 is applied to a predetermined surface of the electrode 14.

【0027】上記のような塗布工程を、吸熱側基板12
と放熱側基板11において施す。この工程により、吸熱
側基板12にパターニングされた吸熱側電極14の所定
面及び、放熱側基板11にパターニングされた放熱側電
極13の所定面に、クリーム半田が塗布される。
The above-described coating step is performed by
On the heat radiation side substrate 11. In this step, cream solder is applied to a predetermined surface of the heat absorption side electrode 14 patterned on the heat absorption side substrate 12 and a predetermined surface of the heat radiation side electrode 13 patterned on the heat radiation side substrate 11.

【0028】上記塗布方法の説明でわかるように、基板
12にパターニングされた電極14の所定面にスクリー
ン印刷によってクリーム半田41を塗布する場合、スク
リーン印刷に使用するスクリーンとしてメッシュスクリ
ーン20を使用している。従って、メッシュスクリーン
20のメッシュ面21に垂らされたクリーム半田41を
スキージ51で均して樹脂プレート22の開口部22a
に導入する場合、開口部22aとスキージ51の均し表
面との間にメッシュ面21が介在するので、開口部22
aとスキージ51とは直接接触せず、スキージで均され
たクリーム半田41はメッシュ面21のメッシュを経て
開口部22aに導入される。このため開口部22aに導
入されるクリーム半田41の量はスキージの撓みの影響
を受けず、クリーム半田41を電極14の所定面に塗布
した際の厚みはほぼ均一となる。従って、その後に熱電
半導体チップを電極14に取り付けた場合の高さのばら
つきを抑えることができ、熱電モジュールの組付け性を
向上させることができる。
As can be seen from the above description of the coating method, when the cream solder 41 is applied by screen printing to a predetermined surface of the electrode 14 patterned on the substrate 12, the mesh screen 20 is used as a screen used for screen printing. I have. Accordingly, the cream solder 41 hung on the mesh surface 21 of the mesh screen 20 is leveled by the squeegee 51, and the opening 22a of the resin plate 22 is formed.
When the squeegee 51 is introduced into the opening 22a, the mesh surface 21 is interposed between the opening 22a and the leveling surface of the squeegee 51.
The a and the squeegee 51 do not directly contact each other, and the cream solder 41 leveled by the squeegee is introduced into the opening 22 a through the mesh on the mesh surface 21. Therefore, the amount of the cream solder 41 introduced into the opening 22a is not affected by the deflection of the squeegee, and the thickness when the cream solder 41 is applied to a predetermined surface of the electrode 14 is substantially uniform. Therefore, it is possible to suppress a variation in height when the thermoelectric semiconductor chip is attached to the electrode 14 thereafter, and it is possible to improve the assemblability of the thermoelectric module.

【0029】また、本例におけるスクリーン印刷で使用
するクリーム半田41の半田粒子は、粒径が15〜50
μmとなるように構成されている。さらに、メッシュス
クリーン20のメッシュ面21の厚さは70μm、樹脂
プレート22の厚さは30μmであり、かつメッシュ面
21のメッシュサイズは150メッシュ(開口幅100
μm)である。従って、スキージで均されたクリーム半
田中の半田粒子はメッシュの網目をかいくぐることがで
き、半田粒子を含んだクリーム半田が樹脂プレート22
の開口部22aに導入される。ここで、開口部22aの
厚さは樹脂プレート22の厚さと同じ30μmであるの
で、この厚さ30μmの開口部22a内にクリーム半田
が充填された状態となる。その後、メッシュスクリーン
20を取り外すが、このときメッシュ面21内に溜まっ
ていたクリーム半田が開口部22a内に充填されたクリ
ーム半田に吸収されてその厚みを増し、この結果、電極
14の所定面には、厚さ約70μmの薄いクリーム半田
の膜が、均一に塗布される。このように、クリーム半田
41に含まれる半田粒子の粒径を従来のものよりも小さ
くし(本例では15〜50μm)、かつメッシュスクリ
ーン20のメッシュ面21のメッシュサイズを半田粒子
が通過できる範囲で設定(本例では150メッシュ)
し、かつメッシュスクリーン20の樹脂プレート22の
厚さを所定の薄さ(本例では30μm)で形成すること
により、均一でかつ薄いクリーム半田膜を電極14上に
塗布することが可能となる。このように薄い塗布膜が形
成された場合、その後の工程で電極に熱電半導体チップ
を押し付けるときの押圧力により流動するクリーム半田
の流動量が減少し、半田付け完了後の半田の盛り上がり
部分(図2において、厚さt2で示された部分の半田)
を小さくすることができる。したがって、この盛り上が
り部分が熱電半導体チップの側面部分に接触する危険性
が小さくなり、半田と熱電半導体チップとの接触による
チップ内への半田成分の拡散が防止でき、ひいては熱電
半導体チップの材料特性の変化に伴う信頼性、性能低下
を防止することができる。また、半田の盛り上がり部分
を小さくできるので、この盛り上がり部分と対向する側
の基板との距離も長く取れ、この距離が短いことに起因
する冷却効率の悪化を防止することもできる。
The solder particles of the cream solder 41 used in the screen printing in this embodiment have a particle size of 15 to 50.
μm. Further, the thickness of the mesh surface 21 of the mesh screen 20 is 70 μm, the thickness of the resin plate 22 is 30 μm, and the mesh size of the mesh surface 21 is 150 mesh (the opening width is 100 μm).
μm). Therefore, the solder particles in the cream solder smoothed by the squeegee can pass through the mesh network, and the cream solder containing the solder particles is applied to the resin plate 22.
Is introduced into the opening 22a. Since the thickness of the opening 22a is 30 μm, which is the same as the thickness of the resin plate 22, the opening 22a having a thickness of 30 μm is filled with cream solder. Thereafter, the mesh screen 20 is removed. At this time, the cream solder accumulated in the mesh surface 21 is absorbed by the cream solder filled in the opening 22a to increase its thickness. In this method, a thin cream solder film having a thickness of about 70 μm is uniformly applied. As described above, the particle size of the solder particles contained in the cream solder 41 is made smaller than that of the conventional solder (in this example, 15 to 50 μm), and the solder particles can pass through the mesh size of the mesh surface 21 of the mesh screen 20. Set in this example (150 mesh in this example)
In addition, by forming the resin plate 22 of the mesh screen 20 with a predetermined thickness (30 μm in this example), a uniform and thin cream solder film can be applied on the electrode 14. When such a thin coating film is formed, the flow amount of the cream solder flowing due to the pressing force when pressing the thermoelectric semiconductor chip against the electrode in the subsequent process decreases, and the solder swelling portion after the soldering is completed (see FIG. 2, the solder at the portion indicated by the thickness t2)
Can be reduced. Therefore, the danger of the raised portion coming into contact with the side surface portion of the thermoelectric semiconductor chip is reduced, and the diffusion of the solder component into the chip due to the contact between the solder and the thermoelectric semiconductor chip can be prevented. It is possible to prevent a decrease in reliability and performance due to the change. Further, since the swelling portion of the solder can be reduced, the distance between the swelling portion and the substrate on the side facing the swelling portion can be increased, and deterioration of the cooling efficiency due to the short distance can be prevented.

【0030】尚、本塗布工程において使用するクリーム
半田41は、250〜350Pa・Sの範囲の粘度をも
つものであることが好ましい。粘度が350Pa・S以
上であると、クリーム半田塗布時の半田のかすれが生じ
たり、所定形状への完全な塗布ができない等の不具合が
ある。粘度が250Pa・S以下であると、半田塗布後
にクリーム半田のだれが発生する等の不具合がある。
The cream solder 41 used in the present application step preferably has a viscosity in the range of 250 to 350 Pa · S. If the viscosity is 350 Pa · S or more, there are disadvantages such as blurring of the solder at the time of applying the cream solder, and the inability to completely apply a predetermined shape. If the viscosity is 250 Pa · S or less, there is a problem such as dripping of cream solder after solder application.

【0031】(2)中間組立体加熱工程 次に、中間組立体加熱工程について説明する。(2) Intermediate Assembly Heating Step Next, the intermediate assembly heating step will be described.

【0032】まず、図6(a)に示すように、吸熱側基
板12にパターニングされた吸熱側電極14の所定位置
に、P型熱電半導体チップ16及びN型熱電半導体チッ
プ17を載せる。この場合、吸熱側電極14の所定面に
は上記塗布工程にてクリーム半田41が塗布されている
ので、各チップ16、17は、クリーム半田41の上に
載ることになる。また、クリーム半田41は流動状態で
あるので、各チップ16、17の位置を固定するため
に、図6(b)に示すように各チップ16、17に位置
決めプレート18を被せて各チップ16、17の位置を
固定する。次いで、この状態の組付け体(以下、中間組
立体)を、図6(c)に示すように加熱治具30にセッ
トする。
First, as shown in FIG. 6A, the P-type thermoelectric semiconductor chip 16 and the N-type thermoelectric semiconductor chip 17 are mounted on predetermined positions of the heat absorbing electrode 14 patterned on the heat absorbing substrate 12. In this case, since the cream solder 41 is applied to the predetermined surface of the heat-absorbing electrode 14 in the above-described application step, the chips 16 and 17 are mounted on the cream solder 41. In addition, since the cream solder 41 is in a flowing state, in order to fix the positions of the chips 16 and 17, as shown in FIG. Position 17 is fixed. Next, the assembled body in this state (hereinafter, an intermediate assembly) is set on the heating jig 30 as shown in FIG.

【0033】ここで、加熱治具30について説明する。
図6(c)に示すように、加熱治具30は、シリンダブ
ロック31と、ベースブロック32と、シリンダブロッ
ク31とベースブロック32との間に挟まれた中間プレ
ート33とを具備する。
Here, the heating jig 30 will be described.
As shown in FIG. 6C, the heating jig 30 includes a cylinder block 31, a base block 32, and an intermediate plate 33 sandwiched between the cylinder block 31 and the base block 32.

【0034】シリンダブロック31は、図に示すように
その中央部に下部に開口するシリンダ孔31aが形成さ
れており、このシリンダ孔31a内にはプランジャ34
が収容されている。シリンダ孔31aの底面31bには
スプリング35の一端が連結されている。また、スプリ
ング35の他端側はプランジャ34の背面34bに形成
された凹部34c内に挿入されてその底部に連結されて
いる。従って、プランジャ34はシリンダ孔31a内で
スプリング35によって弾性支持されていることにな
り、スプリング35からの弾性力を受けながら、シリン
ダ孔31a内を往復動可能に構成されている。
As shown in the figure, the cylinder block 31 is formed with a cylinder hole 31a which is open at the center in the lower part, and a plunger 34 is formed in the cylinder hole 31a.
Is housed. One end of a spring 35 is connected to the bottom surface 31b of the cylinder hole 31a. The other end of the spring 35 is inserted into a concave portion 34c formed on the back surface 34b of the plunger 34 and connected to the bottom thereof. Therefore, the plunger 34 is elastically supported by the spring 35 in the cylinder hole 31a, and is configured to be able to reciprocate in the cylinder hole 31a while receiving the elastic force from the spring 35.

【0035】ベースブロック32は、シリンダブロック
31のシリンダ孔31aの開口面と対向して配置されて
いる。
The base block 32 is arranged to face the opening surface of the cylinder hole 31a of the cylinder block 31.

【0036】中間プレート33は、その中央部に貫通開
口部33aが形成されて角型フレーム状に形成されてお
り、前述のようにシリンダブロック31とベースブロッ
ク32との間に介在されてなる。尚、中間プレート33
の貫通開口部33aは、図に示すようにその一片(図示
右側)に段差33bが設けられており、図示段差下部3
3cの開口面積のほうが図示段差上部33dの開口面積
よりも大きくされている。そして、段差下部33cの開
口形状は、吸熱側基板12が精度良く収まり、その位置
が固定的に保持されるような、即ち吸熱側基板12を位
置決めできるような形状とされている。
The intermediate plate 33 is formed in a square frame shape with a through opening 33a formed at the center thereof, and is interposed between the cylinder block 31 and the base block 32 as described above. In addition, the intermediate plate 33
As shown in the figure, a step 33b is provided on one piece (right side in the figure) of the through opening 33a,
The opening area of 3c is larger than the opening area of the illustrated step upper portion 33d. The shape of the opening of the step lower portion 33c is such that the heat-absorbing side substrate 12 can be accurately accommodated and its position is fixedly held, that is, the heat-absorbing side substrate 12 can be positioned.

【0037】シリンダブロック31の下部端面31c及
びベースブロック32の上部端面32cには、それぞれ
位置決め用孔31d及び32dが複数(図では2箇所)
形成されている。また中間プレート33にはその上部端
面33eから下部端面33fにかけて位置決めピン挿入
孔33gが複数(図では2箇所)形成されている。そし
て、複数の(図では2本の)位置決めピン36を中間プ
レート33の各位置決めピン挿入孔33gに挿入し、各
位置決めピン36が各挿入孔33gから突出した部分の
うち、図示上側突出部をシリンダブロック31の下部端
面31cに形成された各位置決め用孔31dに、図示下
側突出部をベースブロック32の上部端面32cに形成
された各位置決め用孔32dに挿入する。このようにし
て複数の位置決めピン36で位置合わせをして、シリン
ダブロック31、ベースブロック32、中間プレート3
3を連結固定している。
The lower end face 31c of the cylinder block 31 and the upper end face 32c of the base block 32 are provided with a plurality of positioning holes 31d and 32d, respectively (two locations in the figure).
Is formed. The intermediate plate 33 has a plurality of (two in the figure) positioning pin insertion holes 33g formed from the upper end surface 33e to the lower end surface 33f. Then, a plurality of (two in the figure) positioning pins 36 are inserted into the respective positioning pin insertion holes 33g of the intermediate plate 33, and among the portions where the respective positioning pins 36 protrude from the respective insertion holes 33g, the illustrated upper projecting portions are The illustrated lower protruding portion is inserted into each positioning hole 32d formed in the upper end surface 32c of the base block 32 into each positioning hole 31d formed in the lower end surface 31c of the cylinder block 31. In this manner, the positioning is performed by the plurality of positioning pins 36, and the cylinder block 31, the base block 32, and the intermediate plate 3 are aligned.
3 is connected and fixed.

【0038】また、図からわかるように、プランジャ3
4の側面34dは、シリンダブロック31のシリンダ孔
31aの内壁面31eとの間に所定のクリアランスを設
けてシリンダ孔31a内に収容されている。従って、プ
ランジャ34がシリンダ孔31a内を図示上下方向に往
復動する際に、プランジャ34の前面34aは3次元方
向に若干の自由度を持って傾斜したり移動したりするこ
とができる。
As can be seen from the figure, the plunger 3
The fourth side surface 34d is accommodated in the cylinder hole 31a with a predetermined clearance provided between the side surface 34d and the inner wall surface 31e of the cylinder hole 31a of the cylinder block 31. Therefore, when the plunger 34 reciprocates in the cylinder hole 31a in the vertical direction in the figure, the front surface 34a of the plunger 34 can be inclined or moved with a small degree of freedom in the three-dimensional direction.

【0039】上記構成の加熱治具30に、中間組立体を
図6(c)に示すように中間プレート33の貫通開口部
33a内にセットする。すると、プランジャ34が中間
組立体の真上に位置する状態となり、かつプランジャ3
4はスプリング35から弾性力を受けているので、該弾
性力及びプランジャ34自身の自重によって、中間組立
体を矢印A方向に押圧する。この押圧力によって中間組
立体のP型及びN型熱電半導体チップ16、17は押圧
され、吸熱側電極14に所定の力で押し付けられる。こ
のため、各熱電半導体チップ16、17と吸熱側電極1
4との間のクリーム半田41が押圧力で流動し、各電極
14において、P型熱電半導体チップ16とN型熱電半
導体チップ17との間の部分に溜まり、盛り上がり部分
(図示Bの部分)を形成する。しかしながら、中間組立
体は、上述のような塗布工程にて作製され、当該塗布工
程においては電極14の所定面に塗布されたクリーム半
田41は50μmもの薄い均一な膜として塗布されてい
るので、プランジャ34からの押圧力が作用しても、盛
り上がり部の高さはさほど高くならない。
The intermediate assembly is set in the through-opening 33a of the intermediate plate 33, as shown in FIG. Then, the plunger 34 is positioned directly above the intermediate assembly, and the plunger 3
4 receives the elastic force from the spring 35, and presses the intermediate assembly in the direction of arrow A by the elastic force and the own weight of the plunger 34 itself. With this pressing force, the P-type and N-type thermoelectric semiconductor chips 16 and 17 of the intermediate assembly are pressed and pressed against the heat absorbing side electrode 14 with a predetermined force. Therefore, each of the thermoelectric semiconductor chips 16 and 17 and the heat absorbing side electrode 1
The cream solder 41 flows between the P-type thermoelectric semiconductor chip 16 and the N-type thermoelectric semiconductor chip 17 at each electrode 14, and the swelling portion (portion B in the drawing) is formed. Form. However, the intermediate assembly is manufactured by the above-described coating process, and in this coating process, the cream solder 41 applied to the predetermined surface of the electrode 14 is applied as a thin uniform film having a thickness of 50 μm. Even if the pressing force from 34 acts, the height of the raised portion does not increase so much.

【0040】この状態で、外部から加熱手段としてのヒ
ータ37によって加熱治具30全体を加熱する。この加
熱によって、熱が中間組立体に伝達され、クリーム半田
41中の半田粒子が溶融するとともに、フラックス成分
が揮発する。
In this state, the entire heating jig 30 is externally heated by a heater 37 as heating means. By this heating, heat is transmitted to the intermediate assembly, the solder particles in the cream solder 41 are melted, and the flux component is volatilized.

【0041】(3)中間組立体冷却固化工程 上記加熱工程で、クリーム半田41中の半田粒子が溶融
し、フラックス成分がほぼ揮発したのを見計らって、ヒ
ータ37からの加熱を停止させ、中間組立体を加熱治具
30から取り外し、自然冷却させる。この自然冷却によ
り溶融半田が冷却固化して半田層15となり、P型及び
N型熱電半導体チップ16及び17と吸熱側電極14と
の半田接合が完了する。
(3) Intermediate Assembly Cooling and Solidifying Step In the above heating step, the heating from the heater 37 is stopped when the solder particles in the cream solder 41 are melted and the flux components are almost volatilized. The solid is removed from the heating jig 30 and allowed to cool naturally. The molten solder is cooled and solidified by the natural cooling to form the solder layer 15, and the solder bonding between the P-type and N-type thermoelectric semiconductor chips 16 and 17 and the heat-absorbing electrode 14 is completed.

【0042】(4)最終組立体加熱工程 上記中間組立体冷却固化工程により半田接合が完了した
中間組立体から位置決め治具を取り外し、図7(a)に
示すように、上記塗布工程にて放熱側電極13の所定面
にクリーム半田41が塗布された放熱側基板11を中間
組立体の各チップ16、17の半田未接合面に載せ、図
7(b)に示すような最終組立体の構成とする。次に、
この最終組立体を、図7(c)に示すように、中間組立
体加熱工程で使用した加熱治具30にセットする。する
と、プランジャ34が最終組立体の真上に位置する状態
となり、かつプランジャ34はスプリング35から弾性
力を受けているので、該弾性力及びプランジャ34自身
の自重によって、最終組立体を図示矢印A方向に押圧す
る。この押圧力によって放熱側基板11は押圧され、各
チップ16、17は放熱側電極13に所定の力で押し付
けられる。このため、各熱電半導体チップ16、17と
放熱側電極13との間のクリーム半田41が押圧力で流
動し、各電極13において、P型熱電半導体チップ16
とN型熱電半導体チップ17との間の部分に溜まり、盛
り上がり部分(図示Bの部分)を形成する。しかしなが
ら、最終組立体は、上述のような塗布工程にて作製さ
れ、当該塗布工程においては電極13の所定面に塗布さ
れたクリーム半田41は50μmもの薄い均一な膜とし
て塗布されているので、プランジャ34からの押圧力が
作用しても、盛り上がり部の高さはさほど高くならな
い。
(4) Final Assembly Heating Step The positioning jig is removed from the intermediate assembly which has been solder-joined in the intermediate assembly cooling and solidifying step, and heat is radiated in the coating step as shown in FIG. The heat-dissipation-side substrate 11 in which the cream solder 41 is applied to a predetermined surface of the side electrode 13 is placed on the unsoldered surface of each of the chips 16 and 17 of the intermediate assembly, and the configuration of the final assembly as shown in FIG. And next,
This final assembly is set on the heating jig 30 used in the intermediate assembly heating step, as shown in FIG. Then, the plunger 34 is positioned right above the final assembly, and the plunger 34 receives an elastic force from the spring 35, so that the final assembly is moved by the elastic force and the own weight of the plunger 34 itself as shown by an arrow A in the drawing. Press in the direction. The heat radiation side substrate 11 is pressed by this pressing force, and the chips 16 and 17 are pressed against the heat radiation side electrode 13 with a predetermined force. Therefore, the cream solder 41 between each of the thermoelectric semiconductor chips 16 and 17 and the heat radiation side electrode 13 flows by the pressing force, and the P-type thermoelectric semiconductor chip 16
And an N-type thermoelectric semiconductor chip 17 to form a swelled portion (portion B in the drawing). However, the final assembly is manufactured by the above-described coating process, and in this coating process, the cream solder 41 applied to the predetermined surface of the electrode 13 is applied as a thin uniform film of 50 μm. Even if the pressing force from 34 acts, the height of the raised portion does not increase so much.

【0043】このように、本例の加熱工程(中間組立体
加熱工程及び最終組立体加熱工程)において使用する加
熱治具30は、電極13、14がパターニングされた基
板11、12及び熱電半導体チップ16、17が所定の
配置で組み立てられた組立体(中間組立体及び最終組立
体)を押圧するための押圧部材(プランジャ34)と、
該押圧部材に弾性力を付与する弾性部材(スプリング3
5)を具備し、該弾性部材からの弾性力及び前記押圧部
材からの自重によって、前記熱電半導体チップを前記電
極の面と垂直な方向(図示矢印A方向)に押圧する。こ
のため、熱電半導体チップが電極の所定面に塗布された
クリーム半田の表面張力によって移動するのを防止する
ことができ、この結果、チップの位置ずれによる組付け
不良を低減することができる。また、弾性部材からの弾
性力及び押圧部材の自重を押圧力としており、毎回一定
の押圧力で組立体を押圧することができ、個々の組立体
において押圧力のばらつきを小さくできるので、押圧力
のばらつきに伴う性能のばらつきを小さくすることがで
きる。
As described above, the heating jig 30 used in the heating process (intermediate assembly heating process and final assembly heating process) of the present example includes the substrates 11, 12 on which the electrodes 13, 14 are patterned and the thermoelectric semiconductor chip. A pressing member (plunger 34) for pressing an assembly (intermediate assembly and final assembly) in which 16, 16 are assembled in a predetermined arrangement;
An elastic member (spring 3) for applying elastic force to the pressing member
5), wherein the thermoelectric semiconductor chip is pressed in a direction perpendicular to the surface of the electrode (the direction of arrow A in the figure) by the elastic force from the elastic member and the weight of the pressing member. For this reason, it is possible to prevent the thermoelectric semiconductor chip from moving due to the surface tension of the cream solder applied to the predetermined surface of the electrode, and as a result, it is possible to reduce assembly failure due to chip displacement. In addition, the pressing force is determined by the elastic force from the elastic member and the weight of the pressing member, and the assembly can be pressed with a constant pressing force each time, and the dispersion of the pressing force in each assembly can be reduced. Can be reduced.

【0044】また、本例の加熱治具10においては、前
述のように、プランジャ34の側面34dは、シリンダ
ブロック31のシリンダ孔31aの内壁面31eとの間
に所定のクリアランスを設けてシリンダ孔31a内に収
容されており、プランジャ34がシリンダ孔31a内を
図示上下方向に往復動する際に、プランジャ34の前面
34aは3次元方向に若干の自由度を持って傾斜したり
移動したりすることができる。従って、プランジャ34
が最終組立体を押圧する際に、プランジャ34の前面3
4aが放熱側基板11に習う。このため、熱電半導体チ
ップ16、17の微小な高さばらつきにうまく追従して
放熱側電極13を熱電半導体チップ16、17に押し付
けることができる。これに対し、もし上記所定のクリア
ランスがない場合、プランジャ34は、その前面34a
の向きが固定された(自由度がない)状態で上下動して
最終組立体を押圧することになるので、各チップ16、
17の微小な高さばらつきに追従することができず、例
えば熱電モジュールの片側でのチップと電極との接合不
良等が生じるおそれがある。また、通常このような治具
を用いる場合、放熱側基板11と吸熱側基板12との平
行度を確保するために、押圧側の部材(本例にあっては
プランジャ34に相当)と受側の部材(本例にあっては
ベースブロック32に相当)との平行度を厳密に管理す
る必要がある。ところが、本例では、押圧部材であるプ
ランジャ34が基板自身に習うので、押圧側の部材と受
側の部材との平行度を管理せずともある程度の平行度が
確保できる。このため、治具の平行度の管理という煩わ
しい作業を省略でき、作業性も向上する。
Further, in the heating jig 10 of this embodiment, as described above, the side surface 34d of the plunger 34 is provided with a predetermined clearance between the side wall 34e of the cylinder block 31 and the inner wall surface 31e of the cylinder hole 31a. When the plunger 34 is reciprocated vertically in the drawing in the cylinder hole 31a, the front surface 34a of the plunger 34 is inclined or moved in the three-dimensional direction with some degree of freedom. be able to. Therefore, the plunger 34
Presses against the final assembly, the front 3 of the plunger 34
4a learns from the heat radiation side substrate 11. For this reason, the heat radiation side electrode 13 can be pressed against the thermoelectric semiconductor chips 16 and 17 by following the minute height variations of the thermoelectric semiconductor chips 16 and 17 well. On the other hand, if the predetermined clearance does not exist, the plunger 34 has its front surface 34a.
Is moved up and down in a state where the orientation of the chips is fixed (there is no degree of freedom), and the final assembly is pressed.
17 may not be able to follow the minute variation in height, and for example, there is a possibility that a defective connection between the chip and the electrode on one side of the thermoelectric module may occur. Normally, when such a jig is used, a member on the pressing side (corresponding to the plunger 34 in this example) and a receiving side are used in order to ensure the parallelism between the heat dissipation side substrate 11 and the heat absorption side substrate 12. (Corresponding to the base block 32 in this example) must be strictly controlled. However, in this example, since the plunger 34 as the pressing member learns from the substrate itself, a certain degree of parallelism can be secured without managing the parallelism between the pressing side member and the receiving side member. Therefore, the troublesome work of managing the parallelism of the jig can be omitted, and the workability is improved.

【0045】また、前述のように、中間プレート33
は、その中央部に貫通開口部33aが形成されて角型フ
レーム状に形成されている。中間プレート33の貫通開
口部33aは、図に示すようにその一片(図示右側)に
段差33bが設けられており、図示段差下部33cの開
口面積のほうが図示段差上部33dの開口面積よりも大
きくされている。そして、段差下部33cの開口部の形
状は、吸熱側基板12が精度良く収まり、その位置が固
定的に保持されるような、即ち吸熱側基板12を位置決
めできるような形状とされているとともに、段差上部3
3dの開口部の形状は、放熱側基板11が精度良く収ま
り、その位置が固定的に保持されるような、即ち放熱側
基板11を位置決めできるような形状とされている。こ
のように、本例に示す加熱治具10は、基板を固定的に
保持する保持手段(中間プレート33の段差上部33d
における開口部及び段差下部33cにおける開口部)を
具備するので、組立体を加熱治具にセットする際に、基
板が位置ずれを起こすことがなく、この結果、基板の位
置ずれによる組付け不良を低減することができる。さら
に、本例では、放熱側基板11及び吸熱側基板12のい
ずれもが、精度良く固定的に保持されているので、両基
板11、12の相対的位置ずれをも防止でき、両基板1
1、12の相対的な位置ずれによる組付け不良をも低減
することができる。
Also, as described above, the intermediate plate 33
Is formed in a rectangular frame shape with a through opening 33a formed in the center thereof. As shown in the drawing, the through-opening portion 33a of the intermediate plate 33 is provided with a step 33b on one piece (right side in the figure), and the opening area of the step lower portion 33c is larger than the opening area of the step upper portion 33d. ing. The shape of the opening of the stepped lower portion 33c is such that the heat-absorbing substrate 12 is accurately fitted and its position is fixedly held, that is, the heat-absorbing substrate 12 can be positioned. Upper step 3
The shape of the opening 3d is such that the heat radiation side substrate 11 can be accurately accommodated and its position is fixedly held, that is, the heat radiation side substrate 11 can be positioned. As described above, the heating jig 10 according to the present embodiment includes the holding means (the step upper portion 33 d of the intermediate plate 33) for fixedly holding the substrate.
And the opening at the stepped lower portion 33c), the substrate does not shift when the assembly is set on the heating jig. Can be reduced. Further, in this example, since both the heat radiation side substrate 11 and the heat absorption side substrate 12 are fixedly held with high accuracy, the relative displacement between the substrates 11 and 12 can be prevented.
It is also possible to reduce an improper assembly due to a relative displacement between the first and second positions.

【0046】このような構成の加熱治具30に最終組立
体をセットした状態で、外部から加熱手段としてのヒー
タ37によって加熱治具30全体を加熱する。この加熱
によって、熱が最終組立体に伝達され、クリーム半田4
1中の半田粒子が溶融するとともに、フラックス成分が
揮発する。またこのとき、上記中間組立体冷却固化工程
で冷却固化された吸熱側基板側の半田も再溶融する。
With the final assembly set in the heating jig 30 having such a configuration, the entire heating jig 30 is externally heated by a heater 37 as heating means. By this heating, heat is transferred to the final assembly and the cream solder 4
As the solder particles in 1 melt, the flux component volatilizes. At this time, the solder on the heat-absorbing side substrate that has been cooled and solidified in the intermediate assembly cooling and solidifying step also remelts.

【0047】(5)最終組立体冷却固化工程 上記最終組立体加熱工程で、クリーム半田41中の半田
粒子が溶融し、フラックス成分がほぼ揮発したのを見計
らって、ヒータ37からの加熱を停止させ、最終組立体
を加熱治具30から取り外し、自然冷却させる。この自
然冷却により溶融半田が冷却されて固化し、P型及びN
型熱電半導体チップ16及び17と吸熱側電極14、及
び、P型及びN型熱電半導体チップ16、17と放熱側
電極13との半田接合が完了する。
(5) Cooling and solidifying step of the final assembly In the heating step of the final assembly, the heating from the heater 37 is stopped upon observing that the solder particles in the cream solder 41 have melted and the flux components have almost completely volatilized. Then, the final assembly is removed from the heating jig 30 and allowed to cool naturally. By this natural cooling, the molten solder is cooled and solidified, and the P-type and N
Solder bonding between the thermoelectric semiconductor chips 16 and 17 and the heat-absorbing electrode 14 and between the P-type and N-type thermoelectric semiconductor chips 16 and 17 and the heat-radiating electrode 13 are completed.

【0048】以上のように、本例による熱電半導体チッ
プと電極との半田付け方法によれば、基板(放熱側基板
11及び吸熱側基板12)にパターニングされた電極
(放熱側電極13及び吸熱側電極14)の所定面にスク
リーン印刷によってクリーム半田41を塗布する塗布工
程と、クリーム半田41が塗布された所定面に熱電半導
体チップ16、17を押し付けるつつクリーム半田41
をヒータ37で加熱してクリーム半田41中の半田粒子
を溶融させて溶融半田とするとともにフラックスを揮発
させる加熱工程(中間組立体加熱工程及び最終組立体加
熱工程)と、該加熱工程後に溶融半田を冷却固化するこ
とにより熱電半導体チップ16、17と電極13、14
とを接合する冷却固化工程(中間組立体冷却固化工程及
び最終組立体冷却固化工程)とを含む熱電半導体チップ
と電極との半田付け方法において、塗布工程におけるス
クリーン印刷は、メッシュスクリーン20を用いて行わ
れることを特徴とする熱電半導体チップと電極との半田
付け方法としたので、スキージ51と開口部22aとの
間に介在するメッシュのため開口部22aとスキージ5
1とは直接接触せず、スキージ51で均されたクリーム
半田41はメッシュを経て開口部に導入されるため、開
口部22aに導入されるクリーム半田41の量がスキー
ジ51の撓み等の影響を受けることはない。このため、
開口部22aに導入されるクリーム半田41の厚みのば
らつきを抑えられ、電極13、14の所定面に塗布され
るクリーム半田41の厚みが均一となる。従って、その
後に熱電半導体チップ16、17を電極13、14に取
り付けた場合の高さのばらつきを抑えることができ、熱
電モジュールの組付け性を向上させることができる。
As described above, according to the method of soldering the thermoelectric semiconductor chip and the electrodes according to the present embodiment, the electrodes (radiation-side electrodes 13 and heat-absorption side) are patterned on the substrate (radiation-side substrate 11 and heat-absorption-side substrate 12). A coating step of applying a cream solder 41 to a predetermined surface of the electrode 14) by screen printing, and pressing the thermoelectric semiconductor chips 16 and 17 against the predetermined surface on which the cream solder 41 has been applied;
Is heated by a heater 37 to melt the solder particles in the cream solder 41 to form molten solder and volatilize the flux (intermediate assembly heating step and final assembly heating step), and after the heating step, the molten solder Is cooled and solidified to form thermoelectric semiconductor chips 16 and 17 and electrodes 13 and 14.
In the method of soldering a thermoelectric semiconductor chip and an electrode including a cooling and solidifying step (a cooling and solidifying step for an intermediate assembly and a cooling and solidifying step for a final assembly) for joining the electrodes, the screen printing in the applying step uses a mesh screen 20. Since the method for soldering the thermoelectric semiconductor chip and the electrodes is characterized in that the mesh is interposed between the squeegee 51 and the opening 22a, the opening 22a and the squeegee 5
1, the cream solder 41 leveled by the squeegee 51 is introduced into the opening through the mesh, so that the amount of the cream solder 41 introduced into the opening 22 a is affected by the bending of the squeegee 51 and the like. I will not receive it. For this reason,
Variations in the thickness of the cream solder 41 introduced into the openings 22a can be suppressed, and the thickness of the cream solder 41 applied to predetermined surfaces of the electrodes 13 and 14 becomes uniform. Therefore, height variations when the thermoelectric semiconductor chips 16 and 17 are attached to the electrodes 13 and 14 thereafter can be suppressed, and assemblability of the thermoelectric module can be improved.

【0049】また、クリーム半田41は粒径が15〜5
0μmの半田粒子を含み、かつ、メッシュスクリーン2
0はメッシュサイズが100〜200メッシュであるの
で、塗布工程において塗布されるクリーム半田41の半
田塗布膜厚は50μmもしくはそれ以下となり、クリー
ム半田の塗布膜厚の均一化のみならず、塗布膜厚の薄膜
化を共に実現することができる。このため、その後の工
程で電極13、14に熱電半導体チップ16、17を押
し付けるときの押圧力により流動するクリーム半田の流
動量が減少し、半田付け完了後の半田の盛り上がり部分
(各電極における、P型熱電半導体チップとN型熱電半
導体チップとの間にある半田部分)を小さくすることが
できる。したがって、この盛り上がり部分が熱電半導体
チップの側面部分に接触する危険性が小さくなり、半田
と熱電半導体チップとの接触によるチップ内への半田成
分の拡散が防止でき、ひいては熱電半導体チップの材料
特性の変化に伴う信頼性、性能低下を防止することがで
きる。また、半田の盛り上がり部分を小さくできるの
で、この盛り上がり部分と対向する側の基板との距離も
長く取れ、この距離が短いことに起因する冷却効率の悪
化を防止することもできる。
The cream solder 41 has a particle size of 15 to 5
0 μm solder particles and mesh screen 2
0 indicates that the mesh size is 100 to 200 mesh, so that the solder coating film thickness of the cream solder 41 applied in the coating step is 50 μm or less, which not only makes the coating thickness of the cream solder uniform, but also Can be realized at the same time. For this reason, the amount of cream solder flowing due to the pressing force when pressing the thermoelectric semiconductor chips 16 and 17 against the electrodes 13 and 14 in the subsequent steps is reduced, and the swelling portion of the solder after the soldering is completed (in each electrode, The solder portion between the P-type thermoelectric semiconductor chip and the N-type thermoelectric semiconductor chip) can be reduced. Therefore, the danger of the raised portion coming into contact with the side surface portion of the thermoelectric semiconductor chip is reduced, and the diffusion of the solder component into the chip due to the contact between the solder and the thermoelectric semiconductor chip can be prevented. It is possible to prevent a decrease in reliability and performance due to the change. Further, since the swelling portion of the solder can be reduced, the distance between the swelling portion and the substrate on the side facing the swelling portion can be increased, and deterioration of the cooling efficiency due to the short distance can be prevented.

【0050】(付記)本実施形態から、以下のような技
術的思想も把握できる。
(Supplementary Note) The following technical ideas can be understood from the present embodiment.

【0051】(1)基板にパターニングされた電極に熱
電半導体チップを半田付けする際に、前記電極の所定面
に塗布されたクリーム半田を加熱して前記クリーム半田
中の半田粒子を溶融させるとともにフラックスを揮発さ
せるための加熱治具10であって、前記加熱治具10
は、前記電極がパターニングされた前記基板及び前記熱
電半導体チップが所定の配置で組み立てられた組立体
(中間組立体及び最終組立体)を押圧するための押圧部
材(プランジャ34)と、該押圧部材に弾性力を付与す
る弾性部材(スプリング35)を具備し、該弾性部材か
らの弾性力及び前記押圧部材の自重によって、前記熱電
半導体チップを前記電極の面と垂直な方向に押圧するこ
とを特徴とする加熱治具。
(1) When soldering a thermoelectric semiconductor chip to an electrode patterned on a substrate, the cream solder applied to a predetermined surface of the electrode is heated to melt the solder particles in the cream solder and flux. A heating jig for volatilizing the heating jig,
A pressing member (plunger 34) for pressing an assembly (intermediate assembly and final assembly) in which the substrate on which the electrodes are patterned and the thermoelectric semiconductor chip are assembled in a predetermined arrangement; An elastic member (spring 35) for applying an elastic force to the thermoelectric semiconductor chip is pressed in a direction perpendicular to the surface of the electrode by the elastic force from the elastic member and the weight of the pressing member. And heating jig.

【0052】(2)上記(1)において、前記加熱治具
10は、前記基板を固定的に保持する保持手段(中間プ
レート33の段差下部33cにおける開口部及び段差上
部33dにおける開口部)を具備することを特徴とする
加熱治具。
(2) In the above (1), the heating jig 10 is provided with holding means for fixedly holding the substrate (an opening in the lower step 33c and an opening in the upper step 33d of the intermediate plate 33). A heating jig characterized by performing.

【0053】(3)上記(1)または(2)において、
前記加熱治具10は、シリンダ孔31aを有するシリン
ダ部材(シリンダブロック31)を具備し、前記押圧部
材は前記シリンダ部材の前記シリンダ孔に収容されると
ともに該シリンダ孔内を往復動可能にされてなり、前記
押圧部材と前記シリンダ孔の内壁31eとの間にクリア
ランスが設けられていることを特徴とする加熱治具。
(3) In the above (1) or (2),
The heating jig 10 includes a cylinder member (cylinder block 31) having a cylinder hole 31a, and the pressing member is housed in the cylinder hole of the cylinder member and is reciprocally movable in the cylinder hole. A heating jig, wherein a clearance is provided between the pressing member and an inner wall 31e of the cylinder hole.

【0054】上記(1)によれば、弾性部材からの弾性
力及び押圧部材からの自重によって、熱電半導体チップ
が電極の面に対して垂直方向から荷重を受ける。このた
め、熱電半導体チップが電極の所定面に塗布されたクリ
ーム半田の表面張力によって移動するのを防止すること
ができ、この結果、チップの位置ずれによる組付け不良
を低減することができる。また、弾性部材からの弾性力
及び押圧部材の自重を押圧力としており、毎回一定の押
圧力で組立体を押圧することができ、個々の組立体にお
いて押圧力のばらつきを小さくできるので、押圧力のば
らつきに伴う性能のばらつきを小さくすることができ
る。
According to the above (1), the thermoelectric semiconductor chip receives a load in a direction perpendicular to the electrode surface due to the elastic force from the elastic member and the weight of the pressing member. For this reason, it is possible to prevent the thermoelectric semiconductor chip from moving due to the surface tension of the cream solder applied to the predetermined surface of the electrode, and as a result, it is possible to reduce assembly failure due to chip displacement. In addition, the pressing force is determined by the elastic force from the elastic member and the weight of the pressing member, and the assembly can be pressed with a constant pressing force each time, and the dispersion of the pressing force in each assembly can be reduced. Can be reduced.

【0055】上記(2)によれば、組立体を加熱治具に
セットする際に、基板が保持手段に固定的に保持されて
いるので、基板が位置ずれを起こすことがなく、この結
果、基板の位置ずれによる組付け不良を低減することが
できる。
According to the above (2), when the assembly is set on the heating jig, the substrate is fixedly held by the holding means, so that the substrate is not displaced, and as a result, It is possible to reduce assembly failure due to displacement of the substrate.

【0056】上記(3)によれば、押圧部材はシリンダ
部材のシリンダ孔に収容され、かつ押圧部材とシリンダ
孔の内壁との間にクリアランスが設けられているので、
押圧部材が組立体を押圧する際に、押圧部材の押圧面
(プランジャ34の前面34a)が組立体の押圧部材に
当接した部分(放熱側基板11)に習う。このため、組
立体の寸法ばらつき(熱電半導体チップの微小な高さば
らつき)にうまく追従して組立体を押圧することができ
る。これに対し、もし上記クリアランスがない場合、押
圧部材は、その押圧面の向きが固定された(自由度がな
い)状態で往復動して組立体を押圧することになるの
で、組立体の寸法ばらつきに追従することができず、例
えば熱電モジュールの片側でのチップと電極との接合不
良等が生じるおそれがある。
According to the above (3), the pressing member is accommodated in the cylinder hole of the cylinder member, and the clearance is provided between the pressing member and the inner wall of the cylinder hole.
When the pressing member presses the assembly, the pressing surface of the pressing member (the front surface 34a of the plunger 34) learns from the portion of the assembly that contacts the pressing member (radiation side substrate 11). For this reason, the assembly can be pressed by appropriately following the dimensional variation of the assembly (small height variation of the thermoelectric semiconductor chip). On the other hand, if the clearance is not provided, the pressing member reciprocates and presses the assembly in a state where the direction of the pressing surface is fixed (there is no degree of freedom). It is not possible to follow the variation, and for example, there is a possibility that a defective connection between the chip and the electrode on one side of the thermoelectric module may occur.

【0057】(その他の実施形態)上記実施形態では、
塗布工程として、メッシュスクリーンによるスクリーン
印刷を示したが、その他、シート状半田を用いて基板の
電極面に半田を塗布する方法がある。これは、基板の電
極がパターニングされた面にシート状半田を載せてお
き、この状態で加熱する。すると、シート状半田が熱に
より溶融するが、このとき電極面以外の部分を覆う半田
は電極面の部分に溶融した半田に吸収され、結果として
電極の所定面のみに溶融半田が塗布された状態となる。
(Other Embodiments) In the above embodiment,
As the application step, screen printing using a mesh screen has been described, but there is another method of applying solder to the electrode surface of the substrate using sheet-like solder. For this, a sheet-like solder is placed on the surface of the substrate on which the electrodes are patterned, and heating is performed in this state. Then, the sheet-like solder is melted by heat. At this time, the solder covering the portion other than the electrode surface is absorbed by the molten solder on the electrode surface portion, and as a result, the molten solder is applied only to the predetermined surface of the electrode. Becomes

【0058】このようにして半田を塗布した場合、従来
のようなメタルスクリーンを用いてスクリーン印刷を行
なったときに生じる塗布膜厚の不均一化が起きず、均一
にクリーム半田を電極所定面に塗布することができる。
また、シート状半田として10μm〜30μm程度の薄
いものを使用することにより、電極所定面へ塗布後の半
田塗布膜厚は50μm〜70μm程度となり、塗布膜厚
の薄膜化も実現できる。
When the solder is applied in this manner, the nonuniformity of the applied film thickness which occurs when screen printing is performed using a conventional metal screen does not occur, and the cream solder is uniformly applied to the predetermined surface of the electrode. Can be applied.
In addition, by using a thin solder having a thickness of about 10 μm to 30 μm as the sheet-like solder, the thickness of the solder coating after being applied to the predetermined surface of the electrode is about 50 μm to 70 μm, and the coating thickness can be reduced.

【0059】[0059]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
熱電半導体チップと電極との半田付けにおいて、半田の
塗布膜厚を均一化して熱電半導体チップを電極に取り付
けた場合の高さばらつきを極小とし、熱電モジュールの
組付け性を向上させることができる。また、塗布膜厚を
できるだけ薄くし、半田の塗布量の増加に起因した熱電
半導体チップの信頼性や性能低下を防止することができ
る。
As described above, according to the present invention,
In the soldering of the thermoelectric semiconductor chip and the electrode, the thickness of the applied solder can be made uniform so that the height variation when the thermoelectric semiconductor chip is attached to the electrode is minimized, and the assemblability of the thermoelectric module can be improved. Further, it is possible to make the coating film thickness as thin as possible, and to prevent the reliability and performance of the thermoelectric semiconductor chip from deteriorating due to an increase in the amount of solder applied.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態における熱電モジュールの
概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of a thermoelectric module according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の部分拡大断面図である。FIG. 2 is a partially enlarged sectional view of FIG.

【図4】本発明の実施の形態において使用するメッシュ
スクリーンの概略断面図である。
FIG. 4 is a schematic sectional view of a mesh screen used in the embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施の形態における、塗布工程を示す
図である。
FIG. 5 is a diagram showing a coating step in the embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施の形態における、中間組立体加熱
工程を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing an intermediate assembly heating step in the embodiment of the present invention.

【図7】本発明の実施の形態における、最終組立体加熱
工程を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a final assembly heating step in the embodiment of the present invention.

【図8】従来技術における熱電モジュールの概略断面図
である。
FIG. 8 is a schematic sectional view of a thermoelectric module according to the related art.

【図9】メタルスクリーンを用いて基板の電極所定面に
半田を塗布したときの状態を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a state in which solder is applied to a predetermined surface of an electrode of a substrate using a metal screen.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10・・・熱電モジュール 11・・・放熱側基板(基板) 12・・・吸熱側基板(基板) 13・・・放熱側電極(電極) 14・・・吸熱側電極(電極) 15・・・半田 16・・・P型熱電半導体チップ 17・・・N型熱電半導体チップ 20・・・メッシュスクリーン 21・・・メッシュ面 22・・・樹脂プレート、 22a・・・開口部 30・・・加熱治具 31・・・シリンダブロック、 31a・・・シリンダ
孔、 31b・・・底面、 31c・・・下部端面、
31d・・・位置決め用孔、 31e・・・内壁面 32・・・ベースブロック、 32c・・・上部端面、
32d・・・位置決め用孔 33・・・中間プレート、 33a・・・貫通開口部、
33b・・・段差、33c・・・下部段差、 33d
・・・上部段差、 33e・・・上部端面、33f・・
・下部端面、 33g・・・位置決めピン挿入孔 34・・・プランジャ、 34a・・・前面、 34b
・・・背面 35・・・スプリング 36・・・位置決めピン 37・・・ヒータ(加熱手段) 41・・・クリーム半田 50・・・スクリーン印刷機 51・・・スキージ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Thermoelectric module 11 ... Heat dissipation side board (substrate) 12 ... Heat absorption side board (substrate) 13 ... Heat dissipation side electrode (electrode) 14 ... Heat absorption side electrode (electrode) 15 ... Solder 16: P-type thermoelectric semiconductor chip 17: N-type thermoelectric semiconductor chip 20: Mesh screen 21: Mesh surface 22: Resin plate, 22a: Opening 30: Heat treatment Tool 31: cylinder block, 31a: cylinder hole, 31b: bottom surface, 31c: lower end surface,
31d: positioning hole, 31e: inner wall surface 32: base block, 32c: upper end surface,
32d: positioning hole 33: intermediate plate, 33a: through opening,
33b: step, 33c: lower step, 33d
... upper step, 33e ... upper end face, 33f ...
・ Lower end face, 33g ・ ・ ・ Positioning pin insertion hole 34 ・ ・ ・ Plunger, 34a ・ ・ ・ Front face, 34b
... Back 35 ... Spring 36 ... Positioning pin 37 ... Heater (heating means) 41 ... Cream solder 50 ... Screen printing machine 51 ... Squeegee

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成12年1月20日(2000.1.2
0)
[Submission Date] January 20, 2000 (2000.1.2
0)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】図面の簡単な説明[Correction target item name] Brief description of drawings

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態における熱電モジュールの
概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of a thermoelectric module according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の部分拡大断面図である。FIG. 2 is a partially enlarged sectional view of FIG.

【図3】スクリーン印刷機の概略斜視図である。FIG. 3 is a schematic perspective view of a screen printing machine.

【図4】本発明の実施の形態において使用するメッシュ
スクリーンの概略断面図である。
FIG. 4 is a schematic sectional view of a mesh screen used in the embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施の形態における、塗布工程を示す
図である。
FIG. 5 is a diagram showing a coating step in the embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施の形態における、中間組立体加熱
工程を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing an intermediate assembly heating step in the embodiment of the present invention.

【図7】本発明の実施の形態における、最終組立体加熱
工程を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a final assembly heating step in the embodiment of the present invention.

【図8】従来技術における熱電モジュールの概略断面図
である。
FIG. 8 is a schematic sectional view of a thermoelectric module according to the related art.

【図9】メタルスクリーンを用いて基板の電極所定面に
半田を塗布したときの状態を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a state in which solder is applied to a predetermined surface of an electrode of a substrate using a metal screen.

【符号の説明】 10・・・熱電モジュール 11・・・放熱側基板(基板) 12・・・吸熱側基板(基板) 13・・・放熱側電極(電極) 14・・・吸熱側電極(電極) 15・・・半田 16・・・P型熱電半導体チップ 17・・・N型熱電半導体チップ 20・・・メッシュスクリーン 21・・・メッシュ面 22・・・樹脂プレート、 22a・・・開口部 30・・・加熱治具 31・・・シリンダブロック、 31a・・・シリンダ
孔、 31b・・・底面、 31c・・・下部端面、
31d・・・位置決め用孔、 31e・・・内壁面 32・・・ベースブロック、 32c・・・上部端面、
32d・・・位置決め用孔 33・・・中間プレート、 33a・・・貫通開口部、
33b・・・段差、33c・・・下部段差、 33d
・・・上部段差、 33e・・・上部端面、33f・・
・下部端面、 33g・・・位置決めピン挿入孔 34・・・プランジャ、 34a・・・前面、 34b
・・・背面 35・・・スプリング 36・・・位置決めピン 37・・・ヒータ(加熱手段) 41・・・クリーム半田 50・・・スクリーン印刷機 51・・・スキージ
[Description of Signs] 10 ・ ・ ・ Thermoelectric module 11 ・ ・ ・ Heat radiation side substrate (substrate) 12 ・ ・ ・ Heat absorption side substrate (substrate) 13 ・ ・ ・ Heat radiation side electrode (electrode) 14 ・ ・ ・ Heat absorption side electrode (electrode) 15: solder 16: P-type thermoelectric semiconductor chip 17: N-type thermoelectric semiconductor chip 20: mesh screen 21: mesh surface 22: resin plate, 22a: opening 30 ... Heating jig 31 ... Cylinder block 31a ... Cylinder hole 31b ... Bottom face 31c ... Lower end face
31d: positioning hole, 31e: inner wall surface 32: base block, 32c: upper end surface,
32d: positioning hole 33: intermediate plate, 33a: through opening,
33b: step, 33c: lower step, 33d
... upper step, 33e ... upper end face, 33f ...
・ Lower end face, 33g ・ ・ ・ Positioning pin insertion hole 34 ・ ・ ・ Plunger, 34a ・ ・ ・ Front face, 34b
... Back 35 ... Spring 36 ... Positioning pin 37 ... Heater (heating means) 41 ... Cream solder 50 ... Screen printing machine 51 ... Squeegee

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石黒 正和 愛知県刈谷市朝日町2丁目1番地 アイシ ン精機株式会社内 Fターム(参考) 5E319 AA03 AA07 AB05 BB05 CC44 CD29  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Masakazu Ishiguro 2-1-1 Asahi-cho, Kariya-shi, Aichi F-term (reference) in Aisin Seiki Co., Ltd. 5E319 AA03 AA07 AB05 BB05 CC44 CD29

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板にパターニングされた電極の所定面
にスクリーン印刷によってクリーム半田を塗布する塗布
工程と、前記クリーム半田が塗布された前記所定面に熱
電半導体チップを押し付けつつ前記クリーム半田を加熱
して前記クリーム半田中の半田粒子を溶融させて溶融半
田とするとともにフラックスを揮発させる加熱工程と、
該加熱工程後に前記溶融半田を冷却固化することにより
前記熱電半導体チップと前記電極とを接合する冷却固化
工程とを含む熱電半導体チップと電極との半田付け方法
において、 前記スクリーン印刷は、メッシュスクリーンを用いて行
われることを特徴とする熱電半導体チップと電極との半
田付け方法。
An application step of applying cream solder to a predetermined surface of an electrode patterned on a substrate by screen printing, and heating the cream solder while pressing a thermoelectric semiconductor chip against the predetermined surface on which the cream solder is applied. A heating step of melting the solder particles in the cream solder into molten solder and volatilizing the flux,
In the method of soldering a thermoelectric semiconductor chip and an electrode including a cooling and solidifying step of joining the thermoelectric semiconductor chip and the electrode by cooling and solidifying the molten solder after the heating step, the screen printing includes a mesh screen. A method of soldering a thermoelectric semiconductor chip and an electrode, wherein the method is performed by using the method.
【請求項2】 請求項1において、 前記クリーム半田は粒径が15〜50μmの半田粒子を
含み、かつ、前記メッシュスクリーンはメッシュサイズ
が100〜200メッシュであることを特徴とする熱電
半導体チップと電極との半田付け方法。
2. The thermoelectric semiconductor chip according to claim 1, wherein the cream solder includes solder particles having a particle size of 15 to 50 μm, and the mesh screen has a mesh size of 100 to 200 mesh. Soldering method with electrodes.
【請求項3】 対向する2枚の絶縁基板と、前記2枚の
絶縁基板のそれぞれの対向面にパターニングされた複数
の電極と、前記2枚の絶縁基板間に配設されるとともに
前記複数の各電極と半田接合された複数のP型熱電半導
体チップ及びN型熱電半導体チップとを備え、前記電極
を介してP型熱電半導体チップとN型熱電半導体チップ
とが交互に電気的に直列に接続されてなる熱電モジュー
ルにおいて、前記P型及びN型熱電半導体チップと電極
との間に介在する半田の厚みは10μm〜30μmであ
り、前記複数の各電極における前記P型熱電半導体チッ
プと前記N型熱電半導体チップとの間の部分に塗布され
た半田の厚みは150μm以下で有ることを特徴とする
熱電モジュール。
3. The two insulating substrates facing each other, a plurality of electrodes patterned on respective opposing surfaces of the two insulating substrates, and the plurality of electrodes arranged between the two insulating substrates and A plurality of P-type thermoelectric semiconductor chips and an N-type thermoelectric semiconductor chip soldered to each electrode are provided, and the P-type thermoelectric semiconductor chip and the N-type thermoelectric semiconductor chip are alternately and electrically connected in series via the electrodes. The thickness of the solder interposed between the P-type and N-type thermoelectric semiconductor chips and the electrodes is 10 μm to 30 μm, and the P-type thermoelectric semiconductor chips and the N-type A thermoelectric module, wherein the thickness of the solder applied to a portion between the thermoelectric semiconductor chip and the thermoelectric semiconductor chip is 150 μm or less.
JP34494199A 1999-12-03 1999-12-03 Method for soldering thermoelectric semiconductor chip with electrode and thermoelectric semiconductor module Pending JP2001168402A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34494199A JP2001168402A (en) 1999-12-03 1999-12-03 Method for soldering thermoelectric semiconductor chip with electrode and thermoelectric semiconductor module

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34494199A JP2001168402A (en) 1999-12-03 1999-12-03 Method for soldering thermoelectric semiconductor chip with electrode and thermoelectric semiconductor module

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001168402A true JP2001168402A (en) 2001-06-22

Family

ID=18373198

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP34494199A Pending JP2001168402A (en) 1999-12-03 1999-12-03 Method for soldering thermoelectric semiconductor chip with electrode and thermoelectric semiconductor module

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001168402A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017163033A (en) * 2016-03-10 2017-09-14 株式会社アツミテック Thermoelectric conversion module
CN110634753A (en) * 2019-09-25 2019-12-31 北京比特大陆科技有限公司 Method for welding chip with radiator and PCB assembly
CN114654035A (en) * 2022-04-29 2022-06-24 天津光电惠高电子有限公司 Method for reducing LGA device welding cavity by using prefabricated solder

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017163033A (en) * 2016-03-10 2017-09-14 株式会社アツミテック Thermoelectric conversion module
CN110634753A (en) * 2019-09-25 2019-12-31 北京比特大陆科技有限公司 Method for welding chip with radiator and PCB assembly
CN114654035A (en) * 2022-04-29 2022-06-24 天津光电惠高电子有限公司 Method for reducing LGA device welding cavity by using prefabricated solder
CN114654035B (en) * 2022-04-29 2024-05-24 天津光电惠高电子有限公司 Method for reducing LGA device welding cavity by using prefabricated solder

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3063161B2 (en) Method of forming solder bump interconnects for solder plated circuit traces
US7333335B2 (en) Using the wave soldering process to attach motherboard chipset heat sinks
US6454159B1 (en) Method for forming electrical connecting structure
US5057969A (en) Thin film electronic device
US5719442A (en) Resin sealing type semiconductor device
US5895973A (en) Electronic component assembly for maintaining component alignment during soldering
JPH1117326A (en) Method for soldering electronic parts
TW200526098A (en) Electrical circuit apparatus and method for assembling same
JPH11312769A (en) Heat sink assembly for device heat dissipation
EP0812015A1 (en) A heat dissipator for integrated circuits
US20080237302A1 (en) Solder mounting structure, method for manufacturing such solder mounting structure and use of such solder mounting structure
JP2001168402A (en) Method for soldering thermoelectric semiconductor chip with electrode and thermoelectric semiconductor module
US20040038452A1 (en) Connection between semiconductor unit and device carrier
JP2011108814A (en) Method of bonding surface mounting electronic component, and electronic device
JPWO2006077974A1 (en) Sealing plate and manufacturing method thereof
JPH0258793B2 (en)
JPH09181253A (en) Packaging device for semiconductor element
KR100726242B1 (en) Method for manufacturing substrate used to mount flip chip
JP4263765B1 (en) Electronic component soldering method
JP3362370B2 (en) Conductive ball array sheet and conductive ball array sheet manufacturing apparatus
JP2004140098A (en) Method of fixing semiconductor laser bar
JP2001230537A (en) Method for forming solder bump
JP2004014870A (en) Circuit module and its producing method
JP2001135667A (en) Method of forming bump, mold to be used therein, semiconductor device, its manufacturing method, circuit board and electronic apparatus
JPH09312358A (en) Ic package

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040922

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070131

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070313

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070511

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070904