JP2001166284A - Plasma address display device - Google Patents

Plasma address display device

Info

Publication number
JP2001166284A
JP2001166284A JP34963599A JP34963599A JP2001166284A JP 2001166284 A JP2001166284 A JP 2001166284A JP 34963599 A JP34963599 A JP 34963599A JP 34963599 A JP34963599 A JP 34963599A JP 2001166284 A JP2001166284 A JP 2001166284A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
electrode
dielectric layer
discharge electrode
plasma
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP34963599A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takehiro Togawa
剛広 外川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP34963599A priority Critical patent/JP2001166284A/en
Publication of JP2001166284A publication Critical patent/JP2001166284A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To facilitate alignment of a flit seal with a dielectric layer to be formed on discharge electrodes in superposed state, in a plasma cell constituting a plasma address display device. SOLUTION: This plasma address display device has a flat-panel structure in which a display cell with signal electrodes in columns and a plasma cell P with discharge electrodes 6 in rows are superposed via an intermediate sheet 3. The plasma cell P comprises a substrate 1, discharge electrodes 6 formed thereon, a dielectric layer 5 formed on the discharge electrodes 6 superposed, and a flit seal 10 for connecting the substrate 1 with the intermediate sheet 3 via a prescribed gap. Except a take-out part of the discharge electrodes 6 located in the periphery of the substrate 1, the whole remaining part of the discharge electrodes 6 is coated with the dielectric layer 5. The flit seal 10 is arranged on the dielectric layer 5. Further, the take-out part of the discharge electrodes 6 may be protected with electrodes coated with gold or the like.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、表示セルとプラズ
マセルを重ねたフラットパネル構造を有するプラズマア
ドレス表示装置に関する。より詳しくは、AC駆動型の
プラズマセルのフリットシール構造並びに電極構造に関
する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a plasma addressed display device having a flat panel structure in which a display cell and a plasma cell are stacked. More specifically, the present invention relates to a frit seal structure and an electrode structure of an AC drive type plasma cell.

【0002】[0002]

【従来の技術】AC駆動型のプラズマアドレス表示装置
は例えば特開平8−304792号公報に開示されてお
り、図10にその構造を示す。プラズマアドレス表示装
置は表示セルDとプラズマセルPと両者の間に介在する
共通の中間シート3とからなるフラットパネル構造を有
する。中間シート3は極薄の板ガラスなどからなりマイ
クロシートと呼ばれている。プラズマセルPは中間シー
ト3に接合した下側のガラス基板1から構成されてお
り、両者の空隙に放電可能な気体が封入されている。下
側のガラス基板1の内表面にはストライプ状の放電電極
6が形成されている。AC駆動型の場合放電電極6は誘
電体層5で被覆されている。更にこの誘電体層5はMg
O膜などからなる保護層17で被覆されている。ストラ
イプ状の放電電極6を一対ずつ区切る様に隔壁2が形成
されており、放電可能な気体が封入された空隙を分割し
て放電チャネル4を構成する。一対の隔壁2で囲まれた
放電チャネル4内で、互いに反対極性となる一対の放電
電極6の間にACプラズマ放電を発生させる。
2. Description of the Related Art An AC drive type plasma addressed display device is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-304792, and its structure is shown in FIG. The plasma addressed display device has a flat panel structure including a display cell D, a plasma cell P, and a common intermediate sheet 3 interposed therebetween. The intermediate sheet 3 is made of an extremely thin plate glass or the like and is called a micro sheet. The plasma cell P is composed of the lower glass substrate 1 joined to the intermediate sheet 3, and a gas that can be discharged is sealed in a gap between the two. On the inner surface of the lower glass substrate 1, a striped discharge electrode 6 is formed. In the case of the AC drive type, the discharge electrode 6 is covered with the dielectric layer 5. Further, this dielectric layer 5 is made of Mg.
It is covered with a protective layer 17 made of an O film or the like. The partition walls 2 are formed so as to divide the stripe-shaped discharge electrodes 6 into pairs, and the discharge channels 4 are formed by dividing a gap filled with a dischargeable gas. In a discharge channel 4 surrounded by a pair of partition walls 2, an AC plasma discharge is generated between a pair of discharge electrodes 6 having opposite polarities.

【0003】一方、表示セルDは透明な上側のガラス基
板12を用いて構成されている。このガラス基板12は
中間シート3の他面側に所定の間隙を介してシール材な
どにより接着されており、間隙には電気光学物質として
液晶13が封入されている。上側のガラス基板12の内
表面には信号電極11が形成されている。この信号電極
11と放電チャネル4の交差部にマトリクス状の画素が
形成される。又、ガラス基板12の内表面にはカラーフ
ィルタ23も設けてあり、各画素に例えばRGB三原色
を割り当てる。係る構成を有するフラットパネルは透過
型であり、例えばプラズマセルPが入射側に位置し、表
示セルDが出射側に位置する。光源となるバックライト
22がプラズマセルP側に取り付けられている。
On the other hand, the display cell D is constructed using a transparent upper glass substrate 12. The glass substrate 12 is adhered to the other surface of the intermediate sheet 3 with a sealing material or the like via a predetermined gap, and a liquid crystal 13 is sealed in the gap as an electro-optical material. The signal electrode 11 is formed on the inner surface of the upper glass substrate 12. Matrix pixels are formed at the intersections of the signal electrodes 11 and the discharge channels 4. A color filter 23 is also provided on the inner surface of the glass substrate 12, and for example, three primary colors of RGB are assigned to each pixel. The flat panel having such a configuration is of a transmission type, for example, in which the plasma cell P is located on the incident side and the display cell D is located on the emitting side. A backlight 22 as a light source is attached to the plasma cell P side.

【0004】係る構成を有するプラズマアドレス表示装
置は、プラズマ放電が行なわれる行状の放電チャネル4
を線順次で切り換え走査するとともに、この走査に同期
して表示セルD側の列状信号電極11に画像信号を印加
することにより表示駆動が行なわれる。放電チャネル4
内にACプラズマ放電が発生すると内部はほぼ一様にア
ノード電位になり、一行毎の画素選択が行なわれる。即
ち、一本の放電チャネル4は一本の走査線に対応し、サ
ンプリングスイッチとして機能する。プラズマサンプリ
ングスイッチが導通した状態で各信号電極に画像信号
(信号電圧)が印加されると、サンプリングが行なわれ
画素の点灯もしくは消灯が制御できる。プラズマサンプ
リングスイッチが非導通状態になった後にも画像信号は
そのまま画素内に保持される。表示セルDは画像信号に
応じてバックライト22からの入射光を出射光に変調し
画像表示を行なう。液晶13を交流駆動する為、画像信
号は例えば一行毎に極性反転する。
[0004] The plasma addressed display device having the above-described structure is provided with a row-shaped discharge channel 4 in which a plasma discharge is performed.
Are switched line-sequentially and scanning is performed, and an image signal is applied to the column-shaped signal electrodes 11 on the display cell D side in synchronization with the scanning to perform display driving. Discharge channel 4
When an AC plasma discharge occurs inside, the inside becomes almost uniformly at the anode potential, and pixel selection for each row is performed. That is, one discharge channel 4 corresponds to one scanning line and functions as a sampling switch. When an image signal (signal voltage) is applied to each signal electrode in a state where the plasma sampling switch is turned on, sampling is performed and lighting or extinguishing of the pixel can be controlled. Even after the plasma sampling switch is turned off, the image signal is held in the pixel as it is. The display cell D modulates incident light from the backlight 22 into outgoing light in accordance with an image signal to perform image display. In order to drive the liquid crystal 13 by AC, the polarity of the image signal is inverted, for example, for each row.

【0005】ACプラズマ放電型が、DVプラズマ放電
型と異なる点は、各放電チャネル4に割り当てられた一
対の放電電極6が誘電体層5で被覆されていることであ
る。各放電チャネル4に割り当てた一対の放電電極6に
順次放電パルスを印加し、誘電体層5の誘電性を利用し
てACプラズマ放電を励起することでプラズマセルPの
線順次走査を行なう。各放電チャネル4に励起されたプ
ラズマ放電は誘電体層5が荷電粒子で充電された段階で
停止する。ACプラズマ放電は誘電体層5の充放電によ
り自律的に制御可能であり、DCプラズマ放電に比べ放
電電荷量が少なくて済み、その分プラズマセルPの劣化
が抑制される。
The AC plasma discharge type differs from the DV plasma discharge type in that a pair of discharge electrodes 6 assigned to each discharge channel 4 are covered with a dielectric layer 5. A discharge pulse is sequentially applied to a pair of discharge electrodes 6 assigned to each discharge channel 4, and an AC plasma discharge is excited using the dielectric property of the dielectric layer 5, thereby performing a line-sequential scan of the plasma cell P. The plasma discharge excited in each discharge channel 4 stops when the dielectric layer 5 is charged with charged particles. The AC plasma discharge can be controlled autonomously by charging / discharging the dielectric layer 5, and the discharge charge amount is smaller than that of the DC plasma discharge, and the deterioration of the plasma cell P is correspondingly suppressed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】図11の(A)は、図
10に示したプラズマアドレス表示装置に組み込まれる
プラズマセルの全体構成を模式的に示した平面図であ
る。図示する様に、プラズマセルPは、ガラス基板1の
上に放電電極6がストライプ状に形成されている。この
放電電極6は、例えば透明電極と金属薄膜からなるバス
電極の積層構造である。ストライプ状の放電電極6を被
覆する様に誘電体層5が形成されている。この上に、フ
リットシール10を介して薄板ガラスからなる中間シー
トが接合される。
FIG. 11A is a plan view schematically showing the entire structure of a plasma cell incorporated in the plasma addressed display device shown in FIG. As shown, the plasma cell P has a discharge electrode 6 formed on a glass substrate 1 in a stripe shape. This discharge electrode 6 has, for example, a laminated structure of a bus electrode composed of a transparent electrode and a metal thin film. The dielectric layer 5 is formed so as to cover the stripe-shaped discharge electrode 6. An intermediate sheet made of thin glass is bonded on this via a frit seal 10.

【0007】(B)は、(A)で丸印を付した部分の拡
大部分断面図である。図示する様に、基板1の上には下
から順に放電電極6、誘電体層5、隔壁2が形成されて
いる。尚、図11の(A)では隔壁2の図示を省略して
いる。AC駆動型の場合、隔壁2の中程に基準電極7を
配することが一般的である。隔壁2の頂部に当接して中
間シート3が配され、フリットシール10により基板1
と接合している。フリットシール10で封止された中間
シート3と基板1の間にはイオン化可能な気体が封入さ
れている。
FIG. 1B is an enlarged partial cross-sectional view of a portion indicated by a circle in FIG. As shown in the figure, a discharge electrode 6, a dielectric layer 5, and a partition 2 are formed on a substrate 1 in this order from the bottom. In FIG. 11A, the illustration of the partition 2 is omitted. In the case of the AC drive type, it is general to arrange the reference electrode 7 in the middle of the partition 2. The intermediate sheet 3 is disposed in contact with the top of the partition wall 2, and the substrate 1 is
And joined. An ionizable gas is sealed between the intermediate sheet 3 and the substrate 1 sealed by the frit seal 10.

【0008】従来の構造では、基板1の短辺側に関して
は、(B)に示す様に、フリットシール10は丁度誘電
体層5の端部に半分重なった状態で基板1の周辺に配さ
れている。即ち、誘電体層5に半分掛かった状態でフリ
ットシールを行なっていた。これは、誘電体層5が比較
的ポーラスな材質である為プラズマセルPに封入された
気体のリーク経路に成り得るからである。このリーク経
路をフリットシール10で遮断する構造を採用してい
る。仮に、フリットシール10を誘電体層5の上に配す
ると、外部に露出した誘電体層5の端部からプラズマセ
ルPに封入された気体が漏れ出す恐れがある。一方、フ
リットシール10を誘電体層5の端部から外側に離間し
て配すると、放電電極6の一部がプラズマセルP内で一
部剥き出しとなる為、無用な放電を起こして電極が断線
してしまう。以上の様な観点から、従来の構造ではフリ
ットシール10が丁度誘電体層5の端部に半分掛かった
状態で基板1に配置していた。しかし、この様な構造は
フリットシール10の位置合わせが困難であり、ずれた
場合には放電気体が経時的に漏れ出したり、電極間で不
要なプラズマ放電が発生するという問題がある。その
他、誘電体層5の焼成時に高温を掛ける為に、電極6の
特に露出した部分が酸化されて電気抵抗が上昇する。抵
抗が高い部分ができると局部的に発熱する為、しばしば
故障の原因に成り得る。
In the conventional structure, on the short side of the substrate 1, the frit seal 10 is disposed around the periphery of the substrate 1 so as to be exactly overlapped with the end of the dielectric layer 5 as shown in FIG. ing. That is, the frit seal has been performed while half of the dielectric layer 5 has been applied. This is because the dielectric layer 5 is made of a relatively porous material and can serve as a leak path for the gas sealed in the plasma cell P. A structure in which this leak path is blocked by the frit seal 10 is adopted. If the frit seal 10 is arranged on the dielectric layer 5, the gas sealed in the plasma cell P may leak from the end of the dielectric layer 5 exposed to the outside. On the other hand, if the frit seal 10 is arranged to be spaced apart from the end of the dielectric layer 5, a part of the discharge electrode 6 is exposed in the plasma cell P, causing unnecessary discharge and disconnection of the electrode. Resulting in. From the above viewpoints, in the conventional structure, the frit seal 10 is disposed on the substrate 1 in a state where the frit seal 10 is just half of the end of the dielectric layer 5. However, such a structure has a problem that it is difficult to align the frit seal 10, and in the case where the frit seal 10 is displaced, the discharge gas leaks out with time and unnecessary plasma discharge occurs between the electrodes. In addition, since a high temperature is applied during firing of the dielectric layer 5, a particularly exposed portion of the electrode 6 is oxidized and the electric resistance increases. When a portion having a high resistance is formed, heat is locally generated, which often causes a failure.

【0009】AC型のプラズマアドレス表示装置では、
プラズマセルPの放電電極6は、一般にITOなどの透
明導電膜からなる透明電極とCr/Cu/CrやAlな
どの金属薄膜からなるバス電極を重ねた積層構造となっ
ている。しかし、これらの材質は比較的熱に弱く酸化さ
れ易い。この為、剥離などの欠陥が生じる。又、放電電
極6を被覆する誘電体層5はガラスなどからなる基板1
の熱膨張係数と合わせる為、材質的に焼成温度が620
℃以上と高くなってしまう。又、隔壁2なども焼成温度
の高いペーストで形成する為、放電電極6の露出した部
分(取出部分)が酸化されて、抵抗値が上がってしまっ
たり、透明電極とリブ電極との間で剥離が発生する。因
みに、隔壁2の焼成温度は例えば580℃程度である。
In an AC type plasma address display device,
The discharge electrode 6 of the plasma cell P generally has a laminated structure in which a transparent electrode made of a transparent conductive film such as ITO and a bus electrode made of a metal thin film such as Cr / Cu / Cr or Al are stacked. However, these materials are relatively weak to heat and are easily oxidized. For this reason, defects such as peeling occur. The dielectric layer 5 covering the discharge electrode 6 is made of a substrate 1 made of glass or the like.
In order to match with the thermal expansion coefficient of
It will be higher than ℃. In addition, since the partition walls 2 and the like are also formed of a paste having a high firing temperature, the exposed portions (extracted portions) of the discharge electrodes 6 are oxidized, thereby increasing the resistance value or peeling between the transparent electrodes and the rib electrodes. Occurs. Incidentally, the baking temperature of the partition 2 is, for example, about 580 ° C.

【0010】[0010]

【課題を解決する為の手段】上述した従来の技術の課題
を解決する為、第一の手段を講じた。即ち、本発明に係
るプラズマアドレス表示装置は、列状の信号電極を備え
た表示セルと、行状の放電電極を備えたプラズマセルと
を中間シートを介して互いに重ねたフラットパネル構造
を有する。前記プラズマセルは、基板と、その上に形成
された放電電極と、該放電電極の上に重ねて形成された
誘電体層と、所定の間隙を介して該基板を該中間シート
に接合するフリットシールとからなる。特徴事項とし
て、前記誘電体層は、該基板の周辺に位置する該放電電
極の取出部を除いて該放電電極の残りの部分を全て被覆
しており、前記フリットシールは、該誘電体層の上に配
されている。又、前記誘電体層は、該フリットシールに
よって閉じられた該中間シートと該基板との間の間隙に
封入される気体を透過しない材料からなる。前記誘電体
層は、ガラスからなる基板に塗布したペーストを焼成し
て形成したものであり、該基板に合わせた熱膨張係数を
有し、該基板の歪点より低い温度で焼成したものであ
る。好ましくは、前記放電電極の取出部を被覆する様に
被膜電極が形成されており、少なくとも誘電体層を焼成
する過程で熱による該取出部の酸化を防止する。
Means for Solving the Problems In order to solve the above-mentioned problems of the prior art, the first means has been taken. That is, the plasma addressed display device according to the present invention has a flat panel structure in which a display cell provided with column-shaped signal electrodes and a plasma cell provided with row-shaped discharge electrodes are overlapped with each other via an intermediate sheet. The plasma cell includes a substrate, a discharge electrode formed thereon, a dielectric layer formed on the discharge electrode, and a frit for joining the substrate to the intermediate sheet via a predetermined gap. Consists of a seal. As a characteristic feature, the dielectric layer covers all of the remaining portion of the discharge electrode except for a discharge electrode extraction portion located around the substrate, and the frit seal covers the dielectric layer. It is arranged above. Further, the dielectric layer is made of a material that does not transmit gas that is sealed in a gap between the intermediate sheet and the substrate closed by the frit seal. The dielectric layer is formed by firing a paste applied to a substrate made of glass, has a coefficient of thermal expansion matched to the substrate, and is fired at a temperature lower than the strain point of the substrate. . Preferably, a coated electrode is formed so as to cover the extraction portion of the discharge electrode, and oxidation of the extraction portion due to heat is prevented at least in the process of firing the dielectric layer.

【0011】又、上述した従来の技術の課題を解決する
為、以下の第二の手段を講じた。即ち、本発明に係るプ
ラズマアドレス表示装置は、列状の信号電極を備えた表
示セルと、行状の放電電極を備えたプラズマセルとを中
間シートを介して互いに重ねたフラットパネル構造を有
する。前記プラズマセルは、基板と、その上に形成され
た放電電極と、該放電電極の上に重ねて形成された誘電
体層と、所定の間隙を介して該基板を該中間シートに接
合するフリットシールとからなる。前記誘電体層は該基
板の周辺に位置する該放電電極の取出部を除いて該放電
電極の残りの部分を被覆している。特徴事項として、前
記放電電極の取出部を覆う様に被膜電極が形成されてお
り、熱による取出部の酸化を防止する。具体的には、前
記被膜電極は、金又は銀を含む金属からなる。又、前記
被膜電極は、該フリットシールによって閉じられた該中
間シートと該基板との間の間隙に封入された気体を透過
しない材料からなる。
Further, in order to solve the above-mentioned problems of the prior art, the following second means has been taken. That is, the plasma addressed display device according to the present invention has a flat panel structure in which a display cell provided with column-shaped signal electrodes and a plasma cell provided with row-shaped discharge electrodes are overlapped with each other via an intermediate sheet. The plasma cell includes a substrate, a discharge electrode formed thereon, a dielectric layer formed on the discharge electrode, and a frit for joining the substrate to the intermediate sheet via a predetermined gap. Consists of a seal. The dielectric layer covers the remaining portion of the discharge electrode except for a portion of the discharge electrode located around the substrate. As a characteristic feature, a coated electrode is formed so as to cover the extraction portion of the discharge electrode, thereby preventing oxidation of the extraction portion due to heat. Specifically, the coated electrode is made of a metal containing gold or silver. Further, the coated electrode is made of a material that does not transmit gas sealed in a gap between the intermediate sheet and the substrate closed by the frit seal.

【0012】本発明で講じた第一の手段によれば、AC
駆動型のプラズマアドレス表示装置において、プラズマ
セルに形成される放電電極の内取出部を除いた残りの部
分を全て誘電体層で被覆してある。そして、この誘電体
層の上にフリットシールを配して、中間シートに対する
接合を行なっている。これにより、フリットシールをプ
ラズマセルの基板に供給する際の位置合わせが容易にな
る。この構造を可能とする為、誘電体層は緻密な組成を
有しており、端部からプラズマセルの放電気体が漏れ出
さない様になっている。加えて、誘電体層はプラズマセ
ルのガラス基板に熱膨張係数を合わせた材質とし、焼成
温度はプラズマセルの基板の歪点よりも低い温度である
ことが重要になる。
According to a first measure taken in the present invention, AC
In the drive type plasma addressed display device, the remaining portion except for the internal extraction portion of the discharge electrode formed in the plasma cell is covered with a dielectric layer. Then, a frit seal is arranged on the dielectric layer to join the intermediate sheet. This facilitates positioning when the frit seal is supplied to the substrate of the plasma cell. In order to enable this structure, the dielectric layer has a dense composition so that the discharge gas of the plasma cell does not leak from the end. In addition, it is important that the dielectric layer be made of a material having a coefficient of thermal expansion matched to that of the glass substrate of the plasma cell, and that the firing temperature be lower than the strain point of the substrate of the plasma cell.

【0013】本発明で講じた第二の手段によれば、AC
駆動型のプラズマアドレス表示装置において、プラズマ
セルに形成された放電電極の外部接続端子となる取出部
を、金又は銀を含む金属で被覆する構造を採用してい
る。これにより、放電電極の露出した取出部の酸化を防
ぐことができる。この様な被覆電極に使う材料は放電気
体をリークしないことが重要である。
According to a second measure taken in the present invention, the AC
2. Description of the Related Art In a driving type plasma addressed display device, a structure is adopted in which an extraction portion serving as an external connection terminal of a discharge electrode formed in a plasma cell is covered with a metal containing gold or silver. Thereby, oxidation of the exposed extraction portion of the discharge electrode can be prevented. It is important that the material used for such a coated electrode does not leak the discharge gas.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の実施
の形態を詳細に説明する。図1は、本発明に係るプラズ
マアドレス表示装置の実施形態を示す模式図である。
(A)は、特にプラズマセルPの模式的な平面図であ
り、(B)はプラズマセルPの短辺側の部分拡大断面図
である。理解を容易にする為、図11に示した従来構造
と対応する部分には対応する参照番号を付してある。前
述した様に、プラズマアドレス表示装置は、列状の信号
電極を備えた表示セルと、行状の放電電極6を備えたプ
ラズマセルPとを中間シートを介して互いに重ねたフラ
ットパネル構造を有する。(A)及び(B)に示す様
に、プラズマセルPは、基板1と、その上に形成された
放電電極6と、放電電極6の上に重ねて形成された誘電
体層5と、所定の間隙を介して基板1を中間シート3に
接合するフリットシール10とからなる。更に、中間シ
ート3と基板1との間には隔壁2が形成されている。隔
壁2は中間部に基準電極7を備えている。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic diagram showing an embodiment of a plasma addressed display device according to the present invention.
2A is a schematic plan view of the plasma cell P in particular, and FIG. 2B is a partially enlarged sectional view of the short side of the plasma cell P. To facilitate understanding, portions corresponding to those of the conventional structure shown in FIG. 11 are denoted by corresponding reference numerals. As described above, the plasma addressed display device has a flat panel structure in which the display cells provided with the column-shaped signal electrodes and the plasma cells P provided with the row-shaped discharge electrodes 6 are overlapped with each other via the intermediate sheet. As shown in (A) and (B), the plasma cell P includes a substrate 1, a discharge electrode 6 formed thereon, a dielectric layer 5 formed on the discharge electrode 6, And a frit seal 10 for joining the substrate 1 to the intermediate sheet 3 through the gap. Further, a partition 2 is formed between the intermediate sheet 3 and the substrate 1. The partition 2 has a reference electrode 7 at an intermediate portion.

【0015】特徴事項として、誘電体層5は基板1の周
辺に位置する放電電極6の取出部を除いて、放電電極6
の残りの部分を全て被覆している。この様に放電電極6
の露出している部分が少なくなるので酸化しにくくな
る。一方、フリットシール10は誘電体層5の上に配さ
れている。従来の様に、フリットシール10を誘電体層
5の端部に合わせる必要がなくなる為、フリットシール
10の位置合わせが楽になる。又、フリットシール10
の部分で段差がなくなるので、フリットシール10の頂
部の高さが均一になり、中間シート3と接合する時に破
損することがなくなる。因みに、中間シート3は厚みが
50μm程度の極薄の板ガラスからなり、極めて破損し
易い。係る構造を可能とする前提条件として、誘電体層
5は、フリットシール10によって閉じられた中間シー
ト3と基板1との間の間隙に封入される気体を透過しな
い材料を用いる必要がある。又、誘電体層5はガラスか
らなる基板1に塗布したペーストを焼成して形成したも
のであり、基板1に合わせた熱膨張係数を有するととも
に、基板1の歪点より低い温度で焼成される。例えば、
誘電体層5はガラス粉末とバインダ樹脂と溶剤を混合し
たガラスフリットペーストを印刷焼成したものである。
焼成段階でバインダ樹脂と溶剤は全て飛び散るので、極
めて緻密な組成が得られる。即ち、誘電体層5の形成に
用いるガラスフリットペーストは通常の様にフィラー
(充填剤)を含んでいない。誘電体層5となるガラスフ
リットは、基板1のガラス材料に熱膨張係数を合わせた
ものであり、焼成温度はガラスの歪点よりも低い温度で
あることが好ましい。又、その緻密性はプラズマセルP
に封入された放電ガスを透過しないことが必要条件であ
る。
As a characteristic feature, the dielectric layer 5 is provided on the discharge electrode 6 except for the discharge electrode 6 located at the periphery of the substrate 1.
All of the remaining parts are covered. Thus, the discharge electrode 6
Is less likely to be oxidized because the exposed portion is reduced. On the other hand, the frit seal 10 is provided on the dielectric layer 5. Unlike the related art, it is not necessary to align the frit seal 10 with the end of the dielectric layer 5, so that the frit seal 10 can be easily positioned. Also, frit seal 10
Since there is no step at the portion, the height of the top of the frit seal 10 becomes uniform, and there is no breakage when joining the intermediate sheet 3. Incidentally, the intermediate sheet 3 is made of an extremely thin plate glass having a thickness of about 50 μm, and is extremely easily broken. As a prerequisite for enabling such a structure, the dielectric layer 5 must be made of a material that does not transmit the gas sealed in the gap between the intermediate sheet 3 and the substrate 1 closed by the frit seal 10. The dielectric layer 5 is formed by firing a paste applied to the substrate 1 made of glass. The dielectric layer 5 has a coefficient of thermal expansion matched to the substrate 1 and is fired at a temperature lower than the strain point of the substrate 1. . For example,
The dielectric layer 5 is formed by printing and firing a glass frit paste obtained by mixing a glass powder, a binder resin, and a solvent.
Since the binder resin and the solvent are all scattered in the firing step, an extremely dense composition can be obtained. That is, the glass frit paste used for forming the dielectric layer 5 does not contain a filler as usual. The glass frit serving as the dielectric layer 5 has the same thermal expansion coefficient as the glass material of the substrate 1, and the firing temperature is preferably lower than the strain point of the glass. The denseness of the plasma cell P
It is a necessary condition that the discharge gas sealed in the gas does not permeate.

【0016】図2は、図1に示した実施形態の変形例を
示す模式的な平面図である。図1に示した実施形態で
は、基板1の長辺側においても、フリットシール10を
誘電体層5の上に配していた。これに対し、図2に示し
た変形例では、基板1の長辺側はフリットシール10を
基板1の上に直接形成している。基板1の長辺側は短辺
側と異なり放電電極の取出部が存在しないので、フリッ
トシールを特に誘電体層5の上に配する必要性はない。
FIG. 2 is a schematic plan view showing a modification of the embodiment shown in FIG. In the embodiment shown in FIG. 1, the frit seal 10 is disposed on the dielectric layer 5 also on the long side of the substrate 1. On the other hand, in the modification shown in FIG. 2, the frit seal 10 is formed directly on the substrate 1 on the long side of the substrate 1. Unlike the short side, the long side of the substrate 1 does not have a discharge electrode extraction portion. Therefore, there is no need to particularly arrange the frit seal on the dielectric layer 5.

【0017】図3は、図1に示したプラズマセルの製造
方法を示す工程図である。まず(A)に示す様に、ガラ
スなどからなる基板1の上に放電電極6をストライプ状
に形成する。放電電極6は例えばITOからなる透明電
極と金属薄膜からなるバス電極の積層構造である。バス
電極は例えばクロム/銅/クロムの三層構造である。次
に(B)に示す様に、放電電極6の上にガラスフリット
のペーストを印刷法にて塗布して、焼成を行なう。焼成
温度は例えば620℃程度であり、ガラスからなる基板
1の歪点630℃よりも低くする。ガラスフリットのペ
ーストに含まれる透明誘電体材料は例えばZnO,B2
3 ,SiO2 ,Li2 Oなどによって構成されるガラ
ス粉末であり、その熱膨張係数はほぼガラス基板1と等
しい。続いて(C)に示す様に、隔壁の下地部分2aを
例えば印刷焼成で形成する。更に、工程(D)で導電性
ペーストを印刷焼成し、基準電極7を形成する。更に工
程(E)で、ガラスペーストを印刷焼成し隔壁の残部2
bを形成する。この後(F)に示す様に、隔壁の頂部を
研磨した後、フリットシール10を塗布する。フリット
シール10はディスペンサーや印刷などで塗布する。塗
布の位置は、図示する様に少なくとも基板1の短辺側に
おいては誘電体層5の上部である。長辺側は誘電体層5
の上部であってもあるいはガラス基板1の上でも問題は
ない。この段階でフリットシール10の仮焼成を行な
う。更に、保護層となるMgOを蒸着もしくはスパッタ
で成膜する。但し、図示は省略してある。最後に(G)
に示す様に、ガラス基板1と中間シート3を接合する為
に、窒素雰囲気中でフリットシール10を焼成する。こ
の時排気用の管もフリットで取り付ける。以上により、
プラズマセルPの基本構造が完成する。この後排気管を
介して高温排気を行ない、プラズマセルPの内部に放電
ガスを封入して、排気管を封じ切る。この後は、中間シ
ート3の上に表示セルを組み立てて、プラズマアドレス
表示装置の完成となる。
FIG. 3 is a process chart showing a method of manufacturing the plasma cell shown in FIG. First, as shown in FIG. 1A, a discharge electrode 6 is formed in a stripe shape on a substrate 1 made of glass or the like. The discharge electrode 6 has a laminated structure of, for example, a transparent electrode made of ITO and a bus electrode made of a metal thin film. The bus electrode has, for example, a three-layer structure of chromium / copper / chromium. Next, as shown in (B), a paste of glass frit is applied on the discharge electrode 6 by a printing method, and firing is performed. The firing temperature is, for example, about 620 ° C., which is lower than the strain point 630 ° C. of the glass substrate 1. The transparent dielectric material contained in the glass frit paste is, for example, ZnO, B 2
It is a glass powder composed of O 3 , SiO 2 , Li 2 O or the like, and its thermal expansion coefficient is almost equal to that of the glass substrate 1. Subsequently, as shown in (C), a base portion 2a of the partition is formed by, for example, printing and baking. Further, in a step (D), the conductive paste is printed and baked to form the reference electrode 7. Further, in step (E), the glass paste is printed and baked, and the remaining part 2
b is formed. Thereafter, as shown in (F), the top of the partition is polished, and then the frit seal 10 is applied. The frit seal 10 is applied by a dispenser, printing, or the like. As shown in the figure, the position of the coating is on the upper part of the dielectric layer 5 at least on the short side of the substrate 1. Long side is dielectric layer 5
There is no problem even on the upper part of the substrate or on the glass substrate 1. At this stage, the frit seal 10 is pre-fired. Further, MgO to be a protective layer is formed by vapor deposition or sputtering. However, illustration is omitted. Finally (G)
As shown in FIG. 2, the frit seal 10 is fired in a nitrogen atmosphere in order to join the glass substrate 1 and the intermediate sheet 3. At this time, the exhaust pipe is also attached with a frit. From the above,
The basic structure of the plasma cell P is completed. Thereafter, high-temperature exhaust is performed through an exhaust pipe, a discharge gas is sealed in the plasma cell P, and the exhaust pipe is completely closed. Thereafter, the display cells are assembled on the intermediate sheet 3 to complete the plasma addressed display.

【0018】図4は、図3に示した製造方法の変形例を
示す工程図である。基本的には図3に示した製造方法と
同様であり、対応する部分には対応する参照番号を付し
てある。異なる点は、工程(A1)で放電電極6をスト
ライプ状に基板1の上に形成した後、工程(A2)で放
電電極6の取出部に被膜電極30を形成した事である。
この被膜電極30は金又は銀を含む金属からなり、放電
電極6を酸化から防ぐ。材料としては、Auの他、Ag
PdCuやAgPdTiの合金を用いることができる。
この被膜電極30は後工程で隔壁などを焼成する際、加
わる熱で放電電極6の表面が酸化されるのを防ぐ。隔壁
の焼成はバインダ樹脂などを焼き飛ばす為酸化雰囲気で
行なわれる。この為、被膜電極30を形成しないと、放
電電極6の露出した取出部が酸化を受けることになる。
尚被膜電極30を形成した後は、(B)乃至(G)に示
す様に、図3と同様な工程でプラズマセルPを完成させ
る。特に(B)で示す様に、誘電体層5を焼成する際に
は、下地の放電電極6は予め被膜電極30で被覆されて
いる為酸化を受けない。同様に、(C)乃至(E)で示
す様に、誘電体層5の上に隔壁の下部2a、基準電極7
及び隔壁の上部2bを順に焼成で形成する際も、放電電
極6は被膜電極30で保護されているので酸化を受けな
い。更には、(G)に示す様に、フリットシール10を
焼成する際にも酸化を受けることがない。この様に、後
工程で繰り返し加わる熱による酸化を防ぐ為、本例では
放電電極6に初期の段階で被膜電極30を形成してあ
る。
FIG. 4 is a process chart showing a modification of the manufacturing method shown in FIG. Basically, it is the same as the manufacturing method shown in FIG. 3, and corresponding parts are denoted by corresponding reference numerals. The difference is that after the discharge electrodes 6 are formed on the substrate 1 in the form of stripes in the step (A1), the coated electrodes 30 are formed at the extraction portions of the discharge electrodes 6 in the step (A2).
The coated electrode 30 is made of a metal containing gold or silver and protects the discharge electrode 6 from oxidation. As a material, in addition to Au, Ag
An alloy of PdCu or AgPdTi can be used.
The coated electrode 30 prevents the surface of the discharge electrode 6 from being oxidized by the applied heat when the partition walls and the like are fired in a later step. The partition walls are fired in an oxidizing atmosphere to burn off the binder resin and the like. Therefore, if the coated electrode 30 is not formed, the exposed extraction portion of the discharge electrode 6 will be oxidized.
After the coating electrode 30 is formed, as shown in (B) to (G), the plasma cell P is completed by the same steps as in FIG. In particular, as shown in (B), when firing the dielectric layer 5, the underlying discharge electrode 6 is not oxidized because it is previously covered with the coating electrode 30. Similarly, as shown in (C) to (E), the lower part 2 a of the partition and the reference electrode 7 are formed on the dielectric layer 5.
Also, when the upper part 2b of the partition is formed by firing, the discharge electrode 6 is not oxidized because the discharge electrode 6 is protected by the coated electrode 30. Further, as shown in (G), the frit seal 10 is not oxidized during firing. As described above, in order to prevent oxidation due to heat repeatedly applied in a later step, in this example, the coating electrode 30 is formed on the discharge electrode 6 at an early stage.

【0019】図5は、本発明に係るプラズマアドレス表
示装置の他の実施形態を示す模式図である。(A)は特
にプラズマセルの平面図であり、(B)はその部分拡大
断面図である。理解を容易にする為、図1に示した先の
実施形態と対応する部分には対応する参照番号を付して
ある。プラズマアドレス表示装置は、基本的に、列状の
信号電極を備えた表示セルと、行状の放電電極を備えた
プラズマセルとを中間シートを介して互いに重ねたフラ
ットパネル構造を有する。図示する様に、プラズマセル
Pは基板1と、その上に形成されたストライプ状の放電
電極6と、放電電極6の上に重ねて形成された誘電体層
5と、所定の間隙を介して基板1を中間シート3に接合
するフリットシール10とからなる。誘電体層5は基板
1の周辺に位置する放電電極6の取出部を除いて、放電
電極6の残りの部分を被覆している。特徴事項として、
放電電極6の露出した取出部を保護する様に被膜電極3
0が形成されており、少なくとも誘電体層5を形成する
過程で熱による取出部の酸化を防止する。この被覆電極
30は金又は銀もしくはこれらを含む合金からなり、耐
熱性に優れている。更に、被覆電極30は、フリットシ
ール10によって閉じられた中間シート3と基板1との
間の間隙に封入された気体を透過しない材料である。被
覆電極30は放電電極6の酸化を防ぐとともに、取出部
の厚みを増加させることで、外部のフレキシブルケーブ
ルの電極などに対する電気的な接触が良くなる。即ち、
取出部の厚みが大きくなった分フレキシブルケーブルと
の密着力が上がる。
FIG. 5 is a schematic diagram showing another embodiment of the plasma addressed display device according to the present invention. (A) is a plan view of the plasma cell in particular, and (B) is a partially enlarged sectional view thereof. To facilitate understanding, parts corresponding to those of the previous embodiment shown in FIG. 1 are denoted by corresponding reference numerals. The plasma addressed display device basically has a flat panel structure in which a display cell provided with column-shaped signal electrodes and a plasma cell provided with row-shaped discharge electrodes are overlapped with each other via an intermediate sheet. As shown, the plasma cell P includes a substrate 1, a stripe-shaped discharge electrode 6 formed thereon, and a dielectric layer 5 formed on the discharge electrode 6 with a predetermined gap therebetween. And a frit seal 10 for joining the substrate 1 to the intermediate sheet 3. The dielectric layer 5 covers the remaining portion of the discharge electrode 6 except for a portion where the discharge electrode 6 is located around the substrate 1. As a feature,
The coated electrode 3 is protected so as to protect the exposed extraction portion of the discharge electrode 6.
0 is formed to prevent oxidation of the extraction portion due to heat at least in the process of forming the dielectric layer 5. The coated electrode 30 is made of gold, silver or an alloy containing these, and has excellent heat resistance. Further, the covered electrode 30 is made of a material that does not transmit the gas sealed in the gap between the intermediate sheet 3 and the substrate 1 closed by the frit seal 10. The coating electrode 30 prevents oxidation of the discharge electrode 6 and increases the thickness of the take-out portion, so that electrical contact with an electrode of an external flexible cable is improved. That is,
As the thickness of the take-out part increases, the adhesion to the flexible cable increases.

【0020】最後に、図6乃至図9を参照して、本発明
に係るプラズマアドレス表示装置の具体的な構成例を詳
細に説明する。本表示装置は、図6に示すように、背面
側基板1上において互いに平行な隔壁2で仕切られると
ともに、これら隔壁2により背面側基板1に平行となさ
れて支持された中間シート3で閉蓋された複数のチャネ
ル4を備えて構成されている。中間シート3の周縁部
は、図7及び図8に示すように、フリットシール10に
より、背面側基板1に対して封止されており、この中間
シート3と背面側基板1との間を密閉状態としている。
Finally, a specific configuration example of the plasma addressed display device according to the present invention will be described in detail with reference to FIGS. As shown in FIG. 6, the present display device is partitioned by partitions 2 parallel to each other on the rear substrate 1 and closed by an intermediate sheet 3 supported parallel to the rear substrate 1 by the partitions 2. A plurality of channels 4 are provided. As shown in FIGS. 7 and 8, the periphery of the intermediate sheet 3 is sealed to the rear substrate 1 by a frit seal 10, and the space between the intermediate sheet 3 and the rear substrate 1 is sealed. State.

【0021】また、中間シート3には、図8に示すよう
に、スぺーサ18を介して、信号電極11が設けられた
正面側基板12が取付けられている。信号電極11は、
正面側基板12の背面部に形成されている。スペーサ1
8は、正面側基板12の周囲部に沿って、この正面側基
板12と中間シート3との間の空隙を囲んで配設されて
いる。そして、この正面側基板12と中間シート3との
間は、液晶が充填されて液晶層13となされている。
As shown in FIG. 8, a front substrate 12 provided with a signal electrode 11 is attached to the intermediate sheet 3 via a spacer 18. The signal electrode 11 is
It is formed on the back surface of the front substrate 12. Spacer 1
Reference numeral 8 is provided along the periphery of the front substrate 12 so as to surround a gap between the front substrate 12 and the intermediate sheet 3. Liquid crystal is filled between the front substrate 12 and the intermediate sheet 3 to form a liquid crystal layer 13.

【0022】そして、各チャンネル4には、図6及び図
7に示すように、誘電体層5で被われた一対の放置のた
めの放電電極6,6が設けられている。隔壁2の中間部
には、基準電極7が設けられている。放電電極6,6
は、幅の広い透明電極8と幅の狭いバス電極9との積層
構造となっている。
As shown in FIGS. 6 and 7, each channel 4 is provided with a pair of discharge electrodes 6 and 6 which are covered with a dielectric layer 5 and are left to stand. A reference electrode 7 is provided at an intermediate portion of the partition wall 2. Discharge electrodes 6, 6
Has a laminated structure of a wide transparent electrode 8 and a narrow bus electrode 9.

【0023】透明電極8は、ITOにより、数十nmの
厚さを有して形成されている。バス電極9は、クロム−
銅−クロム(Cr−Cu−Cr)の積層構造となってい
る。クロム層は、数十nm、銅層は、1μm乃至2μm
の厚さである。
The transparent electrode 8 is formed of ITO with a thickness of several tens nm. The bus electrode 9 is made of chrome-
It has a laminated structure of copper-chromium (Cr-Cu-Cr). The chrome layer is several tens of nm, and the copper layer is 1 μm to 2 μm.
Is the thickness.

【0024】ここで、放電電極6の電気抵抗値(電極抵
抗)は、銅層の厚さで決まるといってよい。放電特性の
上からは、放電電極6の電極抵抗は低いほど望ましい
が、プロセス上の制約、すなわち、銅のスパッタプロセ
スの時間、銅を厚膜にした場合の背面側基板1の反りの
発生量等により決定される。
Here, it can be said that the electric resistance value (electrode resistance) of the discharge electrode 6 is determined by the thickness of the copper layer. From the viewpoint of discharge characteristics, the lower the electrode resistance of the discharge electrode 6 is, the more desirable it is. Etc. are determined.

【0025】放電電極6の電気抵抗値が高くなると、電
極容量と電極抵抗で決まる時定数が大きくなり、また、
放電電流による電圧降下のため電極取リ出し部から離れ
るほど外部からの印加電圧を高く設定する必要が生じて
くる。したがって、放電電極6の電気抵抗値が高い場合
には、駆動電圧ムラが起こリ易くなる。放電電極6の電
気抵抗値を実験的に定めると、1ラインあたり200Ω
/m以下にすることが望ましい。
When the electric resistance of the discharge electrode 6 increases, the time constant determined by the electrode capacitance and the electrode resistance increases, and
Due to the voltage drop due to the discharge current, it becomes necessary to set the externally applied voltage higher as the distance from the electrode take-out portion increases. Therefore, when the electric resistance value of the discharge electrode 6 is high, driving voltage unevenness is likely to occur. When the electric resistance value of the discharge electrode 6 is experimentally determined, 200 Ω per line
/ M or less.

【0026】バス電極9は、一般的に、不透明な材料に
より形成されるため、その幅や位置については、光学的
見地からの制約が生じる。バス電極9の部分は、開口率
を下げることになるからである。また、隔壁2の部分及
びその近傍部分には、液晶層13に所定の電圧が印加さ
れない。そのため、隔壁2の部分及びその近傍部分は、
遮光することが望ましい。したがって、バス電極9は、
光学的見地からは、隔壁の近傍部分を遮光できる位置に
設けることが望ましい。すなわち、一つのチャネル4内
において、バス電極9は、隔壁2に近い位置に設けら
れ、透明電極8は、バス電極9よりもチャネル4の中央
側に位置して設けられる。
Since the bus electrode 9 is generally made of an opaque material, its width and position are restricted from an optical point of view. This is because the bus electrode 9 reduces the aperture ratio. In addition, a predetermined voltage is not applied to the liquid crystal layer 13 at the portion of the partition wall 2 and the vicinity thereof. Therefore, the portion of the partition wall 2 and the vicinity thereof are:
It is desirable to shield light. Therefore, the bus electrode 9
From an optical point of view, it is desirable to provide a portion near the partition wall at a position where light can be shielded. That is, in one channel 4, the bus electrode 9 is provided at a position near the partition 2, and the transparent electrode 8 is provided at a position closer to the center of the channel 4 than the bus electrode 9.

【0027】誘電体層5は、透過型の液晶モードの場合
には、透明な材料で形成する必要がある。透明な材料か
らなる誘電体層5は、ガラスペーストをスクリーン印刷
で形成することができる。なお、図8に示す様に、フリ
ットシール10はこの誘電体層5の上に配される。
In the case of the transmission type liquid crystal mode, the dielectric layer 5 needs to be formed of a transparent material. The dielectric layer 5 made of a transparent material can be formed by screen printing a glass paste. In addition, as shown in FIG. 8, the frit seal 10 is disposed on the dielectric layer 5.

【0028】そして、誘電体層5上には、保護層17が
設けられている。この保護層17は、Mg0によリ形成
することができる。この保護層17の厚さは、0.1μ
m以上5μm以下であることが望ましい。
On the dielectric layer 5, a protective layer 17 is provided. This protective layer 17 can be formed using Mg0. The thickness of this protective layer 17 is 0.1 μm.
It is desirable that it is not less than m and not more than 5 μm.

【0029】ところで、誘電体層5の厚さと誘電率とに
は、放電特性上の制約がある。ここで、放電電極6の電
極間隔、電極幅と、誘電体層5の厚さ、誘電率との関係
について述べる。この表示装置では、平面上の一対のス
トライプ状の電極6間に所定の電圧を外部から印加して
放電を発生させることになるが、放電空間に発生するギ
ャップ電圧は、誘電体層5があるため、等価的には、図
9に示すように、誘電体層5の容量とギャップ間容量と
の直列容量で示すことができる。この等価回路から、ギ
ャップ電圧を外部駆動電圧に対して増加させるために
は、誘電体層5の容量を高くする、つまり、誘電体層5
をなす誘電体材料の誘電率を高くし、または、誘電体層
5の厚さを薄くし、あるいは、放電電極6間の間隔を広
げれぱよいことがわかる。
Incidentally, the thickness and the dielectric constant of the dielectric layer 5 have restrictions on the discharge characteristics. Here, the relationship between the electrode interval and the electrode width of the discharge electrode 6 and the thickness and the dielectric constant of the dielectric layer 5 will be described. In this display device, a predetermined voltage is externally applied between a pair of striped electrodes 6 on a plane to generate a discharge, and the gap voltage generated in the discharge space is the dielectric layer 5. Therefore, equivalently, as shown in FIG. 9, the capacitance can be represented by the series capacitance of the capacitance of the dielectric layer 5 and the capacitance between the gaps. From this equivalent circuit, in order to increase the gap voltage with respect to the external drive voltage, the capacitance of the dielectric layer 5 must be increased, that is, the dielectric layer 5
It can be seen that it is preferable to increase the dielectric constant of the dielectric material, or reduce the thickness of the dielectric layer 5, or increase the distance between the discharge electrodes 6.

【0030】そして、隔壁2、基準電極7は、スクリー
ン印刷、もしくは、サンドブラスト法で形成することが
できる.基準電極7の材料は、ニッケル(Ni)、アル
ミニウム(A1)、銀(Ag)等であるが、放電陰極材
としての仕事関数の低いことは要求されない。ただし、
電気抵抗値を低くできる材料が望ましい.基準電極7の
位置は、放電特性上は、隔壁2の高い位置にあることが
望ましい。しかし、基準電極7から液晶層13の距離が
近くなると、この基準電極7と信号電極11との容量が
大きくなり、いわゆるクロストークの問題が生ずる。基
準電極7の幅は、放電スイッチとしての観点と電極低抗
を下げる目的からは広いほうが望ましいが、先のクロス
トークの点では、幅を広くして液晶層13に近くなるこ
とは望ましくない。
The partition 2 and the reference electrode 7 can be formed by screen printing or sandblasting. The material of the reference electrode 7 is nickel (Ni), aluminum (A1), silver (Ag), or the like, but does not require a low work function as a discharge cathode material. However,
A material that can reduce the electric resistance is desirable. The position of the reference electrode 7 is desirably at a high position of the partition 2 in terms of discharge characteristics. However, as the distance between the reference electrode 7 and the liquid crystal layer 13 decreases, the capacitance between the reference electrode 7 and the signal electrode 11 increases, causing a so-called crosstalk problem. The width of the reference electrode 7 is desirably wide from the viewpoint of a discharge switch and the purpose of reducing the electrode resistance. However, it is not desirable that the width of the reference electrode 7 be increased to be close to the liquid crystal layer 13 in terms of the crosstalk.

【0031】隔壁2の高さは、放電特性の点と先のクロ
ストークの点では高いほど望ましいが、光学的見地から
は低い方が望ましい。なぜなら、隔壁2が高くなると、
視角が大きくなった場合の遮光率が高くなり、光の利用
効率が下がるからである。隔壁2の幅は、開口率、クロ
ストークの点では狭い方が望ましいが、隔壁2の幅が狭
くなると、基準電極7の抵抗が高くなること及びプロセ
ス上形成が困難となるという問題がある。具体的には、
基準電極7を誘電体層5から20μm乃至30μm隔た
った位置に形成し、その上に150μm程度の高さの隔
壁2を形成するとよい。この基準電極7は、図7に示す
ように、誘電体層5の無効部分で互いに接続され、誘電
体層5内のコンタクトホール15を通して背面側基板1
の外部への取リ出し部16に接続される。
The height of the partition walls 2 is preferably higher in terms of discharge characteristics and the above-mentioned crosstalk, but is preferably lower in terms of optical characteristics. Because, when the partition wall 2 becomes higher,
This is because the light blocking rate when the viewing angle is increased increases, and the light use efficiency decreases. It is desirable that the width of the partition wall 2 is small in terms of the aperture ratio and crosstalk. However, if the width of the partition wall 2 is narrow, there is a problem that the resistance of the reference electrode 7 increases and it is difficult to form the barrier ribs in a process. In particular,
It is preferable that the reference electrode 7 is formed at a position separated from the dielectric layer 5 by 20 μm to 30 μm, and the partition wall 2 having a height of about 150 μm is formed thereon. As shown in FIG. 7, the reference electrodes 7 are connected to each other at an ineffective portion of the dielectric layer 5, and are connected to the rear substrate 1 through a contact hole 15 in the dielectric layer 5.
Is connected to a take-out unit 16 to the outside.

【0032】チャネル4内のガスとしては、一般に希ガ
スが使われる。この液晶表示装置では、キセノン(X
e)等、比較的重いガスが多く含まれていることが望ま
しい。すなわち、この液晶表示装置では、スイッチのス
ピードは、準安定原子の消滅のスピードで決まる。ヘリ
ウム(He)/キセノン(Xe)、ネオン(Ne)/キ
セノン(Xe)等の混合物、もしくは、純キセノンで、
キセノンの分圧が高くなるほど、各粒子間の衝突頻度が
増加し、準安定原子の消滅を早め、プラズマスイッチが
オフ状態に短時間で移行する。
As a gas in the channel 4, a rare gas is generally used. In this liquid crystal display device, xenon (X
It is desirable that a relatively heavy gas such as e) is contained. That is, in this liquid crystal display device, the speed of the switch is determined by the speed at which metastable atoms disappear. A mixture of helium (He) / xenon (Xe), neon (Ne) / xenon (Xe), or pure xenon;
As the partial pressure of xenon increases, the frequency of collisions between particles increases, the metastable atoms disappear more quickly, and the plasma switch shifts to the off state in a shorter time.

【0033】ただし、総ガス圧は、プロセス上の制約が
ある。すなわち、中間シート3をフリットシールした
後、液晶工程では、配向膜焼成等の焼成プロセスがあ
る。このときの温度は、200℃乃至300℃であり、
このプロセスの時、プラズマセルガス圧は、常温の二倍
近くになる。外圧よリプラズマセル内圧が上回ると、中
間シート3が内圧により破壊する。また、ヘリウム(H
e)/キセノン(Xe)、ネオン(Ne)/キセノン
(Xe)等の混合物では、いわゆるペニング効果によ
り、駆動電圧を低減することができるが、キセノンの比
率が高くなると、その効果が低減する。これらを考慮
し、キセノンの比率及び全圧が決まる。具体的には、純
キセノンで6600Pa(50Torr)〜9900P
a(150Torr)、ネオン(Ne)/キセノン(X
e)ではキセノンの比率を3%乃至20%として全圧を
例えば、46700Pa(350Torr)に設定する
とよい。
However, the total gas pressure has process restrictions. That is, after the intermediate sheet 3 is frit-sealed, in the liquid crystal process, there is a firing process such as an alignment film firing. The temperature at this time is from 200 ° C. to 300 ° C.,
During this process, the plasma cell gas pressure is nearly twice the normal temperature. When the internal pressure of the replasma cell exceeds the external pressure, the intermediate sheet 3 is broken by the internal pressure. Helium (H
In the case of a mixture of e) / xenon (Xe), neon (Ne) / xenon (Xe), etc., the driving voltage can be reduced by the so-called Penning effect. However, when the ratio of xenon increases, the effect decreases. Taking these into account, the ratio of xenon and the total pressure are determined. Specifically, pure xenon is 6600 Pa (50 Torr) to 9900 P
a (150 Torr), neon (Ne) / xenon (X
In e), the total pressure may be set to, for example, 46700 Pa (350 Torr) with the ratio of xenon being 3% to 20%.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上説明した様に、本発明の第一面によ
れば、誘電体層の上にフリットシールを設けることで、
下地の放電電極の露出している部分が少なくなり、酸化
を受けにくくなる。又、フリットシールの位置合わせが
容易になり、リークなどの問題がなくなる。加えて、フ
リットシールに沿った段差がなくなるのでフリットシー
ルの頂部が一定の高さとなり、中間シートとの接合が安
定化し、中間シートの破損などがなくなる。又、本発明
の第二面によれば、放電電極の取出部を耐熱性に優れた
被覆電極でカバーするので酸化を防ぐことが可能にな
る。又、放電電極の取出部の厚みが大きくなるので外部
端子との接続が容易になる。
As described above, according to the first aspect of the present invention, by providing a frit seal on a dielectric layer,
The exposed portion of the underlying discharge electrode is reduced, making it less susceptible to oxidation. Further, the positioning of the frit seal is facilitated, and problems such as leaks are eliminated. In addition, since there is no step along the frit seal, the top of the frit seal has a constant height, the joining with the intermediate sheet is stabilized, and the intermediate sheet is not damaged. Further, according to the second aspect of the present invention, the take-out portion of the discharge electrode is covered with the coated electrode having excellent heat resistance, so that oxidation can be prevented. In addition, since the thickness of the discharge electrode take-out portion is increased, connection with external terminals is facilitated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係るプラズマアドレス表示装置の実施
形態を示す模式図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing an embodiment of a plasma addressed display device according to the present invention.

【図2】図1に示した実施形態の変形例を示す平面図で
ある。
FIG. 2 is a plan view showing a modification of the embodiment shown in FIG.

【図3】図1に示したプラズマアドレス表示装置の製造
方法を示す工程図である。
FIG. 3 is a process chart showing a method for manufacturing the plasma addressed display device shown in FIG.

【図4】図3に示した製造方法の変形例を示す工程図で
ある。
FIG. 4 is a process chart showing a modification of the manufacturing method shown in FIG. 3;

【図5】本発明に係るプラズマアドレス表示装置の他の
実施形態を示す模式図である。
FIG. 5 is a schematic view showing another embodiment of the plasma addressed display device according to the present invention.

【図6】本発明に係るプラズマアドレス表示装置の具体
的な構成を示す説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing a specific configuration of a plasma addressed display device according to the present invention.

【図7】本発明に係るプラズマアドレス表示装置の具体
的な構成を示す説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a specific configuration of a plasma addressed display device according to the present invention.

【図8】本発明に係るプラズマアドレス表示装置の具体
的な構成を示す説明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram showing a specific configuration of a plasma addressed display device according to the present invention.

【図9】本発明に係るプラズマアドレス表示装置の具体
的な構成を示す説明図である。
FIG. 9 is an explanatory diagram showing a specific configuration of a plasma addressed display device according to the present invention.

【図10】従来のプラズマアドレス表示装置の一例を示
す模式的な断面図である。
FIG. 10 is a schematic sectional view showing an example of a conventional plasma addressed display device.

【図11】従来のプラズマアドレス表示装置を示す模式
図である。
FIG. 11 is a schematic view showing a conventional plasma addressed display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・基板、2・・・隔壁、3・・・中間シート、5
・・・誘電体層、6・・・放電電極、10・・・フリッ
トシール、30・・・被覆電極、P・・・プラズマセ
ル、D・・・表示セル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate, 2 ... Partition, 3 ... Intermediate sheet, 5
... Dielectric layer, 6 ... Discharge electrode, 10 ... Frit seal, 30 ... Coating electrode, P ... Plasma cell, D ... Display cell

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H089 HA36 QA12 TA03 5C040 FA01 FA09 GB03 GC18 GD01 GD07 GK01 GK05 HA01 KA01 KB11 KB17 KB19 KB29 LA17 MA22 MA26 5C094 AA22 AA31 AA43 AA48 BA43 CA19 DA07 DA12 DA15 DB02 EA04 EA05 EB02 EC02 EC04 ED03 FA01 FA02 FB12 FB16 GA10 GB01 GB10 5G435 AA14 AA16 AA17 BB12 BB15 CC09 CC12 EE12 EE25 EE32 EE41 HH12 HH18 KK03 KK05 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H089 HA36 QA12 TA03 5C040 FA01 FA09 GB03 GC18 GD01 GD07 GK01 GK05 HA01 KA01 KB11 KB17 KB19 KB29 LA17 MA22 MA26 5C094 AA22 AA31 AA43 AA48 BA43 CA19 DA07 DA12 DA05 EC02 EA04 EC02 ED03 FA01 FA02 FB12 FB16 GA10 GB01 GB10 5G435 AA14 AA16 AA17 BB12 BB15 CC09 CC12 EE12 EE25 EE32 EE41 HH12 HH18 KK03 KK05

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 列状の信号電極を備えた表示セルと、行
状の放電電極を備えたプラズマセルとを中間シートを介
して互いに重ねたフラットパネル構造を有し、 前記プラズマセルは、基板と、その上に形成された放電
電極と、該放電電極の上に重ねて形成された誘電体層
と、所定の間隙を介して該基板を該中間シートに接合す
るフリットシールとからなり、 前記誘電体層は、該基板の周辺に位置する該放電電極の
取出部を除いて該放電電極の残りの部分を全て被覆して
おり、 前記フリットシールは、該誘電体層の上に配されている
ことを特徴とするプラズマアドレス表示装置。
1. A flat panel structure in which a display cell having a column-shaped signal electrode and a plasma cell having a row-shaped discharge electrode are overlapped with each other via an intermediate sheet. A discharge electrode formed thereon, a dielectric layer formed overlying the discharge electrode, and a frit seal for joining the substrate to the intermediate sheet through a predetermined gap. The body layer covers all of the remaining portion of the discharge electrode except for a portion where the discharge electrode is located around the substrate, and the frit seal is disposed on the dielectric layer. A plasma addressed display device characterized by the above-mentioned.
【請求項2】 前記誘電体層は、該フリットシールによ
って閉じられた該中間シートと該基板との間の間隙に封
入される気体を透過しない材料からなることを特徴とす
る請求項1記載のプラズマアドレス表示装置。
2. The dielectric layer according to claim 1, wherein the dielectric layer is made of a material that does not transmit gas sealed in a gap between the intermediate sheet and the substrate closed by the frit seal. Plasma address display device.
【請求項3】 前記誘電体層は、ガラスからなる基板に
塗布したペーストを焼成して形成したものであり、該基
板に合わせた熱膨張係数を有し、該基板の歪点より低い
温度で焼成したものであることを特徴とする請求項1記
載のプラズマアドレス表示装置。
3. The dielectric layer is formed by baking a paste applied to a substrate made of glass, has a coefficient of thermal expansion matched to the substrate, and is formed at a temperature lower than the strain point of the substrate. 2. The plasma addressed display device according to claim 1, wherein the device is fired.
【請求項4】 前記放電電極の取出部を被覆する様に被
膜電極が形成されており、少なくとも誘電体層を焼成す
る過程で熱による該取出部の酸化を防止することを特徴
とする請求項3記載のプラズマアドレス表示装置。
4. A coating electrode is formed so as to cover an extraction portion of the discharge electrode, and oxidation of the extraction portion due to heat is prevented at least in a process of firing the dielectric layer. 4. The plasma addressed display device according to 3.
【請求項5】 列状の信号電極を備えた表示セルと、行
状の放電電極を備えたプラズマセルとを中間シートを介
して互いに重ねたフラットパネル構造を有し、 前記プラズマセルは、基板と、その上に形成された放電
電極と、該放電電極の上に重ねて形成された誘電体層
と、所定の間隙を介して該基板を該中間シートに接合す
るフリットシールとからなり、 前記誘電体層は該基板の周辺に位置する該放電電極の取
出部を除いて該放電電極の残りの部分を被覆しており、 前記放電電極の取出部を覆う様に被膜電極が形成されて
おり、熱による取出部の酸化を防止することを特徴とす
るプラズマアドレス表示装置。
5. A flat panel structure in which a display cell having a column-shaped signal electrode and a plasma cell having a row-shaped discharge electrode are overlapped with each other via an intermediate sheet. A discharge electrode formed thereon, a dielectric layer formed overlying the discharge electrode, and a frit seal for joining the substrate to the intermediate sheet through a predetermined gap. The body layer covers the remaining portion of the discharge electrode except for a portion of the discharge electrode located around the substrate, and a coated electrode is formed so as to cover the portion of the discharge electrode, A plasma addressed display device, which prevents oxidation of a take-out part by heat.
【請求項6】 前記被膜電極は、金又は銀を含む金属か
らなることを特徴とする請求項5記載のプラズマアドレ
ス表示装置。
6. The plasma addressed display device according to claim 5, wherein said coated electrode is made of a metal containing gold or silver.
【請求項7】 前記被膜電極は、該フリットシールによ
って閉じられた該中間シートと該基板との間の間隙に封
入された気体を透過しない材料からなることを特徴とす
る請求項5記載のプラズマアドレス表示装置。
7. The plasma according to claim 5, wherein the coated electrode is made of a material that does not transmit gas enclosed in a gap between the intermediate sheet and the substrate closed by the frit seal. Address display device.
JP34963599A 1999-12-09 1999-12-09 Plasma address display device Pending JP2001166284A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34963599A JP2001166284A (en) 1999-12-09 1999-12-09 Plasma address display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34963599A JP2001166284A (en) 1999-12-09 1999-12-09 Plasma address display device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001166284A true JP2001166284A (en) 2001-06-22

Family

ID=18405075

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP34963599A Pending JP2001166284A (en) 1999-12-09 1999-12-09 Plasma address display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001166284A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7230381B2 (en) * 2002-08-30 2007-06-12 Fujitsu Hitachi Plasma Display Limited Method of manufacturing a plasma display panel
US7385351B2 (en) * 2003-04-25 2008-06-10 Lg Electronics Inc. Plasma display panel having a sealing layer and method of fabricating the same
US7701495B2 (en) 2004-03-01 2010-04-20 Sanyo Electric Co., Ltd. Image capture device and controller of image capture device

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7230381B2 (en) * 2002-08-30 2007-06-12 Fujitsu Hitachi Plasma Display Limited Method of manufacturing a plasma display panel
US7385351B2 (en) * 2003-04-25 2008-06-10 Lg Electronics Inc. Plasma display panel having a sealing layer and method of fabricating the same
US7576491B2 (en) 2003-04-25 2009-08-18 Lg Electronics Inc. Plasma display panel having buffer layer between sealing layer and substrate and method of fabricating the same
US7701495B2 (en) 2004-03-01 2010-04-20 Sanyo Electric Co., Ltd. Image capture device and controller of image capture device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6411033B1 (en) Flat type plasma discharge display device with discharge start parts
US6169363B1 (en) Display apparatus
JPH08185802A (en) Discharge display device
JPH11233026A (en) Plasma display panel having dielectric layer with different thicknesses
EP0938123B1 (en) Display device
JPH10214569A (en) Plasma display device
JP2000089202A (en) Plasma address display device
US6255780B1 (en) Plasma display panel
JP3438641B2 (en) Plasma display panel
EP1600997B1 (en) Plasma display panel
JPH0594772A (en) Plasma display panel
JP2001166284A (en) Plasma address display device
JP2001195990A (en) Ac plasma display device
JP4123599B2 (en) Flat-type plasma discharge display device and driving method
JP3063693B2 (en) Color plasma display panel
KR20010017014A (en) plasma display panel and the fabrication method thereof
JP3097635B2 (en) Plasma display panel and driving method thereof
JPH10170897A (en) Image display device
JPH10214570A (en) Plasma display device
JP3576955B2 (en) Color plasma display panel
KR100525791B1 (en) Display
JP2001166285A (en) Manufacturing method for plasma address display device
JPH01137537A (en) Discharge display device
JPH11185633A (en) Display device
JPH10177845A (en) Ac type plasma display panel and manufacture thereof