JP2001165829A - Hot degassing component analyzer - Google Patents
Hot degassing component analyzerInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ランプにより試料
（固体）を加熱・昇温し、加熱・昇温によって発生する
脱ガス成分を測定する昇温脱ガス分析装置、特にその試
料昇温部の構造に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heated degassing analyzer for heating and heating a sample (solid) by a lamp, and measuring a degassing component generated by the heating and heating. It is related to the structure of.
【０００２】[0002]
【従来の技術】昇温脱ガス分析装置は、試料を加熱した
ときに放出される脱ガスを、質量分析計等によって分析
するものである。2. Description of the Related Art A heated degassing analyzer analyzes degassing released when a sample is heated by a mass spectrometer or the like.
【０００３】図３は、例えば特開平０７−０８３８０８
号公報に開示された従来の脱ガス分析装置を模式的に示
す構成図であり、図において、１はランプ、２は分析対
象の試料、３は石英など透明材料からなる加熱炉、５は
分析計で、試料２から放出された脱ガスは脱ガス経路４
を通り、図示していない真空ポンプによって真空にされ
た質量分析計等の分析計５へ導かれるようになってい
る。試料２の温度は加熱炉３に設置された熱電対６によ
り計測される。FIG. 3 shows, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 07/083808.
FIG. 1 is a configuration diagram schematically showing a conventional degassing analyzer disclosed in Japanese Patent Laid-Open Publication No. H10-260, in which 1 is a lamp, 2 is a sample to be analyzed, 3 is a heating furnace made of a transparent material such as quartz, and 5 is an analysis furnace. In total, the degas released from the sample 2 is
, And guided to an analyzer 5 such as a mass spectrometer evacuated by a vacuum pump (not shown). The temperature of the sample 2 is measured by a thermocouple 6 installed in the heating furnace 3.
【０００４】図３に示した脱ガス分析装置は、加熱炉３
及び脱ガス経路４により試料２から発生した脱ガス成分
をむだなく検出する機構であり、感度が高いのが特徴で
あるが、加熱炉３は光吸収性が低く、ほとんどの場合試
料２よりも低温であるため、脱ガス成分が加熱炉３内壁
へ再付着し、加熱炉３の内壁から再脱離が生じ、測定デ
ータの分解能低下、ゴーストピーク検出を招くことがあ
る。The degassing analyzer shown in FIG.
And a mechanism for unnecessarily detecting the degassed components generated from the sample 2 by the degassing path 4, and is characterized by high sensitivity. However, the heating furnace 3 has low light absorption, and in most cases, Since the temperature is low, the degassed component adheres again to the inner wall of the heating furnace 3 and is desorbed again from the inner wall of the heating furnace 3, which may lower the resolution of measurement data and detect ghost peaks.
【０００５】例えば、１０００℃近くまでの高温に耐え
うる透明材質からなる加熱炉３内に試料２を設置する。
試料２の下に熱電対６の先が触れるように設置する。加
熱ランプ１に電流を流し試料２を１０００℃近辺の温度
まで昇温していき、試料２がある温度Ｘ℃に達したとき
にガス種Ｍが放出されるとする。この時、透明材質であ
る加熱炉３及び脱ガス経路４は試料２より低温であるた
め、ガス種Ｍは試料２を離れた後、一部は加熱炉３及び
脱ガス経路４の内壁に吸着する。即ち、ガス種Ｍの一部
は分析計５に到達し計測されるが、一部は加熱炉３及び
脱ガス経路４の内壁に残留する。この後加熱を続け、加
熱炉３及び脱ガス経路４の温度がＸ℃に達すると、加熱
炉３及び脱ガス経路４の内壁に付着したガス種Ｍが再び
放出され、分析計５によって計測され、その結果、試料
２の温度がＸ℃のときと、加熱炉３及び脱ガス経路４の
温度がＸ℃のときにガス種Ｍが検出され、二つ以上のピ
ークを持つデータが取得されることになる。[0005] For example, a sample 2 is placed in a heating furnace 3 made of a transparent material capable of withstanding a high temperature up to about 1000 ° C.
The thermocouple 6 is set under the sample 2 so that the tip of the thermocouple 6 touches the sample 2. It is assumed that a current is applied to the heating lamp 1 to raise the temperature of the sample 2 to a temperature around 1000 ° C., and when the sample 2 reaches a certain temperature X ° C., the gas species M is released. At this time, since the heating furnace 3 and the degassing path 4 made of a transparent material are lower in temperature than the sample 2, the gas species M leaves the sample 2 and partially adsorbs to the inner walls of the heating furnace 3 and the degassing path 4. I do. That is, a part of the gas type M reaches the analyzer 5 and is measured, but a part remains on the inner wall of the heating furnace 3 and the degassing path 4. Thereafter, heating is continued, and when the temperatures of the heating furnace 3 and the degassing path 4 reach X ° C., the gas species M adhered to the inner walls of the heating furnace 3 and the degassing path 4 are released again and measured by the analyzer 5. As a result, when the temperature of the sample 2 is X ° C. and when the temperatures of the heating furnace 3 and the degassing path 4 are X ° C., the gas type M is detected, and data having two or more peaks is obtained. Will be.
【０００６】上記のようなゴーストピークの問題を解決
しようとするものが、特開平７−３０６１８２号公報に
開示されている。図４はその構成の一例を模式的に示す
もので、図４（ａ）に示すように、分析計５を含む真空
容器９内に、透明な石英からなる試料加熱台１２が設け
られ、試料加熱台１２の試料ステージ１２ｂに、試料が
載置される位置にホール１４を設け、試料加熱台１２の
下から赤外線加熱ユニット１３によって赤外線を照射し
たときに試料ステージ１２ｂが加熱されないようにする
ことによって、脱ガスが試料ステージ１２ｂに再付着し
ないようにしている。試料より放出された脱ガスは真空
容器９内に拡散し、その一部が分析計５にて計測され
る。試料の温度は試料ステージ１２ｂに設置された、図
示していない熱電対により計測される。An attempt to solve the problem of the ghost peak as described above is disclosed in JP-A-7-306182. FIG. 4 schematically shows an example of the configuration. As shown in FIG. 4A, a sample heating table 12 made of transparent quartz is provided in a vacuum vessel 9 including an analyzer 5, The sample stage 12b of the heating stage 12 is provided with a hole 14 at a position where the sample is placed, so that the sample stage 12b is not heated when the infrared heating unit 13 irradiates infrared rays from below the sample heating stage 12. This prevents the outgas from re-adhering to the sample stage 12b. The degassed gas released from the sample diffuses into the vacuum vessel 9, and a part thereof is measured by the analyzer 5. The temperature of the sample is measured by a thermocouple (not shown) installed on the sample stage 12b.
【０００７】図４に示した構成では、試料周辺に加熱さ
れるものを設置しないようにし、図３の構成の欠点を除
いたことが特徴であるが、試料より放出された脱ガスの
ほとんどが真空容器９内で拡散してしまうため、図３に
示した構成に比べて測定感度は低くなる。The configuration shown in FIG. 4 is characterized in that no object to be heated is placed around the sample and the disadvantage of the configuration shown in FIG. 3 is eliminated, but most of the degassed gas released from the sample. Since it is diffused in the vacuum vessel 9, the measurement sensitivity is lower than that of the configuration shown in FIG.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】上述のとおり、従来の
昇温脱ガス分析装置は、測定感度か測定精度のいずれか
を犠牲にした構成になっている。As described above, the conventional thermal degassing analyzer has a configuration in which either the measurement sensitivity or the measurement accuracy is sacrificed.
【０００９】本発明は上記のような問題点を解消するた
めになされたものであって、試料から発生する脱ガス成
分が、加熱炉及び脱ガス経路へ再付着することを防ぎ、
かつ高感度な脱ガス分析データを得る昇温脱ガス分析装
置を提供することを目的とするものである。The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and prevents a degassing component generated from a sample from re-adhering to a heating furnace and a degassing path.
It is another object of the present invention to provide a temperature rising degassing analyzer for obtaining highly sensitive degassing analysis data.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明に係る第１の昇温
脱ガス分析装置は、加熱ランプ、この加熱ランプの照射
光を透過する透過部と上記照射光を吸収する高光吸収性
物質を含む光吸収部とを有し、内部に試料を収納するこ
とができる加熱炉、上記試料からの脱ガスを分析する分
析計、上記加熱炉と上記分析計とを連結し、上記照射光
を吸収する高光吸収性物質を含む光吸収部を有する脱ガ
ス経路を備えたものである。A first temperature rising degassing analyzer according to the present invention comprises a heating lamp, a transmitting portion for transmitting the irradiation light of the heating lamp, and a high light absorbing material for absorbing the irradiation light. A heating furnace having a light absorbing section including therein, and capable of storing a sample therein, an analyzer for analyzing degassing from the sample, connecting the heating furnace and the analyzer, and absorbing the irradiation light A degassing path having a light absorbing portion containing a high light absorbing substance.
【００１１】本発明に係る第２の昇温脱ガス分析装置
は、上記第１の昇温脱ガス分析装置において、脱ガス経
路の全面に光吸収部を備えたものである。[0011] A second temperature rising degassing analyzer according to the present invention is the same as the first temperature rising degassing analyzer, except that a light absorbing section is provided on the entire surface of the degassing path.
【００１２】本発明に係る第３の昇温脱ガス分析装置
は、加熱ランプ、この加熱ランプの照射光を透過する透
過部と上記照射光を吸収する高光吸収性物質を含む光吸
収部とを有し、内部に試料を収納することができる加熱
炉、上記試料からの脱ガスを分析する分析計、上記加熱
炉と上記分析計とを連結し、上記照射光を吸収する高光
吸収性物質からなる脱ガス経路を備えたものである。[0012] A third temperature rising degassing analyzer according to the present invention comprises a heating lamp, a transmission part for transmitting the irradiation light of the heating lamp, and a light absorption part containing a high light absorbing material for absorbing the irradiation light. Having a heating furnace capable of storing a sample therein, an analyzer for analyzing degassing from the sample, connecting the heating furnace and the analyzer, and using a high light-absorbing substance that absorbs the irradiation light. With a degassing path.
【００１３】[0013]
【発明の実施の形態】図１は、本発明の一実施の形態に
なる昇温脱ガス分析装置を模式的に示す断面図であり、
図２は図１における構成の主要部を示す斜視図である。
図において、１は赤外線ランプなどの加熱ランプ、２は
試料、３は石英製の加熱炉で、１０００℃近くまでの高
温に耐えうる。４は加熱炉３と分析部を連絡する脱ガス
経路、５は質量分析計（ＭＳ）などの分析計、６は熱電
対等の温度センサ、７は高光吸収性物質を含む光吸収部
であり、加熱炉３の光吸収部７は、加熱炉３に加熱ラン
プ１の光が透過する透明部８ができるように設けられ、
脱ガス経路４に形成された高光吸収性物質を含む光吸収
部７は、脱ガス経路４の全面に設けられている。１０は
加熱炉３が載置された載置台、１１は試料２を真空容器
９内に載置された加熱炉３内へ導入するためのロードロ
ックチャンバである。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a thermal degassing analyzer according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a perspective view showing a main part of the configuration in FIG.
In the figure, 1 is a heating lamp such as an infrared lamp, 2 is a sample, and 3 is a heating furnace made of quartz, which can withstand high temperatures up to nearly 1000 ° C. Reference numeral 4 denotes a degassing path connecting the heating furnace 3 to the analysis unit, 5 denotes an analyzer such as a mass spectrometer (MS), 6 denotes a temperature sensor such as a thermocouple, 7 denotes a light absorption unit containing a highly light-absorbing substance, The light absorbing part 7 of the heating furnace 3 is provided so that the heating furnace 3 has a transparent part 8 through which the light of the heating lamp 1 passes.
The light absorbing portion 7 formed in the degassing path 4 and containing a high light absorbing substance is provided on the entire surface of the degassing path 4. Reference numeral 10 denotes a mounting table on which the heating furnace 3 is mounted, and reference numeral 11 denotes a load lock chamber for introducing the sample 2 into the heating furnace 3 mounted on the vacuum vessel 9.
【００１４】加熱炉３、脱ガス経路４および分析計５の
分析部は真空容器９内に配置され、加熱炉３、脱ガス経
路４および分析計５の分析部は、図示していない真空ポ
ンプによって排気されるようになっており、真空ポンプ
による排気によって真空容器９内は１０-7Ｐａ以下に達
する。The heating furnace 3, the degassing path 4 and the analyzer of the analyzer 5 are arranged in a vacuum vessel 9, and the heating furnace 3, the degassing path 4 and the analyzer of the analyzer 5 are equipped with a vacuum pump (not shown). The inside of the vacuum chamber 9 reaches 10 −7 Pa or less by the evacuation by the vacuum pump.
【００１５】図１に示した昇温脱ガス分析装置における
分析は、まず、加熱炉３の一側面から試料２を挿入し
て、加熱炉３内に試料２を設置する。試料２の下には、
熱電対６が、その先が触れるように設置されている。次
に、加熱ランプ１に電流を流し、加熱炉３に光を照射す
る。この時、加熱炉３の透明部８から加熱ランプ１の光
が試料２に照射され、試料２が加熱され、光吸収部７に
も加熱ランプ１の光が照射され、光吸収部７に吸収され
るので、加熱炉３も加熱され昇温する。また、加熱ラン
プ１の光は脱ガス経路４の光吸収部７にも照射され、脱
ガス経路４も昇温する。試料２が昇温されて発生した脱
ガスのほとんどは分析計５の分析部に拡散し、計測され
る。In the analysis by the thermal degassing analyzer shown in FIG. 1, first, the sample 2 is inserted from one side of the heating furnace 3 and the sample 2 is set in the heating furnace 3. Under sample 2,
The thermocouple 6 is installed so that the tip may touch. Next, an electric current is applied to the heating lamp 1 to irradiate the heating furnace 3 with light. At this time, the light of the heating lamp 1 is irradiated to the sample 2 from the transparent portion 8 of the heating furnace 3, the sample 2 is heated, the light of the heating lamp 1 is also irradiated to the light absorbing portion 7, and the light is absorbed by the light absorbing portion 7. Therefore, the heating furnace 3 is also heated and its temperature rises. Further, the light of the heating lamp 1 is also applied to the light absorbing portion 7 of the degassing path 4, and the temperature of the degassing path 4 also increases. Most of the degas generated by the temperature rise of the sample 2 is diffused to the analyzer of the analyzer 5 and measured.
【００１６】図１に示した昇温脱ガス分析装置において
は、加熱炉３及び脱ガス経路４に備えられている光吸収
部７は、加熱炉３及び脱ガス経路４の温度を試料２と同
時に上げる役割を果たし、加熱炉３及び脱ガス経路４の
温度を試料２の温度より高い温度にすることができ、試
料２から発生した脱ガスが加熱炉３や脱ガス経路４の内
壁へ再吸着されるのを防ぐことができるので、ゴースト
ピークを抑制することができる。また、試料２から発生
した脱ガスのほとんどが分析計５に拡散するので、高感
度の分析ができる。In the temperature rising degassing analyzer shown in FIG. 1, the light absorbing section 7 provided in the heating furnace 3 and the degassing path 4 controls the temperature of the heating furnace 3 and the degassing path 4 to the sample 2. At the same time, the temperature of the heating furnace 3 and the degassing path 4 can be set higher than the temperature of the sample 2, and the degassed gas generated from the sample 2 returns to the inner wall of the heating furnace 3 and the degassing path 4. Adsorption can be prevented, so that ghost peaks can be suppressed. Further, since most of the degassed gas generated from the sample 2 diffuses into the analyzer 5, highly sensitive analysis can be performed.
【００１７】光吸収部７に含まれる高光吸収性物質とし
て、表１に示すような、融点が１２００℃以上の化合物
を用いることができる。As the highly light-absorbing substance contained in the light-absorbing portion 7, a compound having a melting point of 1200 ° C. or more as shown in Table 1 can be used.
【００１８】[0018]
【表１】 [Table 1]
【００１９】加熱炉３及び脱ガス経路４の光吸収部７
は、表１に示した化合物をスパッタリングによって形成
する、あるいは表１に示した化合物の粉末を１０００℃
以上の融点を有するガラスの粉末と混合し、水等の溶剤
と混合してペースト状としたものを塗布し、１０００℃
以上に加熱して溶着するなど、種々の方法により形成す
ることができる。Light furnace 7 of heating furnace 3 and degassing path 4
Can be formed by sputtering the compound shown in Table 1 or by powdering the compound shown in Table 1 at 1000 ° C.
It is mixed with a glass powder having the above melting point, mixed with a solvent such as water to form a paste, and applied at 1000 ° C.
It can be formed by various methods such as heating and welding as described above.
【００２０】光吸収部７を形成するときの形状は、網目
状、点状、螺旋状など、その形状は問わないが、加熱炉
３及び脱ガス経路４に均一に分散しているのが好まし
い。The light absorbing portion 7 may be formed in any shape such as a mesh, a dot, a spiral, etc., but is preferably uniformly dispersed in the heating furnace 3 and the degassing path 4. .
【００２１】なお、本実施の形態において、脱ガス経路
４に光吸収部７を形成する例を示したが、脱ガス経路４
に高光吸収性物質を用いてもよい。In this embodiment, the example in which the light absorbing portion 7 is formed in the degassing path 4 has been described.
A high light-absorbing substance may be used.
【００２２】脱ガス経路４に用いる高光吸収性物質とし
ては、上記表１に示した化合物を用いることができ、例
えば、これらの化合物を焼結して脱ガス経路４を形成す
ることができる。また、鉄、鋼等の金属に一般に知られ
た化成処理を施し、表面に黒色の被膜を形成したものを
用いることもできる。As the highly light-absorbing substance used in the degassing route 4, the compounds shown in the above Table 1 can be used. For example, these compounds can be sintered to form the degassing route 4. Alternatively, a metal such as iron or steel that has been subjected to a generally known chemical conversion treatment to form a black coating on the surface may be used.
【００２３】また、本実施の形態において、加熱炉３、
脱ガス経路４および分析部５の一部を真空容器９に配置
し、真空にする場合を示したが、Ｎ2，Ａｒなどのキャ
リアガスを加熱炉３に供給し、キャリアガスとともに試
料２から発生した脱ガスを分析計５へ導入するようにし
てもよい。In the present embodiment, the heating furnace 3
Although the case where the degassing path 4 and a part of the analysis unit 5 are arranged in the vacuum vessel 9 to make a vacuum is shown, a carrier gas such as N 2 , Ar is supplied to the heating furnace 3 and the sample 2 together with the carrier gas is supplied from the sample 2. The generated degas may be introduced into the analyzer 5.
【００２４】また、分析計５にガスクロマトグラフ（Ｇ
Ｃ）を用いることもできる。この場合は、上記のような
Ｎ2，Ａｒなどのキャリアガスを用いる。The analyzer 5 has a gas chromatograph (G
C) can also be used. In this case, a carrier gas such as N 2 or Ar described above is used.
【００２５】[0025]
【発明の効果】本発明に係る第１の昇温脱ガス分析装置
によれば、加熱ランプ、この加熱ランプの照射光を透過
する透過部と上記照射光を吸収する高光吸収性物質を含
む光吸収部とを有し、内部に試料を収納することができ
る加熱炉、上記試料からの脱ガスを分析する分析計、上
記加熱炉と上記分析計とを連結し、上記照射光を吸収す
る高光吸収性物質を含む光吸収部を有する脱ガス経路を
備えたものであるので、加熱炉の透明部から加熱ランプ
の光が試料に照射され、試料が加熱され、昇温するとと
もに、光吸収部にも加熱ランプの光が照射され、高光吸
収性物質に吸収されるので、加熱炉および脱ガス経路も
昇温し、試料から発生した脱ガスは加熱炉および脱ガス
経路に吸着されることがなくゴーストピークが抑制さ
れ、しかも脱ガスのほとんどは分析計に拡散し、高感度
な分析ができる。According to the first temperature rising degassing analyzer according to the present invention, the heating lamp, the transmitting portion for transmitting the irradiation light of the heating lamp, and the light containing the high light absorbing material for absorbing the irradiation light are provided. A heating furnace having an absorption section and capable of storing a sample therein; an analyzer for analyzing degassing from the sample; a high light for connecting the heating furnace and the analyzer to absorb the irradiation light; Since the sample is provided with a degassing path having a light absorbing portion containing an absorbing substance, the sample is irradiated with light from a heating lamp from the transparent portion of the heating furnace, the sample is heated, and the temperature is increased. Since the light from the heating lamp is also irradiated and absorbed by the highly light-absorbing substance, the temperature of the heating furnace and the degassing path also rises, and degassing generated from the sample may be adsorbed by the heating furnace and the degassing path. Ghost peak is suppressed and degassing Tondo diffuses to the analyzer, it is highly sensitive analysis.
【００２６】本発明に係る第２の昇温脱ガス分析装置に
よれば、脱ガス経路の全面に光吸収部を備えたものであ
るので、脱ガス経路内面へ脱ガスが吸着されるのをより
効果的に抑制することができる。According to the second temperature rising degassing analyzer according to the present invention, since the light absorbing portion is provided on the entire surface of the degassing path, the degassing is prevented from being adsorbed on the inner surface of the degassing path. It can be suppressed more effectively.
【００２７】本発明に係る第３の昇温脱ガス分析装置に
よれば、加熱ランプ、この加熱ランプの照射光を透過す
る透過部と上記照射光を吸収する高光吸収性物質を含む
光吸収部とを有し、内部に試料を収納することができる
加熱炉、上記試料からの脱ガスを分析する分析計、上記
加熱炉と上記分析計とを連結し、上記照射光を吸収する
高光吸収性物質からなる脱ガス経路を備えたものである
ので、加熱炉の透明部から加熱ランプの光が試料に照射
され、試料が加熱され、昇温するとともに、光吸収部に
も加熱ランプの光が照射され、高光吸収性物質に吸収さ
れるので、加熱炉および脱ガス経路も昇温し、試料から
発生した脱ガスは加熱炉および脱ガス経路に吸着される
ことがなくゴーストピークが抑制され、しかも脱ガスの
ほとんどは分析計に拡散し、高感度な分析ができる。According to the third temperature rising degassing analyzer according to the present invention, the heating lamp, the transmitting portion for transmitting the irradiation light of the heating lamp, and the light absorbing portion containing the high light absorbing material for absorbing the irradiation light A heating furnace capable of storing a sample therein, an analyzer for analyzing degassing from the sample, a high light absorbing property for connecting the heating furnace and the analyzer, and absorbing the irradiation light Since the sample is provided with a degassing path made of a substance, the light of the heating lamp is irradiated to the sample from the transparent part of the heating furnace, the sample is heated and the temperature rises, and the light of the heating lamp is also sent to the light absorbing part. Irradiated and absorbed by the highly light-absorbing substance, the temperature of the heating furnace and the degassing path also rises, and degassing generated from the sample is not adsorbed by the heating furnace and the degassing path, and ghost peaks are suppressed. And most of the degassing is analyzer Diffuse, it is highly sensitive analysis.
【図１】 本発明の一実施の形態になる昇温脱ガス装置
の構成を示す模式断面図ある。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a configuration of a temperature raising degassing apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図２】 図１に示した昇温脱ガス装置の主要部の構造
を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a structure of a main part of the thermal degassing apparatus shown in FIG.
【図３】 従来の昇温脱ガス装置の構成を模式的に示す
斜視図である。FIG. 3 is a perspective view schematically showing a configuration of a conventional thermal degassing apparatus.
【図４】 従来の昇温脱ガス装置の構成を示す模式断面
図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a configuration of a conventional thermal degassing apparatus.
１ 加熱ランプ、２ 試料、３ 加熱炉、４ 脱ガス経
路、５ 分析器、６ 温度センサ、７ 光吸収部、８
透明部、９ 真空容器、１０ 載置台、１１ ロードロ
ックチャンバ。1 heating lamp, 2 samples, 3 heating furnace, 4 degassing path, 5 analyzer, 6 temperature sensor, 7 light absorption section, 8
Transparent part, 9 vacuum vessel, 10 mounting table, 11 load lock chamber.
Claims (3)
透過する透過部と上記照射光を吸収する高光吸収性物質
を含む光吸収部とを有し、内部に試料を収納することが
できる加熱炉、上記試料からの脱ガスを分析する分析
計、上記加熱炉と上記分析計とを連結し、上記照射光を
吸収する高光吸収性物質を含む光吸収部を有する脱ガス
経路を備えたことを特徴とする昇温脱ガス分析装置。1. A heating lamp comprising: a heating lamp; a transmitting portion for transmitting irradiation light of the heating lamp; and a light absorbing portion containing a high light-absorbing substance for absorbing the irradiation light, and capable of accommodating a sample therein. A furnace, an analyzer for analyzing degassing from the sample, a degassing path connecting the heating furnace and the analyzer, and having a light absorbing portion including a highly light absorbing substance absorbing the irradiation light. A thermal degassing analyzer.
とを特徴とする請求項１記載の昇温脱ガス分析装置。2. The temperature rising degassing analyzer according to claim 1, wherein a light absorbing section is provided on the entire surface of the degassing path.
透過する透過部と上記照射光を吸収する高光吸収性物質
を含む光吸収部とを有し、内部に試料を収納することが
できる加熱炉、上記試料からの脱ガスを分析する分析
計、上記加熱炉と上記分析計とを連結し、上記照射光を
吸収する高光吸収性物質からなる脱ガス経路を備えたこ
とを特徴とする昇温脱ガス分析装置。3. A heating lamp comprising: a heating lamp; a transmitting portion for transmitting irradiation light of the heating lamp; and a light absorbing portion containing a high light-absorbing substance for absorbing the irradiation light, and capable of accommodating a sample therein. A furnace, an analyzer for analyzing degassing from the sample, and a degassing path connecting the heating furnace and the analyzer and comprising a highly light-absorbing substance for absorbing the irradiation light. Thermal degassing analyzer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35384999A JP2001165829A (en) | 1999-12-14 | 1999-12-14 | Hot degassing component analyzer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35384999A JP2001165829A (en) | 1999-12-14 | 1999-12-14 | Hot degassing component analyzer |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001165829A true JP2001165829A (en) | 2001-06-22 |
Family
ID=18433645
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35384999A Pending JP2001165829A (en) | 1999-12-14 | 1999-12-14 | Hot degassing component analyzer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001165829A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010038354A1 (en) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | キヤノンアネルバ株式会社 | Mass spectrometry device and mass spectrometry method |
-
1999
- 1999-12-14 JP JP35384999A patent/JP2001165829A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010038354A1 (en) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | キヤノンアネルバ株式会社 | Mass spectrometry device and mass spectrometry method |
| US8324568B2 (en) | 2008-09-30 | 2012-12-04 | Canon Anelva Corporation | Mass spectrometer and mass spectrometry method |
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