JP2001143472A - Semiconductor memory - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は半導体メモリに関
し、特に携帯機器に使用される液晶コントローラドライ
バの表示用メモリとして用いる半導体メモリに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory, and more particularly, to a semiconductor memory used as a display memory of a liquid crystal controller driver used in portable equipment.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年の携帯電話等の携帯機器に使用さ
れ、この携帯機器の各種制御及び制御機能表示を行うた
めの液晶ディスプレイである液晶コントローラドライバ
は、表示の多機能化、多階調化、大画面化が要望されて
いる。この種の液晶コントローラドライバは、表示用メ
モリとしてRAM(ランダムアクセスメモリ)を内蔵
し、この表示用のRAM(以下表示RAM)に制御対象
のコマンドやデータ、例えば、通話先電話番号や、短縮
ダイヤル番号等を格納し、その情報を液晶ディスプレイ
上に表示する。2. Description of the Related Art A liquid crystal controller driver, which is used in portable equipment such as a portable telephone in recent years and is a liquid crystal display for performing various control and control function display of the portable equipment, has a multifunctional display and a multi-gradation display. There is a demand for a large screen. This type of liquid crystal controller driver incorporates a RAM (random access memory) as a display memory, and stores commands and data to be controlled, for example, a telephone number of a destination, a speed dial, in a display RAM (hereinafter referred to as a display RAM). The number is stored, and the information is displayed on a liquid crystal display.
【0003】このような、多機能化に伴い、内蔵表示R
AMも大容量化してきているが、実際の携帯機器の使用
状況によっては、必ずしも搭載機能の全てを用いるとは
限らない。従って、実際の機能モードにおいては、内蔵
表示RAMに未使用ビット部分ができる場合がある。[0003] With such multi-functionality, built-in display R
Although the capacity of the AM has been increasing, depending on the actual use condition of the portable device, not all of the mounted functions are necessarily used. Therefore, in the actual function mode, unused bit portions may be formed in the built-in display RAM.
【0004】例えば、4階調の表示に対応する液晶コン
トローラドライバをモノクロモード(2階調)で使用する
場合は表示RAMの50%は未使用となる。また、機能
モードに無関係に非表示部分の表示RAMは未使用でよ
く、その部分のRAMに対してプリチャージの必要はな
い。For example, when a liquid crystal controller driver corresponding to display of four gradations is used in a monochrome mode (two gradations), 50% of the display RAM is unused. Further, the display RAM in the non-display portion may be unused regardless of the function mode, and there is no need to precharge the RAM in that portion.
【0005】しかし、一般的な従来の表示用メモリとし
て用いられるRAMの構造では、各ビット毎にプリチャ
ージの制御を行っていない。そのため、未使用RAM部
分に対するプリチャージ電流が無駄に消費されていた。However, in the structure of the RAM used as a general conventional display memory, precharge control is not performed for each bit. As a result, the precharge current for the unused RAM part is wasted.
【0006】一般的な液晶コントローラドライバで表示
用メモリとして使用している従来の第1の半導体メモリ
を回路図で示す図8を参照すると、この従来の第1の半
導体メモリは、表示RAMセル列の複数個(ここでは説
明の便宜上3個とする)をアレイ配置し、行、列それぞ
れのアドレスデコーダを備える構成であり、同一構成の
表示RAMセル列100A,200A,300Aと、後
述する2種類のワード線WL2,WL3と、表示行デコ
ーダ7と、列アドレスデコーダ8と、行アドレスデコー
ダ9Aとを備える。FIG. 8 is a circuit diagram showing a conventional first semiconductor memory used as a display memory in a general liquid crystal controller driver. Referring to FIG. 8, this conventional first semiconductor memory has a display RAM cell column. (Here, three for convenience of explanation) are arranged in an array, and each row and column has an address decoder. The display RAM cell columns 100A, 200A, and 300A have the same configuration, and two types described later. , Word line WL2, WL3, display row decoder 7, column address decoder 8, and row address decoder 9A.
【0007】この従来の第1の半導体メモリは、通常の
データリード、ライト用に1ポート、液晶パネルの駆動
出力用に別のリード用ポートを1つ持ったライト1ポー
ト、リード2ポートのRAMセル構成をなし、各リード
ポートは完全非同期に動作するものである。The conventional first semiconductor memory has a write 1-port and read 2-port RAM having one port for normal data read / write and another read port for driving output of the liquid crystal panel. The cell has a cell configuration, and each read port operates completely asynchronously.
【0008】表示RAMセル列100A,200A,3
00Aの各々は表示データ記憶用の主セル2を複数個有
するが、この図では、説明の便宜上、それぞれ2個のみ
を示す。Display RAM cell rows 100A, 200A, 3
Each of 00A has a plurality of main cells 2 for storing display data, but in this figure, only two are shown for convenience of explanation.
【0009】個々の表示RAMセル列、ここでは代表と
して表示RAMセル列100Aは、液晶表示コントロー
ルドライブ用の表示データを記憶するための主セル2
と、出力制御信号HDOと出力ビット線6の出力信号と
が入力端の各々に入力し出力端から表示出力OUTを出
力する2入力のNANDゲート3Aと、プリチャージ対
象の表示出力用のビット線である出力ビット線6と、ソ
ースを電源VDD1にドレインを出力ビット線6にそれ
ぞれ接続しゲートにプリチャージ制御信号HPCの供給
を受けるPMOS型のトランジスタP1と、後述するワ
ード線WL1,WL2,WL3と、行アドレスと制御信
号HLASとの供給を受けこれら行アドレスと制御信号
HLASとの論理積(AND)をとりワード線WL3を
活性化することによりこのワード線WL3を選択する表
示行デコーダ7と、列アドレスをデコードし選択した相
補のビット線D,DBを活性化する列アドレスデコーダ
8と、制御信号LASと行アドレスの供給を受けこれら
行アドレスと制御信号LASとの論理積(AND)をと
りワード線WL2を活性化することによりこのワード線
WL2を選択する行アドレスデコーダ9とを備える。An individual display RAM cell column, here, a display RAM cell column 100A is a main cell 2 for storing display data for a liquid crystal display control drive.
A two-input NAND gate 3A for inputting an output control signal HDO and an output signal of the output bit line 6 to each of the input terminals and outputting a display output OUT from the output terminal, and a display output bit line to be precharged An output bit line 6, a PMOS transistor P1 having a source connected to the power supply VDD1, a drain connected to the output bit line 6, and receiving a precharge control signal HPC at the gate, and word lines WL1, WL2, WL3 to be described later. A display row decoder 7 that receives a supply of a row address and a control signal HLAS, takes a logical product (AND) of the row address and the control signal HLAS, activates the word line WL3, and selects the word line WL3. , A column address decoder 8 for decoding a column address and activating the selected complementary bit lines D and DB, and a control signal L And a row address decoder 9 for selecting the word line WL2 by activating the word line WL2 ANDs (AND) receiving the supply of S and row address these row address and control signals LAS.
【0010】主セル2は、2つのインバータの一方の入
力端を他方の出力端にそれぞれ接続(たすきがけ接続又
はリング状接続)してデータ記憶用のセルを構成したイ
ンバータ21,22と、ソースをインバータ21の入力
端とインバータ22の出力端の共通接続点にドレインを
ビット線Dにゲートをワード線WL2にそれぞれ接続し
たNMOS型のトランジスタN11と、ソースをインバ
ータ22の入力端とインバータ21の出力端の共通接続
点にドレインを相補ビット線DBにゲートをワード線W
L2にそれぞれ接続したNMOS型のトランジスタN2
2と、ソースを接地GNDにゲートをインバータ21の
入力端とインバータ22の出力端の共通接続点にそれぞ
れ接続したNMOS型のトランジスタN23と、ソース
をトランジスタN23のドレインにゲートを表示用のワ
ード線WL3にドレインを出力ビット線6にそれぞれ接
続したNMOS型のトランジスタN24とを備える。The main cell 2 includes inverters 21 and 22 each having a data storage cell by connecting one input terminal of the two inverters to the other output terminal (cross connection or ring connection), and a source. And an NMOS transistor N11 having a drain connected to the bit line D and a gate connected to the word line WL2 at a common connection point between the input terminal of the inverter 21 and the output terminal of the inverter 22, and a source connected to the input terminal of the inverter 22 and the input terminal of the inverter 21. The drain is connected to the common connection point of the output terminal, the gate is connected to the complementary bit line DB, and the word line is connected to the word line W.
NMOS transistors N2 connected to L2 respectively
2, an NMOS transistor N23 having a source connected to the ground GND, a gate connected to a common connection point between the input terminal of the inverter 21 and the output terminal of the inverter 22, and a word line for displaying the source at the drain of the transistor N23 and the gate. WL3 includes an NMOS transistor N24 whose drain is connected to the output bit line 6, respectively.
【0011】図8及び各部動作波形をタイムチャートで
示す図9を参照して従来の第1の半導体メモリの動作に
ついて説明すると、まず、主セル2へデータのライト、
及びリードは、行、列アドレスで指定されたアドレスに
データをライト、リードするが、この動作は一般的なR
AMの動作と同一であり、特に変わったところがないの
で、詳しい動作の詳細は省略する。The operation of the first conventional semiconductor memory will be described with reference to FIG. 8 and FIG. 9 showing a time chart of operation waveforms of each section.
Read and write data to and from the address specified by the row and column addresses.
Since the operation is the same as that of the AM and there is no particular change, the detailed operation is omitted.
【0012】次に、液晶パネル駆動用の出力ポートにつ
いての動作を説明する。Next, the operation of the output port for driving the liquid crystal panel will be described.
【0013】表示行デコーダ7では、各アドレス対応の
ポートを備え、これらポートに制御信号HLASを供給
することによりポートを開き行アドレスによるワード線
WL3の選択が可能となる状態となる。同様に、行デコ
ーダ9でも、各アドレス対応のポートを備え、これらポ
ートに制御信号LASを供給することによりポートを開
き行アドレスによるワード線WL2の選択が可能となる
状態となる。ここで、以下の動作説明では、上記ポート
は説明の便宜上2入力ANDゲートとする。The display row decoder 7 is provided with ports corresponding to each address, and by supplying a control signal HLAS to these ports, the ports are opened so that the word line WL3 can be selected by the row address. Similarly, the row decoder 9 also has ports corresponding to each address, and by supplying a control signal LAS to these ports, opens the ports to select the word line WL2 based on the row address. Here, in the following description of the operation, the port is a two-input AND gate for convenience of description.
【0014】まず、行アドレスが入力すると、その行ア
ドレスが指定するアドレス対応のワード線WL3のポー
トは制御信号HLASにより開かれ、選択されたワード
線WL3は“1”となり、そのワード線WL3に接続さ
れた全ての表示RAMセル列100A,200A,30
0Aの各々のトランジスタN24はオンする。それに伴
い選択されたワード線WL3に接続された表示RAMセ
ル列100A,200A,300Aの各々の主セル2の
データは、出力ビット線6に出力信号BOとして出力さ
れNANDゲート3Aを経由して全て同時に出力OUT
として出力される。First, when a row address is input, the port of the word line WL3 corresponding to the address specified by the row address is opened by the control signal HLAS, the selected word line WL3 becomes "1", and the word line WL3 All connected display RAM cell columns 100A, 200A, 30
Each transistor N24 of 0A turns on. Accordingly, data of each main cell 2 of the display RAM cell columns 100A, 200A, 300A connected to the selected word line WL3 is output to the output bit line 6 as an output signal BO, and all data is output via the NAND gate 3A. Output OUT at the same time
Is output as
【0015】図9を参照すると、まず、タイムT1の区
間では、プリチャージ制御信号HPCが“0”になり、
その先に接続された各表示RAMセル列100A,20
0A,300Aのプリチャージスイッチのトランジスタ
P1が一斉にオンし、同時に電源VDD1から出力ビッ
ト線6に電荷がチャージされる。Referring to FIG. 9, first, in a period of time T1, the precharge control signal HPC becomes "0",
Each display RAM cell row 100A, 20
The transistors P1 of the precharge switches of 0A and 300A are simultaneously turned on, and at the same time, the electric charge is charged to the output bit line 6 from the power supply VDD1.
【0016】次に、タイムT2の区間ではプリチャージ
制御信号HPCが“1”になりトランジスタP1がオフ
する。この時、まだ出力ビット線6の電荷は放電パスが
なく充電状態のままである。Next, in the period of time T2, the precharge control signal HPC becomes "1" and the transistor P1 is turned off. At this time, the charge of the output bit line 6 is still in a charged state without a discharge path.
【0017】次に、タイムT3の区間で、制御信号HL
ASが“1”となり、アドレス選択されているワード線
WL3に接続されている全てのトランジスタN24がオ
ンする。ここで、主セル2のデータが“0”ならば、出
力ビット線6にはまだ電荷の放電パスがなく充電状態の
ままであり、この充電状態対応の出力信号BOは“1”
となる。また、主セル2のデータが“1”であれば、出
力ビット線6に蓄えられた電荷は、接地GNDを通して
放電し、出力信号BOは“0”となる。Next, in the section of time T3, the control signal HL
AS becomes "1", and all the transistors N24 connected to the word line WL3 selected for address are turned on. Here, if the data of the main cell 2 is "0", the output bit line 6 is still in a charged state with no charge discharging path, and the output signal BO corresponding to this charged state is "1".
Becomes If the data of the main cell 2 is "1", the charge stored in the output bit line 6 is discharged through the ground GND, and the output signal BO becomes "0".
【0018】次に、タイムT4の区間で出力制御信号H
DOが“0”となり、出力信号BOが“1”(すなわち
主セル2が“0”) なら出力OUTは“0”になる。逆
に出力信号BOが“0”(すなわち主セル2が“1”)
ならば出力OUTは“1”となる。Next, during the period of time T4, the output control signal H
When DO becomes "0" and the output signal BO is "1" (that is, the main cell 2 is "0"), the output OUT becomes "0". Conversely, the output signal BO is "0" (that is, the main cell 2 is "1").
Then, the output OUT becomes "1".
【0019】次に、タイムT5の区間では、出力制御信
号HDOが”1”となり、出力OUTは以前のデータに
関わらず“0”となる。Next, during the period of time T5, the output control signal HDO becomes "1", and the output OUT becomes "0" regardless of the previous data.
【0020】次に、タイムT6の区間では、制御信号H
LASが“0”となりアドレス線が閉じる。Next, in the section of time T6, the control signal H
LAS becomes "0" and the address line is closed.
【0021】次に、タイムT7の区間では、プリチャー
ジ制御信号HPCが“0”となり、各出力ビット線6の
プリチャージ動作が行われる。Next, in the period of time T7, the precharge control signal HPC becomes "0", and the precharge operation of each output bit line 6 is performed.
【0022】これは、タイムT1の区間と同一動作であ
り、以後、タイムT8,T9・・・も、タイムT2,T
3・・・と同一動作の繰り返しとなる。This is the same operation as in the section of the time T1, and thereafter, the times T8, T9,.
The same operation as in 3... Is repeated.
【0023】上述したように、従来の第1の半導体メモ
リは、各ビット毎にプリチャージの制御を行っていな
い。そのため、未使用RAM部分に対するプリチャージ
電流が無駄に消費されていた。As described above, the conventional first semiconductor memory does not control the precharge for each bit. As a result, the precharge current for the unused RAM part is wasted.
【0024】従って、低消費を実現するためには不必要
なプリチャージによる無駄な電流消費を無くすための制
御回路の実現が要望されている。Therefore, there is a demand for a control circuit for eliminating unnecessary current consumption due to unnecessary precharge in order to realize low power consumption.
【0025】このような無駄な電流消費の抑圧を図った
プリチャージ制御方法を提案した、特開平8−2733
58号公報(文献1)記載の半導体メモリは、制御信号
(イネーブル信号)に基づきビット線のプリチャージ手
段によるプリチャージ動作を制御する論理手段を設け、
この論理手段の制御によりプリチャージが不要なビット
線のプリチャージを禁止するものである。Japanese Patent Laid-Open No. 8-2733 has proposed a precharge control method for suppressing such wasteful current consumption.
The semiconductor memory described in Japanese Patent Publication No. 58 (Reference 1) is provided with logic means for controlling a precharge operation by a bit line precharge means based on a control signal (enable signal).
The control of the logic means prohibits the precharge of the bit line which does not need to be precharged.
【0026】文献1記載の従来の第2の半導体メモリを
ブロックで示す図10を参照すると、この従来の第2の
半導体メモリは、内部で1対のCMOSインバータの出
力がたすきがけ接続されており書き込まれたデータを保
持する半導体記憶装置中のメモリセルである複数のRA
Mセル101,102と、これらRAMセル101,1
02をビット線BLにそれぞれ接続するNMOSトラン
ジスタ103,104と、ビット線BLと、NMOSト
ランジスタ103,104の各々のゲートに接続したワ
ード線WL1,WL2と、ワード線WL1,WL2の各
々の入力側に接続しプリチャージ信号φが“0”のとき
各ワード線選択信号のアドレスのレベルをそれぞれ伝え
るANDゲート5,6と、ビット線BLの間に設けら
れ、このビット線をチャージアップするプリチャージ手
段であるPMOSトランジスタ107と、入力にプリチ
ャージ信号φとイネーブル信号RAMEの供給を受け出
力がPMOSトランジスタ107のゲートに接続されチ
ャージアップ動作を制御する2入力NANDゲート11
0とを備える。Referring to FIG. 10, which shows a block diagram of a conventional second semiconductor memory described in Document 1, this conventional second semiconductor memory internally has a pair of CMOS inverters whose outputs are cross-connected. A plurality of RAs, which are memory cells in a semiconductor memory device holding written data,
M cells 101 and 102 and these RAM cells 101 and 1
02 connected to the bit line BL, respectively, NMOS transistors 103 and 104, the bit line BL, word lines WL1 and WL2 connected to the respective gates of the NMOS transistors 103 and 104, and the input sides of the word lines WL1 and WL2. Are provided between the AND gates 5 and 6 for transmitting the address level of each word line selection signal when the precharge signal φ is "0", and the bit line BL, and the precharge for charging up the bit line is provided. A PMOS transistor 107 as a means, and a two-input NAND gate 11 which receives a supply of a precharge signal φ and an enable signal RAME and has an output connected to the gate of the PMOS transistor 107 to control a charge-up operation.
0.
【0027】図10を参照して、従来の第2の半導体メ
モリの動作について説明すると、まず、外部から与えら
れたイネーブル信号RAMEのレベルが1レベルの時、
プリチャージ信号φが“1”となるとPMOSトランジ
スタ107がオンし、ビット線BLがプリチャージされ
る。Referring to FIG. 10, the operation of the second conventional semiconductor memory will be described. First, when the level of externally applied enable signal RAME is one,
When the precharge signal φ becomes "1", the PMOS transistor 107 is turned on, and the bit line BL is precharged.
【0028】ここで、ワード線WL1を選択したとする
と、このワード線WL1に接続されたRAMセル1に保
持する“0”のデータがビット線BLに読出され、この
ビット線BLがディスチャージする。If the word line WL1 is selected, the data "0" held in the RAM cell 1 connected to the word line WL1 is read out to the bit line BL, and the bit line BL is discharged.
【0029】しかし、イネーブル信号RAMEが“0”
の場合は、プリチャージ信号φが“1”となっても、P
MOSトランジスタ107がオンせず、ワード線WL1
が選択されてもディスチャージしない。However, when the enable signal RAME is "0"
In the case of, even if the precharge signal φ becomes “1”, P
MOS transistor 107 does not turn on, and word line WL1
Does not discharge even if is selected.
【0030】このように、必要なとき以外は、イネーブ
ル信号RAMEを“0”とすることで、ビット線BLで
の無駄な電流消費を低減できる。As described above, unnecessary current consumption on the bit line BL can be reduced by setting the enable signal RAME to "0" except when necessary.
【0031】ただし、従来の第2の半導体メモリでは、
イネーブル信号RAMEを適用する適用対象のRAM全
体についての具体的な回路定義がなされていない。すな
わち、本願発明の対象とする液晶コントローラドライバ
の表示用メモリに用いるための半導体メモリであるのか
については何ら記載されていない。However, in the conventional second semiconductor memory,
There is no specific circuit definition for the entire RAM to which the enable signal RAME is applied. That is, there is no description as to whether the semiconductor memory is used as a display memory of the liquid crystal controller driver to which the present invention is applied.
【0032】液晶コントローラドライバに内蔵される表
示用の半導体メモリである表示RAMは、その構成上、
使用するドライバ出力の本数分と同一数の表示RAMセ
ル列の配列を必要とする。これら表示RAMセル列の各
々はさらに2進法で表した表示階調数(表示階調ビット
数)分、例えば4階調の場合2組から成り、その各々が
個別のビット線を有する。従って、従来の半導体メモリ
と同様の方法を用いて各表示RAMセル列単位のプリチ
ャージの制御を行う場合、イネーブル信号RAMEは、
RAMセルの列数×表示階調ビット数、すなわち、ビッ
ト線数と同一本数分必要となる。例えば、ドライバ出力
本数が160本で、出力信号の階調が4階調の場合は、
イネーブル信号RAMEは320本必要となる。The display RAM, which is a display semiconductor memory built in the liquid crystal controller driver, has
The same number of display RAM cell arrays as the number of driver outputs to be used is required. Each of these display RAM cell columns is further composed of two sets for the number of display gray scales (the number of display gray scale bits) expressed in a binary system, for example, in the case of 4 gray scales, each of which has an individual bit line. Therefore, when the precharge control is performed for each display RAM cell column using the same method as the conventional semiconductor memory, the enable signal RAME becomes
The same number of RAM cells as the number of columns × the number of display gradation bits, that is, the number of bit lines is required. For example, when the number of driver outputs is 160 and the gradation of the output signal is 4 gradations,
320 enable signals RAME are required.
【0033】従って、従来の第2の半導体メモリをこの
ような表示用メモリに使用する場合、外部から引き回す
配線に要する面積が増加してしまうという問題点があ
り、実現性に乏しい。Therefore, when the conventional second semiconductor memory is used for such a display memory, there is a problem that the area required for the wiring routed from the outside increases, which is not practical.
【0034】[0034]
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の第1の
半導体メモリは、各ビット毎にプリチャージの制御を行
っていないため、未使用RAM部分に対するプリチャー
ジ電流が無駄に消費されるという欠点があった。In the above-mentioned conventional first semiconductor memory, the precharge control is not performed for each bit, so that a precharge current for an unused RAM portion is wasted. was there.
【0035】また、上記欠点の解消を図った従来の第2
の半導体メモリは、外部制御信号(イネーブル信号)に
基づきビット線のプリチャージ手段によるプリチャージ
動作を制御する論理手段を設け、この論理手段の制御に
よりプリチャージが不要なビット線のプリチャージを禁
止する方法を用いているため、液晶コントローラドライ
バに内蔵される表示用メモリとして用いる場合、イネー
ブル信号線の数は、ドライバ出力の本数分と同一数の表
示RAMセル列×表示階調ビット数と同一数となり、外
部から配設する配線に要する面積が非常に大きくなるた
め実現性に乏しいという欠点があった。In addition, the second conventional technique for solving the above-mentioned disadvantages has been proposed.
In the semiconductor memory of the present invention, logic means for controlling a precharge operation by a bit line precharge means based on an external control signal (enable signal) is provided, and control of the logic means inhibits precharge of a bit line which does not require precharge. Therefore, when used as a display memory built in the liquid crystal controller driver, the number of enable signal lines is the same as the number of display RAM cell rows × the number of display gradation bits as many as the number of driver outputs. However, there is a disadvantage that the feasibility is poor because the area required for wiring arranged from the outside becomes very large.
【0036】本発明の目的は、上述の欠点を解決し、表
示用メモリに適用可能なプリチャージ動作禁止制御を実
現することにより、低消費電流化を図った半導体メモリ
を提供することにある。It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory which solves the above-mentioned drawbacks and realizes low current consumption by realizing a precharge operation prohibition control applicable to a display memory.
【0037】[0037]
【課題を解決するための手段】第1の発明の半導体メモ
リは、複数のメモリセルを列方向に配置した複数のメモ
リセル列を行方向に配置し、前記複数のメモリ列の各々
にプリチャージ対象の出力ビット線を備え、前記メモリ
セルへのアクセス毎に外部からのプリチャージ制御信号
の供給に基づき前記出力ビット線をプリチャージするプ
リチャージ手段を有する半導体メモリにおいて、前記メ
モリセル列の各々が、前記プリチャージ手段の前記プリ
チャージの動作を禁止又は許可するプリチャージ制御情
報を保持する制御情報記憶手段と、前記制御情報記憶手
段から読み出した前記プリチャージ制御情報に基づき前
記プリチャージ制御信号の無効化又は有効化するプリチ
ャージ制御信号制御手段とを備え、前記制御情報記憶手
段に保持した前記プリチャージ制御情報に基づき不使用
の前記メモリセル列のプリチャージ動作を禁止すること
を特徴とするものである。According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory in which a plurality of memory cell columns in which a plurality of memory cells are arranged in a column direction are arranged in a row direction, and each of the plurality of memory columns is precharged. A semiconductor memory comprising: a target output bit line; and a precharge means for precharging the output bit line based on a supply of a precharge control signal from outside each time the memory cell is accessed. A control information storage means for holding precharge control information for inhibiting or permitting the precharge operation of the precharge means, and the precharge control signal based on the precharge control information read from the control information storage means. And a precharge control signal control means for invalidating or validating the data, and the control information storage means It is characterized in prohibiting the precharge operation of the memory cell columns not used in accordance with the recharge control information.
【0038】また、前記プリチャージ制御情報が、前記
プリチャージの動作を禁止する第1の値と前記プリチャ
ージの動作を許可する第2の値とから成り、前記制御情
報記憶手段が、外部から書き込んだ前記第1及び第2の
値のいずれか一方の前記制御情報を保持するメモリセル
である制御セルを備えても良い。Further, the precharge control information comprises a first value for inhibiting the precharge operation and a second value for permitting the precharge operation. A control cell that is a memory cell that holds the control information of one of the written first and second values may be provided.
【0039】また、前記プリチャージ手段が、ソースを
電源にドレインを前記出力ビット線にそれぞれ接続しゲ
ートにプリチャージを制御するプリチャージ信号の供給
を受ける第1導電型の第1のMOSトランジスタを備
え、前記プリチャージ制御信号制御手段が、一方の入力
端に第1及び第2の値から成る前記プリチャージ制御情
報を他方の入力端に外部からのプリチャージ制御信号を
それぞれ入力し前記プリチャージ制御情報の値により他
方の入力端のプリチャージ制御信号を無効化/有効化し
て出力端から前記プリチャージ信号を出力する2入力の
論理ゲートを備えても良い。The precharge means includes a first conductivity type first MOS transistor having a source connected to a power supply, a drain connected to the output bit line, and a gate receiving a precharge signal for controlling precharge. The precharge control signal control means inputs the precharge control information consisting of first and second values to one input terminal and an external precharge control signal to the other input terminal, and A two-input logic gate for invalidating / enabling the precharge control signal at the other input terminal according to the value of the control information and outputting the precharge signal from the output terminal may be provided.
【0040】また、前記プリチャージ手段が、ソースを
電源にドレインを前記出力ビット線にそれぞれ接続しゲ
ートにプリチャージを制御するプリチャージ信号の供給
を受ける第1導電型の第1のMOSトランジスタを備
え、前記プリチャージ制御信号制御手段が、一方の入力
端に第1及び第2の値から成る前記プリチャージ制御情
報を他方の入力端に外部からの前記プリチャージ制御情
報の有効化又は無効化を設定する禁止制御信号をそれぞ
れ入力し禁止制御されたプリチャージ制御情報であるプ
リチャージ禁止信号を出力する2入力の第1の論理ゲー
トと、一方の入力端に前記プリチャージ禁止信号を他方
の入力端に外部からのプリチャージ制御信号をそれぞれ
入力し前記プリチャージ禁止信号の値により他方の入力
端の前記プリチャージ制御情報を無効化/有効化して出
力端から前記プリチャージ信号を出力する2入力の論理
ゲートを備えるものでも良い。The precharge means includes a first conductivity type first MOS transistor having a source connected to a power supply, a drain connected to the output bit line, and a gate supplied with a precharge signal for controlling precharge. Wherein the precharge control signal control means has one input terminal for the precharge control information comprising first and second values, and the other input terminal for enabling or disabling the precharge control information from outside. , And a two-input first logic gate for outputting a precharge inhibition signal, which is precharge control information for which inhibition control is performed, and the precharge inhibition signal is supplied to one input terminal of the other input terminal. An external precharge control signal is input to the input terminal, and the precharge control signal of the other input terminal is determined by the value of the precharge inhibit signal. May be those from the disable / enable to output the control information comprises a logic gate having two inputs for outputting the pre-charge signal.
【0041】さらに、前記制御セルが、2つのインバー
タの一方の入力端を他方の出力端にそれぞれ接続してデ
ータ記憶用のセルを構成した第1及び第2のインバータ
と、ソースを前記第1のインバータの入力端と第2のイ
ンバータの出力端の共通接続点にドレインを列選択用の
相補のビット線の一方である正相ビット線にゲートを行
選択用のワード線にそれぞれ接続した第2の導電型の第
2のMOSトランジスタと、ソースを前記第2のインバ
ータの入力端と第1のインバータの出力端の共通接続点
にドレインを前記相補のビット線の一方である補相ビッ
ト線にゲートを前記ワード線にそれぞれ接続した第2の
導電型の第3のMOSトランジスタとを備えても良い。Further, the control cell includes first and second inverters each having one input terminal of two inverters connected to the other output terminal to form a cell for storing data, and a source connected to the first inverter. The drain is connected to the common connection point between the input terminal of the inverter and the output terminal of the second inverter, and the gate is connected to the positive-phase bit line which is one of the complementary bit lines for column selection, and the gate is connected to the word line for row selection. A second MOS transistor of a second conductivity type, a source having a common connection point between an input terminal of the second inverter and an output terminal of the first inverter, and a drain having a complementary bit line which is one of the complementary bit lines. And a third MOS transistor of a second conductivity type having a gate connected to the word line.
【0042】第2の発明の半導体メモリは、複数のメモ
リセルを列方向に配置した複数のメモリセル列を行方向
に配置し、前記複数のメモリ列の各々にプリチャージ対
象の出力ビット線を備え、前記メモリセルへのアクセス
毎に外部からのプリチャージ制御信号の供給に基づき前
記出力ビット線をプリチャージするプリチャージ手段を
有する半導体メモリにおいて、前記メモリセル列の各々
が、相補のビット線に接続され前記プリチャージ手段の
前記プリチャージの動作を禁止又は許可するプリチャー
ジ制御データを保持するためのRAMセルである第1の
メモリセルと、前記相補のビット線に接続され液晶表示
コントロールドライブ用の表示データを記憶するための
RAMセルである第2のメモリセルと、外部から供給さ
れる出力制御信号と前記第1のメモリセルからの前記プ
リチャージ制御データと前記出力ビット線の出力信号と
が入力端の各々に入力し出力端から表示出力を出力する
3入力の第1の論理ゲートと、一方の入力端に前記プリ
チャージ制御データを他方の入力端に外部から供給を受
けるプリチャージ制御信号をそれぞれ入力し前記プリチ
ャージ制御データの値により他方の入力端のプリチャー
ジ制御信号を無効化/有効化して出力端からプリチャー
ジ信号を出力する2入力の第2の論理ゲートと、ソース
を第1の電源にドレインを前記出力ビット線にそれぞれ
接続しゲートに前記プリチャージ信号の供給を受ける第
1導電型の第1のMOSトランジスタと、前記第1のメ
モリセルの行選択用の第1のワード線と、前記第2のメ
モリセルの行選択用の第2のワード線と、前記第2のメ
モリセルの表示行選択用の第3のワード線と、前記第1
及び第2のメモリセルの列選択用の相補のビット線とを
備え、前記第1のメモリセルに書き込んだ前記プリチャ
ージ制御データの値に基づき不使用の前記メモリセル列
のプリチャージ動作を禁止することを特徴とするもので
ある。In a semiconductor memory according to a second aspect of the present invention, a plurality of memory cell columns in which a plurality of memory cells are arranged in a column direction are arranged in a row direction, and an output bit line to be precharged is provided in each of the plurality of memory columns. A semiconductor memory having precharge means for precharging the output bit line based on a supply of a precharge control signal from the outside each time the memory cell is accessed, wherein each of the memory cell columns has a complementary bit line. A first memory cell, which is a RAM cell for holding precharge control data for inhibiting or permitting the precharge operation of the precharge means, and a liquid crystal display control drive connected to the complementary bit line. Memory cell, which is a RAM cell for storing display data for display, and an externally supplied output control signal A three-input first logic gate configured to input the precharge control data from the first memory cell and the output signal of the output bit line to each of input terminals and output a display output from the output terminal; A precharge control signal which receives the precharge control data supplied from the outside to the other input terminal is input to the input terminal, and the value of the precharge control data invalidates / enables the precharge control signal at the other input terminal. A two-input second logic gate for outputting a precharge signal from an output terminal; a first conductive source having a source connected to the first power supply and a drain connected to the output bit line, and a gate receiving the supply of the precharge signal; Type first MOS transistor, a first word line for selecting a row of the first memory cell, and a second word for selecting a row of the second memory cell If a third word line for display row selection of the second memory cell, said first
And a complementary bit line for selecting a column of a second memory cell, wherein a precharge operation of an unused memory cell column is inhibited based on a value of the precharge control data written in the first memory cell. It is characterized by doing.
【0043】第3の発明の半導体メモリは、複数のメモ
リセルを列方向に配置した複数のメモリセル列を行方向
に配置し、前記複数のメモリ列の各々にプリチャージ対
象の出力ビット線を備え、前記メモリセルへのアクセス
毎に外部からのプリチャージ制御信号の供給に基づき前
記出力ビット線をプリチャージするプリチャージ手段を
有する半導体メモリにおいて、前記メモリセル列の各々
が、相補のビット線に接続され前記プリチャージ手段の
前記プリチャージの動作を禁止又は許可するプリチャー
ジ制御データを保持するためのRAMセルである第1の
メモリセルと、前記相補のビット線に接続され液晶表示
コントロールドライブ用の表示データを記憶するための
RAMセルである第2のメモリセルと、一方の入力端に
前記プリチャージ制御データを他方の入力端に外部から
の前記プリチャージ制御データの有効化又は無効化を設
定する禁止制御信号をそれぞれ入力し禁止制御されたプ
リチャージ制御データであるプリチャージ禁止信号を出
力する2入力の第1の論理ゲートと、外部から供給され
る出力制御信号と前記プリチャージ禁止信号と前記出力
ビット線の出力信号とが入力端の各々に入力し出力端か
ら表示出力を出力する3入力の第2の論理ゲートと、一
方の入力端に前記プリチャージ禁止信号を他方の入力端
に外部から供給を受けるプリチャージ制御信号をそれぞ
れ入力し前記プリチャージ禁止信号の値により他方の入
力端のプリチャージ制御信号を無効化/有効化して出力
端からプリチャージ信号を出力する2入力の第3の論理
ゲートと、ソースを第1の電源にドレインを前記出力ビ
ット線にそれぞれ接続しゲートに前記プリチャージ信号
の供給を受ける第1導電型の第1のMOSトランジスタ
と、前記第1のメモリセルの行選択用の第1のワード線
と、前記第2のメモリセルの行選択用の第2のワード線
と、前記第2のメモリセルの表示行選択用の第3のワー
ド線と、前記第1及び第2のメモリセルの列選択用の相
補のビット線とを備え、前記禁止制御信号の設定に基づ
き前記第1のメモリセルに書き込んだ前記プリチャージ
制御データの有効化又は無効化を行い、前記プリチャー
ジ制御データの有効化状態のとき前記プリチャージ制御
データの値に基づき不使用の前記メモリセル列のプリチ
ャージ動作を禁止することを特徴とするものである。In a semiconductor memory according to a third aspect of the present invention, a plurality of memory cell columns in which a plurality of memory cells are arranged in a column direction are arranged in a row direction, and an output bit line to be precharged is provided in each of the plurality of memory columns. A semiconductor memory having precharge means for precharging the output bit line based on a supply of a precharge control signal from the outside each time the memory cell is accessed, wherein each of the memory cell columns has a complementary bit line. A first memory cell, which is a RAM cell for holding precharge control data for inhibiting or permitting the precharge operation of the precharge means, and a liquid crystal display control drive connected to the complementary bit line. A second memory cell which is a RAM cell for storing display data for The control data is input to the other input terminal of a prohibition control signal for setting validity or invalidation of the precharge control data from the outside, and a precharge prohibition signal, which is precharge control data subjected to prohibition control, is output. A first input having a first logic gate, an externally supplied output control signal, the precharge inhibition signal, and an output signal of the output bit line input to each of the input terminals and output a display output from the output terminal. And a precharge control signal that receives an external supply from one input terminal and the other input terminal receives the precharge inhibit signal at one input terminal, and the other input terminal receives the precharge inhibit signal according to the value of the precharge inhibit signal. A two-input third logic gate for disabling / enabling a precharge control signal and outputting a precharge signal from an output terminal, and a source connected to a first power supply. A first MOS transistor of a first conductivity type, each of which is connected to the output bit line and receives a supply of the precharge signal at a gate; a first word line for selecting a row of the first memory cell; A second word line for selecting a row of the second memory cell, a third word line for selecting a display row of the second memory cell, and a column for selecting a column of the first and second memory cells; The precharge control data written to the first memory cell based on the setting of the prohibition control signal, to enable or disable the precharge control data. In this case, a precharge operation of the unused memory cell column is prohibited based on a value of the precharge control data.
【0044】上記第2又は第3の発明において、前記第
1のメモリセルが、2つのインバータの一方の入力端を
他方の出力端にそれぞれ接続してデータ記憶用のセルを
構成した第1及び第2のインバータと、ソースを前記第
1のインバータの入力端と第2のインバータの出力端の
共通接続点にドレインを列選択用の相補のビット線の一
方である正相ビット線にゲートを前記第1のワード線に
それぞれ接続した第2の導電型の第2のMOSトランジ
スタと、ソースを前記第2のインバータの入力端と第1
のインバータの出力端の共通接続点にドレインを前記相
補のビット線の一方である補相ビット線にゲートを前記
第1のワード線にそれぞれ接続した第2の導電型の第3
のMOSトランジスタとを備え、前記第2のメモリセル
が、2つのインバータの一方の入力端を他方の出力端に
それぞれ接続してデータ記憶用のセルを構成した第3及
び第4のインバータと、ソースを前記第3のインバータ
の入力端と第4のインバータの出力端の共通接続点にド
レインを前記正相ビット線にゲートを前記第2のワード
線にそれぞれ接続した第2の導電型の第4のMOSトラ
ンジスタと、ソースを前記第4のインバータの入力端と
第3のインバータの出力端の共通接続点にドレインを前
記補相ビット線にゲートを前記第2のワード線にそれぞ
れ接続した第2の導電型の第5のMOSトランジスタ
と、ソースを第2の電源にゲートを前記第3のインバー
タの入力端と第4のインバータの出力端の共通接続点に
それぞれ接続した第2の導電型の第6のMOSトランジ
スタと、ソースを前記第6のトランジスタのドレインに
ゲートを前記第3のワード線にドレインを前記出力ビッ
ト線にそれぞれ接続した第2の導電型の第7のMOSト
ランジスタとを備えるものであっても良い。In the second or third aspect of the present invention, the first and second memory cells may be configured such that one input terminal of two inverters is connected to the other output terminal to form a data storage cell. A second inverter and a source having a drain connected to a common connection point between an input terminal of the first inverter and an output terminal of the second inverter, and a gate connected to a positive-phase bit line which is one of complementary bit lines for column selection. A second MOS transistor of a second conductivity type connected to the first word line, and a source connected to an input terminal of the second inverter and a first MOS transistor.
The third of the second conductivity type has a drain connected to a common connection point at the output terminal of the inverter of the second type and a gate connected to the complementary bit line which is one of the complementary bit lines, and a gate connected to the first word line.
A third transistor and a fourth inverter, wherein the second memory cell comprises a data storage cell by connecting one input terminal of the two inverters to the other output terminal thereof; A source of a second conductivity type having a source connected to a common connection point between an input terminal of the third inverter and an output terminal of the fourth inverter, a drain connected to the positive-phase bit line, and a gate connected to the second word line. And a fourth MOS transistor having a source connected to a common connection point between the input terminal of the fourth inverter and the output terminal of the third inverter, a drain connected to the complementary bit line, and a gate connected to the second word line. A fifth MOS transistor having a second conductivity type, a source connected to a second power supply, and a gate connected to a common connection point between an input terminal of the third inverter and an output terminal of the fourth inverter. And a seventh MOS transistor of a second conductivity type having a source connected to the drain of the sixth transistor, a gate connected to the third word line, and a drain connected to the output bit line, respectively. A transistor may be provided.
【0045】[0045]
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して詳細に説明する。本実施の形態の半
導体メモリは、ビット線毎のプリチャージ制御情報を格
納する記憶素子(メモリセル等)をセルブロック内に持つ
ことにより、周辺回路の追加を最小限に抑えた上で未使
用セルのプリチャージ禁止制御を可能とし、消費電流の
削減を実現する。Next, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The semiconductor memory according to the present embodiment has a storage element (memory cell or the like) for storing precharge control information for each bit line in a cell block, thereby minimizing the addition of peripheral circuits and not using the memory. The cell precharge prohibition control can be performed to reduce current consumption.
【0046】次に、本発明の実施の形態の半導体メモリ
の基本部分として1列分の表示RAMセル列の一部をブ
ロックで示す図1を参照すると、この図に示す本実施の
形態の半導体メモリは、相補のビット線D,DBに接続
されプリチャージ制御用のデータを記憶するためのRA
Mセルである制御セル1と、相補のビット線D,DBに
接続され液晶表示コントロールドライブ用の表示データ
を記憶するための主セル2と、出力制御信号HDOと制
御セル1からの禁止信号NEと出力ビット線6の出力信
号BOとが入力端の各々に入力し出力端から表示出力O
UTを出力する3入力のNANDゲート3と、一方の入
力端に禁止信号NEを他方の入力端にプリチャージ制御
信号HPCをそれぞれ入力し禁止信号NEの値により他
方の入力端のプリチャージ制御信号HPCを無効化/有
効化して出力端からプリチャージ信号CPを出力する2
入力のORゲート4と、プリチャージ対象の表示出力用
のビット線である出力ビット線6と、ソースを電源VD
D1にドレインを出力ビット線6にそれぞれ接続しゲー
トをORゲート4の出力端に接続したPMOS型のトラ
ンジスタP1と、後述するワード線WL1,WL2,W
L3とを備える。Next, referring to FIG. 1 in which a part of a display RAM cell column for one column is shown as a block as a basic part of the semiconductor memory according to the embodiment of the present invention, FIG. The memory is connected to complementary bit lines D and DB and is used for storing data for precharge control.
A control cell 1 which is an M cell; a main cell 2 connected to complementary bit lines D and DB for storing display data for a liquid crystal display control drive; an output control signal HDO and a prohibition signal NE from the control cell 1 And the output signal BO of the output bit line 6 are input to each of the input terminals, and the display output O is output from the output terminal.
A three-input NAND gate 3 for outputting a UT, a prohibition signal NE at one input terminal and a precharge control signal HPC at another input terminal, and a precharge control signal at the other input terminal according to the value of the prohibition signal NE. Disable / enable HPC and output precharge signal CP from output terminal 2
An input OR gate 4, an output bit line 6, which is a display output bit line to be precharged, and a source connected to a power supply VD
A PMOS transistor P1 having a drain connected to the output bit line 6 and a gate connected to the output terminal of the OR gate 4, and word lines WL1, WL2, W
L3.
【0047】制御セル1は、2つのインバータの一方の
入力端を他方の出力端にそれぞれ接続(たすきがけ接続
又はリング状接続)してデータ記憶用のセルを構成した
インバータ11,12と、ソースをインバータ11の入
力端とインバータ12の出力端の共通接続点にドレイン
を正相ビット線Dにゲートをワード線WL1にそれぞれ
接続したNMOS型のトランジスタN11と、ソースを
インバータ12の入力端とインバータ11の出力端の共
通接続点にドレインを補相ビット線DBにゲートをワー
ド線WL1にそれぞれ接続したNMOS型のトランジス
タN12とを備える。The control cell 1 includes inverters 11 and 12 each having one input terminal of the two inverters connected to the other output terminal (cross connection or ring connection) to form a data storage cell, and a source. Is connected to a common connection point between the input terminal of the inverter 11 and the output terminal of the inverter 12, an NMOS transistor N 11 having a drain connected to the positive-phase bit line D and a gate connected to the word line WL 1, and a source connected to the input terminal of the inverter 12 and the inverter. An NMOS transistor N12 having a drain connected to the complementary bit line DB and a gate connected to the word line WL1 is provided at a common connection point of the output terminals of the eleventh and eleventh.
【0048】主セル2は、2つのインバータの一方の入
力端を他方の出力端にそれぞれ接続(たすきがけ接続又
はリング状接続)してデータ記憶用のセルを構成したイ
ンバータ21,22と、ソースをインバータ21の入力
端とインバータ22の出力端の共通接続点にドレインを
正相ビット線Dにゲートをワード線WL2にそれぞれ接
続したNMOS型のトランジスタN11と、ソースをイ
ンバータ22の入力端とインバータ21の出力端の共通
接続点にドレインを補相ビット線DBにゲートをワード
線WL2にそれぞれ接続したNMOS型のトランジスタ
N22と、ソースを接地GNDにゲートをインバータ2
1の入力端とインバータ22の出力端の共通接続点にそ
れぞれ接続したNMOS型のトランジスタN23と、ソ
ースをトランジスタN23のドレインにゲートを表示用
のワード線WL3にドレインを出力ビット線6にそれぞ
れ接続したNMOS型のトランジスタN24とを備え
る。The main cell 2 includes inverters 21 and 22 each having a data storage cell by connecting one input terminal of the two inverters to the other output terminal (cross connection or ring connection), and a source. Is connected to a common connection point between the input terminal of the inverter 21 and the output terminal of the inverter 22, an NMOS transistor N 11 having a drain connected to the positive-phase bit line D and a gate connected to the word line WL 2, and a source connected to the input terminal of the inverter 22 and the inverter An NMOS transistor N22 having a drain connected to the complementary bit line DB and a gate connected to the word line WL2 at a common connection point of the output terminal of the output terminal 21;
An NMOS transistor N23 connected to the common connection point of the input terminal of the inverter 1 and the output terminal of the inverter 22, and the source is connected to the drain of the transistor N23, the gate is connected to the display word line WL3, and the drain is connected to the output bit line 6, respectively. NMOS transistor N24.
【0049】次に、図1を参照して本実施の形態の動作
について説明すると、制御セル1のインバータ11,1
2にはプリチャージ制御情報が書き込まれている。この
プリチャージ制御情報は、インバータ11、すなわち、
制御RAM1の出力が“1”のときプリチャージ禁止、
“0”のときプリチャージ許可するものである。従っ
て、プリチャージ不要の場合はインバータ11は禁止信
号NEとして“1”を出力し、プリチャージを行う場合
は禁止信号NEとして“0”を出力する。Next, the operation of this embodiment will be described with reference to FIG.
2, the precharge control information is written. This precharge control information is stored in the inverter 11, that is,
When the output of the control RAM 1 is “1”, the precharge is prohibited,
When "0", precharge is permitted. Therefore, the inverter 11 outputs "1" as the inhibition signal NE when precharging is unnecessary, and outputs "0" as the inhibition signal NE when precharging is performed.
【0050】説明の便宜上、対象の表示RAMセル列が
不使用のためプリチャージ不要であり、従って制御セル
1には、プリチャージ禁止を示す“1”を格納している
ものとする。この場合、インバータ11は禁止信号NE
として“1”を出力し、NANDゲート3とORゲート
4に供給する。ORゲート4は、禁止信号NEの“1”
の入力により他方の入力端を無効化し、この他方の入力
端に入力するプリチャージ制御信号HPCのレベルと無
関係に常に“1”のプリチャージ信号CPを出力し、プ
リチャージ用のトランジスタP1に供給する。トランジ
スタP1はプリチャージ信号CPの“1”に応答してオ
フ状態となり、出力ビット線6のプリチャージ動作を行
わない。これにより消費電流の削減が可能となる。For convenience of explanation, it is assumed that precharge is unnecessary because the target display RAM cell row is not used. Therefore, it is assumed that control cell 1 stores "1" indicating prohibition of precharge. In this case, the inverter 11 outputs the inhibition signal NE
Is output to the NAND gate 3 and the OR gate 4. The OR gate 4 outputs “1” of the inhibition signal NE.
, The other input terminal is invalidated, and a precharge signal CP of “1” is always output irrespective of the level of the precharge control signal HPC input to the other input terminal, and supplied to the precharge transistor P1. I do. The transistor P1 is turned off in response to "1" of the precharge signal CP, and does not perform the precharge operation of the output bit line 6. As a result, current consumption can be reduced.
【0051】次に、対象の表示RAMセル列が使用のた
めプリチャージが必要であり、従って制御セル1には、
プリチャージ実行を示す“0”を格納しているものとす
る。この場合、インバータ11は禁止信号NEとして
“0”を出力し、NANDゲート3とORゲート4に供
給する。ORゲート4は禁止信号NEの“0”の入力に
より他方の入力端を有効化し、この他方の入力端に入力
するプリチャージ制御信号HPCのレベルに応じてプリ
チャージ信号CPのレベルを変化させる。例えば、プリ
チャージ制御信号HPCが、“0”の場合は、ORゲー
ト4の出力するリチャージ信号CPは“0”となり、こ
の“0”をプリチャージ用のトランジスタP1に供給す
る。トランジスタP1はプリチャージ信号CPの“0”
に応答してオン状態となり、出力ビット線6のプリチャ
ージ動作を行う。Next, since the target display RAM cell column is used, precharging is required.
It is assumed that “0” indicating precharge execution is stored. In this case, the inverter 11 outputs “0” as the prohibition signal NE and supplies it to the NAND gate 3 and the OR gate 4. The OR gate 4 activates the other input terminal by inputting "0" of the inhibition signal NE, and changes the level of the precharge signal CP according to the level of the precharge control signal HPC input to the other input terminal. For example, when the precharge control signal HPC is “0”, the recharge signal CP output from the OR gate 4 becomes “0”, and this “0” is supplied to the precharge transistor P1. The transistor P1 outputs "0" of the precharge signal CP.
In response to this, the output bit line 6 is precharged.
【0052】次に、液晶表示回路に使用した例である本
実施の形態の第1の実施例について説明する。本実施例
の半導体メモリは、従来の第1の半導体メモリと同様
に、通常のデータリード、ライト用に1ポート、液晶パ
ネルの駆動出力用に別のリード用ポートを1つ持ったラ
イト1ポート、リード2ポートのRAMセル構成をな
し、各リードポートは完全非同期に動作するものであ
る。Next, a first example of the present embodiment, which is an example used in a liquid crystal display circuit, will be described. The semiconductor memory of this embodiment has a write 1 port having one port for normal data read / write and another one read port for driving output of the liquid crystal panel, similarly to the conventional first semiconductor memory. , A read two-port RAM cell configuration, and each read port operates completely asynchronously.
【0053】本実施の形態の第1の実施例をブロックで
示す図2を参照すると、この図に示す本実施例の半導体
メモリは、図1に示した基本構成の表示RAMセル列の
複数個(ここでは説明の便宜上3個とする)をアレイ配
置し、行、列それぞれのアドレスデコーダを備える構成
であり、上記の同一構成の表示RAMセル列100,2
00,300と、従来と共通の行アドレスと制御信号H
LASとの供給を受けこれら行アドレスと制御信号HL
ASとの論理積(AND)をとりワード線WL3を活性
化することによりこのワード線WL3を選択する表示行
デコーダ7と、列アドレスをデコードし選択した相補の
ビット線D,DBを活性化する列アドレスデコーダ8
と、制御信号LASと行アドレスの供給を受けこれら行
アドレスと制御信号LASとの論理積(AND)をとり
ワード線WL2を活性化することによりこのワード線W
L2を選択する行アドレスデコーダ9とを備える。Referring to FIG. 2, which is a block diagram showing a first embodiment of the present embodiment, the semiconductor memory of this embodiment shown in FIG. 2 has a plurality of display RAM cell columns having the basic configuration shown in FIG. (Here, three for convenience of explanation) are arranged in an array, and each row and column has an address decoder, and the display RAM cell columns 100 and 2 having the same configuration as described above.
00, 300, and the row address and control signal H common to those of the related art.
The row address and the control signal HL are supplied from the LAS.
A logical product (AND) with AS is activated to activate the word line WL3 to select the word line WL3, and a column address is decoded to activate the selected complementary bit lines D and DB. Column address decoder 8
And the supply of the control signal LAS and the row address, the logical product (AND) of the row address and the control signal LAS is obtained, and the word line WL2 is activated to activate the word line WL2.
A row address decoder 9 for selecting L2.
【0054】表示RAMセル列100,200,300
の各々は主セル2を複数個有するが、この図では、説明
の便宜上、それぞれ2個のみを示す。Display RAM cell rows 100, 200, 300
Have a plurality of main cells 2, but in this figure, only two are shown for convenience of explanation.
【0055】本実施例では、表示RAMセル列100,
200,300の各々毎に、すなわち、プリチャージ対
象の配線である表示出力用の出力ビット線6の1本に対
して1つの制御セル1を配置し、各出力ビット線6につ
いて独立にプリチャージを制御できる構成となってい
る。従って、図8に示した従来の第1の半導体メモリと
の相違点は、表示RAMセル列100,200,300
の各々が、プリチャージ制御用の制御セル1と、制御セ
ル1の出力のプリチャージ禁止信号でプリチャージ制御
信号を制御するためのNORゲート4と、付加するとと
もに、2入力のNANDゲート3Aの代わりにプリチャ
ージ禁止信号により出力制御をするように3入力のNA
NDゲート3を備えることである。In this embodiment, the display RAM cell row 100,
One control cell 1 is arranged for each of 200 and 300, that is, for one output bit line 6 for display output, which is a wiring to be precharged, and each output bit line 6 is independently precharged. Can be controlled. Therefore, the difference from the conventional first semiconductor memory shown in FIG. 8 is that the display RAM cell rows 100, 200, and 300 are different.
Add a control cell 1 for precharge control, a NOR gate 4 for controlling a precharge control signal with a precharge inhibit signal output from the control cell 1, and a two-input NAND gate 3A. Instead, a three-input NA is used so that the output is controlled by the precharge inhibit signal.
The ND gate 3 is provided.
【0056】次に、図1、図2及び各部動作波形をタイ
ムチャートで示す図3を参照して本実施例の動作につい
て説明すると、まず、主セル2へのデータのライト方法
は従来の技術で述べた従来の第1の半導体メモリと同一
である。また、新たに設けた制御セル1へのデータライ
ト方法も従来の第1の半導体メモリと同一である。Next, the operation of this embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2 and FIG. 3 which shows the operation waveforms of the respective parts in a time chart. First, a method of writing data to the main cell 2 is a conventional technique. This is the same as the conventional first semiconductor memory described above. The method of writing data to the newly provided control cell 1 is the same as that of the conventional first semiconductor memory.
【0057】まず、この場合の各部動作波形をタイムチ
ャートで示す図3(A)を参照すると、制御セル1のデ
ータが“0”の場合は、その出力する禁止信号NEが
“0”であり、これによるNORゲート4の出力するプ
リチャージ信号CPの値は、外部からのプリチャージ制
御信号HPCの値と同一となるので、従来の第1の半導
体メモリの回路動作と全く同様となる。First, referring to FIG. 3A showing the operation waveforms of the respective parts in a time chart in this case, when the data of the control cell 1 is "0", the output inhibition signal NE is "0". Since the value of the precharge signal CP output from the NOR gate 4 is the same as the value of the precharge control signal HPC from the outside, the circuit operation of the conventional first semiconductor memory is exactly the same.
【0058】まず、行アドレスが入力すると、その行ア
ドレスが指定するアドレス対応のワード線WL3のポー
トは制御信号HLASにより開かれ、選択されたワード
線WL3は“1”となり、そのワード線WL3に接続さ
れた全ての表示RAMセル列100,200,300の
各々のトランジスタN24はオンする。それに伴い選択
されたワード線WL3に接続された表示RAMセル列1
00,200,300の各々の主セル2のデータは、出
力ビット線6及びNANDゲート3Aを経由して全て同
時にOUTに出力される。First, when a row address is input, the port of the word line WL3 corresponding to the address specified by the row address is opened by the control signal HLAS, the selected word line WL3 becomes "1", and the word line WL3 is connected to the selected word line WL3. The transistors N24 of all the connected display RAM cell columns 100, 200, 300 are turned on. Accordingly, the display RAM cell column 1 connected to the selected word line WL3
The data of the main cells 2 of 00, 200, and 300 are all simultaneously output to OUT via the output bit line 6 and the NAND gate 3A.
【0059】タイムT1の区間では、プリチャージ制御
信号HPCが“0”になり、その先に接続された各表示
RAMセル列100,200,300のプリチャージス
イッチのトランジスタP1が一斉にオンし、同時に電源
VDD1から出力ビット線6に電荷がチャージされる。In the period of time T1, the precharge control signal HPC becomes "0", and the transistors P1 of the precharge switches of the display RAM cell rows 100, 200, and 300 connected to the precharge control signal simultaneously turn on. At the same time, charge is charged from the power supply VDD1 to the output bit line 6.
【0060】次に、タイムT2の区間ではプリチャージ
制御信号HPCが“1”になり、これによりプリチャー
ジ信号CPも“1”になるのでトランジスタP1がオフ
する。この時、まだ出力ビット線6の電荷は放電パスが
なく充電状態のままである。Next, in the period of time T2, the precharge control signal HPC becomes "1", whereby the precharge signal CP also becomes "1", so that the transistor P1 is turned off. At this time, the charge of the output bit line 6 is still in a charged state without a discharge path.
【0061】次に、タイムT3の区間で、制御信号HL
ASが“1”となり、アドレス選択されているワード線
WL3に接続されている全てのトランジスタN24がオ
ンする。ここで、ここで、主セル2のデータが“0”な
らば、出力ビット線6にはまだ電荷の放電パスがなく充
電状態のままであり、この充電状態対応の出力信号BO
は“1”となる。また、主セル2のデータが“1”であ
れば、出力ビット線6に蓄えられた電荷は、接地GND
を通して放電し、出力信号BOは“0”となる。Next, in the section of time T3, the control signal HL
AS becomes "1", and all the transistors N24 connected to the word line WL3 selected for address are turned on. Here, if the data of the main cell 2 is "0", the output bit line 6 is still in the charged state without the discharge path of the electric charge, and the output signal BO corresponding to this charged state.
Becomes "1". If the data of the main cell 2 is "1", the electric charge stored in the output bit line 6 is equal to the ground GND.
And the output signal BO becomes “0”.
【0062】次に、タイムT4の区間で出力制御信号H
DOが“0”となり、出力信号BOが“1”(すなわち
主セル2が“0”) なら出力OUTは“0”になる。逆
に出力信号BOが“0”(すなわち主セル2が“1”)
ならば出力OUTは“1”となる。Next, in the section of time T4, the output control signal H
When DO becomes "0" and the output signal BO is "1" (that is, the main cell 2 is "0"), the output OUT becomes "0". Conversely, the output signal BO is "0" (that is, the main cell 2 is "1").
Then, the output OUT becomes "1".
【0063】次に、タイムT5の区間では、出力制御信
号HDOが”1”となり、出力OUTは以前のデータに
関わらず“0”となる。Next, in the section of time T5, the output control signal HDO becomes "1", and the output OUT becomes "0" regardless of the previous data.
【0064】次に、タイムT6の区間では、制御信号H
LASが“0”となりアドレス線が閉じる。Next, in the section of time T6, the control signal H
LAS becomes "0" and the address line is closed.
【0065】次に、タイムT7の区間では、プリチャー
ジ制御信号HPCが“0”となり、各出力ビット線6の
プリチャージ動作が行われる。Next, in the period of time T7, the precharge control signal HPC becomes "0", and the precharge operation of each output bit line 6 is performed.
【0066】これは、タイムT1の区間と同一動作であ
り、以後、タイムT8,T9・・・も、タイムT2,T
3・・・と同一動作の繰り返しとなる。This is the same operation as in the section of the time T1, and thereafter, the times T8, T9,.
The same operation as in 3... Is repeated.
【0067】次に、制御セル1のデータを“1”とした
時の各部波形をタイムチャートで示す図3(B)を参照
してこの場合の回路動作について順に説明する。Next, the circuit operation in this case will be described in order with reference to FIG. 3B showing a time chart of each part when the data of the control cell 1 is "1".
【0068】まず、タイムT1の区間では、制御セル1
のデータが“1”であるから制御セル1の出力するであ
る禁止信号NEが“1”となり、これにより、トランジ
スタP1のプリチャージ信号CPはプリチャージ制御信
号HPCとは無関係に“1”となり、プリチャージスイ
ッチトランジスタP1はオフ状態となる。またこの時、
出力ビット線6の状態、すなわち、出力信号BOの値と
は無関係に表示出力OUTは“0”となる。以後(タイ
ムT2,3・・・)、制御セル1に“0”を書き込むま
ではこの状態は変化しない。First, in the section of the time T1, the control cell 1
Is "1", the inhibit signal NE output from the control cell 1 becomes "1", whereby the precharge signal CP of the transistor P1 becomes "1" irrespective of the precharge control signal HPC. , The precharge switch transistor P1 is turned off. At this time,
The display output OUT becomes "0" irrespective of the state of the output bit line 6, that is, the value of the output signal BO. After that (time T2, 3 ...), this state does not change until "0" is written to the control cell 1.
【0069】次に、制御セル1に“0”を書き込むと、
その後は上述のように、通常のプリチャージ動作に戻
り、プリチャージ動作、続いて液晶駆動出力動作を行
う。Next, when "0" is written to the control cell 1,
Thereafter, as described above, the operation returns to the normal precharge operation, and the precharge operation and the liquid crystal drive output operation are performed.
【0070】例えば、列アドレスX1に対して主セル2
のデータを読み出す必要がない場合、すなわち、アドレ
スX1の出力ビット線6にプリチャージの必要がない場
合は、アドレスX1対応の表示RAMセル列100の制
御セル1にデータ“1”を書き込むことにより、以後こ
の表示RAMセル列100の出力ビット線6のプリチャ
ージ動作は停止され消費電流の削減を図ることができ
る。For example, with respect to the column address X1, the main cell 2
When it is not necessary to read the data of the address X1, that is, when it is not necessary to precharge the output bit line 6 of the address X1, the data "1" is written into the control cell 1 of the display RAM cell row 100 corresponding to the address X1. Thereafter, the precharge operation of the output bit line 6 of the display RAM cell column 100 is stopped, and the current consumption can be reduced.
【0071】また、データの読み出しの必要に応じて表
示RAMセル列100の制御セル1にデータ“0”を書
き込むことにより、出力ビット線6のプリチャージを行
いデータを読み出せる。By writing data "0" to the control cell 1 of the display RAM cell row 100 as required to read data, the output bit line 6 is precharged and data can be read.
【0072】すなわち、読み出しが不要であり従ってプ
リチャージ不要の表示RAMセル列の制御セル1にデー
タ“1”を書き込むことにより、その表示RAMセル列
の出力ビット線6のプリチャージを停止し消費電流の削
減ができる。That is, by writing data "1" to the control cell 1 of the display RAM cell column which does not need to be read and therefore does not need to be precharged, the precharge of the output bit line 6 of the display RAM cell column is stopped and consumed. The current can be reduced.
【0073】本実施例による第1の効果は、未使用のR
AMセルのプリチャージ電流の削除が可能な点である。The first effect of this embodiment is that the unused R
The point is that the precharge current of the AM cell can be eliminated.
【0074】従来の技術で説明したように、液晶コント
ローラドライバに内蔵される表示RAMは、使用するド
ライバ出力の本数分と同一数の表示RAMセル列の配列
を必要とし、これら表示RAMセル列の各々はさらに2
進法で表した表示階調数(表示階調ビット数)分、例え
ば4階調の場合2組から成る。一例として、液晶コント
ローラドライバのドライバ出力本数が160本(X方向
セル数)で主セルビット数(Y方向セル数)160(以
下160×160)、出力信号の階調が4階調の場合
は、内蔵の表示RAMセル列数は320となる。すなわ
ちRAMセル数は320×160となる。As described in the background art, the display RAM incorporated in the liquid crystal controller driver requires the same number of display RAM cell arrays as the number of driver outputs to be used. Each two more
The number of display gray scales (display gray scale bit number) expressed in a binary system, for example, two sets for four gray scales. As an example, when the number of driver outputs of the liquid crystal controller driver is 160 (the number of cells in the X direction), the number of main cell bits (the number of cells in the Y direction) is 160 (hereinafter 160 × 160), and the gradation of the output signal is 4 gradations, The number of built-in display RAM cell columns is 320. That is, the number of RAM cells is 320 × 160.
【0075】この液晶コントローラドライバをモノクロ
モードで使用する場合は、表示RAMセル列数は半分の
160となり、RAMセルは全体の半分(320/2×
160)しか使用しない。When this liquid crystal controller driver is used in the monochrome mode, the number of display RAM cell columns is halved to 160, and the number of RAM cells is halved (320/2 ×
160) only.
【0076】従って、残りの表示RAMセル列160列
は不使用状態であり、本実施例を適用することによりモ
ノクロモード時における表示中のRAMの消費電流を5
0%削減できる。Therefore, the remaining 160 columns of display RAM cells are not used, and by applying this embodiment, the current consumption of the RAM during display in the monochrome mode is reduced by 5%.
0% reduction.
【0077】またこの時の表示中のRAMの消費電流I
を概略計算すると以下のようになる。 I=C×V×f=(0.8pF*320/2)*3V*
(75Hz*160)=4.5μA ここで、Cはプリチャージ電流の電荷を充電する容量値
であり、(出力ビット線6の配線容量)×(本数)に相
当する。The current consumption I of the RAM during display at this time is
Is roughly calculated as follows. I = C × V × f = (0.8 pF * 320/2) * 3V *
(75 Hz * 160) = 4.5 μA Here, C is a capacitance value for charging the charge of the precharge current, and is equivalent to (the wiring capacitance of the output bit line 6) × (number).
【0078】出力ビット線6の配線容量は実際のRAM
のレイアウト例から計算すると、約0.8pFである。The wiring capacity of the output bit line 6 is the actual RAM capacity.
Is calculated to be about 0.8 pF.
【0079】また、出力ビット線6の本数は、RAMの
X方向に対して全体の出力ビット線6の本数の半分です
むので、320/2となる。The number of output bit lines 6 is 320/2 since only half of the total number of output bit lines 6 in the X direction of the RAM is required.
【0080】Vは電圧値でありRAMの動作電圧の3V
である。V is a voltage value, which is 3 V of the operating voltage of the RAM.
It is.
【0081】fはCを充放電する周波数であり、この例
では、説明の便宜上、液晶コントローラドライバのフレ
ーム周波数を一般的な75Hzとする。従って、1/7
5Hzの時間で、RAMのY方向のビット(セル)数分
(この場合160個のセルに対し160回)プリチャー
ジ動作を行う。すなわち、プリチャージ動作の周波数は
75Hz×160である。F is a frequency for charging and discharging C. In this example, the frame frequency of the liquid crystal controller driver is set to a general 75 Hz for convenience of explanation. Therefore, 1/7
At a time of 5 Hz, the precharge operation is performed for the number of bits (cells) in the Y direction of the RAM (160 times for 160 cells in this case). That is, the frequency of the precharge operation is 75 Hz × 160.
【0082】一般に、表示中の表示RAMの1チップで
の消費電流は、主にクロック発振器、コントローラ部、
RAMで消費される。In general, the current consumption of one chip of the display RAM during display is mainly determined by the clock oscillator, the controller unit,
Consumed in RAM.
【0083】これらの各消費電流は、クロック発振器:
約15μA、コントローラ部:約5μA、RAM:約1
0μAであり、1チップでは約30μA消費されている
ことになる。Each of these current consumptions is represented by a clock oscillator:
About 15 μA, controller: about 5 μA, RAM: about 1
This is 0 μA, which means that about 30 μA is consumed in one chip.
【0084】よって、モノクロモード時に本実施例を適
用すれば、1チップの表示中の消費電流が25.5μA
ですむことになり、これは約15%程度の消費電流削減
となる。Therefore, if this embodiment is applied in the monochrome mode, the current consumption during the display of one chip is 25.5 μA.
This means that the current consumption is reduced by about 15%.
【0085】今後の表示サイズ(RAMサイズ)の増大
に伴いRAMの消費電流が占める割合はより大きくなる
ことから、本発明により大きな効果を期待できる。As the ratio of the current consumption of the RAM increases as the display size (RAM size) increases in the future, a great effect can be expected from the present invention.
【0086】また、従来の第2の半導体メモリの方法を
用いて各列毎のプリチャージ制御を行う場合は、従来の
技術で説明したように、外部からの配線面積が余分に必
要となる。本実施例と同様に320×160セルの表示
RAMを例にとると、外部から320本分の配線の引き
回しが必要でありその部分の配線面積が必要となる。When precharge control is performed for each column using the method of the second conventional semiconductor memory, an extra wiring area is required as described in the prior art. Taking a display RAM of 320 × 160 cells as an example similarly to the present embodiment, it is necessary to route 320 wirings from the outside, and a wiring area of that part is required.
【0087】さらに、外部にレジスタ等の記憶素子を持
った場合は、データ書き込み用のアドレスデコーダ等の
制御回路も別途必要になる。Further, when an external storage element such as a register is provided, a control circuit such as an address decoder for writing data is additionally required.
【0088】これに対し本実施例では制御回路をRAM
近辺に配置できる。そのため配線の引き回しによる面積
増加が少なくなるだけでなく、アドレスデコーダもRA
Mと共有でき、従来の第2の半導体メモリの技術を用い
るより面積削減を図ることができる。On the other hand, in this embodiment, the control circuit is a RAM.
Can be placed in the vicinity. Therefore, not only the area increase due to the wiring layout is reduced, but also the address decoder is RA
M, and the area can be reduced as compared with the case of using the second conventional semiconductor memory technology.
【0089】第1の実施の形態の方法では、プリチャー
ジの実行/停止によって、毎回制御セル1のデータを書
き換える書き換え処理が必要である。In the method of the first embodiment, a rewriting process for rewriting the data of the control cell 1 every time by executing / stopping the precharge is required.
【0090】以下に説明する、第2の実施の形態では、
この毎回の書き換え処理を不要とするものである。In the second embodiment described below,
This eliminates the need for each rewriting process.
【0091】本発明の第2の実施の形態を図1と共通の
構成要素には共通の参照文字/数字を付して同様にブロ
ックで示す図4を参照すると、この図に示す本実施の形
態の表示RAMセル列100Bの前述の第1の実施の形
態の表示RAMセル列100との相違点は制御セル1の
出力に外部からの禁止信号NEの有効化/無効化を設定
する禁止制御信号Aと禁止信号NEとの論理積をとり禁
止信号NEAを出力するANDゲート5を備えることで
ある。Referring to FIG. 4, which shows the second embodiment of the present invention in the same manner as in FIG. 1 and designates constituent elements common to those in FIG. The display RAM cell array 100B according to the second embodiment is different from the display RAM cell array 100 according to the first embodiment in that the output of the control cell 1 is set to enable / disable an external inhibition signal NE. An AND gate 5 is provided to take the logical product of the signal A and the inhibition signal NE and output the inhibition signal NEA.
【0092】本実施の形態の表示RAMセル列100B
及び表示RAMセル列100B同一構成の表示RAMセ
ル列200B,300Bを備える第2の実施例を図2と
共通の構成要素には共通の参照文字/数字を付して同様
にブロックで示す図5を参照すると、表示RAMセル列
100B,200B,300Bの上記ANDゲート5を
付加した以外の部分は前述の第1の実施例と同一である
ので、細部の説明は省略する。Display RAM cell array 100B of the present embodiment
FIG. 5 is a block diagram showing a second embodiment including display RAM cell columns 200B and 300B having the same configuration as that of the display RAM cell column 100B. With reference to FIG. 7, the portions of the display RAM cell rows 100B, 200B, and 300B other than the addition of the AND gate 5 are the same as those in the first embodiment, and thus detailed description is omitted.
【0093】ANDゲート5は、インバータ12の出力
すれる禁止信号NEと外部の禁止制御信号Aとの供給を
受け、禁止信号NEAを出力し、この禁止信号NEOは
NORゲート3とORゲート5の入力に供給している。AND gate 5 receives supply of inhibition signal NE output from inverter 12 and external inhibition control signal A, and outputs inhibition signal NEA. This inhibition signal NEO is output from NOR gate 3 and OR gate 5. Feeding input.
【0094】また、NORゲート3は、出力制御信号H
DOと禁止信号NEAと表示出力用の出力ビット線6の
出力の供給を受け表示出力OUTを出力する。The NOR gate 3 outputs the output control signal H
The display output OUT is output in response to the supply of DO, the inhibition signal NEA, and the output of the output bit line 6 for display output.
【0095】ORゲート5は、プリチャージ制御信号H
PCと禁止信号NEAとの供給を受け、プリチャージ信
号CPをトランジスタP1のゲートに供給する。The OR gate 5 has a precharge control signal H
In response to the supply of PC and the inhibition signal NEA, the precharge signal CP is supplied to the gate of the transistor P1.
【0096】次に、図5及び各部波形をタイムチャート
で示す図6を参照して本実施例の動作について説明する
と、まず、タイムT1の区間では、外部禁止制御信号A
は“0”であり各制御セル1の状態とは無関係にAND
ゲート5の出力の禁止信号NEOは常に“0”である。
よってこの状態では、全表示RAMセル列100B,2
00B,300Bに対してプリチャージの制御を行わな
い。すなわち制御セル1が存在しない従来の第1の半導
体メモリの動作と同一となる。Next, the operation of this embodiment will be described with reference to FIG. 5 and FIG. 6 which shows the waveforms of the respective parts in a time chart. First, in the section of time T1, the external prohibition control signal A
Is "0", and AND is independent of the state of each control cell 1.
The inhibit signal NEO of the output of the gate 5 is always "0".
Therefore, in this state, all the display RAM cell columns 100B, 2B
No precharge control is performed for 00B and 300B. That is, the operation is the same as the operation of the conventional first semiconductor memory in which the control cell 1 does not exist.
【0097】次に、タイムT2の区間を見ると、外部禁
止制御信号Aは“1”となり、この時初めて各制御セル
1の出力である禁止信号NEの値が禁止信号NEOの値
となる。つまり、この状態は前述の第1の実施例の動作
と同一であり、制御セル1の値が“1”の列に対して
は、プリチャージ動作を停止する。Next, looking at the section of time T2, the external prohibition control signal A becomes "1". At this time, the value of the prohibition signal NE which is the output of each control cell 1 becomes the value of the prohibition signal NEO for the first time. That is, this state is the same as the operation of the first embodiment, and the precharge operation is stopped for the column in which the value of the control cell 1 is "1".
【0098】以上のことから、予め制御セル1にデータ
を書き込んでおくことにより、外部禁止制御信号Aのみ
で全ての表示RAMセル列100B,200B,300
Bに対してプリチャージ制御の可否を制御できる。As described above, by writing data in the control cell 1 in advance, all the display RAM cell rows 100B, 200B, 300 can be controlled only by the external inhibition control signal A.
It is possible to control whether or not precharge control can be performed on B.
【0099】制御セル1のデータに対する表示イメージ
を示す図7を参照すると、図7(A)はRAMの格納デ
ータのイメージであり、図7(B)はそのデータに対す
る表示イメージを表す。この例では、最上段に制御セル
1のデータ201を、2段目以降に主セル2のデータ2
02を示し、制御セル1のデータ201の左側から1〜
8番目及び24〜33番目のセルデータ(点線で囲んだ
部分)が“1”、9〜23番目のセルデータが“0”の
場合を示す。従って、主セル2のデータ202の左側か
ら1〜8番目及び24〜33番目のセルデータ対応のデ
ータは非表示となり、9〜23番目のセルデータ対応の
データが表示される。Referring to FIG. 7, which shows a display image for the data of the control cell 1, FIG. 7A shows an image of data stored in the RAM, and FIG. 7B shows a display image for the data. In this example, the data 201 of the control cell 1 is placed at the top and the data 2 of the main cell 2 is placed at the second and subsequent rows.
02 from the left side of the data 201 of the control cell 1
The case where the eighth and 24th to 33rd cell data (portion surrounded by a dotted line) is “1” and the 9th to 23rd cell data is “0” is shown. Accordingly, the data corresponding to the 1st to 8th and 24th to 33rd cell data from the left side of the data 202 of the main cell 2 are not displayed, and the data corresponding to the 9th to 23rd cell data are displayed.
【0100】以上本発明の実施の形態を述べたが、本発
明は上記実施の形態に限られることなく種々の変形が可
能である。例えば、実施例では全表示RAMセル列がそ
れぞれ制御セル1を備えるものとしたが、全表示RAM
セル列に対して独立にプリチャージ制御する必要がない
場合には、複数の表示RAMセル列で制御セル1のデー
タを共有することもできるし、常に表示を必要とする表
示RAMセル列に対しては制御セル1を設ける必要はな
いことも、本発明の主旨を逸脱しない限り適用できるこ
とは勿論である。Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made. For example, in the embodiment, all the display RAM cell columns are provided with the control cells 1 respectively.
When it is not necessary to independently perform precharge control on the cell columns, the data of the control cell 1 can be shared by a plurality of display RAM cell columns, and the display RAM cell columns that always need to be displayed can be used. It is needless to say that the control cell 1 need not be provided and that the present invention can be applied without departing from the gist of the present invention.
【0101】また、プリチャージ制御用の制御セル1と
しては、記憶素子であればRAMセルである必要はな
く、ラッチや、レジスタ、あるいはROM等を用いるこ
とも、本発明の主旨を逸脱しない限り適用できることは
勿論である。The control cell 1 for precharge control need not be a RAM cell as long as it is a storage element, and a latch, a register, a ROM or the like may be used as long as it does not depart from the gist of the present invention. Of course, it can be applied.
【0102】[0102]
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体メ
モリは、メモリセル列の各々が、プリチャージ手段のプ
リチャージの動作を禁止又は許可するプリチャージ制御
情報を保持する制御情報記憶手段と、読み出したプリチ
ャージ制御情報に基づきプリチャージ制御信号の無効化
又は有効化するプリチャージ制御信号制御手段とを備
え、上記プリチャージ制御情報に基づき不使用のメモリ
セル列のプリチャージ動作を禁止するので、この不使用
のRAMセルのプリチャージ電流を削減することにより
電流消費を低減できるという効果がある。As described above, in the semiconductor memory of the present invention, each of the memory cell columns has control information storage means for holding precharge control information for inhibiting or permitting the precharge operation of the precharge means. A precharge control signal control means for invalidating or validating a precharge control signal based on the read precharge control information, and prohibiting a precharge operation of an unused memory cell column based on the precharge control information. Therefore, there is an effect that current consumption can be reduced by reducing the precharge current of the unused RAM cells.
【0103】また、各列毎のプリチャージ制御を行う従
来の第2の半導体メモリと比較して、外部制御配線の配
設及び周辺回路の配置に必要な回路面積が不要であるの
で、この分の回路面積を大幅に削減できるという効果が
ある。Further, as compared with the conventional second semiconductor memory which performs precharge control for each column, a circuit area required for arranging external control wiring and arranging peripheral circuits is not required. This has the effect of greatly reducing the circuit area.
【図1】本発明の半導体メモリの第1の実施の形態を示
すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of a semiconductor memory of the present invention.
【図2】本実施の形態の半導体メモリにおける第1の実
施例を示すブロック図である。FIG. 2 is a block diagram showing a first example of the semiconductor memory according to the present embodiment;
【図3】本実施例の半導体メモリにおける動作の一例を
示すタイムチャートである。FIG. 3 is a time chart illustrating an example of an operation in the semiconductor memory of the present embodiment.
【図4】本発明の半導体メモリの第2の実施の形態を示
すブロック図である。FIG. 4 is a block diagram showing a second embodiment of the semiconductor memory of the present invention.
【図5】本実施の形態の半導体メモリにおける第2の実
施例を示すブロック図である。FIG. 5 is a block diagram showing a second example of the semiconductor memory according to the present embodiment;
【図6】本実施例の半導体メモリにおける動作の一例を
示すタイムチャートである。FIG. 6 is a time chart illustrating an example of an operation in the semiconductor memory of the present embodiment.
【図7】本実施例の半導体メモリにおける制御セルのデ
ータに対する表示イメージを示すイメージ図である。FIG. 7 is an image diagram showing a display image for control cell data in the semiconductor memory of the present embodiment.
【図8】従来の第1の半導体メモリの一例を示すブロッ
ク図である。FIG. 8 is a block diagram showing an example of a conventional first semiconductor memory.
【図9】従来の第1の半導体メモリにおける動作の一例
を示すタイムチャートである。FIG. 9 is a time chart showing an example of an operation in a conventional first semiconductor memory.
【図10】従来の第2の半導体メモリの一例を示すブロ
ック図である。FIG. 10 is a block diagram showing an example of a second conventional semiconductor memory.
1 制御セル 2 主セル 3,3A NANDゲート 4 NORゲート 5 ANDゲート 6 出力ビット線 7 表示行デコーダ 8 列アドレスデコーダ 9,9A 行アドレスデコーダ 11,12,21,22 インバータ 100,200,300,100A,200A,300
A 表示RAMセル列 D,DB ビット線 P1,N11,N12,N21,N22,N23,N2
4 トランジスタ WL1,WL2,WL3 ワード線Reference Signs List 1 control cell 2 main cell 3, 3A NAND gate 4 NOR gate 5 AND gate 6 output bit line 7 display row decoder 8 column address decoder 9, 9A row address decoder 11, 12, 21, 22 inverter 100, 200, 300, 100A , 200A, 300
A display RAM cell column D, DB bit line P1, N11, N12, N21, N22, N23, N2
4 transistors WL1, WL2, WL3 Word line
Claims (8)
数のメモリセル列を行方向に配置し、前記複数のメモリ
列の各々にプリチャージ対象の出力ビット線を備え、前
記メモリセルへのアクセス毎に外部からのプリチャージ
制御信号の供給に基づき前記出力ビット線をプリチャー
ジするプリチャージ手段を有する半導体メモリにおい
て、 前記メモリセル列の各々が、前記プリチャージ手段の前
記プリチャージの動作を禁止又は許可するプリチャージ
制御情報を保持する制御情報記憶手段と、 前記制御情報記憶手段から読み出した前記プリチャージ
制御情報に基づき前記プリチャージ制御信号の無効化又
は有効化するプリチャージ制御信号制御手段とを備え、 前記制御情報記憶手段に保持した前記プリチャージ制御
情報に基づき不使用の前記メモリセル列のプリチャージ
動作を禁止することを特徴とする半導体メモリ。1. A plurality of memory cell columns in which a plurality of memory cells are arranged in a column direction are arranged in a row direction, and each of the plurality of memory columns is provided with an output bit line to be precharged. In a semiconductor memory having a precharge unit for precharging the output bit line based on a supply of a precharge control signal from outside for each access, each of the memory cell columns performs the precharge operation of the precharge unit. Control information storage means for holding prohibition or permission precharge control information; and precharge control signal control means for disabling or enabling the precharge control signal based on the precharge control information read from the control information storage means. And the unused memory based on the precharge control information held in the control information storage means. A semiconductor memory for inhibiting a precharge operation of a memory cell column.
チャージの動作を禁止する第1の値と前記プリチャージ
の動作を許可する第2の値とから成り、 前記制御情報記憶手段が、外部から書き込んだ前記第1
及び第2の値のいずれか一方の前記制御情報を保持する
メモリセルである制御セルを備えることを特徴とする請
求項1記載の半導体メモリ。2. The precharge control information comprises a first value for inhibiting the precharge operation and a second value for permitting the precharge operation. Said first written
2. The semiconductor memory according to claim 1, further comprising a control cell that is a memory cell that holds the control information of one of a first value and a second value.
にドレインを前記出力ビット線にそれぞれ接続しゲート
にプリチャージを制御するプリチャージ信号の供給を受
ける第1導電型の第1のMOSトランジスタを備え、 前記プリチャージ制御信号制御手段が、一方の入力端に
第1及び第2の値から成る前記プリチャージ制御情報を
他方の入力端に外部からのプリチャージ制御信号をそれ
ぞれ入力し前記プリチャージ制御情報の値により他方の
入力端のプリチャージ制御信号を無効化/有効化して出
力端から前記プリチャージ信号を出力する2入力の論理
ゲートを備えることを特徴とする請求項1記載の半導体
メモリ。3. The first conductivity type first MOS transistor having a source connected to a power supply, a drain connected to the output bit line, and a gate supplied with a precharge signal for controlling precharge. The precharge control signal control means inputs the precharge control information comprising first and second values to one input terminal and an external precharge control signal to the other input terminal, and 2. The semiconductor memory according to claim 1, further comprising a two-input logic gate for invalidating / enabling a precharge control signal at the other input terminal according to a value of the control information and outputting the precharge signal from an output terminal. .
にドレインを前記出力ビット線にそれぞれ接続しゲート
にプリチャージを制御するプリチャージ信号の供給を受
ける第1導電型の第1のMOSトランジスタを備え、 前記プリチャージ制御信号制御手段が、一方の入力端に
第1及び第2の値から成る前記プリチャージ制御情報を
他方の入力端に外部からの前記プリチャージ制御情報の
有効化又は無効化を設定する禁止制御信号をそれぞれ入
力し禁止制御されたプリチャージ制御情報であるプリチ
ャージ禁止信号を出力する2入力の第1の論理ゲート
と、 一方の入力端に前記プリチャージ禁止信号を他方の入力
端に外部からのプリチャージ制御信号をそれぞれ入力し
前記プリチャージ禁止信号の値により他方の入力端の前
記プリチャージ制御情報を無効化/有効化して出力端か
ら前記プリチャージ信号を出力する2入力の論理ゲート
を備えることを特徴とする請求項1記載の半導体メモ
リ。4. A first conductivity type first MOS transistor having a source connected to a power supply, a drain connected to the output bit line, and a gate receiving a precharge signal for controlling precharge. Wherein the precharge control signal control means has one input terminal having the precharge control information composed of the first and second values and the other input terminal having the precharge control information externally validated or invalidated. And a two-input first logic gate for inputting a prohibition control signal for setting a precharge control signal and outputting a precharge prohibition signal, which is precharge control information for which prohibition control has been performed. An external precharge control signal is input to an input terminal, and the precharge control signal of the other input terminal is determined by the value of the precharge inhibition signal. The semiconductor memory according to claim 1, characterized in that it comprises a two-input logic gate for outputting the pre-charge signal from the disable / enable to output the information.
方の入力端を他方の出力端にそれぞれ接続してデータ記
憶用のセルを構成した第1及び第2のインバータと、 ソースを前記第1のインバータの入力端と第2のインバ
ータの出力端の共通接続点にドレインを列選択用の相補
のビット線の一方である正相ビット線にゲートを行選択
用のワード線にそれぞれ接続した第2の導電型の第2の
MOSトランジスタと、 ソースを前記第2のインバータの入力端と第1のインバ
ータの出力端の共通接続点にドレインを前記相補のビッ
ト線の一方である補相ビット線にゲートを前記ワード線
にそれぞれ接続した第2の導電型の第3のMOSトラン
ジスタとを備えることを特徴とする請求項2記載の半導
体メモリ。5. The control cell includes first and second inverters each having one input terminal of two inverters connected to the other output terminal to form a data storage cell, and a source connected to the first inverter. The drain is connected to the common connection point between the input terminal of the inverter and the output terminal of the second inverter, and the gate is connected to the positive-phase bit line which is one of the complementary bit lines for column selection, and the gate is connected to the word line for row selection. A second MOS transistor of a second conductivity type; a source having a common connection point between an input terminal of the second inverter and an output terminal of the first inverter; and a drain having a drain connected to one of the complementary bit lines. 3. A semiconductor memory according to claim 2, further comprising a third MOS transistor of a second conductivity type having a gate connected to said word line.
数のメモリセル列を行方向に配置し、前記複数のメモリ
列の各々にプリチャージ対象の出力ビット線を備え、前
記メモリセルへのアクセス毎に外部からのプリチャージ
制御信号の供給に基づき前記出力ビット線をプリチャー
ジするプリチャージ手段を有する半導体メモリにおい
て、 前記メモリセル列の各々が、相補のビット線に接続され
前記プリチャージ手段の前記プリチャージの動作を禁止
又は許可するプリチャージ制御データを保持するための
RAMセルである第1のメモリセルと、 前記相補のビット線に接続され液晶表示コントロールド
ライブ用の表示データを記憶するためのRAMセルであ
る第2のメモリセルと、 外部から供給される出力制御信号と前記第1のメモリセ
ルからの前記プリチャージ制御データと前記出力ビット
線の出力信号とが入力端の各々に入力し出力端から表示
出力を出力する3入力の第1の論理ゲートと、 一方の入力端に前記プリチャージ制御データを他方の入
力端に外部から供給を受けるプリチャージ制御信号をそ
れぞれ入力し前記プリチャージ制御データの値により他
方の入力端のプリチャージ制御信号を無効化/有効化し
て出力端からプリチャージ信号を出力する2入力の第2
の論理ゲートと、 ソースを第1の電源にドレインを前記出力ビット線にそ
れぞれ接続しゲートに前記プリチャージ信号の供給を受
ける第1導電型の第1のMOSトランジスタと、 前記第1のメモリセルの行選択用の第1のワード線と、 前記第2のメモリセルの行選択用の第2のワード線と、 前記第2のメモリセルの表示行選択用の第3のワード線
と、 前記第1及び第2のメモリセルの列選択用の相補のビッ
ト線とを備え、 前記第1のメモリセルに書き込んだ前記プリチャージ制
御データの値に基づき不使用の前記メモリセル列のプリ
チャージ動作を禁止することを特徴とする半導体メモ
リ。6. A plurality of memory cell columns in which a plurality of memory cells are arranged in a column direction are arranged in a row direction, and each of the plurality of memory columns is provided with an output bit line to be precharged. In a semiconductor memory having precharge means for precharging the output bit line based on a supply of a precharge control signal from outside for each access, each of the memory cell columns is connected to a complementary bit line, and A first memory cell which is a RAM cell for holding precharge control data for inhibiting or permitting the precharge operation, and storing display data for a liquid crystal display control drive connected to the complementary bit line. A second memory cell, which is a RAM cell for storing the output control signal supplied from the outside and the first memory cell. A three-input first logic gate for inputting the precharge control data and the output signal of the output bit line to each of input terminals and outputting a display output from the output terminal; A precharge control signal for receiving data from the outside is supplied to the other input terminal, and the value of the precharge control data invalidates / enables the precharge control signal at the other input terminal. The second of the two inputs that output
A first MOS transistor of a first conductivity type having a source connected to a first power supply, a drain connected to the output bit line, and a gate supplied with the precharge signal; and a first memory cell. A first word line for selecting a row of the second memory cell; a second word line for selecting a row of the second memory cell; a third word line for selecting a display row of the second memory cell; A complementary bit line for selecting a column of first and second memory cells, and a precharge operation of the memory cell column that is not used based on a value of the precharge control data written in the first memory cell. Semiconductor memory characterized in that prohibition is made.
数のメモリセル列を行方向に配置し、前記複数のメモリ
列の各々にプリチャージ対象の出力ビット線を備え、前
記メモリセルへのアクセス毎に外部からのプリチャージ
制御信号の供給に基づき前記出力ビット線をプリチャー
ジするプリチャージ手段を有する半導体メモリにおい
て、 前記メモリセル列の各々が、相補のビット線に接続され
前記プリチャージ手段の前記プリチャージの動作を禁止
又は許可するプリチャージ制御データを保持するための
RAMセルである第1のメモリセルと、 前記相補のビット線に接続され液晶表示コントロールド
ライブ用の表示データを記憶するためのRAMセルであ
る第2のメモリセルと、 一方の入力端に前記プリチャージ制御データを他方の入
力端に外部からの前記プリチャージ制御データの有効化
又は無効化を設定する禁止制御信号をそれぞれ入力し禁
止制御されたプリチャージ制御データであるプリチャー
ジ禁止信号を出力する2入力の第1の論理ゲートと、 外部から供給される出力制御信号と前記プリチャージ禁
止信号と前記出力ビット線の出力信号とが入力端の各々
に入力し出力端から表示出力を出力する3入力の第2の
論理ゲートと、 一方の入力端に前記プリチャージ禁止信号を他方の入力
端に外部から供給を受けるプリチャージ制御信号をそれ
ぞれ入力し前記プリチャージ禁止信号の値により他方の
入力端のプリチャージ制御信号を無効化/有効化して出
力端からプリチャージ信号を出力する2入力の第3の論
理ゲートと、 ソースを第1の電源にドレインを前記出力ビット線にそ
れぞれ接続しゲートに前記プリチャージ信号の供給を受
ける第1導電型の第1のMOSトランジスタと、 前記第1のメモリセルの行選択用の第1のワード線と、 前記第2のメモリセルの行選択用の第2のワード線と、 前記第2のメモリセルの表示行選択用の第3のワード線
と、 前記第1及び第2のメモリセルの列選択用の相補のビッ
ト線とを備え、 前記禁止制御信号の設定に基づき前記第1のメモリセル
に書き込んだ前記プリチャージ制御データの有効化又は
無効化を行い、前記プリチャージ制御データの有効化状
態のとき前記プリチャージ制御データの値に基づき不使
用の前記メモリセル列のプリチャージ動作を禁止するこ
とを特徴とする半導体メモリ。7. A plurality of memory cell columns in which a plurality of memory cells are arranged in a column direction are arranged in a row direction. Each of the plurality of memory columns is provided with an output bit line to be precharged. In a semiconductor memory having precharge means for precharging the output bit line based on a supply of a precharge control signal from outside for each access, each of the memory cell columns is connected to a complementary bit line, and A first memory cell which is a RAM cell for holding precharge control data for inhibiting or permitting the precharge operation, and storing display data for a liquid crystal display control drive connected to the complementary bit line. A second memory cell, which is a RAM cell for storing the precharge control data at one input terminal. A two-input first logic gate for inputting a prohibition control signal for setting validity or invalidity of the precharge control data from the outside and outputting a precharge prohibition signal which is precharge control data for which prohibition control is performed; A three-input second logic gate for receiving an externally supplied output control signal, the precharge inhibition signal, and an output signal of the output bit line into each of the input terminals and outputting a display output from the output terminal; One of the input terminals receives the precharge inhibit signal and the other input terminal receives a precharge control signal supplied from outside, and the value of the precharge inhibit signal invalidates the precharge control signal at the other input terminal. A two-input third logic gate for enabling and outputting a precharge signal from an output terminal; a source connected to a first power supply; and a drain connected to the output bit line. A first MOS transistor of a first conductivity type that is connected to each other and receives the precharge signal at its gate; a first word line for selecting a row of the first memory cell; A second word line for selecting a row, a third word line for selecting a display row of the second memory cell, and a complementary bit line for selecting a column of the first and second memory cells. The precharge control data written to the first memory cell is validated or invalidated based on the setting of the prohibition control signal, and the precharge control data is validated when the precharge control data is in an activated state. A semiconductor memory, wherein a precharge operation of an unused memory cell column is prohibited based on a value.
ータの一方の入力端を他方の出力端にそれぞれ接続して
データ記憶用のセルを構成した第1及び第2のインバー
タと、 ソースを前記第1のインバータの入力端と第2のインバ
ータの出力端の共通接続点にドレインを列選択用の相補
のビット線の一方である正相ビット線にゲートを前記第
1のワード線にそれぞれ接続した第2の導電型の第2の
MOSトランジスタと、 ソースを前記第2のインバータの入力端と第1のインバ
ータの出力端の共通接続点にドレインを前記相補のビッ
ト線の一方である補相ビット線にゲートを前記第1のワ
ード線にそれぞれ接続した第2の導電型の第3のMOS
トランジスタとを備え、 前記第2のメモリセルが、2つのインバータの一方の入
力端を他方の出力端にそれぞれ接続してデータ記憶用の
セルを構成した第3及び第4のインバータと、 ソースを前記第3のインバータの入力端と第4のインバ
ータの出力端の共通接続点にドレインを前記正相ビット
線にゲートを前記第2のワード線にそれぞれ接続した第
2の導電型の第4のMOSトランジスタと、 ソースを前記第4のインバータの入力端と第3のインバ
ータの出力端の共通接続点にドレインを前記補相ビット
線にゲートを前記第2のワード線にそれぞれ接続した第
2の導電型の第5のMOSトランジスタと、 ソースを第2の電源にゲートを前記第3のインバータの
入力端と第4のインバータの出力端の共通接続点にそれ
ぞれ接続した第2の導電型の第6のMOSトランジスタ
と、 ソースを前記第6のトランジスタのドレインにゲートを
前記第3のワード線にドレインを前記出力ビット線にそ
れぞれ接続した第2の導電型の第7のMOSトランジス
タとを備えることを特徴とする請求項6又は7記載の半
導体メモリ。8. The first memory cell comprises: first and second inverters each having one input terminal of two inverters connected to the other output terminal to form a data storage cell; A drain is connected to a common connection point between an input terminal of the first inverter and an output terminal of the second inverter, and a gate is connected to the positive-phase bit line, which is one of complementary bit lines for column selection, to the first word line, respectively. A second MOS transistor of a second conductivity type connected to the source; a source connected to a common connection point between the input terminal of the second inverter and the output terminal of the first inverter; and a drain connected to one of the complementary bit lines. A third MOS transistor of a second conductivity type having a gate connected to the phase bit line and a gate connected to the first word line, respectively;
And a third inverter comprising a transistor, wherein the second memory cell comprises a third inverter and a fourth inverter each of which connects one input terminal of the two inverters to the other output terminal to form a data storage cell; A fourth terminal of a second conductivity type having a drain connected to a common connection point between the input terminal of the third inverter and the output terminal of the fourth inverter, the gate connected to the positive-phase bit line, and the gate connected to the second word line, respectively. A second MOS transistor having a source connected to a common connection point between an input terminal of the fourth inverter and an output terminal of the third inverter, a drain connected to the complementary bit line, and a gate connected to the second word line; A fifth MOS transistor of a conductive type, a second MOS transistor having a source connected to the second power supply and a gate connected to a common connection point between the input terminal of the third inverter and the output terminal of the fourth inverter. A sixth MOS transistor of a second conductivity type, a source connected to the drain of the sixth transistor, a gate connected to the third word line, and a drain connected to the output bit line, respectively. The semiconductor memory according to claim 6, comprising:
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