JP2001142078A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JP2001142078A
JP2001142078A JP32426399A JP32426399A JP2001142078A JP 2001142078 A JP2001142078 A JP 2001142078A JP 32426399 A JP32426399 A JP 32426399A JP 32426399 A JP32426399 A JP 32426399A JP 2001142078 A JP2001142078 A JP 2001142078A
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liquid
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Japanese (ja)
Inventor
Hitoshi Hado
Kazuyuki Haruhara
Atsuyuki Manabe
Takeshi Yamamoto
武志 山本
一之 春原
敦行 真鍋
仁 羽藤
Original Assignee
Toshiba Corp
株式会社東芝
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device which has a light-shielding spacer on one of the inner faces of a pair of substrates and which realizes both of good display performance and high yield. SOLUTION: The liquid crystal display device 1 is equipped with a pair of substrates 2, 3 disposed facing each other and having electrode layers 19, 32 on the respective inner faces, a light-shielding spacer 20 to keep the gap between the substrates 2, 3 constant and formed on one inner face of the pair of substrates 2, 3, and a liquid crystal layer 4 held between the pair of substrates 2, 3. The spacer 20 contains a pigment and a plurality of kinds of polymers having different glass transition points.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に係り、特には、一対の基板のいずれかの対向面にこれら基板の間隔を一定に保つスペーサが形成された液晶表示装置に関する。 The present invention relates to relates to a liquid crystal display device, particularly relates to a liquid crystal display device which spacers are formed to maintain a constant spacing of these substrates to any one of the opposing surfaces of the pair of substrates.

【0002】 [0002]

【従来の技術】液晶表示装置は、それぞれの対向面に電極層が形成された一対の基板で液晶層を挟持した構造を有している。 A liquid crystal display device has a sandwich structure of the liquid crystal layer in a pair of substrates which the electrode layer is formed on respective opposing surfaces. このような液晶表示装置においては、一対の基板間の間隔を均一に保つ必要があるため、一般に、 In such a liquid crystal display device, it is necessary to maintain a uniform gap between the pair of substrates, in general,
粒径が均一なプラスチックビーズ等の粒子をこれら基板間にスペーサとして散在させている。 Particle size is a particle, such as a uniform plastic beads interspersed as spacer between the substrates.

【0003】しかしながら、このような粒子状のスペーサは、基板上に散布する際に製造ラインを汚染するため、不良の原因となる。 However, such particulate spacers to contaminate the manufacturing line when sprayed on the substrate, causing poor. また、上記粒子が凝集した場合或いは散布密度が不均一である場合には、基板間の間隔を均一とすることができない。 Also, if the particles are aggregated or spraying density if not uniform, it can not be made uniform spacing between the substrates. さらに、上記粒子が画素部に位置する場合、その近傍で液晶分子の配向不良が生じる。 Further, when the particles are located in the pixel portion, an orientation defect of the liquid crystal molecules occurs in the vicinity.

【0004】そこで、上述した粒子状のスペーサを用いる代わりに、フォトリソグラフィ技術を用いて上記基板のいずれかの対向面に柱状体をスペーサとして形成することが行なわれている。 [0004] Therefore, instead of using the particulate spacers described above, it has been made that the columnar body is formed as a spacer on one of the opposing surfaces of the substrate by photolithography. この方法によれば、上述した散布を行う必要がないため、製造ラインが粒子で汚染されるのを防止することができる。 According to this method, it is not necessary to perform the spraying as described above, can production line can be prevented from being contaminated with particles. また、所望の位置にスペーサを形成することができるため、基板間の間隔が不均一となることがない。 Further, it is possible to form the spacer in a desired position, never spacing between the substrates becomes uneven. さらに、上記柱状スペーサを断面形状が順テーパ状となるように形成すれば、スペーサの側面にもラビング処理を施すことができるため、上述した配向不良を抑制することができる。 Further, by forming such the columnar spacer cross section a forward tapered shape, it is possible to perform the rubbing treatment on the side surface of the spacer, it is possible to suppress the alignment failure as described above.

【0005】ところで、上記柱状スペーサは主に光透過性のポリマーで構成されているが、最近、ポリマーに顔料を含有させて柱状スペーサを遮光性とすることが提案されている。 Meanwhile, the columnar spacer is composed primarily of a light transparent polymer, but recently, contain a pigment has been proposed that a light-shielding columnar spacers to the polymer. 柱状スペーサを遮光性とした場合、スペーサの近傍で配向不良が生じたとしても、それが表示性能に影響を与えることは殆どない。 When the columnar spacer and the light-shielding, also as a bad alignment in the vicinity of the spacer occurs, it hardly affects the display performance. したがって、良好な表示性能を実現することができるものと考えられる。 Therefore, it is considered that it is possible to realize a good display performance.

【0006】しかしながら、このような遮光性の柱状体をスペーサとして用いるには未だ以下に示す問題が残されている。 However, still the following problems are left to using such a light-tight columnar body as a spacer.

【0007】上述したように、柱状スペーサへの遮光性の付与はポリマーに顔料を含有させることにより行われる。 [0007] As described above, light-shielding application to the columnar spacers is carried out by containing a pigment in the polymer. このような遮光性スペーサの形成は、例えば、ネガ型の感光性樹脂と顔料とを混合してなるレジスト材料を用いて行われるが、このレジスト材料からなる薄膜−レジスト膜−をパターン露光した場合、光は表面領域で吸収され、深部へは到達しない。 When the pattern exposure - The formation of such light-shielding spacer, for example, is performed using a resist material formed by combining an pigment negative photosensitive resin, the resist made of a material thin - resist film the light is absorbed by the surface area and does not reach to the deep part. すなわち、レジスト膜の表面領域のみが硬化する。 That is, only the surface region of the resist film is cured. その結果、露光後のレジスト膜の現像プロセスは、硬化した表面領域をマスクとして用いた等方性エッチングのように進行し、硬化した表面領域の直下のレジスト材料までもが部分的にエッチングされる。 As a result, the development process of the resist film after exposure is also is partially etched hardened surface region proceeds as isotropic etching using as a mask, until the resist material just below the hardened surface region .

【0008】そのため、このような方法で作製した柱状スペーサは鼓のように中央部が括れた形状となり、その断面形状は部分的に逆テーパ状となる。 [0008] Therefore, such a columnar spacer was produced by the method has a shape in which the central portion is constricted like a drum, a sectional shape is partially inversely tapered. したがって、柱状スペーサを遮光性とした場合には、柱状スペーサの側面へのラビング処理を可能とするために、現像後に加熱して、断面形状が順テーパ状となるようにスペーサを変形させなければならない。 Therefore, in the case where the columnar spacer and the light shielding property, in order to enable a rubbing treatment to the side surface of the columnar spacer, and heating after the development, if deform the spacer so that the cross-section a forward tapered shape not not. すなわち、現像直後の柱状スペーサは、加熱により適度に変形し得るものであることが望まれる。 In other words, the columnar spacers immediately after development, it is desirable as it is capable of appropriately deformed by heat.

【0009】ところが、そのようなスペーサは一般に機械的強度が弱く、ラビング処理の際に破壊されることがある。 [0009] However, such a spacer is generally has low mechanical strength, may be destroyed during the rubbing process. すなわち、柱状スペーサを遮光性とした場合、十分な機械的強度を有するスペーサを所望の形状に形成することが困難であり、したがって、表示性能及び歩留まりのいずれかが犠牲になってしまう。 That is, when the columnar spacer and the light-shielding, it is difficult to form a spacer having a sufficient mechanical strength to the desired shape, thus, one of the display performance and yield becomes sacrificed.

【0010】 [0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、一対の基板のいずれかの対向面に遮光性のスペーサを有し且つ良好な表示性能と高い歩留まりとを同時に実現することが可能な液晶表示装置を提供することを目的とする。 [0008] The present invention has been made in view of the above problems, and good display performance and high yields have light-shielding properties of the spacer to one of the opposing surfaces of the pair of substrates and to provide a liquid crystal display device capable of realizing for both simultaneously.

【0011】 [0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、対向して配置されそれぞれの対向面に電極層が設けられた一対の基板と、前記一対の基板の一方の対向面に形成され前記一対の基板間の間隔を一定に保つ遮光性のスペーサと、前記一対の基板間に挟持された液晶層とを具備し、前記スペーサは、顔料とそれぞれガラス転移点の異なる複数種のポリマーとを含有することを特徴とする液晶表示装置を提供する。 Means for Solving the Problems The present invention has been made to solve the above problems, a pair of substrates electrode layer is provided on each of the opposed surfaces are arranged to face each other, of the pair comprising a light-shielding spacer keeping the spacing constant between the substrate formed of the pair on one opposing surface of the substrate, and a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates, the spacer, pigment and glass, respectively to provide a liquid crystal display device characterized by containing different and more polymers of transition points.

【0012】また、本発明は、対向して配置されそれぞれの対向面に電極層が設けられた一対の基板と、前記一対の基板の一方の対向面に形成され前記一対の基板間の間隔を一定に保つ遮光性のスペーサと、前記一対の基板間に挟持された液晶層とを具備し、前記スペーサは、着色顔料と3質量%〜20質量%の体質顔料とポリマーとを含有することを特徴とする液晶表示装置を提供する。 Further, the present invention includes a pair of substrates electrode layer is provided on each of the opposed surfaces are arranged to face each other, are formed on one opposed surfaces of the pair of substrates the distance between the pair of substrates and light-shielding spacer kept constant, the comprises a pair of liquid crystal layer sandwiched between the substrates, wherein the spacer is that it contains a coloring pigment and 3 to 20% by weight of extender pigment and polymer to provide a liquid crystal display device according to claim.

【0013】さらに、本発明は、対向して配置されそれぞれの対向面に電極層が設けられた一対の基板と、前記一対の基板の一方の対向面に形成され前記一対の基板間の間隔を一定に保つ遮光性のスペーサと、前記一対の基板間に挟持された液晶層とを具備し、前記スペーサは、 Furthermore, the present invention includes a pair of substrates electrode layer is provided on each of the opposed surfaces are arranged to face each other, the distance between the formed on one opposed surfaces of the pair of substrates said pair of substrates comprising a light-shielding spacer kept constant, and a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates, the spacer,
顔料と平均分子量が15000〜40000のポリマーとを含有することを特徴とする液晶表示装置を提供する。 Pigment and an average molecular weight to provide a liquid crystal display device characterized by containing a polymer of 15,000 to 40,000.

【0014】また、本発明は、対向して配置されそれぞれの対向面に電極層が設けられた一対の基板と、前記一対の基板の一方の対向面に形成され前記一対の基板間の間隔を一定に保つ遮光性のスペーサと、前記一対の基板の前記スペーサが形成された面にその周縁部を遮光するように形成された周縁遮光層と、前記一対の基板間に挟持された液晶層とを具備し、前記スペーサ及び前記周縁遮光層は、20質量%〜35質量%の顔料とポリマーとを含有することを特徴とする液晶表示装置を提供する。 Further, the present invention includes a pair of substrates electrode layer is provided on each of the opposed surfaces are arranged to face each other, are formed on one opposed surfaces of the pair of substrates the distance between the pair of substrates and light-shielding spacer kept constant, and the pair of substrates peripheral light shielding layer formed so as to shield the periphery to the spacer is formed a surface of a liquid crystal layer sandwiched between said pair of substrates comprising a, the spacer and the peripheral light shielding layer provides a liquid crystal display device characterized by containing a 20 wt% to 35 wt% of pigment and polymer.

【0015】 [0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明について図面を参照しながらより詳細に説明する。 DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. まず、本発明の第1〜第4の実施形態に係る液晶表示装置(以下、LCDという)に共通する構造について図1を参照しながら説明する。 First, a liquid crystal display device according to the first to fourth embodiments of the present invention (hereinafter, referred to as LCD) is described with reference to FIG. 1 for structure common to.

【0016】図1は、本発明の第1〜第4の実施形態に係るLCDを概略的に示す断面図である。 [0016] Figure 1, an LCD according to the first to fourth embodiments of the present invention is a cross-sectional view schematically showing. 図1に示すL L shown in FIG. 1
CD1は、TN型のカラー表示可能な液晶表示装置であって、対向して配置されたアクティブマトリクス基板2 CD1 is a TN type color display liquid crystal display device capable of, the active matrix substrate 2 disposed to face
と対向基板3との間に挟持された液晶層4とで主に構成されている。 It is mainly composed of a liquid crystal layer 4 sandwiched between the counter substrate 3 and. なお、図1に示すLCD1は、通常、一対の偏光板で挟持され、背面側に光源が配置される。 Incidentally, LCD 1 shown in FIG. 1 is typically sandwiched between a pair of polarizing plates, the light source is arranged on the rear side.

【0017】アクティブマトリクス基板2は、ガラス等からなる透明基板11を有している。 The active matrix substrate 2 includes a transparent substrate 11 made of glass or the like. 透明基板11の一方の主面上には、マトリクス状に形成された走査線12 On one main surface of the transparent substrate 11, the scanning lines are formed in a matrix 12
及び信号線13、並びにスイッチング素子である薄膜トランジスタ(以下、TFTという)14が形成されている。 And the signal line 13, as well as a thin film transistor (hereinafter, TFT hereinafter) as a switching element 14 is formed. TFT14は、図1に示すように、例えば、走査線12とアモルファスシリコン等からなる半導体層15と信号線13と電極16とで構成することができる。 TFT14, as shown in FIG. 1, for example, can be composed of the semiconductor layer 15 and the signal line 13 and the electrode 16 consisting of the scanning line 12 and the amorphous silicon or the like. なお、この場合、走査線12はゲート電極を兼ね、半導体層15の一部はチャネルを構成し、信号線13の一部と電極16とはソース・ドレインを構成する。 In this case, the scanning line 12 also serves as a gate electrode, a portion of the semiconductor layer 15 constitutes the channel, constituting the source and drain part and the electrode 16 of the signal line 13.

【0018】透明基板11のTFT14等が形成された面には、さらに、絶縁体からなるパッシベーション膜1 [0018] On the surface, etc. TFT14 is formed of the transparent substrate 11, further, a passivation film 1 made of an insulator
7、カラーフィルタ層18、及びITOのような透明導電材料等からなる画素電極19が順次形成されている。 7, a pixel electrode 19 made of the color filter layer 18, and the transparent conductive material such as ITO or the like are successively formed.
カラーフィルタ層18は、各画素電極19に対応して、 The color filter layer 18, corresponding to each pixel electrode 19,
通常、R、B、Gの3色の色領域で構成される。 Usually, R, B, consists of color regions of three colors of G. また、 Also,
カラーフィルタ層18及びパッシベーション膜17にはスルーホール23が形成されており、画素電極19はそれぞれスルーホール23を介して電極16に電気的に接続されている。 The color filter layer 18 and the passivation film 17 has through holes 23 are formed, it is electrically connected to the electrode 16 via through-holes 23 each pixel electrode 19.

【0019】画素電極19上には、スペーサである遮光性の突起部20及び配向膜21が順次形成されている。 To [0019] On the pixel electrode 19, light-shielding protrusions 20 and the alignment layer 21 are sequentially formed a spacer.
また、透明基板11の周縁部には、一般に額縁と呼ばれる周縁遮光層22が形成されている。 Further, in a peripheral edge portion of the transparent substrate 11, the peripheral light shielding layer 22, commonly referred to as a picture frame is formed. 配向膜21は、例えばポリイミド等のように配向膜に一般的に用いられる透明樹脂で構成することができる。 The alignment layer 21 may be composed of a generally transparent resin used in the alignment film, for example polyimide. また、配向膜21には、ラビング処理のような配向処理が施されている。 Further, the alignment film 21, the alignment treatment such as rubbing treatment is applied.

【0020】対向基板3は、ガラス等からなる透明基板31を有している。 [0020] The counter substrate 3 includes a transparent substrate 31 made of glass or the like. 透明基板31の一方の主面上には、 On one main surface of the transparent substrate 31,
ITOなどの透明導電材料からなる共通電極32及び配向膜33が順次形成されている。 Common electrode 32 and an alignment film 33 made of a transparent conductive material such as ITO are successively formed. 配向膜21と同様に、 In the same manner as the alignment film 21,
配向膜33も、例えばポリイミド等のように配向膜に一般的に用いられる透明樹脂で構成することができ、ラビング処理のような配向処理が施されている。 The alignment layer 33, for example, the alignment film as polyimide or the like can be composed of generally transparent resin used, orientation treatment such as rubbing treatment is applied.

【0021】液晶層4は、液晶材料で構成されている。 The liquid crystal layer 4 is composed of a liquid crystal material.
液晶材料は、液晶化合物や複数種の液晶化合物を混合してなる液晶組成物に加え、カイラル剤などの添加物をさらに含有することができる。 Liquid crystal material, in addition to the liquid crystal composition obtained by mixing a liquid crystal compound or a plurality of kinds of liquid crystal compounds, additives such as a chiral agent may be further contained.

【0022】基板2,3は周囲を接着剤35や封止剤(図示せず)で固定されており、それらの間に閉空間を形成している。 The substrate 2 is fixed around an adhesive 35 or a sealant (not shown) to form a closed space therebetween. この接着剤35としては、例えば、熱硬化型或いは紫外線硬化型のアクリル系及びエポキシ系接着剤等が用いられる。 As the adhesive 35, for example, acrylic thermosetting or ultraviolet-curable and epoxy adhesive or the like is used. 上記液晶材料は、基板2,3、接着剤35、及び封止剤が形成する空間を満たしており、 Said liquid crystal material, the substrate 2 and 3, and fills the space which the adhesive 35, and a sealing agent is formed,
液晶層4を形成している。 Forming a liquid crystal layer 4. なお、基板の周辺部には、銀ペースト等からなる電極転移材(トランスファ:図示せず)が配置され、アクティブマトリクス基板2側から対向基板3の共通電極32に電圧を印加可能とされている。 Note that the peripheral portion of the substrate, electrode transfer material made of silver paste or the like (transfer: not shown) is disposed, and is capable of applying a voltage to the common electrode 32 of the opposing substrate 3 from the active matrix substrate 2 .

【0023】さて、本発明の第1〜第4の実施形態に係るLCD1は、遮光性の突起部20の組成が異なること以外はほぼ同様の構造を有している。 [0023] Now, LCD 1 according to the first to fourth embodiments of the present invention, the composition of the light-shielding protrusions 20 has substantially the same structure except different. 以下、突起部20 Hereinafter, the protrusion 20
の組成について各実施形態毎に説明する。 Described composition of each embodiment.

【0024】第1の実施形態に係るLCD1において、 [0024] In LCD1 according to the first embodiment,
遮光性の突起部20は、顔料とそれぞれガラス転移点の異なる複数種のポリマーとを含有している。 Light-shielding protrusions 20, contains a pigment and a more polymers having different respective glass transition temperature. 上述したように、レジスト材料として、単に顔料と感光性樹脂とを混合したものを用いた場合、十分な機械的強度を有するスペーサを所望の形状に形成することが困難である。 As described above, as a resist material, simply a case of using a mixture of a pigment and a photosensitive resin, it is difficult to form a spacer having a sufficient mechanical strength to the desired shape. 本発明者らは、ポリマーのガラス転移点が機械的強度や熱変形性と相関していることに着目した。 The present inventors have noticed that the glass transition point of the polymer are correlated with the mechanical strength and heat distortion resistance. すなわち、一般に、ガラス転移点の高いポリマーを用いた場合に高い機械的強度が得られる傾向にあり、ガラス転移点の低いポリマーを用いた場合に高い熱変形性が得られる傾向にあるので、顔料とそれぞれガラス転移点の異なる複数種のポリマーを含む感光性樹脂とを含有するレジスト材料を用いて突起部20を形成すれば、機械的強度及び熱変形性の双方の要求を容易に満足させることが可能となるのである。 That is, in general, high mechanical strength in the case of using a high glass transition temperature polymers tend to be obtained, since there is a tendency that high heat distortion resistance can be obtained when using a low glass transition temperature polymers, pigments each by forming the protruding portions 20 by using a resist material containing a photosensitive resin containing a plurality of kinds of polymers having different glass transition point, thereby easily satisfy both the requirements of mechanical strength and thermal deformation resistance when it's is possible.

【0025】この感光性樹脂は、ガラス転移点が異なるものであればどのような種類のポリマーを含有してもよいが、ガラス転移点が170℃以下のポリマーとガラス転移点が80℃以上のポリマーとを含有することが好ましい。 [0025] The photosensitive resin, any type of polymer as long as the glass transition point is different and may contain, but the glass transition point of 170 ° C. or less polymer and the glass transition point is above 80 ° C. preferably contains a polymer. このような感光性樹脂を含有するレジスト材料を用いた場合、上述した効果が顕著となる。 If using a resist material containing such a photosensitive resin, the above-mentioned effects become remarkable.

【0026】上記感光性樹脂は、上述したポリマーに加え、一般にレジスト材料に用いられる感光性樹脂に含まれる様々な化合物を含有することができる。 [0026] The photosensitive resin, in addition to the above-mentioned polymer may contain a variety of compounds included in the general photosensitive resin used in the resist material. 例えば、上述した感光性樹脂は、通常、上記ポリマーに加えて、それらのモノマーやダイマーのように反応性のより高い化合物、すなわちレジスト材料に光硬化性を付与する化合物を含有している。 For example, the above-mentioned photosensitive resin, usually in addition to the polymer, a higher reactive compound as the monomers and dimers, i.e. contains a compound which imparts photocurable the resist material.

【0027】このレジスト材料は、上記感光性樹脂に加え、さらに顔料を含有している。 [0027] The resist material is added to the photosensitive resin, and further contains a pigment. この顔料は、突起部2 The pigment protrusions 2
0に遮光性を付与し且つ突起部20を絶縁性に維持するものであれば特に制限はないが、通常は着色顔料、特には黒色顔料やR,G,Yの顔料の混合物のように、単独で或いは混合されて黒色を呈する顔料が用いられる。 Is not particularly limited as long as it maintains the insulation property of the light-shielding property imparted and projections 20 to 0, typically as coloring pigments, especially black pigments and R, G, mixtures of pigments Y, pigments exhibiting alone or mixed with black are used.

【0028】上述したレジスト材料は、ガラス転移点がより高いポリマー、例えばガラス転移点が100℃以上のポリマーを、硬化後の突起部20中の濃度が15質量%以下となるように含有することが好ましく、10質量%以下となるように含有することがより好ましい。 The resist material described above, higher polymer glass transition temperature, for example, a glass transition point of the 100 ° C. or more polymers, the concentration in the projections 20 after curing contains such a concentration of 15 wt% or less preferably, it is more preferred to contain so as to be 10 mass% or less. また、このレジスト材料は、ガラス転移点がより低いポリマー、例えばガラス転移点が100℃未満のポリマーを、硬化後の突起部20中の濃度が2質量%以上となるように含有することが好ましく、3質量%〜5質量%となるように含有することがより好ましい。 Further, the resist material is lower polymer glass transition temperature, for example, be a glass transition point of the polymer of less than 100 ° C., containing as the concentration in the projections 20 after curing is 2 mass% or more preferably , and more preferably contains at 3% to 5% by weight. 一般に、ガラス転移点がより高いポリマーの濃度やガラス転移点がより低いポリマーの濃度を上記範囲内とした場合、機械的強度と熱変形性とのバランスが良好となる。 In general, when the above range of concentration of lower polymer higher polymer concentration or a glass transition point of the glass transition point, a good balance between mechanical strength and thermal deformation resistance.

【0029】次に、第2の実施形態に係るLCD1の突起部20について説明する。 A description will now be given protrusion 20 of LCD1 in accordance with the second embodiment. 第2の実施形態に係るLC LC according to the second embodiment
D1において、遮光性の突起部20は、着色顔料と3質量%〜20質量%の体質顔料とポリマーとを含有している。 In D1, light-shielding protrusions 20, contains a coloring pigment and 3 to 20% by weight of extender pigment and polymer.

【0030】上述した機械的強度や熱変形性は、突起部20に含有されるポリマーによってのみ決定される訳ではなく、それら特性には顔料も少なからず影響を与えている。 The above-mentioned mechanical strength and thermal deformation resistance, not to be determined only by the polymer contained in the protruding portion 20, is on their characteristics has given no small effect pigments. したがって、突起部20中の顔料濃度を制御すれば、機械的強度や熱変形性を変化させることができる。 Thus, by controlling the pigment concentration in the projections 20, it is possible to vary the mechanical strength and heat distortion resistance.
しかしながら、突起部20中の着色顔料濃度を大きく変化させた場合、突起部20の遮光性までもが変化してしまう。 However, when large changing the coloring pigment concentration in the projections 20, even is changed to light-shielding protrusions 20.

【0031】これに対し、本実施形態において、突起部20は体質顔料を含有している。 [0031] In contrast, in the present embodiment, the protrusion 20 contains an extender pigment. 体質顔料は、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、及び酸化チタン等のような白色顔料である。 Extender pigment is a white pigment such as barium sulfate, calcium sulfate and titanium oxide. 突起部20中に白色顔料を含有させた場合、突起部20に入射した光は体質顔料の表面で反射され、反射した光は着色顔料で吸収される。 If allowed to contain a white pigment in the protrusion 20, the light incident on the projection portion 20 is reflected by the surface of the extender pigments, reflected light is absorbed by the colored pigments. そのため、突起部20中に体質顔料を含有させたとしても、突起部2 Therefore, even contain a body pigment in the protrusion 20, the protrusion 2
0の遮光性が影響を受けることは殆どない。 It is little affected by light-shielding properties of 0. すなわち、 That is,
突起部20の遮光性に殆ど影響を与えることなく、機械的強度や熱変形性を制御することができる。 With little effect on the light-shielding protrusions 20, it is possible to control the mechanical strength and heat distortion resistance.

【0032】本実施形態において、突起部20に含まれる体質顔料の濃度は3質量%〜20質量%である。 In the present embodiment, the concentration of extender pigment contained in the protrusion 20 is 3% to 20% by weight. 体質顔料の濃度が3質量%未満である場合、突起部20の機械的強度を向上させる効果を得ることができない。 If the concentration of the extender pigment is less than 3 wt%, it is impossible to obtain the effect of improving the mechanical strength of the protrusion 20. また、体質顔料の濃度が20質量%を超える場合、突起部20の熱変形性が不十分となる。 Also, when the concentration of the extender pigment is more than 20 wt%, the thermal deformation of the protruding portion 20 becomes insufficient.

【0033】本実施形態において、突起部20に含まれる着色顔料と体質顔料との濃度の和は、40質量%以下であることが好ましく、25質量%〜40質量%であることがより好ましい。 [0033] In this embodiment, the sum of the concentration of a coloring pigment and extender pigment contained in the protruding portion 20 is preferably not more than 40 wt%, and more preferably from 25% to 40% by weight. 上記濃度の和を上記範囲内とすることにより、機械的強度及び熱変形性の双方の要求を容易に満足させることが可能となる。 The sum of the concentration to be in the above range, it is possible to easily satisfy both the requirements of mechanical strength and heat distortion resistance.

【0034】また、本実施形態において、突起部20 Further, in the present embodiment, the protrusion 20
は、着色顔料と体質顔料と感光性樹脂とを含有するレジスト材料を用いて形成することができる。 It can be formed by using a resist material containing a coloring pigment and extender pigment and a photosensitive resin. なお、このレジスト材料中の体質顔料の濃度は、硬化時に3質量%〜 The concentration of the extender pigment of the resist composition is 3% by mass to when cured
20質量%となるように調節しておく必要がある。 It is necessary to adjusted to 20 mass%.

【0035】本実施形態において、レジスト材料に用いられる着色顔料は、突起部20に遮光性を付与し且つ突起部20を絶縁性に維持するものであれば特に制限はなく、通常は、黒色顔料やR,G,Yの顔料の混合物のように、単独で或いは混合されて黒色を呈する顔料が用いられる。 [0035] In this embodiment, the colored pigments used in the resist material is not particularly limited as long as the protrusion 20 in the light-shielding property was imparted and the protrusion 20 intended to keep the insulation, usually black pigment and R, G, as in the mixture of pigments Y, pigment exhibiting alone or mixed with black are used. また、本実施形態において、感光性樹脂としては、例えば、レジスト材料に一般に含有される感光性樹脂を用いることができる。 Further, in the present embodiment, as the photosensitive resin, for example, it can be used generally in the photosensitive resin to be contained in the resist material.

【0036】次に、第3の実施形態に係るLCD1の突起部20について説明する。 Next, a description will be given protrusion 20 of LCD1 according to the third embodiment. 第3の実施形態に係るLC LC according to the third embodiment
D1において、遮光性の突起部20は、顔料と平均分子量が15000〜40000のポリマーとを含有している。 In D1, light-shielding protrusions 20, the pigment and the average molecular weight contains a polymer of 15,000 to 40,000. なお、ここでいう平均分子量とは、重量平均分子量である。 Here, the average molecular weight referred to herein is a weight average molecular weight.

【0037】突起部20の熱変形性は、同種のポリマーを用いたとしても、その平均分子量に応じて異なる。 The thermal deformation of the protrusion 20, even using a polymer of the same type, vary depending on the average molecular weight. すなわち、熱変形性は、ポリマーの平均分子量が高い場合に低く、ポリマーの平均分子量が低い場合に高くなる傾向にある。 That is, thermal deformation resistance is low in the case of a high average molecular weight of the polymer, it tends to increase when a low average molecular weight of the polymer. さらに、本来、ポリマーが機械的強度に与える影響は、その分子構造のみに基づいているものと考えられるが、実際には、ポリマーの分子量も機械的強度に大きな影響を与える。 Furthermore, originally, the effect of the polymer has on the mechanical strength, but it is considered that based solely on the molecular structure, in fact, the molecular weight of the polymer is also a significant effect on the mechanical strength.

【0038】本発明者らは、このような知見に基づいて、ポリマーの分子量と機械的強度及び熱変形性との関係を調べたところ、突起部20が平均分子量15000 The present inventors, based on these findings was examined a relationship between the molecular weight and mechanical strength and heat distortion properties of the polymer, the protrusion 20 is an average molecular weight of 15,000
以上のポリマーを含有する場合に十分な機械的強度が得られ、平均分子量40000以下のポリマーを含有する場合に十分な熱変形性が得られることを見出した。 Sufficient mechanical strength can not be obtained in the case of containing the above polymer, sufficient heat deformation resistance when it contains an average molecular weight 40000 or less of the polymer was found to be obtained. すなわち、顔料濃度を十分な遮光性が得られる程度とした場合、突起部20が平均分子量15000〜40000のポリマーを含有すれば、機械的強度及び熱変形性の双方の要求を容易に満足させることが可能となる。 That is, when the degree of the pigment concentration sufficient light-shielding property obtained, if containing polymer of the protrusions 20 is the average molecular weight 15,000 to 40,000, possible to easily satisfy both the requirements of mechanical strength and thermal deformation resistance it is possible.

【0039】本実施形態において、突起部20に含まれる全ての種類のポリマーは15000〜40000の平均分子量を有することが好ましい。 In the present embodiment, all kinds of polymers contained in the protruding portion 20 preferably has an average molecular weight of from 15,000 to 40,000. この場合、上述した効果が顕著となる。 In this case, the above-mentioned effects become remarkable.

【0040】本実施形態において、突起部20は、例えば、顔料と平均分子量が15000〜40000のポリマーを含む感光性樹脂とを含有するレジスト材料を用いて形成することができる。 [0040] In this embodiment, the protrusion 20 may be, for example, pigments with an average molecular weight can be formed by using a resist material containing a photosensitive resin containing a polymer of 15,000 to 40,000. 一般に、感光性樹脂の平均分子量は硬化することにより増加するが、劇的に増加することはない。 Generally, the average molecular weight of the photosensitive resin is increased by curing, it does not increase dramatically. したがって、このようなレジスト材料を用いることにより、平均分子量が概ね15000〜400 Therefore, by using such a resist material, the average molecular weight of approximately 15,000 to 400
00のポリマーを含有する突起部20を形成することができる。 00 of the polymer can form a protrusion 20 which contains.

【0041】本実施形態において、レジスト材料に用いられる顔料は、突起部20に遮光性を付与し且つ突起部20を絶縁性に維持するものであれば特に制限はなく、 [0041] In this embodiment, the pigment used in the resist material is not particularly limited as long as the protrusion 20 in the light-shielding property was imparted and the protrusion 20 intended to keep the insulation,
通常は着色顔料、特には黒色顔料やR,G,Yの顔料の混合物のように単独で或いは混合されて黒色を呈する顔料が用いられる。 Usually colored pigments, especially black pigments and R, G, pigment exhibiting alone or mixed with black as the pigment mixture of Y is used. また、本実施形態において、感光性樹脂は、上述したポリマーに加えて、一般にレジスト材料に用いられる感光性樹脂に含まれる様々な化合物を含有することができる。 Further, in the present embodiment, photosensitive resin, in addition to the above-described polymer can contain various compounds contained in the photosensitive resin which is generally used in the resist material.

【0042】次に、第4の実施形態に係るLCD1の突起部20について説明する。 Next, a description will be given protrusion 20 of LCD1 according to the fourth embodiment. 第4の実施形態に係るLC LC according to the fourth embodiment
D1において、遮光性の突起部20は、20質量%〜3 In D1, light-shielding protrusions 20, 20 wt% to 3
5質量%の顔料とポリマーとを含有している。 5 is mass% and the pigment and polymer. また、第4の実施形態に係るLCD1においては、周縁遮光層2 In the LCD1 according to the fourth embodiment, the peripheral light shielding layer 2
2も20質量%〜35質量%の顔料とポリマーとを含有している。 2 also contains a 20 wt% to 35 wt% of pigment and polymer.

【0043】突起部20及び周縁遮光層22は、ともに遮光性を有し、組成もほぼ同様である。 The projections 20 and the peripheral light shielding layer 22, both have a light shielding property, it is substantially same composition. したがって、突起部20及び周縁遮光層22を同時に形成することにより、製造プロセスを簡略化し、製造コストを低減させることができる。 Therefore, by forming the projections 20 and the peripheral light shielding layer 22 at the same time, simplifying the manufacturing process, it is possible to reduce the manufacturing cost. しかしながら、この場合、突起部20の機械的強度及び熱変形性に関する要求だけでなく、周縁遮光層22についての要求も同時に満足させなければならない。 However, in this case, not only the demands on the mechanical strength and thermal deformation of the protrusion 20 must satisfy at the same time demand for the peripheral light shielding layer 22. すなわち、周縁遮光層22には、突起部20の高さと同程度に薄くても十分な遮光性を有することが求められる。 That is, the peripheral light shielding layer 22 is required to have a height and a thin but sufficient light-shielding property to the same extent of the protrusion 20.

【0044】これに対し、本実施形態においては、突起部20及び周縁遮光層22の双方が20質量%〜35質量%の濃度で顔料を含有する。 [0044] In contrast, in the present embodiment, both the protrusion 20 and the peripheral light shielding layer 22 containing a pigment at a concentration of 20 wt% to 35 wt%. 顔料の濃度が20質量% The concentration of pigment is 20 wt%
以上であれば、周縁遮光層22の厚さが突起部20の高さと同程度であっても十分な遮光性を得ることができ、 If above, it is the thickness of the peripheral light shielding layer 22 even if the height about the same projections 20 obtain sufficient light-shielding property,
しかも、突起部20の機械的強度に関する要求も満足させることができる。 Moreover, it is possible to also required to satisfy about the mechanical strength of the protrusion 20. また、顔料の濃度が35質量%以上であれば、十分な熱変形性を実現することができる。 Further, if the concentration of the pigment is more than 35 wt%, it is possible to achieve sufficient heat distortion resistance. すなわち、突起部20と周縁遮光層22とを、顔料及び感光性樹脂を含有する同一のレジスト材料を用いて同時に形成することが可能となる。 That is, the protruding portion 20 and the peripheral light shielding layer 22, can be formed simultaneously by using the same resist material containing a pigment and a photosensitive resin.

【0045】本実施形態において、レジスト材料に用いられる顔料は、突起部20及び周縁遮光層22に遮光性を付与し且つそれらを絶縁性に維持するものであれば特に制限はなく、通常は着色顔料、特には黒色顔料やR, In the present embodiment, the pigment used in the resist material is not particularly limited as long as they and imparting a light-shielding property to the protrusion 20 and the peripheral light shielding layer 22 intended to keep the insulation, usually colored pigments, especially black pigments and R,
G,Yの顔料の混合物のように単独で或いは混合されて黒色を呈する顔料が用いられる。 G, pigments exhibiting alone or mixed with black as the pigment mixture of Y is used. また、本実施形態において、感光性樹脂としては、例えば、レジスト材料に一般に含有される感光性樹脂を用いることができる。 Further, in the present embodiment, as the photosensitive resin, for example, it can be used generally in the photosensitive resin to be contained in the resist material.

【0046】上述した第4の実施形態のように、第1〜 [0046] As in the fourth embodiment described above, the first to
第3の実施形態に係るLCD1においても突起部20及び周縁遮光層22を同時に形成することが好ましい。 It is preferable to also form the projections 20 and the peripheral light shielding layer 22 simultaneously in LCD1 according to the third embodiment. この場合、製造プロセスを簡略化し、製造コストを低減させることができる。 In this case, to simplify the manufacturing process, it is possible to reduce the manufacturing cost.

【0047】以上説明した第1〜第4の実施形態において、突起部20は、通常、柱状或いはバンプ状に形成されるが、基板2,3間に液晶材料を注入可能であれば壁状に形成されてもよい。 [0047] In the first to fourth embodiments described above, the protrusion 20 is usually formed in a columnar or bumpy, the liquid crystal material is injected if the wall-like between the substrates 2 and 3 it may be formed. また、突起部20は、画素電極19に対応する画素領域に形成するよりは、非画素領域に形成することがより好ましい。 Further, the protrusion 20 than is formed in a pixel region corresponding to the pixel electrode 19, it is more preferable to form the non-pixel region. この場合、より高い開口率を実現することができる。 In this case, it is possible to realize a high aperture ratio. さらに、上述した第1〜 Further, the first through the above-mentioned
第4の実施形態においては、突起部20をアクティブマトリクス基板2に形成したが、突起部20は対向基板3 In the fourth embodiment has formed the projections 20 on the active matrix substrate 2, the protrusion 20 facing the substrate 3
に形成してもよく、アクティブマトリクス基板2及び対向基板3の双方に形成してもよい。 May be formed on it may be formed on both the active matrix substrate 2 and the counter substrate 3. また、第1〜第4の実施形態では、ネガ型のレジスト材料を用いて突起部2 Further, in the first to fourth embodiments, projections 2 by using a negative resist material
0を形成したが、ポジ型のレジスト材料を用いることもできる。 0 were formed, but it is also possible to use a positive type resist material.

【0048】また、第1〜第4の実施形態においては、 [0048] Further, in the first to fourth embodiments,
LCD1をTN型としたが、STN型、GH型、ECB While the LCD1 was a TN type, STN type, GH type, ECB
型、及び強誘電性液晶を用いるタイプのように他の表示モードを採用することもできる。 Type and strength it is possible to employ other display modes like type using a dielectric crystal. さらに、LCD1は、 In addition, the LCD1,
透過型に限られるものではなく、反射型であってもよい。 Is not limited to the transmission type may be a reflection type.

【0049】また、第1〜第4の実施形態においては、 [0049] Further, in the first to fourth embodiments,
アクティブマトリクス駆動方式を採用したが、単純マトリクス駆動方式を採用してもよい。 Although employing an active matrix driving method, it may be employed a simple matrix drive method. すなわち、画素電極19、共通電極32、走査線12、信号線13、及びT That is, the pixel electrode 19, common electrode 32, the scanning lines 12, signal lines 13, and T
FT14等を形成する代わりに、基板2,3のそれぞれの対向面に、これら基板間で互いに直交するように複数の帯状電極層を形成してもよい。 Or the like instead of forming the FT14, the respective opposing surfaces of the substrates 2 may be formed a plurality of strip-like electrode layers so as to be perpendicular to each other between these substrates.

【0050】さらに、第1〜第4の実施形態においては、カラーフィルタ層18をアクティブマトリクス基板2に設けたが、対向基板3に設けてもよい。 [0050] Further, in the first to fourth embodiments, is provided with the color filter layer 18 on the active matrix substrate 2 may be provided on the counter substrate 3. また、第1 In addition, the first
〜第4の実施形態に係るLCD1はカラーフィルタ層1 LCD1 color filter layer 1 according to to fourth embodiments
8を有するフルカラータイプであるが、LCD1がモノクロタイプである場合は、カラーフィルタ層18は必ずしも設ける必要はない。 Is a full-color type having 8 but if LCD1 is a monochrome type, the color filter layer 18 is not necessarily provided.

【0051】 [0051]

【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。 EXAMPLES Hereinafter, Examples of the present invention will be described.

【0052】(実施例1)図1に示すLCD1を以下に示す方法により作製した。 [0052] (Example 1) LCD 1 shown in FIG. 1 was produced by the following method. まず、厚さ0.7mmのコーニング社製#1737ガラス基板11の一方の主面上への成膜とパターニングとを繰り返すことにより、走査線12、信号線13、及びチャネルがアモルファスシリコンからなるTFT14等を形成した。 First, by repeating the deposition and patterning of the thickness 0.7mm of Corning # on one main surface of the 1737 glass substrate 11, scanning lines 12, signal lines 13, and the channel is made of amorphous silicon TFT14 It was formed and the like.

【0053】次に、ガラス基板11のTFT14等を形成した面にパッシベーション膜17を形成した後、このパッシベーション膜17上に、赤の顔料を分散させた富士ハントテクノロジー社製の紫外線硬化型アクリル樹脂レジストをスピナーを用いて塗布し、このレジスト膜を、フォトマスクを用いることにより赤の画素に対応してパターン露光した。 Next, after forming the passivation film 17 on the surface forming the TFT14 like of the glass substrate 11, on the passivation film 17 was dispersed red pigment Fuji Hunt Technologies, Inc. ultraviolet curable acrylic resin a resist is applied using a spinner, this resist film was pattern exposure corresponding to the red pixels by using the photomask. なお、この露光には、波長365 It should be noted that, in this exposure, wavelength 365
nmの光を用い、露光量は100mJ/cm 2とした。 using nm light, the exposure amount was 100 mJ / cm 2.
その後、露光後のレジスト膜を、TMAH水溶液で50 Thereafter, the resist film after exposure, 50 TMAH aqueous solution
秒間現像することにより、赤(R)の色領域を形成した。 By developing seconds to form a color region of red (R).

【0054】同様の方法により、パッシベーション膜1 [0054] By the same method, the passivation film 1
7上に緑(G)の色領域及び青(B)の色領域を形成し、これらを230℃で1時間焼成することにより、 The color area of ​​the green color (G) regions, and blue (B) is formed on the 7, by baking 1 hour them at 230 ° C.,
R,B,Gの色領域を有する膜厚3.0μmのカラーフィルタ層18を形成した。 R, B, to form a film thickness 3.0μm of the color filter layer 18 having a color region of the G. このとき、カラーフィルタ層18等にはスルーホール23も形成した。 In this case, the color filter layer 18 and the like through hole 23 is also formed.

【0055】次に、カラーフィルタ層18上に、スパッタリング法によりITO膜を形成し、このITO膜をパターニングすることにより画素電極19を形成した。 Next, on the color filter layer 18, an ITO film was formed by a sputtering method to form a pixel electrode 19 by patterning the ITO film. なお、画素電極19とTFT14とはスルーホール23を介して電気的に接続されている。 Incidentally, it is electrically connected via the through hole 23 and the pixel electrode 19 TFT 14.

【0056】次に、基板11の画素電極19を形成した面に、着色顔料と感光性樹脂とを含有するレジスト材料をスピナーを用いて6.0μmの厚さに塗布した。 Next, the surface forming the pixel electrode 19 of the substrate 11 was coated to a thickness of 6.0μm resist material containing a coloring pigment and a photosensitive resin using a spinner. このレジスト材料としては、R,G,Yの顔料の混合物とガラス転移点が90℃のアクリルエポキシポリマーとガラス転移点が130℃の親水性アクリルエポキシポリマーとを含有する富士ハントテクノロジー社製の感光性のカーボンレス黒色樹脂を用いた。 As the resist material, R, G, mixtures of pigments of Y and the glass transition point made by Fuji Hunt Technologies, Inc., acrylic epoxy polymer and glass transition point of 90 ° C. contains a 130 ° C. hydrophilic acrylic epoxy polymer photosensitive with sexual carbonless black resin. このようにして形成したレジスト膜を90℃で10分間乾燥させた後、所定のパターンの開口部が形成されたフォトマスクを用いてパターン露光した。 After such a resist film formed by drying 10 minutes at 90 ° C., and pattern exposure using a photomask in which an opening portion of a predetermined pattern is formed. なお、この露光には、波長365nmの光を用い、露光量は500mJ/cm 2とした。 Note that this exposure, using a wavelength of 365nm light, an exposure amount was 500 mJ / cm 2. その後、露光後のレジスト膜を、pH11.5のアルカリ水溶液を用いて現像し、さらに200℃で60分間焼成することにより、厚さ5.0μmの柱状スペーサ20及び周縁遮光層22を形成した。 Thereafter, the resist film after exposure is developed using an alkaline aqueous solution of pH 11.5, by firing for 60 minutes at further 200 ° C., to form the columnar spacers 20 and the peripheral light shielding layer 22 having a thickness of 5.0 .mu.m. このようにして形成した柱状スペーサ20を調べたところ、柱状スペーサ20は順テーパ状の断面形状を有していた。 Examination of the columnar spacers 20 formed in this manner, the columnar spacers 20 had a forward tapered shape in cross section.

【0057】その後、基板11の柱状スペーサ20を形成した面に、日本合成ゴム社製のAL−1051を塗布して厚さ500オングストロームの薄膜を形成し、この薄膜にラビング処理を施すことにより配向膜21を形成した。 [0057] Then, the surface forming the columnar spacers 20 of the substrate 11, to form a thin film of Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. AL-1051 was applied to a thickness of 500 angstroms, oriented by applying a rubbing treatment to the thin film to form a film 21. なお、このラビング処理の際に、柱状スペーサ2 At the time of this rubbing, the columnar spacers 2
0が破壊されることはなかった。 0 was not to be destroyed. 以上のようにして、アクティブマトリクス基板2を得た。 As described above, to obtain an active matrix substrate 2.

【0058】次に、一方の主面にITOからなる共通電極32を有する厚さ0.7mmのコーニング社製#17 Next, Corning thickness 0.7mm having a common electrode 32 made of ITO on one major surface # 17
37ガラス基板31を準備し、上述した配向膜21と同様の方法により、このガラス基板31の共通電極32が形成された面に配向膜33を形成した。 37 A glass substrate 31 in the same manner as the alignment film 21 described above, to form an alignment film 33 on the surface of the common electrode 32 is formed in the glass substrate 31. 以上のようにして対向基板3を得た。 To obtain a counter substrate 3 as described above.

【0059】その後、対向基板3の配向膜33を形成した面の周縁部(注入口に相当する部分を除く)に接着剤35を印刷し、その周辺に設けた電極転移電極(図示せず)上に銀ペーストを配置した。 [0059] Then, the peripheral portion of the surface to form an orientation film 33 of the counter substrate 3 (except a portion corresponding to the inlet) of the adhesive 35 is printed (not shown) electrode transfer electrode provided on the periphery thereof It was placed a silver paste on top. 次に、配向膜21と配向膜33とが対向するように、及び配向膜21,33のラビング方向が直交するようにアクティブマトリクス基板2と対向基板3とを重ね合せ、さらに加熱して接着剤35を硬化させることにより、それらを貼り合せてなる液晶セルを形成した。 Then, as the alignment film 21 and the alignment film 33 is opposed, and the active matrix substrate 2 and the opposing substrate 3 as the rubbing direction of the alignment film 21, 33 are orthogonal overlay, and further heating the adhesive by curing the 35, to form a liquid crystal cell formed by laminating them.

【0060】次に、この液晶セルに通常の方法により液晶材料を注入し、注入口を紫外線硬化樹脂で封止した。 Next, a liquid crystal material is injected in a conventional manner in the liquid crystal cell, the injection port was sealed with an ultraviolet curable resin.
以上のようにして、図1に示すLCD1を作製した。 As described above, it was prepared LCD1 shown in FIG.

【0061】上述した方法により作製したLCD1の表示性能について調べたところ、配向不良に基づく画質の低下は確認されず、極めて高い表示性能を実現することができた。 [0061] was examined for the display performance of LCD1 prepared by the method described above, deterioration of image quality on the basis of the alignment defect is not confirmed, it was possible to realize a very high display performance. また、柱状スペーサ20及び周縁遮光層22 Also, the columnar spacers 20 and the peripheral light shielding layer 22
は十分な遮光性を有していることが確認された。 It was confirmed that has a sufficient light-shielding property.

【0062】さらに、上述した方法で図1に示すLCD [0062] Moreover, LCD shown in FIG. 1 in the manner described above
1の製造を繰り返し行った。 It was repeated one of the production. その結果、極めて高い歩留まりを実現することができた。 As a result, it was possible to realize a very high yield.

【0063】(実施例2)図2は、本発明の実施例2に係るLCD1を概略的に示す断面図である。 [0063] (Embodiment 2) Figure 2, the LCD1 according to Example 2 of the present invention is a cross-sectional view schematically showing. なお、図2 It should be noted that FIG. 2
に示すLCD1は、図1に示すLCD1とは、カラーフィルタ層18が対向基板3に設けられ、アクティブマトリクス基板2に周縁遮光層22が設けられていない点でのみ異なっている。 LCD1 shown, the A LCD1 shown in FIG. 1, the color filter layer 18 is provided on the counter substrate 3, and only different in that no active matrix substrate 2 in the peripheral light shielding layer 22 is provided. したがって、同様の構成部材には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。 Therefore, the same the same reference numerals are assigned to the constituent members, and redundant description will be omitted.

【0064】図2に示すLCD1を、以下に示す方法により作製した。 [0064] The LCD1 shown in FIG. 2, was produced by the following method. まず、厚さ0.7mmのコーニング社製#1737ガラス基板11の一方の主面上への成膜とパターニングとを繰り返すことにより、走査線12、信号線13、及びチャネルがアモルファスシリコンからなるTFT14等を形成した。 First, by repeating the deposition and patterning of the thickness 0.7mm of Corning # on one main surface of the 1737 glass substrate 11, scanning lines 12, signal lines 13, and the channel is made of amorphous silicon TFT14 It was formed and the like.

【0065】次に、ガラス基板11のTFT14等を形成した面にパッシベーション膜17を形成した。 Next, to form a passivation film 17 on the surface forming the TFT14 like of the glass substrate 11. このとき、パッシベーション膜17にはスルーホール23も形成した。 At this time, it was also formed through-hole 23 in the passivation film 17. その後、パッシベーション膜17上に、スパッタリング法によりITO膜を形成し、このITO膜をパターニングすることにより画素電極19を形成した。 Then, on the passivation film 17, an ITO film was formed by a sputtering method to form a pixel electrode 19 by patterning the ITO film. なお、画素電極19とTFT14とはスルーホール23を介して電気的に接続されている。 Incidentally, it is electrically connected via the through hole 23 and the pixel electrode 19 TFT 14.

【0066】次に、基板11の画素電極19を形成した面に、着色顔料と感光性樹脂とを含有するレジスト材料をスピナーを用いて6.0μmの厚さに塗布した。 Next, the surface forming the pixel electrode 19 of the substrate 11 was coated to a thickness of 6.0μm resist material containing a coloring pigment and a photosensitive resin using a spinner. このレジスト材料としては、黒色顔料とガラス転移点が80 As the resist material, a black pigment and a glass transition point of 80
℃のポリマーとガラス転移点が110℃のポリマーとを含有する紫外線硬化型のアクリル樹脂レジストを用いた。 ° C. of the polymer and the glass transition point is used an ultraviolet curable acrylic resin resist containing a 110 ° C. of the polymer. このようにして形成したレジスト膜を90℃で10 Thus the resist film formed at 90 ° C. 10
分間乾燥させた後、12μmφの開口部が形成されたフォトマスクを用いてパターン露光した。 After drying minutes to pattern exposure using a photomask in which an opening portion of 12μmφ is formed. なお、この露光には、波長365nmの光を用い、露光量は200mJ Note that this exposure, using a wavelength of 365nm light, an exposure amount is 200mJ
/cm 2とした。 / Was cm 2. その後、露光後のレジスト膜をpH1 Thereafter, the resist film after exposure to pH1
1.5のアルカリ水溶液を用いて現像した。 And it developed using a 1.5 aqueous alkaline solution. 以上のようにして形成した柱状体は、中央が括れた柱形状を有していた。 Above manner columnar body formed by had a columnar shape with central constricted.

【0067】この柱状体を220℃に加熱してバンプ状の形状へと変形させ、この温度を60分間ホールドすることにより、バンプ上の柱状体を完全に硬化させた。 [0067] was the columnar body was heated to 220 ° C. is transformed into a bump-like shape, by the temperature hold 60 minutes to completely cure the columnar body on the bumps. 以上のようにして、順テーパ状の断面形状を有する柱状スペーサ20を形成した。 As described above, to form the columnar spacers 20 having a forward tapered cross-sectional shape.

【0068】その後、基板11の柱状スペーサ20を形成した面に、日本合成ゴム社製のAL−1051を塗布して厚さ500オングストロームの薄膜を形成し、この薄膜にラビング処理を施すことにより配向膜21を形成した。 [0068] Then, the surface forming the columnar spacers 20 of the substrate 11, to form a thin film of Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. AL-1051 was applied to a thickness of 500 angstroms, oriented by applying a rubbing treatment to the thin film to form a film 21. なお、このラビング処理の際に、柱状スペーサ2 At the time of this rubbing, the columnar spacers 2
0が破壊されることはなかった。 0 was not to be destroyed. 以上のようにして、アクティブマトリクス基板2を得た。 As described above, to obtain an active matrix substrate 2.

【0069】次に、一方の主面にカラーフィルタ層18 Next, the color filter layer 18 on one major surface
及びITOからなる共通電極32が順次形成された厚さ0.7mmのコーニング社製#1737ガラス基板31 And Corning # 1737 glass substrate 31 having a thickness of 0.7mm to the common electrode 32 are sequentially formed of ITO
を準備し、上述した配向膜21と同様の方法により、このガラス基板31の共通電極32が形成された面に配向膜33を形成した。 Prepare by the same method as the alignment layer 21 described above, to form an alignment film 33 on the surface of the common electrode 32 is formed in the glass substrate 31. 以上のようにして対向基板3を得た。 To obtain a counter substrate 3 as described above.

【0070】その後、実施例1で説明したのと同様の方法により、液晶セルを形成し、この液晶セルに通常の方法により液晶材料を注入し、注入口を紫外線硬化樹脂で封止した。 [0070] Thereafter, by the same method as described in Example 1, a liquid crystal cell formed by injecting a liquid crystal material by conventional methods to the liquid crystal cell, the injection port was sealed with an ultraviolet curable resin. 以上のようにして、図2に示すLCD1を作製した。 As described above, it was prepared LCD1 shown in FIG.

【0071】上述した方法により作製したLCD1の表示性能について調べたところ、配向不良に基づく画質の低下は確認されず、極めて高い表示性能を実現することができた。 [0071] was examined for the display performance of LCD1 prepared by the method described above, deterioration of image quality on the basis of the alignment defect is not confirmed, it was possible to realize a very high display performance. また、柱状スペーサ20は十分な遮光性を有していることが確認された。 Also, the columnar spacers 20 was confirmed to have a sufficient light-shielding property.

【0072】さらに、上述した方法で図2に示すLCD [0072] Moreover, LCD shown in FIG. 2 in the manner described above
1の製造を繰り返し行った。 It was repeated one of the production. その結果、極めて高い歩留まりを実現することができた。 As a result, it was possible to realize a very high yield.

【0073】(実施例3)柱状スペーサ20及び周縁遮光層22を以下に示す方法により形成したこと以外は実施例1に示したのと同様の方法により図1に示すLCD [0073] (Example 3) LCD that except that the columnar spacers 20 and the peripheral light shielding layer 22 was formed by the following methods shown in FIG. 1 by the same method as shown in Example 1
1を作製した。 1 was produced. すなわち、実施例1に示したのと同様の方法により基板11の一方の主面上に画素電極19等を形成した後、基板11の画素電極19を形成した面に、 That is, after forming the pixel electrode 19 or the like onto one main surface of the substrate 11 by the same method as shown in Example 1, the surface forming the pixel electrode 19 of the substrate 11,
着色顔料と体質顔料と感光性樹脂とを含有するレジスト材料をスピナーを用いて6.0μmの厚さに塗布した。 The resist material containing a coloring pigment and extender pigment and a photosensitive resin was coated in a thickness of 6.0μm by using a spinner.
このレジスト材料としては、R,G,Yの顔料の混合物22質量%と体質顔料である酸化チタン5質量%とを含有する富士ハントテクノロジー社製の感光性のカーボンレス黒色樹脂を用いた。 As the resist material, using R, G, the mixture 22% by weight and a body pigment titanium oxide 5 wt% and containing Fuji Hunt Technologies, Inc. photosensitive carbonless black resin of a pigment of Y.

【0074】このようにして形成したレジスト膜に、実施例1に示したのと同様の処理を施すことにより、厚さ5.0μmの柱状スペーサ20及び周縁遮光層22を形成した。 [0074] The resist film formed in this manner, by performing the same processing as that shown in Example 1 to form a columnar spacer 20 and the peripheral light shielding layer 22 having a thickness of 5.0 .mu.m. このようにして形成した柱状スペーサ20を調べたところ、柱状スペーサ20は順テーパ状の断面形状を有していた。 Examination of the columnar spacers 20 formed in this manner, the columnar spacers 20 had a forward tapered shape in cross section.

【0075】その後、実施例1で説明したのと同様の方法により、液晶セルを形成し、この液晶セルに通常の方法により液晶材料を注入し、注入口を紫外線硬化樹脂で封止した。 [0075] Thereafter, by the same method as described in Example 1, a liquid crystal cell formed by injecting a liquid crystal material by conventional methods to the liquid crystal cell, the injection port was sealed with an ultraviolet curable resin. 以上のようにして、図1に示すLCD1を作製した。 As described above, it was prepared LCD1 shown in FIG.

【0076】上述した方法により作製したLCD1の表示性能について調べたところ、配向不良に基づく画質の低下は確認されず、極めて高い表示性能を実現することができた。 [0076] was examined for the display performance of LCD1 prepared by the method described above, deterioration of image quality on the basis of the alignment defect is not confirmed, it was possible to realize a very high display performance. また、柱状スペーサ20及び周縁遮光層22 Also, the columnar spacers 20 and the peripheral light shielding layer 22
は十分な遮光性を有していることが確認された。 It was confirmed that has a sufficient light-shielding property.

【0077】さらに、上述した方法で図1に示すLCD [0077] Moreover, LCD shown in FIG. 1 in the manner described above
1の製造を繰り返し行った。 It was repeated one of the production. その結果、極めて高い歩留まりを実現することができた。 As a result, it was possible to realize a very high yield.

【0078】(実施例4)柱状スペーサ20を以下に示す方法により形成したこと以外は実施例2に示したのと同様の方法により図2に示すLCD1を作製した。 [0078] was prepared (Example 4) LCD 1 shown in FIG. 2 by the same method as shown in Example 2 except that the columnar spacers 20 were formed by the following methods. すなわち、実施例2に示したのと同様の方法により基板11 That is, the substrate 11 by the same method as shown in Example 2
の一方の主面上に画素電極19等を形成した後、基板1 One after forming the pixel electrode 19 or the like on the main surface of the substrate 1
1の画素電極19を形成した面に、着色顔料と体質顔料と感光性樹脂とを含有するレジスト材料をスピナーを用いて6.0μmの厚さに塗布した。 The surface forming a first pixel electrode 19 was coated to a thickness of 6.0μm resist material containing a coloring pigment and extender pigment and a photosensitive resin using a spinner. このレジスト材料としては、黒色顔料25質量%と体質顔料である硫酸バリウム10質量%とを含有する紫外線硬化型のアクリル樹脂レジストを用いた。 As the resist material, using an ultraviolet curable acrylic resin resist containing a 10 wt% barium sulphate is a black pigment 25% by weight and an extender pigment.

【0079】このようにして形成したレジスト膜に、実施例2に示したのと同様の処理を施すことにより、バンプ状の形状を有する柱状スペーサ20を形成した。 [0079] The resist film formed in this manner, by performing the same processing as that shown in Example 2 to form a columnar spacer 20 having a bump shape.

【0080】その後、実施例2で説明したのと同様の方法により、液晶セルを形成し、この液晶セルに通常の方法により液晶材料を注入し、注入口を紫外線硬化樹脂で封止した。 [0080] Thereafter, by the same method as described in Example 2, a liquid crystal cell formed by injecting a liquid crystal material by conventional methods to the liquid crystal cell, the injection port was sealed with an ultraviolet curable resin. 以上のようにして、図2に示すLCD1を作製した。 As described above, it was prepared LCD1 shown in FIG.

【0081】上述した方法により作製したLCD1の表示性能について調べたところ、配向不良に基づく画質の低下は確認されず、極めて高い表示性能を実現することができた。 [0081] was examined for the display performance of LCD1 prepared by the method described above, deterioration of image quality on the basis of the alignment defect is not confirmed, it was possible to realize a very high display performance. また、柱状スペーサ20は十分な遮光性を有していることが確認された。 Also, the columnar spacers 20 was confirmed to have a sufficient light-shielding property.

【0082】さらに、上述した方法で図2に示すLCD [0082] Moreover, LCD shown in FIG. 2 in the manner described above
1の製造を繰り返し行った。 It was repeated one of the production. その結果、極めて高い歩留まりを実現することができた。 As a result, it was possible to realize a very high yield.

【0083】(実施例5)柱状スペーサ20及び周縁遮光層22を以下に示す方法により形成したこと以外は実施例1に示したのと同様の方法により図1に示すLCD [0083] (Example 5) LCD shown in FIG. 1 by the same method as in Example 1 except that the columnar spacers 20 and the peripheral light shielding layer 22 was formed by the following methods
1を作製した。 1 was produced. すなわち、実施例1に示したのと同様の方法により基板11の一方の主面上に画素電極19等を形成した後、基板11の画素電極19を形成した面に、 That is, after forming the pixel electrode 19 or the like onto one main surface of the substrate 11 by the same method as shown in Example 1, the surface forming the pixel electrode 19 of the substrate 11,
着色顔料と感光性樹脂とを含有するレジスト材料をスピナーを用いて6.0μmの厚さに塗布した。 The resist material containing a coloring pigment and a photosensitive resin was coated in a thickness of 6.0μm by using a spinner. このレジスト材料としては、R,G,Yの着色顔料の混合物と平均分子量が35000のアクリルエポキシポリマーと平均分子量が25000の親水性アクリルポリマーとを含有する富士ハントテクノロジー社製の感光性のカーボンレス黒色樹脂を用いた。 As the resist material, R, G, Y mixture with an average molecular weight of 35000 acrylic epoxy polymer and the average molecular weight of 25000 hydrophilic acrylic polymer and the Fuji Hunt Technologies, Inc. of sensitive carbonless containing coloring pigments the black resin was used.

【0084】このようにして形成したレジスト膜に、実施例1に示したのと同様の処理を施すことにより、厚さ5.0μmの柱状スペーサ20及び周縁遮光層22を形成した。 [0084] The resist film formed in this manner, by performing the same processing as that shown in Example 1 to form a columnar spacer 20 and the peripheral light shielding layer 22 having a thickness of 5.0 .mu.m. このようにして形成した柱状スペーサ20を調べたところ、柱状スペーサ20は順テーパ状の断面形状を有していた。 Examination of the columnar spacers 20 formed in this manner, the columnar spacers 20 had a forward tapered shape in cross section. また、これら柱状スペーサ20及び周縁遮光層22に含まれるポリマー種の平均分子量は、いずれも15000〜40000の範囲内にあった。 The average molecular weight of polymer species contained in these columnar spacers 20 and the peripheral light shielding layer 22 are all was in the range of 15,000 to 40,000.

【0085】その後、実施例1で説明したのと同様の方法により、液晶セルを形成し、この液晶セルに通常の方法により液晶材料を注入し、注入口を紫外線硬化樹脂で封止した。 [0085] Thereafter, by the same method as described in Example 1, a liquid crystal cell formed by injecting a liquid crystal material by conventional methods to the liquid crystal cell, the injection port was sealed with an ultraviolet curable resin. 以上のようにして、図1に示すLCD1を作製した。 As described above, it was prepared LCD1 shown in FIG.

【0086】上述した方法により作製したLCD1の表示性能について調べたところ、配向不良に基づく画質の低下は確認されず、極めて高い表示性能を実現することができた。 [0086] was examined for the display performance of LCD1 prepared by the method described above, deterioration of image quality on the basis of the alignment defect is not confirmed, it was possible to realize a very high display performance. また、柱状スペーサ20及び周縁遮光層22 Also, the columnar spacers 20 and the peripheral light shielding layer 22
は十分な遮光性を有していることが確認された。 It was confirmed that has a sufficient light-shielding property.

【0087】さらに、上述した方法で図1に示すLCD [0087] Moreover, LCD shown in FIG. 1 in the manner described above
1の製造を繰り返し行った。 It was repeated one of the production. その結果、極めて高い歩留まりを実現することができた。 As a result, it was possible to realize a very high yield.

【0088】(実施例6)柱状スペーサ20を以下に示す方法により形成したこと以外は実施例2に示したのと同様の方法により図2に示すLCD1を作製した。 [0088] was prepared (Example 6) LCD 1 shown in FIG. 2 by the same method as shown in Example 2 except that the columnar spacers 20 were formed by the following methods. すなわち、実施例2に示したのと同様の方法により基板11 That is, the substrate 11 by the same method as shown in Example 2
の一方の主面上に画素電極19等を形成した後、基板1 One after forming the pixel electrode 19 or the like on the main surface of the substrate 1
1の画素電極19を形成した面に、着色顔料と感光性樹脂とを含有するレジスト材料をスピナーを用いて6.0 The formed surface with the first pixel electrode 19, a resist material containing a coloring pigment and a photosensitive resin using a spinner 6.0
μmの厚さに塗布した。 It was coated in a thickness of μm. このレジスト材料としては、黒色顔料と平均分子量が25000のポリマーとを含有する紫外線硬化型のアクリル樹脂レジストを用いた。 As the resist material was an acrylic resin resist ultraviolet-curable average molecular weight and black pigment containing a polymer 25,000.

【0089】このようにして形成したレジスト膜に、実施例2に示したのと同様の処理を施すことにより、バンプ状の形状を有する柱状スペーサ20を形成した。 [0089] The resist film formed in this manner, by performing the same processing as that shown in Example 2 to form a columnar spacer 20 having a bump shape. なお、この柱状スペーサ20に含まれるポリマー種の平均分子量は、いずれも15000〜40000の範囲内にあった。 The average molecular weight of the polymer species contained in the columnar spacers 20 are all was in the range of 15,000 to 40,000.

【0090】その後、実施例2で説明したのと同様の方法により、液晶セルを形成し、この液晶セルに通常の方法により液晶材料を注入し、注入口を紫外線硬化樹脂で封止した。 [0090] Thereafter, by the same method as described in Example 2, a liquid crystal cell formed by injecting a liquid crystal material by conventional methods to the liquid crystal cell, the injection port was sealed with an ultraviolet curable resin. 以上のようにして、図2に示すLCD1を作製した。 As described above, it was prepared LCD1 shown in FIG.

【0091】上述した方法により作製したLCD1の表示性能について調べたところ、配向不良に基づく画質の低下は確認されず、極めて高い表示性能を実現することができた。 [0091] was examined for the display performance of LCD1 prepared by the method described above, deterioration of image quality on the basis of the alignment defect is not confirmed, it was possible to realize a very high display performance. また、柱状スペーサ20は十分な遮光性を有していることが確認された。 Also, the columnar spacers 20 was confirmed to have a sufficient light-shielding property.

【0092】さらに、上述した方法で図2に示すLCD [0092] Moreover, LCD shown in FIG. 2 in the manner described above
1の製造を繰り返し行った。 It was repeated one of the production. その結果、極めて高い歩留まりを実現することができた。 As a result, it was possible to realize a very high yield.

【0093】(実施例7)柱状スペーサ20及び周縁遮光層22を以下に示す方法により形成したこと以外は実施例1に示したのと同様の方法により図1に示すLCD [0093] (Example 7) LCD that except that the columnar spacers 20 and the peripheral light shielding layer 22 was formed by the following methods shown in FIG. 1 by the same method as shown in Example 1
1を作製した。 1 was produced. すなわち、実施例1に示したのと同様の方法により基板11の一方の主面上に画素電極19等を形成した後、基板11の画素電極19を形成した面に、 That is, after forming the pixel electrode 19 or the like onto one main surface of the substrate 11 by the same method as shown in Example 1, the surface forming the pixel electrode 19 of the substrate 11,
着色顔料と感光性樹脂とを含有するレジスト材料をスピナーを用いて6.0μmの厚さに塗布した。 The resist material containing a coloring pigment and a photosensitive resin was coated in a thickness of 6.0μm by using a spinner. このレジスト材料としては、R,G,Yの着色顔料の混合物を28 As the resist material, R, G, a mixture of color pigments Y 28
質量%の濃度で含有する富士ハントテクノロジー社製の感光性のカーボンレス黒色樹脂を用いた。 By using Fuji Hunt Technologies, Inc. photosensitive carbonless black resin containing a concentration of mass%.

【0094】このようにして形成したレジスト膜に、実施例1に示したのと同様の処理を施すことにより、厚さ5.0μmの柱状スペーサ20及び周縁遮光層22を形成した。 [0094] The resist film formed in this manner, by performing the same processing as that shown in Example 1 to form a columnar spacer 20 and the peripheral light shielding layer 22 having a thickness of 5.0 .mu.m. このようにして形成した柱状スペーサ20を調べたところ、柱状スペーサ20は順テーパ状の断面形状を有していた。 Examination of the columnar spacers 20 formed in this manner, the columnar spacers 20 had a forward tapered shape in cross section.

【0095】その後、実施例1で説明したのと同様の方法により、液晶セルを形成し、この液晶セルに通常の方法により液晶材料を注入し、注入口を紫外線硬化樹脂で封止した。 [0095] Thereafter, by the same method as described in Example 1, a liquid crystal cell formed by injecting a liquid crystal material by conventional methods to the liquid crystal cell, the injection port was sealed with an ultraviolet curable resin. 以上のようにして、図1に示すLCD1を作製した。 As described above, it was prepared LCD1 shown in FIG.

【0096】上述した方法により作製したLCD1の表示性能について調べたところ、配向不良に基づく画質の低下は確認されず、極めて高い表示性能を実現することができた。 [0096] was examined for the display performance of LCD1 prepared by the method described above, deterioration of image quality on the basis of the alignment defect is not confirmed, it was possible to realize a very high display performance. また、柱状スペーサ20及び周縁遮光層22 Also, the columnar spacers 20 and the peripheral light shielding layer 22
は十分な遮光性を有していることが確認された。 It was confirmed that has a sufficient light-shielding property.

【0097】さらに、上述した方法で図1に示すLCD [0097] Moreover, LCD shown in FIG. 1 in the manner described above
1の製造を繰り返し行った。 It was repeated one of the production. その結果、極めて高い歩留まりを実現することができた。 As a result, it was possible to realize a very high yield.

【0098】 [0098]

【発明の効果】以上説明したように、本発明においては、所定の組成のレジスト材料を用いて一対の基板のいずれかの対向面に遮光性スペーサを形成すること、すなわち遮光性スペーサを所定の組成とすることにより、遮光性スペーサの機械的強度及び熱変形性の双方を向上させることができる。 As described in the foregoing, in the present invention, one of the pair of substrates with a resist material of a predetermined composition to form a light-shielding spacer on the opposite surface, i.e., the light-shielding spacer predetermined by the composition, it is possible to improve both the mechanical strength and thermal deformation of the light-shielding spacer. したがって、本発明によると、遮光性スペーサを所望の形状に形成すること並びに配向処理による遮光性スペーサの破壊等を防止することが可能となる。 Therefore, according to the present invention, the light-shielding spacer becomes possible to prevent the destruction of the light-shielding spacer by well aligning treatment to form a desired shape.

【0099】すなわち、本発明によると、一対の基板のいずれかの対向面に遮光性のスペーサを有し且つ良好な表示性能と高い歩留まりとを同時に実現することが可能な液晶表示装置が提供される。 [0099] That is, according to the present invention, there is provided a pair of one of a light-blocking properties of the spacer on the opposite surface and good display performance and high yield and a liquid crystal display device capable of realizing simultaneously the substrate that.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明の第1〜第4の実施形態に係る液晶表示装置を概略的に示す断面図。 Cross-sectional view schematically showing the liquid crystal display device according to the first to fourth embodiments of the present invention; FIG.

【図2】本発明の実施例に係る液晶表示装置を概略的に示す断面図。 Cross-sectional view schematically showing the liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention; FIG.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1…液晶表示装置 ; 2…アクティブマトリクス基板 ; 3…対向基板 4…液晶層 ; 11,31…透明基板 ; 12…走査線 13…信号線 ; 14…薄膜トランジスタ ; 15 1 ... liquid crystal display device; 2 ... active matrix substrate; 3 ... counter substrate 4 ... liquid crystal layer; 11, 31 ... transparent substrate; 12 ... scanning lines 13 ... signal line; 14 ... TFT; 15
…半導体層 16…電極 ; 17…パッシベーション膜 ; 18 ... semiconductor layer 16 ... electrodes; 17 ... passivation film; 18
…カラーフィルタ層 19…画素電極 ; 20…突起部 ; 21,33… ... color filter layer 19 ... pixel electrode; 20 ... protrusion; 21, 33 ...
配向膜 22…周縁遮光層 ; 23…スルーホール ; 32 Alignment films 22 ... peripheral light shielding layer; 23 ... through hole; 32
…共通電極 35…接着剤 ... the common electrode 35 ... adhesive

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 武志 埼玉県深谷市幡羅町1丁目9番2号 株式 会社東芝深谷工場内 (72)発明者 羽藤 仁 埼玉県深谷市幡羅町1丁目9番2号 株式 会社東芝深谷工場内 Fターム(参考) 2H089 LA09 LA14 MA01X MA04X PA02 PA07 QA02 QA12 TA09 TA12 TA13 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (72) inventor Takeshi Yamamoto, Saitama Prefecture, Fukaya Hatara-cho 1-chome No. 9 No. 2 stock company Toshiba Fukaya in the factory (72) inventor Hitoshi Hato Saitama Prefecture Fukaya Hatara-cho 1-chome No. 9 2 No. stock company Toshiba Fukaya plant in the F-term (reference) 2H089 LA09 LA14 MA01X MA04X PA02 PA07 QA02 QA12 TA09 TA12 TA13

Claims (12)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 対向して配置されそれぞれの対向面に電極層が設けられた一対の基板と、前記一対の基板の一方の対向面に形成され前記一対の基板間の間隔を一定に保つ遮光性のスペーサと、前記一対の基板間に挟持された液晶層とを具備し、 前記スペーサは、顔料とそれぞれガラス転移点の異なる複数種のポリマーとを含有することを特徴とする液晶表示装置。 1. A light shielding keeping opposed to being arranged a pair of substrates which electrode layers are provided on respective opposing faces, are formed on one opposed surfaces of the pair of substrates the distance between the pair of substrates constant comprising a sexual spacer, and a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates, the spacer, a liquid crystal display device characterized by containing a pigment and a more polymers having different respective glass transition temperature.
  2. 【請求項2】 前記スペーサは、ガラス転移点が170 Wherein said spacer has a glass transition point of 170
    ℃以下のポリマー及びガラス転移点が80℃以上のポリマーを含有することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 ° C. The liquid crystal display device according to claim 1, the following polymers and glass transition point, characterized in that it contains a 80 ° C. or more polymers.
  3. 【請求項3】 前記スペーサは、ガラス転移点が100 Wherein the spacer has a glass transition point of 100
    ℃以上のポリマーを15質量%以下の濃度で含有することを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1 or 2 ℃ more polymers, characterized in that it contains a concentration of 15 wt% or less.
  4. 【請求項4】 対向して配置されそれぞれの対向面に電極層が設けられた一対の基板と、前記一対の基板の一方の対向面に形成され前記一対の基板間の間隔を一定に保つ遮光性のスペーサと、前記一対の基板間に挟持された液晶層とを具備し、 前記スペーサは、着色顔料と3質量%〜20質量%の体質顔料とポリマーとを含有することを特徴とする液晶表示装置。 4. A light shielding keeping opposed to being arranged a pair of substrates which electrode layers are provided on respective opposing faces, are formed on one opposed surfaces of the pair of substrates the distance between the pair of substrates constant comprising a sexual spacer, and a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates, the spacer, the liquid crystal which is characterized by containing a coloring pigment and 3 to 20% by weight of extender pigment and polymer display device.
  5. 【請求項5】 前記スペーサに含まれる前記着色顔料及び前記体質顔料の濃度の和は40質量%以下であることを特徴とする請求項4に記載の液晶表示装置。 5. A liquid crystal display device according to claim 4, wherein the sum of the concentration of the coloring pigment and the extender pigment contained in the spacer is not more than 40 wt%.
  6. 【請求項6】 対向して配置されそれぞれの対向面に電極層が設けられた一対の基板と、前記一対の基板の一方の対向面に形成され前記一対の基板間の間隔を一定に保つ遮光性のスペーサと、前記一対の基板間に挟持された液晶層とを具備し、 前記スペーサは、顔料と平均分子量が15000〜40 6. A light shielding keeping opposed to being arranged a pair of substrates which electrode layers are provided on respective opposing faces, are formed on one opposed surfaces of the pair of substrates the distance between the pair of substrates constant and sex of the spacer, the comprises a pair of liquid crystal layer sandwiched between the substrates, the spacer, the pigment and the average molecular weight of from 15,000 to 40
    000のポリマーとを含有することを特徴とする液晶表示装置。 The liquid crystal display device characterized by containing a 000 polymer.
  7. 【請求項7】 前記スペーサは、ポリマー種として平均分子量が15000〜40000のポリマーのみを含有することを特徴とする請求項6に記載の液晶表示装置。 Wherein said spacer is a liquid crystal display device according to claim 6 having an average molecular weight as a polymeric species, characterized in that it contains only the polymer 15000-40000.
  8. 【請求項8】 前記一対の基板の前記スペーサが形成された面にその周縁部を遮光するように形成された周縁遮光層をさらに具備し、前記スペーサと前記周縁遮光層とは同一の材料からなることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか1項に記載の液晶表示装置。 8. comprising a peripheral light shielding layer formed so as to shield its periphery to the spacer is formed a surface of the pair of substrates further wherein said spacer is a peripheral light shielding layer of the same material claims 1, characterized by comprising to a liquid crystal display device according to any one of 7.
  9. 【請求項9】 対向して配置されそれぞれの対向面に電極層が設けられた一対の基板と、前記一対の基板の一方の対向面に形成され前記一対の基板間の間隔を一定に保つ遮光性のスペーサと、前記一対の基板の前記スペーサが形成された面にその周縁部を遮光するように形成された周縁遮光層と、前記一対の基板間に挟持された液晶層とを具備し、 前記スペーサ及び前記周縁遮光層は、20質量%〜35 9. shielding keeping opposed to being arranged a pair of substrates which electrode layers are provided on respective opposing faces, it is formed on one opposed surfaces of the pair of substrates the distance between the pair of substrates constant comprising and sex of the spacer, and the peripheral light shielding layer formed so as to shield the periphery to the spacer is formed a surface of the pair of substrates and a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates, It said spacer and said peripheral light shielding layer is 20% by weight to 35
    質量%の顔料とポリマーとを含有することを特徴とする液晶表示装置。 The liquid crystal display device characterized by containing a mass% pigment and polymer.
  10. 【請求項10】 前記スペーサ及び前記周縁遮光層は同一の材料からなることを特徴とする請求項9に記載の液晶表示装置。 Wherein said spacer and said peripheral light shielding layer is a liquid crystal display device according to claim 9, characterized in that it consists of the same material.
  11. 【請求項11】 前記一対の基板の一方は、その対向面上に走査線と信号線と前記走査線及び前記信号線に接続されたスイッチング素子と前記スイッチング素子に接続された画素電極とを有するアクティブマトリクス基板であり、 前記一対の基板の他方は、その対向面上に共通電極を有する対向基板であることを特徴とする請求項1ないし1 The method according to claim 11 wherein one of said pair of substrates, having its said on opposing surfaces between the scanning line and the signal line wherein the switching elements connected to the scanning lines and the signal lines of pixels connected to the switching element electrode an active matrix substrate, the other of said pair of substrates, claims 1, characterized in that a counter substrate having a common electrode on its opposite surfaces 1
    0のいずれか1項に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to any one of 0.
  12. 【請求項12】 前記アクティブマトリクス基板は、その対向面にカラーフィルタ層をさらに具備することを特徴とする請求項11に記載の液晶表示装置。 12. The active matrix substrate, a liquid crystal display device according to claim 11, characterized by further comprising a color filter layer on the opposing surface.
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