JP2001142078A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JP2001142078A
JP2001142078A JP32426399A JP32426399A JP2001142078A JP 2001142078 A JP2001142078 A JP 2001142078A JP 32426399 A JP32426399 A JP 32426399A JP 32426399 A JP32426399 A JP 32426399A JP 2001142078 A JP2001142078 A JP 2001142078A
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JP
Japan
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substrates
pair
liquid crystal
spacer
display device
Prior art date
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Application number
JP32426399A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuyuki Haruhara
一之 春原
Atsuyuki Manabe
敦行 真鍋
Takeshi Yamamoto
武志 山本
Hitoshi Hado
仁 羽藤
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device which has a light-shielding spacer on one of the inner faces of a pair of substrates and which realizes both of good display performance and high yield. SOLUTION: The liquid crystal display device 1 is equipped with a pair of substrates 2, 3 disposed facing each other and having electrode layers 19, 32 on the respective inner faces, a light-shielding spacer 20 to keep the gap between the substrates 2, 3 constant and formed on one inner face of the pair of substrates 2, 3, and a liquid crystal layer 4 held between the pair of substrates 2, 3. The spacer 20 contains a pigment and a plurality of kinds of polymers having different glass transition points.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に係
り、特には、一対の基板のいずれかの対向面にこれら基
板の間隔を一定に保つスペーサが形成された液晶表示装
置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device having a spacer formed on one of opposing surfaces of a pair of substrates so as to keep the distance between the substrates constant.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置は、それぞれの対向面に電
極層が形成された一対の基板で液晶層を挟持した構造を
有している。このような液晶表示装置においては、一対
の基板間の間隔を均一に保つ必要があるため、一般に、
粒径が均一なプラスチックビーズ等の粒子をこれら基板
間にスペーサとして散在させている。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display device has a structure in which a liquid crystal layer is sandwiched between a pair of substrates having electrode layers formed on respective opposing surfaces. In such a liquid crystal display device, since it is necessary to keep the distance between the pair of substrates uniform, generally,
Particles such as plastic beads having a uniform particle size are scattered as spacers between these substrates.

【0003】しかしながら、このような粒子状のスペー
サは、基板上に散布する際に製造ラインを汚染するた
め、不良の原因となる。また、上記粒子が凝集した場合
或いは散布密度が不均一である場合には、基板間の間隔
を均一とすることができない。さらに、上記粒子が画素
部に位置する場合、その近傍で液晶分子の配向不良が生
じる。
[0003] However, such particulate spacers contaminate the production line when they are sprayed on the substrate, thus causing defects. Further, when the particles are aggregated or when the dispersion density is not uniform, the distance between the substrates cannot be made uniform. Furthermore, when the particles are located in the pixel portion, poor alignment of liquid crystal molecules occurs in the vicinity thereof.

【0004】そこで、上述した粒子状のスペーサを用い
る代わりに、フォトリソグラフィ技術を用いて上記基板
のいずれかの対向面に柱状体をスペーサとして形成する
ことが行なわれている。この方法によれば、上述した散
布を行う必要がないため、製造ラインが粒子で汚染され
るのを防止することができる。また、所望の位置にスペ
ーサを形成することができるため、基板間の間隔が不均
一となることがない。さらに、上記柱状スペーサを断面
形状が順テーパ状となるように形成すれば、スペーサの
側面にもラビング処理を施すことができるため、上述し
た配向不良を抑制することができる。
Therefore, instead of using the above-described particulate spacer, a columnar body is formed as a spacer on any of the opposing surfaces of the substrate by using a photolithography technique. According to this method, since it is not necessary to perform the above-described spraying, it is possible to prevent the production line from being contaminated with particles. Further, since the spacer can be formed at a desired position, the distance between the substrates does not become uneven. Furthermore, if the columnar spacer is formed so as to have a forward tapered cross section, the rubbing treatment can be performed on the side surface of the spacer, so that the above-described alignment failure can be suppressed.

【0005】ところで、上記柱状スペーサは主に光透過
性のポリマーで構成されているが、最近、ポリマーに顔
料を含有させて柱状スペーサを遮光性とすることが提案
されている。柱状スペーサを遮光性とした場合、スペー
サの近傍で配向不良が生じたとしても、それが表示性能
に影響を与えることは殆どない。したがって、良好な表
示性能を実現することができるものと考えられる。
[0005] By the way, the columnar spacer is mainly composed of a light-transmitting polymer. Recently, it has been proposed to make the columnar spacer light-shielding by adding a pigment to the polymer. When the columnar spacer is made to have a light-shielding property, even if an alignment defect occurs near the spacer, it hardly affects the display performance. Therefore, it is considered that good display performance can be realized.

【0006】しかしながら、このような遮光性の柱状体
をスペーサとして用いるには未だ以下に示す問題が残さ
れている。
However, using such a light-shielding columnar body as a spacer still has the following problems.

【0007】上述したように、柱状スペーサへの遮光性
の付与はポリマーに顔料を含有させることにより行われ
る。このような遮光性スペーサの形成は、例えば、ネガ
型の感光性樹脂と顔料とを混合してなるレジスト材料を
用いて行われるが、このレジスト材料からなる薄膜−レ
ジスト膜−をパターン露光した場合、光は表面領域で吸
収され、深部へは到達しない。すなわち、レジスト膜の
表面領域のみが硬化する。その結果、露光後のレジスト
膜の現像プロセスは、硬化した表面領域をマスクとして
用いた等方性エッチングのように進行し、硬化した表面
領域の直下のレジスト材料までもが部分的にエッチング
される。
As described above, the light-shielding property is imparted to the columnar spacers by adding a pigment to the polymer. The formation of such a light-shielding spacer is performed, for example, using a resist material obtained by mixing a negative photosensitive resin and a pigment, and when a thin film made of this resist material-a resist film-is subjected to pattern exposure. Light is absorbed in the surface area and does not reach deep. That is, only the surface region of the resist film is cured. As a result, the development process of the resist film after exposure proceeds like an isotropic etching using the cured surface area as a mask, and even the resist material immediately below the cured surface area is partially etched. .

【0008】そのため、このような方法で作製した柱状
スペーサは鼓のように中央部が括れた形状となり、その
断面形状は部分的に逆テーパ状となる。したがって、柱
状スペーサを遮光性とした場合には、柱状スペーサの側
面へのラビング処理を可能とするために、現像後に加熱
して、断面形状が順テーパ状となるようにスペーサを変
形させなければならない。すなわち、現像直後の柱状ス
ペーサは、加熱により適度に変形し得るものであること
が望まれる。
For this reason, the columnar spacer manufactured by such a method has a shape in which the central portion is constricted like a drum, and its cross-sectional shape is partially inversely tapered. Therefore, in the case where the columnar spacer is made light-shielding, in order to enable rubbing treatment to the side surface of the columnar spacer, it is necessary to heat after development and deform the spacer so that the cross-sectional shape becomes a forward tapered shape. No. That is, it is desired that the columnar spacer immediately after development can be appropriately deformed by heating.

【0009】ところが、そのようなスペーサは一般に機
械的強度が弱く、ラビング処理の際に破壊されることが
ある。すなわち、柱状スペーサを遮光性とした場合、十
分な機械的強度を有するスペーサを所望の形状に形成す
ることが困難であり、したがって、表示性能及び歩留ま
りのいずれかが犠牲になってしまう。
However, such spacers generally have low mechanical strength and may be destroyed during rubbing. That is, when the columnar spacer is made to have a light-shielding property, it is difficult to form a spacer having sufficient mechanical strength into a desired shape, and therefore, either the display performance or the yield is sacrificed.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
に鑑みてなされたものであり、一対の基板のいずれかの
対向面に遮光性のスペーサを有し且つ良好な表示性能と
高い歩留まりとを同時に実現することが可能な液晶表示
装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and has a light-shielding spacer on one of opposing surfaces of a pair of substrates, and has good display performance and high yield. It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device capable of realizing both at the same time.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するためになされたものであり、対向して配置されそ
れぞれの対向面に電極層が設けられた一対の基板と、前
記一対の基板の一方の対向面に形成され前記一対の基板
間の間隔を一定に保つ遮光性のスペーサと、前記一対の
基板間に挟持された液晶層とを具備し、前記スペーサ
は、顔料とそれぞれガラス転移点の異なる複数種のポリ
マーとを含有することを特徴とする液晶表示装置を提供
する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and comprises a pair of substrates arranged opposite to each other and provided with an electrode layer on each of the opposing surfaces; A light-blocking spacer formed on one of the opposing surfaces of the substrates to keep the distance between the pair of substrates constant; and a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates, wherein the spacers are made of pigment and glass, respectively. Provided is a liquid crystal display device comprising a plurality of polymers having different transition points.

【0012】また、本発明は、対向して配置されそれぞ
れの対向面に電極層が設けられた一対の基板と、前記一
対の基板の一方の対向面に形成され前記一対の基板間の
間隔を一定に保つ遮光性のスペーサと、前記一対の基板
間に挟持された液晶層とを具備し、前記スペーサは、着
色顔料と3質量%〜20質量%の体質顔料とポリマーと
を含有することを特徴とする液晶表示装置を提供する。
Further, the present invention provides a pair of substrates which are disposed to face each other and have an electrode layer provided on each of the opposing surfaces, and a distance between the pair of substrates formed on one of the opposing surfaces of the pair of substrates. A light-shielding spacer for keeping constant, and a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates, wherein the spacer contains a coloring pigment, 3 to 20% by weight of an extender and a polymer. A liquid crystal display device is provided.

【0013】さらに、本発明は、対向して配置されそれ
ぞれの対向面に電極層が設けられた一対の基板と、前記
一対の基板の一方の対向面に形成され前記一対の基板間
の間隔を一定に保つ遮光性のスペーサと、前記一対の基
板間に挟持された液晶層とを具備し、前記スペーサは、
顔料と平均分子量が15000〜40000のポリマー
とを含有することを特徴とする液晶表示装置を提供す
る。
Further, the present invention provides a pair of substrates, which are disposed to face each other and have an electrode layer provided on each of the opposing surfaces, and a distance between the pair of substrates formed on one of the opposing surfaces of the pair of substrates. A light-shielding spacer that keeps constant, and a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates, the spacer includes:
A liquid crystal display device comprising a pigment and a polymer having an average molecular weight of 15,000 to 40,000.

【0014】また、本発明は、対向して配置されそれぞ
れの対向面に電極層が設けられた一対の基板と、前記一
対の基板の一方の対向面に形成され前記一対の基板間の
間隔を一定に保つ遮光性のスペーサと、前記一対の基板
の前記スペーサが形成された面にその周縁部を遮光する
ように形成された周縁遮光層と、前記一対の基板間に挟
持された液晶層とを具備し、前記スペーサ及び前記周縁
遮光層は、20質量%〜35質量%の顔料とポリマーと
を含有することを特徴とする液晶表示装置を提供する。
The present invention also provides a pair of substrates, which are disposed to face each other and have an electrode layer provided on each of the opposing surfaces, and a distance between the pair of substrates formed on one of the opposing surfaces of the pair of substrates. A light-shielding spacer that keeps constant, a peripheral light-shielding layer formed on the surface of the pair of substrates on which the spacer is formed so as to shield the peripheral edge thereof, and a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates. Wherein the spacer and the peripheral light-shielding layer contain 20% by mass to 35% by mass of a pigment and a polymer.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明について図面を参照
しながらより詳細に説明する。まず、本発明の第1〜第
4の実施形態に係る液晶表示装置(以下、LCDとい
う)に共通する構造について図1を参照しながら説明す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. First, a structure common to the liquid crystal display devices (hereinafter, referred to as LCDs) according to the first to fourth embodiments of the present invention will be described with reference to FIG.

【0016】図1は、本発明の第1〜第4の実施形態に
係るLCDを概略的に示す断面図である。図1に示すL
CD1は、TN型のカラー表示可能な液晶表示装置であ
って、対向して配置されたアクティブマトリクス基板2
と対向基板3との間に挟持された液晶層4とで主に構成
されている。なお、図1に示すLCD1は、通常、一対
の偏光板で挟持され、背面側に光源が配置される。
FIG. 1 is a sectional view schematically showing an LCD according to the first to fourth embodiments of the present invention. L shown in FIG.
The CD 1 is a TN type liquid crystal display device capable of color display, and includes an active matrix substrate
And a liquid crystal layer 4 interposed between the liquid crystal layer 4 and the counter substrate 3. Note that the LCD 1 shown in FIG. 1 is usually sandwiched between a pair of polarizing plates, and a light source is disposed on the back side.

【0017】アクティブマトリクス基板2は、ガラス等
からなる透明基板11を有している。透明基板11の一
方の主面上には、マトリクス状に形成された走査線12
及び信号線13、並びにスイッチング素子である薄膜ト
ランジスタ(以下、TFTという)14が形成されてい
る。TFT14は、図1に示すように、例えば、走査線
12とアモルファスシリコン等からなる半導体層15と
信号線13と電極16とで構成することができる。な
お、この場合、走査線12はゲート電極を兼ね、半導体
層15の一部はチャネルを構成し、信号線13の一部と
電極16とはソース・ドレインを構成する。
The active matrix substrate 2 has a transparent substrate 11 made of glass or the like. On one main surface of the transparent substrate 11, the scanning lines 12 formed in a matrix are formed.
And a signal line 13, and a thin film transistor (hereinafter, referred to as a TFT) 14 as a switching element. As shown in FIG. 1, the TFT 14 can be composed of, for example, a scanning line 12, a semiconductor layer 15 made of amorphous silicon or the like, a signal line 13, and an electrode 16. In this case, the scanning line 12 also serves as a gate electrode, a part of the semiconductor layer 15 forms a channel, and a part of the signal line 13 and the electrode 16 form a source / drain.

【0018】透明基板11のTFT14等が形成された
面には、さらに、絶縁体からなるパッシベーション膜1
7、カラーフィルタ層18、及びITOのような透明導
電材料等からなる画素電極19が順次形成されている。
カラーフィルタ層18は、各画素電極19に対応して、
通常、R、B、Gの3色の色領域で構成される。また、
カラーフィルタ層18及びパッシベーション膜17には
スルーホール23が形成されており、画素電極19はそ
れぞれスルーホール23を介して電極16に電気的に接
続されている。
On the surface of the transparent substrate 11 on which the TFTs 14 and the like are formed, a passivation film 1 made of an insulator is further provided.
7, a color filter layer 18, and a pixel electrode 19 made of a transparent conductive material such as ITO are sequentially formed.
The color filter layer 18 corresponds to each pixel electrode 19,
Usually, it is composed of three color regions of R, B and G. Also,
A through hole 23 is formed in the color filter layer 18 and the passivation film 17, and the pixel electrode 19 is electrically connected to the electrode 16 via the through hole 23.

【0019】画素電極19上には、スペーサである遮光
性の突起部20及び配向膜21が順次形成されている。
また、透明基板11の周縁部には、一般に額縁と呼ばれ
る周縁遮光層22が形成されている。配向膜21は、例
えばポリイミド等のように配向膜に一般的に用いられる
透明樹脂で構成することができる。また、配向膜21に
は、ラビング処理のような配向処理が施されている。
On the pixel electrode 19, a light-shielding projection 20 as a spacer and an alignment film 21 are sequentially formed.
Further, a peripheral light-shielding layer 22 which is generally called a frame is formed on a peripheral portion of the transparent substrate 11. The alignment film 21 can be made of a transparent resin generally used for the alignment film, such as polyimide. The alignment film 21 has been subjected to an alignment process such as a rubbing process.

【0020】対向基板3は、ガラス等からなる透明基板
31を有している。透明基板31の一方の主面上には、
ITOなどの透明導電材料からなる共通電極32及び配
向膜33が順次形成されている。配向膜21と同様に、
配向膜33も、例えばポリイミド等のように配向膜に一
般的に用いられる透明樹脂で構成することができ、ラビ
ング処理のような配向処理が施されている。
The opposing substrate 3 has a transparent substrate 31 made of glass or the like. On one main surface of the transparent substrate 31,
A common electrode 32 and an alignment film 33 made of a transparent conductive material such as ITO are sequentially formed. Like the alignment film 21,
The alignment film 33 can also be made of a transparent resin generally used for the alignment film, such as polyimide, for example, and is subjected to an alignment process such as a rubbing process.

【0021】液晶層4は、液晶材料で構成されている。
液晶材料は、液晶化合物や複数種の液晶化合物を混合し
てなる液晶組成物に加え、カイラル剤などの添加物をさ
らに含有することができる。
The liquid crystal layer 4 is made of a liquid crystal material.
The liquid crystal material can further contain an additive such as a chiral agent, in addition to the liquid crystal compound or a liquid crystal composition obtained by mixing a plurality of types of liquid crystal compounds.

【0022】基板2,3は周囲を接着剤35や封止剤
(図示せず)で固定されており、それらの間に閉空間を
形成している。この接着剤35としては、例えば、熱硬
化型或いは紫外線硬化型のアクリル系及びエポキシ系接
着剤等が用いられる。上記液晶材料は、基板2,3、接
着剤35、及び封止剤が形成する空間を満たしており、
液晶層4を形成している。なお、基板の周辺部には、銀
ペースト等からなる電極転移材(トランスファ:図示せ
ず)が配置され、アクティブマトリクス基板2側から対
向基板3の共通電極32に電圧を印加可能とされてい
る。
The substrates 2 and 3 are fixed around the periphery thereof with an adhesive 35 or a sealant (not shown), and form a closed space between them. As the adhesive 35, for example, a thermosetting or ultraviolet curable acrylic or epoxy adhesive is used. The liquid crystal material fills a space formed by the substrates 2 and 3, the adhesive 35, and the sealant,
The liquid crystal layer 4 is formed. An electrode transfer material (transfer: not shown) made of silver paste or the like is arranged in the peripheral portion of the substrate, so that a voltage can be applied to the common electrode 32 of the counter substrate 3 from the active matrix substrate 2 side. .

【0023】さて、本発明の第1〜第4の実施形態に係
るLCD1は、遮光性の突起部20の組成が異なること
以外はほぼ同様の構造を有している。以下、突起部20
の組成について各実施形態毎に説明する。
The LCDs 1 according to the first to fourth embodiments of the present invention have substantially the same structure except that the composition of the light-shielding projections 20 is different. Hereinafter, the protrusion 20
Will be described for each embodiment.

【0024】第1の実施形態に係るLCD1において、
遮光性の突起部20は、顔料とそれぞれガラス転移点の
異なる複数種のポリマーとを含有している。上述したよ
うに、レジスト材料として、単に顔料と感光性樹脂とを
混合したものを用いた場合、十分な機械的強度を有する
スペーサを所望の形状に形成することが困難である。本
発明者らは、ポリマーのガラス転移点が機械的強度や熱
変形性と相関していることに着目した。すなわち、一般
に、ガラス転移点の高いポリマーを用いた場合に高い機
械的強度が得られる傾向にあり、ガラス転移点の低いポ
リマーを用いた場合に高い熱変形性が得られる傾向にあ
るので、顔料とそれぞれガラス転移点の異なる複数種の
ポリマーを含む感光性樹脂とを含有するレジスト材料を
用いて突起部20を形成すれば、機械的強度及び熱変形
性の双方の要求を容易に満足させることが可能となるの
である。
In the LCD 1 according to the first embodiment,
The light-shielding projection 20 contains a pigment and a plurality of types of polymers having different glass transition points. As described above, when a simple mixture of a pigment and a photosensitive resin is used as the resist material, it is difficult to form a spacer having sufficient mechanical strength into a desired shape. The present inventors have paid attention to the fact that the glass transition point of a polymer is correlated with mechanical strength and heat deformability. That is, in general, when a polymer having a high glass transition point is used, a high mechanical strength tends to be obtained, and when a polymer having a low glass transition point is used, a high thermal deformability tends to be obtained. When the projections 20 are formed using a resist material containing a photosensitive resin containing a plurality of types of polymers having different glass transition points, it is possible to easily satisfy both requirements of mechanical strength and thermal deformability. It becomes possible.

【0025】この感光性樹脂は、ガラス転移点が異なる
ものであればどのような種類のポリマーを含有してもよ
いが、ガラス転移点が170℃以下のポリマーとガラス
転移点が80℃以上のポリマーとを含有することが好ま
しい。このような感光性樹脂を含有するレジスト材料を
用いた場合、上述した効果が顕著となる。
This photosensitive resin may contain any kind of polymer as long as it has a different glass transition point, and a polymer having a glass transition point of 170 ° C. or less and a polymer having a glass transition point of 80 ° C. or more are used. And a polymer. When a resist material containing such a photosensitive resin is used, the above-described effects are remarkable.

【0026】上記感光性樹脂は、上述したポリマーに加
え、一般にレジスト材料に用いられる感光性樹脂に含ま
れる様々な化合物を含有することができる。例えば、上
述した感光性樹脂は、通常、上記ポリマーに加えて、そ
れらのモノマーやダイマーのように反応性のより高い化
合物、すなわちレジスト材料に光硬化性を付与する化合
物を含有している。
The above-mentioned photosensitive resin can contain various compounds contained in the photosensitive resin generally used for a resist material, in addition to the above-mentioned polymer. For example, the above-described photosensitive resin usually contains, in addition to the above-mentioned polymer, a compound having higher reactivity such as a monomer or dimer thereof, that is, a compound which imparts photocurability to a resist material.

【0027】このレジスト材料は、上記感光性樹脂に加
え、さらに顔料を含有している。この顔料は、突起部2
0に遮光性を付与し且つ突起部20を絶縁性に維持する
ものであれば特に制限はないが、通常は着色顔料、特に
は黒色顔料やR,G,Yの顔料の混合物のように、単独
で或いは混合されて黒色を呈する顔料が用いられる。
This resist material contains a pigment in addition to the photosensitive resin. This pigment has protrusions 2
There is no particular limitation as long as it imparts a light-shielding property to 0 and maintains the projections 20 insulative. Usually, however, a color pigment, particularly a black pigment or a mixture of R, G, and Y pigments, is used. Pigments that exhibit black color alone or in combination are used.

【0028】上述したレジスト材料は、ガラス転移点が
より高いポリマー、例えばガラス転移点が100℃以上
のポリマーを、硬化後の突起部20中の濃度が15質量
%以下となるように含有することが好ましく、10質量
%以下となるように含有することがより好ましい。ま
た、このレジスト材料は、ガラス転移点がより低いポリ
マー、例えばガラス転移点が100℃未満のポリマー
を、硬化後の突起部20中の濃度が2質量%以上となる
ように含有することが好ましく、3質量%〜5質量%と
なるように含有することがより好ましい。一般に、ガラ
ス転移点がより高いポリマーの濃度やガラス転移点がよ
り低いポリマーの濃度を上記範囲内とした場合、機械的
強度と熱変形性とのバランスが良好となる。
The above-described resist material contains a polymer having a higher glass transition point, for example, a polymer having a glass transition point of 100 ° C. or higher, so that the concentration in the projected portion 20 after curing is 15% by mass or less. , And more preferably 10% by mass or less. In addition, the resist material preferably contains a polymer having a lower glass transition point, for example, a polymer having a glass transition point of less than 100 ° C., so that the concentration in the protrusions 20 after curing becomes 2% by mass or more. More preferably, it is contained in an amount of 3% by mass to 5% by mass. In general, when the concentration of a polymer having a higher glass transition point or the concentration of a polymer having a lower glass transition point is within the above range, the balance between mechanical strength and heat deformability becomes good.

【0029】次に、第2の実施形態に係るLCD1の突
起部20について説明する。第2の実施形態に係るLC
D1において、遮光性の突起部20は、着色顔料と3質
量%〜20質量%の体質顔料とポリマーとを含有してい
る。
Next, the projection 20 of the LCD 1 according to the second embodiment will be described. LC according to the second embodiment
In D1, the light-shielding projection 20 contains a color pigment, 3% to 20% by weight of an extender and a polymer.

【0030】上述した機械的強度や熱変形性は、突起部
20に含有されるポリマーによってのみ決定される訳で
はなく、それら特性には顔料も少なからず影響を与えて
いる。したがって、突起部20中の顔料濃度を制御すれ
ば、機械的強度や熱変形性を変化させることができる。
しかしながら、突起部20中の着色顔料濃度を大きく変
化させた場合、突起部20の遮光性までもが変化してし
まう。
The above-mentioned mechanical strength and heat deformability are not determined only by the polymer contained in the projections 20, and pigments have a considerable influence on these properties. Therefore, by controlling the pigment concentration in the protrusion 20, the mechanical strength and the heat deformability can be changed.
However, when the concentration of the coloring pigment in the projections 20 is greatly changed, even the light shielding properties of the projections 20 are changed.

【0031】これに対し、本実施形態において、突起部
20は体質顔料を含有している。体質顔料は、硫酸バリ
ウム、硫酸カルシウム、及び酸化チタン等のような白色
顔料である。突起部20中に白色顔料を含有させた場
合、突起部20に入射した光は体質顔料の表面で反射さ
れ、反射した光は着色顔料で吸収される。そのため、突
起部20中に体質顔料を含有させたとしても、突起部2
0の遮光性が影響を受けることは殆どない。すなわち、
突起部20の遮光性に殆ど影響を与えることなく、機械
的強度や熱変形性を制御することができる。
On the other hand, in the present embodiment, the projections 20 contain an extender. The extender is a white pigment such as barium sulfate, calcium sulfate, and titanium oxide. When the projection 20 contains a white pigment, the light incident on the projection 20 is reflected by the surface of the extender, and the reflected light is absorbed by the coloring pigment. Therefore, even if the extender 20 contains an extender pigment, the protrusion 2
The light shielding property of 0 is hardly affected. That is,
The mechanical strength and the thermal deformability can be controlled without substantially affecting the light-shielding property of the projection 20.

【0032】本実施形態において、突起部20に含まれ
る体質顔料の濃度は3質量%〜20質量%である。体質
顔料の濃度が3質量%未満である場合、突起部20の機
械的強度を向上させる効果を得ることができない。ま
た、体質顔料の濃度が20質量%を超える場合、突起部
20の熱変形性が不十分となる。
In the present embodiment, the concentration of the extender contained in the projection 20 is 3% by mass to 20% by mass. If the concentration of the extender is less than 3% by mass, the effect of improving the mechanical strength of the projection 20 cannot be obtained. On the other hand, when the concentration of the extender exceeds 20% by mass, the thermal deformability of the projection 20 becomes insufficient.

【0033】本実施形態において、突起部20に含まれ
る着色顔料と体質顔料との濃度の和は、40質量%以下
であることが好ましく、25質量%〜40質量%である
ことがより好ましい。上記濃度の和を上記範囲内とする
ことにより、機械的強度及び熱変形性の双方の要求を容
易に満足させることが可能となる。
In the present embodiment, the sum of the concentrations of the coloring pigment and the extender contained in the projections 20 is preferably 40% by mass or less, and more preferably 25% by mass to 40% by mass. By setting the sum of the above concentrations within the above range, it is possible to easily satisfy both requirements of mechanical strength and thermal deformability.

【0034】また、本実施形態において、突起部20
は、着色顔料と体質顔料と感光性樹脂とを含有するレジ
スト材料を用いて形成することができる。なお、このレ
ジスト材料中の体質顔料の濃度は、硬化時に3質量%〜
20質量%となるように調節しておく必要がある。
In this embodiment, the protrusion 20
Can be formed using a resist material containing a color pigment, an extender pigment, and a photosensitive resin. The concentration of the extender pigment in the resist material is 3% by mass or more during curing.
It is necessary to adjust so as to be 20% by mass.

【0035】本実施形態において、レジスト材料に用い
られる着色顔料は、突起部20に遮光性を付与し且つ突
起部20を絶縁性に維持するものであれば特に制限はな
く、通常は、黒色顔料やR,G,Yの顔料の混合物のよ
うに、単独で或いは混合されて黒色を呈する顔料が用い
られる。また、本実施形態において、感光性樹脂として
は、例えば、レジスト材料に一般に含有される感光性樹
脂を用いることができる。
In the present embodiment, the color pigment used for the resist material is not particularly limited as long as it imparts a light-shielding property to the projections 20 and maintains the projections 20 insulative. Or a mixture of R, G, and Y pigments, which are used alone or in combination, and exhibit a black color. In the embodiment, as the photosensitive resin, for example, a photosensitive resin generally contained in a resist material can be used.

【0036】次に、第3の実施形態に係るLCD1の突
起部20について説明する。第3の実施形態に係るLC
D1において、遮光性の突起部20は、顔料と平均分子
量が15000〜40000のポリマーとを含有してい
る。なお、ここでいう平均分子量とは、重量平均分子量
である。
Next, the projection 20 of the LCD 1 according to the third embodiment will be described. LC according to the third embodiment
In D1, the light-shielding projection 20 contains a pigment and a polymer having an average molecular weight of 15,000 to 40,000. Here, the average molecular weight is a weight average molecular weight.

【0037】突起部20の熱変形性は、同種のポリマー
を用いたとしても、その平均分子量に応じて異なる。す
なわち、熱変形性は、ポリマーの平均分子量が高い場合
に低く、ポリマーの平均分子量が低い場合に高くなる傾
向にある。さらに、本来、ポリマーが機械的強度に与え
る影響は、その分子構造のみに基づいているものと考え
られるが、実際には、ポリマーの分子量も機械的強度に
大きな影響を与える。
The thermal deformability of the projection 20 differs depending on the average molecular weight even when the same type of polymer is used. That is, the heat deformability tends to be low when the average molecular weight of the polymer is high, and to be high when the average molecular weight of the polymer is low. Furthermore, the effect of the polymer on the mechanical strength is considered to be based solely on its molecular structure, but in reality, the molecular weight of the polymer also has a large effect on the mechanical strength.

【0038】本発明者らは、このような知見に基づい
て、ポリマーの分子量と機械的強度及び熱変形性との関
係を調べたところ、突起部20が平均分子量15000
以上のポリマーを含有する場合に十分な機械的強度が得
られ、平均分子量40000以下のポリマーを含有する
場合に十分な熱変形性が得られることを見出した。すな
わち、顔料濃度を十分な遮光性が得られる程度とした場
合、突起部20が平均分子量15000〜40000の
ポリマーを含有すれば、機械的強度及び熱変形性の双方
の要求を容易に満足させることが可能となる。
The present inventors have examined the relationship between the molecular weight of the polymer and the mechanical strength and thermal deformability based on such findings, and found that the protrusion 20 had an average molecular weight of 15,000.
It has been found that sufficient mechanical strength can be obtained when the above polymer is contained, and sufficient thermal deformability can be obtained when a polymer having an average molecular weight of 40,000 or less is contained. In other words, when the pigment concentration is set to a degree that a sufficient light-shielding property can be obtained, if the projections 20 contain a polymer having an average molecular weight of 15,000 to 40,000, it is easy to satisfy the requirements of both mechanical strength and heat deformability. Becomes possible.

【0039】本実施形態において、突起部20に含まれ
る全ての種類のポリマーは15000〜40000の平
均分子量を有することが好ましい。この場合、上述した
効果が顕著となる。
In the present embodiment, it is preferable that all kinds of polymers contained in the protrusion 20 have an average molecular weight of 15,000 to 40,000. In this case, the above-described effects become remarkable.

【0040】本実施形態において、突起部20は、例え
ば、顔料と平均分子量が15000〜40000のポリ
マーを含む感光性樹脂とを含有するレジスト材料を用い
て形成することができる。一般に、感光性樹脂の平均分
子量は硬化することにより増加するが、劇的に増加する
ことはない。したがって、このようなレジスト材料を用
いることにより、平均分子量が概ね15000〜400
00のポリマーを含有する突起部20を形成することが
できる。
In this embodiment, the projections 20 can be formed using, for example, a resist material containing a pigment and a photosensitive resin containing a polymer having an average molecular weight of 15,000 to 40,000. Generally, the average molecular weight of the photosensitive resin increases with curing, but does not increase dramatically. Therefore, by using such a resist material, the average molecular weight is approximately 15,000 to 400.
The protrusion 20 containing the polymer No. 00 can be formed.

【0041】本実施形態において、レジスト材料に用い
られる顔料は、突起部20に遮光性を付与し且つ突起部
20を絶縁性に維持するものであれば特に制限はなく、
通常は着色顔料、特には黒色顔料やR,G,Yの顔料の
混合物のように単独で或いは混合されて黒色を呈する顔
料が用いられる。また、本実施形態において、感光性樹
脂は、上述したポリマーに加えて、一般にレジスト材料
に用いられる感光性樹脂に含まれる様々な化合物を含有
することができる。
In the present embodiment, the pigment used for the resist material is not particularly limited as long as it imparts a light-shielding property to the projection 20 and maintains the projection 20 insulative.
Usually, a color pigment, in particular, a black pigment or a mixture of R, G, and Y pigments that are used alone or mixed to give a black color is used. Further, in the present embodiment, the photosensitive resin may contain various compounds contained in the photosensitive resin generally used for a resist material, in addition to the polymer described above.

【0042】次に、第4の実施形態に係るLCD1の突
起部20について説明する。第4の実施形態に係るLC
D1において、遮光性の突起部20は、20質量%〜3
5質量%の顔料とポリマーとを含有している。また、第
4の実施形態に係るLCD1においては、周縁遮光層2
2も20質量%〜35質量%の顔料とポリマーとを含有
している。
Next, the projection 20 of the LCD 1 according to the fourth embodiment will be described. LC according to the fourth embodiment
In D1, the light-shielding projection 20 is 20% by mass to 3%.
Contains 5% by weight of pigment and polymer. In the LCD 1 according to the fourth embodiment, the peripheral light-shielding layer 2
2 also contains 20% by mass to 35% by mass of a pigment and a polymer.

【0043】突起部20及び周縁遮光層22は、ともに
遮光性を有し、組成もほぼ同様である。したがって、突
起部20及び周縁遮光層22を同時に形成することによ
り、製造プロセスを簡略化し、製造コストを低減させる
ことができる。しかしながら、この場合、突起部20の
機械的強度及び熱変形性に関する要求だけでなく、周縁
遮光層22についての要求も同時に満足させなければな
らない。すなわち、周縁遮光層22には、突起部20の
高さと同程度に薄くても十分な遮光性を有することが求
められる。
The protrusion 20 and the peripheral light-shielding layer 22 both have a light-shielding property, and have substantially the same composition. Therefore, by simultaneously forming the projection 20 and the peripheral light-shielding layer 22, the manufacturing process can be simplified and the manufacturing cost can be reduced. However, in this case, not only the requirement regarding the mechanical strength and the thermal deformability of the protrusion 20 but also the requirement regarding the peripheral light-shielding layer 22 must be satisfied at the same time. That is, the peripheral light-shielding layer 22 is required to have a sufficient light-shielding property even if it is as thin as the height of the protrusion 20.

【0044】これに対し、本実施形態においては、突起
部20及び周縁遮光層22の双方が20質量%〜35質
量%の濃度で顔料を含有する。顔料の濃度が20質量%
以上であれば、周縁遮光層22の厚さが突起部20の高
さと同程度であっても十分な遮光性を得ることができ、
しかも、突起部20の機械的強度に関する要求も満足さ
せることができる。また、顔料の濃度が35質量%以上
であれば、十分な熱変形性を実現することができる。す
なわち、突起部20と周縁遮光層22とを、顔料及び感
光性樹脂を含有する同一のレジスト材料を用いて同時に
形成することが可能となる。
On the other hand, in the present embodiment, both the projections 20 and the peripheral light-shielding layer 22 contain the pigment at a concentration of 20% by mass to 35% by mass. Pigment concentration 20% by mass
If it is above, sufficient light-shielding properties can be obtained even if the thickness of the peripheral light-shielding layer 22 is almost the same as the height of the protrusion 20.
In addition, the requirement regarding the mechanical strength of the projection 20 can be satisfied. When the concentration of the pigment is 35% by mass or more, sufficient heat deformability can be realized. That is, the projection 20 and the peripheral light-shielding layer 22 can be simultaneously formed using the same resist material containing a pigment and a photosensitive resin.

【0045】本実施形態において、レジスト材料に用い
られる顔料は、突起部20及び周縁遮光層22に遮光性
を付与し且つそれらを絶縁性に維持するものであれば特
に制限はなく、通常は着色顔料、特には黒色顔料やR,
G,Yの顔料の混合物のように単独で或いは混合されて
黒色を呈する顔料が用いられる。また、本実施形態にお
いて、感光性樹脂としては、例えば、レジスト材料に一
般に含有される感光性樹脂を用いることができる。
In the present embodiment, the pigment used for the resist material is not particularly limited as long as it imparts light-shielding properties to the projections 20 and the peripheral light-shielding layer 22 and maintains them insulative. Pigments, especially black pigments and R,
Pigments that exhibit black color alone or as a mixture, such as a mixture of G and Y pigments, are used. In the embodiment, as the photosensitive resin, for example, a photosensitive resin generally contained in a resist material can be used.

【0046】上述した第4の実施形態のように、第1〜
第3の実施形態に係るLCD1においても突起部20及
び周縁遮光層22を同時に形成することが好ましい。こ
の場合、製造プロセスを簡略化し、製造コストを低減さ
せることができる。
As in the above-described fourth embodiment, the first to first embodiments
Also in the LCD 1 according to the third embodiment, it is preferable to form the projection 20 and the peripheral light-shielding layer 22 at the same time. In this case, the manufacturing process can be simplified and the manufacturing cost can be reduced.

【0047】以上説明した第1〜第4の実施形態におい
て、突起部20は、通常、柱状或いはバンプ状に形成さ
れるが、基板2,3間に液晶材料を注入可能であれば壁
状に形成されてもよい。また、突起部20は、画素電極
19に対応する画素領域に形成するよりは、非画素領域
に形成することがより好ましい。この場合、より高い開
口率を実現することができる。さらに、上述した第1〜
第4の実施形態においては、突起部20をアクティブマ
トリクス基板2に形成したが、突起部20は対向基板3
に形成してもよく、アクティブマトリクス基板2及び対
向基板3の双方に形成してもよい。また、第1〜第4の
実施形態では、ネガ型のレジスト材料を用いて突起部2
0を形成したが、ポジ型のレジスト材料を用いることも
できる。
In the first to fourth embodiments described above, the projections 20 are usually formed in the shape of a column or a bump. However, if the liquid crystal material can be injected between the substrates 2 and 3, the projections 20 are formed in the shape of a wall. It may be formed. Further, it is more preferable that the protrusion 20 be formed in a non-pixel region than in a pixel region corresponding to the pixel electrode 19. In this case, a higher aperture ratio can be realized. Furthermore, the above-mentioned first to first
In the fourth embodiment, the protruding portion 20 is formed on the active matrix substrate 2, but the protruding portion 20 is formed on the opposing substrate 3.
May be formed on both the active matrix substrate 2 and the counter substrate 3. In the first to fourth embodiments, the projections 2 are formed using a negative resist material.
Although 0 was formed, a positive resist material can also be used.

【0048】また、第1〜第4の実施形態においては、
LCD1をTN型としたが、STN型、GH型、ECB
型、及び強誘電性液晶を用いるタイプのように他の表示
モードを採用することもできる。さらに、LCD1は、
透過型に限られるものではなく、反射型であってもよ
い。
In the first to fourth embodiments,
LCD1 is TN type, but STN type, GH type, ECB
Other display modes, such as a type and a type using a ferroelectric liquid crystal, can also be adopted. Further, the LCD 1
It is not limited to the transmission type, but may be a reflection type.

【0049】また、第1〜第4の実施形態においては、
アクティブマトリクス駆動方式を採用したが、単純マト
リクス駆動方式を採用してもよい。すなわち、画素電極
19、共通電極32、走査線12、信号線13、及びT
FT14等を形成する代わりに、基板2,3のそれぞれ
の対向面に、これら基板間で互いに直交するように複数
の帯状電極層を形成してもよい。
In the first to fourth embodiments,
Although the active matrix driving method is employed, a simple matrix driving method may be employed. That is, the pixel electrode 19, the common electrode 32, the scanning line 12, the signal line 13, and the T
Instead of forming the FT 14 or the like, a plurality of strip-shaped electrode layers may be formed on the opposing surfaces of the substrates 2 and 3 so as to be orthogonal to each other between the substrates.

【0050】さらに、第1〜第4の実施形態において
は、カラーフィルタ層18をアクティブマトリクス基板
2に設けたが、対向基板3に設けてもよい。また、第1
〜第4の実施形態に係るLCD1はカラーフィルタ層1
8を有するフルカラータイプであるが、LCD1がモノ
クロタイプである場合は、カラーフィルタ層18は必ず
しも設ける必要はない。
Further, in the first to fourth embodiments, the color filter layer 18 is provided on the active matrix substrate 2, but may be provided on the counter substrate 3. Also, the first
LCD 1 according to the fourth embodiment has a color filter layer 1
Although the LCD 1 is a full-color type, when the LCD 1 is a monochrome type, the color filter layer 18 does not always need to be provided.

【0051】[0051]

【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。Embodiments of the present invention will be described below.

【0052】(実施例1)図1に示すLCD1を以下に
示す方法により作製した。まず、厚さ0.7mmのコー
ニング社製#1737ガラス基板11の一方の主面上へ
の成膜とパターニングとを繰り返すことにより、走査線
12、信号線13、及びチャネルがアモルファスシリコ
ンからなるTFT14等を形成した。
Example 1 The LCD 1 shown in FIG. 1 was manufactured by the following method. First, by repeating film formation and patterning on one main surface of a Corning # 1737 glass substrate 11 having a thickness of 0.7 mm, the scanning lines 12, the signal lines 13, and the TFTs 14 whose channels are made of amorphous silicon are formed. Etc. were formed.

【0053】次に、ガラス基板11のTFT14等を形
成した面にパッシベーション膜17を形成した後、この
パッシベーション膜17上に、赤の顔料を分散させた富
士ハントテクノロジー社製の紫外線硬化型アクリル樹脂
レジストをスピナーを用いて塗布し、このレジスト膜
を、フォトマスクを用いることにより赤の画素に対応し
てパターン露光した。なお、この露光には、波長365
nmの光を用い、露光量は100mJ/cm2とした。
その後、露光後のレジスト膜を、TMAH水溶液で50
秒間現像することにより、赤(R)の色領域を形成し
た。
Next, after a passivation film 17 is formed on the surface of the glass substrate 11 on which the TFTs 14 and the like are formed, an ultraviolet curable acrylic resin manufactured by Fuji Hunt Technology and having a red pigment dispersed therein is formed on the passivation film 17. A resist was applied using a spinner, and the resist film was subjected to pattern exposure corresponding to red pixels by using a photomask. This exposure includes a wavelength of 365.
The exposure amount was 100 mJ / cm 2 using light of nm.
Thereafter, the exposed resist film is washed with a TMAH aqueous solution for 50 minutes.
By developing for 2 seconds, a red (R) color area was formed.

【0054】同様の方法により、パッシベーション膜1
7上に緑(G)の色領域及び青(B)の色領域を形成
し、これらを230℃で1時間焼成することにより、
R,B,Gの色領域を有する膜厚3.0μmのカラーフ
ィルタ層18を形成した。このとき、カラーフィルタ層
18等にはスルーホール23も形成した。
In the same manner, the passivation film 1
By forming a green (G) color region and a blue (B) color region on 7 and baking them at 230 ° C. for 1 hour,
A 3.0 μm-thick color filter layer 18 having R, B, and G color regions was formed. At this time, through holes 23 were also formed in the color filter layer 18 and the like.

【0055】次に、カラーフィルタ層18上に、スパッ
タリング法によりITO膜を形成し、このITO膜をパ
ターニングすることにより画素電極19を形成した。な
お、画素電極19とTFT14とはスルーホール23を
介して電気的に接続されている。
Next, an ITO film was formed on the color filter layer 18 by a sputtering method, and the pixel film 19 was formed by patterning the ITO film. Note that the pixel electrode 19 and the TFT 14 are electrically connected via the through hole 23.

【0056】次に、基板11の画素電極19を形成した
面に、着色顔料と感光性樹脂とを含有するレジスト材料
をスピナーを用いて6.0μmの厚さに塗布した。この
レジスト材料としては、R,G,Yの顔料の混合物とガ
ラス転移点が90℃のアクリルエポキシポリマーとガラ
ス転移点が130℃の親水性アクリルエポキシポリマー
とを含有する富士ハントテクノロジー社製の感光性のカ
ーボンレス黒色樹脂を用いた。このようにして形成した
レジスト膜を90℃で10分間乾燥させた後、所定のパ
ターンの開口部が形成されたフォトマスクを用いてパタ
ーン露光した。なお、この露光には、波長365nmの
光を用い、露光量は500mJ/cm2とした。その
後、露光後のレジスト膜を、pH11.5のアルカリ水
溶液を用いて現像し、さらに200℃で60分間焼成す
ることにより、厚さ5.0μmの柱状スペーサ20及び
周縁遮光層22を形成した。このようにして形成した柱
状スペーサ20を調べたところ、柱状スペーサ20は順
テーパ状の断面形状を有していた。
Next, on the surface of the substrate 11 on which the pixel electrodes 19 were formed, a resist material containing a coloring pigment and a photosensitive resin was applied to a thickness of 6.0 μm using a spinner. As the resist material, a photosensitive material manufactured by Fuji Hunt Technology, which contains a mixture of R, G, and Y pigments, an acrylic epoxy polymer having a glass transition point of 90 ° C., and a hydrophilic acrylic epoxy polymer having a glass transition point of 130 ° C. Carbonless black resin was used. After the resist film thus formed was dried at 90 ° C. for 10 minutes, pattern exposure was performed using a photomask in which openings of a predetermined pattern were formed. In this exposure, light having a wavelength of 365 nm was used, and the exposure amount was 500 mJ / cm 2 . Thereafter, the exposed resist film was developed using an alkaline aqueous solution having a pH of 11.5, and was further baked at 200 ° C. for 60 minutes to form a 5.0 μm-thick columnar spacer 20 and a peripheral light-shielding layer 22. When the columnar spacer 20 thus formed was examined, the columnar spacer 20 had a forward tapered cross-sectional shape.

【0057】その後、基板11の柱状スペーサ20を形
成した面に、日本合成ゴム社製のAL−1051を塗布
して厚さ500オングストロームの薄膜を形成し、この
薄膜にラビング処理を施すことにより配向膜21を形成
した。なお、このラビング処理の際に、柱状スペーサ2
0が破壊されることはなかった。以上のようにして、ア
クティブマトリクス基板2を得た。
Thereafter, AL-1051 manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd. was applied to the surface of the substrate 11 on which the columnar spacers 20 were formed to form a thin film having a thickness of 500 angstroms. The film 21 was formed. During this rubbing treatment, the columnar spacer 2
0 was not destroyed. As described above, the active matrix substrate 2 was obtained.

【0058】次に、一方の主面にITOからなる共通電
極32を有する厚さ0.7mmのコーニング社製#17
37ガラス基板31を準備し、上述した配向膜21と同
様の方法により、このガラス基板31の共通電極32が
形成された面に配向膜33を形成した。以上のようにし
て対向基板3を得た。
Next, a 0.7 mm-thick Corning # 17 having a common electrode 32 made of ITO on one main surface.
A 37 glass substrate 31 was prepared, and an alignment film 33 was formed on the surface of the glass substrate 31 on which the common electrode 32 was formed by the same method as that for the alignment film 21 described above. As described above, the opposing substrate 3 was obtained.

【0059】その後、対向基板3の配向膜33を形成し
た面の周縁部(注入口に相当する部分を除く)に接着剤
35を印刷し、その周辺に設けた電極転移電極(図示せ
ず)上に銀ペーストを配置した。次に、配向膜21と配
向膜33とが対向するように、及び配向膜21,33の
ラビング方向が直交するようにアクティブマトリクス基
板2と対向基板3とを重ね合せ、さらに加熱して接着剤
35を硬化させることにより、それらを貼り合せてなる
液晶セルを形成した。
Thereafter, an adhesive 35 is printed on the peripheral portion (excluding the portion corresponding to the injection port) of the surface of the counter substrate 3 on which the alignment film 33 is formed, and an electrode transfer electrode (not shown) provided around the adhesive 35. The silver paste was placed on top. Next, the active matrix substrate 2 and the counter substrate 3 are overlapped so that the alignment films 21 and 33 face each other and the rubbing directions of the alignment films 21 and 33 are orthogonal to each other. By curing 35, a liquid crystal cell was formed by laminating them.

【0060】次に、この液晶セルに通常の方法により液
晶材料を注入し、注入口を紫外線硬化樹脂で封止した。
以上のようにして、図1に示すLCD1を作製した。
Next, a liquid crystal material was injected into the liquid crystal cell by an ordinary method, and the injection port was sealed with an ultraviolet curable resin.
As described above, the LCD 1 shown in FIG. 1 was manufactured.

【0061】上述した方法により作製したLCD1の表
示性能について調べたところ、配向不良に基づく画質の
低下は確認されず、極めて高い表示性能を実現すること
ができた。また、柱状スペーサ20及び周縁遮光層22
は十分な遮光性を有していることが確認された。
When the display performance of the LCD 1 manufactured by the above-described method was examined, no deterioration in image quality due to poor alignment was confirmed, and extremely high display performance was realized. Also, the columnar spacer 20 and the peripheral light-shielding layer 22
Has a sufficient light-shielding property.

【0062】さらに、上述した方法で図1に示すLCD
1の製造を繰り返し行った。その結果、極めて高い歩留
まりを実現することができた。
Further, the LCD shown in FIG.
Production of No. 1 was repeated. As a result, an extremely high yield could be realized.

【0063】(実施例2)図2は、本発明の実施例2に
係るLCD1を概略的に示す断面図である。なお、図2
に示すLCD1は、図1に示すLCD1とは、カラーフ
ィルタ層18が対向基板3に設けられ、アクティブマト
リクス基板2に周縁遮光層22が設けられていない点で
のみ異なっている。したがって、同様の構成部材には同
一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
(Embodiment 2) FIG. 2 is a sectional view schematically showing an LCD 1 according to Embodiment 2 of the present invention. Note that FIG.
1 is different from the LCD 1 shown in FIG. 1 only in that a color filter layer 18 is provided on the counter substrate 3 and the peripheral light-shielding layer 22 is not provided on the active matrix substrate 2. Therefore, the same components are denoted by the same reference numerals, and duplicate description will be omitted.

【0064】図2に示すLCD1を、以下に示す方法に
より作製した。まず、厚さ0.7mmのコーニング社製
#1737ガラス基板11の一方の主面上への成膜とパ
ターニングとを繰り返すことにより、走査線12、信号
線13、及びチャネルがアモルファスシリコンからなる
TFT14等を形成した。
The LCD 1 shown in FIG. 2 was manufactured by the following method. First, by repeating film formation and patterning on one main surface of a Corning # 1737 glass substrate 11 having a thickness of 0.7 mm, the scanning lines 12, the signal lines 13, and the TFTs 14 whose channels are made of amorphous silicon are formed. Etc. were formed.

【0065】次に、ガラス基板11のTFT14等を形
成した面にパッシベーション膜17を形成した。このと
き、パッシベーション膜17にはスルーホール23も形
成した。その後、パッシベーション膜17上に、スパッ
タリング法によりITO膜を形成し、このITO膜をパ
ターニングすることにより画素電極19を形成した。な
お、画素電極19とTFT14とはスルーホール23を
介して電気的に接続されている。
Next, a passivation film 17 was formed on the surface of the glass substrate 11 on which the TFTs 14 and the like were formed. At this time, a through hole 23 was also formed in the passivation film 17. Thereafter, an ITO film was formed on the passivation film 17 by a sputtering method, and the pixel electrode 19 was formed by patterning the ITO film. Note that the pixel electrode 19 and the TFT 14 are electrically connected via the through hole 23.

【0066】次に、基板11の画素電極19を形成した
面に、着色顔料と感光性樹脂とを含有するレジスト材料
をスピナーを用いて6.0μmの厚さに塗布した。この
レジスト材料としては、黒色顔料とガラス転移点が80
℃のポリマーとガラス転移点が110℃のポリマーとを
含有する紫外線硬化型のアクリル樹脂レジストを用い
た。このようにして形成したレジスト膜を90℃で10
分間乾燥させた後、12μmφの開口部が形成されたフ
ォトマスクを用いてパターン露光した。なお、この露光
には、波長365nmの光を用い、露光量は200mJ
/cm2とした。その後、露光後のレジスト膜をpH1
1.5のアルカリ水溶液を用いて現像した。以上のよう
にして形成した柱状体は、中央が括れた柱形状を有して
いた。
Next, on the surface of the substrate 11 on which the pixel electrodes 19 were formed, a resist material containing a coloring pigment and a photosensitive resin was applied to a thickness of 6.0 μm using a spinner. This resist material has a black pigment and a glass transition point of 80.
An ultraviolet-curable acrylic resin resist containing a polymer having a temperature of 110 ° C. and a polymer having a glass transition point of 110 ° C. was used. The resist film thus formed is heated at 90 ° C. for 10
After drying for minutes, pattern exposure was performed using a photomask in which an opening of 12 μmφ was formed. In this exposure, light having a wavelength of 365 nm was used, and the exposure amount was 200 mJ.
/ Cm 2 . Then, the exposed resist film is adjusted to pH 1
Development was carried out using an alkaline aqueous solution of 1.5. The columnar body formed as described above had a columnar shape whose center was constricted.

【0067】この柱状体を220℃に加熱してバンプ状
の形状へと変形させ、この温度を60分間ホールドする
ことにより、バンプ上の柱状体を完全に硬化させた。以
上のようにして、順テーパ状の断面形状を有する柱状ス
ペーサ20を形成した。
The columnar body was heated to 220 ° C. to deform it into a bump-like shape, and the temperature was held for 60 minutes to completely cure the columnar body on the bump. As described above, the columnar spacer 20 having the forward tapered cross-sectional shape was formed.

【0068】その後、基板11の柱状スペーサ20を形
成した面に、日本合成ゴム社製のAL−1051を塗布
して厚さ500オングストロームの薄膜を形成し、この
薄膜にラビング処理を施すことにより配向膜21を形成
した。なお、このラビング処理の際に、柱状スペーサ2
0が破壊されることはなかった。以上のようにして、ア
クティブマトリクス基板2を得た。
Thereafter, AL-1051 manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd. is applied to the surface of the substrate 11 on which the columnar spacers 20 are formed to form a thin film having a thickness of 500 angstroms. The film 21 was formed. During this rubbing treatment, the columnar spacer 2
0 was not destroyed. As described above, the active matrix substrate 2 was obtained.

【0069】次に、一方の主面にカラーフィルタ層18
及びITOからなる共通電極32が順次形成された厚さ
0.7mmのコーニング社製#1737ガラス基板31
を準備し、上述した配向膜21と同様の方法により、こ
のガラス基板31の共通電極32が形成された面に配向
膜33を形成した。以上のようにして対向基板3を得
た。
Next, the color filter layer 18 is formed on one main surface.
# 1737 glass substrate 31 manufactured by Corning and having a thickness of 0.7 mm on which a common electrode 32 made of ITO and ITO is sequentially formed.
Was prepared, and an alignment film 33 was formed on the surface of the glass substrate 31 on which the common electrode 32 was formed by the same method as that for the alignment film 21 described above. As described above, the opposing substrate 3 was obtained.

【0070】その後、実施例1で説明したのと同様の方
法により、液晶セルを形成し、この液晶セルに通常の方
法により液晶材料を注入し、注入口を紫外線硬化樹脂で
封止した。以上のようにして、図2に示すLCD1を作
製した。
Thereafter, a liquid crystal cell was formed in the same manner as described in Example 1, a liquid crystal material was injected into the liquid crystal cell by a usual method, and the injection port was sealed with an ultraviolet curing resin. As described above, the LCD 1 shown in FIG. 2 was manufactured.

【0071】上述した方法により作製したLCD1の表
示性能について調べたところ、配向不良に基づく画質の
低下は確認されず、極めて高い表示性能を実現すること
ができた。また、柱状スペーサ20は十分な遮光性を有
していることが確認された。
When the display performance of the LCD 1 manufactured by the above-described method was examined, no deterioration in image quality due to poor orientation was confirmed, and extremely high display performance was realized. Further, it was confirmed that the columnar spacer 20 had a sufficient light shielding property.

【0072】さらに、上述した方法で図2に示すLCD
1の製造を繰り返し行った。その結果、極めて高い歩留
まりを実現することができた。
Further, the LCD shown in FIG.
Production of No. 1 was repeated. As a result, an extremely high yield could be realized.

【0073】(実施例3)柱状スペーサ20及び周縁遮
光層22を以下に示す方法により形成したこと以外は実
施例1に示したのと同様の方法により図1に示すLCD
1を作製した。すなわち、実施例1に示したのと同様の
方法により基板11の一方の主面上に画素電極19等を
形成した後、基板11の画素電極19を形成した面に、
着色顔料と体質顔料と感光性樹脂とを含有するレジスト
材料をスピナーを用いて6.0μmの厚さに塗布した。
このレジスト材料としては、R,G,Yの顔料の混合物
22質量%と体質顔料である酸化チタン5質量%とを含
有する富士ハントテクノロジー社製の感光性のカーボン
レス黒色樹脂を用いた。
Example 3 The LCD shown in FIG. 1 was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the columnar spacer 20 and the peripheral light-shielding layer 22 were formed by the following method.
1 was produced. That is, after the pixel electrode 19 and the like are formed on one main surface of the substrate 11 by the same method as that described in Embodiment 1, the surface of the substrate 11 where the pixel electrode 19 is formed is
A resist material containing a color pigment, an extender pigment, and a photosensitive resin was applied to a thickness of 6.0 μm using a spinner.
As the resist material, a photosensitive carbonless black resin manufactured by Fuji Hunt Technology Inc. containing 22% by mass of a mixture of R, G and Y pigments and 5% by mass of titanium oxide as an extender was used.

【0074】このようにして形成したレジスト膜に、実
施例1に示したのと同様の処理を施すことにより、厚さ
5.0μmの柱状スペーサ20及び周縁遮光層22を形
成した。このようにして形成した柱状スペーサ20を調
べたところ、柱状スペーサ20は順テーパ状の断面形状
を有していた。
The resist film thus formed was subjected to the same processing as described in Example 1 to form a 5.0 μm-thick columnar spacer 20 and a peripheral light-shielding layer 22. When the columnar spacer 20 thus formed was examined, the columnar spacer 20 had a forward tapered cross-sectional shape.

【0075】その後、実施例1で説明したのと同様の方
法により、液晶セルを形成し、この液晶セルに通常の方
法により液晶材料を注入し、注入口を紫外線硬化樹脂で
封止した。以上のようにして、図1に示すLCD1を作
製した。
Thereafter, a liquid crystal cell was formed in the same manner as described in Example 1, a liquid crystal material was injected into the liquid crystal cell by a usual method, and the injection port was sealed with an ultraviolet curing resin. As described above, the LCD 1 shown in FIG. 1 was manufactured.

【0076】上述した方法により作製したLCD1の表
示性能について調べたところ、配向不良に基づく画質の
低下は確認されず、極めて高い表示性能を実現すること
ができた。また、柱状スペーサ20及び周縁遮光層22
は十分な遮光性を有していることが確認された。
When the display performance of the LCD 1 manufactured by the above-described method was examined, no deterioration in image quality due to poor alignment was confirmed, and extremely high display performance was realized. Also, the columnar spacer 20 and the peripheral light-shielding layer 22
Has a sufficient light-shielding property.

【0077】さらに、上述した方法で図1に示すLCD
1の製造を繰り返し行った。その結果、極めて高い歩留
まりを実現することができた。
Further, the LCD shown in FIG.
Production of No. 1 was repeated. As a result, an extremely high yield could be realized.

【0078】(実施例4)柱状スペーサ20を以下に示
す方法により形成したこと以外は実施例2に示したのと
同様の方法により図2に示すLCD1を作製した。すな
わち、実施例2に示したのと同様の方法により基板11
の一方の主面上に画素電極19等を形成した後、基板1
1の画素電極19を形成した面に、着色顔料と体質顔料
と感光性樹脂とを含有するレジスト材料をスピナーを用
いて6.0μmの厚さに塗布した。このレジスト材料と
しては、黒色顔料25質量%と体質顔料である硫酸バリ
ウム10質量%とを含有する紫外線硬化型のアクリル樹
脂レジストを用いた。
Example 4 An LCD 1 shown in FIG. 2 was manufactured in the same manner as in Example 2 except that the columnar spacer 20 was formed by the method described below. That is, the substrate 11 is formed in the same manner as in the second embodiment.
After the pixel electrode 19 and the like are formed on one main surface of the
A resist material containing a coloring pigment, an extender pigment, and a photosensitive resin was applied to the surface on which the one pixel electrode 19 was formed to a thickness of 6.0 μm using a spinner. As the resist material, an ultraviolet-curable acrylic resin resist containing 25% by mass of a black pigment and 10% by mass of barium sulfate as an extender was used.

【0079】このようにして形成したレジスト膜に、実
施例2に示したのと同様の処理を施すことにより、バン
プ状の形状を有する柱状スペーサ20を形成した。
The resist film thus formed was subjected to the same processing as shown in Example 2 to form a columnar spacer 20 having a bump-like shape.

【0080】その後、実施例2で説明したのと同様の方
法により、液晶セルを形成し、この液晶セルに通常の方
法により液晶材料を注入し、注入口を紫外線硬化樹脂で
封止した。以上のようにして、図2に示すLCD1を作
製した。
Thereafter, a liquid crystal cell was formed in the same manner as described in Example 2, a liquid crystal material was injected into the liquid crystal cell by a usual method, and the injection port was sealed with an ultraviolet curing resin. As described above, the LCD 1 shown in FIG. 2 was manufactured.

【0081】上述した方法により作製したLCD1の表
示性能について調べたところ、配向不良に基づく画質の
低下は確認されず、極めて高い表示性能を実現すること
ができた。また、柱状スペーサ20は十分な遮光性を有
していることが確認された。
When the display performance of the LCD 1 manufactured by the above-described method was examined, no deterioration in image quality due to poor alignment was confirmed, and extremely high display performance was realized. Further, it was confirmed that the columnar spacer 20 had a sufficient light shielding property.

【0082】さらに、上述した方法で図2に示すLCD
1の製造を繰り返し行った。その結果、極めて高い歩留
まりを実現することができた。
Further, the LCD shown in FIG.
Production of No. 1 was repeated. As a result, an extremely high yield could be realized.

【0083】(実施例5)柱状スペーサ20及び周縁遮
光層22を以下に示す方法により形成したこと以外は実
施例1に示したのと同様の方法により図1に示すLCD
1を作製した。すなわち、実施例1に示したのと同様の
方法により基板11の一方の主面上に画素電極19等を
形成した後、基板11の画素電極19を形成した面に、
着色顔料と感光性樹脂とを含有するレジスト材料をスピ
ナーを用いて6.0μmの厚さに塗布した。このレジス
ト材料としては、R,G,Yの着色顔料の混合物と平均
分子量が35000のアクリルエポキシポリマーと平均
分子量が25000の親水性アクリルポリマーとを含有
する富士ハントテクノロジー社製の感光性のカーボンレ
ス黒色樹脂を用いた。
Embodiment 5 The LCD shown in FIG. 1 is manufactured in the same manner as in Embodiment 1 except that the columnar spacer 20 and the peripheral light-shielding layer 22 are formed by the following method.
1 was produced. That is, after the pixel electrode 19 and the like are formed on one main surface of the substrate 11 by the same method as that described in Embodiment 1, the surface of the substrate 11 where the pixel electrode 19 is formed is
A resist material containing a color pigment and a photosensitive resin was applied to a thickness of 6.0 μm using a spinner. As the resist material, a photosensitive carbonless photosensitive resin manufactured by Fuji Hunt Technology, which contains a mixture of R, G, and Y color pigments, an acrylic epoxy polymer having an average molecular weight of 35,000, and a hydrophilic acrylic polymer having an average molecular weight of 25,000. Black resin was used.

【0084】このようにして形成したレジスト膜に、実
施例1に示したのと同様の処理を施すことにより、厚さ
5.0μmの柱状スペーサ20及び周縁遮光層22を形
成した。このようにして形成した柱状スペーサ20を調
べたところ、柱状スペーサ20は順テーパ状の断面形状
を有していた。また、これら柱状スペーサ20及び周縁
遮光層22に含まれるポリマー種の平均分子量は、いず
れも15000〜40000の範囲内にあった。
The resist film thus formed was subjected to the same processing as shown in Example 1 to form a 5.0 μm-thick columnar spacer 20 and a peripheral light-shielding layer 22. When the columnar spacer 20 thus formed was examined, the columnar spacer 20 had a forward tapered cross-sectional shape. The average molecular weight of the polymer species contained in the columnar spacer 20 and the peripheral light-shielding layer 22 was in the range of 15,000 to 40,000.

【0085】その後、実施例1で説明したのと同様の方
法により、液晶セルを形成し、この液晶セルに通常の方
法により液晶材料を注入し、注入口を紫外線硬化樹脂で
封止した。以上のようにして、図1に示すLCD1を作
製した。
Thereafter, a liquid crystal cell was formed by the same method as described in Example 1, a liquid crystal material was injected into the liquid crystal cell by a usual method, and the injection port was sealed with an ultraviolet curable resin. As described above, the LCD 1 shown in FIG. 1 was manufactured.

【0086】上述した方法により作製したLCD1の表
示性能について調べたところ、配向不良に基づく画質の
低下は確認されず、極めて高い表示性能を実現すること
ができた。また、柱状スペーサ20及び周縁遮光層22
は十分な遮光性を有していることが確認された。
When the display performance of the LCD 1 manufactured by the above-described method was examined, no deterioration in image quality due to poor orientation was confirmed, and extremely high display performance was realized. Also, the columnar spacer 20 and the peripheral light-shielding layer 22
Has a sufficient light-shielding property.

【0087】さらに、上述した方法で図1に示すLCD
1の製造を繰り返し行った。その結果、極めて高い歩留
まりを実現することができた。
Further, the LCD shown in FIG.
Production of No. 1 was repeated. As a result, an extremely high yield could be realized.

【0088】(実施例6)柱状スペーサ20を以下に示
す方法により形成したこと以外は実施例2に示したのと
同様の方法により図2に示すLCD1を作製した。すな
わち、実施例2に示したのと同様の方法により基板11
の一方の主面上に画素電極19等を形成した後、基板1
1の画素電極19を形成した面に、着色顔料と感光性樹
脂とを含有するレジスト材料をスピナーを用いて6.0
μmの厚さに塗布した。このレジスト材料としては、黒
色顔料と平均分子量が25000のポリマーとを含有す
る紫外線硬化型のアクリル樹脂レジストを用いた。
Example 6 An LCD 1 shown in FIG. 2 was manufactured in the same manner as in Example 2 except that the columnar spacer 20 was formed by the method described below. That is, the substrate 11 is formed in the same manner as in the second embodiment.
After the pixel electrode 19 and the like are formed on one main surface of the
A resist material containing a color pigment and a photosensitive resin is applied to the surface on which the first pixel electrode 19 is formed by using a spinner by 6.0.
It was applied to a thickness of μm. As the resist material, an ultraviolet curable acrylic resin resist containing a black pigment and a polymer having an average molecular weight of 25,000 was used.

【0089】このようにして形成したレジスト膜に、実
施例2に示したのと同様の処理を施すことにより、バン
プ状の形状を有する柱状スペーサ20を形成した。な
お、この柱状スペーサ20に含まれるポリマー種の平均
分子量は、いずれも15000〜40000の範囲内に
あった。
The resist film thus formed was subjected to the same processing as that shown in Example 2 to form a columnar spacer 20 having a bump-like shape. The average molecular weight of the polymer species contained in the columnar spacer 20 was in the range of 15,000 to 40,000.

【0090】その後、実施例2で説明したのと同様の方
法により、液晶セルを形成し、この液晶セルに通常の方
法により液晶材料を注入し、注入口を紫外線硬化樹脂で
封止した。以上のようにして、図2に示すLCD1を作
製した。
Thereafter, a liquid crystal cell was formed in the same manner as described in Example 2, a liquid crystal material was injected into the liquid crystal cell by a usual method, and the injection port was sealed with an ultraviolet curing resin. As described above, the LCD 1 shown in FIG. 2 was manufactured.

【0091】上述した方法により作製したLCD1の表
示性能について調べたところ、配向不良に基づく画質の
低下は確認されず、極めて高い表示性能を実現すること
ができた。また、柱状スペーサ20は十分な遮光性を有
していることが確認された。
When the display performance of the LCD 1 manufactured by the above-described method was examined, no deterioration in image quality due to poor orientation was confirmed, and extremely high display performance was realized. Further, it was confirmed that the columnar spacer 20 had a sufficient light shielding property.

【0092】さらに、上述した方法で図2に示すLCD
1の製造を繰り返し行った。その結果、極めて高い歩留
まりを実現することができた。
Further, the LCD shown in FIG.
Production of No. 1 was repeated. As a result, an extremely high yield could be realized.

【0093】(実施例7)柱状スペーサ20及び周縁遮
光層22を以下に示す方法により形成したこと以外は実
施例1に示したのと同様の方法により図1に示すLCD
1を作製した。すなわち、実施例1に示したのと同様の
方法により基板11の一方の主面上に画素電極19等を
形成した後、基板11の画素電極19を形成した面に、
着色顔料と感光性樹脂とを含有するレジスト材料をスピ
ナーを用いて6.0μmの厚さに塗布した。このレジス
ト材料としては、R,G,Yの着色顔料の混合物を28
質量%の濃度で含有する富士ハントテクノロジー社製の
感光性のカーボンレス黒色樹脂を用いた。
Example 7 The LCD shown in FIG. 1 was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the columnar spacers 20 and the peripheral light-shielding layer 22 were formed by the following method.
1 was produced. That is, after the pixel electrode 19 and the like are formed on one main surface of the substrate 11 by the same method as that described in Embodiment 1, the surface of the substrate 11 where the pixel electrode 19 is formed is
A resist material containing a color pigment and a photosensitive resin was applied to a thickness of 6.0 μm using a spinner. As the resist material, a mixture of R, G, and Y color pigments is used.
A photosensitive carbonless black resin manufactured by Fuji Hunt Technology and contained at a concentration of mass% was used.

【0094】このようにして形成したレジスト膜に、実
施例1に示したのと同様の処理を施すことにより、厚さ
5.0μmの柱状スペーサ20及び周縁遮光層22を形
成した。このようにして形成した柱状スペーサ20を調
べたところ、柱状スペーサ20は順テーパ状の断面形状
を有していた。
The resist film thus formed was subjected to the same processing as that shown in Example 1 to form a 5.0 μm thick columnar spacer 20 and a peripheral light-shielding layer 22. When the columnar spacer 20 thus formed was examined, the columnar spacer 20 had a forward tapered cross-sectional shape.

【0095】その後、実施例1で説明したのと同様の方
法により、液晶セルを形成し、この液晶セルに通常の方
法により液晶材料を注入し、注入口を紫外線硬化樹脂で
封止した。以上のようにして、図1に示すLCD1を作
製した。
Thereafter, a liquid crystal cell was formed in the same manner as described in Example 1, a liquid crystal material was injected into the liquid crystal cell by a usual method, and the injection port was sealed with an ultraviolet curing resin. As described above, the LCD 1 shown in FIG. 1 was manufactured.

【0096】上述した方法により作製したLCD1の表
示性能について調べたところ、配向不良に基づく画質の
低下は確認されず、極めて高い表示性能を実現すること
ができた。また、柱状スペーサ20及び周縁遮光層22
は十分な遮光性を有していることが確認された。
When the display performance of the LCD 1 manufactured by the above-described method was examined, no deterioration in image quality due to poor orientation was confirmed, and extremely high display performance was realized. Also, the columnar spacer 20 and the peripheral light-shielding layer 22
Has a sufficient light-shielding property.

【0097】さらに、上述した方法で図1に示すLCD
1の製造を繰り返し行った。その結果、極めて高い歩留
まりを実現することができた。
Further, the LCD shown in FIG.
Production of No. 1 was repeated. As a result, an extremely high yield could be realized.

【0098】[0098]

【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、所定の組成のレジスト材料を用いて一対の基板のい
ずれかの対向面に遮光性スペーサを形成すること、すな
わち遮光性スペーサを所定の組成とすることにより、遮
光性スペーサの機械的強度及び熱変形性の双方を向上さ
せることができる。したがって、本発明によると、遮光
性スペーサを所望の形状に形成すること並びに配向処理
による遮光性スペーサの破壊等を防止することが可能と
なる。
As described above, according to the present invention, a light-shielding spacer is formed on one of the opposing surfaces of a pair of substrates using a resist material having a predetermined composition. By using the composition, both the mechanical strength and the heat deformability of the light shielding spacer can be improved. Therefore, according to the present invention, it is possible to form the light-shielding spacer into a desired shape and to prevent the light-shielding spacer from being destroyed due to the alignment treatment.

【0099】すなわち、本発明によると、一対の基板の
いずれかの対向面に遮光性のスペーサを有し且つ良好な
表示性能と高い歩留まりとを同時に実現することが可能
な液晶表示装置が提供される。
That is, according to the present invention, there is provided a liquid crystal display device having a light-shielding spacer on one of the opposing surfaces of a pair of substrates and capable of simultaneously realizing good display performance and high yield. You.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1〜第4の実施形態に係る液晶表示
装置を概略的に示す断面図。
FIG. 1 is a sectional view schematically showing a liquid crystal display device according to first to fourth embodiments of the present invention.

【図2】本発明の実施例に係る液晶表示装置を概略的に
示す断面図。
FIG. 2 is a sectional view schematically showing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…液晶表示装置 ; 2…アクティブマトリクス基板
; 3…対向基板 4…液晶層 ; 11,31…透明基板 ; 12…走
査線 13…信号線 ; 14…薄膜トランジスタ ; 15
…半導体層 16…電極 ; 17…パッシベーション膜 ; 18
…カラーフィルタ層 19…画素電極 ; 20…突起部 ; 21,33…
配向膜 22…周縁遮光層 ; 23…スルーホール ; 32
…共通電極 35…接着剤
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Liquid crystal display device; 2 ... Active matrix substrate; 3 ... Counter substrate 4 ... Liquid crystal layer; 11, 31 ... Transparent substrate; 12 ... Scanning line 13 ... Signal line; 14 ... Thin film transistor;
... semiconductor layer 16 ... electrode; 17 ... passivation film; 18
... Color filter layer 19 ... Pixel electrode; 20 ... Protrusion; 21,33 ...
Alignment film 22: Peripheral light shielding layer; 23: Through hole; 32
... common electrode 35 ... adhesive

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 武志 埼玉県深谷市幡羅町1丁目9番2号 株式 会社東芝深谷工場内 (72)発明者 羽藤 仁 埼玉県深谷市幡羅町1丁目9番2号 株式 会社東芝深谷工場内 Fターム(参考) 2H089 LA09 LA14 MA01X MA04X PA02 PA07 QA02 QA12 TA09 TA12 TA13  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Takeshi Yamamoto 1-9-2 Harara-cho, Fukaya-shi, Saitama Prefecture Inside the Toshiba Fukaya Plant (72) Inventor Hitoshi Hato 1-9-1-2 Harara-cho, Fukaya-shi, Saitama No. F-term in Toshiba Fukaya Plant (reference) 2H089 LA09 LA14 MA01X MA04X PA02 PA07 QA02 QA12 TA09 TA12 TA13

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 対向して配置されそれぞれの対向面に電
極層が設けられた一対の基板と、前記一対の基板の一方
の対向面に形成され前記一対の基板間の間隔を一定に保
つ遮光性のスペーサと、前記一対の基板間に挟持された
液晶層とを具備し、 前記スペーサは、顔料とそれぞれガラス転移点の異なる
複数種のポリマーとを含有することを特徴とする液晶表
示装置。
1. A pair of substrates, which are disposed to face each other and have an electrode layer provided on each of the opposing surfaces, and a light shield formed on one of the opposing surfaces of the pair of substrates to maintain a constant distance between the pair of substrates. A liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates, wherein the spacer contains a pigment and a plurality of polymers each having a different glass transition point.
【請求項2】 前記スペーサは、ガラス転移点が170
℃以下のポリマー及びガラス転移点が80℃以上のポリ
マーを含有することを特徴とする請求項1に記載の液晶
表示装置。
2. The spacer has a glass transition point of 170.
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device contains a polymer having a glass transition point of 80 ° C or higher.
【請求項3】 前記スペーサは、ガラス転移点が100
℃以上のポリマーを15質量%以下の濃度で含有するこ
とを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示装
置。
3. The spacer has a glass transition point of 100.
The liquid crystal display device according to claim 1, further comprising a polymer having a temperature of not less than 15 ° C. at a concentration of 15% by mass or less.
【請求項4】 対向して配置されそれぞれの対向面に電
極層が設けられた一対の基板と、前記一対の基板の一方
の対向面に形成され前記一対の基板間の間隔を一定に保
つ遮光性のスペーサと、前記一対の基板間に挟持された
液晶層とを具備し、 前記スペーサは、着色顔料と3質量%〜20質量%の体
質顔料とポリマーとを含有することを特徴とする液晶表
示装置。
4. A pair of substrates, which are disposed to face each other and have an electrode layer on each of the opposing surfaces, and a light shield formed on one of the opposing surfaces of the pair of substrates to maintain a constant distance between the pair of substrates. And a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates, wherein the spacer contains a coloring pigment, 3 to 20% by weight of an extender and a polymer. Display device.
【請求項5】 前記スペーサに含まれる前記着色顔料及
び前記体質顔料の濃度の和は40質量%以下であること
を特徴とする請求項4に記載の液晶表示装置。
5. The liquid crystal display device according to claim 4, wherein the sum of the concentrations of the coloring pigment and the extender contained in the spacer is 40% by mass or less.
【請求項6】 対向して配置されそれぞれの対向面に電
極層が設けられた一対の基板と、前記一対の基板の一方
の対向面に形成され前記一対の基板間の間隔を一定に保
つ遮光性のスペーサと、前記一対の基板間に挟持された
液晶層とを具備し、 前記スペーサは、顔料と平均分子量が15000〜40
000のポリマーとを含有することを特徴とする液晶表
示装置。
6. A pair of substrates which are disposed to face each other and have an electrode layer provided on each of the opposing surfaces, and a light-shielding member formed on one of the opposing surfaces of the pair of substrates to keep a constant distance between the pair of substrates. And a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates. The spacer has a pigment and an average molecular weight of 15,000 to 40.
A liquid crystal display device comprising 000 polymers.
【請求項7】 前記スペーサは、ポリマー種として平均
分子量が15000〜40000のポリマーのみを含有
することを特徴とする請求項6に記載の液晶表示装置。
7. The liquid crystal display device according to claim 6, wherein the spacer contains only a polymer having an average molecular weight of 15,000 to 40,000 as a polymer species.
【請求項8】 前記一対の基板の前記スペーサが形成さ
れた面にその周縁部を遮光するように形成された周縁遮
光層をさらに具備し、前記スペーサと前記周縁遮光層と
は同一の材料からなることを特徴とする請求項1ないし
7のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
8. The image forming apparatus further comprises a peripheral light-shielding layer formed on a surface of the pair of substrates on which the spacer is formed, so as to shield a peripheral portion thereof, wherein the spacer and the peripheral light-shielding layer are made of the same material. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein:
【請求項9】 対向して配置されそれぞれの対向面に電
極層が設けられた一対の基板と、前記一対の基板の一方
の対向面に形成され前記一対の基板間の間隔を一定に保
つ遮光性のスペーサと、前記一対の基板の前記スペーサ
が形成された面にその周縁部を遮光するように形成され
た周縁遮光層と、前記一対の基板間に挟持された液晶層
とを具備し、 前記スペーサ及び前記周縁遮光層は、20質量%〜35
質量%の顔料とポリマーとを含有することを特徴とする
液晶表示装置。
9. A pair of substrates, which are disposed to face each other and have an electrode layer provided on each of the opposing surfaces, and a light-shielding member formed on one of the opposing surfaces of the pair of substrates to keep a constant distance between the pair of substrates. A spacer, a peripheral light-shielding layer formed on the surface of the pair of substrates on which the spacers are formed to shield the peripheral edge thereof, and a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates. 20% by mass to 35% by weight of the spacer and the peripheral light-shielding layer.
A liquid crystal display device comprising: a pigment and a polymer by mass%.
【請求項10】 前記スペーサ及び前記周縁遮光層は同
一の材料からなることを特徴とする請求項9に記載の液
晶表示装置。
10. The liquid crystal display device according to claim 9, wherein the spacer and the peripheral light-shielding layer are made of the same material.
【請求項11】 前記一対の基板の一方は、その対向面
上に走査線と信号線と前記走査線及び前記信号線に接続
されたスイッチング素子と前記スイッチング素子に接続
された画素電極とを有するアクティブマトリクス基板で
あり、 前記一対の基板の他方は、その対向面上に共通電極を有
する対向基板であることを特徴とする請求項1ないし1
0のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
11. One of the pair of substrates has a scanning line, a signal line, a switching element connected to the scanning line and the signal line, and a pixel electrode connected to the switching element on an opposing surface thereof. 2. The active matrix substrate, wherein the other of the pair of substrates is a counter substrate having a common electrode on its opposing surface. 3.
0. The liquid crystal display device according to any one of 0.
【請求項12】 前記アクティブマトリクス基板は、そ
の対向面にカラーフィルタ層をさらに具備することを特
徴とする請求項11に記載の液晶表示装置。
12. The liquid crystal display device according to claim 11, wherein the active matrix substrate further includes a color filter layer on a surface facing the active matrix substrate.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007079612A (en) * 2002-12-31 2007-03-29 Lg Philips Lcd Co Ltd Reflective liquid crystal display device and method for manufacturing thereof

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