JP2001133601A - Microlens array, manufacturing method therefor, and display device - Google Patents

Microlens array, manufacturing method therefor, and display device

Info

Publication number
JP2001133601A
JP2001133601A JP31344599A JP31344599A JP2001133601A JP 2001133601 A JP2001133601 A JP 2001133601A JP 31344599 A JP31344599 A JP 31344599A JP 31344599 A JP31344599 A JP 31344599A JP 2001133601 A JP2001133601 A JP 2001133601A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transmitting layer
microlens array
manufacturing
light
layer precursor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP31344599A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Takakuwa
敦司 高桑
Hisao Nishikawa
尚男 西川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP31344599A priority Critical patent/JP2001133601A/en
Publication of JP2001133601A publication Critical patent/JP2001133601A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a microlens array where formation of bubbles is prevented, its manufacturing method, and a display device. SOLUTION: This method includes a first stage where a master disk 10 provided with a first area 12, where a curved surface part 16 corresponding to a lens is formed and a corner part is provided, and a second area 14 which is formed with a flat surface adjacent to the corner part 18 is prepared and the first area 12 is provided with a light-transmissive layer precursor 38 and a second stage, where the light-transmissive layer precursor 38 is spread on the master disk. In the first stage, a first part 41 of the light-transmissive layer precursor 38 is provided in the center part of the first area 12, and a second part 42 of the light-transmissive layer precursor 38 is provided in the vicinity of the corner part 18 in the first area.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、マイクロレンズア
レイ及びその製造方法並びに表示装置に関する。
The present invention relates to a microlens array, a method for manufacturing the same, and a display device.

【0002】[0002]

【発明の背景】液晶表示パネル等に使用されるマイクロ
レンズアレイの製造方法として、レンズに対応する複数
の曲面部が形成された原盤に樹脂を滴下し、この樹脂を
固化して光透過性層を形成し、これを剥離することで、
マイクロレンズアレイを製造する方法が知られている。
BACKGROUND OF THE INVENTION As a method of manufacturing a microlens array used for a liquid crystal display panel or the like, a resin is dropped on a master on which a plurality of curved surfaces corresponding to lenses are formed, and the resin is solidified to form a light transmitting layer. By forming and peeling this,
Methods for manufacturing microlens arrays are known.

【0003】ここで、原盤として、複数の曲面部が矩形
領域に形成され、かつ、その矩形領域の周囲に平坦領域
が形成されたものを使用し、樹脂を原盤の中央に滴下し
て、他の基板と原盤とを樹脂を介して密着させると、曲
面部が形成された矩形領域のコーナー部に気泡ができて
しまう。
Here, a master having a plurality of curved surface portions formed in a rectangular area and a flat area formed around the rectangular area is used. When the substrate and the master are brought into close contact with each other via a resin, air bubbles are formed at the corners of the rectangular area where the curved surface is formed.

【0004】その作用は次のように推測される。原盤の
中央から矩形領域のコーナー部への距離は、原盤の中央
から矩形領域の各辺への距離よりも長い。したがって、
樹脂は、コーナー部よりも速く、矩形領域の各辺を超え
て平坦領域に至る。そして、平坦領域で矩形領域を回り
込んでコーナー部に進んできた樹脂と、原盤の中央から
コーナー部に進んできた樹脂とで、空間を囲んでしまっ
て気泡ができると推測される。気泡ができたマイクロレ
ンズアレイは使用することができないので、歩留まりを
上げるためにさらなる改良が求められている。
The effect is presumed as follows. The distance from the center of the master to the corner of the rectangular area is longer than the distance from the center of the master to each side of the rectangular area. Therefore,
The resin is faster than the corners and extends over each side of the rectangular area to the flat area. Then, it is presumed that air bubbles are generated by enclosing the space by the resin that has advanced to the corners around the rectangular area in the flat area and the resin that has advanced to the corners from the center of the master. Since a microlens array with bubbles cannot be used, further improvement is required to increase the yield.

【0005】本発明は、このような問題点を解決するも
ので、その目的は、気泡の形成が防止されたマイクロレ
ンズアレイ及びその製造方法並びに表示装置を提供する
ことにある。
An object of the present invention is to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a microlens array in which bubbles are prevented from being formed, a method of manufacturing the same, and a display device.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】(1)本発明に係るマイ
クロレンズアレイの製造方法は、レンズに対応した形状
の複数の曲面部が形成されてコーナー部を有する第1領
域と、前記第1領域の前記コーナー部に隣接して平坦な
面で形成された第2領域と、を有する原盤を用意して、
前記原盤における前記第1領域に光透過性層前駆体を設
ける第1工程と、前記原盤上で、前記光透過性層前駆体
を塗り拡げる第2工程と、を含み、前記第1工程で、前
記第1領域の中央部に前記光透過性層前駆体の第1の部
分を設け、前記第1領域内の前記コーナー部付近に前記
光透過性層前駆体の第2の部分を設ける。
(1) In a method of manufacturing a microlens array according to the present invention, a first region having a plurality of curved surfaces having a shape corresponding to a lens and having a corner portion; A second region formed of a flat surface adjacent to the corner portion of the region,
A first step of providing a light-transmitting layer precursor in the first region of the master, and a second step of spreading the light-transmitting layer precursor on the master, wherein the first step includes: A first portion of the light-transmitting layer precursor is provided at a central portion of the first region, and a second portion of the light-transmitting layer precursor is provided near the corner in the first region.

【0007】本発明では、原盤を型として、複数の曲面
部を光透過性層前駆体に転写してマイクロレンズアレイ
を製造する。原盤は、一旦製造すればその後、耐久性の
許す限り何度でも使用できるため、2枚目以降のマイク
ロレンズアレイの製造工程において省略でき、工程数の
減少および低コスト化を図ることができる。
In the present invention, a microlens array is manufactured by transferring a plurality of curved surface portions to a light transmitting layer precursor using a master as a mold. Once the master is manufactured, it can be used as many times as the durability permits, so that the master can be omitted in the manufacturing process of the second and subsequent microlens arrays, and the number of processes and cost can be reduced.

【0008】本発明によれば、コーナー部付近に光透過
性層前駆体の第2の部分を設ける。したがって、光透過
性層前駆体の第1の部分が、塗り拡げられて、第2領域
上においてコーナー部の先端付近で2方向から合流する
前に、第1の部分が塗り拡げられてコーナー部の先端に
至る。したがって、コーナー部で光透過性層前駆体が空
間を囲まないので、気泡の発生を防止することができ
る。これにより、製造されるマイクロレンズアレイの品
質の均一化を図ることができる。
According to the present invention, a second portion of the light transmitting layer precursor is provided near the corner. Therefore, before the first portion of the light transmitting layer precursor is spread and merged from the two directions near the tip of the corner portion on the second region, the first portion is spread and corner portion is spread. To the tip of. Therefore, since the light-transmitting layer precursor does not surround the space at the corner, the generation of bubbles can be prevented. Thereby, the quality of the manufactured microlens array can be made uniform.

【0009】(2)このマイクロレンズアレイの製造方
法において、前記光透過性層前駆体の前記第2の部分
を、前記第1の部分よりも少ない量で設けてもよい。
(2) In this method of manufacturing a microlens array, the second portion of the light transmitting layer precursor may be provided in a smaller amount than the first portion.

【0010】第2の部分は、第1の部分よりも原盤の端
部に近いので、第1の部分よりも少ない量で設けること
で、原盤からの流出を減らすことができる。
Since the second portion is closer to the end of the master than the first portion, by providing a smaller amount than the first portion, it is possible to reduce the outflow from the master.

【0011】(3)このマイクロレンズアレイの製造方
法において、前記中央部及び前記コーナー部付近を除い
た前記第1領域の位置に、前記光透過性層前駆体の第3
の部分を設けてもよい。
(3) In the method of manufacturing a microlens array, the third portion of the light transmitting layer precursor may be provided at the position of the first region except for the vicinity of the central portion and the corner portion.
May be provided.

【0012】こうすることで、光透過性層前駆体の量を
補うことができる。
This makes it possible to supplement the amount of the light transmitting layer precursor.

【0013】(4)このマイクロレンズアレイの製造方
法において、前記光透過性層前駆体の前記第3の部分
を、前記第1の部分よりも少ない量で設けてもよい。
(4) In the method of manufacturing a microlens array, the third portion of the light transmitting layer precursor may be provided in a smaller amount than the first portion.

【0014】第3の部分は、第1の部分よりも原盤の端
部に近いので、第1の部分よりも少ない量で設けること
で、原盤からの流出を減らすことができる。
Since the third portion is closer to the end of the master than the first portion, by providing a smaller amount than the first portion, it is possible to reduce the outflow from the master.

【0015】(5)このマイクロレンズアレイの製造方
法において、前記光透過性層前駆体の前記第2の部分
を、前記第3の部分よりも少ない量で設けてもよい。
(5) In the method of manufacturing a microlens array, the second portion of the light transmitting layer precursor may be provided in a smaller amount than the third portion.

【0016】(6)このマイクロレンズアレイの製造方
法において、前記光透過性層前駆体の前記第1の部分以
外の部分を、前記第1の部分の約30%以上90%以下
の量で設けてもよい。
(6) In this method of manufacturing a microlens array, a portion other than the first portion of the light transmitting layer precursor is provided in an amount of about 30% to 90% of the first portion. You may.

【0017】(7)このマイクロレンズアレイの製造方
法において、前記第1領域は、平坦な面で形成された区
画面によって、複数の個別領域に区画されていてもよ
い。
(7) In this method of manufacturing a microlens array, the first region may be divided into a plurality of individual regions by a division screen formed by a flat surface.

【0018】この原盤を使用して製造されたマイクロレ
ンズアレイは、原盤の複数の個別領域に対応して、複数
の領域に区画されているので、各領域毎に切断して複数
のチップ状のマイクロレンズアレイを得ることができ
る。
The microlens array manufactured by using this master is divided into a plurality of areas corresponding to a plurality of individual areas of the master, so that each area is cut into a plurality of chips. A microlens array can be obtained.

【0019】(8)このマイクロレンズアレイの製造方
法において、前記光透過性層前駆体の前記第1の部分
を、前記第1領域の中央部に位置する少なくとも1つの
前記個別領域に設けてもよい。
(8) In this method of manufacturing a microlens array, the first portion of the light transmitting layer precursor may be provided in at least one of the individual regions located at the center of the first region. Good.

【0020】(9)このマイクロレンズアレイの製造方
法において、前記光透過性層前駆体の前記第2の部分
を、前記第1領域のコーナー部を形成する部分を含むい
ずれかの前記個別領域に設けてもよい。
(9) In this method of manufacturing a microlens array, the second portion of the light transmitting layer precursor may be placed in any one of the individual regions including a portion forming a corner of the first region. It may be provided.

【0021】(10)このマイクロレンズアレイの製造
方法において、前記光透過性層前駆体を固化して光透過
性層を形成し、前記原盤を、前記光透過性層から剥離す
る第3工程をさらに含んでもよい。
(10) In this method of manufacturing a microlens array, a third step of solidifying the light-transmitting layer precursor to form a light-transmitting layer, and separating the master from the light-transmitting layer is provided. It may further include.

【0022】(11)このマイクロレンズアレイの製造
方法において、前記第2工程を、基板と前記原盤とを前
記光透過性層前駆体を介して密着させることで行っても
よい。
(11) In this method of manufacturing a microlens array, the second step may be performed by bringing the substrate and the master into close contact with each other via the light-transmitting layer precursor.

【0023】(12)このマイクロレンズアレイの製造
方法において、前記基板は、光透過性を有し、前記基板
を、前記光透過性層の補強板として残してもよい。
(12) In this method of manufacturing a microlens array, the substrate may have a light transmitting property, and the substrate may be left as a reinforcing plate for the light transmitting layer.

【0024】(13)このマイクロレンズアレイの製造
方法において、前記第2工程後に、前記基板を前記光透
過性層から剥離してもよい。
(13) In this method of manufacturing a microlens array, the substrate may be separated from the light transmitting layer after the second step.

【0025】(14)本発明に係るマイクロレンズアレ
イは、上記方法により製造される。
(14) The microlens array according to the present invention is manufactured by the above method.

【0026】(15)本発明に係る表示装置は、上記マ
イクロレンズアレイを有する。
(15) A display device according to the present invention has the microlens array.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
について図面を参照して説明するが、本発明は以下の実
施の形態に限定されるものではない。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings, but the present invention is not limited to the following embodiments.

【0028】(第1の実施の形態)図1〜図5は、本発
明を適用した第1の実施の形態に係るマイクロレンズア
レイの製造方法を説明する図である。
(First Embodiment) FIGS. 1 to 5 are diagrams illustrating a method of manufacturing a microlens array according to a first embodiment of the present invention.

【0029】(原盤)図1は、本実施の形態で使用する
原盤の平面図である。原盤10の平面形状は特に限定さ
れず、円形であっても、矩形などの多角形であってもよ
い。原盤10は、少なくとも一方(一方のみあるいは両
方)の面に、第1領域12及び第2領域14を有する。
図1において、一点鎖線で囲まれた領域が第1領域12
である。
(Master) FIG. 1 is a plan view of a master used in the present embodiment. The planar shape of the master 10 is not particularly limited, and may be a circle or a polygon such as a rectangle. The master 10 has a first region 12 and a second region 14 on at least one (only one or both) surfaces.
In FIG. 1, a region surrounded by a dashed line is a first region 12.
It is.

【0030】第1領域12の平面形状は、例えば矩形な
どの多角形であり、少なくとも1つ(1つ又は複数)の
コーナー部18を有する。コーナー部18は、第1領域
12の一対の辺が接合されて形成される。コーナー部1
8を形成する辺は、直線で描かれても曲線で描かれても
よい。
The planar shape of the first region 12 is a polygon such as a rectangle, for example, and has at least one (one or more) corner portions 18. The corner portion 18 is formed by joining a pair of sides of the first region 12. Corner 1
The side forming 8 may be drawn with a straight line or a curve.

【0031】第1領域12には、複数の曲面部16が形
成されている。各曲面部16は、マイクロレンズアレイ
の個々のレンズ形状に対応した形状をなしている。例え
ば、原盤10から直接マイクロレンズアレイを形成する
ときには、曲面部16は、レンズの反転形状である。す
なわち、凸レンズを形成するときには曲面部16は凹面
をなし、凹レンズを形成するときには曲面部16は凸面
をなす。
A plurality of curved portions 16 are formed in the first area 12. Each curved surface portion 16 has a shape corresponding to the individual lens shape of the microlens array. For example, when a microlens array is formed directly from the master 10, the curved surface portion 16 has an inverted shape of a lens. That is, the curved surface portion 16 has a concave surface when forming a convex lens, and the curved surface portion 16 has a convex surface when forming a concave lens.

【0032】第1領域12は、区画面20によって、複
数の個別領域22に区画されている。区画面20は、平
坦な面で形成される。複数の曲面部16は、平坦な面で
形成された区画面20によって、複数のグループに区画
されている。区画面20は、少なくとも1つ(1つ又は
複数)の第1の帯状面24と、少なくとも1つ(1つ又
は複数)の第2の帯状面26と、を含んでもよい。図1
に示す例では、複数の平行な第1の帯状面24と、複数
の平行な第2の帯状面26と、が直角に交差しており、
区画面20は格子状をなす。区画面20によって区画さ
れたそれぞれの個別領域22に形成された曲面部16に
よって、個々のマイクロレンズアレイのチップが形成さ
れる。すなわち、原盤10は、複数のチップが一体的に
集合したマイクロレンズアレイを製造するためのもので
あり、このマイクロレンズアレイを切断して、個々のチ
ップが得られる。
The first area 12 is divided into a plurality of individual areas 22 by a section screen 20. The section screen 20 is formed with a flat surface. The plurality of curved surface portions 16 are divided into a plurality of groups by a section screen 20 formed of a flat surface. The section screen 20 may include at least one (one or more) first band-shaped surfaces 24 and at least one (one or more) second band-shaped surfaces 26. FIG.
In the example shown in FIG. 5, a plurality of parallel first band-shaped surfaces 24 and a plurality of parallel second band-shaped surfaces 26 intersect at right angles,
The ward screen 20 has a lattice shape. Each microlens array chip is formed by the curved surface portion 16 formed in each individual region 22 partitioned by the partition screen 20. That is, the master 10 is for manufacturing a microlens array in which a plurality of chips are integrally collected, and individual chips are obtained by cutting the microlens array.

【0033】第2領域14は、平坦な面で形成されてい
る。第2領域14は、第1領域12のコーナー部18に
隣接して形成されている。第2領域14は、第1領域1
2を囲んでいてもよい。第1領域12が矩形等の多角形
をなす場合には、第2領域14は、第1領域12の各辺
に隣接してもよい。第2領域14と区画面20とは、面
一であってもよいし、段差が形成されていてもよい。
The second region 14 is formed with a flat surface. The second region 14 is formed adjacent to the corner 18 of the first region 12. The second area 14 is the first area 1
2 may be enclosed. When the first region 12 has a polygonal shape such as a rectangle, the second region 14 may be adjacent to each side of the first region 12. The second area 14 and the section screen 20 may be flush or a step may be formed.

【0034】(第1工程)本実施の形態では、原盤10
を用意して、原盤10に光透過性層前駆体38を設ける
第1工程を行う。
(First Step) In the present embodiment, the master 10
Is prepared, and the first step of providing the light transmitting layer precursor 38 on the master 10 is performed.

【0035】図2(A)〜図2(E)は、本実施の形態
で使用する原盤の製造工程の一例を示す図である。
FIGS. 2A to 2E are views showing an example of a manufacturing process of a master used in the present embodiment.

【0036】まず、図2(A)に示すように、基材28
上にレジスト層30を形成する。基材28をエッチング
して、曲面部16を形成する。そのため、基材28は、
エッチング可能な材料であれば特に限定されるものでは
ないが、シリコン又は石英は、エッチングにより高精度
の曲面部16の形成が容易であるため、好適である。
First, as shown in FIG.
A resist layer 30 is formed thereon. The curved surface portion 16 is formed by etching the base material 28. Therefore, the base material 28
The material is not particularly limited as long as it is an etchable material. However, silicon or quartz is preferable because the curved surface portion 16 can be easily formed with high precision by etching.

【0037】レジスト層30を形成する物質としては、
例えば、半導体デバイス製造において一般的に用いられ
ている、クレゾールノボラック系樹脂に感光剤としてジ
アゾナフトキノン誘導体を配合した市販のポジ型のレジ
ストをそのまま利用できる。ここで、ポジ型のレジスト
とは、所定のパターンに応じて放射線に暴露することに
より、放射線によって暴露された領域が現像液により選
択的に除去可能となる物質のことである。
As a material for forming the resist layer 30,
For example, a commercially available positive resist in which a diazonaphthoquinone derivative is blended as a photosensitive agent with a cresol novolak resin, which is generally used in the manufacture of semiconductor devices, can be used as it is. Here, the positive resist is a substance that can be selectively removed by a developer when exposed to radiation according to a predetermined pattern.

【0038】レジスト層30を形成する方法としては、
スピンコート法、ディッピング法、スプレーコート法、
ロールコート法、バーコート法等の方法を用いることが
可能である。
The method for forming the resist layer 30 is as follows.
Spin coating, dipping, spray coating,
It is possible to use a method such as a roll coating method and a bar coating method.

【0039】次に、図2(B)に示すように、マスク3
2をレジスト層30の上方に配置し、マスク32を介し
てレジスト層30の所定領域のみを放射線34によって
暴露する。マスク32は、曲面部16の形成に必要とさ
れる領域においてのみ、放射線34が透過するようにパ
ターン形成されたものである。
Next, as shown in FIG.
2 is disposed above the resist layer 30, and only predetermined regions of the resist layer 30 are exposed to radiation 34 via the mask 32. The mask 32 is patterned so that the radiation 34 is transmitted only in a region required for forming the curved surface portion 16.

【0040】放射線としては波長200nm〜500n
mの領域の光を用いることが好ましい。この波長領域の
光の利用は、液晶パネルの製造プロセス等で確立されて
いるフォトリソグラフィの技術及びそれに利用されてい
る設備の利用が可能となり、低コスト化を図ることがで
きる。
The radiation has a wavelength of 200 nm to 500 n.
It is preferable to use light in the region of m. The use of light in this wavelength region makes it possible to use the photolithography technology established in the liquid crystal panel manufacturing process and the like and the equipment used therefor, and to reduce costs.

【0041】レジスト層30を放射線34によって暴露
した後に所定の条件により現像処理を行うと、図2
(C)に示すように、放射線34の暴露領域36におい
てのみ、レジスト層30の一部が選択的に除去されて基
材28の表面が露出し、それ以外の領域はレジスト層3
0により覆われたままの状態となる。
When development processing is performed under predetermined conditions after exposing the resist layer 30 with the radiation 34, FIG.
As shown in (C), only in the exposed area 36 of the radiation 34, a part of the resist layer 30 is selectively removed to expose the surface of the base material 28, and in the other area, the resist layer 3 is exposed.
It remains in the state covered by 0.

【0042】こうしてレジスト層30がパターン化され
ると、図2(D)に示すように、このレジスト層30を
マスクとして基材28を所定の深さエッチングする。詳
しくは、基材28におけるレジスト層30から露出した
領域に対して、どの方向にもエッチングが進む等方性エ
ッチングを行う。例えば、ウエットエッチングを適用し
て、化学溶液(エッチング液)に基材28を浸すこと
で、等方性エッチングを行うことができる。基材28と
して石英を用いた場合には、エッチング液として、例え
ば、沸酸と沸化アンモニウムを混合した水溶液(バッフ
ァード沸酸)を用いてエッチングを行う。等方性エッチ
ングを行うことで、基材28には、凹状の曲面部16が
形成される。
When the resist layer 30 is patterned in this manner, as shown in FIG. 2D, the substrate 28 is etched to a predetermined depth using the resist layer 30 as a mask. More specifically, isotropic etching is performed on a region of the base material 28 exposed from the resist layer 30 so that the etching proceeds in any direction. For example, isotropic etching can be performed by immersing the base material 28 in a chemical solution (etching solution) by applying wet etching. When quartz is used as the base material 28, etching is performed using, for example, an aqueous solution (buffered hydrofluoric acid) in which hydrofluoric acid and ammonium fluoride are mixed as an etchant. By performing isotropic etching, a concave curved surface portion 16 is formed on the base material 28.

【0043】エッチングの完了後に、図2(E)に示す
ように、レジスト層30を除去すると、基材28に曲面
部16が形成されており、これが原盤10となる。
After completion of the etching, as shown in FIG. 2E, when the resist layer 30 is removed, the curved surface portion 16 is formed on the base material 28, and this becomes the master 10.

【0044】原盤10は、本実施の形態では、一旦製造
すればその後、耐久性の許す限り何度でも使用できるた
め経済的である。また、原盤10の製造工程は、2枚目
以降のマイクロレンズアレイの製造工程において省略で
き、工程数の減少および低コスト化を図ることができ
る。
In the present embodiment, the master 10 is economical because once manufactured, it can be used as many times as the durability permits. Further, the manufacturing process of the master 10 can be omitted in the manufacturing process of the second and subsequent microlens arrays, and the number of processes and the cost can be reduced.

【0045】上記工程では、基材28に曲面部16を形
成するに際し、ポジ型のレジストを用いたが、放射線に
暴露された領域が現像液に対して不溶化し、放射線に暴
露されていない領域が現像液により選択的に除去可能と
なるネガ型のレジストを用いても良く、この場合には、
上記マスク32とはパターンが反転したマスクが用いら
れる。あるいは、マスクを使用せずに、レーザ光あるい
は電子線によって直接レジストをパターン状に暴露して
も良い。
In the above process, a positive resist was used to form the curved portion 16 on the substrate 28. However, the region exposed to the radiation became insoluble in the developing solution, and the region not exposed to the radiation was used. May be a negative resist which can be selectively removed by a developer. In this case,
As the mask 32, a mask whose pattern is inverted is used. Alternatively, the resist may be directly exposed in a pattern by using a laser beam or an electron beam without using a mask.

【0046】原盤10を用意したら、図3に示すよう
に、原盤10に光透過性層前駆体38を設ける。
After the master 10 is prepared, a light-transmitting layer precursor 38 is provided on the master 10 as shown in FIG.

【0047】ここで、光透過性層前駆体38は、液状あ
るいは液状化可能な物質であることが好ましい。液状と
することで、曲面部16が凹面であればその内部に、曲
面部が凸面であれば曲面部間に、光透過性層前駆体38
を充填することが容易となる。液状の物質としては、エ
ネルギーの付与により硬化可能な物質が利用でき、液状
化可能な物質としては、可塑性を有する物質が利用でき
る。
Here, the light transmitting layer precursor 38 is preferably a liquid or liquefiable substance. By making the liquid, the light transmitting layer precursor 38 is placed inside the curved portion 16 if the curved portion is concave, and between the curved portions if the curved portion is convex.
Can be easily filled. As the liquid substance, a substance that can be cured by applying energy can be used, and as the liquefiable substance, a plastic substance can be used.

【0048】また、光透過性層前駆体38は、光透過性
層40(図4(C)参照)を形成した際に、光透過性等
の要求される特性を有するものであれば特に限定される
ものではないが、樹脂であることが好ましい。樹脂は、
エネルギー硬化性を有するもの、あるいは可塑性を有す
るものが容易に得られ、好適である。
The light-transmitting layer precursor 38 is not particularly limited as long as the light-transmitting layer 40 (see FIG. 4C) has characteristics required for light transmission and the like when it is formed. Although not required, it is preferably a resin. The resin is
Those having energy curability or plasticity can be easily obtained and are suitable.

【0049】エネルギー硬化性を有する樹脂としては、
光及び熱の少なくともいずれかー方の付与により硬化可
能であることが望ましい。光や熱の利用は、汎用の露光
装置、ベイク炉やホットプレート等の加熱装置を利用す
ることができ、省設備コスト化を図ることが可能であ
る。
Examples of the resin having energy curability include:
Desirably, it can be cured by applying at least one of light and heat. For the use of light and heat, a general-purpose exposure apparatus, a heating apparatus such as a baking furnace or a hot plate can be used, and the equipment cost can be reduced.

【0050】このようなエネルギー硬化性を有する樹脂
としては、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、
メラミン系樹脂、ポリイミド系樹脂等が利用できる。特
に、アクリル系樹脂は、市販品の様々な前駆体や感光剤
(光重合開始剤)を利用することで、光の照射で短時間
に硬化するものが容易に得られるため好適である。
Examples of such an energy-curable resin include acrylic resins, epoxy resins,
Melamine-based resins, polyimide-based resins, and the like can be used. In particular, an acrylic resin is preferable because it can easily be cured by irradiation with light by using various commercially available precursors and photosensitive agents (photopolymerization initiators).

【0051】光硬化性のアクリル系樹脂の基本組成の具
体例としては、プレポリマーまたはオリゴマー、モノマ
ー、光重合開始剤があげられる。
Specific examples of the basic composition of the photocurable acrylic resin include a prepolymer or oligomer, a monomer, and a photopolymerization initiator.

【0052】プレポリマーまたはオリゴマーとしては、
例えば、エポキシアクリレート類、ウレタンアクリレー
ト類、ポリエステルアクリレート類、ポリエーテルアク
リレート類、スピロアセタール系アクリレート類等のア
クリレート類、エポキシメタクリレート類、ウレタンメ
タクリレート類、ポリエステルメタクリレート類、ポリ
エーテルメタクリレート類等のメタクリレート類等が利
用できる。
As the prepolymer or oligomer,
For example, acrylates such as epoxy acrylates, urethane acrylates, polyester acrylates, polyether acrylates, and spiroacetal acrylates; methacrylates such as epoxy methacrylates, urethane methacrylates, polyester methacrylates, and polyether methacrylates; Is available.

【0053】モノマーとしては、例えば、2−エチルヘ
キシルアクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、N−ビニル−2−ピロリド
ン、カルビトールアクリレート、テトラヒドロフルフリ
ルアクリレート、イソボルニルアクリレート、ジシクロ
ペンテニルアクリレート、1,3−ブタンジオールアク
リレート等の単官能性モノマー、1,6−ヘキサンジオ
ールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタ
クリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジメタクリレート、エチレング
リコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジア
クリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート等の
二官能性モノマー、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート等の多官能性モノマーが
利用できる。
As the monomer, for example, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, N-vinyl-2-pyrrolidone, carbitol acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, isovol Monofunctional monomers such as nyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, and 1,3-butanediol acrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate,
Bifunctional monomers such as neopentyl glycol dimethacrylate, ethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate,
Polyfunctional monomers such as pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate can be used.

【0054】光重合開始剤としては、例えば、2,2−
ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン等のアセトフ
ェノン類、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、p−イ
ソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン等のブ
チルフェノン類、p−tert−ブチルジクロロアセト
フェノン、p−tert−ブチルトリクロロアセトフェ
ノン、α,α−ジクロル−4−フェノキシアセトフェノ
ン等のハロゲン化アセトフェノン類、ベンゾフェノン、
N,N−テトラエチル−4,4−ジアミノベンゾフェノ
ン等のベンゾフェノン類、ベンジル、ベンジルジメチル
ケタール等のベンジル類、ベンゾイン、ベンゾインアル
キルエーテル等のベンゾイン類、1−フェニル−1,2
−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オ
キシム等のオキシム類、2−メチルチオキサントン、2
−クロロチオキサントン等のキサントン類、ベンゾイン
エーテル、イソブチルベンゾインエーテル等のベンゾイ
ンエーテル類、ミヒラーケトン、ベンジルメチルケター
ル等のラジカル発生化合物が利用できる。
As the photopolymerization initiator, for example, 2,2-
Acetophenones such as dimethoxy-2-phenylacetophenone, butylphenones such as α-hydroxyisobutylphenone and p-isopropyl-α-hydroxyisobutylphenone, p-tert-butyldichloroacetophenone, p-tert-butyltrichloroacetophenone, α, halogenated acetophenones such as α-dichloro-4-phenoxyacetophenone, benzophenone,
Benzophenones such as N, N-tetraethyl-4,4-diaminobenzophenone; benzyls such as benzyl and benzyldimethylketal; benzoins such as benzoin and benzoin alkyl ether; 1-phenyl-1,2
Oximes such as -propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 2-methylthioxanthone,
-Xanthones such as chlorothioxanthone, benzoin ethers such as benzoin ether and isobutyl benzoin ether, and radical generating compounds such as Michler's ketone and benzyl methyl ketal can be used.

【0055】なお、必要に応じて、酸素による硬化阻害
を防止する目的でアミン類等の化合物を添加したり、塗
布を容易にする目的で溶剤成分を添加してもよい。溶剤
成分としては、特に限定されるものではなく、種々の有
機溶剤、例えば、プロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、メトキシメチルプロピオネート、エト
キシエチルプロピオネート、エチルラクテート、エチル
ピルビネート、メチルアミルケトン等が利用可能であ
る。
If necessary, a compound such as an amine may be added to prevent curing inhibition by oxygen, or a solvent component may be added to facilitate coating. The solvent component is not particularly limited, and various organic solvents, for example, propylene glycol monomethyl ether acetate, methoxymethyl propionate, ethoxyethyl propionate, ethyl lactate, ethyl pyruvate, methyl amyl ketone, etc. Available.

【0056】これらの物質によれば、高精度のエッチン
グが可能な点で原盤10の材料として優れているシリコ
ン又は石英からの離型性が良好であるため好適である。
These materials are preferable because they have good releasability from silicon or quartz, which is excellent as a material of the master 10 in that high-precision etching is possible.

【0057】また、可塑性を有する樹脂としては、例え
ば、ポリカーボネート系樹脂、ポリメチルメタクリレー
ト系樹脂、アモルファスポリオレフィン系樹脂等の熱可
塑性を有する樹脂を利用できる。このような樹脂を、軟
化点温度以上に加温することにより可塑化させて液状と
し、図3に示すように原盤10に設ける。光透過性層前
駆体38は、滴下して設けることが簡単であって好まし
い。
As the resin having plasticity, for example, a resin having thermoplasticity such as a polycarbonate-based resin, a polymethyl methacrylate-based resin, and an amorphous polyolefin-based resin can be used. Such a resin is plasticized by heating it to a temperature equal to or higher than the softening point to form a liquid, and is provided on the master 10 as shown in FIG. The light-transmissive layer precursor 38 is preferably provided simply by dropping it.

【0058】本実施の形態では、第1領域12の中央部
(端部を除く部分)に、光透過性層前駆体38の第1の
部分41を設ける。第1領域12のコーナー部18付近
に、光透過性層前駆体38の第2の部分42を設ける。
第1領域12の中央部及びコーナー部18を除く位置
に、光透過性層前駆体38の第3の部分43を設ける。
第1、第2及び第3の部分41、42、43は、非連続
的に独立して設けてもよいが、連続していてもよい。
In the present embodiment, the first portion 41 of the light-transmitting layer precursor 38 is provided at the center (the portion excluding the end) of the first region 12. A second portion 42 of the light transmitting layer precursor 38 is provided near the corner portion 18 of the first region 12.
The third portion 43 of the light-transmitting layer precursor 38 is provided at a position other than the central portion and the corner portion 18 of the first region 12.
The first, second and third portions 41, 42, 43 may be provided discontinuously and independently, but may be continuous.

【0059】光透過性層前駆体38の第1の部分41
は、第1領域12の中心に設けることが好ましい。第1
領域12の中心に、1つの個別領域22が位置する場合
には、その個別領域22に第1の部分41を設けてもよ
い。その場合、第2の部分42は、その個別領域22内
に設けられても、その個別領域22をはみ出して設けら
れてもよい。あるいは、第1領域12の中心が、全ての
個別領域22を外れて位置する場合には、第1の領域1
2の中心に最も近い少なくとも1つ(1つ又は複数)の
個別領域22に、第1の部分41を設けてもよい。
The first portion 41 of the light transmitting layer precursor 38
Is preferably provided at the center of the first region 12. First
When one individual region 22 is located at the center of the region 12, the first portion 41 may be provided in the individual region 22. In that case, the second portion 42 may be provided in the individual region 22 or may be provided so as to protrude from the individual region 22. Alternatively, if the center of the first area 12 is located outside all the individual areas 22, the first area 1
The first portion 41 may be provided in at least one (one or more) individual regions 22 closest to the center of the two.

【0060】光透過性層前駆体38の第2の部分42
は、第1領域12のコーナー部18を形成する部分を含
む個別領域22に設けてもよい。その場合、第2の部分
42は、その個別領域22内に設けられても、その個別
領域22をはみ出して設けられてもよい。
The second portion 42 of the light transmitting layer precursor 38
May be provided in the individual region 22 including a portion forming the corner portion 18 of the first region 12. In that case, the second portion 42 may be provided in the individual region 22 or may be provided so as to protrude from the individual region 22.

【0061】光透過性層前駆体38の第3の部分43
は、例えば、矩形をなす第1領域12の各辺の付近に設
けてもよく、辺を形成する部分を含む少なくとも1つ
(1つ又は複数)の個別領域22に設けてもよい。その
場合、第3の部分43は、1つの個別領域22内に設け
られても、1つの個別領域22をはみ出して設けられて
もよい。
The third portion 43 of the light transmitting layer precursor 38
May be provided in the vicinity of each side of the first region 12 having a rectangular shape, or may be provided in at least one (one or more) individual regions 22 including a portion forming the side. In that case, the third portion 43 may be provided in one individual region 22 or may be provided so as to protrude from one individual region 22.

【0062】光透過性層前駆体38の第2の部分42
は、第1の部分41よりも原盤10の端部に近い位置に
設けられるので、第1の部分41よりも少ない量で設け
ることで、原盤10から流出する量を減らす又はなくす
ことができる。例えば、第2の部分42を、第1の部分
41の約30%以上90%以下の量で設けてもよい。
The second portion 42 of the light transmitting layer precursor 38
Is provided at a position closer to the end of the master 10 than the first portion 41, and therefore, by providing a smaller amount than the first portion 41, the amount flowing out of the master 10 can be reduced or eliminated. For example, the second part 42 may be provided in an amount of about 30% or more and 90% or less of the first part 41.

【0063】同様に、光透過性層前駆体38の第3の部
分43は、第1の部分41よりも原盤10の端部に近い
位置に設けられるので、第1の部分41よりも少ない量
で設けることで、原盤10から流出する量を減らす又は
なくすことができる。例えば、第3の部分43を、第1
の部分41の約30%以上90%以下の量で設けてもよ
い。
Similarly, the third portion 43 of the light-transmitting layer precursor 38 is provided at a position closer to the end of the master 10 than the first portion 41, so that the third portion 43 is smaller in amount than the first portion 41. By providing the above, the amount flowing out of the master 10 can be reduced or eliminated. For example, the third part 43 is
May be provided in an amount of about 30% or more and 90% or less of the portion 41 of FIG.

【0064】光透過性層前駆体38の第2の部分42
は、第3の部分43よりも少ない量で設けてもよい。
The second portion 42 of the light transmitting layer precursor 38
May be provided in a smaller amount than the third portion 43.

【0065】以上説明したようにして光透過性層前駆体
38を設けることで、次に述べる工程を良好に行える。
その作用については後述する。
By providing the light transmitting layer precursor 38 as described above, the following steps can be performed satisfactorily.
The operation will be described later.

【0066】(第2工程)次に、光透過性層前駆体38
を塗り拡げる第2工程を行う。例えば、図4(A)に示
すように、光透過性層前駆体38を介して、基板48と
原盤10とを密着させることにより、光透過性層前駆体
38を所定領域まで塗り拡げる。
(Second Step) Next, the light transmitting layer precursor 38
Is performed in the second step. For example, as shown in FIG. 4A, the substrate 48 and the master 10 are brought into close contact with each other via the light-transmitting layer precursor 38, so that the light-transmitting layer precursor 38 is spread to a predetermined region.

【0067】基板48は、光透過性層前駆体38を塗り
拡げるために要求される機能を少なくとも有していれば
よい。基板48の一方の面が平坦になっていてもよく、
その場合、平坦な面を光透過性層前駆体38に密着させ
てもよい。基板48を光透過性層40の補強板として残
すときには、基板48としては、マイクロレンズアレイ
として要求される光透過性等の光学的な物性や、機械的
強度等の特性を満足するものであれば特に限定されるも
のではなく、例えば、石英やガラス、あるいは、ポリカ
ーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルサルフォ
ン、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリ
レート、アモルファスポリオレフィン等のプラスチック
製の基板あるいはフィルムを利用することが可能であ
る。基板48を後の工程で剥離するのであれば、基板4
8には光透過性がなくてもよい。
The substrate 48 may have at least the function required to spread the light transmitting layer precursor 38. One surface of the substrate 48 may be flat,
In that case, a flat surface may be brought into close contact with the light transmitting layer precursor 38. When the substrate 48 is left as a reinforcing plate for the light-transmitting layer 40, the substrate 48 may be one that satisfies optical properties such as light transmittance and characteristics such as mechanical strength required for a microlens array. It is not particularly limited, for example, it is possible to use quartz or glass, or a plastic substrate or film such as polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, polyethylene terephthalate, polymethyl methacrylate, and amorphous polyolefin. It is. If the substrate 48 is peeled in a later step, the substrate 4
8 need not be light transmissive.

【0068】必要に応じて、原盤10と基板48とを光
透過性層前駆体38を介して密着させる際に、原盤10
及び基板48の少なくともいずれか一方を介して光透過
性層前駆体38を加圧しても良い。加圧することで、光
透過性層前駆体38が拡がる時間を短縮できることで作
業性が向上し、かつ、光透過性層前駆体38の曲面部1
6又は曲面部16間への充填が確実となる。
When the master 10 and the substrate 48 are brought into close contact with each other via the light transmitting layer precursor 38 as necessary,
The light transmitting layer precursor 38 may be pressurized via at least one of the substrate 48 and the substrate 48. By pressurizing, the time required for the light-transmitting layer precursor 38 to spread can be reduced, so that workability is improved, and the curved surface portion 1 of the light-transmitting layer precursor 38 is improved.
6 or between the curved surface portions 16 is reliably filled.

【0069】光透過性層前駆体38を介して原盤10と
基板48を密着させることで、光透過性層前駆体38
は、原盤10の曲面部16に対応する形状になる。つま
り、光透過性層前駆体38に、曲面部16の反転パター
ンを転写することができる。
By bringing the master 10 and the substrate 48 into close contact with each other via the light-transmitting layer precursor 38, the light-transmitting layer precursor 38
Has a shape corresponding to the curved portion 16 of the master 10. That is, the reverse pattern of the curved surface portion 16 can be transferred to the light transmitting layer precursor 38.

【0070】図4(A)に示す例では、第1工程で光透
過性層前駆体38を原盤10上に載せて、第2工程で基
板48と原盤10とを密着させた。本発明はこれに限定
されない。例えば、第1工程で、基板48に光透過性層
前駆体38を載せてその上に原盤10を被せることで原
盤10に光透過性層前駆体38を設け、第2工程で、さ
らに基板48及び原盤10によって光透過性層前駆体3
8を塗り拡げてもよい。また、第1工程で、予め原盤1
0及び基板48の両方に光透過性層前駆体38を設けて
もよい。
In the example shown in FIG. 4A, the light transmitting layer precursor 38 was placed on the master 10 in the first step, and the substrate 48 and the master 10 were brought into close contact with each other in the second step. The present invention is not limited to this. For example, in the first step, the light-transmitting layer precursor 38 is placed on the substrate 48 and the master 10 is placed thereon, thereby providing the light-transmitting layer precursor 38 on the master 10. And the light-transmitting layer precursor 3 depending on the master 10
8 may be spread. In the first step, the master 1
The light transmitting layer precursor 38 may be provided on both the substrate 0 and the substrate 48.

【0071】図5は、光透過性層前駆体38が塗り拡げ
られるときの作用を示す図である。原盤10に設けられ
た光透過性層前駆体38は、塗り拡げられると、原盤1
0の端部の方向に拡がる。本実施の形態では、原盤10
の第1領域12に光透過性層前駆体38を設けるので、
光透過性層前駆体38は、塗り拡げられて第2領域14
に進む。
FIG. 5 is a diagram showing an operation when the light transmitting layer precursor 38 is spread. When the light-transmitting layer precursor 38 provided on the master 10 is spread, the master 1
It expands in the direction of the zero end. In the present embodiment, the master 10
Since the light transmitting layer precursor 38 is provided in the first region 12 of FIG.
The light-transmitting layer precursor 38 is spread over the second region 14.
Proceed to.

【0072】塗り拡げられる光透過性層前駆体38に
は、第1及び第2の流れ50、52が存在する。第1の
流れ50は、第1領域12から第2領域14に進み、第
2領域14上で、第1領域12のコーナー部18を形成
する2辺に沿ってコーナー部18の先端に向かう流れで
ある。第2の流れ52は、第1領域12上をコーナー部
18の先端に向かう流れである。
There are first and second streams 50, 52 in the light transmitting layer precursor 38 to be spread. The first flow 50 flows from the first region 12 to the second region 14, and flows on the second region 14 along two sides forming the corner portion 18 of the first region 12 toward the tip of the corner portion 18. It is. The second flow 52 is a flow on the first region 12 toward the tip of the corner portion 18.

【0073】本実施の形態では、図3に示す形状で、光
透過性層前駆体38を設けた。その結果、光透過性層前
駆体38の第1の流れ50が、コーナー部18の先端付
近で2方向から合流する前に、光透過性層前駆体38の
第2の流れ52が、コーナー部18の先端に至る。
In the present embodiment, the light transmitting layer precursor 38 is provided in the shape shown in FIG. As a result, before the first flow 50 of the light-transmitting layer precursor 38 merges in two directions near the tip of the corner 18, the second flow 52 of the light-transmitting layer precursor 38 becomes It reaches the tip of 18.

【0074】詳しくは、図3に示すように、第1領域1
2のコーナー部18の付近に、光透過性層前駆体38の
第2の部分42を設けた。そのことにより、第2の流れ
52が第1の流れ50よりも先にコーナー部18に至
り、コーナー部18で光透過性層前駆体38が空間を囲
まないので、コーナー部18に気泡が発生することを防
止できる。
More specifically, as shown in FIG.
A second portion 42 of the light transmitting layer precursor 38 was provided near the corner 18 of the second. As a result, the second flow 52 reaches the corner 18 before the first flow 50, and the light-transmitting layer precursor 38 does not surround the space at the corner 18, so that bubbles are generated in the corner 18. Can be prevented.

【0075】また、図4に示すように、光透過性層前駆
体38の第3の部分43を設けたので、第1領域12の
4辺の方向に進ませる光透過性層前駆体38の量を補充
することができる。その結果、光透過性層前駆体38を
均一に拡げることができ、光透過性層40の厚みを均一
にすることができる。
Further, as shown in FIG. 4, since the third portion 43 of the light transmitting layer precursor 38 is provided, the light transmitting layer precursor 38 that advances in the direction of the four sides of the first region 12 is formed. The amount can be refilled. As a result, the light-transmitting layer precursor 38 can be uniformly spread, and the thickness of the light-transmitting layer 40 can be made uniform.

【0076】以上の工程を経て、図4(B)に示すよう
に、原盤10と基板48の間に光透過性層前駆体38か
らなる層を形成する。そして、光透過性層前駆体38に
応じた固化処理を施す。例えば、光硬化性の樹脂を用い
た場合であれば、所定の条件で光を照射する。これによ
り光透過性層前駆体38を固化させて、図4(B)に示
すように、光透過性層40を形成することができる。
Through the above steps, a layer made of the light transmitting layer precursor 38 is formed between the master 10 and the substrate 48 as shown in FIG. Then, a solidification process corresponding to the light transmitting layer precursor 38 is performed. For example, when a photo-curable resin is used, light is irradiated under predetermined conditions. Thus, the light transmitting layer precursor 38 is solidified, and the light transmitting layer 40 can be formed as shown in FIG. 4B.

【0077】なお、光硬化性の物質にて光透過性層40
を形成するときには、基板48及び原盤10のうち少な
くとも一方が、光透過性を有することが必要となる。あ
るいは、軟化点温度以上に加温した可塑化した樹脂を光
透過性層前駆体38として使用する場合には、冷却する
ことにより固化させることができる。
The light transmitting layer 40 is made of a photocurable substance.
Is formed, at least one of the substrate 48 and the master 10 needs to have light transmittance. Alternatively, when a plasticized resin heated to a temperature equal to or higher than the softening point is used as the light transmitting layer precursor 38, it can be solidified by cooling.

【0078】(第3工程)次いで、図4(C)に示すよ
うに、原盤10を、光透過性層40及び基板48から剥
離する。光透過性層40は、原盤10の曲面部16に対
応した複数のレンズ54が形成されているので、マイク
ロレンズアレイとなる。光透過性層40には、原盤10
の区画面20に対応する平坦面56によって、複数の領
域に区画されているので、光透過性層40を平坦面56
に沿って切断することで複数のチップが得られる。すな
わち、光透過性層40の全体からなるマイクロレンズア
レイは、複数のチップ状のマイクロレンズアレイが一体
化したものである。あるいは、光透過性層40の全体を
そのまま完成品として使用してもよい。その場合には、
区画面20が形成されていない原盤10を使用し、光透
過性層40に区画のための平坦面56を形成しないこと
が好ましい。
(Third Step) Next, as shown in FIG. 4C, the master 10 is separated from the light transmitting layer 40 and the substrate 48. The light transmitting layer 40 has a plurality of lenses 54 corresponding to the curved surface portion 16 of the master 10, and thus becomes a microlens array. The light-transmitting layer 40 includes the master 10
Are divided into a plurality of regions by the flat surface 56 corresponding to the section screen 20 of the
A plurality of chips can be obtained by cutting along. That is, the microlens array composed of the entire light transmitting layer 40 is obtained by integrating a plurality of chip-shaped microlens arrays. Alternatively, the entire light transmitting layer 40 may be used as a finished product as it is. In that case,
It is preferable that the master 10 on which the section screen 20 is not formed is used and the flat surface 56 for partitioning is not formed on the light transmitting layer 40.

【0079】なお、光透過性層40単独で、マイクロレ
ンズアレイとして要求される機械的強度等の特性を満足
することが可能であれば、基板48は不要であるから、
基板48を光透過性層40から剥離してもよい。この剥
離工程は、原盤10から光透過性層40を剥離する前で
あっても、その後であってもよい。
If the light-transmitting layer 40 alone can satisfy the characteristics such as mechanical strength required for a microlens array, the substrate 48 is not required.
The substrate 48 may be separated from the light transmitting layer 40. This peeling step may be before or after peeling the light-transmitting layer 40 from the master 10.

【0080】(表示装置)図6は、本発明に係るマイク
ロレンズアレイを適用した表示装置の一例として液晶プ
ロジェクタの一部を示す図である。この液晶プロジェク
タは、上述した方法により製造されたマイクロレンズア
レイ(光透過性層40の全体からなるマイクロレンズア
レイであっても、光透過性層40から切断されてなるチ
ップ状のマイクロレンズアレイであってもよい)を組み
込んだライトバルブ60と、光源としてのランプ70と
を有する。光透過性層40がマイクロレンズアレイであ
り、光透過性層40には基板48が補強板として設けら
れている。この場合、光透過性層40及び基板48を一
体的にマイクロレンズアレイと称してもよい。
(Display Device) FIG. 6 is a view showing a part of a liquid crystal projector as an example of a display device to which the microlens array according to the present invention is applied. This liquid crystal projector is a microlens array manufactured by the above-described method (even a microlens array formed of the entire light transmitting layer 40 or a chip-shaped microlens array cut from the light transmitting layer 40). (Which may be present) and a lamp 70 as a light source. The light transmitting layer 40 is a microlens array, and a substrate 48 is provided on the light transmitting layer 40 as a reinforcing plate. In this case, the light transmitting layer 40 and the substrate 48 may be integrally referred to as a microlens array.

【0081】マイクロレンズアレイは、レンズ54面
が、ランプ70からみて凹状になるように配置されてい
る。そして、レンズ54上に第2の光透過性層62が形
成され、光透過性層62上にはブラックマトリクス64
が設けられている。さらに、ブラックマトリクス64上
には、透明な共通電極66及び配向膜68が積層されて
いる。
The micro lens array is arranged so that the surface of the lens 54 is concave when viewed from the lamp 70. Then, a second light transmitting layer 62 is formed on the lens 54, and a black matrix 64 is formed on the light transmitting layer 62.
Is provided. Further, a transparent common electrode 66 and an alignment film 68 are stacked on the black matrix 64.

【0082】ライトバルブ60には、配向膜68からギ
ャップをあけて、TFT基板61が設けられている。T
FT基板61には、透明な個別電極63及び薄膜トラン
ジスタ65が設けられており、これらの上に配向膜67
が形成されている。また、TFT基板61は、配向膜6
7を配向膜68に対向させて配置されている。
The light valve 60 is provided with a TFT substrate 61 with a gap from the alignment film 68. T
On the FT substrate 61, a transparent individual electrode 63 and a thin film transistor 65 are provided.
Are formed. Further, the TFT substrate 61 includes the alignment film 6.
7 is arranged to face the alignment film 68.

【0083】配向膜67、68間には、液晶69が封入
されており、薄膜トランジスタ65によって制御される
電圧によって、液晶69が駆動されるようになってい
る。
A liquid crystal 69 is sealed between the alignment films 67 and 68, and the liquid crystal 69 is driven by a voltage controlled by the thin film transistor 65.

【0084】この液晶プロジェクタによれば、ランプ7
0から照射された光72が、各画素毎にレンズ54にて
集光するので、明るい画面を表示することができる。
According to this liquid crystal projector, the lamp 7
Since the light 72 irradiated from 0 is condensed by the lens 54 for each pixel, a bright screen can be displayed.

【0085】なお、その前提として、第2の光透過性層
62の光屈折率naと、光透過性層40の光屈折率nbと
は、 na<nb の関係にあることが必要である。この条件を満たすこと
で、屈折率の大きい媒質から、屈折率の小さい媒質に光
が入射することになり、光72は両媒質の界面の法線か
ら離れるように屈折して集光する。そして、画面を明る
くすることができる。
As a premise, it is necessary that the light refractive index na of the second light transmitting layer 62 and the light refractive index nb of the light transmitting layer 40 have a relationship of na <nb. By satisfying this condition, light enters from a medium having a large refractive index to a medium having a small refractive index, and the light 72 is refracted and collected away from the normal to the interface between the two media. Then, the screen can be brightened.

【0086】(第2の実施の形態)図7は、本発明を適
用した第2の実施の形態に係るマイクロレンズアレイの
製造方法を説明する図である。本実施の形態で使用され
る原盤80には、第1領域82及び第2領域84が形成
されている。第1領域82及び第2領域84には、第1
の実施の形態で説明した第1領域12及び第2領域14
の内容が該当する。また、第1領域82には、区画面9
0(第1及び第2の帯状面94、96)が形成され、区
画面90によって複数の個別領域98に区画されてい
る。区画面90(第1及び第2の帯状面94、96)及
び個別領域98には、第1の実施の形態で説明した区画
面20(第1及び第2の帯状面24、26)及び個別領
域22の内容が該当する。なお、図7に示す原盤80は
矩形をなす。
(Second Embodiment) FIG. 7 is a view for explaining a method of manufacturing a microlens array according to a second embodiment of the present invention. A first region 82 and a second region 84 are formed on a master 80 used in the present embodiment. The first area 82 and the second area 84 include the first
1st area | region 12 and 2nd area | region 14 demonstrated in 1st Embodiment
The above applies. Further, the first area 82 includes a ward screen 9
0 (first and second belt-like surfaces 94 and 96) are formed, and are divided into a plurality of individual areas 98 by the section screen 90. The ward screen 90 (the first and second belt-like surfaces 24 and 26) and the individual area 98 include the ward screen 20 (the first and second belt-like surfaces 24 and 26) and the individual area 98 described in the first embodiment. The contents of the area 22 correspond. The master 80 shown in FIG. 7 has a rectangular shape.

【0087】本実施の形態では、個別領域98が、原盤
80の中心を外れて設けられている。この場合、原盤8
0の中心に最も近い少なくとも1つ(1又は複数)の個
別領域98に光透過性層前駆体の第1の部分91を設け
る。図7に示す例では、原盤80の中央部(中心に近い
領域)に位置する複数の個別領域98のそれぞれに、第
1の部分91を設ける。複数の個別領域98に設ける第
1の部分91は、非連続的に独立していてもよいし、連
続していてもよい。
In the present embodiment, the individual area 98 is provided off the center of the master 80. In this case, Master 8
The first portion 91 of the light-transmitting layer precursor is provided in at least one (one or more) individual regions 98 closest to the center of zero. In the example shown in FIG. 7, a first portion 91 is provided in each of a plurality of individual regions 98 located at the center (region near the center) of the master 80. The first portions 91 provided in the plurality of individual regions 98 may be discontinuous and independent, or may be continuous.

【0088】原盤80には、第1領域82のコーナー部
88の付近に、光透過性層前駆体の第2の部分92を設
ける。原盤80には、第1及び第2の部分91、92が
設けられる位置を除いた位置に、光透過性層前駆体の第
3の部分93を設ける。これらの点は、第1の実施の形
態で説明した内容が当てはまる。また、第1、2、3の
部分91、92、93の量の比率についても第1の実施
の形態で説明した内容を適用してもよい。
The master 80 is provided with a second portion 92 of the light transmitting layer precursor near the corner 88 of the first area 82. The master 80 is provided with a third portion 93 of the light-transmitting layer precursor at a position other than a position where the first and second portions 91 and 92 are provided. These points apply to the contents described in the first embodiment. Further, the contents described in the first embodiment may be applied to the ratio of the amounts of the first, second, and third portions 91, 92, and 93.

【0089】本実施の形態では、複数箇所に、異なる量
で、光透過性層前駆体の第3の部分93を設ける。例え
ば、第1の部分91が設けられる個別領域98に近い個
別領域98に設けられる第3の部分93と、第2の部分
92が設けられる個別領域98に近い個別領域98に設
けられる第3の部分93とは、量において異なる。第1
の部分91の量よりも第2の部分92量が少ない場合に
は、第1の部分91が設けられる個別領域98に近い個
別領域98に設けられる第3の部分93の量よりも、第
2の部分92が設けられる個別領域98に近い個別領域
98に設けられる第3の部分93の量を少なくしてもよ
い。
In the present embodiment, the third portions 93 of the light transmitting layer precursor are provided at different positions in different amounts. For example, a third portion 93 provided in the individual region 98 near the individual region 98 where the first portion 91 is provided, and a third portion provided in the individual region 98 near the individual region 98 where the second portion 92 is provided. The portion 93 differs in quantity. First
When the amount of the second portion 92 is smaller than the amount of the portion 91, the amount of the second portion 92 is smaller than the amount of the third portion 93 provided in the individual region 98 near the individual region 98 where the first portion 91 is provided. The amount of the third portion 93 provided in the individual region 98 close to the individual region 98 in which the portion 92 is provided may be reduced.

【0090】以上説明した内容以外の点では、本実施の
形態に第1の実施の形態で説明した内容を適用してもよ
い。本実施の形態でも、第1領域82のコーナー部88
の付近に、光透過性層前駆体の第2の部分92を設ける
ので、コーナー部88の付近に気泡ができるのを防止す
ることができる。
Except for the contents described above, the contents described in the first embodiment may be applied to the present embodiment. Also in the present embodiment, the corner portion 88 of the first region 82
The second portion 92 of the light-transmitting layer precursor is provided in the vicinity of, so that bubbles can be prevented from being formed in the vicinity of the corner portion 88.

【0091】(第3の実施の形態)図8(A)〜図9
(C)は、本発明を適用した第3の実施の形態に係る原
盤の製造方法を説明する図である。
(Third Embodiment) FIGS. 8A to 9
(C) is a figure explaining the manufacturing method of the master concerning a 3rd embodiment to which the present invention is applied.

【0092】第1の実施の形態では、凹状の曲面部16
を有する原盤10の製造方法を説明した。本実施の形態
では、図9(C)に示す複数の凸状の曲面部102を有
する原盤100の製造方法を説明する。
In the first embodiment, the concave curved surface portion 16
The method for manufacturing the master 10 having the above has been described. In the present embodiment, a method for manufacturing a master 100 having a plurality of convex curved portions 102 shown in FIG. 9C will be described.

【0093】まず、図8(A)に示すように、基材10
4上にレジスト層106を形成する。この工程並びに基
材104及びレジスト層106の材料については、第1
の実施の形態と同様である。
First, as shown in FIG.
4 is formed thereon. This step and the materials of the base material 104 and the resist layer 106 are described in the first section.
This is the same as the embodiment.

【0094】次に、図8(B)に示すように、マスク1
08をレジスト層106の上に配置し、マスク108を
介してレジスト層106の所定領域のみを放射線34に
よって暴露する。マスク108は、図9(C)に示す曲
面部102の形成に必要とされる領域において、放射線
34が透過しないようにパターン形成されたものであ
る。
Next, as shown in FIG.
08 is placed on the resist layer 106, and only predetermined regions of the resist layer 106 are exposed to the radiation 34 via the mask 108. The mask 108 has a pattern formed so that the radiation 34 is not transmitted in a region required for forming the curved surface portion 102 shown in FIG. 9C.

【0095】レジスト層106を放射線34によって暴
露した後に所定の条件により現像処理を行うと、図8
(C)に示すように、放射線34の暴露領域110にお
いてのみ、レジスト層106が選択的に除去されて基材
104の表面が露出し、それ以外の領域はレジスト層1
06により覆われたままの状態となる。
When development processing is performed under predetermined conditions after exposing the resist layer 106 with the radiation 34, FIG.
As shown in (C), only in the exposed area 110 of the radiation 34, the resist layer 106 is selectively removed to expose the surface of the base material 104, and in the other areas, the resist layer 1 is exposed.
06 remains covered.

【0096】こうしてレジスト層106がパターン化さ
れると、リフロー工程で、レジスト層106を加熱す
る。そして、レジスト層106が熱により溶融される
と、表面張力により、図8(D)に示すようにレジスト
層106の表面は、曲面形状をなす。
When the resist layer 106 is thus patterned, the resist layer 106 is heated in a reflow step. When the resist layer 106 is melted by heat, the surface of the resist layer 106 has a curved shape due to surface tension as shown in FIG. 8D.

【0097】続いて、図8(D)に示すように、このレ
ジスト層106をマスクとして、エッチャント112に
よって、基材104を所定の深さエッチングを行う。詳
しくは、異方性エッチング、例えば反応性イオンエッチ
ング(RIE)などのドライエッチングを行う。
Subsequently, as shown in FIG. 8D, using the resist layer 106 as a mask, the base material 104 is etched by a predetermined depth using an etchant 112. Specifically, dry etching such as anisotropic etching, for example, reactive ion etching (RIE) is performed.

【0098】図9(A)〜図9(C)は、基板がエッチ
ングされる過程を示す図である。基材104は、部分的
に、曲面形状をなすレジスト層106によって覆われて
いる。基材104は、まず、レジスト層106に覆われ
ていない領域においてエッチングされる。そして、レジ
スト層106は、エッチャント112によりエッチング
されて、図9(A)及び図9(B)に示すように、二点
鎖線で示す領域から実線で示す領域へと徐々に小さくな
る。ここで、レジスト層106は曲面形状をなしている
ので、この形状のレジスト層106が徐々に小さくなる
と、基材104は徐々に露出していき、この露出した領
域が連続的に徐々にエッチングされていく。こうして、
基材104が連続的に徐々にエッチングされるので、エ
ッチング後の基材104の表面形状は曲面となる。最後
には、図9(C)に示すように、基材104に凸状の曲
面部102が形成されて、原盤100となる。
FIGS. 9A to 9C are views showing the process of etching the substrate. The base material 104 is partially covered with a resist layer 106 having a curved shape. The base material 104 is first etched in a region not covered by the resist layer 106. Then, the resist layer 106 is etched by the etchant 112, and gradually decreases from a region indicated by a two-dot chain line to a region indicated by a solid line as shown in FIGS. 9A and 9B. Here, since the resist layer 106 has a curved shape, when the resist layer 106 having this shape gradually decreases, the base material 104 is gradually exposed, and the exposed region is continuously and gradually etched. To go. Thus,
Since the base material 104 is continuously and gradually etched, the surface shape of the base material 104 after the etching becomes a curved surface. Finally, as shown in FIG. 9C, a convex curved surface portion 102 is formed on the base material 104, and the master 100 is obtained.

【0099】この原盤100を使用すれば、第1の実施
の形態の光透過性層40とは逆に、凹状の曲面部を有す
る光透過性層を形成することができる。
By using the master 100, a light-transmitting layer having a concave curved surface can be formed, contrary to the light-transmitting layer 40 of the first embodiment.

【0100】図10は、上記原盤100を使用して製造
したマイクロレンズアレイを組み込んだ表示装置の一例
として液晶プロジェクタの一部を示す図である。この液
晶プロジェクタは、光透過性層120に形成されたレン
ズ124が凹レンズである。また、第2の光透過性層6
2の光屈折率naと、光透過性層120の光屈折率ncと
は、na>ncの関係にあることが必要である。この条件
を満たすことで、屈折率の小さい媒質から、屈折率の大
きい媒質に光が入射することになり、光72は両媒質の
界面の法線に近づくように屈折して集光する。そして、
画面を明るくすることができる。
FIG. 10 is a diagram showing a part of a liquid crystal projector as an example of a display device incorporating a microlens array manufactured by using the master 100 described above. In this liquid crystal projector, the lens 124 formed on the light transmitting layer 120 is a concave lens. Further, the second light transmitting layer 6
It is necessary that the light refractive index na of No. 2 and the light refractive index nc of the light transmitting layer 120 have a relationship of na> nc. By satisfying this condition, light enters from a medium having a small refractive index to a medium having a large refractive index, and the light 72 is refracted and condensed so as to approach the normal to the interface between the two media. And
The screen can be brightened.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、本発明を適用した第1の実施の形態に
係るマイクロレンズアレイの製造に使用される原盤を示
す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a master used for manufacturing a microlens array according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図2(A)〜図2(E)は、第1の実施の形態
で使用される原盤の製造方法を示す図である。
FIGS. 2A to 2E are diagrams illustrating a method of manufacturing a master used in the first embodiment.

【図3】図3は、第1の実施の形態に係るマイクロレン
ズアレイの製造方法を示す図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating the method of manufacturing the microlens array according to the first embodiment.

【図4】図4(A)〜図4(C)は、第1の実施の形態
に係るマイクロレンズアレイの製造方法を示す図であ
る。
FIGS. 4A to 4C are diagrams illustrating a method for manufacturing a microlens array according to the first embodiment.

【図5】図5は、第1の実施の形態に係るマイクロレン
ズアレイの製造方法を示す図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating the method of manufacturing the microlens array according to the first embodiment.

【図6】図6は、第1の実施の形態に係るマイクロレン
ズアレイを組み込んだ表示装置を示す図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating a display device incorporating the microlens array according to the first embodiment.

【図7】図7は、本発明を適用した第2の実施の形態に
係るマイクロレンズアレイの製造方法を示す図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating a method for manufacturing a microlens array according to a second embodiment of the present invention.

【図8】図8(A)〜図8(E)は、本発明を適用した
第3の実施の形態で使用される原盤の製造方法を示す図
である。
FIGS. 8A to 8E are diagrams illustrating a method of manufacturing a master used in a third embodiment to which the present invention is applied.

【図9】図9(A)〜図9(C)は、第3の実施の形態
で使用される原盤の製造方法を示す図である。
FIGS. 9A to 9C are diagrams illustrating a method of manufacturing a master used in the third embodiment.

【図10】図10は、第3の実施の形態に係るマイクロ
レンズアレイを組み込んだ表示装置を示す図である。
FIG. 10 is a diagram illustrating a display device incorporating a microlens array according to a third embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 原盤 12 第1領域 14 第2領域 16 曲面部 18 コーナー部 20 区画面 22 個別領域 24 第1の帯状面 26 第2の帯状面 38 光透過性層前駆体 40 光透過性層 41 光透過性層前駆体の第1の部分 42 光透過性層前駆体の第2の部分 43 光透過性層前駆体の第3の部分 48 基板 54 レンズ 80 原盤 82 第1領域 84 第2領域 88 コーナー部 90 区画面 91 光透過性層前駆体の第1の部分 92 光透過性層前駆体の第2の部分 93 光透過性層前駆体の第3の部分 98 個別領域 100 原盤 102 曲面部 120 光透過性層 124 レンズ DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Master disk 12 1st area 14 2nd area 16 Curved surface part 18 Corner part 20 Section screen 22 Individual area 24 1st band surface 26 2nd band surface 38 Light transmissive layer precursor 40 Light transmissive layer 41 Light transmissivity First part of layer precursor 42 Second part of light-transmitting layer precursor 43 Third part of light-transmitting layer precursor 48 Substrate 54 Lens 80 Master 82 First area 84 Second area 88 Corner 90 Section screen 91 First portion of light-transmitting layer precursor 92 Second portion of light-transmitting layer precursor 93 Third portion of light-transmitting layer precursor 98 Individual region 100 Master 102 Curved portion 120 Light-transmitting Layer 124 lens

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レンズに対応した形状の複数の曲面部が
形成されてコーナー部を有する第1領域と、前記第1領
域の前記コーナー部に隣接して平坦な面で形成された第
2領域と、を有する原盤を用意して、前記原盤における
前記第1領域に光透過性層前駆体を設ける第1工程と、 前記原盤上で、前記光透過性層前駆体を塗り拡げる第2
工程と、 を含み、 前記第1工程で、前記第1領域の中央部に前記光透過性
層前駆体の第1の部分を設け、前記第1領域内の前記コ
ーナー部付近に前記光透過性層前駆体の第2の部分を設
けるマイクロレンズアレイの製造方法。
1. A first region having a plurality of curved surface portions corresponding to a lens and having a corner portion, and a second region formed of a flat surface adjacent to the corner portion of the first region. A first step of preparing a master having the following, and providing a light-transmitting layer precursor in the first region of the master; and a second step of spreading the light-transmitting layer precursor on the master.
And a step of: providing a first portion of the light-transmitting layer precursor at the center of the first region in the first step, and providing the light-transmitting layer near the corner in the first region. A method for manufacturing a microlens array comprising providing a second portion of a layer precursor.
【請求項2】 請求項1記載のマイクロレンズアレイの
製造方法において、 前記光透過性層前駆体の前記第2の部分を、前記第1の
部分よりも少ない量で設けるマイクロレンズアレイの製
造方法。
2. The method of manufacturing a microlens array according to claim 1, wherein the second portion of the light transmitting layer precursor is provided in a smaller amount than the first portion. .
【請求項3】 請求項1又は請求項2記載のマイクロレ
ンズアレイの製造方法において、 前記中央部及び前記コーナー部付近を除いた前記第1領
域の位置に、前記光透過性層前駆体の第3の部分を設け
るマイクロレンズアレイの製造方法。
3. The method of manufacturing a microlens array according to claim 1, wherein the light-transmitting layer precursor is located at a position of the first region excluding the vicinity of the center and the corner. 3. A method for manufacturing a microlens array provided with a third part.
【請求項4】 請求項3記載のマイクロレンズアレイの
製造方法において、 前記光透過性層前駆体の前記第3の部分を、前記第1の
部分よりも少ない量で設けるマイクロレンズアレイの製
造方法。
4. The method of manufacturing a microlens array according to claim 3, wherein the third portion of the light transmitting layer precursor is provided in a smaller amount than the first portion. .
【請求項5】 請求項2を引用する請求項4記載のマイ
クロレンズアレイの製造方法において、 前記光透過性層前駆体の前記第2の部分を、前記第3の
部分よりも少ない量で設けるマイクロレンズアレイの製
造方法。
5. The method of manufacturing a microlens array according to claim 4, wherein the second portion of the light transmitting layer precursor is provided in a smaller amount than the third portion. A method for manufacturing a microlens array.
【請求項6】 請求項1から請求項5のいずれかに記載
のマイクロレンズアレイの製造方法において、 前記光透過性層前駆体の前記第1の部分以外の部分を、
前記第1の部分の約30%以上90%以下の量で設ける
マイクロレンズアレイの製造方法。
6. The method for manufacturing a microlens array according to claim 1, wherein a portion other than the first portion of the light transmitting layer precursor is formed by:
A method for manufacturing a microlens array provided in an amount of about 30% or more and 90% or less of the first portion.
【請求項7】 請求項1から請求項6のいずれかに記載
のマイクロレンズアレイの製造方法において、 前記第1領域は、平坦な面で形成された区画面によっ
て、複数の個別領域に区画されてなるマイクロレンズア
レイの製造方法。
7. The method for manufacturing a microlens array according to claim 1, wherein the first region is divided into a plurality of individual regions by a division screen formed by a flat surface. A method for manufacturing a microlens array.
【請求項8】 請求項7記載のマイクロレンズアレイの
製造方法において、 前記光透過性層前駆体の前記第1の部分を、前記第1領
域の中央部に位置する少なくとも1つの前記個別領域に
設けるマイクロレンズアレイの製造方法。
8. The method for manufacturing a microlens array according to claim 7, wherein the first portion of the light-transmitting layer precursor is provided on at least one of the individual regions located at the center of the first region. A method for manufacturing a micro lens array to be provided.
【請求項9】 請求項7又は請求項8記載のマイクロレ
ンズアレイの製造方法において、 前記光透過性層前駆体の前記第2の部分を、前記第1領
域のコーナー部を形成する部分を含むいずれかの前記個
別領域に設けるマイクロレンズアレイの製造方法。
9. The method of manufacturing a microlens array according to claim 7, wherein the second portion of the light transmitting layer precursor includes a portion forming a corner of the first region. A method for manufacturing a microlens array provided in any one of the individual regions.
【請求項10】 請求項1から請求項9のいずれかに記
載のマイクロレンズアレイの製造方法において、 前記光透過性層前駆体を固化して光透過性層を形成し、
前記原盤を、前記光透過性層から剥離する第3工程をさ
らに含むマイクロレンズアレイの製造方法。
10. The method for manufacturing a microlens array according to claim 1, wherein the light transmitting layer precursor is solidified to form a light transmitting layer.
A method for manufacturing a microlens array, further comprising a third step of separating the master from the light transmitting layer.
【請求項11】 請求項1から請求項10のいずれかに
記載のマイクロレンズアレイの製造方法において、 前記第2工程を、基板と前記原盤とを前記光透過性層前
駆体を介して密着させることで行うマイクロレンズアレ
イの製造方法。
11. The method of manufacturing a microlens array according to claim 1, wherein in the second step, a substrate and the master are brought into close contact with each other via the light transmitting layer precursor. The manufacturing method of the microlens array performed by doing.
【請求項12】 請求項11記載のマイクロレンズアレ
イの製造方法において、 前記基板は、光透過性を有し、 前記基板を、前記光透過性層の補強板として残すマイク
ロレンズアレイの製造方法。
12. The method of manufacturing a microlens array according to claim 11, wherein the substrate has a light transmitting property, and the substrate is left as a reinforcing plate of the light transmitting layer.
【請求項13】 請求項11記載のマイクロレンズアレ
イの製造方法において、 前記第2工程後に、前記基板を前記光透過性層から剥離
するマイクロレンズアレイの製造方法。
13. The method of manufacturing a microlens array according to claim 11, wherein the substrate is separated from the light transmitting layer after the second step.
【請求項14】 請求項1から請求項13のいずれかに
記載の方法により製造されるマイクロレンズアレイ。
14. A microlens array manufactured by the method according to claim 1.
【請求項15】 請求項14記載のマイクロレンズアレ
イを有する表示装置。
15. A display device comprising the microlens array according to claim 14.
JP31344599A 1999-11-04 1999-11-04 Microlens array, manufacturing method therefor, and display device Withdrawn JP2001133601A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31344599A JP2001133601A (en) 1999-11-04 1999-11-04 Microlens array, manufacturing method therefor, and display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31344599A JP2001133601A (en) 1999-11-04 1999-11-04 Microlens array, manufacturing method therefor, and display device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001133601A true JP2001133601A (en) 2001-05-18

Family

ID=18041397

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP31344599A Withdrawn JP2001133601A (en) 1999-11-04 1999-11-04 Microlens array, manufacturing method therefor, and display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001133601A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100406921C (en) * 2001-06-15 2008-07-30 夏普株式会社 Micro corner prism array, method for producing it and reflective dispaly device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100406921C (en) * 2001-06-15 2008-07-30 夏普株式会社 Micro corner prism array, method for producing it and reflective dispaly device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001277260A (en) Micro-lens array, its production method, and original board and display for producing it
US6297911B1 (en) Micro lens array, method of fabricating the same, and display device
US6618201B2 (en) Micro lens array, method of fabricating the same, and display device
JP3968545B2 (en) Manufacturing method of microlens array
JP3931936B2 (en) Microlens array substrate, method for manufacturing the same, and display device
US20180284534A1 (en) Quantum dot color filter, liquid crystal panel and liquid crystal display device thereof
JP2002196104A (en) Microlens array, method for manufacturing the same and optical device
JPH11326603A (en) Microlens array and its production thereof, and display
JP3687366B2 (en) Optical substrate, manufacturing method thereof, and display device
JP3824042B2 (en) Optical substrate, manufacturing method thereof, and display device
JP3965541B2 (en) Manufacturing method of microlens array
JP2000241607A (en) Forming method for microlens array and microlens array
JP2000056103A (en) Microlens array, its manufacture and display device
JP2002192534A (en) Microlens array, method for manufacturing it, and original base and optical apparatus for manufacturing it
JP2001133601A (en) Microlens array, manufacturing method therefor, and display device
JP2000081501A (en) Microlens array and its production as well as display device
JP4196139B2 (en) Manufacturing method of optical substrate
JP2000221305A (en) Optical substrate, master disk for production of optical disk, their production and display device
JP2001042104A (en) Microlens array, its production, master disk for production of the same and display device
JP2001129893A (en) Micro-lens array, manufacturing method therefor and display device
JP2001215305A (en) Microlens array, method of producing the same and display device
JP2001188105A (en) Microlens array, method for producing same and display device
JP2000131504A (en) Microlens array, its manufacture and display device
JP3692785B2 (en) Optical substrate, manufacturing method thereof, and display device
JP2002200624A (en) Optical substrate, method and apparatus for manufacturing the same, original plate for manufacturing optical substrate, and display device

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20070109